JP2010165460A - Conductive nanofiber sheet and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive nanofiber sheet with reduced pattern visibility and with a capability of forming a conductive pattern film with ease, and to provide a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: The conductive nanofiber sheet 1 includes a substrate sheet 10, a conductive pattern layer 6 formed on the substrate sheet 10, containing conductive nanofibers 3, capable of being conductive through the conductive nanofiber 3, and having a plurality of minute pinholes 7 which cannot be recognized by viewing, and an insulating pattern layer 5 formed on a part of the substrate sheet 10 where the conductive pattern layer 6 is not formed, containing the conductive nanofibers 3 and insulated from the conductive pattern layer 6. Narrow channels 9 disconnect the conductive nanofibers 3 which are in a conductive state, and the narrow channels 9 insulate the insulating pattern layer 5 from the conductive pattern layer 6. The narrow channels 9 and the minute pinholes 7 are filled with insulating materials. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

この発明は、タッチパネルなどに使用する導電性ナノファイバーシート及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a conductive nanofiber sheet used for a touch panel or the like and a method for producing the same.

従来、樹脂やガラス等よりなる基材の表面に導電層を有するナノファイバーからなる層を形成する方法として、例えば下記の特許文献1のように、バインダー樹脂を揮発性溶剤に溶解した溶液に極細導電繊維を分散させた塗液を、基材表面に塗布し、この塗布塗液を乾燥して導電層を形成する方法があった。しかし、特許文献1のような方法によって得られた導電性ナノファイバーシートは、導電層をパターンで形成する場合にパターン見えする問題があった。そこで、この発明者らはこの問題を解決するために、基体シート上に導電性ナノファイバーを含む導電パターン層と絶縁パターン層とが形成された導電性ナノファイバーシートであり、その導電パターン層に目視で認識できないサイズの微小ピンホールを形成し、前記絶縁パターン層に目視で認識できない幅の狭小溝を形成した導電性ナノファイバーシートを発明した。   Conventionally, as a method for forming a layer made of nanofibers having a conductive layer on the surface of a base material made of resin, glass or the like, for example, as in Patent Document 1 below, a solution in which a binder resin is dissolved in a volatile solvent is extremely fine. There has been a method in which a coating liquid in which conductive fibers are dispersed is applied to the surface of a substrate, and this coating coating liquid is dried to form a conductive layer. However, the conductive nanofiber sheet obtained by the method as disclosed in Patent Document 1 has a problem that a pattern appears when a conductive layer is formed in a pattern. Therefore, in order to solve this problem, the inventors are a conductive nanofiber sheet in which a conductive pattern layer including a conductive nanofiber and an insulating pattern layer are formed on a base sheet, and the conductive pattern layer includes A conductive nanofiber sheet was invented in which a minute pinhole having a size that cannot be visually recognized was formed, and a narrow groove having a width that cannot be visually recognized was formed in the insulating pattern layer.

特許第3903159号Japanese Patent No. 3903159

しかし、高い導電性を得るために導電パターン層(又は絶縁パターン層)を厚膜にすると微小ピンホールや狭小溝の深さが大きくなり、斜めの角度から照明を照らした場合に微小ピンホール内や狭小溝内に影ができて黒く見える。その結果、導電パターン層(又は絶縁パターン層)との色や反射性などの差が顕著になり、通常では目視で認識できないサイズや幅で構成していても、微小ピンホールや狭小溝が見えてパターン見えが完全にはなくならない場合があった。したがって、微小ピンホール7のサイズや狭小溝9の幅をより細くしてこの問題を解決しようとしたが、微小ピンホール7のサイズをより小さくしたり狭小溝9の幅をより繊細にすればするほど、パターン化が難しくなり生産性が低下する問題があった。   However, if the conductive pattern layer (or insulating pattern layer) is made thick to obtain high conductivity, the depth of the minute pinholes and narrow grooves will increase, and the interior of the minute pinholes will illuminate when illuminated from an oblique angle. And shadows appear in narrow grooves and appear black. As a result, the difference in color and reflectivity from the conductive pattern layer (or insulating pattern layer) becomes remarkable, and even if it is configured with a size and width that cannot be recognized visually, minute pinholes and narrow grooves can be seen. In some cases, the pattern appearance did not disappear completely. Therefore, an attempt was made to solve this problem by making the size of the minute pinhole 7 and the width of the narrow groove 9 narrower. However, if the size of the minute pinhole 7 is made smaller or the width of the narrow groove 9 is made more delicate. The more it was done, the more difficult it was to pattern and there was a problem that productivity was lowered.

この発明は、上記のような課題を解決するためになされたもので、基体シート上に導電性ナノファイバーを含む導電パターン層と絶縁パターン層とが形成され、絶縁パターン層が目視で認識できない幅の狭小溝によって島状構造に形成された導電性ナノファイバーシートであって、狭小溝の深さの一部又は全部が絶縁材料によって埋められている導電性ナノファイバーシートである。又、この発明は、絶縁材料によって埋められた狭小溝の深さが0〜1μmである導電性ナノファイバーシートとしてもよい。あるいは、導電性ナノファイバーを含む導電パターン層と絶縁パターン層の厚みが1〜5μmである導電性ナノファイバーシートとしてもよい。   The present invention has been made to solve the above-described problems. A conductive pattern layer containing conductive nanofibers and an insulating pattern layer are formed on a base sheet, and the width in which the insulating pattern layer cannot be visually recognized. The conductive nanofiber sheet is formed in an island-like structure by narrow grooves, and a part or all of the depth of the narrow grooves is filled with an insulating material. Moreover, this invention is good also as an electroconductive nanofiber sheet | seat whose depth of the narrow groove filled with the insulating material is 0-1 micrometer. Or it is good also as an electroconductive nanofiber sheet | seat whose thickness of the conductive pattern layer containing an electroconductive nanofiber and an insulating pattern layer is 1-5 micrometers.

又、この発明は、導電性ナノファイバーを含む導電パターン層と絶縁パターン層とが光硬化性材料で形成されている導電性ナノファイバーシートである。   Moreover, this invention is a conductive nanofiber sheet in which a conductive pattern layer containing conductive nanofibers and an insulating pattern layer are formed of a photocurable material.

