JP2015022616A - Touch panel - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel allowing an electrode pattern formed of a translucent material to be hardly seen from the outside.SOLUTION: The touch panel comprises: a substrate layer formed of a translucent insulation material; an electrode layer that has an electrode pattern including a plurality of detection electrodes arranged on the substrate layer so as to extend along a first direction, and including a dummy electrode arranged on the substrate layer in a region between the adjacent detection electrodes and electrically separated from the detection electrode, and that is formed of a translucent electrode material; and an insulating layer formed of the translucent insulation material so as to cover the electrode layer. The dummy electrode is electrically divided into a plurality of fine regions by first slits. A surface of the insulating layer is divided into a plurality of fine regions by second slits in a portion of the insulating layer covering the detection electrode.

Description

本発明は、指などの操作物体が接触したパネル上の位置を感知するタッチパネルに関する。   The present invention relates to a touch panel that senses a position on a panel touched by an operation object such as a finger.

従来、タッチパネルの方式としては様々な構成のものが知られているが、検出電極によって形成される静電容量の変化が生じた位置を検出することにより、操作物体が接触した(あるいは近づいた)タッチ位置を検出する静電容量方式のタッチパネルが注目されている。また、このようなタッチパネルは表示装置の画像表示面に重ねて配置され、表示された画像を視認可能なように、タッチパネルの電極材料として光透過性材料(例えば、ITO(Indium Tin Oxide))が用いられている。   Conventionally, various touch panel systems have been known, but an operation object touched (or approached) by detecting a position where a change in capacitance formed by a detection electrode occurred. A capacitive touch panel that detects a touch position has attracted attention. In addition, such a touch panel is arranged so as to overlap the image display surface of the display device, and a light transmissive material (for example, ITO (Indium Tin Oxide)) is used as an electrode material of the touch panel so that the displayed image can be visually recognized. It is used.

このような光透過性材料により形成された検出電極において、抵抗値を低くするためには、電極の厚みを大きくする必要がある。しかしながら、検出電極の厚みが大きくなる程、電極が形成されている部分と形成されていない部分との光透過率の差が大きくなり、外部から検出電極が視認されやすくなる。このようなタッチパネルにおける電極視認の問題を改善するために、隣接する検出電極の間の領域に、透光性電極材料により形成され、検出電極とは電気的に分離されたダミー電極を配置して、光透過率の差を小さくし、外部から電極を見えにくくするという提案がなされている(例えば、特許文献1参照)。   In the detection electrode formed of such a light transmissive material, in order to reduce the resistance value, it is necessary to increase the thickness of the electrode. However, as the thickness of the detection electrode increases, the difference in light transmittance between the portion where the electrode is formed and the portion where the electrode is not formed increases, and the detection electrode is easily visible from the outside. In order to improve the problem of electrode visibility in such a touch panel, a dummy electrode formed of a translucent electrode material and electrically separated from the detection electrode is arranged in a region between adjacent detection electrodes. A proposal has been made to reduce the difference in light transmittance and make the electrodes less visible from the outside (see, for example, Patent Document 1).

特開2008−129708号公報JP 2008-129708 A

特許文献1のようにダミー電極を用いた構成では、隣接する検出電極の間にダミー電極が配置されているため、寄生容量によるノイズや感度低下が生じやすい。そのため、ダミー電極を電気的に分離された複数の微細領域に分割して、ダミー電極にて生じる寄生容量の低減を図る必要がある。すなわち、ダミー電極を、検出電極に比して微細な島状のパターンとして形成する必要がある。   In the configuration using the dummy electrode as in Patent Document 1, since the dummy electrode is disposed between the adjacent detection electrodes, noise and sensitivity reduction due to parasitic capacitance are likely to occur. Therefore, it is necessary to reduce the parasitic capacitance generated in the dummy electrode by dividing the dummy electrode into a plurality of fine regions that are electrically separated. That is, it is necessary to form the dummy electrode as a fine island-shaped pattern as compared with the detection electrode.

しかしながら、ダミー電極のパターンが検出電極のパターンと、形状や大きさにて大きく異なると、検出電極とダミー電極とがコントラスト差により外部から視認されやすくなってしまう。   However, if the pattern of the dummy electrode is greatly different from the pattern of the detection electrode in shape and size, the detection electrode and the dummy electrode are likely to be visually recognized from the outside due to a contrast difference.

従って、本発明の目的は、上記問題を解決することにあって、透光性材料により形成された電極パターンを外部から見え難くすることができるタッチパネルを提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a touch panel that solves the above-described problem and makes it difficult to see an electrode pattern formed of a translucent material from the outside.

上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。   In order to achieve the above object, the present invention is configured as follows.

本発明の第1態様によれば、透光性絶縁材料により形成された基材層と、第1方向に沿って延在するように基材層上に配置された複数の第1電極と、隣接する第1電極の間の領域における基材層上に配置され、第1電極と電気的に分離された第2電極とを含み電極パターンを有し、透光性電極材料により形成された電極層と、電極層を覆うように透光性絶縁材料により形成された絶縁層と、を備え、第2電極は第1スリットにより複数の微細領域に電気的に分割され、絶縁層における第1電極を覆う部分において、絶縁層の表面が第2スリットにより複数の微細領域に分割されている、タッチパネルを提供する。   According to the first aspect of the present invention, a base material layer formed of a translucent insulating material, a plurality of first electrodes arranged on the base material layer so as to extend along the first direction, An electrode disposed on a base material layer in a region between adjacent first electrodes, having an electrode pattern including a first electrode and a second electrode electrically separated, and formed of a translucent electrode material And an insulating layer formed of a light-transmitting insulating material so as to cover the electrode layer, the second electrode is electrically divided into a plurality of fine regions by the first slit, and the first electrode in the insulating layer A touch panel is provided in which a surface of the insulating layer is divided into a plurality of fine regions by a second slit in a portion covering the surface.

本発明の第2態様によれば、絶縁層における微細領域のパターンは、第2電極における微細領域のパターンと実質的に同じである、第1態様に記載のタッチパネルを提供する。   According to the second aspect of the present invention, there is provided the touch panel according to the first aspect, wherein the pattern of the fine region in the insulating layer is substantially the same as the pattern of the fine region in the second electrode.

本発明の第3態様によれば、第2スリットは、絶縁層を厚さ方向に貫通しない溝状に形成されている、第1または第2態様に記載のタッチパネルを提供する。   According to the third aspect of the present invention, the second slit provides the touch panel according to the first or second aspect, wherein the second slit is formed in a groove shape that does not penetrate the insulating layer in the thickness direction.

本発明の第4態様によれば、絶縁層における電極層側の表面を複数の微細領域に分割するように、第2スリットが形成されている、第3態様に記載のタッチパネルを提供する。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the touch panel according to the third aspect, wherein the second slit is formed so as to divide the surface on the electrode layer side of the insulating layer into a plurality of fine regions.

本発明の第5態様によれば、絶縁層の第2スリットの形成位置に合わせて、第1電極の表面に凸部が形成されて、凸部が第2スリット内に配置されている、第4態様に記載のタッチパネルを提供する。   According to the fifth aspect of the present invention, the convex portion is formed on the surface of the first electrode in accordance with the formation position of the second slit of the insulating layer, and the convex portion is disposed in the second slit. The touch panel as described in 4 aspects is provided.

本発明の第6態様によれば、絶縁層における第2電極を覆う部分に、第2電極の第1スリットの形成位置に合わせて第3スリットが形成されている、第1態様から第5態様のいずれか1つに記載のタッチパネルを提供する。   According to the 6th aspect of this invention, the 3rd slit is formed in the part which covers the 2nd electrode in an insulating layer according to the formation position of the 1st slit of a 2nd electrode, The 1st aspect to the 5th aspect The touch panel as described in any one of these is provided.

本発明の第7態様によれば、基材層と電極層との間に、透光性絶縁材料により形成された別の絶縁層が配置され、別の絶縁層における第2電極を覆う部分に、第2電極の第1スリットの形成位置に合わせて第4スリットが形成されている、第1から第6態様のいずれか1つに記載のタッチパネルを提供する。   According to the seventh aspect of the present invention, another insulating layer formed of a translucent insulating material is disposed between the base material layer and the electrode layer, and the second insulating layer covers the second electrode. The touch panel according to any one of the first to sixth aspects is provided in which a fourth slit is formed in accordance with a formation position of the first slit of the second electrode.

