JP2010181157A - 三次元測定装置 - Google Patents
三次元測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010181157A JP2010181157A JP2009022280A JP2009022280A JP2010181157A JP 2010181157 A JP2010181157 A JP 2010181157A JP 2009022280 A JP2009022280 A JP 2009022280A JP 2009022280 A JP2009022280 A JP 2009022280A JP 2010181157 A JP2010181157 A JP 2010181157A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- unit
- measuring
- reference mirror
- measurement
- coordinate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
【課題】測定した座標値の補正を高精度に行い、三次元形状の測定を短時間で高精度に行うことが可能な三次元測定装置を提供する。
【解決手段】三次元測定装置100を、被測定物3を載置する定盤2、被測定物3の三次元形状を測定するための光学系を有する測定部4、この測定部4の移動機構A及びこの測定部4で測定した座標軸を補正する補正値を求める測定誤差補正部50から構成する。この測定誤差補正部50を、Z参照ミラー10、X参照ミラー11、Y参照ミラー12、測定部4の位置座標を求める6軸レーザ干渉測長計9及び測定部4で測定した座標値に補正値を加算して補正後の座標値を求める補正座標値算出部13から構成する。
【選択図】図1
【解決手段】三次元測定装置100を、被測定物3を載置する定盤2、被測定物3の三次元形状を測定するための光学系を有する測定部4、この測定部4の移動機構A及びこの測定部4で測定した座標軸を補正する補正値を求める測定誤差補正部50から構成する。この測定誤差補正部50を、Z参照ミラー10、X参照ミラー11、Y参照ミラー12、測定部4の位置座標を求める6軸レーザ干渉測長計9及び測定部4で測定した座標値に補正値を加算して補正後の座標値を求める補正座標値算出部13から構成する。
【選択図】図1
Description
本発明は、三次元測定装置に関する。
半導体ウエハの表面形状の測定、非球面レンズ等の自由曲面の形状測定、若しくは、表面粗さ測定については、サブミクロンからナノメートル以下の測定精度が必要となってきている。図6に門移動型構造の三次元測定装置1を示す。従来、このような三次元測定装置1や表面粗さ測定機等の一般的な構造としては、定盤2上に被測定物3が載置され、この被測定物3の測定面に接触して、この被測定物3の表面形状測定等を行うプローブ4をX軸方向に移動させるX軸移動体6、Y軸方向に移動させるY軸移動体7、及び、Z軸方向に移動させるZ軸移動体8からなる移動体Aが設置されている。この移動体Aは、門型形状であり、Y軸移動体7により移動体A全体が定盤2上に並設された図示しないレールに沿ってY軸方向に滑動する。この移動体Aの梁部には、この梁部に沿ってX軸方向に滑動可能なX軸移動体6が設けられ、このX移動体6には、先端部にプローブ4を有しZ軸方向に滑動可能なZ軸移動体8が取り付けられている。このような従来の三次元測定装置1や表面粗さ測定機では、各移動体をX,Y,Z軸方向に滑動させる手段として、コロ、エアスライド、油軸受け等が使用される。しかし、これらの手段を用いた場合、上記移動体Aを数mmから数百mm移動させたときの移動真直度は、X,Y,Zの内の1軸のみで0.1μm程度に抑えるのが限界である。よってX,Y,Zの3軸方向に各移動体を移動させたときには、合計された移動真直度は数μm程度に達してしまう。したがって、従来の三次元測定装置1では、上述したようなサブミクロンメートルからナノメートル以下の測定精度にて上記測定面の形状測定を行うことは困難であった。
