JP2010139824A - Sheet polarizer, liquid crystal display device and ips (in-plane switching) type liquid crystal display device - Google Patents

Sheet polarizer, liquid crystal display device and ips (in-plane switching) type liquid crystal display device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sheet polarizer, having high-hardness surface and preventing crack and splinter trouble in punching the sheet polarizer, and also to provide a liquid crystal display device having excellent smoothness (flatness) by using the above sheet polarizer. <P>SOLUTION: In this sheet polarizer, a first protective film, a polarization film, and a second protective film are stacked in this order. The second protective film is formed of a laminate of a substantially vertically aligned polymerizable liquid crystal compound layer, acrylic polymer, and a transparent film containing cellulose ester containing at least one kind selected from a sugar ester compound which has one to twelve structures of at least one kind between a pyranose structure and a furanose structure, all or some of OH group in its structure being esterificated. The first protective film has a hard coat layer on the side remoter from the polarization film. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置、IPS型液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a polarizing plate, a liquid crystal display device using the polarizing plate, and an IPS liquid crystal display device.

液晶表示装置の最表面の性能として物理的な損傷を受け易く、損傷を受けると表示画像品質を損なうので、表面保護膜については、表面硬度の強化が望まれている。また、液晶表示装置を構成する偏光板(偏光能を有する偏光膜の両面あるいは片面に、保護膜を貼り合わせた積層品)を作製するにあたり、搬送したり、切り出したりする際に表面が傷つきやすい問題があった。この事からも、表面硬度について高いもの(高硬度)が求められている。また、偏光板は、一般にロール形態で製造される偏光板の打ち抜きよって作製される。   As the performance of the outermost surface of the liquid crystal display device, it is easy to be physically damaged, and when it is damaged, the display image quality is impaired. Therefore, it is desired to enhance the surface hardness of the surface protective film. Moreover, when producing a polarizing plate (a laminated product in which a protective film is bonded to both or one side of a polarizing film having polarizing ability) constituting a liquid crystal display device, the surface is easily damaged when transported or cut out. There was a problem. Also from this fact, a high surface hardness (high hardness) is required. Moreover, a polarizing plate is produced by stamping the polarizing plate generally manufactured with a roll form.

近年、液晶表示装置については、大画面化が進んでおり、偏光板についても大きなサイズが必要である。しかしながら、特に大きなサイズの偏光板を作製する場合、高硬度のハードコートフィルムを有する保護膜を用いた偏光板では、打ち抜き工程で、打ち抜いた端部部分のヒビ割れやささくれといった品質課題が発生しやすく、生産性の低下を招いていた。また、偏光板の平面特性などの品質面も劣化する問題があった。   In recent years, the liquid crystal display device has been increased in screen size, and the polarizing plate needs to have a large size. However, when manufacturing a polarizing plate of a particularly large size, a polarizing plate using a protective film having a hard coating film with high hardness causes quality problems such as cracking and flaking of the punched end portion in the punching process. It was easy and caused a decrease in productivity. In addition, there is a problem that the quality such as the planar characteristics of the polarizing plate deteriorates.

特に上記した課題は、光学補償手段を加えたインプレーンスイッチングモード(IPS)液晶表示装置の偏光板で顕在化しやすかった。   In particular, the above-described problems are easily manifested in a polarizing plate of an in-plane switching mode (IPS) liquid crystal display device to which optical compensation means is added.

偏光板打ち抜き工程における平滑性に優れ、安価で高生産性に優れる偏光板の製造方法は、特許文献1に開示されている。特許文献1では、透明保護膜、偏光膜、及び光学補償層をこの順に有する偏光板であって、該光学補償層は透明支持体と光学異方性層を含み、該光学異方性層は液晶分子を含有し、そして偏光膜の吸収軸が該透明支持体の遅相軸と平行でも垂直でもないことを特徴としている。   Patent Document 1 discloses a method for producing a polarizing plate which is excellent in smoothness in the polarizing plate punching process, is inexpensive and has high productivity. In Patent Document 1, a polarizing plate having a transparent protective film, a polarizing film, and an optical compensation layer in this order, the optical compensation layer including a transparent support and an optically anisotropic layer, It contains liquid crystal molecules and is characterized in that the absorption axis of the polarizing film is neither parallel nor perpendicular to the slow axis of the transparent support.

前記した技術では、ある程度の平滑性や高生産性は得られるものの、表面硬度が硬いハードコートフィルムを最表面に用いた保護フィルムでは、改善効果は十分なものが得られず、また、打ち抜いた偏光板の端部でのヒビ割れやささくれといった品質課題は改善されなかった。
特表2005−513521号公報
With the above-described technique, a certain level of smoothness and high productivity can be obtained, but with a protective film using a hard coat film with a hard surface hardness on the outermost surface, a sufficient improvement effect cannot be obtained, and punching is performed. Quality issues such as cracking and rolling at the edge of the polarizing plate were not improved.
JP 2005-513521 Gazette

従って本発明の目的は、表面の高硬度と偏光板打ち抜き時にヒビ割れやささくれ故障のない偏光板の提供にあり、かつ該偏光板を用いることにより表面の平滑性(平面性)に優れた液晶表示装置を提供するものである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a polarizing plate which has a high surface hardness and is free from cracks and whirling failures when punching the polarizing plate, and a liquid crystal having excellent surface smoothness (flatness) by using the polarizing plate. A display device is provided.

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.第1保護フィルムと、偏光膜と、第2保護フィルムが、この順序で積層された偏光板において、該第2保護フィルムが実質的に垂直配向した重合性液晶化合物層と、下記一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステルを含有する透明フィルムとの積層体から構成され、かつ該第1保護フィルムが該偏光膜から遠い側に少なくともハードコート層を有することを特徴とする偏光板。   1. In the polarizing plate in which the first protective film, the polarizing film, and the second protective film are laminated in this order, the polymerizable liquid crystal compound layer in which the second protective film is substantially vertically aligned, and the following general formula (1) Or a transparent film containing a cellulose ester having at least one repeating unit represented by (2), and the first protective film has at least a hard coat layer on the side far from the polarizing film. A polarizing plate characterized by having.

Figure 2010139824
Figure 2010139824

[式中、A、Bは、炭素数1〜12の2価の炭化水素基または、水酸基で置換された炭素数1〜12の2価の炭化水素基を表す。但しAとBは同じであっても異なっていてもよい。]
2.前記ハードコート層のマルテンス硬さ(HMs)が、400N/mm以上、800N/mm以下であることを特徴とする前記1に記載の偏光板。
[In formula, A and B represent a C1-C12 bivalent hydrocarbon group or a C1-C12 bivalent hydrocarbon group substituted by the hydroxyl group. However, A and B may be the same or different. ]
2. 2. The polarizing plate as described in 1 above, wherein the hard coat layer has a Martens hardness (HMs) of 400 N / mm 2 or more and 800 N / mm 2 or less.

3.前記ハードコート層がカチオン重合性化合物を含有することを特徴とする前記1または2に記載の偏光板。   3. 3. The polarizing plate as described in 1 or 2 above, wherein the hard coat layer contains a cationic polymerizable compound.

4.前記1〜3のいずれか1項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の側に用いたことを特徴とする液晶表示装置。   4). 4. A liquid crystal display device using the polarizing plate according to any one of 1 to 3 on at least one side of a liquid crystal cell.

5.前記1〜3のいずれか1項に記載の偏光板をインプレーンスイッチングモード(IPS)型液晶セルの少なくとも一方の側に用いたことを特徴とするIPS型液晶表示装置。   5. 4. An IPS liquid crystal display device using the polarizing plate according to any one of 1 to 3 on at least one side of an in-plane switching mode (IPS) liquid crystal cell.

本発明によれば、表面が高硬度であり、偏光板打ち抜き時にヒビ割れやささくれ故障のない偏光板を提供でき、かつ該偏光板を用いることにより表面の平滑性(平面性)に優れた液晶表示装置を提供するものである。   According to the present invention, a liquid crystal having a high hardness on the surface, which can provide a polarizing plate that does not have cracks or sag failure when punched, and has excellent surface smoothness (flatness) by using the polarizing plate. A display device is provided.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明の偏光板は、第1保護フィルムと、偏光膜と、第2保護フィルムが、この順序で積層された偏光板において、該第2保護フィルムが実質的に垂直配向した重合性液晶化合物層と、下記一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステルを含有する透明フィルムとの積層体から構成され、かつ該第1保護フィルムが該偏光膜から遠い側に少なくともハードコート層を有することを特徴とする。   The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate in which a first protective film, a polarizing film, and a second protective film are laminated in this order, and the polymerizable liquid crystal compound layer in which the second protective film is substantially vertically aligned. And a laminate of a transparent film containing a cellulose ester having at least one repeating unit represented by the following general formula (1) or (2), and the first protective film is far from the polarizing film It has at least a hard coat layer on the side.

上記課題に対して、第1保護フィルムが視認側表面にハードコート層を有し、かつ第2保護フィルムに重合性液晶化合物層と、上記特定構造のセルロースエステルを用いる透明フィルムを用いる積層体を配置することで、表面が高硬度であり、偏光板打ち抜き時にヒビ割れやささくれ故障のない偏光板を提供できるものである。   In order to solve the above problems, a laminate in which the first protective film has a hard coat layer on the surface on the viewing side, and a transparent film using a polymerizable liquid crystal compound layer and a cellulose ester having the specific structure as the second protective film is used. By disposing the polarizing plate, it is possible to provide a polarizing plate having a high hardness on the surface and free from cracks and crushing failures when punching the polarizing plate.

これは、第1保護フィルムの視認側表面に高硬度のハードコート層を有していても、本発明の第2保護フィルムを用いることで、偏光板の面内にかかる応力が一定化され、これにより偏光板を打ち抜く際に、せん断ひずみが局在的にかかりにくくなり(均一化される)、偏光板で打ち抜いた端部部分のヒビ割れやささくれといった現象の抑制や平面性といった面品質も良好になるものと推定している。   Even if it has a high hardness hard coat layer on the viewing side surface of the first protective film, by using the second protective film of the present invention, the stress applied to the plane of the polarizing plate is made constant, As a result, when punching the polarizing plate, shear strain is less likely to be locally applied (uniformized), and surface quality such as suppression of phenomena such as cracks and rolling of the end portion punched by the polarizing plate and flatness are also achieved. Estimated to improve.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステル>
第2保護フィルム(以下、位相差フィルムともいう)を構成する本発明の特徴の一つである一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステルについて説明する。該セルロースエステルを透明フィルム基材として用いることで、フィルム変形が起こりにくく、平滑性が維持され、更に以下詳述する本発明の構成をとることで、表面が高硬度であり、偏光板打ち抜き時にヒビ割れやささくれ故障のない偏光板を提供することができる。
<Cellulose ester having at least one repeating unit represented by formula (1) or (2)>
The cellulose ester having at least one repeating unit represented by the general formula (1) or (2), which is one of the features of the present invention constituting the second protective film (hereinafter also referred to as retardation film), will be described. . By using the cellulose ester as a transparent film substrate, film deformation is unlikely to occur, smoothness is maintained, and by adopting the configuration of the present invention described in detail below, the surface has high hardness, and at the time of punching a polarizing plate It is possible to provide a polarizing plate that is free from cracks and cracks.

下記一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステルについて詳細に説明する。   The cellulose ester having at least one repeating unit represented by the following general formula (1) or (2) will be described in detail.

Figure 2010139824
Figure 2010139824

[式中、A、Bは、炭素数1〜12の2価の炭化水素基または、水酸基で置換された炭素数1〜12の2価の炭化水素基を表す。但しAとBは同じであっても異なっていてもよい。]
一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステルである。
[In formula, A and B represent a C1-C12 bivalent hydrocarbon group or a C1-C12 bivalent hydrocarbon group substituted by the hydroxyl group. However, A and B may be the same or different. ]
A cellulose ester having at least one repeating unit represented by formula (1) or (2).

以下にAの具体例を挙げる。
A−1 −CHCH
A−2 −CHCHCH
A−3 −CH=CH−
Specific examples of A are given below.
A-1-CH 2 CH 2-
A-2 -CH 2 CH 2 CH 2 -
A-3 -CH = CH-

Figure 2010139824
Figure 2010139824

A−6 −CHC(CH
以下Bの具体例を挙げる。
B−1 −CHCH
B−2 −CHCHCHCH
A-6 —CH 2 C (CH 3 ) 2
Specific examples of B are given below.
B-1 -CH 2 CH 2 -
B-2-CH 2 CH 2 CH 2 CH 2-

Figure 2010139824
Figure 2010139824

一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルは、未置換の水酸基を有するセルロース、またはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、フタリル基等のアシル基によってすでに一部の水酸基が置換されているセルロースエステルの存在下で、多塩基酸またはその無水物と多価アルコールとのエステル化反応、またはL−ラクチド、D−ラクチドの開環重合、L−乳酸、D−乳酸の自己縮合を行わせることによって得ることができる。   The cellulose ester having a repeating unit represented by the general formula (1) or (2) is already partially substituted by cellulose having an unsubstituted hydroxyl group or an acyl group such as an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, or a phthalyl group. Esterification reaction of polybasic acid or its anhydride and polyhydric alcohol in the presence of cellulose ester substituted with hydroxyl group, or ring-opening polymerization of L-lactide, D-lactide, L-lactic acid, D-lactic acid Can be obtained by carrying out self-condensation.

エステル化反応に用いる多塩基酸無水物として、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水フマル酸が挙げられるが特に限定されない。   Examples of the polybasic acid anhydride used in the esterification reaction include, but are not limited to, maleic anhydride, phthalic anhydride, and fumaric anhydride.

エステル化反応に用いることができる多価アルコールとして、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコールなどが挙げられるが特に限定されない。   Examples of the polyhydric alcohol that can be used in the esterification reaction include glycerin, ethylene glycol, and propylene glycol, but are not particularly limited.

エステル化反応に用いる触媒としては、無触媒で反応をすることもできるが、公知のルイス酸触媒などを用いることができる。使用できる触媒としてはスズ、亜鉛、チタン、ビスマス、ジルコニウム、ゲルマニウム、アンチモン、ナトリウム、カリウム、アルミニウムなどの金属およびその誘導体が挙げられ、特に誘導体については金属有機化合物、炭酸塩、酸化物、ハロゲン化物が好ましい。具体的にはオクチルスズ、塩化スズ、塩化亜鉛、塩化チタン、アルコキシチタン、酸化ゲルマニウム、酸化ジルコニウム、三酸化アンチモン、アルキルアルミニウムなどを例示することができる。また、触媒としてパラトルエンスルホン酸に代表される酸触媒を用いることもできる。また、カルボン酸とアルコールとの脱水反応を促進するためにカルボジイミド、ジメチルアミノピリジンなど公知の化合物を添加してもよい。   As the catalyst used for the esterification reaction, the reaction can be carried out without a catalyst, but a known Lewis acid catalyst or the like can be used. Examples of catalysts that can be used include metals such as tin, zinc, titanium, bismuth, zirconium, germanium, antimony, sodium, potassium, and aluminum, and derivatives thereof. Particularly, the derivatives include metal organic compounds, carbonates, oxides, halides. Is preferred. Specific examples include octyl tin, tin chloride, zinc chloride, titanium chloride, alkoxy titanium, germanium oxide, zirconium oxide, antimony trioxide, and alkyl aluminum. Moreover, an acid catalyst typified by p-toluenesulfonic acid can also be used as the catalyst. Moreover, in order to accelerate | stimulate the dehydration reaction of carboxylic acid and alcohol, you may add well-known compounds, such as carbodiimide and dimethylaminopyridine.

係る反応は、セルロースエステルおよびその他の反応させる化合物を溶解させることが可能な有機溶媒中における反応によってもよいし、剪断力を付加しながら加熱攪拌が可能なバッチ式ニーダーを用いた反応によるものであってもよいし、一軸或いは二軸のエクストルーダーを用いた反応によるものであってもよい。   Such a reaction may be a reaction in an organic solvent capable of dissolving cellulose ester and other compounds to be reacted, or a reaction using a batch kneader capable of heating and stirring while adding a shearing force. It may be by reaction using a uniaxial or biaxial extruder.

一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位は、セルロースに対して0.5〜190質量%の範囲で適宜含有させることができる。   The repeating unit represented by the general formula (1) or (2) can be appropriately contained in the range of 0.5 to 190% by mass with respect to cellulose.

該セルロースエステルの置換度は、適宜選択することができるが、2.2〜3であることが、熱可塑性、熱加工性の点から好ましい。   Although the substitution degree of this cellulose ester can be selected suitably, it is preferable that it is 2.2-3 from the point of thermoplasticity and heat workability.

一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステルにおいて、セルロースの水酸基部分の水素原子が脂肪族アシル基との脂肪酸エステルであるとき、脂肪族アシル基は炭素原子数が2〜20で具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等が挙げられる。   In the cellulose ester having at least one repeating unit represented by the general formula (1) or (2), when the hydrogen atom of the hydroxyl group of cellulose is a fatty acid ester with an aliphatic acyl group, the aliphatic acyl group is carbon. Specific examples thereof include acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, pivaloyl, hexanoyl, octanoyl, lauroyl, stearoyl and the like.

一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステルの重合度は、特に制限されず、例えば、粘度平均重合度で、70以上(例えば、80〜800)の範囲から選択でき、100〜500、好ましくは110〜400、さらに好ましくは120〜350程度であってもよい。   The polymerization degree of the cellulose ester having at least one repeating unit represented by the general formula (1) or (2) is not particularly limited, and is, for example, a viscosity average polymerization degree of 70 or more (for example, 80 to 800). It can be selected from a range, and may be 100 to 500, preferably 110 to 400, and more preferably about 120 to 350.

一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位は、当該部分の数平均分子量として、例えば、80〜10000、好ましくは100〜5000、さらに好ましくは200〜2000程度、特に300〜1500、通常1000未満であってもよい。なお、当該セルロースエステルが有する繰り返し単位のみの数平均分子量は、エステル化反応する前のセルロースエステルと反応後のセルロースエステルをポリスチレン換算したGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフ)データまたは、H−NMRにより比較して求めた。 The repeating unit represented by the general formula (1) or (2) is, for example, 80 to 10,000, preferably 100 to 5000, more preferably about 200 to 2000, particularly 300 to 1500, as the number average molecular weight of the portion. Usually, it may be less than 1000. The number average molecular weight of repeating unit in which the cellulose ester has the cellulose ester after the reaction with the previous cellulose ester esterifying polystyrene-converted GPC (gel permeation chromatography) data, or by 1 H-NMR Obtained by comparison.

一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を、セルロースもしくはセルロースエステルに導入する際に副反応として、一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するオリゴマー、ポリエステルが生成することあるが、これらの化合物は可塑剤として作用することから精製により必ずしも完全に除去する必要はない。含有量としてはセルロースエステルに対して30質量%以下であれば、セルロースエステルの性質を大きく変化させることは少ない。可塑性の点から、好ましくは0.5〜20質量%である。これらのオリゴマー、ポリエステルの数平均分子量は、300〜10000であり、可塑性の点から好ましくは500〜8000である。   An oligomer or polyester having a repeating unit represented by formula (1) or (2) as a side reaction when the repeating unit represented by formula (1) or (2) is introduced into cellulose or cellulose ester However, since these compounds act as plasticizers, they need not be completely removed by purification. If content is 30 mass% or less with respect to a cellulose ester, there will be little change in the property of a cellulose ester. From the viewpoint of plasticity, it is preferably 0.5 to 20% by mass. These oligomers and polyesters have a number average molecular weight of 300 to 10,000, and preferably 500 to 8,000 from the viewpoint of plasticity.

また、特開2008−197561号に記載のグラフト共重合した変性グルカン誘導体(変性セルロース誘導体)も本発明の一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルとして用いることが出来る。   Also, a graft copolymerized modified glucan derivative (modified cellulose derivative) described in JP-A-2008-197561 can be used as a cellulose ester having a repeating unit represented by the general formula (1) or (2) of the present invention. I can do it.

また、一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルを有する透明フィルム(以下、一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルフィルム、或いは単にセルロースエステルフィルムとも言う)は、下記の特性を有することが好ましい。   Further, a transparent film having a cellulose ester having a repeating unit represented by the general formula (1) or (2) (hereinafter, a cellulose ester film having a repeating unit represented by the general formula (1) or (2), or It is preferable that it is also called a cellulose ester film) having the following characteristics.

透過率:80%以上
膜厚 :20〜100μm
0nm≦Ro≦330nm
−100nm≦Rt≦340nm
なお、Ro=(nx−ny)×d
Rt=((nx+ny)/2−nz)×d
(式中、nxはセルロースエステルフィルムの面内の遅相軸方向の屈折率を、nyは面内で遅相軸に直交する方向の屈折率を、nzは厚み方向の屈折率を、dはセルロースエステルフィルムの厚み(nm)をそれぞれ表す。屈折率の測定波長は590nmである。)上記屈折率は、例えばKOBRA−21ADH(王子計測機器(株))を用いて、23℃、55%RHの環境下で、波長が590nmで求めることができる。
Transmittance: 80% or more Film thickness: 20-100 μm
0nm ≦ Ro ≦ 330nm
−100 nm ≦ Rt ≦ 340 nm
Ro = (nx−ny) × d
Rt = ((nx + ny) / 2−nz) × d
(Where nx is the refractive index in the slow axis direction in the plane of the cellulose ester film, ny is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, nz is the refractive index in the thickness direction, and d is the refractive index in the thickness direction) Represents the thickness (nm) of the cellulose ester film.The measurement wavelength of the refractive index is 590 nm.) The refractive index is 23 ° C. and 55% RH using, for example, KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments). The wavelength can be obtained at 590 nm under the following environment.

また、セルロースエステルフィルムは、長さ100m〜9000m、更に好ましくは、1000m〜7000mであり、幅は1.2m以上が好ましく、更に好ましくは1.4〜4mである。基材フィルムの長さ及び幅を前記範囲とすることで、取り扱い性や生産性に優れる。   The cellulose ester film has a length of 100 m to 9000 m, more preferably 1000 m to 7000 m, and a width of 1.2 m or more, more preferably 1.4 to 4 m. By making the length and width of the base film within the above ranges, the handleability and productivity are excellent.

また、保管や取り扱い性の点からロール状が好ましい。   Moreover, the roll shape is preferable from the point of storage and handling property.

一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルフィルムは、輝点異物が少ないものであることが好ましい。輝点異物は、輝点の直径0.01mm以上が200個/cm以下であることが好ましく、さらに100個/cm以下であることが好ましく、50個/cm以下であることが好ましく、30個/cm以下であることが好ましく、10個/cm以下であることが好ましいが、皆無であることが最も好ましい。 The cellulose ester film having a repeating unit represented by the general formula (1) or (2) is preferably one having few bright spot foreign substances. The bright spot foreign matter preferably has a bright spot diameter of 0.01 mm or more and 200 pieces / cm 2 or less, more preferably 100 pieces / cm 2 or less, and preferably 50 pieces / cm 2 or less. 30 / cm 2 or less, preferably 10 / cm 2 or less, and most preferably none.

また、0.005〜0.01mm以下の輝点についても200個/cm以下であることが好ましく、さらに100個/cm以下であることが好ましく、50個/cm以下であることが好ましく、30個/cm以下であることが好ましく、10個/cm以下であることが好ましいが、皆無であることが最も好ましい。 Moreover, it is preferable that it is 200 pieces / cm < 2 > or less also about a bright spot of 0.005-0.01 mm or less, Furthermore, it is preferable that it is 100 pieces / cm < 2 > or less, and it is 50 pieces / cm < 2 > or less. The number is preferably 30 pieces / cm 2 or less, more preferably 10 pieces / cm 2 or less, and most preferably none.

<添加剤>
一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルフィルムは、アクリル系重合体、およびピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも1種を1個以上12個以下有しその構造のOH基のすべてもしくは一部をエステル化した糖エステル化合物、から選択される少なくとも一種を含有しても良い。
<Additives>
The cellulose ester film having a repeating unit represented by the general formula (1) or (2) has at least one of an acrylic polymer and at least one of a pyranose structure or a furanose structure and has an OH of the structure. You may contain at least 1 type selected from the sugar ester compound which esterified all or one part of group.

〈糖エステル化合物〉
糖エステル化合物としては、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース、ラクトース、スクロース、セロビオース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースなどが挙げられるが、特にフラノース構造とピラノース構造を両方有するものが好ましい。例としてはスクロースが挙げられる。
<Sugar ester compound>
Examples of the sugar ester compound include glucose, galactose, mannose, fructose, xylose, arabinose, lactose, sucrose, cellobiose, cellotriose, maltotriose, raffinose and the like, and those having both a furanose structure and a pyranose structure are particularly preferable. An example is sucrose.

糖エステル化合物は、糖化合物の有する水酸基の一部または全部がエステル化されているものまたはその混合物である。   The sugar ester compound is one in which part or all of the hydroxyl groups of the sugar compound are esterified or a mixture thereof.

糖エステル化合物は、下記一般式(A)で表されるピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも1種を1個以上12個以下縮合した化合物である。ただし、R11〜R15、R21〜R25は、炭素数2〜22のアシル基または水素原子を、m、nはそれぞれ0〜12の整数、m+nは1〜12の整数を表す。 The sugar ester compound is a compound obtained by condensing 1 or more and 12 or less of at least one pyranose structure or furanose structure represented by the following general formula (A). However, R < 11 > -R < 15 >, R < 21 > -R < 25 > represents a C2-C22 acyl group or a hydrogen atom, m and n represent the integer of 0-12 respectively, and m + n represents the integer of 1-12.

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11〜R15、R21〜R25は、ベンゾイル基、水素原子であることが好ましい。ベンゾイル基はさらに置換基R26(pは0〜5)を有していてもよく、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、フェニル基が挙げられ、さらにこれらのアルキル基、アルケニル基、フェニル基は置換基を有していてもよい。オリゴ糖も同様な方法で製造することができる。 R 11 to R 15 and R 21 to R 25 are preferably a benzoyl group or a hydrogen atom. The benzoyl group may further have a substituent R26 (p is 0 to 5), and examples thereof include an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxyl group, and a phenyl group. Further, these alkyl groups, alkenyl groups, and phenyl groups are It may have a substituent. Oligosaccharides can also be produced by a similar method.

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市販品としては、例えばモノペットSB(第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。   As a commercial item, monopet SB (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. product) etc. are mentioned, for example.

〈アクリル系重合体〉
アクリル系重合体を一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルフィルムに添加しても良い。なお、ここでアクリル系重合体にはメタクリル系重合体も含まれる。アクリル系重合体を含有させた場合、機能として延伸方向に対して負の複屈折性を示すことが好ましく、特に構造が限定されるものではないが、エチレン性不飽和モノマーを重合して得られた重量平均分子量が500以上30000以下である重合体であることが好ましい。重量平均分子量が500以上30000以下であるアクリル系重合体は、芳香環を側鎖に有するアクリル系重合体またはシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリル系重合体であってもよい。
<Acrylic polymer>
You may add an acrylic polymer to the cellulose-ester film which has a repeating unit represented by General formula (1) or (2). Here, the acrylic polymer includes a methacrylic polymer. When an acrylic polymer is contained, it preferably exhibits negative birefringence in the stretching direction as a function, and the structure is not particularly limited, but is obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer. It is preferable that the polymer has a weight average molecular weight of 500 to 30,000. The acrylic polymer having a weight average molecular weight of 500 to 30,000 may be an acrylic polymer having an aromatic ring in the side chain or an acrylic polymer having a cyclohexyl group in the side chain.

該重合体の重量平均分子量が500以上30000以下のもので該重合体の組成を制御することにより、上記セルロースエステルと該重合体との相溶性を良好にすることができる。   By controlling the composition of the polymer so that the weight average molecular weight of the polymer is 500 or more and 30000 or less, the compatibility between the cellulose ester and the polymer can be improved.

芳香環を側鎖に有するアクリル系重合体またはシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリル系重合体について、好ましくは重量平均分子量が500以上10000以下のものであれば、上記に加え、製膜後のセルロースエステルフィルムの透明性が優れ、透湿度も極めて低く、偏光板用保護フィルムとして優れた性能を示す。   As for the acrylic polymer having an aromatic ring in the side chain or the acrylic polymer having a cyclohexyl group in the side chain, if the weight average molecular weight is 500 or more and 10,000 or less, in addition to the above, cellulose after film formation The transparency of the ester film is excellent, the moisture permeability is extremely low, and it exhibits excellent performance as a protective film for polarizing plates.

該重合体は、重量平均分子量が500以上30000以下であるから、オリゴマーから低分子量重合体の間にあると考えられるものである。このような重合体を合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法でできるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。   Since the polymer has a weight average molecular weight of 500 or more and 30000 or less, it is considered to be between the oligomer and the low molecular weight polymer. In order to synthesize such a polymer, it is difficult to control the molecular weight in normal polymerization, and it is desirable to use a method that can align the molecular weight as much as possible by a method that does not increase the molecular weight too much.

アクリル系重合体としては、分子内に芳香環と水酸基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaと、分子内に芳香環を有せず、水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーXbと、Xa、Xbを除く共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを共重合して得られた重量平均分子量2000以上30000以下の重合体X、または芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーYaと、Yaと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを重合して得られた重量平均分子量500以上、3000以下の重合体Yであることが好ましい。   Examples of the acrylic polymer include an ethylenically unsaturated monomer Xa having no aromatic ring and a hydroxyl group in the molecule, an ethylenically unsaturated monomer Xb having no aromatic ring in the molecule and a hydroxyl group, and Xa and Xb. Polymer X having a weight average molecular weight of 2000 or more and 30000 or less obtained by copolymerization with a copolymerizable ethylenically unsaturated monomer, or ethylenically unsaturated monomer Ya having no aromatic ring and copolymerized with Ya The polymer Y is preferably a polymer Y having a weight average molecular weight of 500 or more and 3000 or less obtained by polymerizing a possible ethylenically unsaturated monomer.

[重合体X、重合体Y]
一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルフィルムのRoおよびRtを調整する方法としては、分子内に芳香環と水酸基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaと、分子内に芳香環を有せず、水酸基を有するエチレン性不飽およびノマーXbとXa、Xbを除く共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを共重合して得られた重量平均分子量2000以上、30000以下の高分子量の重合体X、そして、より好ましくは、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーYaと、Yaと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを重合して得られた重量平均分子量500以上、3000以下の低分子量の重合体Yを含有することが好ましい。
[Polymer X, Polymer Y]
As a method for adjusting Ro and Rt of the cellulose ester film having a repeating unit represented by the general formula (1) or (2), an ethylenically unsaturated monomer Xa having no aromatic ring and no hydroxyl group in the molecule, Weight average molecular weight 2000 or more, 30000 obtained by copolymerizing ethylenically unsaturated and nomeric Xb having a hydroxyl group and copolymerizable ethylenically unsaturated monomer excluding Xa and Xb The following high molecular weight polymer X, and more preferably a weight average obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer Ya having no aromatic ring and an ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with Ya It is preferable to contain a low molecular weight polymer Y having a molecular weight of 500 or more and 3000 or less.

重合体Xは、分子内に芳香環と水酸基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaと分子内に芳香環を有せず、水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーXbとXa、Xbを除く共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを共重合して得られた重量平均分子量2000以上、30000以下の重合体である。   Polymer X can be copolymerized with ethylenically unsaturated monomer Xa having no aromatic ring and hydroxyl group in the molecule and ethylenically unsaturated monomer Xb having no aromatic ring in the molecule and having a hydroxyl group, excluding Xa and Xb It is a polymer having a weight average molecular weight of 2000 or more and 30000 or less obtained by copolymerization with an ethylenically unsaturated monomer.

好ましくは、Xaは分子内に芳香環と水酸基を有しないアクリルまたはメタクリルモノマー、Xbは分子内に芳香環を有せず水酸基を有するアクリルまたはメタクリルモノマーである。   Preferably, Xa is an acrylic or methacrylic monomer having no aromatic ring and hydroxyl group in the molecule, and Xb is an acrylic or methacrylic monomer having no aromatic ring and having a hydroxyl group in the molecule.

重合体Xは、下記一般式(X)で表される。   The polymer X is represented by the following general formula (X).

一般式(X)
−[Xa]m−[Xb]n−[Xc]p−
上記一般式(X)において、Xaは分子内に芳香環と水酸基とを有しないエチレン性不飽和モノマーを表し、Xbは分子内に芳香環を有せず、水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーを表し、XcはXa、Xbを除く共重合可能なエチレン性不飽和モノマーを表す。m、nおよびpは、各々モル組成比を表す。ただし、m≠0、m+n+p=100である。
Formula (X)
-[Xa] m- [Xb] n- [Xc] p-
In the general formula (X), Xa represents an ethylenically unsaturated monomer having no aromatic ring and hydroxyl group in the molecule, and Xb represents an ethylenically unsaturated monomer having no aromatic ring and having a hydroxyl group in the molecule. Xc represents a copolymerizable ethylenically unsaturated monomer excluding Xa and Xb. m, n, and p each represent a molar composition ratio. However, m ≠ 0 and m + n + p = 100.

さらに、重合体Xとして好ましくは、下記一般式(X−1)で表される重合体である。   Furthermore, the polymer X is preferably a polymer represented by the following general formula (X-1).

一般式(X−1)
−[CH−C(−R1)(−COR2)]m−[CH−C(−R3)(−COR4−OH)−]n−[Xc]p−
上記一般式(X−1)において、R1、R3は、それぞれ水素原子またはメチル基を表す。R2は炭素数1〜12のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。R4は−CH−、−C−または−C−を表す。Xcは、[CH−C(−R1)(−COR2)]または[CH−C(−R3)(−COR4−OH)−]に重合可能なモノマー単位を表す。m、nおよびpは、モル組成比を表す。ただしm≠0、m+n+p=100である。
Formula (X-1)
- [CH 2 -C (-R1) (- CO 2 R2)] m- [CH 2 -C (-R3) (- CO 2 R4-OH) -] n- [Xc] p-
In the general formula (X-1), R1 and R3 each represent a hydrogen atom or a methyl group. R2 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyl group. R4 is -CH 2 -, - C 2 H 4 - or -C 3 H 6 - represents a. Xc is, [CH 2 -C (-R1) (- CO 2 R2)] representing the a polymerizable monomer unit or [CH 2 -C (-R3) ( - - CO 2 R4-OH)]. m, n, and p represent a molar composition ratio. However, m ≠ 0 and m + n + p = 100.

重合体Xを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるが、これに限定されない。   Although the monomer as a monomer unit which comprises the polymer X is mentioned below, it is not limited to this.

Xにおいて、水酸基とは、水酸基のみならずエチレンオキシド連鎖を有する基をいう。分子内に芳香環と水酸基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaは、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。中でも、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル(i−、n−)であることが好ましい。   In X, the hydroxyl group means not only a hydroxyl group but also a group having an ethylene oxide chain. Examples of the ethylenically unsaturated monomer Xa having no aromatic ring and hydroxyl group in the molecule include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i-, n-), and butyl acrylate (n-, i-, s). -, T-), pentyl acrylate (n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), heptyl acrylate (n-, i-), octyl acrylate (n-, i -), Nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), acrylic acid (2-ethylhexyl), acrylic acid (ε-caprolactone), etc. The thing changed into acid ester can be mentioned. Among these, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and propyl methacrylate (i-, n-) are preferable.

分子内に芳香環を有せず、水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーXbは、水酸基を有するモノマー単位として、アクリル酸またはメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、またはこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることができ、好ましくは、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)およびメタクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)である。   The ethylenically unsaturated monomer Xb having no hydroxyl ring in the molecule and having a hydroxyl group is preferably acrylic acid or methacrylic acid ester as a monomer unit having a hydroxyl group, such as acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid. (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3-hydroxypropyl), acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), or those obtained by replacing these acrylic acids with methacrylic acid. Preferred are acrylic acid (2-hydroxyethyl) and methacrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), and acrylic acid (3-hydroxypropyl).

Xcとしては、Xa、Xb以外のモノマーで、かつ共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば、特に制限はないが、芳香環を有していないものが好ましい。   Xc is not particularly limited as long as it is a monomer other than Xa and Xb and is a copolymerizable ethylenically unsaturated monomer, but preferably has no aromatic ring.

XaおよびXbのモル組成比m:nは99:1〜65:35の範囲が好ましく、さらに好ましくは95:5〜75:25の範囲である。Xcのpは0〜10である。Xcは複数のモノマー単位であってもよい。   The molar composition ratio m: n of Xa and Xb is preferably in the range of 99: 1 to 65:35, more preferably in the range of 95: 5 to 75:25. P of Xc is 0-10. Xc may be a plurality of monomer units.

Xおよびモル組成比が多いと、セルロースエステルとの相溶性が良化するがフィルム厚み方向のリターデーション値Rtが大きくなる。Xbのモル組成比が多いと上記相溶性が悪くなるが、Rtを低減させる効果が高い。   When there are many X and molar composition ratios, compatibility with a cellulose ester will improve, but the retardation value Rt of a film thickness direction will become large. When the molar composition ratio of Xb is large, the compatibility is deteriorated, but the effect of reducing Rt is high.

また、Xbのモル組成比が上記範囲を超えると製膜時にヘイズが出る傾向があり、これらの最適化を図りXa、Xbのモル組成比を決めることが好ましい。   Further, if the molar composition ratio of Xb exceeds the above range, haze tends to occur during film formation, and it is preferable to optimize these and determine the molar composition ratio of Xa and Xb.

高分子量の重合体Xの分子量は、重量平均分子量が5000以上、30000以下であることがより好ましく、さらに好ましくは8000以上25000以下である。   The molecular weight of the high molecular weight polymer X is more preferably 5000 or more and 30000 or less, and still more preferably 8000 or more and 25000 or less.

重量平均分子量を5000以上とすることにより、一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルフィルムの高温高湿下における寸法変化が少ない等の利点が得られ好ましい。   By setting the weight average molecular weight to 5,000 or more, it is preferable because advantages such as little dimensional change under high temperature and high humidity of the cellulose ester film having the repeating unit represented by the general formula (1) or (2) are obtained.

重量平均分子量が30000以下とした場合は、上記セルロースエステルとの相溶性がより向上し、高温高湿下においてのブリードアウト、さらに製膜直後でのヘイズの発生が抑制される。   When the weight average molecular weight is 30000 or less, the compatibility with the cellulose ester is further improved, and bleeding out under high temperature and high humidity and further haze generation immediately after film formation are suppressed.

本発明に係る重合体Xの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することができる。そのような分子量調節方法としては、例えば、四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。   The weight average molecular weight of the polymer X according to the present invention can be adjusted by a known molecular weight adjusting method. Examples of such a molecular weight adjusting method include a method of adding a chain transfer agent such as carbon tetrachloride, lauryl mercaptan, octyl thioglycolate, and the like.

また、重合温度は、通常、室温から130℃、好ましくは50℃から100℃で行われるが、この温度または重合反応時間を調整することで可能である。   The polymerization temperature is usually from room temperature to 130 ° C., preferably from 50 ° C. to 100 ° C., and this temperature or the polymerization reaction time can be adjusted.

なお、重量平均分子量等は、前述の方法に準じて求めることができる。   In addition, a weight average molecular weight etc. can be calculated | required according to the above-mentioned method.

重合体Yは、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーYaを重合して得られた重量平均分子量500以上3000以下の重合体である。重量平均分子量500以上であれば重合体の残存モノマーが減少し好ましい。   The polymer Y is a polymer having a weight average molecular weight of 500 or more and 3000 or less obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer Ya having no aromatic ring. A weight average molecular weight of 500 or more is preferred because the residual monomer in the polymer is reduced.

また、3000以下とすることは、リターデーション値Rt低下性能を維持するために好ましい。Yaは、好ましくは芳香環を有さないアクリルまたはメタクリルモノマーである。   Moreover, it is preferable to set it as 3000 or less in order to maintain retardation value Rt fall performance. Ya is preferably an acrylic or methacrylic monomer having no aromatic ring.

重合体Yは、下記一般式(Y)で表される。   The polymer Y is represented by the following general formula (Y).

一般式(Y)
−[Ya]k−[Yb]q−
上記一般式(Y)において、Yaは芳香環を有しないエチレン性不飽和モノマーを表し、YbはYaと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーを表す。kおよびqは、各々モル組成比を表す。ただし、k≠0、k+q=100である。
General formula (Y)
-[Ya] k- [Yb] q-
In the general formula (Y), Ya represents an ethylenically unsaturated monomer having no aromatic ring, and Yb represents an ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with Ya. k and q each represent a molar composition ratio. However, k ≠ 0 and k + q = 100.

重合体Yにおいて、さらに好ましくは下記一般式(Y−1)で表される重合体である。   The polymer Y is more preferably a polymer represented by the following general formula (Y-1).

一般式(Y−1)
−[CH−C(−R5)(−COR6)]k−[Yb]q−
上記一般式(Y−1)において、R5は、それぞれ水素原子またはメチル基を表す。R6は炭素数1〜12のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ybは、[CH−C(−R5)(−COR6)]と共重合可能なモノマー単位を表す。kおよびqは、それぞれモル組成比を表す。ただしk≠0、k+q=100である。
General formula (Y-1)
- [CH 2 -C (-R5) (- CO 2 R6)] k- [Yb] q-
In the general formula (Y-1), R5 represents a hydrogen atom or a methyl group, respectively. R6 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyl group. Yb represents a monomer unit copolymerizable with [CH 2 —C (—R 5) (— CO 2 R 6)]. k and q each represent a molar composition ratio. However, k ≠ 0 and k + q = 100.

Ybは、Yaである[CH−C(−R5)(−COR6)]と共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はない。Ybは複数であってもよい。k+q=100、qは好ましくは0〜30である。 Yb is a Ya [CH 2 -C (-R5) (- CO 2 R6)] and is not particularly limited as long as it is copolymerizable ethylenically unsaturated monomers. Yb may be plural. k + q = 100, q is preferably 0-30.

芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーを重合して得られる重合体Yを構成するエチレン性不飽和モノマーYaは、アクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたもの;不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることができる。   The ethylenically unsaturated monomer Ya constituting the polymer Y obtained by polymerizing the ethylenically unsaturated monomer having no aromatic ring is, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate ( i-, n-), butyl acrylate (n-, i-, s-, t-), pentyl acrylate (n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), acrylic Acid heptyl (n-, i-), octyl acrylate (n-, i-), nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), cyclohexyl acrylate, acrylic acid ( 2-ethylhexyl), acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3-hydroxypropiyl) ), Acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), methacrylic acid ester, the above acrylic acid ester changed to methacrylic acid ester; unsaturated acid, for example, acrylic acid, methacrylic acid And maleic anhydride, crotonic acid, itaconic acid and the like.

Ybは、Yaと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はないが、ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、桂皮酸ビニル等が好ましい。Ybは複数であってもよい。   Yb is not particularly limited as long as it is an ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with Ya. Examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl valerate, vinyl pivalate, and vinyl caproate. Vinyl caprate, vinyl laurate, vinyl myristate, vinyl palmitate, vinyl stearate, vinyl cyclohexanecarboxylate, vinyl octylate, vinyl methacrylate, vinyl crotonate, vinyl sorbate, vinyl cinnamate and the like are preferred. Yb may be plural.

重合体X、Yを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法で、かつできるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。   In order to synthesize the polymers X and Y, it is difficult to control the molecular weight in normal polymerization, and it is desirable to use a method that can make the molecular weight as uniform as possible by a method that does not increase the molecular weight too much.

かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやt−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、さらに特開2000−128911号または同2000−344823号公報にあるような一つのチオール基と2級の水酸基とを有する化合物、あるいは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることができ、いずれも好ましく用いられる。   Such polymerization methods include a method using a peroxide polymerization initiator such as cumene peroxide and t-butyl hydroperoxide, a method using a polymerization initiator in a larger amount than normal polymerization, and a mercapto compound in addition to the polymerization initiator. And a method using a chain transfer agent such as carbon tetrachloride, a method using a polymerization terminator such as benzoquinone and dinitrobenzene in addition to the polymerization initiator, and further disclosed in JP 2000-128911 or 2000-344823 Examples thereof include a method of bulk polymerization using a compound having one thiol group and a secondary hydroxyl group, or a polymerization catalyst in which the compound and an organometallic compound are used in combination, and any of them is preferably used.

特に、重合体Yは、分子中にチオール基と2級の水酸基とを有する化合物を連鎖移動剤として使用する重合方法が好ましい。この場合、重合体Yの末端には、重合触媒および連鎖移動剤に起因する水酸基、チオエーテルを有することとなる。この末端残基により、Yとセルロースエステルとの相溶性を調整することができる。   In particular, the polymer Y is preferably a polymerization method using a compound having a thiol group and a secondary hydroxyl group in the molecule as a chain transfer agent. In this case, the terminal of the polymer Y has a hydroxyl group and a thioether resulting from the polymerization catalyst and the chain transfer agent. The compatibility between Y and cellulose ester can be adjusted by this terminal residue.

重合体XおよびYの水酸基価は、30〜150[mgKOH/g]であることが好ましい。   The hydroxyl values of the polymers X and Y are preferably 30 to 150 [mgKOH / g].

なお、水酸基価の測定は、JIS K 0070(1992)に準ずる。この水酸基価は、試料1およびアセチル化させおよびき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのmg数と定義される。   The hydroxyl value is measured in accordance with JIS K 0070 (1992). This hydroxyl value is defined as the number of mg of potassium hydroxide required to neutralize acetic acid bound to the sample 1 and acetylated and bound to the hydroxyl group.

具体的には試料Xg(約1g)をフラスコに精秤し、これにアセチル化試薬(無水酢酸20mlにピリジンを加えて400mlにしたもの)20mlを正確に加える。フラスコの口に空気冷却管を装着し、95〜100℃のグリセリン浴にて加熱する。   Specifically, sample Xg (about 1 g) is precisely weighed in a flask, and 20 ml of an acetylating reagent (a solution obtained by adding pyridine to 20 ml of acetic anhydride to 400 ml) is accurately added thereto. An air cooling tube is attached to the mouth of the flask and heated in a glycerin bath at 95-100 ° C.

1時間30分後、冷却し、空気冷却管から精製水1mlを加え、無水酢酸を酢酸に分解する。   After 1 hour and 30 minutes, the mixture is cooled, 1 ml of purified water is added from an air condenser, and acetic anhydride is decomposed into acetic acid.

次に電位差滴定装置を用いて0.5mol/L水酸化カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得られた滴定曲線の変曲点を終点とする。   Next, titration is performed with a 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution using a potentiometric titrator, and the inflection point of the obtained titration curve is set as the end point.

さらに空試験として、試料を入れないで滴定し、滴定曲線の変曲点を求める。水酸基価は、次の式によって算出する。   Further, as a blank test, titration is performed without a sample, and an inflection point of the titration curve is obtained. The hydroxyl value is calculated by the following formula.

水酸基価={(B−C)×f×28.05/X}+D
式中、Bは空試験に用いた0.5mol/Lの水酸化カリウムエタノール溶液の量(ml)、Cは滴定に用いた0.5mol/Lの水酸化カリウムエタノール溶液の量(ml)、fは0.5mol/L水酸化カリウムエタノール溶液のファクター、Dは酸価、また、28.05は水酸化カリウムの1mol量56.11の1/2を表す。
Hydroxyl value = {(BC) × f × 28.05 / X} + D
In the formula, B is the amount (ml) of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used for the blank test, C is the amount (ml) of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used for titration, f is a factor of a 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution, D is an acid value, and 28.05 is 1/2 of 1 mol amount 56.11 of potassium hydroxide.

