JP2010141100A - 拡散炉装置及び拡散方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板にドーパントを熱拡散させる炉芯管と、基板を搭載し、前記炉芯管の基板出入口から炉芯管に出入するマザーボートとを備えた拡散炉装置において、前記基板出入口に前記基板を搭載したマザーボートが出入し得る切り欠き部を有するキャップ体を設けると共に、前記マザーボートの後部に前記基板出入口を閉塞するつい立体を設けて、基板を搭載したマザーボートを前記基板出入口より炉芯管に出入させる際に外気が炉芯管内に流入すること及び炉芯管内の加熱ガスが外部に流出することを防止するように構成したことを特徴とする拡散炉装置。
【選択図】図1
Description
その後、バルブ13を開放し、マスフローコントローラ14で流量を制御して、膜の材料となるガスをガス導入口から流す。通常、炉芯管11はその外部に設けられた図示していないヒーターで加熱されており、内部に導入された基板17上の塗布材が基板内部に拡散される。塗布材はリン又はボロンを含む塗布材で、基板に高速回転によってスピン塗布される。
そのため、基板を搭載したボートを炉芯管内に挿入する際に、外気の巻き込みを少なくする方法が提案されている。それらの多くは、ボートが処理室に入る部分に、窒素等のガスを流すことによって、処理室内へ外気が侵入するのを防止するようになっている。
そのため、炉の蓋に近い方や、ガス導入部に近い方では、ガス流の乱れが発生し、ボート中央部に比べると、拡散基板のシート抵抗の均一性が劣った拡散基板が形成されるようになる。また、同一バッチ内におけるシート抵抗の均一性が低下する。
また、本発明は、かかる拡散炉装置を用いた拡散方法を他の目的とする。
請求項1:
基板にドーパントを熱拡散させる炉芯管と、基板を搭載し、前記炉芯管の基板出入口から炉芯管に出入するマザーボートとを備えた拡散炉装置において、前記基板出入口に前記基板を搭載したマザーボートが出入し得る切り欠き部を有するキャップ体を設けると共に、前記マザーボートの後部に前記基板出入口を閉塞するつい立体を設けて、基板を搭載したマザーボートを前記基板出入口より炉芯管に出入させる際に外気が炉芯管内に流入すること及び炉芯管内の加熱ガスが外部に流出することを防止するように構成したことを特徴とする拡散炉装置。
請求項2:
キャップ体の切り欠き部上縁部及び側縁部に炉芯管内に向けて突出する返し部を設けた請求項1記載の拡散炉装置。
請求項3:
前記つい立体をマザーボートの後部に複数個設けた請求項1又は2記載の拡散炉装置。
請求項4:
マザーボートの前部に一枚乃至複数枚のつい立体を設けた請求項1〜3のいずれか1項記載の拡散炉装置。
請求項5:
基板にドーパントを熱拡散させる炉芯管と、基板を搭載し、前記炉芯管の基板出入口から炉芯管に出入するマザーボートとを備えた拡散炉装置のマザーボートに基板を搭載し、これを炉芯管に送入して、炉芯管内で基板にドーパントを熱拡散させる拡散方法において、前記拡散炉装置として請求項1〜4のいずれか1項記載の拡散炉装置を用いて、基板を搭載したマザーボートを前記基板出入口より炉芯管に出入させる際に外気が炉芯管内に流入すること及び炉芯管内の加熱ガスが外部に流出することを防止することを特徴とする拡散方法。
図1は、本発明の実施形態に係る拡散炉の概略図を示したものである。シリコン等の基板17を搭載したボート16をマザーボート15に載せて、炉芯管11内に導入すること、バルブ13とマスフローコントローラ14によって、材料ガスを炉芯管11内に送り込むのは、図3の既存の炉と同様であり、図3と同一構成部品については同一の参照符号を付し、その説明を省略する。
11a 基板出入口
11b ガス導入口
12 蓋
13 バルブ
14 マスフローコントローラ
15 マザーボート
16 ボート
17 基板
18 引き出し棒
21 つい立体
22 つい立体
23 キャップ体
23a 切り欠き部
24 返し部
Claims (5)
- 基板にドーパントを熱拡散させる炉芯管と、基板を搭載し、前記炉芯管の基板出入口から炉芯管に出入するマザーボートとを備えた拡散炉装置において、前記基板出入口に前記基板を搭載したマザーボートが出入し得る切り欠き部を有するキャップ体を設けると共に、前記マザーボートの後部に前記基板出入口を閉塞するつい立体を設けて、基板を搭載したマザーボートを前記基板出入口より炉芯管に出入させる際に外気が炉芯管内に流入すること及び炉芯管内の加熱ガスが外部に流出することを防止するように構成したことを特徴とする拡散炉装置。
- キャップ体の切り欠き部上縁部及び側縁部に炉芯管内に向けて突出する返し部を設けた請求項1記載の拡散炉装置。
- 前記つい立体をマザーボートの後部に複数個設けた請求項1又は2記載の拡散炉装置。
- マザーボートの前部に一枚乃至複数枚のつい立体を設けた請求項1〜3のいずれか1項記載の拡散炉装置。
- 基板にドーパントを熱拡散させる炉芯管と、基板を搭載し、前記炉芯管の基板出入口から炉芯管に出入するマザーボートとを備えた拡散炉装置のマザーボートに基板を搭載し、これを炉芯管に送入して、炉芯管内で基板にドーパントを熱拡散させる拡散方法において、前記拡散炉装置として請求項1〜4のいずれか1項記載の拡散炉装置を用いて、基板を搭載したマザーボートを前記基板出入口より炉芯管に出入させる際に外気が炉芯管内に流入すること及び炉芯管内の加熱ガスが外部に流出することを防止することを特徴とする拡散方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2008315520A JP5326535B2 (ja) | 2008-12-11 | 2008-12-11 | 拡散炉装置及び拡散方法 |
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| JP5326535B2 JP5326535B2 (ja) | 2013-10-30 |
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Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60194527A (ja) * | 1984-03-16 | 1985-10-03 | Hitachi Ltd | 熱処理装置 |
| JPS61190929A (ja) * | 1985-02-20 | 1986-08-25 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
| JPS61190949A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-25 | Rohm Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| JPS63248125A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-14 | Hitachi Ltd | 熱処理装置 |
| JPH01139426U (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | ||
| JPH01305514A (ja) * | 1988-06-03 | 1989-12-08 | Nec Corp | 半導体ウェハー熱処理炉 |
| JPH03297132A (ja) * | 1990-04-16 | 1991-12-27 | Nec Corp | 半導体ウェハの熱処理炉 |
| JPH05259100A (ja) * | 1992-03-11 | 1993-10-08 | Matsushita Electron Corp | 横型炉 |
-
2008
- 2008-12-11 JP JP2008315520A patent/JP5326535B2/ja active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60194527A (ja) * | 1984-03-16 | 1985-10-03 | Hitachi Ltd | 熱処理装置 |
| JPS61190949A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-25 | Rohm Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| JPS61190929A (ja) * | 1985-02-20 | 1986-08-25 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
| JPS63248125A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-14 | Hitachi Ltd | 熱処理装置 |
| JPH01139426U (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | ||
| JPH01305514A (ja) * | 1988-06-03 | 1989-12-08 | Nec Corp | 半導体ウェハー熱処理炉 |
| JPH03297132A (ja) * | 1990-04-16 | 1991-12-27 | Nec Corp | 半導体ウェハの熱処理炉 |
| JPH05259100A (ja) * | 1992-03-11 | 1993-10-08 | Matsushita Electron Corp | 横型炉 |
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