そこで、この問題を解決するための提案がされている(例えば、特許文献1参照)。この特許文献1では、平面度を10nmオーダーまで磨いた3枚の基準ミラーをX,Y,Z軸方向に配置して座標軸とし、測定点の軸上で各基準ミラーまでの距離をレーザ測長している。これにより、サブミクロンメートルからナノメートル以下の測定精度にて形状測定が可能な形状測定装置及び形状測定方法を提供することが可能となった。
しかしながら、このような形状測定装置等おいては、被測定物に対して接触式またはAFP(原子間力プローブ)等の点計測に限られてしまう。そのため、高精度な測定が可能ではあるが、測定時間がかかるなどと言った課題があった。
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、線計測または面計測を行う場合であっても、測定された座標値の補正を高精度に行って、三次元形状の測定を短時間で高精度に行うことが可能な三次元測定装置を提供することを目的とする。
前記課題を解決するために、本発明に係る三次元測定装置は、被測定物を載置する定盤と、被測定物の三次元形状を測定する測定部と、測定部に取り付けられ、当該測定部を定盤の被測定物が載置される載置面に対して垂直方向及び水平方向に移動させる移動機構と、測定部で測定した座標値を補正するための補正値を算出する測定誤差補正部と、を有して構成される。この測定誤差補正部は、定盤の載置面に対して水平方向であって、当該定盤の長手方向に直交する短手方向をX軸方向とし、定盤の表面に対して水平方向であって、当該定盤の長手方向をY軸方向とし、定盤の表面に対して垂直方向をZ軸方向としたとき、測定部に対してZ軸方向に位置しXY軸方向を平面とするZ参照ミラーと、測定部に対してX軸方向に位置しYZ軸方向を平面とするX参照ミラーと、測定部に対してY軸方向に位置しXZ軸方向を平面とするY参照ミラーと、測定部に取り付けられ、当該測定部とX,YまたはZ参照ミラーとの距離を測定し、測定部のX,Y,Z座標を測定する位置座標測定部と、位置座標測定部での測定座標をもとに、測定部で測定した座標値を補正するための補正値を求め、当該補正値を加算した補正後の座標値を求める補正座標値算出部と、を有して構成される。
このような三次元測定装置において、位置座標測定部は、X,Y,Z座標測定用のレーザ光発生部と、レーザ光発生部から発生したレーザ光がX参照ミラーに照射され、当該X参照ミラーで反射された反射光を受光して測定部のX座標を測定するX座標測定部と、レーザ光発生部から発生したレーザ光がY参照ミラーに照射され、当該Y参照ミラーで反射された反射光を受光して測定部のY座標及びZ軸を中心とした傾き(ローリング)を測定するY座標測定部と、レーザ光発生部から発生したレーザ光がZ参照ミラーに照射され、Z参照ミラーで反射された反射光を受光して測定部のZ座標及びX軸を中心とした傾き(ヨーイング)並びにY軸を中心とした傾き(ピッチング)を測定するZ座標測定部と、を有することが好ましい。
また、このような三次元測定装置において、X参照ミラー、Y参照ミラー及びZ参照ミラーは、測定部を囲む筐体の側面の少なくとも一部に設けられることが好ましい。
また、このような三次元測定装置は、X参照ミラー、Y参照ミラー、または、Z参照ミラーに対して、これらを所定の設置角度に変化させるためのピエゾアクチュエータを備えることが好ましい。
本発明に係る三次元測定装置を以上のように構成すると、線計測または面計測を行う場合であっても、測定された座標値の補正を高精度に行うことができ、その結果、三次元形状の測定を短時間で高精度に行うことが可能となる。
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して説明する。なお、本明細書において、X軸方向とは定盤の表面に対して水平方向であって、定盤の長手方向に直交する短手方向を指し、Y軸方向とは定盤の表面に対して水平方向であって、定盤に対して長手方向を指す。また、Z軸方向とは定盤の表面に対して垂直な方向を指す。
(第1の実施形態)
まず、図1を用いて、第1の実施形態に係る三次元測定装置の構成について説明する。この図1に示す第1の実施形態における三次元測定装置100は、被測定物3を載置する定盤2と、この被測定物3の三次元形状を測定するための測定部4と、この測定部4のヘッド部5に取り付けられ、この測定部4を垂直方向及び水平方向に移動させるための移動機構Aと、測定部4の位置座標を検出し測定部4の誤差を補正するための測定誤差補正部50とから構成されている。