そしてこの発明は、基体シート上に導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成し、導電パターン層の一部を感光により硬化させ、未硬化の導電パターン層の一部を現像除去することにより、目視で認識できない幅の狭小溝を形成して狭小溝に囲まれた部分を絶縁パターン層にした後、狭小溝に絶縁材料を塗布する導電性ナノファイバーシートの製造方法である。又、基体シート上に導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成し、導電パターン層の一部にエネルギー線を照射して導電パターン層の一部を焼き切って除去することにより、目視で認識できない幅の狭小溝を形成して狭小溝に囲まれた部分を絶縁パターン層にした後、狭小溝に絶縁材料を塗布する導電性ナノファイバーシートの製造方法としてもよい。あるいは、この発明は、基体シート上に導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成し、導電パターン層の一部にエッチングレジスト層を形成後、全面をエッチングして、エッチングレジスト層が形成されていない導電パターン層の一部をエッチング除去することにより、目視で認識できない幅の狭小溝を形成して狭小溝に囲まれた部分を絶縁パターン層にした後、狭小溝に絶縁材料を塗布することを特徴とする導電性ナノファイバーシートの製造方法としてもよい。   In the present invention, a conductive pattern layer including conductive nanofibers is formed on the entire surface of the substrate sheet, a part of the conductive pattern layer is cured by light exposure, and a part of the uncured conductive pattern layer is developed and removed. Thus, after forming a narrow groove having a width that cannot be visually recognized and forming an insulating pattern layer on a portion surrounded by the narrow groove, the conductive nanofiber sheet is manufactured by applying an insulating material to the narrow groove. Further, a conductive pattern layer containing conductive nanofibers is formed on the entire surface of the substrate sheet, and a portion of the conductive pattern layer is irradiated with energy rays to burn off and remove a portion of the conductive pattern layer. After forming a narrow groove with a width that cannot be recognized in the above and forming a portion surrounded by the narrow groove as an insulating pattern layer, a method of manufacturing a conductive nanofiber sheet in which an insulating material is applied to the narrow groove may be used. Alternatively, in the present invention, a conductive pattern layer including conductive nanofibers is formed on the entire surface of the base sheet, an etching resist layer is formed on a part of the conductive pattern layer, and then the entire surface is etched to form an etching resist layer. By etching away a part of the conductive pattern layer that has not been formed, a narrow groove with a width that cannot be visually recognized is formed, and the portion surrounded by the narrow groove is made into an insulating pattern layer, and then an insulating material is applied to the narrow groove It is good also as a manufacturing method of the conductive nanofiber sheet characterized by doing.

又、この発明は、狭小溝に絶縁材料を塗布する方法が、ダイコート、インクジェット、ディッピングのいずれかである導電性ナノファイバーシートの製造方法である。更に、この発明は、上記導電性ナノファイバーシートを電極として用いたタッチパネルとしてもよい。   The present invention is also a method for producing a conductive nanofiber sheet in which the method of applying an insulating material to the narrow groove is any one of die coating, inkjet, and dipping. Furthermore, this invention is good also as a touchscreen using the said electroconductive nanofiber sheet as an electrode.

この発明の導電性ナノファイバーシートは、狭小溝が絶縁材料で埋められ狭小溝の深さが浅くなり、あるいは深さがなくなり、狭小溝の影が映りにくくなる。そのため、導電パターン層や絶縁パターン層の厚みが厚くなっても、狭小溝の影が映りにくくなり、導電パターン層や絶縁パターン層の厚みに影響されることなく、導電パターン層や絶縁パターン層のパターン見えを相当に軽減させることができる。   In the conductive nanofiber sheet of the present invention, the narrow groove is filled with an insulating material, and the depth of the narrow groove becomes shallow or disappears, and the shadow of the narrow groove becomes difficult to be reflected. Therefore, even if the thickness of the conductive pattern layer or the insulating pattern layer increases, the shadow of the narrow groove becomes difficult to be reflected, and the thickness of the conductive pattern layer or the insulating pattern layer is not affected by the thickness of the conductive pattern layer or the insulating pattern layer. The pattern appearance can be considerably reduced.

又、この発明で得られる導電性ナノファイバーシートは、導電パターン層と絶縁パターン層とが光硬化性材料により形成されているため、導電パターン層の一部を感光により硬化させ、未硬化の導電パターン層の一部を現像除去することにより、パターン見えのない導電性ナノファイバーシートを容易に製造することができる。   In the conductive nanofiber sheet obtained by the present invention, the conductive pattern layer and the insulating pattern layer are formed of a photocurable material. By developing and removing a part of the pattern layer, a conductive nanofiber sheet having no visible pattern can be easily produced.

この発明の導電性ナノファイバーシートの製造方法は、基体シート上に導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成し、露光・現像したり、導電パターン層の一部にエネルギー線を照射したり、あるいはエッチングしたりして、狭小溝及び島状の絶縁パターン層を形成し、ダイコート、インクジェット、ディッピングのいずれかの塗布方法により、狭小溝に絶縁材料を塗布する。そのため、パターン見えを相当に軽減させた導電性ナノファイバーシートを容易に製造することができる。   In the method for producing a conductive nanofiber sheet of the present invention, a conductive pattern layer containing conductive nanofibers is formed on the entire surface of a substrate sheet, and exposed and developed, or an energy beam is irradiated to a part of the conductive pattern layer. Or etching to form a narrow groove and an island-like insulating pattern layer, and an insulating material is applied to the narrow groove by any one of a coating method of die coating, ink jetting, and dipping. Therefore, it is possible to easily manufacture a conductive nanofiber sheet in which the pattern appearance is considerably reduced.

その(1)がこの発明の第1の実施の形態による導電性ナノファイバーシートの概略構成を示した平面図であり、その(2)がその(1)で示したII―IIラインの断面図である。(1) is a plan view showing a schematic configuration of the conductive nanofiber sheet according to the first embodiment of the present invention, and (2) is a sectional view taken along line II-II shown in (1). It is. その(1)が図1の(2)で示した導電パターン層及び絶縁パターン層の部分拡大図であり、その(2)が図1で示した導電性ナノファイバーシートを電極として用いたタッチパネルの概略構成を示した断面図である。(1) is a partially enlarged view of the conductive pattern layer and the insulating pattern layer shown in (2) of FIG. 1, and (2) is a touch panel using the conductive nanofiber sheet shown in FIG. 1 as an electrode. It is sectional drawing which showed schematic structure. 図1で示した導電性ナノファイバーシートの製造工程を示した図である。It is the figure which showed the manufacturing process of the electroconductive nanofiber sheet | seat shown in FIG. 図1で示した導電性ナノファイバーシートの他の製造工程を示した図である。It is the figure which showed the other manufacturing process of the electroconductive nanofiber sheet | seat shown in FIG. その(1)がこの発明の第2の実施の形態による導電性ナノファイバーシートの概略構成を示した平面図であり、その(2)がその(1)で示したII―IIラインの断面図である。(1) is a plan view showing a schematic configuration of a conductive nanofiber sheet according to the second embodiment of the present invention, and (2) is a sectional view taken along line II-II shown in (1). It is.

