JP4935393B2 - Antireflection film, and polarizing plate and display device using the same - Google Patents

Antireflection film, and polarizing plate and display device using the same Download PDF

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Description

本発明は反射防止フィルム、及びそれを用いた偏光板、表示装置に関する。   The present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate using the same, and a display device.

近年、薄型軽量ノートパソコンや薄型で大画面のTVの開発が進み、それに伴って、表示装置で用いられる表面保護フィルムや偏光板の保護フィルムもますます薄膜化、大型化、高性能化への要求が強くなってきている。特に、視認性向上のために反射防止層を設けたり、また表面を凹凸にして反射光を散乱させる防眩層を付与した機能性フィルムを用いた表示装置(例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等)が多く使用されるようになってきた。   In recent years, the development of thin and light notebook PCs and thin and large-screen TVs has progressed, and along with this, surface protective films and protective films for polarizing plates used in display devices have become increasingly thinner, larger, and higher in performance. The demand is getting stronger. In particular, a display device (for example, a liquid crystal display, a plasma display, etc.) using a functional film provided with an anti-reflection layer for improving visibility, or provided with an anti-glare layer with an uneven surface to scatter reflected light. Has come to be used a lot.

反射防止層は用途に応じて様々な種類や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々の前面板を液晶ディスプレイの偏光子等に貼り合わせることで、ディスプレイに視認性向上のための反射防止機能を付与する方法が用いられている。(例えば、特許文献1参照。)これら前面板として用いる光学用フィルムには、塗布、蒸着法またはスパッタ法等で形成した反射防止層が設けられることが多い。   Various types of antireflection layers have been improved in performance and performance, and various types of front plates with these functions are bonded to liquid crystal display polarizers, etc. to improve the visibility of the display. A method of imparting a function is used. (For example, refer to Patent Document 1.) These optical films used as the front plate are often provided with an antireflection layer formed by coating, vapor deposition, sputtering, or the like.

しかしながら反射防止フィルムを構成する金属酸化物層を塗設する場合に、筋状の塗布ムラが生じ易くその改善が求められていた。特に基材フィルムの幅が1.4m以上の広幅になると塗布ムラが生じ易くなり、その改善が求められていた。   However, when the metal oxide layer constituting the antireflection film is applied, streaky coating unevenness is likely to occur, and improvement thereof has been demanded. In particular, when the width of the base film is 1.4 m or more, coating unevenness is likely to occur, and improvement thereof has been demanded.

また、同様に反射防止層の色ムラ等も広幅化すると目立ちやすくなり、その改善が求められていた。
特開2002−182005号公報
Similarly, the color unevenness of the antireflection layer becomes conspicuous when it is widened, and the improvement thereof has been demanded.
JP 2002-182005 A

従って本発明の目的は、広幅の反射防止フィルムであっても、筋状の塗布ムラや反射色のムラの改善された反射防止フィルム、及びそれを用いた偏光板、表示装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an antireflection film having improved stripe-like coating unevenness and reflected color unevenness, and a polarizing plate and a display device using the same even with a wide antireflection film. is there.

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.透明樹脂フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層、及び反射防止層を有する反射防止フィルムにおいて、少なくとも1つの層がイオン液体を含有し、
前記反射防止層が高屈折率層を有し、該高屈折率層がイオン液体を含有し、
前記高屈折率層の屈折率が1.5〜2.2であることを特徴とする反射防止フィルム。
1. In the antireflection film having a hard coat layer and an antireflection layer on at least one surface of the transparent resin film, at least one layer contains an ionic liquid ,
The antireflective layer has a high refractive index layer, the high refractive index layer contains an ionic liquid;
The antireflective film, wherein the high refractive index layer has a refractive index of 1.5 to 2.2 .

2.前記反射防止層が低屈折率層を有し、該低屈折率層が中空シリカ系微粒子を含有することを特徴とする前記1に記載の反射防止フィルム。   2. 2. The antireflection film as described in 1 above, wherein the antireflection layer has a low refractive index layer, and the low refractive index layer contains hollow silica-based fine particles.

.前記1または2に記載の反射防止フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に貼合したことを特徴とする偏光板。 3 . A polarizing plate, wherein the antireflection film according to 1 or 2 is bonded to at least one surface of a polarizer.

.前記1または2に記載の反射防止フィルム、または前記に記載の偏光板を用いることを特徴とする表示装置。 4 . 3. A display device comprising the antireflection film described in 1 or 2 or the polarizing plate described in 3 above.

本発明により、広幅の反射防止フィルムであっても、筋状の塗布ムラや反射色のムラの改善された反射防止フィルム、及びそれを用いた偏光板、表示装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an antireflection film with improved striped coating unevenness and uneven reflection color, and a polarizing plate and a display device using the same even if it is a wide antireflection film.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明の反射防止フィルムは、透明樹脂フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層、及び反射防止層を有し、少なくとも1つの層がイオン液体を含有することを特徴とする。   The antireflection film of the present invention has a hard coat layer and an antireflection layer on at least one surface of a transparent resin film, and at least one layer contains an ionic liquid.

本発明で用いられるイオン液体とは、融点が常温よりも低く常温で液体の塩類であり、常温とは、25℃を意味する。本発明では、ハードコート層、及び反射防止層の少なくとも1つの層に、好ましくは好ましくは0.01〜30質量%、より好ましくは0.1〜20質量%、さらに好ましくは0.5〜10質量%含有されることにより、筋状の塗布ムラや色ムラの改善が成されることが特徴である。   The ionic liquid used in the present invention is a salt having a melting point lower than room temperature and liquid at room temperature, and room temperature means 25 ° C. In the present invention, at least one of the hard coat layer and the antireflection layer is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.1 to 20% by mass, and still more preferably 0.5 to 10%. It is characterized in that streaky coating unevenness and color unevenness can be improved by the inclusion by mass%.

イオン液体はイオン性液体とも呼ばれる。一般的に塩は常温で固体であり、数百度に加熱することで溶融することが知られている。それに対し、所定の有機陽イオンと陰イオンの組み合わせにおいて、常温で液体状態となる所謂イオン液体が見出された。このイオン液体が常温付近の温度で液体となる理由としては、イオンの大きさ、及び、イオン間の静電相互作用が関係しているものと推定される。更に、該イオン液体は、蒸気圧が低く、不揮発性であり、同時に、不燃性・難燃性であるという特徴も有する。これは、分子間に静電的相互作用が働くため、イオンが拘束されるためであると推測される。   An ionic liquid is also called an ionic liquid. Generally, a salt is solid at room temperature, and is known to melt when heated to several hundred degrees. On the other hand, a so-called ionic liquid that is in a liquid state at room temperature in a predetermined combination of organic cation and anion has been found. The reason why this ionic liquid becomes liquid at a temperature near room temperature is presumed to be related to the size of ions and the electrostatic interaction between ions. Furthermore, the ionic liquid has a low vapor pressure, non-volatility, and at the same time has the characteristics of non-combustibility and flame retardancy. This is presumed to be because ions are restrained due to the electrostatic interaction between molecules.

本発明者らは、特に反射防止層の塗布ムラについて鋭意検討した結果、イオン液体を含有する層を設けることで反射防止層のムラが低減されることを見出した。イオン液体を含有する層としてはハードコート層もしくは反射防止層のいずれかの層であることが好ましく、特に高屈折率層に添加することが好ましい。これによって、高屈折率層のムラが減るだけでなく、低屈折率層のムラも少なくなり、均一な反射防止層が形成されるものと考えられる。その理由はよくわかっていないが、反射防止層を構成する高屈折率層や低屈折率層には金属酸化物粒子が含まれており、これらを含む塗布組成物を塗設する際に、塗布組成物中にイオン液体が含まれていたり、隣接層に含まれていることがムラ低減に寄与しているものと考えられる。反射防止層に含まれる金属酸化物を均一に分散され、ムラの解消に繋がっている可能性もあり、イオン液体を含有させることでイオン液体と、金属酸化物や用いられる溶媒、バインダーとのイオン的な相互作用により、金属酸化物の均一な分散がされているのかもしれない。   The inventors of the present invention, in particular, as a result of intensive studies on coating unevenness of the antireflection layer, found that the unevenness of the antireflection layer is reduced by providing a layer containing an ionic liquid. The layer containing the ionic liquid is preferably either a hard coat layer or an antireflection layer, and particularly preferably added to the high refractive index layer. As a result, not only the unevenness of the high refractive index layer is reduced, but also the unevenness of the low refractive index layer is reduced, and it is considered that a uniform antireflection layer is formed. The reason is not well understood, but the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the antireflection layer contain metal oxide particles, and when applying a coating composition containing these, it is applied. The ionic liquid contained in the composition or the inclusion in the adjacent layer is considered to contribute to the reduction of unevenness. There is a possibility that the metal oxide contained in the antireflection layer is uniformly dispersed, which may lead to elimination of unevenness. By containing the ionic liquid, ions of the ionic liquid, the metal oxide, the solvent used, and the binder The metal oxide may be uniformly dispersed due to the dynamic interaction.

本発明では、前記反射防止層が低屈折率層を有し、該低屈折率層が中空シリカ粒子を含有することや、前記反射防止層が高屈折率層を有し、該高屈折率層にイオン液体を含有することが好ましい態様である。   In the present invention, the antireflection layer has a low refractive index layer, the low refractive index layer contains hollow silica particles, or the antireflection layer has a high refractive index layer, and the high refractive index layer It is a preferable aspect to contain an ionic liquid.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

《イオン液体》
本発明に用いられるイオン液体としては、有機陽イオンと陰イオンからなる化合物であり、その融点が25℃以下である化合物が好ましい。例えば、有機陽イオンとしては、イミダゾリウム系、ピリジニウム系、ピペリジニウム系、4級アンモニウム系、ホスホニウム系などが挙げられる。
<Ionic liquid>
The ionic liquid used in the present invention is a compound composed of an organic cation and an anion, and a compound having a melting point of 25 ° C. or lower is preferable. For example, examples of the organic cation include imidazolium, pyridinium, piperidinium, quaternary ammonium, and phosphonium.

イミダゾリウム塩は下記一般式(1)で表される。   The imidazolium salt is represented by the following general formula (1).

Figure 0004935393
Figure 0004935393

一般式(1)中、R1〜R3は水素、アルキル基又はアルコキシ基を示し、アルキル基又はアルコキシ基としては炭素数1〜20であることが好ましく,特に1〜8が好ましい。具体例としては、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−デシル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−ドデシル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−テトラデシル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−ヘキサデシル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−オクタデシル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム塩、1−ブチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム塩、1−ヘキシル−2,3−ジメチルイミダゾリウム塩などが挙げられる。これらのなかで、特に1−エチル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム塩が好ましい。 In general formula (1), R < 1 > -R < 3 > shows hydrogen, an alkyl group, or an alkoxy group, As an alkyl group or an alkoxy group, it is preferable that it is C1-C20, and 1-8 are especially preferable. Specific examples include 1-ethyl-3-methylimidazolium salt, 1-butyl-3-methylimidazolium salt, 1-hexyl-3-methylimidazolium salt, 1-octyl-3-methylimidazolium salt, 1 -Decyl-3-methylimidazolium salt, 1-dodecyl-3-methylimidazolium salt, 1-tetradecyl-3-methylimidazolium salt, 1-hexadecyl-3-methylimidazolium salt, 1-octadecyl-3-methyl Examples include imidazolium salts, 1-ethyl-2,3-dimethylimidazolium salts, 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium salts, 1-hexyl-2,3-dimethylimidazolium salts, and the like. Among these, 1-ethyl-3-methylimidazolium salt and 1-butyl-3-methylimidazolium salt are particularly preferable.

ピリジニウム塩は下記一般式(2)で表される。   The pyridinium salt is represented by the following general formula (2).

Figure 0004935393
Figure 0004935393

一般式(2)中、Rは、水素、アルキル基又はアルコキシ基を示し、アルキル基又はアルコキシ基としては炭素数1〜20であることが好ましく,特に1〜8が好ましい。   In general formula (2), R represents hydrogen, an alkyl group or an alkoxy group, and the alkyl group or alkoxy group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 8 carbon atoms.

具体例としては、1−エチルピリジニウム塩、1−ブチルピリジニウム塩、1−ヘキシルピリジニウム塩等が挙げられ、これらのなかで、特に1−エチルピリジニウム塩、1−ブチルピリジニウム塩が好ましい。   Specific examples include 1-ethylpyridinium salt, 1-butylpyridinium salt, 1-hexylpyridinium salt and the like. Among these, 1-ethylpyridinium salt and 1-butylpyridinium salt are particularly preferable.

4級アンモニウム塩は下記一般式(3)で表される。   The quaternary ammonium salt is represented by the following general formula (3).

Figure 0004935393
Figure 0004935393

一般式(3)中、R1〜R4は、水素、アルキル基又はアルコキシ基を示し、アルキル基又はアルコキシ基としては炭素数1〜20であることが好ましく,特に1〜8が好ましい。 In general formula (3), R < 1 > -R < 4 > shows hydrogen, an alkyl group, or an alkoxy group, As an alkyl group or an alkoxy group, it is preferable that it is C1-C20, and 1-8 are especially preferable.

具体的には脂肪族4級アンモニウム塩などが挙げられる。具体例としては、トリメチル−ヘキシルアンモニウム塩、N,N−ジエチル−N−メチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウム塩、トリメチルヘキシルアンモニウム塩、トリメチルオクチルアンモニウム塩などが挙げられ、これらのなかで、特にN,N−ジエチル−N−メチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウム塩が好ましい。   Specific examples include aliphatic quaternary ammonium salts. Specific examples include trimethyl-hexylammonium salt, N, N-diethyl-N-methyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium salt, trimethylhexylammonium salt, trimethyloctylammonium salt, and the like. In particular, N, N-diethyl-N-methyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium salt is preferred.

下記一般式4で表されるピペリジニウム塩を用いることも可能である。   It is also possible to use a piperidinium salt represented by the following general formula 4.

Figure 0004935393
Figure 0004935393

一般式(4)中、R1〜R2は水素またはアルキル基を示し、アルキル基としては炭素数1〜20のアルキル基が好ましく,特に1〜8が好ましい。   In General Formula (4), R1 to R2 represent hydrogen or an alkyl group, and the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8.

なお、一般式(1)〜(4)において、アルキル基の一部に、カルボン酸基又はスルホン酸基を有するZwitterionic型のイオン液体を使用することも可能である。   In general formulas (1) to (4), it is also possible to use a Zwitterionic ionic liquid having a carboxylic acid group or a sulfonic acid group as part of the alkyl group.

また、ピロリニウム塩系、フェニルインドリウム塩系、アルキルインドリウム塩系、アルキルカルバゾリウム塩系、ピラゾリウム塩系、ピロリジニウム塩系などを用いることも可能である。   Further, pyrrolinium salt, phenylindolium salt, alkylindolium salt, alkylcarbazolium salt, pyrazolium salt, pyrrolidinium salt, and the like can also be used.

更に、陰イオンとの組合わせにより得られる化合物の融点を低くする設計が可能であり、有機溶媒との親和性を有することから、有機陽イオンとしてはイミダゾリウム系、ピリジニウム系、ピペリジニウム系が好ましく、4級アンモニウム系においてはアルキル鎖長が長い化合物が好ましい。具体的には、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−デシル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−ドデシル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−テトラデシル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−ヘキサデシル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−オクタデシル−3−メチルイミダゾリウム塩、1−ブチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム塩、1−ヘキシル−2,3−ジメチルイミダゾリウム塩、1−ブチルピリジニウム塩、1−ヘキシルピリジニウム塩、トリメチルオクチルアンモニウム塩、ピペリジニウム塩などが好ましい。   Furthermore, it is possible to design the compound obtained by combining with an anion to have a low melting point, and since it has an affinity with an organic solvent, the organic cation is preferably an imidazolium-based, pyridinium-based, or piperidinium-based one. In the quaternary ammonium system, a compound having a long alkyl chain length is preferred. Specifically, 1-ethyl-3-methylimidazolium salt, 1-butyl-3-methylimidazolium salt, 1-hexyl-3-methylimidazolium salt, 1-octyl-3-methylimidazolium salt, 1 -Decyl-3-methylimidazolium salt, 1-dodecyl-3-methylimidazolium salt, 1-tetradecyl-3-methylimidazolium salt, 1-hexadecyl-3-methylimidazolium salt, 1-octadecyl-3-methyl Imidazolium salt, 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium salt, 1-hexyl-2,3-dimethylimidazolium salt, 1-butylpyridinium salt, 1-hexylpyridinium salt, trimethyloctylammonium salt, piperidinium salt, etc. Is preferred.

一方、陰イオンとしては、リチウムイオン、臭素イオン、塩素イオン、乳酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェート、テトラフルオロボレート、ビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミド、トリフルオロメタンスルフォネートなどが挙げられる。   On the other hand, examples of the anion include lithium ion, bromine ion, chlorine ion, lactate ion, hexafluorophosphate, tetrafluoroborate, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, trifluoromethanesulfonate, and the like.

更に、材料の毒性などの安全性、及び、有機陽イオンとのとの組合わせにより得られる化合物の融点を低くする設計が可能であることから、陰イオンとしては、リチウムイオン、臭素イオン、塩素イオン、乳酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェート、ビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミド、トリフルオロメタンスルフォネートが好ましく、更には、リチウムイオン、臭素イオン、塩素イオン、乳酸イオンが好ましい。   In addition, the safety of materials such as toxicity, and the ability to lower the melting point of compounds obtained by combining with organic cations are possible. As anions, lithium ions, bromine ions, chlorine Ions, lactate ions, hexafluorophosphate, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, and trifluoromethanesulfonate are preferable, and lithium ions, bromine ions, chloride ions, and lactate ions are more preferable.

イオン液体の具体例としては、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムブロマイド、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムラクテート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミド、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルフォネート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムラクテート、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムブロマイド、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルフォネート、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、1−デシル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−ドデシル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−ヘキサデシル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−オクタデシル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムブロマイド、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムクロライド、1−ブチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムクロライド、1−ブチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムブロマイド、1−ブチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−ヘキシル−2,3−ジメチルイミダゾリウムブロマイド、1−ヘキシル−2,3−ジメチルイミダゾリウムクロライド、1−ヘキシル−2,3−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−ヘキシル−2,3−ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルフォネート、1−エチルピリジニウムブロマイド、1−エチルピリジニウムクロライド、1−ブチルピリジニウムブロマイド、1−ブチルピリジニウムクロライド、1−ブチルピリジニウムヘキサフルオロフォスフェート、1−ブチルピリジニウムトリフルオロメタンスルフォネート、1−ヘキシルピリジニウムブロマイド、1−ヘキシルピリジニウムクロライド、1−ヘキシルピリジニウムヘキサフルオロフォスフェート、1−ヘキシルピリジニウムテトラフルオロボレイト、1−ヘキシルピリジニウムトリフルオロメタンスルフォネート、N,N−ジエチル−N−メチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウムテトラフルオロボレイト、N,N−ジエチル−N−メチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウムビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミド、トリメチルヘキシルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミド、トリメチルオクチルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミド、トリメチルプロピルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミド、2−メチル−1−ピロリニウムヘキサフルオロボレート、1−エチル−2−フェニルインドリウムヘキサフルオロボレート、1,2−ジメチルインドリウムヘキサフルオロボレイト、1−エチルカルバゾリウムヘキサフルオロボレート、1−メチルピラゾリウムヘキサフルオロボレート、1−メチルピロリジニウムヘキサフルオロボレイトなどが挙げられる。   Specific examples of the ionic liquid include 1-ethyl-3-methylimidazolium bromide, 1-ethyl-3-methylimidazolium chloride, 1-ethyl-3-methylimidazolium lactate, 1-ethyl-3-methylimidazolium. Hexafluorophosphate, 1-butyl-3-methylimidazolium chloride, 1-butyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-butyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-butyl -3-methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-butyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate, 1-butyl-3-methylimidazolium lactate, 1-hexyl-3-methylimidazolium bromide, 1- Xyl-3-methylimidazolium chloride, 1-hexyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-hexyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate, 1-hexyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate 1-octyl-3-methylimidazolium chloride, 1-octyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-decyl-3-methylimidazolium chloride, 1-dodecyl-3-methylimidazolium chloride, 1- Hexadecyl-3-methylimidazolium chloride, 1-octadecyl-3-methylimidazolium chloride, 1-ethyl-2,3-dimethylimidazolium bromide, 1-ethyl-2,3-dimethylimidazolium Chloride, 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium chloride, 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium bromide, 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium tetrafluoroborate, 1-hexyl-2,3 -Dimethylimidazolium bromide, 1-hexyl-2,3-dimethylimidazolium chloride, 1-hexyl-2,3-dimethylimidazolium tetrafluoroborate, 1-hexyl-2,3-dimethylimidazolium trifluoromethanesulfonate 1-ethylpyridinium bromide, 1-ethylpyridinium chloride, 1-butylpyridinium bromide, 1-butylpyridinium chloride, 1-butylpyridinium hexafluorophosphate, 1-butylpyridinium trifluoro Methane sulfonate, 1-hexylpyridinium bromide, 1-hexylpyridinium chloride, 1-hexylpyridinium hexafluorophosphate, 1-hexylpyridinium tetrafluoroborate, 1-hexylpyridinium trifluoromethanesulfonate, N, N-diethyl -N-methyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium tetrafluoroborate, N, N-diethyl-N-methyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, trimethylhexylammonium bis (Trifluoromethanesulfonyl) imide, trimethyloctylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, trimethylpropylammonium bis (trifluoromethane Sulfonyl) imide, 2-methyl-1-pyrrolinium hexafluoroborate, 1-ethyl-2-phenylindolium hexafluoroborate, 1,2-dimethylindolium hexafluoroborate, 1-ethylcarbazolium hexafluoroborate 1-methylpyrazolium hexafluoroborate, 1-methylpyrrolidinium hexafluoroborate and the like.

