JP2010170755A - 面発光装置および画像表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】輝度の均一性が高い薄型の面発光装置および画像表示装置を提供すること。
【解決手段】面発光装置100は、マルチストライプの半導体レーザ光源部1と、入射面からレーザ光を導光して出射面から面発光させる導光板10と、レーザ光の強度分布を導光板10の入射面の長手方向においてのみ多重反射するロッドインテグレータ6と、ロッドインテグレータ6に入射するレーザ光の発散角を制御するシリンドリカルレンズ5と、ロッドインテグレータか6ら出射されたレーザ光を、導光板10の入射面近傍位置において、導光板10の入射面の長手方向に略一致させて結像させる結像光学系7と、を有し、半導体レーザ光源のマルチストライプの配列方向と導光板の長手方向が略一致するように配置されている。
【選択図】図2

Description

本発明は、面発光装置および画像表示装置に関する。
近年、携帯電話や情報機器などの普及に伴い、薄型で高品位な画面表示装置が要望されている。そして、そのような画面表示装置を実現するために、レーザを光源とした薄型で色再現性の良い液晶表示素子が提案されている(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。
特許文献1に記載されたカラー表示素子は、液晶パネルを照明するバックライトを、導光板と、この導光板の任意の面に配置される3原色の各色に対応する複数のレーザ光源と、導光板の内部に配置された乱反射粒子と、導光板の側面および底面に配置された反射板とから構成することにより、色純度の高い光でカラー表示を行うことができるようにしている。
また、特許文献2に記載された平面光源は、レーザ光源の出射光を所定方向に略平行に反射させる反射部材と、この反射部材で反射した反射光を略直角方向に反射させる偏光部材とから構成することにより、1個のレーザ光により簡単な構成でコリメート平面光源を得ることができるようにしている。
特開平11−237631号公報 特開2002−169480号公報
しかしながら、特許文献1に記載されたカラー表示素子においては、略点光源であるレーザを導光板の側面に配置するため、輝度ムラが生じやすいという問題がある。また、特許文献2に記載された平面光源においては、反射部材として反射型体積ホログラムを用いているため、製作誤差に敏感であり、輝度の均一性を高くすることが困難であるという問題がある。
本発明は、かかる点を考慮してなされたものであり、輝度の均一性が高く且つ薄型の面発光装置および画像表示装置を提供する。
本発明の面発光装置は、
複数のレーザ光を出射するマルチストライプ構造の半導体レーザ光源と、
入射面からレーザ光を導光して出射面から面発光させる導光板と、
前記マルチストライプ構造の半導体レーザ光源から出射されたレーザ光を入射し、前記レーザ光の強度分布を、出射面において、少なくとも一方向に略均一な強度分布に変換するロッドインテグレータと、
前記ロッドインテグレータに入射する前記レーザ光の発散角を制御する入射レンズ部と、
前記ロッドインテグレータから出射されたレーザ光の前記略均一な強度分布を、前記導光板の入射面近傍位置において、前記導光板の入射面の長手方向に略一致させて結像させる結像光学系と、を有し、
前記マルチストライプ構造の半導体レーザ光源のマルチストライプの配列方向と前記導光板の長手方向が略一致するように配置されている構成を採る。
本発明の画像表示装置は、上記面発光装置と、前記導光板の出射面側に配置された表示パネルと、を有する構成を採る。
本発明によれば、輝度の均一性を向上することができる。また、面発光装置を薄型化できる。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に係る面発光装置の概略構成を示す断面図である。図2は、図1に垂直な方向(A−A断面)の断面図である。
図1および図2に示す面発光装置100は、マルチストライプの半導体レーザ光源部1、ビーム成形部2、色合成プリズム3、折り曲げミラー4、シリンドリカルレンズ5、ロッドインテグレータ6、結像光学系7、フレネルレンズ8、集光レンズ9、および導光板10を有する。なお、ここでは、図1および図2に示すように、導光板10の入射端面10aの短手方向および長手方向をそれぞれX軸およびY軸とし、このX軸およびY軸に直交する方向をZ軸とする。図1は、面発光装置100のXZ平面に沿う断面図であり、図2は、図1の面発光装置100のYZ平面に沿う断面図である。