次に、発明の実施の形態について図を参照しながら説明する。   Next, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.

図1及び図2の(1)を参照して、この発明の第1の実施の形態による導電性ナノファイバーシート1は、基体シート10と、基体シート10上に形成され、導電性ナノファイバー3を含み、導電性ナノファイバー3を介して導通可能であり、目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホール7を有する導電パターン層6と、基体シート10上の導電パターン層6が形成されていない部分に形成され、導電性ナノファイバー3を含み、導電パターン層6から絶縁された絶縁パターン層5とを備えている。導電パターン層6と絶縁パターン層5とは各々平面視帯状に形成され、一方向を軸方向として交互に配置されるように形成されている。尚、導電パターン層6と絶縁パターン層5の平面視形状は、複数のひし形形状を一方向に直線的に連続された形状等の他の形状に形成されてもよい。絶縁パターン層5は、目視により認識することができない幅の狭小溝9を有している。狭小溝9が導通可能状態にある導電性ナノファイバー3を断線させ、この狭小溝9により、絶縁パターン層5は導電パターン層6から絶縁されている。又、狭小溝9は平面視格子状に形成され、絶縁パターン層5は、平面視矩形形状の複数の島状に形成されている。微小ピンホール7は、導電パターン層6の全面に渡って形成されている。狭小溝9及び微小ピンホール7には、絶縁材料が埋められている。絶縁材料は、狭小溝9及び微小ピンホール7が影になりにくい程度の深さとなるように埋められている。絶縁材料を、導電パターン層6及び絶縁パターン層5の上面に整列させて、狭小溝9及び微小ピンホール7の深さの全部にわたって埋めてもよい。絶縁材料を深さの全部にわたっていれることにより、深さの存在か生じる影が一切なくなり、パターン見えをより効果的に防止することができる。   With reference to FIG. 1 and FIG. 2 (1), a conductive nanofiber sheet 1 according to the first embodiment of the present invention is formed on a base sheet 10 and the base sheet 10. And a conductive pattern layer 6 having a plurality of minute pinholes 7 having a size that cannot be visually recognized through the conductive nanofiber 3 and the conductive pattern layer 6 on the base sheet 10. An insulating pattern layer 5 that is formed in an unformed portion, includes conductive nanofibers 3 and is insulated from the conductive pattern layer 6 is provided. The conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 are each formed in a band shape in plan view, and are formed so as to be alternately arranged with one direction as an axial direction. In addition, the planar view shape of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 may be formed in other shapes such as a shape in which a plurality of rhombus shapes are linearly continued in one direction. The insulating pattern layer 5 has a narrow groove 9 having a width that cannot be visually recognized. The conductive nanofibers 3 in which the narrow groove 9 is in a conductive state are disconnected, and the insulating pattern layer 5 is insulated from the conductive pattern layer 6 by the narrow groove 9. The narrow grooves 9 are formed in a lattice shape in plan view, and the insulating pattern layer 5 is formed in a plurality of island shapes having a rectangular shape in plan view. The minute pinhole 7 is formed over the entire surface of the conductive pattern layer 6. The narrow groove 9 and the minute pinhole 7 are filled with an insulating material. The insulating material is buried so that the narrow grooves 9 and the minute pinholes 7 are deep enough not to be shaded. The insulating material may be aligned over the upper surfaces of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 to fill the entire depth of the narrow groove 9 and the minute pinhole 7. By putting the insulating material over the entire depth, there is no shadow caused by the presence of the depth, and the pattern appearance can be more effectively prevented.

図2の(2)を参照して、導電性ナノファイバーシート1を電極として用いたタッチパネル8は、互いの導電パターン層6の軸方向が直交するように、2枚の導電性ナノファイバーシート1を貼り合わせて構成されている。貼り合わされた導電性ナノファイバーシート1の上面を覆うように保護板52が接着され、下面に液晶表示装置が接着するようにして配置されている。   With reference to (2) of FIG. 2, the touch panel 8 using the conductive nanofiber sheet 1 as an electrode has two conductive nanofiber sheets 1 such that the axial directions of the conductive pattern layers 6 are orthogonal to each other. It is configured by pasting together. A protective plate 52 is bonded so as to cover the upper surface of the bonded conductive nanofiber sheet 1, and a liquid crystal display device is bonded to the lower surface.

基体シート10の材質としては、アクリル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニルなどの樹脂フィルムが挙げられる。基体シート層の厚みは5〜800μmの範囲で適宜設定可能である。5μm未満では、層としての強度が不足して剥離する際に破れたりするので取り扱いが困難となり、800μmを越える厚みでは、基体シート10層に剛性がありすぎて加工が困難となる。   Examples of the material of the base sheet 10 include resin films such as acrylic, polycarbonate, polyester, polybutylene terephthalate, polypropylene, polyamide, polyurethane, polyvinyl chloride, and polyvinyl fluoride. The thickness of the base sheet layer can be appropriately set within a range of 5 to 800 μm. If the thickness is less than 5 μm, the strength of the layer is insufficient and the layer is torn when it is peeled off, making it difficult to handle. If the thickness exceeds 800 μm, the base sheet 10 layer is too rigid and difficult to process.

導電パターン層6及び絶縁パターン層5は、例えば、ウレタンアクリレート、シアノアクリレートなどの光硬化性樹脂バインダーと、導電性ナノファイバー3とからなるものが挙げられる。導電パターン層6及び絶縁パターン層5は、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷等の汎用の各種印刷手法により設けることができるほか、導電性ナノファイバー3を含有させた光硬化性樹脂からなるドライフィルムなどのようなシートを貼り付けるなどして設けることもできる。   Examples of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 include those composed of a photocurable resin binder such as urethane acrylate and cyanoacrylate and the conductive nanofiber 3. The conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 can be provided by various general printing methods such as gravure printing, offset printing, screen printing, and the like, and a dry film made of a photocurable resin containing the conductive nanofiber 3 It is also possible to provide a sheet such as a sticker.