上述の重合体X、重合体Yはいずれも一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルフィルムとの相溶性に優れ、蒸発や揮発もなく生産性に優れ、偏光板用保護フィルムとしての保留性がよく、透湿度が小さく、寸法安定性に優れている。   The above-mentioned polymer X and polymer Y are both excellent in compatibility with the cellulose ester film having the repeating unit represented by the general formula (1) or (2), excellent in productivity without evaporation and volatilization, and polarized Retention property as a protective film for plates is good, moisture permeability is small, and dimensional stability is excellent.

重合体Xと重合体Yのセルロースエステルフィルム中での含有量は、下記式(i)、式(ii)を満足する範囲であることが好ましい。重合体Xの含有量をXg(質量%=(重合体Xの質量/セルロースエステルの質量)×100)、重合体Yの含有量をYg(質量%)とすると、
式(i) 5≦Xg+Yg≦35(質量%)
式(ii) 0.05≦Yg/(Xg+Yg)≦0.4
式(i)の(Xg+Yg)の好ましい範囲は、10〜35質量%である。重合体Xと重合体Yは、セルロースエステル全質量に対し、総量として5質量%以上であれば、リターデーション値Rtの調整に十分な作用をする。
The content of the polymer X and the polymer Y in the cellulose ester film is preferably in a range satisfying the following formulas (i) and (ii). When the content of the polymer X is Xg (mass% = (mass of polymer X / mass of cellulose ester) × 100) and the content of the polymer Y is Yg (mass%),
Formula (i) 5 ≦ Xg + Yg ≦ 35 (mass%)
Formula (ii) 0.05 ≦ Yg / (Xg + Yg) ≦ 0.4
A preferable range of (Xg + Yg) in the formula (i) is 10 to 35% by mass. If the polymer X and the polymer Y are 5 mass% or more as a total amount with respect to the total mass of the cellulose ester, the polymer X and the polymer Y have a sufficient effect for adjusting the retardation value Rt.

重合体Xと重合体Yは、後述する溶融を構成する素材として直接添加し混練する。   The polymer X and the polymer Y are directly added and kneaded as a material constituting the melting described later.

一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルフィルムは、フィルムに加工性を付与する可塑剤、フィルムの劣化を防止する酸化防止剤、紫外線吸収機能を付与する紫外線吸収剤、フィルムに滑り性を付与する微粒子(マット剤)、フィルムのリターデーションを調整するリターデーション調整剤等の添加剤を含有させても良い。   The cellulose ester film having the repeating unit represented by the general formula (1) or (2) is a plasticizer that imparts processability to the film, an antioxidant that prevents deterioration of the film, and an ultraviolet absorption that imparts an ultraviolet absorbing function. An additive such as an agent, fine particles (matting agent) for imparting slipperiness to the film, and a retardation adjusting agent for adjusting the retardation of the film may be contained.

<その他の添加剤>
その他の添加剤としては、可塑剤を適宜選択することが必要とされる。
<Other additives>
As other additives, it is necessary to appropriately select a plasticizer.

〈可塑剤〉
一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルフィルムは製造においては、フィルム形成材料中に少なくとも1種の可塑剤を含有することが好ましい。
<Plasticizer>
In the production of a cellulose ester film having a repeating unit represented by the general formula (1) or (2), it is preferable to contain at least one plasticizer in the film-forming material.

可塑剤は単独あるいは2種以上混合して用いることができるが、少なくとも1種は有機酸と3価以上のアルコールが縮合した構造を有する分子量350〜1500の多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。   The plasticizer can be used alone or in combination of two or more, but at least one is a polyhydric alcohol ester plasticizer having a molecular weight of 350 to 1500 having a structure in which an organic acid and a trivalent or higher alcohol are condensed. Is preferred.

使用することができるその他の可塑剤としては特に限定されないが、好ましくは、多価アルコールエステル系可塑剤、芳香族末端ポリエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤、糖エステル化合物等から選択される。   Other plasticizers that can be used are not particularly limited, but are preferably polyhydric alcohol ester plasticizers, aromatic-terminated polyester plasticizers, glycolate plasticizers, phthalate ester plasticizers, fatty acid esters. It is selected from system plasticizers, polymer plasticizers, sugar ester compounds and the like.

可塑剤の使用量は、セルロース誘導体に対して1質量%未満ではフィルムの透湿度を低減させる効果が少ないため好ましくなく、20質量%を越えると高温耐久時のフィルムの物性が劣化するため、1〜20質量%が好ましい。以下、好ましい可塑剤について述べる。   If the amount of the plasticizer used is less than 1% by mass relative to the cellulose derivative, the effect of reducing the moisture permeability of the film is small, which is not preferable. If the amount exceeds 20% by mass, the physical properties of the film at high temperature durability deteriorate. -20 mass% is preferable. Hereinafter, preferred plasticizers will be described.

(多価アルコールエステル系可塑剤)
多価アルコールエステル系可塑剤は、有機酸と多価アルコールとのエステルでありその有機酸は、下記一般式(3)で表される。
(Polyhydric ester plasticizer)
The polyhydric alcohol ester plasticizer is an ester of an organic acid and a polyhydric alcohol, and the organic acid is represented by the following general formula (3).

Figure 2010139824
Figure 2010139824

式中、R〜Rは水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していてよい。Lは連結基を表し、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表す。 In the formula, R 1 to R 5 represent a hydrogen atom or a cycloalkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, an acyl group, a carbonyloxy group, an oxycarbonyl group, or an oxycarbonyloxy group. These may be further substituted. L represents a linking group and represents a substituted or unsubstituted alkylene group, an oxygen atom, or a direct bond.

〜Rで表されるシクロアルキル基としては、炭素数3〜8のシクロアルキル基が好ましく、具体的にはシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の基である。これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい)、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい)、フェノキシ基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい)、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数2〜8のアシル基、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数2〜8の無置換のカルボニルオキシ基等が挙げられる。 The cycloalkyl group represented by R 1 to R 5, preferably a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, specifically cyclopropyl, cyclopentyl, groups such as cyclohexyl. These groups may be substituted, and preferred substituents include halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, hydroxyl group, alkyl group, alkoxy group, cycloalkoxy group, aralkyl group (this phenyl group). The group may be further substituted with an alkyl group or a halogen atom), an alkenyl group such as a vinyl group or an allyl group, or a phenyl group (this phenyl group may be further substituted with an alkyl group or a halogen atom). Phenoxy group (this phenyl group may be further substituted by an alkyl group or a halogen atom), an acyl group having 2 to 8 carbon atoms such as an acetyl group or a propionyl group, an acetyloxy group, or a propionyloxy group. And an unsubstituted carbonyloxy group having 2 to 8 carbon atoms such as a group.

〜Rで表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、γ−フェニルプロピル基等の基を表し、また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。 The aralkyl group represented by R 1 to R 5 represents a group such as a benzyl group, a phenethyl group, and a γ-phenylpropyl group, and these groups may be substituted. Preferred substituents include The group which may be substituted with the said cycloalkyl group can be mentioned similarly.

〜Rで表されるアルコキシ基としては、炭素数1〜8のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキシ、n−オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、2−エチルヘキシルオキシ、もしくはt−ブトキシ等の各アルコキシ基である。 Examples of the alkoxy group represented by R 1 to R 5 include an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, n-butoxy, n-octyloxy, isopropoxy. , Alkoxy groups such as isobutoxy, 2-ethylhexyloxy, or t-butoxy.

また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい)、アルケニル基、フェニル基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい))、アセチル基、プロピオニル基等のアシル基が、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数2〜8の無置換のアシルオキシ基、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられる。   These groups may be substituted, and preferred substituents include halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, hydroxyl group, alkoxy group, cycloalkoxy group, aralkyl group (this phenyl group). May be substituted with an alkyl group or a halogen atom), an alkenyl group, a phenyl group (this phenyl group may be further substituted with an alkyl group or a halogen atom), an aryloxy group (for example, phenoxy) An acyl group such as an acetyl group or a propionyl group, or an aryl group such as an acetyloxy group or a propionyloxy group (the phenyl group may be further substituted with an alkyl group or a halogen atom). Arylcarbonyl groups such as unsubstituted acyloxy groups and benzoyloxy groups Shi group.

〜Rで表されるシクロアルコキシ基としては、無置換のシクロアルコキシ基としては炭素数1〜8のシクロアルコキシ基が挙げられ、具体的には、シクロプロピルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ等の基が挙げられる。 Examples of the cycloalkoxy group represented by R 1 to R 5 include an unsubstituted cycloalkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, specifically cyclopropyloxy, cyclopentyloxy, cyclohexyloxy. And the like.

また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置できとしては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。   In addition, these groups may be substituted, and preferable examples thereof include the same groups that may be substituted with the cycloalkyl group.

〜Rで表されるアリールオキシ基としては、フェノキシ基が挙げられるが、このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等前記シクロアルキル基に置換してもよい基として挙げられた置換基で置換されていてもよい。 Examples of the aryloxy group represented by R 1 to R 5 include a phenoxy group, and the phenyl group includes a substituent that may be substituted with the cycloalkyl group such as an alkyl group or a halogen atom. May be substituted.

〜Rで表されるアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。 Examples of the aralkyloxy group represented by R 1 to R 5 include a benzyloxy group and a phenethyloxy group, and these substituents may be further substituted. Preferred substituents include the above cycloalkyl The group which may be substituted with a group can be mentioned similarly.

〜Rで表されるアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数2〜8の無置換のアシル基が挙げられ(アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。)、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。 Examples of the acyl group represented by R 1 to R 5 include an unsubstituted acyl group having 2 to 8 carbon atoms such as an acetyl group and a propionyl group (the hydrocarbon group of the acyl group includes alkyl, alkenyl, alkynyl). These substituents may be further substituted, and preferred substituents include the same groups that may be substituted with the cycloalkyl group.

〜Rで表されるカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数2〜8の無置換のアシルオキシ基(アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。)、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられるが、これらの基はさらに前記シクロアルキル基に置換してもよい基と同様の基により置換されていてもよい。 As the carbonyloxy group represented by R 1 to R 5 , an unsubstituted acyloxy group having 2 to 8 carbon atoms such as acetyloxy group and propionyloxy group (the hydrocarbon group of the acyl group is alkyl, alkenyl, alkynyl). And arylcarbonyloxy groups such as a benzoyloxy group, and these groups may be further substituted with the same groups as those which may be substituted with the cycloalkyl group.

〜Rで表されるオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、またフェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基を表す。 The oxycarbonyl group represented by R 1 to R 5 represents an alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group or a propyloxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group such as a phenoxycarbonyl group.

これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。   These substituents may be further substituted, and preferred examples of the substituent include the same groups that may be substituted with the cycloalkyl group.

〜Rで表されるオキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基等の炭素数1〜8のアルコキシカルボニルオキシ基を表し、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。 The oxycarbonyloxy group represented by R 1 to R 5 represents an alkoxycarbonyloxy group having 1 to 8 carbon atoms such as a methoxycarbonyloxy group, and these substituents may be further substituted and are preferably substituted. Examples of the group include the same groups that may be substituted on the cycloalkyl group.

〜Rのうちのいずれか同士で互いに連結し、環構造を形成していてもよい。 Any one of R 1 to R 5 may be connected to each other to form a ring structure.

また、Lで表される連結基としては、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表すが、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等の基であり、これらの基は、さらに前記のR〜Rで表される基に置換してもよい基としてあげられた基で置換されていてもよい。 The linking group represented by L represents a substituted or unsubstituted alkylene group, an oxygen atom, or a direct bond, and the alkylene group is a group such as a methylene group, an ethylene group, or a propylene group. These groups may be further substituted with the groups mentioned as groups that may be substituted with the groups represented by R 1 to R 5 .

なかでも、Lで表される連結基として特に好ましいのは直接結合であり芳香族カルボン酸である。   Among these, a direct bond and an aromatic carboxylic acid are particularly preferable as the linking group represented by L.

また、可塑剤となるエステル化合物を構成する、前記一般式(3)で表される有機酸としては、少なくともRまたはRに前記アルコキシ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニルオキシ基を有するものが好ましい。また複数の置換基を有する化合物も好ましい。 Further, the organic acid represented by the general formula (3) constituting the ester compound serving as a plasticizer includes at least R 1 or R 2 having the alkoxy group, acyl group, oxycarbonyl group, carbonyloxy group, oxy Those having a carbonyloxy group are preferred. A compound having a plurality of substituents is also preferred.

なお3価以上のアルコールの水酸基を置換する有機酸は単一種であっても複数種であってもよい。   In addition, the organic acid which substitutes the hydroxyl group of trihydric or more alcohol may be single type, or may be multiple types.

前記一般式(3)で表される有機酸と反応して多価アルコールエステル化合物を形成する3価以上のアルコール化合物としては、好ましくは3〜20価の脂肪族多価アルコールであり、3価以上のアルコールは下記一般式(4)で表されるものが好ましい。   The trihydric or higher alcohol compound that reacts with the organic acid represented by the general formula (3) to form a polyhydric alcohol ester compound is preferably a 3-20 valent aliphatic polyhydric alcohol. As for the above alcohol, what is represented by following General formula (4) is preferable.

一般式(4) R′−(OH)m
式中、R′はm価の有機基、mは3以上の正の整数、OH基はアルコール性水酸基を表す。特に好ましいのは、mとしては3または4の多価アルコールである。
Formula (4) R '-(OH) m
In the formula, R ′ represents an m-valent organic group, m represents a positive integer of 3 or more, and the OH group represents an alcoholic hydroxyl group. Particularly preferred is a polyhydric alcohol having 3 or 4 as m.

好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Examples of preferred polyhydric alcohols include, but are not limited to, the following.

アドニトール、アラビトール、1,2,4−ブタントリオール、1,2,3−ヘキサントリオール、1,2,6−ヘキサントリオール、グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ガラクチトール、イノシトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。   Adonitol, arabitol, 1,2,4-butanetriol, 1,2,3-hexanetriol, 1,2,6-hexanetriol, glycerin, diglycerin, erythritol, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, ga Examples include lactitol, inositol, mannitol, 3-methylpentane-1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and xylitol.

特に、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが好ましい。   In particular, glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, and pentaerythritol are preferable.

一般式(3)で表される有機酸と一般式(4)で表される3価以上の多価アルコールのエステルは、公知の方法により合成できる。実施例に代表的合成例を示したが、前記一般式(3)で表される有機酸と、一般式(4)で表される多価アルコールを例えば、酸の存在下縮合させエステル化する方法、また、有機酸をあらかじめ酸クロライドあるいは酸無水物としておき、多価アルコールと反応させる方法、有機酸のフェニルエステルと多価アルコールを反応させる方法等があり、目的とするエステル化合物により、適宜、収率のよい方法を選択することが好ましい。   The ester of the organic acid represented by the general formula (3) and the trihydric or higher polyhydric alcohol represented by the general formula (4) can be synthesized by a known method. In the examples, typical synthesis examples are shown. For example, the organic acid represented by the general formula (3) and the polyhydric alcohol represented by the general formula (4) are condensed and esterified in the presence of an acid, for example. There are a method, a method in which an organic acid is preliminarily converted into an acid chloride or an acid anhydride and a reaction with a polyhydric alcohol, a method in which a phenyl ester of an organic acid is reacted with a polyhydric alcohol, and the like. It is preferable to select a method with good yield.

一般式(3)で表される有機酸と一般式(4)で表される3価以上の多価アルコールのエステルからなる可塑剤としては、下記一般式(5)で表される化合物が好ましい。   As a plasticizer comprising an organic acid represented by the general formula (3) and an ester of a trihydric or higher polyhydric alcohol represented by the general formula (4), a compound represented by the following general formula (5) is preferable. .

Figure 2010139824
Figure 2010139824

式中、R〜R20は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していてよい。R21は水素原子またはアルキル基を表す。 In the formula, R 6 to R 20 represent a hydrogen atom or a cycloalkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, an acyl group, a carbonyloxy group, an oxycarbonyl group, or an oxycarbonyloxy group. These may be further substituted. R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group.

〜R20のシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基については、前記一般式(3)のR〜Rと同様の基が挙げられる。 Cycloalkyl groups R 6 to R 20, aralkyl group, alkoxy group, cycloalkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, acyl group, carbonyloxy group, an oxycarbonyl group, for oxy carbonyloxy group, the general formula ( The same group as R < 1 > -R < 5 > of 3) is mentioned.

以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。   Below, the specific compound of a polyhydric alcohol ester is illustrated.

Figure 2010139824
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〈芳香族末端ポリエステル系可塑剤〉
下記一般式(6)で表せる芳香族末端ポリエステル系可塑剤を使用することができる。
<Aromatic terminal polyester plasticizer>
An aromatic terminal polyester plasticizer represented by the following general formula (6) can be used.

一般式(6) B−(G−A)n−G−B
(式中、Bはアリールカルボン酸残基、Gは炭素数2〜12のアルキレングリコール残基または炭素数6〜12のアリールグリコール残基または炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基、Aは炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数6〜12のアリールジカルボン酸残基を表し、またnは1以上の整数を表す。)
一般式(6)中、Bで示されるアリールカルボン酸残基とGで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Aで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系化合物と同様の反応により得られる。
General formula (6) B- (GA) n-GB
(In the formula, B is an arylcarboxylic acid residue, G is an alkylene glycol residue having 2 to 12 carbon atoms, an aryl glycol residue having 6 to 12 carbon atoms, or an oxyalkylene glycol residue having 4 to 12 carbon atoms, A Represents an alkylene dicarboxylic acid residue having 4 to 12 carbon atoms or an aryl dicarboxylic acid residue having 6 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)
In general formula (6), an arylcarboxylic acid residue represented by B and an alkylene glycol residue or oxyalkylene glycol residue or arylglycol residue represented by G, an alkylenedicarboxylic acid residue or aryldicarboxylic acid represented by A And is obtained by the same reaction as a normal polyester compound.

芳香族末端ポリエステル系可塑剤のアリールカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ1種または2種以上の混合物として使用することができる。   Examples of the arylcarboxylic acid component of the aromatic-terminated polyester plasticizer include benzoic acid, para-tert-butylbenzoic acid, orthotoluic acid, metatoluic acid, p-toluic acid, dimethylbenzoic acid, ethylbenzoic acid, normal propylbenzoic acid, amino There exist benzoic acid, acetoxybenzoic acid, etc., These can be used as a 1 type, or 2 or more types of mixture, respectively.

芳香族末端ポリエステル系可塑剤の炭素数2〜12のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,2−プロパンジオール、2−メチル1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロールペンタン)、2−n−ブチル−2−エチル−1,3プロパンジオール(3,3−ジメチロールヘプタン)、3−メチル−1,5−ペンタンジオール1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル1,3−ペンタンジオール、2−エチル1,3−ヘキサンジオール、2−メチル1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、1種または2種以上の混合物として使用される。   Examples of the alkylene glycol component having 2 to 12 carbon atoms of the aromatic terminal polyester plasticizer include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, and 1,3-butanediol. 1,2-propanediol, 2-methyl 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 2,2-diethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolpentane), 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolheptane), 3-methyl -1,5-pentanediol 1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl 1,3-pentanediol, 2- There are til 1,3-hexanediol, 2-methyl 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,12-octadecanediol, and the like. Used as a mixture of two or more.

特に炭素数2〜12のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。   In particular, an alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms is particularly preferable because of excellent compatibility with a cellulose ester.

また、上記芳香族末端ポリエステル系可塑剤の炭素数4〜12のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、1種または2種以上の混合物として使用できる。   Examples of the oxyalkylene glycol component having 4 to 12 carbon atoms of the aromatic terminal polyester plasticizer include diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, and tripropylene glycol. Can be used as one or a mixture of two or more.

芳香族末端ポリエステル系可塑剤の炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ1種または2種以上の混合物として使用される。   Examples of the alkylene dicarboxylic acid component having 4 to 12 carbon atoms of the aromatic terminal polyester plasticizer include succinic acid, maleic acid, fumaric acid, glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, and dodecanedicarboxylic acid. These are each used as one or a mixture of two or more.

炭素数6〜12のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、1,5ナフタレンジカルボン酸、1,4ナフタレンジカルボン酸等がある。   Examples of the arylene dicarboxylic acid component having 6 to 12 carbon atoms include phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 1,5 naphthalene dicarboxylic acid, and 1,4 naphthalene dicarboxylic acid.

芳香族末端ポリエステル系可塑剤は、nが1以上100以下であることが好ましく、数平均分子量が、好ましくは300〜1500、より好ましくは400〜1000の範囲が好適である。   In the aromatic terminal polyester plasticizer, n is preferably 1 or more and 100 or less, and the number average molecular weight is preferably 300 to 1500, more preferably 400 to 1000.

また、その酸価は、0.5mgKOH/g以下、水酸基価は25mgKOH/g以下、より好ましくは酸価0.3mgKOH/g以下、水酸基価は15mgKOH/g以下のものである。   The acid value is 0.5 mgKOH / g or less, the hydroxyl value is 25 mgKOH / g or less, more preferably the acid value is 0.3 mgKOH / g or less, and the hydroxyl value is 15 mgKOH / g or less.

一般式(6)に示す芳香族末端ポリエステル系可塑剤は、セルロースエステルに対して、0.5〜30質量%含有させることが好ましい。   The aromatic terminal polyester plasticizer represented by the general formula (6) is preferably contained in an amount of 0.5 to 30% by mass with respect to the cellulose ester.

芳香族末端ポリエステル系可塑剤の具体的化合物を示すが、これに限定されない。   Although the specific compound of an aromatic terminal polyester plasticizer is shown, it is not limited to this.

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(ポリマー可塑剤)
前述のセルロースエステルフィルムは前記のアクリル系重合体以外のポリマー可塑剤を使用することも好ましい。
(Polymer plasticizer)
The cellulose ester film preferably uses a polymer plasticizer other than the acrylic polymer.

具体的には、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリN−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、メタクリル酸メチルとN−ビニルピロリドンの共重合体(例えば、共重合比1:99〜99:1の間の任意の比率)、ポリスチレン、ポリ4−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。   Specifically, aliphatic hydrocarbon polymers, alicyclic hydrocarbon polymers, polyvinyl isobutyl ether, vinyl polymers such as poly N-vinyl pyrrolidone, copolymers of methyl methacrylate and N-vinyl pyrrolidone (for example, Copolymerization ratio (any ratio between 1:99 and 99: 1), polystyrene, styrene-based polymers such as poly-4-hydroxystyrene, polybutylene succinate, polyesters such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene oxide, polypropylene Examples include polyethers such as oxides, polyamides, polyurethanes, and polyureas.

数平均分子量は1,000〜500,000程度が好ましく、特に好ましくは、5000〜200000である。1,000以下では揮発性が大きくなり、500,000を超えると可塑化能力が低下する傾向があり、セルロースエステル位相差フィルムの機械的性質に悪影響を及ぼす可能性がある。   The number average molecular weight is preferably about 1,000 to 500,000, particularly preferably 5,000 to 200,000. If it is 1,000 or less, the volatility becomes large, and if it exceeds 500,000, the plasticizing ability tends to decrease, which may adversely affect the mechanical properties of the cellulose ester retardation film.

これらポリマー可塑剤は1種のモノマーの繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数のモノマーの繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを2種以上併用して用いてもよい。   These polymer plasticizers may be a homopolymer composed of one monomer repeating unit or a copolymer having a repeating structure of a plurality of monomers. Two or more of the above polymers may be used in combination.

また表面の可塑剤量の測定法は特に限定されないが、例えば、ナイフなどを用いて、フィルムの表面から20nmほど削って定量分析する方法やフィルムの厚さ方向の可塑剤量をIRや原子吸光などでスキャンする方法などを用いて定量したものである。   Further, the method for measuring the amount of plasticizer on the surface is not particularly limited. For example, a knife or the like is used to quantitatively analyze the surface of the film by cutting it about 20 nm or the amount of plasticizer in the thickness direction of the film is measured by IR or atomic absorption It is quantified using a method such as scanning with the above.

アクリル系重合体としては、デルペット60N、80N(旭化成ケミカルズ(株)製)、ダイヤナールBR52、BR80、BR83、BR85、BR88(三菱レイヨン(株)製)、KT75(電気化学工業(株)製)等が挙げられる。   As acrylic polymers, Delpet 60N, 80N (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.), Dianal BR52, BR80, BR83, BR85, BR88 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), KT75 (Electrochemical Industry Co., Ltd.) ) And the like.

〈酸化防止剤〉
酸化防止剤としては、通常知られているものを使用することができる。特に、ラクトン系、イオウ系、フェノール系、二重結合系、ヒンダードアミン系、リン系化合物のものを好ましく用いることができる。
<Antioxidant>
As the antioxidant, those which are generally known can be used. In particular, lactone, sulfur, phenol, double bond, hindered amine, and phosphorus compounds can be preferably used.

例えば、チバ・ジャパン株式会社から、“IrgafosXP40”、“IrgafosXP60”という商品名で市販されているものを含むものが好ましい。   For example, the thing containing what is marketed by the brand name "IrgafosXP40" and "IrgafosXP60" from Ciba Japan KK is preferable.

上記フェノール系化合物としては、2,6−ジアルキルフェノールの構造を有するものが好ましく、例えば、チバ・ジャパン株式会社、“Irganox1076”、“Irganox1010”、(株)ADEKA”アデカスタブAO−50”という商品名で市販されているものが好ましい。   The phenolic compound preferably has a 2,6-dialkylphenol structure. For example, Ciba Japan Co., Ltd., “Irganox 1076”, “Irganox 1010”, ADEKA “ADEKA STAB AO-50” And those commercially available.

上記リン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“SumilizerGP”(、株式会社ADEKAから“ADK STAB PEP−24G”、“ADK STAB PEP−36”、および“ADK STAB 3010”、チバ・ジャパン株式会社から“IRGAFOS P−EPQ”、堺化学工業株式会社から“GSY−P101”という商品名および市販されているものが好ましい。   The phosphorous compounds are, for example, from Sumitomo Chemical Co., Ltd., “Sumilizer GP” (from ADEKA, Inc., “ADK STAB PEP-24G”, “ADK STAB PEP-36”, “ADK STAB 3010”, Ciba Japan Co., Ltd. The product name “GGA-P101” from the company “IRGAFOS P-EPQ” and “GSY-P101” from Sakai Chemical Industry Co., Ltd. and those commercially available are preferred.

上記ヒンダードアミン系化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、“Tinuvin144(AO2)”および“Tinuvin770”、株式会社ADEKAから“ADK STAB LA−52”というおよび名で市販されているものが好ましい。   The hindered amine compound is preferably commercially available from Ciba Japan Co., Ltd. as “Tinuvin 144 (AO2)” and “Tinvin 770”, and from ADEKA Co., Ltd. as “ADK STAB LA-52”.

上記イオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“Sumilizer TPL−R“および“Sumilizer TP−D”という商品名で市販されているものが好ましい。   As the sulfur compound, for example, those commercially available from Sumitomo Chemical Co., Ltd. under the trade names of “Sumilizer TPL-R” and “Sumilizer TP-D” are preferable.

上記二重結合系化合物は、住友化学株式会社から、“Sumilizer GM”、および“Sumilizer GS”という商品名で市販されているものが好ましい。   The above-mentioned double bond type compounds are preferably those commercially available from Sumitomo Chemical Co., Ltd. under the trade names “Sumilizer GM” and “Sumilizer GS”.

さらに、酸および剤として米国特許第4,137,201号明細書に記載されているような、エポキシ基を有する化合物を含有させることも可能である。   Furthermore, it is possible to include a compound having an epoxy group as described in US Pat. No. 4,137,201 as an acid and an agent.

これらの酸化防止剤等は、再生使用される際の工程に合わせて適宜添加する量が決められるが、一般には、フィルムの主原料である樹脂に対して、0.05〜20質量%、好ましくは0.1〜1質量%の範囲で添加される。   The amount of these antioxidants and the like to be appropriately added is determined in accordance with the process at the time of recycling, but generally 0.05 to 20% by mass, preferably with respect to the resin as the main raw material of the film Is added in the range of 0.1 to 1% by mass.

これらの酸化防止剤は、一種のみを用いるよりも数種の異なった系の化合物を併用することで相乗効果を得ることができる。例えば、ラクトン系、リン系、フェノール系および二重結合系化合物の併用は好ましい。   These antioxidants can obtain a synergistic effect by using several different types of compounds in combination rather than using only one kind. For example, the combined use of lactone, phosphorus, phenol and double bond compounds is preferred.

〈リターデーション調整剤〉
一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルフィルムにおいてリターデーションを調整するための化合物を含有させてもよい。
<Retardation adjuster>
You may contain the compound for adjusting retardation in the cellulose-ester film which has a repeating unit represented by General formula (1) or (2).

リターデーションを調整するために添加する化合物は、欧州特許第911,656A2号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物を使用することもできる。   As the compound to be added for adjusting the retardation, an aromatic compound having two or more aromatic rings as described in EP 911,656A2 can also be used.

また2種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に不飽和ヘテロ環である。なかでも1,3,5−トリアジン環を有する化合物が特に好ましい。   Two or more aromatic compounds may be used in combination. The aromatic ring of the aromatic compound includes an aromatic heterocyclic ring in addition to the aromatic hydrocarbon ring. An aromatic heterocyclic ring is particularly preferred, and the aromatic heterocyclic ring is generally an unsaturated heterocyclic ring. Of these, compounds having a 1,3,5-triazine ring are particularly preferred.

〈着色剤〉
着色剤を使用することが好ましい。着色剤と言うのは染料や顔料を意味するが、液晶画面の色調を青色調にする効果またはイエローインデックスの調整、ヘイズの低減を有するものを指す。着色剤としては各種の染料、顔料が使用可能だが、アントラキノン染料、アゾ染料、フタロシアニン顔料などが有効である。
<Colorant>
It is preferred to use a colorant. The colorant means a dye or a pigment, and refers to a colorant having an effect of making the color tone of a liquid crystal screen blue or adjusting a yellow index and reducing haze. Various dyes and pigments can be used as the colorant, but anthraquinone dyes, azo dyes, phthalocyanine pigments and the like are effective.

〈紫外線吸収剤〉
紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。高分子型の紫外線吸収剤としてもよい。
<Ultraviolet absorber>
The ultraviolet absorber is not particularly limited, and examples thereof include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, inorganic powders, and the like. . It is good also as a polymer type ultraviolet absorber.

〈マット剤〉
フィルムの滑り性を付与するためにマット剤を添加することが好ましい。マット剤としては、得られるフィルムの透明性を損なうことがなく、溶融時の耐熱性があれば無機化合物または有機化合物どちらでもよく、例えば、タルク、マイカ、ゼオライト、ケイソウ土、焼成珪成土、カオリン、セリサイト、ベントナイト、スメクタイト、クレー、シリカ、石英粉末、ガラスビーズ、ガラス粉、ガラスフレーク、ミルドファイバー、ワラストナイト、窒化ホウ素、炭化ホウ素、ホウ化チタン、炭酸マグネシウム、重質炭酸カルシウム、軽質炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、アルミノ珪酸マグネシウム、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、二酸化チタン、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、炭化ケイ素、炭化アルミニウム、炭化チタン、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化チタン、ホワイトカーボンなどが挙げられる。これらのマット剤は、単独でも二種以上併用しても使用できる。粒径や形状(例えば針状と球状など)の異なる粒子を併用することで高度に透明性と滑り性を両立させることもできる。
<Matting agent>
It is preferable to add a matting agent in order to impart the slipperiness of the film. As the matting agent, any inorganic compound or organic compound may be used as long as it has heat resistance at the time of melting without impairing the transparency of the resulting film. For example, talc, mica, zeolite, diatomaceous earth, calcined siliceous earth, Kaolin, sericite, bentonite, smectite, clay, silica, quartz powder, glass beads, glass powder, glass flake, milled fiber, wollastonite, boron nitride, boron carbide, titanium boride, magnesium carbonate, heavy calcium carbonate, Light calcium carbonate, calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, magnesium aluminosilicate, alumina, silica, zinc oxide, titanium dioxide, iron oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, aluminum hydroxide, calcium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium sulfate , Barium sulphate, silicon carbide, aluminum carbide, titanium carbide, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, and white carbon. These matting agents can be used alone or in combination of two or more. By using particles having different particle sizes and shapes (for example, acicular and spherical), both transparency and slipperiness can be made highly compatible.

これらの中でも、セルロースエステルと屈折率が近いので透明性(ヘイズ)に優れる二酸化珪素が特に好ましく用いられる。二酸化珪素の具体例としては、アエロジル200V、アエロジルR972V、アエロジルR972、R974、R812、200、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)、シーホスターKEP−10、シーホスターKEP−30、シーホスターKEP−50(以上、株式会社日本触媒製)、サイロホービック100(富士シリシア製)、ニップシールE220A(日本シリカ工業製)、アドマファインSO(アドマテックス製)等の商品名を有する市販品などが好ましく使用できる。   Among these, silicon dioxide is particularly preferably used since it has a refractive index close to that of cellulose ester and is excellent in transparency (haze). Specific examples of silicon dioxide include Aerosil 200V, Aerosil R972V, Aerosil R972, R974, R812, 200, 300, R202, OX50, TT600 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.), Sea Hoster KEP-10, Sea Hoster KEP-30, Commercial products having trade names such as Seahoster KEP-50 (above, made by Nippon Shokubai Co., Ltd.), Silo Hovic 100 (made by Fuji Silysia), Nip Seal E220A (made by Nippon Silica Kogyo), Admafine SO (made by Admatechs), etc. Can be preferably used.

粒子の形状としては、不定形、針状、扁平、球状等特に制限なく使用できるが、特に球状の粒子を用いると得られるフィルムの透明性が良好にできるので好ましい。粒子の大きさは、可視光の波長に近いと光が散乱し、透明性が悪くなるので、可視光の波長より小さいことが好ましく、さらに可視光の波長の1/2以下であることが好ましい。   The shape of the particles can be used without particular limitation, such as indefinite shape, needle shape, flat shape, spherical shape, etc. However, the use of spherical particles is particularly preferable because the transparency of the resulting film can be improved. When the particle size is close to the wavelength of visible light, light is scattered and the transparency is deteriorated. Therefore, the particle size is preferably smaller than the wavelength of visible light, and more preferably ½ or less of the wavelength of visible light. .

粒子の大きさが小さすぎると滑り性が改善されない場合があるので、80nmから180nmの範囲であることが特に好ましい。   If the size of the particles is too small, the slipperiness may not be improved, so the range of 80 nm to 180 nm is particularly preferable.

なお、粒子の大きさとは、粒子が1次粒子の凝集体の場合は凝集体の大きさを意味する。また、粒子が球状でない場合は、その投影面積に相当する円の直径を意味する。   The particle size means the size of the aggregate when the particle is an aggregate of primary particles. Moreover, when a particle is not spherical, it means the diameter of a circle corresponding to the projected area.

〈粘度低下剤〉
溶融粘度を低減する目的として、水素結合性溶媒を添加することができる。水素結合性溶媒とは、J.N.イスラエルアチビリ著、「分子間力と表面力」(近藤保、大島広行訳、マグロウヒル出版、1991年)に記載されるように、電気的に陰性な原子(酸素、窒素、フッ素、塩素)と電気的に陰性な原子と共有結合した水素原子間に生ずる、水素原子媒介「結合」を生ずることができるような有機溶媒、すなわち、結合モーメントが大きく、かつ水素を含む結合、例えば、O−H(酸素水素結合)、N−H(窒素水素結合)、F−H(フッ素水素結合)を含むことで近接した分子同士が配列できるような有機溶媒をいう。
<Viscosity reducing agent>
For the purpose of reducing the melt viscosity, a hydrogen bonding solvent can be added. The hydrogen bonding solvent is J.I. N. As described in Israel Ativili, “Intermolecular Forces and Surface Forces” (Takeshi Kondo, Hiroyuki Oshima, Maglow Hill Publishing, 1991) and electrically negative atoms (oxygen, nitrogen, fluorine, chlorine) An organic solvent capable of producing a hydrogen atom-mediated “bond” between a hydrogen atom covalently bonded to an electronegative atom, ie, a bond having a large bond moment and containing hydrogen, such as O—H (Oxygen hydrogen bond), N—H (nitrogen hydrogen bond), and organic solvent that can arrange adjacent molecules by including F—H (fluorine hydrogen bond).

これらは、セルロース樹脂の分子間水素結合よりもセルロースとの間で強い水素結合を形成する能力を有するもので、本発明で行う溶融流延法においては、用いるセルロース樹脂単独のガラス転移温度よりも、水素結合性溶媒の添加によりセルロース樹脂組成物の溶融温度を低下することができる。   These have the ability to form stronger hydrogen bonds with cellulose than intermolecular hydrogen bonds of cellulose resin. In the melt casting method performed in the present invention, the glass transition temperature of the cellulose resin used alone is higher than that. The melting temperature of the cellulose resin composition can be lowered by adding a hydrogen bonding solvent.

または同じ溶融温度においてセルロース樹脂よりも水素結合性溶媒を含むセルロース樹脂組成物の溶融粘度を低下することができる。   Alternatively, the melt viscosity of the cellulose resin composition containing a hydrogen bonding solvent can be lowered than that of the cellulose resin at the same melting temperature.

水素結合性溶媒としては、例えば、アルコール類:例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、2−エチルヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、ドデカノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ヘキシルセロソルブ、グリセリン等、ケトン類:アセトン、メチルエチルケトン等、カルボン酸類:例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等、エーテル類:例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等、ピロリドン類:例えば、N−メチルピロリドン等、アミン類:例えば、トリメチルアミン、ピリジン等、等を例示することができる。   Examples of the hydrogen bonding solvent include alcohols: for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol, t-butanol, 2-ethylhexanol, heptanol, octanol, nonanol, dodecanol, ethylene glycol, Propylene glycol, hexylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, hexyl cellosolve, glycerin, etc., ketones: acetone, methyl ethyl ketone, etc., carboxylic acids: eg formic acid, acetic acid, propionic acid, Butyric acid, etc., ethers: eg, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc., Pyrrolidones: eg, N-methyl Pyrrolidone, etc., amines: for example, can be exemplified trimethylamine, pyridine, etc., and the like.

これら水素結合性溶媒は、単独で、または2種以上混合して用いることができる。これらのうちでも、アルコール、ケトン、エーテル類が好ましく、特にメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、オクタノール、ドデカノール、エチレングリコール、グリセリン、アセトン、テトラヒドロフランが好ましい。さらに、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、グリセリン、アセトン、テトラヒドロフランのような水溶性溶媒が特に好ましい。ここで水溶性とは、水100gに対する溶解度が10g以上のものをいう。これらの溶媒は、溶融製膜時に揮発し、最終的には含有溶媒量として0.01質量%以下とされる。   These hydrogen bonding solvents can be used alone or in admixture of two or more. Among these, alcohol, ketone, and ether are preferable, and methanol, ethanol, propanol, isopropanol, octanol, dodecanol, ethylene glycol, glycerin, acetone, and tetrahydrofuran are particularly preferable. Furthermore, water-soluble solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, ethylene glycol, glycerin, acetone, and tetrahydrofuran are particularly preferable. Here, water-soluble means that the solubility in 100 g of water is 10 g or more. These solvents are volatilized at the time of melt film formation, and finally the content of the solvent is 0.01% by mass or less.

以下、前述したセルロースエステルフィルムの製膜方法について説明する。   Hereinafter, the film forming method of the cellulose ester film described above will be described.

<溶融流延製膜法>
溶融流延製膜とは、セルロースエステルおよび可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することを溶融製膜として定義する。加熱溶融する成形法は、さらに詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度および表面精度などに優れるセルロースエステルフィルムを得るためには、溶融押し出し法が優れている。
<Melt casting method>
Melt casting is a process in which a composition containing an additive such as a cellulose ester and a plasticizer is heated and melted to a temperature showing fluidity, and then a melt containing the flowable cellulose ester is cast. Defined as melt film formation. More specifically, the heat melting molding method can be classified into a melt extrusion molding method, a press molding method, an inflation method, an injection molding method, a blow molding method, a stretch molding method, and the like. Among these, in order to obtain a cellulose ester film excellent in mechanical strength and surface accuracy, the melt extrusion method is excellent.

以下、溶融流延製膜方法について説明する。   Hereinafter, the melt casting film forming method will be described.

(セルロースエステルと添加剤の溶融ペレット製造工程)
溶融押出に用いる複数の原材料は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出機に供給し一軸や二軸の押出機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押し出し、水冷または空冷し、カッティングすることでできる。原材料は、押出する前に乾燥しておくことが原材料の分解を防止する上で重要である。特にセルロースエステルは吸湿しやすいので、除湿熱風乾燥機や真空乾燥機で70〜140℃で3時間以上乾燥し、水分率を200ppm以下、さらに100ppm以下にしておくことが好ましい。
(Process for producing molten pellets of cellulose ester and additives)
It is preferable that a plurality of raw materials used for melt extrusion are usually kneaded and pelletized in advance. Pelletization may be performed by a known method. For example, dry cellulose ester, plasticizer, and other additives are fed to an extruder using a feeder, kneaded using a single or twin screw extruder, and extruded from a die into a strand. Can be done by water cooling or air cooling and cutting. It is important to dry the raw material before extruding to prevent decomposition of the raw material. In particular, since the cellulose ester easily absorbs moisture, it is preferable to dry it at 70 to 140 ° C. for 3 hours or more with a dehumidifying hot air dryer or a vacuum dryer to keep the moisture content at 200 ppm or less, and further 100 ppm or less.

添加剤は、押出機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。酸化防止剤等少量の添加剤さらに均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。   The additives may be mixed before being supplied to the extruder, or may be supplied by individual feeders. A small amount of additives such as antioxidants are preferably mixed in advance in order to mix more uniformly.

酸化防止剤の混合は、固体同士で混合してもよいし、必要により、酸化防止剤を溶剤に溶解しておき、セルロースエステルに含浸させて混合してもよく、あるいは噴霧して混合してもよい。   Mixing of the antioxidants may be performed by mixing solids, and if necessary, the antioxidant may be dissolved in a solvent, impregnated with cellulose ester and mixed, or sprayed and mixed. Also good.

真空ナウターミキサーなどが乾燥と混合を同時にできるので好ましい。また、フィーダー部やダイからの出口など空気と触れる場合は、除湿空気や除湿したN2ガスなどの雰囲気下にすることが好ましい。   A vacuum nauter mixer or the like is preferable because drying and mixing can be performed simultaneously. Moreover, when touching with air, such as an exit from a feeder part or die | dye, it is preferable to set it as atmosphere, such as dehumidified air and dehumidified N2 gas.

また、押出機への供給ホッパー等は保温しておくことが吸湿防止できるので好ましい。   In addition, it is preferable to keep the supply hopper and the like to the extruder warm because moisture absorption can be prevented.

マット剤やUV吸収剤などは、得られたペレットにまぶしたり、フィルム製膜時に押出機中で添加したりしてもよい。   Matting agents, UV absorbers, and the like may be applied to the obtained pellets or added in an extruder during film formation.

押出機は、せん断力を抑え、樹脂が劣化(分子量低下、着色、ゲル生成等)しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、二軸押出機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。   The extruder is preferably processed at as low a temperature as possible so as to be able to be pelletized so that the shearing force is suppressed and the resin does not deteriorate (decrease in molecular weight, coloring, gel formation, etc.). For example, in the case of a twin screw extruder, it is preferable to rotate in the same direction using a deep groove type screw. From the uniformity of kneading, the meshing type is preferable.

ニーダーディスクは、混錬性を向上できるが、せん断発熱に注意が必要である。ニーダーディスクを用いなくても混合性は十分である。ベント孔からの吸引は必要に応じて行えばよい。低温であれば揮発成分はほとんど発生しないのでベント孔なしでもよい。   Kneader discs can improve kneadability, but care must be taken against shearing heat generation. Mixability is sufficient without using a kneader disk. The suction from the vent hole may be performed as necessary. Since there is almost no volatile component at low temperatures, there may be no vent hole.

(セルロースエステルと添加剤の溶融物をダイから押し出す工程)
除湿熱風や真空または減圧下で乾燥したポリマーを一軸や二軸タイプの押出し機を用いて、押し出す際の溶融温度を200〜300℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去したあと、Tダイからフィルム状に流延し、冷却ロール上で固化させる。
(Process of extruding a melt of cellulose ester and additive from the die)
The polymer dried after dehumidifying hot air, vacuum or reduced pressure was removed using a uniaxial or biaxial extruder, the melting temperature during extrusion was about 200 to 300 ° C, and filtered through a leaf disk type filter to remove foreign matter. Then, it is cast into a film from a T die and solidified on a cooling roll.

供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。   When introducing from the supply hopper to the extruder, it is preferable to prevent oxidative decomposition or the like under vacuum, reduced pressure, or inert gas atmosphere.

押し出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。   The extrusion flow rate is preferably performed stably by introducing a gear pump or the like. Further, a stainless fiber sintered filter is preferably used as a filter used for removing foreign substances.

ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。   The stainless steel fiber sintered filter is a united stainless steel fiber body that is intricately intertwined and compressed, and the contact points are sintered and integrated. The density of the fiber is changed depending on the thickness of the fiber and the amount of compression, and the filtration accuracy is improved. Can be adjusted.

濾過精度を粗、密と連続的に複数回繰り返した多層体としたものが好ましい。また、濾過精度を順次上げていく構成としたり、濾過精度の粗、密を繰り返す方法をとることで、フィルターの濾過寿命が延び、異物やゲルなどの補足精度も向上できるので好ましい。   It is preferable to use a multilayer body in which the filtration accuracy is repeated coarsely and densely multiple times. Further, it is preferable to adopt a configuration in which the filtration accuracy is sequentially increased or a method in which coarse and dense filtration accuracy is repeated, so that the filtration life of the filter can be extended and the accuracy of capturing foreign matters and gels can be improved.

ダイに傷や異物が付着するとスジ状の欠陥が発生する場合がある。このような欠陥をダイラインとも呼ぶが、ダイライン等の表面の欠陥を小さくするためには、押出機からダイまでの配管には樹脂の滞留部が極力少なくなるような構造にすることが好ましい。ダイの内部やリップにキズ等が極力ないものを用いることが好ましい。   If flaws or foreign matter adhere to the die, streaky defects may occur. Such defects are also referred to as die lines, but in order to reduce surface defects such as die lines, it is preferable that the piping from the extruder to the die has a structure in which the resin retention portion is minimized. It is preferable to use a die that has as few scratches as possible inside the lip.

押出し機やダイなどの溶融樹脂と接触する内面は、表面粗さを小さくしたり、表面エネルギーの低い材質を用いるなどして、溶融樹脂が付着し難い表面加工が施されていることが好ましい。具体的には、ハードクロムメッキやセラミック溶射したものを表面粗さ0.2S以下となるように研磨したものが挙げられる。   The inner surface that is in contact with the molten resin, such as an extruder or a die, is preferably subjected to a surface treatment that makes it difficult for the molten resin to adhere, such as by reducing the surface roughness or using a material with low surface energy. Specifically, a hard chrome plated or ceramic sprayed material is polished so that the surface roughness is 0.2 S or less.

可塑剤などの添加剤は、あらかじめ樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。   Additives such as plasticizers may be mixed with the resin in advance, or may be kneaded in the middle of the extruder. In order to add uniformly, it is preferable to use a mixing apparatus such as a static mixer.