まず、図1を用いて、第1の実施形態に係る三次元測定装置の構成について説明する。この図1に示す第1の実施形態における三次元測定装置100は、被測定物3を載置する定盤2と、この被測定物3の三次元形状を測定するための測定部4と、この測定部4のヘッド部5に取り付けられ、この測定部4を垂直方向及び水平方向に移動させるための移動機構Aと、測定部4の位置座標を検出し測定部4の誤差を補正するための測定誤差補正部50とから構成されている。
移動機構Aは、図1に示すように、門型形状であり、測定部4をX,Y,Z軸にそれぞれ平行に移動可能に配置されたX軸スライダ6、Y軸スライダ7、及び、Z軸スライダ8から構成されている。このX,Y,Z軸スライダ6,7,8をX,Y,Z軸方向に滑動させる手段として、コロ、エアスライド、油軸受け等が使用される。測定誤差補正部50は、測定部4のヘッド部5の上端に設置された位置座標測定部としての6軸レーザ干渉測長計9と、測定部4に対してZ軸方向に位置しXY軸方向を平面とするZ参照ミラー10と、測定部4に対してX軸方向に位置しYZ軸方向を平面とするX参照ミラー11と、測定部4に対してY方向に位置しXZ軸方向を平面とするY参照ミラー12と、6軸レーザ干渉測長計9で測定した位置座標を元に、測定部4で測定した座標値を補正するための補正値を求め、この補正値を加算した補正後の座標値を求める補正座標値算出部13とから構成されている。本実施形態では、X,Y,Z参照ミラー11,12,10を、図1に示すように、測定部4を囲む筐体のX軸方向の一方の壁面、Y軸方向の壁面(背面)、及び、Z軸方向の天面の、三方向の面全体をミラー(鏡板)で被覆することにより形成しているが、壁面や上面の全体をミラーで被覆する必要はなく、筐体の側面の少なくとも一部、すなわち、6軸レーザ干渉測長計9のレーザが照射される範囲のみに鏡板を設置してもよい。また、X軸方向の他方の壁面や前方の壁面を、更にミラーで被覆してもよい。
この第1の実施形態では、三次元測定装置100における測定部4の具体例として、共焦点光学系を用いた場合について説明する。この共焦点光学系は、図示はしないが、対物レンズ像面にピンホールを配し、このピンホールを通して、光源から発せられる光(例えば、レーザ光)を被検物面(被測定物3の表面)に投光し、ピンホールを通過する被検物面からの戻り光をCCDカメラのような撮像素子により検出するものが代表的な構成として知られている。このような構成による共焦点光学系は、被検物面が対物レンズの被検物側の焦点面にある場合に、ピンホールを通して検出される戻り光の輝度(光量)が最大となり、被検物面が対物レンズの被検物側の焦点面から僅かでも光軸方向にずれると、ピンホールへの戻り光が大部分遮光されるため、撮像素子が検出する戻り光の輝度は急激に減少する性質を持つ。
従って、共焦点光学系のこのような性質を利用して被検物面からの戻り光の光量を検出することで、被検物面の位置を測定して被検物の高さを算出することができる。すなわち、被検物3を測定するためのヘッド部5を高さ方向に(光軸方向すなわちZ軸方向に)上下動させて、対物レンズと被検物面との距離を相対的に移動させるとともに、被検物面からの戻り光のうちピンホールを通る光の光量を検出し、その光量がピークになったときが被検物面の位置となる。
また、被検物を測定するためのヘッド部5を光軸に対して垂直な方向(XまたはY方向)に移動させて、被検物面上の所定領域を入射光の照射位置に移動させることで、被検物面上の所定領域における戻り光が撮像素子により受光され、戻り光の光量を検出することで被検物面上の所定領域における共焦点画像が三次元測定装置に設けられた処理装置に入力される。このため、被検物面上の何れの位置が、ステージの何れの高さ位置において共焦点になるのかを検出することが可能であり、被検物の高さや、ある領域における表面形状を測定できる。このようにして得られた高さ情報、及び、XY座標位置情報を元に三次元画像を形成していく。しかしながら、得られた高さ情報と位置座標が実際のものと違うと正確な三次元画像を得ることができない。