又、導電パターン層6及び絶縁パターン層5は、例えば、アクリル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニルなどの各種樹脂バインダー33と、導電性ナノファイバーとからなり、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷等の汎用の各種印刷手法により設けてもよい。絶縁パターン層5は、目視で認識できない幅の狭小溝9が形成されることを除けば、バインダー樹脂33や導電性ナノファイバー3など導電パターン層6の材質と何ら変わりがない。   The conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 are made of various resin binders 33 such as acrylic, polyester, polyurethane, and polyvinyl chloride, and conductive nanofibers, and can be used for gravure printing, offset printing, screen printing, and the like. You may provide by various general-purpose printing methods. The insulating pattern layer 5 is not different from the material of the conductive pattern layer 6 such as the binder resin 33 and the conductive nanofiber 3 except that the narrow groove 9 having a width that cannot be visually recognized is formed.

導電パターン層6及び絶縁パターン層5の厚みは、できる限り同等にし、かつ1〜50μmの範囲が好ましい。1μm未満では導電パターン層6の導電性が不足する場合があり、50μmを越える厚みでは絶縁パターン層5の狭小溝の一部または全部を絶縁材料4によって埋め込むことが困難となる。そして、絶縁材料4によって埋め込む工程をより迅速に行うためには、厚みを5μm以下にするほうがより好ましい。なお、導電パターン層6及び絶縁パターン層5はと基体シート10との間に、剥離層やアンカー層等を設けてもよいし、導電パターン6及び絶縁パターン層5は層上にアンカー層や接着層等を設けてもよい。   The thicknesses of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 are as equal as possible and are preferably in the range of 1 to 50 μm. If the thickness is less than 1 μm, the conductivity of the conductive pattern layer 6 may be insufficient. If the thickness exceeds 50 μm, it becomes difficult to embed part or all of the narrow grooves of the insulating pattern layer 5 with the insulating material 4. And in order to perform the process of embedding with the insulating material 4 more rapidly, it is more preferable to make thickness into 5 micrometers or less. The conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 may be provided with a release layer, an anchor layer, or the like between the base sheet 10, and the conductive pattern 6 and the insulating pattern layer 5 may be anchored or bonded on the layer. A layer or the like may be provided.

導電性ナノファイバー3の例としては、金、銀、白金、銅、パラジウムなどの金属イオンを担持した前駆体表面にプローブの先端部から印加電圧又は電流を作用させ連続的にひき出して作製した金属ナノワイヤや、ペプチド又はその誘導体が自己組織化的に形成したナノファイバーに金粒子を付加してなるペプチドナノファイバーなどがあげられる。またカーボンナノチューブなどの黒っぽい導電性ナノファイバー3であっても、影との色または反射性などに差が認められる場合は対象となる。   As an example of the conductive nanofiber 3, it was produced by continuously applying an applied voltage or current from the tip of the probe to the surface of a precursor carrying metal ions such as gold, silver, platinum, copper, and palladium. Examples thereof include metal nanowires, peptide nanofibers obtained by adding gold particles to nanofibers formed by self-organization of peptides or derivatives thereof. Further, even if the conductive nanofibers 3 are blackish, such as carbon nanotubes, if there is a difference in the color of the shadow or the reflectivity, it becomes a target.

狭小溝9の幅は、10μm〜100μm程度が好ましい。狭小溝9の幅を10μm未満にして狭小溝9を形成しようとすると歩留まりが極端に低下し、狭小溝9を埋めることが技術的にも困難であるからである。又、100μmを超える幅にすると狭小溝9を埋めても照明で照らされた場合にその部分が目視で認識できてしまう場合があるからである。また、狭小溝9の深さは、導電パターン層6及び絶縁パターン層5の厚みに該当する。   The width of the narrow groove 9 is preferably about 10 μm to 100 μm. This is because if the narrow groove 9 is formed with the width of the narrow groove 9 being less than 10 μm, the yield is extremely lowered, and it is technically difficult to fill the narrow groove 9. Further, if the width exceeds 100 μm, even if the narrow groove 9 is filled, the portion may be visually recognized when illuminated by illumination. Further, the depth of the narrow groove 9 corresponds to the thickness of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5.

狭小溝9の形状は、格子状のほか、ハニカム状、ランダム状、その他の形状いずれでもよく、これらの異なる形状の溝が混ざっているようなものであっても構わない。また、狭小溝9によって囲まれて形成される絶縁パターン層5の島状パターンは、円形状のほか、多角形状、楕円状、円弧状のいずれでもよく、これらの異なる形状が混ざっているようなものであっても構わない。島状パターンのサイズは、数百ミクロンオーダーから数十ミリオーダーで、これらの異なるサイズの形状が混ざっているようなものであっても構わない。   The shape of the narrow groove 9 may be a lattice shape, a honeycomb shape, a random shape, or any other shape, or may be a mixture of grooves having different shapes. Further, the island pattern of the insulating pattern layer 5 formed by being surrounded by the narrow groove 9 may be any of a polygonal shape, an elliptical shape, and an arc shape in addition to a circular shape, and these different shapes are mixed. It doesn't matter. The size of the island pattern is on the order of several hundred microns to several tens of millimeters, and the shapes of these different sizes may be mixed.

狭小溝9を形成して絶縁パターン層5を得る方法としては、導電パターン層6が光硬化性樹脂からなる場合、紫外線や赤外線、可視光線などの光を照射するなどして感光により硬化させ、未硬化の導電パターン層6の一部を現像除去する方法があげられる。   As a method of forming the narrow groove 9 to obtain the insulating pattern layer 5, when the conductive pattern layer 6 is made of a photocurable resin, it is cured by exposure to light such as ultraviolet light, infrared light, or visible light, There is a method of developing and removing a part of the uncured conductive pattern layer 6.