図1において、マルチストライプの半導体レーザ光源部1は、3原色(赤、緑、青)の各色に対応する波長のレーザ光を出射する3つのマルチストライプ半導体レーザ光源(以下単に「マルチストライプ半導体レーザ」という)1a、1b、1cから構成されている。例えば、マルチストライプ半導体レーザ1aは、波長635nmの赤色のレーザ光を出射する半導体レーザである。また、マルチストライプ半導体レーザ1bは、波長532nmの緑色のレーザ光を出射する半導体レーザである。また、マルチストライプ半導体レーザ1cは、波長450nmの青色のレーザ光を出射する半導体レーザである。なお本実施の形態においてマルチストライプの配列方向はY軸及び導光板の入射端面10aの長手方向に平行である。
ビーム成形部2は、マルチストライプの半導体レーザ光源部1から出射されたレーザ光を所定のビーム形状に成形するビーム成形レンズ2a、2b、2cから構成されている。レーザ光のビーム成形は、例えば、レーザ光のビーム径および発散角(波面の曲率半径)をそれぞれ所望の値に制御することによって行われる。
本実施の形態では、各マルチストライプ半導体レーザ1a、1b、1cに対応してビーム成形レンズ2a、2b、2cがそれぞれ設けられている。すなわち、各ビーム成形レンズ2a〜2cは、対応するマルチストライプ半導体レーザ1a〜1cからのレーザ光のビーム径および発散角を所望の値に制御して、そのレーザ光を所定のビーム形状に成形する。例えば、図1の例では、各ビーム成形レンズ2a〜2cは、対応するマルチストライプ半導体レーザ1a〜1cからのレーザ光を、図1のx軸方向にはビーム径がAである略平行ビームに変換している。一方で図2に示すY軸方向は、マルチストライプの配列方向であるので、レーザ光のY軸方向の発散角は光源の幅に応じて広がりを持つ。
各マルチストライプ半導体レーザ1a〜1cから出射され対応するビーム成形レンズ2a〜2cによりビーム成形されたレーザ光(平行光)11a、11b、11cは、色合成プリズム3に入射される。
色合成プリズム3は、ビーム成形レンズ2a〜2cによりビーム成形されたレーザ光11a〜11cを合成して、1本のレーザ光11を出射する。この合成されたレーザ光11は、折り曲げミラー4により光路が変更されて(図1の例では、90°折り曲げられて)、シリンドリカルレンズ5に入射される。
シリンドリカルレンズ5は、図2に示すように、Y軸方向にのみパワーを有し、レーザ光11のY軸方向における発散角を制御することでレーザ光11を収束光に変換する。また、シリンドリカルレンズ5は、図1に示すように、X軸方向にはパワーを有さない。よって、レーザ光11は、X軸方向については、略平行光のままシリンドリカルレンズ5を透過する。このように、シリンドリカルレンズ5によって、Y軸方向の発散角が制御されたレーザ光11は、ロッドインテグレータ6に入射される。
ロッドインテグレータ6は、図1および図2に示すように、ロッドの長手方向がZ軸に平行となるように配置されている。ロッドインテグレータ6に入射するレーザ光11は、ロッドインテグレータ6内で多重反射しながら伝搬されるので、強度分布が略一様な光に変換されて出射する。ここで、本実施の形態の場合、シリンドリカルレンズ5によってレーザ光がX軸方向において略平行とされ、Y軸方向において発散されている。これにより、ロッドインテグレータ6に入射するレーザ光11は、図2に示すように、Y軸方向において、ロッドインテグレータ6の中を多重反射しながら伝播するので、ロッドインテグレータ6の出口でのレーザ光11は、Y軸方向の強度分布が略均一な分布に変換される。これに対して、ロッドインテグレータ6に入射するレーザ光11は、図1に示すように、X軸方向において、略平行光のままロッドインテグレータ6を透過する。ロッドインテグレータ6を出射したレーザ光11は、結像光学系7に入射される。
結像光学系7は、図2のY軸方向にのみにパワーを有する2枚の非球面レンズ7a、7bから構成される。なお、結像光学系7はリレー光学系と呼ぶこともできる。結像光学系7は、Y軸方向においてロッドインテグレータ6の出射口で略均一に形成されたレーザ光11の強度分布を、フレネルレンズ8の位置に拡大投影する。結像光学系7は、X軸方向においてはパワーを有さず、レーザ光11はX軸方向において略平行光のまま結像光学系7を透過する。結像光学系7のY軸方向の投影倍率は、フレネルレンズ8の位置においてレーザ光11のビーム幅が導光板10の入射端面10aの長手方向の幅Bに略等しい幅に変換されるように設定されている。図3に、フレネルレンズ8の位置におけるレーザ光11のY軸方向の強度分布を示す。レーザ光11の強度分布が導光板の長手方向の幅Bに略等しいビーム幅で略均一分布になっている。結像光学系7を出射したレーザ光11は、フレネルレンズ8に入射される。