このような三次元測定装置100において正確に位置座標を認識することは重要なことである(ここで述べている位置座標とは、対物レンズの焦点位置の座標である。特に、視野中心の座標のことを指す)。しかし、例えば、図6に示すような従来の三次元測定装置1では、移動体AをY方向に駆動させると、図2に示すように、定盤2に設けられたレール上をY軸スライダ7が滑動する際に、このY軸スライダ7を中心にX軸スライダ6がθだけ駆動方向とは反対の方向に回転し、Y軸方向にアッベの誤差を生じ、位置座標を正確に認識することができなかった。しかし、本実施形態の三次元測定装置100では、アッベの誤差を低減するために、測定誤差補正部50によって以下のようにして誤差量補正を行う。これにより従来の装置に比較してアッベ誤差を低減させることが可能となった。
この測定誤差補正部50による誤差量補正の詳細を説明すると、三次元形状を測定する測定部4のヘッド部5と、このヘッド部5の上端に設置された6軸レーザ干渉計9とは一体となっているので、6軸レーザ干渉計9で得られたヘッド部5の誤差量から三次元形状測定装置100での被測定物3の測定位置誤差量を見積もることができる。ここで用いる6軸レーザ干渉計9としては、図3に示すようなダブルパス干渉測長器が好ましい。このダブルパス干渉測長器は、X,YまたはZ参照ミラー11,12,10に向かってレーザを射出するレーザ発生部(HeNeチューブ)21と、このX,YまたはZ参照ミラー11,12,10から反射され偏光板27を通過した反射光を受光し、X,YまたはZ座標を測定するX,YまたはZ座標用の座標測定部25,22,24と、レーザ光発生部21及びX,YまたはZ座標測定部25,22,24及びX,YまたはZ参照ミラー11,12,10の間に配置された干渉計23と、干渉計23及びX,YまたはZ参照ミラー11,12,10との間に配置された1/4波長板26と、を有している。このダブルパス干渉測長器は、シングルパス干渉測長よりもコサインミスの影響が小さいという利点及び光の分解能をシングルパスに比べて2倍にすることができるという利点がある。まず、測定部4により測定した被測定物3の形状データを取り込むのと同時に、6軸レーザ干渉計9により測定部4のヘッド部5の位置座標を測定して、誤差量を検出する。このようにして求めた誤差量から、測定部4で測定した座標値を実際の値に補正を行うための補正値を求め、この補正値を座標値に加算して座標値の補正を行う。また、被測定物の形状データと共に補正した位置座標がホストコンピュータの記憶装置に記憶される。
ここで測定部4により測定された座標値の測定誤差を補正する補正値を算出するためのパラメータ、つまりローリング誤差、ピッチング誤差、及び、ヨーイング誤差の求め方についてより詳細に説明する。具体的な例として、ローリング誤差(Z軸を中心とした測定部4の傾き)を挙げる。ローリング誤差を求めるためには、Y参照ミラー12に向かって、レーザ発生部21からY軸方向に沿って所定の距離を介して平行に2本のレーザ(レーザ1とレーザ2)を射出し、Y参照ミラー12で反射されたレーザ1とレーザ2の反射光をそれぞれ座標測定部22が受光することにより検出する。座標測定部22は第1検出部および第2検出部からなる。第1検出部で測定された測定値がY座標になる。またローリング誤差は、第1検出部と第2検出部から測定された測定値のそれぞれの差分により計算される。同様に、ピッチング誤差(Y軸を中心とした測定部4の傾き)は、Z参照ミラー10に向かって、レーザ光発生部21からX軸方向に沿って所定の距離を介して平行に2本のレーザ(レーザ3とレーザ4)を射出し、Z参照ミラー10で反射されたレーザ3とレーザ4のレーザの反射光をそれぞれ座標測定部24が受光することにより検出する。また、ヨーイング誤差(X軸を中心とした測定部4の傾き)は、Z参照ミラーに向かって、レーザ発生部21からY軸方向に沿って所定の距離を介して平行に2本のレーザ(レーザ3とレーザ5)を射出し、Z参照ミラー10で反射されたレーザ3とレーザ5のレーザの反射光をそれぞれ座標測定部24が受光することにより検出する。座標測定部24は第3検出部、第4検出部および第5検出部からなる。第3検出部で測定された測定値がZ座標になる。またピッチング誤差は、第3検出部と第4検出部から測定された測定値のそれぞれの差分により計算される。またヨーイング誤差は、第3検出部と第5検出部から測定された測定値のそれぞれの差分により計算される。