更に、材料の安全性、並びに、有機溶媒との親和性の観点から、イオン液体としては以下の化合物が好ましい。具体例としては、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムラクテート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミド、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルフォネート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムラクテート、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルフォネート、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、1−デシル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−ドデシル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−ヘキサデシル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−オクタデシル−3−メチルイミダゾリウムクロライド、1−ヘキシル−2,3−ジメチルイミダゾリウムブロマイド、1−ヘキシル−2,3−ジメチルイミダゾリウムクロライド、1−ヘキシル−2,3−ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルフォネート、1−ブチルピリジニウムブロマイド、1−ブチルピリジニウムクロライド、1−ブチルピリジニウムヘキサフルオロフォスフェート、1−ブチルピリジニウムトリフルオロメタンスルフォネート、1−ヘキシルピリジニウムブロマイド、1−ヘキシルピリジニウムクロライド、1−ヘキシルピリジニウムヘキサフルオロフォスフェート、1−ヘキシルピリジニウムトリフルオロメタンスルフォネート、N,N−ジエチル−N−メチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウムビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミド、トリメチルヘキシルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミド、トリメチルオクチルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミド、トリメチルプロピルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミドが好ましい。   Furthermore, from the viewpoint of material safety and affinity with an organic solvent, the following compounds are preferred as the ionic liquid. Specific examples include 1-ethyl-3-methylimidazolium lactate, 1-ethyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-butyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-butyl. -3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-butyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate, 1-butyl-3-methylimidazolium lactate, 1-hexyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate 1-hexyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate, 1-octyl-3-methylimidazolium chloride, 1-octyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate, 1-decyl- -Methylimidazolium chloride, 1-dodecyl-3-methylimidazolium chloride, 1-hexadecyl-3-methylimidazolium chloride, 1-octadecyl-3-methylimidazolium chloride, 1-hexyl-2,3-dimethylimidazolium Bromide, 1-hexyl-2,3-dimethylimidazolium chloride, 1-hexyl-2,3-dimethylimidazolium trifluoromethanesulfonate, 1-butylpyridinium bromide, 1-butylpyridinium chloride, 1-butylpyridinium hexafluoro Phosphate, 1-butylpyridinium trifluoromethanesulfonate, 1-hexylpyridinium bromide, 1-hexylpyridinium chloride, 1-hexylpyridinium hexaful Lophosphate, 1-hexylpyridinium trifluoromethanesulfonate, N, N-diethyl-N-methyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, trimethylhexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide Trimethyloctylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide and trimethylpropylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide are preferable.

上記イオン液体は市販されているものを好ましく用いることができる。   A commercially available ionic liquid can be preferably used.

本発明では、ハードコート層、及び反射防止層の少なくとも1つの層に、好ましくは0.01〜30質量%、より好ましくは0.1〜20質量%、さらに好ましくは0.5〜10質量%含有されることにより、筋状の塗布ムラや色ムラの改善される。特に、該反射防止層である高屈折率層に含有させることが塗布性の改善において顕著な効果を呈する為好ましい。   In the present invention, at least one of the hard coat layer and the antireflection layer is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.1 to 20% by mass, and still more preferably 0.5 to 10% by mass. By containing, striped coating unevenness and color unevenness are improved. In particular, it is preferable to contain the antireflective layer in the high refractive index layer because it exhibits a remarkable effect in improving coating properties.

前述の通り、本発明においてイオン液体が有機陽イオンと陰イオンからなる化合物であり、かつ、該化合物の融点が25℃以下であることが好ましい。イオン液体の添加時の取り扱い性や塗布液中での安定性の観点から、より好ましくは、イオン液体の融点は20℃以下であり、更に好ましくは10℃以下である。   As described above, in the present invention, the ionic liquid is preferably a compound composed of an organic cation and an anion, and the melting point of the compound is preferably 25 ° C. or lower. From the viewpoint of handling at the time of addition of the ionic liquid and stability in the coating solution, the melting point of the ionic liquid is more preferably 20 ° C. or less, and further preferably 10 ° C. or less.

本発明において、イオン液体の沸点としては400℃以上であることが好ましい。より好ましくは450℃以上であり、更に好ましくは、500℃以上である。沸点が400℃未満の場合、イオン液体の長期保管時の安定性が低下する場合が存在した。   In the present invention, the boiling point of the ionic liquid is preferably 400 ° C. or higher. More preferably, it is 450 degreeC or more, More preferably, it is 500 degreeC or more. When the boiling point was less than 400 ° C., the stability of the ionic liquid during long-term storage sometimes decreased.

本発明において、イオン液体の分子量は1000未満であることが好ましく、より好ましくは750未満、更に好ましくは500未満である。イオン液体の分子量が1000未満であれば、液粘度が制御し易く塗布性が良好である。   In the present invention, the molecular weight of the ionic liquid is preferably less than 1000, more preferably less than 750, and still more preferably less than 500. If the molecular weight of the ionic liquid is less than 1000, the liquid viscosity is easy to control and the coating property is good.

《反射防止層》
次いで、透明樹脂フィルム上に設ける反射防止層について説明する。
<Antireflection layer>
Next, the antireflection layer provided on the transparent resin film will be described.

反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成されている。得に好ましくは、3層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる3層を、中屈折率層(支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。または、2層以上の高屈折率層と2層以上の低屈折率層とを交互に積層した4層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。   The antireflection layer is preferably laminated in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, and the like so that the reflectance is reduced by optical interference. The antireflection layer is formed by combining a high refractive index layer having a higher refractive index than that of the support and a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the support. Preferably, the antireflective layer is composed of three or more refractive index layers. Three layers having different refractive indexes from the support side are divided into medium refractive index layers (having a higher refractive index than the support and having a high refractive index. Layers having a refractive index lower than that of the layer) / high refractive index layer / low refractive index layer are preferably used in this order. Alternatively, an antireflection layer having a layer structure of four or more layers in which two or more high refractive index layers and two or more low refractive index layers are alternately laminated is also preferably used.

〔ハードコート層:活性線硬化樹脂層〕
本発明の反射防止フィルムには、透明樹脂フィルムと反射防止層の間にハードコート層として活性線硬化樹脂を含有する層を設ける。
[Hard coat layer: Actinic radiation curable resin layer]
In the antireflection film of the present invention, a layer containing an actinic radiation curable resin is provided as a hard coat layer between the transparent resin film and the antireflection layer.

本発明に係る「活性線硬化樹脂層」とは、紫外線や電子線のような活性線(「活性エネルギー線」ともいう。)照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化樹脂層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。   The “active ray curable resin layer” according to the present invention is a layer mainly composed of a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active rays such as ultraviolet rays or electron beams (also referred to as “active energy rays”). Say. As the actinic radiation curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and an actinic radiation curable resin layer is formed by curing by irradiation with actinic radiation such as ultraviolet rays or electron beams. The Typical examples of the actinic radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and a resin curable by ultraviolet irradiation is preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。   As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used. Of these, ultraviolet curable acrylate resins are preferred.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59−151110号に記載のものを用いることができる。   The UV curable acrylic urethane resin generally includes 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate) in addition to a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, those described in JP-A-59-151110 can be used.

例えば、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) is preferably used.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭59−151112号に記載のものを用いることができる。   Examples of UV curable polyester acrylate resins include those which are easily formed when 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers are generally reacted with polyester polyols. JP-A-59-151112 Can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光重合開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平1−105738号に記載のものを用いることができる。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include an epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photopolymerization initiator added thereto, and reacted to form an oligomer. Those described in US Pat. No. 105738 can be used.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of UV curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, etc. Can be mentioned.

これら紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。上記光重合開始剤も光増感剤として使用できる。また、エポキシアクリレート系の光重合開始剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光重合開始剤また光増感剤は該組成物100質量部に対して0.1〜15質量部であり、好ましくは1〜10質量部である。   Specific examples of photopolymerization initiators for these ultraviolet curable resins include benzoin and its derivatives, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. You may use with a photosensitizer. The photopolymerization initiator can also be used as a photosensitizer. In addition, when using an epoxy acrylate photopolymerization initiator, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine can be used. The photopolymerization initiator or photosensitizer used in the ultraviolet curable resin composition is 0.1 to 15 parts by mass, preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the composition.

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができる。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。   Examples of the resin monomer may include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. In addition, monomers having two or more unsaturated double bonds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyldimethyl adiacrylate, and the above trimethylolpropane. Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester.

本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(旭電化(株)製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(広栄化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHC X−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業(株)製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化学工業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製);サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業(株)製);SP−1509、SP−1507(昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(東亞合成(株)製)等を適宜選択して利用できる。   Examples of commercially available ultraviolet curable resins that can be used in the present invention include ADEKA OPTMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (Asahi Denka ( Co., Ltd.); Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS -101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Co., Ltd.); Seika Beam PHC2210 (S), PHC X-9 (K-3), PHC2213, DP -10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (manufactured by Daicel UCB); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120 RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.); 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (manufactured by Sanyo Chemical Industries); SP -1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (manufactured by Grace Japan KK), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), etc. Can be selected as appropriate.

また、具体的化合物例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。   Examples of specific compounds include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and the like. .

こうして得た硬化樹脂層には耐傷性、滑り性や屈折率を調整するために無機化合物または有機化合物の微粒子を含んでもよい。   The cured resin layer thus obtained may contain fine particles of an inorganic compound or an organic compound in order to adjust the scratch resistance, slipperiness and refractive index.

ハードコート層に使用される無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。   Examples of inorganic fine particles used in the hard coat layer include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, and calcined kaolin. And calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.

また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物に加えることができる。特に好ましくは、架橋ポリスチレン粒子(例えば、綜研化学製SX−130H、SX−200H、SX−350H)、ポリメチルメタクリレート系粒子(例えば、綜研化学製MX150、MX300)が挙げられる。   Organic particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder. Polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, or polyfluoroethylene resin powder can be added to the ultraviolet curable resin composition. Particularly preferred are cross-linked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H, manufactured by Soken Chemical) and polymethyl methacrylate-based particles (for example, MX150, MX300, manufactured by Soken Chemical).

これらの微粒子粉末の平均粒径としては、0.01〜5μmが好ましく0.1〜5.0μm、さらには、0.1〜4.0μmであることが特に好ましい。また、粒径の異なる2種以上の微粒子を含有することが好ましい。紫外線硬化樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜30質量部となるように配合することが望ましい。   The average particle size of these fine particle powders is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.1 to 5.0 μm, and particularly preferably 0.1 to 4.0 μm. Moreover, it is preferable to contain 2 or more types of microparticles | fine-particles from which a particle size differs. The proportion of the ultraviolet curable resin composition and the fine particles is desirably blended so as to be 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

これらのハードコート層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することができる。塗布後、加熱乾燥し、UV硬化処理を行う。   These hard coat layers can be coated by a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an ink jet method. After application, it is heat-dried and UV-cured.

紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常5〜500mJ/cm2、好ましくは5〜150mJ/cm2であるが、特に好ましくは20〜100mJ/cm2である。 As a light source for curing an ultraviolet curable resin by a photocuring reaction to form a cured film layer, any light source that generates ultraviolet rays can be used without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually 5 to 500 mJ / cm 2 , preferably 5 to 150 mJ / cm 2 , and particularly preferably 20 to 100 mJ / cm 2 .

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、さらに好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30〜300N/mが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または2軸方向に張力を付与してもよい。これによってさらに平面性優れたフィルムを得ることができる。   Moreover, when irradiating actinic radiation, it is preferable to carry out while applying tension | tensile_strength in the conveyance direction of a film, More preferably, it is performing applying tension | tensile_strength also in the width direction. The tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m. The method for applying tension is not particularly limited, and tension may be applied in the transport direction on the back roll, or tension may be applied in the width direction or biaxial direction by a tenter. This makes it possible to obtain a film having further excellent flatness.

ハードコート層塗布液には溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中でもから適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   The hard coat layer coating solution may contain a solvent, or may be appropriately contained and diluted as necessary. Examples of the organic solvent contained in the coating solution include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), These may be appropriately selected from esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents, or may be used by mixing them. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the organic solvent containing at least mass%.

ハードコート層は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が0.001〜0.1μmのクリアハードコート層、または微粒子等を添加しRaが0.1〜1μmに調整された防眩性ハードコート層であることが好ましい。中心線平均粗さ(Ra)は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製非接触表面微細形状計測装置WYKO NT−2000を用いて測定することができる。   The hard coat layer has a center line average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 of 0.001 to 0.1 μm, or a fine hard coat layer and Ra is adjusted to 0.1 to 1 μm. An antiglare hard coat layer is preferred. The center line average roughness (Ra) is preferably measured by an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured, for example, using a non-contact surface fine shape measuring device WYKO NT-2000 manufactured by WYKO.

さらにハードコート層には、シリコーン系界面活性剤あるいはポリオキシエーテル化合物を含有させることが好ましい。これらは塗布性を高め、これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。   Further, the hard coat layer preferably contains a silicone surfactant or a polyoxyether compound. These improve applicability | paintability and it is preferable to add these components in 0.01-3 mass% with respect to the solid content component in a coating liquid.

(界面活性剤)
本発明に用いられるシリコーン界面活性剤について説明する。
(Surfactant)
The silicone surfactant used in the present invention will be described.

尚、本発明に用いられるシリコーン界面活性剤はシリコーンオイルも含む。   The silicone surfactant used in the present invention includes silicone oil.

シリコーン界面活性剤としては、シリコーンオイルのメチル基の一部を親水性基に置換した界面活性剤である。置換の位置は、シリコーンオイルの側鎖、両末端、片末端、両末端側鎖等がある。親水性基としては、ポリエーテル、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、4級塩等がある。   The silicone surfactant is a surfactant obtained by substituting a part of the methyl group of the silicone oil with a hydrophilic group. The position of substitution includes a side chain of silicone oil, both ends, one end, both end side chains, and the like. Examples of the hydrophilic group include polyether, polyglycerin, pyrrolidone, betaine, sulfate, phosphate, and quaternary salt.

これらの中で、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン性界面活性剤が好ましい。   Of these, nonionic surfactants having a hydrophobic group composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyoxyalkylene are preferred.

非イオン界面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない界面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン)等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン鎖)が長くなるに従って強くなる。   A nonionic surfactant is a generic term for surfactants that do not have a group capable of dissociating into ions in an aqueous solution. In addition to a hydrophobic group, a hydrophilic group includes a hydroxyl group of a polyhydric alcohol, a polyoxyalkylene chain (poly Oxyethylene) or the like as a hydrophilic group. The hydrophilicity becomes stronger as the number of alcoholic hydroxyl groups increases and as the polyoxyalkylene chain (polyoxyethylene chain) becomes longer.

次にシリコーンオイルについて説明する。シリコーンオイルとしては、ケイ素原子に結合した有機基の種類により、ストレートシリコーンオイルと変性シリコーンオイルに大別出来る。ストレートシリコーンオイルとは、メチル基、フェニル基、水素原子を置換基として結合したものをいう。変性シリコーンオイルとは、ストレートシリコーンオイルから二次的に誘導された構成部分をもつものである。一方、シリコーンオイルの反応性からも分類することが出来る。これらをまとめると、以下のようになる。   Next, silicone oil will be described. Silicone oils can be broadly classified into straight silicone oils and modified silicone oils depending on the type of organic group bonded to silicon atoms. Straight silicone oil refers to those bonded with a methyl group, a phenyl group, or a hydrogen atom as a substituent. A modified silicone oil is one having a component that is secondarily derived from a straight silicone oil. On the other hand, it can be classified from the reactivity of silicone oil. These are summarized as follows.

シリコーンオイル
1.ストレートシリコーンオイル
1−1.非反応性シリコーンオイル:ジメチル、メチルフェニル置換等
1−2.反応性シリコーンオイル:メチル水素置換等
2.変性シリコーンオイル
ジメチルシリコーンオイルに、さまざまな有機基を導入することで生まれたものが、変性シリコーンオイル
2−1.非反応性シリコーンオイル:アルキル、アルキル/アラルキル、アルキル/ポリエーテル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル置換等、
アルキル/アラルキル変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を長鎖アルキル基或いはフェニルアルキル基に置換えたシリコーンオイル、
ポリエーテル変性シリコーンオイルは、親水性のポリオキシアルキレンを疎水性のジメチルシリコーンに導入したシリコーン系高分子界面活性剤、
高級脂肪酸変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を高級脂肪酸エステルに置換えたシリコーンオイル、
アミノ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をアミノアルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル、
エポキシ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をエポキシ基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル、
カルボキシル変性或いはアルコール変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をカルボキシル基或いは水酸基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル
2−2.反応性シリコーンオイル:アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコール置換等、これらの内、本発明の目的効果の点から、ポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1000〜100000、好ましくは2000〜50000が適当である。
Silicone oil Straight silicone oil 1-1. Non-reactive silicone oil: dimethyl, methylphenyl substitution, etc. 1-2. Reactive silicone oil: methyl hydrogen substitution, etc. Modified silicone oil Modified silicone oil was born by introducing various organic groups into dimethyl silicone oil 2-1. Non-reactive silicone oil: alkyl, alkyl / aralkyl, alkyl / polyether, polyether, higher fatty acid ester substitution, etc.
Alkyl / aralkyl-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of methyl group of dimethyl silicone oil is replaced with a long-chain alkyl group or a phenylalkyl group,
Polyether-modified silicone oil is a silicone-based polymer surfactant in which hydrophilic polyoxyalkylene is introduced into hydrophobic dimethyl silicone,
Higher fatty acid-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of methyl group of dimethyl silicone oil is replaced with higher fatty acid ester,
Amino-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of methyl group of silicone oil is substituted with aminoalkyl group,
The epoxy-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is replaced with an epoxy group-containing alkyl group,
The carboxyl-modified or alcohol-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with a carboxyl group or a hydroxyl group-containing alkyl group 2-2. Reactive silicone oil: Of these, amino, epoxy, carboxyl, alcohol substitution, etc. Of these, polyether-modified silicone oil is preferable from the viewpoint of the object and effect of the present invention. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2000 to 50,000.

これら、シリコーン界面活性剤(シリコーンオイル)の具体的商品として、例えば、SH200、BY16−873、PRX413(ジメチルシリコーンオイル;東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製)、SH510、SH550、SH710(メチルフェニルシリコーンオイル;東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製)、SH203、SH230、SF8416(アルキル変性シリコーンオイル;東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製)、SF8417、BY16−208、BY16−209、BY16−849、BY16−872(アミノ変性シリコーンオイル;東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製)、SF8411、SF8413、BY16−855D(エポキシ変性シリコーンオイル;東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製)、BY16−848、BY16−201(アルコール変性シリコーンオイル;東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製)、BY16−152(メタクリレート変性シリコーンオイル;東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製)、FZ−2222、FZ−2207(ジメチルポリシロキサン・ポリエチレンオキサイド直鎖状ブロックコポリマー;日本ユニカー(株)製のFZシリーズ)、KF−101、KF−102,KF−105(エポキシ変性シリコーンオイル;信越化学工業社製)、KF−8008、KF−861,KF−8002(アミノ変性シリコーンオイル;信越化学工業社製)、KF−6001、KF−6002(カルビノール変性シリコーンオイル;信越化学工業社製)、X−22−164A、X−22−2404(メタクリル変性シリコーンオイル;信越化学工業社製)、KF−412、KF−414(アルキル変性シリコーンオイル;信越化学工業社製)、KF−910(エステル変性シリコーンオイル;信越化学工業社製)、SH3749、SH3748、SH8400、SF8410、SF8427、BY16−004、SF8428、SH3771、SH3746、BY16−036(ポリエーテル変性シリコーンオイル;東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製)、BYK−UV3500,BYK−UV3510、BYK−333、BYK−331、BYK−337(ポリエーテル変性シリコーンオイルビックケミ−ジャパン社製)、TSF4440、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(ポリエーテル変性シリコーンオイル;GE東芝シリコーン製)、KF−351、KF−351A、KF−352、KF−353、KF−354、KF−355、KF−615、KF−618、KF−945、KF−6004(ポリエーテル変性シリコーンオイル;信越化学工業社製)、等が挙げられるがこれらに限定されない。   Specific examples of these silicone surfactants (silicone oils) include, for example, SH200, BY16-873, PRX413 (dimethylsilicone oil; manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), SH510, SH550, SH710 (methylphenyl). Silicone oil; manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), SH203, SH230, SF8416 (alkyl-modified silicone oil; manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), SF8417, BY16-208, BY16-209, BY16- 849, BY16-872 (amino-modified silicone oil; manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), SF8411, SF8413, BY16-855D (epoxy-modified silicone oil; Toray Dowconi) Manufactured by Silicone Co., Ltd.), BY16-848, BY16-201 (alcohol-modified silicone oil; manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), BY16-152 (methacrylate-modified silicone oil; Toray Dow Corning Silicone) FZ-2222, FZ-2207 (dimethylpolysiloxane / polyethylene oxide linear block copolymer; FZ series manufactured by Nihon Unicar), KF-101, KF-102, KF-105 (epoxy-modified) Silicone oil; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KF-8008, KF-861, KF-8002 (amino-modified silicone oil; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KF-6001, KF-6002 (carbinol-modified silicone oil; Shin-Etsu Chemical) Manufactured by Kogyo Co., Ltd.), X-22-16 A, X-22-2404 (methacryl-modified silicone oil; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KF-412, KF-414 (alkyl-modified silicone oil; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KF-910 (ester-modified silicone oil; Shin-Etsu) Chemical Industry), SH3749, SH3748, SH8400, SF8410, SF8427, BY16-004, SF8428, SH3771, SH3746, BY16-036 (polyether-modified silicone oil; manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), BYK- UV3500, BYK-UV3510, BYK-333, BYK-331, BYK-337 (manufactured by polyether-modified silicone oil Big Chemi-Japan), TSF4440, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF 4460 (polyether-modified silicone oil; manufactured by GE Toshiba Silicone), KF-351, KF-351A, KF-352, KF-353, KF-354, KF-355, KF-615, KF-618, KF-945, Examples thereof include, but are not limited to, KF-6004 (polyether-modified silicone oil; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

一方、非イオン性のポリオキシエーテル化合物としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル化合物、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等のポリオキシアルキルフェニルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル等が挙げられる。   On the other hand, examples of nonionic polyoxyether compounds include polyoxyethylene alkyl ether compounds such as polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, and polyoxyethylene. Examples thereof include polyoxyalkylphenyl ether compounds such as nonylphenyl ether and polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyethylene higher alcohol ether, polyoxyethylene octyldodecyl ether and the like.

