JP5309677B2 - Method for producing hard coat film - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a hard coating film having high hardness and sufficient resistance to curling of a cured coat while preventing blocking failure and to provide a hard coating film produced by the production method, a polarizing plate using the same, and a display unit. <P>SOLUTION: The method for producing a hard coating film comprises coating a transparent film substrate with a hard coating layer-forming material so as to produce a hard coating film, wherein the hard coating layer-forming material contains at least one type of multifunctional acrylate and the coating steps comprise at least the steps of coating, drying, irradiating, and heating at 40&deg;C or higher after irradiation. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、ハードコートフィルムの製造方法、該製造方法によって製造されたハードコートフィルム、及びそれを用いた偏光板、表示装置に関する。   The present invention relates to a method for producing a hard coat film, a hard coat film produced by the production method, a polarizing plate using the same, and a display device.

プラスチックは、加工性が良い、軽量、安価等の理由で、各種分野で使用されている。しかし、加工性が良い反面、柔らかく、表面に傷が付き易いなどの欠点がある。この欠点を改良するために、ハードコート材をコーティングし、表面に保護層を設けることが一般的である。このハードコート材としては、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物が、(1)速硬化性であること、(2)エネルギーコストが低いこと等の利点を有するために用いられている。   Plastics are used in various fields for reasons such as good processability, light weight, and low cost. However, the processability is good, but there are drawbacks such as softness and easy scratching on the surface. In order to improve this drawback, it is common to coat a hard coat material and provide a protective layer on the surface. As this hard coat material, the active energy ray-curable resin composition is used because it has advantages such as (1) being fast curable and (2) having low energy cost.

近年、ハードコート材を保護層にしたフィルムを表面に設けた液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ等の表示体が、急速に普及している。とりわけ、液晶ディスプレイは大型化し、かつ不特定多数の消費者に使用されるようになったため、それに用いるハードコート材には、より高い硬度、耐擦傷性、硬化時のフィルムのカールが小さいものが要求されている。このため、より高い硬度、耐擦傷性が要求され、かつ作業性を高めるため、硬化被膜のカールが小さい活性エネルギー線硬化型樹脂組成物も要求されている。上記課題に対して、下記のような技術が開示されている。ノルボルナンジイソシアネートと、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート及びビス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレートからなる群から選ばれる少なくとも1種の水酸基を有するアクリレートとの付加反応物であるウレタンアクリレート(A)、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレート(B)及び/又は側鎖にエポキシ基を有するグリシジル(メタ)アクリレート系重合体に、α,β−不飽和カルボン酸を反応させた(メタ)アクリロイル基を有する重合体(C)を含有するフィルム保護層用活性光線硬化型樹脂組成物を用いたハードコート材が開示されている(例えば、特許文献1参照)。これは、ノルボルナンジイソシアネート、水酸基を有する特定のアクリレート樹脂等を配合することで、高硬度、耐擦傷性、及び硬化被膜のカールの抑制を図っている。   In recent years, display bodies such as a liquid crystal display, a plasma display, and a touch panel display provided with a film having a hard coat material as a protective layer on the surface thereof are rapidly spreading. In particular, liquid crystal displays have become larger and are used by an unspecified number of consumers, so hard coat materials used for them have higher hardness, scratch resistance, and curling of the film when cured. It is requested. For this reason, in order to require higher hardness and scratch resistance and to improve workability, there is also a demand for an active energy ray-curable resin composition in which the curl of the cured film is small. The following techniques are disclosed with respect to the said subject. Norbornane diisocyanate, acrylate having at least one hydroxyl group selected from the group consisting of pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate and bis (2- (meth) acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate Acrylate (A) which is an addition reaction product with glycidyl (meth) acrylate having a polyfunctional acrylate (B) having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule and / or an epoxy group in the side chain A hard coat material using an actinic ray curable resin composition for a film protective layer containing a polymer (C) having a (meth) acryloyl group obtained by reacting an α, β-unsaturated carboxylic acid with a polymer is disclosed. (For example, refer to Patent Document 1). This blends norbornane diisocyanate, a specific acrylate resin having a hydroxyl group, and the like, thereby achieving high hardness, scratch resistance, and curling of the cured film.

また、透明なフィルム基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層が設けられているハードコートフィルムであって、前記ハードコート層の形成材料がウレタンアクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート及び水酸基を2個以上含むアルキル基を有する(メタ)アクリルポリマーを含むハードコートフィルムが開示されている(例えば、特許文献2参照。)。特許文献1と同様に特定のアクリレート樹脂、アクリルポリマーの配合により、高硬度、及び硬化被膜のカールの抑制を図っている。   The hard coat film is provided with a hard coat layer on at least one surface of a transparent film substrate, and the hard coat layer is formed of two urethane acrylates, polyol (meth) acrylates and hydroxyl groups. A hard coat film including a (meth) acrylic polymer having an alkyl group as described above is disclosed (for example, see Patent Document 2). Similar to Patent Document 1, high hardness and curling of the cured film are suppressed by blending a specific acrylate resin and acrylic polymer.

しかしながら、前記した技術等では、高硬度を得ようとした場合、活性エネルギー線の照射量を高めなければならず、硬化収縮の抑制が得られず、硬化被膜のカールの抑制が十分でない。また、特定のアクリレート樹脂等の素材を用いるため、高コストにも繋がる。また、例えば、夏季のような高温、高湿の時期を想定した状態で、ハードコート層とハードコート層を形成していない面とを重ねておいた際、またはハードコートフィルムをロール状に巻き取った状態で保管しておいた際、面同士がくっつき(ブロッキング)、ハードコート層表面にキズ等をつけると言った問題の発生、またブロッキングしたハードコート層上に反射防止層を塗布し反射防止フィルムを形成した場合に、均一な表面が得られず、ゆず肌が発生するといった問題があった。これらによって商品価値や生産性の低下を招いており、早急な解決が望まれていた。
特開2007−131837号公報 特開2007−46031号公報
However, in the above-described technique or the like, when high hardness is to be obtained, it is necessary to increase the irradiation amount of active energy rays, so that suppression of curing shrinkage cannot be obtained, and curling of the cured coating is not sufficiently suppressed. Moreover, since materials, such as a specific acrylate resin, are used, it leads also to high cost. Also, for example, when a hard coat layer and a surface on which a hard coat layer is not formed are overlapped in a state where a high temperature and high humidity period such as summer is assumed, or the hard coat film is wound in a roll shape. When stored in the removed state, problems such as sticking to each other (blocking) and scratches on the hard coat layer surface occur, and reflection is applied by applying an antireflection layer on the blocked hard coat layer. When the prevention film is formed, there is a problem that a uniform surface cannot be obtained and the skin is distorted. These have led to a decline in product value and productivity, and an immediate solution has been desired.
JP 2007-131837 A JP 2007-46031 A

従って本発明の目的は、高硬度であり、十分な硬化被膜のカール耐性を有し、更にブロッキング故障を防止したハードコートフィルムの製造法を提供することにある。更に該製造法によって製造されたハードコートフィルム、それを用いた偏光板、表示装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a hard coat film having high hardness, sufficient curl resistance of a cured film, and further preventing blocking failure. Furthermore, it is providing the hard coat film manufactured by this manufacturing method, a polarizing plate using the same, and a display apparatus.

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.ハードコート層形成材料を透明フィルム基材上に塗工してハードコートフィルムを作製するハードコートフィルムの製造方法において、ハードコート層形成材料が多官能アクリレートを少なくとも1種含有し、かつ塗工工程が少なくとも塗布、乾燥、光照射、及び光照射後60℃以上で加熱処理をする工程からなり、前記加熱処理をする工程は、前記光照射後にロール状に巻き取られた後に行われるものであり、前記加熱処理をする工程における加熱温度が0.3〜5℃/時間で昇温されることを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
1. In a method for producing a hard coat film in which a hard coat layer forming material is coated on a transparent film substrate to produce a hard coat film, the hard coat layer forming material contains at least one polyfunctional acrylate, and a coating step but at least the coating, drying, irradiation, and Ri Do the step of the heat treatment by light irradiation after 60 ° C. or more, the step of the heat treatment is intended to take place after being wound into a roll after the light irradiation There, the production method of the hard coat film heating temperature in the step of the heat treatment, characterized in Rukoto temperature is raised at 0.3 to 5 ° C. / hour.

.前記加熱処理をする工程が80℃以上の加熱処理であることを特徴とする前記1に記載のハードコートフィルムの製造方法。
2 . 2. The method for producing a hard coat film as described in 1 above, wherein the heat treatment step is a heat treatment at 80 ° C. or higher.

.前記加熱処理をする工程が120℃以上の加熱処理であることを特徴とする前記に記載のハードコートフィルムの製造方法。
3 . 3. The method for producing a hard coat film as described in 2 above, wherein the heat treatment step is a heat treatment at 120 ° C. or higher.

.前記加熱処理をする工程の加熱温度が0.3〜5℃/時間で降温されることを特徴とする前記1〜のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
4 . The method for producing a hard coat film according to any one of the above items 1 to 3 , wherein the heating temperature in the heat treatment step is lowered at a rate of 0.3 to 5 ° C / hour.

.前記透明フィルム基材がセルロースエステルフィルムであることを特徴とする前記1〜のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。
5 . The said transparent film base material is a cellulose-ester film, The manufacturing method of the hard coat film of any one of said 1-4 characterized by the above-mentioned.

.前記セルロースエステルフィルムが溶融流延製膜法で作製されることを特徴とする前記に記載のハードコートフィルムの製造方法。 6 . 6. The method for producing a hard coat film as described in 5 above, wherein the cellulose ester film is produced by a melt casting method.

本発明により、高硬度であり、十分な硬化被膜のカール耐性を有し、更にブロッキング故障を防止したハードコートフィルムの製造法を提供することができる。更に該製造法によって製造されたハードコートフィルム、それを用いた偏光板、表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a hard coat film having high hardness, sufficient curl resistance of a cured film, and further preventing blocking failure. Furthermore, the hard coat film manufactured by this manufacturing method, the polarizing plate using the same, and a display apparatus can be provided.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明のハードコートフィルムの製造方法は、ハードコート層形成材料を透明フィルム基材上に塗工してハードコートフィルムを作製する製造方法において、ハードコート層形成材料が多官能アクリレートを少なくとも1種含有し、かつ塗工工程が少なくとも塗布、乾燥、光照射、及び光照射後40℃以上で加熱処理する工程(以降、本発明ではエージング処理ともいう)からなることを特徴とする。   The method for producing a hard coat film of the present invention is a production method for producing a hard coat film by coating a hard coat layer forming material on a transparent film substrate, wherein the hard coat layer forming material is at least one multifunctional acrylate. And the coating step comprises at least coating, drying, light irradiation, and heat treatment at 40 ° C. or higher after light irradiation (hereinafter also referred to as aging treatment in the present invention).

特開2006−145737号公報には、ハードコート層を表面処理した後にエージング処理をし、その後に低屈折率層を塗設することを特徴とする防眩性反射防止フィルムが開示されている。該特許は、ハードコート層の上層に低屈折率層をムラなく、均一に塗布するために、ハードコート層の表面処理後にエージング処理をすることが目的である。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-145737 discloses an antiglare antireflection film characterized by subjecting a hard coat layer to a surface treatment followed by an aging treatment and then a low refractive index layer. The purpose of this patent is to perform an aging treatment after the surface treatment of the hard coat layer in order to uniformly and uniformly apply the low refractive index layer on the upper layer of the hard coat layer.

また、特開2007−3766号公報には、長尺フィルム上に機能性薄膜を設ける光学フィルムの製造方法において、長尺フィルムを連続的に搬送して機能性薄膜をコーティングする工程を有し、コーティング後、該光学フィルムを温度50℃以上でロール状に巻き取り、引き続き50℃以上で1日間以上の加熱処理を行うことを特徴とする光学フィルムの製造方法が開示されている。該特許は、機能性薄膜である反射防止層を50℃以上で加熱処理をし、色むらのない、均一な光学フィルムを作製する技術である。前記二つの特許文献のいずれも、低屈率層や反射防止層のハードコート層上への塗設に関した技術であるが、本発明の光照射後に加熱処理することで、高硬度であり、十分な硬化被膜のカール耐性を有し、かつハードコート層のブロッキング耐性を高める効果はについての記載は全くなく、また従来の知見からは予測できない驚くべきことであった。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-3766 has a step of coating a functional thin film by continuously conveying the long film in a method for producing an optical film in which a functional thin film is provided on a long film, After the coating, a method for producing an optical film is disclosed in which the optical film is wound up in a roll shape at a temperature of 50 ° C. or higher and subsequently subjected to a heat treatment at 50 ° C. or higher for one day or longer. This patent is a technique for producing a uniform optical film without color unevenness by heat-treating the antireflection layer, which is a functional thin film, at 50 ° C. or higher. Both of the two patent documents are techniques related to the coating on the hard coat layer of the low refractive index layer or the antireflection layer, but by heat treatment after the light irradiation of the present invention, the hardness is high, There is no description about the effect of having a sufficient cured film curl resistance and increasing the blocking resistance of the hard coat layer, and it was surprising that it cannot be predicted from the conventional knowledge.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

《加熱処理工程》
本発明において、加熱処理する工程は、例えば図1に示すように塗布、乾燥、光照射後、それに続く加熱処理する形態が挙げられる。また、図2のように塗布、乾燥、光照射後、巻き取られたハードコートフィルムのロールを移動可能な台車に載せ移動させ、図2のAで示される加熱処理室で、必要な温度、時間で処理される形態が挙げられる。或いは、図1の加熱処理後、図2のAで示される加熱処理室で処理する形態等が挙げられるが、これらに限定されない。また加熱処理する工程としては、加熱処理を安定して行うために、温湿度が調整可能な場所で行うことが必要であり、塵のないクリーンルーム等の加熱処理室で行うことが好ましい。
<< Heat treatment process >>
In the present invention, the heat treatment step includes, for example, a form in which the heat treatment is subsequently performed after coating, drying, and light irradiation as shown in FIG. In addition, after coating, drying, and light irradiation as shown in FIG. 2, the roll of the wound hard coat film is placed on a movable carriage and moved, and in the heat treatment chamber shown by A in FIG. The form processed by time is mentioned. Alternatively, after the heat treatment in FIG. 1, a form in which the heat treatment is performed in the heat treatment chamber illustrated in FIG. In addition, the heat treatment step needs to be performed in a place where the temperature and humidity can be adjusted in order to stably perform the heat treatment, and is preferably performed in a heat treatment chamber such as a clean room free from dust.

加熱処理の好ましい温度は40℃以上、更に好ましくは60℃以上あり、より好ましくは80℃以上、特に好ましくは120℃以上である。また、上限温度としては基材フィルムの特性等から適宜設定される。加熱処理は、例えば図1のような形態の場合は、45℃以上で30秒〜10分の範囲で行うことが好ましく、更に好ましくは、70℃以上で30秒〜10分の範囲で行うことが好ましい。図2のような形態の場合は、50℃〜140℃の温度範囲で1時間〜30日間の時間行うことが好ましい。更に、60℃〜140℃で1時間〜30日間の範囲で行うことがより好ましい。30日以上は効果が変わらず、30日以内が好ましい。本発明でいう加熱処理する時間とは、加熱ゾーンまたは加熱処理室の雰囲気温度が所望の温度に一定に保持されている時間をいい、昇温時の時間、降温時の時間は含まないものとする。   A preferable temperature for the heat treatment is 40 ° C. or higher, more preferably 60 ° C. or higher, more preferably 80 ° C. or higher, and particularly preferably 120 ° C. or higher. Further, the upper limit temperature is appropriately set from the characteristics of the base film. For example, in the case of the form as shown in FIG. 1, the heat treatment is preferably performed at 45 ° C. or higher for 30 seconds to 10 minutes, more preferably at 70 ° C. or higher for 30 seconds to 10 minutes. Is preferred. In the case of a form like FIG. 2, it is preferable to carry out for 1 hour-30 days in the temperature range of 50 to 140 degreeC. Furthermore, it is more preferable to carry out at 60 ° C. to 140 ° C. for 1 hour to 30 days. The effect is not changed for 30 days or more, and preferably within 30 days. The heat treatment time in the present invention refers to a time during which the atmosphere temperature of the heat zone or the heat treatment chamber is kept constant at a desired temperature, and does not include the time for temperature rise and time for temperature drop. To do.

保持する温度は設定温度の±5℃の範囲とすることが好ましい。加熱処理室Aは複数室有っても良い。その場合は、各々温度を変えることができるように設計されていても良い。加熱ゾーン、加熱処理室における急激な温度上昇は光学フィルムロールの巻き内外の温度差を大きくする為、徐々に温度を上昇または下降させるようにすることが好ましく、昇温速度、降温速度は0.3〜5℃/時間であることが本発明の目的効果が発揮されやすい点から、特に好ましい。   The temperature to be held is preferably in the range of ± 5 ° C. of the set temperature. There may be a plurality of heat treatment chambers A. In that case, it may be designed so that each temperature can be changed. In order to increase the temperature difference between the inside and outside of the roll of the optical film roll when the temperature rises rapidly in the heating zone and the heat treatment chamber, it is preferable to gradually raise or lower the temperature. It is particularly preferable that the temperature is 3 to 5 ° C./hour because the object and effects of the present invention are easily exhibited.

図1は、本発明に係る活性光線照射後に連続して加熱処理する工程を示した概略図である。   FIG. 1 is a schematic view showing a step of performing heat treatment continuously after irradiation with actinic rays according to the present invention.

長尺フィルムYは繰り出しロール1より繰り出され、搬送ローラー2により搬送され、押出しコータ3によりハードコート層が塗布される。この時ハードコート層は単層構成でも、複数から構成されている層でもよい。ハードコート層が塗布された長尺フィルムYは、次いで乾燥ゾーン5により乾燥される。乾燥ゾーン5の温度は50〜150℃の範囲で行うことが好ましい。乾燥は長尺フィルムYの表面もしくは裏面或いは両面より、温湿度が制御された温風を吹き付けることにより施される。乾燥後、活性光線照射ランプユニット6内の空冷活性光線ランプ6aにより活性光線、例えば紫外線などを照射することにより薄膜を硬化する。或いは照射量や照射条件を制御してハーフキュア状態とすることもできる。活性光線照射は、予め20〜120℃に温度制御された対向ロール4に長尺フィルムYを巻いた状態で行うこともできる。   The long film Y is fed out from the feed roll 1, transported by the transport roller 2, and a hard coat layer is applied by the extrusion coater 3. At this time, the hard coat layer may be a single layer structure or a plurality of layers. Next, the long film Y coated with the hard coat layer is dried in the drying zone 5. The temperature of the drying zone 5 is preferably 50 to 150 ° C. Drying is performed by blowing warm air whose temperature and humidity are controlled from the front surface, back surface, or both surfaces of the long film Y. After drying, the thin film is cured by irradiating with actinic rays such as ultraviolet rays by an air-cooled actinic ray lamp 6a in the actinic ray irradiation lamp unit 6. Alternatively, the half-cure state can be achieved by controlling the irradiation amount and irradiation conditions. Actinic ray irradiation can also be performed in a state in which the long film Y is wound around the opposing roll 4 whose temperature is controlled to 20 to 120 ° C. in advance.

その際空冷用Air通風口6bから活性光線照射部の温度調整のために冷却風を送ることも好ましく、また、N2用供給チャンバーからハードコート層の硬化を促進するためにN2ガスを供給することも好ましい。活性光線ランプの例としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。これらの光源は空冷もしくは水冷方式のものが好ましく用いられる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性光線の照射量は好ましくは、50mJ/cm〜1J/cmであり、特に好ましくは50〜500mJ/cmである。また照射部には窒素パージにより酸素濃度を0.01%〜5%に低減することが好ましい。 At that time, it is also preferable to send cooling air from the air cooling air ventilation port 6b to adjust the temperature of the actinic ray irradiation section, and to supply N2 gas from the N2 supply chamber in order to promote hardening of the hard coat layer. Is also preferable. As an example of the actinic ray lamp, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. These light sources are preferably air-cooled or water-cooled. The irradiation conditions vary depending on individual lamps, the dose of active ray is preferably a 50mJ / cm 2 ~1J / cm 2 , particularly preferably 50 to 500 mJ / cm 2. Further, it is preferable to reduce the oxygen concentration to 0.01% to 5% by nitrogen purge in the irradiated portion.

次いで、活性光線を照射した後、加熱ゾーン7で熱処理される。加熱ゾーン7は上下に配置された搬送ローラー2により長尺フィルムYを所定の温度で所定の時間、加熱処理を行う。   Subsequently, after irradiating actinic light, it heat-processes in the heating zone 7. In the heating zone 7, the long film Y is heated at a predetermined temperature for a predetermined time by the transport rollers 2 arranged above and below.

加熱処理する際に、フィルムの搬送方向または巾手方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、付与する張力は50〜500N/mが好ましく、更に好ましくは、250〜500N/mである。250〜500N/mにおいて、本発明の目的効果がより良く発揮される。500N/mを越えると、フィルムの平面性が保ちにくくなる。   When the heat treatment is performed, it is preferably performed while applying a tension in the film transport direction or the width direction, and the applied tension is preferably 50 to 500 N / m, and more preferably 250 to 500 N / m. In the range of 250 to 500 N / m, the object effect of the present invention is more effectively exhibited. When it exceeds 500 N / m, it becomes difficult to maintain the flatness of the film.

幅手張力付与方法は特に限定されず、フリースパン、バックロール上などでしてもよい。また、幅手方向に幅規制装置(テンター)を用いて張力を付与する方法も効果があり、好ましくは3.0%以下での延伸、更に好ましくは0.05%〜1.0%延伸することで効果がより発揮される。これによってブロッキング耐性に優れたフィルムを得ることができる。   The width tension applying method is not particularly limited, and may be a free span, a back roll or the like. In addition, a method of applying tension in the width direction using a width regulating device (tenter) is also effective, preferably stretching at 3.0% or less, more preferably 0.05% to 1.0%. This is more effective. Thereby, a film excellent in blocking resistance can be obtained.

加熱処理を行った長尺フィルムYは、巻き取り室8において、巻き取りロール9として巻き取られる。その際温風吹き出し口10から所定の温度の温風を吹き付けながら行うことも好ましい。帯電防止、ゴミ付着防止対策として、上記温風は相対湿度10〜70%RHの範囲、好ましくは20〜70%RH、特に40〜60%RHに調整することが好ましい。また、温風がイオン風であることが好ましく、巻き取り部近傍に除電装置やエアークリーナーを設置することが好ましい。   The long film Y subjected to the heat treatment is taken up as a take-up roll 9 in the take-up chamber 8. In that case, it is also preferable to carry out while blowing hot air of a predetermined temperature from the hot air outlet 10. As a measure for preventing electrification and dust adhesion, the hot air is preferably adjusted to a relative humidity in the range of 10 to 70% RH, preferably 20 to 70% RH, particularly 40 to 60% RH. Moreover, it is preferable that warm air is an ion wind, and it is preferable to install a static elimination apparatus and an air cleaner in the vicinity of the winding part.

図2は、本発明に係る塗布、乾燥、光照射後、巻き取られたハードコートフィルムロールを移動可能な台車12に載せ、加熱処理室Aで加熱処理する概略図である。   FIG. 2 is a schematic view in which after the coating, drying, and light irradiation according to the present invention, the wound hard coat film roll is placed on a movable carriage 12 and heat-treated in the heat treatment chamber A.

加熱処理は、移動可能な台車12に巻き取られたハードコートフィルムロールを移動させ、加熱処理室Aにて、必要な温度、必要な日数で加熱処理される。加熱処理室Aは温度を適宜変えることができるように設計されており、急激な温度上昇はハードコートフィルムロールの巻き内外の温度差を大きくする為、徐々に温度を上昇、または降下させることができるよう設計されていることが好ましい。即ち昇温速度、または降温速度が0.3〜5℃/時間であることが本発明の目的効果が発揮されやすく好ましい。   In the heat treatment, the hard coat film roll wound on the movable carriage 12 is moved, and the heat treatment is performed in the heat treatment chamber A at a necessary temperature and a required number of days. The heat treatment chamber A is designed so that the temperature can be appropriately changed, and a rapid temperature increase increases the temperature difference between the inside and outside of the winding of the hard coat film roll, so that the temperature can be gradually increased or decreased. It is preferably designed to be able to do so. That is, it is preferable that the rate of temperature rise or the rate of temperature fall is 0.3 to 5 ° C./hour because the object and effects of the present invention are easily exhibited.

加熱処理時の昇温速度が早すぎるとフィルムの急激な膨張が起こり巻き芯近くに皺等が入りやすく好ましくない。また遅いと生産性が劣り現実的ではない。昇温パターンに特に制限はなく、最適化するために直線的、曲線的、段階的なパターンを取ってもよい。また、昇温期間中に一時的な温度降下があってもよい。   If the rate of temperature increase during the heat treatment is too fast, the film suddenly expands and wrinkles or the like are liable to enter the vicinity of the core. Moreover, if it is slow, productivity will be inferior and it is not realistic. There is no particular limitation on the temperature rising pattern, and a linear, curvilinear or stepwise pattern may be taken for optimization. Further, there may be a temporary temperature drop during the temperature rising period.

また、本発明に係るハードコートフィルムは、ブロッキングを防止したり、巻き姿を良好に保つため、ナーリング加工を施すことが好ましい。ナーリング加工はフィルムの少なくとも一方の面に形成されていればよく、また両面に形成されていてもよい。ナーリング部の厚みは、ハードコート層の膜厚よりも厚くすることが好ましく、ナーリング部の厚みを5〜30μmの範囲にすることが好ましい。好ましくは10〜25μmの範囲である。   In addition, the hard coat film according to the present invention is preferably subjected to knurling in order to prevent blocking or to maintain a good winding shape. The knurling process should just be formed in the at least one surface of the film, and may be formed in both surfaces. The thickness of the knurling part is preferably larger than the film thickness of the hard coat layer, and the thickness of the knurling part is preferably in the range of 5 to 30 μm. Preferably it is the range of 10-25 micrometers.

ハードコートフィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度に耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであってもよく、例えばフェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。またガラス繊維等の充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。これらの巻きコアへの巻き数は、100巻き以上であることが好ましく、500巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は5cm以上であることが好ましい。   When winding the hard coat film into a roll, the wound core may be of any material as long as it is a cylindrical core, preferably a hollow plastic core, Any heat-resistant plastic that can withstand the heat treatment temperature may be used, and examples thereof include phenol resins, xylene resins, melamine resins, polyester resins, and epoxy resins. A thermosetting resin reinforced with a filler such as glass fiber is preferred. The number of windings on these winding cores is preferably 100 windings or more, more preferably 500 windings or more, and the winding thickness is preferably 5 cm or more.

このようにして長巻きのハードコートフィルムがプラスチックコアに巻き取られたロールを、巻き取った状態で前記加熱処理を行う時、該ロールを回転させることが好ましく、回転は、1分間に1回転以下の速度が好ましく、連続でもよく断続的な回転であってもよい。また、加熱期間中に該ロールの巻き替えを1回以上行うことも好ましい。   When the heat treatment is performed in a state where the roll having the long-winding hard coat film wound around the plastic core is wound, the roll is preferably rotated, and the rotation is performed once per minute. The following speeds are preferred, and may be continuous or intermittent. Moreover, it is also preferable to perform the roll rewinding once or more during the heating period.

コアに巻き取られた長巻のハードコートフィルムを加熱処理中に回転させるために、加熱処理室に専用の回転台を設けることが好ましい。より好ましくは、耐熱性のある回転機能を有する専用の台車にハードコートフィルムをセットして、加熱室にて加熱処理中に回転させることである。   In order to rotate the long hard coat film wound around the core during the heat treatment, it is preferable to provide a dedicated turntable in the heat treatment chamber. More preferably, the hard coat film is set on a dedicated carriage having a heat-resistant rotation function and rotated during the heat treatment in the heating chamber.

加熱処理が終了したハードコートフィルムロールは例えば、巻き返し工程(不図示)に運ばれ、ハードコートフィルムの巻き返しを行いながら室温まで冷却し、巻き返しロールを得ることも好ましい。更に、巻き返し工程では、相対湿度10〜70%RHの雰囲気を通過させるか、該雰囲気で巻き取ることが好ましい。相対湿度は、好ましくは20〜70%RH、特に40〜60%RHであると、静電気故障や巻き姿の崩れはなく良好なハードコートフィルムロールを得ることができる。フィルム巻き替えの速度は、1〜200m/分、好ましくは10〜100m/分の範囲が好ましい。巻き替え時には、フィルムを引き出した状態で少なくとも1本以上のローラーと接触させて巻き取ることが、フィルム温度を低下させるためにも好ましい。   It is also preferable that the hard coat film roll after the heat treatment is carried, for example, to a rewinding step (not shown) and cooled to room temperature while the hard coat film is rewinded to obtain a rewind roll. Further, in the rewinding step, it is preferable to pass through an atmosphere having a relative humidity of 10 to 70% RH or to wind in the atmosphere. When the relative humidity is preferably 20 to 70% RH, particularly 40 to 60% RH, a good hard coat film roll can be obtained without static electricity failure or collapse of the winding shape. The film rewinding speed is 1 to 200 m / min, preferably 10 to 100 m / min. At the time of rewinding, it is preferable that the film is drawn out and brought into contact with at least one roller in order to lower the film temperature.

これらのロールの回転や巻き替えを行う際は、フィルムに静電気故障や傷が発生する可能性があり、除電装置の設置やクリーンルームでの実施が好ましく、又巻き替え時の接触ローラ表面は平滑性の高いものを用いることが好ましい。   When rotating or rewinding these rolls, there is a possibility that static electricity failure or scratches may occur on the film. It is preferable to install a static eliminator or in a clean room. The surface of the contact roller during rewinding is smooth. It is preferable to use one having a high value.

加熱手段としては、熱風の吹き付け、加熱ロールによる接触伝熱、マイクロ波による誘導加熱、赤外線ヒーターによる輻射熱加熱等を利用できる。赤外線ヒーターは、電気式、ガス式、オイル式あるいはスチーム式の遠赤外セラミックヒーターが利用できる。市販の赤外線ヒーター(例えば(株)ノリタケカンパニーリミテド製)を用いてもよい。熱媒体が、オイルまたはスチームを用いるオイル式またはスチーム式の赤外ヒーターは、有機溶剤が共存する雰囲気における防爆の観点で好ましい。   As the heating means, hot air blowing, contact heat transfer using a heating roll, induction heating using a microwave, radiant heat heating using an infrared heater, or the like can be used. As the infrared heater, an electric, gas, oil or steam far infrared ceramic heater can be used. A commercially available infrared heater (for example, manufactured by Noritake Company Limited) may be used. An oil-type or steam-type infrared heater using oil or steam as the heat medium is preferable from the viewpoint of explosion prevention in an atmosphere in which an organic solvent coexists.