導電パターン層6が光硬化性樹脂以外からなる場合、狭小溝9の形成方法としては、基体シート10上に導電性ナノファイバー3を含む導電パターン層6を全面に形成し、その導電パターン層6の一部にスポット径数十μmの炭酸ガスレーザーなどのエネルギー線を照射して導電パターン層6のバインダー樹脂33を焼き切ることにより形成する方法があげられる。あるいは、導電パターン層6の一部にアルキッド樹脂やポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などのエッチングレジスト層を形成後、全面を酸またはアルカリ水溶液などによりエッチングして、エッチングレジスト層が形成されていない導電パターン層6の一部をエッチング除去する方法があげられる。   When the conductive pattern layer 6 is made of a material other than the photocurable resin, the narrow groove 9 is formed by forming the conductive pattern layer 6 including the conductive nanofibers 3 on the entire surface of the base sheet 10 and then forming the conductive pattern layer 6. For example, a method may be used in which a part of the substrate is irradiated with an energy beam such as a carbon dioxide laser having a spot diameter of several tens of μm to burn out the binder resin 33 of the conductive pattern layer 6. Alternatively, after forming an etching resist layer such as an alkyd resin, a polyester resin, or an epoxy resin on a part of the conductive pattern layer 6, the entire surface is etched with an acid or alkaline aqueous solution, and the conductive pattern layer in which no etching resist layer is formed. There is a method of removing a part of 6 by etching.

狭小溝9に絶縁材料4を塗布する方法としては、ダイコート、インクジェット、ディッピングなどがあげられるが、これ以外の方法であっても構わない。   Examples of the method for applying the insulating material 4 to the narrow groove 9 include die coating, ink jetting, and dipping, but other methods may be used.

絶縁材料4は、例えば、導電パターン層6や絶縁パターン層5と同種の材料が使用される。同種の材料を使用すれば、導電パターン層6や絶縁パターン層5が形成された部分と絶縁材料4が埋められた部分との屈折率、透過率及びヘイズ値の差が小さくなる。そのため、狭小溝9に絶縁材料を埋めることによるパターン見えの軽減に加えて、パターン見えを更に軽減させることができる。尚、絶縁材料4は、上述した屈折率、透過率及びヘイズ値の差を考慮して、異種の材料を使用してもよい。又、絶縁材料4に、シリカ等の絶縁性の粒子や絶縁性のワイヤー材料を含有させて、上述した屈折率、透過率及びヘイズ値の差がより小さくなるように調整すれば、狭小溝9に絶縁材料を埋めることによるパターン見えの軽減に加えて、パターン見えを更に軽減させることができる。又、絶縁材料4は,粘度の低い液状のものが好ましい。絶縁材料4が粘度の低い液状のものであれば、流動性に富むので、詰まりなどの問題が生じにくく、泡かみも少なくなるため、絶縁材料4を狭小溝9に迅速に充填することができる。   As the insulating material 4, for example, the same kind of material as that of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 is used. If the same kind of material is used, the difference in refractive index, transmittance and haze value between the portion where the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 are formed and the portion where the insulating material 4 is buried is reduced. Therefore, in addition to reducing the pattern appearance by filling the narrow groove 9 with an insulating material, the pattern appearance can be further reduced. The insulating material 4 may be made of different materials in consideration of the above-described differences in refractive index, transmittance, and haze value. If the insulating material 4 contains insulating particles such as silica or an insulating wire material and is adjusted so that the above-described differences in refractive index, transmittance and haze value become smaller, the narrow groove 9 In addition to reducing the pattern appearance by embedding an insulating material, the pattern appearance can be further reduced. The insulating material 4 is preferably a liquid having a low viscosity. If the insulating material 4 is a liquid having a low viscosity, it is rich in fluidity, so that problems such as clogging are less likely to occur and foaming is reduced, so that the insulating material 4 can be quickly filled into the narrow groove 9. .

絶縁材料を塗布した後の狭小溝9に深さは0〜1μmになるようにするのが好ましい、1μmを超える深さになると、狭小溝9に影が映る場合があるからである。   It is preferable that the depth of the narrow groove 9 after applying the insulating material is 0 to 1 μm. If the depth exceeds 1 μm, a shadow may appear in the narrow groove 9.

なお、基体シート10上には、例えば3〜10mm角くらいのサイズの位置検知マーク25を形成するのが好ましい。この位置検知マーク25を光学的方法により読み取れば、基体シート10上の所定の位置に狭小溝9を形成でき、インクジェットなどで絶縁材料4を塗布する場合には位置精度よく塗布できるからである。以上、この発明では狭小溝9を埋めることにのみ言及してきたが、導電パターン層9に目視で認識できないサイズの微小ピンホール7を形成した場合についても狭小溝9を埋めることと同様にして前述の問題を解決できる。   In addition, it is preferable to form the position detection mark 25 of a size of about 3 to 10 mm square, for example, on the base sheet 10. This is because if the position detection mark 25 is read by an optical method, the narrow groove 9 can be formed at a predetermined position on the base sheet 10, and when the insulating material 4 is applied by inkjet or the like, it can be applied with high positional accuracy. As described above, in the present invention, only the filling of the narrow groove 9 has been described, but the case where the minute pinhole 7 having a size that cannot be visually recognized is formed in the conductive pattern layer 9 is described in the same manner as the filling of the narrow groove 9. Can solve the problem.

以上の方法によって得られた導電性ナノファイバーシート1では、導電パターン層6や絶縁パターン層5のパターン見えが相当に軽減され、これを数枚用いて積層等すれば、ディスプレイ画面が均一の非常に優れた抵抗膜式や静電容量式のタッチパネルを製造することができる。   In the conductive nanofiber sheet 1 obtained by the above method, the pattern appearance of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 is considerably reduced. It is possible to manufacture a resistance film type or electrostatic capacity type touch panel that is excellent in resistance.

次に、この発明の第2の実施の形態による導電性ナノファイバーシート2について説明する。基本的な構成は、第1の実施の形態による導電性ナノファイバーシート1と共通するので、異なる点を説明する。   Next, the conductive nanofiber sheet 2 according to the second embodiment of the present invention will be described. Since the basic configuration is common to the conductive nanofiber sheet 1 according to the first embodiment, different points will be described.