ポリオキシエチレンアルキルエーテルの市販品としては、エマルゲン1108、エマルゲン1118S−70(以上花王社製)、ポリオキシエチレンラウリルエーテルの市販品としては、エマルゲン103、エマルゲン104P、エマルゲン105、エマルゲン106、エマルゲン108、エマルゲン109P、エマルゲン120、エマルゲン123P、エマルゲン147、エマルゲン150、エマルゲン130K(以上花王社製)、ポリオキシエチレンセチルエーテルの市販品としては、エマルゲン210P、エマルゲン220(以上花王社製)、ポリオキシエチレンステアリルエーテルの市販品としては、エマルゲン220、エマルゲン306P(以上花王社製)、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの市販品としては、エマルゲンLS−106、エマルゲンLS−110、エマルゲンLS−114、エマルゲンMS−110(以上花王社製)ポリオキシエチレン高級アルコールエーテルの市販品としては、エマルゲン705,エマルゲン707、エマルゲン709等が挙げられる。これら非イオン性のポリオキシエーテル化合物の中でも好ましくは、ポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物であり、一般的に一般式(5)で表される化合物である。   As commercially available products of polyoxyethylene alkyl ether, Emulgen 1108, Emulgen 1118S-70 (manufactured by Kao Corporation), and as commercially available products of polyoxyethylene lauryl ether, Emulgen 103, Emulgen 104P, Emulgen 105, Emulgen 106, Emulgen 108 , Emulgen 109P, Emulgen 120, Emulgen 123P, Emulgen 147, Emulgen 150, Emulgen 130K (above Kao), polyoxyethylene cetyl ether, Emulgen 210P, Emulgen 220 (above Kao), Polyoxy Commercially available products of ethylene stearyl ether include Emulgen 220, Emulgen 306P (manufactured by Kao Corporation), and commercially available products of polyoxyalkylene alkyl ether include Emulgen. S-106, Emulgen LS-110, Emulgen LS-114, Examples of commercially available Emulgen MS-110 (Kao Corporation) Polyoxyethylene higher alcohol ethers, Emulgen 705, Emulgen 707, Emulgen 709, and the like. Among these nonionic polyoxyether compounds, a polyoxyethylene oleyl ether compound is preferable, and a compound generally represented by the general formula (5).

一般式(5) C1835−O(C24O)nH
式中、nは2〜40を表す。
Formula (5) C 18 H 35 -O (C 2 H 4 O) nH
In the formula, n represents 2 to 40.

オレイル部分に対するエチレンオキシドの平均付加個数(n)は、2〜40であり、好ましくは2〜10である。また一般式(5)の化合物はエチレンオキシドとオレイルアルコールとを反応させて得られる。   The average addition number (n) of ethylene oxide with respect to the oleyl part is 2 to 40, preferably 2 to 10. The compound of the general formula (5) can be obtained by reacting ethylene oxide and oleyl alcohol.

具体的商品としては、エマルゲン404(ポリオキシエチレン(4)オレイルエーテル)、エマルゲン408(ポリオキシエチレン(8)オレイルエーテル)、エマルゲン409P(ポリオキシエチレン(9)オレイルエーテル)、エマルゲン420(ポリオキシエチレン(13)オレイルエーテル)、エマルゲン430(ポリオキシエチレン(30)オレイルエーテル)以上花王社製、日本油脂製NOFABLEEAO−9905(ポリオキシエチレン(5)オレイルエーテル)等が挙げられる。   Specific products include Emulgen 404 (polyoxyethylene (4) oleyl ether), Emulgen 408 (polyoxyethylene (8) oleyl ether), Emulgen 409P (polyoxyethylene (9) oleyl ether), Emulgen 420 (polyoxy) Ethylene (13) oleyl ether), Emulgen 430 (polyoxyethylene (30) oleyl ether) or more, Kao Corporation, NOFBLEEAO-9905 (polyoxyethylene (5) oleyl ether) manufactured by NOF Corporation.

尚、()がnの数字を表す。非イオン性のポリオキシエーテル化合物は単独或いは2種以上を併用しても良い。   In addition, () represents the number of n. Nonionic polyoxyether compounds may be used alone or in combination of two or more.

シリコーン界面活性剤とポリオキシエーテル化合物とのハードコート層中の含有質量比は、1.0:1.0〜0.10:1.0であり、更に好ましくは0.70:1.0〜0.20:1.0であり、前記質量比で含有することが本発明の効果を得る上で好ましい。   The mass ratio of the silicone surfactant and the polyoxyether compound in the hard coat layer is 1.0: 1.0 to 0.10: 1.0, more preferably 0.70: 1.0 to In order to obtain the effects of the present invention, it is preferably 0.20: 1.0.

ハードコート層中の非イオン性のポリオキシエーテル化合物とシリコーン界面活性剤の好ましい含有量は、両者の総含有量で0.1質量%〜8.0質量%が好ましく、更に好ましくは、0.2質量%〜4.0質量%であり、該範囲において耐薬品性、表面硬度、耐湿熱性密着に特に優れた反射防止フィルムが得られる。   The preferable content of the nonionic polyoxyether compound and the silicone surfactant in the hard coat layer is preferably 0.1% by mass to 8.0% by mass, and more preferably 0.8% by mass. It is 2 mass%-4.0 mass%, and the anti-reflective film especially excellent in chemical-resistance, surface hardness, and wet heat resistant adhesion is obtained in this range.

また、フッ素界面活性剤、アクリル系共重合物、アセチレングリコール系化合物又は他の非イオン性界面活性剤、ラジカル重合性の非イオン性界面活性剤等を併用しても良い。   Further, a fluorine surfactant, an acrylic copolymer, an acetylene glycol compound or other nonionic surfactant, a radical polymerizable nonionic surfactant, or the like may be used in combination.

フッ素界面活性剤の市販品としては住友スリーエム社製フロラードFC−430、FC170、大日本インキ化学工業社製メガファックF177、F471、F482等が挙げられる。アクリル系共重合物としてはビックケミー・ジャパン社製、BYK−361N、BYK−358Nなどが挙げられる。   Commercially available fluorosurfactants include Fluorard FC-430 and FC170 manufactured by Sumitomo 3M Limited, MegaFuck F177, F471, and F482 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. Examples of the acrylic copolymer include BYK-361N and BYK-358N manufactured by BYK Japan.

他の非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンモノラウレート、ポリオキシエチレンモノステアレート、ポリオキシエチレンモノオレート等のポリオキシアルキルエステル化合物、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレート等のソルビタンエステル化合物、等が挙げられる。   Other nonionic surfactants include polyoxyethylene monolaurate, polyoxyethylene monostearate, polyoxyalkyl ester compounds such as polyoxyethylene monooleate, sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan mono And sorbitan ester compounds such as oleate.

アセチレングリコール系化合物としてはサーフィノール104E、サーフィノール104PA、サーフィノール420、サーフィノール440、ダイノール604(以上、日信化学工業(株)製)などが挙げられる。   Examples of the acetylene glycol compounds include Surfinol 104E, Surfinol 104PA, Surfinol 420, Surfinol 440, Dinol 604 (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) and the like.

ラジカル重合性の非イオン性界面活性剤としては、例えば、「RMA−564」、「RMA−568」、「RMA−1114」[以上、商品名、日本乳化剤(株)製]等のポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル(メタ)アクリレート系重合性界面活性剤などを挙げることが出来る。   Examples of the radical polymerizable nonionic surfactant include polyoxyalkylenes such as “RMA-564”, “RMA-568”, “RMA-1114” [trade name, manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.]. Examples thereof include alkylphenyl ether (meth) acrylate-based polymerizable surfactants.

また、ハードコート層は、2層以上の重層構造を有していてもよい。その中の1層は例えば導電性微粒子、または、イオン性ポリマーを含有する所謂帯電防止層としてもよいし、また、種々の表示素子に対する色補正用フィルターとして色調調整機能を有する色調調整剤(染料もしくは顔料等)を含有させてもよいし、また電磁波遮断剤または赤外線吸収剤等を含有させそれぞれの機能を有するようにすることは好ましい。   The hard coat layer may have a multilayer structure of two or more layers. One of the layers may be, for example, a so-called antistatic layer containing conductive fine particles or an ionic polymer, or a color tone adjusting agent (dye having a color tone adjusting function as a color correction filter for various display elements. Or a pigment or the like) or an electromagnetic wave blocking agent or an infrared absorbing agent or the like to have the respective functions.

ハードコート層塗布液の塗布方法としては、前述のものを用いることができる。塗布量はウェット膜厚として0.1〜40μmが適当で、好ましくは、0.5〜30μmである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚0.1〜30μm、好ましくは1〜20μmである。   As the coating method of the hard coat layer coating solution, the above-described methods can be used. The coating amount is suitably 0.1 to 40 μm, preferably 0.5 to 30 μm, as the wet film thickness. Moreover, as a dry film thickness, it is an average film thickness of 0.1-30 micrometers, Preferably it is 1-20 micrometers.

ハードコート層は塗布乾燥後に、紫外線を照射するのがよく、必要な活性線の照射量を得るための照射時間としては、0.1秒〜1分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から0.1〜10秒がより好ましい。   The hard coat layer is preferably irradiated with ultraviolet rays after coating and drying, and the irradiation time for obtaining the necessary amount of active ray irradiation is preferably about 0.1 second to 1 minute, and the curing efficiency of the ultraviolet curable resin Or from the viewpoint of work efficiency, 0.1 to 10 seconds is more preferable.

また、これら活性線照射部の照度は0.05〜0.2W/m2であることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the illumination intensity of these active ray irradiation parts is 0.05-0.2 W / m < 2 >.

〔低屈折率層〕
本発明に係る低屈折率層の屈折率は、支持体である透明樹脂フィルムの屈折率より低く、23℃、波長550nm測定で、1.30〜1.45の範囲であることが好ましい。
(Low refractive index layer)
The refractive index of the low refractive index layer according to the present invention is preferably lower than the refractive index of the transparent resin film as the support, and is preferably in the range of 1.30 to 1.45 at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm.

低屈折率層の膜厚は、5nm〜0.5μmであることが好ましく、10nm〜0.3μmであることがさらに好ましく、30nm〜0.2μmであることが最も好ましい。   The film thickness of the low refractive index layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and most preferably 30 nm to 0.2 μm.

本発明に用いられる低屈折率層形成用組成物については、外殻層を有し内部が多孔質または空洞の粒子を少なくとも1種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質または空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。   The composition for forming a low refractive index layer used in the present invention preferably contains at least one kind of particles having an outer shell layer and porous or hollow inside. In particular, the particles having the outer shell layer and having a porous or hollow interior are preferably hollow silica-based fine particles.

なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式(OSi−1)で表される有機珪素化合物若しくはその加水分解物、或いは、その重縮合物を併せて含有させても良い。   The composition for forming a low refractive index layer may contain an organosilicon compound represented by the following general formula (OSi-1) or a hydrolyzate thereof, or a polycondensate thereof.

一般式(OSi−1):Si(OR)4
(式中、Rはアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基である。)
他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。
General formula (OSi-1): Si (OR) 4
(In the formula, R is an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
In addition, a silane coupling agent, a curing agent, a surfactant and the like may be added as necessary.

(中空シリカ系微粒子)
中空シリカ系微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。なお、低屈折率層には(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。
(Hollow silica fine particles)
The hollow silica-based fine particles are (I) composite particles comprising porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or (II) having cavities inside, and the contents are solvent, gas or porous It is a hollow particle filled with a porous material. Note that the low refractive index layer only needs to contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or both.

なお、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は被覆層(粒子壁ともいう。)で覆われている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される中空微粒子の平均粒子径は、形成される低屈折率層の平均膜厚の3/2〜1/10好ましくは2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの中空微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)、あるいはこれらを含む混合溶媒が好ましい。   Note that the cavity particles are particles having a cavity inside, and the cavity is covered with a coating layer (also referred to as a particle wall). The cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle size of such hollow fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The average particle diameter of the hollow fine particles to be used is desirably 3/2 to 1/10, preferably 2/3 to 1/10, of the average film thickness of the low refractive index layer to be formed. These hollow fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol) and ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), ketone alcohol (for example, diacetone alcohol), or a mixed solvent containing these is preferable.

複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することができないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマー等が容易に複合粒子の内部の空隙部分に進入して粒子の屈折率を増加させ、低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持できないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。   The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, if the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and it is easy to use a silicate monomer or oligomer having a low polymerization degree, which is a coating liquid component described later. In some cases, the refractive index of the particles is increased by entering the voids inside the composite particles, and the effect of low refractive index may not be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, if the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. .

複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgF等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等との1種または2種以上を挙げることができる。このような多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOX)で表したときのモル比MOX/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、さらに屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. In addition, components other than silica may be contained. Specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Among these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly preferable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MO X / SiO 2 when the silica is expressed by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is expressed in terms of oxide (MO X ) is 0.0001 to 1.0, Preferably it is in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain a porous particle having a molar ratio MO X / SiO 2 of less than 0.0001. Even if it is obtained, particles having a small pore volume and a low refractive index cannot be obtained. In addition, when the molar ratio MO X / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it is difficult to obtain a low refractive index. is there.

このような多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。   The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.

なお、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることができる。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例表した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。   In addition, the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Examples of the porous substance include those composed of the compounds exemplified for the porous particles. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.

このような中空微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第1〜第3工程から中空微粒子は製造される。   As a method for producing such hollow fine particles, for example, the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed. Specifically, when the composite particles are composed of silica and an inorganic compound other than silica, hollow fine particles are produced from the following first to third steps.

第1工程:多孔質粒子前駆体の調製
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
First Step: Preparation of Porous Particle Precursor In the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is separately prepared in advance, or a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica are prepared in advance. A mixed aqueous solution is prepared, and this aqueous solution is gradually added to an aqueous alkaline solution having a pH of 10 or more while stirring according to the composite ratio of the target composite oxide to prepare a porous particle precursor.

シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム(水ガラス)やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン類を挙げることができる。なお、アンモニウムのケイ酸塩または有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第4級アンモニウム水酸化物、アミン化合物等を添加したアルカリ性溶液も含まれる。   As the silica raw material, alkali metal, ammonium or organic base silicate is used. Sodium silicate (water glass) or potassium silicate is used as the alkali metal silicate. Examples of the organic base include quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, and amines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. The ammonium silicate or the organic base silicate includes an alkaline solution obtained by adding ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound or the like to a silicic acid solution.

また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物が用いられる。具体的には、Al、B、Ti、Zr、Sn、Ce、P、Sb、Mo、Zn、W等から選ばれる元素のオキソ酸、該オキソ酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩を挙げることができる。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、錫酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。   In addition, alkali-soluble inorganic compounds are used as raw materials for inorganic compounds other than silica. Specifically, an oxo acid of an element selected from Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W, etc., an alkali metal salt or alkaline earth metal salt of the oxo acid, ammonium And salts and quaternary ammonium salts. More specifically, sodium aluminate, sodium tetraborate, zirconyl ammonium carbonate, potassium antimonate, potassium stannate, sodium aluminosilicate, sodium molybdate, cerium ammonium nitrate, and sodium phosphate are suitable.

これらの水溶液の添加と同時に混合水溶液のpH値は変化するが、このpH値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類及びその混合割合によって定まるpH値となる。このときの水溶液の添加速度には特に制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。当該シード粒子としては、特に制限はないが、SiO2、Al23、TiO2またはZrO2等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることができる。さらに前記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のpHを10以上に調整した後、該シード粒子分散液中に前記化合物の水溶液を、上記したアルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のpH制御を行う必要はない。このようにしてシード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることができる。 Although the pH value of the mixed aqueous solution changes simultaneously with the addition of these aqueous solutions, an operation for controlling the pH value within a predetermined range is not particularly required. The aqueous solution finally has a pH value determined by the type of inorganic oxide and the mixing ratio thereof. There is no restriction | limiting in particular in the addition rate of the aqueous solution at this time. Further, in the production of composite oxide particles, a dispersion of seed particles can be used as a starting material. The seed particles are not particularly limited, but inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 or ZrO 2 or fine particles of these composite oxides are used. Usually, these sols are used. Can do. Furthermore, the porous particle precursor dispersion obtained by the above production method may be used as a seed particle dispersion. When using a seed particle dispersion, the pH of the seed particle dispersion is adjusted to 10 or higher, and then an aqueous solution of the compound is added to the above-mentioned alkaline aqueous solution while stirring. Also in this case, it is not always necessary to control the pH of the dispersion. When seed particles are used in this way, it is easy to control the particle size of the porous particles to be prepared, and particles with uniform particle sizes can be obtained.

上記したシリカ原料及び無機化合物原料はアルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいpH領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン及びアルミン酸イオン等のオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して微粒子に成長したり、または、シード粒子上に析出して粒子成長が起る。従って、微粒子の析出、成長に際して、従来法のようなpH制御は必ずしも行う必要がない。   The silica raw material and the inorganic compound raw material described above have high solubility on the alkali side. However, when both are mixed in this highly soluble pH region, the solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these composites precipitate and grow into fine particles, or seed particles. It grows on the top and particle growth occurs. Therefore, it is not always necessary to perform pH control as in the conventional method for precipitation and growth of fine particles.

第1工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物(MOX)に換算し、MOX/SiO2のモル比が、0.05〜2.0、好ましくは0.2〜2.0の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が2.0を越えても、多孔質粒子の細孔の容積はほとんど増加しない。他方、モル比が0.05未満の場合は、細孔容積が小さくなる。空洞粒子を調製する場合、MOX/SiO2のモル比は、0.25〜2.0の範囲内にあることが望ましい。 The composite ratio of the silica and the inorganic compound other than silica in the first step is calculated by converting the inorganic compound to silica into an oxide (MO X ), and the molar ratio of MO X / SiO 2 is 0.05 to 2.0, Preferably it is in the range of 0.2-2.0. Within this range, the pore volume of the porous particles increases as the proportion of silica decreases. However, even when the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small. When preparing the hollow particles, the molar ratio of MO X / SiO 2 is desirably in the range of 0.25 to 2.0.

第2工程:多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、または、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
Second step: Removal of inorganic compound other than silica from porous particles In the second step, inorganic compounds other than silica (elements other than silicon and oxygen) are obtained from the porous particle precursor obtained in the first step. At least a portion is selectively removed. As a specific removal method, the inorganic compound in the porous particle precursor is dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or is contacted with a cation exchange resin for ion exchange removal.

なお、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。このように多孔質粒子前駆体から無機化合物(珪素と酸素以外の元素)を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物(珪素と酸素以外の元素)を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することができる。   The porous particle precursor obtained in the first step is a particle having a network structure in which silicon and an inorganic compound constituent element are bonded through oxygen. By removing the inorganic compound (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor in this way, porous particles having a larger porosity and a larger pore volume can be obtained. Further, if the amount of removing the inorganic oxide (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor is increased, the hollow particles can be prepared.