(ダイから押し出された溶融物を冷却ロールと弾性タッチロールとの間に押圧しながら流延する工程)
冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度はフィルムのTg以上Tg+110℃以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
(Process of casting while pressing the melt extruded from the die between the cooling roll and the elastic touch roll)
The film temperature on the touch roll side when the film is nipped between the cooling roll and the elastic touch roll is preferably Tg or more and Tg + 110 ° C. or less of the film. A well-known roll can be used for the roll which has the elastic body surface used for such a purpose. When peeling the film from the cooling roll, it is preferable to control the tension to prevent deformation of the film.

(延伸工程)
上記のようにして得られたフィルムは冷却ロールに接する工程を通過後、MDさらに、TDに延伸速度が400%/min〜1500%/minで延伸すること、前記フィルムを少なくとも製膜方向か幅手方向のどちらか一方に50%〜200%延伸することが好ましい。この延伸工程により、本発明のMD、TDの弾性率が決定付けられる。延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のTg〜Tg+60℃の温度範囲で行われることが好ましい。
(Stretching process)
The film obtained as described above passes through the step of contacting the cooling roll, and then is further stretched in MD and TD at a stretching speed of 400% / min to 1500% / min, and the film is at least in the film forming direction or width. It is preferable to stretch 50% to 200% in either of the hand directions. This stretching step determines the elastic modulus of MD and TD of the present invention. As a method of stretching, a known roll stretching machine or tenter can be preferably used. The stretching temperature is usually preferably performed in the temperature range of Tg to Tg + 60 ° C. of the resin constituting the film.

フィルム構成材料のガラス転移温度Tgはフィルムを構成する材料種および構成する材料の比率を異ならしめることにより制御できる。位相差フィルムを作製する場合、Tgは110℃以上、好ましくは125℃以上とすることが好ましい。フィルムのTgが高過ぎると、フィルム構成材料をフィルム化するとき温度が高くなるために加熱するエネルギー消費が高くなり、またフィルム化するときの材料自身の分解、それによる着色が生じることがあり、従って、Tgは250℃以下が好ましい。   The glass transition temperature Tg of the film constituting material can be controlled by varying the material type constituting the film and the ratio of the constituting material. When producing a retardation film, Tg is 110 ° C. or higher, preferably 125 ° C. or higher. If the Tg of the film is too high, the temperature is increased when the film constituent material is made into a film, so that the energy consumption for heating is increased, and the material itself may be decomposed when it is made into a film, resulting in coloring. Therefore, Tg is preferably 250 ° C. or lower.

また延伸工程には公知の熱固定条件、冷却、緩和処理を行ってもよく、目的とする位相差フィルムに要求される特性を有するように適宜調整すればよい。   The stretching step may be carried out by known heat setting conditions, cooling, and relaxation treatment, and may be appropriately adjusted so as to have the characteristics required for the target retardation film.

延伸は、幅手方向で制御された均一な温度分布下で行うことが好ましい。好ましくは±2℃以内、さらに好ましくは±1℃以内、特に好ましくは±0.5℃以内である。   The stretching is preferably performed under a uniform temperature distribution controlled in the width direction. The temperature is preferably within ± 2 ° C, more preferably within ± 1 ° C, and particularly preferably within ± 0.5 ° C.

巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工(エンボッシング加工)を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。   Prior to winding, the ends may be slit and cut to the width of the product, and knurling (embossing) may be applied to both ends to prevent sticking or scratching during winding. The knurling method can process a metal ring having an uneven pattern on its side surface by heating or pressing.

なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。   In addition, since the film has deform | transformed and cannot use as a product normally, the holding | grip part of the clip of both ends of a film is cut out and reused.

延伸倍率としては、少なくとも一方に1%〜250%、より好ましくは2%〜200%、さらに好ましくは3%〜150%である。縦、横均等に延伸してもよいが、一方の延伸倍率を他方より大きくし不均等に延伸するほうがより好ましい。   The stretch ratio is 1% to 250%, more preferably 2% to 200%, and still more preferably 3% to 150% on at least one side. Although it may be stretched evenly in the vertical and horizontal directions, it is more preferable to stretch one of the stretch ratios more than the other and stretch the same.

縦(MD)、横(TD)いずれを大きくしてもよいが、小さい方の延伸倍率は0%〜30%が好ましく、より好ましくは0%〜25%であり、さらに好ましくは0%〜20%である。大きいほうの延伸倍率は1%〜250%であり、より好ましくは10%〜200%、さらに好ましくは30%〜150%である。   Either length (MD) or width (TD) may be increased, but the smaller draw ratio is preferably 0% to 30%, more preferably 0% to 25%, and still more preferably 0% to 20%. %. The larger draw ratio is 1% to 250%, more preferably 10% to 200%, and still more preferably 30% to 150%.

延伸倍率(%)=100×{(延伸後の長さ)−(延伸前の長さ)}/(延伸前の長さ)
これらの縦延伸と横延伸は、それぞれ単独で行ってもよく(一軸延伸)、組み合わせて行ってもよい(二軸延伸)。二軸延伸の場合、縦、横逐次で実施してもよく(逐次延伸)、同時に実施してもよい(同時延伸)。
Stretch ratio (%) = 100 × {(Length after stretching) − (Length before stretching)} / (Length before stretching)
These longitudinal stretching and lateral stretching may be performed independently (uniaxial stretching) or may be performed in combination (biaxial stretching). In the case of biaxial stretching, it may be carried out in the longitudinal and transverse sequential manners (sequential stretching) or simultaneously (simultaneous stretching).

このような延伸に引き続き、縦または横方向に0%〜10%緩和することが好ましい。さらに、延伸に引き続き、150℃〜250℃で1秒〜3分熱固定することも好ましい。   Following such stretching, it is preferable to relax 0% to 10% in the longitudinal or transverse direction. Furthermore, it is also preferable to heat-fix at 150-250 degreeC for 1 second-3 minutes following extending | stretching.

ここで、Roとは面内リターデーションを示し、面内の製膜方向MDの屈折率と幅手方向TDの屈折率との差に厚みを乗じたもの、Rtとは厚み方向リターデーションを示し、面内の屈折率(製膜方向MDと幅方向TDの平均)と厚み方向の屈折率との差に厚みを乗じたものである。   Here, Ro indicates in-plane retardation, the difference between the refractive index in the in-plane film forming direction MD and the refractive index in the width direction TD is multiplied by the thickness, and Rt indicates the thickness direction retardation. The difference between the in-plane refractive index (average of the film forming direction MD and the width direction TD) and the refractive index in the thickness direction is multiplied by the thickness.

延伸は、例えばフィルムの製膜方向および幅手方向に対して、逐次または同時に行うことができる。このとき少なくとも1方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となりフィルム破断が発生してしまう場合がある。   Stretching can be performed sequentially or simultaneously with respect to, for example, the film forming direction and the width direction of the film. At this time, if the stretching ratio in at least one direction is too small, a sufficient phase difference cannot be obtained, and if it is too large, stretching becomes difficult and film breakage may occur.

互いに直交する二軸方向に延伸することは、フィルムの屈折率nx、ny、nzを所定の範囲に入れるために有効な方法である。   Stretching in biaxial directions perpendicular to each other is an effective method for bringing the refractive indexes nx, ny, and nz of the film within a predetermined range.

ここで、nxとはフィルムMD方向の屈折率、nyとはTD方向の屈折率、nzとは厚み方向の屈折率である。   Here, nx is the refractive index in the film MD direction, ny is the refractive index in the TD direction, and nz is the refractive index in the thickness direction.

例えばフィルム製膜方向に延伸した場合、幅手方向の収縮が大き過ぎると、nzの値が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を抑制、あるいは幅手方向にも延伸することで改善できる。幅手方向に延伸する場合、幅手方向で屈折率に分布が生じることがある。   For example, when stretching in the film forming direction, if the shrinkage in the width direction is too large, the value of nz becomes too large. In this case, the width shrinkage of the film can be suppressed or improved by stretching in the width direction. When stretching in the width direction, the refractive index may be distributed in the width direction.

この分布は、テンター法を用いた場合に現れることがあり、フィルムを幅手方向に延伸したことで、フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、いわゆるボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。   This distribution may appear when the tenter method is used, and by stretching the film in the width direction, a shrinkage force is generated in the center of the film, and the phenomenon is caused by the end being fixed, It is thought to be a so-called Boeing phenomenon.

この場合でも、フィルム製膜方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制でき、幅手方向の位相差の分布を少なくできる。互いに直交する二軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動が減少できる。膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のむらが問題となることがある。   Even in this case, by stretching in the film forming direction, the bowing phenomenon can be suppressed and the distribution of retardation in the width direction can be reduced. By stretching in biaxial directions perpendicular to each other, film thickness fluctuations of the obtained film can be reduced. If the film thickness variation is too large, the phase difference becomes uneven, and unevenness such as coloring may be a problem when used in a liquid crystal display.

前述のセルロースエステルフィルムの膜厚変動は、±3%、さらに±1%の範囲とすることが好ましい。   The film thickness variation of the aforementioned cellulose ester film is preferably in the range of ± 3%, more preferably ± 1%.

延伸後、フィルムの端部をスリッターにより製品となる幅にスリットして裁ち落としたあと、エンボスリングおよびバックロールよりなるナール加工装置によりナール加工(エンボッシング加工)をフィルム両端部に施し、巻取り機によって巻き取ることにより、セルロースエステルフィルム(元巻き)の貼り付きや、すり傷の発生を防止する。   After stretching, after slitting the end of the film to a product width with a slitter, the film is subjected to knurling (embossing) on both ends of the film by a knurling device consisting of an embossing ring and a back roll, and a winder By taking up with, it prevents the cellulose ester film (original winding) from sticking and the generation of scratches.

<溶液流延製膜>
溶液流延による製膜製造では、樹脂及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。ドープ中の樹脂濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、樹脂の濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、更に好ましくは、15〜25質量%である。
<Solution casting film formation>
In film production by solution casting, a step of preparing a dope by dissolving a resin and an additive in a solvent, a step of casting the dope on a belt-shaped or drum-shaped metal support, and using the cast dope as a web It is performed by a step of drying, a step of peeling from the metal support, a step of stretching or maintaining the width, a step of further drying, and a step of winding up the finished film. The resin concentration in the dope is preferably higher because the drying load after casting on the metal support can be reduced, but if the resin concentration is too high, the load during filtration increases and the filtration accuracy deteriorates. . As a density | concentration which makes these compatible, 10-35 mass% is preferable, More preferably, it is 15-25 mass%.

流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface. As the metal support, a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used. The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set to −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferable because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or the flatness may deteriorate. The preferable support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.

セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、更に好ましくは20〜40質量%または60〜130質量%であり、特に好ましくは、20〜30質量%または70〜120質量%である。   In order for the cellulose ester film to exhibit good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Especially preferably, it is 20-30 mass% or 70-120 mass%.

残留溶媒量は下記式で定義される。   The amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
尚、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.

また、フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、更に好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%以下である。   In the film drying step, the web is peeled off from the metal support, and further dried, and the residual solvent amount is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, and particularly preferably. Is 0-0.01 mass% or less.

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   In the film drying process, generally, a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides are alternately passed through and dried) or a method of drying while transporting the web by a tenter method is adopted.

フィルム乾燥工程では、雰囲気置換率を12回/時間以上、好ましくは12〜45回/時間の雰囲気下で搬送しながら処理することが好ましい。   In the film drying step, it is preferable to carry out the treatment while transporting in an atmosphere with an atmosphere substitution rate of 12 times / hour or more, preferably 12 to 45 times / hour.

雰囲気置換率は、熱処理室の雰囲気容量をV(m)、Fresh−air送風量をFA(m/hr)とした場合、下式によって求められる単位時間あたり熱処理室の雰囲気をFresh−airで置換する回数である。Fresh−airは熱処理室に送風される風のうち、循環再利用している風ではなく、揮発した溶媒もしくは可塑剤などを含まない、もしくはそれらが除去された新鮮な風のことを意味している。 The atmosphere substitution rate is defined as follows. When the atmosphere capacity of the heat treatment chamber is V (m 3 ) and the fresh air flow rate is FA (m 3 / hr), the atmosphere of the heat treatment chamber per unit time determined by the following formula is Fresh-air. Is the number of replacements by. “Fresh-air” means that the wind blown into the heat treatment chamber is not a wind that is recycled and reused, and it means a fresh wind that does not contain volatilized solvent or plasticizer or has been removed. Yes.

雰囲気置換率=FA/V(回/時間)
12回/時間以上の雰囲気置換率では、フィルムから揮発した可塑剤による雰囲気中の可塑剤濃度を十分に低減することができ、フィルムへの再付着が低減でき好ましい。
Atmosphere replacement rate = FA / V (times / hour)
An atmosphere substitution rate of 12 times / hour or more is preferable because the plasticizer concentration in the atmosphere due to the plasticizer volatilized from the film can be sufficiently reduced, and reattachment to the film can be reduced.

<実質的に垂直配向した重合性液晶化合物層>
実質的に垂直配向した重合性液晶化合物層(以下、光学異方性層ともう言う)について説明する。該重合性液晶化合物層は、下記特性を有することが好ましい。
<Substantially vertically aligned polymerizable liquid crystal compound layer>
A substantially vertically aligned polymerizable liquid crystal compound layer (hereinafter referred to as an optically anisotropic layer) will be described. The polymerizable liquid crystal compound layer preferably has the following characteristics.

0≦Ro≦10
−500≦Rt≦−100
本発明の光学異方性層は、液晶材料もしくは液晶の溶液を、一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステルフィルム上に直接または中間層上に塗布し、乾燥と熱処理(配向処理ともいう)を行い紫外線硬化もしくは熱重合などで液晶配向の固定化を行い、垂直方向に配向した棒状液晶による層である。該垂直配向の棒状液晶層を該セルロースエステルフィルム上に設けることで、光学補償フィルムの弾性が向上し、前述した特徴と組み合わさって、本発明の目的効果を発揮する。
0 ≦ Ro ≦ 10
−500 ≦ Rt ≦ −100
The optically anisotropic layer of the present invention is a liquid crystal material or a liquid crystal solution coated directly or on an intermediate layer on a cellulose ester film having at least one repeating unit represented by the general formula (1) or (2). Then, drying and heat treatment (also referred to as alignment treatment) are performed, and the alignment of the liquid crystal alignment is fixed by ultraviolet curing or thermal polymerization. By providing the vertically aligned rod-like liquid crystal layer on the cellulose ester film, the elasticity of the optical compensation film is improved, and the object effect of the present invention is exhibited in combination with the above-described characteristics.

ここで垂直方向に配向するとは、棒状液晶が支持体となるフィルム面に対して70〜90°(垂直方向を90°とする)の範囲内にあることをいう。   Here, “orienting in the vertical direction” means that the rod-like liquid crystal is in the range of 70 to 90 ° (the vertical direction is 90 °) with respect to the film surface serving as the support.

棒状液晶は、斜め配向しても、配向角を徐々に変化していてもよい。好ましくは80〜90°の範囲である。   The rod-like liquid crystal may be oriented obliquely or the orientation angle may be gradually changed. Preferably it is the range of 80-90 degrees.

光学異方性層はRoが0〜10nm、Rtが−500〜−100nmの範囲にある垂直方向に配向した棒状液晶による層である。さらにRoは0〜5nmの範囲がより好ましい。これらの支持体上の液晶配向を固定化した層の位相差の位相差測定は、株式会社オプトサイエンス社製AxoScanを用いて測定することができる。   The optically anisotropic layer is a layer of rod-like liquid crystal aligned in the vertical direction with Ro in the range of 0 to 10 nm and Rt in the range of −500 to −100 nm. Further, Ro is more preferably in the range of 0 to 5 nm. The phase difference of the phase difference of the layer on which the liquid crystal alignment is fixed on these supports can be measured using AxoScan manufactured by Opto Science Co., Ltd.

棒状液晶を配向させて位相差層を形成する際には、いわゆる液晶材料が垂直方向に配列するような垂直配向剤を塗布した配向膜を用い、液晶材料を垂直配向したのち固定する方法をとることができる。   When forming a retardation layer by aligning rod-shaped liquid crystals, an alignment film coated with a vertical alignment agent that aligns the so-called liquid crystal material in the vertical direction is used, and the liquid crystal material is vertically aligned and then fixed. be able to.

液晶材料自身が空気界面で垂直方向に配向する場合には、その配向規制力が空気界面と反対の界面までおよび、該配向膜は特に必要ではなく、構成が簡素化できる観点からもその方が好ましい。   When the liquid crystal material itself is aligned in the vertical direction at the air interface, the alignment regulating force extends to the interface opposite to the air interface, and the alignment film is not particularly necessary, and this is also preferable from the viewpoint of simplifying the configuration. preferable.

液晶材料を垂直に配向する具体的な方法としては、特開2005−148473号公報などに記載されている(メタ)アクリル系ブロックポリマーを含有するブロックポリマー組成物の架橋体からなる配向膜等を用いる方法、同2005−265889号公報に記載されている垂直配向膜を使用する方法、空気界面垂直配向剤を使用する方法等公知の方法を使用することができる。上記した垂直方向に配向するためには、棒状液晶層の配向、膜厚制御、紫外線硬化時の温度、チルト角制御、および支持体と空気界面でのプレチルト角の制御を行うことが好ましい。   As a specific method for vertically aligning the liquid crystal material, an alignment film composed of a cross-linked product of a block polymer composition containing a (meth) acrylic block polymer described in JP-A-2005-148473 and the like is used. Known methods such as a method of using, a method of using a vertical alignment film described in JP 2005-265889 A, and a method of using an air interface vertical alignment agent can be used. In order to align in the vertical direction as described above, it is preferable to perform alignment of the rod-like liquid crystal layer, film thickness control, temperature during UV curing, tilt angle control, and control of the pretilt angle at the support / air interface.

前記液晶層は、所定の温度で液晶相となり得る液晶材料が、所定の液晶規則性を有して硬化することにより形成されたものである。液晶相を示す温度の上限は、例えば基材のセルロースエステルフィルムがダメージを受けない温度であれば特に限定されるものはない。   The liquid crystal layer is formed by curing a liquid crystal material capable of forming a liquid crystal phase at a predetermined temperature with a predetermined liquid crystal regularity. The upper limit of the temperature showing the liquid crystal phase is not particularly limited as long as the cellulose ester film of the base material is not damaged.

具体的には、プロセス温度のコントロールの容易性と寸法精度維持の観点から120℃以下が好ましく、より好ましくは100℃以下の温度で液晶相となる液晶材料が好適に用いられる。一方、液晶相を示す温度の下限は、偏光板として用いる際に、液晶材料が配向状態を保持し得る温度であるといえる。   Specifically, a temperature of 120 ° C. or lower is preferable from the viewpoint of easy control of process temperature and maintenance of dimensional accuracy, and a liquid crystal material that becomes a liquid crystal phase at a temperature of 100 ° C. or lower is preferably used. On the other hand, the lower limit of the temperature showing the liquid crystal phase can be said to be a temperature at which the liquid crystal material can maintain the alignment state when used as a polarizing plate.

前述した液晶材料としては、重合性液晶材料を用いることが好ましい。重合性液晶材料は、所定の活性放射線を照射することにより重合させて用いることができ、重合させた状態では垂直の配向状態は固定化される。   As the liquid crystal material described above, a polymerizable liquid crystal material is preferably used. The polymerizable liquid crystal material can be used by being polymerized by irradiating with predetermined actinic radiation. In the polymerized state, the vertical alignment state is fixed.

重合性液晶材料としては、重合性液晶モノマー、重合性液晶オリゴマー、もしくは重合性液晶ポリマーのいずれかを用いることができ、相互に混合して用いることもできる。   As the polymerizable liquid crystal material, any of a polymerizable liquid crystal monomer, a polymerizable liquid crystal oligomer, and a polymerizable liquid crystal polymer can be used, and they can also be mixed with each other.

重合性液晶材料としては、上記のうちでも、配向に際しての感度が高く垂直に配向させることが容易であることから重合性液晶モノマーが好適に用いられる。   Of the above, a polymerizable liquid crystal monomer is preferably used as the polymerizable liquid crystal material because of its high sensitivity during alignment and easy vertical alignment.

具体的な重合性液晶モノマーとしては、下記の一般式(7)で表される棒状液晶性化合物(I)、および下記の一般式(8)で表される棒状液晶性化合物(II)を挙げることができる。化合物(I)としては、一般式(7)に包含される化合物の2種以上を混合して使用することもでき、同様に、化合物(II)としては、一般式(8)に包含される化合物の2種以上を混合して使用することもできる。また、化合物(I)を1種以上と化合物(II)を1種以上を混合して使用することもできる。   Specific examples of the polymerizable liquid crystal monomer include a rod-like liquid crystal compound (I) represented by the following general formula (7) and a rod-like liquid crystal compound (II) represented by the following general formula (8). be able to. As the compound (I), a mixture of two or more compounds included in the general formula (7) can be used. Similarly, the compound (II) is included in the general formula (8). Two or more kinds of compounds may be mixed and used. In addition, one or more compounds (I) and one or more compounds (II) may be mixed and used.

Figure 2010139824
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化合物(I)を表す一般式(7)において、RおよびRはそれぞれ水素またはメチル基を示すが、液晶相を示す温度範囲の広さからRおよびRは共に水素であることが好ましい。Xは水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数1〜4のアルキル基、メトキシ基、シアノ基、もしくはニトロ基のいずれであっても差し支えないが、塩素またはメチル基であることが好ましい。また、化合物(I)の分子鎖両端の(メタ)アクリロイロキシ基と、芳香環とのスペーサであるアルキレン基の鎖長を示すaおよびbは、それぞれ個別に2〜12の範囲で任意の整数を取り得るが、4〜10の範囲であることが好ましく、6〜9の範囲であることがさらに好ましい。a=b=0である一般式(7)の化合物は、安定性に乏しく、加水分解を受けやすい上に、化合物自体の結晶性が高い。また、aおよびbがそれぞれ13以上である一般式(7)の化合物は、アイソトロピック転移温度(TI)が低い。この理由から、これらの化合物はどちらも液晶性を示す温度範囲が狭く好ましくない。 In the general formula (7) representing the compound (I), R 1 and R 2 each represent hydrogen or a methyl group, but R 1 and R 2 are both hydrogen due to the wide temperature range showing the liquid crystal phase. preferable. X may be hydrogen, chlorine, bromine, iodine, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methoxy group, a cyano group, or a nitro group, but is preferably chlorine or a methyl group. Moreover, a and b which show the chain length of the alkylene group which is a spacer with the (meth) acryloyloxy group of both ends of the molecular chain of a compound (I), and an aromatic ring are respectively arbitrary integers in the range of 2-12. Although it can take, it is preferable that it is the range of 4-10, and it is more preferable that it is the range of 6-9. The compound of the general formula (7) in which a = b = 0 is poor in stability, is susceptible to hydrolysis, and has high crystallinity. In addition, the compound of the general formula (7) in which a and b are each 13 or more has a low isotropic transition temperature (TI). For this reason, both of these compounds are not preferred because the temperature range showing liquid crystallinity is narrow.

化合物(I)は任意の方法で合成することができる。例えば、Xがメチル基である化合物(I)は、1当量のメチルヒドロキノンと2当量の4−(m−(メタ)アクリロイロキシアルコキシ)安息香酸とのエステル化反応により得ることができる。エステル化反応は、上記安息香酸を酸クロリドやスルホン酸無水物などで活性化し、これとメチルヒドロキノンとを反応させるのが通例である。また、DCC(ジシクロヘキシルカルボジイミド)等の縮合剤を用いて、カルボン酸単位とメチルヒドロキノンを直接反応させることもできる。これ以外の方法としては、1当量のメチルヒドロキノンと、2当量の4−(m−ベンジルオキシアルコキシ)安息香酸とのエステル化反応をまず行い、次いで得られたエステルを水素添加反応等により脱ベンジル化した後、分子末端をアクリロイル化する方法によっても、化合物(I)を合成することができる。メチルヒドロキノンと4−(m−ベンジルオキシアルコキシ)安息香酸とのエステル化反応を行うに際しては、メチルヒドロキノンをジアセテートに導入した後、上記の安息香酸と溶融状態で反応させ、直接エステル体を得ることも可能である。一般式(7)のXがメチル基でない場合の化合物(I)も、対応する置換基を有するヒドロキノンを、メチルヒドロキノンの代わりに用いて上と同様の反応を行うことにより得ることができる。   Compound (I) can be synthesized by any method. For example, compound (I) in which X is a methyl group can be obtained by an esterification reaction of 1 equivalent of methylhydroquinone and 2 equivalents of 4- (m- (meth) acryloyloxyalkoxy) benzoic acid. In the esterification reaction, the benzoic acid is usually activated with an acid chloride or a sulfonic anhydride, and this is reacted with methylhydroquinone. Moreover, a carboxylic acid unit and methylhydroquinone can also be directly reacted using a condensing agent such as DCC (dicyclohexylcarbodiimide). As other methods, esterification of 1 equivalent of methylhydroquinone and 2 equivalents of 4- (m-benzyloxyalkoxy) benzoic acid is first performed, and then the resulting ester is debenzylated by hydrogenation reaction or the like. Then, compound (I) can also be synthesized by a method in which the molecular terminal is acryloylated. When performing esterification reaction of methylhydroquinone and 4- (m-benzyloxyalkoxy) benzoic acid, methylhydroquinone is introduced into diacetate and then reacted with the above benzoic acid in a molten state to obtain an ester directly. It is also possible. The compound (I) in the case where X in the general formula (7) is not a methyl group can also be obtained by performing the same reaction as above using hydroquinone having a corresponding substituent instead of methylhydroquinone.

化合物(II)を表す一般式(8)において、Rは水素またはメチル基を示すが、液晶相を示す温度範囲の広さからRは水素であることが好ましい。アルキレン基の鎖長を示すcに関して言えば、この値が2〜12である化合物(II)は液晶性を示さない。しかしながら、液晶性を持つ化合物(I)との相溶性を考慮すると、cは4〜10の範囲であることが好ましく、6〜9の範囲であることがより好ましい。化合物(II)も任意の方法で合成可能であり、例えば、1当量の4−シアノフェノールと1当量の4−(n−(メタ)アクリロイロキシアルコキシ)安息香酸とのエステル化反応により化合物(II)を合成することができる。このエステル化反応は化合物(I)を合成する場合と同様に、上記安息香酸を酸クロリドやスルホン酸無水物などで活性化し、これと4−シアノフェノールとを反応させるのが一般的である。また、DCC(ジシクロヘキシルカルボジイミド)等の縮合剤を用いて上記安息香酸と4−シアノフェノールを反応させてもよい。 In the general formula (8) representing the compound (II), R 3 represents hydrogen or a methyl group, but R 3 is preferably hydrogen because of the wide temperature range showing the liquid crystal phase. As for c indicating the chain length of the alkylene group, the compound (II) having this value of 2 to 12 does not exhibit liquid crystallinity. However, considering the compatibility with the compound (I) having liquid crystallinity, c is preferably in the range of 4 to 10, and more preferably in the range of 6 to 9. Compound (II) can also be synthesized by any method. For example, compound (II) can be synthesized by esterification reaction of 1 equivalent of 4-cyanophenol and 1 equivalent of 4- (n- (meth) acryloyloxyalkoxy) benzoic acid. II) can be synthesized. In the esterification reaction, the benzoic acid is generally activated with an acid chloride or a sulfonic acid anhydride and reacted with 4-cyanophenol, as in the case of synthesizing the compound (I). Moreover, you may make the said benzoic acid and 4-cyanophenol react using condensing agents, such as DCC (dicyclohexyl carbodiimide).

以上の他、重合性液晶オリゴマーや重合性液晶ポリマーとして、従来提案されている公知の材料を適宜選択して用いることもできる。   In addition to the above, conventionally known materials can be appropriately selected and used as the polymerizable liquid crystal oligomer and the polymerizable liquid crystal polymer.

例えば、重合性棒状液晶性化合物としては、Makromol.Chem.,190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)、米国特許第4683327号明細書、同5622648号明細書、同5770107号明細書、国際公開第95/22586号パンフレット、同95/24455号、同97/00600号、同98/23580号、同98/52905号、特開平1−272551号公報、同6−16616号公報、同7−110469号公報、同11−80081号公報、特開2001−328973号公報、特開2004−240188号公報、特開2005−99236号公報、特開2005−99237号公報、特開2005−121827号公報、特開2002−30042号公報などに記載の化合物を用いることができる。   For example, as a polymerizable rod-like liquid crystalline compound, Makromol. Chem. 190, 2255 (1989), Advanced Materials 5, 107 (1993), US Pat. Nos. 4,683,327, 5,622,648 and 5,770,107, International Publication No. 95/22586. Pamphlet, 95/24455, 97/00600, 98/23580, 98/52905, JP-A-1-272551, 6-16616, 7-110469, 11 JP-A-80081, JP-A-2001-328773, JP-A-2004-240188, JP-A-2005-99236, JP-A-2005-99237, JP-A-2005-121827, JP-A-2002-30042. The compounds described in Japanese Patent Publication No. Gazette and the like can be used.

市販の化合物としてはUCL−018(大日本インキ化学工業(株)製)、パリオカラーLC242(BASF(株)製)等を使用することができる。   As commercially available compounds, UCL-018 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), Palio Color LC242 (BASF Co., Ltd.), etc. can be used.

更に重合性液晶材料に加え、必要に応じて光重合開始剤を使用する。電子線照射により重合性液晶材料を重合させる際には、光重合開始剤が不要な場合があるが、一般的に用いられている例えば紫外線(UV)照射による硬化の場合においては、通常光重合開始剤が重合促進のために用いられる。   In addition to the polymerizable liquid crystal material, a photopolymerization initiator is used as necessary. When polymerizing a polymerizable liquid crystal material by electron beam irradiation, a photopolymerization initiator may not be necessary. However, in the case of curing by, for example, ultraviolet (UV) irradiation, which is generally used, photopolymerization is usually performed. An initiator is used to promote polymerization.

光重合開始剤としては、ベンジル(ビベンゾイルとも言う)、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−ベンゾイル−4′−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、2−n−ブトキシエチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、3,3′−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、もしくは1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン等を挙げることができる。   Photopolymerization initiators include benzyl (also called bibenzoyl), benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, benzyl methyl ketal, dimethylamino Methylbenzoate, 2-n-butoxyethyl-4-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, methylobenzoylformate, 2-methyl-1- (4 -(Methylthio) phenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2- Droxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2- Examples include methylpropan-1-one, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, or 1-chloro-4-propoxythioxanthone. it can.

光重合開始剤の添加量としては、一般的には0.01%〜20%が好ましく、より好ましくは0.1%〜10%であり、もっと好ましくは0.5%〜5%の範囲で、重合性液晶材料に添加することができる。尚、光重合開始剤の他に、増感剤を添加することも可能である。   The amount of photopolymerization initiator added is generally preferably 0.01% to 20%, more preferably 0.1% to 10%, and even more preferably in the range of 0.5% to 5%. Can be added to the polymerizable liquid crystal material. In addition to the photopolymerization initiator, a sensitizer can be added.

液晶層の膜厚は0.1μm〜10μmの範囲内であることが好ましく、0.2〜5μmの範囲内であることがより好ましい。   The film thickness of the liquid crystal layer is preferably in the range of 0.1 μm to 10 μm, and more preferably in the range of 0.2 to 5 μm.

重合性液晶材料は、必要に応じて光重合開始剤、増感剤等を配合して液晶層形成用組成物を調製して用い、基材上に塗工し、液晶層形成用層を形成する。   A polymerizable liquid crystal material is prepared by using a composition for forming a liquid crystal layer by blending a photopolymerization initiator, a sensitizer, etc., if necessary, and coating on a substrate to form a liquid crystal layer forming layer. To do.

液晶の配向を固定した層を形成する方法としては、例えばドライフィルム等をあらかじめ形成してこれを液晶の配向を固定した層としたものを基材上に積層する方法や、液晶組成物を溶解あるいは融解させて基材上に塗工する方法等をとることも可能であるが、液晶組成物としては溶媒を加えて、その他の成分を溶解した塗工用組成物を用いて基材上に塗工し、溶媒を除去することにより液晶の配向を固定した層を形成することが好ましい。これは、他の方法と比較して工程上簡便である。   As a method of forming a layer in which the orientation of liquid crystal is fixed, for example, a method in which a dry film or the like is formed in advance and a layer in which the orientation of liquid crystal is fixed is laminated on a substrate, or a liquid crystal composition is dissolved Alternatively, it is possible to take a method such as melting and coating on a substrate, but as a liquid crystal composition, a solvent is added and a coating composition in which other components are dissolved is used on the substrate. It is preferable to form a layer in which the orientation of the liquid crystal is fixed by coating and removing the solvent. This is simple in terms of process as compared with other methods.

溶媒としては、上述した重合性液晶材料等を溶解することが可能な溶媒であり、かつ基材フィルムの性状を低下させない溶媒であれば特に限定されるものではなく、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、n−ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、テトラリン等の炭化水素類;メトキシベンゼン、1,2−ジメトキシベンゼン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、もしくは2,4−ペンタンジオン等のケトン類;酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、もしくはγ−ブチロラクトン等のエステル類;2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、もしくはジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、もしくはオルソジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒;t−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチルセルソルブ、もしくはブチルセルソルブ等のアルコール類;フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類等の1種または2種以上が使用可能である。   The solvent is not particularly limited as long as it is a solvent capable of dissolving the above-described polymerizable liquid crystal material and the like and does not deteriorate the properties of the base film. Specifically, benzene, Hydrocarbons such as toluene, xylene, n-butylbenzene, diethylbenzene, tetralin; ethers such as methoxybenzene, 1,2-dimethoxybenzene, diethylene glycol dimethyl ether; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, or 2,4- Ketones such as pentanedione; esters such as ethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, or γ-butyrolactone An amide solvent such as 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, or dimethylacetamide; chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, tetrachloroethane, tritrichloroethylene, tetrachloroethylene, chlorobenzene, or orthodichlorobenzene, etc. Halogen-based solvents; alcohols such as t-butyl alcohol, diacetone alcohol, glycerin, monoacetin, ethylene glycol, triethylene glycol, hexylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethyl cellosolve, or butyl cellosolve; phenol, parachloro One type or two or more types of phenols such as phenol can be used.

単一種の溶媒を使用しただけでは、重合性液晶材料等の溶解性が不充分であったり、上述したように基材が侵食される場合がある。しかし2種以上の溶媒を混合使用することにより、この不都合を回避することができる。   If only a single type of solvent is used, the solubility of the polymerizable liquid crystal material or the like may be insufficient, or the substrate may be eroded as described above. However, this inconvenience can be avoided by using a mixture of two or more solvents.

上記した溶媒のなかにあって、単独溶媒として好ましいものは、炭化水素系溶媒とグリコールモノエーテルアセテート系溶媒であり、混合溶媒として好ましいのは、エーテル類またはケトン類と、グリコール類との混合系である。   Of the above-mentioned solvents, preferred as a single solvent are a hydrocarbon solvent and a glycol monoether acetate solvent, and a preferred mixed solvent is a mixed system of ethers or ketones and glycols. It is.

溶液の濃度は、重合性液晶材料等の溶解性や製造しようとする液晶層の膜厚に依存するため一概には規定できないが、通常は1%〜60%が好ましく、より好ましくは3%〜40%の範囲で調整される。   The concentration of the solution depends on the solubility of the polymerizable liquid crystal material or the like and the film thickness of the liquid crystal layer to be produced, but cannot be defined unconditionally, but is usually preferably 1% to 60%, more preferably 3% to It is adjusted within the range of 40%.

液晶層形成用組成物には、記以外の化合物を添加することができる。   Compounds other than those described above can be added to the composition for forming a liquid crystal layer.

添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと1塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリエステル(メタ)アクリレート;ポリオール基と2個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン(メタ)アクリレート;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族もしくは脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート等の光重合性化合物、またはアクリル基もしくはメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物、特開2007−45993号公報に記載のオニウム塩、フッ化アクリレートポリマー等が挙げられる。   Examples of compounds that can be added include polyester (meth) acrylate obtained by reacting (meth) acrylic acid with a polyester prepolymer obtained by condensing polyhydric alcohol and monobasic acid or polybasic acid; A polyurethane (meth) acrylate obtained by reacting a compound having two isocyanate groups with each other and then reacting the reaction product with (meth) acrylic acid; bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolak Type epoxy resin, polycarboxylic acid polyglycidyl ester, polyol polyglycidyl ether, aliphatic or cycloaliphatic epoxy resin, amine epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, dihydroxybenzene type epoxy resin and the like (meth) Ak A photopolymerizable compound such as epoxy (meth) acrylate obtained by reacting phosphoric acid, a photopolymerizable liquid crystal compound having an acrylic group or a methacryl group, an onium salt described in JP-A-2007-45993, and a fluorine compound. Acrylate polymers and the like.

液晶層形成用組成物に対するこれら化合物の添加量は、一般的には、液晶層形成用組成物の40%以下であることが好ましく、より好ましくは20%以下である。   The amount of these compounds added to the liquid crystal layer forming composition is generally preferably 40% or less, more preferably 20% or less of the liquid crystal layer forming composition.

これらの化合物の添加により、液晶材料の硬化性が向上し、得られる液晶層の機械強度が増大し、またその安定性が改善される。   Addition of these compounds improves the curability of the liquid crystal material, increases the mechanical strength of the resulting liquid crystal layer, and improves its stability.

また、溶剤を配合した液晶層形成用組成物には、塗工を容易にするために界面活性剤等を加えることができる。   In addition, a surfactant or the like can be added to the composition for forming a liquid crystal layer containing a solvent in order to facilitate coating.

添加可能な界面活性剤を例示すると、イミダゾリン、第四級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体等の陽イオン系界面活性剤;ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、第一級あるいは第二級アルコールエトキシレート、アルキルフェノールエトキシレート、ポリエチレングリコールおよびそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、脂肪族あるいは芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物等の陰イオン系界面活性剤;ラウリルアミドプロピルベタイン、ラウリルアミノ酢酸ベタイン等の両性系界面活性剤;ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン等の非イオン系界面活性剤;パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル基・親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル・親油基含有オリゴマーパーフルオロアルキル基含有ウレタン等のフッ素系界面活性剤などが挙げられる。   Examples of surfactants that can be added include cationic surfactants such as imidazoline, quaternary ammonium salts, alkylamine oxides and polyamine derivatives; polyoxyethylene-polyoxypropylene condensates, primary or secondary Alcohol ethoxylates, alkylphenol ethoxylates, polyethylene glycol and esters thereof, sodium lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, lauryl sulfate amines, alkyl-substituted aromatic sulfonates, alkyl phosphates, aliphatic or aromatic sulfonic acid formalin condensates, etc. Anionic surfactants; amphoteric surfactants such as laurylamidopropylbetaine and laurylaminoacetic acid betaine; nonionics such as polyethylene glycol fatty acid esters and polyoxyethylene alkylamine Surfactant: Perfluoroalkyl sulfonate, perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl ethylene oxide adduct, perfluoroalkyl trimethyl ammonium salt, perfluoroalkyl group / hydrophilic group-containing oligomer, perfluoroalkyl / lipophilic group Fluorosurfactants such as containing oligomer perfluoroalkyl group-containing urethanes.

界面活性剤の添加量は、界面活性剤の種類、液晶材料の種類、溶媒の種類、さらには溶液を塗工する配向膜の種類にもよるが、通常は溶液に含まれる重合性液晶材料の10ppm〜10%が好ましく、より好ましくは100ppm〜5%であり、もっと好ましくは0.1〜1%の範囲である。   The amount of surfactant added depends on the type of surfactant, the type of liquid crystal material, the type of solvent, and the type of alignment film on which the solution is applied. 10 ppm to 10% is preferable, more preferably 100 ppm to 5%, and still more preferably 0.1 to 1%.

液晶層形成用組成物を塗工する方法としては、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、ブレードコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、もしくは押し出しコート法等が挙げられる。   As a method for coating the composition for forming a liquid crystal layer, a spin coating method, a roll coating method, a printing method, a dip pulling method, a die coating method, a casting method, a bar coating method, a blade coating method, a spray coating method, a gravure coating method , Reverse coating method or extrusion coating method.

液晶層形成用組成物を塗工した後、溶媒を除去する方法としては、例えば、風乾、加熱除去、もしくは減圧除去、さらにはこれらを組み合わせる方法等により行われる。溶媒が除去されることにより、液晶の配向を固定した層が形成される。   The method for removing the solvent after coating the composition for forming a liquid crystal layer is performed, for example, by air drying, heat removal, or removal under reduced pressure, or a combination thereof. By removing the solvent, a layer in which the alignment of the liquid crystal is fixed is formed.

重合性液晶材料を硬化させる工程では、重合性液晶材料を硬化させるためのエネルギーが与えられ、熱エネルギーでもよいが、通常は、重合を起こさせる能力がある電離放射線の照射によって行う。   In the step of curing the polymerizable liquid crystal material, energy for curing the polymerizable liquid crystal material is given, and thermal energy may be used, but it is usually performed by irradiation with ionizing radiation capable of causing polymerization.

必要であれば重合性液晶材料内に重合開始剤が含まれていてもよい。電離放射線としては、重合性液晶材料を重合させることが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光線が使用され、波長が150〜500nmの光が好ましく、より好ましくは250〜450nmであり、より好ましくは300〜400nmの波長の紫外線である。   If necessary, a polymerization initiator may be contained in the polymerizable liquid crystal material. The ionizing radiation is not particularly limited as long as it is a radiation capable of polymerizing the polymerizable liquid crystal material. Usually, ultraviolet light or visible light is used from the viewpoint of the ease of the apparatus, and the wavelength is The light of 150-500 nm is preferable, More preferably, it is 250-450 nm, More preferably, it is an ultraviolet-ray with a wavelength of 300-400 nm.

本発明においては、紫外線(UV)を活性放射線として照射し、紫外線で重合開始剤からラジカルを発生させ、ラジカル重合を行わせる方法が好ましい。活性放射線としてUVを用いる方法は、既に確立された技術であることから、用いる重合開始剤を含めて、応用が容易である。   In the present invention, a method of performing radical polymerization by irradiating ultraviolet rays (UV) as actinic radiation and generating radicals from the polymerization initiator with ultraviolet rays is preferable. Since the method using UV as the actinic radiation is an already established technique, it can be easily applied including the polymerization initiator used.

この紫外線を照射するための光源としては、低圧水銀ランプ(殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト)、高圧放電ランプ(高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ)、もしくはショートアーク放電ランプ(超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ)等を挙げることができる。   As a light source for irradiating ultraviolet rays, a low-pressure mercury lamp (sterilization lamp, fluorescent chemical lamp, black light), a high-pressure discharge lamp (high-pressure mercury lamp, metal halide lamp), or a short arc discharge lamp (ultra-high-pressure mercury lamp, xenon) Lamp, mercury xenon lamp) and the like.

なかでもメタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等の使用が推奨される。照射強度は、液晶の配向を固定した層の形成に用いられる重合性液晶材料の組成や光重合開始剤の多寡によって適宜に調整すればよい。   In particular, the use of metal halide lamps, xenon lamps, high-pressure mercury lamps, etc. is recommended. The irradiation intensity may be appropriately adjusted depending on the composition of the polymerizable liquid crystal material used for forming the layer in which the alignment of the liquid crystal is fixed and the amount of the photopolymerization initiator.

活性放射線の照射による配向固定化工程は、上述した液晶層形成用層を形成する工程における処理温度、すなわち重合性液晶材料が液晶相となる温度条件で行ってもよく、また液晶相となる温度より低い温度で行ってもよい。   The alignment fixing step by irradiation with actinic radiation may be performed at the processing temperature in the step of forming the liquid crystal layer forming layer described above, that is, the temperature condition in which the polymerizable liquid crystal material becomes a liquid crystal phase, It may be performed at a lower temperature.

〈中間層〉
一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステルを含有する透明フィルムと棒状の液晶を垂直に配向させて配向を固定した光学異方性層の間には中間層を設けることができる。
<Intermediate layer>
Between a transparent film containing a cellulose ester having at least one repeating unit represented by the general formula (1) or (2) and an optically anisotropic layer in which the alignment is fixed by vertically aligning rod-shaped liquid crystals An intermediate layer can be provided.

中間層は、透明樹脂で構成される。透明樹脂は、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることがさらに好ましい。   The intermediate layer is made of a transparent resin. The transparent resin is preferably a binder polymer having a saturated hydrocarbon chain or a polyether chain as a main chain, and more preferably a binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain.

特に好ましくは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂、あるいは架橋剤と反応部位を有する樹脂との混合組成物である。   Particularly preferred is a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active rays such as ultraviolet rays or electron beams, or a mixed composition of a crosslinking agent and a resin having a reactive site.

硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等の紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましく用いられる。   Examples of the curable resin include UV curable urethane acrylate resins, UV curable polyester acrylate resins, UV curable epoxy acrylate resins, UV curable polyol acrylate resins, and UV curable epoxy resins. A type acrylate resin is preferably used.

紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物をさらに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。   The UV curable urethane acrylate resin generally includes a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer, and further includes 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter, acrylate includes methacrylate). It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate.

例えば、特開昭59−151110号号公報に記載のものを用いることができる。例えば、紫光UV−7510B(日本合成化学(株)製)、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   For example, those described in JP 59-151110 A can be used. For example, a mixture of 100 parts of purple light UV-7510B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.), Unidic 17-806 (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part of coronate L (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) Preferably used.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭59−151112号公報に記載のものを用いることができる。   Examples of UV curable polyester acrylate resins include those which are easily formed when 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers are generally reacted with polyester polyols. JP-A-59-151112 Those described in the publication can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光重合開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平1−105738号公報に記載のものを用いることができる。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include an epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photopolymerization initiator added thereto, and reacted to form an oligomer. Those described in Japanese Patent No. 105738 can be used.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of UV curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, etc. Can be mentioned.

これら硬化性樹脂の光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾインおよびその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等およびこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。   Specific examples of photopolymerization initiators for these curable resins include benzoin and derivatives thereof, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. You may use with a photosensitizer.

また、エポキシアクリレート系の光重合開始剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。   In addition, when using an epoxy acrylate photopolymerization initiator, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine can be used.

硬化性樹脂組成物に用いられる光重合開始剤また光増感剤は該組成物100質量部に対して0.1〜25質量部であり、好ましくは1〜15質量部である。   The photopolymerization initiator or photosensitizer used in the curable resin composition is 0.1 to 25 parts by mass, preferably 1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the composition.

架橋剤と反応部位を有する樹脂の混合組成物としては、例えばポリビニルアルコールとグリオキザール、ゼラチンとグリオキザール等が挙げられる。   Examples of the mixed composition of the crosslinking agent and the resin having a reactive site include polyvinyl alcohol and glyoxal, gelatin and glyoxal, and the like.

また、中間層には、フッ素−アクリル共重合体樹脂を含有しても良い。フッ素−アクリル共重合体樹脂とは、フッ素単量体とアクリル単量体とからなる共重合体樹脂で、特にフッ素単量体セグメントとアクリル単量体セグメントとから成るブロック共重合体が好ましい。中間層は、2層以上であってもよい。   Further, the intermediate layer may contain a fluorine-acrylic copolymer resin. The fluorine-acrylic copolymer resin is a copolymer resin composed of a fluorine monomer and an acrylic monomer, and a block copolymer composed of a fluorine monomer segment and an acrylic monomer segment is particularly preferable. The intermediate layer may be two or more layers.