図5を参照して、第1の実施の形態では、狭小溝9に囲まれた複数の島状からなる絶縁パターン層5が形成されていたが、第2の実施の形態ではそのような絶縁パターン層は形成されていない。又、第1の実施の形態では、導電パターン層6に複数の微小ピンホール7が形成されていたが、第2の実施の形態ではそのような微小ピンホール7は形成されていない。導電性ナノファイバーシート2は、基体シート10と、基体シート10上に形成され、導電性ナノファイバー3を含み、その導電性ナノファイバー3を介して導通可能である導電パターン層6とを備えている。導電パターン層6は、目視により認識することができない幅の狭小溝9により、複数の領域に分割され、その狭小溝9により隣り合う導電パターン層6同士が絶縁されている。分割された複数の領域の各々は、平面視帯状に形成され、一方向を軸方向として配置されている。尚、導電パターン層6の平面視形状は、導電性ナノファイバーシート2が適用されるタッチパネルの用途、機能、性能等に応じた形状に形成される。狭小溝9には、導電性ナノファイバーシート1と同様に絶縁材料4が埋められている。   Referring to FIG. 5, in the first embodiment, the insulating pattern layer 5 made of a plurality of islands surrounded by the narrow grooves 9 is formed. In the second embodiment, such an insulating pattern layer 5 is formed. The pattern layer is not formed. In the first embodiment, a plurality of minute pinholes 7 are formed in the conductive pattern layer 6. However, in the second embodiment, such minute pinholes 7 are not formed. The conductive nanofiber sheet 2 includes a base sheet 10 and a conductive pattern layer 6 that is formed on the base sheet 10, includes the conductive nanofiber 3, and can be conducted through the conductive nanofiber 3. Yes. The conductive pattern layer 6 is divided into a plurality of regions by narrow grooves 9 having a width that cannot be visually recognized, and the adjacent conductive pattern layers 6 are insulated by the narrow grooves 9. Each of the plurality of divided regions is formed in a planar view band shape, and is arranged with one direction as an axial direction. In addition, the planar view shape of the electroconductive pattern layer 6 is formed in the shape according to the use of the touch panel to which the electroconductive nanofiber sheet 2 is applied, a function, performance, etc. The narrow groove 9 is filled with an insulating material 4 as in the case of the conductive nanofiber sheet 1.

導電性ナノファイバーシート2では、狭小溝9に絶縁材料4が埋められているため、狭小溝9部分の影がなくなり、狭小溝9から生じるパターン見えを相当に軽減させることができる。導電性ナノファイバーシート1で示したような絶縁パターン層5が構成されていないため、導電性ナノファイバーシート2の総面積を小さくすることができ、面積の狭いタッチパネルに適用する場合に有効である。   In the conductive nanofiber sheet 2, since the insulating material 4 is buried in the narrow groove 9, the shadow of the narrow groove 9 portion disappears, and the pattern appearance generated from the narrow groove 9 can be considerably reduced. Since the insulating pattern layer 5 as shown in the conductive nanofiber sheet 1 is not configured, the total area of the conductive nanofiber sheet 2 can be reduced, which is effective when applied to a touch panel with a small area. .

基体シート10として厚さ100μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、平均直径0.2μm、平均長さ10μmの銀ナノワイヤからなる導電性ナノファイバー2をシアノアクリレート系の紫外線硬化性樹脂からなるバインダー樹脂33中に分散させたインキを用いてシルク印刷をし、熱風により指触乾燥して厚さ3μmの導電パターン層6を形成した。次いで、その上に、多数の狭小溝のポジパターンを有するフォトマスク20を置き、紫外線を照射して導電パターン層6の一部を露光し、未硬化の狭小溝パターン部分を有機溶剤でもって剥離除去し、絶縁パターン層5を形成した(図3参照)。次いで、絶縁パターン層5の狭小溝9に、ウレタンアクリレート系の紫外線硬化性樹脂からなる絶縁材料4をダイコート法により充填し、狭小溝9を完全に埋めた導電性ナノファイバーシート1を形成した(図1、図2の(1)参照)。   A conductive nanofiber 2 made of silver nanowires having an average diameter of 0.2 μm and an average length of 10 μm on one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm as the base sheet 10 is a binder made of a cyanoacrylate UV curable resin. Silk printing was performed using the ink dispersed in the resin 33, and touch drying with hot air was performed to form a conductive pattern layer 6 having a thickness of 3 μm. Next, a photomask 20 having a large number of narrow groove positive patterns is placed thereon, a part of the conductive pattern layer 6 is exposed by irradiating with ultraviolet rays, and an uncured narrow groove pattern portion is peeled off with an organic solvent. The insulating pattern layer 5 was formed by removing (see FIG. 3). Next, the narrow groove 9 of the insulating pattern layer 5 was filled with an insulating material 4 made of urethane acrylate-based ultraviolet curable resin by a die coating method, thereby forming the conductive nanofiber sheet 1 in which the narrow groove 9 was completely filled ( (See (1) in FIGS. 1 and 2).

絶縁パターン層5の部分に形成された狭小溝9は絶縁パターン層5の総面積の37%程度を占有していて、ピッチ300μmの格子状で、平均の幅が50μm程度であった。通常は外観上存在が判別できない幅であるが、狭小溝9を埋める前は、斜めの角度から照明を照らした場合に狭小溝9内に影ができて黒くなり、銀ナノワイヤの白色とのコントラストにより、一部の者にはその存在が認識できる問題があった。しかし、狭小溝9を絶縁材料4で埋めた導電性ナノファイバーシート1では、その存在が認識できる者は皆無となり、光学性能も光線透過率が92%、ヘイズ値3%と良好で、表面抵抗値も50〜200Ω/□と良好な導電性の範囲であった。   The narrow grooves 9 formed in the insulating pattern layer 5 occupy about 37% of the total area of the insulating pattern layer 5 and have a lattice shape with a pitch of 300 μm and an average width of about 50 μm. Normally, the width cannot be determined from the appearance, but before filling the narrow groove 9, when illuminated from an oblique angle, the narrow groove 9 becomes shadowed and black, and contrast with the white color of the silver nanowires. As a result, some people have the problem of recognizing their existence. However, in the conductive nanofiber sheet 1 in which the narrow groove 9 is filled with the insulating material 4, no one can recognize its existence, the optical performance is as good as 92% light transmittance, 3% haze value, and surface resistance. The value was also in the range of good conductivity of 50 to 200Ω / □.