また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られる、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有するケイ酸液または加水分解性の有機珪素化合物を添加してシリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは0.5〜15nmの厚さであればよい。なおシリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり厚さが薄いので、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。   In addition, prior to removing inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor, fluorine-substituted, obtained by dealkalizing an alkali metal salt of silica into the porous particle precursor dispersion obtained in the first step. It is preferable to add a silicic acid solution containing an alkyl group-containing silane compound or a hydrolyzable organosilicon compound to form a silica protective film. The thickness of the silica protective film may be 0.5 to 15 nm. Even if the silica protective film is formed, the protective film in this step is porous and thin, so that it is possible to remove inorganic compounds other than silica described above from the porous particle precursor.

このようなシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することができる。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく後述するシリカ被覆層を形成することができる。なお、除去する無機化合物の量が少ない場合は粒子が壊れることがないので必ずしも保護膜を形成する必要はない。   By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than silica described above can be removed from the porous particle precursor while maintaining the particle shape. Further, when forming the silica coating layer described later, the pores of the porous particles are not blocked by the coating layer, and therefore the silica coating layer described later is formed without reducing the pore volume. Can do. Note that when the amount of the inorganic compound to be removed is small, the particles are not broken, and thus it is not always necessary to form a protective film.

また空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、該シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、該空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。   When preparing hollow particles, it is desirable to form this silica protective film. When preparing the hollow particles, the inorganic compound is removed to obtain a hollow particle precursor composed of a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid content. When a coating layer to be described later is formed on the precursor, the formed coating layer becomes a particle wall to form hollow particles.

上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持できる範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多すぎると、シリカ保護膜が厚くなりすぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、一般式RnSi(OR′)4n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、フッ素置換したテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 The amount of the silica source added for forming the silica protective film is preferably small as long as the particle shape can be maintained. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, and it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica protective film formed of the general formula R n Si (OR ') 4 - n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, such as acrylic group An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as fluorine-substituted tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the porous particles, and the alkoxysilane is hydrolyzed. The produced silicic acid polymer is deposited on the surface of the inorganic oxide particles. At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、または有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。なお、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。   When the dispersion medium of the porous particle precursor is water alone or when the ratio of water to the organic solvent is high, a silica protective film can be formed using a silicic acid solution. When a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles. In addition, you may produce a silica protective film together using a silicic acid liquid and the said alkoxysilane.

第3工程:シリカ被覆層の形成
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
Third step: Formation of silica coating layer In the third step, the porous particle dispersion prepared in the second step (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor dispersion) contains a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound. By adding a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution, the surface of the particles is coated with a polymer such as a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution to form a silica coating layer.

シリカ被覆層形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、前記したような一般式RnSi(OR′)4n〔R、R′:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いらる。 The hydrolyzable organic silicon compound used for the silica coating layer formed, the above-mentioned such general formula R n Si (OR ') 4 - n [R, R': an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, An alkoxysilane represented by a hydrocarbon group such as an acryl group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is used as a dispersion of the porous particles (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor). In addition, the silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilane is deposited on the surface of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の分散媒が水単独、または有機溶媒との混合溶媒であって、有機溶媒に対する水の比率が高い混合溶媒の場合には、ケイ酸液を用いて被覆層を形成してもよい。ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。   When the dispersion medium of porous particles (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor) is water alone or a mixed solvent with an organic solvent and the mixed solvent has a high ratio of water to the organic solvent, a silicate solution You may form a coating layer using. The silicic acid solution is an aqueous solution of a low silicic acid polymer obtained by dealkalizing an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment.

ケイ酸液は、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中に添加され、同時にアルカリを加えてケイ酸低重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)表面に沈着させる。なお、ケイ酸液を上記アルコキシシランと併用して被覆層形成用に使用してもよい。被覆層形成用に使用される有機珪素化合物またはケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆できる程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが1〜20nmとなるように量で、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中で添加される。また前記シリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが1〜20nmの範囲となるような量で、有機珪素化合物またはケイ酸液は添加される。   The silicic acid solution is added to the dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors), and at the same time, alkali is added to make the low-silicic acid polymer into porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). ) Deposit on the surface. In addition, you may use a silicic acid liquid for the coating layer formation in combination with the said alkoxysilane. The addition amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer only needs to be sufficient to cover the surface of the colloidal particles, and the finally obtained silica coating layer has a thickness of 1 to 20 nm. In such an amount, it is added in a dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor) in a dispersion. When the silica protective film is formed, the organosilicon compound or the silicate solution is added in such an amount that the total thickness of the silica protective film and the silica coating layer is in the range of 1 to 20 nm.

次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体または多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。   Next, the dispersion liquid of the particles on which the coating layer is formed is heat-treated. By the heat treatment, in the case of porous particles, the silica coating layer covering the surface of the porous particles is densified, and a dispersion of composite particles in which the porous particles are coated with the silica coating layer is obtained. In the case of a hollow particle precursor, the formed coating layer is densified to form hollow particle walls, and a dispersion of hollow particles having cavities filled with a solvent, gas, or porous solid content is obtained.

このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞できる程度であれば特に制限はなく、80〜300℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が80℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化できないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が300℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率の効果が得られないことがある。   The heat treatment temperature at this time is not particularly limited as long as it can close the fine pores of the silica coating layer, and is preferably in the range of 80 to 300 ° C. When the heat treatment temperature is less than 80 ° C., the fine pores of the silica coating layer may not be completely closed and densified, and the treatment time may take a long time. Further, when the heat treatment temperature exceeds 300 ° C. for a long time, fine particles may be formed, and the effect of low refractive index may not be obtained.

このようにして得られた無機微粒子の屈折率は、1.42未満と低い。このような無機微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。なお、中空シリカ系微粒子は触媒化成(株)から市販されているものも好ましく利用することができる。   The refractive index of the inorganic fine particles thus obtained is as low as less than 1.42. Such inorganic fine particles are presumed to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is hollow. As the hollow silica-based fine particles, those commercially available from Catalyst Kasei Co., Ltd. can be preferably used.

外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子の低屈折率層中の含有量は、10〜50質量%であることが好ましい。低屈折率の効果を得る上で、15質量%以上が好ましく、50質量%を超えるとバインダー成分が少なくなり膜強度が不十分となる。特に好ましくは20〜50質量%である。   The content of the hollow silica-based fine particles having an outer shell layer and porous or hollow inside is preferably 10 to 50% by mass. In order to obtain the effect of a low refractive index, the content is preferably 15% by mass or more. Most preferably, it is 20-50 mass%.

前記一般式(OSi−1)で表される、有機珪素化合物は、式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基を表す。   In the organic silicon compound represented by the general formula (OSi-1), R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。   Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane and the like are preferably used.

低屈折率層への添加方法としては、これらのテトラアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記中空シリカ系微粒子の分散液に加え、テトラアルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を中空シリカ系微粒子の表面に沈着させる。このとき、テトラアルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。   As a method of adding to the low refractive index layer, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these tetraalkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the hollow silica fine particles. The silicic acid polymer produced by hydrolyzing tetraalkoxysilane is deposited on the surface of the hollow silica fine particles. At this time, tetraalkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

また、本発明では低屈折率層に、下記一般式(OSi−2)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有させることも出来る。   In the present invention, the low refractive index layer may contain a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound represented by the following general formula (OSi-2).

Figure 0004935393
Figure 0004935393

前記一般式(OSi−2)で表されるフッ素置換アルキル基含有シラン化合物について説明する。   The fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound represented by the general formula (OSi-2) will be described.

式中、R1〜R6は炭素数1〜16、好ましくは1〜4のアルキル基、炭素数1〜6、好ましくは1〜4のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12、好ましくは6〜10のアリール基、炭素数7〜14、好ましくは7〜12のアルキルアリール基、アリールアルキル基、炭素数2〜8、好ましくは2〜6のアルケニル基、または炭素数1〜6、好ましくは1〜3のアルコキシ基、水素原子またはハロゲン原子を示す。 In the formula, R 1 to R 6 are alkyl groups having 1 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, halogenated alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, 6 to 12 carbon atoms, preferably 6 carbon atoms. 10 to 10 aryl groups, 7 to 14 carbon atoms, preferably 7 to 12 alkylaryl groups, arylalkyl groups, 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 to 6 alkenyl groups, or 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 alkoxy groups, a hydrogen atom or a halogen atom.

Rfは−(Cabc)−を表し、aは1〜12の整数、b+cは2aであり、bは0〜24の整数、cは0〜24の整数を示す。このようなRfとしては、フルオロアルキレン基とアルキレン基とを有する基が好ましい。具体的に、このような含フッ素シリコーン系化合物としては、(MeO)3SiC242424Si(MeO)3、(MeO)3SiC244824Si(MeO)3、(MeO)3SiC2461224Si(MeO)3、(H52O)3SiC244824Si(OC253、(H52O)3SiC2461224Si(OC253で表されるメトキシジシラン化合物等が挙げられる。 Rf represents-(C a H b F c )-, a is an integer of 1 to 12, b + c is 2a, b is an integer of 0 to 24, and c is an integer of 0 to 24. Such Rf is preferably a group having a fluoroalkylene group and an alkylene group. Specifically, as such a fluorine-containing silicone compound, (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 2 F 4 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 4 F 8 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (MeO) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 12 C 2 H 4 Si (MeO) 3 , (H 5 C 2 O) 3 SiC 2 H 4 C 4 F 8 C 2 H Examples include methoxydisilane compounds represented by 4 Si (OC 2 H 5 ) 3 , (H 5 C 2 O) 3 SiC 2 H 4 C 6 F 12 C 2 H 4 Si (OC 2 H 5 ) 3 , and the like.

バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、形成される透明被膜自体が疎水性を有しているので、透明被膜が充分緻密化しておらず、多孔質であったり、またクラックやボイドを有している場合であっても、水分や酸・アルカリ等の薬品による透明被膜への進入が抑制される。さらには、基板表面や下層である導電層中に含まれる金属等の微粒子と水分や酸・アルカリ等の薬品とが反応することもない。このため、このような透明被膜は、優れた耐薬品性を有している。   If the fluorine-containing alkyl group-containing silane compound is included as a binder, the transparent film itself is hydrophobic, so the transparent film is not sufficiently densified and is porous or cracked. Even if it has a void or a void, entry into the transparent film by chemicals such as moisture, acid and alkali is suppressed. Furthermore, fine particles such as metals contained in the conductive layer which is the substrate surface or the lower layer do not react with chemicals such as moisture, acid and alkali. For this reason, such a transparent film has excellent chemical resistance.

また、バインダーとして、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、このような疎水性のみならず、滑り性がよく(接触抵抗が低く)、このためスクラッチ強度に優れた透明被膜を得ることができる。さらに、バインダーが、このような構成単位を有するフッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含んでいると、下層に導電層が形成されている場合には、バインダーの収縮率が、導電層と同等か近いものであるため導電層と密着性に優れた透明被膜を形成することができる。さらに、透明被膜を加熱処理する際に、収縮率の違いから、導電層が剥離して、透明導電性層に電気的接触のない部分が生じることもない。このため、膜全体として充分な導電性を維持できる。   In addition, when a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound is included as a binder, not only the hydrophobic property but also the slipperiness (low contact resistance) is obtained, and thus a transparent film having excellent scratch strength can be obtained. Can do. Furthermore, when the binder contains a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound having such a structural unit, when the conductive layer is formed in the lower layer, the shrinkage of the binder is equal to or close to that of the conductive layer. Since it is a thing, the transparent film excellent in adhesiveness with the conductive layer can be formed. Furthermore, when the transparent film is heat-treated, the conductive layer is not peeled off due to the difference in shrinkage rate, and a portion having no electrical contact is not generated in the transparent conductive layer. For this reason, sufficient electroconductivity can be maintained as a whole film.

フッ素置換アルキル基含有シラン化合物と、前記外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子とを含む透明被膜は、スクラッチ強度が高い上に、消しゴム強度または爪強度で評価される膜強度が高く、鉛筆硬度も高く、強度の上で優れた透明被膜を形成することができる。   A transparent film containing a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound and hollow silica-based fine particles having the outer shell layer and being porous or hollow inside has high scratch strength and is evaluated by eraser strength or nail strength. The film strength is high, the pencil hardness is high, and a transparent film excellent in strength can be formed.

本発明に係る低屈折率層にはシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。   The low refractive index layer according to the present invention may contain a silane coupling agent. Silane coupling agents include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane. Ethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltri Acetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltri Ethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ- Acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N- Examples include β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane.

また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。   Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimeth Shishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.

これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。   Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, and γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxyp Particularly preferred are propyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane.

2種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。   Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.

低屈折率層のその他のバインダーとして用いられるポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、フルオロアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂が挙げられる。   Examples of the polymer used as the other binder of the low refractive index layer include polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, fluoroacrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, and alkyd resin. Can be mentioned.

低屈折率層は、全体で5〜80質量%のバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、中空シリカ系微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。バインダーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように適宜調整する。   The low refractive index layer preferably contains 5 to 80% by mass of binder as a whole. The binder has a function of adhering the hollow silica-based fine particles and maintaining the structure of the low refractive index layer including voids. The usage-amount of a binder is suitably adjusted so that the intensity | strength of a low refractive index layer can be maintained, without filling a space | gap.

(溶媒)
本発明に係る低屈折率層は有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
(solvent)
The low refractive index layer according to the present invention preferably contains an organic solvent. Specific examples of organic solvents include alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Group hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

低屈折率層塗布組成物中の固形分濃度は1〜4質量%であることが好ましく、該固形分濃度が4質量%以下にすることによって、塗布ムラが生じにくくなり、1質量%以上にすることによって乾燥負荷が軽減される。   The solid content concentration in the low refractive index layer coating composition is preferably 1 to 4% by mass. By making the solid content concentration 4% by mass or less, coating unevenness is less likely to occur, and the content is 1% by mass or more. By doing so, the drying load is reduced.

〔高屈折率層〕
本発明においては、反射防止層として、上述の低屈折率層の他に、下記のような高屈折率層を有することが好ましく、該高屈折率層に本発明に係るイオン液体を含有させることが好ましい。
(High refractive index layer)
In the present invention, the antireflective layer preferably has the following high refractive index layer in addition to the above-described low refractive index layer, and the high refractive index layer contains the ionic liquid according to the present invention. Is preferred.

本発明に係る高屈折率層には金属酸化物微粒子が含有されることが好ましい。金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることが出来、これらの金属酸化物微粒子はAl、In、Sn、Sb、Nb、ハロゲン元素、Taなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。   The high refractive index layer according to the present invention preferably contains metal oxide fine particles. The kind of metal oxide fine particles is not particularly limited, and Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S A metal oxide having at least one element selected from the above can be used, and these metal oxide fine particles are doped with a trace amount of atoms such as Al, In, Sn, Sb, Nb, a halogen element, and Ta. May be. A mixture of these may also be used. In the present invention, at least one metal oxide fine particle selected from among zirconium oxide, antimony oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and zinc antimonate is used. It is particularly preferable to use it as the main component. In particular, it is preferable to contain zinc antimonate particles.

これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は10nm〜200nmの範囲であり、10〜150nmであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡(SEM)等による電子顕微鏡写真から計測することが出来る。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。   The average particle diameter of the primary particles of these metal oxide fine particles is in the range of 10 nm to 200 nm, particularly preferably 10 to 150 nm. The average particle diameter of the metal oxide fine particles can be measured from an electron micrograph taken with a scanning electron microscope (SEM) or the like. You may measure by the particle size distribution meter etc. which utilize a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc. If the particle size is too small, aggregation tends to occur and the dispersibility deteriorates. If the particle size is too large, the haze is remarkably increased. The shape of the metal oxide fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a needle shape, or an indefinite shape.

高屈折率層の屈折率は、具体的には、支持体である透明樹脂フィルムの屈折率より高く、23℃、波長550nm測定で、1.5〜2.2の範囲であることが好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的である為、金属酸化物微粒子の屈折率は1.80〜2.60であることが好ましく、1.85〜2.50であることが更に好ましい。   Specifically, the refractive index of the high refractive index layer is higher than the refractive index of the transparent resin film as a support, and is preferably in the range of 1.5 to 2.2 when measured at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. The means for adjusting the refractive index of the high refractive index layer is that the kind and addition amount of the metal oxide fine particles are dominant, so that the refractive index of the metal oxide fine particles is preferably 1.80 to 2.60, More preferably, it is 1.85 to 2.50.

金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑える事も出来る。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して0.1質量%〜5質量%、より好ましくは0.5質量%〜3質量%である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でも後述するシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。   The metal oxide fine particles may be surface-treated with an organic compound. By modifying the surface of the metal oxide fine particles with an organic compound, the dispersion stability in an organic solvent is improved, the dispersion particle size can be easily controlled, and aggregation and sedimentation over time can be suppressed. . For this reason, the surface modification amount with a preferable organic compound is 0.1 mass%-5 mass% with respect to metal oxide particle, More preferably, it is 0.5 mass%-3 mass%. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Among these, the silane coupling agent mentioned later is preferable. Two or more kinds of surface treatments may be combined.

前記金属酸化物微粒子を含有する高屈折率層の厚さは5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。   The thickness of the high refractive index layer containing the metal oxide fine particles is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 0.1 μm.

使用する金属酸化物微粒子と後述する電離放射線硬化型樹脂等のバインダーとの比は、金属酸化物微粒子の種類、粒子サイズなどにより異なるが体積比で前者1に対して後者2から前者2に対して後者1程度が好ましい。   The ratio of the metal oxide fine particles to be used and a binder such as ionizing radiation curable resin, which will be described later, varies depending on the type and particle size of the metal oxide fine particles, but the volume ratio of the former 1 to the latter 2 to the former 2 The latter one is preferable.

本発明において用いられる金属酸化物微粒子の使用量は高屈折率層中に5質量%〜85質量%が好ましく、10質量%〜80質量%であることがより好ましく、20〜75質量%が最も好ましい。使用量が少ないと所望の屈折率や本発明の効果が得られず、多すぎると膜強度の劣化などが発生する。   The amount of the metal oxide fine particles used in the present invention is preferably 5% by mass to 85% by mass in the high refractive index layer, more preferably 10% by mass to 80% by mass, and most preferably 20% to 75% by mass. preferable. If the amount used is small, the desired refractive index and the effect of the present invention cannot be obtained, and if it is too large, the film strength is deteriorated.

上記金属酸化物微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、ケトンアルコール(例、ジアセトンアルコール)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The metal oxide fine particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ketone alcohol (eg, diacetone alcohol). , Esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene) Chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, Tiger hydrofuran), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol), propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate. Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

また金属酸化物微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。分散剤を含有させることも好ましい。   The metal oxide fine particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder. It is also preferable to contain a dispersant.

本発明では、更にコア/シェル構造を有する金属酸化物微粒子を含有させてもよい。シェルはコアの周りに1層形成させてもよいし、耐光性を更に向上させるために複数層形成させてもよい。コアは、シェルにより完全に被覆されていることが好ましい。   In the present invention, metal oxide fine particles having a core / shell structure may be further contained. One layer of the shell may be formed around the core, or a plurality of layers may be formed in order to further improve the light resistance. The core is preferably completely covered by the shell.

コアは酸化チタン(ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等)、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ等を用いることができるが、ルチル型の酸化チタンを主成分としてもよい。   For the core, titanium oxide (rutile type, anatase type, amorphous type, etc.), zirconium oxide, zinc oxide, cerium oxide, indium oxide doped with tin, tin oxide doped with antimony, etc. can be used. Titanium may be the main component.

シェルは酸化チタン以外の無機化合物を主成分とし、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。例えば、二酸化珪素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化鉄、硫化亜鉛等を主成分とした無機化合物が用いられる。この内アルミナ、シリカ、ジルコニア(酸化ジルコニウム)であることが好ましい。また、これらの混合物でもよい。   The shell is preferably formed of a metal oxide or sulfide containing an inorganic compound other than titanium oxide as a main component. For example, an inorganic compound mainly composed of silicon dioxide (silica), aluminum oxide (alumina) zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, iron oxide, zinc sulfide, or the like is used. Of these, alumina, silica, and zirconia (zirconium oxide) are preferable. A mixture of these may also be used.

コアに対するシェルの被覆量は、平均の被覆量で2〜50質量%である。好ましくは3〜40質量%、更に好ましくは4〜25質量%である。シェルの被覆量が多いと微粒子の屈折率が低下し、被覆量が少な過ぎると耐光性が劣化する。二種以上の無機微粒子を併用してもよい。   The coating amount of the shell with respect to the core is 2 to 50% by mass as an average coating amount. Preferably it is 3-40 mass%, More preferably, it is 4-25 mass%. When the coating amount of the shell is large, the refractive index of the fine particles is lowered, and when the coating amount is too small, the light resistance is deteriorated. Two or more inorganic fine particles may be used in combination.

コアとなる酸化チタンは、液相法または気相法で作製されたものを使用できる。また、シェルをコアの周りに形成させる手法としては、例えば、米国特許第3,410,708号、特公昭58−47061号、米国特許第2,885,366号、同第3,437,502号、英国特許第1,134,249号、米国特許第3,383,231号、英国特許第2,629,953号、同第1,365,999号に記載されている方法等を用いることができる。   The titanium oxide used as a core can use what was produced by the liquid phase method or the gaseous-phase method. As a method for forming the shell around the core, for example, U.S. Pat. No. 3,410,708, JP-B-58-47061, U.S. Pat. No. 2,885,366, and U.S. Pat. No. 1, British Patent No. 1,134,249, US Pat. No. 3,383,231, British Patent No. 2,629,953, No. 1,365,999, etc. Can do.