また、加熱時のフィルム温度や加熱温度は、一般に市販されている非接触式の赤外線温度計で測定できる。また、温度範囲を制御するために、加熱手段に対してフィードバック制御を行ってもよい。   Moreover, the film temperature and heating temperature at the time of a heating can be measured with the non-contact-type infrared thermometer generally marketed. Further, feedback control may be performed on the heating means in order to control the temperature range.

《ハードコート層》
本発明に係るハードコート層について説明する。
《Hard coat layer》
The hard coat layer according to the present invention will be described.

本発明に係るハードコート層は、少なくとも透明フィルム基材の一方の面に設けられる。本発明においては、前記ハードコート層を形成後加熱処理を行い、更にその上に、反射防止層(高屈折率層、低屈折率層等)等の機能性層設けることが好ましい。   The hard coat layer according to the present invention is provided on at least one surface of the transparent film substrate. In the present invention, it is preferable to perform a heat treatment after forming the hard coat layer, and further provide a functional layer such as an antireflection layer (high refractive index layer, low refractive index layer, etc.) thereon.

なお、本発明におけるハードコートフィルムとは、鉛筆硬度がH〜8Hであるフィルムをいう。特に好ましくは2H〜6Hであることが好ましい。鉛筆硬度は、作製したハードコートフィルムを温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS S 6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS K 5400が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。   In addition, the hard coat film in this invention means the film whose pencil hardness is H-8H. Most preferably, it is 2H-6H. The pencil hardness is evaluated by pencil hardness evaluation specified by JIS K 5400 using a test pencil specified by JIS S 6006 after the prepared hard coat film is conditioned at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% for 2 hours. It is the value measured according to the method.

(多官能アクリレート)
ハードコート層組成物として一般に紫外線のような活性光線硬化型樹脂を用いるが、本発明では、このような活性光線硬化型樹脂として多官能アクリレートを含有することが特徴である。該多官能アクリレートは、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基及び/またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。
(Polyfunctional acrylate)
In general, an actinic ray curable resin such as ultraviolet rays is used as the hard coat layer composition, and the present invention is characterized by containing a polyfunctional acrylate as such an actinic ray curable resin. The polyfunctional acrylate is preferably selected from the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. Here, the polyfunctional acrylate is a compound having two or more acryloyloxy groups and / or methacryloyloxy groups in the molecule.

多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、イソボロニルアクリレート等が好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または2種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの2量体、3量体等のオリゴマーであってもよい。   Examples of the polyfunctional acrylate monomer include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and tetramethylolmethane triacrylate. , Tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol Lithol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, Tetramethylol methane trimethacrylate, tetramethylol methane tetramethacrylate, pentaglycerol trimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, glycerol trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate Acrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, dipentaerythritol hexa methacrylate, isobornyl acrylate and the like preferably. These compounds are used alone or in admixture of two or more. Moreover, oligomers, such as a dimer and a trimer of the said monomer, may be sufficient.

活性光線硬化型樹脂の添加量は、ハードコート組成物では固形分中の15質量%以上70質量%未満であることが好ましい。   The addition amount of the actinic ray curable resin is preferably 15% by mass or more and less than 70% by mass in the solid content in the hard coat composition.

活性光線硬化型樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤と分子中に重合可能な不飽和結合を2個以上有するアクリル系化合物とを質量比で20:100〜0.01:100含有することが好ましい。   In order to accelerate the curing of the actinic ray curable resin, a photopolymerization initiator and an acrylic compound having at least two polymerizable unsaturated bonds in the molecule are contained in a mass ratio of 20: 100 to 0.01: 100. It is preferable.

光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof, but are not particularly limited thereto.

本発明に係るハードコート層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等のバインダを上記活性光線硬化型樹脂に混合して使用することができる。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−COOM、−OH、−NR、−NRX、−SOM、−OSOM、−PO、−OPOM(ここで、Mは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を、Xはアミン塩を形成する酸を、Rは水素原子、アルキル基を表す)等を挙げることができる。 In the hard coat layer according to the present invention, a binder such as a known thermoplastic resin, thermosetting resin, or hydrophilic resin such as gelatin can be mixed with the actinic ray curable resin. These resins preferably have a polar group in the molecule. Examples of the polar group, -COOM, -OH, -NR 2, -NR 3 X, -SO 3 M, -OSO 3 M, -PO 3 M 2, -OPO 3 M ( wherein, M represents a hydrogen atom, an alkali A metal or an ammonium group, X represents an acid forming an amine salt, R represents a hydrogen atom or an alkyl group).

本発明において使用し得る活性光線硬化型樹脂の市販品としては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(旭電化(株)製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(広栄化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHC X−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業(株)製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化学工業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製);サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業(株)製);SP−1509、SP−1507(昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(東亞合成(株)製);B420(新中村化学工業(株)製)等を適宜選択して利用できる。   Commercially available actinic radiation curable resins that can be used in the present invention include ADEKA OPTMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (Asahi) Manufactured by Denka Co., Ltd.); Koei Hard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102 NS-101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Co., Ltd.); Seika Beam PHC2210 (S), PHC X-9 (K-3), PHC2213 , DP-10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (Daiichi Seikagaku Corporation KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (manufactured by Daicel UCB); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC -5120, RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.); 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (manufactured by Sanyo Chemical Industries); SP -1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (manufactured by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.); B420 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) or the like can be appropriately selected and used.

また、ハードコート層には耐傷性、滑り性や屈折率を調整するために無機化合物または有機化合物の微粒子を含んでもよい。   Further, the hard coat layer may contain fine particles of an inorganic compound or an organic compound in order to adjust the scratch resistance, slipperiness and refractive index.

ハードコート層に使用される無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。   Examples of inorganic fine particles used in the hard coat layer include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, and calcined kaolin. And calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.

また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物を加えることができる。特に好ましくは、架橋ポリスチレン粒子(例えば、綜研化学製SX−130H、SX−200H、SX−350H)、ポリメチルメタクリレート系粒子(例えば、綜研化学製MX150、MX300)、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げらる。フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば日本ペイント製:FS−701等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば日本ペイント製:S−4000,アクリル−スチレン粒子として、例えば日本ペイント製:S−1200、MG−251等が挙げられる。   Organic particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder. An ultraviolet curable resin composition such as polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, or polyfluoroethylene resin powder can be added. Particularly preferred are cross-linked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H manufactured by Soken Chemical), polymethyl methacrylate particles (for example, MX150, MX300 manufactured by Soken Chemical), and fluorine-containing acrylic resin fine particles. The Examples of the fluorine-containing acrylic resin fine particles include commercial products such as FS-701 manufactured by Nippon Paint. Examples of the acrylic particles include Nippon Paint: S-4000, and examples of the acrylic-styrene particles include Nippon Paint: S-1200, MG-251.

これらの微粒子粉末の平均粒径としては、0.01〜5μmが好ましく0.1〜5.0μm、更に、0.1〜4.0μmであることが特に好ましい。また、粒径の異なる2種以上の微粒子を含有することが好ましい。紫外線硬化性樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜30質量部となるように配合することが望ましい。   The average particle diameter of these fine particle powders is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.1 to 5.0 μm, and particularly preferably 0.1 to 4.0 μm. Moreover, it is preferable to contain 2 or more types of microparticles | fine-particles from which a particle size differs. The proportion of the ultraviolet curable resin composition and the fine particles is desirably blended so as to be 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

ハードコート層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、4,4′−チオビス(6−tert−3−メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)メシチレン、ジ−オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。   In order to increase the heat resistance of the hard coat layer, an antioxidant that does not inhibit the photocuring reaction can be selected and used. Examples include hindered phenol derivatives, thiopropionic acid derivatives, phosphite derivatives, and the like. Specifically, for example, 4,4′-thiobis (6-tert-3-methylphenol), 4,4′-butylidenebis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) mesitylene, di-octadecyl-4- Examples thereof include hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl phosphate.

これらのハードコート層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することができる。塗布後、加熱乾燥し、UV硬化処理を行う。   These hard coat layers can be coated by a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an ink jet method. After application, it is heat-dried and UV-cured.

ハードコート層塗布液には溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   The hard coat layer coating solution may contain a solvent, or may be appropriately contained and diluted as necessary. Examples of the organic solvent contained in the coating solution include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), It can be appropriately selected from esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents, or a mixture thereof can be used. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the organic solvent containing at least mass%.

ハードコート層は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が0.001〜0.1μmのクリアハードコート層、または微粒子等を添加しRaが0.1〜1μmに調整された防眩性ハードコート層であってもよい。中心線平均粗さ(Ra)は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製非接触表面微細形状計測装置WYKO NT−2000を用いて測定することができる。   The hard coat layer has a center line average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 of 0.001 to 0.1 μm, or a fine hard coat layer and Ra is adjusted to 0.1 to 1 μm. An antiglare hard coat layer may also be used. The center line average roughness (Ra) is preferably measured by an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured, for example, using a non-contact surface fine shape measuring device WYKO NT-2000 manufactured by WYKO.

更にハードコート層には、シリコーン系界面活性剤或いはポリオキシエーテル化合物を含有させることが好ましい。シリコーン系界面活性剤としてはポリエーテル変性シリコーンが好ましく、具体的には、BYK−UV3500,BYK−UV3510、BYK−333、BYK−331、BYK−337(ビックケミ−ジャパン社製)、TSF4440、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE東芝シリコーン製)、KF−351、KF−351A、KF−352、KF−353、KF−354、KF−355、KF−615、KF−618、KF−945、KF−6004(ポリエーテル変性シリコーンオイル;信越化学工業社製)、等が挙げられるがこれらに限定されない。   Further, the hard coat layer preferably contains a silicone surfactant or a polyoxyether compound. As the silicone surfactant, polyether-modified silicone is preferable, and specifically, BYK-UV3500, BYK-UV3510, BYK-333, BYK-331, BYK-337 (manufactured by BYK-Chemical Japan), TSF4440, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF4460 (GE Toshiba Silicone), KF-351, KF-351A, KF-352, KF-353, KF-354, KF-355, KF-615, KF-618, KF-945, KF- 6004 (polyether-modified silicone oil; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the like, but are not limited thereto.

また、ポリオキシエーテル化合物の中では、好ましくはポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物であり、一般的に一般式(α)で表される化合物である。   Of the polyoxyether compounds, the polyoxyethylene oleyl ether compound is preferable, and is generally a compound represented by the general formula (α).

一般式(α) C1835−O(CO)nH
式中、nは2〜40を表す。
Formula (α) C 18 H 35 —O (C 2 H 4 O) nH
In the formula, n represents 2 to 40.

オレイル部分に対するエチレンオキシドの平均付加個数(n)は、2〜40であり、好ましくは2〜10、より好ましくは2〜9、さらに好ましくは2〜8である。また一般式(α)の化合物はエチレンオキシドとオレイルアルコールとを反応させて得られる。   The average addition number (n) of ethylene oxide with respect to the oleyl part is 2 to 40, preferably 2 to 10, more preferably 2 to 9, and further preferably 2 to 8. The compound of the general formula (α) can be obtained by reacting ethylene oxide with oleyl alcohol.

具体的商品としては、エマルゲン404(ポリオキシエチレン(4)オレイルエーテル)、エマルゲン408(ポリオキシエチレン(8)オレイルエーテル)、エマルゲン409P(ポリオキシエチレン(9)オレイルエーテル)、エマルゲン420(ポリオキシエチレン(13)オレイルエーテル)、エマルゲン430(ポリオキシエチレン(30)オレイルエーテル)以上花王社製、日本油脂製NOFABLEEAO−9905(ポリオキシエチレン(5)オレイルエーテル)等が挙げられる。   Specific products include Emulgen 404 (polyoxyethylene (4) oleyl ether), Emulgen 408 (polyoxyethylene (8) oleyl ether), Emulgen 409P (polyoxyethylene (9) oleyl ether), Emulgen 420 (polyoxy) Ethylene (13) oleyl ether), Emulgen 430 (polyoxyethylene (30) oleyl ether) or more, Kao Corporation, NOFBLEEAO-9905 (polyoxyethylene (5) oleyl ether) manufactured by NOF Corporation.

尚、( )がnの数字を表す。非イオン性のポリオキシエーテル化合物は単独或いは2種以上を併用しても良い。   Note that () represents the number n. Nonionic polyoxyether compounds may be used alone or in combination of two or more.

これらは塗布性を高め、これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。   These improve applicability | paintability and it is preferable to add these components in 0.01-3 mass% with respect to the solid content component in a coating liquid.

また、ハードコート層にはフッ素−シロキサングラフトポリマーを含有しても良い。   Further, the hard coat layer may contain a fluorine-siloxane graft polymer.

フッ素−シロキサングラフトポリマーとは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び/またはオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び/またはオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体のポリマーをいう。市販品としては、富士化成工業株式会社製のZX−022H、ZX−007C、ZX−049、ZX−047−D等を挙げることができる。またこれら化合物は混合して用いても良い。フッ素−シロキサングラフトポリマーは活性光線硬化型樹脂との含有質量比率をフッ素−シロキサングラフトポリマー:エネルギー活性線硬化樹脂=0.05:100〜5.00:100で用いることが塗布液中の安定性から好ましい。   The fluorine-siloxane graft polymer refers to a copolymer polymer obtained by grafting polysiloxane containing siloxane and / or organosiloxane alone and / or organopolysiloxane to at least a fluorine-based resin. Examples of commercially available products include ZX-022H, ZX-007C, ZX-049, and ZX-047-D manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd. These compounds may be used as a mixture. Fluorine-siloxane graft polymer should be used in a coating solution that has a mass ratio of actinic ray curable resin to fluorine-siloxane graft polymer: energy-active radiation curable resin = 0.05: 100 to 5.00: 100. To preferred.

また、ハードコート層は、2層以上の重層構造を有していてもよい。その中の1層は例えば導電性微粒子、π共役系導電性ポリマー、または、イオン性ポリマーを含有する所謂導電性層としてもよい。π共役系導電性ポリマーとしては、ポリチオフェン、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリ(3−エチルチオフェン)、ポリ(3−プロピルチオフェン)、ポリ(3−ブチルチオフェン)、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)、ポリ(3−オクチルチオフェン)、ポリ(3−デシルチオフェン)、ポリ(3−ドデシルチオフェン)、ポリ(3−ブロモチオフェン)、ポリ(3−クロロチオフェン)、ポリ(3−シアノチオフェン)、ポリ(3−フェニルチオフェン)、ポリ(3,4−ジメチルチオフェン)、ポリ(3,4−ジブチルチオフェン)、ポリ(3−ヒドロキシチオフェン)、ポリ(3−メトキシチオフェン)、ポリ(3−エトキシチオフェン)、ポリ(3−ブトキシチオフェン)、ポリ(3−ヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3−オクチルオキシチオフェン)、ポリ(3−デシルオキシチオフェン)、ポリ(3−ドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジヒドロキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジメトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジエトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジプロポキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジブトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジオクチルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−プロピレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ブテンジオキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−メトキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−エトキシチオフェン)、ポリ(3−カルボキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシエチルチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシブチルチオフェン)、ポリピロール、ポリ(N−メチルピロール)、ポリ(3−メチルピロール)、ポリ(3−エチルピロール)、ポリ(3−N−プロピルピロール)、ポリ(3−ブチルピロール)、ポリ(3−オクチルピロール)、ポリ(3−デシルピロール)、ポリ(3−ドデシルピロール)、ポリ(3,4−ジメチルピロール)、ポリ(3,4−ジブチルピロール)、ポリ(3−カルボキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシエチルピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシブチルピロール)、ポリ(3−ヒドロキシピロール)、ポリ(3−メトキシピロール)、ポリ(3−エトキシピロール)、ポリ(3−ブトキシピロール)、ポリ(3−ヘキシルオキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−ヘキシルオキシピロール)、ポリアニリン、ポリ(2−メチルアニリン)、ポリ(3−イソブチルアニリン)、ポリ(2−アニリンスルホン酸)、ポリ(3−アニリンスルホン酸)等が挙げられる。これらはそれぞれ単独でも良いし、2種からなる共重合体でも好適に用いることができる。   The hard coat layer may have a multilayer structure of two or more layers. One of the layers may be a so-called conductive layer containing, for example, conductive fine particles, a π-conjugated conductive polymer, or an ionic polymer. Examples of the π-conjugated conductive polymer include polythiophene, poly (3-methylthiophene), poly (3-ethylthiophene), poly (3-propylthiophene), poly (3-butylthiophene), and poly (3-hexylthiophene). , Poly (3-octylthiophene), poly (3-decylthiophene), poly (3-dodecylthiophene), poly (3-bromothiophene), poly (3-chlorothiophene), poly (3-cyanothiophene), poly (3-phenylthiophene), poly (3,4-dimethylthiophene), poly (3,4-dibutylthiophene), poly (3-hydroxythiophene), poly (3-methoxythiophene), poly (3-ethoxythiophene) , Poly (3-butoxythiophene), poly (3-hexyloxythiophene), poly (3 Octyloxythiophene), poly (3-decyloxythiophene), poly (3-dodecyloxythiophene), poly (3,4-dihydroxythiophene), poly (3,4-dimethoxythiophene), poly (3,4-di Ethoxythiophene), poly (3,4-dipropoxythiophene), poly (3,4-dibutoxythiophene), poly (3,4-dihexyloxythiophene), poly (3,4-dioctyloxythiophene), poly ( 3,4-didecyloxythiophene), poly (3,4-didodecyloxythiophene), poly (3,4-ethylenedioxythiophene), poly (3,4-propylenedioxythiophene), poly (3,4 4-butenedioxythiophene), poly (3-methyl-4-methoxythiophene), poly (3-methyl-4 -Ethoxythiophene), poly (3-carboxythiophene), poly (3-methyl-4-carboxythiophene), poly (3-methyl-4-carboxyethylthiophene), poly (3-methyl-4-carboxybutylthiophene) , Polypyrrole, poly (N-methylpyrrole), poly (3-methylpyrrole), poly (3-ethylpyrrole), poly (3-N-propylpyrrole), poly (3-butylpyrrole), poly (3-octyl) Pyrrole), poly (3-decylpyrrole), poly (3-dodecylpyrrole), poly (3,4-dimethylpyrrole), poly (3,4-dibutylpyrrole), poly (3-carboxypyrrole), poly (3 -Methyl-4-carboxypyrrole), poly (3-methyl-4-carboxyethylpyrrole), poly (3-methyl 4-carboxybutylpyrrole), poly (3-hydroxypyrrole), poly (3-methoxypyrrole), poly (3-ethoxypyrrole), poly (3-butoxypyrrole), poly (3-hexyloxypyrrole), poly ( 3-methyl-4-hexyloxypyrrole), polyaniline, poly (2-methylaniline), poly (3-isobutylaniline), poly (2-anilinesulfonic acid), poly (3-anilinesulfonic acid) and the like. . Each of these may be used alone or two types of copolymers can be suitably used.

また、イオン性ポリマーは種々の表示素子に対する色補正用フィルターとして色調調整機能を有する色調調整剤(染料もしくは顔料等)を含有させてもよいし、また電磁波遮断剤または赤外線吸収剤等を含有させそれぞれの機能を有するようにすることは好ましい。   Further, the ionic polymer may contain a color tone adjusting agent (dye or pigment) having a color tone adjusting function as a color correction filter for various display elements, or may contain an electromagnetic wave blocking agent or an infrared absorber. It is preferable to have each function.

ハードコート層塗布液の塗布方法としては、前述のものを用いることができる。塗布量はウェット膜厚として0.1〜40μmが適当で、好ましくは、0.5〜30μmである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚0.1〜30μm、好ましくは1〜20μmである。   As the coating method of the hard coat layer coating solution, the above-described methods can be used. The coating amount is suitably 0.1 to 40 μm, preferably 0.5 to 30 μm, as the wet film thickness. Moreover, as a dry film thickness, it is an average film thickness of 0.1-30 micrometers, Preferably it is 1-20 micrometers.

ハードコート層は塗布乾燥後に、紫外線を照射するのがよく、必要な活性光線の照射量を得るための照射時間としては、0.1秒〜1分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から0.1〜10秒がより好ましい。   The hard coat layer is preferably irradiated with ultraviolet rays after coating and drying, and the irradiation time for obtaining the necessary amount of active light irradiation is preferably about 0.1 second to 1 minute, and the curing efficiency of the ultraviolet curable resin Or from the viewpoint of work efficiency, 0.1 to 10 seconds is more preferable.

また、これら活性光線照射部の照度は0.05〜0.2W/mであることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the illuminance of these actinic ray irradiation parts is 0.05-0.2 W / m < 2 >.

《反射防止層》
本発明に係るハードコートフィルムは、上層として反射防止層が塗設された、外光反射防止機能を有するハードコートフィルム(以下、反射防止フィルムともいう)であってもよい。
<Antireflection layer>
The hard coat film according to the present invention may be a hard coat film having an antireflection function for external light (hereinafter also referred to as an antireflection film) in which an antireflection layer is coated as an upper layer.

反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層、もしくは支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、3層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる3層を、中屈折率層(支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。または、2層以上の高屈折率層と2層以上の低屈折率層とを交互に積層した4層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。   The antireflection layer is preferably laminated in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, and the like so that the reflectance is reduced by optical interference. The antireflection layer is preferably composed of a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the support, or a combination of a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the support and a low refractive index layer. Particularly preferably, it is an antireflection layer composed of three or more refractive index layers, and three layers having different refractive indexes from the support side are divided into medium refractive index layers (high refractive index layers having a higher refractive index than the support). Are preferably laminated in the order of a layer having a lower refractive index) / a high refractive index layer / a low refractive index layer. Alternatively, an antireflection layer having a layer structure of four or more layers in which two or more high refractive index layers and two or more low refractive index layers are alternately laminated is also preferably used.

フィルムの層構成としては下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。   Although the following structures can be considered as a layer structure of a film, it is not limited to this.

フィルム基材/ハードコート層
フィルム基材/ハードコート層/中屈折率層/低屈折率層
フィルム基材/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
フィルム基材/ハードコート層/低屈折率層
フィルム基材/ハードコート層/導電性層
フィルム基材/ハードコート層/導電性層/低屈折率層
フィルム基材/ハードコート層/高屈折率層(導電性層)/低屈折率層
フィルム基材/ハードコート層/防眩性層
フィルム基材/ハードコート層/防眩性層/低屈折率層
フィルム基材/導電性層/ハードコート層/低屈折率層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/防眩性層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/導電性層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/低屈折率層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/中屈折率層/低屈折率層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/防眩性層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/防眩性層/低屈折率層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/導電性層/低屈折率層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/高屈折率層(導電性層)/低屈折率層
バックコート層/フィルム基材/導電性層/ハードコート層/低屈折率層
〔低屈折率層〕
低屈折率層は、シリカ系微粒子とを含有することが好ましく、その屈折率は、支持体であるフィルム基材の屈折率より低く、23℃、波長550nm測定で、1.30〜1.45の範囲であることが好ましい。
Film substrate / Hard coat layer Film substrate / Hard coat layer / Medium refractive index layer / Low refractive index layer Film substrate / Hard coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Film substrate / Hard base layer / low refractive index layer Film base / hard coat layer / conductive layer Film base / hard coat layer / conductive layer / low refractive index layer Film base / hard coat layer / high refractive index layer (conductive Layer) / low refractive index layer film substrate / hard coat layer / antiglare layer film substrate / hard coat layer / antiglare layer / low refractive index layer film substrate / conductive layer / hard coat layer / low refractive layer Rate layer Back coat layer / film substrate / hard coat layer Back coat layer / film substrate / hard coat layer / antiglare layer Back coat layer / film substrate / hard coat layer / conductive layer Back coat layer / film base Material / C Coating layer / low refractive index layer back coating layer / film substrate / hard coating layer / medium refractive index layer / low refractive index layer back coating layer / film substrate / hard coating layer / antiglare layer back coating layer / film base Material / hard coat layer / antiglare layer / low refractive index layer back coat layer / film substrate / hard coat layer / conductive layer / low refractive index layer back coat layer / film substrate / hard coat layer / high refractive index Layer (conductive layer) / low refractive index layer back coat layer / film substrate / conductive layer / hard coat layer / low refractive index layer [low refractive index layer]
The low refractive index layer preferably contains silica-based fine particles, and the refractive index is lower than the refractive index of the film substrate as a support, and is 1.30 to 1.45 at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. It is preferable that it is the range of these.

低屈折率層の膜厚は、5nm〜0.5μmであることが好ましく、10nm〜0.3μmであることが更に好ましく、30nm〜0.2μmであることが最も好ましい。   The film thickness of the low refractive index layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and most preferably 30 nm to 0.2 μm.

低屈折率層形成用組成物は、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質または空洞の粒子を少なくとも1種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質または空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。   The composition for forming a low refractive index layer preferably contains at least one kind of particles having an outer shell layer and porous or hollow inside as silica-based fine particles. In particular, the particles having the outer shell layer and having a porous or hollow interior are preferably hollow silica-based fine particles.

なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式(OSi−1)で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物、或いは、その重縮合物を併せて含有させても良い。   The composition for forming a low refractive index layer may contain an organosilicon compound represented by the following general formula (OSi-1) or a hydrolyzate thereof, or a polycondensate thereof.

一般式(OSi−1):Si(OR)
前記一般式で表される有機珪素化合物は、式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。
General formula (OSi-1): Si (OR) 4
In the organic silicon compound represented by the general formula, R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane and the like are preferably used.

他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。   In addition, a silane coupling agent, a curing agent, a surfactant and the like may be added as necessary.

(中空シリカ系微粒子)
中空シリカ系微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。なお、低屈折率層には(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。
(Hollow silica fine particles)
The hollow silica-based fine particles are (I) composite particles comprising porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (II) having cavities inside, and the contents are solvent, gas or porous It is a hollow particle filled with a porous material. Note that the low refractive index layer only needs to contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or both.

なお、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は被覆層(粒子壁ともいう。)で覆われている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される中空微粒子の平均粒子径は、形成される低屈折率層の平均膜厚の3/2〜1/10好ましくは2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの中空微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)、或いはこれらを含む混合溶媒が好ましい。   Note that the cavity particles are particles having a cavity inside, and the cavity is covered with a coating layer (also referred to as a particle wall). The cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle size of such hollow fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The average particle diameter of the hollow fine particles to be used is desirably 3/2 to 1/10, preferably 2/3 to 1/10, of the average film thickness of the low refractive index layer to be formed. These hollow fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol) and ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), ketone alcohol (for example, diacetone alcohol), or a mixed solvent containing these is preferable.

複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することができないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマー等が容易に複合粒子の内部の空隙部分に進入して粒子の屈折率を増加させ、低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持できないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。   The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, if the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and it is easy to use a silicate monomer or oligomer having a low polymerization degree, which is a coating liquid component described later. In some cases, the refractive index of the particles is increased by entering the voids inside the composite particles, and the effect of low refractive index may not be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, if the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. .

複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al、B、TiO、ZrO、SnO、CeO、P、Sb、MoO、ZnO、WO等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF、NaF、NaAlF、MgF等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al、B、TiO、ZrO、SnO、CeO、P、Sb、MoO、ZnO、WO等との1種または2種以上を挙げることができる。このような多孔質粒子では、シリカをSiOで表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MO)で表したときのモル比MO/SiOが、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MO/SiOが0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比MO/SiOが、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、更に屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. Moreover, components other than silica may be contained, and specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3. , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Among these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 and WO 3. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MO X / SiO 2 when the silica is expressed by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is expressed in terms of oxide (MO X ) is 0.0001 to 1.0, Preferably it is in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain a porous particle having a molar ratio MO X / SiO 2 of less than 0.0001. Even if it is obtained, a pore volume is small and particles having a low refractive index cannot be obtained. In addition, when the molar ratio MO X / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it is difficult to obtain a material having a lower refractive index. is there.

このような多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。   The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.

なお、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることができる。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例示した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。   In addition, the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Moreover, what consists of the compound illustrated by the said porous particle as a porous substance is mentioned. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.

このような中空微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第1〜第3工程から中空微粒子は製造される。   As a method for producing such hollow fine particles, for example, the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed. Specifically, when the composite particles are composed of silica and an inorganic compound other than silica, hollow fine particles are produced from the following first to third steps.

第1工程:多孔質粒子前駆体の調製
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
First Step: Preparation of Porous Particle Precursor In the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is separately prepared in advance, or a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica are prepared in advance. A mixed aqueous solution is prepared, and this aqueous solution is gradually added to an aqueous alkaline solution having a pH of 10 or more while stirring according to the composite ratio of the target composite oxide to prepare a porous particle precursor.

シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム(水ガラス)やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン類を挙げることができる。なお、アンモニウムのケイ酸塩または有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第4級アンモニウム水酸化物、アミン化合物等を添加したアルカリ性溶液も含まれる。   As the silica raw material, alkali metal, ammonium or organic base silicate is used. Sodium silicate (water glass) or potassium silicate is used as the alkali metal silicate. Examples of the organic base include quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, and amines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. The ammonium silicate or the organic base silicate includes an alkaline solution obtained by adding ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound or the like to a silicic acid solution.

また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物が用いられる。具体的には、Al、B、Ti、Zr、Sn、Ce、P、Sb、Mo、Zn、W等から選ばれる元素のオキソ酸、該オキソ酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩を挙げることができる。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、錫酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。   In addition, alkali-soluble inorganic compounds are used as raw materials for inorganic compounds other than silica. Specifically, an oxo acid of an element selected from Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W, etc., an alkali metal salt or alkaline earth metal salt of the oxo acid, ammonium And salts and quaternary ammonium salts. More specifically, sodium aluminate, sodium tetraborate, zirconyl ammonium carbonate, potassium antimonate, potassium stannate, sodium aluminosilicate, sodium molybdate, cerium ammonium nitrate, and sodium phosphate are suitable.