<中間層の製造方法>
中間層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、リターデーション上昇剤を含有する中間層を形成する塗布組成物を塗布し、支持体上に塗布後、加熱乾燥し、UV硬化処理することが好ましい。
<Method for producing intermediate layer>
The intermediate layer is coated by using a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an ink jet method, and a coating composition for forming an intermediate layer containing a retardation increasing agent. It is preferable to heat-dry and apply UV curing after the coating.

塗布量はウェット膜厚として0.1〜40μmが適当で、好ましくは、0.5〜30μmである。   The coating amount is suitably 0.1 to 40 μm, preferably 0.5 to 30 μm, as the wet film thickness.

また、ドライ膜厚としては平均膜厚0.01〜5μm、好ましくは0.02〜2μmである。   The dry film thickness is 0.01 to 5 μm, preferably 0.02 to 2 μm.

上記UV硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。   As the light source for the UV curing treatment, any light source that generates ultraviolet rays can be used without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used.

照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常5〜500mJ/cm、好ましくは5〜150mJ/cmである。 Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually 5 to 500 mJ / cm 2 , preferably 5 to 150 mJ / cm 2 .

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、さらに好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30〜300N/mが好ましい。   Moreover, when irradiating actinic radiation, it is preferable to carry out while applying tension | tensile_strength in the conveyance direction of a film, More preferably, it is performing applying tension | tensile_strength also in the width direction. The tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m.

張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または2軸方向に張力を付与してもよい。これによってさらに平面性優れたフィルムを得ることができる。   The method for applying tension is not particularly limited, and tension may be applied in the transport direction on the back roll, or tension may be applied in the width direction or biaxial direction by a tenter. This makes it possible to obtain a film having further excellent flatness.

中間層を形成する塗布組成物には溶媒が含まれていてもよい。塗布組成物に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒からも適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。   The coating composition for forming the intermediate layer may contain a solvent. Examples of the organic solvent contained in the coating composition include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), and ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone). , Esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents may be appropriately selected or mixed for use.

有機溶媒としては、プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等が好ましい。また、有機溶媒の含有量としては塗布組成物中、5〜80質量%が好ましい。   As the organic solvent, propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is preferable. Moreover, as content of an organic solvent, 5-80 mass% is preferable in a coating composition.

<ハードコート層>
次に、本発明のハードコート層について説明する。
<Hard coat layer>
Next, the hard coat layer of the present invention will be described.

(ラジカル重合性化合物)
本発明のハードコート層は、バインダーとしてラジカル重合性化合物を用いることが、高い鉛筆硬度が得られる点から、好ましい。ラジカル重合性基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましい。また、ラジカル重合性化合物としては、分子内に2個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが好ましい。多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、イソボロニルアクリレート等が好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または2種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの2量体、3量体等のオリゴマーであってもよい。
(Radically polymerizable compound)
In the hard coat layer of the present invention, it is preferable to use a radical polymerizable compound as a binder from the viewpoint of obtaining high pencil hardness. Examples of the radical polymerizable group include ethylenically unsaturated groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyloxy group, a styryl group, and an allyl group, and among them, a compound having a (meth) acryloyl group is preferable. Moreover, as a radically polymerizable compound, it is preferable to contain the polyfunctional monomer which contains a 2 or more radically polymerizable group in a molecule | numerator. The polyfunctional acrylate is preferably selected from the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. Examples of the polyfunctional acrylate monomer include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and tetramethylolmethane triacrylate. , Tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol Lithol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, Tetramethylol methane trimethacrylate, tetramethylol methane tetramethacrylate, pentaglycerol trimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, glycerol trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate Acrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, dipentaerythritol hexa methacrylate, isobornyl acrylate and the like preferably. These compounds are used alone or in admixture of two or more. Moreover, oligomers, such as a dimer and a trimer of the said monomer, may be sufficient.

市販品の多官能アクリレートとしては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(旭電化(株)製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(広栄化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHC X−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業(株)製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化学工業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製);サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業(株)製);SP−1509、SP−1507(昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(東亞合成(株)製);B420(新中村化学工業(株)製)等を適宜選択して利用できる。   Commercially available polyfunctional acrylates include Adekaoptomer KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (Asahi Denka Co., Ltd.); Hard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS-101, FT-102Q8 MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Co., Ltd.); Seika Beam PHC2210 (S), PHC X-9 (K-3), PHC2213, DP-10, DP-20 DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.); KRM7033, RM 7039, KRM 7130, KRM 7131, UVECRYL 29201, UVECRYL 29202 (manufactured by Daicel UCB); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120, RC- 5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.); 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (manufactured by Sanyo Chemical Industries); SP -1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (manufactured by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.); B420 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) or the like can be appropriately selected and used.

ラジカル重合性化合物の添加量は、ハードコート組成物では固形分中の15質量%以上70質量%未満であることが、ハードコート組成物の安定性の点から好ましい。   In the hard coat composition, the addition amount of the radical polymerizable compound is preferably 15% by mass or more and less than 70% by mass in the solid content from the viewpoint of the stability of the hard coat composition.

(ラジカル重合促進剤)
ラジカル重合性化合物の硬化促進のために、光重合開始剤をラジカル重合性化合物と併用して用いることが好ましい。光重合開始剤とラジカル重合性化合物とを併用して用いる場合には、光重合開始剤とラジカル重合性化合物とを質量比で20:100〜0.01:100含有することが好ましい。
(Radical polymerization accelerator)
In order to accelerate the curing of the radical polymerizable compound, it is preferable to use a photopolymerization initiator in combination with the radical polymerizable compound. When the photopolymerization initiator and the radical polymerizable compound are used in combination, it is preferable to contain the photopolymerization initiator and the radical polymerizable compound in a mass ratio of 20: 100 to 0.01: 100.

光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof, but are not particularly limited thereto.

更に、ハードコート層が、下記カチオン重合性化合物を含有し、本発明の偏光板を構成する事で、本発明の目的効果が良好に得られるばかりか、液晶パネルに用いた際の耐久性試験後のムラや斜め方向からの光漏れ防止に優れる点で、好ましい。   Furthermore, the hard coat layer contains the following cationically polymerizable compound, and the polarizing plate of the present invention constitutes the objective effect of the present invention, as well as a durability test when used in a liquid crystal panel. This is preferable because it is excellent in preventing unevenness of light and light leakage from an oblique direction.

(カチオン重合性化合物)
カチオン重合性化合物としては、エネルギー活性線照射や熱によってカチオン重合を起こして樹脂化するものであればいずれも使用できる。具体的には、エポキシ基、環状エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル化合物、ビニルオキソ基等が挙げられる。中でもエポキシ基やビニルエーテル基などの官能基を有する化合物が本発明においては、好適に用いられる。エポキシ基またはビニルエーテル基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、リモネンジオキサイド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−(6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等が挙げられる。また、エポキシ化合物としては、ポリマー化合物も使用することができ、例えば、特開平7−247313号公報に開示されている手法で合成することができる。
(Cationically polymerizable compound)
Any cationically polymerizable compound can be used as long as it undergoes cationic polymerization by irradiation with energy active rays or heat to form a resin. Specific examples include an epoxy group, a cyclic ether group, a cyclic acetal group, a cyclic lactone group, a cyclic thioether group, a spiro orthoester compound, and a vinyloxo group. Among them, a compound having a functional group such as an epoxy group or a vinyl ether group is preferably used in the present invention. Examples of the cationically polymerizable compound having an epoxy group or a vinyl ether group include phenyl glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, vinylcyclohexene dioxide, limonene dioxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′. , 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, bis- (6-methyl-3,4-epoxycyclohexyl) adipate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, diethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, 1 , 4-cyclohexanedimethanol divinyl ether and the like. Moreover, as an epoxy compound, a polymer compound can also be used, for example, it is compoundable by the method currently disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 7-247313.

また、中でもカチオン重合性化合物として、オキセタン化合物を用いることが好ましい。オキセタン化合物としては、分子中に少なくとも1個のオキセタン環を有する化合物で有ればよく、このようなオキセタン化合物としては、種々のものが使用できるが、好ましい化合物として、下記の一般式(I)、一般式(II)、一般式(III)の化合物である。   Among them, it is preferable to use an oxetane compound as the cationic polymerizable compound. As the oxetane compound, any compound having at least one oxetane ring in the molecule may be used. As such an oxetane compound, various compounds can be used. As preferred compounds, the following general formula (I) These are compounds of general formula (II) and general formula (III).

Figure 2010139824
Figure 2010139824

(式中、Rは、水素、フッ素、アルキル基、フルオロアルキル基、アリル基、アリール基又はフリル基を表し、mは1〜4の整数を表し、Zは酸素又は硫黄を表し、Rはmの値に応じて1〜4価の有機基を表す。) (Wherein R 7 represents hydrogen, fluorine, an alkyl group, a fluoroalkyl group, an allyl group, an aryl group or a furyl group, m represents an integer of 1 to 4, Z represents oxygen or sulfur, and R 8 Represents a monovalent to tetravalent organic group depending on the value of m.)

Figure 2010139824
Figure 2010139824

(式中、R及びR10は各々独立して、水素、フッ素、アルキル基、フルオロアルキル基、アリル基、アリール基又はフリル基を表す。) (Wherein R 9 and R 10 each independently represent hydrogen, fluorine, an alkyl group, a fluoroalkyl group, an allyl group, an aryl group, or a furyl group.)

Figure 2010139824
Figure 2010139824

(式中、R11は、水素、フッ素、アルキル基、フルオロアルキル基、アリル基、アリール基又はフリル基を表し、R12は水素又は不活性な1価の有機基を表し、R13は加水分解可能な官能基を表し、nは1〜5の整数を表し、pは0〜2の整数を表す。)
上記一般式(I)〜(III)において、R、R、R10、R11がアルキル基の場合、その炭素数は1〜6程度であることができ、具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチルなどが挙げられる。またフルオロアルキル基も、炭素数1〜6程度であることができる。さらにアリール基は、典型的にはフェニル又はナフチルであり、これらは他の基で置換されていてもよい。
(In the formula, R 11 represents hydrogen, fluorine, an alkyl group, a fluoroalkyl group, an allyl group, an aryl group or a furyl group, R 12 represents hydrogen or an inert monovalent organic group, and R 13 represents water. Represents a decomposable functional group, n represents an integer of 1 to 5, and p represents an integer of 0 to 2.)
In the above general formulas (I) to (III), when R 7 , R 9 , R 10 and R 11 are alkyl groups, the carbon number thereof can be about 1 to 6, specifically, methyl, Examples include ethyl, propyl, butyl and the like. The fluoroalkyl group can also have about 1 to 6 carbon atoms. Furthermore, the aryl group is typically phenyl or naphthyl, which may be substituted with other groups.

また、上記一般式(I)においてRで表される有機基は、特に限定されないが、例えば、mが1の場合は、アルキル基、フェニル基などが、mが2の場合は、炭素数1〜12の直鎖又は分枝状アルキレン基、直鎖又は分枝状のポリ(アルキレンオキシ)基などが、mが3又は4の場合は、類似の多価官能基が挙げられる。 In addition, the organic group represented by R 8 in the general formula (I) is not particularly limited. For example, when m is 1, an alkyl group, a phenyl group, or the like, and when m is 2, the number of carbon atoms is In the case where 1 to 12 linear or branched alkylene groups, linear or branched poly (alkyleneoxy) groups, and the like is 3 or 4, a similar polyfunctional group is exemplified.

上記一般式(II)においてR12で表される不活性な1価の有機基として、典型的には炭素数1〜4のアルキル基が挙げられ、またR13で表される加水分解可能な官能基としては、例えば、メトキシやエトキシなどを包含する炭素数1〜5のアルコキシ基、塩素原子や臭素原子のようなハロゲン原子などが挙げられる。 The inactive monovalent organic group represented by R 12 in the general formula (II) typically includes an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and is hydrolyzable represented by R 13. Examples of the functional group include an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms including methoxy and ethoxy, and a halogen atom such as a chlorine atom and a bromine atom.

さらに、必要に応じて水素結合形成基を有するモノマーを含む(共)重合体で、主鎖や側鎖にオキセタニル基を有する数平均分子量が2万以上の反応性ポリマーなども使用できる。   Furthermore, if necessary, a (co) polymer containing a monomer having a hydrogen bond-forming group and a reactive polymer having an oxetanyl group in the main chain or side chain and having a number average molecular weight of 20,000 or more can also be used.

また、下記一般式で示されるような含フッ素のビニルエーテル化合物を用いても良い。   Moreover, you may use the fluorine-containing vinyl ether compound as shown by the following general formula.

CH=CH−O−(CH)a−O−(CH)b−Rf−(CH)b−O−(CH)a−O−CH=CH
(式中、Rfはフッ素含有アルキル基、aは1〜2、bは0〜3の整数を表す。Rfは直鎖あるいは分枝のアルキル基のいずれであってもよい。)
具体的化合物としては次のとおりである。
CH 2 = CH-O- (CH 2) a-O- (CH 2) b-Rf- (CH 2) b-O- (CH 2) a-O-CH = CH 2
(In the formula, Rf represents a fluorine-containing alkyl group, a represents an integer of 1 to 2, and b represents an integer of 0 to 3. Rf may be a linear or branched alkyl group.)
Specific compounds are as follows.

CH=CH−O−CH−O−(CF)k−O−CH−O−CH=CH
CH=CH−O−CH−O−CH−(CF)k−CH−O−CH−O−CH=CH
CH=CH−O−CH−O−(CH−(CF)k−(CH−O−CH−O−CH=CH
CH=CH−O−CH−O−(CH−(CF)k−(CH−O−CH−O−CH=CH
CH=CH−O−(CH−O−(CF)k−O−(CH2)−O−CH=CH
CH=CH−O−(CH−O−CH−(CF)k−CH−O−(CH−O−CH=CH
CH=CH−O−(CH−O−(CH−(CF)k−(CH−O−(CH−O−CH=CH
CH=CH−O−(CH−O−(CH−(CF)k−(CH−O−(CH−O−CH=CH
上記において、kは好ましくは2以上12以下の整数であり、更に好ましくは、kが4以上10以下である。上記含フッ素のビニルエーテル化合物は、含フッ素ジアルコール体とハロゲン基をもつビニルエーテルをアルカリ触媒下で反応させることによって製造することができる。また、含フッ素エポキシ化合物を含有してもよく、例えば特開平11−309830号公報の一般式(1)〜(4)に記載の化合物を用いることが出来る。具体的には以下に示す含フッ素エポキシ化合物1〜4の化合物を挙げることができるが、これらに限定されない。
CH 2 = CH-O-CH 2 -O- (CF 2) k-O-CH 2 -O-CH = CH 2
CH 2 = CH-O-CH 2 -O-CH 2 - (CF 2) k-CH 2 -O-CH 2 -O-CH = CH 2
CH 2 = CH-O-CH 2 -O- (CH 2) 2 - (CF 2) k- (CH 2) 2 -O-CH 2 -O-CH = CH 2
CH 2 = CH-O-CH 2 -O- (CH 2) 3 - (CF 2) k- (CH 2) 3 -O-CH 2 -O-CH = CH 2
CH 2 = CH-O- (CH 2) 2 -O- (CF 2) k-O- (CH2) 2 -O-CH = CH 2
CH 2 = CH-O- (CH 2) 2 -O-CH 2 - (CF 2) k-CH 2 -O- (CH 2) 2 -O-CH = CH 2
CH 2 = CH-O- (CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 - (CF 2) k- (CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 -O-CH = CH 2
CH 2 = CH-O- (CH 2) 2 -O- (CH 2) 3 - (CF 2) k- (CH 2) 3 -O- (CH 2) 2 -O-CH = CH 2
In the above, k is preferably an integer of 2 or more and 12 or less, and more preferably, k is 4 or more and 10 or less. The fluorine-containing vinyl ether compound can be produced by reacting a fluorine-containing dialcohol and a vinyl ether having a halogen group in the presence of an alkali catalyst. Moreover, you may contain a fluorine-containing epoxy compound, for example, the compound as described in General formula (1)-(4) of Unexamined-Japanese-Patent No. 11-309830 can be used. Specific examples thereof include, but are not limited to, the following fluorine-containing epoxy compounds 1 to 4.

含フッ素エポキシ化合物1   Fluorine-containing epoxy compound 1

Figure 2010139824
Figure 2010139824

含フッ素エポキシ化合物2   Fluorine-containing epoxy compound 2

Figure 2010139824
Figure 2010139824

含フッ素エポキシ化合物3   Fluorine-containing epoxy compound 3

Figure 2010139824
Figure 2010139824

含フッ素エポキシ化合物4   Fluorine-containing epoxy compound 4

Figure 2010139824
Figure 2010139824

その他、特開2007−254650号公報段落番号[116]〜[126]に記載の化合物を挙げることもできる。   In addition, the compounds described in JP-A-2007-254650, paragraph numbers [116] to [126] can also be mentioned.

上記したカチオン重合性化合物は、ハードコート組成物では固形分中の15質量%以上70質量%未満であることが、ハードコート組成物の安定性の点から、好ましい。   From the viewpoint of stability of the hard coat composition, the above-mentioned cationically polymerizable compound is preferably 15% by mass or more and less than 70% by mass in the solid content in the hard coat composition.

(カチオン重合促進剤)
カチオン重合性化合物の重合を促進する化合物として、公知の酸や光酸発生剤を挙げることができる。光酸発生剤としては、カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。具体的には、例えば、オニウム化合物、有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物が挙げられ、好ましくは、オニウム化合物である。オニウム化合物としては、以下の各式に示されるジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などが好適に使用される。
(Cationic polymerization accelerator)
Examples of the compound that accelerates the polymerization of the cationic polymerizable compound include known acids and photoacid generators. Examples of the photoacid generator include a cationic polymerization photoinitiator, a dye photodecoloring agent, a photochromic agent, a known compound used in a microresist, and a mixture thereof. Specific examples include onium compounds, organic halogen compounds, and disulfone compounds, and onium compounds are preferable. As the onium compound, diazonium salts, sulfonium salts, iodonium salts and the like represented by the following formulas are preferably used.

ArN
(R)
(R)
式中、Arはアリール基を表し、Rはアリール基又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、一分子内にRが複数回現れる場合は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、Zは非塩基性でかつ非求核性の陰イオンを表す。
ArN 2 + Z ,
(R) 3 S + Z ,
(R) 2 I + Z
In the formula, Ar represents an aryl group, R represents an aryl group or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and when R appears multiple times in one molecule, they may be the same or different, and Z Represents a non-basic and non-nucleophilic anion.

上記各式において、Ar又はRで表されるアリール基も、典型的にはフェニルやナフチルであり、これらは適当な基で置換されていてもよい。また、Zで表される陰イオンとして具体的には、テトラフルオロボレートイオン(BF )、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートイオン(B(C )、ヘキサフルオロホスフェートイオン(PF )、ヘキサフルオロアーセネートイオン(AsF )、ヘキサフルオロアンチモネートイオン(SbF )、ヘキサクロロアンチモネートイオン(SbCl )、硫酸水素イオン(HSO )、過塩素酸イオン(ClO )などが挙げられる。 In each of the above formulas, the aryl group represented by Ar or R is also typically phenyl or naphthyl, and these may be substituted with an appropriate group. Specific examples of the anion represented by Z include tetrafluoroborate ion (BF 4 ), tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion (B (C 6 F 5 ) 4 ), and hexafluorophosphate ion. (PF 6 ), hexafluoroarsenate ion (AsF 6 ), hexafluoroantimonate ion (SbF 6 ), hexachloroantimonate ion (SbCl 6 ), hydrogen sulfate ion (HSO 4 ), perchloric acid Ion (ClO 4 ) and the like.

その他のオニウム化合物としては、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩アルソニウム塩、セレノニウム塩、ホウ素塩等が挙げられ、例えば特開2002−29162号公報の段落番号[0058]〜[0059]に記載の化合物等が挙げられる。   Examples of other onium compounds include ammonium salts, iminium salts, phosphonium salts, arsonium salts, selenonium salts, boron salts, and the like. For example, compounds described in paragraph numbers [0058] to [0059] of JP-A-2002-29162 Etc.

中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、化合物の素材安定性等の点から好ましい。   Of these, diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, and iminium salts are preferable from the viewpoint of the material stability of the compound.

好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、例えば、特開平9−268205号公報の段落番号[0035]に記載のアミル化されたスルホニウム塩、特開2000−71366号公報の段落番号[0010]〜[0011]に記載のジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩、特開2001−288205号公報の段落番号[0017]に記載のチオ安息香酸S−フェニルエステルのスルホニウム塩、特開2001−133696号公報の段落番号[0030]〜[0033]に記載のオニウム塩等が挙げられる。   Specific examples of onium salts that can be suitably used include, for example, an amylated sulfonium salt described in paragraph No. [0035] of JP-A No. 9-268205, and paragraph Nos. Of JP-A No. 2000-71366. Diaryl iodonium salts or triarylsulfonium salts described in [0010] to [0011], sulfonium salts of thiobenzoic acid S-phenyl ester described in paragraph [0017] of JP-A-2001-288205, JP-A-2001-133696 Onium salts and the like described in paragraph numbers [0030] to [0033] of the publication.

酸発生剤の他の例としては、特開2002−29162号公報の段落番号[0059]〜[0062]に記載の有機金属/有機ハロゲン化物、o−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物(イミノスルフォネート等)等の化合物が挙げられる。これら化合物の多くは市販されているので、そのような市販品を用いることができる。市販の開始剤としては、例えば、ダウケミカル日本(株)から販売されている“サイラキュアUVI−6990”(商品名)、各々(株)ADEKAから販売されている“アデカオプトマーSP−150”(商品名)、アデカオプトマーSP−300”(商品名)、ローディアジャパン(株)から販売されている“RHODORSIL PHOTOINITIAOR2074”(商品名)などが挙げられる。   Other examples of the acid generator include organometallic / organic halides described in JP-A-2002-29162, paragraphs [0059] to [0062], and a photoacid generator having an o-nitrobenzyl type protecting group. And compounds such as compounds that generate photosulfonic acid to generate sulfonic acid (iminosulfonate, etc.). Since many of these compounds are commercially available, such commercially available products can be used. Commercially available initiators include, for example, “Syracure UVI-6990” (trade name) sold by Dow Chemical Japan Co., Ltd., and “Adekaoptomer SP-150” (available from ADEKA Corporation) Product name), Adeka optomer SP-300 (product name), “RHODORSIL PHOTOINITIAOR 2074” (product name) sold by Rhodia Japan Co., Ltd., and the like.

酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、又は酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トリフロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸等のブレンステッド酸、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブトキシチタネート等のルイス酸が挙げられる。   As the acid, Bronsted acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid or the like, or organic acid such as acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, dibutyltin dilaurate, Examples thereof include Lewis acids such as dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, triisopropoxyaluminum, tetrabutoxyzirconium, and tetrabutoxytitanate.

ピロメリット酸、無水ピロメリット酸、トリメリット酸、無水トリメリット酸、フタル酸、無水フタル酸などの芳香族多価カルボン酸又はその無水物やマレイン酸、無水マレイン酸、コハク酸、無水コハク酸などの脂肪族多価カルボン酸又はその無水物なども挙げられる。   Aromatic polycarboxylic acids such as pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, trimellitic acid, trimellitic anhydride, phthalic acid, phthalic anhydride, or anhydrides thereof, maleic acid, maleic anhydride, succinic acid, succinic anhydride Aliphatic polyvalent carboxylic acid or anhydride thereof such as

酸としては、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   As an acid, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

これらの酸や光酸発生剤は、カチオン重合性化合物100質量部に対して、0.1〜20質量部の割合が好ましく、より好ましくは0.5〜15質量部の割合で添加することである。添加量が上記範囲において、硬化性組成物の安定性、重合反応性等から好ましい。   These acids and photoacid generators are preferably added in a proportion of 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.5 to 15 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the cationic polymerizable compound. is there. When the addition amount is in the above range, it is preferable from the viewpoint of stability of the curable composition, polymerization reactivity, and the like.

(珪素化合物)
更に、ハードコート層には、下記一般式(B)で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物或いはその重縮合物を含有することも好ましい。
(Silicon compound)
Further, the hard coat layer preferably contains an organosilicon compound represented by the following general formula (B), a hydrolyzate thereof, or a polycondensate thereof.

R2SiX24−m ・・・(B)
式中、R2はエポキシ基、X2は水酸基または加水分解可能な置換基であり、mは0〜3の整数である。
R2 m SiX2 4-m (B)
In the formula, R2 is an epoxy group, X2 is a hydroxyl group or a hydrolyzable substituent, and m is an integer of 0 to 3.

一般式(B)で示されるエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物のR2は特に制限はないが、例えば2−グリシドキシエチル基、3−グリシドキシプロピル基、3−グリシドキシブチル基等のグリシドキシC1〜C4アルキル基、好ましくはグリシドキシC1〜C3アルキル基、グリシジル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基、2−(3,4−エポキシシクロヘプチル)エチル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ペンチル基等のオキシラン基を持ったC5〜C8のシクロアルキル基で置換されたC1〜C3アルキル基が挙げられる。これらの中で2−グリシドキシエチル基、3−グリシドキシプロピル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基が好ましい。これらの置換基R2を有する一般式(1)の化合物として用いることのできる化合物の好ましい具体例として、2−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、2−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4)−エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらは単独でも2種以上使用してもよい。   R2 of the alkoxysilane compound having an epoxy group represented by the general formula (B) is not particularly limited, but examples thereof include 2-glycidoxyethyl group, 3-glycidoxypropyl group, 3-glycidoxybutyl group and the like. Glycidoxy C1-C4 alkyl group, preferably glycidoxy C1-C3 alkyl group, glycidyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group, 2- (3 Oxiranes such as 4-epoxycycloheptyl) ethyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) butyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) pentyl group And a C1-C3 alkyl group substituted with a C5-C8 cycloalkyl group having a group. Among these, a 2-glycidoxyethyl group, a 3-glycidoxypropyl group, and a 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group are preferable. Preferred specific examples of the compound that can be used as the compound of the general formula (1) having these substituents R2 include 2-glycidoxyethyltrimethoxysilane, 2-glycidoxyethyltriethoxysilane, and 3-glycidide. Xylpropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2- (3,4) -epoxycyclohexylethyltriethoxysilane and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

アルコキシシラン化合物は、例えば、特開平10−324749号、特開平6−298940号公報に記載の方法で製造する事が出来る。特開2006−348061号に記載されているように塩基触媒下で、一般式(1)のアルコキシシラン化合物を(共)縮合させて得ることも出来る。その場合、(共)縮合を促進するため、必要に応じ水を添加することができる。水の添加量は、反応混合物全体のアルコキシ基1モルに対し、通常0.05〜1.5モル、好ましくは0.1〜1.2モルである。縮合反応に使用する触媒は塩基性であれば特に限定されないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどの無機塩基、アンモニア、トリエチルアミン、ジエチレントリアミン、n−ブチルアミン、ジメチルアミノエタノール、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機塩基を使用する事が出来る。これらの中でも、特に生成物からの触媒除去が容易である点で無機塩基又はアンモニアが好ましい。触媒の添加量としては、アルコキシシラン化合物の量に対し、通常5×10−4〜7.5質量%、好ましくは1×10−3〜5質量%である。上記縮合反応は、無溶剤または溶剤中で行うことができる。溶剤を用いる場合の溶剤としては、アルコキシシラン化合物を溶解する溶剤であれば特に制限はない。このような溶剤としては、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどの非極性溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等が挙げられ、好ましくはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンである。 The alkoxysilane compound can be produced, for example, by the method described in JP-A-10-324749 and JP-A-6-298940. As described in JP-A-2006-348061, it can also be obtained by (co) condensation of an alkoxysilane compound of the general formula (1) under a base catalyst. In that case, water can be added as needed to promote (co) condensation. The amount of water added is usually 0.05 to 1.5 mol, preferably 0.1 to 1.2 mol, with respect to 1 mol of alkoxy groups in the entire reaction mixture. The catalyst used for the condensation reaction is not particularly limited as long as it is basic, but an inorganic base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, cesium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, etc. Organic bases such as ammonia, triethylamine, diethylenetriamine, n-butylamine, dimethylaminoethanol, triethanolamine, and tetramethylammonium hydroxide can be used. Among these, an inorganic base or ammonia is preferable because the catalyst can be easily removed from the product. The addition amount of the catalyst is usually 5 × 10 −4 to 7.5 mass%, preferably 1 × 10 −3 to 5 mass%, based on the amount of the alkoxysilane compound. The condensation reaction can be carried out without a solvent or in a solvent. There is no restriction | limiting in particular as a solvent in the case of using a solvent, if it is a solvent which melt | dissolves an alkoxysilane compound. Examples of such solvents include nonpolar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, preferably methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. .

更に、下記一般式(OSi−2)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有しても良い。   Furthermore, you may contain the fluorine substituted alkyl group containing silane compound represented by the following general formula (OSi-2).

Figure 2010139824
Figure 2010139824

前記一般式(OSi−2)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物について説明する。   The fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound represented by the general formula (OSi-2) will be described.

式中、R〜Rは炭素数1〜16、好ましくは1〜4のアルキル基、炭素数1〜6、好ましくは1〜4のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12、好ましくは6〜10のアリール基、炭素数7〜14、好ましくは7〜12のアルキルアリール基、アリールアルキル基、炭素数2〜8、好ましくは2〜6のアルケニル基、または炭素数1〜6、好ましくは1〜3のアルコキシ基、水素原子またはハロゲン原子を示す。 In the formula, R 1 to R 6 are alkyl groups having 1 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, halogenated alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, and 6 to 12 carbon atoms, preferably 6 carbon atoms. 10 to 10 aryl groups, 7 to 14 carbon atoms, preferably 7 to 12 alkylaryl groups, arylalkyl groups, 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 to 6 alkenyl groups, or 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 alkoxy groups, a hydrogen atom or a halogen atom.

Rfは−(CaHbFc)−を表し、aは1〜12の整数、b+cは2aであり、bは0〜24の整数、cは0〜24の整数を示す。このようなRfとしては、フルオロアルキレン基とアルキレン基とを有する基が好ましい。具体的に、このような含フッ素シリコーン系化合物としては、(MeO)SiCSi(MeO)、(MeO)SiCSi(MeO)、(MeO)SiC12Si(MeO)、(HO)SiCSi(OC、(HO)SiC12Si(OCで表されるメトキシジシラン化合物等が挙げられる。 Rf represents-(CaHbFc)-, a is an integer of 1 to 12, b + c is 2a, b is an integer of 0 to 24, and c is an integer of 0 to 24. Such Rf is preferably a group having a fluoroalkylene group and an alkylene group. Specifically, examples of such fluorine-containing silicone compounds include (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 2 F 4 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 4 F 8 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 12 C 2 H 4 Si (MeO) 3, (H 5 C 2 O) 3 SiC 2 H 4 C 4 F 8 C 2 H 4 Si (OC 2 H 5) 3, include methoxy disilane compound or the like represented by (H 5 C 2 O) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 12 C 2 H 4 Si (OC 2 H 5) 3.

ハードコート層にはシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。   The hard coat layer may contain a silane coupling agent. Silane coupling agents include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane. Ethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltri Acetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltri Ethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ- Acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N- Examples include β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane. Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimeth Shishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.

これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。   Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, and γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxyp Particularly preferred are propyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane.

2種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。   Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.

また、ハードコート層にはCF(CF)nCHCHSi(OR1)で表される珪素化合物を含有してもよい。(式中、R1は、1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表し、そしてnは、0〜12の整数を表す。)具体的化合物としては、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどが挙げられ、これらは単独でまたは二種以上組み合わせて用いることができる。また、HNCONH(CH)mSi(OR2)で表される末端位にウレイド基(HNCONH−)を有する珪素化合物を含有してもよい。(式中、R2は、1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表し、mは、1〜5の整数を表す。)具体的化合物としては、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリプロポキシシランなどが挙げられる。これらの中でもγ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどが特に好ましい。 In addition, the hard coat layer may contain a silicon compound represented by CF 3 (CF 2 ) nCH 2 CH 2 Si (OR 1 ) 3 . (In the formula, R1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12.) Specific examples of the compound include trifluoropropyltrimethoxysilane and trifluoropropyl. Examples include triethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane, and these are used alone or in combination of two or more. Can be used. It may also contain H 2 NCONH (CH) mSi ( OR2) silicon compound in the terminal position represented by 3 having a ureido group (H 2 NCONH-). (In the formula, R2 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 5.) Specific compounds include γ-ureidopropyltrimethoxysilane and γ-ureido. Examples thereof include propyltriethoxysilane and γ-ureidopropyltripropoxysilane. Among these, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, and the like are particularly preferable.

その他、ハードコート層はバインダーとして、例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、フルオロアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂等を用いることができる。ハードコート層は、全体で5〜95質量%のバインダーを含むことが好ましい。   In addition, the hard coat layer can use, for example, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, fluoroacrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin, or the like as a binder. It is preferable that a hard-coat layer contains 5-95 mass% binder on the whole.

(その他)
更にハードコート層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを添加してもよい。これら樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−COOM、−OH、−NR2、−NR3X、−SOM、−OSOM、−POM2、−OPOM(ここで、Mは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を、Xはアミン塩を形成する酸を、Rは水素原子、アルキル基を表す)等を挙げることができる。
(Other)
Further, a binder such as a known thermoplastic resin, thermosetting resin or hydrophilic resin such as gelatin may be added to the hard coat layer. These resins preferably have a polar group in the molecule. Examples of the polar group, -COOM, -OH, -NR2, -NR3X , -SO 3 M, -OSO 3 M, -PO 3 M2, -OPO 3 M ( wherein, M represents a hydrogen atom, an alkali metal or an ammonium group X represents an acid that forms an amine salt, and R represents a hydrogen atom or an alkyl group.

また、ハードコート層には耐傷性、滑り性や屈折率を調整するために無機化合物または有機化合物の微粒子を含んでもよい。   Further, the hard coat layer may contain fine particles of an inorganic compound or an organic compound in order to adjust the scratch resistance, slipperiness and refractive index.

ハードコート層に使用される無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。   Examples of inorganic fine particles used in the hard coat layer include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, and calcined kaolin. And calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.

また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物を加えることができる。特に好ましくは、架橋ポリスチレン粒子(例えば、綜研化学製SX−130H、SX−200H、SX−350H)、ポリメチルメタクリレート系粒子(例えば、綜研化学製MX150、MX300)、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げられる。フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば日本ペイント製:FS−701等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば日本ペイント製:S−4000,アクリル−スチレン粒子として、例えば日本ペイント製:S−1200、MG−251等が挙げられる。   Organic particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder. An ultraviolet curable resin composition such as polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, or polyfluoroethylene resin powder can be added. Particularly preferred are cross-linked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H, manufactured by Soken Chemical), polymethyl methacrylate-based particles (for example, MX150, MX300, manufactured by Soken Chemical), and fluorine-containing acrylic resin fine particles. . Examples of the fluorine-containing acrylic resin fine particles include commercial products such as FS-701 manufactured by Nippon Paint. Examples of the acrylic particles include Nippon Paint: S-4000, and examples of the acrylic-styrene particles include Nippon Paint: S-1200, MG-251.

これらの微粒子粉末の平均粒径としては、0.01〜5μmが好ましく0.1〜5.0μm、更に、0.1〜4.0μmであることが特に好ましい。また、粒径の異なる2種以上の微粒子を含有することが好ましい。紫外線硬化性樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜30質量部となるように配合することが望ましい。   The average particle diameter of these fine particle powders is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.1 to 5.0 μm, and particularly preferably 0.1 to 4.0 μm. Moreover, it is preferable to contain 2 or more types of microparticles | fine-particles from which a particle size differs. The proportion of the ultraviolet curable resin composition and the fine particles is desirably blended so as to be 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

ハードコート層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、4,4′−チオビス(6−tert−3−メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)メシチレン、ジ−オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。   In order to increase the heat resistance of the hard coat layer, an antioxidant that does not inhibit the photocuring reaction can be selected and used. Examples include hindered phenol derivatives, thiopropionic acid derivatives, phosphite derivatives, and the like. Specifically, for example, 4,4′-thiobis (6-tert-3-methylphenol), 4,4′-butylidenebis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) mesitylene, di-octadecyl-4- Examples thereof include hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl phosphate.

ハードコート層塗布液には溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   The hard coat layer coating solution may contain a solvent, or may be appropriately contained and diluted as necessary. Examples of the organic solvent contained in the coating solution include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), It can be appropriately selected from esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents, or a mixture thereof can be used. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the organic solvent containing at least mass%.

更にハードコート層には、シリコーン系界面活性剤或いはポリオキシエーテル化合物を含有させることが好ましい。シリコーン系界面活性剤としてはポリエーテル変性シリコーンが好ましく、具体的には、BYK−UV3500,BYK−UV3510、BYK−333、BYK−331、BYK−337(ビックケミ−ジャパン社製)、TSF4440、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE東芝シリコーン製)、KF−351、KF−351A、KF−352、KF−353、KF−354、KF−355、KF−615、KF−618、KF−945、KF−6004(ポリエーテル変性シリコーンオイル;信越化学工業社製)等が挙げられるがこれらに限定されない。   Further, the hard coat layer preferably contains a silicone surfactant or a polyoxyether compound. As the silicone surfactant, polyether-modified silicone is preferable. Specifically, BYK-UV3500, BYK-UV3510, BYK-333, BYK-331, BYK-337 (manufactured by BYK-Chemical Japan), TSF4440, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicone), KF-351, KF-351A, KF-352, KF-353, KF-354, KF-355, KF-615, KF-618, KF-945, KF- 6004 (polyether-modified silicone oil; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like are exemplified, but not limited thereto.

また、ポリオキシエーテル化合物の中では、好ましくはポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物であり、一般式(α)で表される化合物である。   Of the polyoxyether compounds, the polyoxyethylene oleyl ether compound is preferable, which is a compound represented by the general formula (α).

一般式(α) C1835−O(CO)nH
式中、nは2〜40を表す。
Formula (α) C 18 H 35 —O (C 2 H 4 O) nH
In the formula, n represents 2 to 40.

オレイル部分に対するエチレンオキシドの平均付加個数(n)は、2〜40であり、好ましくは2〜10、より好ましくは2〜9、さらに好ましくは2〜8である。また一般式(α)の化合物はエチレンオキシドとオレイルアルコールとを反応させて得られる。   The average addition number (n) of ethylene oxide with respect to the oleyl part is 2 to 40, preferably 2 to 10, more preferably 2 to 9, and further preferably 2 to 8. The compound of the general formula (α) can be obtained by reacting ethylene oxide with oleyl alcohol.

具体的商品としては、エマルゲン404(ポリオキシエチレン(4)オレイルエーテル)、エマルゲン408(ポリオキシエチレン(8)オレイルエーテル)、エマルゲン409P(ポリオキシエチレン(9)オレイルエーテル)、エマルゲン420(ポリオキシエチレン(13)オレイルエーテル)、エマルゲン430(ポリオキシエチレン(30)オレイルエーテル)以上花王社製、日本油脂製NOFABLEEAO−9905(ポリオキシエチレン(5)オレイルエーテル)等が挙げられる。尚、( )がnの数字を表す。   Specific products include Emulgen 404 (polyoxyethylene (4) oleyl ether), Emulgen 408 (polyoxyethylene (8) oleyl ether), Emulgen 409P (polyoxyethylene (9) oleyl ether), Emulgen 420 (polyoxy) Ethylene (13) oleyl ether), Emulgen 430 (polyoxyethylene (30) oleyl ether) or more, Kao Corporation, NOFBLEEAO-9905 (polyoxyethylene (5) oleyl ether) manufactured by NOF Corporation. Note that () represents the number n.

非イオン性のポリオキシエーテル化合物は単独或いは2種以上を併用しても良い。これらは塗布性を高め、これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。   Nonionic polyoxyether compounds may be used alone or in combination of two or more. These improve applicability | paintability and it is preferable to add these components in 0.01-3 mass% with respect to the solid content component in a coating liquid.

また、ハードコート層にはフッ素−シロキサングラフトポリマーを含有しても良い。   Further, the hard coat layer may contain a fluorine-siloxane graft polymer.

フッ素−シロキサングラフトポリマーとは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び/またはオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び/またはオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体のポリマーをいう。市販品としては、富士化成工業株式会社製のZX−022H、ZX−007C、ZX−049、ZX−047−D等を挙げることができる。またこれら化合物は混合して用いても良い。フッ素−シロキサングラフトポリマーは活性光線硬化型樹脂との含有質量比率をフッ素−シロキサングラフトポリマー:エネルギー活性線硬化樹脂=0.05:100〜5.00:100で用いることが塗布液中の安定性から好ましい。   The fluorine-siloxane graft polymer refers to a copolymer polymer obtained by grafting polysiloxane containing siloxane and / or organosiloxane alone and / or organopolysiloxane to at least a fluorine-based resin. Examples of commercially available products include ZX-022H, ZX-007C, ZX-049, and ZX-047-D manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd. These compounds may be used as a mixture. Fluorine-siloxane graft polymer should be used in a coating solution that has a mass ratio of actinic ray curable resin to fluorine-siloxane graft polymer: energy-active radiation curable resin = 0.05: 100 to 5.00: 100. To preferred.

また、ハードコート層は、2層以上の重層構造を有していてもよい。その中の1層、2層とも、例えば導電性微粒子、π共役系導電性ポリマー、または、イオン性ポリマーを含有する所謂導電性層としてもよい。π共役系導電性ポリマーとしては、ポリチオフェン、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリ(3−エチルチオフェン)、ポリ(3−プロピルチオフェン)、ポリ(3−ブチルチオフェン)、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)、ポリ(3−オクチルチオフェン)、ポリ(3−デシルチオフェン)、ポリ(3−ドデシルチオフェン)、ポリ(3−ブロモチオフェン)、ポリ(3−クロロチオフェン)、ポリ(3−シアノチオフェン)、ポリ(3−フェニルチオフェン)、ポリ(3,4−ジメチルチオフェン)、ポリ(3,4−ジブチルチオフェン)、ポリ(3−ヒドロキシチオフェン)、ポリ(3−メトキシチオフェン)、ポリ(3−エトキシチオフェン)、ポリ(3−ブトキシチオフェン)、ポリ(3−ヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3−オクチルオキシチオフェン)、ポリ(3−デシルオキシチオフェン)、ポリ(3−ドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジヒドロキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジメトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジエトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジプロポキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジブトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジオクチルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−プロピレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ブテンジオキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−メトキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−エトキシチオフェン)、ポリ(3−カルボキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシエチルチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシブチルチオフェン)、ポリピロール、ポリ(N−メチルピロール)、ポリ(3−メチルピロール)、ポリ(3−エチルピロール)、ポリ(3−N−プロピルピロール)、ポリ(3−ブチルピロール)、ポリ(3−オクチルピロール)、ポリ(3−デシルピロール)、ポリ(3−ドデシルピロール)、ポリ(3,4−ジメチルピロール)、ポリ(3,4−ジブチルピロール)、ポリ(3−カルボキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシエチルピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシブチルピロール)、ポリ(3−ヒドロキシピロール)、ポリ(3−メトキシピロール)、ポリ(3−エトキシピロール)、ポリ(3−ブトキシピロール)、ポリ(3−ヘキシルオキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−ヘキシルオキシピロール)、ポリアニリン、ポリ(2−メチルアニリン)、ポリ(3−イソブチルアニリン)、ポリ(2−アニリンスルホン酸)、ポリ(3−アニリンスルホン酸)等が挙げられる。これらはそれぞれ単独でも良いし、2種からなる共重合体でも好適に用いることができる。   The hard coat layer may have a multilayer structure of two or more layers. One or both of them may be a so-called conductive layer containing, for example, conductive fine particles, a π-conjugated conductive polymer, or an ionic polymer. Examples of the π-conjugated conductive polymer include polythiophene, poly (3-methylthiophene), poly (3-ethylthiophene), poly (3-propylthiophene), poly (3-butylthiophene), and poly (3-hexylthiophene). , Poly (3-octylthiophene), poly (3-decylthiophene), poly (3-dodecylthiophene), poly (3-bromothiophene), poly (3-chlorothiophene), poly (3-cyanothiophene), poly (3-phenylthiophene), poly (3,4-dimethylthiophene), poly (3,4-dibutylthiophene), poly (3-hydroxythiophene), poly (3-methoxythiophene), poly (3-ethoxythiophene) , Poly (3-butoxythiophene), poly (3-hexyloxythiophene), poly (3 Octyloxythiophene), poly (3-decyloxythiophene), poly (3-dodecyloxythiophene), poly (3,4-dihydroxythiophene), poly (3,4-dimethoxythiophene), poly (3,4-di Ethoxythiophene), poly (3,4-dipropoxythiophene), poly (3,4-dibutoxythiophene), poly (3,4-dihexyloxythiophene), poly (3,4-dioctyloxythiophene), poly ( 3,4-didecyloxythiophene), poly (3,4-didodecyloxythiophene), poly (3,4-ethylenedioxythiophene), poly (3,4-propylenedioxythiophene), poly (3,4 4-butenedioxythiophene), poly (3-methyl-4-methoxythiophene), poly (3-methyl-4 -Ethoxythiophene), poly (3-carboxythiophene), poly (3-methyl-4-carboxythiophene), poly (3-methyl-4-carboxyethylthiophene), poly (3-methyl-4-carboxybutylthiophene) , Polypyrrole, poly (N-methylpyrrole), poly (3-methylpyrrole), poly (3-ethylpyrrole), poly (3-N-propylpyrrole), poly (3-butylpyrrole), poly (3-octyl) Pyrrole), poly (3-decylpyrrole), poly (3-dodecylpyrrole), poly (3,4-dimethylpyrrole), poly (3,4-dibutylpyrrole), poly (3-carboxypyrrole), poly (3 -Methyl-4-carboxypyrrole), poly (3-methyl-4-carboxyethylpyrrole), poly (3-methyl 4-carboxybutylpyrrole), poly (3-hydroxypyrrole), poly (3-methoxypyrrole), poly (3-ethoxypyrrole), poly (3-butoxypyrrole), poly (3-hexyloxypyrrole), poly ( 3-methyl-4-hexyloxypyrrole), polyaniline, poly (2-methylaniline), poly (3-isobutylaniline), poly (2-anilinesulfonic acid), poly (3-anilinesulfonic acid) and the like. . Each of these may be used alone or two types of copolymers can be suitably used.

また、種々の表示素子に対する色補正用フィルターとして色調調整機能を有する色調調整剤(染料もしくは顔料等)を含有させてもよいし、また電磁波遮断剤または赤外線吸収剤等を含有させそれぞれの機能を有するようにすることは好ましい。   Further, as a color correction filter for various display elements, a color tone adjusting agent (dye or pigment, etc.) having a color tone adjusting function may be included, or an electromagnetic wave blocking agent or an infrared absorbing agent may be added to each function. It is preferable to have it.

ハードコート層塗布液の塗布方法としては、前述のものを用いることができる。塗布量はウェット膜厚として0.1〜100μmが適当で、好ましくは、0.5〜70μmである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚0.1〜50μm、好ましくは1〜35μmである。ハードコート層は1層でも2層以上の多層構造でもよい。   As the coating method of the hard coat layer coating solution, the above-described methods can be used. The coating amount is suitably 0.1 to 100 μm, preferably 0.5 to 70 μm, as the wet film thickness. Moreover, as a dry film thickness, it is an average film thickness of 0.1-50 micrometers, Preferably it is 1-35 micrometers. The hard coat layer may be a single layer or a multilayer structure of two or more layers.