本発明の第8態様によれば、第1スリットと第4スリットとの合計深さが、第2スリットの深さと実質的に同じ深さに形成されている、第7態様に記載のタッチパネルを提供する。   According to the eighth aspect of the present invention, there is provided the touch panel according to the seventh aspect, wherein the total depth of the first slit and the fourth slit is substantially the same as the depth of the second slit. provide.

本発明の第9態様によれば、透光性絶縁材料により形成された基材層と、第1方向に沿って延在するように基材層上に配置された複数の第1電極と、隣接する第1電極の間の領域における基材層上に配置され、第1電極と電気的に分離された第2電極とを含む電極パターンを有し、透光性電極材料により形成された第1電極層と、第1電極層を覆うように透光性絶縁材料により形成された第1絶縁層と、第1方向と交差する第2方向に沿って延在するように第1絶縁層上に配置された複数の第3電極と、隣接する第3電極の間の領域における第1絶縁層上に配置され、第3電極と電気的に分離された第4電極とを含む電極パターンを有し、透光性電極材料により形成された第2電極層と、第2電極層を覆うように透光性絶縁材料により形成された第2絶縁層と、を備え、第2電極は第1スリットにより複数の微細領域に電気的に分割されるとともに、第4電極は第2スリットにより複数の微細領域に電気的に分割され、第1絶縁層における第1電極を覆う部分において、第1絶縁層の表面が第3スリットにより複数の微細領域に分割されるとともに、第2絶縁層における第3電極を覆う部分において、第2絶縁層の表面が第4スリットにより複数の微細領域に分割されている、タッチパネルを提供する。   According to the ninth aspect of the present invention, a base material layer formed of a light-transmitting insulating material, and a plurality of first electrodes arranged on the base material layer so as to extend along the first direction, A second electrode disposed on a base material layer in a region between adjacent first electrodes, having an electrode pattern including a first electrode and a second electrode electrically separated, and formed of a translucent electrode material One electrode layer, a first insulating layer formed of a light-transmitting insulating material so as to cover the first electrode layer, and a first insulating layer extending along a second direction intersecting the first direction A plurality of third electrodes disposed on the first insulating layer and a fourth electrode disposed on the first insulating layer in a region between adjacent third electrodes and electrically separated from the third electrode. And a second electrode layer formed of a light-transmitting electrode material and a light-transmitting insulating material so as to cover the second electrode layer. And the second electrode is electrically divided into a plurality of fine regions by the first slit, and the fourth electrode is electrically divided into the plurality of fine regions by the second slit, In the portion covering the first electrode in the first insulating layer, the surface of the first insulating layer is divided into a plurality of fine regions by the third slit, and in the portion covering the third electrode in the second insulating layer, the second insulation is provided. Provided is a touch panel in which a surface of a layer is divided into a plurality of fine regions by a fourth slit.

本発明の第10態様によれば、第1絶縁層における微細領域のパターンは、第1電極層の第2電極における微細領域のパターンと実質的に同じであり、第2絶縁層における微細領域のパターンは、第2電極層の第4電極における微細領域のパターンと実質的に同じである、第9態様に記載のタッチパネルを提供する。   According to the tenth aspect of the present invention, the pattern of the fine region in the first insulating layer is substantially the same as the pattern of the fine region in the second electrode of the first electrode layer, and the fine region pattern in the second insulating layer. The touch panel according to the ninth aspect, wherein the pattern is substantially the same as the pattern of the fine region in the fourth electrode of the second electrode layer.

本発明の第11態様によれば、第1絶縁層における微細領域のパターンと第2絶縁層における微細領域のパターンとが実質的に同じであり、第2絶縁層における微細領域のパターンが、第1電極層の第2電極における微細領域のパターンと一致するとともに、第1絶縁層における微細領域のパターンが、第2電極層の第4電極における微細領域のパターンと一致するように、第1および第2電極層と第1及び第2絶縁層とが配置されている、第10態様に記載のタッチパネルを提供する。   According to the eleventh aspect of the present invention, the pattern of the fine region in the first insulating layer and the pattern of the fine region in the second insulating layer are substantially the same, and the pattern of the fine region in the second insulating layer is the first The first and the second regions of the first electrode layer are matched with the fine region pattern of the second electrode, and the fine region pattern of the first insulating layer is matched with the fine region pattern of the fourth electrode of the second electrode layer. The touch panel according to the tenth aspect, in which the second electrode layer and the first and second insulating layers are disposed.

本発明によれば、透光性材料により形成された電極パターンを外部から見え難くすることができる。   According to the present invention, it is possible to make an electrode pattern formed of a translucent material difficult to see from the outside.

本発明の実施の形態1にかかるタッチパネルの平面図Plan view of the touch panel according to the first embodiment of the present invention. 実施の形態1のタッチパネルの部分拡大平面図および断面図Partial enlarged plan view and cross-sectional view of the touch panel of Embodiment 1 実施の形態1のタッチパネルの電極層の部分拡大平面図および断面図Partial enlarged plan view and cross-sectional view of the electrode layer of the touch panel of Embodiment 1 実施の形態1のタッチパネルの絶縁層の部分拡大平面図および断面図Partial enlarged plan view and cross-sectional view of an insulating layer of the touch panel of Embodiment 1 本発明の実施の形態2にかかるタッチパネルの部分拡大平面図および断面図The partial enlarged plan view and sectional drawing of the touchscreen concerning Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3にかかるタッチパネルの断面図Sectional drawing of the touchscreen concerning Embodiment 3 of this invention. 実施の形態3の変形例にかかるタッチパネルの断面図Sectional drawing of the touchscreen concerning the modification of Embodiment 3. 本発明の実施の形態4にかかるタッチパネルの断面図Sectional drawing of the touchscreen concerning Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態5にかかるタッチパネルの断面図Sectional drawing of the touchscreen concerning Embodiment 5 of this invention. 本発明の実施の形態6にかかるタッチパネルの第1電極層の部分拡大平面図および断面図The elements on larger scale and sectional drawing of the 1st electrode layer of the touch panel concerning Embodiment 6 of the present invention. 実施の形態6のタッチパネルの第2電極層の部分拡大平面図および断面図Partial enlarged plan view and sectional view of the second electrode layer of the touch panel of Embodiment 6 実施の形態6のタッチパネルの絶縁層の部分拡大平面図および断面図Partial enlarged plan view and cross-sectional view of the insulating layer of the touch panel of the sixth embodiment 実施の形態6のタッチパネルの平面図および断面図Plan view and sectional view of touch panel of embodiment 6 実施の形態6の変形例にかかるタッチパネルの断面図Sectional drawing of the touchscreen concerning the modification of Embodiment 6. 本発明の実施の形態7にかかるタッチパネルの断面図Sectional drawing of the touchscreen concerning Embodiment 7 of this invention.

以下に、本発明にかかる実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。   Embodiments according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

(実施の形態1)
本発明の実施の形態1にかかるタッチパネル1の平面図を図1に示し、図1のタッチパネル1におけるA部分の部分拡大平面図および断面図を図2(A)、(B)に示す。本実施の形態1のタッチパネル1は、投影型静電容量方式が採用されており、例えば、表示装置の画面に装備される。この実施の形態1のタッチパネル1は、本発明の一つの態様を例示的に示すものであり、投影型静電容量方式に限らず、透光性の電極が用いられる他の方式のタッチパネルにも採用することができる。また、以下の説明では、本発明の実施の形態の構成部材のうち、本発明を説明するために必要な主要な構成部材のみについて説明している。そのため、以下の説明にて言及していない構成部材が備えられている場合がある。
(Embodiment 1)
A plan view of the touch panel 1 according to the first embodiment of the present invention is shown in FIG. 1, and a partially enlarged plan view and a cross-sectional view of a portion A in the touch panel 1 of FIG. 1 are shown in FIGS. The touch panel 1 according to the first embodiment employs a projected capacitive method, and is mounted on a screen of a display device, for example. The touch panel 1 according to the first embodiment exemplifies one aspect of the present invention, and is not limited to the projection capacitive method, but may be applied to other types of touch panels using translucent electrodes. Can be adopted. Moreover, in the following description, only the main structural members required in order to demonstrate this invention are demonstrated among the structural members of embodiment of this invention. For this reason, structural members that are not mentioned in the following description may be provided.