これらの水溶液の添加と同時に混合水溶液のpH値は変化するが、このpH値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類及びその混合割合によって定まるpH値となる。このときの水溶液の添加速度には特に制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。当該シード粒子としては、特に制限はないが、SiO、Al、TiOまたはZrO等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることができる。更に前記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のpHを10以上に調整した後、該シード粒子分散液中に前記化合物の水溶液を、上記したアルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のpH制御を行う必要はない。このようにしてシード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることができる。 Although the pH value of the mixed aqueous solution changes simultaneously with the addition of these aqueous solutions, an operation for controlling the pH value within a predetermined range is not particularly required. The aqueous solution finally has a pH value determined by the type of inorganic oxide and the mixing ratio thereof. There is no restriction | limiting in particular in the addition rate of the aqueous solution at this time. Further, in the production of composite oxide particles, a dispersion of seed particles can be used as a starting material. The seed particles are not particularly limited, but inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 or ZrO 2 or fine particles of these composite oxides are used. Usually, these sols are used. Can do. Furthermore, the porous particle precursor dispersion obtained by the above production method may be used as a seed particle dispersion. When using a seed particle dispersion, the pH of the seed particle dispersion is adjusted to 10 or higher, and then an aqueous solution of the compound is added to the above-mentioned alkaline aqueous solution while stirring. Also in this case, it is not always necessary to control the pH of the dispersion. When seed particles are used in this way, it is easy to control the particle size of the porous particles to be prepared, and particles with uniform particle sizes can be obtained.

上記したシリカ原料及び無機化合物原料はアルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいpH領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン及びアルミン酸イオン等のオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して微粒子に成長したり、または、シード粒子上に析出して粒子成長が起る。従って、微粒子の析出、成長に際して、従来法のようなpH制御は必ずしも行う必要がない。   The silica raw material and the inorganic compound raw material described above have high solubility on the alkali side. However, when both are mixed in this highly soluble pH region, the solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these composites precipitate and grow into fine particles, or seed particles. It grows on the top and particle growth occurs. Therefore, it is not always necessary to perform pH control as in the conventional method for precipitation and growth of fine particles.

第1工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物(MO)に換算し、MO/SiOのモル比が、0.05〜2.0、好ましくは0.2〜2.0の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が2.0を越えても、多孔質粒子の細孔の容積はほとんど増加しない。他方、モル比が0.05未満の場合は、細孔容積が小さくなる。空洞粒子を調製する場合、MO/SiOのモル比は、0.25〜2.0の範囲内にあることが望ましい。 The composite ratio of silica and an inorganic compound other than silica in the first step is that the inorganic compound relative to silica is converted to an oxide (MO X ), and the molar ratio of MO X / SiO 2 is 0.05 to 2.0, Preferably it is in the range of 0.2-2.0. Within this range, the pore volume of the porous particles increases as the proportion of silica decreases. However, even when the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small. When preparing the hollow particles, the molar ratio of MO X / SiO 2 is preferably in the range of 0.25 to 2.0.

第2工程:多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、または、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
Second step: Removal of inorganic compound other than silica from porous particles In the second step, inorganic compounds other than silica (elements other than silicon and oxygen) are obtained from the porous particle precursor obtained in the first step. At least a portion is selectively removed. As a specific removal method, the inorganic compound in the porous particle precursor is dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or is contacted with a cation exchange resin for ion exchange removal.

なお、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。このように多孔質粒子前駆体から無機化合物(珪素と酸素以外の元素)を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物(珪素と酸素以外の元素)を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することができる。   The porous particle precursor obtained in the first step is a particle having a network structure in which silicon and an inorganic compound constituent element are bonded through oxygen. By removing the inorganic compound (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor in this way, porous particles having a larger porosity and a larger pore volume can be obtained. Further, if the amount of removing the inorganic oxide (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor is increased, the hollow particles can be prepared.

また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られる、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有するケイ酸液または加水分解性の有機珪素化合物を添加してシリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは0.5〜15nmの厚さであればよい。なおシリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり厚さが薄いので、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。   In addition, prior to removing inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor, fluorine-substituted, obtained by dealkalizing an alkali metal salt of silica into the porous particle precursor dispersion obtained in the first step. It is preferable to add a silicic acid solution containing an alkyl group-containing silane compound or a hydrolyzable organosilicon compound to form a silica protective film. The thickness of the silica protective film may be 0.5 to 15 nm. Even if the silica protective film is formed, the protective film in this step is porous and thin, so that it is possible to remove inorganic compounds other than silica described above from the porous particle precursor.

このようなシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することができる。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく後述するシリカ被覆層を形成することができる。なお、除去する無機化合物の量が少ない場合は粒子が壊れることがないので必ずしも保護膜を形成する必要はない。   By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than silica described above can be removed from the porous particle precursor while maintaining the particle shape. Further, when forming the silica coating layer described later, the pores of the porous particles are not blocked by the coating layer, and therefore the silica coating layer described later is formed without reducing the pore volume. Can do. Note that when the amount of the inorganic compound to be removed is small, the particles are not broken, and thus it is not always necessary to form a protective film.

また空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、該シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、該空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。   When preparing hollow particles, it is desirable to form this silica protective film. When preparing the hollow particles, the inorganic compound is removed to obtain a hollow particle precursor composed of a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid content. When a coating layer to be described later is formed on the precursor, the formed coating layer becomes a particle wall to form hollow particles.

上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持できる範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多過ぎると、シリカ保護膜が厚くなり過ぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、一般式RSi(OR′)4−n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、フッ素置換したテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The amount of the silica source added for forming the silica protective film is preferably small as long as the particle shape can be maintained. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, and it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica protective film formed of the general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, such as acrylic group An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as fluorine-substituted tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the porous particles, and the alkoxysilane is hydrolyzed. The produced silicic acid polymer is deposited on the surface of the inorganic oxide particles. At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、または有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。なお、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。   When the dispersion medium of the porous particle precursor is water alone or when the ratio of water to the organic solvent is high, a silica protective film can be formed using a silicic acid solution. When a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles. In addition, you may produce a silica protective film together using a silicic acid liquid and the said alkoxysilane.

第3工程:シリカ被覆層の形成
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
Third step: Formation of silica coating layer In the third step, the porous particle dispersion prepared in the second step (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor dispersion) contains a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound. By adding a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution, the surface of the particles is coated with a polymer such as a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution to form a silica coating layer.

シリカ被覆層形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、前記したような一般式RSi(OR′)4−n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica coating layer formed, the above-mentioned such general formula R n Si (OR ') 4 -n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group such as an acryl group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is used as a dispersion of the porous particles (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor). In addition, the silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilane is deposited on the surface of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の分散媒が水単独、または有機溶媒との混合溶媒であって、有機溶媒に対する水の比率が高い混合溶媒の場合には、ケイ酸液を用いて被覆層を形成してもよい。ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。   When the dispersion medium of porous particles (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor) is water alone or a mixed solvent with an organic solvent and the mixed solvent has a high ratio of water to the organic solvent, a silicate solution You may form a coating layer using. The silicic acid solution is an aqueous solution of a low silicic acid polymer obtained by dealkalizing an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment.

ケイ酸液は、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中に添加され、同時にアルカリを加えてケイ酸低重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)表面に沈着させる。なお、ケイ酸液を上記アルコキシシランと併用して被覆層形成用に使用してもよい。被覆層形成用に使用される有機珪素化合物またはケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆できる程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが1〜20nmとなるような量で、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中で添加される。また前記シリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが1〜20nmの範囲となるような量で、有機珪素化合物またはケイ酸液は添加される。   The silicic acid solution is added to the dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors), and at the same time, alkali is added to make the low-silicic acid polymer into porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). ) Deposit on the surface. In addition, you may use a silicic acid liquid for the coating layer formation in combination with the said alkoxysilane. The addition amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer only needs to be sufficient to cover the surface of the colloidal particles, and the finally obtained silica coating layer has a thickness of 1 to 20 nm. In such an amount, it is added in a dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor). When the silica protective film is formed, the organosilicon compound or the silicate solution is added in such an amount that the total thickness of the silica protective film and the silica coating layer is in the range of 1 to 20 nm.

次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体または多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。   Next, the dispersion liquid of the particles on which the coating layer is formed is heat-treated. By the heat treatment, in the case of porous particles, the silica coating layer covering the surface of the porous particles is densified, and a dispersion of composite particles in which the porous particles are coated with the silica coating layer is obtained. In the case of a hollow particle precursor, the formed coating layer is densified to form hollow particle walls, and a dispersion of hollow particles having cavities filled with a solvent, gas, or porous solid content is obtained.

このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞できる程度であれば特に制限はなく、80〜300℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が80℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化できないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が300℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率の効果が得られないことがある。   The heat treatment temperature at this time is not particularly limited as long as it can close the fine pores of the silica coating layer, and is preferably in the range of 80 to 300 ° C. When the heat treatment temperature is less than 80 ° C., the fine pores of the silica coating layer may not be completely closed and densified, and the treatment time may take a long time. Further, when the heat treatment temperature exceeds 300 ° C. for a long time, fine particles may be formed, and the effect of low refractive index may not be obtained.

このようにして得られた無機微粒子の屈折率は、1.42未満と低い。このような無機微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。なお、中空シリカ系微粒子は触媒化成(株)から市販されているものも好ましく利用することができる。   The refractive index of the inorganic fine particles thus obtained is as low as less than 1.42. Such inorganic fine particles are presumed to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is hollow. As the hollow silica-based fine particles, those commercially available from Catalyst Kasei Co., Ltd. can be preferably used.

外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子の低屈折率層中の含有量は、10〜50質量%であることが好ましい。低屈折率の効果を得る上で、15質量%以上が好ましく、50質量%を超えるとバインダー成分が少なくなり膜強度が不十分となる。特に好ましくは20〜50質量%である。   The content of the hollow silica-based fine particles having an outer shell layer and porous or hollow inside is preferably 10 to 50% by mass. In order to obtain the effect of a low refractive index, the content is preferably 15% by mass or more, and when it exceeds 50% by mass, the binder component is decreased and the film strength becomes insufficient. Most preferably, it is 20-50 mass%.

低屈折率層への添加方法としては、例えば前記テトラアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記中空シリカ系微粒子の分散液に加え、テトラアルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を中空シリカ系微粒子の表面に沈着させる。このとき、テトラアルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。   As a method of adding to the low refractive index layer, for example, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of the tetraalkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the hollow silica fine particles. The silicic acid polymer produced by hydrolyzing tetraalkoxysilane is deposited on the surface of the hollow silica fine particles. At this time, tetraalkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

また、シリカ系微粒子は、WO2007/099814パンフレットに記載の製造法により作製されたものを用いても良い。   The silica-based fine particles may be those produced by the production method described in the WO2007 / 099814 pamphlet.

また、低屈折率層に、下記一般式(OSi−2)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有させることもできる。   Further, the low refractive index layer may contain a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound represented by the following general formula (OSi-2).

Figure 0005309677
Figure 0005309677

前記一般式(OSi−2)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物について説明する。   The fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound represented by the general formula (OSi-2) will be described.

式中、R〜Rは炭素数1〜16、好ましくは1〜4のアルキル基、炭素数1〜6、好ましくは1〜4のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12、好ましくは6〜10のアリール基、炭素数7〜14、好ましくは7〜12のアルキルアリール基、アリールアルキル基、炭素数2〜8、好ましくは2〜6のアルケニル基、または炭素数1〜6、好ましくは1〜3のアルコキシ基、水素原子またはハロゲン原子を示す。 In the formula, R 1 to R 6 are alkyl groups having 1 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, halogenated alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, and 6 to 12 carbon atoms, preferably 6 carbon atoms. 10 to 10 aryl groups, 7 to 14 carbon atoms, preferably 7 to 12 alkylaryl groups, arylalkyl groups, 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 to 6 alkenyl groups, or 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 alkoxy groups, a hydrogen atom or a halogen atom.

Rfは−(CaHbFc)−を表し、aは1〜12の整数、b+cは2aであり、bは0〜24の整数、cは0〜24の整数を示す。このようなRfとしては、フルオロアルキレン基とアルキレン基とを有する基が好ましい。具体的に、このような含フッ素シリコーン系化合物としては、(MeO)SiCSi(MeO)、(MeO)SiCSi(MeO)、(MeO)SiC12Si(MeO)、(HO)SiCSi(OC、(HO)SiC12Si(OCで表されるメトキシジシラン化合物等が挙げられる。 Rf represents-(CaHbFc)-, a is an integer of 1 to 12, b + c is 2a, b is an integer of 0 to 24, and c is an integer of 0 to 24. Such Rf is preferably a group having a fluoroalkylene group and an alkylene group. Specifically, examples of such fluorine-containing silicone compounds include (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 2 F 4 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 4 F 8 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 12 C 2 H 4 Si (MeO) 3, (H 5 C 2 O) 3 SiC 2 H 4 C 4 F 8 C 2 H 4 Si (OC 2 H 5) 3, include methoxy disilane compound or the like represented by (H 5 C 2 O) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 12 C 2 H 4 Si (OC 2 H 5) 3.

バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、形成される透明被膜自体が疎水性を有しているので、透明被膜が充分緻密化しておらず、多孔質であったり、またクラックやボイドを有している場合であっても、水分や酸・アルカリ等の薬品による透明被膜への進入が抑制される。更に、基板表面や下層である導電性層中に含まれる金属等の微粒子と水分や酸・アルカリ等の薬品とが反応することもない。このため、このような透明被膜は、優れた耐薬品性を有している。   If the fluorine-containing alkyl group-containing silane compound is included as a binder, the transparent film itself is hydrophobic, so the transparent film is not sufficiently densified and is porous or cracked. Even if it has a void or a void, entry into the transparent film by chemicals such as moisture, acid and alkali is suppressed. Furthermore, fine particles such as metals contained in the conductive layer which is the substrate surface or the lower layer do not react with chemicals such as moisture, acid and alkali. For this reason, such a transparent film has excellent chemical resistance.

また、バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、このような疎水性のみならず、滑り性がよく(接触抵抗が低く)、このためスクラッチ強度に優れた透明被膜を得ることができる。更に、バインダーが、このような構成単位を有するフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、下層に導電性層が形成されている場合には、バインダーの収縮率が、導電性層と同等か近いものであるため導電性層と密着性に優れた透明被膜を形成することができる。更に、透明被膜を加熱処理する際に、収縮率の違いから、導電性層が剥離して、透明導電性層に電気的接触のない部分が生じることもない。このため、膜全体として充分な導電性を維持できる。   In addition, when a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound is included as a binder, not only the hydrophobic property but also the slipperiness (low contact resistance) is obtained, and thus a transparent film having excellent scratch strength can be obtained. Can do. Further, when the binder contains a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound having such a structural unit, when the conductive layer is formed in the lower layer, the shrinkage rate of the binder is equivalent to that of the conductive layer. Therefore, it is possible to form a transparent film having excellent adhesion to the conductive layer. Furthermore, when the transparent film is heat-treated, the conductive layer is not peeled off due to the difference in shrinkage rate, and a portion having no electrical contact is not generated in the transparent conductive layer. For this reason, sufficient electroconductivity can be maintained as a whole film.

フッ素置換アルキル基含有シラン化合物と、前記外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子とを含む透明被膜は、スクラッチ強度が高い上に、消しゴム強度または爪強度で評価される膜強度が高く、鉛筆硬度も高く、強度の上で優れた透明被膜を形成することができる。   A transparent film containing a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound and hollow silica-based fine particles having the outer shell layer and being porous or hollow inside has high scratch strength and is evaluated by eraser strength or nail strength. The film strength is high, the pencil hardness is high, and a transparent film excellent in strength can be formed.

低屈折率層にはシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。   The low refractive index layer may contain a silane coupling agent. Silane coupling agents include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane. Ethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltri Acetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltri Ethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ- Acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N- Examples include β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane.

また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。   Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimeth Shishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.

これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。   Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, and γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxyp Particularly preferred are propyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane.

2種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。   Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.

また、低屈折率層にはCF(CF)nCHCHSi(OR1)で表される珪素化合物を含有しても良い。(式中、R1は、1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表し、そしてnは、0〜12の整数を表す。)具体的化合物としては、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどが挙げられ、これらは単独で又は二種以上組み合わせて用いることができる。 The low refractive index layer may contain a silicon compound represented by CF 3 (CF 2 ) nCH 2 CH 2 Si (OR 1 ) 3 . (In the formula, R1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12.) Specific examples of the compound include trifluoropropyltrimethoxysilane and trifluoropropyl. Examples include triethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane, and these are used alone or in combination of two or more. Can be used.

また、HNCONH(CH)mSi(OR2)で表される末端位にウレイド基(HNCONH−)を有する珪素化合物を含有しても良い。(式中、R2は、1〜5個の炭素原子を有するアルキル基を表し、mは、1〜5の整数を表す。)具体的化合物としては、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリプロポキシシランなどが挙げられる。これらの中でもγ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどが特に好ましい。 It may also contain H 2 NCONH (CH) mSi ( OR2) silicon compound in the terminal position represented by 3 having a ureido group (H 2 NCONH-). (In the formula, R2 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 5.) Specific compounds include γ-ureidopropyltrimethoxysilane and γ-ureido. Examples thereof include propyltriethoxysilane and γ-ureidopropyltripropoxysilane. Among these, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, and the like are particularly preferable.

その他、低屈折率層はバインダーとして、例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、フルオロアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂等を用いることが出来る。   In addition, the low refractive index layer can use, for example, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, fluoroacrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin, etc. as a binder. .

その他、低屈折率層はバインダーとして例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、フルオロアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂が挙げられる。   In addition, the low refractive index layer includes, for example, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, fluoroacrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, and alkyd resin as a binder.

低屈折率層は、全体で5〜80質量%のバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、中空シリカ系微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。バインダーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように適宜調整する。   The low refractive index layer preferably contains 5 to 80% by mass of binder as a whole. The binder has a function of adhering the hollow silica-based fine particles and maintaining the structure of the low refractive index layer including voids. The usage-amount of a binder is suitably adjusted so that the intensity | strength of a low refractive index layer can be maintained, without filling a space | gap.

(溶媒)
低屈折率層は有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
(solvent)
The low refractive index layer preferably contains an organic solvent. Specific examples of organic solvents include alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Group hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

低屈折率層塗布組成物中の固形分濃度は1〜4質量%であることが好ましく、該固形分濃度が4質量%以下にすることによって、塗布ムラが生じにくくなり、1質量%以上にすることによって乾燥負荷が軽減される。   The solid content concentration in the low refractive index layer coating composition is preferably 1 to 4% by mass. By making the solid content concentration 4% by mass or less, coating unevenness is less likely to occur, and the content is 1% by mass or more. By doing so, the drying load is reduced.

〔高屈折率層〕
反射防止層は、上述の低屈折率層の他に、下記のような高屈折率層を有してもよい。
(High refractive index layer)
The antireflection layer may have the following high refractive index layer in addition to the above-described low refractive index layer.

高屈折率層には金属酸化物微粒子が含有されることが好ましい。金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができ、これらの金属酸化物微粒子はAl、In、Sn、Sb、Nb、ハロゲン元素、Taなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。   The high refractive index layer preferably contains metal oxide fine particles. The kind of metal oxide fine particles is not particularly limited, and Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S A metal oxide having at least one element selected from the group consisting of Al, In, Sn, Sb, Nb, a halogen element, Ta and the like is doped with a minute amount of atoms. May be. A mixture of these may also be used. In the present invention, at least one metal oxide fine particle selected from zirconium oxide, antimony oxide, tin oxide, zinc oxide, indium tin oxide (ITO), antimony doped tin oxide (ATO), and zinc antimonate is used. It is particularly preferable to use it as the main component. In particular, it is preferable to contain zinc antimonate particles.

これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は10nm〜200nmの範囲であり、10〜150nmであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡(SEM)等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。   The average particle diameter of the primary particles of these metal oxide fine particles is in the range of 10 nm to 200 nm, particularly preferably 10 to 150 nm. The average particle diameter of the metal oxide fine particles can be measured from an electron micrograph taken with a scanning electron microscope (SEM) or the like. You may measure by the particle size distribution meter etc. which utilize a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc. If the particle size is too small, aggregation tends to occur and the dispersibility deteriorates. If the particle size is too large, the haze is remarkably increased. The shape of the metal oxide fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a needle shape, or an indefinite shape.

高屈折率層の屈折率は、具体的には、支持体であるフィルムの屈折率より高く、23℃、波長550nm測定で、1.5〜2.2の範囲であることが好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的である為、金属酸化物微粒子の屈折率は1.80〜2.60であることが好ましく、1.85〜2.50であることが更に好ましい。   Specifically, the refractive index of the high refractive index layer is higher than the refractive index of the film as the support, and is preferably in the range of 1.5 to 2.2 when measured at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. The means for adjusting the refractive index of the high refractive index layer is that the kind and addition amount of the metal oxide fine particles are dominant, so that the refractive index of the metal oxide fine particles is preferably 1.80 to 2.60, More preferably, it is 1.85 to 2.50.

金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して0.1質量%〜5質量%、より好ましくは0.5質量%〜3質量%である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。   The metal oxide fine particles may be surface-treated with an organic compound. By modifying the surface of the metal oxide fine particles with an organic compound, the dispersion stability in an organic solvent is improved, the dispersion particle size can be easily controlled, and aggregation and sedimentation over time can be suppressed. . For this reason, the surface modification amount with a preferable organic compound is 0.1 mass%-5 mass% with respect to metal oxide particle, More preferably, it is 0.5 mass%-3 mass%. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, silane coupling agents are preferred. Two or more kinds of surface treatments may be combined.

前記金属酸化物微粒子を含有する高屈折率層の厚さは5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。   The thickness of the high refractive index layer containing the metal oxide fine particles is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 0.1 μm.

使用する金属酸化物微粒子と後述する活性光線硬化樹脂等のバインダーとの比は、金属酸化物微粒子の種類、粒子サイズなどにより異なるが体積比で前者1に対して後者2から前者2に対して後者1程度が好ましい。   The ratio of the metal oxide fine particles to be used and a binder such as actinic ray curable resin to be described later varies depending on the kind of metal oxide fine particles, the particle size, etc., but the volume ratio of the former 1 to the latter 2 to the former 2 The latter one is preferable.

本発明において用いられる金属酸化物微粒子の使用量は高屈折率層中に5質量%〜85質量%が好ましく、10質量%〜80質量%であることがより好ましく、20〜75質量%が最も好ましい。使用量が少ないと所望の屈折率や本発明の効果が得られず、多過ぎると膜強度の劣化などが発生する。   The amount of the metal oxide fine particles used in the present invention is preferably 5% by mass to 85% by mass in the high refractive index layer, more preferably 10% by mass to 80% by mass, and most preferably 20% to 75% by mass. preferable. If the amount used is small, the desired refractive index and the effect of the present invention cannot be obtained, and if it is too large, the film strength deteriorates.

上記金属酸化物微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、ケトンアルコール(例、ジアセトンアルコール)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The metal oxide fine particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ketone alcohol (eg, diacetone alcohol). , Esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene) Chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, Tiger hydrofuran), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol), propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate. Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

また金属酸化物微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。分散剤を含有させることも好ましい。   The metal oxide fine particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder. It is also preferable to contain a dispersant.

本発明では、更にコア/シェル構造を有する金属酸化物微粒子を含有させてもよい。シェルはコアの周りに1層形成させてもよいし、耐光性を更に向上させるために複数層形成させてもよい。コアは、シェルにより完全に被覆されていることが好ましい。   In the present invention, metal oxide fine particles having a core / shell structure may be further contained. One layer of the shell may be formed around the core, or a plurality of layers may be formed in order to further improve the light resistance. The core is preferably completely covered by the shell.

コアは酸化チタン(ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等)、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ等を用いることができるが、ルチル型の酸化チタンを主成分としてもよい。   For the core, titanium oxide (rutile type, anatase type, amorphous type, etc.), zirconium oxide, zinc oxide, cerium oxide, indium oxide doped with tin, tin oxide doped with antimony, etc. can be used. Titanium may be the main component.

シェルは酸化チタン以外の無機化合物を主成分とし、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。例えば、二酸化珪素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化鉄、硫化亜鉛等を主成分とした無機化合物が用いられる。この内アルミナ、シリカ、ジルコニア(酸化ジルコニウム)であることが好ましい。また、これらの混合物でもよい。   The shell is preferably formed of a metal oxide or sulfide containing an inorganic compound other than titanium oxide as a main component. For example, an inorganic compound mainly composed of silicon dioxide (silica), aluminum oxide (alumina) zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, iron oxide, zinc sulfide, or the like is used. Of these, alumina, silica, and zirconia (zirconium oxide) are preferable. A mixture of these may also be used.

コアに対するシェルの被覆量は、平均の被覆量で2〜50質量%である。好ましくは3〜40質量%、更に好ましくは4〜25質量%である。シェルの被覆量が多いと微粒子の屈折率が低下し、被覆量が少な過ぎると耐光性が劣化する。二種以上の無機微粒子を併用してもよい。   The coating amount of the shell with respect to the core is 2 to 50% by mass as an average coating amount. Preferably it is 3-40 mass%, More preferably, it is 4-25 mass%. When the coating amount of the shell is large, the refractive index of the fine particles is lowered, and when the coating amount is too small, the light resistance is deteriorated. Two or more inorganic fine particles may be used in combination.

コアとなる酸化チタンは、液相法または気相法で作製されたものを使用できる。また、シェルをコアの周りに形成させる手法としては、例えば、米国特許第3,410,708号、特公昭58−47061号、米国特許第2,885,366号、同第3,437,502号、英国特許第1,134,249号、米国特許第3,383,231号、英国特許第2,629,953号、同第1,365,999号に記載されている方法等を用いることができる。   The titanium oxide used as a core can use what was produced by the liquid phase method or the gaseous-phase method. As a method for forming the shell around the core, for example, U.S. Pat. No. 3,410,708, JP-B-58-47061, U.S. Pat. No. 2,885,366, and U.S. Pat. No. 1, British Patent No. 1,134,249, US Pat. No. 3,383,231, British Patent No. 2,629,953, No. 1,365,999, etc. Can do.

高屈折率層もしくは前述の低屈折率層には、下記一般式(CL1)で表される化合物またはそのキレート化合物を含有することができ、硬度などの物性を改善させることができる。   The high refractive index layer or the low refractive index layer described above can contain a compound represented by the following general formula (CL1) or a chelate compound thereof, and can improve physical properties such as hardness.

一般式(CL1) AMBx−n
式中、Mは金属原子、Aは加水分解可能な官能基または加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Bは金属原子Mに共有結合またはイオン結合した原子団を表す。xは金属原子Mの原子価、nは2以上でx以下の整数を表す。
Formula (CL1) An MB x-n
In the formula, M represents a metal atom, A represents a hydrolyzable functional group or a hydrocarbon group having a hydrolyzable functional group, and B represents an atomic group covalently or ionically bonded to the metal atom M. x represents the valence of the metal atom M, and n represents an integer of 2 or more and x or less.

加水分解可能な官能基Aとしては、例えば、アルコキシル基、クロル原子等のハロゲン、エステル基、アミド基等が挙げられる。上記一般式(CL1)に属する金属化合物には、金属原子に直接結合したアルコキシル基を2個以上有するアルコキシド、または、そのキレート化合物が含まれる。好ましい金属化合物としては、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドまたはそれらのキレート化合物を挙げることができる。チタンアルコキシドは反応速度が速くて屈折率が高く、取り扱いも容易であるが、光触媒作用があるため大量に添加すると耐光性が劣化する。ジルコニウムアルコキシドは屈折率が高いが白濁し易いため、塗布する際の露点管理等に注意しなければならない。また、チタンアルコキシドは紫外線硬化性樹脂、金属アルコキシドの反応を促進する効果があるため、少量添加するだけでも塗膜の物理的特性を向上させることができる。   Examples of the hydrolyzable functional group A include halogens such as alkoxyl groups and chloro atoms, ester groups and amide groups. The metal compound belonging to the general formula (CL1) includes an alkoxide having two or more alkoxyl groups directly bonded to a metal atom, or a chelate compound thereof. Preferable metal compounds include titanium alkoxide, zirconium alkoxide, or chelate compounds thereof. Titanium alkoxide has a high reaction rate and a high refractive index and is easy to handle. However, since it has a photocatalytic action, its light resistance deteriorates when added in a large amount. Zirconium alkoxide has a high refractive index but tends to become cloudy, so care must be taken in dew point management during coating. Moreover, since titanium alkoxide has the effect of promoting the reaction of the ultraviolet curable resin and metal alkoxide, the physical properties of the coating film can be improved by adding a small amount.

チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−iso−プロポキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシチタン、テトラ−tert−ブトキシチタン等が挙げられる。   Examples of the titanium alkoxide include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-iso-propoxy titanium, tetra-n-propoxy titanium, tetra-n-butoxy titanium, tetra-sec-butoxy titanium, tetra-tert-butoxy titanium, and the like. Is mentioned.

ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−iso−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−ブトキシジルコニウム、テトラ−sec−ブトキシジルコニウム、テトラ−tert−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。   Examples of the zirconium alkoxide include tetramethoxy zirconium, tetraethoxy zirconium, tetra-iso-propoxy zirconium, tetra-n-propoxy zirconium, tetra-n-butoxy zirconium, tetra-sec-butoxy zirconium, tetra-tert-butoxy zirconium and the like. Is mentioned.

遊離の金属化合物に配位させてキレート化合物を形成するのに好ましいキレート化剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等であって分子量1万以下のものを挙げることができる。これらのキレート化剤を用いることにより、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果にも優れるキレート化合物を形成できる。   Preferred chelating agents for forming a chelate compound by coordination with a free metal compound include alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol and propylene glycol, acetylacetone and acetoacetic acid. Examples thereof include ethyl and the like having a molecular weight of 10,000 or less. By using these chelating agents, it is possible to form a chelate compound that is stable against water mixing and is excellent in the effect of reinforcing the coating film.

金属化合物の添加量は、高屈折率層に含まれる該金属化合物由来の金属酸化物の含有量が0.3〜5質量%であるように調整することが好ましい。0.3質量%未満では耐擦傷性が不足し、5質量%を超えると耐光性が劣化する傾向がある。   The addition amount of the metal compound is preferably adjusted so that the content of the metal oxide derived from the metal compound contained in the high refractive index layer is 0.3 to 5% by mass. If it is less than 0.3% by mass, the scratch resistance is insufficient, and if it exceeds 5% by mass, the light resistance tends to deteriorate.