ハードコート層は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が0.001〜0.1μmのクリアハードコート層、または微粒子等を添加しRaが0.1〜1μmに調整された防眩性ハードコート層であってもよい。中心線平均粗さ(Ra)は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製非接触表面微細形状計測装置WYKO NT−2000を用いて測定することができる。   The hard coat layer has a center line average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 of 0.001 to 0.1 μm, or a fine hard coat layer and Ra is adjusted to 0.1 to 1 μm. An antiglare hard coat layer may also be used. The center line average roughness (Ra) is preferably measured by an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured, for example, using a non-contact surface fine shape measuring device WYKO NT-2000 manufactured by WYKO.

(塗工工程)
ハードコート層形成において、本発明の目的効果がより発揮されやすい点から、ハードコート層は塗布乾燥後に、光照射し、更に加熱処理する工程が好ましい。
(Coating process)
In the formation of the hard coat layer, the step of subjecting the hard coat layer to light irradiation and subsequent heat treatment after coating and drying is preferred from the viewpoint that the objective effect of the present invention is more easily exhibited.

加熱処理する工程は、例えば図1に示すような形態が挙げられる。また、加熱処理する工程としては、温湿度が調整可能な場所で行うことが必要であり、塵のないクリーンルーム等で行うことが好ましい。   An example of the heat treatment step is as shown in FIG. In addition, the heat treatment step needs to be performed in a place where the temperature and humidity can be adjusted, and is preferably performed in a clean room without dust.

加熱処理の好ましい温度は、目的効果がより良く発揮される点から、80℃以上、更に好ましくは120℃以上である。また、加熱処理の時間としては、20分以下が好ましい。20分より長い時間、加熱処理を実施しても、より良く得られる目的効果は変わらず、フィルムが熱による変色や変形等、外観劣化が生じやすくなる。   A preferable temperature for the heat treatment is 80 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, from the viewpoint that the target effect is better exhibited. Further, the heat treatment time is preferably 20 minutes or less. Even if the heat treatment is carried out for a time longer than 20 minutes, the objective effect obtained better is not changed, and the film tends to be deteriorated in appearance such as discoloration or deformation due to heat.

ここでいう加熱処理時間とは、所望の温度に一定に保持されている時間をいい、昇温時の時間、降温時の時間は含まないものとする。   The heat treatment time here refers to a time during which the temperature is kept constant at a desired temperature, and does not include the time when the temperature is raised and the time when the temperature is lowered.

保持する温度は設定温度の±5℃の範囲とすることが好ましい。加熱処理工程は複数室有っても良い。その場合は、各々温度を変えることができるように設計されていても良い。   The temperature to be held is preferably in the range of ± 5 ° C. of the set temperature. There may be a plurality of heat treatment steps. In that case, it may be designed so that each temperature can be changed.

図1は、照射後に連続して加熱処理する工程を示した概略図である。長尺フィルムYは繰り出しロール1より繰り出され、搬送ローラー2により搬送され、押出しコータ3によりハードコート層が塗布される。この時ハードコート層は単層構成でも、複数から構成されている層でもよい。ハードコート層が塗布された長尺フィルムYは、次いで乾燥ゾーン5により乾燥される。乾燥ゾーン5の温度は50〜150℃の範囲で行うことが好ましい。乾燥は長尺フィルムYの表面もしくは裏面或いは両面より、温湿度が制御された温風を吹き付けることにより施される。乾燥後、光線照射ランプユニット6内の空冷活性光線ランプ6aにより活性光線、例えば紫外線などを照射することにより膜を硬化する。或いは照射量や照射条件を制御してハーフキュア状態とすることもできる。活性光線照射は、予め20〜120℃に温度制御された対向ロール4に長尺フィルムYを巻いた状態で行うこともできる。   FIG. 1 is a schematic view showing a step of performing heat treatment continuously after irradiation. The long film Y is fed out from the feed roll 1, transported by the transport roller 2, and a hard coat layer is applied by the extrusion coater 3. At this time, the hard coat layer may be a single layer structure or a plurality of layers. Next, the long film Y coated with the hard coat layer is dried in the drying zone 5. The temperature of the drying zone 5 is preferably 50 to 150 ° C. Drying is performed by blowing warm air whose temperature and humidity are controlled from the front surface, back surface, or both surfaces of the long film Y. After drying, the film is cured by irradiating actinic rays such as ultraviolet rays with an air-cooled actinic ray lamp 6 a in the light irradiation lamp unit 6. Alternatively, the half-cure state can be achieved by controlling the irradiation amount and irradiation conditions. Actinic ray irradiation can also be performed in a state in which the long film Y is wound around the opposing roll 4 whose temperature is controlled to 20 to 120 ° C. in advance.

その際空冷用Air通風口6bから活性光線照射部の温度調整のために冷却風を送ることも好ましく、また、N用供給チャンバーからハードコート層の硬化を促進するためにNガスを供給することも好ましい。 At that time, it is also preferable to send cooling air from the air cooling air vent 6b to adjust the temperature of the actinic ray irradiating unit, and N 2 gas is supplied from the N 2 supply chamber to promote hardening of the hard coat layer. It is also preferable to do.

光照射ランプの例としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。これらの光源は空冷もしくは水冷方式のものが好ましく用いられる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性光線の照射量は好ましくは、50mJ/cm〜1J/cmであり、特に好ましくは50〜500mJ/cmである。また照射部には窒素パージにより酸素濃度を0.01%〜5%に低減することが好ましい。 As examples of the light irradiation lamp, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. These light sources are preferably air-cooled or water-cooled. The irradiation conditions vary depending on individual lamps, the dose of active ray is preferably a 50mJ / cm 2 ~1J / cm 2 , particularly preferably 50 to 500 mJ / cm 2. Further, it is preferable to reduce the oxygen concentration to 0.01% to 5% by nitrogen purge in the irradiated portion.

次いで、光照射後、加熱ゾーン7で熱処理される。加熱ゾーン7は上下に配置された搬送ローラー2により長尺フィルムYを所定の温度で所定の時間、加熱処理を行う。   Next, after the light irradiation, heat treatment is performed in the heating zone 7. In the heating zone 7, the long film Y is heated at a predetermined temperature for a predetermined time by the transport rollers 2 arranged above and below.

加熱処理工程において、フィルムの搬送方向または巾手方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、付与する張力は50〜500N/mが好ましく、更に好ましくは、250〜500N/mである。250〜500N/mにおいて、より過酷な耐久性試験後において、本発明の目的効果がより良く発揮される。500N/mを超えると、フィルムの平面性が保ちにくくなる。幅手張力付与方法は特に限定されず、フリースパン、バックロール上などでしてもよい。また、幅手方向に幅規制装置を用いて張力を付与する方法も効果があり、好ましくは3.0%以下での延伸、更に好ましくは0.05%〜1.0%延伸することで効果がより発揮される。これによってブロッキング耐性に優れたフィルムを得ることができる。   In the heat treatment step, it is preferably performed while applying a tension in the film transport direction or the width direction, and the applied tension is preferably 50 to 500 N / m, and more preferably 250 to 500 N / m. At 250 to 500 N / m, the objective effect of the present invention is better exhibited after a more severe durability test. When it exceeds 500 N / m, it becomes difficult to maintain the flatness of the film. The width tension applying method is not particularly limited, and may be a free span, a back roll or the like. In addition, a method of applying tension using a width regulating device in the width direction is also effective, preferably stretching by 3.0% or less, more preferably by stretching by 0.05% to 1.0%. Is more effective. Thereby, a film excellent in blocking resistance can be obtained.

加熱処理を行った長尺フィルムYは、巻き取り室8において、巻き取りロール9として巻き取られる。その際温風吹き出し口10から所定の温度の温風を吹き付けながら行うことも好ましい。帯電防止、ゴミ付着防止対策として、上記温風は相対湿度10〜70%RHの範囲、好ましくは20〜70%RH、特に40〜60%RHに調整することが好ましい。また、温風がイオン風であることが好ましく、巻き取り部近傍に除電装置やエアークリーナーを設置することが好ましい。   The long film Y subjected to the heat treatment is taken up as a take-up roll 9 in the take-up chamber 8. In that case, it is also preferable to carry out while blowing hot air of a predetermined temperature from the hot air outlet 10. As a measure for preventing electrification and dust adhesion, the hot air is preferably adjusted to a relative humidity in the range of 10 to 70% RH, preferably 20 to 70% RH, particularly 40 to 60% RH. Moreover, it is preferable that warm air is an ion wind, and it is preferable to install a static elimination apparatus and an air cleaner in the vicinity of the winding part.

加熱処理は、図2のように塗布、乾燥、光照射後、巻き取られたハードコートフィルムのロールを移動可能な台車12に載せ、加熱処理室Aで加熱処理する方法でもよい。   As shown in FIG. 2, the heat treatment may be performed by applying a roll of the hard coat film wound on the movable carriage 12 after the application, drying, and light irradiation, and performing the heat treatment in the heat treatment chamber A.

加熱処理処理Aでは、急激な温度上昇によるフィルムロールの巻き内外の温度差が大きくなり、巻き芯近くに皺等が入るのをさけるため、徐々に温度を上昇または下降させるようにすることが好ましい。具体的には、昇温速度、降温速度は0.3〜5℃/時間が好ましい。   In the heat treatment A, it is preferable to gradually increase or decrease the temperature in order to prevent a temperature difference between the inside and outside of the roll of the film roll due to a rapid temperature increase and avoid wrinkles and the like near the winding core. . Specifically, the rate of temperature increase and the rate of temperature decrease are preferably 0.3 to 5 ° C./hour.

また、ブロッキングを防止したり、巻き姿を良好に保つため、ナーリング加工を施すことが好ましい。ナーリング加工はフィルムの少なくとも一方の面に形成されていればよく、また両面に形成されていてもよい。ナーリング部の厚みは、ハードコート層の膜厚よりも厚くすることが好ましく、ナーリング部の厚みを5〜30μmの範囲にすることが好ましい。好ましくは10〜25μmの範囲である。   Moreover, in order to prevent blocking and to keep a winding form favorable, it is preferable to give a knurling process. The knurling process should just be formed in the at least one surface of the film, and may be formed in both surfaces. The thickness of the knurling part is preferably larger than the film thickness of the hard coat layer, and the thickness of the knurling part is preferably in the range of 5 to 30 μm. Preferably it is the range of 10-25 micrometers.

また、ハードコートフィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度に耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであってもよく、例えばフェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。またガラス繊維等の充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。これらの巻きコアへの巻き数は、100巻き以上であることが好ましく、500巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は5cm以上であることが好ましい。また、ロール状に巻き取ったハードコートフィルムを、巻き取った状態で前記加熱処理を行う時、該ロールを回転させてもよい。   In addition, as the winding core when winding the hard coat film in a roll shape, any material may be used as long as it is a cylindrical core, preferably a hollow plastic core, and a plastic material As long as it is a heat-resistant plastic that can withstand the heat treatment temperature, any resin such as phenol resin, xylene resin, melamine resin, polyester resin, and epoxy resin can be used. A thermosetting resin reinforced with a filler such as glass fiber is preferred. The number of windings on these winding cores is preferably 100 windings or more, more preferably 500 windings or more, and the winding thickness is preferably 5 cm or more. Moreover, when performing the said heat processing in the state which wound the hard coat film wound up in roll shape, you may rotate this roll.

回転は、1分間に1回転以下の速度が好ましく、連続でもよく断続的な回転であってもよい。また、加熱期間中に該ロールの巻き替えを1回以上行うことも好ましい。   The rotation is preferably performed at a speed of 1 rotation or less per minute, and may be continuous or intermittent. Moreover, it is also preferable to perform the roll rewinding once or more during the heating period.

コアに巻き取られた長巻のハードコートフィルムを加熱処理中に回転させるために、加熱処理室に専用の回転台を設けることが好ましい。より好ましくは、耐熱性のある回転機能を有する専用の台車にハードコートフィルムをセットして、加熱室にて加熱処理中に回転させることである。   In order to rotate the long hard coat film wound around the core during the heat treatment, it is preferable to provide a dedicated turntable in the heat treatment chamber. More preferably, the hard coat film is set on a dedicated carriage having a heat-resistant rotation function and rotated during the heat treatment in the heating chamber.

加熱処理が終了したハードコートフィルムロールは例えば、巻き返し工程(不図示)に運ばれ、ハードコートフィルムの巻き返しを行いながら室温まで冷却し、巻き返しロールを得ることも好ましい。更に、巻き返し工程では、相対湿度10〜70%RHの雰囲気を通過させるか、該雰囲気で巻き取ることが好ましい。相対湿度は、好ましくは20〜70%RH、特に40〜60%RHであると、静電気故障や巻き姿の崩れはなく良好なハードコートフィルムロールを得ることができる。フィルム巻き替えの速度は、1〜200m/分、好ましくは10〜100m/分の範囲が好ましい。巻き替え時には、フィルムを引き出した状態で少なくとも1本以上のローラーと接触させて巻き取ることが、フィルム温度を低下させるためにも好ましい。   It is also preferable that the hard coat film roll after the heat treatment is carried, for example, to a rewinding step (not shown) and cooled to room temperature while the hard coat film is rewinded to obtain a rewind roll. Furthermore, in the rewinding step, it is preferable to pass an atmosphere having a relative humidity of 10 to 70% RH or to wind in the atmosphere. When the relative humidity is preferably 20 to 70% RH, particularly 40 to 60% RH, a good hard coat film roll can be obtained without static electricity failure or collapse of the winding shape. The film rewinding speed is in the range of 1 to 200 m / min, preferably 10 to 100 m / min. At the time of rewinding, it is preferable that the film is drawn out and brought into contact with at least one roller in order to lower the film temperature.

これらのロールの回転や巻き替えを行う際は、フィルムに静電気故障や傷が発生する可能性があり、除電装置の設置やクリーンルームでの実施が好ましく、又巻き替え時の接触ローラ表面は平滑性の高いものを用いることが好ましい。   When rotating or rewinding these rolls, there is a possibility that static electricity failure or scratches may occur on the film. It is preferable to install a static eliminator or in a clean room. The surface of the contact roller during rewinding is smooth. It is preferable to use one having a high value.

上記加熱処理工程の加熱手段としては、熱風の吹き付け、加熱ロールによる接触伝熱、マイクロ波による誘導加熱、赤外線ヒーターによる輻射熱加熱等を利用できる。赤外線ヒーターは、電気式、ガス式、オイル式あるいはスチーム式の遠赤外セラミックヒーターが利用できる。市販の赤外線ヒーター(例えば(株)ノリタケカンパニーリミテド製)を用いてもよい。熱媒体が、オイルまたはスチームを用いるオイル式またはスチーム式の赤外ヒーターは、有機溶剤が共存する雰囲気における防爆の観点で好ましい。また、加熱時のフィルム温度や加熱温度は、一般に市販されている非接触式の赤外線温度計で測定できる。また、温度範囲を制御するために、加熱手段に対してフィードバック制御を行ってもよい。   As the heating means in the heat treatment step, hot air blowing, contact heat transfer using a heating roll, induction heating using a microwave, radiant heat heating using an infrared heater, or the like can be used. As the infrared heater, an electric, gas, oil or steam far infrared ceramic heater can be used. A commercially available infrared heater (for example, manufactured by Noritake Company Limited) may be used. An oil-type or steam-type infrared heater using oil or steam as the heat medium is preferable from the viewpoint of explosion prevention in an atmosphere in which an organic solvent coexists. Moreover, the film temperature and heating temperature at the time of a heating can be measured with the non-contact-type infrared thermometer generally marketed. Further, feedback control may be performed on the heating means in order to control the temperature range.

これらのハードコート層の塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することができる。   As a coating method of these hard coat layers, it can be applied by a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an ink jet method.

また、本発明のハードコート層は、(HMs)が400N/mm以上、800N/mm以下であることが好ましい。該範囲にマルテンス硬さを調整する事で、表面硬度に優れ、かつ本発明の目的効果がより良く発揮される。 Further, the hard coat layer of the present invention, (HMS) is 400 N / mm 2 or more, and preferably 800 N / mm 2 or less. By adjusting the Martens hardness within this range, the surface hardness is excellent, and the object effect of the present invention is exhibited better.

マルテンス硬さ(ビッカース硬さ)とは、ビッカース圧子及び稜線同士の角度が115度の三角錐圧子を用いた微小硬度計で、フィルムのハードコート表面を、ハードコート層の膜厚の略1/10の厚みまで圧子を押し込んだ時の負荷試験力−押し込み深さ曲線において、該負荷試験力−押し込み深さ曲線から求められる最大負荷試験力(Fmax)の50%値から90%値までの押し込み深さが負荷試験力の平方根に比例する傾き(m)より、下記式で定義される値をいう。   Martens hardness (Vickers hardness) is a microhardness meter using a Vickers indenter and a triangular pyramid indenter whose angle between ridges is 115 degrees. The hard coat surface of the film is approximately 1 / th of the film thickness of the hard coat layer. In the load test force-indentation depth curve when the indenter is pushed down to a thickness of 10, the indentation from the 50% value to the 90% value of the maximum load test force (Fmax) obtained from the load test force-indentation depth curve From the slope (m) in which the depth is proportional to the square root of the load test force, it is a value defined by the following formula.

1HMs=1/(26.4m
本発明のハードコート層を有する第1保護フィルム、及び偏光板は、高い鉛筆硬度を有することにより本発明の効果が発揮されやすいことから、鉛筆硬度は好ましくは3H以上であり、より好ましくは4H以上である。鉛筆硬度が3H以上で、高硬度の特性を示す。また、本発明における表面硬度とは、鉛筆硬度の事を意味する。
1HMs = 1 / (26.4m 2 )
Since the first protective film having the hard coat layer and the polarizing plate of the present invention have a high pencil hardness, the effect of the present invention is easily exhibited, so the pencil hardness is preferably 3H or more, more preferably 4H. That's it. The pencil hardness is 3H or higher and high hardness characteristics are exhibited. The surface hardness in the present invention means pencil hardness.

鉛筆硬度は、作製したハードコートフィルムを温度23℃、相対湿度55%の条件で2時間以上調湿した後、JIS S 6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS K 5400が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。   For the pencil hardness, the prepared hard coat film is conditioned at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% for 2 hours or more, and then using a test pencil specified by JIS S 6006, the pencil hardness specified by JIS K 5400. It is the value measured according to the evaluation method.

ハードコート層は以下の表面処理を行って良い。表面処理方法の方法としては、洗浄法、アルカリ鹸化処理法、プラズマ処理法、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等が挙げられる。   The hard coat layer may be subjected to the following surface treatment. Examples of the surface treatment method include a cleaning method, an alkali saponification treatment method, a plasma treatment method, an electron beam method, an ion beam method, a sputtering method, an acid treatment, a corona treatment method, and an atmospheric pressure glow discharge plasma method.

アルカリ鹸化処理方法としては、フィルムをアルカリ溶液に浸漬した後、水洗して乾燥するサイクルで行われるのが、一般的である。また、アルカリ処理後、酸性水工程で中和してから、水洗、及び乾燥を行ってもよい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液があげられ、水酸化イオンの規定濃度は0.1〜3Nであることが好ましく、0.5N〜2Nであることが更に好ましい。前記範囲とすることで優れたハードコート層と低屈折率層との接着性が得られる。アルカリ溶液の温度は、アルカリ溶液の析出性等の点から、25〜90℃の範囲が好ましく、40〜70℃が更に好ましい。アルカリ処理時間は5秒〜5分、好ましくは30秒〜3分である。   The alkali saponification treatment is generally carried out in a cycle in which the film is immersed in an alkali solution, washed with water and dried. Further, after the alkali treatment, neutralization in an acidic water step may be performed, followed by washing with water and drying. Examples of the alkaline solution include potassium hydroxide solution and sodium hydroxide solution, and the prescribed concentration of hydroxide ions is preferably 0.1 to 3N, and more preferably 0.5N to 2N. Adhesiveness between the hard coat layer and the low refractive index layer can be obtained by setting the content in the above range. The temperature of the alkaline solution is preferably in the range of 25 to 90 ° C., more preferably 40 to 70 ° C., from the viewpoint of precipitation of the alkaline solution. The alkali treatment time is 5 seconds to 5 minutes, preferably 30 seconds to 3 minutes.

また、アルカリ鹸化処理は、ハードコート層面にアルカリ溶液を塗布する方式でもよく、例えば特開2003−313326号公報、特開2007−332253号公報に記載の方法を用いてもよい。   Further, the alkali saponification treatment may be performed by applying an alkali solution to the hard coat layer surface. For example, the methods described in JP-A Nos. 2003-313326 and 2007-332253 may be used.

プラズマ処理としては、フレームプラズマ処理、大気圧プラズマ処理、常圧プラズマ処理等が挙げられる。   Examples of the plasma treatment include flame plasma treatment, atmospheric pressure plasma treatment, and atmospheric pressure plasma treatment.

また、プラズマ処理としては、特開2004−352777号公報、特開2004−352777号公報、特開2007−314707号公報等に開示されているプラズマ処理技術も参考にすることができる。   As plasma treatment, plasma treatment techniques disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2004-352777, 2004-352777, 2007-314707, and the like can also be referred to.

また、表面処理後のハードコート層表面の純水接触角は、60°以下が、例えば低屈折率層をハードコート層上に設けた場合、とハードコート層との密着性が向上する点から好ましい。接触角はJIS K 2396に基づいて測定を行うことができる。   Further, the pure water contact angle on the surface of the hard coat layer after the surface treatment is 60 ° or less because, for example, when a low refractive index layer is provided on the hard coat layer, the adhesion between the hard coat layer and the hard coat layer is improved. preferable. The contact angle can be measured based on JIS K 2396.

<反射防止フィルム>
本発明に係るハードコート層を有する第1保護フィルムは、ハードコート層上に直接又は他の層を介して低屈折率層が積層され反射防止機能を有しても良い。反射防止機能を有する事で、画像表示装置に組み込んだ場合の視認性を高める効果が得られる。
<Antireflection film>
The first protective film having a hard coat layer according to the present invention may have an antireflection function in which a low refractive index layer is laminated directly or via another layer on the hard coat layer. By having an antireflection function, an effect of improving the visibility when incorporated in an image display device can be obtained.

(低屈折率層)
低屈折率層とは、フィルム基材の屈折率よりも低い層をいう。具体的な屈折率としては、23℃、波長550nmで1.20〜1.45の範囲のものが好ましい。また、低屈折率層の膜厚は、光学干渉層としての特性から、5nm〜0.5μmが好ましく、10nm〜0.3μmがより好ましく、30nm〜0.2μmであることが更に好ましい。
(Low refractive index layer)
A low refractive index layer means a layer lower than the refractive index of a film base material. A specific refractive index is preferably in the range of 1.20 to 1.45 at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. Further, the film thickness of the low refractive index layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and further preferably 30 nm to 0.2 μm, from the characteristics as an optical interference layer.

また、低屈折率層の他に、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層を更に組み合わせて、反射防止層を構成しても良い。更に、中屈折率層(支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)が積層されても良い。また、フィルム裏面にはバックコート層を設けてもよい。   Further, in addition to the low refractive index layer, an antireflection layer may be configured by further combining a high refractive index layer having a higher refractive index than the support. Further, a medium refractive index layer (a layer having a higher refractive index than the support and a lower refractive index than the high refractive index layer) may be laminated. Moreover, you may provide a backcoat layer in the film back surface.

具体的な反射防止フィルムの層構成としては下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。   Specific examples of the layer structure of the antireflection film include the following, but are not limited thereto.

透明フィルム/ハードコート層/中屈折率層/低屈折率層
透明フィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
透明フィルム/ハードコート層/低屈折率層
透明フィルム/ハードコート層/導電性層/低屈折率層
透明フィルム/ハードコート層/高屈折率層(導電性層)/低屈折率層
透明フィルム/ハードコート層/防眩性層/低屈折率層
バックコート層/透明フィルム/ハードコート層/低屈折率層
バックコート層/透明フィルム/ハードコート層/中屈折率層/低屈折率層
バックコート層/透明フィルム/ハードコート層/防眩性層/低屈折率層
バックコート層/透明フィルム/ハードコート層/導電性層/低屈折率層
バックコート層/透明フィルム/ハードコート層/高屈折率層(導電性層)/低屈折率層
低屈折率層形成用組成物は、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質または空洞の粒子を少なくとも1種類以上含有しても良く、中でも該外殻層を有し内部が多孔質または空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子が好ましい。
Transparent film / Hard coat layer / Medium refractive index layer / Low refractive index layer Transparent film / Hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Transparent film / Hard coat layer / Low refractive index layer Transparent film / Hard coat layer / conductive layer / low refractive index layer Transparent film / hard coat layer / high refractive index layer (conductive layer) / low refractive index layer Transparent film / hard coat layer / antiglare layer / low refractive index layer Back coat layer / transparent film / hard coat layer / low refractive index layer Back coat layer / transparent film / hard coat layer / medium refractive index layer / low refractive index layer Back coat layer / transparent film / hard coat layer / antiglare layer / Low refractive index layer Back coat layer / Transparent film / Hard coat layer / Conductive layer / Low refractive index layer Back coat layer / Transparent film / Hard coat layer / High refractive index layer (conductive layer) / Low refractive index layer Low The composition for forming a refractive layer may contain at least one kind of particles having an outer shell layer and porous or hollow inside as silica-based fine particles. The porous or hollow particles are preferably hollow silica-based fine particles.

(中空シリカ系微粒子)
中空シリカ系微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。なお、低屈折率層には(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。
(Hollow silica fine particles)
The hollow silica-based fine particles are (I) composite particles comprising porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (II) having cavities inside, and the contents are solvent, gas or porous It is a hollow particle filled with a porous material. Note that the low refractive index layer only needs to contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or both.

なお、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は被覆層(粒子壁ともいう。)で覆われている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される中空微粒子の平均粒子径は、形成される低屈折率層の平均膜厚の3/2〜1/10好ましくは2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの中空微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)、或いはこれらを含む混合溶媒が好ましい。   Note that the cavity particles are particles having a cavity inside, and the cavity is covered with a coating layer (also referred to as a particle wall). The cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle size of such hollow fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The average particle diameter of the hollow fine particles to be used is desirably 3/2 to 1/10, preferably 2/3 to 1/10, of the average film thickness of the low refractive index layer to be formed. These hollow fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol) and ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), ketone alcohol (for example, diacetone alcohol), or a mixed solvent containing these is preferable.

複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することができないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマー等が容易に複合粒子の内部の空隙部分に進入して粒子の屈折率を増加させ、低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持できないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。   The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, if the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and it is easy to use a silicate monomer or oligomer having a low polymerization degree, which is a coating liquid component described later. In some cases, the refractive index of the particles is increased by entering the voids inside the composite particles, and the effect of low refractive index may not be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, if the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. .

複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al、B、TiO、ZrO、SnO、CeO、P、Sb、MoO、ZnO、WO等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF、NaF、NaAlF6、MgF等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al、B、TiO、ZrO、SnO、CeO、P、Sb、MoO、ZnO、WO等との1種または2種以上を挙げることができる。このような多孔質粒子では、シリカをSiOで表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MO)で表したときのモル比MO/SiOが、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MO/SiOが0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比MO/SiOが、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、更に屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. Moreover, components other than silica may be contained, and specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3. , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6, MgF, and the like. Among these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 and WO 3. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MO X / SiO 2 when the silica is expressed by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is expressed in terms of oxide (MO X ) is 0.0001 to 1.0, Preferably it is in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain a porous particle having a molar ratio MO X / SiO 2 of less than 0.0001. Even if it is obtained, a pore volume is small and particles having a low refractive index cannot be obtained. In addition, when the molar ratio MO X / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it is difficult to obtain a material having a lower refractive index. is there.

このような多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。   The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.

なお、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることができる。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例示した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。   In addition, the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Moreover, what consists of the compound illustrated by the said porous particle as a porous substance is mentioned. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.

このような中空微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第1〜第3工程から中空微粒子は製造される。   As a method for producing such hollow fine particles, for example, the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed. Specifically, when the composite particles are composed of silica and an inorganic compound other than silica, hollow fine particles are produced from the following first to third steps.

第1工程:多孔質粒子前駆体の調製
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
First Step: Preparation of Porous Particle Precursor In the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is separately prepared in advance, or a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica are prepared in advance. A mixed aqueous solution is prepared, and this aqueous solution is gradually added to an aqueous alkaline solution having a pH of 10 or more while stirring according to the composite ratio of the target composite oxide to prepare a porous particle precursor.

シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム(水ガラス)やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン類を挙げることができる。なお、アンモニウムのケイ酸塩または有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第4級アンモニウム水酸化物、アミン化合物等を添加したアルカリ性溶液も含まれる。   As the silica raw material, alkali metal, ammonium or organic base silicate is used. Sodium silicate (water glass) or potassium silicate is used as the alkali metal silicate. Examples of the organic base include quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, and amines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. The ammonium silicate or the organic base silicate includes an alkaline solution obtained by adding ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound or the like to a silicic acid solution.

また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物が用いられる。具体的には、Al、B、Ti、Zr、Sn、Ce、P、Sb、Mo、Zn、W等から選ばれる元素のオキソ酸、該オキソ酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩を挙げることができる。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、錫酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。   In addition, alkali-soluble inorganic compounds are used as raw materials for inorganic compounds other than silica. Specifically, an oxo acid of an element selected from Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W, etc., an alkali metal salt or alkaline earth metal salt of the oxo acid, ammonium And salts and quaternary ammonium salts. More specifically, sodium aluminate, sodium tetraborate, zirconyl ammonium carbonate, potassium antimonate, potassium stannate, sodium aluminosilicate, sodium molybdate, cerium ammonium nitrate, and sodium phosphate are suitable.

これらの水溶液の添加と同時に混合水溶液のpH値は変化するが、このpH値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類及びその混合割合によって定まるpH値となる。このときの水溶液の添加速度には特に制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。当該シード粒子としては、特に制限はないが、SiO、Al、TiOまたはZrO等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることができる。更に前記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のpHを10以上に調整した後、該シード粒子分散液中に前記化合物の水溶液を、上記したアルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のpH制御を行う必要はない。このようにしてシード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることができる。 Although the pH value of the mixed aqueous solution changes simultaneously with the addition of these aqueous solutions, an operation for controlling the pH value within a predetermined range is not particularly required. The aqueous solution finally has a pH value determined by the type of inorganic oxide and the mixing ratio thereof. There is no restriction | limiting in particular in the addition rate of the aqueous solution at this time. Further, in the production of composite oxide particles, a dispersion of seed particles can be used as a starting material. The seed particles are not particularly limited, but inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 or ZrO 2 or fine particles of these composite oxides are used. Usually, these sols are used. Can do. Furthermore, the porous particle precursor dispersion obtained by the above production method may be used as a seed particle dispersion. When using a seed particle dispersion, the pH of the seed particle dispersion is adjusted to 10 or higher, and then an aqueous solution of the compound is added to the above-mentioned alkaline aqueous solution while stirring. Also in this case, it is not always necessary to control the pH of the dispersion. When seed particles are used in this way, it is easy to control the particle size of the porous particles to be prepared, and particles with uniform particle sizes can be obtained.

上記したシリカ原料及び無機化合物原料はアルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいpH領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン及びアルミン酸イオン等のオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して微粒子に成長したり、または、シード粒子上に析出して粒子成長が起る。従って、微粒子の析出、成長に際して、従来法のようなpH制御は必ずしも行う必要がない。   The silica raw material and the inorganic compound raw material described above have high solubility on the alkali side. However, when both are mixed in this highly soluble pH region, the solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these composites precipitate and grow into fine particles, or seed particles. It grows on the top and particle growth occurs. Therefore, it is not always necessary to perform pH control as in the conventional method for precipitation and growth of fine particles.

第1工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物(MO)に換算し、MO/SiOのモル比が、0.05〜2.0、好ましくは0.2〜2.0の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が2.0を越えても、多孔質粒子の細孔の容積はほとんど増加しない。他方、モル比が0.05未満の場合は、細孔容積が小さくなる。空洞粒子を調製する場合、MO/SiOのモル比は、0.25〜2.0の範囲内にあることが望ましい。 The composite ratio of silica and an inorganic compound other than silica in the first step is that the inorganic compound relative to silica is converted to an oxide (MO X ), and the molar ratio of MO X / SiO 2 is 0.05 to 2.0, Preferably it is in the range of 0.2-2.0. Within this range, the pore volume of the porous particles increases as the proportion of silica decreases. However, even when the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small. When preparing the hollow particles, the molar ratio of MO X / SiO 2 is preferably in the range of 0.25 to 2.0.

第2工程:多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、または、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
Second step: Removal of inorganic compound other than silica from porous particles In the second step, inorganic compounds other than silica (elements other than silicon and oxygen) are obtained from the porous particle precursor obtained in the first step. At least a portion is selectively removed. As a specific removal method, the inorganic compound in the porous particle precursor is dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or is contacted with a cation exchange resin for ion exchange removal.

なお、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。このように多孔質粒子前駆体から無機化合物(珪素と酸素以外の元素)を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物(珪素と酸素以外の元素)を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することができる。   The porous particle precursor obtained in the first step is a particle having a network structure in which silicon and an inorganic compound constituent element are bonded through oxygen. By removing the inorganic compound (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor in this way, porous particles having a larger porosity and a larger pore volume can be obtained. Further, if the amount of removing the inorganic oxide (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor is increased, the hollow particles can be prepared.

また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られる、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有するケイ酸液または加水分解性の有機珪素化合物を添加してシリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは0.5〜15nmの厚さであればよい。なおシリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり厚さが薄いので、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。   In addition, prior to removing inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor, fluorine-substituted, obtained by dealkalizing an alkali metal salt of silica into the porous particle precursor dispersion obtained in the first step. It is preferable to add a silicic acid solution containing an alkyl group-containing silane compound or a hydrolyzable organosilicon compound to form a silica protective film. The thickness of the silica protective film may be 0.5 to 15 nm. Even if the silica protective film is formed, the protective film in this step is porous and thin, so that it is possible to remove inorganic compounds other than silica described above from the porous particle precursor.

このようなシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することができる。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく後述するシリカ被覆層を形成することができる。なお、除去する無機化合物の量が少ない場合は粒子が壊れることがないので必ずしも保護膜を形成する必要はない。   By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than silica described above can be removed from the porous particle precursor while maintaining the particle shape. Further, when forming the silica coating layer described later, the pores of the porous particles are not blocked by the coating layer, and therefore the silica coating layer described later is formed without reducing the pore volume. Can do. Note that when the amount of the inorganic compound to be removed is small, the particles are not broken, and thus it is not always necessary to form a protective film.

また空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、該シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、該空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。   When preparing hollow particles, it is desirable to form this silica protective film. When preparing the hollow particles, the inorganic compound is removed to obtain a hollow particle precursor composed of a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid content. When a coating layer to be described later is formed on the precursor, the formed coating layer becomes a particle wall to form hollow particles.

上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持できる範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多過ぎると、シリカ保護膜が厚くなり過ぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、一般式RSi(OR′)4−n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、フッ素置換したテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The amount of the silica source added for forming the silica protective film is preferably small as long as the particle shape can be maintained. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, and it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica protective film formed of the general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, such as acrylic group An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as fluorine-substituted tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the porous particles, and the alkoxysilane is hydrolyzed. The produced silicic acid polymer is deposited on the surface of the inorganic oxide particles. At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、または有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。なお、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。   When the dispersion medium of the porous particle precursor is water alone or when the ratio of water to the organic solvent is high, a silica protective film can be formed using a silicic acid solution. When a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles. In addition, you may produce a silica protective film together using a silicic acid liquid and the said alkoxysilane.

第3工程:シリカ被覆層の形成
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
Third step: Formation of silica coating layer In the third step, the porous particle dispersion prepared in the second step (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor dispersion) contains a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound. By adding a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution, the surface of the particles is coated with a polymer such as a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution to form a silica coating layer.

シリカ被覆層形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、前記したような一般式RSi(OR′)4−n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica coating layer formed, the above-mentioned such general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group such as an acryl group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is used as a dispersion of the porous particles (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor). In addition, the silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilane is deposited on the surface of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の分散媒が水単独、または有機溶媒との混合溶媒であって、有機溶媒に対する水の比率が高い混合溶媒の場合には、ケイ酸液を用いて被覆層を形成してもよい。ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。   When the dispersion medium of porous particles (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor) is water alone or a mixed solvent with an organic solvent and the mixed solvent has a high ratio of water to the organic solvent, a silicate solution You may form a coating layer using. The silicic acid solution is an aqueous solution of a low silicic acid polymer obtained by dealkalizing an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment.

ケイ酸液は、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中に添加され、同時にアルカリを加えてケイ酸低重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)表面に沈着させる。なお、ケイ酸液を上記アルコキシシランと併用して被覆層形成用に使用してもよい。被覆層形成用に使用される有機珪素化合物またはケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆できる程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが1〜20nmとなるような量で、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中で添加される。また前記シリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが1〜20nmの範囲となるような量で、有機珪素化合物またはケイ酸液は添加される。   The silicic acid solution is added to the dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors), and at the same time, alkali is added to make the low-silicic acid polymer into porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). ) Deposit on the surface. In addition, you may use a silicic acid liquid for the coating layer formation in combination with the said alkoxysilane. The addition amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer only needs to be sufficient to cover the surface of the colloidal particles, and the finally obtained silica coating layer has a thickness of 1 to 20 nm. In such an amount, it is added in a dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor). When the silica protective film is formed, the organosilicon compound or the silicate solution is added in such an amount that the total thickness of the silica protective film and the silica coating layer is in the range of 1 to 20 nm.

次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体または多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。   Next, the dispersion liquid of the particles on which the coating layer is formed is heat-treated. By the heat treatment, in the case of porous particles, the silica coating layer covering the surface of the porous particles is densified, and a dispersion of composite particles in which the porous particles are coated with the silica coating layer is obtained. In the case of a hollow particle precursor, the formed coating layer is densified to form hollow particle walls, and a dispersion of hollow particles having cavities filled with a solvent, gas, or porous solid content is obtained.

このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞できる程度であれば特に制限はなく、80〜300℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が80℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化できないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が300℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率の効果が得られないことがある。   The heat treatment temperature at this time is not particularly limited as long as it can close the fine pores of the silica coating layer, and is preferably in the range of 80 to 300 ° C. When the heat treatment temperature is less than 80 ° C., the fine pores of the silica coating layer may not be completely closed and densified, and the treatment time may take a long time. Further, when the heat treatment temperature exceeds 300 ° C. for a long time, fine particles may be formed, and the effect of low refractive index may not be obtained.

このようにして得られた無機微粒子の屈折率は、1.42未満と低い。このような無機微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。なお、中空シリカ系微粒子は触媒化成(株)から市販されているものも好ましく利用することができる。   The refractive index of the inorganic fine particles thus obtained is as low as less than 1.42. Such inorganic fine particles are presumed to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is hollow. As the hollow silica-based fine particles, those commercially available from Catalyst Kasei Co., Ltd. can be preferably used.

外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子の低屈折率層中の含有量は、10〜50質量%であることが好ましい。低屈折率の効果を得る上で、15質量%以上が好ましく、50質量%を超えるとバインダー成分が少なくなり膜強度が不十分となる。特に好ましくは20〜50質量%である。   The content of the hollow silica-based fine particles having an outer shell layer and porous or hollow inside is preferably 10 to 50% by mass. In order to obtain the effect of a low refractive index, the content is preferably 15% by mass or more. Most preferably, it is 20-50 mass%.

低屈折率層への添加方法としては、例えば前記テトラアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記中空シリカ系微粒子の分散液に加え、テトラアルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を中空シリカ系微粒子の表面に沈着させる。このとき、テトラアルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。また、シリカ系微粒子は、WO2007/099814号パンフレットに記載の製造法により作製されたものを用いても良い。   As a method of adding to the low refractive index layer, for example, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of the tetraalkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the hollow silica fine particles. The silicic acid polymer produced by hydrolyzing tetraalkoxysilane is deposited on the surface of the hollow silica fine particles. At this time, tetraalkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used. The silica-based fine particles may be those produced by the production method described in the pamphlet of WO2007 / 099814.

(バインダー)
また、低屈折率層は、バインダーとして、前述のカチオン重合性化合物を含有することが、目的効果がより良く発揮される点から好ましい。カチオン重合性化合物としては、前述したハードコート層に記載した化合物を用いることが出来る。その他、カチオン重合性化合物の重合を促進する化合物として、上記の酸や光酸発生剤を用いることも好ましい。これらの酸や光酸発生剤は、カチオン重合性化合物100質量部に対して、0.1〜20質量部の割合が好ましく、より好ましくは0.5〜15質量部の割合で添加することが、低屈折率層形成組成物中での安定性、重合反応性等から好ましい。
(binder)
Moreover, it is preferable that the low refractive index layer contains the above-described cationic polymerizable compound as a binder from the viewpoint that the objective effect can be better exhibited. As the cationic polymerizable compound, the compounds described in the hard coat layer described above can be used. In addition, it is also preferable to use the above acid or photoacid generator as a compound that accelerates the polymerization of the cationic polymerizable compound. These acids and photoacid generators are preferably added in a proportion of 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.5 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cationic polymerizable compound. From the viewpoint of stability in the composition for forming a low refractive index layer, polymerization reactivity, and the like.

また、バインダーとして、ラジカル重合性化合物を用いても良い。ラジカル重合性化合物としては、前述したハードコート層に記載の化合物を用いることが出来る。   Moreover, you may use a radically polymerizable compound as a binder. As the radical polymerizable compound, the compounds described in the hard coat layer described above can be used.

ラジカル重合性化合物の硬化促進のために、光重合開始剤を用いることが好ましく、光重合開始剤とラジカル重合性化合物とを質量比で20:100〜0.01:100含有することが好ましい。   In order to accelerate curing of the radical polymerizable compound, it is preferable to use a photopolymerization initiator, and it is preferable to contain the photopolymerization initiator and the radical polymerizable compound in a mass ratio of 20: 100 to 0.01: 100.

更に、前記一般式(OSi−2)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有させることもできる。   Furthermore, the fluorine substituted alkyl group containing silane compound represented by the said general formula (OSi-2) can also be contained.

バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、形成される透明被膜自体が疎水性を有しているので、透明被膜が充分緻密化しておらず、多孔質であったり、またクラックやボイドを有している場合であっても、水分や酸・アルカリ等の薬品による透明被膜への進入が抑制される。更に、基板表面や下層である導電性層中に含まれる金属等の微粒子と水分や酸・アルカリ等の薬品とが反応することもない。このため、このような透明被膜は、優れた耐薬品性を有している。   If the fluorine-containing alkyl group-containing silane compound is included as a binder, the transparent film itself is hydrophobic, so the transparent film is not sufficiently densified and is porous or cracked. Even if it has a void or a void, entry into the transparent film by chemicals such as moisture, acid and alkali is suppressed. Furthermore, fine particles such as metals contained in the conductive layer which is the substrate surface or the lower layer do not react with chemicals such as moisture, acid and alkali. For this reason, such a transparent film has excellent chemical resistance.

また、バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、このような疎水性のみならず、滑り性がよく(接触抵抗が低く)、このためスクラッチ強度に優れた透明被膜を得ることができる。更に、バインダーが、このような構成単位を有するフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、下層に導電性層が形成されている場合には、バインダーの収縮率が、導電性層と同等か近いものであるため導電性層と密着性に優れた透明被膜を形成することができる。更に、透明被膜を加熱処理する際に、収縮率の違いから、導電性層が剥離して、透明導電性層に電気的接触のない部分が生じることもない。このため、膜全体として充分な導電性を維持できる。   In addition, when a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound is included as a binder, not only the hydrophobic property but also the slipperiness (low contact resistance) is obtained, and thus a transparent film having excellent scratch strength can be obtained. Can do. Further, when the binder contains a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound having such a structural unit, when the conductive layer is formed in the lower layer, the shrinkage rate of the binder is equivalent to that of the conductive layer. Therefore, it is possible to form a transparent film having excellent adhesion to the conductive layer. Furthermore, when the transparent film is heat-treated, the conductive layer is not peeled off due to the difference in shrinkage rate, and a portion having no electrical contact is not generated in the transparent conductive layer. For this reason, sufficient electroconductivity can be maintained as a whole film.

フッ素置換アルキル基含有シラン化合物と、前記外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子とを含む透明被膜は、スクラッチ強度が高い上に、消しゴム強度または爪強度で評価される膜強度が高く、鉛筆硬度も高く、強度の上で優れた透明被膜を形成することができる。   A transparent film containing a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound and hollow silica-based fine particles having the outer shell layer and being porous or hollow inside has high scratch strength and is evaluated by eraser strength or nail strength. The film strength is high, the pencil hardness is high, and a transparent film excellent in strength can be formed.

低屈折率層にはシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。   The low refractive index layer may contain a silane coupling agent. Silane coupling agents include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane. Ethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltri Acetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltri Ethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ- Acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N- Examples include β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane.

また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。   Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimeth Shishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.

これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。   Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, and γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxyp Particularly preferred are propyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane.

2種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。   Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.

また、低屈折率層にはCF(CF)nCHCHSi(OR1)で表される珪素化合物を含有しても良い。(式中、R1は、1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表し、そしてnは、0〜12の整数を表す。)具体的化合物としては、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどが挙げられ、これらは単独で又は二種以上組み合わせて用いることができる。また、HNCONH(CH)mSi(OR2)で表される末端位にウレイド基(HNCONH−)を有する珪素化合物を含有しても良い。(式中、R2は、1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表し、mは、1〜5の整数を表す。)具体的化合物としては、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリプロポキシシランなどが挙げられる。これらの中でもγ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどが特に好ましい。 The low refractive index layer may contain a silicon compound represented by CF 3 (CF 2 ) nCH 2 CH 2 Si (OR 1 ) 3 . (In the formula, R1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12.) Specific examples of the compound include trifluoropropyltrimethoxysilane and trifluoropropyl. Examples include triethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane, and these are used alone or in combination of two or more. Can be used. It may also contain H 2 NCONH (CH) mSi ( OR2) silicon compound in the terminal position represented by 3 having a ureido group (H 2 NCONH-). (In the formula, R2 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 5.) Specific compounds include γ-ureidopropyltrimethoxysilane and γ-ureido. Examples thereof include propyltriethoxysilane and γ-ureidopropyltripropoxysilane. Among these, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, and the like are particularly preferable.

その他、低屈折率層はバインダーとして、例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、フルオロアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂等を用いることが出来る。   In addition, the low refractive index layer can use, for example, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, fluoroacrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin, etc. as a binder. .

その他、バインダーとして例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、フルオロアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂が挙げられる。   In addition, examples of the binder include polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, fluoroacrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, and alkyd resin.

低屈折率層は、全体で5〜80質量%のバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。バインダーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように適宜調整する。   The low refractive index layer preferably contains 5 to 80% by mass of binder as a whole. The binder has a function of maintaining the structure of the low refractive index layer including voids. The usage-amount of a binder is suitably adjusted so that the intensity | strength of a low refractive index layer can be maintained, without filling a space | gap.

(溶媒)
低屈折率層は有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
(solvent)
The low refractive index layer preferably contains an organic solvent. Specific examples of organic solvents include alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Group hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

低屈折率層塗布組成物中の固形分濃度は1〜4質量%であることが好ましく、該固形分濃度が4質量%以下にすることによって、塗布ムラが生じにくくなり、1質量%以上にすることによって乾燥負荷が軽減される。   The solid content concentration in the low refractive index layer coating composition is preferably 1 to 4% by mass. By making the solid content concentration 4% by mass or less, coating unevenness is less likely to occur, and the content is 1% by mass or more. By doing so, the drying load is reduced.