本発明に係る高屈折率層もしくは前述の低屈折率層には、下記一般式(CL1)で表される化合物またはそのキレート化合物を含有することができ、硬度などの物性を改善させることができる。   The high refractive index layer or the low refractive index layer according to the present invention can contain a compound represented by the following general formula (CL1) or a chelate compound thereof, and can improve physical properties such as hardness. .

一般式(CL1) AnMBx-n
式中、Mは金属原子、Aは加水分解可能な官能基または加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Bは金属原子Mに共有結合またはイオン結合した原子団を表す。xは金属原子Mの原子価、nは2以上でx以下の整数を表す。
General formula (CL1) An MB xn
In the formula, M represents a metal atom, A represents a hydrolyzable functional group or a hydrocarbon group having a hydrolyzable functional group, and B represents an atomic group covalently or ionically bonded to the metal atom M. x represents the valence of the metal atom M, and n represents an integer of 2 or more and x or less.

加水分解可能な官能基Aとしては、例えば、アルコキシル基、クロル原子等のハロゲン、エステル基、アミド基等が挙げられる。上記式(2)に属する金属化合物には、金属原子に直接結合したアルコキシル基を2個以上有するアルコキシド、または、そのキレート化合物が含まれる。好ましい金属化合物としては、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドまたはそれらのキレート化合物を挙げることができる。チタンアルコキシドは反応速度が速くて屈折率が高く、取り扱いも容易であるが、光触媒作用があるため大量に添加すると耐光性が劣化する。ジルコニウムアルコキシドは屈折率が高いが白濁し易いため、塗布する際の露点管理等に注意しなければならない。また、チタンアルコキシドは紫外線硬化樹脂、金属アルコキシドの反応を促進する効果があるため、少量添加するだけでも塗膜の物理的特性を向上させることができる。   Examples of the hydrolyzable functional group A include halogens such as alkoxyl groups and chloro atoms, ester groups and amide groups. The metal compound belonging to the above formula (2) includes an alkoxide having two or more alkoxyl groups bonded directly to a metal atom, or a chelate compound thereof. Preferable metal compounds include titanium alkoxide, zirconium alkoxide, or chelate compounds thereof. Titanium alkoxide has a high reaction rate and a high refractive index and is easy to handle. However, since it has a photocatalytic action, its light resistance deteriorates when added in a large amount. Zirconium alkoxide has a high refractive index but tends to become cloudy, so care must be taken in dew point management during coating. Moreover, since titanium alkoxide has the effect of promoting the reaction between the ultraviolet curable resin and the metal alkoxide, the physical properties of the coating film can be improved even by adding a small amount.

チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−iso−プロポキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシチタン、テトラ−tert−ブトキシチタン等が挙げられる。   Examples of the titanium alkoxide include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-iso-propoxy titanium, tetra-n-propoxy titanium, tetra-n-butoxy titanium, tetra-sec-butoxy titanium, tetra-tert-butoxy titanium, and the like. Is mentioned.

ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−iso−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−ブトキシジルコニウム、テトラ−sec−ブトキシジルコニウム、テトラ−tert−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。   Examples of the zirconium alkoxide include tetramethoxy zirconium, tetraethoxy zirconium, tetra-iso-propoxy zirconium, tetra-n-propoxy zirconium, tetra-n-butoxy zirconium, tetra-sec-butoxy zirconium, tetra-tert-butoxy zirconium, and the like. Is mentioned.

遊離の金属化合物に配位させてキレート化合物を形成するのに好ましいキレート化剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等であって分子量1万以下のものを挙げることができる。これらのキレート化剤を用いることにより、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果にも優れるキレート化合物を形成できる。   Preferred chelating agents for forming a chelate compound by coordination with a free metal compound include alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol and propylene glycol, acetylacetone and acetoacetic acid. Examples thereof include ethyl and the like having a molecular weight of 10,000 or less. By using these chelating agents, it is possible to form a chelate compound that is stable against water mixing and is excellent in the effect of reinforcing the coating film.

金属化合物の添加量は、高屈折率層に含まれる該金属化合物由来の金属酸化物の含有量が0.3〜5質量%であるように調整することが好ましい。0.3質量%未満では耐擦傷性が不足し、5質量%を超えると耐光性が劣化する傾向がある。   The addition amount of the metal compound is preferably adjusted so that the content of the metal oxide derived from the metal compound contained in the high refractive index layer is 0.3 to 5% by mass. If it is less than 0.3% by mass, the scratch resistance is insufficient, and if it exceeds 5% by mass, the light resistance tends to deteriorate.

本発明に係る高屈折率層には、電離放射線硬化型樹脂を、金属酸化物微粒子のバインダーとして、塗膜の製膜性や物理的特性の向上のために含有させることが出来る。電離放射線硬化型樹脂としては、紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直接、または光重合開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を2個以上有するモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。官能基としては(メタ)アクリロイルオキシ基等のような不飽和二重結合を有する基、エポキシ基、シラノール基等が挙げられる。中でも不飽和二重結合を2個以上有するラジカル重合性のモノマーやオリゴマーを好ましく用いることができる。必要に応じて光重合開始剤を組み合わせてもよい。このような電離放射線硬化型樹脂としては、ポリオールアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートもしくはそれらの混合物が用いられる。例えば多官能アクリレート化合物等が挙げられ、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれる化合物であることが好ましい。ここで、多官能アクリレート化合物とは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基及び/またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。   The high refractive index layer according to the present invention can contain an ionizing radiation curable resin as a binder for the metal oxide fine particles in order to improve the film formability and physical properties of the coating film. As the ionizing radiation curable resin, a monomer or oligomer having two or more functional groups that cause polymerization reaction directly by irradiation of ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams or indirectly by the action of a photopolymerization initiator is used. Can be used. Examples of the functional group include a group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyloxy group, an epoxy group, and a silanol group. Among these, radically polymerizable monomers and oligomers having two or more unsaturated double bonds can be preferably used. You may combine a photoinitiator as needed. As such an ionizing radiation curable resin, polyol acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate or a mixture thereof is used. For example, a polyfunctional acrylate compound etc. are mentioned, It is preferable that it is a compound chosen from the group which consists of a pentaerythritol polyfunctional acrylate, a dipentaerythritol polyfunctional acrylate, a pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and a dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. Here, the polyfunctional acrylate compound is a compound having two or more acryloyloxy groups and / or methacryloyloxy groups in the molecule.

多官能アクリレート化合物のモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートが好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または2種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの2量体、3量体等のオリゴマーであってもよい。   Examples of the monomer of the polyfunctional acrylate compound include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and tetramethylolmethanetriacrylate. Acrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerin triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, Dipen Erythritol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, tetra Methylol methane trimethacrylate, tetramethylol methane tetramethacrylate, pentaglycerol trimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, glycerol trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol te La methacrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, dipentaerythritol hexa methacrylate preferred. These compounds are used alone or in admixture of two or more. Moreover, oligomers, such as a dimer and a trimer of the said monomer, may be sufficient.

電離放射線硬化型樹脂の添加量は、高屈折率組成物では固形分中の15質量%以上50質量%未満であることが好ましい。   The addition amount of the ionizing radiation curable resin is preferably 15% by mass or more and less than 50% by mass in the solid content in the high refractive index composition.

本発明に係る電離放射線硬化型樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤と分子中に重合可能な不飽和結合を2個以上有するアクリル系化合物とを質量比で3:7〜1:9含有することが好ましい。   In order to accelerate the curing of the ionizing radiation curable resin according to the present invention, the photopolymerization initiator and the acrylic compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule are in a mass ratio of 3: 7 to 1: 9. It is preferable to contain.

光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof, but are not particularly limited thereto.

本発明に係る高屈折率層をコーティングする際に用いられる有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。   Examples of the organic solvent used for coating the high refractive index layer according to the present invention include alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, Hexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, etc.), polyhydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, Hexanetriol, thiodiglycol, etc.), polyhydric alcohol ethers (eg, ethylene glycol monomethyl) Ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol Monoethyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (eg, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmolybdenum) Holin, ethylenediamine, diethylenediamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide) Etc.), heterocyclic rings (for example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide, etc.) ), Sulfones (for example, sulfolane, etc.), urea, acetonitrile, acetone and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable.

〔バックコート層〕
本発明の反射防止フィルムは、ハードコート層を設けた側と反対側の面にバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、ハードコート層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることができる。なお、バックコート層は好ましくはブロッキング防止層を兼ねて塗設され、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されることが好ましい。
[Back coat layer]
In the antireflection film of the present invention, it is preferable to provide a backcoat layer on the surface opposite to the side on which the hardcoat layer is provided. The back coat layer is provided in order to correct curling caused by providing a hard coat layer or other layers. That is, the degree of curling can be balanced by imparting the property of being rounded with the surface on which the backcoat layer is provided facing inward. The back coat layer is preferably applied also as an anti-blocking layer. In this case, it is preferable that fine particles are added to the back coat layer coating composition in order to provide an anti-blocking function.

バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ITO、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。   As fine particles added to the back coat layer, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, tin oxide, and oxidation. Mention may be made of indium, zinc oxide, ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate.

これらの微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。   These fine particles are commercially available under the trade names of, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, and TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). . Zirconium oxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used. Examples of the polymer include silicone resin, fluororesin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもでアエロジル200V、アエロジルR972Vがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられる反射防止フィルムは、活性エネルギー線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が0.9以下、特に0.1〜0.9であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large anti-blocking effect while keeping haze low. The antireflection film used in the present invention preferably has a dynamic friction coefficient on the back side of the active energy ray-curable resin layer of 0.9 or less, particularly 0.1 to 0.9.

バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して0.1〜50質量%好ましくは0.1〜10質量%であることが好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は1%以下であることが好ましく0.5%以下であることが好ましく、特に0.0〜0.1%であることが好ましい。   The fine particles contained in the backcoat layer are 0.1 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the binder. When the back coat layer is provided, the increase in haze is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.0 to 0.1%.

バックコート層の塗布に用いられる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルム、水、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブタノール、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、または炭化水素類(トルエン、キシレン)等があげられ、適宜組み合わされて用いられる。   Examples of the solvent used for coating the backcoat layer include dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, N, N-dimethylformamide, methyl acetate, ethyl acetate, trichloroethylene, methylene chloride, ethylene chloride, tetrachloroethane, trichloroethane, Chloroform, water, methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butanol, cyclohexanone, cyclohexanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, or hydrocarbons (toluene, xylene) Are used in appropriate combinations.

これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚1〜100μmで塗布するのが好ましいが、特に5〜30μmであることが好ましい。バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体または共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート(好ましくはアセチル基置換度1.8〜2.3、プロピオニル基置換度0.1〜1.0)、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び/またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レーヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レーヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマー等が市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することもできる。例えば、バインダーとして用いられる樹脂としてはセルロースジアセテート、セルロースアセテートプロヒオネートなどのセルロースエステルとアクリル樹脂のブレンド物を用いることが好ましく、アクリル樹脂からなる微粒子を用いて、微粒子とバインダーとの屈折率差を0〜0.02未満とすることで透明性の高いバックコート層とすることができる。   These coating compositions are preferably applied to the surface of the transparent resin film with a wet film thickness of 1 to 100 μm using a gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die coater, spray coating, ink jet coating or the like. Is particularly preferably 5 to 30 μm. Examples of the resin used as the binder of the backcoat layer include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, partially hydrolyzed vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. Polymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, chlorinated polyvinyl chloride, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, etc. Vinyl polymer or copolymer, nitrocellulose, cellulose acetate propionate (preferably acetyl group substitution degree 1.8-2.3, propionyl group substitution degree 0.1-1.0), diacetyl cellulose, cellulose Cellulose derivatives such as acetate butyrate resin, maleic acid and / or Or acrylic acid copolymer, acrylic ester copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, chlorinated polyethylene, acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene copolymer, methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin , Polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, urethane resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, polycarbonate polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, polyamide resin, amino resin, styrene-butadiene resin, butadiene-acrylonitrile Examples thereof include, but are not limited to, rubber resins such as resins, silicone resins, fluorine resins, and the like. For example, as an acrylic resin, Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M-4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001, M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR -80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105 BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) acrylic and The methacrylic monomers are commercially available various homopolymers and copolymers, etc. was prepared as a raw material, it is also possible to select a preferred mono from this appropriate. For example, as a resin used as a binder, it is preferable to use a blend of cellulose ester such as cellulose diacetate and cellulose acetate prothionate and an acrylic resin, and the refractive index of the fine particles and the binder using fine particles made of an acrylic resin. By setting the difference to be less than 0 to 0.02, a highly transparent back coat layer can be obtained.

バックコート層を塗設する順番は本発明の反射防止フィルムの活性エネルギー線硬化樹脂層を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。または2回以上に分けてバックコート層を塗布することもできる。また、バックコート層は偏光子との接着性を改善するための易接着層を兼ねることも好ましい。   The order of coating the backcoat layer may be before or after coating the active energy ray curable resin layer of the antireflection film of the present invention, but when the backcoat layer also serves as an antiblocking layer, it is coated first. It is desirable. Alternatively, the backcoat layer can be applied in two or more steps. Moreover, it is also preferable that the backcoat layer also serves as an easy-adhesion layer for improving the adhesion with the polarizer.

(反射防止フィルムの反射率)
本発明に係る反射防止フィルムの反射率は分光光度計により測定を行うことができる。その際、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行ってから、可視光領域(400〜700nm)の反射光を測定する。反射率は低いほど好ましいが、可視光領域の波長における平均値が1.5%以下であることが好ましく、最低反射率は0.8%以下であることが好ましい。また、可視光の波長領域において平坦な形状の反射スペクトルを有することが好ましい。
(Reflectivity of antireflection film)
The reflectance of the antireflection film according to the present invention can be measured with a spectrophotometer. At that time, after the surface on the measurement side of the sample is roughened, the light absorption treatment is performed using a black spray, and then the reflected light in the visible light region (400 to 700 nm) is measured. The reflectance is preferably as low as possible, but the average value in the visible light wavelength is preferably 1.5% or less, and the minimum reflectance is preferably 0.8% or less. Moreover, it is preferable to have a flat reflection spectrum in the wavelength region of visible light.

また、反射防止処理を施した表示装置表面の反射色相は、反射防止膜の設計上可視光領域において短波長域や長波長域の反射率が高くなることから赤や青に色づくことが多いが、反射光の色味は用途によって要望が異なり、薄型テレビ等の最表面に使用する場合にはニュートラルな色調が好まれる。この場合、一般に好まれる反射色相範囲は、XYZ表色系(CIE1931表色系)上で0.17≦x≦0.27、0.07≦y≦0.17である。   In addition, the reflection hue on the surface of the display device that has been subjected to the antireflection treatment is often colored red or blue because the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region is high in the visible light region due to the design of the antireflection film. The color tone of the reflected light varies depending on the application, and when used on the outermost surface of a flat-screen television or the like, a neutral color tone is preferred. In this case, generally preferred reflection hue ranges are 0.17 ≦ x ≦ 0.27 and 0.07 ≦ y ≦ 0.17 on the XYZ color system (CIE1931 color system).

高屈折率層と低屈折率層の膜厚は、各々の層の屈折率より反射率、反射光の色味を考慮して常法に従って計算で求められる。   The film thicknesses of the high refractive index layer and the low refractive index layer can be obtained by calculation according to a conventional method in consideration of the reflectance and the color of reflected light based on the refractive index of each layer.

本発明は各層を塗布する前に表面処理することが好ましい。表面処理方法としては、洗浄法、アルカリ処理法、フレームプラズマ処理法、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等が挙げられる。   In the present invention, the surface treatment is preferably performed before each layer is applied. Examples of the surface treatment method include a cleaning method, an alkali treatment method, a flame plasma treatment method, a high frequency discharge plasma method, an electron beam method, an ion beam method, a sputtering method, an acid treatment, a corona treatment method, and an atmospheric pressure glow discharge plasma method. It is done.

コロナ処理とは、大気圧下、電極間に1kV以上の高電圧を印加し、放電することで行う処理のことであり、春日電機(株)や(株)トーヨー電機などで市販されている装置を用いて行うことが出来る。コロナ放電処理の強度は、電極間距離、単位面積当たりの出力、ジェネレーターの周波数に依存する。コロナ処理装置の一方の電極(A電極)は、市販のものを用いることが出来るが、材質はアルミニウム、ステンレスなどから選択が出来る。もう一方はプラスチックフィルムを抱かせるための電極(B電極)であり、コロナ処理が、安定かつ均一に実施されるように、前記A電極に対して一定の距離に設置されるロール電極である。これも通常市販されているものを用いることが出来、材質は、アルミニウム、ステンレス、及びそれらの金属で出来たロールに、セラミック、シリコン、EPTゴム、ハイパロンゴムなどがライニングされているロールが好ましく用いられる。本発明に用いられるコロナ処理に用いる周波数は、20kHz以上100kHz以下の周波数であり、30kHz〜60kHzの周波数が好ましい。周波数が低下するとコロナ処理の均一性が劣化し、コロナ処理のムラが発生する。また、周波数が大きくなると、高出力のコロナ処理を行う場合には、特に問題ないが、低出力のコロナ処理を実施する場合には、安定した処理を行うことが難しくなり、結果として、処理ムラが発生する。コロナ処理の出力は、1〜5W・min./m2であるが、2〜4W・min./m2の出力が好ましい。電極とフィルムとの距離は、5mm以上50mm以下であるが、好ましくは、10mm以上35mm以下である。間隙が開いてくると、一定の出力を維持するためにより高電圧が必要になり、ムラが発生し易くなる。また、間隙が狭くなりすぎると、印加する電圧が低くなりすぎ、ムラが発生し易くなる。更にまた、フィルムを搬送して連続処理する際に電極にフィルムが接触し傷が発生する。 The corona treatment is a treatment performed by applying a high voltage of 1 kV or more between the electrodes under atmospheric pressure and discharging it. An apparatus commercially available from Kasuga Electric Co., Ltd. or Toyo Electric Co., Ltd. Can be used. The intensity of the corona discharge treatment depends on the distance between the electrodes, the output per unit area, and the generator frequency. As one electrode (A electrode) of the corona treatment apparatus, a commercially available one can be used, but the material can be selected from aluminum, stainless steel and the like. The other is an electrode (B electrode) for holding a plastic film, and is a roll electrode installed at a certain distance from the A electrode so that the corona treatment is carried out stably and uniformly. A commercially available one can also be used, and the material is preferably a roll made of aluminum, stainless steel, or a metal thereof, and a roll lined with ceramic, silicon, EPT rubber, hyperon rubber, or the like. It is done. The frequency used for the corona treatment used in the present invention is a frequency of 20 kHz to 100 kHz, and a frequency of 30 kHz to 60 kHz is preferable. When the frequency is lowered, the uniformity of the corona treatment is deteriorated and unevenness of the corona treatment occurs. In addition, when the frequency is increased, there is no particular problem when performing high-output corona treatment, but when performing low-output corona treatment, it is difficult to perform stable processing, resulting in uneven processing. Will occur. The output of the corona treatment is 1 to 5 W · min. / M 2 but 2 to 4 W · min. An output of / m 2 is preferred. The distance between the electrode and the film is 5 mm or more and 50 mm or less, preferably 10 mm or more and 35 mm or less. When the gap is opened, a higher voltage is required to maintain a constant output, and unevenness is likely to occur. On the other hand, if the gap is too narrow, the applied voltage becomes too low and unevenness is likely to occur. Furthermore, when the film is transported and continuously processed, the film comes into contact with the electrodes and scratches are generated.

アルカリ処理方法としては、ハードコート層を塗設したフィルムをアルカリ水溶液に浸す方法であれば特に限定されない。   The alkali treatment method is not particularly limited as long as it is a method in which a film coated with a hard coat layer is immersed in an alkaline aqueous solution.

アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、アンモニア水溶液等が使用可能であり、中でも水酸化ナトリウム水溶液が好ましい。   As the aqueous alkali solution, an aqueous sodium hydroxide solution, an aqueous potassium hydroxide solution, an aqueous ammonia solution or the like can be used, and an aqueous sodium hydroxide solution is particularly preferable.

アルカリ水溶液のアルカリ濃度、例えば水酸化ナトリウム濃度は0.1〜25質量%が好ましく、0.5〜15質量%がより好ましい。   The alkali concentration of the aqueous alkali solution, for example, sodium hydroxide concentration is preferably 0.1 to 25% by mass, and more preferably 0.5 to 15% by mass.

アルカリ処理温度は通常10〜80℃、好ましく20〜60℃である。   The alkali treatment temperature is usually 10 to 80 ° C, preferably 20 to 60 ° C.

アルカリ処理時間は5秒〜5分、好ましくは30秒〜3分である。アルカリ処理後のフィルムは酸性水で中和した後、十分に水洗いを行うことが好ましい。   The alkali treatment time is 5 seconds to 5 minutes, preferably 30 seconds to 3 minutes. The film after the alkali treatment is preferably neutralized with acidic water and then thoroughly washed with water.