フレネルレンズ8は、Y軸方向にのみパワーを有する(図2参照)。フレネルレンズ8は、導光板10に入射するレーザ光11が導光板10の入射端面10aの長手方向において略平行光なるようにレーザ光11を変換する。フレネルレンズ8を出射したレーザ光11は、集光レンズ9に入射される。
集光レンズ9は、X軸方向にのみパワーを有するレンズである(図1参照)。レーザ光11は、集光レンズ9により、導光板10の入射端面10a位置において、X軸方向の発散角とビーム幅とが所定の値となるように制御される。集光レンズ9を出射したレーザ光11は、導光板10に入射される。
フレネルレンズ8および集光レンズ9は、発散角制御光学系の一例である。
このように、ビーム成形部2と、シリンドリカルレンズ5と、ロッドインテグレータ6は、マルチストライプの半導体レーザ光源部1から出射されたレーザ光の強度分布を、導光板10の入射面の長手方向において略均一な強度分布に変換する強度分布変換部として機能する。
また、ビーム成形部2と、シリンドリカルレンズ5は、ロッドインテグレータ6に入射するレーザ光の発散角を制御する入射レンズ部として機能する。
導光板10は、入射端面10aからレーザ光11を導光して出射面である前面10bからレーザ光を出射して平面状に発光する。導光板10は、例えば、PMMA(アクリル樹脂)やPC(ポリカーボネート)、COP(シクロオレフィンポリマー)などから形成されている。
また、導光板10は、例えば、前面10bに光拡散層が配置され、背面10cに反射シートが配置されている。光拡散層は、光拡散材を含む透光性樹脂から形成されている。光拡散層としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートに微細凹凸を設けたものや、乱反射させる白色インクを前面10bに印刷したものが用いられる。このとき、光拡散層の拡散度合いは、微細凹凸の大きさを調整したり、白色インクによる各ドットの大きさを調整したりすることによって、変化させることができる。また、反射シートとしては、金属フィルムを用いてもよいし、背面10cに金属を蒸着させてもよい。
ここで、導光板10の前面10bの拡散度合いの分布は、導光板10の前面10bから出射するレーザ光11の輝度が一様になるように形成されている。具体的には、導光板10の前面10bに形成される光拡散層は、Z軸方向の輝度を均一にするため、導光板10の入射端面10aからのZ軸方向の距離に応じて拡散度合いを変化させた構成を有する。例えば、ここでは、導光板10の入射端面10aから遠ざかるほど拡散度合いを大きくすることにより、Z軸方向の輝度を均一にしている。
導光板10に入射したレーザ光11は、導光板10の内部を全反射を繰り返しながら伝播しつつ、導光板10の前面10bに配置された光拡散層で拡散される。このため、拡散されたレーザ光11のうち導光板10の前面10bに臨界角よりも小さい角度で入射するレーザ光の成分が現れる。このレーザ光の成分は、導光板10の前面10bから均一に出射する。これにより、導光板10は、平面状に発光する。
なお、本実施の形態では、拡散シートを導光板10の前面10bに配置したが、これに限定されない。例えば、拡散シートは、導光板10の背面10cに配置してもよい。ただし、この場合、光拡散層は、反射シートよりも前面10b側に配置される。
以上説明したように、本実施の形態によれば、レーザ光の強度分布を、導光板10の入射面の長手方向(Y軸方向)に略均一な強度分布に変換するロッドインテグレータ6と、ロッドインテグレータ6に入射するレーザ光の発散角を制御するシリンドリカルレンズ5とを設けたことにより、導光板10の入射端面10aに入射するレーザ光11は、Y軸方向における強度分布が略均一になるとともに、X軸方向が収束光または発散光になり、Y軸方向が略平行光になる。したがって、この光学系を最適化することにより、マルチストライプの半導体レーザ光源部1から出射されたレーザ光11を、Y軸方向に略均一な分布で、かつ、導光板10の入射端面10aの長手方向および短手方向の各幅に合わせて効率的に、導光板10の入射端面10aに導くことができる。
本実施の形態では、マルチストライプの半導体レーザ光源部1の配列方向に垂直な方向を導光板の短手方向であるX軸方向に一致させているためレーザ光11を、ビーム成形部2から集光レンズ9までの間、X軸方向においては略平行光で伝播させることが出来るので、面発光装置100はX軸方向に薄型にすることが出来る。仮にマルチストライプの半導体レーザ光源部1の配列方向を導光板の短手方向に平行に配置した場合、レーザ光11は導光板の短手方向に発散角を持ってしまうので、X軸方向のビーム幅が大きくなる分装置を薄型化することが出来ない。