図1および図2に示すように、タッチパネル1は、透光性絶縁材料により形成された基材層2と、透光性電極材料により基材層2上に形成された電極パターンを有する電極層10と、透光性絶縁材料により形成され、基材層2との間で挟むように電極層10を覆う絶縁層20とを備えている。なお、図1の平面図では、絶縁層20の図示を省略している。   As shown in FIGS. 1 and 2, the touch panel 1 includes a base material layer 2 formed of a translucent insulating material and an electrode layer having an electrode pattern formed on the base material layer 2 of a translucent electrode material. 10 and an insulating layer 20 formed of a light-transmitting insulating material and covering the electrode layer 10 so as to be sandwiched between the base material layer 2. In addition, illustration of the insulating layer 20 is abbreviate | omitted in the top view of FIG.

図1に示すように、電極層10は、X方向(第1方向)に沿って延在するとともにY方向(第2方向)に所定間隔にて配列された複数の検出電極11(第1電極)と、Y方向において隣接する検出電極11の間の領域に配置された複数のダミー電極12(第2電極)とを備えている。これら検出電極11およびダミー電極12により電極パターンが構成されている。なお、X方向とY方向とは互いに直交する方向である。また、第1方向と第2方向とは互いに交差する方向であれば良く、X方向とY方向とのように互いに直交する場合のみに限られない。   As shown in FIG. 1, the electrode layer 10 extends along the X direction (first direction) and is arranged with a plurality of detection electrodes 11 (first electrodes) arranged at predetermined intervals in the Y direction (second direction). ) And a plurality of dummy electrodes 12 (second electrodes) arranged in a region between the detection electrodes 11 adjacent in the Y direction. These detection electrode 11 and dummy electrode 12 constitute an electrode pattern. Note that the X direction and the Y direction are orthogonal to each other. Further, the first direction and the second direction only need to cross each other, and the present invention is not limited to the case where the first direction and the second direction are orthogonal to each other as in the X direction and the Y direction.

基材層2において、電極パターンの周囲には端子部13が配置されており、それぞれの検出電極11は端子部13に電気的に接続されている。一方、それぞれのダミー電極12は端子部13には接続されておらず、検出電極11とは接触せずに電気的に分離して(すなわち導通せずに)形成されている。なお、透光性電極材料としては、例えばITOが用いられるが、金属ナノワイヤー、導電ポリマー(PEDOT)、カーボンナノチューブやグラフェンなどの導電性ナノファイバー、など、その他の透光性電極材料を用いても良い。   In the base material layer 2, terminal portions 13 are arranged around the electrode pattern, and each detection electrode 11 is electrically connected to the terminal portion 13. On the other hand, each dummy electrode 12 is not connected to the terminal portion 13 and is formed so as not to contact the detection electrode 11 but to be electrically separated (that is, not conducted). As the translucent electrode material, for example, ITO is used, but other translucent electrode materials such as metal nanowires, conductive polymers (PEDOT), conductive nanofibers such as carbon nanotubes and graphene are used. Also good.

絶縁層20は、導電性を有する電極層10を覆って外部との間の絶縁性を確保する機能と、外的影響(湿気など)などから電極層10を保護する機能とを備えている。   The insulating layer 20 has a function of covering the conductive electrode layer 10 to ensure insulation with the outside, and a function of protecting the electrode layer 10 from external influences (such as moisture).

ここでタッチパネル1の電極層10の部分拡大平面図および断面図を図3(A)、(B)に示し、絶縁層20の部分拡大平面図および断面図を図4(A)、(B)に示す。図2から図4を用いて、タッチパネル1の詳細な構成について説明する。   Here, a partially enlarged plan view and a sectional view of the electrode layer 10 of the touch panel 1 are shown in FIGS. 3A and 3B, and a partially enlarged plan view and a sectional view of the insulating layer 20 are shown in FIGS. 4A and 4B. Shown in A detailed configuration of the touch panel 1 will be described with reference to FIGS.

図3(A)、(B)に示すように、電極層10には、X方向に延在する帯状の検出電極11がY方向に所定の間隔にて配列されている。隣接する検出電極11の間の領域に配置されているダミー電極12は、X方向およびY方向に格子状に形成された第1スリット(間隙)14により複数の微細領域に電気的に分割されている。このように、ダミー電極12を第1スリット14により電気的に分割(分離)して、検出電極11に比して微細な島状のパターンとして形成することにより、ダミー電極12に生じる寄生容量の低減を図ることができる。なお、このような第1スリット14の形成幅としては、隣接する島状の微細領域間の電気的な分離(絶縁)を確保しながら、できるだけ小さな幅とすることが望ましく、例えば、30μm〜100μm程度の幅に設定される。また、図3(A)に示すように、ダミー電極12のそれぞれの島状の微細領域は同じ形状および大きさにて形成されている。   As shown in FIGS. 3A and 3B, on the electrode layer 10, strip-shaped detection electrodes 11 extending in the X direction are arranged at predetermined intervals in the Y direction. The dummy electrodes 12 arranged in the region between the adjacent detection electrodes 11 are electrically divided into a plurality of fine regions by the first slits (gap) 14 formed in a lattice shape in the X direction and the Y direction. Yes. In this manner, the dummy electrode 12 is electrically divided (separated) by the first slit 14 and formed as a fine island pattern compared to the detection electrode 11, thereby reducing the parasitic capacitance generated in the dummy electrode 12. Reduction can be achieved. The width of the first slit 14 is preferably as small as possible while ensuring electrical separation (insulation) between adjacent island-shaped fine regions, for example, 30 μm to 100 μm. Set to a width of about. Further, as shown in FIG. 3A, the island-like fine regions of the dummy electrode 12 are formed in the same shape and size.

図4(A)、(B)に示すように、絶縁層20において、電極層10の検出電極11を覆う部分は、X方向およびY方向に格子状に形成された第2スリット21により複数の島状の微細領域に分割されている。本実施の形態1のタッチパネル1では、この第2スリット21は、絶縁層20を厚さ方向に貫通して形成されている。この第2スリット21の形成幅は、ダミー電極12に形成された第1スリット14と同じ幅に形成されている。また、絶縁層20に形成されたそれぞれの島状の微細領域の形状および大きさは、ダミー電極12に形成された微細領域の形状および大きさと同じとされている。すなわち、絶縁層20における微細領域のパターンは、ダミー電極12における微細領域のパターンと同じとされている。なお、両者のパターンが完全に同じである場合に限られず、一部のみあるいは微細な部分で相違するなどのように、実質的に同じパターンである場合であっても良い。本実施の形態1のタッチパネル1では、絶縁層20における検出電極11を覆う部分には、スリットは形成されていない。   As shown in FIGS. 4A and 4B, a portion of the insulating layer 20 that covers the detection electrode 11 of the electrode layer 10 has a plurality of second slits 21 formed in a lattice shape in the X direction and the Y direction. Divided into island-like fine regions. In the touch panel 1 of the first embodiment, the second slit 21 is formed through the insulating layer 20 in the thickness direction. The formation width of the second slit 21 is the same width as the first slit 14 formed in the dummy electrode 12. Further, the shape and size of each island-shaped fine region formed in the insulating layer 20 are the same as the shape and size of the fine region formed in the dummy electrode 12. That is, the fine area pattern in the insulating layer 20 is the same as the fine area pattern in the dummy electrode 12. In addition, it is not restricted to the case where both patterns are completely the same, The case where it is a substantially the same pattern, such as differing only in a part or a fine part may be sufficient. In the touch panel 1 of the first embodiment, no slit is formed in the portion of the insulating layer 20 that covers the detection electrode 11.

このような構成の電極層10と絶縁層20とを基材層2上に重ね合わせて配置した状態が図2に示す状態である。図2(A)に示すように、電極層10におけるダミー電極12に形成された微細領域のパターンと、絶縁層20における検出電極11を覆う部分に形成された微細領域のパターンとが、平面視においてY方向に交互に配置されている。これにより、タッチパネル1において、平面視にて全面に渡って共通した微細領域のパターンがほぼ均一に形成される。なお、図2(A)の平面図では、図示の都合上、ダミー電極12を覆う部分の絶縁層20を省略した図としており、絶縁層20の具体的な形状(パターン)については図4を参照すれば理解できる。   FIG. 2 shows a state in which the electrode layer 10 and the insulating layer 20 having such a configuration are arranged on the base material layer 2 so as to overlap each other. As shown in FIG. 2A, the pattern of the fine region formed in the dummy electrode 12 in the electrode layer 10 and the pattern of the fine region formed in the portion covering the detection electrode 11 in the insulating layer 20 are viewed in plan view. Are alternately arranged in the Y direction. Thereby, in the touch panel 1, the pattern of the fine area | region common over the whole surface is planarly formed by planar view. In the plan view of FIG. 2A, for convenience of illustration, the insulating layer 20 that covers the dummy electrode 12 is omitted, and the specific shape (pattern) of the insulating layer 20 is shown in FIG. It can be understood by referring.