以上のように計算した誤差量をもとに、補正座標値算出部13が測定部4で測定した座標値を補正するための補正値を算出し、更に、この算出された補正値を加算した補正後の座標値を算出する。このように測定誤差補正部50を設けると、共焦点光学系の三次元測定装置100により測定された座標値の誤差を高精度に補正することができ、その結果、三次元形状の測定を、短時間で高精度に行うことが可能となる。
(第2の実施形態)
次に、図4を参照して第2の実施形態に係る片持ち梁型の三次元測定装置110について説明する。この第2の実施形態における三次元測定装置110の構成は、測定部4のX軸スライダ6の位置が定盤2の端部(Y軸方向端部)に変わったこと以外は、第1の実施形態と同様の構成である。このような三次元測定装置110の構造においても、測定誤差補正部50により高精度に誤差を補正することで、三次元形状の測定を、短時間で高精度に行うことが可能となる。
次に、図4を参照して第2の実施形態に係る片持ち梁型の三次元測定装置110について説明する。この第2の実施形態における三次元測定装置110の構成は、測定部4のX軸スライダ6の位置が定盤2の端部(Y軸方向端部)に変わったこと以外は、第1の実施形態と同様の構成である。このような三次元測定装置110の構造においても、測定誤差補正部50により高精度に誤差を補正することで、三次元形状の測定を、短時間で高精度に行うことが可能となる。
(第3の実施形態)
図5を参照して、第3の実施形態に係る三次元測定装置120について説明する。この第3の実施形態に係る三次元測定装置120の構成は、X,Y,Z参照ミラー11,12,10に対して多数のピエゾアクチュエータ14が設けられたこと以外は、第1の実施形態と同一の構造である。このピエゾアクチュエータ14は、各参照ミラー10,11,12の外面に、それぞれ1つ以上設けられ、その中から所定の位置のピエゾアクチュエータ14を駆動することにより、参照ミラー10,11,12を任意の設置角度に変化させることができる。すなわち、三次元測定装置が大型化してくると、この三次元測定装置を被覆しているミラーも大型化してくるため、ミラーが撓む可能性が生じる。そのため、ピエゾアクチュエータ14によりミラーの撓みを調節し、ミラーが大型化しても高精度な測定を可能としている。また、具体的なミラーの撓みの校正方法としては、三次元測定装置120での被測定物3の測定前に初期設定として、ゲージブロック等をミラーの任意の数カ所で測定し、これらの測定値に基づいて、各ピエゾアクチュエータ14を適宜作動させてミラーの撓みの校正を行う。これにより、三次元測定装置120での三次元形状の測定を、より高精度に行うことができる。
図5を参照して、第3の実施形態に係る三次元測定装置120について説明する。この第3の実施形態に係る三次元測定装置120の構成は、X,Y,Z参照ミラー11,12,10に対して多数のピエゾアクチュエータ14が設けられたこと以外は、第1の実施形態と同一の構造である。このピエゾアクチュエータ14は、各参照ミラー10,11,12の外面に、それぞれ1つ以上設けられ、その中から所定の位置のピエゾアクチュエータ14を駆動することにより、参照ミラー10,11,12を任意の設置角度に変化させることができる。すなわち、三次元測定装置が大型化してくると、この三次元測定装置を被覆しているミラーも大型化してくるため、ミラーが撓む可能性が生じる。そのため、ピエゾアクチュエータ14によりミラーの撓みを調節し、ミラーが大型化しても高精度な測定を可能としている。また、具体的なミラーの撓みの校正方法としては、三次元測定装置120での被測定物3の測定前に初期設定として、ゲージブロック等をミラーの任意の数カ所で測定し、これらの測定値に基づいて、各ピエゾアクチュエータ14を適宜作動させてミラーの撓みの校正を行う。これにより、三次元測定装置120での三次元形状の測定を、より高精度に行うことができる。
また、以上に挙げた各実施形態では、温度等の条件を一定に保って測定を行うのが好ましい。また、筐体内を真空状態にして測定してもよいし、大気圧下で測定してもよい。
以上、本発明について好適な実施形態を挙げて説明したが、本発明は、これらの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での変更が可能である。
2 定盤 3 被測定物 4 測定部 5 ヘッド部