高屈折率層には、活性光線硬化樹脂を、金属酸化物微粒子のバインダーとして、塗膜の製膜性や物理的特性の向上のために含有させることが好ましい。活性光線硬化樹脂としては、紫外線や電子線のような活性光線の照射により直接、または光重合開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を2個以上有するモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。本発明では、ポリオールアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートもしくはそれらの混合物が好ましく、例えば前記ハードコート層で説明した多官能アクリレート系化合物が好ましい。   The high refractive index layer preferably contains an actinic ray curable resin as a binder for the metal oxide fine particles in order to improve the film formability and physical properties of the coating film. As the actinic ray curable resin, a monomer or oligomer having two or more functional groups that cause a polymerization reaction directly by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams or indirectly by the action of a photopolymerization initiator is used. be able to. In the present invention, a polyol acrylate, an epoxy acrylate, a urethane acrylate, a polyester acrylate or a mixture thereof is preferable. For example, the polyfunctional acrylate compound described in the hard coat layer is preferable.

活性光線硬化樹脂の添加量は、高屈折率組成物では固形分中の15質量%以上50質量%未満であることが好ましい。   The addition amount of the actinic ray curable resin is preferably 15% by mass or more and less than 50% by mass in the solid content in the high refractive index composition.

活性光線硬化樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤と分子中に重合可能な不飽和結合を2個以上有するアクリル系化合物とを質量比で3:7〜1:9含有することが好ましい。   In order to accelerate curing of the actinic ray curable resin, it is preferable to contain a photopolymerization initiator and an acrylic compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule in a mass ratio of 3: 7 to 1: 9. .

活性光線硬化樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤の添加量は、質量比で光重合開始剤:活性光線硬化樹脂=3:7〜1:9含有することが好ましい。   In order to accelerate the curing of the actinic ray curable resin, it is preferable to contain a photopolymerization initiator. The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably contained in a mass ratio of photopolymerization initiator: active light curable resin = 3: 7 to 1: 9.

光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof, but are not particularly limited thereto.

高屈折率層をコーティングする際に用いられる有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。   Examples of the organic solvent used for coating the high refractive index layer include alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol). , Benzyl alcohol, etc.), polyhydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thio Diglycol, etc.), polyhydric alcohol ethers (eg, ethylene glycol monomethyl ether, Lenglycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl Ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (for example, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine, ether) Range amine, diethylenediamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.) ), Heterocyclic rings (for example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide) , Sulfones (e.g., sulfolane), urea, acetonitrile, acetone and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable.

〔導電性層〕
導電性層はフィルム基材上に設けることができ、例えばフィルム基材と前記ハードコート層との間、ハードコート層と反射防止層との間、または該反射防止層が設けられた側とは反対の面のフィルム基材上に塗設することができる。
[Conductive layer]
The conductive layer can be provided on the film substrate, for example, between the film substrate and the hard coat layer, between the hard coat layer and the antireflection layer, or the side on which the antireflection layer is provided. It can be coated on the opposite side of the film substrate.

導電性層は、支持体(樹脂フィルム等)の取扱の際に、ハードコートフィルムが帯電するのを防ぐ機能を付与するものであり、具体的には、イオン導電性物質や導電性微粒子を含有する層を設けることによって行う。ここでイオン導電性物質とは電気伝導性を示し、電気を運ぶ担体であるイオンを含有する物質のことであるが、例としてはイオン性高分子化合物を挙げることができる。   The conductive layer provides a function to prevent the hard coat film from being charged when handling a support (resin film, etc.), and specifically includes an ionic conductive material and conductive fine particles. This is done by providing a layer to be used. Here, the ion conductive substance is a substance that shows electric conductivity and contains ions that are carriers for carrying electricity, and examples include ionic polymer compounds.

導電性層の表面比抵抗は1011Ω/□(25℃、55%RH)以下に調整されることが好ましく、更に好ましくは、1010Ω/□(25℃、55%RH)以下であり、特に好ましくは、10Ω/□(25℃、55%RH)以下である。 The surface specific resistance of the conductive layer is preferably adjusted to 10 11 Ω / □ (25 ° C., 55% RH) or less, more preferably 10 10 Ω / □ (25 ° C., 55% RH) or less. Particularly preferably, it is 10 9 Ω / □ (25 ° C., 55% RH) or less.

ここで、表面比抵抗値の測定の詳細は実施例に記載するが、試料を25℃、55%RHの条件にて24時間調湿し、川口電機株式会社製テラオームメーターモデルVE−30を用いて測定する。   Here, although details of the measurement of the surface specific resistance value are described in the Examples, the sample was conditioned for 24 hours under the conditions of 25 ° C. and 55% RH, and a terraohm meter model VE-30 manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd. was used. Use to measure.

導電性層上には、更にオーバーコート層を最表面層として設けるが、表面比抵抗値の測定は、導電性層が設けられている側の最表面層における表面比抵抗値を実質的に導電性層の表面比抵抗値として定義する。   On the conductive layer, an overcoat layer is further provided as the outermost surface layer. The surface specific resistance value is measured by substantially conducting the surface specific resistance value on the outermost surface layer on the side where the conductive layer is provided. It is defined as the surface resistivity value of the conductive layer.

導電性層の表面比抵抗値を上記記載の範囲に調整するためには、下記に示すような導電性材料が好ましく用いられる。   In order to adjust the surface specific resistance value of the conductive layer to the above-described range, conductive materials as shown below are preferably used.

導電性材料としては、前述のπ共役系導電性ポリマー、イオン性高分子化合物、金属酸化物等が好ましく用いられる。   As the conductive material, the above-described π-conjugated conductive polymer, ionic polymer compound, metal oxide, and the like are preferably used.

イオン性高分子化合物としては、特公昭49−23828号、同49−23827号、同47−28937号にみられるようなアニオン性高分子化合物;特公昭55−734号、特開昭50−54672号、特公昭59−14735号、同57−18175号、同57−18176号、同57−56059号などにみられるような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマー;特公昭53−13223号、同57−15376号、特公昭53−45231号、同55−145783号、同55−65950号、同55−67746号、同57−11342号、同57−19735号、特公昭58−56858号、特開昭61−27853、同62−9346にみられるような、側鎖中にカチオン性解離基をもつカチオン性ペンダント型ポリマー;等を挙げることができる。   Examples of the ionic polymer compound include anionic polymer compounds such as those described in JP-B-49-23828, JP-A-49-23827, and JP-A-47-28937; JP-B-55-734, JP-A-50-54672 Ionene type polymers having a dissociating group in the main chain, as seen in JP-B Nos. 59-14735, 57-18175, 57-18176, 57-56059, etc .; No. 57-15376, No. 53-45231, No. 55-145783, No. 55-65950, No. 55-67746, No. 57-11342, No. 57-19735, No. 58-56858. No., JP-A 61-27853, 62-9346, and a cationic pendant type poly having a cationic dissociation group in the side chain. Chromatography; and the like.

特に好ましいイオン性高分子化合物としては、下記一般式〔P〕及び〔Pa〕、〔Pb〕の構造のユニットを有するポリマーが挙げられる。   Particularly preferred ionic polymer compounds include polymers having units of the following general formulas [P], [Pa] and [Pb].

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式中R、R、R、Rは炭素数1〜4の置換或いは未置換のアルキル基を表し、RとR及び/またはRとRが結合してピペラジンなどの含窒素複素環を形成してもよい。A、B及びDはそれぞれ炭素数2〜10の置換或いは未置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−RCOR−、−RCOOR10OCOR11−、−R12OCR13COOR14−、−R15−(OR16)m−、−R17CONHR18NHCOR19−、−R20OCONHR21NHCOR22−または−R25NHCONHR24NHCONHR25−を表す。R、R、R、R1、R12、R14、R15、R16、R17、R19、R20、R22、R23及びR25はアルキレン基、R10、R13、R18、R21及びR24はそれぞれ置換または未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基、アルキレンアリーレン基から選ばれる連結基、mは1〜4の正の整数を表し、Xはアニオンを表す。 In the formula, R 3 , R 4 , R 5 and R 6 represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 3 and R 4 and / or R 5 and R 6 are bonded to each other, such as piperazine. A nitrogen-containing heterocycle may be formed. A, B and D are each a substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, an arylene group, an alkenylene group, an arylenealkylene group, -R 7 COR 8 -, - R 9 COOR 10 OCOR 11 -, - R 12 OCR 13 COOR 14 -, - R 15 - (oR 16) m -, - R 17 CONHR 18 NHCOR 19 -, - R 20 OCONHR 21 NHCOR 22 - or -R 25 NHCONHR 24 NHCONHR 25 - represents a. R 7 , R 8 , R 9 , R 11 , R 12 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 19 , R 20 , R 22 , R 23 and R 25 are alkylene groups, R 10 , R 13 , R 18 , R 21 and R 24 are each a linking group selected from a substituted or unsubstituted alkylene group, alkenylene group, arylene group, arylene alkylene group and alkylene arylene group, and m represents a positive integer of 1 to 4. , X represents an anion.

但し、Aがアルキレン基、ヒドロキシアルキレン基或いは、アリーレンアルキレン基である時には、Bがアルキレン基、ヒドロキシルアルキレン基或いはアリーレンアルキレン基ではないことが好ましい。   However, when A is an alkylene group, a hydroxyalkylene group or an arylenealkylene group, it is preferable that B is not an alkylene group, a hydroxylalkylene group or an arylenealkylene group.

Eは単なる結合手、−NHCOR26CONH−またはDから選ばれる基を表す。R26は置換或いは未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基、またはアルキレンアリーレン基を表す。 E represents a simple bond, —NHCOR 26 CONH— or a group selected from D. R 26 represents a substituted or unsubstituted alkylene group, alkenylene group, arylene group, arylene alkylene group, or alkylene arylene group.

、Zは−N=C−基は共に5員または6員環を形成するのに必要な非金属原子群(≡N[Xなる4級塩の形でEに連結してもよい)を表す。 Z 1 and Z 2 are linked to E in the form of a quaternary salt of a group of nonmetal atoms (≡N + [X ] necessary for forming a 5-membered or 6-membered ring together with —N═C— group. May be).

nは5〜300の整数を表す。   n represents an integer of 5 to 300.

中でも、分子架橋を有する4級アンモニウムカチオンポリマーが特に好ましく、ダイオキシンの発生防止等環境安全性の観点から、塩素イオンを含まず、かつ、分子架橋を有する4級アンモニウムカチオンポリマーが特に好ましく用いられる。   Among them, a quaternary ammonium cationic polymer having molecular crosslinking is particularly preferable, and a quaternary ammonium cationic polymer not containing chlorine ions and having molecular crosslinking is particularly preferably used from the viewpoint of environmental safety such as prevention of dioxin generation.

以下に、本発明に用いられるイオン性高分子化合物の具体例を挙げるが本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the ionic polymer compound used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited to these.

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イオン性高分子化合物は、これを単独で用いてもよいし、或いは数種類のイオン性高分子化合物を組み合わせて使用してもよい。イオン性高分子化合物の樹脂フィルム中の含有量は、0.02g〜1.0g/mが好ましく、特に好ましくは、0.02g〜0.5g/mである。 The ionic polymer compound may be used alone, or several types of ionic polymer compounds may be used in combination. The content of the ionic polymer compound in the resin film is preferably 0.02 g to 1.0 g / m 2 , particularly preferably 0.02 g to 0.5 g / m 2 .

また、導電性材料としては、Sn、Ti、In、Al、Zn、Si、Mg、Ba、Mo、W及びVからなる群から選択される少なくとも一つの元素を主成分として含有し、かつ、体積抵抗率が10Ω・cm以下であるような導電性材料が好ましく用いられる。 The conductive material contains at least one element selected from the group consisting of Sn, Ti, In, Al, Zn, Si, Mg, Ba, Mo, W and V as a main component, and has a volume. A conductive material having a resistivity of 10 7 Ω · cm or less is preferably used.

前記導電性材料としては、上記の元素を有する金属酸化物、複合酸化物等が挙げられる。   Examples of the conductive material include metal oxides and composite oxides having the above elements.

金属酸化物の例としては、ZnO、TiO、SnO、Al、In、SiO、MgO、BaO、MoO、V等、或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にZnO、TiO及びSnOが好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、TiOに対してはNb、Ta等の添加、またSnOに対しては、Sb、Nb、ハロゲン元素等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01〜25mol%の範囲が好ましいが、0.1〜15mol%の範囲が特に好ましい。 Examples of metal oxides are preferably ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 2 , V 2 O 5 , or a composite oxide thereof. In particular, ZnO, TiO 2 and SnO 2 are preferred. Examples of containing different atoms include, for example, addition of Al, In, etc. to ZnO, addition of Nb, Ta, etc. to TiO 2 , and addition of Sb, Nb, halogen elements, etc. to SnO 2 . Addition is effective. The amount of these different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 25 mol%, particularly preferably in the range of 0.1 to 15 mol%.

また、これらの導電性を有するこれら金属酸化物粉体の体積抵抗率は10Ω・cm以下、特に10Ω・cm以下である。 In addition, the volume resistivity of these metal oxide powders having conductivity is 10 7 Ω · cm or less, particularly 10 5 Ω · cm or less.

更に、導電性層中に微粒子を添加してもよい。例えば、シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム等を構成成分として含有する微粒子を挙げることができる。   Further, fine particles may be added to the conductive layer. Examples thereof include fine particles containing silica, colloidal silica, alumina, alumina sol, kaolin, talc, mica, calcium carbonate and the like as constituent components.

上記記載の微粒子の平均粒径は、0.01μm〜10μmが好ましく、より好ましくは0.01μm〜5μm、また添加量は、塗布剤中の固形分に対して質量比で0.05部〜10部が好ましく、特に好ましいのは0.1部〜5部である。   The average particle diameter of the fine particles described above is preferably 0.01 μm to 10 μm, more preferably 0.01 μm to 5 μm, and the addition amount is 0.05 part to 10 parts by mass with respect to the solid content in the coating agent. Parts are preferred, with 0.1 to 5 parts being particularly preferred.

また、導電性層が十分な帯電防止効果を示し、かつ、オーバーコート層との易接着性を保持するためには、セルロースエステル系樹脂またはアクリル系樹脂を含有することが好ましい。   Moreover, in order for a conductive layer to show sufficient antistatic effect and to maintain easy adhesion with an overcoat layer, it is preferable to contain a cellulose ester resin or an acrylic resin.

セルロースエステル系樹脂としては、例えばセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、またはセルロースナイトレート等のセルロース誘導体が挙げられる。   Examples of the cellulose ester resin include cellulose derivatives such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose nitrate.

また、アクリル系樹脂としては、例えば、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レーヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レーヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが好ましく用いられる。   Examples of the acrylic resin include Acrypet MD, VH, MF, V (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M -5001, M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR- 79, BR-80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105, BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) Various homopolymers and copolymers to produce Le and methacrylic monomer as a raw material is preferably used.

ここで使用する樹脂は、導電性層で使用している樹脂全体の60質量%以上、更に好ましくは80質量%以上であることが好ましく、必要に応じて活性光線硬化樹脂或いは熱硬化樹脂を添加することもできる。これらの樹脂はバインダーとして下記のような溶剤に溶解した状態で塗設される。   The resin used here is preferably 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more of the total resin used in the conductive layer, and an actinic ray curable resin or thermosetting resin is added as necessary. You can also These resins are coated as a binder in a state dissolved in the following solvent.

導電性層を塗設するための塗布組成物には、次の溶剤が好ましく用いられる。溶剤としては、炭化水素、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒(メチレンクロライド)を適宜混合して使用することができるが特にこれらに限定されるものではない。   For the coating composition for coating the conductive layer, the following solvents are preferably used. As the solvent, hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, glycol ethers, and other solvents (methylene chloride) can be appropriately mixed and used, but are not particularly limited thereto.

上記炭化水素類としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等が挙げられ、アルコール類としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、iso−プロピルアルコール、n−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール、ペンタノール、2−メチル−2−ブタノール、シクロヘキサノール等が挙げられ、ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられ、エステル類としては、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳酸メチル等が挙げられ、グリコールエーテル(C1〜C4)類としては、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、またはプロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステル類としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、その他の溶媒としてメチレンクロライド、N−メチルピロリドンなどが挙げられる。特にこれらに限定されるものではないが、これらを適宜混合した溶媒も好ましく用いられる。   Examples of the hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, hexane, cyclohexane and the like, and examples of alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, iso-propyl alcohol, n-butanol, 2-butanol, tert- Examples include butanol, pentanol, 2-methyl-2-butanol, and cyclohexanol. Examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Examples of esters include methyl formate, ethyl formate, Examples thereof include methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, amyl acetate, ethyl lactate, and methyl lactate. Examples of glycol ethers (C1 to C4) include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ester. As terrestrial (PGME), propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, or propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether esters, propylene glycol monomethyl Examples of ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and other solvents include methylene chloride and N-methylpyrrolidone. Although not particularly limited to these, a solvent in which these are appropriately mixed is also preferably used.

導電性層塗布組成物の塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、ワイヤーバーコーター、リバースコーター、押し出しコーター等を用いて、塗布液膜厚(ウェット膜厚ということもある)を1〜100μmとすることが好ましく、特に5〜30μmが好ましい。   As a coating method of the conductive layer coating composition, using a gravure coater, dip coater, wire bar coater, reverse coater, extrusion coater, etc., the coating solution film thickness (sometimes referred to as wet film thickness) is 1 to 100 μm. In particular, 5 to 30 μm is preferable.

〔バックコート層〕
本発明のハードコートフィルムは、ハードコート層を設けた側と反対側の面にバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、ハードコート層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることができる。なお、バックコート層はブロッキング防止層を兼ねて塗設されることが好ましいが、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されることが好ましい。
[Back coat layer]
In the hard coat film of the present invention, a back coat layer is preferably provided on the surface opposite to the side on which the hard coat layer is provided. The back coat layer is provided in order to correct curling caused by providing a hard coat layer or other layers. That is, the degree of curling can be balanced by imparting the property of being rounded with the surface on which the backcoat layer is provided facing inward. The back coat layer is preferably applied also as an anti-blocking layer. In this case, it is preferable that fine particles are added to the back coat layer coating composition in order to provide an anti-blocking function.

バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ITO、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。   As fine particles added to the back coat layer, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, tin oxide, and oxidation. Mention may be made of indium, zinc oxide, ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate.

これらの微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。   These fine particles are commercially available under the trade names of, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, and TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). . Zirconium oxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used. Examples of the polymer include silicone resin, fluororesin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明のハードコートフィルムは、活性光線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が0.9以下、特に0.1〜0.9であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large anti-blocking effect while keeping haze low. In the hard coat film of the present invention, the dynamic friction coefficient on the back side of the actinic ray curable resin layer is preferably 0.9 or less, particularly preferably 0.1 to 0.9.

バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して0.1〜50質量%含有されることが好ましく、0.1〜10質量%であることがより好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は1%以下であることが好ましく、0.5%以下であることがより好ましく、特に0.0〜0.1%であることが好ましい。   The fine particles contained in the backcoat layer are preferably contained in an amount of 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the binder. The increase in haze when a backcoat layer is provided is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.0 to 0.1%.

バックコート層の塗布に用いられる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルム、水、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブタノール、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、または炭化水素類(トルエン、キシレン)等があげられ、適宜組み合わされて用いられる。   Examples of the solvent used for coating the backcoat layer include dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, N, N-dimethylformamide, methyl acetate, ethyl acetate, trichloroethylene, methylene chloride, ethylene chloride, tetrachloroethane, trichloroethane, Chloroform, water, methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butanol, cyclohexanone, cyclohexanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, or hydrocarbons (toluene, xylene) Are used in appropriate combinations.

これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いてハードコートフィルムの表面にウェット膜厚1〜100μmで塗布するのが好ましいが、特に5〜30μmであることが好ましい。   It is preferable to apply these coating compositions on the surface of the hard coat film with a gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die coater, spray coating, ink jet coating or the like with a wet film thickness of 1 to 100 μm. Is particularly preferably 5 to 30 μm.

バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体または共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート(好ましくはアセチル基置換度1.8〜2.3、プロピオニル基置換度0.1〜1.0)、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び/またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レーヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レーヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマー等が市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することもできる。例えば、バインダーとして用いられる樹脂としてはセルロースジアセテート、セルロースアセテートプロヒオネートなどのアセチル化セルロースとアクリル樹脂のブレンド物を用いることが好ましく、アクリル樹脂からなる微粒子を用いて、微粒子とバインダーとの屈折率差を0〜0.02未満とすることで透明性の高いバックコート層とすることができる。   Examples of the resin used as the binder of the backcoat layer include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, partially hydrolyzed vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. Polymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, chlorinated polyvinyl chloride, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, etc. Vinyl polymer or copolymer, nitrocellulose, cellulose acetate propionate (preferably acetyl group substitution degree 1.8-2.3, propionyl group substitution degree 0.1-1.0), diacetyl cellulose, cellulose Cellulose derivatives such as acetate butyrate resin, maleic acid and / or Or acrylic acid copolymer, acrylic ester copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, chlorinated polyethylene, acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene copolymer, methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin , Polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, urethane resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, polycarbonate polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, polyamide resin, amino resin, styrene-butadiene resin, butadiene-acrylonitrile Examples thereof include, but are not limited to, rubber resins such as resins, silicone resins, fluorine resins, and the like. For example, as an acrylic resin, Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M-4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001, M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR -80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105 BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) acrylic and The methacrylic monomers are commercially available various homopolymers and copolymers, etc. was prepared as a raw material, it is also possible to select a preferred mono from this appropriate. For example, as a resin used as a binder, it is preferable to use a blend of acetylated cellulose such as cellulose diacetate and cellulose acetate prohyonate and an acrylic resin, and fine particles made of an acrylic resin are used to refract the fine particles and the binder. By making the rate difference 0 to less than 0.02, a highly transparent back coat layer can be obtained.

バックコート層を塗設する順番はハードコート層を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。または2回以上に分けてバックコート層を塗布することもできる。また、バックコート層は偏光子との接着性を改善するための易接着層を兼ねることも好ましい。   The order in which the backcoat layer is applied may be before or after the hardcoat layer is applied, but when the backcoat layer also serves as an anti-blocking layer, it is preferably applied first. Alternatively, the backcoat layer can be applied in two or more steps. Moreover, it is also preferable that the backcoat layer also serves as an easy-adhesion layer for improving the adhesion with the polarizer.

(反射防止層の反射率)
前記反射防止層の反射率は分光光度計により測定を行うことができる。その際、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行ってから、可視光領域(400〜700nm)の反射光を測定する。反射率は低いほど好ましいが、可視光領域の波長における平均値が1.5%以下であることが好ましく、最低反射率は0.8%以下であることが好ましい。また、可視光の波長領域において平坦な形状の反射スペクトルを有することが好ましい。
(Reflectivity of antireflection layer)
The reflectance of the antireflection layer can be measured with a spectrophotometer. At that time, after the surface on the measurement side of the sample is roughened, the light absorption treatment is performed using a black spray, and then the reflected light in the visible light region (400 to 700 nm) is measured. The reflectance is preferably as low as possible, but the average value in the visible light wavelength is preferably 1.5% or less, and the minimum reflectance is preferably 0.8% or less. Moreover, it is preferable to have a flat reflection spectrum in the wavelength region of visible light.

また、反射防止処理を施した表示装置表面の反射色相は、反射防止膜の設計上可視光領域において短波長域や長波長域の反射率が高くなることから赤や青に色づくことが多いが、反射光の色味は用途によって要望が異なり、薄型テレビ等の最表面に使用する場合にはニュートラルな色調が好まれる。この場合、一般に好まれる反射色相範囲は、XYZ表色系(CIE1931表色系)上で0.17≦x≦0.27、0.07≦y≦0.17である。   In addition, the reflection hue on the surface of the display device that has been subjected to the antireflection treatment is often colored red or blue because the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region is high in the visible light region due to the design of the antireflection film. The color tone of the reflected light varies depending on the application, and when used on the outermost surface of a flat-screen television or the like, a neutral color tone is preferred. In this case, generally preferred reflection hue ranges are 0.17 ≦ x ≦ 0.27 and 0.07 ≦ y ≦ 0.17 on the XYZ color system (CIE1931 color system).

高屈折率層と低屈折率層の膜厚は、各々の層の屈折率より反射率、反射光の色味を考慮して常法に従って計算で求められる。   The film thicknesses of the high refractive index layer and the low refractive index layer can be obtained by calculation according to a conventional method in consideration of the reflectance and the color of reflected light based on the refractive index of each layer.

(表面処理及び塗設)
各層を塗布する前に表面処理してもよい。表面処理方法としては、洗浄法、アルカリ処理法、フレームプラズマ処理法、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等が挙げられる。
(Surface treatment and coating)
You may surface-treat before apply | coating each layer. Examples of the surface treatment method include a cleaning method, an alkali treatment method, a flame plasma treatment method, a high frequency discharge plasma method, an electron beam method, an ion beam method, a sputtering method, an acid treatment, a corona treatment method, and an atmospheric pressure glow discharge plasma method. It is done.

コロナ処理としとは、SOFTAL(ソフタル)社のマルチナイフ電極を有するコロナ処理、春日電機株式会社や株式会社トーヨー電機などで市販されている装置を用いて行なうことができる。コロナ放電処理の強度は、電極間距離、単位面積当たりの出力、ジェネレーターの周波数に依存する。   The corona treatment can be performed using a corona treatment having a multi-knife electrode of SOFTAL (Sophthal), an apparatus commercially available from Kasuga Electric Co., Ltd., Toyo Electric Co., Ltd., or the like. The intensity of the corona discharge treatment depends on the distance between the electrodes, the output per unit area, and the generator frequency.

コロナ処理装置の一方の電極(A電極)は、市販のものを用いることができるが、材質はアルミニウム、ステンレスなどから選択ができる。もう一方はプラスチックフィルムを抱かせるための電極(B電極)であり、コロナ処理が、安定かつ均一に実施されるように、前記A電極に対して一定の距離に設置されるロール電極である。これも通常市販されているものを用いることができ、材質は、アルミニウム、ステンレス、及びそれらの金属でできたロールに、セラミック、シリコン、EPTゴム、ハイパロンゴムなどがライニングされているロールが好ましく用いられる。コロナ処理に用いる周波数は、20kHz以上、100kHz以下の周波数であり、30kHz〜60kHzの周波数が好ましい。周波数が低下するとコロナ処理の均一性が劣化し、コロナ処理のムラが発生する。また、周波数が大きくなると、高出力のコロナ処理を行なう場合には、特に問題ないが、低出力のコロナ処理を実施する場合には、安定した処理を行なうことが難しくなり、結果として、処理ムラが発生する。コロナ処理の出力は、10〜500W・min./mであるが、20〜400W・min./mの出力が好ましい。電極とフィルムとの距離は、5mm以上、50mm以下であるが、好ましくは、10mm以上、35mm以下である。間隙が開いてくると、一定の出力を維持するためにより高電圧が必要になり、ムラが発生しやすくなる。また、間隙が狭くなりすぎると、印加する電圧が低くなりすぎ、ムラが発生しやすくなる。さらに、フィルムを搬送して連続処理する際に電極にフィルムが接触し傷が発生する。 As one electrode (A electrode) of the corona treatment apparatus, a commercially available one can be used, but the material can be selected from aluminum, stainless steel and the like. The other is an electrode (B electrode) for holding a plastic film, and is a roll electrode installed at a certain distance from the A electrode so that the corona treatment is carried out stably and uniformly. A commercially available one can also be used, and the material is preferably a roll made of ceramic, silicon, EPT rubber, hyperon rubber or the like on a roll made of aluminum, stainless steel, or a metal thereof. It is done. The frequency used for the corona treatment is a frequency of 20 kHz or more and 100 kHz or less, and a frequency of 30 kHz to 60 kHz is preferable. When the frequency is lowered, the uniformity of the corona treatment is deteriorated and unevenness of the corona treatment occurs. In addition, when the frequency is increased, there is no particular problem when performing high-output corona treatment, but when performing low-output corona treatment, it becomes difficult to perform stable processing, resulting in uneven processing. Occurs. The output of the corona treatment is 10 to 500 W · min. / M 2 but 20 to 400 W · min. An output of / m 2 is preferred. The distance between the electrode and the film is 5 mm or more and 50 mm or less, preferably 10 mm or more and 35 mm or less. When the gap opens, a higher voltage is required to maintain a constant output, and unevenness is likely to occur. On the other hand, if the gap is too narrow, the applied voltage becomes too low and unevenness is likely to occur. Further, when the film is transported and continuously processed, the film comes into contact with the electrodes and scratches are generated.

アルカリ処理方法としては、フィルムをアルカリ溶液に浸潰した後、水洗して乾燥するサイクルで行われるのが、一般的である。また、アルカリ処理後、酸性水工程で中和してから、水洗、及び乾燥を行ってもよい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液があげられ、水酸化イオンの規定濃度は0.1〜3Nであることが好ましく、0.5N〜2Nであることがさらに好ましい。前記範囲とすることで優れたハードコート層と低屈折率層との接着性が得られる。アルカリ溶液の温度は、アルカリ溶液の析出性等の点から、25〜90℃の範囲が好ましく、40〜70℃がさらに好ましい。アルカリ処理時間は5秒〜5分、好ましくは30秒〜3分である。   As an alkali treatment method, the film is generally immersed in an alkali solution, then washed with water and dried. Further, after the alkali treatment, neutralization in an acidic water step may be performed, followed by washing with water and drying. Examples of the alkaline solution include a potassium hydroxide solution and a sodium hydroxide solution, and the prescribed concentration of hydroxide ions is preferably 0.1 to 3N, and more preferably 0.5N to 2N. Adhesiveness between the hard coat layer and the low refractive index layer can be obtained by setting the content in the above range. The temperature of the alkaline solution is preferably in the range of 25 to 90 ° C., more preferably 40 to 70 ° C., from the viewpoint of precipitation of the alkaline solution. The alkali treatment time is 5 seconds to 5 minutes, preferably 30 seconds to 3 minutes.