この得られた導電性ナノファイバーシート1は、透明の導電パターン層6からなるシートであり、導電パターン層6のパターン見えがなく、高光線透過率でかつ折り曲げもできる優れたものであった。そして、互いの導電パターン6の軸方向が直交するように2枚の導電性ナノファイバーシート1を貼り合わせてX電極及びY電極とし、その上面を覆うように保護板52を貼り付けし、その下面に液晶表示装置53を貼り付ければ、透明な静電容量タッチパネル8を作製することができた(図2の(2)参照)。   The obtained conductive nanofiber sheet 1 is a sheet made of a transparent conductive pattern layer 6, which has no visible pattern of the conductive pattern layer 6, has high light transmittance, and can be bent. Then, the two conductive nanofiber sheets 1 are bonded so that the axial directions of the conductive patterns 6 are orthogonal to each other to form an X electrode and a Y electrode, and a protective plate 52 is bonded so as to cover the upper surface thereof, If the liquid crystal display device 53 was attached to the lower surface, the transparent capacitive touch panel 8 could be manufactured (see (2) in FIG. 2).

導電性ナノファイバーシート1の作成において、基体シート10に位置検知マーク25を形成し、バインダー樹脂33の代わりに実施例1と同じ導電性ナノファイバー2を含ませたウレタンアクリレート系の紫外線硬化性樹脂からなる厚さ5μmのドライフィルム15を基体シート10上に貼り付け形成し、現像した他は実施例1と同様にして絶縁パターン層5を形成した(図3参照)。次いで、絶縁パターン層5の狭小溝9に、ウレタンアクリレート系の紫外線硬化性樹脂からなる絶縁材料4を位置検知マーク25を読み取って位置精度よくインクジェット法により充填し、狭小溝9の80%を埋めた導電性ナノファイバーシート1を形成した。   In the production of the conductive nanofiber sheet 1, a position detection mark 25 is formed on the base sheet 10, and a urethane acrylate UV curable resin containing the same conductive nanofiber 2 as in Example 1 instead of the binder resin 33. An insulating pattern layer 5 was formed in the same manner as in Example 1 except that a dry film 15 having a thickness of 5 μm was pasted on the base sheet 10 and developed (see FIG. 3). Next, the narrow groove 9 of the insulating pattern layer 5 is filled with the insulating material 4 made of urethane acrylate-based ultraviolet curable resin by reading the position detection mark 25 by the ink jet method with high positional accuracy, and 80% of the narrow groove 9 is filled. A conductive nanofiber sheet 1 was formed.

この方法によって得られた導電性ナノファイバーシート1も、狭小溝9の存在が認識できる者は皆無となり、光学性能も光線透過率が90%、ヘイズ値も2%と良好で、表面抵抗値も30〜100Ω/□と良好な導電性の範囲であった。   In the conductive nanofiber sheet 1 obtained by this method, no one can recognize the presence of the narrow groove 9, optical performance, light transmittance is 90%, haze value is 2%, and surface resistance is also good. It was 30-100Ω / □ and a good conductivity range.

導電性ナノファイバーシート1の作成において、バインダー樹脂33を紫外線硬化性樹脂の代わりにアクリル樹脂にし、厚みを1μmにしてスポット径20μmの炭酸ガスレーザーを照射して導電パターン層6のバインダー樹脂33を焼き切る方法で絶縁パターン層5を形成した他は実施例1と同様にして導電性ナノファイバーシート1を形成した(図4の(1)参照)。この方法によって得られた導電性ナノファイバーシート1も、狭小溝9の存在が認識できる者は皆無となり、光学性能も電気的性能もタッチパネルの用途としては問題にならない良好な範囲であった。   In the production of the conductive nanofiber sheet 1, the binder resin 33 is changed to an acrylic resin instead of the ultraviolet curable resin, the thickness is set to 1 μm, and a carbon dioxide gas laser having a spot diameter of 20 μm is irradiated to form the binder resin 33 of the conductive pattern layer 6. A conductive nanofiber sheet 1 was formed in the same manner as in Example 1 except that the insulating pattern layer 5 was formed by burning (see (1) in FIG. 4). In the conductive nanofiber sheet 1 obtained by this method, no one can recognize the existence of the narrow groove 9, and the optical performance and the electrical performance are in a good range that does not cause a problem for the use of the touch panel.

導電性ナノファイバーシート1の作成において、バインダー樹脂33を焼き切る方法の代わりに導電パターン層6の一部にアルキッド樹脂からなるエッチングレジスト層を形成後、全面をアルカリ水溶液によりエッチングして、エッチングレジスト層が形成されていない導電パターン層6の一部をエッチング除去する方法で絶縁パターン層5を形成した他は実施例3と同様にして導電性ナノファイバーシート1を形成した(図4の(2)及び(3)参照)。この方法によって得られた導電性ナノファイバーシート1も、狭小溝9の存在が認識できる者は皆無となり、光学性能も電気的性能もタッチパネルの用途としては問題にならない良好な範囲であった。   In forming the conductive nanofiber sheet 1, an etching resist layer made of an alkyd resin is formed on a part of the conductive pattern layer 6 instead of the method of burning out the binder resin 33, and then the entire surface is etched with an alkaline aqueous solution. A conductive nanofiber sheet 1 was formed in the same manner as in Example 3 except that the insulating pattern layer 5 was formed by etching away a part of the conductive pattern layer 6 where no film was formed ((2) in FIG. 4). And (3)). In the conductive nanofiber sheet 1 obtained by this method, no one can recognize the existence of the narrow groove 9, and the optical performance and the electrical performance are in a good range that does not cause a problem for the use of the touch panel.

1,2 導電性ナノファイバーシート
3 導電性ナノファイバー
4 絶縁材料
5 絶縁パターン層
6 導電パターン層
7 微小ピンホール
8 タッチパネル
9 狭小溝
10 基体シート
11 エッチングレジスト層
20 フォトマスク
25 位置検知マーク
33 樹脂バインダー
50 レーザー照射機の先端
51 レーザー照射光
52 保護板
53 液晶表示装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Conductive nanofiber sheet 3 Conductive nanofiber 4 Insulating material 5 Insulating pattern layer 6 Conductive pattern layer 7 Minute pinhole 8 Touch panel 9 Narrow groove 10 Base sheet 11 Etch resist layer 20 Photomask 25 Position detection mark 33 Resin binder 50 Laser irradiation machine tip 51 Laser irradiation light 52 Protection plate 53 Liquid crystal display device

Claims (12)