このように電極層10と絶縁層20とを組み合わせてタッチパネル1の全体に渡って均一な微細領域のパターンを設けることにより、ダミー電極12のパターンが検出電極11のパターンと形状および大きさにて大きく異なるような構成であっても、それぞれの電極が外部から視認され難くすることができる。   Thus, by combining the electrode layer 10 and the insulating layer 20 to provide a uniform fine region pattern over the entire touch panel 1, the pattern of the dummy electrode 12 has the pattern, shape and size of the detection electrode 11. Even if the configuration is greatly different, each electrode can be made difficult to be visually recognized from the outside.

特に、検出電極11に対してスリットを形成することなく、検出電極11を覆う絶縁層20の部分に第2スリット21を形成して微細領域のパターンを形成している。これにより、タッチパネル1において検出機能に大きく寄与する検出電極11に対して、スリット等を形成することによりダメージを与えることがなく、電極としての信頼性を高めることができる。それとともに、検出電極11にて求められる断面積を確保することができ、抵抗値を低く保つことができる。   In particular, the second slit 21 is formed in the portion of the insulating layer 20 that covers the detection electrode 11 without forming a slit in the detection electrode 11, thereby forming a fine region pattern. As a result, the detection electrode 11 that greatly contributes to the detection function in the touch panel 1 is not damaged by forming a slit or the like, and the reliability of the electrode can be increased. At the same time, the cross-sectional area required by the detection electrode 11 can be ensured, and the resistance value can be kept low.

なお、本実施の形態1のタッチパネル1では、電極層10を覆う絶縁層20において、厚み方向に貫通する第2スリット21を形成したが、第2スリット21の幅は、第1スリット14の幅と同等である。すなわち、できるだけ小さな幅とすることが望ましく、例えば30μm〜100μm程度の幅に設定される。その結果、電極層10の保護機能や絶縁機能が実質的に損なわれることはない。また、絶縁層10の表面側あるいは裏面側に別の層(例えば粘着層など(図示せず))を配置して、絶縁層20および別の層により電極層10を覆って保護するようにしても良い。   In the touch panel 1 according to the first embodiment, the second slit 21 penetrating in the thickness direction is formed in the insulating layer 20 covering the electrode layer 10. The width of the second slit 21 is the width of the first slit 14. Is equivalent to That is, it is desirable to make the width as small as possible, for example, set to a width of about 30 μm to 100 μm. As a result, the protective function and insulating function of the electrode layer 10 are not substantially impaired. Further, another layer (for example, an adhesive layer (not shown)) is disposed on the front surface side or the back surface side of the insulating layer 10 so that the electrode layer 10 is covered and protected by the insulating layer 20 and another layer. Also good.

ここで、本実施の形態1のタッチパネル1の製造方法について説明する。   Here, the manufacturing method of the touch panel 1 of the first embodiment will be described.

まず、基材層2上に透光性電極材料を用いて所定の厚さを有する電極層10を形成する。電極層10の形成には、例えば、スパッタリング、コーティング、転写などの方法が用いられる。   First, the electrode layer 10 having a predetermined thickness is formed on the base material layer 2 using a translucent electrode material. For example, a method such as sputtering, coating, or transfer is used to form the electrode layer 10.

次に、電極層10に対して、第1スリット14を形成して、検出電極11およびダミー電極12を有する電極パターンを形成する。電極パターンの形成には、ウェットエッチング、レーザエッチング、フォトリソエッチングなどの方法が用いられる。   Next, a first slit 14 is formed in the electrode layer 10 to form an electrode pattern having the detection electrode 11 and the dummy electrode 12. For the formation of the electrode pattern, methods such as wet etching, laser etching, and photolithography etching are used.

その後、銀や銅材料などを用いて、スクリーン印刷やグラビア印刷などの方法により、それぞれの検出電極11に接続される端子部13を形成する。   Then, the terminal part 13 connected to each detection electrode 11 is formed by methods, such as screen printing and gravure printing, using silver or copper material.

次に、電極層10全体を覆うように透光性絶縁材料により絶縁層20を形成する。絶縁層20の形成は、スクリーン印刷やグラビア印刷などの方法が用いられる。なお、この絶縁層20の印刷の際に、検出電極11を覆う部分に第2スリット21を形成して微細領域のパターンが形成される。   Next, the insulating layer 20 is formed of a light-transmitting insulating material so as to cover the entire electrode layer 10. The insulating layer 20 is formed by a method such as screen printing or gravure printing. When the insulating layer 20 is printed, the second slit 21 is formed in a portion covering the detection electrode 11 to form a fine pattern.

その後、必要に応じて、絶縁層20上に粘着層(図示せず)を形成する。ここで粘着層は、他の構成部材にタッチパネル1を貼り付けるための層である。粘着層の形成は、コータによる塗布や粘着シートの貼り付けにより行われる。   Thereafter, an adhesive layer (not shown) is formed on the insulating layer 20 as necessary. Here, the adhesive layer is a layer for attaching the touch panel 1 to another constituent member. The adhesive layer is formed by coating with a coater or attaching an adhesive sheet.

このように形成された積層体に対して、所定の形状および大きさに外形をカットして整形することにより、タッチパネル1が完成する。   The touch panel 1 is completed by cutting the external shape into a predetermined shape and size and shaping the laminated body thus formed.

後述する実施の形態のタッチパネルのように、複数の電極層や絶縁層が用いられるような場合には、それぞれの層の形成工程が必要な回数行われる。また、このような製造方法は一例であり、その他様々な方法を用いることもできる。   In the case where a plurality of electrode layers and insulating layers are used as in the touch panel of the embodiment described later, the formation process of each layer is performed as many times as necessary. Moreover, such a manufacturing method is an example, and various other methods can also be used.

(実施の形態2)
次に、本発明の実施の形態2にかかるタッチパネル51における部分拡大平面図および断面図を図5(A)、(B)に示す。なお、図5(A)の平面図では、図示の都合上、ダミー電極12を覆う部分の絶縁層70を省略した図としている。
(Embodiment 2)
Next, a partially enlarged plan view and a sectional view of the touch panel 51 according to the second embodiment of the present invention are shown in FIGS. In the plan view of FIG. 5A, the insulating layer 70 that covers the dummy electrode 12 is omitted for convenience of illustration.

図5(A)、(B)に示すように、本実施の形態2のタッチパネル51では、絶縁層70において、検出電極11を覆う部分がX方向およびY方向に格子状に形成された第2スリット71によりその表面が複数の微細領域に分割して形成されている。これらの第2スリット71は、図5(B)に示すように、絶縁層70を厚み方向に貫通することなく、ハーフカットされた溝状に形成されている。   As shown in FIGS. 5A and 5B, in the touch panel 51 of the second embodiment, the insulating layer 70 includes a second portion in which the portions covering the detection electrodes 11 are formed in a lattice shape in the X direction and the Y direction. The surface of the slit 71 is divided into a plurality of fine regions. As shown in FIG. 5B, these second slits 71 are formed in a half-cut groove shape without penetrating the insulating layer 70 in the thickness direction.