また、アルカリ処理は、例えば特開2003−313326号公報、特開2007−332253号公報に記載の方法を用いても良い。   Moreover, you may use the method as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-313326 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-332253, for example, for alkali treatment.

フレームプラズマ処理法、高周波放電プラズマ法、大気圧グロー放電プラズマ法等のプラズマ処理としては、特開2004−352777号公報、特開2004−352777号公報、特開2007−314707号公報等に開示されている技術を参考にすることができる。また、処理装置としては、積水化学工業社製の常圧プラズマ処理装置であるAP−Tシリーズ等を用いることができる。これら表面処理は、本発明の製造方法により作製されたハードコートフィルムのハードコート層上に反射防止層を設ける場合に用いることが好適であり、更にその場合の処理としては、アルカリ鹸化処理方法及びプラズマ処理が好ましい。   Plasma treatments such as flame plasma treatment, high-frequency discharge plasma, and atmospheric pressure glow discharge plasma are disclosed in JP-A-2004-352777, JP-A-2004-352777, JP-A-2007-314707, and the like. You can refer to the technology. Moreover, AP-T series etc. which are the atmospheric pressure plasma processing apparatus by Sekisui Chemical Co., Ltd. can be used as a processing apparatus. These surface treatments are preferably used when an antireflection layer is provided on the hard coat layer of the hard coat film produced by the production method of the present invention. Further, as the treatment in that case, an alkali saponification treatment method and Plasma treatment is preferred.

反射防止層の各層は、フィルム基材上に、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法を用いて、塗布により形成することができる。塗布に際しては、ハードコートフィルムが、幅が1.4〜4mでロール状に巻き取られた状態から繰り出して、上記塗布を行い、乾燥・硬化処理した後、ロール状に巻き取られることが好ましい。   Each layer of the antireflection layer uses a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a micro gravure coating method and an extrusion coating method on a film substrate. And can be formed by coating. At the time of application, it is preferable that the hard coat film is unwound in a roll shape with a width of 1.4 to 4 m, applied, dried and cured, and then wound into a roll shape. .

更に、本発明のハードコートフィルムは、フィルム面上に前記反射防止層を積層した後、ロール状に巻き取った状態で50〜160℃で加熱処理をしてもよい。加熱処理の期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば、50℃であれば、好ましくは3日間以上30日未満の期間、160℃であれば10分以上1日以下の範囲が好ましい。通常は、巻外部、巻中央部、巻き芯部の加熱処理効果が偏らないように、比較的低温に設定することが好ましく、50〜60℃付近で7日間程度行うことが好ましい。   Furthermore, the hard coat film of this invention may heat-process at 50-160 degreeC in the state wound up in roll shape, after laminating | stacking the said antireflection layer on a film surface. The period of the heat treatment may be appropriately determined depending on the set temperature. For example, if it is 50 ° C., it preferably ranges from 3 days to less than 30 days, and if it is 160 ° C., it ranges from 10 minutes to 1 day. preferable. Usually, it is preferably set at a relatively low temperature so that the heat treatment effect at the outside of the winding, the center of the winding, and the core is not biased, and is preferably performed at around 50 to 60 ° C. for about 7 days.

《透明フィルム基材》
ハードコートフィルムの製造に用いられる基材フィルムとしては、製造が容易であること、ハードコート層または反射防止層等、光学的に等方性であること、光学的に透明性であることが好ましい。これらの性質を有していれば何れでもよく、例えば、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルローストリアセテートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。これらの内セルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタックKC8UX2M、KC4UX2M、KC4UY、KC8UT、KC5UN、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4(以上、コニカミノルタオプト(株)製))、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンを含む)フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムが好ましく、特に好ましくは、本発明の目的効果がより良く発揮されること、製造上、コスト面、透明性、等方性、接着性等の面から、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム等のセルロースエステルフィルムである。
<< Transparent film substrate >>
The base film used for the production of the hard coat film is preferably easy to produce, optically isotropic, such as a hard coat layer or an antireflection layer, and preferably optically transparent. . Any of these may be used, for example, cellulose ester films such as cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose triacetate film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone. Film (including polyethersulfone), polyester film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, Norbornene resin film, polymethylpentene film, polyether ketone film Lum, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, a cycloolefin polymer film, polymethyl methacrylate film or there may be mentioned acrylic film or the like, but are not limited to. Among these, cellulose ester films (for example, Konica Minoltak KC8UX2M, KC4UX2M, KC4UY, KC8UT, KC5UN, KC12UR, KC8UCR-3, KC8UCR-4 (above, manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.)), polycarbonate film, polysulfone (Polysulfone) (Including ether sulfone) film and cycloolefin polymer film are preferable, and particularly preferable from the viewpoints of the objective effects of the present invention being better, manufacturing, cost, transparency, isotropy, adhesiveness, etc. And cellulose ester films such as cellulose triacetate film and cellulose acetate propionate film.

セルロースエステルフィルムを作製する際には、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等の溶媒に溶解してからフィルム製膜する方法が一般的であるが、セルロースエステルは溶解に用いた溶媒が残留しやすい。この残留した溶媒の影響にフィルムの弾性率は低下しやすく、塑性変形が起こりやすく本発明の目的効果が発揮されにくい。このため、特に透明フィルム基材がセルロースエステルフィルムにおいては溶融流延製膜法で作製することが好ましい。   When producing a cellulose ester film, a method of forming a film after dissolving in an organic halogen compound such as methylene chloride or a solvent such as dioxolane, acetone, methyl acetate, or methyl acetoacetate is generally used. Esters tend to leave the solvent used for dissolution. The elastic modulus of the film tends to decrease due to the influence of the remaining solvent, and plastic deformation is likely to occur, so that the object effect of the present invention is hardly exhibited. For this reason, it is preferable that the transparent film substrate is produced by a melt casting film forming method in the case where the transparent film substrate is a cellulose ester film.

〔溶融流延法〕
本発明は、溶融流延によって形成されセルロースエステルフィルムをハードコートフィルムの透明フィルム基材として用いることが好ましい。
[Melt casting method]
In the present invention, it is preferable to use a cellulose ester film formed by melt casting as a transparent film substrate of a hard coat film.

加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れるハードコートフィルムを得るためには、溶融押出し法が優れている。   More specifically, the heat melting molding method can be classified into a melt extrusion molding method, a press molding method, an inflation method, an injection molding method, a blow molding method, a stretch molding method, and the like. Among these, in order to obtain a hard coat film having excellent mechanical strength and surface accuracy, the melt extrusion method is excellent.

ここでフィルム形成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後ドラム上またはエンドレスベルト上に押出し製膜する方法が溶融流延製膜法として本発明でいう溶融流延法に含まれる。   Here, the film forming material is heated to develop its fluidity and then extruded and formed on a drum or an endless belt, which is included in the melt casting method referred to in the present invention as a melt casting film forming method.

(セルロースエステル)
セルロース樹脂は、セルロースエステルの構造を示し、脂肪酸アシル基、置換もしくは無置換の芳香族アシル基の中から少なくとも何れかの構造を含む、セルロースの前記単独または混合酸エステルである。
(Cellulose ester)
The cellulose resin is a single or mixed acid ester of cellulose which shows the structure of a cellulose ester and contains at least one of a fatty acyl group and a substituted or unsubstituted aromatic acyl group.

本発明の透明フィルム基材を構成する前記セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。   The cellulose ester constituting the transparent film substrate of the present invention is at least selected from cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose phthalate. One type is preferable.

これらの中で特に好ましいセルロースエステルは、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートが挙げられる。   Among these, particularly preferable cellulose esters include cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate.

混合脂肪酸エステルの置換度として、更に好ましいセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートの低級脂肪酸エステルは、炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をYとしたとき、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロース樹脂である。   As the substitution degree of the mixed fatty acid ester, more preferable cellulose acetate propionate and lower fatty acid ester of cellulose acetate butyrate have an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, and the substitution degree of an acetyl group is X. When the substitution degree of the propionyl group or the butyryl group is Y, it is a cellulose resin containing a cellulose ester that simultaneously satisfies the following formulas (I) and (II).

式(I) 2.6≦X+Y≦3.0
式(II) 0≦X≦2.5
この中で、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも1.9≦X≦2.5であり、0.1≦Y≦0.9であることが好ましい。上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することができる。
Formula (I) 2.6 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.5
Among these, cellulose acetate propionate is particularly preferably used, and among them, 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9 are preferable. The portion not substituted with the acyl group usually exists as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods.

更に、セルロースエステルの平均分子量は数平均分子量(Mn)で70000〜200000のものが好ましく、100000〜200000のものが更に好ましい。また、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn比が1.5〜5.5のものが好ましく用いられ、特に好ましくは2.0〜5.0であり、更に好ましくは2.5〜5.0であり、更に好ましくは3.0〜5.0のセルロースエステルが好ましく用いられる。   Furthermore, the average molecular weight of the cellulose ester is preferably 70000-200000 in terms of number average molecular weight (Mn), more preferably 100000-200000. Further, those having a weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn ratio of 1.5 to 5.5 are preferably used, particularly preferably 2.0 to 5.0, and further preferably 2.5 to 5.0. More preferably, a cellulose ester of 3.0 to 5.0 is preferably used.

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できるので、これを用いて数平均分子量(Mn)、質量平均分子量(Mw)を算出し、その比を計算することができる。   Since the average molecular weight and molecular weight distribution of the cellulose ester can be measured using high performance liquid chromatography, the number average molecular weight (Mn) and the mass average molecular weight (Mw) can be calculated using this, and the ratio can be calculated.

測定条件は以下の通りである。   The measurement conditions are as follows.

溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806、K805、K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1,000,000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
Solvent: Methylene chloride Column: Shodex K806, K805, K803G (Used by connecting three Showa Denko Co., Ltd.)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (manufactured by GL Sciences)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation) Mw = 1,000,000-500 calibration curves with 13 samples were used. The 13 samples are preferably used at approximately equal intervals.

〔原料セルロース〕
セルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することができる。
[Raw material cellulose]
The raw material cellulose of the cellulose ester may be wood pulp or cotton linter, and the wood pulp may be softwood or hardwood, but softwood is more preferable. A cotton linter is preferably used from the viewpoint of peelability during film formation. The cellulose ester made from these can be mixed suitably or can be used independently.

例えば、綿花リンター由来セルロースエステル:木材パルプ(針葉樹)由来セルロースエステル:木材パルプ(広葉樹)由来セルロースエステルの比率が100:0:0、90:10:0、85:15:0、50:50:0、20:80:0、10:90:0、0:100:0、0:0:100、80:10:10、85:0:15、40:30:30で用いることができる。   For example, the ratio of cellulose ester derived from cellulose linter: cellulose ester derived from wood pulp (coniferous): cellulose ester derived from wood pulp (hardwood) is 100: 0: 0, 90: 10: 0, 85: 15: 0, 50:50: 0, 20: 80: 0, 10: 90: 0, 0: 100: 0, 0: 0: 100, 80:10:10, 85: 0: 15, 40:30:30.

〔原料ポリマーの形状〕
〈粒径・粒度分布〉
セルロース樹脂を含め原料ポリマーの形状は粒径1〜10mmの範囲であることが好ましく、これは粒度分布を測定したときに、平均粒径が1〜10mmの間にあり、かつ90質量%以上の粒子が1〜10mmの範囲にあることをいう。粒度分布の測定は、例えば、日機装(株)粒度分布測定装置マイクロトラックMT3000、島津製作所 SALD−2000A、等の粒度分布測定装置を用いて測定できる。
[Raw polymer shape]
<Particle size / size distribution>
The shape of the raw material polymer including the cellulose resin is preferably in the range of 1 to 10 mm in particle size. This is when the particle size distribution is measured, the average particle size is between 1 and 10 mm, and 90% by mass or more. The particles are in the range of 1-10 mm. The particle size distribution can be measured, for example, using a particle size distribution measuring device such as Nikkiso Co., Ltd. particle size distribution measuring device Microtrac MT3000, Shimadzu Corporation SALD-2000A.

また、原料ポリマーを水に分散した後顕微鏡写真を撮影してその画像を解析することで測定することができる。   Moreover, after dispersing a raw material polymer in water, it can be measured by taking a micrograph and analyzing the image.

〈かさ比重〉
セルロース樹脂を含め原料ポリマーのかさ比重は、体積既知の容器に充填した粉体の質量を測定することで求められる。例えば、筒井理化学器械(株)A.B.D粉体特性測定器などの専用の測定機を用いることで簡便にかつ精度よく測定することができる。
<Bulk specific gravity>
The bulk specific gravity of the raw material polymer including the cellulose resin can be determined by measuring the mass of the powder filled in a container having a known volume. For example, Tsutsui Rika Instruments Co., Ltd. B. By using a dedicated measuring instrument such as a D powder characteristic measuring instrument, it is possible to measure easily and accurately.

本発明では、かさ比重が0.1〜1.0の範囲にあることが好ましく、これは筒井理化学器械(株)A.B.D粉体特性測定器を用いて測定した、疎充填かさ比重が0.1と1.0の間の値を取ることをいう。   In the present invention, the bulk specific gravity is preferably in the range of 0.1 to 1.0. B. It means that the loosely packed bulk specific gravity measured using the D powder characteristic measuring device takes a value between 0.1 and 1.0.

かさ比重が0.1未満だとフワフワとなって、例えば、搬送、計量などの取扱いが極端に悪い。1.0より大きいと、貯蔵サイロ下部で圧密状態となりブリッジングして排出できない、等の不具合を生じる。従って上記の範囲内にあることが好ましい。   If the bulk specific gravity is less than 0.1, it becomes fluffy, and handling such as transportation and weighing is extremely bad. When it is larger than 1.0, a problem occurs in that the storage silo is in a compacted state and cannot be discharged by bridging. Therefore, it is preferable to be within the above range.

〔乾燥:揮発成分の除去〕
溶融流延法による製膜は、溶液流延法と著しく異なり、流延する材料に揮発成分が存在すると、フィルムの平面性及び透明性確保の点から好ましくない。これは製膜されたフィルムに揮発成分が混入すると透明性が低下すること、及びダイ−スリットから押出しされて製膜されたフィルムを得る場合、フィルム表面に筋が入る要因となり平面性劣化を誘発することがある。従って、フィルム構成材料を製膜加工する場合、加熱溶融時に揮発成分の発生を回避する点から、製膜するための溶融温度よりも低い温度領域に揮発する成分が存在することは好ましくない。
[Drying: Removal of volatile components]
Film formation by the melt casting method is significantly different from the solution casting method, and if a volatile component is present in the material to be cast, it is not preferable from the viewpoint of ensuring the flatness and transparency of the film. This is because transparency deteriorates when volatile components are mixed into the formed film, and when a film is formed by extrusion from a die-slit, the film surface becomes a factor that causes streaking and induces deterioration in flatness. There are things to do. Therefore, when film-forming processing of a film constituent material, it is not preferable that a component that volatilizes in a temperature region lower than the melting temperature for film formation is present from the viewpoint of avoiding the generation of volatile components during heating and melting.

前記揮発成分とは、フィルム構成材料の何れかが例えば吸湿した水分、または材料の購入前または合成時に混入している溶媒が挙げられ、加熱による蒸発、昇華或いは分解による揮発が挙げられる。ここでいう溶媒とは溶液流延として樹脂を溶液として調製するための溶媒と異なり、フィルム構成材料に微量に含まれるものである。従ってフィルム構成材料を選択することは、揮発成分の発生を回避する上で重要である。   Examples of the volatile component include moisture absorbed by any of the film constituent materials, or a solvent mixed before the material is purchased or at the time of synthesis, and includes volatilization caused by evaporation, sublimation, or decomposition by heating. The solvent here is different from the solvent for preparing the resin as a solution as a solution casting, and is contained in a trace amount in the film constituting material. Therefore, selection of the film constituent material is important in avoiding the generation of volatile components.

溶融流延に用いるフィルム構成材料は、前記水分や前記溶媒等に代表される揮発成分を、製膜する前に、または加熱時に除去することが好ましい。この除去する方法は、所謂公知の乾燥方法が適用でき、加熱法、減圧法、加熱減圧法等の方法で行うことができ、空気中または不活性ガスとして窒素を選択した雰囲気下で行ってもよい。これらの公知の乾燥方法を行うとき、フィルム構成材料が分解しない温度領域で行うことがフィルムの品質上好ましい。   It is preferable that the film constituent material used for melt casting removes volatile components typified by the moisture and the solvent before film formation or during heating. As this removal method, a so-called known drying method can be applied, and it can be performed by a method such as a heating method, a decompression method, a heating decompression method, etc., or even in an atmosphere in which nitrogen is selected as the inert gas. Good. When these known drying methods are performed, it is preferable in terms of film quality to be performed in a temperature range where the film constituting material does not decompose.

例えば、前記乾燥工程で除去した後の残存する水分または溶媒は、各々フィルム構成材料の全体の質量に対して20質量%以下、好ましくは10質量%以下、より好ましくは5質量%以下、更に好ましくは1質量%以下にすることである。   For example, the water or solvent remaining after removal in the drying step is 20% by mass or less, preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and still more preferably, with respect to the total mass of the film constituting material. Is 1% by mass or less.

このときの乾燥温度は、製膜前に乾燥することにより、揮発成分の発生を削減することを目的にするが、前述したように下記関係を満足する温度に設定され乾燥する。   The drying temperature at this time is intended to reduce the generation of volatile components by drying before film formation, but as described above, the drying temperature is set to a temperature satisfying the following relationship.

Tmix<Tm−a≦Tdry<Tg
(式中、Tmixは粉体混合時の温度、Tm−aは安定化剤の融点、Tdryは粉体混合物の乾燥温度、Tgはセルロース樹脂のガラス転移温度を表す。)
具体的に好ましい乾燥温度は100℃以上〜乾燥する材料のTg以下であることが好ましい。材料同士の融着を回避する観点を含めると、乾燥温度は、より好ましくは100℃以上〜(Tg−5)℃以下である。また、少なくとも一種の安定化剤の融点と同等以上、好ましくはより高い温度で乾燥することである。
Tmix <Tm−a ≦ Tdry <Tg
(In the formula, Tmix represents the temperature during powder mixing, Tm-a represents the melting point of the stabilizer, Tdry represents the drying temperature of the powder mixture, and Tg represents the glass transition temperature of the cellulose resin.)
A specifically preferable drying temperature is preferably 100 ° C. or higher and Tg or lower of the material to be dried. Including the viewpoint of avoiding fusion between materials, the drying temperature is more preferably 100 ° C. or more and (Tg−5) ° C. or less. Further, the drying is performed at a temperature equal to or higher than the melting point of at least one stabilizer, preferably at a higher temperature.

好ましい乾燥時間は0.5〜24時間、より好ましくは1〜18時間、更に好ましくは1.5〜12時間である。   A preferable drying time is 0.5 to 24 hours, more preferably 1 to 18 hours, and still more preferably 1.5 to 12 hours.

乾燥工程は2段階以上の分離してもよく、例えば予備乾燥工程による材料の保管と、製膜する直前〜1週間前の間に行う直前乾燥工程を介して製膜してもよい。   The drying process may be separated in two or more stages. For example, the film may be formed through storage of the material in the preliminary drying process and a previous drying process performed immediately before film formation to one week before film formation.

〈造粒〉
乾燥されたフィルム構成材料を用いて溶融流延法によって透明フィルム基材を製造する前に、該フィルム構成材料を造粒することができる。ここでいう造粒とは、粉体のまま圧力をかけて所望形状のスクリーンから押出してカットする方法、融点以下の温度をかけて二軸ローターなどで練り所望形状のスクリーンから押出してカットする方法等を言う。
<Granulation>
Prior to producing a transparent film substrate by the melt casting method using the dried film constituent material, the film constituent material can be granulated. The granulation as used herein is a method of extruding and cutting from a screen having a desired shape by applying pressure as it is in a powder, and a method of extruding and cutting from a screen having a desired shape by kneading with a biaxial rotor or the like at a temperature below the melting point. Say etc.

造粒体の形状は、円筒形、球形、直方体、不定形など、特に限定するものではない。造粒機の造粒メカニズムによって異なるが、造粒したものの粒径を測定するとき、1mmより小さいもの及び10mmより大きいものの合計が10質量%より少ないことが好ましく、押出し機のスクリュー径、等に応じてサイズを決定する。   The shape of the granulated body is not particularly limited, such as a cylindrical shape, a spherical shape, a rectangular parallelepiped shape, and an indefinite shape. Although it depends on the granulation mechanism of the granulator, when measuring the particle size of the granulated material, the total of those smaller than 1 mm and larger than 10 mm is preferably less than 10% by mass, and the screw diameter of the extruder, etc. The size is determined accordingly.

造粒する際は、ある程度の圧力をかけて造粒したり、ポリマーの融点以下の温度をかけて造粒することも好ましい。   When granulating, it is also preferable to perform granulation by applying a certain pressure or by applying a temperature below the melting point of the polymer.

造粒する際に後述する可塑剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑り剤、等の添加剤を混合して造粒することもできる。   When granulating, additives such as a plasticizer, an antioxidant, a heat stabilizer, a slip agent, etc., which will be described later, can be mixed and granulated.

造粒装置としては、市販のものを用いることができ、例えば、不二パウダル(株)製ディスクペレッターF−5〜440、日本製鋼所(株)大型造粒機CMP,CIM等各シリーズ、千代田技研工業(株)製プレスペレッターFMP−180N〜800N、深江パウテックス(株)製円筒造粒機FG−250〜600等が挙げられる。   As the granulator, a commercially available one can be used. For example, Fuji Paudal Co., Ltd. disk pelleter F-5 to 440, Nippon Steel Works Co., Ltd. large granulator CMP, CIM series, etc., Examples include press pelleters FMP-180N to 800N manufactured by Chiyoda Giken Co., Ltd., and cylindrical granulators FG-250 to 600 manufactured by Fukae Powtex Co., Ltd.

(添加剤)
添加剤としては、可塑剤、酸化防止剤、酸捕捉剤、光安定剤、過酸化物分解剤、ラジカル捕捉剤、金属不活性化剤、紫外線吸収剤、マット剤、染料、顔料などが挙げられる。また、上記機能を有するものであれば、これに分類されない添加剤も用いられる。
(Additive)
Examples of additives include plasticizers, antioxidants, acid scavengers, light stabilizers, peroxide decomposers, radical scavengers, metal deactivators, ultraviolet absorbers, matting agents, dyes, and pigments. . Moreover, if it has the said function, the additive which is not classified into this is also used.

この中で可塑剤と共に、酸化防止剤、酸捕捉剤、光安定剤等の安定化剤が機能上重要な働きを担う。これら安定化剤の少なくとも一種はセルロース樹脂と共に加熱溶融前に乾燥することが好ましい。   Of these, stabilizers such as antioxidants, acid scavengers, and light stabilizers play an important role in terms of function together with the plasticizer. At least one of these stabilizers is preferably dried together with the cellulose resin before heating and melting.

フィルム構成材料の酸化防止は、分解して発生した酸の捕捉、光または熱によるラジカル種基因の分解反応を抑制または禁止する等、解明できていない分解反応を含めて、着色や分子量低下に代表される変質や材料の分解による揮発成分の生成を抑制する機能を付与するために上述の安定化剤を用いる。   Antioxidation of film constituent materials is represented by coloring and molecular weight reduction, including decomposition reactions that have not been elucidated, such as capture of acid generated by decomposition, or suppression or prohibition of decomposition reaction caused by radical species due to light or heat. In order to give the function which suppresses the production | generation of the volatile component by the quality change and decomposition | disassembly of material, the above-mentioned stabilizer is used.

また、上述の安定化剤の存在は、加熱溶融時において可視光領域の着色物の生成を抑制すること、または揮発成分がフィルム中に混入することによって生じる全光線透過率やヘーズ(雲価)の上昇といった透明フィルム基材として好ましくない性能を抑制または消滅できる点で優れている。   In addition, the presence of the above-mentioned stabilizer suppresses the formation of a colored substance in the visible light region at the time of heating and melting, or the total light transmittance and haze (cloud value) generated by mixing volatile components in the film. It is excellent in that the performance unfavorable as a transparent film base material such as an increase in the temperature can be suppressed or eliminated.

なお、本発明のハードコートフィルムはヘーズ(雲価)が2%を超えると液晶表示装置の表示画像に影響を与えるため、好ましくは1%未満、より好ましくは0.5%未満である。また着色性の指標としては黄色度(イエローインデックス、YI)を用いることができ、好ましくは3.0以下、より好ましくは1.0以下である。また、本発明のハードコートフィルムは、透過率85%以上であることが好ましい。   In addition, since the hard coat film of this invention will affect the display image of a liquid crystal display device when haze (cloud value) exceeds 2%, Preferably it is less than 1%, More preferably, it is less than 0.5%. As an index of colorability, yellowness (yellow index, YI) can be used, preferably 3.0 or less, more preferably 1.0 or less. The hard coat film of the present invention preferably has a transmittance of 85% or more.

上述のフィルム構成材料の保存或いは製膜工程において、空気中の酸素或いは水分による劣化反応を併発することがある。この場合、上記安定化剤の安定化作用とは別に、空気中の湿度・酸素濃度を低減させることも本発明において好ましい。公知の技術として不活性ガスとして窒素やアルゴンの使用、減圧〜真空による脱気操作、及び密閉環境下による操作が挙げられ、これら3者の内少なくとも1つの方法を上記安定剤とともに用いることが好ましい。   In the above-described film constituent material storage or film forming process, deterioration reactions due to oxygen or moisture in the air may occur simultaneously. In this case, in addition to the stabilizing action of the stabilizer, it is also preferable in the present invention to reduce the humidity and oxygen concentration in the air. Known techniques include use of nitrogen or argon as an inert gas, degassing operation under reduced pressure to vacuum, and operation in a sealed environment, and it is preferable to use at least one of these methods together with the stabilizer. .

以下、添加剤について、更に詳述する。   Hereinafter, the additive will be described in more detail.

(可塑剤)
透明フィルム基材に可塑剤として知られる化合物を添加することは、機械的性質向上、柔軟性付与、耐吸水性付与、水分透過率の低減等のフィルムの改質の点から好ましい。また本発明で行う溶融流延法においては、可塑剤の添加により用いるセルロースエステル単独のガラス転移温度よりも低い温度で溶融することができ、または同じ加熱温度の場合はフィルム構成材料の粘度を低下できる。
(Plasticizer)
The addition of a compound known as a plasticizer to the transparent film substrate is preferable from the viewpoint of film modification such as improvement of mechanical properties, imparting flexibility, imparting water absorption resistance, and reducing moisture permeability. Further, in the melt casting method carried out in the present invention, it can be melted at a temperature lower than the glass transition temperature of the cellulose ester used alone by adding a plasticizer, or the viscosity of the film constituting material is lowered at the same heating temperature. it can.

ここで、フィルム構成材料の溶融温度とは、該材料が加熱され流動性が発現された時の温度を意味する。   Here, the melting temperature of the film constituting material means a temperature at which the material is heated to exhibit fluidity.

可塑剤としては、例えばリン酸エステル誘導体、カルボン酸エステル誘導体が好ましく用いられる。また、特開2003−12859号に記載の重量平均分子量が500以上10000以下であるエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマー、アクリル系ポリマー、芳香環を側鎖に有するアクリル系ポリマーまたはシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリル系ポリマーなども好ましく用いられる。   As the plasticizer, for example, phosphate ester derivatives and carboxylic acid ester derivatives are preferably used. Further, a polymer obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer having a weight average molecular weight of 500 to 10,000 described in JP-A-2003-12859, an acrylic polymer, an acrylic polymer having an aromatic ring in the side chain, or cyclohexyl An acrylic polymer having a group in the side chain is also preferably used.

具体的な可塑剤としては、リン酸エステル系可塑剤、エチレングリコールエステル系可塑剤、グリセリンエステル系可塑剤、ジグリセリンエステル系可塑剤(脂肪酸エステル)、多価アルコールエステル系可塑剤、ジカルボン酸エステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤等が挙げられる。この中でも多価アルコールエステル系可塑剤、ジカルボン酸エステル系可塑剤及び多価カルボン酸エステル系可塑剤が好ましい。また、可塑剤は液体であっても固体であってもよく、組成物の制約上無色であることが好ましい。熱的にはより高温において安定であることが好ましく、分解開始温度が150℃以上、更に200℃以上が好ましい。添加量は光学物性・機械物性に悪影響がなければよく、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され、セルロースエステル100質量部に対して好ましくは0.001〜50質量部、より好ましくは0.01〜30質量部である。特に0.1〜15質量%が好ましい。   Specific plasticizers include phosphate ester plasticizers, ethylene glycol ester plasticizers, glycerin ester plasticizers, diglycerin ester plasticizers (fatty acid esters), polyhydric alcohol ester plasticizers, dicarboxylic acid esters. System plasticizers, polycarboxylic acid ester plasticizers, polymer plasticizers, and the like. Of these, polyhydric alcohol ester plasticizers, dicarboxylic acid ester plasticizers and polycarboxylic acid ester plasticizers are preferred. Further, the plasticizer may be a liquid or a solid, and is preferably colorless due to restrictions on the composition. Thermally, it is preferably stable at a higher temperature, and the decomposition start temperature is preferably 150 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher. The addition amount may be as long as it does not adversely affect the optical properties and mechanical properties, and the blending amount is appropriately selected within the range not impairing the object of the present invention, and preferably 0.001 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cellulose ester. More preferably, it is 0.01-30 mass parts. 0.1-15 mass% is especially preferable.

以下、可塑剤の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。   Hereinafter, although the specific example of a plasticizer is given, it is not limited to these.

リン酸エステル系の可塑剤:具体的には、トリアセチルホスフェート、トリブチルホスフェート等のリン酸アルキルエステル、トリシクロベンチルホスフェート、シクロヘキシルホスフェート等のリン酸シクロアルキルエステル、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルオスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート等のリン酸アリールエステルが挙げられる。これらの置換基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同士が共有結合で結合していてもよい。   Phosphate ester plasticizers: specifically, phosphoric acid alkyl esters such as triacetyl phosphate and tributyl phosphate, phosphoric acid cycloalkyl esters such as tricyclobenthyl phosphate and cyclohexyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate And phosphoric acid aryl esters such as cresylphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, trinaphthyl phosphate, trixylyl phosphate, tris ortho-biphenyl phosphate. These substituents may be the same or different, and may be further substituted. Moreover, the mix of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group may be sufficient, and substituents may couple | bond together by the covalent bond.