なお、本実施の形態では、マルチストライプの半導体レーザ光源部1をマルチストライプ半導体レーザ1a、1b、1cによって構成したが、これに限らない。例えば、マルチストライプ半導体レーザ1bの代わりに、波長532nmのレーザ光を出射するレーザとして、高効率のSHG(第2高調波発生:Second Harmonic Generation)レーザを用いてもよい。SHGレーザのSHG結晶は、KTPやLBO、BiBoなどが一般的に用いられる。
また、本実施の形態では、ロッドインテグレータ6に入射するレーザ光の発散角を制御する入射レンズ部として、シリンドリカルレンズ5を用いたが、これに限らない。要は、Y軸方向にのみパワーを有し、Y軸方向の発散角を制御できるレンズであればよい。
また、本実施の形態では、レーザ光11を導光板10の前でY軸方向において略平行光に変換する発散角制御光学系として、フレネルレンズ8を用いたが、フレネルレンズに換えて、屈折レンズやミラーを用いてもよい。
また、本実施の形態では、導光板10に入射するレーザ光11のX軸方向の発散角を制御する集光レンズを用いているが、集光レンズは、屈折レンズでも、フレネルレンズでも、ミラーでも、あるいは拡散板でもよい。
(実施の形態2)
次に、実施の形態2に係る面発光装置について説明する。図4は、実施の形態2に係る面発光装置の構成を示す断面図である。なお、本実施の形態では、実施の形態1と同様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
図4に示す面発光装置400は、実施の形態1の面発光装置100とほぼ同様の構成を有する。本実施の形態の面発光装置400の特徴は、ミラー41、ミラー42を用いて、レーザ光を折り返していることである。このような構成にすることで、Z軸方向の長さを短くできるので、装置の小型化を実現できる。
(実施の形態3)
次に、実施の形態3に係る画像表示装置について説明する。図5は、本発明の実施の形態3に係る画像表示装置の概略構成を示す断面図である。なお、本実施の形態では、実施の形態1と同様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
図5に示す画像表示装置500は、図1に示す実施の形態1に対応する面発光装置100と、表示パネル51とを有する。
表示パネル51は、導光板10の前面10bと対向する位置に配置されている。表示パネル51は、例えば、公知の液晶パネルであり、図示しない偏光板や液晶セル、カラーフィルタなどから構成されている。
画像表示装置500は、導光板10の前面10bから出射したレーザ光11を表示パネル51に入射し、表示パネル51による光の遮断および透過現象を利用して画像を表示する。
このように、本実施の形態によれば、実施の形態1で説明した輝度の均一性が高い、薄型の面発光装置100を光源として用いるため、輝度ムラを低減することができる。
なお、表示パネル51と一緒に使用する面発光装置は、実施の形態1の面発光装置100に限定されない。例えば、画像表示装置は、図4に示す実施の形態2に対応する面発光装置400と、表示パネル51とを有する構成としてもよい。この場合の面発光装置はミラー41、ミラー42を用いて、レーザ光を折り返しているので、装置の小型化を実現できる。
本発明に係る面発光装置および画像表示装置は、輝度の均一性を向上することができる面発光装置および画像表示装置として有用である。また、本発明に係る面発光装置および画像表示装置は、高画質化、薄型化、小型化、および低消費電力化が望まれる液晶テレビや液晶モニタなどに好適である。
本発明の実施の形態1に係る面発光装置の概略構成を示す断面図 図1の要部の概略構成を示す図1に垂直な方向の断面図 フレネルレンズへ入射する位置におけるレーザ光のY軸方向の強度分布の一例を示す図 本発明の実施の形態2に係る面発光装置の概略構成を示す断面図 本発明の実施の形態3に係る画像表示装置の概略構成を示す断面図
1 マルチストライプの半導体レーザ光源部
1a マルチストライプ赤色半導体レーザ
1b マルチストライプ緑色半導体レーザ
1c マルチストライプ青色半導体レーザ
2 ビーム成形部
2a、2b、2c ビーム成形レンズ
3 色合成プリズム
4 折り曲げミラー
5 シリンドリカルレンズ
6 ロッドインテグレータ
7 結像光学系