6 X軸スライダ 7 Y軸スライダ 8 Z軸スライダ
9 6軸レーザ干渉測長計(位置座標測定部)
10 Z参照ミラー 11 X参照ミラー 12 Y参照ミラー
13 補正座標値算出部 14 ピエゾアクチュエータ
21 レーザ光発生部 25,22,24 X,Y,Z座標測定部
26 1/4波長板 27 偏光板
100,110,120 三次元測定装置
6 X軸スライダ 7 Y軸スライダ 8 Z軸スライダ
9 6軸レーザ干渉測長計(位置座標測定部)
10 Z参照ミラー 11 X参照ミラー 12 Y参照ミラー
13 補正座標値算出部 14 ピエゾアクチュエータ
21 レーザ光発生部 25,22,24 X,Y,Z座標測定部
26 1/4波長板 27 偏光板
100,110,120 三次元測定装置
Claims (4)
- 被測定物を載置する定盤と、
前記被測定物の三次元形状を測定する測定部と、
前記測定部に取り付けられ、当該測定部を前記定盤の前記被測定物が載置される載置面に対して垂直方向及び水平方向に移動させる移動機構と、
前記測定部で測定した座標値を補正するための補正値を算出する測定誤差補正部と、を有し、
前記測定誤差補正部は、
前記定盤の前記載置面に対して水平方向であって、当該定盤の長手方向に直交する短手方向をX軸方向とし、前記定盤の表面に対して水平方向であって、当該定盤の前記長手方向をY軸方向とし、前記定盤の表面に対して垂直方向をZ軸方向としたとき、
前記測定部に対してZ軸方向に位置しXY軸方向を平面とするZ参照ミラーと、
前記測定部に対してX軸方向に位置しYZ軸方向を平面とするX参照ミラーと、
前記測定部に対してY軸方向に位置しXZ軸方向を平面とするY参照ミラーと、
前記測定部に取り付けられ、当該測定部と前記X,YまたはZ参照ミラーとの距離を測定し、前記測定部のX,Y,Z座標を測定する位置座標測定部と、
前記位置座標測定部での測定座標をもとに、前記測定部で測定した座標値を補正するための補正値を求め、当該補正値を加算した補正後の座標値を求める補正座標値算出部と、を有する三次元測定装置。 - 位置座標測定部は、X,Y,Z座標測定用のレーザ光発生部と、
前記レーザ光発生部から発生したレーザ光が前記X参照ミラーに照射され、当該X参照ミラーで反射された反射光を受光して前記測定部のX座標を測定するX座標測定部と、
前記レーザ光発生部から発生したレーザ光が前記Y参照ミラーに照射され、当該Y参照ミラーで反射された反射光を受光して前記測定部のY座標及びZ軸を中心とした傾き(ローリング)を測定するY座標測定部と、
前記レーザ光発生部から発生したレーザ光が前記Z参照ミラーに照射され、前記Z参照ミラーで反射された反射光を受光して前記測定部のZ座標及びX軸を中心とした傾き(ヨーイング)並びにY軸を中心とした傾き(ピッチング)を測定するZ座標測定部と、を有する請求項1に記載の三次元測定装置。 - 前記X参照ミラー、前記Y参照ミラー及び前記Z参照ミラーは、前記測定部を囲む筐体の側面の少なくとも一部に設けられた請求項1または2に記載の三次元測定装置。
- 前記X参照ミラー、Y参照ミラー、または、Z参照ミラーに対して、これらを所定の設置角度に変化させるためのピエゾアクチュエータを備えた請求項1〜3いずれか一項に記載の三次元測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009022280A JP2010181157A (ja) | 2009-02-03 | 2009-02-03 | 三次元測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009022280A JP2010181157A (ja) | 2009-02-03 | 2009-02-03 | 三次元測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010181157A true JP2010181157A (ja) | 2010-08-19 |
Family