またエチレンビス(ジメチルホスフェート)、ブチレンビス(ジエチルホスフェート)等のアルキレンビス(ジアルキルホスフェート)、エチレンビス(ジフェニルホスフェート)、プロピレンビス(ジナフチルホスフェート)等のアルキレンビス(ジアリールホスフェート)、フェニレンビス(ジブチルホスフェート)、ビフェニレンビス(ジオクチルホスフェート)等のアリーレンビス(ジアルキルホスフェート)、フェニレンビス(ジフェニルホスフェート)、ナフチレンビス(ジトルイルホスフェート)等のアリーレンビス(ジアリールホスフェート)等のリン酸エステルが挙げられる。これらの置換基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同士が共有結合で結合していてもよい。   Also alkylene bis (dialkyl phosphate) such as ethylene bis (dimethyl phosphate), butylene bis (diethyl phosphate), alkylene bis (diaryl phosphate) such as ethylene bis (diphenyl phosphate), propylene bis (dinaphthyl phosphate), phenylene bis (dibutyl phosphate) ), Arylene bis (dialkyl phosphate) such as biphenylene bis (dioctyl phosphate), phosphate esters such as arylene bis (diaryl phosphate) such as phenylene bis (diphenyl phosphate) and naphthylene bis (ditoluyl phosphate). These substituents may be the same or different, and may be further substituted. Moreover, the mix of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group may be sufficient, and substituents may couple | bond together by the covalent bond.

更にリン酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。上記化合物の中では、リン酸アリールエステル、アリーレンビス(ジアリールホスフェート)が好ましく、具体的にはトリフェニルホスフェート、フェニレンビス(ジフェニルホスフェート)が好ましい。   Furthermore, the partial structure of phosphate ester may be part of the polymer, or may be regularly pendant, and also introduced into part of the molecular structure of additives such as antioxidants, acid scavengers, UV absorbers, etc. May be. Among the above-mentioned compounds, phosphoric acid aryl ester and arylene bis (diaryl phosphate) are preferable, and specifically, triphenyl phosphate and phenylene bis (diphenyl phosphate) are preferable.

エチレングリコールエステル系の可塑剤:具体的には、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジブチレート等のエチレングリコールアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジシクロプロピルカルボキシレート、エチレングリコールジシクロヘキルカルボキシレート等のエチレングリコールシクロアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジベンゾエート、エチレングリコールジ4−メチルベンゾエート等のエチレングリコールアリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更にエチレングリコール部も置換されていてもよく、エチレングリコールエステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Ethylene glycol ester plasticizer: Specifically, ethylene glycol alkyl ester plasticizers such as ethylene glycol diacetate and ethylene glycol dibutyrate, ethylene glycol dicyclopropyl carboxylate, ethylene glycol dicyclohexyl carboxylate and the like Examples include ethylene glycol cycloalkyl ester plasticizers and ethylene glycol aryl ester plasticizers such as ethylene glycol dibenzoate and ethylene glycol di4-methylbenzoate. These alkylate groups, cycloalkylate groups, and arylate groups may be the same or different, and may be further substituted. Moreover, the mix of an alkylate group, a cycloalkylate group, and an arylate group may be sufficient, and these substituents may couple | bond together by the covalent bond. Further, the ethylene glycol part may be substituted, and the ethylene glycol ester partial structure may be part of the polymer or regularly pendant, and may be an antioxidant, an acid scavenger, an ultraviolet absorber, etc. It may be introduced into a part of the molecular structure of the additive.

グリセリンエステル系の可塑剤:具体的にはトリアセチン、トリブチリン、グリセリンジアセテートカプリレート、グリセリンオレートプロピオネート等のグリセリンアルキルエステル、グリセリントリシクロプロピルカルボキシレート、グリセリントリシクロヘキシルカルボキシレート等のグリセリンシクロアルキルエステル、グリセリントリベンゾエート、グリセリン4−メチルベンゾエート等のグリセリンアリールエステル、ジグリセリンテトラアセチレート、ジグリセリンテトラプロピオネート、ジグリセリンアセテートトリカプリレート、ジグリセリンテトララウレート、等のジグリセリンアルキルエステル、ジグリセリンテトラシクロブチルカルボキシレート、ジグリセリンテトラシクロペンチルカルボキシレート等のジグリセリンシクロアルキルエステル、ジグリセリンテトラベンゾエート、ジグリセリン3−メチルベンゾエート等のジグリセリンアリールエステル等が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更にグリセリン、ジグリセリン部も置換されていてもよく、グリセリンエステル、ジグリセリンエステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Glycerin ester plasticizers: Specifically, glycerol alkyl esters such as triacetin, tributyrin, glycerol diacetate caprylate, glycerol oleate propionate, and glycerin cycloalkyl esters such as glycerol tricyclopropyl carboxylate and glycerol tricyclohexyl carboxylate Glyceryl aryl esters such as glycerin tribenzoate and glycerin 4-methylbenzoate, diglycerin tetraacetylate, diglycerin tetrapropionate, diglycerin acetate tricaprylate, diglycerin alkyl esters such as diglycerin tetralaurate, di Diglycerides such as glycerin tetracyclobutylcarboxylate and diglycerin tetracyclopentylcarboxylate Emissions cycloalkyl esters, diglycerin tetrabenzoate, diglycerin aryl ester such as diglycerin 3-methylbenzoate or the like. These alkylate groups, cycloalkylcarboxylate groups, and arylate groups may be the same or different, and may be further substituted. Moreover, the mix of alkylate group, a cycloalkyl carboxylate group, and an arylate group may be sufficient, and these substituents may couple | bond together by the covalent bond. Furthermore, the glycerin and diglycerin part may be substituted, and the partial structure of the glycerin ester and diglycerin ester may be part of the polymer or regularly pendant, and may be an antioxidant or an acid scavenger. Or may be introduced into a part of the molecular structure of an additive such as an ultraviolet absorber.

多価アルコールエステル系の可塑剤:具体的には、特開2003−12823公報の段落番号[30]〜[33]に記載の多価アルコールエステル系可塑剤が挙げられる。   Polyhydric alcohol ester plasticizer: Specific examples include polyhydric alcohol ester plasticizers described in paragraphs [30] to [33] of JP-A No. 2003-12823.

これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更に多価アルコール部も置換されていてもよく、多価アルコールの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   These alkylate groups, cycloalkylcarboxylate groups, and arylate groups may be the same or different, and may be further substituted. Moreover, the mix of alkylate group, a cycloalkyl carboxylate group, and an arylate group may be sufficient, and these substituents may couple | bond together by the covalent bond. Furthermore, the polyhydric alcohol part may be substituted, and the partial structure of the polyhydric alcohol may be part of the polymer or regularly pendant, and may be an antioxidant, an acid scavenger, an ultraviolet absorber. May be introduced into a part of the molecular structure of the additive.

ジカルボン酸エステル系の可塑剤:具体的には、ジドデシルマロネート(C1)、ジオクチルアジペート(C4)、ジブチルセバケート(C8)等のアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロペンチルサクシネート、ジシクロヘキシルアジーペート等のアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルサクシネート、ジ4−メチルフェニルグルタレート等のアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジヘキシル−1,4−シクロヘキサンジカルボキシレート、ジデシルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロヘキシル−1,2−シクロブタンジカルボキシレート、ジシクロプロピル−1,2−シクロヘキシルジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニル−1,1−シクロプロピルジカルボキシレート、ジ2−ナフチル−1,4−シクロヘキサンジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロプロピルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルフタレート、ジ4−メチルフェニルフタレート等のアリールジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また一置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更にフタル酸の芳香環も置換されていて良く、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Dicarboxylic acid ester plasticizers: Specifically, alkyldocarboxylic acid alkyl ester plasticizers such as didodecyl malonate (C1), dioctyl adipate (C4), dibutyl sebacate (C8), dicyclopentyl succinate, Alkyl dicarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as dicyclohexyl adipate, alkyl dicarboxylic acid aryl ester plasticizers such as diphenyl succinate and di4-methylphenyl glutarate, dihexyl-1,4-cyclohexanedicarboxylate, Cycloalkyldicarboxylic acid alkyl ester plasticizers such as didecylbicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylate, dicyclohexyl-1,2-cyclobutanedicarboxylate, dicyclopropyl-1,2 Cycloalkyldicarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as cyclohexyl dicarboxylate, aryl cycloalkyldicarboxylates such as diphenyl-1,1-cyclopropyldicarboxylate, di2-naphthyl-1,4-cyclohexanedicarboxylate Ester plasticizers, aryl dicarboxylic acid alkyl ester plasticizers such as diethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate and di-2-ethylhexyl phthalate, and aryl dicarboxylic acid cycloalkyls such as dicyclopropyl phthalate and dicyclohexyl phthalate Examples include ester plasticizers and aryl dicarboxylic acid aryl ester plasticizers such as diphenyl phthalate and di4-methylphenyl phthalate. These alkoxy groups and cycloalkoxy groups may be the same or different, may be mono-substituted, and these substituents may be further substituted. The alkyl group and cycloalkyl group may be mixed, or these substituents may be bonded together by a covalent bond. Furthermore, the aromatic ring of phthalic acid may be substituted, and a multimer such as a dimer, trimer or tetramer may be used. Also, the partial structure of phthalate ester may be part of the polymer or regularly pendant to the polymer, and it may be part of the molecular structure of additives such as antioxidants, acid scavengers, and UV absorbers. It may be introduced.

多価カルボン酸エステル系の可塑剤:具体的には、トリドデシルトリカルバレート、トリブチル−meso−ブタン−1,2,3,4−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロヘキシルトリカルバレート、トリシクロプロピル−2−ヒドロキシ−1,2,3−プロパントリカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル2−ヒドロキシ−1,2,3−プロパントリカルボキシレート、テトラ3−メチルフェニルテトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、テトラヘキシル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート、テトラブチル−1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、テトラシクロプロピル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート、トリシクロヘキシル−1,3,5−シクロヘキシルトリカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル−1,3,5−シクロヘキシルトリカルボキシレート、ヘキサ4−メチルフェニル−1,2,3,4,5,6−シクロヘキシルヘキサカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、トリドデシルベンゼン−1,2,4−トリカルボキシレート、テトラオクチルベンゼン−1,2,4,5−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロペンチルベンゼン−1,3,5−トリカルボキシレート、テトラシクロヘキシルベンゼン−1,2,3,5−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤トリフェニルベンゼン−1,3,5−テトラカルトキシレート、ヘキサ4−メチルフェニルベンゼン−1,2,3,4,5,6−ヘキサカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また一置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更にフタル酸の芳香環も置換されていて良く、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Polycarboxylic acid ester plasticizers: Specifically, alkyl polycarboxylic acid alkyl ester plastics such as tridodecyl tricarbarate and tributyl-meso-butane-1,2,3,4-tetracarboxylate Agents, alkyl polyvalent carboxylic acid cycloalkyl ester type plasticizers such as tricyclohexyl tricarbarate, tricyclopropyl-2-hydroxy-1,2,3-propanetricarboxylate, triphenyl 2-hydroxy-1,2 Alkyl polycarboxylic acid aryl ester plasticizers such as 1,3-propanetricarboxylate, tetra-3-methylphenyltetrahydrofuran-2,3,4,5-tetracarboxylate, tetrahexyl-1,2,3,4 -Cyclobutane tetracarboxylate, tetrabutyl-1,2, 1,4-cyclopentanetetracarboxylate and other cycloalkyl polycarboxylic acid alkyl ester plasticizers, tetracyclopropyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylate, tricyclohexyl-1,3,5-cyclohexyl Cycloalkyl polycarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as tricarboxylate, triphenyl-1,3,5-cyclohexyl tricarboxylate, hexa-4-methylphenyl-1,2,3,4,5,6 -Cycloalkyl polycarboxylic acid aryl ester plasticizers such as cyclohexyl hexacarboxylate, tridodecylbenzene-1,2,4-tricarboxylate, tetraoctylbenzene-1,2,4,5-tetracarboxylate, etc. Aryl polycarboxylic acid Lester ester plasticizer, aryl polyvalent carboxylic acid cycloalkyl ester plasticizer tri such as tricyclopentylbenzene-1,3,5-tricarboxylate, tetracyclohexylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylate Aryl polycarboxylic acid aryl ester-based plasticizers such as phenylbenzene-1,3,5-tetracartoxylate and hexa-4-methylphenylbenzene-1,2,3,4,5,6-hexacarboxylate Can be mentioned. These alkoxy groups and cycloalkoxy groups may be the same or different, may be mono-substituted, and these substituents may be further substituted. The alkyl group and cycloalkyl group may be mixed, or these substituents may be bonded together by a covalent bond. Furthermore, the aromatic ring of phthalic acid may be substituted, and a multimer such as a dimer, trimer or tetramer may be used. Also, the partial structure of phthalate ester may be part of the polymer or regularly pendant to the polymer, and it may be part of the molecular structure of additives such as antioxidants, acid scavengers, and UV absorbers. It may be introduced.

ポリマー可塑剤:具体的には、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリN−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ4−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。数平均分子量は、1,000〜500,000程度が好ましく、特に好ましくは、5,000〜200,000である。1,000以下では揮発性に問題が生じ、500,000を超えると可塑化能力が低下し、セルロースエステル誘導体組成物の機械的性質に悪影響を及ぼす。これらポリマー可塑剤は1種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを2種以上併用して用いてもよく、他の可塑剤、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤、滑り剤及びマット剤等を含有させてもよい。   Polymer plasticizer: Specifically, aliphatic hydrocarbon polymer, alicyclic hydrocarbon polymer, acrylic polymer such as polyethyl acrylate and polymethyl methacrylate, polyvinyl isobutyl ether, poly N-vinyl pyrrolidone, etc. Examples include vinyl polymers, polystyrene, styrene polymers such as poly-4-hydroxystyrene, polybutylene succinate, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethers such as polyethylene oxide and polypropylene oxide, polyamides, polyurethanes, and polyureas. It is done. The number average molecular weight is preferably about 1,000 to 500,000, particularly preferably 5,000 to 200,000. If it is 1,000 or less, a problem arises in volatility, and if it exceeds 500,000, the plasticizing ability is lowered, which adversely affects the mechanical properties of the cellulose ester derivative composition. These polymer plasticizers may be a homopolymer composed of one type of repeating unit or a copolymer having a plurality of repeating structures. Two or more of the above polymers may be used in combination, and other plasticizers, antioxidants, acid scavengers, ultraviolet absorbers, slip agents, matting agents, and the like may be included.

これらの化合物の添加量は、可塑剤がフィルムを構成する樹脂に対して、0.5質量%以上〜50質量%未満の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1質量%以上〜30質量%未満の範囲、更に好ましくは1質量%以上〜15質量%未満の範囲にある。   The addition amount of these compounds is preferably used in the range of 0.5% by mass to less than 50% by mass, more preferably 1% by mass to 30% by mass with respect to the resin in which the plasticizer constitutes the film. %, More preferably in the range of 1% by weight to less than 15% by weight.

上記可塑剤の中でも熱溶融時に揮発成分を生成しないことが好ましい。具体的には特表平6−501040号に記載されている不揮発性リン酸エステルが挙げられ、例えばアリーレンビス(ジアリールホスフェート)エステルや上記例示化合物の中ではトリメチロールプロパントリベンゾエート等が好ましいがこれらに限定されるものではない。   Among the plasticizers, it is preferable that no volatile component is generated during heat melting. Specific examples include nonvolatile phosphate esters described in JP-A-6-501040. For example, among arylene bis (diaryl phosphate) esters and the above exemplified compounds, trimethylolpropane tribenzoate is preferable. It is not limited to.

揮発成分が上記可塑剤の熱分解起因の場合、上記可塑剤の熱分解温度Td−p(1.0)は、1.0質量%減少したときの温度と定義すると、フィルム形成材料の溶融温度よりも高いことが好ましい。可塑剤は、セルロースエステルに対する添加量が他のフィルム構成材料よりも多く、揮発成分の存在は得られるフィルムの品質に与える影響が大きいためである。熱分解温度Td−p(1.0)は、市販の示差熱重量分析(TG−DTA)装置で測定することができる。   When the volatile component is caused by thermal decomposition of the plasticizer, the thermal decomposition temperature Td-p (1.0) of the plasticizer is defined as the temperature at which the mass decreases by 1.0% by mass. Higher than that. This is because the amount of the plasticizer added to the cellulose ester is larger than that of other film constituent materials, and the presence of the volatile component has a great influence on the quality of the obtained film. The thermal decomposition temperature Td-p (1.0) can be measured with a commercially available differential thermogravimetric analysis (TG-DTA) apparatus.

更に後述する酸化防止剤、酸捕捉剤、光安定剤等の安定化剤についても同様で、フィルム構成材料に対して以下の関係を満たすことが、得られた透明フィルム基材の物性を満足する上で好ましい。当然のことながら溶融温度が、可塑剤、安定化剤の分解温度を上回ると、得られた透明フィルム基材の物性は低下する。   The same applies to stabilizers such as antioxidants, acid scavengers, and light stabilizers, which will be described later, and satisfying the following relationship with the film constituent materials satisfies the physical properties of the obtained transparent film substrate. Preferred above. As a matter of course, when the melting temperature exceeds the decomposition temperature of the plasticizer and stabilizer, the physical properties of the obtained transparent film substrate are lowered.

Tm<Td−p(1.0)
Tm<Td−a(1.0)
(式中、Tmは120℃以上250℃以下の温度で製膜したフィルム構成材料の溶融温度、Td−p(1.0)は可塑剤の1.0質量%減少したときの温度、Td−a(1.0)は安定化剤の1.0質量%減少したときの分解温度を表す。)
(酸化防止剤)
安定化剤である酸化防止剤について説明する。
Tm <Td-p (1.0)
Tm <Td-a (1.0)
(In the formula, Tm is a melting temperature of a film constituting material formed at a temperature of 120 ° C. or more and 250 ° C. or less, Td-p (1.0) is a temperature when 1.0% by mass of the plasticizer is reduced, Td− a (1.0) represents the decomposition temperature when the stabilizer is reduced by 1.0 mass%.)
(Antioxidant)
The antioxidant which is a stabilizer will be described.

酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、耐熱加工安定剤、酸素スカベンジャー等が挙げられ、これらの中でもフェノール系酸化防止剤、特にアルキル置換フェノール系酸化防止剤が好ましい。これらの酸化防止剤を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、成型時の熱や酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止できる。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、セルロースエステル100質量部に対して好ましくは0.001〜5質量部、より好ましくは0.01〜1質量部である。   Antioxidants include phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, heat-resistant processing stabilizers, oxygen scavengers, etc. Among them, phenolic antioxidants, particularly alkyl-substituted phenolic compounds Antioxidants are preferred. By blending these antioxidants, it is possible to prevent coloration or strength reduction of the molded product due to heat, oxidative degradation, or the like during molding without reducing transparency, heat resistance, and the like. These antioxidants can be used alone or in combination of two or more, and the blending amount thereof is appropriately selected within a range not impairing the object of the present invention, but with respect to 100 parts by mass of the cellulose ester. It is preferably 0.001 to 5 parts by mass, more preferably 0.01 to 1 part by mass.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第4,839,405号明細書の第12〜14欄に記載されており、2,6−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。   The hindered phenolic antioxidant compound is a known compound, and is described in, for example, columns 12 to 14 of U.S. Pat. No. 4,839,405, and includes a 2,6-dialkylphenol derivative compound. It is.

ヒンダードフェノール化合物の具体例には、n−オクタデシル=3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、n−オクタデシル=3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−アセテート、n−オクタデシル=3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、n−ヘキシル=3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、n−ドデシル=3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル=3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ドデシル=β(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、エチル=α−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシル=α−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシル=α−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−(n−オクチルチオ)エチル=3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(n−オクチルチオ)エチル=3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル=3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル=3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(2−ヒドロキシエチルチオ)エチル=3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコール=ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル=3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ステアルアミド−N,N−ビス−[エチレン=3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、n−ブチルイミノ−N,N−ビス−[エチレン=3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル=3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル=7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,2−プロピレングリコール=ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコール=ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ネオペンチルグリコール=ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコール=ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、グリセリン−l−n−オクタデカノエート−2,3−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、ペンタエリトリトール−テトラキス−[3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,1,1−トリメチロールエタン−トリス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ソルビトールヘキサ−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−ヒドロキシエチル=7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−ステアロイルオキシエチル=7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,6−n−ヘキサンジオール−ビス[(3′,5′−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリトリトール−テトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)が含まれる。上記タイプのヒンダードフェノール系酸化防止剤は、例えば、Ciba Specialty Chemicalsから、”Irganox1076”及び”Irganox1010”という商品名で市販されている。   Specific examples of the hindered phenol compound include n-octadecyl = 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate, n-octadecyl = 3- (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxyphenyl) -acetate, n-octadecyl = 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, n-hexyl = 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, n -Dodecyl = 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, neo-dodecyl = 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, dodecyl = β (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, ethyl = α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobuty Rate, octadecyl = α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobutyrate, octadecyl = α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2- (n-octylthio) ethyl = 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzoate, 2- (n-octylthio) ethyl = 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-phenylacetate 2- (n-octadecylthio) ethyl = 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate, 2- (n-octadecylthio) ethyl = 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy -Benzoate, 2- (2-hydroxyethylthio) ethyl = 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, diethyl glycol = bi Su- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-phenyl) propionate, 2- (n-octadecylthio) ethyl = 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate , Stearamide-N, N-bis- [ethylene = 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], n-butylimino-N, N-bis- [ethylene = 3- (3 , 5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2- (2-stearoyloxyethylthio) ethyl = 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate, 2- (2-stearoyl) Oxyethylthio) ethyl = 7- (3-methyl-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) heptanoate, 1,2-propylene glycol = bis- 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], ethylene glycol = bis- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], neopentyl Glycol = bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], ethylene glycol = bis- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate), glycerin -Ln-octadecanoate-2,3-bis- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylacetate), pentaerythritol-tetrakis- [3- (3 ', 5'-di -T-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate], 1,1,1-trimethylolethane-tris- [3- (3,5-di-t-butyl) -4-hydroxyphenyl) propionate], sorbitol hexa- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2-hydroxyethyl = 7- (3-methyl-5-t- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2-stearoyloxyethyl = 7- (3-methyl-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) heptanoate, 1,6-n-hexanediol-bis [(3 ′, 5'-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythritol-tetrakis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate). Hindered phenolic antioxidants of the above type are commercially available from Ciba Specialty Chemicals under the trade names “Irganox 1076” and “Irganox 1010”, for example.

その他の酸化防止剤としては、具体的には、トリスノニルフェニルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト等のリン系酸化防止剤、ジラウリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3′−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3′−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)等のイオウ系酸化防止剤、2−tert−ブチル−6−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3、5−ジ−tert−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−tert−ペンチルフェニルアクリレート等の耐熱加工安定剤、特公平08−27508記載の3,4−ジヒドロ−2H−1−ベンゾピラン系化合物、3,3′−スピロジクロマン系化合物、1,1−スピロインダン系化合物、モルホリン、チオモルホリン、チオモルホリンオキシド、チオモルホリンジオキシド、ピペラジン骨格を部分構造に有する化合物、特開平3−174150号記載のジアルコキシベンゼン系化合物等の酸素スカベンジャー等が挙げられる。これら酸化防止剤の部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよい。   Specific examples of other antioxidants include phosphorus antioxidants such as trisnonylphenyl phosphite, triphenyl phosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, and dilauryl-3. , 3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate, pentaerythrityltetrakis (3-laurylthiopropionate), etc. System antioxidant, 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2- [1- (2-hydroxy-3,5- Di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenyl acrylate 3,4-dihydro-2H-1-benzopyran compound, 3,3′-spirodichroman compound, 1,1-spiroindane compound, morpholine, thiomorpholine, thiomorpholine oxide, described in JP-B-08-27508, Examples include thiomorpholine dioxide, compounds having a piperazine skeleton in the partial structure, oxygen scavengers such as dialkoxybenzene compounds described in JP-A-3-174150, and the like. These antioxidant partial structures may be part of the polymer or regularly pendant to the polymer.

(酸捕捉剤)
セルロースエステルは高温下では酸によっても分解が促進されるため、本発明の透明フィルム基材においては安定化剤として酸捕捉剤を含有することが好ましい。
(Acid scavenger)
Since cellulose ester is also decomposed by acid at high temperatures, the transparent film substrate of the present invention preferably contains an acid scavenger as a stabilizer.

有用な酸捕捉剤としては、酸と反応して酸を不活性化する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも米国特許第4,137,201号明細書に記載されているエポキシ基を有する化合物が好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール1モル当たりに約8〜40モルのエチレンオキシドなどの縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテルなど、金属エポキシ化合物(例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの)、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(即ち、4,4′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン)、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル(特に、2〜22この炭素原子の脂肪酸の4〜2個程度の炭素原子のアルキルのエステル(例えば、ブチルエポキシステアレート)など)、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリドなど(例えば、エポキシ化大豆油など)の組成物によって代表され例示され得るエポキシ化植物油及び他の不飽和天然油(これらはときとしてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に12〜22個の炭素原子を含有している)が含まれる。また、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物として、EPON 815Cも好ましく用いることができる。   Any useful acid scavenger can be used without limitation as long as it is a compound that reacts with an acid to inactivate the acid. Among them, the epoxy group described in US Pat. No. 4,137,201 is particularly useful. A compound having is preferred. Epoxy compounds as such acid scavengers are known in the art and are derived by condensation of various polyglycol diglycidyl ethers, particularly about 8-40 moles of ethylene oxide per mole of polyglycol. Glycol, diglycidyl ether of glycerol, metal epoxy compounds (such as those conventionally used in and together with vinyl chloride polymer compositions), epoxidized ether condensation products, diphenols of bisphenol A Glycidyl ether (i.e., 4,4'-dihydroxydiphenyldimethylmethane), epoxidized unsaturated fatty acid ester (especially an ester of an alkyl of about 4 to 2 carbon atoms of a fatty acid of 2 to 22 carbon atoms (e.g. butyl Epoxy stearate And epoxidized vegetable oils and other unsaturated natural oils (sometimes these are epoxidized natural glycerides, which can be represented and exemplified by compositions of various epoxidized long chain fatty acid triglycerides and the like (eg, epoxidized soybean oil and the like) Or unsaturated fatty acids, which generally contain 12 to 22 carbon atoms). Moreover, EPON 815C can also be preferably used as a commercially available epoxy group-containing epoxide resin compound.

更に上記以外に用いることが可能な酸捕捉剤としては、オキセタン化合物やオキサゾリン化合物、或いはアルカリ土類金属の有機酸塩やアセチルアセトナート錯体、特開平5−194788号公報の段落68〜105に記載されているものが含まれる。   Furthermore, examples of acid scavengers that can be used other than the above include oxetane compounds, oxazoline compounds, organic earth salts of alkaline earth metals and acetylacetonate complexes, and paragraphs 68 to 105 of JP-A-5-194788. Is included.

尚酸捕捉剤は酸掃去剤、酸捕獲剤、酸キャッチャー等と称されることもあるが、本発明においてはこれらの呼称による差異なく用いることができる。   In addition, although an acid scavenger may be called an acid scavenger, an acid capture agent, an acid catcher etc., in this invention, it can use without a difference by these names.

(光安定剤)
透明フィルム基材には、外光や液晶ディスプレイのバックライトからの光に対する安定化剤として、ヒンダードアミン光安定剤(HALS)化合物が挙げられ、これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第4,619,956号明細書の第5〜11欄及び米国特許第4,839,405号明細書の第3〜5欄に記載されているように、2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン化合物、またはそれらの酸付加塩もしくはそれらと金属化合物との錯体が含等まれる。
(Light stabilizer)
Transparent film substrates include hindered amine light stabilizer (HALS) compounds as stabilizers for external light and light from backlights of liquid crystal displays, which are known compounds, for example, US Pat. No. 5,619,956 and US Pat. No. 4,839,405, columns 3-5, 2,2,6,6-tetraalkylpiperidine. Compounds, or their acid addition salts or complexes of them with metal compounds are included.

ヒンダードアミン光安定剤化合物の具体例には、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−アリル−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−ベンジル−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−(4−t−ブチル−2−ブテニル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−エチル−4−サリチロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−メタクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル−β(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、1−ベンジル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニルマレイネート(maleinate)、(ジ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−アジペート、(ジ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−セバケート、(ジ−1,2,3,6−テトラメチル−2,6−ジエチル−ピペリジン−4−イル)−セバケート、(ジ−1−アリル−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−4−イル)−フタレート、1−アセチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−アセテート、トリメリト酸−トリ−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)エステル、1−アクリロイル−4−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ジブチル−マロン酸−ジ−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−ピペリジン−4−イル)−エステル、ジベンジル−マロン酸−ジ−(1,2,3,6−テトラメチル−2,6−ジエチル−ピペリジン−4−イル)−エステル、ジメチル−ビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オキシ)−シラン,トリス−(1−プロピル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−ホスフィット、トリス−(1−プロピル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−ホスフェート,N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−ヘキサメチレン−1,6−ジアミン、N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−ヘキサメチレン−1,6−ジアセトアミド、1−アセチル−4−(N−シクロヘキシルアセトアミド)−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン、4−ベンジルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−N,N′−ジブチル−アジパミド、N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−N,N′−ジシクロヘキシル−(2−ヒドロキシプロピレン)、N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−p−キシリレン−ジアミン、4−(ビス−2−ヒドロキシエチル)−アミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、4−メタクリルアミド−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、α−シアノ−β−メチル−β−[N−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)]−アミノ−アクリル酸メチルエステル等が挙げられる。   Specific examples of hindered amine light stabilizer compounds include 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-allyl-4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-benzyl. -4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- (4-tert-butyl-2-butenyl) -4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-stearoyl Oxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-ethyl-4-salicyloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-methacryloyloxy-1,2,2,6 6-pentamethylpiperidine, 1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl-β (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate, -Benzyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl maleate, (di-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) -adipate, (di- 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) -sebacate, (di-1,2,3,6-tetramethyl-2,6-diethyl-piperidin-4-yl) -sebacate, (di -1-allyl-2,2,6,6-tetramethyl-piperidin-4-yl) -phthalate, 1-acetyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl-acetate, trimellitic acid- Tri- (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) ester, 1-acryloyl-4-benzyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, dibutyl-malonic acid-di -(1,2,2,6,6-pentamethyl-piperidin-4-yl) -ester, dibenzyl-malonic acid-di- (1,2,3,6-tetramethyl-2,6-diethyl-piperidine- 4-yl) -ester, dimethyl-bis- (2,2,6,6-tetramethylpiperidine-4-oxy) -silane, tris- (1-propyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine- 4-yl) -phosphite, tris- (1-propyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) -phosphate, N, N′-bis- (2,2,6,6- Tetramethylpiperidin-4-yl) -hexamethylene-1,6-diamine, N, N'-bis- (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) -hexamethylene-1,6- Diacetamide, 1-acetyl -4- (N-cyclohexylacetamide) -2,2,6,6-tetramethyl-piperidine, 4-benzylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, N, N'-bis- (2, 2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) -N, N'-dibutyl-adipamide, N, N'-bis- (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) -N , N'-dicyclohexyl- (2-hydroxypropylene), N, N'-bis- (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) -p-xylylene-diamine, 4- (bis-2 -Hydroxyethyl) -amino-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, 4-methacrylamide-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, α-cyano-β-methyl-β- [N- (2,2 6,6-tetramethyl-piperidin-4-yl)] - amino - and methyl acrylate and the like.