反射防止層の各層は、透明樹脂フィルム上に、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法を用いて、塗布により形成することができる。塗布に際しては、透明樹脂フィルムが、幅が1.4〜4mでロール状に巻き取られた状態から繰り出して、上記塗布を行い、乾燥・硬化処理した後、ロール状に巻き取られることが好ましい。   Each layer of the antireflection layer uses a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a micro gravure coating method and an extrusion coating method on a transparent resin film. And can be formed by coating. At the time of application, it is preferable that the transparent resin film is unwound in a roll shape with a width of 1.4 to 4 m, applied, dried and cured, and then wound into a roll shape. .

更に、本発明の反射防止フィルムは、透明樹脂フィルム上に前記ハードコート層及び反射防止層を積層した後、ロール状に巻き取った状態で50〜160℃で加熱処理を行う製造方法によって製造されることが好ましい。加熱処理の期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば、50℃であれば、好ましくは3日間以上30日未満の期間、160℃であれば10分以上1日以下の範囲が好ましい。通常は、巻外部、巻中央部、巻き芯部の加熱処理効果が偏らないように、比較的低温に設定することが好ましく、50〜60℃付近で7日間程度行うことが好ましい。   Furthermore, the antireflection film of the present invention is produced by a production method in which the hard coat layer and the antireflection layer are laminated on a transparent resin film, and then heat-treated at 50 to 160 ° C. while being wound up in a roll shape. It is preferable. The period of the heat treatment may be appropriately determined depending on the set temperature. For example, if it is 50 ° C., it preferably ranges from 3 days to less than 30 days, and if it is 160 ° C., it ranges from 10 minutes to 1 day. preferable. Usually, it is preferably set at a relatively low temperature so that the heat treatment effect at the outside of the winding, the center of the winding, and the core is not biased, and is preferably performed at around 50 to 60 ° C. for about 7 days.

加熱処理を安定して行うためには、温湿度が調整可能な場所で行うことが必要であり、塵のないクリーンルーム等の加熱処理室で行うことが好ましい。   In order to stably perform the heat treatment, it is necessary to perform in a place where the temperature and humidity can be adjusted, and it is preferable to perform in a heat treatment chamber such as a clean room without dust.

機能性薄膜がコーティングされた反射防止フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、特に限定されないが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度に耐える耐熱性プラスチックが好ましく、例えばフェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂が挙げられる。またガラス繊維などの充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。   When winding the antireflection film coated with the functional thin film into a roll, the winding core is not particularly limited as long as it is a cylindrical core, but is preferably a hollow plastic core, and the plastic material is heated. A heat-resistant plastic that can withstand the processing temperature is preferable, and examples thereof include resins such as phenol resin, xylene resin, melamine resin, polyester resin, and epoxy resin. A thermosetting resin reinforced with a filler such as glass fiber is preferable.

これらの巻きコアへの巻き数は、100巻き以上であることが好ましく、500巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は5cm以上であることが好ましい。   The number of windings on these winding cores is preferably 100 windings or more, more preferably 500 windings or more, and the winding thickness is preferably 5 cm or more.

このようにして長巻のプラスチックフィルム基材上に機能性薄膜がコーティングされ、プラスチックコアに巻き取られたロールを、巻き取った状態で前記加熱処理を行うとき、該ロールを回転させることが好ましく、回転は、1分間に1回転以下の速度が好ましく、連続でも良く断続的な回転であっても良い。又、加熱期間中に該ロールの巻き替えを1回以上行うことが好ましい。   In this way, when the heat treatment is performed in a state where the functional thin film is coated on the long plastic film substrate and the roll wound around the plastic core is wound, it is preferable to rotate the roll. The rotation is preferably performed at a speed of 1 rotation or less per minute, and may be continuous or intermittent. Moreover, it is preferable to perform rewinding of the roll once or more during the heating period.

コアに巻き取られた長巻の反射防止フィルムロールを加熱処理中に回転させる為加熱処理室に専用の回転台を設けることが好ましい。   In order to rotate the long antireflection film roll wound around the core during the heat treatment, it is preferable to provide a dedicated turntable in the heat treatment chamber.

回転は、断続の場合は停止している時間を10時間以内とすることが好ましく、停止位置は、円周方向に均一となる様にすることが好ましく、停止時間は10分以内とすることがより好ましい。最も好ましくは、連続回転である。   In the case of intermittent rotation, the stop time is preferably within 10 hours, the stop position is preferably made uniform in the circumferential direction, and the stop time is within 10 minutes. More preferred. Most preferred is continuous rotation.

連続回転での回転速度は、1回転に要する時間は好ましくは10時間以下とすることであり、早いと装置的に負担となるため実質的には、15分から2時間の範囲が好ましい。   As for the rotation speed in continuous rotation, the time required for one rotation is preferably 10 hours or less, and if it is early, it becomes a burden on the apparatus, so the range of 15 minutes to 2 hours is substantially preferable.

尚、回転機能を有する専用の台車の場合には、移動や保管中にも反射防止フィルムロールを回転させることが出来て好ましく、この場合、保管期間が長い場合に生じるブラックバンド対策として回転が有効に機能する。   In the case of a dedicated carriage having a rotation function, it is preferable that the antireflection film roll can be rotated during movement and storage. In this case, rotation is effective as a countermeasure against black bands that occur when the storage period is long. To work.

《透明樹脂フィルム》
本発明に用いられる透明樹脂フィルムについて説明する。
<Transparent resin film>
The transparent resin film used for this invention is demonstrated.

本発明に用いられる透明樹脂フィルムとしては、製造が容易であること、活性線硬化型樹脂層との接着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられる。   The transparent resin film used in the present invention is easy to manufacture, has good adhesion to the actinic radiation curable resin layer, is optically isotropic, is optically transparent, etc. Is mentioned as a preferable requirement.

本発明でいう透明とは、可視光の透過率60%以上であることをさし、好ましくは80%以上であり、特に好ましくは90%以上である。   The term “transparent” as used in the present invention means that the visible light transmittance is 60% or more, preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more.

上記の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム(アートン(JSR社製)、ゼオネックス、ゼオノア(以上、日本ゼオン社製))、ポリビニルアセタール、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムまたはガラス板等を挙げることができる。中でも、セルロースエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンを含む)系フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムが好ましく、本発明においては、特にセルロースエステル系フィルム(例えば、コニカミノルタタック、製品名KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC4UE、KC12UR(以上、コニカミノルタオプト(株)製))が、製造上、コスト面、透明性、接着性等の観点から好ましく用いられる。これらのフィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。   Although it will not specifically limit if it has said property, For example, cellulose ester-type films, such as a cellulose diacetate film, a cellulose triacetate film, a cellulose acetate propionate film, a cellulose acetate butyrate film, a polyester-type film, a polycarbonate Film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyester film such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol Film, syndiotactic polystyrene film, cycloolefin polymer fill (Arton (manufactured by JSR), Zeonex, Zeonore (manufactured by Nippon Zeon)), polyvinyl acetal, polymethylpentene film, polyetherketone film, polyetherketoneimide film, polyamide film, fluororesin film, nylon film, A polymethyl methacrylate film, an acrylic film, a glass plate, etc. can be mentioned. Among these, a cellulose ester film, a polycarbonate film, a polysulfone (including polyether sulfone) film, and a cycloolefin polymer film are preferable. In the present invention, in particular, a cellulose ester film (for example, Konica Minoltack, product name KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UCR5, KC8UY, KC4UY, KC4UE, KC12UR (above, manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) are preferably used from the viewpoints of cost, transparency, adhesiveness and the like. These films may be films produced by melt casting film formation or films produced by solution casting film formation.

本発明においては、透明樹脂フィルムとしてはセルロースエステル系フィルム(以下セルロースエステルフィルムともいう)を用いることが好ましい。セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。   In the present invention, it is preferable to use a cellulose ester film (hereinafter also referred to as a cellulose ester film) as the transparent resin film. As the cellulose ester, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate are preferable. Among them, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose acetate propionate are preferably used.

特にアセチル基の置換度をX、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をYとした時、XとYが下記の範囲にあるセルロースの混合脂肪酸エステルを有する透明樹脂フィルム上にハードコート層と反射防止層を設けた反射防止フィルムであることが好ましい。   In particular, when the substitution degree of acetyl group is X and the substitution degree of propionyl group or butyryl group is Y, hard coat layer and antireflection on transparent resin film having mixed fatty acid ester of cellulose where X and Y are in the following range An antireflection film provided with a layer is preferred.

2.3≦X+Y≦3.0
0.1≦Y≦2.0
特に、2.5≦X+Y≦2.9
0.3≦Y≦1.2であることが好ましい。
2.3 ≦ X + Y ≦ 3.0
0.1 ≦ Y ≦ 2.0
In particular, 2.5 ≦ X + Y ≦ 2.9
It is preferable that 0.3 ≦ Y ≦ 1.2.

本発明の透明樹脂フィルムは、熱処理による基材変形が少なく、平面性に優れた反射防止フィルムを得る上で、陽電子消滅寿命法により求められる自由体積半径が0.250〜0.310nmである透明樹脂フィルムであることが好ましい。更に、全自由体積パラメータが1.0〜2.0である透明樹脂フィルムであることがより好ましい。特にセルロースエステルフィルムであることが好ましい。   The transparent resin film of the present invention is a transparent resin having a free volume radius of 0.250 to 0.310 nm required by the positron annihilation lifetime method in order to obtain an antireflection film having little flatness due to heat treatment and excellent flatness. A resin film is preferred. Furthermore, a transparent resin film having a total free volume parameter of 1.0 to 2.0 is more preferable. A cellulose ester film is particularly preferable.

本発明における自由体積は、セルロースエステル分子鎖に占有されていない空隙部分を表している。これは、陽電子消滅寿命法を用いて測定することが出来る。具体的には、陽電子を試料に入射してから消滅するまでの時間を測定し、その消滅寿命から原子空孔や自由体積の大きさ、数濃度等に関する情報を非破壊的に観察することにより求めることが出来る。   The free volume in this invention represents the space | gap part which is not occupied by the cellulose-ester molecular chain. This can be measured using the positron annihilation lifetime method. Specifically, by measuring the time from the incidence of positrons to the sample until annihilation, non-destructively observing information on the vacancies, the size of the free volume, the number concentration, etc. from the annihilation lifetime You can ask.

〈陽電子消滅寿命法による自由体積半径と全自由体積パラメータの測定〉
下記測定条件にて陽電子消滅寿命と相対強度を測定した。
<Measurement of free volume radius and total free volume parameters by positron annihilation lifetime method>
The positron annihilation lifetime and relative intensity were measured under the following measurement conditions.

(測定条件)
陽電子線源:22NaCl(強度1.85MBq)
ガンマ線検出器:プラスチック製シンチレーター+光電子増倍管
装置時間分解能:290ps
測定温度:23℃
総カウント数:100万カウント
試料サイズ:20mm×15mmにカットした切片を20枚重ねて約2mmの厚みにした。試料は測定前に24時間真空乾燥を行った。
(Measurement condition)
Positron beam source: 22 NaCl (strength 1.85 MBq)
Gamma ray detector: Plastic scintillator + photomultiplier tube Time resolution: 290ps
Measurement temperature: 23 ° C
Total count: 1 million counts Sample size: 20 sections cut to 20 mm × 15 mm were stacked to a thickness of about 2 mm. The sample was vacuum dried for 24 hours before measurement.

照射面積:約10mmφ
1チャンネルあたりの時間:23.3ps/ch
上記の測定条件に従って、陽電子消滅寿命測定を実施し、非線形最小二乗法により3成分解析して、消滅寿命の小さいものから、τ1、τ2、τ3とし、それに応じた強度をI1,I2,I3(I1+I2+I3=100%)とした。最も寿命の長い平均消滅寿命τ3から、下記式を用いて自由体積半径R3(nm)を求めた。τ3が空孔での陽電子消滅に対応し、τ3が大きいほど空孔サイズが大きいと考えられている。
Irradiation area: about 10mmφ
Time per channel: 23.3ps / ch
In accordance with the above measurement conditions, positron annihilation lifetime measurement is performed, and three-component analysis is performed by the nonlinear least square method, and τ1, τ2, and τ3 are set from the ones with the smallest annihilation lifetime, and the corresponding intensities are I 1 , I 2 , I 3 (I 1 + I 2 + I 3 = 100%). From the average annihilation lifetime τ3 having the longest lifetime, the free volume radius R 3 (nm) was determined using the following formula. τ3 corresponds to positron annihilation in the vacancies, and it is considered that the larger the τ3, the larger the vacancy size.

τ3=(1/2)〔1−{R3/(R3+0.166)}+(1/2π)sin{2πR3/(R3+0.166)}〕-1
ここで、0.166(nm)は空孔の壁から浸出している電子層の厚さに相当する。
τ3 = (1/2) [1- {R 3 / (R 3 +0.166)} + (1 / 2π) sin {2πR 3 / (R 3 +0.166)}] −1
Here, 0.166 (nm) corresponds to the thickness of the electron layer leached from the hole wall.

更に、全自由体積パラメータVPは、下記式により求めた。   Further, the total free volume parameter VP was obtained by the following equation.

3={(4/3)π(R33}(nm3
VP=I3(%)×V3(nm3
ここでI3(%)は空孔の相対的な数濃度に相当するため、VPは相対的な空孔量に相当する。
V 3 = {(4/3) π (R 3 ) 3 } (nm 3 )
VP = I 3 (%) × V 3 (nm 3 )
Here, I 3 (%) corresponds to the relative number concentration of vacancies, so VP corresponds to the relative amount of vacancies.

以上の測定を2回繰り返し、その平均値を求めた。   The above measurement was repeated twice, and the average value was obtained.

陽電子消滅寿命法は、例えばMATERIAL STAGE vol.4,No.5 2004 p21−25、東レリサーチセンター THE TRC NEWS No.80(Jul.2002)p20−22、「ぶんせき,1988,pp.11−20」に「陽電子消滅法による高分子の自由体積の評価」が掲載されており、これらを参考にすることが出来る。   The positron annihilation lifetime method is described in, for example, MATERIAL STAGE vol. 4, no. 5 2004 p21-25, Toray Research Center THE TRC NEWS No. 80 (Jul. 2002) p20-22, “Bunseki, 1988, pp. 11-20”, “Evaluation of free volume of polymer by positron annihilation method” can be referred to. .

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの自由体積半径は、0.250〜0.315nm、好ましくは0.250〜0.310nmであり、更に好ましい範囲は、0.285〜0.305nmである。自由体積半径が0.250nm未満であったり、全自由体積パラメータが1.0未満であるセルロースエステルフィルムを製造するのは工業的に困難であったりすることがある。自由体積半径が0.250〜0.315nmでは、熱処理に対する基材変形が小さく、平面性に優れた反射防止フィルムが得られる。また、全自由体積パラメータの好ましい範囲は1.0〜2.0であり、更に好ましい範囲は1.2〜1.8である。全自由体積パラメータが1.8未満であると、更に熱処理に対する安定性が高くなり好ましい。また、自由体積半径の半値幅は0.04〜0.1nmであることが好ましい。   The free volume radius of the cellulose ester film used in the present invention is 0.250 to 0.315 nm, preferably 0.250 to 0.310 nm, and a more preferable range is 0.285 to 0.305 nm. It may be industrially difficult to produce a cellulose ester film having a free volume radius of less than 0.250 nm or a total free volume parameter of less than 1.0. When the free volume radius is 0.250 to 0.315 nm, the base material deformation with respect to the heat treatment is small, and an antireflection film excellent in flatness can be obtained. Moreover, the preferable range of a total free volume parameter is 1.0-2.0, and a more preferable range is 1.2-1.8. If the total free volume parameter is less than 1.8, the stability to heat treatment is further increased, which is preferable. Moreover, it is preferable that the half value width of a free volume radius is 0.04-0.1 nm.

少なくとも可塑剤とセルロースエステルを含有するセルロースエステルフィルムの自由体積半径及び全自由体積パラメータを所定の範囲にする方法は特に限定はされないが、下記の方法によってこれらを制御することが出来る。   The method for setting the free volume radius and the total free volume parameter of the cellulose ester film containing at least a plasticizer and a cellulose ester within a predetermined range is not particularly limited, but these can be controlled by the following method.

陽電子消滅寿命法により求められる自由体積半径が0.250〜0.315nm、好ましくは0.250〜0.310nm、全自由体積パラメータ1.0〜2.0であるセルロースエステルフィルムは、少なくとも可塑剤とセルロースエステルを含有するドープを流延してウェブを作製し、溶媒を含んだ状態で延伸した後、残留溶媒量が0.3%未満となるまで乾燥させてセルロースエステルフィルムを得る。これを更に、105〜155℃で、雰囲気置換率12回/時間以上、好ましくは12〜45回/時間の雰囲気下で搬送しながら処理することによって、所定の自由体積半径及び全自由体積パラメータであるセルロースエステルフィルムを得ることが出来る。   The cellulose ester film having a free volume radius determined by the positron annihilation lifetime method of 0.250 to 0.315 nm, preferably 0.250 to 0.310 nm, and a total free volume parameter of 1.0 to 2.0 is at least a plasticizer. And a dope containing cellulose ester is cast to produce a web, stretched in a state containing a solvent, and then dried until the residual solvent amount is less than 0.3% to obtain a cellulose ester film. This is further processed at 105 to 155 ° C. in an atmosphere with an atmosphere substitution rate of 12 times / hour or more, preferably 12 to 45 times / hour, so that the predetermined free volume radius and total free volume parameters can be obtained. A certain cellulose ester film can be obtained.

雰囲気置換率は、熱処理室の雰囲気容量をV(m3)、Fresh−air送風量をFA(m3/hr)とした場合、下式によって求められる単位時間あたり熱処理室の雰囲気をFresh−airで置換する回数である。Fresh−airは熱処理室に送風される風のうち、循環再利用している風ではなく、揮発した溶媒若しくは可塑剤などを含まない、若しくはそれらが除去された新鮮な風のことを意味している。 The atmosphere replacement rate is defined as follows. When the atmosphere capacity of the heat treatment chamber is V (m 3 ) and the fresh air flow rate is FA (m 3 / hr), the atmosphere of the heat treatment chamber per unit time determined by the following formula is Fresh-air. Is the number of replacements by. “Fresh-air” means that the air blown into the heat treatment chamber is not a wind that is recirculated and does not contain a volatilized solvent or plasticizer or a fresh air from which they are removed. Yes.

雰囲気置換率=FA/V(回/時間)
処理温度としては155℃を超える場合は、平面性の低下を招きやすくなるため、搬送に細心の注意が必要になるため、110〜150℃であることが更に好ましい。更に、該処理部において雰囲気置換率が12回/時間以上の雰囲気置換率に維持された雰囲気下で処理されることによって、本発明で用いられる透明樹脂フィルムとして好ましく用いられる。
Atmosphere replacement rate = FA / V (times / hour)
When the processing temperature exceeds 155 ° C., flatness is liable to be lowered, so that careful attention is required for conveyance. Furthermore, it is preferably used as the transparent resin film used in the present invention by being treated in an atmosphere maintained at an atmosphere substitution rate of 12 times / hour or more in the treatment section.

これは12回/時間以上の雰囲気置換率では、セルロースエステルフィルムから揮発した可塑剤による雰囲気中の可塑剤濃度を十分に低減することが出来、フィルムへの再付着が低減される。これが、このようにして作製された透明樹脂フィルムを用いることによって、本発明の効果を得ることに寄与しているものと推測している。通常の乾燥工程では雰囲気置換率は10回/時間以下で行われる。置換率を必要以上に増加させるとコストが高くなるため好ましくなく、また、ウェブがばたつくことにより、斑が増加する傾向があるため、特にセルロースエステルフィルムを製造する際は高くすることは好ましくないが、十分に乾燥が終了し、残留溶媒量が低減した後であれば、雰囲気置換率を上げることが出来る。しかしながら、45回より多くなると空調装置コストが極端に増大するため実用的でない。この条件下における処理時間は1分〜1時間が好ましい。1分未満では自由体積半径を所定の範囲にすることは難しく、1時間以下であることがこの処理による効果を得る上で好ましい。   This is because the atmosphere substitution rate of 12 times / hour or more can sufficiently reduce the plasticizer concentration in the atmosphere by the plasticizer volatilized from the cellulose ester film, and reattachment to the film is reduced. It is presumed that this contributes to obtaining the effects of the present invention by using the transparent resin film thus produced. In a normal drying process, the atmosphere substitution rate is 10 times / hour or less. If the substitution rate is increased more than necessary, the cost increases, which is not preferable. Also, since the web tends to flutter due to flapping, it is not preferable to increase it particularly when producing a cellulose ester film. Once the drying is completed and the residual solvent amount is reduced, the atmosphere substitution rate can be increased. However, if it exceeds 45 times, the cost of the air conditioner will increase extremely, which is not practical. The treatment time under these conditions is preferably 1 minute to 1 hour. If it is less than 1 minute, it is difficult to make a free volume radius into a predetermined range, and it is preferable that it is 1 hour or less in order to acquire the effect by this process.