ID=42762827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009022280A Pending JP2010181157A (ja) | 2009-02-03 | 2009-02-03 | 三次元測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010181157A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102322793A (zh) * | 2011-05-12 | 2012-01-18 | 浙江大学 | 应用于便携式坐标测量机的实时半径补偿方法及测头装置 |
CN104613897A (zh) * | 2015-02-12 | 2015-05-13 | 哈尔滨理工大学 | 汽车外覆盖件模具自由曲面自适应采样装置及测量方法 |
-
2009
- 2009-02-03 JP JP2009022280A patent/JP2010181157A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102322793A (zh) * | 2011-05-12 | 2012-01-18 | 浙江大学 | 应用于便携式坐标测量机的实时半径补偿方法及测头装置 |
CN102322793B (zh) * | 2011-05-12 | 2013-06-05 | 浙江大学 | 应用于便携式坐标测量机的实时半径补偿方法及测头装置 |
CN104613897A (zh) * | 2015-02-12 | 2015-05-13 | 哈尔滨理工大学 | 汽车外覆盖件模具自由曲面自适应采样装置及测量方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3511450B2 (ja) | 光学式測定装置の位置校正方法 | |
CN105157606B (zh) | 非接触式复杂光学面形高精度三维测量方法及测量装置 | |
JP5879621B2 (ja) | 微小材料ひずみ計測装置及びその方法 | |
US9372079B1 (en) | Optical plate for calibration of coordinate measuring machines | |
WO2007018118A1 (ja) | レンズにおける表裏面の光軸偏芯量の測定方法 | |
JP2014515471A (ja) | 表面を非接触にて測定するための方法および装置 | |
US10371511B2 (en) | Device and method for geometrically measuring an object | |
Schulz et al. | Scanning deflectometric form measurement avoiding path-dependent angle measurement errors | |
CN108362221A (zh) | 一种自由曲面形貌纳米精度检测方法与装置 | |
JP2012177620A (ja) | 計測装置 | |
JP4500729B2 (ja) | 表面形状測定装置 | |
JP4791568B2 (ja) | 3次元測定装置 | |
JP2010181157A (ja) | 三次元測定装置 | |
Jäger | Three-dimensional nanopositioning and nanomeasuring machine with a resolution of 0.1 nm | |
JP5606039B2 (ja) | ステージ装置及び波面収差測定装置 | |
JP4875409B2 (ja) | 被平面研削加工物の平面研削方法 | |
JP4047096B2 (ja) | 表面形状測定装置および方法 | |
JP2005201703A (ja) | 干渉測定方法及び干渉測定システム | |
JP2005172610A (ja) | 3次元測定装置 | |
JP6980304B2 (ja) | 非接触内面形状測定装置 | |
CN220398407U (zh) | 一种基于共聚焦显微镜的量块测量装置 | |
JP6482061B2 (ja) | マスクステージ及びステージ装置 | |
JP5430473B2 (ja) | 面形状計測装置 | |
CN218973430U (zh) | 一种高精度面型测量系统 | |
JP6830997B1 (ja) | 多軸加工装置及びその補償方法 |