このような構成のタッチパネル51では、ダミー電極12の微細領域のパターンと、絶縁層70の微細領域のパターンとが、平面視において全面に渡ってほぼ均一に形成されており、それぞれの電極が外部より見え難くすることができる。さらに、絶縁層70に形成された第2スリット71は、絶縁層70を厚み方向に貫通していないため、電極層10を確実に保護することができる。また、絶縁層70において、第2スリット71の形成深さを、ダミー電極12の第1スリット14とほぼ同じ深さとなるように形成することで、微細領域のパターンをより均一な状態とすることができる。例えば、タッチパネル51を斜めから見るような場合にパターンの見え方の違いを少なくすることができ、均一な状態とすることができる。特に、絶縁層70は例えば10μm程度の厚さを有するのに対して、電極層10は例えば0.1μm程度の厚さを有するというように、両者の厚さは大きく異なる。そのため、絶縁層70に形成される第2スリット71の形成深さを調整することで、第1スリット14と第2スリット71の形成深さの相違を少なくすることができる。なお、絶縁層70において、第2スリット71の深さを、ダミー電極12の第1スリット14とほぼ同じ深さとして形成する場合のみに限られず、両者の深さを近づけるようにすることで、パターンの均一性を高めることができる。   In the touch panel 51 having such a configuration, the pattern of the fine region of the dummy electrode 12 and the pattern of the fine region of the insulating layer 70 are formed substantially uniformly over the entire surface in plan view, and each electrode is externally provided. It can be harder to see. Furthermore, since the second slit 71 formed in the insulating layer 70 does not penetrate the insulating layer 70 in the thickness direction, the electrode layer 10 can be reliably protected. In addition, in the insulating layer 70, the formation depth of the second slit 71 is formed to be substantially the same as that of the first slit 14 of the dummy electrode 12, thereby making the pattern of the fine region more uniform. Can do. For example, when the touch panel 51 is viewed from an oblique direction, the difference in pattern appearance can be reduced and a uniform state can be obtained. Particularly, the insulating layer 70 has a thickness of about 10 μm, for example, while the electrode layer 10 has a thickness of about 0.1 μm, for example. Therefore, by adjusting the formation depth of the second slit 71 formed in the insulating layer 70, the difference in the formation depth of the first slit 14 and the second slit 71 can be reduced. In the insulating layer 70, the depth of the second slit 71 is not limited to the case where the depth is substantially the same as that of the first slit 14 of the dummy electrode 12, but by making the depths of both closer to each other, The uniformity of the pattern can be improved.

(実施の形態3)
次に、本発明の実施の形態3にかかるタッチパネル101における断面図を図6に示す。
(Embodiment 3)
Next, FIG. 6 shows a cross-sectional view of the touch panel 101 according to the third embodiment of the present invention.

図6に示すように、本実施の形態3のタッチパネル101では、絶縁層120に形成されるハーフカットの溝状の第2スリット121が、絶縁層120の裏面側(電極層10側)に形成されている点において、上述の実施の形態2の構成と異なる。   As shown in FIG. 6, in the touch panel 101 according to the third embodiment, the half-cut groove-shaped second slit 121 formed in the insulating layer 120 is formed on the back surface side (electrode layer 10 side) of the insulating layer 120. This is different from the configuration of the second embodiment described above.

このような構成によっても、絶縁層120による電極層10に対する保護機能および絶縁機能を確実に得ることができる。さらに、タッチパネル101の厚み方向において、絶縁層120の第2スリット121の形成高さ位置を、ダミー電極12の第1スリット14の形成高さ位置に近づけることができる。よって、微細領域のパターンをより均一な状態とすることができ、特にタッチパネル51を斜めから見るような場合にパターンの見え方の違いを少なくすることができる。   Even with such a configuration, it is possible to reliably obtain a protection function and an insulation function for the electrode layer 10 by the insulating layer 120. Furthermore, in the thickness direction of the touch panel 101, the formation height position of the second slit 121 of the insulating layer 120 can be brought close to the formation height position of the first slit 14 of the dummy electrode 12. Therefore, the pattern of the fine area can be made more uniform, and the difference in pattern appearance can be reduced particularly when the touch panel 51 is viewed from an oblique direction.

なお、図7に示す変形例にかかるタッチパネル151のように、電極層110における検出電極111の表面に第2スリット121に対応する凸部115を形成(X方向およびY方向に格子状に形成)して、凸部115が第2スリット121内に配置されるようにしても良い。なお、図7に示す変形例の構成では、電極層110において、第1スリット114によりダミー電極112が複数の微細領域に電気的に分離されている点は、図6に示す構成と同じである。また、検出電極111に凸部を形成しない場合に、第2スリット121内に他の透光性材料(透光性樹脂など)を充填するようにしても良い。特に、検出電極111の透光性電極材料としてITOが用いられる場合、スパッタリング薄膜として形成されるため、検出電極111に一体的に凸部を設けることは難しい。しかしながら、検出電極111と別体で凸部を設けるのであれば、検出電極111の形成材料としてITOを用いることができる。   Note that, as in the touch panel 151 according to the modification shown in FIG. 7, the convex portions 115 corresponding to the second slits 121 are formed on the surface of the detection electrode 111 in the electrode layer 110 (formed in a grid pattern in the X and Y directions). Then, the convex portion 115 may be disposed in the second slit 121. 7 is the same as the configuration shown in FIG. 6 in that the dummy electrode 112 is electrically separated into a plurality of fine regions by the first slit 114 in the electrode layer 110. . Further, when the convex portion is not formed on the detection electrode 111, the second slit 121 may be filled with another translucent material (such as a translucent resin). In particular, when ITO is used as the translucent electrode material of the detection electrode 111, it is difficult to provide a convex portion integrally with the detection electrode 111 because it is formed as a sputtering thin film. However, if the convex portion is provided separately from the detection electrode 111, ITO can be used as a material for forming the detection electrode 111.

充填される透光性材料としては、絶縁層120として用いることができる材料の中から選択して用いることができる。すなわち、電極層110を覆って外部との間の絶縁性を確保する機能と、外的影響などから電極層110を保護する機能とを有するような材料を用いることができる。例えば、アクリル系、ウレタン系、シリコン系、エポキシ系、フッ素系樹脂またはその共重合体などの材料を、充填される透光性材料として選択することができる。なお、充填される透光性材料としては、絶縁層120と同じ材料を選択しないことが望ましく、絶縁層120の材料と屈折率の異なる材料を選ぶことが望ましい。同じ屈折率の材料が用いられると、第2スリット121が認識されにくくなる場合があるからである。また、充填される透光性材料は、電極層110に屈折率が近いものを選択することが望ましい。電極層110と第2スリット121との屈折率差が大きくなると、パターン見えが顕著になる場合があるからである。   The light-transmitting material to be filled can be selected from materials that can be used for the insulating layer 120. That is, a material having a function of covering the electrode layer 110 to ensure insulation from the outside and a function of protecting the electrode layer 110 from an external influence or the like can be used. For example, a material such as acrylic, urethane, silicon, epoxy, fluorine resin, or a copolymer thereof can be selected as the translucent material to be filled. Note that as the light-transmitting material to be filled, it is preferable not to select the same material as that of the insulating layer 120, and it is preferable to select a material having a refractive index different from that of the material of the insulating layer 120. This is because if the materials having the same refractive index are used, the second slit 121 may be difficult to be recognized. Moreover, it is desirable to select a light-transmitting material to be filled that has a refractive index close to that of the electrode layer 110. This is because when the difference in refractive index between the electrode layer 110 and the second slit 121 becomes large, the pattern appearance may become remarkable.

(実施の形態4)
次に、本発明の実施の形態4にかかるタッチパネル201の断面図を図8に示す。
(Embodiment 4)
Next, FIG. 8 shows a cross-sectional view of the touch panel 201 according to the fourth embodiment of the present invention.

図8に示すように、本実施の形態4のタッチパネル201では、絶縁層220において、ダミー電極12を覆う部分に、ダミー電極12の第1スリット14の形成位置に合わせて、第3スリット222が形成されている。   As shown in FIG. 8, in the touch panel 201 according to the fourth embodiment, the third slit 222 is formed in the insulating layer 220 so as to cover the dummy electrode 12 in accordance with the formation position of the first slit 14 of the dummy electrode 12. Is formed.

そのため、絶縁層220では、検出電極11を覆う部分に第2スリット221による微細領域のパターンが形成され、ダミー電極12を覆う部分に第3スリット222による微細領域のパターンが形成されている。さらに、これら絶縁層220における微細領域のパターンは、ダミー電極12における微細領域のパターンと実質的に同じである。なお、絶縁層220に形成された第2スリット221と第3スリット222は、厚み方向に絶縁層220を貫通しないハーフカットの溝状に形成されている。   Therefore, in the insulating layer 220, a fine region pattern is formed by the second slit 221 in a portion covering the detection electrode 11, and a fine region pattern is formed by the third slit 222 in a portion covering the dummy electrode 12. Further, the pattern of the fine region in the insulating layer 220 is substantially the same as the pattern of the fine region in the dummy electrode 12. The second slit 221 and the third slit 222 formed in the insulating layer 220 are formed in a half-cut groove shape that does not penetrate the insulating layer 220 in the thickness direction.