フィルム形成材料中の安定化剤は、少なくとも1種以上選択でき、添加する量は、セルロースエステルの質量に対して、光安定化剤の添加量は0.001質量%以上5質量%以下が好ましく、より好ましくは0.005質量%以上3質量%以下であり、更に好ましくは0.01質量%以上0.8質量%以下である。   At least one or more stabilizers in the film-forming material can be selected, and the amount added is preferably 0.001% by mass to 5% by mass with respect to the mass of the cellulose ester. More preferably, it is 0.005 mass% or more and 3 mass% or less, More preferably, it is 0.01 mass% or more and 0.8 mass% or less.

(紫外線吸収剤)
本発明のハードコートフィルムを液晶セルに対して視認側に用いる偏光子保護フィルムとして用いる場合には、更に紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤とは、製造後に使用される環境下で紫外線によってフィルムを構成する材料が分解することを防ぐ効果のある材料である。セルロースエステル自体は比較的紫外線に対して強い材料であるが、その他の添加剤については紫外線に対して弱い化合物である場合もあるし、偏光子や液晶セルも紫外線に対して弱いものであるため、少なくとも外光があたる側の偏光子保護フィルムや、液晶ディスプレイのバックライトが入射する側の偏光子保護フィルムに付いては紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
(UV absorber)
When the hard coat film of the present invention is used as a polarizer protective film used on the viewing side with respect to the liquid crystal cell, it is preferable to further contain an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber is a material having an effect of preventing the material constituting the film from being decomposed by ultraviolet rays in an environment used after production. Cellulose ester itself is a material that is relatively resistant to ultraviolet rays, but other additives may be compounds that are weak against ultraviolet rays, and polarizers and liquid crystal cells are also vulnerable to ultraviolet rays. In addition, it is preferable that at least the polarizer protective film on the side exposed to external light and the polarizer protective film on the side on which the backlight of the liquid crystal display is incident contain an ultraviolet absorber.

このような紫外線吸収剤としては、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましく、特に好ましくはベンゾトリアゾール系化合物である。また、特開平10−182621号公報、特開平8−337574号公報記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。   As such an ultraviolet absorber, from the viewpoint of preventing deterioration of a polarizer and a display device with respect to ultraviolet rays, the ultraviolet absorber has an excellent ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less, and from the viewpoint of liquid crystal display properties, visible light having a wavelength of 400 nm or more. Those that absorb less are preferred. Examples include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, triazine compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, and the like. Triazole compounds are preferable, and benzotriazole compounds are particularly preferable. Moreover, you may use the ultraviolet absorber of Unexamined-Japanese-Patent No. 10-182621, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-337574, and the polymeric ultraviolet absorber of Unexamined-Japanese-Patent No. 6-148430.

有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。   Specific examples of useful benzotriazole ultraviolet absorbers include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl). ) Benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′-(3 ″, 4 ″, 5 ″, 6 ″ -tetrahydrophthalimidomethyl) -5′-methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis ( 4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2'-hydro Cis-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy Examples include, but are not limited to, a mixture of -5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate.

また、市販品として、チヌビン(TINUVIN)109、チヌビン(TINUVIN)171、チヌビン(TINUVIN)234、チヌビン(TINUVIN)360(何れもチバ・ジャパン社製)を用いることもできる。   As commercially available products, TINUVIN 109, TINUVIN 171, TINUVIN 234, and TINUVIN 360 (all manufactured by Ciba Japan) may be used.

ベンゾフェノン系化合物の具体例として、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニル)メタン等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of benzophenone compounds include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy- 5-benzoylphenyl) methane and the like can be mentioned, but are not limited thereto.

本発明においては、紫外線吸収剤は0.1〜20質量%添加することが好ましく、更に0.5〜10質量%添加することが好ましく、更に1〜5質量%添加することが好ましい。これらは2種以上を併用してもよい。   In the present invention, the ultraviolet absorber is preferably added in an amount of 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, and further preferably 1 to 5% by mass. Two or more of these may be used in combination.

(マット剤)
透明フィルム基材は、滑り性を付与するためにマット剤等の微粒子を添加することができ、微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。マット剤はできるだけ微粒子のものが好ましく、微粒子としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることができる。中でも、二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを低くできるので好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下できるため好ましい。
(Matting agent)
The transparent film substrate can be added with fine particles such as a matting agent in order to impart slipperiness, and examples of the fine particles include inorganic compound fine particles and organic compound fine particles. The matting agent is preferably as fine as possible. Examples of the fine particles include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, Examples thereof include inorganic fine particles such as magnesium silicate and calcium phosphate, and crosslinked polymer fine particles. Among these, silicon dioxide is preferable because it can reduce the haze of the film. In many cases, fine particles such as silicon dioxide are surface-treated with an organic material, but such a material is preferable because it can reduce the haze of the film.

表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。また、微粒子の二次粒子の平均粒径は0.05〜1.0μmの範囲である。好ましい微粒子の二次粒子の平均粒径は5〜50nmが好ましく、更に好ましくは、7〜14nmである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、セルロースエステルフィルム表面に0.01〜1.0μmの凹凸を生成させる為に好ましく用いられる。微粒子のセルロースエステル中の含有量はセルロースエステルに対して0.005〜0.3質量%が好ましい。   Preferred organic substances for the surface treatment include halosilanes, alkoxysilanes, silazane, siloxane and the like. The larger the average particle size of the fine particles, the greater the sliding effect, and the smaller the average particle size, the better the transparency. The average particle size of the secondary particles of the fine particles is in the range of 0.05 to 1.0 μm. The average particle size of secondary particles of the fine particles is preferably 5 to 50 nm, more preferably 7 to 14 nm. These fine particles are preferably used in the cellulose ester film in order to generate irregularities of 0.01 to 1.0 μm on the surface of the cellulose ester film. The content of the fine particles in the cellulose ester is preferably 0.005 to 0.3% by mass with respect to the cellulose ester.

二酸化ケイ素の微粒子としては、日本アエロジル(株)製のアエロジル(AEROSIL)200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812、OX50、TT600等を挙げることができ、好ましくはアエロジル200V、R972、R972V、R974、R202、R812である。これらの微粒子は2種以上併用してもよい。2種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば、アエロジル200VとR972Vを質量比で0.1:99.9〜99.9:0.1の範囲で使用できる。   Examples of the fine particles of silicon dioxide include Aerosil 200, 200V, 300, R972, R972V, R974, R202, R812, OX50, TT600 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., preferably Aerosil 200V, R972. , R972V, R974, R202, R812. Two or more kinds of these fine particles may be used in combination. When using 2 or more types together, it can mix and use in arbitrary ratios. In this case, fine particles having different average particle sizes and materials, for example, Aerosil 200V and R972V can be used in a mass ratio of 0.1: 99.9 to 99.9: 0.1.

上記マット剤として用いられるフィルム中の微粒子の存在は、別の目的としてフィルムの強度向上のために用いることもできる。また、フィルム中の上記微粒子の存在は、本発明の透明フィルム基材を構成するセルロースエステル自身の配向性を向上することも可能である。   The presence of fine particles in the film used as the matting agent can be used for another purpose to improve the strength of the film. In addition, the presence of the fine particles in the film can improve the orientation of the cellulose ester constituting the transparent film substrate of the present invention.

(製膜)
透明フィルム基材は、例えばセルロースエステル及び添加剤の混合物を、熱風乾燥または真空乾燥した後、溶融押出し、Tダイよりフィルム状に押出して、50〜150℃に温調されたロールで引取ることが好ましい。このとき2本のロールでニップすることが平面性向上の観点から好ましい。
(Film formation)
For the transparent film substrate, for example, a mixture of a cellulose ester and an additive is hot-air dried or vacuum dried, then melt-extruded, extruded into a film form from a T-die, and taken up by a roll adjusted to a temperature of 50 to 150 ° C. Is preferred. At this time, nipping with two rolls is preferable from the viewpoint of improving flatness.

溶融押出しは、一軸押出し機、二軸押出し機、更に二軸押出し機の下流に一軸押出し機を連結して用いてもよいが、前述した添加剤を均一分散する観点から二軸押出し機を用いることが好ましい。更に、原料タンク、原料の投入部、押出し機内といった原料の供給、溶融工程を、窒素ガス等の不活性ガスで置換、或いは減圧することが好ましい。   For melt extrusion, a single screw extruder, a twin screw extruder, or a single screw extruder may be connected downstream of the twin screw extruder, but a twin screw extruder is used from the viewpoint of uniformly dispersing the aforementioned additives. It is preferable. Furthermore, it is preferable to replace or depressurize the raw material supply and melting processes such as the raw material tank, the raw material charging section, and the inside of the extruder with an inert gas such as nitrogen gas.

前記溶融押出し時の温度はTg以上、Tg+100℃以下の範囲であることが好ましい。更にTg+10℃以上、Tg+90℃以下の範囲であることが好ましい。   The temperature during the melt extrusion is preferably in the range of Tg or more and Tg + 100 ° C. or less. Furthermore, it is preferable that it is the range of Tg + 10 degreeC or more and Tg + 90 degreeC or less.

本発明の透明フィルム基材を偏光板保護フィルムとして偏光板を作製した場合、該セルロースエステルフィルムは、幅手方向もしくは製膜方向に延伸製膜されたフィルムであることが特に好ましい。   When a polarizing plate is produced using the transparent film substrate of the present invention as a polarizing plate protective film, the cellulose ester film is particularly preferably a film stretched in the width direction or the film forming direction.

前述の冷却ロールから剥離され、得られた未延伸フィルムを複数のロール群及び/または赤外線ヒーター等の加熱装置を介してセルロースエステルのガラス転移温度(Tg)−50℃からTg+100℃の範囲内に加熱し、一段または多段縦延伸することが好ましい。次に、上記のようにして得られた縦方向に延伸されたセルロースエステルフィルムを、Tg−50℃〜Tg+100℃の温度範囲内で横延伸し、次いで熱固定することが好ましい。   The unstretched film peeled from the cooling roll described above is brought into the glass transition temperature (Tg) -50 ° C. to Tg + 100 ° C. of the cellulose ester via a plurality of roll groups and / or a heating device such as an infrared heater. It is preferable to heat and stretch in one or more stages. Next, it is preferable that the cellulose ester film stretched in the longitudinal direction obtained as described above is transversely stretched within a temperature range of Tg-50 ° C to Tg + 100 ° C and then heat-set.

横延伸する場合、2つ以上に分割された延伸領域で温度差を1〜50℃の範囲で順次昇温しながら横延伸すると、幅方向の物性の分布が低減でき好ましい。更に横延伸後、フィルムをその最終横延伸温度以下でTg−40℃以上の範囲に0.01〜5分間保持すると幅方向の物性の分布が更に低減でき好ましい。   In the case of transverse stretching, it is preferable to perform transverse stretching while sequentially raising the temperature difference in the range of 1 to 50 ° C. in a stretching region divided into two or more, because the distribution of physical properties in the width direction can be reduced. Further, after the transverse stretching, it is preferable that the film is held at a temperature of Tg-40 ° C. or higher at a temperature equal to or lower than the final transverse stretching temperature for 0.01 to 5 minutes because the distribution of physical properties in the width direction can be further reduced.

熱固定は、その最終横延伸温度より高温で、Tg−20℃以下の温度範囲内で通常0.5〜300秒間熱固定する。この際、2つ以上に分割された領域で温度差を1〜100℃の範囲で順次昇温しながら熱固定することが好ましい。   In the heat setting, heat setting is usually performed for 0.5 to 300 seconds at a temperature higher than the final transverse stretching temperature and within a temperature range of Tg-20 ° C or lower. At this time, it is preferable to heat-fix while sequentially raising the temperature difference in the range of 1 to 100 ° C. in the region divided into two or more.

熱固定されたフィルムは通常Tg以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Tg以上の温度範囲内で、横方向及び/または縦方向に0.1〜10%弛緩処理することが好ましい。また冷却は、最終熱固定温度からTgまでを、毎秒100℃以下の冷却速度で徐冷することが好ましい。冷却、弛緩処理する手段は特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数の温度領域で順次冷却しながらこれらの処理を行うことがフィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。尚、冷却速度は、最終熱固定温度をT1、フィルムが最終熱固定温度からTgに達するまでの時間をtとしたとき、(T1−Tg)/tで求めた値である。   The heat-set film is usually cooled to Tg or less, and clip holding portions at both ends of the film are cut and wound. At this time, it is preferable to perform a relaxation treatment of 0.1 to 10% in the horizontal direction and / or the vertical direction within the temperature range of the final heat setting temperature or lower and Tg or higher. In addition, it is preferable that the cooling is gradually performed from the final heat setting temperature to Tg at a cooling rate of 100 ° C. or less per second. Means for cooling and relaxation treatment are not particularly limited, and can be performed by a conventionally known means. In particular, it is preferable to carry out these treatments while sequentially cooling in a plurality of temperature ranges from the viewpoint of improving the dimensional stability of the film. The cooling rate is a value obtained by (T1−Tg) / t, where T1 is the final heat setting temperature and t is the time until the film reaches Tg from the final heat setting temperature.

これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件のより最適な条件は、フィルムを構成するセルロースエステルにより異なるので、得られた二軸延伸フィルムの物性を測定し、好ましい特性を有するように適宜調整することにより決定すればよい。   More optimal conditions of these heat setting conditions, cooling, and relaxation treatment conditions vary depending on the cellulose ester constituting the film, so the physical properties of the obtained biaxially stretched film should be measured and adjusted appropriately to have desirable characteristics. It may be determined by.

製膜工程において、カットされたフィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料としてまたは異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。   In the film forming process, the clip gripping portions at both ends of the cut film are pulverized or granulated as necessary, and then used as a film material of the same product type or as a film material of a different product type. It may be reused.

前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロース樹脂を含む組成物を共押出しして、積層構造のセルロースエステルフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層/コア層/スキン層といった構成のセルロースエステルフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多く入れることができ、コア層のみに入れてもよい。また、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えば、スキン層に低揮発性の可塑剤及び/または紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。スキン層とコア層のTgが異なっていてもよく、スキン層のTgよりコア層のTgが低いことが好ましい。また、溶融流延時のセルロースエステルを含む溶融物の粘度もスキン層とコア層で異なっていてもよく、スキン層の粘度>コア層の粘度でも、コア層の粘度≧スキン層の粘度でもよい。   A cellulose ester film having a laminated structure can also be produced by co-extruding compositions containing cellulose resins having different additive concentrations such as the above-mentioned plasticizer, ultraviolet absorber and matting agent. For example, a cellulose ester film having a structure of skin layer / core layer / skin layer can be produced. For example, the matting agent can be contained in the skin layer in a large amount or only in the skin layer. The plasticizer and the ultraviolet absorber can be contained in the core layer more than the skin layer, and may be contained only in the core layer. In addition, the type of plasticizer and ultraviolet absorber can be changed between the core layer and the skin layer. For example, the skin layer contains a low-volatile plasticizer and / or an ultraviolet absorber, and the core layer has excellent plasticity. It is also possible to add a plasticizer or an ultraviolet absorber excellent in ultraviolet absorption. The Tg of the skin layer and the core layer may be different, and the Tg of the core layer is preferably lower than the Tg of the skin layer. Also, the viscosity of the melt containing the cellulose ester during melt casting may be different between the skin layer and the core layer, and the viscosity of the skin layer> the viscosity of the core layer or the viscosity of the core layer ≧ the viscosity of the skin layer may be used.

本発明のハードコートフィルムは偏光板保護フィルム用として用いることが好ましい。偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたハードコートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液を用いて、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを貼り合わせる方法があり、少なくとも片面に本発明のハードコートフィルムが偏光子に直接貼合することが好ましい。   The hard coat film of the present invention is preferably used for a polarizing plate protective film. When using as a polarizing plate protective film, the manufacturing method of a polarizing plate is not specifically limited, It can manufacture by a general method. The obtained hard coat film was treated with an alkali, and a polyvinyl alcohol film was immersed and stretched in an iodine solution, and a polarizer protective film was attached to both sides of the polarizer using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution on both sides of the polarizer. There is a method of matching, and it is preferable that the hard coat film of the present invention is directly bonded to the polarizer on at least one side.

透明フィルム基材は、表面粗さRaが1μm以下であることが好ましい。Raが1μmより大きいと、前述した各種機能層を設けた場合に表面が凹凸になったり、凸状欠陥として残ったりして、平滑性、光沢感が損なわれることがある。Raを1μm以下にするためには、溶融押出し直後の引取りロールや延伸ロールの表面を鏡面としたり、ロールで引取った直後に鏡面ロール同士でニップしたり、タテ及びまたはヨコ延伸の温度、倍率、延伸速度を適切に選定することで達成される。また、溶融押出しダイのリップエッヂをシャープ化したり、ダイ内部の溶融樹脂と接触する面を鏡面化することもRaを低減するのに有効である。   The transparent film substrate preferably has a surface roughness Ra of 1 μm or less. When Ra is larger than 1 μm, when the above-described various functional layers are provided, the surface may become uneven or remain as convex defects, and smoothness and gloss may be impaired. In order to reduce Ra to 1 μm or less, the surface of the take-up roll and the drawing roll immediately after melt extrusion is made into a mirror surface, or the surface of the take-up roll immediately after being taken by the roll is nipped between the mirror surface rolls, This is achieved by appropriately selecting the magnification and the stretching speed. It is also effective to reduce Ra by sharpening the lip edge of the melt-extrusion die or mirroring the surface in contact with the molten resin inside the die.

本発明のハードコートフィルムを偏光板保護フィルムとした場合、該保護フィルムの厚さは10〜500μmが好ましい。特に20μm以上、更に35μm以上が好ましい。また、150μm以下、更に120μm以下が好ましい。特に好ましくは25以上〜90μmが好ましい。上記領域よりもハードコートフィルムが厚いと偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的には適さない。一方、上記領域よりも薄いと、リターデーションの発現が困難となること、フィルムの透湿性が高くなり偏光子に対して湿度から保護する能力が低下してしまうために好ましくない。   When the hard coat film of the present invention is a polarizing plate protective film, the thickness of the protective film is preferably 10 to 500 μm. In particular, it is preferably 20 μm or more, and more preferably 35 μm or more. Moreover, 150 micrometers or less, Furthermore 120 micrometers or less are preferable. Most preferably, it is 25 or more and 90 micrometers. If the hard coat film is thicker than the above region, the polarizing plate after polarizing plate processing becomes too thick, so that it is not suitable for the purpose of thin and light in liquid crystal displays used for notebook personal computers and mobile electronic devices. On the other hand, if it is thinner than the above-mentioned region, it is not preferable because it becomes difficult to develop retardation, the moisture permeability of the film becomes high, and the ability to protect the polarizer from humidity decreases.

《偏光板》
本発明のハードコートフィルムを用いた偏光板について述べる。
"Polarizer"
A polarizing plate using the hard coat film of the present invention will be described.

偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明のハードコートフィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理したハードコートフィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面に該ハードコートフィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明のハードコートフィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、20〜70nm、Rtが100〜400nmの位相差を有する光学補償フィルム(位相差フィルム)を用いることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957号、特願2002−155395号記載の方法で作製することができる。または、更にディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348号記載の方法で光学異方性層を形成することができる。或いは、特開2003−12859号記載のリターデーションRoが590nmで0〜5nm、Rtが−20〜+20nmの無配向フィルムも好ましく用いられる。   The polarizing plate can be produced by a general method. The back surface side of the hard coat film of the present invention is subjected to alkali saponification treatment, and a completely hardened polyvinyl alcohol aqueous solution is used on at least one surface of a polarizing film prepared by immersing and stretching the treated hard coat film in an iodine solution. It is preferable to bond them together. The hard coat film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. With respect to the hard coat film of the present invention, the polarizing plate protective film used on the other surface has an in-plane retardation Ro of 590 nm, an optical compensation film having a phase difference of 20 to 70 nm and Rt of 100 to 400 nm. It is preferable to use a retardation film. These can be prepared, for example, by the methods described in JP-A No. 2002-71957 and Japanese Patent Application No. 2002-155395. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. Alternatively, a non-oriented film having a retardation Ro of 590 nm of 0 to 5 nm and an Rt of -20 to +20 nm described in JP-A No. 2003-12859 is also preferably used.

本発明のハードコートフィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。   By using in combination with the hard coat film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.

裏面側に用いられる偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルムとして、KC8UX2MW、KC4UX、KC5UX、KC4UY、KC8UY、KC12UR、KC4UEW、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC8UCR−5、KC4FR−1、KC4FR−2、KC8UE、KC4UE(コニカミノルタオプト(株)製)等が好ましく用いられる。   As a polarizing plate protective film used on the back side, as a commercially available cellulose ester film, KC8UX2MW, KC4UX, KC5UX, KC4UY, KC8UY, KC12UR, KC4UEW, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5, KC4FR-1, KC4F-1, -2, KC8UE, KC4UE (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) and the like are preferably used.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるがこれのみに限定されるものではない。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜の膜厚は5〜30μm、好ましくは8〜15μmの偏光膜が好ましく用いられる。該偏光膜の面上に、本発明のハードコートフィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are ones in which iodine is dyed on a system film and ones in which a dichroic dye is dyed, but it is not limited to this. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. A polarizing film having a thickness of 5 to 30 μm, preferably 8 to 15 μm, is preferably used. On the surface of the polarizing film, one side of the hard coat film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

《表示装置》
本発明のハードコートフィルムを用いて作製した偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することができる。
<Display device>
By incorporating a polarizing plate produced using the hard coat film of the present invention into a display device, the display device of the present invention having various visibility can be produced.

本発明のハードコートフィルムは前記偏光板に組み込まれ、反射型、透過型、半透過型LCDまたはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型、OCB型等の各種駆動方式の液晶表示装置で好ましく用いられる。   The hard coat film of the present invention is incorporated in the polarizing plate, and is a reflective type, transmissive type, transflective type LCD or TN type, STN type, OCB type, HAN type, VA type (PVA type, MVA type), IPS type, It is preferably used in various drive-type liquid crystal display devices such as OCB type.

また、本発明のハードコートフィルムは耐傷性、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。   In addition, the hard coat film of the present invention is excellent in scratch resistance and flatness, and is preferably used in various display devices such as a plasma display, a field emission display, an organic EL display, an inorganic EL display, and electronic paper.

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
〔セルロースエステルフィルムの作製〕
(セルロースエステルC1の合成)
特表平6−501040号公報の例Bを参考にして、プロピオン酸、酢酸の添加量を調整して、アセチル基置換度、プロピオニル基置換度を下記のように調整したセルロースエステルC1を合成した。
Example 1
[Production of cellulose ester film]
(Synthesis of cellulose ester C1)
With reference to Example B of JP-T-6-501040, the amount of propionic acid and acetic acid was adjusted to synthesize cellulose ester C1 with the acetyl group substitution degree and propionyl group substitution degree adjusted as follows. .

C1:アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.7、総アシル基置換度2.60
得られたセルロースエステルの置換度は、ASTM−D817−96に基づいて算出した。セルロースエステルC1の重量平均分子量は、前記高速液体クロマトグラフィーを用いて測定した結果130000であった。
C1: acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.7, total acyl group substitution degree 2.60
The substitution degree of the obtained cellulose ester was calculated based on ASTM-D817-96. The weight average molecular weight of the cellulose ester C1 was 130,000 as a result of measurement using the high performance liquid chromatography.

(セルロースエステルフィルム1の作製)
下記組成で、溶融流延によりセルロースエステルフィルム1を作製した。
(Preparation of cellulose ester film 1)
Cellulose ester film 1 was produced by melt casting with the following composition.

〈セルロースエステルフィルム1組成物〉
セルロースエステル:C1 94質量部
可塑剤:グリセリントリベンゾエート 5質量部
Irganox 1010(チバ・ジャパン社製) 0.5質量部
Irgafos P−EPG(チバ・ジャパン社製) 0.3質量部
HP−136(チバ・ジャパン社製) 0.2質量部
上記セルロースエステルを70℃、3時間減圧下で乾燥を行い室温まで冷却した後、各添加剤を混合した。
<Cellulose ester film 1 composition>
Cellulose ester: C1 94 parts by mass Plasticizer: Glycerin tribenzoate 5 parts by mass Irganox 1010 (manufactured by Ciba Japan) 0.5 part by mass Irgafos P-EPG (manufactured by Ciba Japan) 0.3 part by mass HP-136 ( 0.2 parts by mass The above cellulose ester was dried under reduced pressure at 70 ° C. for 3 hours and cooled to room temperature, and then each additive was mixed.

以上の混合物を弾性タッチロールを用いた製造装置で製膜した。窒素雰囲気下、240℃にて溶融して流延ダイから第1冷却ロール上に押し出し、第1冷却ロールとタッチロールとの間にフィルムを挟圧して成形した。また押出し機中間部のホッパー開口部から、滑り剤としてシリカ粒子(日本アエロジル社製)を、0.1質量部となるよう添加した。   The above mixture was formed into a film by a manufacturing apparatus using an elastic touch roll. In a nitrogen atmosphere, it was melted at 240 ° C., extruded from the casting die onto the first cooling roll, and molded by pressing the film between the first cooling roll and the touch roll. Further, silica particles (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) were added as a slip agent from the hopper opening in the middle of the extruder so as to be 0.1 part by mass.

流延ダイのギャップの幅がフィルムの幅方向端部から30mm以内では0.5mm、その他の場所では1mmとなるようにヒートボルトを調整した。タッチロールとしては、その内部に冷却水として80℃の水を流した。   The heat bolt was adjusted so that the gap width of the casting die was 0.5 mm within 30 mm from the end in the width direction of the film and 1 mm at other locations. As a touch roll, 80 degreeC water was poured as cooling water in the inside.

流延ダイから押し出された樹脂が第1冷却ロールに接触する位置P1から第1冷却ロールとタッチロールとのニップの第1冷却ロール回転方向上流端の位置P2までの、第1冷却ローラの周面に沿った長さLを20mmに設定した。その後、タッチロールを第1冷却ロールから離間させ、第1冷却ロールとタッチロールとのニップに挟圧される直前の溶融部の温度Tを測定した。第1冷却ロールとタッチロールとのニップに挟圧される直前の溶融部の温度Tは、ニップ上流端P2よりも更に1mm上流側の位置で、温度計(安立計器株式会社製HA−200E)により測定した。測定の結果、温度Tは141℃であった。タッチロールの第1冷却ロールに対する線圧は14.7N/cmとした。更に、テンターに導入し、巾方向に160℃で1.3倍延伸した後、巾方向に3%緩和しながら30℃まで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落とし、フィルム両端に幅10mm、高さ5μmのナーリング加工を施し、巻き取り張力220N/m、テーパー40%で巻芯に巻き取った。巻芯の大きさは、内径152mm、外径165〜180mm、長さ1550mmであった。この巻芯母材として、エポキシ樹脂をガラス繊維、カーボン繊維に含浸させたプリプレグ樹脂を用いた。巻芯表面にはエポキシ導電性樹脂をコーティングし、表面を研磨して、表面粗さRaは0.3μmに仕上げた。なお、膜厚は80μm、巻長は3500mとし、セルロースエステルフィルム1を作製した。   The circumference of the first cooling roller from the position P1 where the resin extruded from the casting die contacts the first cooling roll to the position P2 at the upstream end in the first cooling roll rotation direction of the nip between the first cooling roll and the touch roll. The length L along the surface was set to 20 mm. Thereafter, the touch roll was separated from the first cooling roll, and the temperature T of the melted part immediately before being sandwiched in the nip between the first cooling roll and the touch roll was measured. The temperature T of the melted part immediately before being squeezed by the nip between the first cooling roll and the touch roll is a thermometer (HA-200E manufactured by Anritsu Keiki Co., Ltd.) at a position 1 mm upstream from the nip upstream end P2. It was measured by. As a result of the measurement, the temperature T was 141 ° C. The linear pressure of the touch roll against the first cooling roll was 14.7 N / cm. Furthermore, after being introduced into a tenter and stretched 1.3 times at 160 ° C in the width direction, it was cooled to 30 ° C while relaxing 3% in the width direction, then released from the clip, the clip gripping part was cut off, and both ends of the film Was subjected to a knurling process with a width of 10 mm and a height of 5 μm, and wound on a winding core with a winding tension of 220 N / m and a taper of 40%. The winding core had an inner diameter of 152 mm, an outer diameter of 165 to 180 mm, and a length of 1550 mm. A prepreg resin obtained by impregnating glass fibers and carbon fibers with an epoxy resin was used as the core material for the core. The surface of the core was coated with an epoxy conductive resin, the surface was polished, and the surface roughness Ra was finished to 0.3 μm. In addition, the film thickness was 80 micrometers and the winding length was 3500 m, and the cellulose-ester film 1 was produced.

〔ハードコートフィルムの作製〕
(ハードコートフィルム1の作製)
上記のセルロースエステルフィルム1を用いて、下記手順によりハードコートフィルム1を作製した。
[Production of hard coat film]
(Preparation of hard coat film 1)
Using the cellulose ester film 1 described above, a hard coat film 1 was prepared according to the following procedure.