基体シートと、
前記基体シート上に形成され、導電性ナノファイバーを含み、その導電性ナノファイバーを介して導通可能である導電パターン層とを備え、
前記導電パターン層は、目視により認識することができない幅の狭小溝により、複数の領域に分割され、その狭小溝により隣り合う前記導電パターン層同士が絶縁されるように
設定され、
前記狭小溝には、深さの一部又は全部にわたって絶縁材料が埋められた、導電性ナノファイバーシート。
A base sheet;
A conductive pattern layer formed on the substrate sheet, including conductive nanofibers, and capable of conducting through the conductive nanofibers;
The conductive pattern layer is divided into a plurality of regions by narrow grooves having a width that cannot be visually recognized, and is set so that the conductive pattern layers adjacent to each other are insulated by the narrow grooves,
A conductive nanofiber sheet in which the narrow groove is filled with an insulating material over part or all of its depth.
基体シートと、
前記基体シート上に形成され、導電性ナノファイバーを含み、その導電性ナノファイバーを介して導通可能である導電パターン層と、
前記基体シート上の前記導電パターン層が形成されていない部分に形成され、前記導電性ナノファイバーを含み、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層とを備え、
前記絶縁パターン層は、目視により認識することができない幅の狭小溝を有し、その狭小溝により、前記導電パターン層から絶縁されると共に複数の島状に形成され、
前記狭小溝には、深さの一部又は全部にわたって絶縁材料が埋められた、導電性ナノファイバーシート。
A base sheet;
A conductive pattern layer formed on the substrate sheet, including conductive nanofibers, and being conductive through the conductive nanofibers;
Formed on a portion of the base sheet where the conductive pattern layer is not formed, including the conductive nanofibers, and an insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer,
The insulating pattern layer has a narrow groove having a width that cannot be visually recognized, and is insulated from the conductive pattern layer by the narrow groove and formed into a plurality of islands,
A conductive nanofiber sheet in which the narrow groove is filled with an insulating material over part or all of its depth.
前記絶縁材料が埋められた後の前記狭小溝の深さが0〜1μmである、請求項1又は請求項2記載の導電性ナノファイバーシート。   The conductive nanofiber sheet according to claim 1 or 2, wherein a depth of the narrow groove after the insulating material is buried is 0 to 1 µm. 前記導電パターン層の厚みが1〜5μmである、請求項1から請求項3のいずれかに記載の導電性ナノファイバーシート。   The conductive nanofiber sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive pattern layer has a thickness of 1 to 5 µm. 前記絶縁パターン層の厚みが1〜5μmである、請求項2又は請求項3記載の導電性ナノファイバーシート。   The conductive nanofiber sheet according to claim 2 or 3, wherein the insulating pattern layer has a thickness of 1 to 5 µm. 前記導電パターン層は、光硬化性材料により形成されている、請求項1から請求項3のいずれかに記載の導電性ナノファイバーシート。   The conductive nanofiber sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive pattern layer is formed of a photocurable material. 前記絶縁パターン層は、光硬化性材料により形成されている、請求項2又は請求項3記載の導電性ナノファイバーシート。   The conductive nanofiber sheet according to claim 2 or 3, wherein the insulating pattern layer is formed of a photocurable material. 基体シート上に、導通可能となるように導電性ナノファイバーを含む、光硬化性材料により構成される導電パターン層を全面に形成する形成工程と、
前記形成された導電パターン層の一部を感光により硬化させる工程と、
前記一部が硬化された導電パターン層の硬化されていない部分を現像除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に前記絶縁パターン層を島状にする、目視により認識することができない幅の狭小溝を形成する工程と、
前記形成された狭小溝に絶縁材料を塗布する工程とを備えた、導電性ナノファイバーシートの製造方法。
On the base sheet, a forming step of forming a conductive pattern layer made of a photocurable material including conductive nanofibers so as to be conductive on the entire surface,
Curing a part of the formed conductive pattern layer by photosensitivity;
By developing and removing the uncured portion of the partially cured conductive pattern layer, an insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer is formed and the insulating pattern layer is formed into an island shape by visual inspection. Forming a narrow groove having a width that cannot be recognized;
And a step of applying an insulating material to the formed narrow groove.
基体シート上に、導通可能となるように導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成する形成工程と、
前記形成された導電パターン層の一部にエネルギー線を照射して前記導電パターン層の一部を除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に前記絶縁パターン層を島状にする、目視により認識することができない幅の狭小溝を形成する工程と、
前記形成された狭小溝に絶縁材料を塗布する工程とを備えた、導電性ナノファイバーシートの製造方法。
On the base sheet, a forming step of forming a conductive pattern layer including conductive nanofibers on the entire surface so as to be conductive,
An insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer is formed by irradiating a part of the formed conductive pattern layer with energy rays to remove a part of the conductive pattern layer. Forming a narrow groove having a width that cannot be visually recognized,
And a step of applying an insulating material to the formed narrow groove.
基体シート上に、導通可能となるように導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成する工程と、
前記形成された導電パターン層上の一部にエッチングレジスト層を形成する工程と、
前記エッチングレジスト層が形成された前記導電パターン層の全面をエッチングして、前記エッチングレジスト層が形成されていない部分の導電パターン層を除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に前記絶縁パターン層を島状にする、目視により認識することができない幅の狭小溝を形成する工程と、
前記形成された狭小溝に絶縁材料を塗布する工程とを備えた、導電性ナノファイバーシートの製造方法。
Forming a conductive pattern layer including conductive nanofibers on the entire surface of the base sheet so as to be conductive;
Forming an etching resist layer on a part of the formed conductive pattern layer;
An insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer by etching the entire surface of the conductive pattern layer on which the etching resist layer is formed, and removing the conductive pattern layer in a portion where the etching resist layer is not formed. Forming the insulating pattern layer into an island shape and forming a narrow groove having a width that cannot be visually recognized;
And a step of applying an insulating material to the formed narrow groove.
前記狭小溝に前記絶縁材料を塗布する方法が、ダイコート、インクジェット及びディッピングのいずれかである、請求項8から請求項10のいずれかに記載の導電性ナノファイバーシートの製造方法。   The method for producing a conductive nanofiber sheet according to any one of claims 8 to 10, wherein a method of applying the insulating material to the narrow groove is one of die coating, ink jetting, and dipping. 請求項1から請求項7のいずれかに記載の導電性ナノファイバーシートを電極として用いた、タッチパネル。   A touch panel using the conductive nanofiber sheet according to any one of claims 1 to 7 as an electrode.
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