このような構成によれば、タッチパネル201において、平面視にて全体に渡って均一な微細領域のパターンが形成されていることにより、外部から電極を見え難くすることができる。特に、絶縁層220の全体に渡って、均一な微細領域のパターンが形成されているため、パターンの均一性を高めることができる。   According to such a configuration, in the touch panel 201, the pattern of the uniform fine region is formed over the whole in a plan view, so that the electrode can be hardly seen from the outside. In particular, since the pattern of the uniform fine region is formed over the entire insulating layer 220, the uniformity of the pattern can be improved.

(実施の形態5)
次に、本発明の実施の形態5にかかるタッチパネル301の断面図を図9に示す。
(Embodiment 5)
Next, FIG. 9 shows a cross-sectional view of the touch panel 301 according to the fifth embodiment of the present invention.

図9に示すように、本実施の形態5のタッチパネル301は、基材層2と電極層10との間に、別の絶縁層330(第2絶縁層330)が形成されている。すなわち、電極層10は、第1絶縁層320と第2絶縁層330との間に配置され、それぞれの絶縁層320、330により覆われている。なお、第2絶縁層330は、第1絶縁層320と同様に透光性絶縁材料により形成されている。第1絶縁層320では、検出電極11を覆う部分に第2スリット321による微細領域のパターンが形成され、この第1絶縁層320の微細領域のパターンは、ダミー電極12における微細領域のパターンと実質的に同じである。   As shown in FIG. 9, in the touch panel 301 according to the fifth embodiment, another insulating layer 330 (second insulating layer 330) is formed between the base material layer 2 and the electrode layer 10. That is, the electrode layer 10 is disposed between the first insulating layer 320 and the second insulating layer 330 and is covered with the respective insulating layers 320 and 330. Note that the second insulating layer 330 is formed of a light-transmitting insulating material in the same manner as the first insulating layer 320. In the first insulating layer 320, a fine region pattern is formed by the second slit 321 in a portion covering the detection electrode 11, and the fine region pattern of the first insulating layer 320 is substantially the same as the fine region pattern in the dummy electrode 12. Are the same.

第2絶縁層330において、ダミー電極12を覆う部分には、ダミー電極12の第1スリット14の形成位置に合わせて第4スリット331が形成されている。すなわち、第2絶縁層330には、ダミー電極12の微細領域のパターンと一致するように、第4スリット331によりその表面が分割された微細領域のパターンが形成されている。   In the second insulating layer 330, a fourth slit 331 is formed in a portion covering the dummy electrode 12 in accordance with the formation position of the first slit 14 of the dummy electrode 12. That is, the second insulating layer 330 is formed with a fine region pattern whose surface is divided by the fourth slit 331 so as to coincide with the fine region pattern of the dummy electrode 12.

さらに、図9に示すように、第1スリット14と第4スリット331とが一体的とされたスリットの形成深さ(第1スリット14の深さ+第4スリット331の深さ)は、第2スリット321の深さと実質的に同じとなるように、第4スリット331の深さが調整されている。   Furthermore, as shown in FIG. 9, the formation depth of the slit in which the first slit 14 and the fourth slit 331 are integrated (depth of the first slit 14 + depth of the fourth slit 331) is The depth of the fourth slit 331 is adjusted so as to be substantially the same as the depth of the two slits 321.

このようにタッチパネル301において、微細領域を形成するそれぞれのスリットの深さが実質的に同じとされていることにより、微細領域のパターンをより均一なものとすることができる。特に、斜めから見た場合にパターンの見え方の違いを少なくすることができ、パターンの均一性を高めることができる。   As described above, in the touch panel 301, the depth of each slit forming the fine region is substantially the same, so that the pattern of the fine region can be made more uniform. In particular, the difference in pattern appearance when viewed from an oblique direction can be reduced, and the uniformity of the pattern can be improved.

(実施の形態6)
次に、本発明の実施の形態6にかかるタッチパネル401について説明する。
(Embodiment 6)
Next, a touch panel 401 according to the sixth embodiment of the present invention will be described.

本実施の形態6のタッチパネル401は、第1基材層402、第1電極層410、および第1絶縁層420が積層された第1フィルム405と、第2基材層407、第2電極層430、および第2絶縁層440が積層された第2フィルム406とが重ねて配置された構造を有している。   A touch panel 401 according to the sixth embodiment includes a first film 405 in which a first base layer 402, a first electrode layer 410, and a first insulating layer 420 are laminated, a second base layer 407, and a second electrode layer. 430 and the second film 406 on which the second insulating layer 440 is laminated.

図10(A)、(B)に第1フィルム405における第1基材層402と第1電極層410の部分拡大平面図および断面図(B−B断面)を示し、図11(A)、(B)に第2フィルム406における第2基材層407と第2電極層430の部分拡大平面図および断面図(C−C断面)を示す。また、第1および第2フィルム405、406における第1絶縁層420および第2絶縁層440の部分拡大平面図および断面図(D−D断面)を図12(A)、(B)に示す。なお、第1絶縁層420および第2絶縁層440は同様な構成を有しているため、共通した図面(図12)に示している。   10A and 10B show a partially enlarged plan view and a cross-sectional view (BB cross section) of the first base material layer 402 and the first electrode layer 410 in the first film 405, and FIG. (B) shows a partially enlarged plan view and a cross-sectional view (CC cross-section) of the second base material layer 407 and the second electrode layer 430 in the second film 406. 12A and 12B are partial enlarged plan views and cross-sectional views (DD cross-sections) of the first insulating layer 420 and the second insulating layer 440 in the first and second films 405 and 406, respectively. Note that the first insulating layer 420 and the second insulating layer 440 have the same structure, and thus are shown in a common drawing (FIG. 12).

図10に示すように、第1フィルム405の第1電極層410において、検出電極411は、複数の大略四角形状の領域がX方向において接続されるように、X方向に延在して配置されている。Y方向に隣接する検出電極411の間の領域(大略四角形状の領域)には、ダミー電極412が配置されている。ダミー電極412は、図示上下・左右方向に格子状に形成された第1スリット414により複数の微細領域に電気的に分離されている。   As shown in FIG. 10, in the first electrode layer 410 of the first film 405, the detection electrode 411 is arranged to extend in the X direction so that a plurality of roughly rectangular regions are connected in the X direction. ing. A dummy electrode 412 is disposed in a region (substantially rectangular region) between the detection electrodes 411 adjacent in the Y direction. The dummy electrode 412 is electrically separated into a plurality of fine regions by first slits 414 formed in a lattice shape in the vertical and horizontal directions in the figure.

図11に示すように、第2フィルム406の第2電極層430において、検出電極431は、複数の大略四角形状の領域がY方向において互いに接続されるように、Y方向に延在して配置されている。X方向に隣接する検出電極431の間の領域(大略四角形状の領域)には、ダミー電極432が配置されている。ダミー電極432は、図示上下・左右方向に格子状に形成された第3スリット434により複数の微細領域に電気的に分離されている。   As shown in FIG. 11, in the second electrode layer 430 of the second film 406, the detection electrodes 431 are arranged extending in the Y direction so that a plurality of substantially rectangular regions are connected to each other in the Y direction. Has been. A dummy electrode 432 is disposed in a region (substantially rectangular region) between the detection electrodes 431 adjacent in the X direction. The dummy electrode 432 is electrically separated into a plurality of fine regions by third slits 434 formed in a lattice shape in the vertical and horizontal directions in the figure.

図12に示すように、第1フィルム405の第1絶縁層420は、第1電極層410のダミー電極412を覆う部分に、図示上下・左右方向に格子状に形成された第2スリット421により複数の微細領域に分割されている。この第1絶縁層420における微細領域のパターンは、第1電極層410のダミー電極412における微細領域のパターンと実質的に同様なパターンとなっている。   As shown in FIG. 12, the first insulating layer 420 of the first film 405 is formed by a second slit 421 formed in a lattice shape in the vertical and horizontal directions in the figure on the portion of the first electrode layer 410 covering the dummy electrode 412. It is divided into a plurality of fine regions. The pattern of the fine region in the first insulating layer 420 is substantially the same as the pattern of the fine region in the dummy electrode 412 of the first electrode layer 410.

同様に、第2フィルム406の第2絶縁層440は、第2電極層430のダミー電極432を覆う部分に、図示上下・左右方向に格子状に形成された第4スリット441により複数の微細領域に分割されている。この第2絶縁層440における微細領域のパターンは、第2電極層430のダミー電極432における微細領域のパターンと実質的に同様なパターンとなっている。   Similarly, the second insulating layer 440 of the second film 406 includes a plurality of fine regions by a fourth slit 441 formed in a lattice shape in the vertical and horizontal directions in the figure in a portion covering the dummy electrode 432 of the second electrode layer 430. It is divided into The pattern of the fine region in the second insulating layer 440 is substantially the same as the pattern of the fine region in the dummy electrode 432 of the second electrode layer 430.