更に、この処理工程において、厚み方向に加圧処理することも自由体積半径及び全自由体積パラメータをより好ましい範囲に制御することが出来る。好ましい圧力は0.5〜10kPaである。圧力をかける際の残留溶媒量は0.3%未満であることが望ましい。   Further, in this treatment step, pressure treatment in the thickness direction can also control the free volume radius and the total free volume parameter within a more preferable range. A preferable pressure is 0.5 to 10 kPa. The amount of residual solvent when applying pressure is desirably less than 0.3%.

このような処理を行っていない従来のセルロースエステルフィルムは、自由体積半径が0.315を超えるものであった。   The conventional cellulose ester film not subjected to such treatment has a free volume radius exceeding 0.315.

本発明に用いられるセルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ(針葉樹由来、広葉樹由来)、ケナフ等を挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。これらのセルロースエステルは、アシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いてセルロース原料と反応させて得ることができる。   The cellulose as a raw material for the cellulose ester used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include cotton linters, wood pulp (derived from coniferous trees, derived from broadleaf trees), kenaf and the like. Moreover, the cellulose ester obtained from them can be mixed and used in arbitrary ratios, respectively. When the acylating agent is an acid anhydride (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride), these cellulose esters use an organic solvent such as acetic acid or an organic solvent such as methylene chloride, and It can be obtained by reacting with a cellulose raw material using a protic catalyst.

アシル化剤が酸クロライド(CH3COCl、C25COCl、C37COCl)の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には、特開平10−45804号に記載の方法等を参考にして合成することができる。また、本発明に用いられるセルロースエステルは各置換度に合わせて上記アシル化剤量を混合して反応させたものであり、セルロースエステルはこれらアシル化剤がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットに3個の水酸基がある。この3個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度(モル%)という。例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの3個の水酸基全てにアセチル基が結合している(実際には2.6〜3.0)。 When the acylating agent is acid chloride (CH 3 COCl, C 2 H 5 COCl, C 3 H 7 COCl), the reaction is carried out using a basic compound such as an amine as a catalyst. Specifically, it can be synthesized with reference to the method described in JP-A-10-45804. In addition, the cellulose ester used in the present invention is obtained by mixing and reacting the amount of the acylating agent in accordance with the degree of substitution. In the cellulose ester, these acylating agents react with hydroxyl groups of cellulose molecules. Cellulose molecules are composed of many glucose units linked together, and the glucose unit has three hydroxyl groups. The number of acyl groups derived from these three hydroxyl groups is called the degree of substitution (mol%). For example, cellulose triacetate has acetyl groups bonded to all three hydroxyl groups of the glucose unit (actually 2.6 to 3.0).

本発明に用いられるセルロースエステル前述のように、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルが特に好ましく用いられる。なお、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状でも分岐していてもよい。   Cellulose ester used in the present invention As described above, a mixture of cellulose having propionate group or butyrate group in addition to acetyl group such as cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, or cellulose acetate propionate butyrate Fatty acid esters are particularly preferably used. The butyryl group that forms butyrate may be linear or branched.

プロピオネート基を置換基として含むセルロースアセテートプロピオネートは耐水性に優れ、液晶画像表示装置用のフィルムとして有用である。   Cellulose acetate propionate containing a propionate group as a substituent has excellent water resistance and is useful as a film for liquid crystal image display devices.

アシル基の置換度の測定方法はASTM−D817−96の規定に準じて測定することができる。   The measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured according to the rule of ASTM-D817-96.

セルロースエステルの数平均分子量は、50000〜250000が、成型した場合の機械的強度が強く、かつ、適度なドープ粘度となり好ましく、さらに好ましくは、80000〜150000である。   The number average molecular weight of the cellulose ester is preferably from 50,000 to 250,000 because the mechanical strength when molded is high and an appropriate dope viscosity is obtained, and more preferably from 80,000 to 150,000.

本発明の透明樹脂として好ましいセルロースエステルフィルムは、一般的に溶液流延製膜法と呼ばれるセルロースエステル溶解液(ドープ)を、例えば、無限に移送する無端の金属ベルトまたは回転する金属ドラムの流延用支持体上に加圧ダイからドープを流延(キャスティング)し製膜する方法で製造される。   The cellulose ester film preferred as the transparent resin of the present invention is a casting of an endless metal belt or a rotating metal drum that transfers a cellulose ester solution (dope) generally called a solution casting method, for example, infinitely. The dope is cast (casted) from a pressure die on a support for manufacturing, and is produced by a method of forming a film.

これらドープの調製に用いられる有機溶媒としては、セルロースエステルを溶解でき、かつ、適度な沸点であることが好ましく、例えば、メチレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセト酢酸メチル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等を挙げることができるが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、アセト酢酸メチル等が好ましい有機溶媒(即ち、良溶媒)として挙げられる。   As the organic solvent used for preparing these dopes, it is preferable that the cellulose ester can be dissolved and has an appropriate boiling point. For example, methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, methyl acetoacetate, acetone, tetrahydrofuran 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2 -Propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3 , 3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc. Can, organic halogen compounds such as methylene chloride, dioxolane derivatives, methyl acetate, ethyl acetate, acetone, methyl acetoacetate, and the like are preferable organic solvents (i.e., good solvent), and as.

また、下記の製膜工程に示すように、溶媒蒸発工程において流延用支持体上に形成されたウェブ(ドープ膜)から溶媒を乾燥させる時に、ウェブ中の発泡を防止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点としては、30〜80℃が好ましく、例えば、上記記載の良溶媒の沸点は、メチレンクロライド(沸点40.4℃)、酢酸メチル(沸点56.32℃)、アセトン(沸点56.3℃)、酢酸エチル(沸点76.82℃)等である。   Moreover, as shown in the following film forming process, it is used from the viewpoint of preventing foaming in the web when the solvent is dried from the web (dope film) formed on the casting support in the solvent evaporation process. The boiling point of the organic solvent is preferably 30 to 80 ° C. For example, the good solvent described above has a boiling point of methylene chloride (boiling point 40.4 ° C), methyl acetate (boiling point 56.32 ° C), acetone (boiling point 56.56 ° C). 3 ° C.), ethyl acetate (boiling point 76.82 ° C.) and the like.

上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れるメチレンクロライド或いは酢酸メチルが好ましく用いられる。   Among the good solvents described above, methylene chloride or methyl acetate, which is excellent in solubility, is preferably used.

上記有機溶媒の他に、0.1〜40質量%の炭素原子数1〜4のアルコールを含有させることが好ましい。特に好ましくは5〜30質量%で前記アルコールが含まれることが好ましい。これらは上記記載のドープを流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始めアルコールの比率が多くなるとウェブ(ドープ膜)がゲル化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。   In addition to the organic solvent, it is preferable to contain 0.1 to 40% by mass of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms. It is particularly preferable that the alcohol is contained at 5 to 30% by mass. After casting the dope described above onto a casting support, the solvent starts to evaporate and the alcohol ratio increases and the web (dope film) gels, making the web strong and peeling from the casting support. It is also used as a gelling solvent for facilitating the dissolution, and when these ratios are small, it also has a role of promoting the dissolution of the cellulose ester of the non-chlorine organic solvent.

炭素原子数1〜4のアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール等を挙げることができる。   Examples of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol and the like.

これらの溶媒のうち、ドープの安定性がよく、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。好ましくは、メチレンクロライド70〜95質量%に対してエタノール5〜30質量%を含む溶媒を用いることが好ましい。メチレンクロライドの代わりに酢酸メチルを用いることもできる。このとき、冷却溶解法によりドープを調製してもよい。   Of these solvents, ethanol is preferred because it has good dope stability, relatively low boiling point, good drying properties, and no toxicity. It is preferable to use a solvent containing 5 to 30% by mass of ethanol with respect to 70 to 95% by mass of methylene chloride. Methyl acetate can be used in place of methylene chloride. At this time, the dope may be prepared by a cooling dissolution method.

本発明の反射防止フィルムにセルロースエステルフィルムを用いる場合、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。   When a cellulose ester film is used for the antireflection film of the present invention, it is preferable to contain the following plasticizer. Examples of plasticizers include phosphate ester plasticizers, polyhydric alcohol ester plasticizers, phthalate ester plasticizers, trimellitic ester plasticizers, pyromellitic acid plasticizers, glycolate plasticizers, Citric acid ester plasticizers, polyester plasticizers, fatty acid ester plasticizers, polycarboxylic acid ester plasticizers, and the like can be preferably used.

中でも、多価アルコールエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等が好ましい。特に多価アルコールエステル系可塑剤を用いることが好ましく、ハードコート層の鉛筆硬度が4H以上を安定に得ることができるため好ましい。   Among these, polyhydric alcohol ester plasticizers, phthalate ester plasticizers, citrate ester plasticizers, fatty acid ester plasticizers, glycolate plasticizers, polycarboxylic acid ester plasticizers, and the like are preferable. In particular, it is preferable to use a polyhydric alcohol ester plasticizer, which is preferable because the pencil hardness of the hard coat layer can be stably obtained as 4H or more.

多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is a plasticizer comprising an ester of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule. Preferably it is a 2-20 valent aliphatic polyhydric alcohol ester.

本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式(6)で表される。   The polyhydric alcohol preferably used in the present invention is represented by the following general formula (6).

一般式(6) R1−(OH)n
但し、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/またはフェノール性水酸基を表す。
Formula (6) R 1 — (OH) n
However, R 1 represents an n-valent organic group, n represents a positive integer of 2 or more, and the OH group represents an alcoholic and / or phenolic hydroxyl group.

好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。   Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane- Examples include 1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and xylitol. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.

本発明の多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as monocarboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester of this invention, Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention.

好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。   Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto.

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。   As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. The number of carbon atoms is more preferably 1-20, and particularly preferably 1-10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid.

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。   Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanoic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid.

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。   Examples of preferable alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclooctanecarboxylic acid, and derivatives thereof.

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基あるいはエトキシ基などのアルコキシ基を1〜3個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に安息香酸が好ましい。   Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which 1 to 3 alkoxy groups such as an alkyl group, a methoxy group or an ethoxy group are introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid or toluic acid, biphenylcarboxylic acid, Examples thereof include aromatic monocarboxylic acids having two or more benzene rings such as naphthalenecarboxylic acid and tetralincarboxylic acid, or derivatives thereof. Benzoic acid is particularly preferable.

多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1500であることが好ましく、350〜750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。   The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably 300 to 1500, and more preferably 350 to 750. A higher molecular weight is preferred because it is less likely to volatilize, and a smaller one is preferred in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose ester.

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。   The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or a part of the OH groups may be left as they are.

以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。   Below, the specific compound of a polyhydric alcohol ester is illustrated.

Figure 0004935393
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グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることが出来る。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。   The glycolate plasticizer is not particularly limited, but alkylphthalylalkyl glycolates can be preferably used. Examples of alkyl phthalyl alkyl glycolates include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl Glycolate, ethyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycol Butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalate Ethyl glycolate, and the like.

フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。   Examples of the phthalate ester plasticizer include diethyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, dioctyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, and dicyclohexyl terephthalate.

クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。   Examples of the citrate plasticizer include acetyl trimethyl citrate, acetyl triethyl citrate, and acetyl tributyl citrate.

脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。   Examples of fatty acid ester plasticizers include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, and dibutyl sebacate.

多価カルボン酸エステル系可塑剤も好ましく用いることができる。具体的には特開2002−265639号公報の段落番号[0015]〜[0020]記載の多価カルボン酸エステルを可塑剤の一つとして添加することが好ましい。   Polycarboxylic acid ester plasticizers can also be preferably used. Specifically, it is preferable to add the polyvalent carboxylic acid ester described in paragraphs [0015] to [0020] of JP-A No. 2002-265639 as one of the plasticizers.

また、他の可塑剤としてリン酸エステル系可塑剤を用いることも出来、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。   In addition, phosphate plasticizers can be used as other plasticizers, such as triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, etc. It is done.

このほか、特開2003−12859号記載のアクリルポリマーなどを含有させることも好ましい。   In addition, it is also preferable to contain an acrylic polymer described in JP-A-2003-12859.

〈アクリルポリマー〉
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは、延伸方向に対して負の配向複屈折性を示す重量平均分子量が500以上30000以下であるアクリルポリマーを含有することが好ましく、該アクリルポリマーは芳香環を側鎖に有するアクリルポリマーまたはシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマーであることが好ましい。
<Acrylic polymer>
The cellulose ester film used in the present invention preferably contains an acrylic polymer having a negative average birefringence in the stretching direction and having a weight average molecular weight of 500 or more and 30000 or less, and the acrylic polymer has an aromatic ring side. An acrylic polymer having a chain or an acrylic polymer having a cyclohexyl group in a side chain is preferred.

該ポリマーの重量平均分子量が500以上30000以下のもので該ポリマーの組成を制御することで、セルロースエステルと該ポリマーとの相溶性を良好にすることができる。   By controlling the composition of the polymer so that the weight average molecular weight of the polymer is 500 or more and 30000 or less, the compatibility between the cellulose ester and the polymer can be improved.

特に、アクリルポリマー、芳香環を側鎖に有するアクリルポリマーまたはシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマーについて、好ましくは重量平均分子量が500以上10000以下のものであれば、上記に加え、製膜後のセルロースエステルフィルムの透明性が優れ、透湿度も極めて低く、反射防止フィルムとして優れた性能を示す。   In particular, for an acrylic polymer, an acrylic polymer having an aromatic ring in the side chain, or an acrylic polymer having a cyclohexyl group in the side chain, if the weight average molecular weight is preferably 500 or more and 10,000 or less, in addition to the above, The transparency of the cellulose ester film is excellent, the moisture permeability is extremely low, and it exhibits excellent performance as an antireflection film.

該ポリマーは重量平均分子量が500以上30000以下であるから、オリゴマーから低分子量ポリマーの間にあると考えられるものである。このようなポリマーを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法でできるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。   Since the polymer has a weight average molecular weight of 500 or more and 30000 or less, it is considered to be between the oligomer and the low molecular weight polymer. In order to synthesize such a polymer, it is difficult to control the molecular weight in normal polymerization, and it is desirable to use a method that can align the molecular weight as much as possible by a method that does not increase the molecular weight too much.

かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやt−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開2000−128911号または同2000−344823号公報にあるような一つのチオール基と2級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることができ、何れも本発明において好ましく用いられるが、特に、該公報に記載の方法が好ましい。   Such polymerization methods include a method using a peroxide polymerization initiator such as cumene peroxide and t-butyl hydroperoxide, a method using a polymerization initiator in a larger amount than normal polymerization, and a mercapto compound in addition to the polymerization initiator. And a method of using a chain transfer agent such as carbon tetrachloride, a method of using a polymerization terminator such as benzoquinone and dinitrobenzene in addition to the polymerization initiator, and further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-128911 or 2000-344823. Examples thereof include a compound having one thiol group and a secondary hydroxyl group, or a bulk polymerization method using a polymerization catalyst in which the compound and an organometallic compound are used in combination. Although used, the method described in the publication is particularly preferable.

本発明に有用なポリマーを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるがこれに限定されない。   Although the monomer as a monomer unit which comprises the polymer useful for this invention is mentioned below, it is not limited to this.

エチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマーを構成するエチレン性不飽和モノマー単位としては:ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等;アクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、アクリル酸−p−ヒドロキシメチルフェニル、アクリル酸−p−(2−ヒドロキシエチル)フェニル等;メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたもの;不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることができる。上記モノマーで構成されるポリマーはコポリマーでもホモポリマーでもよく、ビニルエステルのホモポリマー、ビニルエステルのコポリマー、ビニルエステルとアクリル酸またはメタクリル酸エステルとのコポリマーが好ましい。   The ethylenically unsaturated monomer unit constituting the polymer obtained by polymerizing the ethylenically unsaturated monomer is as a vinyl ester, for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl valerate, vinyl pivalate, caproic acid. Vinyl, vinyl caprate, vinyl laurate, vinyl myristate, vinyl palmitate, vinyl stearate, vinyl cyclohexanecarboxylate, vinyl octylate, vinyl methacrylate, vinyl crotonate, vinyl sorbate, vinyl benzoate, vinyl cinnamate Etc .; As acrylate ester, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i-, n-), butyl acrylate (n-, i-, s-, t-), pentyl acrylate (n -, I-, s-), hexyl acrylate (n I-), heptyl acrylate (n-, i-), octyl acrylate (n-, i-), nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), acrylic Cyclohexyl acid, acrylic acid (2-ethylhexyl), benzyl acrylate, phenethyl acrylate, acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3- Hydroxypropyl), acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), acrylic acid-p-hydroxymethylphenyl, acrylic acid-p- (2-hydroxyethyl) phenyl, etc .; The above acrylic acid ester is changed to methacrylic acid ester; Examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, crotonic acid, itaconic acid and the like. The polymer composed of the above monomers may be a copolymer or a homopolymer, and is preferably a vinyl ester homopolymer, a vinyl ester copolymer, or a copolymer of vinyl ester and acrylic acid or methacrylic acid ester.

本発明において、アクリルポリマーという(単にアクリルポリマーという)のは、芳香環或いはシクロヘキシル基を有するモノマー単位を有しないアクリル酸またはメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマーまたはコポリマーを指す。芳香環を側鎖に有するアクリルポリマーというのは、必ず芳香環を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位を含有するアクリルポリマーである。   In the present invention, an acrylic polymer (simply referred to as an acrylic polymer) refers to a homopolymer or copolymer of acrylic acid or methacrylic acid alkyl ester having no monomer unit having an aromatic ring or a cyclohexyl group. An acrylic polymer having an aromatic ring in the side chain is an acrylic polymer that always contains an acrylic acid or methacrylic acid ester monomer unit having an aromatic ring.

また、シクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマーというのは、シクロヘキシル基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位を含有するアクリルポリマーである。   The acrylic polymer having a cyclohexyl group in the side chain is an acrylic polymer containing an acrylic acid or methacrylic acid ester monomer unit having a cyclohexyl group.

芳香環及びシクロヘキシル基を有さないアクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−メトキシエチル)、アクリル酸(2−エトキシエチル)等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。   Examples of the acrylate monomer having no aromatic ring and cyclohexyl group include, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i-, n-), butyl acrylate (n-, i-, s-, t-), pentyl acrylate (n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), heptyl acrylate (n-, i-), octyl acrylate (n-, i-) , Nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), acrylic acid (2-ethylhexyl), acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3-hydroxypropyl), acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), acrylic acid 2-methoxy-ethyl), acrylic acid (2-ethoxyethyl), or the acrylic acid ester may include those obtained by changing the methacrylic acid ester.

アクリルポリマーは上記モノマーのホモポリマーまたはコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が30質量%以上を有していることが好ましく、また、メタクリル酸メチルエステルモノマー単位が40質量%以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチルまたはメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。   The acrylic polymer is a homopolymer or copolymer of the above-mentioned monomers, but the acrylic acid methyl ester monomer unit preferably has 30% by mass or more, and the methacrylic acid methyl ester monomer unit has 40% by mass or more. preferable. In particular, a homopolymer of methyl acrylate or methyl methacrylate is preferred.

芳香環を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸(2または4−クロロフェニル)、メタクリル酸(2または4−クロロフェニル)、アクリル酸(2または3または4−エトキシカルボニルフェニル)、メタクリル酸(2または3または4−エトキシカルボニルフェニル)、アクリル酸(oまたはmまたはp−トリル)、メタクリル酸(oまたはmまたはp−トリル)、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、メタクリル酸フェネチル、アクリル酸(2−ナフチル)等を挙げることができるが、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニチル、メタクリル酸フェネチルを好ましく用いることができる。   Examples of acrylic acid or methacrylic acid ester monomers having an aromatic ring include phenyl acrylate, phenyl methacrylate, acrylic acid (2 or 4-chlorophenyl), methacrylic acid (2 or 4-chlorophenyl), and acrylic acid (2 or 3 Or 4-ethoxycarbonylphenyl), methacrylic acid (2 or 3 or 4-ethoxycarbonylphenyl), acrylic acid (o or m or p-tolyl), methacrylic acid (o or m or p-tolyl), benzyl acrylate, Benzyl methacrylate, phenethyl acrylate, phenethyl methacrylate, acrylic acid (2-naphthyl) and the like can be mentioned, but benzyl acrylate, benzyl methacrylate, phenethyl acrylate, and phenethyl methacrylate are preferably used. That.

芳香環を側鎖に有するアクリルポリマーの中で、芳香環を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位が20〜40質量%を有し、且つアクリル酸またはメタクリル酸メチルエステルモノマー単位を50〜80質量%有することが好ましい。該ポリマー中、水酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位を2〜20質量%有することが好ましい。   Among acrylic polymers having an aromatic ring in the side chain, the acrylic acid or methacrylic acid ester monomer unit having an aromatic ring has 20 to 40% by mass, and the acrylic acid or methacrylic acid methyl ester monomer unit is 50 to 80% by mass. % Is preferable. The polymer preferably has 2 to 20% by mass of acrylic acid or methacrylic acid ester monomer units having a hydroxyl group.