8 フレネルレンズ
9 集光レンズ
10 導光板
10a 導光板の入射端面
10b 導光板の前面
10c 導光板の背面
11 色合成プリズムにより合成されたレーザ光
11a マルチストライプ赤色半導体レーザから出射したレーザ光
11b マルチストライプ緑色半導体レーザから出射したレーザ光
11c マルチストライプ青色半導体レーザから出射したレーザ光
41、42 ミラー
51 表示パネル
100、400 面発光装置
500 画像表示装置

Claims (13)

  1. 複数のレーザ光を出射するマルチストライプ構造の半導体レーザ光源と、
    入射面からレーザ光を導光して出射面から面発光させる導光板と、
    前記マルチストライプ構造の半導体レーザ光源から出射されたレーザ光を入射し、前記レーザ光の強度分布を、出射面において、少なくとも一方向に略均一な強度分布に変換するロッドインテグレータと、
    前記ロッドインテグレータに入射する前記レーザ光の発散角を制御する入射レンズ部と、
    前記ロッドインテグレータから出射されたレーザ光の前記略均一な強度分布を、前記導光板の入射面近傍位置において、前記導光板の入射面の長手方向に略一致させて結像させる結像光学系と、を有し、
    前記マルチストライプ構造の半導体レーザ光源のマルチストライプの配列方向と前記導光板の長手方向が略一致するように配置されていることを特徴とする面発光装置。
  2. 前記入射レンズ部は、前記ロッドインテグレータに入射する前記レーザ光の発散角を、マルチストライプの配列方向に対し垂直な方向に対しては、略平行に制御する、
    請求項1に記載の面発光装置。
  3. 前記入射レンズ部は、
    前記レーザ光を略平行光に変換する第一レンズ部と、
    一方向にのみパワーを有する第二レンズ部と、
    を有する請求項1に記載の面発光装置。
  4. 前記第二レンズ部がパワーを有する前記一方向は、前記導光板の入射面の長手方向及び前記マルチストライプの配列方向と一致しており、
    前記ロッドインテグレータは、前記導光板の入射面の長手方向における前記レーザ光の強度分布を略均一に変換する、
    請求項3に記載の面発光装置。
  5. 前記結像光学系は、一方向にのみパワーを有し、
    前記パワーの方向は、前記ロッドインテグレータによってレーザ光が均一な強度分布に変換される方向と略平行である、
    請求項1から4いずれかに記載の面発光装置。
  6. 前記マルチストライプ構造の半導体レーザ光源は、出射するレーザ光の波長が互いに異なる複数のマルチストライプ構造の半導体レーザ光源から構成され、
    前記面発光装置は、前記複数のマルチストライプ構造のレーザ光源から出射されたレーザ光を合成する光合成部、をさらに有し、
    前記ロッドインテグレータは、前記光合成部によって合成されたレーザ光の強度分布を、出射面において、少なくとも一方向に略均一な強度分布に変換する、
    請求項1に記載の面発光装置。
  7. 前記結像光学系と前記導光板との間に配置され、前記導光板に入射するレーザ光を前記導光板の入射面の長手方向において略平行光に変換し、および/または、前記導光板の入射面の短手方向における発散角を変更する発散角制御光学系、をさらに有する、
    請求項1に記載の面発光装置。
  8. 前記複数のマルチストライプ構造の半導体レーザ光源は、
    3原色の各色に対応する波長のレーザ光を出射する複数のレーザ光源を有する、
    請求項1に記載の面発光装置。
  9. 前記発散角制御光学系は、1つのフレネルレンズを用いて、前記導光板に入射するレーザ光を前記導光板の入射面の長手方向において略平行光に変換する、
    請求項7に記載の面発光装置。
  10. 前記発散角制御光学系は、1つのフレネルレンズを用いて、前記導光板の入射面の短手方向における発散角を変更する、
    請求項7に記載の面発光装置。
  11. 前記発散角制御光学系は、1つの拡散板を用いて、前記導光板の入射面の短手方向における発散角を変更する、
    請求項7に記載の面発光装置。
  12. 前記発散角制御光学系は、1つのフレネルレンズおよび1つの拡散板を用いて、前記導光板の入射面の短手方向における発散角を変更する、
    請求項7に記載の面発光装置。
  13. 請求項1から請求項12のいずれかに記載の面発光装置と、
    前記導光板の出射面側に配置された表示パネルと、
    を有する画像表示装置。
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