上記のセルロースエステルフィルム1上に、下記のハードコート層塗布組成物1を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、図1の装置を用いてマイクログラビアコーターを用いて塗布し、70℃で乾燥後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm、照射量を0.1J/cmとして塗布層を硬化させ、ドライ膜厚9μmのハードコート層を形成した後、引き続き下記バックコート層塗布組成物1をウェット膜厚10μmとなるように、ハードコート層を塗布した面とは反対の面に押し出しコーターで塗布し、乾燥させ、ハードコートフィルム1を作製し巻き取った。 On the cellulose ester film 1, the following hard coat layer coating composition 1 is filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a hard coat layer coating solution, and a microgravure coater using the apparatus of FIG. After irradiating at 70 ° C. and purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0% by volume or less, the illuminance of the irradiated part is 100 mW / cm 2 and the irradiation amount is 0 with an ultraviolet lamp. After the coating layer was cured at 0.1 J / cm 2 to form a hard coat layer with a dry film thickness of 9 μm, the hard coat layer was subsequently applied so that the following back coat layer coating composition 1 had a wet film thickness of 10 μm. The surface opposite to the surface was coated with an extrusion coater and dried to produce a hard coat film 1 and wound up.

ハードコートフィルム1は、図1の加熱処理ゾーン7を通したが、加熱処理せず(室温:25℃)、また搬送張力も成り行き(200N/m)で行った。   The hard coat film 1 passed through the heat treatment zone 7 of FIG. 1, but was not subjected to the heat treatment (room temperature: 25 ° C.), and the conveyance tension was also appropriate (200 N / m).

〈ハードコート層組成物1〉
(フッ素−シロキサングラフトポリマー1の調製)
以下、フッ素−シロキサングラフトポリマー1の調製に用いた素材の市販品名を示す。
<Hard coat layer composition 1>
(Preparation of fluorine-siloxane graft polymer 1)
Hereinafter, commercially available product names of materials used for preparing the fluorine-siloxane graft polymer 1 are shown.

セフラルコートCF−803(水酸基価60、数平均分子量15,000;セントラル硝子株式会社製)
サイラプレーンFM−0721(数平均分子量5,000;チッソ株式会社製)
パーブチルO(t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート;日本油脂株式会社製)
スミジュールN3200(ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット型プレポリマー;住友バイエルウレタン株式会社製)
〔ラジカル重合性フッ素樹脂(A)の合成〕
機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、セフラルコートCF−803(1554質量部)、キシレン(233質量部)、及び2−イソシアナトエチルメタクリレート(6.3質量部)を入れ、乾燥窒素雰囲気下で80℃に加熱した。80℃で2時間反応し、サンプリング物の赤外吸収スペクトルによりイソシアネートの吸収が消失したことを確認した後、反応混合物を取り出し、ウレタン結合を介して50質量%のラジカル重合性フッ素樹脂(A)を得た。
Cefalcoat CF-803 (hydroxyl value 60, number average molecular weight 15,000; manufactured by Central Glass Co., Ltd.)
Silaplane FM-0721 (number average molecular weight 5,000; manufactured by Chisso Corporation)
Perbutyl O (t-butylperoxy-2-ethylhexanoate; manufactured by NOF Corporation)
Sumidur N3200 (hexuremethylene diisocyanate biuret type prepolymer; manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.)
[Synthesis of radical polymerizable fluororesin (A)]
In a glass reactor equipped with a mechanical stirrer, thermometer, condenser and dry nitrogen gas inlet, cefal coat CF-803 (1554 parts by mass), xylene (233 parts by mass), and 2-isocyanatoethyl methacrylate (6 3 parts by mass) and heated to 80 ° C. in a dry nitrogen atmosphere. After reacting at 80 ° C. for 2 hours and confirming that the absorption of isocyanate disappeared by the infrared absorption spectrum of the sample, the reaction mixture was taken out and 50% by mass of radically polymerizable fluororesin (A) via a urethane bond. Got.

次いで、機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、上記合成したラジカル重合性フッ素樹脂(A)(26.1質量部)、キシレン(19.5質量部)、酢酸n−ブチル(16.3質量部)、メチルメタクリレート(2.4質量部)、n−ブチルメタクリレート(1.8質量部)、ラウリルメタクリレート(1.8質量部)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(1.8質量部)、FM−0721(5.2質量部)、及びパーブチルO(0.1質量部)を入れ、窒素雰囲気中で90℃まで加熱した後、90℃で2時間保持した。パーブチルO(0.1部)を追加し、更に90℃で5時間保持することによって、重量平均分子量が171000である35質量%フッ素−シロキサングラフトポリマー1の溶液を得た。   Next, the above synthesized radical polymerizable fluororesin (A) (26.1 parts by mass), xylene (19.5 parts) were added to a glass reactor equipped with a mechanical stirrer, a thermometer, a condenser and a dry nitrogen gas inlet. Parts by weight), n-butyl acetate (16.3 parts by weight), methyl methacrylate (2.4 parts by weight), n-butyl methacrylate (1.8 parts by weight), lauryl methacrylate (1.8 parts by weight), 2- Hydroxyethyl methacrylate (1.8 parts by mass), FM-0721 (5.2 parts by mass), and perbutyl O (0.1 parts by mass) were added and heated to 90 ° C. in a nitrogen atmosphere. Held for hours. Perbutyl O (0.1 part) was added, and the solution was further maintained at 90 ° C. for 5 hours to obtain a 35 mass% fluorine-siloxane graft polymer 1 solution having a weight average molecular weight of 171,000.

重量平均分子量はGPCにより求めた。またフッ素−シロキサングラフトポリマー1の質量%はHPLC(液体クロマトグラフィー)により求めた。   The weight average molecular weight was determined by GPC. The mass% of the fluorine-siloxane graft polymer 1 was determined by HPLC (liquid chromatography).

下記材料を攪拌・混合し、ハードコート層塗布組成物1とした。   The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer coating composition 1.

(多官能アクリレート)
ペンタエリスリトールトリアクリレート 20質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 50質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 30質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 30質量部
(光重合開始剤)
イルガキュア184(チバ・ジャパン社製) 5質量部
イルガキュア907(チバ・ジャパン社製) 10質量部
(添加剤)
フッ素−シロキサングラフトポリマー1(35質量%) 5質量部
ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート) 2.5質量部
(溶媒)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
酢酸メチル 20質量部
アセトン 20質量部
メチルエチルケトン 60質量部
シクロヘキサノン 20質量部
〈バックコート層塗布組成物1〉
ジアセチルセルロース 0.6質量部
アセトン 35質量部
メチルエチルケトン 35質量部
メタノール 35質量部
シリカ粒子の2%メタノール分散液(KE−P30、日本触媒株式会社製)
16質量部
〔ハードコートフィルム2〜5の作製〕
ハードコートフィルム1と同様にして、表1に記載の条件で、図1の加熱処理ゾーン7における加熱処理条件、張力を変化させ、ハードコートフィルムフィルム2〜5を作製した。
(Polyfunctional acrylate)
Pentaerythritol triacrylate 20 parts by mass Pentaerythritol tetraacrylate 50 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate 30 parts by mass Dipentaerythritol pentaacrylate 30 parts by mass (photopolymerization initiator)
Irgacure 184 (Ciba Japan) 5 parts by mass Irgacure 907 (Ciba Japan) 10 parts by mass (additive)
Fluorine-siloxane graft polymer 1 (35% by mass) 5 parts by mass Pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate) 2.5 parts by mass (solvent)
Propylene glycol monomethyl ether 10 parts by weight Methyl acetate 20 parts by weight Acetone 20 parts by weight Methyl ethyl ketone 60 parts by weight Cyclohexanone 20 parts by weight <Backcoat layer coating composition 1>
Diacetyl cellulose 0.6 parts by weight Acetone 35 parts by weight Methyl ethyl ketone 35 parts by weight Methanol 35 parts by weight A 2% methanol dispersion of silica particles (KE-P30, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)
16 parts by mass [Production of hard coat films 2 to 5]
Similarly to the hard coat film 1, under the conditions described in Table 1, the heat treatment conditions and tension in the heat treatment zone 7 of FIG. 1 were changed to produce hard coat film films 2 to 5.

〔ハードコートフィルム6〜20の作製〕
ハードコートフィルム1と同様にして製造、巻き取ったハードコートフィルムを、図2の加熱処理室Aにて、表1記載のように加熱処理温度、加熱処理時間、昇温温度、降温温度を変化させ、ハードコートフィルム6〜20を作製した。
[Preparation of hard coat films 6-20]
In the heat treatment chamber A of FIG. 2, the heat treatment temperature, the heat treatment time, the temperature rise temperature, and the temperature fall temperature of the hard coat film produced and wound in the same manner as the hard coat film 1 are changed as shown in Table 1. Hard coat films 6 to 20 were produced.

〔ハードコートフィルム21、22の作製〕
ハードコートフィルム3と同様にして図1の加熱処理ゾーン7で加熱処理を行い、引き続き、表1記載の条件で図2の加熱処理室Aにて加熱処理を行い、ハードコートフィルム21、22を作製した。
[Production of hard coat films 21 and 22]
The heat treatment is performed in the heat treatment zone 7 of FIG. 1 in the same manner as the hard coat film 3, and then the heat treatment is performed in the heat treatment chamber A of FIG. Produced.

〔ハードコートフィルム23の作製〕
図1の加熱処理ゾーン7の替わりに、図3で示す加熱処理可能なテンター装置を用いてフィルムを搬送させ、フィルムの幅手方向に0.1%の延伸を行いながら、表1に記載の条件で加熱処理を行い、ハードコートフィルムフィルム23を作製した。
[Preparation of hard coat film 23]
Instead of the heat treatment zone 7 in FIG. 1, the film is conveyed using a tenter device capable of heat treatment shown in FIG. 3, and stretched by 0.1% in the width direction of the film. Heat treatment was performed under conditions to produce a hard coat film 23.

上記作製したハードコートフィルム1〜23にハードコート層を塗布後、硬化皮膜のカールが生じないか、目視検査にて判定したところ、いずれのフィルムもカールの発生が見られなかった。   After applying the hard coat layer to the hard coat films 1 to 23 produced as described above, it was determined by visual inspection whether the cured film was curled. As a result, no curl was observed in any of the films.

Figure 0005309677
Figure 0005309677

《ハードコートフィルムの評価》
作製したハードコートフィルム1〜23を用いて以下の評価を実施した。
<< Evaluation of hard coat film >>
The following evaluation was implemented using produced hard coat films 1-23.

(耐傷性)
ハードコートフィルムに23℃、55%RHの環境下で、#0000のスチールウール(SW)に200g/cmの荷重をかけ、10往復したときの1cm幅当たりの傷の本数を測定した。なお、傷の本数は荷重をかけた部分の中で最も傷の本数の多い所で測定する。10本/cm以下であれば実用上問題ないが、5本/cm以下が好ましく、3本/cm以下が更に好ましい。
(Scratch resistance)
A load of 200 g / cm 2 was applied to # 0000 steel wool (SW) in an environment of 23 ° C. and 55% RH on the hard coat film, and the number of scratches per 1 cm width when 10 reciprocations were measured. In addition, the number of scratches is measured at a place where the number of scratches is the largest among the portions where the load is applied. If it is 10 / cm or less, there is no practical problem, but 5 / cm or less is preferable, and 3 / cm or less is more preferable.

(ブロッキング性の評価)
巻き取ったロールからハードコートフィルムを繰り出す際のブロッキングの発生度合いを下記基準にて目視で評価した。
(Evaluation of blocking properties)
The degree of occurrence of blocking when the hard coat film was unwound from the wound roll was visually evaluated according to the following criteria.

◎:ブロッキングなし
○:軽い剥離音がする程度でサンプルに跡、変形がない
△:変形はないがサンプルに少し跡が残る
×:変形がありサンプルに凹凸が残る
評価結果を下記表2に示す。
◎: No blocking ○: There is no trace or deformation on the sample to the extent that a light peeling sound is made Δ: There is no deformation, but a trace remains on the sample ×: There is deformation and irregularities remain on the sample Evaluation results are shown in Table 2 below .

Figure 0005309677
Figure 0005309677

表2の結果から、本発明の製造方法で作製したハードコートフィルムは、カール耐性に優れ、更に耐傷性(高硬度)、ブロッキング性に優れていることが分かる。その中でも光照射後の加熱温度を60℃以上、80℃以上、更には120℃以上と高温化すること、また加熱処理工程において、搬送方向に250N/m〜500N/mの張力を付与させることで、特に優れた上記効果を発揮することが分かる。   From the results in Table 2, it can be seen that the hard coat film produced by the production method of the present invention is excellent in curling resistance, and further excellent in scratch resistance (high hardness) and blocking property. Among them, the heating temperature after light irradiation is increased to 60 ° C. or higher, 80 ° C. or higher, and further 120 ° C. or higher, and in the heat treatment process, a tension of 250 N / m to 500 N / m is applied in the conveying direction. Thus, it can be seen that the above-described particularly excellent effect is exhibited.

実施例2
〔反射防止フィルム1〜23の作製〕
次いで、実施例1で作製したハードコートフィルム1〜23上に、下記高屈折率層塗布液1を塗布し、更にその上に低屈折率層塗布液1を塗布し乾燥させた後、120℃で5分間熱硬化させ、更に紫外線を照射して硬化させ、厚さ120nmの高屈折率層及び厚さ85nmの低屈折率層を設けロール状に巻き取った後、次いで、60℃で5日間加熱エージング処理して反射防止フィルム1〜23を作製した。高屈折率層の屈折率は1.60、低屈折率層の屈折率は1.38であった。低屈折率層の表面の中心線平均粗さ(Ra)は100nm以下で、平滑であった。
Example 2
[Preparation of antireflection films 1 to 23]
Next, the following high refractive index layer coating solution 1 was applied onto the hard coat films 1 to 23 produced in Example 1, and further the low refractive index layer coating solution 1 was applied thereon and dried, followed by 120 ° C. And then cured by irradiating with ultraviolet rays, and a high refractive index layer having a thickness of 120 nm and a low refractive index layer having a thickness of 85 nm are provided and wound into a roll, and then at 60 ° C. for 5 days. Anti-reflection films 1 to 23 were produced by heat aging treatment. The refractive index of the high refractive index layer was 1.60, and the refractive index of the low refractive index layer was 1.38. The center line average roughness (Ra) of the surface of the low refractive index layer was 100 nm or less and was smooth.

(高屈折率層塗布液1)
テトラ(n)ブトキシチタン 3質量部
導電性ITO微粒子(ELCOM V2504、ITOゾル、固形分20質量%、触媒化成製) 200質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(マトリックス) 50質量部
イルガキュア184(光重合開始剤) 3質量部
γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン(信越化学社製KBM503)
8質量部
ポリ−n−ブチルメタクリレート(マトリックス) 5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 720質量部
イソプロピルアルコール 1470質量部
メチルエチルケトン(MEK) 250質量部
〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン58gとエタノール114gを混合し、これに酢酸水溶液(1%)を60g添加した後に、25℃で1時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製した。
(低屈折率層塗布液1)
テトラエトキシシラン加水分解物A 59.5質量部
下記シリカ系微粒子P−1 35質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製、KBM503)
5質量部
FZ−2222(日本ユニカー製、10%プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液) 0.5質量部
イソプロピルアルコール 500質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME) 300質量部
メチルエチルケトン(MEK) 100質量部
〈シリカ系微粒子P−1の調製〉
平均粒径5nm、SiO濃度20質量%のシリカゾル100gと純水1900gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiOとして0.98質量%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gとAlとして1.02質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO・Al核粒子分散液を調製した。(工程(a))
この核粒子分散液500gに純水1700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO濃度3.5質量%)3000gを添加して第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。(工程(b))
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、更に濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO・Al多孔質粒子の分散液を調製した(工程(c))。上記多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1,750g及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO28質量%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第2シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系微粒子(P−1)の分散液を調製した。
(High refractive index layer coating solution 1)
Tetra (n) butoxytitanium 3 parts by weight Conductive ITO fine particles (ELCOM V2504, ITO sol, solid content 20% by weight, manufactured by Catalytic Chemical) 200 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate (matrix) 50 parts by weight Irgacure 184 (initiating photopolymerization) Agent) 3 parts by mass γ-methacryloxypropylmethoxysilane (KBM503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
8 parts by mass Poly-n-butyl methacrylate (matrix) 5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether (PGME) 720 parts by mass Isopropyl alcohol 1470 parts by mass Methyl ethyl ketone (MEK) 250 parts by mass <Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A>
Tetraethoxysilane hydrolyzate A was prepared by mixing 58 g of tetraethoxysilane and 114 g of ethanol and adding 60 g of an acetic acid aqueous solution (1%) thereto, followed by stirring at 25 ° C. for 1 hour.
(Low refractive index layer coating solution 1)
Tetraethoxysilane hydrolyzate A 59.5 parts by mass The following silica-based fine particles P-1 35 parts by mass γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM503)
5 parts by mass FZ-2222 (Nihon Unicar, 10% propylene glycol monomethyl ether solution) 0.5 parts by mass Isopropyl alcohol 500 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether (PGME) 300 parts by mass Methyl ethyl ketone (MEK) 100 parts by mass <Silica-based fine particles Preparation of P-1>
A mixture of 100 g of silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a SiO 2 concentration of 20% by mass and 1900 g of pure water was heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor was 10.5, and 9000 g of 0.98 mass% sodium silicate aqueous solution as SiO 2 and 9000 g of 1.02 mass% sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 were simultaneously added to the mother liquor. did. Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition and hardly changed thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a SiO 2 .Al 2 O 3 core particle dispersion having a solid content concentration of 20% by mass. (Process (a))
1700 g of pure water is added to 500 g of this core particle dispersion and heated to 98 ° C., and while maintaining this temperature, a silicate solution (SiO 2) obtained by dealkalizing a sodium silicate aqueous solution with a cation exchange resin. A dispersion of core particles in which 3000 g (concentration of 3.5% by mass) was added to form a first silica coating layer was obtained. (Process (b))
Next, 1125 g of pure water is added to 500 g of the core particle dispersion liquid that has been washed with an ultrafiltration membrane to form a first silica coating layer having a solid content concentration of 13% by mass, and concentrated hydrochloric acid (35.5%) is further added dropwise. The pH was adjusted to 1.0 and dealumination was performed. Next, the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane is separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water, and SiO 2 · Al in which some of the constituent components of the core particles forming the first silica coating layer are removed. A dispersion of 2 O 3 porous particles was prepared (step (c)). A mixture of 1500 g of the above porous particle dispersion, 500 g of pure water, 1,750 g of ethanol, and 626 g of 28% ammonia water is heated to 35 ° C., and then 104 g of ethyl silicate (SiO 2 28 mass%) is added, The surface of the porous particles on which the first silica coating layer was formed was coated with a hydrolyzed polycondensate of ethyl silicate to form a second silica coating layer. Next, a dispersion of silica-based fine particles (P-1) having a solid content concentration of 20% by mass in which the solvent was replaced with ethanol using an ultrafiltration membrane was prepared.

この中空シリカ系微粒子の第1シリカ被覆層の厚さは3nm、平均粒径は47nm、MOx/SiO(モル比)は0.0017、屈折率は1.28であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。 The thickness of the first silica coating layer of the hollow silica-based fine particles was 3 nm, the average particle size was 47 nm, MOx / SiO 2 (molar ratio) was 0.0017, and the refractive index was 1.28. Here, the average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method.

(反射色むら)
目視により反射色むらを下記基準で評価した。
(Reflective color unevenness)
The reflected color unevenness was visually evaluated according to the following criteria.

◎:反射光の色調変化が認められない
○:ごく一部に反射光の色調変化が認められる(面積の10%未満)
△:部分的に反射光の色調変化が認められる(面積の10%以上30%未満)
×:全体的に反射光の色調変化が認められる
結果を表2に示したが、本発明のハードコートフィルムを用いて作製した反射防止フィルムは、優れた反射色むら性を示すことが分かった。
◎: Change in color tone of reflected light is not recognized ○: Change in color tone of reflected light is recognized in a small part (less than 10% of area)
Δ: Partial change in color of reflected light is recognized (10% or more and less than 30% of area)
X: Change in color tone of reflected light was observed as a whole. The results are shown in Table 2, but it was found that the antireflection film produced using the hard coat film of the present invention showed excellent unevenness in reflected color. .

実施例3
下記の方法に従って、ハードコートフィルム1、14、19を用いて作製した反射防止フィルム1、14、19と位相差フィルムであるコニカミノルタタックKC8UCR−3(コニカミノルタオプト(株)製)、各々1枚を偏光板保護フィルムとして用いて偏光板を作製した。
Example 3
In accordance with the following method, antireflection films 1, 14, and 19 produced using hard coat films 1, 14, and 19 and Konica Minolta Tack KC8UCR-3 (made by Konica Minolta Opto Co., Ltd.), each of which is a retardation film, each 1 A polarizing plate was produced using the sheet as a polarizing plate protective film.

(a)偏光膜の作製
厚さ120μmの長尺のポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gの比率からなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gの比率からなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し長尺の偏光膜を得た。
(A) Production of Polarizing Film A long polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide, and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution at 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid, and 100 g of water. . This was washed with water and dried to obtain a long polarizing film.

(b)偏光板の作製
次いで、下記工程1〜5に従って、偏光膜と偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて偏光板を作製した。
(B) Production of Polarizing Plate Next, according to the following Steps 1 to 5, the polarizing film and the polarizing plate protective film were bonded together to produce a polarizing plate.

工程1:反射防止フィルム、及びKC8UCR−3を2mol/Lの水酸化ナトリウム溶液に60℃で90秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。反射防止フィルムの反射防止層を設けた面には予め剥離性の保護フィルム(PET製)を張り付けて保護した。   Step 1: The antireflection film and KC8UCR-3 were immersed in a 2 mol / L sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water and dried. A surface of the antireflection film provided with the antireflection layer was previously protected with a peelable protective film (PET).

工程2:前述の偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒間浸漬した。   Process 2: The above-mentioned polarizing film was immersed for 1 to 2 seconds in the polyvinyl alcohol adhesive tank of 2 mass% of solid content.

工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、それを工程1でアルカリ処理したKC8UCR−3と反射防止フィルムで挟み込んで、積層配置した。   Step 3: Excess adhesive adhered to the polarizing film in Step 2 was lightly removed, and it was sandwiched between KC8UCR-3 that had been subjected to alkali treatment in Step 1 and an antireflection film, and laminated.

工程4:2つの回転するローラにて20〜30N/cmの圧力で約2m/minの速度で貼り合わせた。このとき気泡が入らないように注意して実施した。 Process 4: It bonded together by the speed of about 2 m / min with the pressure of 20-30 N / cm < 2 > with the two rotating rollers. At this time, care was taken to prevent bubbles from entering.

工程5:80℃の乾燥機中にて工程4で作製した試料を2分間乾燥処理し、偏光板を作製した。   Step 5: The sample prepared in Step 4 in a dryer at 80 ° C. was dried for 2 minutes to prepare a polarizing plate.

市販の液晶表示パネル(NEC製 カラー液晶ディスプレイ MultiSync LCD1525J:型名 LA−1529HM)の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた上記偏光板を、反射防止フィルムが表面側になるように張り付け液晶表示装置を作製した。   The polarizing plate on the outermost surface of a commercially available liquid crystal display panel (NEC color liquid crystal display MultiSync LCD1525J: model name LA-1529HM) is carefully peeled off, and the polarizing plate with the polarization direction aligned is placed on the surface side with the antireflection film A liquid crystal display device was produced by pasting in this manner.

評価の結果、比較例の反射防止フィルム1を使用したものに比して、本発明の反射防止フィルム14、19を使用した液晶表示装置は視認性、色調、表示性ともに良好であった。   As a result of the evaluation, the liquid crystal display device using the antireflection films 14 and 19 of the present invention was superior in visibility, color tone, and displayability as compared with the comparative example using the antireflection film 1 of the comparative example.

実施例4
実施例1のハードコート層塗布組成物1を下記防眩性ハードコート層塗布液に変更した以外はまったく同様にして、防眩性ハードコートフィルム1〜23を作製し、耐傷性、ブロッキング性を評価したところ、実施例1を再現し、優れた耐傷性、ブロッキング性を有していた。防眩性ハードコートフィルム表面の中心線平均粗さRaは各々120nmであった。中心線平均粗さRaは、JIS B 0601に規定された数値であり、非接触表面微細形状計測装置WYKO NT−2000を用いて測定した。
Example 4
Except that the hard coat layer coating composition 1 of Example 1 was changed to the following antiglare hard coat layer coating solution, the antiglare hard coat films 1 to 23 were produced, and the scratch resistance and blocking properties were improved. When evaluated, Example 1 was reproduced and had excellent scratch resistance and blocking properties. The center line average roughness Ra on the surface of the antiglare hard coat film was 120 nm. The center line average roughness Ra is a numerical value defined in JIS B 0601, and was measured using a non-contact surface fine shape measuring device WYKO NT-2000.

更に、実施例2、3と同様にして防眩性ハードコートフィルム1〜23を用いて、防眩性反射防止フィルム、及びこれを用いた偏光板、液晶表示装置を作製したところ、本発明の防眩性ハードコートフィルムを用いた液晶表示装置は、良好な視認性、色調、表示性と共に、優れた防眩性も有していた。   Furthermore, using the antiglare hard coat films 1 to 23 in the same manner as in Examples 2 and 3, an antiglare antireflection film, a polarizing plate using the same, and a liquid crystal display device were produced. The liquid crystal display device using the antiglare hard coat film had excellent antiglare properties as well as good visibility, color tone, and display properties.

(防眩性ハードコート層塗布液)
アセトン 45質量部
酢酸エチル 45質量部
PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル) 10質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート 30質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 45質量部
ウレタンアクリレート(商品名U−4HA、新中村化学工業社製) 25質量部
フッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子(根上工業製、平均粒径3.5μm)
20質量部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(イルガキュア184、チバ・ジャパン社製) 5質量部
2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モノフォリノ−1−オン(イルガキュア907、チバ・ジャパン社製) 3質量部
BYK−331(シリコーン界面活性剤、ビックケミージャパン(株)製)
0.5質量部
(Anti-glare hard coat layer coating solution)
Acetone 45 parts by weight Ethyl acetate 45 parts by weight PGME (propylene glycol monomethyl ether) 10 parts by weight Pentaerythritol triacrylate 30 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate 45 parts by weight Urethane acrylate (trade name U-4HA, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 25 Part by mass Fluorine-containing polymethyl methacrylate fine particles (Negami Kogyo Co., Ltd., average particle size 3.5 μm)
20 parts by mass 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) 5 parts by mass 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-monoforino-1-one (Irgacure 907) 3 parts by weight BYK-331 (silicone surfactant, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.)
0.5 parts by mass

本発明に係る活性光線照射後に連続して加熱処理する工程を示した概略図である。It is the schematic which showed the process of heat-processing continuously after active light irradiation which concerns on this invention. 本発明に係る巻き取り後のハードコートフィルムロールを加熱処理室Aで加熱処理する概略図である。It is the schematic which heat-processes the hard coat film roll after winding which concerns on this invention in the heat processing chamber A. FIG. 実施例で用いたテンター装置の模式図である。It is a schematic diagram of the tenter apparatus used in the examples.

符号の説明Explanation of symbols

Y 長尺フィルム
1 繰り出しロール
2 搬送ローラー
3 押出しコータ
4 対向ロール
5 乾燥ゾーン
6 活性光線照射ランプユニット
6a 空冷活性光線ランプ
6b 空冷用Air通風口
6c N用供給チャンバー
7 加熱ゾーン
8 巻き取り室
9 巻き取りロール
10 温風吹き出し口
12 移動可能な台車
15 巻き取りコア
A 加熱処理室
Y elongated film 1 feed roll 2 transport roller 3 extrusion coater 4 counter roll 5 drying zones 6 active ray irradiation lamp unit 6a cooling actinic ray lamps 6b air-cooling Air vents 6c N 2 for supplying the chamber 7 heating zones 8 take-up chamber 9 Winding roll 10 Hot air outlet 12 Movable carriage 15 Winding core A Heat treatment chamber

Claims (6)

ハードコート層形成材料を透明フィルム基材上に塗工してハードコートフィルムを作製するハードコートフィルムの製造方法において、ハードコート層形成材料が多官能アクリレートを少なくとも1種含有し、かつ塗工工程が少なくとも塗布、乾燥、光照射、及び光照射後60℃以上で加熱処理をする工程からなり、
前記加熱処理をする工程は、前記光照射後にロール状に巻き取られた後に行われるものであり、
前記加熱処理をする工程における加熱温度が0.3〜5℃/時間で昇温されることを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
In a method for producing a hard coat film in which a hard coat layer forming material is coated on a transparent film substrate to produce a hard coat film, the hard coat layer forming material contains at least one polyfunctional acrylate, and a coating step Comprises at least coating, drying, light irradiation, and heat treatment at 60 ° C. or higher after light irradiation,
The step of performing the heat treatment is performed after being wound into a roll after the light irradiation,
The method for producing a hard coat film, wherein the heating temperature in the heat treatment step is raised at a rate of 0.3 to 5 ° C / hour.
前記加熱処理をする工程が80℃以上の加熱処理であることを特徴とする請求項1に記載のハードコートフィルムの製造方法。 The method for producing a hard coat film according to claim 1, wherein the heat treatment step is a heat treatment at 80 ° C. or higher. 前記加熱処理をする工程が120℃以上の加熱処理であることを特徴とする請求項2に記載のハードコートフィルムの製造方法。 The method for producing a hard coat film according to claim 2, wherein the heat treatment step is a heat treatment at 120 ° C. or higher. 前記加熱処理をする工程の加熱温度が0.3〜5℃/時間で降温されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。 The method for producing a hard coat film according to any one of claims 1 to 3, wherein the heating temperature in the heat treatment step is lowered at 0.3 to 5 ° C / hour. 前記透明フィルム基材がセルロースエステルフィルムであることを特徴とする請求項1〜のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。 The said transparent film base material is a cellulose-ester film, The manufacturing method of the hard coat film of any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 前記セルロースエステルフィルムが溶融流延製膜法で作製されることを特徴とする請求項に記載のハードコートフィルムの製造方法。 6. The method for producing a hard coat film according to claim 5 , wherein the cellulose ester film is produced by a melt casting film forming method.
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