低屈折率層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、低屈折率層を形成する上記塗布組成物を塗布し、塗布後、加熱乾燥し、必要に応じて硬化処理することで形成される。   The low refractive index layer is a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, a known method such as an inkjet method, and the above coating composition for forming the low refractive index layer is applied, and after coating, It is formed by heat drying and curing treatment as necessary.

塗布量は、ウェット膜厚として0.05〜100μmが適当で、好ましくは、0.1〜50μmである。また、ドライ膜厚が上記膜厚となるように塗布組成物の固形分濃度は調整される。   The coating amount is suitably 0.05 to 100 μm, preferably 0.1 to 50 μm, as the wet film thickness. Further, the solid content concentration of the coating composition is adjusted so that the dry film thickness becomes the above film thickness.

また、低屈折率層を形成後、温度50〜160℃で加熱処理を行う工程を含んでも良い。加熱処理の期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば50℃であれば、好ましくは3日間以上30日未満の期間、100℃であれば1分以上1日以下の範囲が好ましい。硬化方法としては、加熱することによって熱硬化させる方法、紫外線等の光照射によって硬化させる方法などが挙げられる。熱硬化させる場合は、加熱温度は50〜300℃が好ましく、好ましくは60〜250℃、さらに好ましくは80〜150℃である。光照射によって硬化させる場合は、照射光の露光量は10mJ/cm〜10J/cmであることが好ましく、100mJ/cm〜500mJ/cmがより好ましい。 Moreover, after forming a low refractive index layer, you may include the process of heat-processing at the temperature of 50-160 degreeC. The period of the heat treatment may be appropriately determined depending on the set temperature. For example, if it is 50 ° C., it is preferably a period of 3 days or more and less than 30 days, and if it is 100 ° C., a range of 1 minute or more and 1 day or less is preferable. . Examples of the curing method include a method of thermosetting by heating, a method of curing by irradiation with light such as ultraviolet rays, and the like. In the case of thermosetting, the heating temperature is preferably 50 to 300 ° C, preferably 60 to 250 ° C, more preferably 80 to 150 ° C. When curing by light irradiation, exposure of the irradiation light is preferably, 100mJ / cm 2 ~500mJ / cm 2 and more preferably 10mJ / cm 2 ~10J / cm 2 .

ここで、照射される光の波長域としては特に限定されないが、紫外線領域の波長を有する光が好ましく用いられる。具体的には、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常5〜500mJ/cm、好ましくは5〜150mJ/cmであるが、特に好ましくは20〜100mJ/cmである。 Here, the wavelength range of the irradiated light is not particularly limited, but light having a wavelength in the ultraviolet region is preferably used. Specifically, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually 5 to 500 mJ / cm 2 , preferably 5 to 150 mJ / cm 2 , and particularly preferably 20 to 100 mJ / cm 2 .

(高屈折率層)
反射防止層は、上述の低屈折率層の他に、下記のような高屈折率層を有してもよい。高屈折率層には、金属酸化物微粒子が含有されることが好ましい。金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができ、これらの金属酸化物微粒子はAl、In、Sn、Sb、Nb、ハロゲン元素、Taなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。
(High refractive index layer)
The antireflection layer may have the following high refractive index layer in addition to the above-described low refractive index layer. The high refractive index layer preferably contains metal oxide fine particles. The kind of metal oxide fine particles is not particularly limited, and Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S A metal oxide having at least one element selected from the group consisting of Al, In, Sn, Sb, Nb, a halogen element, Ta and the like is doped with a minute amount of atoms. May be. A mixture of these may also be used. Among them, at least one metal oxide fine particle selected from zirconium oxide, antimony oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and zinc antimonate is used as a main component. Is particularly preferred. In particular, it is preferable to contain zinc antimonate particles.

これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は10nm〜200nmの範囲であり、10〜150nmであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡(SEM)等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。   The average particle diameter of the primary particles of these metal oxide fine particles is in the range of 10 nm to 200 nm, particularly preferably 10 to 150 nm. The average particle diameter of the metal oxide fine particles can be measured from an electron micrograph taken with a scanning electron microscope (SEM) or the like. You may measure by the particle size distribution meter etc. which utilize a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc. If the particle size is too small, aggregation tends to occur and the dispersibility deteriorates. If the particle size is too large, the haze is remarkably increased. The shape of the metal oxide fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a needle shape, or an indefinite shape.

高屈折率層の屈折率は、具体的には、支持体であるフィルムの屈折率より高く、23℃、波長550nm測定で、1.5〜2.2の範囲であることが好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的である為、金属酸化物微粒子の屈折率は1.80〜2.60であることが好ましく、1.85〜2.50であることが更に好ましい。   Specifically, the refractive index of the high refractive index layer is higher than the refractive index of the film as the support, and is preferably in the range of 1.5 to 2.2 when measured at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. The means for adjusting the refractive index of the high refractive index layer is that the kind and addition amount of the metal oxide fine particles are dominant, so that the refractive index of the metal oxide fine particles is preferably 1.80 to 2.60, More preferably, it is 1.85 to 2.50.

金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して0.1質量%〜5質量%、より好ましくは0.5質量%〜3質量%である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。   The metal oxide fine particles may be surface-treated with an organic compound. By modifying the surface of the metal oxide fine particles with an organic compound, the dispersion stability in an organic solvent is improved, the dispersion particle size can be easily controlled, and aggregation and sedimentation over time can be suppressed. . For this reason, the surface modification amount with a preferable organic compound is 0.1 mass%-5 mass% with respect to metal oxide particle, More preferably, it is 0.5 mass%-3 mass%. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, silane coupling agents are preferred. Two or more kinds of surface treatments may be combined.

前記金属酸化物微粒子を含有する高屈折率層の厚さは5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。   The thickness of the high refractive index layer containing the metal oxide fine particles is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 0.1 μm.

使用する金属酸化物微粒子と後述する活性光線硬化樹脂等のバインダーとの比は、金属酸化物微粒子の種類、粒子サイズなどにより異なるが体積比で前者1に対して後者2から前者2に対して後者1程度が好ましい。金属酸化物微粒子の使用量は高屈折率層中に5質量%〜85質量%が好ましく、10質量%〜80質量%であることがより好ましく、20〜75質量%が最も好ましい。使用量が少ないと所望の屈折率や本発明の効果が得られず、多過ぎると膜強度の劣化などが発生する。   The ratio of the metal oxide fine particles to be used and a binder such as an actinic ray curable resin to be described later varies depending on the kind of metal oxide fine particles, the particle size, etc. The latter one is preferable. The amount of the metal oxide fine particles used is preferably 5% by mass to 85% by mass, more preferably 10% by mass to 80% by mass, and most preferably 20% by mass to 75% by mass in the high refractive index layer. If the amount used is small, the desired refractive index and the effect of the present invention cannot be obtained, and if it is too large, the film strength deteriorates.

上記金属酸化物微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、ケトンアルコール(例、ジアセトンアルコール)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The metal oxide fine particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ketone alcohol (eg, diacetone alcohol). , Esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene) Chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, Tiger hydrofuran), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol), propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate. Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

また金属酸化物微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。分散剤を含有させることも好ましい。   The metal oxide fine particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder. It is also preferable to contain a dispersant.

更にコア/シェル構造を有する金属酸化物微粒子を含有させてもよい。シェルはコアの周りに1層形成させてもよいし、耐光性を更に向上させるために複数層形成させてもよい。コアは、シェルにより完全に被覆されていることが好ましい。   Furthermore, metal oxide fine particles having a core / shell structure may be contained. One layer of the shell may be formed around the core, or a plurality of layers may be formed in order to further improve the light resistance. The core is preferably completely covered by the shell.

コアは酸化チタン(ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等)、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ等を用いることができるが、ルチル型の酸化チタンを主成分としてもよい。   For the core, titanium oxide (rutile type, anatase type, amorphous type, etc.), zirconium oxide, zinc oxide, cerium oxide, indium oxide doped with tin, tin oxide doped with antimony, etc. can be used. Titanium may be the main component.

シェルは酸化チタン以外の無機化合物を主成分とし、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。例えば、二酸化珪素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化鉄、硫化亜鉛等を主成分とした無機化合物が用いられる。この内アルミナ、シリカ、ジルコニア(酸化ジルコニウム)であることが好ましい。また、これらの混合物でもよい。   The shell is preferably formed of a metal oxide or sulfide containing an inorganic compound other than titanium oxide as a main component. For example, an inorganic compound mainly composed of silicon dioxide (silica), aluminum oxide (alumina) zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, iron oxide, zinc sulfide, or the like is used. Of these, alumina, silica, and zirconia (zirconium oxide) are preferable. A mixture of these may also be used.

コアに対するシェルの被覆量は、平均の被覆量で2〜50質量%である。好ましくは3〜40質量%、更に好ましくは4〜25質量%である。シェルの被覆量が多いと微粒子の屈折率が低下し、被覆量が少な過ぎると耐光性が劣化する。二種以上の無機微粒子を併用してもよい。   The coating amount of the shell with respect to the core is 2 to 50% by mass as an average coating amount. Preferably it is 3-40 mass%, More preferably, it is 4-25 mass%. When the coating amount of the shell is large, the refractive index of the fine particles is lowered, and when the coating amount is too small, the light resistance is deteriorated. Two or more inorganic fine particles may be used in combination.

コアとなる酸化チタンは、液相法または気相法で作製されたものを使用できる。また、シェルをコアの周りに形成させる手法としては、例えば、米国特許第3,410,708号、特公昭58−47061号、米国特許第2,885,366号、同第3,437,502号、英国特許第1,134,249号、米国特許第3,383,231号、英国特許第2,629,953号、同第1,365,999号に記載されている方法等を用いることができる。   The titanium oxide used as a core can use what was produced by the liquid phase method or the gaseous-phase method. As a method for forming the shell around the core, for example, U.S. Pat. No. 3,410,708, JP-B-58-47061, U.S. Pat. No. 2,885,366, and U.S. Pat. No. 1, British Patent No. 1,134,249, US Pat. No. 3,383,231, British Patent No. 2,629,953, No. 1,365,999, etc. Can do.

高屈折率層もしくは前述の低屈折率層には、下記一般式(CL1)で表される化合物またはそのキレート化合物を含有することができ、硬度などの物性を改善させることができる。   The high refractive index layer or the low refractive index layer described above can contain a compound represented by the following general formula (CL1) or a chelate compound thereof, and can improve physical properties such as hardness.

一般式(CL1) AMBx−n
式中、Mは金属原子、Aは加水分解可能な官能基または加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Bは金属原子Mに共有結合またはイオン結合した原子団を表す。xは金属原子Mの原子価、nは2以上でx以下の整数を表す。
Formula (CL1) An MB x-n
In the formula, M represents a metal atom, A represents a hydrolyzable functional group or a hydrocarbon group having a hydrolyzable functional group, and B represents an atomic group covalently or ionically bonded to the metal atom M. x represents the valence of the metal atom M, and n represents an integer of 2 or more and x or less.

加水分解可能な官能基Aとしては、例えば、アルコキシル基、クロル原子等のハロゲン、エステル基、アミド基等が挙げられる。上記一般式(CL1)に属する金属化合物には、金属原子に直接結合したアルコキシル基を2個以上有するアルコキシド、または、そのキレート化合物が含まれる。好ましい金属化合物としては、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドまたはそれらのキレート化合物を挙げることができる。チタンアルコキシドは反応速度が速くて屈折率が高く、取り扱いも容易であるが、光触媒作用があるため大量に添加すると耐光性が劣化する。ジルコニウムアルコキシドは屈折率が高いが白濁し易いため、塗布する際の露点管理等に注意しなければならない。また、チタンアルコキシドは紫外線硬化性樹脂、金属アルコキシドの反応を促進する効果があるため、少量添加するだけでも塗膜の物理的特性を向上させることができる。   Examples of the hydrolyzable functional group A include halogens such as alkoxyl groups and chloro atoms, ester groups and amide groups. The metal compound belonging to the general formula (CL1) includes an alkoxide having two or more alkoxyl groups directly bonded to a metal atom, or a chelate compound thereof. Preferable metal compounds include titanium alkoxide, zirconium alkoxide, or chelate compounds thereof. Titanium alkoxide has a high reaction rate and a high refractive index and is easy to handle. However, since it has a photocatalytic action, its light resistance deteriorates when added in a large amount. Zirconium alkoxide has a high refractive index but tends to become cloudy, so care must be taken in dew point management during coating. Moreover, since titanium alkoxide has the effect of promoting the reaction of the ultraviolet curable resin and metal alkoxide, the physical properties of the coating film can be improved by adding a small amount.

チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−iso−プロポキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシチタン、テトラ−tert−ブトキシチタン等が挙げられる。   Examples of the titanium alkoxide include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-iso-propoxy titanium, tetra-n-propoxy titanium, tetra-n-butoxy titanium, tetra-sec-butoxy titanium, tetra-tert-butoxy titanium, and the like. Is mentioned.

ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−iso−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−ブトキシジルコニウム、テトラ−sec−ブトキシジルコニウム、テトラ−tert−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。   Examples of the zirconium alkoxide include tetramethoxy zirconium, tetraethoxy zirconium, tetra-iso-propoxy zirconium, tetra-n-propoxy zirconium, tetra-n-butoxy zirconium, tetra-sec-butoxy zirconium, tetra-tert-butoxy zirconium and the like. Is mentioned.

遊離の金属化合物に配位させてキレート化合物を形成するのに好ましいキレート化剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等であって分子量1万以下のものを挙げることができる。これらのキレート化剤を用いることにより、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果にも優れるキレート化合物を形成できる。   Preferred chelating agents for forming a chelate compound by coordination with a free metal compound include alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol and propylene glycol, acetylacetone and acetoacetic acid. Examples thereof include ethyl and the like having a molecular weight of 10,000 or less. By using these chelating agents, it is possible to form a chelate compound that is stable against water mixing and is excellent in the effect of reinforcing the coating film.

金属化合物の添加量は、高屈折率層に含まれる該金属化合物由来の金属酸化物の含有量が0.3〜5質量%であるように調整することが好ましい。0.3質量%未満では耐擦傷性が不足し、5質量%を超えると耐光性が劣化する傾向がある。   The addition amount of the metal compound is preferably adjusted so that the content of the metal oxide derived from the metal compound contained in the high refractive index layer is 0.3 to 5% by mass. If it is less than 0.3% by mass, the scratch resistance is insufficient, and if it exceeds 5% by mass, the light resistance tends to deteriorate.

高屈折率層には、ラジカル重合性化合物を、金属酸化物微粒子のバインダーとして、塗膜の製膜性や物理的特性の向上のために含有させることが好ましい。ラジカル重合性化合物としては、紫外線や電子線のような活性光線の照射により直接、または光重合開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を2個以上有するモノマーまたはオリゴマーを用いることができ、具体的にはポリオールアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートもしくはそれらの混合物が好ましく、例えば前述したハードコート層に記載の多官能アクリレート化合物が好ましい。   The high refractive index layer preferably contains a radical polymerizable compound as a binder for the metal oxide fine particles in order to improve the film forming property and physical properties of the coating film. As the radically polymerizable compound, a monomer or oligomer having two or more functional groups that cause a polymerization reaction directly by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams or indirectly by the action of a photopolymerization initiator is used. Specifically, polyol acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate or a mixture thereof is preferable. For example, the polyfunctional acrylate compound described in the hard coat layer described above is preferable.

ラジカル重合性化合物の添加量は、高屈折率組成物では固形分中の15質量%以上50質量%未満であることが好ましい。   The addition amount of the radical polymerizable compound is preferably 15% by mass or more and less than 50% by mass in the solid content in the high refractive index composition.

ラジカル重合性化合物の硬化促進のために、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤の添加量は、質量比で光重合開始剤:ラジカル重合性化合物=3:7〜1:9含有することが好ましい。   In order to accelerate curing of the radically polymerizable compound, it is preferable to contain a photopolymerization initiator. The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably contained in a mass ratio of photopolymerization initiator: radically polymerizable compound = 3: 7 to 1: 9.

光重合開始剤としては、具体的には、前述したハードコート層に記載の化合物を用いることが出来る。   As the photopolymerization initiator, specifically, the compounds described in the hard coat layer described above can be used.

高屈折率層をコーティングする際に用いられる有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。   Examples of the organic solvent used for coating the high refractive index layer include alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol). , Benzyl alcohol, etc.), polyhydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thio Diglycol, etc.), polyhydric alcohol ethers (eg, ethylene glycol monomethyl ether, Lenglycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl Ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (for example, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine, ether) Range amine, diethylenediamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.) ), Heterocyclic rings (for example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide) , Sulfones (e.g., sulfolane), urea, acetonitrile, acetone and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable.

高屈折率層は上記組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いて透明樹脂フィルム、あるいはハードコート層表面にウェット膜厚0.1〜100μmで塗布し、塗布後、加熱乾燥し、必要に応じて硬化して形成される。硬化工程は、低屈折率層で記載した内容を用いることができる。また、ドライ膜厚が上記膜厚になるようにするのは塗布組成物の固形分濃度で調整する。   The high refractive index layer is obtained by applying the above composition to a transparent resin film or hard coat layer surface using a gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die coater, spray coating, ink jet coating or the like. It is applied by 1 to 100 μm, and after application, it is dried by heating, and is cured as necessary. The content described in the low refractive index layer can be used in the curing step. The dry film thickness is adjusted to the above film thickness by adjusting the solid content concentration of the coating composition.

(導電性層)
導電性層は基材フィルム上に設けることができ、例えば、ハードコート層と反射防止層との間、または該反射防止層が設けられた側とは反対の面の透明フィルム上に塗設することができる。
(Conductive layer)
The conductive layer can be provided on the base film, for example, applied between the hard coat layer and the antireflection layer or on the transparent film on the side opposite to the side on which the antireflection layer is provided. be able to.

導電性層は、第1保護フィルムを取り扱いの際に帯電するのを防ぐ機能を付与するものであり、具体的には、ハードコート層に前述したπ共役系導電性ポリマー、イオン性高分子化合物、金属酸化物等が好ましく用いられる。   The conductive layer imparts a function of preventing the first protective film from being charged during handling. Specifically, the π-conjugated conductive polymer and ionic polymer compound described above are applied to the hard coat layer. A metal oxide or the like is preferably used.

導電性層の表面比抵抗は1011Ω/□(25℃、55%RH)以下に調整されることが好ましく、更に好ましくは、1010Ω/□(25℃、55%RH)以下であり、特に好ましくは、10Ω/□(25℃、55%RH)以下である。 The surface specific resistance of the conductive layer is preferably adjusted to 10 11 Ω / □ (25 ° C., 55% RH) or less, more preferably 10 10 Ω / □ (25 ° C., 55% RH) or less. Particularly preferably, it is 10 9 Ω / □ (25 ° C., 55% RH) or less.

ここで、表面比抵抗値の測定の詳細は実施例に記載するが、試料を25℃、55%RHの条件にて24時間調湿し、川口電機株式会社製テラオームメーターモデルVE−30を用いて測定する。   Here, although details of the measurement of the surface specific resistance value are described in the Examples, the sample was conditioned for 24 hours under the conditions of 25 ° C. and 55% RH, and a terraohm meter model VE-30 manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd. was used. Use to measure.

導電性層上には、更にオーバーコート層を最表面層として設けることもあるが、表面比抵抗値の測定は、導電性層が設けられている側の最表面層における表面比抵抗値を実質的に導電性層の表面比抵抗値として定義する。   An overcoat layer may be further provided on the conductive layer as the outermost surface layer, but the surface specific resistance value is measured by measuring the surface specific resistance value on the outermost surface layer on the side where the conductive layer is provided. It is defined as the surface specific resistance value of the conductive layer.

更に、イオン性高分子化合物としては、特公昭49−23828号、同49−23827号、同47−28937号にみられるようなアニオン性高分子化合物;特公昭55−734号、特開昭50−54672号、特公昭59−14735号、同57−18175号、同57−18176号、同57−56059号などにみられるような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマー;特公昭53−13223号、同57−15376号、特公昭53−45231号、同55−145783号、同55−65950号、同55−67746号、同57−11342号、同57−19735号、特公昭58−56858号、特開昭61−27853、同62−9346にみられるような、側鎖中にカチオン性解離基をもつカチオン性ペンダント型ポリマー;等を挙げることができる。中でも、分子架橋を有する4級アンモニウムカチオンポリマーが特に好ましく、ダイオキシンの発生防止等環境安全性の観点から、塩素イオンを含まず、かつ、分子架橋を有する4級アンモニウムカチオンポリマーが特に好ましく用いられる。   Furthermore, examples of the ionic polymer compound include anionic polymer compounds such as those described in JP-B-49-23828, JP-A-49-23827, and JP-A-47-28937; JP-B-55-734, JP-A-50 Ionene type polymers having a dissociation group in the main chain as seen in JP-B-54672, JP-B-59-14735, JP-A-57-18175, JP-A-57-18176, JP-A-57-56059, etc .; No. -13223, No. 57-15376, No. 53-45231, No. 55-145578, No. 55-65950, No. 55-67746, No. 57-11342, No. 57-19735, No. 58 Cationic pendant having a cationic dissociation group in the side chain as seen in JP-A-56858, JP-A-61-27853, and 62-9346 Polymers; and the like. Among them, a quaternary ammonium cationic polymer having molecular crosslinking is particularly preferable, and a quaternary ammonium cationic polymer not containing chlorine ions and having molecular crosslinking is particularly preferably used from the viewpoint of environmental safety such as prevention of dioxin generation.

イオン性高分子化合物は、これを単独で用いてもよいし、或いは数種類のイオン性高分子化合物を組み合わせて使用してもよい。イオン性高分子化合物の樹脂フィルム中の含有量は、0.02g〜1.0g/mが好ましく、特に好ましくは、0.02g〜0.5g/mである。 The ionic polymer compound may be used alone, or several types of ionic polymer compounds may be used in combination. The content of the resin film of the ionic polymer compound is preferably 0.02g~1.0g / m 2, particularly preferably from 0.02g~0.5g / m 2.

更に、導電性層には、微粒子を添加してもよい。例えば、シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム等を構成成分として含有する微粒子を挙げることができる。   Further, fine particles may be added to the conductive layer. Examples thereof include fine particles containing silica, colloidal silica, alumina, alumina sol, kaolin, talc, mica, calcium carbonate and the like as constituent components.

上記記載の微粒子の平均粒径は、0.01μm〜10μmが好ましく、より好ましくは0.01μm〜5μm、また添加量は、塗布剤中の固形分に対して質量比で0.05部〜10部が好ましく、特に好ましいのは0.1部〜5部である。   The average particle diameter of the fine particles described above is preferably 0.01 μm to 10 μm, more preferably 0.01 μm to 5 μm, and the addition amount is 0.05 part to 10 parts by mass with respect to the solid content in the coating agent. Parts are preferred, with 0.1 to 5 parts being particularly preferred.

また、導電性層が十分な帯電防止効果を示し、かつ、オーバーコート層との易接着性を保持するためには、セルロースエステル系樹脂またはアクリル系樹脂を含有することが好ましい。   Moreover, in order for a conductive layer to show sufficient antistatic effect and to maintain easy adhesion with an overcoat layer, it is preferable to contain a cellulose ester resin or an acrylic resin.

セルロースエステル系樹脂としては、例えばセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、またはセルロースナイトレート等のセルロース誘導体が挙げられる。   Examples of the cellulose ester resin include cellulose derivatives such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose nitrate.

また、アクリル系樹脂としては、例えば、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レイヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レイヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが好ましく用いられる。   Examples of acrylic resins include Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M -5001, M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR- 79, BR-80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105, BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) Various homopolymers and copolymers to produce Le and methacrylic monomer as a raw material is preferably used.

ここで使用する樹脂は、導電性層で使用している樹脂全体の60質量%以上、更に好ましくは80質量%以上であることが好ましく、必要に応じて活性光線硬化樹脂或いは熱硬化樹脂を添加することもできる。これらの樹脂はバインダーとして下記のような溶剤に溶解した状態で塗設される。   The resin used here is preferably 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more of the total resin used in the conductive layer, and an actinic ray curable resin or thermosetting resin is added as necessary. You can also These resins are coated as a binder in a state dissolved in the following solvent.

導電性層を塗設するための塗布組成物には、次の溶剤が好ましく用いられる。溶剤としては、炭化水素、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒(メチレンクロライド)を適宜混合して使用することができるが特にこれらに限定されるものではない。   For the coating composition for coating the conductive layer, the following solvents are preferably used. As the solvent, hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, glycol ethers, and other solvents (methylene chloride) can be appropriately mixed and used, but are not particularly limited thereto.

上記炭化水素類としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等が挙げられ、アルコール類としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、iso−プロピルアルコール、n−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール、ペンタノール、2−メチル−2−ブタノール、シクロヘキサノール等が挙げられ、ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられ、エステル類としては、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳酸メチル等が挙げられ、グリコールエーテル(C1〜C4)類としては、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、またはプロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステル類としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、その他の溶媒としてメチレンクロライド、N−メチルピロリドンなどが挙げられる。特にこれらに限定されるものではないが、これらを適宜混合した溶媒も好ましく用いられる。   Examples of the hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, hexane, cyclohexane and the like, and examples of alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, iso-propyl alcohol, n-butanol, 2-butanol, tert- Examples include butanol, pentanol, 2-methyl-2-butanol, and cyclohexanol. Examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Examples of esters include methyl formate, ethyl formate, Examples thereof include methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, amyl acetate, ethyl lactate, and methyl lactate. Examples of glycol ethers (C1 to C4) include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ester. As terrestrial (PGME), propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, or propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether esters, propylene glycol monomethyl Examples of ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and other solvents include methylene chloride and N-methylpyrrolidone. Although not particularly limited to these, a solvent in which these are appropriately mixed is also preferably used.

導電性層塗布組成物の塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、ワイヤーバーコーター、リバースコーター、押し出しコーター等を用いて、塗布液膜厚(ウェット膜厚ということもある)を1〜100μmとすることが好ましく、特に5〜30μmが好ましい。   As a coating method of the conductive layer coating composition, using a gravure coater, dip coater, wire bar coater, reverse coater, extrusion coater, etc., the coating solution film thickness (sometimes referred to as wet film thickness) is 1 to 100 μm. In particular, 5 to 30 μm is preferable.

(バックコート層)
ハードコート層を設けた側と反対側の面にバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、ハードコート層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることができる。なお、バックコート層はブロッキング防止層を兼ねて塗設されることが好ましいが、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されることが好ましい。
(Back coat layer)
It is preferable to provide a backcoat layer on the surface opposite to the side on which the hardcoat layer is provided. The back coat layer is provided in order to correct curling caused by providing a hard coat layer or other layers. That is, the degree of curling can be balanced by imparting the property of being rounded with the surface on which the backcoat layer is provided facing inward. The back coat layer is preferably applied also as an anti-blocking layer. In this case, it is preferable that fine particles are added to the back coat layer coating composition in order to provide an anti-blocking function.

バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ITO、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。   As fine particles added to the back coat layer, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, tin oxide, and oxidation. Mention may be made of indium, zinc oxide, ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate.

これらの微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。   These fine particles are commercially available under the trade names of, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, and TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). . Zirconium oxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used. Examples of the polymer include silicone resin, fluororesin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明のハードコートフィルムは、活性光線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が0.9以下、特に0.1〜0.9であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large anti-blocking effect while keeping haze low. In the hard coat film of the present invention, the dynamic friction coefficient on the back side of the actinic ray curable resin layer is preferably 0.9 or less, particularly preferably 0.1 to 0.9.

バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して0.1〜50質量%含有されることが好ましく、0.1〜10質量%であることがより好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は1%以下であることが好ましく、0.5%以下であることがより好ましく、特に0.0〜0.1%であることが好ましい。   The fine particles contained in the backcoat layer are preferably contained in an amount of 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the binder. The increase in haze when a backcoat layer is provided is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.0 to 0.1%.

バックコート層の塗布に用いられる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルム、水、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブタノール、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、または炭化水素類(トルエン、キシレン)等があげられ、適宜組み合わされて用いられる。   Examples of the solvent used for coating the backcoat layer include dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, N, N-dimethylformamide, methyl acetate, ethyl acetate, trichloroethylene, methylene chloride, ethylene chloride, tetrachloroethane, trichloroethane, Chloroform, water, methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butanol, cyclohexanone, cyclohexanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, or hydrocarbons (toluene, xylene) Are used in appropriate combinations.

これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いてハードコートフィルムの表面にウェット膜厚1〜100μmで塗布するのが好ましいが、特に5〜30μmであることが好ましい。   It is preferable to apply these coating compositions on the surface of the hard coat film with a gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die coater, spray coating, ink jet coating or the like with a wet film thickness of 1 to 100 μm. Is particularly preferably 5 to 30 μm.

バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体または共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート(好ましくはアセチル基置換度1.8〜2.3、プロピオニル基置換度0.1〜1.0)、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び/またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。アクリル樹脂としては、導電層に前述した化合物を用いることが出来る。   Examples of the resin used as the binder of the backcoat layer include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, partially hydrolyzed vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. Polymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, chlorinated polyvinyl chloride, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, etc. Vinyl polymer or copolymer, nitrocellulose, cellulose acetate propionate (preferably acetyl group substitution degree 1.8-2.3, propionyl group substitution degree 0.1-1.0), diacetyl cellulose, cellulose Cellulose derivatives such as acetate butyrate resin, maleic acid and / or Or acrylic acid copolymer, acrylic ester copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, chlorinated polyethylene, acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene copolymer, methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin , Polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, urethane resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, polycarbonate polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, polyamide resin, amino resin, styrene-butadiene resin, butadiene-acrylonitrile Examples thereof include, but are not limited to, rubber resins such as resins, silicone resins, fluorine resins, and the like. As the acrylic resin, the above-described compounds can be used for the conductive layer.

バインダーとして用いられる樹脂としてはセルロースジアセテート、セルロースアセテートプロヒオネートなどのアセチル化セルロースとアクリル樹脂のブレンド物を用いることが好ましく、アクリル樹脂からなる微粒子を用いて、微粒子とバインダーとの屈折率差を0〜0.02未満とすることで透明性の高いバックコート層とすることができる。   As the resin used as the binder, it is preferable to use a blend of acetylated cellulose and acrylic resin such as cellulose diacetate and cellulose acetate prothionate, and the refractive index difference between the fine particles and the binder using fine particles made of acrylic resin. By setting the value to less than 0 to 0.02, a highly transparent back coat layer can be obtained.

バックコート層を塗設する順番は、ハードコート層を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。または2回以上に分けてバックコート層を塗布することもできる。また、バックコート層は偏光子との接着性を改善するための易接着層を兼ねることも好ましい。   The order in which the backcoat layer is applied may be before or after the hardcoat layer is applied, but when the backcoat layer also serves as an anti-blocking layer, it is preferably applied first. Alternatively, the backcoat layer can be applied in two or more steps. Moreover, it is also preferable that the backcoat layer also serves as an easy-adhesion layer for improving the adhesion with the polarizer.

(反射防止層の反射率)
反射防止層の反射率は、分光光度計、分光測色計により測定を行うことができる。その際、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色スプレー、黒色アクリル板の貼り付け等して光吸収処理を行ってから、可視光領域(400〜700nm)の反射光を測定する。
(Reflectivity of antireflection layer)
The reflectance of the antireflection layer can be measured with a spectrophotometer or a spectrocolorimeter. At that time, after the surface on the measurement side of the sample is roughened, the light absorption treatment is performed by attaching a black spray, a black acrylic plate, etc., and then the reflected light in the visible light region (400 to 700 nm) is measured. To do.

反射率は低いほど好ましいが、可視光領域の波長における平均値が2.0%以下であることが、LCD等の画像表示装置の最表面に用いた場合の外光反射防止機能が好適に得られる点から好ましい。最低反射率は0.8%以下であることが好ましい。   The lower the reflectivity, the better. However, the average value in the visible light region wavelength is 2.0% or less, and an external light antireflection function when used on the outermost surface of an image display device such as an LCD is suitably obtained. It is preferable from the point which is made. The minimum reflectance is preferably 0.8% or less.

また、可視光の波長領域において平坦な形状の反射スペクトルを有することが好ましい。また、反射防止処理を施した表示装置表面の反射色相は、反射防止膜の設計上可視光領域において短波長域や長波長域の反射率が高くなることから赤や青に色づくことが多いが、反射光の色味は用途によって要望が異なり、薄型テレビ等の最表面に使用する場合にはニュートラルな色調が好まれる。この場合、一般に好まれる反射色相範囲は、XYZ表色系(CIE1931表色系)上で0.17≦x≦0.27、0.07≦y≦0.17である。また、xy平面上の(x、y)=(0.31、0.31)の距離Δxyが、0.05以下となる範囲がより色味がないニュートラルに近いため好ましく、0.03以下が更に好ましい。色調は、各層の屈折率より、反射率、反射光の色味を考慮して膜厚を常法に従って計算できる。   Moreover, it is preferable to have a flat reflection spectrum in the wavelength region of visible light. In addition, the reflection hue on the surface of the display device that has been subjected to the antireflection treatment is often colored red or blue because the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region is high in the visible light region due to the design of the antireflection film. The color tone of the reflected light varies depending on the application, and when used on the outermost surface of a flat-screen television or the like, a neutral color tone is preferred. In this case, generally preferred reflection hue ranges are 0.17 ≦ x ≦ 0.27 and 0.07 ≦ y ≦ 0.17 on the XYZ color system (CIE1931 color system). Further, the range in which the distance Δxy of (x, y) = (0.31, 0.31) on the xy plane is 0.05 or less is preferable because it is closer to neutral with no color, and 0.03 or less is preferable. Further preferred. The color tone can be calculated from the refractive index of each layer in accordance with a conventional method in consideration of the reflectance and the color of reflected light.

(基材フィルム)
ハードコート層を有する第1保護フィルムの基材フィルムについて説明する。基材フィルムは前述した一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステルフィルムを使用することもでき、また下記に記載する基材フィルムを用いることが出来る。
(Base film)
The base film of the first protective film having a hard coat layer will be described. As the base film, a cellulose ester film having at least one repeating unit represented by the general formula (1) or (2) described above can be used, and the base film described below can be used.

基材フィルムは、製造が容易であること、ハードコート層と接着し易いこと、光学的に等方性であることが好ましい。これらの性質を有していれば何れでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。これらの内、セルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタックKC8UX2M、KC4UX2M、KC4UY、KC8UT、KC5UN、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4(以上、コニカミノルタオプト(株)製))、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエステルフィルムが好ましく、特にセルロースエステル系フィルムが、製造上、コスト面、等方性、接着性、及び本発明の目的効果が好適に得られることから好ましい。   The base film is preferably easy to manufacture, easy to adhere to the hard coat layer, and optically isotropic. Any of these may be used, for example, cellulose ester films such as triacetyl cellulose film, cellulose acetate propionate ionate film, cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate. Polyester film such as phthalate, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, Shinji Otectic polystyrene film, norbornene resin film, polymethylpentene Examples include, but are not limited to, film, polyether ketone film, polyether ketone imide film, polyamide film, fluororesin film, nylon film, cycloolefin polymer film, polymethyl methacrylate film or acrylic film. Absent. Among these, cellulose ester films (for example, Konica Minoltak KC8UX2M, KC4UX2M, KC4UY, KC8UT, KC5UN, KC12UR, KC8UCR-3, KC8UCR-4 (above, manufactured by Konica Minolta Opto), polycarbonate film, cycloolefin A polymer film and a polyester film are preferred, and a cellulose ester film is particularly preferred from the viewpoint of production, cost, isotropy, adhesiveness, and the object effects of the present invention.

セルロースエステルの分子量は数平均分子量(Mn)で60000〜300000のものが好ましく、70000〜200000のものが更に好ましく、100000〜200000のものが特に好ましい。セルロースエステルは重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)比が4.0以下であることが好ましく、更に好ましくは1.4〜2.3である。   The molecular weight of the cellulose ester is preferably a number average molecular weight (Mn) of 60,000 to 300,000, more preferably 70,000 to 200,000, particularly preferably 100,000 to 200,000. The cellulose ester preferably has a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) ratio of 4.0 or less, more preferably 1.4 to 2.3.

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できるので、これを用いて数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)を算出し、その比を計算することができる。   Since the average molecular weight and molecular weight distribution of the cellulose ester can be measured using high performance liquid chromatography, the number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) can be calculated using this, and the ratio can be calculated.

測定条件は以下の通りである。   The measurement conditions are as follows.

溶媒:メチレンクロライド
カラム:Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度:0.1質量%
検出器:RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ:L6000(日立製作所(株)製)
流量:1.0ml/min
校正曲線:標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)
Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
Solvent: Methylene chloride Column: Shodex K806, K805, K803G (Used by connecting three Showa Denko Co., Ltd.)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (GL Science Co., Ltd.)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0 ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation)
A calibration curve with 13 samples from Mw = 100000 to 500 was used. The 13 samples are preferably used at approximately equal intervals.

セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることができる。特に綿花リンター(以下、単にリンターとすることがある)から合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。   As the cellulose ester, a cellulose ester synthesized using cotton linter, wood pulp, kenaf or the like as a raw material can be used alone or in combination. In particular, it is preferable to use a cellulose ester synthesized from cotton linter (hereinafter sometimes simply referred to as linter) alone or in combination.

セルロースエステルフィルムは、光透過率が90%以上、より好ましくは93%以上の透明支持体であることが好ましい。セルロースエステル樹脂のアシル基の総置換度(T)が2.00〜3.00、アセチル基置換度(ac)が0〜1.89、アセチル基以外のアシル基の炭素数が3〜7であり、重量平均分子量(Mw)が75000〜280000であることが好ましい。   The cellulose ester film is preferably a transparent support having a light transmittance of 90% or more, more preferably 93% or more. Cellulose ester resin has a total acyl group substitution degree (T) of 2.00 to 3.00, an acetyl group substitution degree (ac) of 0 to 1.89, and an acyl group other than the acetyl group having 3 to 7 carbon atoms. And the weight average molecular weight (Mw) is preferably 75,000 to 280000.

またセルロースエステルフィルムは、一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルフィルムに記載したアクリル系重合体を含有する事ができ、アクリル系重合体:セルロースエステル樹脂=95:5〜30:70の質量比で含有することが好ましい。セルロースエステルフィルムはアクリル粒子を含有してもよく、アクリル粒子としては、市販のものも使用することができる。例えば、メタブレンW−341(C2)(三菱レイヨン(株)製)を、ケミスノーMR−2G(C3)、MS−300X(C4)(綜研化学(株)製)等を挙げることができる。アクリル粒子はセルロースエステル樹脂とアクリル系重合体の総質量に対して、0.5〜45質量%で含有することが好ましい。   Moreover, the cellulose ester film can contain the acrylic polymer described in the cellulose ester film having the repeating unit represented by the general formula (1) or (2), and acrylic polymer: cellulose ester resin = 95. : It is preferable to contain by mass ratio of 5-30: 70. The cellulose ester film may contain acrylic particles, and commercially available products may be used as the acrylic particles. For example, metabrene W-341 (C2) (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Chemisnow MR-2G (C3), MS-300X (C4) (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned. The acrylic particles are preferably contained at 0.5 to 45 mass% with respect to the total mass of the cellulose ester resin and the acrylic polymer.

基材フィルムには、一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルフィルムに記載した可塑剤、紫外線吸収剤等の添加剤を含有させてもよい。また、内部ヘイズを付与させてもよい。   You may make a base film contain additives, such as a plasticizer described in the cellulose-ester film which has a repeating unit represented by General formula (1) or (2), and an ultraviolet absorber. Moreover, you may give an internal haze.

(粒子)
内部ヘイズは、例えば基材フィルムに基材フィルムと屈折率の異なる粒子を添加し、添加量や粒子の粒径等をコントロールすることで、内部散乱によるヘイズを発生させ、これを調整することで達成できる。粒子としては、無機粒子と有機粒子に区別される。無機粒子としては特に限定されず、例えば、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等が挙げられる。また、有機粒子としては特に限定されず、例えば、フッ素化アクリル樹脂粉末、ポリスチレン樹脂粉末、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、シリコーン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、更にポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリ弗化エチレン樹脂粉末等が挙げられる。これらの無機粒子及び有機粒子は、種類、平均粒子径が異なる2種以上を併用してもよく、粒子の表面を有機物により表面処理したものも好ましく用いられる。
(particle)
Internal haze, for example, by adding particles with a refractive index different from that of the base film to the base film and controlling the addition amount, particle size, etc., generating haze due to internal scattering, and adjusting this Can be achieved. The particles are classified into inorganic particles and organic particles. The inorganic particles are not particularly limited, and examples thereof include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, calcium carbonate, barium sulfate, talc, kaolin, and calcium sulfate. The organic particles are not particularly limited. For example, fluorinated acrylic resin powder, polystyrene resin powder, polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, silicone resin powder, polycarbonate resin powder, acrylic styrene resin powder, benzoguanamine resin Examples thereof include powder, melamine resin powder, polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, and polyfluoroethylene resin powder. These inorganic particles and organic particles may be used in combination of two or more different types and average particle diameters, and those obtained by surface-treating the surface of the particles with an organic substance are also preferably used.

特に好ましい無機粒子は、これらの中でも二酸化珪素である。二酸化珪素の具体例としては、アエロジル200V、アエロジルR972V、アエロジルR972、R974、R812、200、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)、シーホスターKEP−10、シーホスターKEP−30、シーホスターKEP−50(以上、株式会社日本触媒製)、サイロホービック100(富士シリシア製)、ニップシールE220A(日本シリカ工業製)、アドマファインSO(アドマテックス製)等の商品名を有する市販品などが好ましく使用できる。粒子の形状としては、不定形、針状、扁平、球状等特に制限なく使用できるが、特に球状の粒子を用いるとヘイズを調整するのが容易であり好ましい。有機粒子としては、フッ素含有アクリル樹脂粒子が特に好適である。   Particularly preferred inorganic particles are silicon dioxide. Specific examples of silicon dioxide include Aerosil 200V, Aerosil R972V, Aerosil R972, R974, R812, 200, 300, R202, OX50, TT600 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.), Sea Hoster KEP-10, Sea Hoster KEP-30, Commercial products having trade names such as Seahoster KEP-50 (above, made by Nippon Shokubai Co., Ltd.), Silo Hovic 100 (made by Fuji Silysia), Nip Seal E220A (made by Nippon Silica Kogyo), Admafine SO (made by Admatechs), etc. Can be preferably used. The shape of the particles can be used without any particular limitation, such as indefinite shape, needle shape, flat shape, and spherical shape. However, the use of spherical particles is particularly preferable because it is easy to adjust the haze. As the organic particles, fluorine-containing acrylic resin particles are particularly suitable.

基材フィルムに添加する粒子の平均粒子径は0.3〜1μmが好ましく、0.4〜0.7μmが更に好ましい。上記平均粒子径は、500個の粒子を走査型電子顕微鏡(SEM)等により得られる二次電子放出のイメージ写真からの目視やイメージ写真を画像処理することにより、または動的光散乱法、静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により計測することができる。ここでいう平均粒子径は、個数平均粒子径をさす。尚、平均粒子径は、粒子が1次粒子の凝集体の場合は凝集体の平均粒子径を意味する。また、粒子が球状でない場合は、その投影面積に相当する円の直径を意味する。   The average particle size of the particles added to the base film is preferably 0.3 to 1 μm, more preferably 0.4 to 0.7 μm. The average particle size can be determined by visual observation from an image photograph of secondary electron emission obtained by scanning electron microscope (SEM) or the like of 500 particles or by image processing, or by dynamic light scattering, static It can be measured by a particle size distribution meter using an automatic light scattering method or the like. The average particle diameter here refers to the number average particle diameter. In addition, an average particle diameter means the average particle diameter of an aggregate, when particle | grains are the aggregates of a primary particle. Moreover, when a particle is not spherical, it means the diameter of a circle corresponding to the projected area.

また、粒子の屈折率は、1.45〜1.70であることが好ましく、より好ましくは1.45〜1.65である。尚、粒子の屈折率は、屈折率の異なる2種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定できる。   The refractive index of the particles is preferably 1.45 to 1.70, more preferably 1.45 to 1.65. In addition, the refractive index of the particles is measured by measuring the turbidity by dispersing the same amount of particles in the solvent in which the refractive index is changed by changing the mixing ratio of two kinds of solvents having different refractive indexes. The refractive index of the solvent can be measured by measuring with an Abbe refractometer.

また、支持体に用いる樹脂と該粒子の屈折率差は、0.02以上0.20以下であることが光散乱効果を利用して内部ヘイズを高める上で好ましい。屈折率差のより好ましい範囲は、0.05以上0.15以下である。   Further, the difference in refractive index between the resin used for the support and the particles is preferably 0.02 or more and 0.20 or less in order to increase the internal haze using the light scattering effect. A more preferable range of the refractive index difference is 0.05 or more and 0.15 or less.

上記無機または有機粒子の含有量は、フィルム基材の作製用の樹脂100質量部に対して、1質量部〜30質量部が好ましく、内部ヘイズを得る上でより好ましくは5質量部〜25質量部である。   The content of the inorganic or organic particles is preferably 1 part by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin for producing the film base material, and more preferably 5 parts by mass to 25 parts by mass for obtaining internal haze. Part.

前記粒子は、基材フィルムを作製する組成物(ドープ)の調製時にセルロースエステル、他の添加剤及び有機溶媒とともに含有させて分散させてもよく、また、単独で溶液中に分散させてもよい。粒子の分散方法としては、前もって有機溶媒に浸してから高剪断力を有する分散機(高圧分散装置)で細分散させておくのが好ましい。   The particles may be dispersed together with cellulose ester, other additives and an organic solvent when preparing the composition (dope) for producing the base film, or may be dispersed alone in the solution. . As a method for dispersing the particles, it is preferable that the particles are preliminarily dispersed in an organic solvent and then finely dispersed by a disperser (high pressure disperser) having a high shearing force.

(有機溶媒)
基材フィルムを作製するドープは、製膜性や生産性の点から、有機溶媒を含有することが好ましい。有機溶媒としては、セルロースエステル、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができる。これら有機溶媒の中でも塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンが好ましく用いられる。
(Organic solvent)
The dope for producing the base film preferably contains an organic solvent from the viewpoint of film forming property and productivity. Any organic solvent can be used without limitation as long as it dissolves cellulose ester and other additives simultaneously. For example, methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3 , 3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3 , 3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane and the like. Among these organic solvents, methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate, and acetone are preferably used.

ドープには、上記有機溶媒の他に、1〜40質量%の炭素原子数1〜4のアルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数1〜4のアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、且つ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。ドープ中のセルロースエステルの濃度は15〜40質量%、ドープ粘度は10〜50Pa・sの範囲に調整されることが良好なフィルム面品質を得る上で好ましい。   The dope preferably contains 1 to 40% by mass of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms in addition to the organic solvent. When the proportion of alcohol in the dope increases, the web gels, facilitating peeling from the metal support, and when the proportion of alcohol is small, the role of promoting dissolution of cellulose esters in non-chlorine organic solvents There is also. Examples of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, and tert-butanol. Ethanol is preferred because of the stability of these dopes, the boiling point being relatively low, good drying properties, and no toxicity. The concentration of the cellulose ester in the dope is preferably adjusted to 15 to 40% by mass, and the dope viscosity is preferably adjusted to a range of 10 to 50 Pa · s in order to obtain good film surface quality.