このような構成の第1フィルム405と第2フィルム406とが重ねて配置された状態の平面図および断面図(E−E断面)を図13(A)、(B)に示す。なお、図13(A)は、図13(B)におけるF−F矢視図であり、図示の都合上、ダミー電極412を覆う部分における第1絶縁層420を省略している。   FIGS. 13A and 13B show a plan view and a cross-sectional view (cross-section EE) in a state where the first film 405 and the second film 406 having such a configuration are arranged to overlap each other. 13A is a view taken along the line FF in FIG. 13B, and the first insulating layer 420 in a portion covering the dummy electrode 412 is omitted for the sake of illustration.

図13に示すように、第1フィルム405における第1電極層411の大略四角形状の領域が、第2フィルム406における第2電極層440のダミー電極442が形成された領域と重なるように、第1フィルム405と第2フィルム406とが重ねて配置される。また、それぞれのスリットにより形成された微細領域のパターンは実質的に同じパターンとして形成されており、それぞれのパターンが平面視において一致するように、1フィルム405と第2フィルム406とが重ねて配置される。   As shown in FIG. 13, the first electrode layer 411 in the first film 405 has a substantially rectangular region overlapping the region of the second film 406 in which the dummy electrode 442 of the second electrode layer 440 is formed. The 1st film 405 and the 2nd film 406 are piled up and arranged. In addition, the patterns of the fine regions formed by the respective slits are formed as substantially the same pattern, and the first film 405 and the second film 406 are arranged so as to overlap each other in plan view. Is done.

具体的には、第2絶縁層440における微細領域のパターンが、第1電極層410のダミー電極412における微細領域のパターンと一致するとともに、第1絶縁層420における微細領域のパターンが、第2電極層430のダミー電極432における微細領域のパターンと一致するように、第1フィルム405および第2フィルム406が重ねて配置されている。   Specifically, the pattern of the fine region in the second insulating layer 440 matches the pattern of the fine region in the dummy electrode 412 of the first electrode layer 410, and the pattern of the fine region in the first insulating layer 420 is second. The first film 405 and the second film 406 are stacked so as to coincide with the pattern of the fine region in the dummy electrode 432 of the electrode layer 430.

このように、複数の電極層が積層されるような構成であっても、平面視においてタッチパネル全体としてほぼ均一な微細領域のパターンを設けることができ、外部から電極が視認され難くすることができる。   Thus, even in a configuration in which a plurality of electrode layers are stacked, a substantially uniform fine region pattern can be provided as a whole touch panel in a plan view, and the electrodes can be made difficult to be visually recognized from the outside. .

なお、本実施の形態6のタッチパネル401では、基材層として第1基材層402と第2基材層407とを備える場合を例としたが、その他の構成を採用することもできる。例えば、図14の断面図に示すようにタッチパネル451のように、第2基材層407が省略された構成を採用しても良い。   In addition, although the case where the touch panel 401 according to the sixth embodiment includes the first base material layer 402 and the second base material layer 407 as the base material layer has been described as an example, other configurations may be employed. For example, a configuration in which the second base material layer 407 is omitted as shown in the touch panel 451 as shown in the cross-sectional view of FIG.

(実施の形態7)
次に、本発明の実施の形態7にかかるタッチパネル501について、図15に示す断面図を用いて説明する。
(Embodiment 7)
Next, a touch panel 501 according to a seventh embodiment of the present invention will be described using the cross-sectional view shown in FIG.

図15に示すように、本実施の形態7のタッチパネル501では、第1フィルム405に形成された微細領域のパターンと、第2フィルム406に形成された微細領域のパターンとが、平面視においてずらして配置(シフト配置)させている点において、上述の実施の形態6とは異なる構成を有している。   As shown in FIG. 15, in the touch panel 501 of the seventh embodiment, the pattern of the fine area formed on the first film 405 and the pattern of the fine area formed on the second film 406 are shifted in plan view. Therefore, the second embodiment has a configuration different from that of the above-described sixth embodiment.

このような構成によれば、タッチパネル501の表面沿いの方向において、微細領域のパターンの位置(すなわち、スリットの形成位置)をずらすことにより、平面視にて微細領域のパターンよりもさらに微細なパターンを形成することができる。よって、タッチパネル501全体において、より細かくかつ均一な微細領域のパターンを作り出すことができ、外部から電極が視認され難いという効果を高めることができる。   According to such a configuration, by shifting the position of the fine area pattern (that is, the slit formation position) in the direction along the surface of the touch panel 501, a finer pattern than the fine area pattern in plan view. Can be formed. Therefore, a finer and more uniform pattern of a fine region can be created on the entire touch panel 501, and the effect that the electrode is hardly visible from the outside can be enhanced.

上述のそれぞれの実施の形態の説明では、検出電極が大略帯状である場合や複数の四角形状の領域が対角線方向に接続された形状である場合を例として説明しているが、検出電極としてはその他様々な形状のものを採用しても良い。隣接する検出電極の間の領域にダミー電極が形成されるような構成であれば良く、検出電極の具体的な形状は、求められるタッチパネルの仕様に応じて様々な形態を採り得る。   In the description of each of the above-described embodiments, the case where the detection electrode is approximately strip-shaped or the case where a plurality of rectangular regions are connected in a diagonal direction is described as an example. Various other shapes may be employed. Any structure may be used as long as dummy electrodes are formed in a region between adjacent detection electrodes, and the specific shape of the detection electrodes can take various forms depending on the required specifications of the touch panel.

また、ダミー電極の微細領域のパターンについても、格子状のパターンに限られず、様々なパターンを採用し得る。また、個々の微細領域の大きさや形状が全て同じであるような場合に限られず、大きさや形状が異なるような場合であっても良い。外部から電極が視認され難くするという観点からは、微細領域は規則的なパターンとして形成されていることがより好ましい。   Further, the pattern of the fine region of the dummy electrode is not limited to the lattice pattern, and various patterns can be adopted. Moreover, it is not restricted to the case where the size and shape of each fine region are all the same, and the size and shape may be different. From the viewpoint of making it difficult for the electrode to be visually recognized from the outside, the fine region is more preferably formed as a regular pattern.

また、ダミー電極の微細領域のパターンと、絶縁層の微細領域のパターンとが実質的に同じであることがより好ましいが、このような場合についてのみに限定されない。例えば、両者のパターンが幾何学的に相似関係にあるような場合など、タッチパネル全体に渡って、均一であると認識されるようなパターンであれば、実質的に同じパターンでない場合であっても良い。   Further, it is more preferable that the pattern of the fine region of the dummy electrode and the pattern of the fine region of the insulating layer are substantially the same, but the present invention is not limited only to such a case. For example, if the patterns are recognized as being uniform across the entire touch panel, such as when the two patterns are geometrically similar, even if they are not substantially the same pattern good.

また、ダミー電極や絶縁層に形成されるスリットの角部には、応力集中を回避するような丸み部分(曲面部分)を形成しても良い。また、スリット自体を曲線状に形成して、微細領域を円形や楕円形など曲線状のスリットにより囲まれた領域としても良い。   Further, rounded portions (curved surface portions) that avoid stress concentration may be formed at the corners of the slits formed in the dummy electrode or the insulating layer. Further, the slit itself may be formed in a curved shape, and the fine region may be a region surrounded by a curved slit such as a circle or an ellipse.

上述のそれぞれの実施の形態のタッチパネルを構成するそれぞれの層を、柔軟性のある層として形成して、曲面状の表示画面にタッチパネルを取り付けるようにしても良い。絶縁層にスリットが形成されていることにより、タッチパネルの柔軟性を高めることができ、曲面装着に適したタッチパネルを提供することができる。   Each layer constituting the touch panel of each of the above-described embodiments may be formed as a flexible layer, and the touch panel may be attached to a curved display screen. By forming slits in the insulating layer, the flexibility of the touch panel can be increased, and a touch panel suitable for curved mounting can be provided.

