JP2010153589A - 微細パターンの形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】モールドを押し付けて形成した転写層パターン3を形成し、転写層パターン3に被パターン形成膜4を形成し、その後、転写層パターン3を除去して、被パターン形成膜4形成時の会合界面(点線部)からエッチングを進行させて、被パターン形成膜4をエッチングして最終パターン7を形成する。
【選択図】図4
Description
図1〜図6は、実施形態1によるパターン形成方法を工程順に説明するための説明図である。
実施形態2は、転写層パターン形成後、その凸部35の頂上面にのみ、Niを形成したものである。
本実施形態3は、ナノインプリントによる転写層パターンの形成と、被パターン形成膜を基板上に形成する工程と別に行い、これらを合わせることで、被パターン形成膜のパターニングを行うものである。
以上本発明を適用した好ましい実施形態を説明したが、以下では、このような微細パターンを用いた製品例を説明する。
2 転写層樹脂、
3 転写層パターン、
4 被パターン形成膜、
5 接着剤層、
6 基板、
7、8、10 最終パターン、
11 モールド、
21 Ni膜、
31 凹部、
35 凸部。
Claims (4)
- 転写層ベース基材上に塗布した樹脂膜にモールドを押し付けて、凹凸面からなる転写層パターンを形成する段階と、
前記転写層パターンを構成する前記凹凸面に被パターン形成膜を形成する段階と、
前記被パターン形成膜の前記転写層パターンが存在しない側に基板を貼付ける段階と、
前記転写層ベース基材および前記転写層パターンを除去する段階と、
前記被パターン形成膜を所望するパターンとなるようにエッチングして微細パターンを形成する段階と、
を有することを特徴とする微細パターンの形成方法。 - 前記被パターン形成膜を形成する段階は、前記被パターン形成膜を前記転写層パターンの凸部上から成長させて隣接する凸部同士の間で会合した界面を有するように形成し、
前記微細パターンを形成する段階は、前記界面からエッチングを進行させて、所望のパターン幅となるようにすることを特徴とする請求項1記載の微細パターンの形成方法。 - 前記凹凸面からなる転写層パターンを形成する段階の後、さらに前記転写層パターンの凸部面上にのみ金属膜を形成する段階を有し、
前記微細パターンを形成する段階は、前記転写層ベース基材および前記転写層パターンを除去する段階によって前記被パターン形成膜上に残った前記金属膜をマスクとして前記被パターン形成膜をエッチングすることを特徴とする請求項1記載の微細パターンの形成方法。 - 転写層ベース基材上に塗布した樹脂膜にモールドを押し付けて、凹凸面からなる転写層パターンを形成し、当該転写層パターンの凸部面上にのみ金属膜を形成して、転写層パターン基板を用意する段階と、
基板上に被パターン形成膜を形成し、当該被パターン形成膜上に樹脂膜を形成したパターン形成基板を用意する段階と、
前記転写層パターン基板の金属膜と前記パターン形成基板の樹脂膜が密着するように貼り合わせる段階と、
前記転写層パターン基板の前記転写層ベース基材および前記転写層パターンを除去する段階と、
前記転写層ベース基材および前記転写層パターンを除去したことにより、前記パターン形成基板の樹脂膜上に残った金属膜をマスクとして前記被パターン形成膜をエッチングする段階と、
を有することを特徴とする微細パターンの形成方法。
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