また基材フィルムは、溶液流延法で製造されたものでも、溶融流延法で製造されたものでもよいが、少なくとも幅手方向に延伸されたものが好ましく、特に溶液流延工程で剥離残溶量が3〜40質量%である時に幅手方向に1.01〜1.5倍に延伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅手方向と長手方向に2軸延伸することであり、剥離残溶量が3〜40質量%である時に幅手方向及び長手方向に、各々1.01〜1.5倍に延伸されることが望ましい。このときの延伸倍率としては特に好ましくは、1.03〜1.45倍である。   The substrate film may be either produced by the solution casting method or produced by the melt casting method, but is preferably at least stretched in the width direction, and in particular, the residue remaining in the solution casting step. When the dissolution amount is 3 to 40% by mass, it is preferably stretched 1.01 to 1.5 times in the width direction. More preferably, it is biaxially stretched in the width direction and the lengthwise direction, and when the amount of residual dissolution is 3 to 40% by mass, it is stretched by 1.01 to 1.5 times in the width direction and the lengthwise direction, respectively. It is desirable that The draw ratio at this time is particularly preferably 1.03 to 1.45.

基材フィルムは、長さ100m〜9000m、更に好ましくは1000m〜7000mであり、幅は1.2m以上が好ましく、更に好ましくは1.4〜4mである。基材フィルムの長さ及び幅を前記範囲とすることで、取り扱い性や生産性に優れる。また基材フィルムはロール状が好ましい。   The base film has a length of 100 m to 9000 m, more preferably 1000 m to 7000 m, and a width of preferably 1.2 m or more, and more preferably 1.4 to 4 m. By making the length and width of the base film within the above ranges, the handleability and productivity are excellent. The base film is preferably in a roll shape.

(製膜方法)
基材フィルムは、前述した溶液流延或いは溶融流延による製膜方法によって製膜できる。
(Film forming method)
The base film can be formed by the above-described solution casting method or melt casting method.

<偏光板>
本発明の第1保護フィルム、第2保護フィルムを用いた偏光板について述べる。偏光板は、一般的な方法で作製することができる。本発明の第1、及び第2の保護フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した保護フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。その際、第1保護フィルムではハードコート層が偏光膜から遠い側に、また第2保護フィルムでは、光学異方性層が偏光膜から遠い側に貼合されることが好ましい。
<Polarizing plate>
The polarizing plate using the first protective film and the second protective film of the present invention will be described. The polarizing plate can be produced by a general method. The first and second protective films of the present invention are subjected to alkali saponification treatment on the back side, and the treated protective film is immersed and stretched in an iodine solution on at least one surface of the polarizing film, and completely saponified polyvinyl It is preferable to bond using an aqueous alcohol solution. At that time, in the first protective film, the hard coat layer is preferably bonded to the side far from the polarizing film, and in the second protective film, the optically anisotropic layer is preferably bonded to the side far from the polarizing film.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるがこれのみに限定されるものではない。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are ones in which iodine is dyed on a system film and ones in which a dichroic dye is dyed, but it is not limited to this.

偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。   As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound.

偏光膜の膜厚は5〜30μm、好ましくは8〜15μmの偏光膜が好ましく用いられる。該偏光膜の面上に、本発明の保護フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   A polarizing film having a thickness of 5 to 30 μm, preferably 8 to 15 μm, is preferably used. On the surface of the polarizing film, one surface of the protective film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

また偏光板は、100m以上の長尺で生産的効果が得られ、1500m、2500m、5000mとより長尺化する程偏光板製造の生産的効果が高まる。また、本発明の偏光板は、リワーク性に優れるため、偏光板収率が向上するという効果も得ることができる。   In addition, the polarizing plate has a length of 100 m or more, and a productive effect is obtained. The longer the length is 1500 m, 2500 m, and 5000 m, the higher the productivity effect of manufacturing the polarizing plate. Moreover, since the polarizing plate of this invention is excellent in rework property, the effect that a polarizing plate yield improves can also be acquired.

<液晶表示装置>
本発明の偏光板を液晶表示装置の鑑賞面側に組み込むことによって、平面特性に優れることに加えて、種々の視認性に優れた本発明の液晶表示装置を作製することができる。
<Liquid crystal display device>
Incorporation of the polarizing plate of the present invention on the viewing surface side of the liquid crystal display device makes it possible to produce the liquid crystal display device of the present invention that is excellent in various visibility in addition to being excellent in flat characteristics.

液晶表示装置としては、反射型、透過型、半透過型LCDまたはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられるが、特にIPS型液晶表意装置で好適に用いられる。   As the liquid crystal display device, a reflective type, a transmissive type, a transflective type LCD, or a TN type, STN type, OCB type, HAN type, VA type (PVA type, MVA type), or IPS type LCD is preferable. Although it is used, it is particularly preferably used in an IPS liquid crystal ideographic apparatus.

図3は本発明に係るIPSモード型液晶表示装置の模式図である。   FIG. 3 is a schematic view of an IPS mode liquid crystal display device according to the present invention.

下方よりバックライトL−13に隣接して導光板、プリズムシート(不図示)、バックライト側偏光板L−12を配置する。バックライト側偏光板L−12の偏光膜L−8は、偏光板保護フィルムL−7、偏光板保護フィルムL−9によって挟持されている。次いで、電極側セルガラス基板L−6−2、IPS型液晶セルL−6−3、非電極型セルガラス基板L−6−1の構成のIPS型液晶セルL−6があり、視認側偏光板L−10を構成する偏光膜L−2、本発明の第1保護フィルムL−1、第2保護フィルムL−11がある。   A light guide plate, a prism sheet (not shown), and a backlight side polarizing plate L-12 are arranged adjacent to the backlight L-13 from below. The polarizing film L-8 of the backlight side polarizing plate L-12 is sandwiched between the polarizing plate protective film L-7 and the polarizing plate protective film L-9. Next, there is an IPS liquid crystal cell L-6 having a configuration of an electrode side cell glass substrate L-6-2, an IPS type liquid crystal cell L-6-3, and a non-electrode type cell glass substrate L-6-1. There is a polarizing film L-2 constituting the plate L-10, a first protective film L-1 of the present invention, and a second protective film L-11.

他の偏光板保護フィルムL−7、L−9としては、特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリシクロオレフィンフィルム、セロファン、セルロースアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートフタレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルローストリアセテート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類またはそれらの誘導体からなるフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム(例えば、ARTON(JSR社製)、ゼオネックス、ゼオノア(日本ゼオン社製))、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、アクリルフィルム或いはポリアクリレート系フィルム等を挙げることができる。   Other polarizing plate protective films L-7 and L-9 are not particularly limited. For example, polyester films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethylene films, polypropylene films, polycycloolefin films, cellophane, and cellulose. Acetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose acetate phthalate film, cellulose acetate propionate film, cellulose triacetate, film made of cellulose esters such as cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene Vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film , Cycloolefin polymer film (eg, ARTON (manufactured by JSR), ZEONEX, ZEONOR (manufactured by ZEON)), polymethylpentene film, polyetherketone film, polyethersulfone film, polysulfone film, polyetherketoneimide Examples thereof include a film, a polyamide film, an acrylic film, and a polyacrylate film.

セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルローストリアセテートフィルム(TACフィルム)等のセルロースエステルフィルムは市販のフィルム、例えば、コニカミノルタオプト(株)製のコニカミノルタタック KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC16UR、KC4UE、KC8UE、KC4FR−1、KC4FR−2等が好ましく用いられる。他にシクロオレフィンポリマーフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステルフィルムまたはポリアクリルフィルムも透明性、機械的性質、光学的異方性がない点等で好ましく使用できる。これらの樹脂フィルムは溶融流延法または溶液流延法で製膜されたフィルムであってもよい。   Cellulose ester films such as cellulose acetate propionate film and cellulose triacetate film (TAC film) are commercially available films, such as Konica Minolta Op KONICA MINOLTATAC KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UCR5, KC8UY KC4UY, KC12UR, KC16UR, KC4UE, KC8UE, KC4FR-1, KC4FR-2, etc. are preferably used. In addition, a cycloolefin polymer film, a polycarbonate film, a polyester film, or a polyacrylic film can also be preferably used in terms of transparency, mechanical properties, and lack of optical anisotropy. These resin films may be films formed by a melt casting method or a solution casting method.

また、IPSモード型液晶表示装置の場合、偏光板保護フィルムL−7、L−9が、リターデーション値Rt値が−20〜20nmの範囲、より好ましくは−10〜10nmであり、Ro値が0〜10nmの範囲のフィルムを用いることも好ましい。   In the case of an IPS mode type liquid crystal display device, the polarizing plate protective films L-7 and L-9 have a retardation value Rt value in the range of -20 to 20 nm, more preferably -10 to 10 nm, and a Ro value. It is also preferable to use a film in the range of 0 to 10 nm.

〈IPS横電界スイッチングモード型液晶表示装置〉
上記本発明の偏光板保護フィルムを用いた偏光板を市販のIPS(In Plane Switching)モード型液晶表示装置に組み込むことによって、視認性に優れ、優れたカラーシフト、コーナームラ、正面コントラスト特性を有する本発明の液晶表示装置を作製することができる。
<IPS horizontal electric field switching mode type liquid crystal display device>
By incorporating a polarizing plate using the polarizing plate protective film of the present invention into a commercially available IPS (In Plane Switching) mode type liquid crystal display device, it has excellent visibility, excellent color shift, corner unevenness, and front contrast characteristics. The liquid crystal display device of the present invention can be manufactured.

本発明のIPSモードとは、フリンジ電場スイッチング(FFS:Fringe−Field Switching)モードも本発明に含み、IPSモードと同様に本発明の偏光板を組み込むことができ、同様の効果をもつ本発明の液晶表示装置を作製することができる。   The IPS mode of the present invention includes a fringe-field switching (FFS) mode in the present invention, and the polarizing plate of the present invention can be incorporated in the same manner as the IPS mode. A liquid crystal display device can be manufactured.

(IPSモード型液晶セル)
IPSモード型液晶表示装置における液晶パネルの液晶層は、初期状態で基板面と平行なホモジニアス配向で、且つ基板と平行な平面で液晶層のダイレクターは電圧無印加時で電極配線方向と平行または幾分角度を有し、電圧印加時で液晶層のダイレクターの向きが電圧の印加に伴い電極配線方向と垂直な方向に移行し、液晶層のダイレクター方向が電圧無印加時のダイレクター方向に比べて45°電極配線方向に傾斜したとき、当該電圧印加時の液晶層は、まるで1/2波長板のように偏光の方位角を90°回転させ、出射側偏光板の透過軸と偏光の方位角が一致して白表示となる。
(IPS mode liquid crystal cell)
The liquid crystal layer of the liquid crystal panel in the IPS mode type liquid crystal display device is homogeneously aligned parallel to the substrate surface in the initial state, and the director of the liquid crystal layer is parallel to the electrode wiring direction when no voltage is applied. The direction of the director of the liquid crystal layer shifts to a direction perpendicular to the electrode wiring direction when a voltage is applied, and the director direction of the liquid crystal layer is the direction of the director when no voltage is applied. When tilted in the direction of the electrode wiring by 45 ° compared to the liquid crystal layer when the voltage is applied, the azimuth angle of the polarization is rotated by 90 ° like a half-wave plate, and the transmission axis and polarization of the output side polarizing plate are rotated. The azimuth angles of the two coincide with each other to display white.

一般に、液晶層の厚みは一定であるが、横電界駆動であるため、液晶層の厚みに若干凹凸を設ける方がスイッチングに対する応答速度を上げることができるとも考えられるが、本発明においては、液晶層の厚みが一定でない場合であっても、その効果を最大限生かすことができるものである。本発明においては、液晶層の厚みの変化に対し影響が少ない。液晶層の厚みは、2〜6μmであって、好ましくは3〜5.5μmである。   In general, the thickness of the liquid crystal layer is constant, but since it is driven by a lateral electric field, it is considered that a slight unevenness in the thickness of the liquid crystal layer can increase the response speed to switching. Even if the thickness of the layer is not constant, the effect can be maximized. In this invention, there is little influence with respect to the change of the thickness of a liquid crystal layer. The thickness of the liquid crystal layer is 2 to 6 μm, and preferably 3 to 5.5 μm.

本発明の液晶表示装置は、大型の液晶テレビに用いられる。画面サイズとしては、17型以上に用いることができ、好ましくは26型以上100型程度まで用いることができる。   The liquid crystal display device of the present invention is used for a large liquid crystal television. As a screen size, it can be used for 17 or more types, preferably 26 to 100 types.

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.

実施例1
<第1保護フィルムの基材フィルムであるセルローストリアセテートフィルム1の作製>
(ドープ液Aの調製)
下記の材料を、順次密閉容器中に投入し、容器内温度を20℃から80℃まで昇温した後、温度を80℃に保ったままで3時間攪拌を行って、セルローストリアセテートを完全に溶解した。酸化ケイ素微粒子は予め添加する溶媒と少量のセルローストリアセテートの溶液中に分散して添加した。このドープを濾紙(安積濾紙株式会社製、安積濾紙No.244)を使用して濾過し、ドープ液Aを得た。
Example 1
<Preparation of Cellulose Triacetate Film 1 which is a Base Film of First Protective Film>
(Preparation of dope solution A)
The following materials were sequentially put into a sealed container, the temperature in the container was raised from 20 ° C. to 80 ° C., and then stirred for 3 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. to completely dissolve the cellulose triacetate. . The silicon oxide fine particles were dispersed and added in a solution of a solvent to be added in advance and a small amount of cellulose triacetate. This dope was filtered using a filter paper (Azumi filter paper No. 244, manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd.) to obtain a dope solution A.

(ドープ液A)
セルローストリアセテート(アセチル基置換度2.9) 100質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート 5質量部
エチルフタリルエチルグリコレート 5質量部
酸化ケイ素微粒子 0.1質量部
(アエロジルR972V、日本アエロジル株式会社製)
チヌビン109(チバ・ジャパン社製) 1質量部
チヌビン171(チバ・ジャパン社製) 1質量部
メチレンクロライド 400質量部
エタノール 40質量部
ブタノール 5質量部
上記の材料を混合してドープ液Aを調製し、得られたドープ液Aを、温度35℃に保温した流延ダイを通過させ、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる温度35℃の支持体上に流延して、ウェブを形成した。ついで、ウェブを支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が100質量%になった段階で、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。
(Dope solution A)
Cellulose triacetate (acetyl group substitution degree 2.9) 100 parts by mass Trimethylolpropane tribenzoate 5 parts by mass Ethylphthalylethyl glycolate 5 parts by mass Fine particles of silicon oxide 0.1 parts by mass (Aerosil R972V, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
Tinuvin 109 (manufactured by Ciba Japan) 1 part by weight Tinuvin 171 (manufactured by Ciba Japan) 1 part by weight Methylene chloride 400 parts by weight Ethanol 40 parts by weight Butanol 5 parts by weight The above materials are mixed to prepare a dope solution A The obtained dope liquid A was passed through a casting die kept at a temperature of 35 ° C. and cast on a support of 35 ° C. made of a stainless steel endless belt to form a web. Next, the web was dried on the support, and the web was peeled from the support with a peeling roll when the residual solvent amount of the web reached 100% by mass.

ついで、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送の乾燥工程で90℃の乾燥風にて乾燥させながら搬送し、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、130℃で幅方向(TD)に延伸前の1.2倍となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で140℃の乾燥風にて乾燥させた。乾燥工程の雰囲気置換率15(回/時間)とした雰囲気内で15分間熱処理した後、室温まで冷却して両端部に幅1cm、平均高さ25μmのナーリング加工を施して巻き取り、幅1.5m、膜厚60μm、長さ5000mの屈折率1.49のセルローストリアセテートフィルム1を作製した。   Next, the web is transported while being dried with a drying air of 90 ° C. in a drying process of transporting by a plurality of rolls arranged on the top and bottom, and subsequently grips both ends of the web with a tenter, and then in the width direction (TD) at 130 ° C. It extended | stretched so that it might be 1.2 times before extending | stretching. After stretching with a tenter, the web was dried with a drying air of 140 ° C. in a conveying and drying process using a plurality of rolls arranged vertically. After heat-treating for 15 minutes in an atmosphere with an atmosphere substitution rate of 15 (times / hour) in the drying step, the sample was cooled to room temperature and subjected to knurling with a width of 1 cm and an average height of 25 μm at both ends. A cellulose triacetate film 1 having a refractive index of 1.49 having a thickness of 5 m, a thickness of 60 μm, and a length of 5000 m was produced.

〈雰囲気置換率〉
上記雰囲気置換率とは、熱処理室の雰囲気容量をV(m)、Fresh−air送風量をFA(m/hr)とした場合、下式によって求められる単位時間あたり熱処理室の雰囲気をFresh−airで置換する回数である。Fresh−airは熱処理室に送風される風のうち、循環再利用している風ではなく、揮発した溶媒もしくは可塑剤などを含まない、もしくはそれらが除去された新鮮な風のことを意味している。
<Atmosphere replacement rate>
The atmosphere replacement rate is defined as the atmosphere of the heat treatment chamber per unit time determined by the following formula when the atmosphere capacity of the heat treatment chamber is V (m 3 ) and the fresh air flow rate is FA (m 3 / hr). The number of replacements with -air. “Fresh-air” means that the wind blown into the heat treatment chamber is not a wind that is recycled and reused, and it means a fresh wind that does not contain volatilized solvent or plasticizer or has been removed. Yes.

雰囲気置換率=FA/V(回/時間)
<ハードコートフィルム1の作製>
上記作製したセルローストリアセテートフィルム1に下記手順によりハードコートフィルム1を作製した。
Atmosphere replacement rate = FA / V (times / hour)
<Preparation of hard coat film 1>
A hard coat film 1 was produced on the produced cellulose triacetate film 1 by the following procedure.

上記作製したセルローストリアセテートフィルム1上に、下記のハードコート層塗布組成物1を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、80℃で乾燥の後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が200mW/cm,照射量を0.3J/cmとして塗布層を硬化させ、ドライ膜厚25μmのハードコート層を形成した後、下記バックコート層塗布組成物1をウェット膜厚18μmとなるように、ハードコート層を塗布した面とは反対の面に、押し出しコーターで塗布し、80℃にて乾燥し、ハードコートフィルム1を作製した。 On the cellulose triacetate film 1 produced above, the following hard coat layer coating composition 1 is filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a hard coat layer coating solution, which is coated using a micro gravure coater. Then, after drying at 80 ° C., while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0% by volume or less, the illuminance of the irradiation part is 200 mW / cm 2 and the irradiation amount is 0.3 J / kg using an ultraviolet lamp. After the coating layer is cured as cm 2 and a hard coat layer having a dry film thickness of 25 μm is formed, the back coat layer coating composition 1 described below is opposite to the surface coated with the hard coat layer so as to have a wet film thickness of 18 μm. The hard coat film 1 was prepared by coating the surface of the film with an extrusion coater and drying at 80 ° C.

(ハードコート層組成物1)
〈フッ素−シロキサングラフトポリマーIの調製〉
以下、フッ素−シロキサングラフトポリマーIの調製に用いた素材の市販品名を示す。
(Hard coat layer composition 1)
<Preparation of fluorine-siloxane graft polymer I>
Hereinafter, commercial product names of materials used for the preparation of the fluorine-siloxane graft polymer I are shown.

ラジカル重合性フッ素樹脂(A):セフラルコートCF−803(水酸基価60,数平均分子量15,000;セントラル硝子株式会社製)
片末端ラジカル重合性ポリシロキサン(B):サイラプレーンFM−0721(数平均分子量5,000;チッソ株式会社製)
ラジカル重合開始剤:パーブチルO(t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート;日本油脂株式会社製)
硬化剤:スミジュールN3200(ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット型プレポリマー;住化バイエルウレタン株式会社製)
(ラジカル重合性フッ素樹脂(A)の合成)
機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、セフラルコートCF−803(1554質量部)、キシレン(233質量部)、及び2−イソシアナトエチルメタクリレート(6.3質量部)を入れ、乾燥窒素雰囲気下で80℃に加熱した。80℃で2時間反応し、サンプリング物の赤外吸収スペクトルによりイソシアネートの吸収が消失したことを確認した後、反応混合物を取り出し、ウレタン結合を介して50質量%のラジカル重合性フッ素樹脂(A)を得た。
Radical polymerizable fluororesin (A): Cefalcoat CF-803 (hydroxyl value 60, number average molecular weight 15,000; manufactured by Central Glass Co., Ltd.)
One-end radical polymerizable polysiloxane (B): Silaplane FM-0721 (number average molecular weight 5,000; manufactured by Chisso Corporation)
Radical polymerization initiator: Perbutyl O (t-butylperoxy-2-ethylhexanoate; manufactured by NOF Corporation)
Curing agent: Sumidur N3200 (biuret type prepolymer of hexamethylene diisocyanate; manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.)
(Synthesis of radical polymerizable fluororesin (A))
In a glass reactor equipped with a mechanical stirrer, thermometer, condenser and dry nitrogen gas inlet, cefal coat CF-803 (1554 parts by mass), xylene (233 parts by mass), and 2-isocyanatoethyl methacrylate (6 3 parts by mass) and heated to 80 ° C. in a dry nitrogen atmosphere. After reacting at 80 ° C. for 2 hours and confirming that the absorption of isocyanate disappeared by the infrared absorption spectrum of the sample, the reaction mixture was taken out and 50% by mass of radically polymerizable fluororesin (A) via a urethane bond. Got.

(フッ素−シロキサングラフトポリマーIの調製)
機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、上記合成したラジカル重合性フッ素樹脂(A)(26.1質量部)、キシレン(19.5質量部)、酢酸n−ブチル(16.3質量部)、メチルメタクリレート(2.4質量部)、n−ブチルメタクリレート(1.8質量部)、ラウリルメタクリレート(1.8質量部)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(1.8質量部)、FM−0721(5.2質量部)、及びパーブチルO(0.1質量部)を入れ、窒素雰囲気中で90℃まで加熱した後、90℃で2時間保持した。パーブチルO(0.1部)を追加し、更に90℃で5時間保持することによって、重量平均分子量が171,000である35質量%フッ素−シロキサングラフトポリマーIの溶液を得た。
(Preparation of fluorine-siloxane graft polymer I)
In a glass reactor equipped with a mechanical stirrer, a thermometer, a condenser and a dry nitrogen gas inlet, the synthesized radical polymerizable fluororesin (A) (26.1 parts by mass), xylene (19.5 parts by mass) ), N-butyl acetate (16.3 parts by mass), methyl methacrylate (2.4 parts by mass), n-butyl methacrylate (1.8 parts by mass), lauryl methacrylate (1.8 parts by mass), 2-hydroxyethyl Add methacrylate (1.8 parts by mass), FM-0721 (5.2 parts by mass), and perbutyl O (0.1 parts by mass), heat to 90 ° C. in a nitrogen atmosphere, and hold at 90 ° C. for 2 hours. did. Perbutyl O (0.1 part) was added, and the solution was further maintained at 90 ° C. for 5 hours to obtain a 35 mass% fluorine-siloxane graft polymer I solution having a weight average molecular weight of 171,000.

重量平均分子量はGPCにより求めた。また、フッ素−シロキサングラフトポリマーIの質量%はHPLC(液体クロマトグラフィー)により求めた。   The weight average molecular weight was determined by GPC. Moreover, the mass% of the fluorine-siloxane graft polymer I was calculated | required by HPLC (liquid chromatography).

(ハードコート層塗布組成物1)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布組成物1とした。
(Hardcoat layer coating composition 1)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer coating composition 1.

ペンタエリスリトールトリアクリレート 20.0質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 50.0質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 30.0質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 30.0質量部
イルガキュア184(チバ・ジャパン社製) 8.0質量部
上記調整したフッ素−シロキサングラフトポリマーI(35質量%) 5.0質量部
シーホスターKEP−50(平均粒径0.47〜0.61μmのシリカ粒子、日本触媒株式会社製) 50質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 20質量部
酢酸メチル 40質量部
メチルエチルケトン 60質量部
(バックコート層塗布組成物1)
ジアセチルセルロース 0.6質量部
酢酸メチル 75質量部
メタノール 25質量部
シリカ粒子の2%メタノール分散液 16質量部
(KE−P30、日本触媒株式会社製)
(マルテンス硬さの測定)
ハードコートフィルム1のハードコート層表面のマルテンス硬さ(HMs)を、微小硬度計を用いて測定した。すなわち、ビッカース圧子及び稜線同士の角度が、115度の三角錐圧子を用いた微小硬度計(商品名、DUH−211,島津製作所社製)を用いて、先ずはハードコートフィルム表面のハードコート層を、膜厚の略1/10の厚みまで圧子を押し込み、圧子を押し込んだときの負荷試験力−押し込み深さ曲線を作成した。次に、作成した負荷試験力−押し込み深さ曲線から最大負荷試験力(Fmax)の50%値から90%値までの押し込み深さが負荷試験力の平方根に比例する傾き(m)より、下記式で定義されるハードコート層表面のマルテンス硬さ(Hms)の値を算出した。
Pentaerythritol triacrylate 20.0 parts by mass Pentaerythritol tetraacrylate 50.0 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate 30.0 parts by mass Dipentaerythritol pentaacrylate 30.0 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Japan) 8.0 Parts by mass The above-prepared fluorine-siloxane graft polymer I (35% by mass) 5.0 parts by mass Seahoster KEP-50 (silica particles having an average particle size of 0.47 to 0.61 μm, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 50 parts by mass propylene Glycol monomethyl ether 20 parts by weight Methyl acetate 40 parts by weight Methyl ethyl ketone 60 parts by weight (Backcoat layer coating composition 1)
Diacetylcellulose 0.6 parts by mass Methyl acetate 75 parts by mass Methanol 25 parts by mass 2% methanol dispersion of silica particles 16 parts by mass (KE-P30, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)
(Measurement of Martens hardness)
The Martens hardness (HMs) of the hard coat layer surface of the hard coat film 1 was measured using a micro hardness meter. That is, using a microhardness meter (trade name, DUH-212, manufactured by Shimadzu Corporation) using a Vickers indenter and a triangular pyramid indenter having an angle of 115 degrees, first, a hard coat layer on the surface of the hard coat film The indenter was pushed to a thickness of about 1/10 of the film thickness, and a load test force-indentation depth curve when the indenter was pushed in was created. Next, from the created load test force-indentation depth curve, the indentation depth from the 50% value to the 90% value of the maximum load test force (Fmax) is as follows from the slope (m) proportional to the square root of the load test force. The Martens hardness (Hms) value of the hard coat layer surface defined by the formula was calculated.

1HMs=1/(26.4m
結果、ハードコートフィルム1のハードコート層表面のマルテンス硬さ(HMs)は、452N/mmであった。
1HMs = 1 / (26.4m 2 )
As a result, the Martens hardness (HMs) of the hard coat layer surface of the hard coat film 1 was 452 N / mm 2 .

<ハードコートフィルム2〜4の作製>
ハードコートフィルムのハードコート層表面のマルテンス硬さ(HMs)が、表1に記載された値となるようにハードコート膜厚、硬化条件を適宜調整してハードコートフィルム2〜4を作製した。
<Preparation of hard coat films 2-4>
Hard coat films 2 to 4 were prepared by appropriately adjusting the hard coat film thickness and curing conditions so that the Martens hardness (HMs) of the hard coat layer surface of the hard coat film was the value described in Table 1.

<位相差フィルム1の作製>
〈セルロースエステルフィルムAの作製(一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステル含有透明フィルムの作製)〉
(セルロースエステルXの合成)
反応器に酢酸セルロース(ダイセル化学工業(株)製、L−20、置換度2.41)80部を加え、110℃、4時間、4Torr(1Torrは、133.322Paである)で減圧乾燥した。その後、乾燥窒素によりパージを行い、還流冷却管を取り付け、事前に乾燥、蒸留したε−カプロラクトン20部、シクロヘキサノン67部を加えて160℃に加熱、撹拌して酢酸セルロースを均一に溶解させた。この反応液にモノブチルスズトリオクチレート0.25部を添加し、160℃で2時間撹拌しながら加熱した。その後、反応液を室温まで冷却し反応を終結させ反応物を得た。さらに、クロロホルム90部に対して反応物10部を溶解後、大過剰のメタノール900部中にゆっくりと滴下し、沈殿した沈殿物を濾別することによって、ε−カプロラクトンの単独重合体を除去した。さらに、60℃にて5時間以上加熱乾燥し、ε−カプロラクトンが酢酸セルロースに反応したセルロースエステルXを得た。そして、H−NMRにより得られたセルロースエステルの一次構造を分析した。その結果、グルコース単位1モルあたりに反応したε−カプロラクトンの平均モル数は0.43、平均置換度は0.08、平均重合度は5.1であった。
<Preparation of retardation film 1>
<Production of Cellulose Ester Film A (Production of Cellulose Ester-Containing Transparent Film Having at least one Repeating Unit Represented by General Formula (1) or (2))>
(Synthesis of cellulose ester X)
To the reactor, 80 parts of cellulose acetate (Daicel Chemical Industries, Ltd., L-20, substitution degree 2.41) was added and dried under reduced pressure at 110 ° C. for 4 hours, 4 Torr (1 Torr is 133.322 Pa). . Thereafter, purging was performed with dry nitrogen, a reflux condenser was attached, 20 parts of ε-caprolactone and 67 parts of cyclohexanone that had been dried and distilled in advance were added, and the mixture was heated to 160 ° C. and stirred to dissolve cellulose acetate uniformly. To this reaction solution, 0.25 part of monobutyltin trioctylate was added and heated at 160 ° C. with stirring for 2 hours. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature to terminate the reaction and obtain a reaction product. Furthermore, 10 parts of the reaction product was dissolved in 90 parts of chloroform, and then slowly dropped into 900 parts of a large excess of methanol, and the precipitated precipitate was filtered to remove the homopolymer of ε-caprolactone. . Furthermore, it heat-dried at 60 degreeC for 5 hours or more, and obtained the cellulose ester X which (epsilon) -caprolactone reacted with the cellulose acetate. And the primary structure of the cellulose ester obtained by < 1 > H-NMR was analyzed. As a result, the average number of moles of ε-caprolactone reacted per mole of glucose unit was 0.43, the average degree of substitution was 0.08, and the average degree of polymerization was 5.1.

(ドープ液Bの調製)
下記材料を、順次密閉容器中に投入し、容器内温度を20℃から80℃まで昇温した後、温度を80℃に保ったままで3時間攪拌を行って、セルロースエステルを完全に溶解した。酸化ケイ素微粒子は予め添加する溶媒と少量のセルロースエステルの溶液中に分散して添加した。このドープを濾紙(安積濾紙株式会社製、安積濾紙No.244)を使用して濾過し、ドープ液Bを得た。
(Preparation of dope solution B)
The following materials were sequentially put into a sealed container, the temperature in the container was raised from 20 ° C. to 80 ° C., and the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. to completely dissolve the cellulose ester. The silicon oxide fine particles were added dispersed in a solution of a solvent to be added in advance and a small amount of cellulose ester. This dope was filtered using a filter paper (Azumi filter paper No. 244, manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd.) to obtain a dope solution B.

(ドープ液B)
セルロースエステルX 100質量部
モノペットSB(糖エステル化合物) 9質量部
酸化ケイ素微粒子 0.1質量部
(アエロジルR972V、日本アエロジル株式会社製)
メチレンクロライド 400質量部
エタノール 40質量部
ブタノール 5質量部
上記の材料を混合してドープ液Bを調製し、得られたドープ液Bを、温度35℃に保温した流延ダイより、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる温度35℃の支持体上に流延して、ウェブを形成した。ついで、ウェブを支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が100質量%になった段階で、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。
(Dope solution B)
Cellulose ester X 100 parts by mass Monopet SB (sugar ester compound) 9 parts by mass Silicon oxide fine particles 0.1 parts by mass (Aerosil R972V, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
Methylene chloride 400 parts by weight Ethanol 40 parts by weight Butanol 5 parts by weight The above materials are mixed to prepare a dope solution B, and the obtained dope solution B is made of stainless steel endless from a casting die kept at a temperature of 35 ° C. The web was formed by casting on a support composed of a belt and having a temperature of 35 ° C. Next, the web was dried on the support, and the web was peeled from the support with a peeling roll when the residual solvent amount of the web reached 100% by mass.

ついで、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で100℃の乾燥風にて乾燥させながら搬送し、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、130℃で幅方向(TD)に延伸前の1.2倍となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で140℃の乾燥風にて乾燥させた。室温まで冷却して、フィルム両端に幅10mm、平均高さ10μmのナーリング加工を施して巻き取り、幅1.5m、膜厚80μm、長さ5000m、長尺のセルロースエステルフィルムAを作製した。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出される剥離直後のウェブ搬送方向(MD)の延伸倍率は、1.1倍であった。   Next, the web is transported while being dried with a drying air of 100 ° C. in a transport drying process using a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides. Subsequently, both ends of the web are gripped by a tenter and then stretched in the width direction (TD) at 130 ° C. It extended | stretched so that it might become 1.2 times before. After stretching with a tenter, the web was dried with a drying air of 140 ° C. in a conveying and drying process using a plurality of rolls arranged vertically. The film was cooled to room temperature and subjected to a knurling process having a width of 10 mm and an average height of 10 μm at both ends of the film and wound up to prepare a cellulose ester film A having a width of 1.5 m, a film thickness of 80 μm, a length of 5000 m, and a length. The draw ratio of the web conveyance direction (MD) immediately after peeling calculated from the rotational speed of the stainless steel band support and the operating speed of the tenter was 1.1 times.

セルロースエステルフィルムAのリターデーションは、Ro=80nm、Rt=170nmであった。リターデーションは、23℃55%RHに調湿後、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器)を用いて、波長590nmの測定した値である。   The retardation of the cellulose ester film A was Ro = 80 nm and Rt = 170 nm. The retardation is a value measured at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments) after humidity adjustment to 23 ° C. and 55% RH.

(位相差フィルム1の作製)
上記作製したセルロースエステルフィルムA上に、下記中間層塗布液を、ダイコートで塗布し、80℃で30秒乾燥後、紫外線を80mJ/cm、照度150mW/cmで照射して硬化した。硬化後の中間層の膜厚は、1.5μmであった。次いで、この中間層上に下記の重合性液晶化合物である棒状液晶化合物の塗布液をダイコートで塗布した。塗布後、100℃で2分間過熱後温度28℃にて1分間冷却し、棒状液晶化合物を配向させ、重合性液晶化合物層(光学異方性層1)を設け、更に光学異方性層1を酸素濃度0.2%、温度28℃にて200mJ/cm、照度200mW/cmで照射して硬化して、位相差フィルム1を得た。光学異方性層1の厚みは、1.4μmであった。この位相差フィルム1の全体としてのリターデーションは、Roは80nm、Rtは−14nmであった。リターデーションは、23℃55%RHに調湿後、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器)を用いて、波長590nmの測定した値である。
(Preparation of retardation film 1)
On the cellulose ester film A prepared above, the following intermediate layer coating solution was coated by die coating, after 30 seconds drying at 80 ° C., the UV 80 mJ / cm 2, was cured by irradiation illuminance 150 mW / cm 2. The film thickness of the intermediate layer after curing was 1.5 μm. Next, a coating liquid of a rod-like liquid crystal compound, which is the following polymerizable liquid crystal compound, was applied on the intermediate layer by die coating. After coating, heating at 100 ° C. for 2 minutes and then cooling at 28 ° C. for 1 minute to align the rod-like liquid crystal compound, provide a polymerizable liquid crystal compound layer (optically anisotropic layer 1), and further optically anisotropic layer 1 Was cured by irradiation at an oxygen concentration of 0.2%, a temperature of 28 ° C. at 200 mJ / cm 2 and an illuminance of 200 mW / cm 2 to obtain a retardation film 1. The thickness of the optically anisotropic layer 1 was 1.4 μm. The retardation of the retardation film 1 as a whole was 80 nm for Ro and −14 nm for Rt. The retardation is a value measured at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments) after humidity adjustment to 23 ° C. and 55% RH.

(中間層塗布液)
ポリエステルアクリレート 25質量部
(ラロマーLR8800 BASFジャパン(株)製)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 290質量部
イソプロピルアルコール 685質量部
光重合開始剤(イルガキュア184 チバ・ジャパン(株)製) 0.05質量部
(棒状液晶化合物塗布液)
紫外線重合性液晶材料 20質量部
(UCL−018 大日本インキ化学工業(株)製)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 80質量部
ヒンダードアミン(LS−765 三共ライフテック株式会社製) 0.02質量部
増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製) 0.10質量部
下記空気界面側垂直配向剤1 0.01質量部
(Interlayer coating solution)
25 parts by mass of polyester acrylate (Laromar LR8800 manufactured by BASF Japan Ltd.)
Propylene glycol monomethyl ether 290 parts by mass Isopropyl alcohol 685 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 0.05 parts by mass (rod-like liquid crystal compound coating solution)
UV-polymerizable liquid crystal material 20 parts by mass (UCL-018 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
Propylene glycol monomethyl ether 80 parts by mass Hindered amine (LS-765 Sankyo Lifetech Co., Ltd.) 0.02 parts by mass Sensitizer (Kayacure DETX, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.10 parts by mass The following air interface side vertical alignment Agent 1 0.01 parts by weight

Figure 2010139824
Figure 2010139824

(位相差フィルム2の作製)
セルロースエステルフィルムAを下記セルロースエステルフィルムBとし、光学異方性層1の厚みを1.55μmに変更した以外は、位相差フィルム1と同様にして位相差フィルム2を作製した。位相差フィルム2の全体としてのリターデーションは、Roは81nm、Rtは−13nmであった。リターデーションは、23℃55%RHに調湿後、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器)を用いて、波長590nmの測定した値である。
(Preparation of retardation film 2)
A retardation film 2 was produced in the same manner as the retardation film 1 except that the cellulose ester film A was changed to the following cellulose ester film B and the thickness of the optically anisotropic layer 1 was changed to 1.55 μm. The retardation of the entire retardation film 2 was Ro of 81 nm and Rt of −13 nm. The retardation is a value measured at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments) after humidity adjustment to 23 ° C. and 55% RH.

<セルロースエステルフィルムBの作製>
(セルロースエステルYの合成)
反応器に酢酸セルロース(ダイセル化学工業(株)製、L−20、置換度2.41)80部を加え、110℃、4時間、4Torr(1Torrは、133.322Paである)で減圧乾燥した。その後、乾燥窒素によりパージを行い、還流冷却管を取り付け、事前に乾燥、蒸留したL−ラクチド((株)武蔵野化学研究所製)80部、シクロヘキサノン67部を加えて160℃に加熱、撹拌して酢酸セルロースを均一に溶解させた。この反応液にモノブチルスズトリオクチレート0.25部を添加し、160℃で2時間撹拌しながら加熱した。その後、反応液を室温まで冷却し反応を終結させ反応物を得た。さらに、クロロホルム90部に対して反応物10部を溶解後、大過剰のメタノール900部中にゆっくりと滴下し、沈殿した沈殿物を濾別することによって、L−ラクチドの単独重合体を除去した。さらに、60℃にて5時間以上加熱乾燥し、L−ラクチドが酢酸セルロースに反応したセルロースエステルYを得た。そして、H−NMRにより得られたセルロースエステルの一次構造を分析した。その結果、そして、H−NMRにより得られたグラフト体の一次構造を分析した。その結果、グルコース単位1モルあたりに反応したL−ラクチドの平均モル数は1.80、平均置換度は0.33、平均重合度は7.1であった。
<Preparation of cellulose ester film B>
(Synthesis of cellulose ester Y)
To the reactor, 80 parts of cellulose acetate (Daicel Chemical Industries, Ltd., L-20, substitution degree 2.41) was added and dried under reduced pressure at 110 ° C. for 4 hours, 4 Torr (1 Torr is 133.322 Pa). . Then, purging with dry nitrogen, attaching a reflux condenser, adding 80 parts of L-lactide (manufactured by Musashino Chemical Laboratories) and 67 parts of cyclohexanone that were dried and distilled in advance, and heating and stirring to 160 ° C. The cellulose acetate was uniformly dissolved. To this reaction solution, 0.25 part of monobutyltin trioctylate was added and heated at 160 ° C. with stirring for 2 hours. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature to terminate the reaction and obtain a reaction product. Furthermore, 10 parts of the reaction product was dissolved in 90 parts of chloroform, and then slowly dropped into 900 parts of a large excess of methanol, and the precipitated precipitate was filtered off to remove the L-lactide homopolymer. . Furthermore, it heat-dried at 60 degreeC for 5 hours or more, and obtained the cellulose ester Y which L-lactide reacted with the cellulose acetate. And the primary structure of the cellulose ester obtained by < 1 > H-NMR was analyzed. As a result, the primary structure of the graft obtained by 1 H-NMR was analyzed. As a result, the average number of moles of L-lactide reacted per mole of glucose unit was 1.80, the average degree of substitution was 0.33, and the average degree of polymerization was 7.1.

(ドープ液Cの調製)
下記の材料を、順次密閉容器中に投入し、容器内温度を20℃から80℃まで昇温した後、温度を80℃に保ったままで3時間攪拌を行って、セルロースエステルを完全に溶解した。酸化ケイ素微粒子は予め添加する溶媒と少量のセルロースエステルの溶液中に分散して添加した。このドープを濾紙(安積濾紙株式会社製、安積濾紙No.244)を使用して濾過し、ドープ液Cを得た。
(Preparation of dope solution C)
The following materials were sequentially put into a sealed container, the temperature in the container was raised from 20 ° C. to 80 ° C., and the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. to completely dissolve the cellulose ester. . The silicon oxide fine particles were added dispersed in a solution of a solvent to be added in advance and a small amount of cellulose ester. This dope was filtered using a filter paper (Azumi filter paper No. 244 manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd.) to obtain a dope solution C.

(ドープ液C)
セルロースエステルY 100質量部
モノペットSB(糖エステル化合物) 9質量部
酸化ケイ素微粒子 0.1質量部
(アエロジルR972V、日本アエロジル株式会社製)
メチレンクロライド 400質量部
エタノール 40質量部
ブタノール 5質量部
上記の材料を混合してドープ液Cを調製し、得られたドープ液Cを、温度35℃に保温した流延ダイより、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる温度35℃の支持体上に流延して、ウェブを形成した。ついで、ウェブを支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が100質量%になった段階で、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。
(Dope solution C)
Cellulose ester Y 100 parts by mass Monopet SB (sugar ester compound) 9 parts by mass Silicon oxide fine particles 0.1 parts by mass (Aerosil R972V, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
Methylene chloride 400 parts by weight Ethanol 40 parts by weight Butanol 5 parts by weight The above materials are mixed to prepare a dope solution C, and the obtained dope solution C is made of stainless steel endless from a casting die kept at a temperature of 35 ° C. The web was formed by casting on a support composed of a belt and having a temperature of 35 ° C. Next, the web was dried on the support, and the web was peeled from the support with a peeling roll when the residual solvent amount of the web reached 100% by mass.

ついで、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で100℃の乾燥風にて乾燥させながら搬送し、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、130℃で幅方向(TD)に延伸前の1.2倍となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で140℃の乾燥風にて乾燥させた。室温まで冷却して、フィルム両端に幅10mm、平均高さ10μmのナーリング加工を施して巻き取り、幅1.5m、膜厚100μm、長さ5000m、長尺のセルロースエステルフィルムBを作製した。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出される剥離直後のウェブ搬送方向(MD)の延伸倍率は、1.1倍であった。   Next, the web is transported while being dried with a drying air of 100 ° C. in a transport drying process using a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides. Subsequently, both ends of the web are gripped by a tenter and then stretched in the width direction (TD) at 130 ° C. It extended | stretched so that it might become 1.2 times before. After stretching with a tenter, the web was dried with a drying air of 140 ° C. in a conveying and drying process using a plurality of rolls arranged vertically. The film was cooled to room temperature and subjected to a knurling process having a width of 10 mm and an average height of 10 μm at both ends of the film and wound up to prepare a long cellulose ester film B having a width of 1.5 m, a film thickness of 100 μm, a length of 5000 m. The draw ratio of the web conveyance direction (MD) immediately after peeling calculated from the rotational speed of the stainless steel band support and the operating speed of the tenter was 1.1 times.

セルロースエステルフィルムBのリターデーションは、Ro=81nm、Rt=190nmであった。リターデーションは、23℃55%RHに調湿後、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器)を用いて、波長590nmの測定した値である。   The retardation of the cellulose ester film B was Ro = 81 nm and Rt = 190 nm. The retardation is a value measured at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments) after humidity adjustment to 23 ° C. and 55% RH.

(位相差フィルム3作製)
セルロースエステルフィルムBを光学異方性層を設けずに、そのまま位相差フィルム3として使用した。
(Production of retardation film 3)
The cellulose ester film B was used as the retardation film 3 as it was without providing an optically anisotropic layer.

(位相差フィルム4作製)
セルロースエステルフィルムAを、特開2008−31304号公報の合成例8を参考にしてノルボルネン系重合体を合成し、以下の方法でフィルム作製したノルボルネン系重合体フィルム1(NB1)とし、ノルボルネン系重合体フィルム1の表面に、大気圧プラズマ処理による表面処理を行った後、光学異方性層1を厚み1.9μmで塗設した以外は同様にして位相差フィルム4を作製した。位相差フィルム4の全体としてのリターデーションは、Roは75nm、Rtは−16nmであった。リターデーションは、23℃55%RHに調湿後、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器)を用いて、波長590nmの測定した値である。
(Production of retardation film 4)
A norbornene-based polymer film 1 (NB1) was prepared by synthesizing a norbornene-based polymer from the cellulose ester film A with reference to Synthesis Example 8 of JP-A-2008-31304. A phase difference film 4 was produced in the same manner except that the surface of the combined film 1 was subjected to a surface treatment by an atmospheric pressure plasma treatment and then the optically anisotropic layer 1 was coated with a thickness of 1.9 μm. The retardation of the retardation film 4 as a whole was 75 nm for Ro and −16 nm for Rt. The retardation is a value measured at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments) after humidity adjustment to 23 ° C. and 55% RH.

<ノルボルネン系重合体フィルム1(NB1)の作製>
(ノルボルネン系重合体1の合成)
NBOAc:5−ノルボルネン−2−イルアセテート(ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルアセテート)
ノルボルネン(NB):ノルボルニレン又はビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン)は、アルドリッチ社から購入したものを使用した。
<Preparation of norbornene polymer film 1 (NB1)>
(Synthesis of norbornene polymer 1)
NBOAc: 5-norbornen-2-yl acetate (bicyclo [2.2.1] hept-5-en-2-yl acetate)
Norbornene (NB): norbornylene or bicyclo [2.2.1] hept-5-ene) was purchased from Aldrich.