また、このような曲面装着用のタッチパネルでは、それぞれの層(例えば、絶縁層と電極層)の伸び率の相違を考慮して、スリットの大きさ、数、形成深さ、形成位置などを選択することが好ましい。また、曲面装着用のタッチパネルでは、斜め方向から視認される機会が多いことを考慮して、それぞれの層に形成されるスリットの形成深さを近づけて、パターンの見え方の違いを少なくさせることが好ましい。   In addition, in such a curved touch panel, the size, number, depth, position, etc. of the slits are selected in consideration of the difference in elongation of each layer (for example, insulating layer and electrode layer). It is preferable to do. In addition, taking into account that there are many opportunities to view the curved touch panel from an oblique direction, the depth of the slits formed in each layer should be close to reduce the difference in pattern appearance. Is preferred.

また、電極層が絶縁層により覆われて、絶縁層にスリットが形成されるような場合を例として説明したが、電極層上に接着層が配置されて、この接着層が絶縁層としての役割を担うような場合であっても良い。   Further, the case where the electrode layer is covered with the insulating layer and the slit is formed in the insulating layer has been described as an example. However, the adhesive layer is disposed on the electrode layer, and this adhesive layer serves as the insulating layer. It may be the case that bears.

なお、上記様々な実施の形態のうちの任意の実施の形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。   It is to be noted that, by appropriately combining any of the above-described various embodiments, the effects possessed by them can be produced.

1 タッチパネル
2 基材層
10 電極層
11 検出電極
12 ダミー電極
13 端子部
14 第1スリット
20 絶縁層
21 第2スリット
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Touch panel 2 Base material layer 10 Electrode layer 11 Detection electrode 12 Dummy electrode 13 Terminal part 14 1st slit 20 Insulating layer 21 2nd slit

Claims (11)

透光性絶縁材料により形成された基材層と、
第1方向に沿って延在するように基材層上に配置された複数の第1電極と、隣接する第1電極の間の領域における基材層上に配置され、第1電極と電気的に分離された第2電極とを含む電極パターンを有し、透光性電極材料により形成された電極層と、
電極層を覆うように透光性絶縁材料により形成された絶縁層と、を備え、
第2電極は第1スリットにより複数の微細領域に電気的に分割され、
絶縁層における第1電極を覆う部分において、絶縁層の表面が第2スリットにより複数の微細領域に分割されている、タッチパネル。
A base material layer formed of a translucent insulating material;
A plurality of first electrodes arranged on the base material layer so as to extend along the first direction and the base electrode in the region between the adjacent first electrodes are electrically connected to the first electrode. An electrode layer including a second electrode separated into an electrode layer formed of a translucent electrode material;
An insulating layer formed of a light-transmitting insulating material so as to cover the electrode layer,
The second electrode is electrically divided into a plurality of fine regions by the first slit,
A touch panel, wherein a surface of the insulating layer covering the first electrode is divided into a plurality of fine regions by a second slit.
絶縁層における微細領域のパターンは、第2電極における微細領域のパターンと実質的に同じである、請求項1に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 1, wherein a pattern of a fine region in the insulating layer is substantially the same as a pattern of the fine region in the second electrode. 第2スリットは、絶縁層を厚さ方向に貫通しない溝状に形成されている、請求項1または2に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 1, wherein the second slit is formed in a groove shape that does not penetrate the insulating layer in the thickness direction. 絶縁層における電極層側の表面を複数の微細領域に分割するように、第2スリットが形成されている、請求項3に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 3, wherein the second slit is formed so as to divide the surface on the electrode layer side of the insulating layer into a plurality of fine regions. 絶縁層の第2スリットの形成位置に合わせて、第1電極の表面に凸部が形成され、凸部が第2スリット内に配置されている、請求項4に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 4, wherein a convex portion is formed on a surface of the first electrode in accordance with a formation position of the second slit of the insulating layer, and the convex portion is disposed in the second slit. 絶縁層における第2電極を覆う部分に、第2電極の第1スリットの形成位置に合わせて第3スリットが形成されている、請求項1から5のいずれか1つに記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 1, wherein a third slit is formed in a portion of the insulating layer covering the second electrode in accordance with a position where the first slit of the second electrode is formed. 基材層と電極層との間に、透光性絶縁材料により形成された別の絶縁層が配置され、
別の絶縁層における第2電極を覆う部分に、第2電極の第1スリットの形成位置に合わせて第4スリットが形成されている、請求項1から6のいずれか1つに記載のタッチパネル。
Another insulating layer formed of a light-transmitting insulating material is disposed between the base material layer and the electrode layer,
The touch panel according to any one of claims 1 to 6, wherein a fourth slit is formed in a portion of the other insulating layer covering the second electrode in accordance with a position where the first slit of the second electrode is formed.
第1スリットと第4スリットとの合計深さが、第2スリットの深さと実質的に同じ深さに形成されている、請求項7に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 7, wherein the total depth of the first slit and the fourth slit is formed to be substantially the same as the depth of the second slit. 透光性絶縁材料により形成された基材層と、
第1方向に沿って延在するように基材層上に配置された複数の第1電極と、隣接する第1電極の間の領域における基材層上に配置され、第1電極と電気的に分離された第2電極とを含む電極パターンを有し、透光性電極材料により形成された第1電極層と、
第1電極層を覆うように透光性絶縁材料により形成された第1絶縁層と、
第1方向と交差する第2方向に沿って延在するように第1絶縁層上に配置された複数の第3電極と、隣接する第3電極の間の領域における第1絶縁層上に配置され、第3電極と電気的に分離された第4電極とを含む電極パターンを有し、透光性電極材料により形成された第2電極層と、
第2電極層を覆うように透光性絶縁材料により形成された第2絶縁層と、を備え、
第2電極は第1スリットにより複数の微細領域に電気的に分割されるとともに、第4電極は第2スリットにより複数の微細領域に電気的に分割され、
第1絶縁層における第1電極を覆う部分において、第1絶縁層の表面が第3スリットにより複数の微細領域に分割されるとともに、第2絶縁層における第3電極を覆う部分において、第2絶縁層の表面が第4スリットにより複数の微細領域に分割されている、タッチパネル。
A base material layer formed of a translucent insulating material;
A plurality of first electrodes arranged on the base material layer so as to extend along the first direction and the base electrode in the region between the adjacent first electrodes are electrically connected to the first electrode. A first electrode layer having an electrode pattern including a second electrode separated into a transparent electrode material,
A first insulating layer formed of a light-transmitting insulating material so as to cover the first electrode layer;
A plurality of third electrodes arranged on the first insulating layer so as to extend along a second direction intersecting the first direction, and arranged on the first insulating layer in a region between the adjacent third electrodes A second electrode layer having an electrode pattern including a third electrode and a fourth electrode electrically separated, and formed of a translucent electrode material;
A second insulating layer formed of a light-transmitting insulating material so as to cover the second electrode layer,
The second electrode is electrically divided into a plurality of fine regions by the first slit, and the fourth electrode is electrically divided into a plurality of fine regions by the second slit,
In the portion covering the first electrode in the first insulating layer, the surface of the first insulating layer is divided into a plurality of fine regions by the third slit, and in the portion covering the third electrode in the second insulating layer, the second insulation is provided. The touch panel in which the surface of the layer is divided into a plurality of fine regions by a fourth slit.
第1絶縁層における微細領域のパターンは、第1電極層の第2電極における微細領域のパターンと実質的に同じであり、第2絶縁層における微細領域のパターンは、第2電極層の第4電極における微細領域のパターンと実質的に同じである、請求項9に記載のタッチパネル。   The pattern of the fine region in the first insulating layer is substantially the same as the pattern of the fine region in the second electrode of the first electrode layer, and the pattern of the fine region in the second insulating layer is the fourth pattern of the second electrode layer. The touch panel according to claim 9, wherein the touch panel is substantially the same as a pattern of a fine region in an electrode. 第1絶縁層における微細領域のパターンと第2絶縁層における微細領域のパターンとが実質的に同じであり、
第2絶縁層における微細領域のパターンが、第1電極層の第2電極における微細領域のパターンと一致するとともに、第1絶縁層における微細領域のパターンが、第2電極層の第4電極における微細領域のパターンと一致するように、第1および第2電極層と第1及び第2絶縁層とが配置されている、請求項10に記載のタッチパネル。
The pattern of the fine region in the first insulating layer and the pattern of the fine region in the second insulating layer are substantially the same,
The pattern of the fine region in the second insulating layer matches the pattern of the fine region in the second electrode of the first electrode layer, and the pattern of the fine region in the first insulating layer is fine in the fourth electrode of the second electrode layer. The touch panel according to claim 10, wherein the first and second electrode layers and the first and second insulating layers are arranged so as to coincide with the pattern of the region.
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