トルエン150質量部とNBOAc152質量部とを反応容器に入れた。次いでトルエン10質量部中に溶解したアリルパラジウムクロライドダイマー(東京化成社製)0.018質量部とトリシクロヘキシルホスフィン(ストレム社製)0.028質量部、塩化メチレン5質量部中に溶解したジメチルアニリニウム・テトラキスペンタフルオロフェニルボレート(ストレム社製)0.12質量部、さらにトルエン10質量部に溶解したアリルトリブチルスズ(アルドリッチ社製)0.33質量部を反応容器に投入した。加熱を開始し90℃に到達した時、トルエン20質量部に溶解したNB130質量部を1時間かけて滴下した。この混合物を90〜100℃で6時間反応させた。なお、この間反応溶液の粘度の上昇とともに、トルエンを適宜追加した。1−ヘキセン(和光純薬社製)10質量部を滴下し、さらに1時間反応させた。得られた反応溶液を、過剰のメタノール中に投入し、重合体を沈殿させた。この沈殿を採取し、メタノールで洗浄し、110℃で6時間真空乾燥した。得られた重合体(ノルボルネン系重合体1)をテトラヒドロフランに溶解し、ゲルパーミエーションクロマトグラフによる分子量を測定した。質量平均分子量(Mw)を測定したところ、数平均分子量(Mn)は100200、質量平均分子量(Mw)は256300、分子量分布(Mw/Mn)は2.56であった。   150 parts by mass of toluene and 152 parts by mass of NBOAc were placed in a reaction vessel. Next, 0.018 parts by mass of allyl palladium chloride dimer (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) dissolved in 10 parts by mass of toluene, 0.028 parts by mass of tricyclohexylphosphine (manufactured by Strem Co.), and dimethylaniline dissolved in 5 parts by mass of methylene chloride. A reaction vessel was charged with 0.12 parts by mass of nium tetrakispentafluorophenylborate (manufactured by Strem) and 0.33 parts by mass of allyltributyltin (manufactured by Aldrich) dissolved in 10 parts by mass of toluene. When heating was started and the temperature reached 90 ° C., 130 parts by mass of NB dissolved in 20 parts by mass of toluene was added dropwise over 1 hour. The mixture was reacted at 90-100 ° C. for 6 hours. During this time, toluene was added as appropriate with an increase in the viscosity of the reaction solution. 10 parts by mass of 1-hexene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise, and further reacted for 1 hour. The obtained reaction solution was put into excess methanol to precipitate a polymer. The precipitate was collected, washed with methanol, and vacuum dried at 110 ° C. for 6 hours. The obtained polymer (norbornene polymer 1) was dissolved in tetrahydrofuran, and the molecular weight was measured by gel permeation chromatography. When the mass average molecular weight (Mw) was measured, the number average molecular weight (Mn) was 100200, the mass average molecular weight (Mw) was 256300, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.56.

(ドープ液Dの調製)
下記の材料を、順次密閉容器中に投入し、容器内温度を20℃から80℃まで昇温した後、温度を80℃に保ったままで3時間攪拌を行って、ノルボルネン系重合体1を完全に溶解した。酸化ケイ素微粒子は予め添加する溶媒と少量のセルロースエステルの溶液中に分散して添加した。このドープを濾紙(安積濾紙株式会社製、安積濾紙No.244)を使用して濾過し、ドープ液Dを得た。
(Preparation of dope solution D)
The following materials were sequentially put into a sealed container, the temperature in the container was raised from 20 ° C. to 80 ° C., and the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. to completely remove the norbornene polymer 1 Dissolved in. The silicon oxide fine particles were added dispersed in a solution of a solvent to be added in advance and a small amount of cellulose ester. This dope was filtered using filter paper (Azumi filter paper No. 244, manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd.) to obtain a dope solution D.

(ドープ液D)
ノルボルネン系重合体1 100質量部
酸化ケイ素微粒子 0.1質量部
(アエロジルR972V、日本アエロジル株式会社製)
メチレンクロライド 400質量部
エタノール 40質量部
ブタノール 5質量部
上記の材料を混合してドープ液Dを調製し、得られたドープ液Dを温度35℃に保温した流延ダイより、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる温度35℃の支持体上に流延して、ウェブを形成した。ついで、ウェブを支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が100質量%になった段階で、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。
(Dope solution D)
Norbornene-based polymer 1 100 parts by mass Silicon oxide fine particles 0.1 part by mass (Aerosil R972V, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
Methylene chloride 400 parts by weight Ethanol 40 parts by weight Butanol 5 parts by weight The above materials are mixed to prepare a dope solution D, and a stainless steel endless belt is prepared from a casting die in which the obtained dope solution D is kept at 35 ° C. A web was formed by casting on a support having a temperature of 35 ° C. Next, the web was dried on the support, and the web was peeled from the support with a peeling roll when the residual solvent amount of the web reached 100% by mass.

ついで、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送の乾燥工程で110℃の乾燥風にて乾燥させながら搬送し、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、150℃で幅方向(TD)に延伸前の1.3倍となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で155℃の乾燥風にて乾燥させた。乾燥工程の雰囲気置換率15(回/時間)とした雰囲気内で15分間熱処理した後、室温まで冷却して両端部に幅10mm、平均高さ10μmのナーリング加工を施して巻き取り、幅1.5m、膜厚82μm、長さ5000mのノルボルネン系重合体フィルム1(NB1)を作製した。ノルボルネン系重合体フィルム1(NB1)のリターデーションは、Ro=75nm、Rt=225nmであった。リターデーションは、23℃55%RHに調湿後、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器)を用いて、波長590nmの測定した値である。   Next, the web is transported while being dried with a drying air of 110 ° C. in a drying process of transport by a plurality of rolls arranged on the top and bottom, and subsequently grips both ends of the web with a tenter, and then in the width direction (TD) at 150 ° C. It extended | stretched so that it might become 1.3 time before extending | stretching. After stretching with a tenter, the web was dried with a drying air of 155 ° C. in a transport drying process using a plurality of rolls arranged vertically. After heat-treating for 15 minutes in an atmosphere with an atmosphere substitution rate of 15 (times / hour) in the drying step, it was cooled to room temperature and subjected to a knurling process with a width of 10 mm and an average height of 10 μm at both ends. A norbornene polymer film 1 (NB1) having a thickness of 5 m, a thickness of 82 μm, and a length of 5000 m was produced. The retardation of the norbornene polymer film 1 (NB1) was Ro = 75 nm and Rt = 225 nm. The retardation is a value measured at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments) after humidity adjustment to 23 ° C. and 55% RH.

(位相差フィルム5作製)
セルロースエステルフィルムAを下記セルローストリアセテートフィルム2とし、光学異方性層1の厚みを1.4μmに変更した以外は、位相差フィルム1と同様にして位相差フィルム5を作製した。位相差フィルム5の全体としてのリターデーションは、Roは76nm、Rtは−12nmであった。リターデーションは、23℃55%RHに調湿後、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器)を用いて、波長590nmの測定した値である。
(Production of retardation film 5)
A retardation film 5 was produced in the same manner as the retardation film 1 except that the cellulose ester film A was changed to the following cellulose triacetate film 2 and the thickness of the optically anisotropic layer 1 was changed to 1.4 μm. The retardation of the retardation film 5 as a whole was 76 nm for Ro and −12 nm for Rt. The retardation is a value measured at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments) after humidity adjustment to 23 ° C. and 55% RH.

<セルローストリアセテートフィルム2の作製>
(ドープ液Eの調製)
下記の材料を、順次密閉容器中に投入し、容器内温度を20℃から80℃まで昇温した後、温度を80℃に保ったままで3時間攪拌を行って、トリアセチルセルロースを完全に溶解した。別の密閉容器に、下記のリターデーション発現剤Aを7質量部、リターデーション発現剤Bを10質量部、二酸化珪素微粒子(平均粒子サイズ:0.1μm)0.28質量部、メチレンクロライド80質量部およびメタノール20質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、溶液を調製した。トリアセチルセルロース溶液474質量部に該溶液を40質量部混合し、充分に攪拌してドープを調製した。このドープを濾紙(安積濾紙株式会社製、安積濾紙No.244)を使用して濾過し、ドープ液Eを得た。
<Preparation of cellulose triacetate film 2>
(Preparation of dope solution E)
The following materials are sequentially put into a sealed container, the temperature in the container is raised from 20 ° C. to 80 ° C., and the mixture is stirred for 3 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. to completely dissolve the triacetyl cellulose. did. In another sealed container, 7 parts by mass of the following retardation developer A, 10 parts by mass of retardation developer B, 0.28 parts by mass of silicon dioxide fine particles (average particle size: 0.1 μm), 80 parts by mass of methylene chloride And 20 parts by mass of methanol were added and stirred while heating to prepare a solution. 40 parts by mass of the solution was mixed with 474 parts by mass of the triacetyl cellulose solution, and the dope was prepared by sufficiently stirring. This dope was filtered using a filter paper (Azumi filter paper No. 244, manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd.) to obtain a dope solution E.

(ドープ液E)
トリアセチルセルロース(酢化度61.0%)置換度2.9 100質量部
トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9質量部
メチレンクロライド 300質量部
メタノール 54質量部
1−ブタノール 11質量部
リターデーション発現剤A 7質量部
(Dope solution E)
Triacetyl cellulose (acetylation degree 61.0%) Substitution degree 2.9 100 parts by weight Triphenyl phosphate (plasticizer) 7.8 parts by weight Biphenyl diphenyl phosphate (plasticizer) 3.9 parts by weight Methylene chloride 300 parts by weight Methanol 54 parts by mass 1-butanol 11 parts by mass Retardation developer A 7 parts by mass

Figure 2010139824
Figure 2010139824

リターデーション発現剤B 10質量部   Retardation developer B 10 parts by mass

Figure 2010139824
Figure 2010139824

上記の材料を混合してドープ液Eを調製し、得られたドープ液Eを、温度35℃に保温した流延ダイを通より、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる温度35℃の支持体上に流延して、ウェブを形成した。ついで、ウェブを支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が110質量%になった段階で、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。   The above-mentioned materials are mixed to prepare a dope liquid E, and the obtained dope liquid E is passed through a casting die kept at a temperature of 35 ° C., and then on a support having a temperature of 35 ° C. made of a stainless steel endless belt. Cast to form a web. Next, the web was dried on the support, and the web was peeled from the support with a peeling roll when the residual solvent amount of the web reached 110% by mass.

ついで、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で100℃の乾燥風にて乾燥させながら搬送し、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、135℃で幅方向(TD)に延伸前の1.35倍となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で140℃の乾燥風にて乾燥させた。室温まで冷却して、フィルム両端に幅10mm、平均高さ10μmのナーリング加工を施して巻き取り、幅1.5m、膜厚85μm、長さ5000m、長尺のセルローストリアセテートフィルム2を作製した。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出される剥離直後のウェブ搬送方向(MD)の延伸倍率は、1.1倍であった。   Next, the web is transported while being dried with a drying air of 100 ° C. in a transport drying process using a plurality of rolls arranged at the top and bottom, and subsequently gripped at both ends of the web with a tenter and then stretched in the width direction (TD) at 135 ° C. It extended | stretched so that it might become 1.35 times before. After stretching with a tenter, the web was dried with a drying air of 140 ° C. in a conveying and drying process using a plurality of rolls arranged vertically. The film was cooled to room temperature, and subjected to a knurling process having a width of 10 mm and an average height of 10 μm at both ends of the film and wound up to prepare a cellulose triacetate film 2 having a width of 1.5 m, a film thickness of 85 μm, a length of 5000 m, and a length. The draw ratio of the web conveyance direction (MD) immediately after peeling calculated from the rotational speed of the stainless steel band support and the operating speed of the tenter was 1.1 times.

セルローストリアセテートフィルム2のリターデーションは、Ro=76nm、Rt=178nmであった。リターデーションは、23℃55%RHに調湿後、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器)を用いて、波長590nmの測定した値である。   The retardation of the cellulose triacetate film 2 was Ro = 76 nm and Rt = 178 nm. The retardation is a value measured at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments) after humidity adjustment to 23 ° C. and 55% RH.

<セルローストリアセテートフィルム3の作製>
(ドープ液Fの調製)
密封容器下記ドープ液Fの組成物を投入し、70℃まで加熱し、撹拌しながら、セルローストリアセテート(TAC)を完全に溶解した。
<Preparation of cellulose triacetate film 3>
(Preparation of dope solution F)
Sealed container The composition of the following dope solution F was charged, heated to 70 ° C., and cellulose triacetate (TAC) was completely dissolved while stirring.

(ドープF)
トリアセチルセルロース(酢化度61.0%) 85質量部
2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)ベゾトリアゾール
1.5質量部
メチルメタクリレート−2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体 8質量部
(80/20(質量比))Mw;8000
メチルアクリレート重合体(*)Mw;1000 5質量部
メチレンクロライド 475質量部
エタノール 50質量部
(*)特開2000−128911号公報の実施例3記載の重合方法でメチルアクリレートモノマーを重合し、Mw1000、Mn700のポリマーを得た。この反応物の水酸基価(OHV;mg/g KOH)は、50であった。
(Dope F)
Triacetylcellulose (acetylation degree 61.0%) 85 parts by mass 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) bezotriazole
1.5 parts by mass Methyl methacrylate-2-hydroxyethyl acrylate copolymer 8 parts by mass (80/20 (mass ratio)) Mw; 8000
Methyl acrylate polymer (*) Mw; 1000 5 parts by mass Methylene chloride 475 parts by mass Ethanol 50 parts by mass (*) The methyl acrylate monomer was polymerized by the polymerization method described in Example 3 of JP 2000-128911 A, and Mw 1000, A polymer of Mn700 was obtained. The reaction product had a hydroxyl value (OHV; mg / g KOH) of 50.

(マット剤溶液の調製)
平均粒径16nmのシリカ粒子(AEROSIL R972、日本アエロジル(株)製)を20質量部、メタノール80質量部を30分間よく攪拌混合してマット剤溶液を得た。
(Preparation of matting agent solution)
A matting agent solution was obtained by thoroughly stirring and mixing 20 parts by mass of silica particles (AEROSIL R972, Nippon Aerosil Co., Ltd.) having an average particle diameter of 16 nm and 80 parts by mass of methanol for 30 minutes.

(マット剤溶液組成)
平均粒径16nmのシリカ粒子分散液 11.0質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 76.1質量部
エタノール(第2溶媒) 3.5質量部
アセチルプロピオニルセルロース(アセチル置換度2.06、プロピオニル置換度0.79) 1.9質量部
ドープ液Fを濾紙(安積濾紙株式会社製、安積濾紙No.244)を使用して濾過した後、マット剤溶液6.5質量部を混合し、その混合液を温度35℃に保温した流延ダイより、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる温度35℃の支持体上に流延して、ウェブを形成した。ついで、ウェブを支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が100質量%になった段階で、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。
(Matting agent solution composition)
Silica particle dispersion liquid having an average particle diameter of 16 nm 11.0 parts by mass Methylene chloride (first solvent) 76.1 parts by mass Ethanol (second solvent) 3.5 parts by mass Acetylpropionylcellulose (acetyl substitution degree 2.06, propionyl substitution) Degree 0.79) 1.9 parts by mass After the dope solution F was filtered using a filter paper (Azumi Filter Paper Co., Ltd., Azumi Filter Paper No. 244), 6.5 parts by mass of the matting agent solution was mixed and mixed. The liquid was cast from a casting die kept at a temperature of 35 ° C. onto a support at a temperature of 35 ° C. made of a stainless steel endless belt to form a web. Next, the web was dried on the support, and the web was peeled from the support with a peeling roll when the residual solvent amount of the web reached 100% by mass.

ついで、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で100℃の乾燥風にて乾燥させながら搬送し、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、130℃で幅方向(TD)に延伸前の1.1倍となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で140℃の乾燥風にて乾燥させた。室温まで冷却して、フィルム両端に幅10mm、平均高さ10μmのナーリング加工を施して巻き取り、幅1.5m、膜厚60μm、長さ5000m、長尺のセルローストリアセテートフィルム3を作製した。リターデーションは、Ro=0.5nm、Rt=−1nmであった。リターデーションは、23℃55%RHに調湿後、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器)を用いて、波長590nmの測定した値である。   Next, the web is transported while being dried with a drying air of 100 ° C. in a transport drying process using a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides. Subsequently, both ends of the web are gripped by a tenter and then stretched in the width direction (TD) at 130 ° C. The film was stretched to 1.1 times the previous size. After stretching with a tenter, the web was dried with a drying air of 140 ° C. in a conveying and drying process using a plurality of rolls arranged vertically. After cooling to room temperature, the film was subjected to a knurling process with a width of 10 mm and an average height of 10 μm at both ends of the film, and wound to prepare a long cellulose triacetate film 3 having a width of 1.5 m, a film thickness of 60 μm, a length of 5000 m. The retardation was Ro = 0.5 nm and Rt = −1 nm. The retardation is a value measured at a wavelength of 590 nm using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments) after humidity adjustment to 23 ° C. and 55% RH.

<偏光板101の作製>
(アルカリ鹸化処理)
光学異方性層1に剥離性の保護フィルム(PET製)を張り付けた位相差フィルム1とハードコート層に剥離性の保護フィルム(PET製)を張り付けたハードコートフィルム1を下記に記載する条件でアルカリ鹸化処理を実施した。また、アルカリ鹸化処理後にハードコートフィルム1及び位相差フィルム1の保護フィルムを剥がし、下記のように偏光膜と貼り合せて偏光板101を作製した。
<Preparation of Polarizing Plate 101>
(Alkaline saponification treatment)
Conditions described below for the retardation film 1 having a peelable protective film (PET) attached to the optically anisotropic layer 1 and the hard coat film 1 having a peelable protective film (PET) attached to the hard coat layer The alkali saponification treatment was carried out. In addition, after the alkali saponification treatment, the protective film of the hard coat film 1 and the retardation film 1 was peeled off and bonded to the polarizing film as described below to prepare the polarizing plate 101.

ケン化工程 2.5M−NaOH 50℃ 90秒
水洗工程 水 30℃ 45秒
中和工程 10質量部HCl 30℃ 45秒
水洗工程 水 30℃ 45秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで80℃で乾燥。
Saponification step 2.5M-NaOH 50 ° C. 90 seconds Water washing step Water 30 ° C. 45 seconds Neutralization step 10 parts HCl 30 ° C. 45 seconds Water washing step Water 30 ° C. 45 seconds Water treatment, neutralization, water washing in this order And then dried at 80 ° C.

〈偏光膜の作製と貼り合わせ〉
厚さ120μmの長尺ロールポリビニルアルコールフィルムを沃素1質量部、ホウ酸4質量部を含む水溶液100質量部に浸漬し、50℃で6倍に製膜方向に延伸して偏光膜L−2を作製した。
<Preparation and bonding of polarizing film>
A 120 μm-thick long roll polyvinyl alcohol film is immersed in 100 parts by mass of an aqueous solution containing 1 part by mass of iodine and 4 parts by mass of boric acid, and stretched 6 times at 50 ° C. in the film forming direction to form the polarizing film L-2. Produced.

次に、ポリビニルアルコール系の接着剤を用いて、偏光膜L−2の透過軸とフィルムの面内遅相軸が平行になるように偏光膜の片面L−1に鹸化処理したハードコートフィルム1のハードコート層とは対側の面と、位相差フィルム1を図3に示す組み合わせとなるように貼り合わせ長尺の偏光板を作製した。次に図4の如く576×324mmサイズに裁断(打ち抜き)し、偏光板101を作製した。   Next, using a polyvinyl alcohol adhesive, the hard coat film 1 saponified on one side L-1 of the polarizing film so that the transmission axis of the polarizing film L-2 and the in-plane slow axis of the film are parallel to each other A long polarizing plate was prepared such that the opposite side of the hard coat layer and the retardation film 1 were combined as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 4, it was cut (punched) into a size of 576 × 324 mm to produce a polarizing plate 101.

<偏光板102〜108の作製>
偏光板101の作製において、第1保護フィルムのハードコートフィルムと第2保護フィルムの位相差フィルムを表1に記載したように組み合わせて用いた以外は、同様にして長尺偏光板を作製し、打ち抜きにより偏光板102〜108を作製した。なお、位相差フィルム4は、剥離性の保護フィルム(PET製)を張り付けないで鹸化処理した。
<Preparation of polarizing plates 102 to 108>
In the production of the polarizing plate 101, a long polarizing plate was produced in the same manner except that the hard coat film of the first protective film and the retardation film of the second protective film were used in combination as described in Table 1. Polarizing plates 102 to 108 were produced by punching. The retardation film 4 was saponified without attaching a peelable protective film (PET).

《評価》
上記作製した偏向板101〜108について下記の評価を行った。
<Evaluation>
The following evaluation was performed about the produced deflection plates 101-108.

(表面硬度:鉛筆硬度)
偏向板101〜108の表面硬度について、鉛筆硬度試験で評価を行った。
(Surface hardness: pencil hardness)
The surface hardness of the deflection plates 101 to 108 was evaluated by a pencil hardness test.

JIS−S6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS−K5400が規定する鉛筆硬度評価法に従い、500gのおもりを用いて各硬度の鉛筆で偏向板101〜108のハードコート層表面を5回繰り返し引っ掻き、傷が1本までの硬度を測定した。数字か高いほど、高い硬度を示し、鉛筆硬度3H以上で、高硬度特性を示す。   Using the test pencil specified by JIS-S6006, according to the pencil hardness evaluation method specified by JIS-K5400, the hard coat layer surface of the deflecting plates 101 to 108 is repeated five times with a pencil of each hardness using a 500 g weight. The hardness of scratches and scratches was measured. The higher the number, the higher the hardness, and the higher the pencil hardness 3H, the higher the hardness characteristics.

(ヒビ割れ・ささくれ評価)
打ち抜きした偏光板101〜108の端部の部分について、10倍ルーペを用いて端部の状態を観察し、以下の基準でヒビ割れ・ささくれの評価を行った。
(Evaluation of cracks and cracks)
About the edge part of the punched polarizing plates 101-108, the state of the edge part was observed using a 10 times loupe, and the crack and the crack were evaluated according to the following criteria.

◎:ヒビ割れ・ささくれの発生が全く無いレベル
○:ヒビ割れ・ささくれの発生がごく僅かに見られるが実用上問題ないレベル
△:ヒビ割れ・ささくれの発生が僅かに見られるレベル
×:ヒビ割れ・ささくれの発生が見られるレベル
(総合評価)
表面硬度とヒビ割れ・ささくれの評価結果から、総合評価として以下の基準で表1に示した。
◎: Level at which no cracking / crushing occurs ○: Cracking / crushing is slightly observed but there is no practical problem △: Cracking / crushing is slightly observed ×: Cracking・ The level at which the occurrence of sawdust is seen (overall evaluation)
From the evaluation results of the surface hardness and cracking / crusting, it was shown in Table 1 as a comprehensive evaluation based on the following criteria.

◎:硬度4H以上でヒビ割れ・ささくれが◎
○:硬度3H以上でヒビ割れ・ささくれが◎
△:硬度3H以上でヒビ割れ・ささくれが○
×:硬度3H以上でヒビ割れ・ささくれが△以下(実用上問題となるレベル)
××:硬度3H未満で、ヒビ割れ・ささくれが△以下
得られた結果を表1に示した。
◎: Hardness is 4H or more, cracks and crusts are ◎
○: Hardness is 3H or more and cracks and cracks are ◎
Δ: Hardness is 3H or more, and cracks and cracks are ○
X: Hardness is 3H or more, and cracks and crusts are △ or less (practical problem level)
XX: The hardness was less than 3H, and cracks and crusts were Δ or less. The results obtained are shown in Table 1.

Figure 2010139824
Figure 2010139824

<液晶表示装置501の作製>
パナソニック製26インチ液晶テレビ、TH−26LX60の液晶パネルの偏光板を剥がし、視認側の偏光板(L−10)に上記作製した偏光板101を図3のように光学異方層と厚さ5μmの粘着剤を用いて液晶セルガラスL−6−1とを貼合した。また、バックライト側には、上記手順と同様にアルカリ鹸化処理したセルローストリアセテートフィルム3(L−7)及びセルローストリアセテートフィルム1(L−9)と偏光子を図3のような構成で貼合した偏光板201を厚さ5μmの粘着剤を用いて液晶セルガラスL−6−2と貼合して、液晶パネル401を作製した。次に液晶パネル401を液晶テレビにセットし、液晶表示装置501を作製した。
<Production of Liquid Crystal Display Device 501>
The polarizing plate of Panasonic 26-inch liquid crystal television, TH-26LX60 liquid crystal panel is peeled off, and the polarizing plate 101 prepared above is applied to the polarizing plate on the viewing side (L-10) with an optical anisotropic layer and a thickness of 5 μm as shown in FIG. The liquid crystal cell glass L-6-1 was pasted using an adhesive. Further, on the backlight side, cellulose triacetate film 3 (L-7) and cellulose triacetate film 1 (L-9), which were subjected to alkali saponification treatment in the same manner as described above, and a polarizer were bonded in a configuration as shown in FIG. The polarizing plate 201 was bonded to the liquid crystal cell glass L-6-2 using an adhesive having a thickness of 5 μm, so that a liquid crystal panel 401 was produced. Next, the liquid crystal panel 401 was set on a liquid crystal television, and a liquid crystal display device 501 was manufactured.

<液晶表示装置502〜508の作製>
液晶表示装置501の視認側の偏光板(L−10)を102〜108に変更した以外は同様にして、液晶パネル402〜407を作製し、液晶テレビにセットし、液晶表示装置502〜508を作製した。
<Production of liquid crystal display devices 502 to 508>
Liquid crystal panels 402 to 407 are produced in the same manner except that the polarizing plate (L-10) on the viewing side of the liquid crystal display device 501 is changed to 102 to 108, set in a liquid crystal television, and the liquid crystal display devices 502 to 508 are attached. Produced.

《評価》
上記作製した液晶表示装置501〜508について下記の評価を行った。
<Evaluation>
The liquid crystal display devices 501 to 508 produced above were evaluated as follows.

(平滑性(平面性)評価)
上記作製した液晶表示装置501〜508について、床から80cmの高さの机上に配置し、床から3mの高さの天井部に、昼色光直管蛍光灯(FLR40S・D/M−X パナソニック株式会社製)40W×2本を1セットとして、1.5m間隔で10セット配置した。この場合、評価者が液晶表示パネルの表示面の正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に蛍光灯がくるように配置した。
(Smoothness (flatness) evaluation)
The liquid crystal display devices 501 to 508 produced above are placed on a desk 80 cm high from the floor, and a daylight direct fluorescent lamp (FLR40S • D / MX Panasonic Corporation is placed on the ceiling 3 m high from the floor. 10 sets of 40W × 2 pieces were arranged at 1.5 m intervals. In this case, when the evaluator is in front of the display surface of the liquid crystal display panel, the fluorescent lamp is arranged so that the fluorescent lamp comes to the ceiling portion from the evaluator's overhead to the rear.

次に、液晶表示装置501〜508の液晶パネル401〜408の平滑性(平面性)を以下の基準で評価した。   Next, the smoothness (flatness) of the liquid crystal panels 401 to 408 of the liquid crystal display devices 501 to 508 was evaluated according to the following criteria.

◎:蛍光灯が真っ直ぐに見える
○:蛍光灯が若干曲がったように見えるところがある
△:蛍光灯が曲がって見える
×:蛍光灯が大きく畝って見える
上記得られた結果を表2に示した。
◎: Fluorescent lamp looks straight ○: Fluorescent lamp appears to be slightly bent △: Fluorescent lamp appears to be bent ×: Fluorescent lamp appears to be greatly bent Table 2 shows the results obtained above. .

Figure 2010139824
Figure 2010139824

表1及び表2の結果より、第2保護フィルムの基材フィルムに、一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステルを含有する透明フィルムを使用し、かつ該透明フィルム上に光学異方性層を設けた本発明の偏光板は、高硬度とヒビ割れ・ささくれ故障の発生抑制の両立に優れ、かつ画像表示装置に用いた際も優れた平面性を有する。   From the results of Table 1 and Table 2, a transparent film containing a cellulose ester having at least one repeating unit represented by the general formula (1) or (2) is used for the base film of the second protective film, In addition, the polarizing plate of the present invention in which an optically anisotropic layer is provided on the transparent film is excellent in both high hardness and prevention of occurrence of cracks and crushing failures, and also has excellent flatness when used in an image display device. Have

中でもハードコート層のマルテンス硬さが、400N/mm以上、800N/mm以下のハードコート層を有する本発明の偏光板は、鉛筆硬度が4H以上の特に優れた高硬度とヒビ割れ・ささくれ故障の発生抑制の両立に優れる。 Among them Martens hardness of the hard coat layer, 400 N / mm 2 or more, the polarizing plate of the present invention having a 800 N / mm 2 or less hard coat layer has high hardness and crack-splinter pencil hardness and excellent more particularly 4H It is excellent for both failure control.

実施例2
(ハードコートフィルム5の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、ハードコート層組成物1をハードコート層組成物2に変更した以外は同様にして、ハードコートフィルム5を作製した。
Example 2
(Preparation of hard coat film 5)
In producing the hard coat film 1, a hard coat film 5 was produced in the same manner except that the hard coat layer composition 1 was changed to the hard coat layer composition 2.

下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物2とした。   The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer composition 2.

(ハードコート層組成物2)
カチオン重合性化合物:〔1−(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル
130質量部
4−メチルフェニル[4−(1−メチルエチル)フェニル]ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート 5質量部
(ロードシル2074、ローディアジャパン株式会社製)
シーホスターKEP−50(平均粒径0.47〜0.61μmのシリカ粒子、日本触媒株式会社製)
上記調整したフッ素−シロキサングラフトポリマーI(35質量%) 5.0質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 20質量部
酢酸エチル 40質量部
メチルエチルケトン 60質量部
(偏光板109の作製)
偏光板101の作製において、ハードコートフィルム5を用いた以外は同様にして偏光板109を作製した。この偏光板109の鉛筆硬度を実施例1と同様に試験した結果4Hで、打ち抜き後の端部部分を観察した結果、ヒビ割れ・ささくれも◎であった。
(Hard coat layer composition 2)
Cationic polymerizable compound: [1- (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl] ether
130 parts by mass 4-methylphenyl [4- (1-methylethyl) phenyl] iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate 5 parts by mass (Lordsil 2074, produced by Rhodia Japan)
Seahoster KEP-50 (silica particles having an average particle size of 0.47 to 0.61 μm, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)
The adjusted fluorine-siloxane graft polymer I (35% by mass) 5.0 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 20 parts by mass Ethyl acetate 40 parts by mass Methyl ethyl ketone 60 parts by mass (Preparation of polarizing plate 109)
A polarizing plate 109 was produced in the same manner except that the hard coat film 5 was used in the production of the polarizing plate 101. As a result of testing the pencil hardness of this polarizing plate 109 in the same manner as in Example 1 and observing the end portion after punching, the cracks and the cracks were also ◎.

<液晶表示装置509の作製>
液晶表示装置501の作製において、視認側の偏光板(L−10)を偏光板109に変更した以外は、同様にして液晶パネル409、液晶表示装置509を作製した。次に、液晶表示装置501と液晶表示装置509のバックライトを点灯して、黒表示状態で2000時間放置し、放置後の平滑性(平面性)と以下の基準でムラの発生強度、及び光漏れを評価した。
<Production of Liquid Crystal Display Device 509>
A liquid crystal panel 409 and a liquid crystal display device 509 were produced in the same manner except that the polarizing plate (L-10) on the viewing side was changed to the polarizing plate 109 in the production of the liquid crystal display device 501. Next, the backlights of the liquid crystal display device 501 and the liquid crystal display device 509 are turned on and left in a black display state for 2000 hours. The smoothness (flatness) after the standing and the intensity of occurrence of unevenness based on the following criteria, light The leak was evaluated.

(ムラ評価)
ムラの発生強度を目視観察し、以下の基準で評価した。
(Evaluation of unevenness)
The intensity of unevenness was visually observed and evaluated according to the following criteria.

状況 評価
ムラの発生ナシ ◎
僅かに弱い雲状ムラが発生 ○
弱い雲状ムラが発生 △
四隅に強いムラが発生 ×
(光漏れ評価)
斜め方向70°から観察して光漏れを評価した。
Situation evaluation No occurrence of unevenness ◎
Slightly weak cloudy unevenness occurs ○
Weak cloudy unevenness occurs △
Strong unevenness occurs at the four corners ×
(Light leakage evaluation)
Light leakage was evaluated by observing from an oblique direction of 70 °.

状況 評価
光漏れは非常に少なかった ◎
僅かな光漏れがあるものの実害上問題なし ○
多少の光漏れが認められる △
全面に光漏れが認められる ×
得られた結果を表3に示した。
Situation evaluation There was very little light leakage.
Although there is a slight light leak, there is no problem in terms of actual damage ○
Some light leakage is observed △
Light leakage is observed on the entire surface ×
The obtained results are shown in Table 3.

Figure 2010139824
Figure 2010139824

表3の結果より、長期使用を想定した条件では、ハードコート層の塗布組成物をカチオン重合性化合物にすることで、画像表示装置に用いた場合に、優れた効果を発揮する。   From the results shown in Table 3, under the conditions assuming long-term use, an excellent effect is exhibited when the hard coat layer coating composition is made into a cationically polymerizable compound and used in an image display device.

参考例1
実施例1で作製したハードコートフィルム1を用いて、反射防止フィルム1を作製した。
Reference example 1
Using the hard coat film 1 produced in Example 1, an antireflection film 1 was produced.

(大気圧プラズマ処理)
実施例1のハードコートフィルム1の作製において、紫外線照射時に窒素パージを行わない以外は同様にして、ハードコートフィルム6を作製した。つぎに、このハードコートフィルム6のハードコート層表面に、大気圧プラズマ処理装置を用い、電極間隙を0.5mmとして、下記の放電ガスを放電空間に供給し、100kHzで放電させて、大気圧プラズマ処理による表面処理を行った。
(Atmospheric pressure plasma treatment)
In the production of the hard coat film 1 of Example 1, the hard coat film 6 was produced in the same manner except that the nitrogen purge was not performed during the ultraviolet irradiation. Next, an atmospheric pressure plasma treatment apparatus is used on the surface of the hard coat layer of the hard coat film 6, the electrode gap is set to 0.5 mm, the following discharge gas is supplied to the discharge space, and discharge is performed at 100 kHz. Surface treatment by plasma treatment was performed.

(放電ガス)
窒素ガス 80.0体積%
酸素ガス 20.0体積%
(低屈折率層の形成)
大気圧プラズマ処理されたハードコートフィルム6のハードコート層上に、下記低屈折率層用塗布組成物をダイコートし、温度80℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、0.3J/cmの紫外線を高圧水銀灯で照射して、硬化後の膜厚が85nmとなるように低屈折率層を設け、反射防止フィルム1を作製した。低屈折率層の屈折率は、1.38であった。
(Discharge gas)
Nitrogen gas 80.0% by volume
Oxygen gas 20.0% by volume
(Formation of a low refractive index layer)
The following coating composition for a low refractive index layer is die coated on the hard coat layer of the hard coat film 6 that has been subjected to the atmospheric pressure plasma treatment, dried at a temperature of 80 ° C., and then in an atmosphere having an oxygen concentration of 1.0 vol% or less. The antireflective film 1 was produced by irradiating ultraviolet rays of 0.3 J / cm 2 with a high pressure mercury lamp while purging with nitrogen so as to provide a low refractive index layer so that the film thickness after curing was 85 nm. The refractive index of the low refractive index layer was 1.38.

(低屈折率層用塗布組成物)
中空シリカ微粒子1のイソプロピルアルコール分散液、及びテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製し、次いで低屈折率層用塗布組成物1を調製した。
(Coating composition for low refractive index layer)
An isopropyl alcohol dispersion of hollow silica fine particles 1 and a tetraethoxysilane hydrolyzate A were prepared, and then a coating composition 1 for a low refractive index layer was prepared.

(中空シリカ微粒子1のイソプロピルアルコール分散液の調製)
工程(a):平均粒径5nm、SiO濃度20質量%のシリカゾル100gと、純水1900gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiOとして0.98質量%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gと、Alとして1.02質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを、同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO・Al核粒子分散液を調製した。
(Preparation of isopropyl alcohol dispersion of hollow silica fine particles 1)
Step (a): A mixture of 100 g of silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a SiO 2 concentration of 20% by mass and 1900 g of pure water was heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor was 10.5, and 9000 g of 0.98 mass% sodium silicate aqueous solution as SiO 2 and 9000 g of 1.02 mass% sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 were added to the mother liquor. Added simultaneously. Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition and hardly changed thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a SiO 2 .Al 2 O 3 core particle dispersion having a solid content concentration of 20% by mass.

工程(b):この核粒子分散液500gに、純水1700gを加えて温度98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO濃度3.5質量%)3000gを添加して第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。 Step (b): Obtained by adding 1700 g of pure water to 500 g of this core particle dispersion and heating to 98 ° C., and maintaining the temperature while dealkalizing the sodium silicate aqueous solution with a cation exchange resin. Further, 3000 g of a silicic acid solution (SiO 2 concentration: 3.5% by mass) was added to obtain a dispersion of core particles in which a first silica coating layer was formed.

工程(c):ついで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、さらに濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。ついで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO・Al多孔質粒子の分散液を調製した。 Step (c): Next, 1125 g of pure water was added to 500 g of the core particle dispersion formed with the first silica coating layer washed with an ultrafiltration membrane to a solid content concentration of 13% by mass, and concentrated hydrochloric acid (35. 5%) was added dropwise to adjust the pH to 1.0, and dealumination was performed. Next, the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane was separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water, and SiO 2 · Al from which some of the constituent components of the core particles forming the first silica coating layer were removed. A dispersion of 2 O 3 porous particles was prepared.

工程(d):そして、上記の多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1、750g、及び28%アンモニア水626gとの混合液を、温度35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO 28質量%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面を、エチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して、第2シリカ被覆層を形成した。ついで、限外濾過膜を用いて溶媒をイソプロピルアルコールに置換した固形分濃度20質量%の中空シリカ微粒子1の分散液を調製した。この中空シリカ微粒子の第1シリカ被覆層の厚さは、3nm、平均粒径は45nm、MO/SiO(モル比)は0.0017、屈折率は1.28であった。ここで、平均粒径、及び粒径の変動係数は動的光散乱法により測定した。 Step (d): A mixture of 1500 g of the above porous particle dispersion, 500 g of pure water, 1,750 g of ethanol, and 626 g of 28% ammonia water was heated to a temperature of 35 ° C., and then ethyl silicate ( SiO 2 ( 28% by mass) 104 g was added, and the surface of the porous particles on which the first silica coating layer was formed was coated with a hydrolyzed polycondensate of ethyl silicate to form a second silica coating layer. Next, a dispersion of hollow silica fine particles 1 having a solid content concentration of 20% by mass was prepared by replacing the solvent with isopropyl alcohol using an ultrafiltration membrane. The thickness of the first silica coating layer of the hollow silica fine particles, 3 nm, the average particle size is 45nm, MO X / SiO 2 (molar ratio) is 0.0017, the refractive index was 1.28. Here, the average particle diameter and the coefficient of variation of the particle diameter were measured by a dynamic light scattering method.

(テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製)
テトラエトキシシラン230g(商品名:KBE04、信越化学工業社製)とエタノール440gを混合し、これに2%酢酸水溶液120gを添加した後に、室温(25℃)にて28時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製した。
(Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A)
After mixing 230 g of tetraethoxysilane (trade name: KBE04, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 440 g of ethanol and adding 120 g of a 2% aqueous acetic acid solution thereto, the mixture is stirred for 28 hours at room temperature (25 ° C.). Silane hydrolyzate A was prepared.

(低屈折率層用塗布組成物1)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 430質量部
イソプロピルアルコール 430質量部
テトラエトキシシラン加水分解物A(固型分21%換算) 120質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 3.0質量部
(商品名:KBM503、信越化学工業社製)
中空シリカ微粒子1のイソプロピルアルコール分散液 60質量部
(平均粒径45nm、粒径変動係数30%)
アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート 3.0質量部
(川研ファインケミカル社製)
FZ−2207 3.0質量部
(10%プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液、日本ユニカー社製)
(反射率の測定)
上記作製した反射防止フィルム1の反射率を、CM−3700d(コニカミノルタセンシング株式会社製)を用いて測定した結果、1.4%であり、良好な性能を有していた。
(Coating composition 1 for low refractive index layer)
Propylene glycol monomethyl ether 430 parts by mass Isopropyl alcohol 430 parts by mass Tetraethoxysilane hydrolyzate A (solid content 21% conversion) 120 parts by mass γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 3.0 parts by mass (trade name: KBM503, Shin-Etsu) (Made by Chemical Industries)
60 parts by mass of isopropyl alcohol dispersion of hollow silica fine particles 1 (average particle size 45 nm, particle size variation coefficient 30%)
Aluminum ethyl acetoacetate / diisopropylate 3.0 parts by mass (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.)
3.0 parts by mass of FZ-2207 (10% propylene glycol monomethyl ether solution, manufactured by Nihon Unicar Company)
(Measurement of reflectance)
As a result of measuring the reflectance of the produced antireflection film 1 using CM-3700d (manufactured by Konica Minolta Sensing Co., Ltd.), it was 1.4% and had good performance.

<偏光板110の作製>
(アルカリ鹸化処理)
偏光板101の作製において、反射防止フィルム1の低屈折率層に剥離性の保護フィルム(PET製)を張り合わせた以外は、同様にして位相差フィルム1と反射防止フィルム1をアルカリ鹸化処理し、鹸化処理後に保護フィルムを剥がし、偏光膜と貼り合せて長尺偏光板を作製した。次に、打ち抜きにより偏光板110を作製した。この偏光板110の鉛筆硬度を実施例1と同様に試験した結果4Hで、打ち抜き後の端部部分を観察した結果のヒビ割れ・ささくれも◎であった。
<Preparation of Polarizing Plate 110>
(Alkaline saponification treatment)
In the production of the polarizing plate 101, the retardation film 1 and the antireflection film 1 were subjected to an alkali saponification treatment in the same manner except that a peelable protective film (made of PET) was bonded to the low refractive index layer of the antireflection film 1. After the saponification treatment, the protective film was peeled off and bonded to the polarizing film to produce a long polarizing plate. Next, the polarizing plate 110 was produced by punching. As a result of testing the pencil hardness of the polarizing plate 110 in the same manner as in Example 1, it was 4H.

<液晶表示装置510の作製>
液晶表示装置501の作製において、視認側の偏光板(L−10)を偏光板110に変更した以外は、同様にして液晶パネル410、液晶表示装置510を作製した。実施例1と同様にして平滑性(平面性)を評価した結果、◎であり、視認性にも優れていた。
<Production of Liquid Crystal Display Device 510>
A liquid crystal panel 410 and a liquid crystal display device 510 were produced in the same manner except that the polarizing plate (L-10) on the viewing side was changed to the polarizing plate 110 in the production of the liquid crystal display device 501. As a result of evaluating smoothness (flatness) in the same manner as in Example 1, it was evaluated as ◎ and excellent in visibility.

活性光線照射後に連続して加熱処理する工程を示した概略図である。It is the schematic which showed the process of heat-processing continuously after actinic light irradiation. 巻き取り後のハードコートフィルムロール又は反射防止フィルムを加熱処理室Aで加熱処理する概略図である。It is the schematic which heat-processes the hard coat film roll or antireflection film after winding in the heat processing chamber A. 本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の概略図である。1 is a schematic view of a liquid crystal display device according to a preferred embodiment of the present invention. 偏光板の打ち抜きを示す図である。It is a figure which shows punching of a polarizing plate.

符号の説明Explanation of symbols

Y 長尺フィルム
1 繰り出しロール
2 搬送ローラー
3 押出しコータ
4 対向ロール
5 乾燥ゾーン
6 活性光線照射ランプユニット
6a 空冷活性光線ランプ
6b 空冷用Air通風口
6c N2用供給チャンバー
7 加熱ゾーン
8 巻き取り室
9 巻き取りロール
10 温風吹き出し口
12 移動可能な台車
15 巻き取りコア
A 加熱処理室
L−1 偏光板保護フィルム
L−2、L−8 偏光膜
L−3 透明フィルム
L−4 中間層
L−5 棒状の液晶を垂直に配向させて配向を固定した光学異方性層
L−6 IPS型液晶セル
L−6−1 非電極側セルガラス基板
L−6−2 電極側セルガラス基板
L−6−3 IPS型液晶セル
L−7 偏光板保護フィルム
L−9 偏光板保護フィルム
L−10 視認側偏光板(視認側偏光板)
L−11 本発明の光学補償フィルム
L−12 バックライト側偏光板
L−13 バックライト
81 吸収軸(延伸軸)
82 長手方向
Y Long film 1 Feeding roll 2 Conveying roller 3 Extrusion coater 4 Opposing roll 5 Drying zone 6 Actinic ray irradiation lamp unit 6a Air-cooled actinic ray lamp 6b Air cooling air vent 6c N2 supply chamber 7 Heating zone 8 Winding chamber 9 Winding Take-up roll 10 Warm air outlet 12 Movable carriage 15 Winding core A Heat treatment chamber L-1 Polarizing plate protective film L-2, L-8 Polarizing film L-3 Transparent film L-4 Intermediate layer L-5 Bar shape Optically anisotropic layer in which the liquid crystal is vertically aligned and fixed in alignment L-6 IPS liquid crystal cell L-6-1 Non-electrode side cell glass substrate L-6-2 Electrode side cell glass substrate L-6-3 IPS type liquid crystal cell L-7 Polarizing plate protective film L-9 Polarizing plate protective film L-10 Viewing side polarizing plate (viewing side polarizing plate)
L-11 Optical compensation film of the present invention L-12 Backlight side polarizing plate L-13 Backlight 81 Absorption axis (stretching axis)
82 Longitudinal direction

Claims (5)

第1保護フィルムと、偏光膜と、第2保護フィルムが、この順序で積層された偏光板において、該第2保護フィルムが実質的に垂直配向した重合性液晶化合物層と、下記一般式(1)または(2)で表される繰り返し単位を少なくとも一つ有するセルロースエステルを含有する透明フィルムとの積層体から構成され、かつ該第1保護フィルムが該偏光膜から遠い側に少なくともハードコート層を有することを特徴とする偏光板。
Figure 2010139824
[式中、A、Bは、炭素数1〜12の2価の炭化水素基または、水酸基で置換された炭素数1〜12の2価の炭化水素基を表す。但しAとBは同じであっても異なっていてもよい。]
In the polarizing plate in which the first protective film, the polarizing film, and the second protective film are laminated in this order, the polymerizable liquid crystal compound layer in which the second protective film is substantially vertically aligned, and the following general formula (1) Or a transparent film containing a cellulose ester having at least one repeating unit represented by (2), and the first protective film has at least a hard coat layer on the side far from the polarizing film. A polarizing plate characterized by having.
Figure 2010139824
[In formula, A and B represent a C1-C12 bivalent hydrocarbon group or a C1-C12 bivalent hydrocarbon group substituted by the hydroxyl group. However, A and B may be the same or different. ]
前記ハードコート層のマルテンス硬さ(HMs)が、400N/mm以上、800N/mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の偏光板。 The Martens hardness of the hard coat layer (HMS) is, 400 N / mm 2 or more, polarizing plate according to claim 1, characterized in that 800 N / mm 2 or less. 前記ハードコート層がカチオン重合性化合物を含有することを特徴とする請求項1または2に記載の偏光板。 The polarizing plate according to claim 1, wherein the hard coat layer contains a cationic polymerizable compound. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の側に用いたことを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device using the polarizing plate according to claim 1 on at least one side of a liquid crystal cell. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の偏光板をインプレーンスイッチングモード(IPS)型液晶セルの少なくとも一方の側に用いたことを特徴とするIPS型液晶表示装置。 An IPS liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to claim 1 on at least one side of an in-plane switching mode (IPS) liquid crystal cell.
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