シクロヘキシル基を有するアクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸(4−メチルシクロヘキシル)、メタクリル酸(4−メチルシクロヘキシル)、アクリル酸(4−エチルシクロヘキシル)、メタクリル酸(4−エチルシクロヘキシル)等を挙げることができるが、アクリル酸シクロヘキシル及びメタクリル酸シクロヘキシルを好ましく用いることができる。   Examples of the acrylate monomer having a cyclohexyl group include cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, acrylic acid (4-methylcyclohexyl), methacrylic acid (4-methylcyclohexyl), acrylic acid (4-ethylcyclohexyl), and methacrylic acid. (4-ethylcyclohexyl) and the like can be mentioned, but cyclohexyl acrylate and cyclohexyl methacrylate can be preferably used.

シクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマー中、シクロヘキシル基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位を20〜40質量%を有し且つ50〜80質量%有することが好ましい。また、該ポリマー中、水酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位を2〜20質量%有することが好ましい。   In the acrylic polymer having a cyclohexyl group in the side chain, the acrylic acid or methacrylic acid ester monomer unit having a cyclohexyl group has 20 to 40% by mass and preferably 50 to 80% by mass. Moreover, it is preferable to have 2-20 mass% of acrylic acid or methacrylic acid ester monomer units having a hydroxyl group in the polymer.

上述のエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマー、アクリルポリマー、芳香環を側鎖に有するアクリルポリマー及びシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリルポリマーは何れもセルロース樹脂との相溶性に優れる。   A polymer obtained by polymerizing the above ethylenically unsaturated monomer, an acrylic polymer, an acrylic polymer having an aromatic ring in the side chain, and an acrylic polymer having a cyclohexyl group in the side chain are all excellent in compatibility with the cellulose resin.

これらの水酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマーの場合はホモポリマーではなく、コポリマーの構成単位である。この場合、好ましくは、水酸基を有するアクリル酸またはメタクリル酸エステルモノマー単位がアクリルポリマー中2〜20質量%含有することが好ましい。   In the case of an acrylic acid or methacrylic acid ester monomer having these hydroxyl groups, it is not a homopolymer but a structural unit of a copolymer. In this case, it is preferable that the acrylic acid or methacrylic acid ester monomer unit having a hydroxyl group is contained in the acrylic polymer in an amount of 2 to 20% by mass.

本発明において、側鎖に水酸基を有するポリマーも好ましく用いることができる。水酸基を有するモノマー単位としては、前記したモノマーと同様であるが、アクリル酸またはメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、アクリル酸−p−ヒドロキシメチルフェニル、アクリル酸−p−(2−ヒドロキシエチル)フェニル、またはこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることができ、好ましくは、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル及びメタクリル酸−2−ヒドロキシエチルである。ポリマー中に水酸基を有するアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルモノマー単位はポリマー中2〜20質量%含有することが好ましく、より好ましくは2〜10質量%である。   In the present invention, a polymer having a hydroxyl group in the side chain can also be preferably used. The monomer unit having a hydroxyl group is the same as the monomer described above, but acrylic acid or methacrylic acid ester is preferable. For example, acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3 -Hydroxypropyl), acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), acrylic acid-p-hydroxymethylphenyl, acrylic acid-p- (2-hydroxyethyl) phenyl, or these acrylic acids. The thing replaced by methacrylic acid can be mentioned, Preferably, it is 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate. The acrylic acid ester or methacrylic acid ester monomer unit having a hydroxyl group in the polymer is preferably contained in the polymer in an amount of 2 to 20% by mass, more preferably 2 to 10% by mass.

前記のようなポリマーが上記の水酸基を有するモノマー単位を2〜20質量%含有したものは、勿論セルロースエステルとの相溶性、保留性、寸法安定性が優れ、透湿度が小さいばかりでなく、偏光板保護フィルムとしての偏光子との接着性に特に優れ、偏光板の耐久性が向上する効果を有している。   A polymer containing 2 to 20% by mass of the above-mentioned monomer unit having a hydroxyl group, of course, is excellent in compatibility with cellulose ester, retention, dimensional stability, low moisture permeability, and polarized light. It is particularly excellent in adhesiveness with a polarizer as a plate protective film, and has the effect of improving the durability of the polarizing plate.

アクリルポリマーの主鎖の少なくとも一方の末端に水酸基を有するようにする方法は、特に主鎖の末端に水酸基を有するようにする方法であれば限定ないが、アゾビス(2−ヒドロキシエチルブチレート)のような水酸基を有するラジカル重合開始剤を使用する方法、2−メルカプトエタノールのような水酸基を有する連鎖移動剤を使用する方法、水酸基を有する重合停止剤を使用する方法、リビングイオン重合により水酸基を末端に有するようにする方法、特開2000−128911号または2000−344823号公報にあるような一つのチオール基と2級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等により得ることができ、特に該公報に記載の方法が好ましい。   The method of having a hydroxyl group at at least one terminal of the main chain of the acrylic polymer is not particularly limited as long as it has a hydroxyl group at the terminal of the main chain, but azobis (2-hydroxyethylbutyrate) A method using a radical polymerization initiator having such a hydroxyl group, a method using a chain transfer agent having a hydroxyl group such as 2-mercaptoethanol, a method using a polymerization terminator having a hydroxyl group, and terminating a hydroxyl group by living ion polymerization. A compound having one thiol group and a secondary hydroxyl group as described in JP-A No. 2000-128911 or 2000-344823, or a polymerization catalyst using the compound and an organometallic compound in combination The method described in the above publication is particularly preferred.

この公報記載に関連する方法で作られたポリマーは、綜研化学社製のアクトフロー・シリーズとして市販されており、好ましく用いることができる。上記の末端に水酸基を有するポリマー及び/または側鎖に水酸基を有するポリマーは、本発明において、ポリマーの相溶性、透明性を著しく向上する効果を有する。   The polymer produced by the method related to the description in this publication is commercially available as Act Flow Series manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., and can be preferably used. In the present invention, the polymer having a hydroxyl group at the terminal and / or the polymer having a hydroxyl group in a side chain has an effect of significantly improving the compatibility and transparency of the polymer.

更に、延伸方向に対して負の配向複屈折性を示すエチレン性不飽和モノマーとして、スチレン類を用いたポリマーであることが負の屈折性を発現させるために好ましい。スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロロメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなどが挙げられるが、これらに限定される物ではない。   Furthermore, a polymer using styrene as an ethylenically unsaturated monomer exhibiting negative orientation birefringence with respect to the stretching direction is preferred in order to develop negative refraction. Examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, chloromethyl styrene, methoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, and vinyl benzoic acid methyl ester. Although it is mentioned, it is not a thing limited to these.

前記不飽和エチレン性モノマーとして挙げた例示モノマーと共重合してもよく、また複屈折性を制御する目的で、2種以上の上記ポリマーをもちいてセルロースエステルに相溶させて用いても良い。   It may be copolymerized with the exemplified monomers listed as the unsaturated ethylenic monomer, or may be used by being dissolved in a cellulose ester using two or more kinds of the above polymers for the purpose of controlling birefringence.

更に、本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは、分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaと分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーXbとを共重合して得られた重量平均分子量5000以上30000以下のポリマーXと、より好ましくは芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーYaを重合して得られた重量平均分子量500以上3000以下のポリマーYとを含有することが好ましい。   Further, the cellulose ester film used in the present invention is composed of an ethylenically unsaturated monomer Xa having no aromatic ring and a hydrophilic group in the molecule and an ethylenically unsaturated group having no hydrophilic ring and having a hydrophilic group in the molecule. A weight average molecular weight of 500 or more obtained by polymerizing a polymer X having a weight average molecular weight of 5000 or more and 30000 or less obtained by copolymerization with the monomer Xb, and more preferably an ethylenically unsaturated monomer Ya having no aromatic ring. It is preferable to contain 3000 or less polymer Y.

(ポリマーX、ポリマーY)
本発明に用いられるポリマーXは分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaと分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーXbとを共重合して得られた重量平均分子量5000以上30000以下のポリマーである。好ましくは、Xaは分子内に芳香環と親水性基を有しないアクリルまたはメタクリルモノマー、Xbは分子内に芳香環を有せず親水性基を有するアクリルまたはメタクリルモノマーである。
(Polymer X, Polymer Y)
The polymer X used in the present invention comprises an ethylenically unsaturated monomer Xa having no aromatic ring and a hydrophilic group in the molecule and an ethylenically unsaturated monomer Xb having no aromatic ring and having a hydrophilic group in the molecule. It is a polymer having a weight average molecular weight of 5,000 to 30,000 obtained by copolymerization. Preferably, Xa is an acrylic or methacrylic monomer that does not have an aromatic ring and a hydrophilic group in the molecule, and Xb is an acrylic or methacrylic monomer that does not have an aromatic ring in the molecule and has a hydrophilic group.

本発明に用いられるポリマーXは、下記一般式(X)で表される。   The polymer X used in the present invention is represented by the following general formula (X).

一般式(X)
−(Xa)m−(Xb)n−(Xc)p−
さらに好ましくは、下記一般式(X−1)で表されるポリマーである。
Formula (X)
-(Xa) m- (Xb) n- (Xc) p-
More preferably, it is a polymer represented by the following general formula (X-1).

一般式(X−1)
−[CH2−C(−R1)(−CO2R2)]m−[CH2−C(−R3)(−CO2R4−OH)−]n−[Xc]p−
(式中、R1、R3は、HまたはCH3を表す。R2は炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基を表す。R4は−CH2−、−C24−または−C36−を表す。Xcは、Xa、Xbに重合可能なモノマー単位を表す。m、n及びpは、モル組成比を表す。ただしm≠0、n≠0、k≠0、m+n+p=100である。)
本発明に用いられるポリマーXを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるがこれに限定されない。
Formula (X-1)
- [CH 2 -C (-R1) (- CO 2 R2)] m- [CH 2 -C (-R3) (- CO 2 R4-OH) -] n- [Xc] p-
(In the formula, R 1 and R 3 represent H or CH 3. R 2 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyl group. R 4 represents —CH 2 —, —C 2 H 4 — or —C 3. H 6 -. .Xc representing a is Xa, .m representing a monomer unit polymerizable with Xb, n and p each indicate a molar ratio, however m ≠ 0, n ≠ 0, k ≠ 0, m + n + p = 100 .)
Although the monomer as a monomer unit which comprises the polymer X used for this invention is mentioned below, it is not limited to this.

Xにおいて、親水性基とは、水酸基、エチレンオキシド連鎖を有する基をいう。   In X, the hydrophilic group means a group having a hydroxyl group or an ethylene oxide chain.

分子内に芳香環と親水性基を有しないエチレン性不飽和モノマーXaは、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−エトキシエチル)等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。中でも、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル(i−、n−)であることが好ましい。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer Xa having no aromatic ring and no hydrophilic group in the molecule include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i-, n-), and butyl acrylate (n-, i- , S-, t-), pentyl acrylate (n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), heptyl acrylate (n-, i-), octyl acrylate (n- I-), nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), acrylic acid (2-ethylhexyl), acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-ethoxyethyl) ) Or the like, or those obtained by replacing the acrylic ester with a methacrylic ester. Among these, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, and propyl methacrylate (i-, n-) are preferable.

分子内に芳香環を有せず、親水性基を有するエチレン性不飽和モノマーXbは、水酸基を有するモノマー単位として、アクリル酸またはメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、またはこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることができ、好ましくは、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)及びメタクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)である。   The ethylenically unsaturated monomer Xb having no aromatic ring in the molecule and having a hydrophilic group is preferably acrylic acid or methacrylic acid ester as a monomer unit having a hydroxyl group. For example, acrylic acid (2-hydroxyethyl), List acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3-hydroxypropyl), acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), or those in which these acrylic acids are replaced by methacrylic acid. Acrylic acid (2-hydroxyethyl) and methacrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), and acrylic acid (3-hydroxypropyl) are preferable.

Xcとしては、Xa、Xb以外のものでかつ共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば、特に制限はないが、芳香環を有していないものが好ましい。   Xc is not particularly limited as long as it is an ethylenically unsaturated monomer other than Xa and Xb and copolymerizable, but preferably has no aromatic ring.

Xa、Xb及びXcのモル組成比m:nは99:1〜65:35の範囲が好ましく、更に好ましくは95:5〜75:25の範囲である。Xcのpは0〜10である。Xcは複数のモノマー単位であってもよい。   The molar composition ratio m: n of Xa, Xb and Xc is preferably in the range of 99: 1 to 65:35, more preferably in the range of 95: 5 to 75:25. P of Xc is 0-10. Xc may be a plurality of monomer units.

Xaのモル組成比が多いとセルロースエステルとの相溶性が良化するがフィルム厚み方向のリターデーション値Rtが大きくなる。Xbのモル組成比が多いと上記相溶性が悪くなるが、Rtを低減させる効果が高い。また、Xbのモル組成比が上記範囲を超えると製膜時にヘイズが出る傾向があり、これらの最適化を図りXa、Xbのモル組成比を決めることが好ましい。   When the molar composition ratio of Xa is large, the compatibility with the cellulose ester is improved, but the retardation value Rt in the film thickness direction is increased. When the molar composition ratio of Xb is large, the compatibility is deteriorated, but the effect of reducing Rt is high. Further, if the molar composition ratio of Xb exceeds the above range, haze tends to occur during film formation, and it is preferable to optimize these and determine the molar composition ratio of Xa and Xb.

ポリマーXの分子量は重量平均分子量が5000以上30000以下であり、更に好ましくは8000以上25000以下である。   As for the molecular weight of the polymer X, the weight average molecular weight is from 5,000 to 30,000, more preferably from 8,000 to 25,000.

重量平均分子量を5000以上とすることにより、セルロースエステルフィルムの、高温高湿下における寸法変化が少ない、偏光板保護フィルムとしてカールが少ない等の利点が得られ好ましい。重量平均分子量が30000を以内とした場合は、セルロースエステルとの相溶性がより向上し、高温高湿下においてのブリードアウト、さらには製膜直後でのヘイズの発生が抑制される。   By setting the weight average molecular weight to 5,000 or more, it is preferable because the cellulose ester film has advantages such as less dimensional change under high temperature and high humidity and less curling as a polarizing plate protective film. When the weight average molecular weight is 30000 or less, the compatibility with the cellulose ester is further improved, and bleeding out under high temperature and high humidity, and further haze generation immediately after film formation is suppressed.

本発明に用いられるポリマーXの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することができる。そのような分子量調節方法としては、例えば四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。また、重合温度は通常室温から130℃、好ましくは50℃から100℃で行われるが、この温度または重合反応時間を調整することで可能である。   The weight average molecular weight of the polymer X used in the present invention can be adjusted by a known molecular weight adjusting method. Examples of such a molecular weight adjusting method include a method of adding a chain transfer agent such as carbon tetrachloride, lauryl mercaptan, octyl thioglycolate, and the like. The polymerization temperature is usually room temperature to 130 ° C., preferably 50 ° C. to 100 ° C., and this temperature or the polymerization reaction time can be adjusted.

重量平均分子量の測定方法は下記方法によることができる。   The measuring method of a weight average molecular weight can be based on the following method.

(重量平均分子量測定方法)
重量平均分子量Mwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した。
(Weight average molecular weight measurement method)
The weight average molecular weight Mw was measured using gel permeation chromatography.

測定条件は以下の通りである。   The measurement conditions are as follows.

溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
Solvent: Methylene chloride Column: Shodex K806, K805, K803G (Used by connecting three Showa Denko Co., Ltd.)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (manufactured by GL Sciences)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 100000-500 calibration curves with 13 samples were used. Thirteen samples are used at approximately equal intervals.

本発明に用いられるポリマーYは芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーYaを重合して得られた重量平均分子量500以上3000以下のポリマーである。   The polymer Y used in the present invention is a polymer having a weight average molecular weight of 500 or more and 3000 or less obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer Ya having no aromatic ring.

重量平均分子量500以上ではポリマーの残存モノマーが減少し好ましい。また、3000以下とすることは、リターデーション値Rt低下性能を維持するために好ましい。   A weight average molecular weight of 500 or more is preferable because the residual monomer of the polymer is reduced. Moreover, it is preferable to set it as 3000 or less in order to maintain retardation value Rt fall performance.

Yaは、好ましくは芳香環を有さないアクリルまたはメタクリルモノマーである。   Ya is preferably an acrylic or methacrylic monomer having no aromatic ring.

本発明に用いられるポリマーYは、下記一般式(Y)で表される。   The polymer Y used in the present invention is represented by the following general formula (Y).

一般式(Y)
−(Ya)k−(Yb)q−
さらに好ましくは、下記一般式(Y−1)で表されるポリマーである。
General formula (Y)
-(Ya) k- (Yb) q-
More preferably, it is a polymer represented by the following general formula (Y-1).

一般式(Y−1)
−[CH2−C(−R5)(−CO2R6)]k−[Yb]q−
(式中、R5は、HまたはCH3を表す。R6は炭素数1〜12のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ybは、Yaと共重合可能なモノマー単位を表す。k及びqは、モル組成比を表す。ただしk≠0、k+q=100である。)
Ybは、Yaと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はない。Ybは複数であってもよい。k+q=100、qは好ましくは0〜30である。
General formula (Y-1)
- [CH 2 -C (-R5) (- CO 2 R6)] k- [Yb] q-
(Wherein, R5 is, .Yb .R6 representing H or CH 3 is representing an alkyl group or a cycloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, .k and q represents the Ya and copolymerizable monomer units, This represents the molar composition ratio, where k ≠ 0 and k + q = 100.)
Yb is not particularly limited as long as it is an ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with Ya. Yb may be plural. k + q = 100, q is preferably 0-30.

芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマーYを構成するエチレン性不飽和モノマーYaはアクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたもの;不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることができる。   The ethylenically unsaturated monomer Ya constituting the polymer Y obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer having no aromatic ring is, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i- , N-), butyl acrylate (n-, i-, s-, t-), pentyl acrylate (n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), heptyl acrylate (N-, i-), octyl acrylate (n-, i-), nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), cyclohexyl acrylate, acrylic acid (2- Ethyl hexyl), acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic acid (3-hydroxypropiyl) ), Acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), methacrylic acid ester, the above acrylic acid ester changed to methacrylic acid ester; unsaturated acid, for example, acrylic acid, methacrylic acid And maleic anhydride, crotonic acid, itaconic acid and the like.

Ybは、Yaと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はないが、ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、桂皮酸ビニル等が好ましい。Ybは複数であってもよい。   Yb is not particularly limited as long as it is an ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with Ya. Examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl valerate, vinyl pivalate, and vinyl caproate. Vinyl caprate, vinyl laurate, vinyl myristate, vinyl palmitate, vinyl stearate, vinyl cyclohexanecarboxylate, vinyl octylate, vinyl methacrylate, vinyl crotonate, vinyl sorbate, vinyl cinnamate and the like are preferred. Yb may be plural.

ポリマーX、Yを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法でできるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやt−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開2000−128911号または同2000−344823号公報にあるような一つのチオール基と2級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることができ、何れも本発明において好ましく用いられるが、特に、分子中にチオール基と2級の水酸基とを有する化合物を連鎖移動剤として使用する重合方法が好ましい。   In order to synthesize the polymers X and Y, it is difficult to control the molecular weight in normal polymerization, and it is desirable to use a method that can make the molecular weights as uniform as possible without increasing the molecular weight. Such polymerization methods include a method using a peroxide polymerization initiator such as cumene peroxide and t-butyl hydroperoxide, a method using a polymerization initiator in a larger amount than normal polymerization, and a mercapto compound in addition to the polymerization initiator. And a method of using a chain transfer agent such as carbon tetrachloride, a method of using a polymerization terminator such as benzoquinone and dinitrobenzene in addition to the polymerization initiator, and further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-128911 or 2000-344823. Examples thereof include a compound having one thiol group and a secondary hydroxyl group, or a bulk polymerization method using a polymerization catalyst in which the compound and an organometallic compound are used in combination. In particular, a polymerization method using a compound having a thiol group and a secondary hydroxyl group in the molecule as a chain transfer agent. It is preferred.

この場合、ポリマーX及びポリマーYの末端には、重合触媒及び連鎖移動剤に起因する水酸基、チオエーテルを有することとなる。この末端残基により、ポリマーX、Yとセルロースエステルとの相溶性を調整することができる。   In this case, the terminal of the polymer X and the polymer Y has a hydroxyl group and a thioether resulting from the polymerization catalyst and the chain transfer agent. By this terminal residue, the compatibility between the polymers X and Y and the cellulose ester can be adjusted.

ポリマーX及びYの水酸基価は30〜150[mgKOH/g]であることが好ましい。   The hydroxyl values of the polymers X and Y are preferably 30 to 150 [mg KOH / g].

(水酸基価の測定方法)
この測定は、JIS K 0070(1992)に準ずる。この水酸基価は、試料1gをアセチル化させたとき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのmg数と定義される。具体的には試料Xg(約1g)をフラスコに精秤し、これにアセチル化試薬(無水酢酸20mlにピリジンを加えて400mlにしたもの)20mlを正確に加える。フラスコの口に空気冷却管を装着し、95〜100℃のグリセリン浴にて加熱する。
(Measurement method of hydroxyl value)
This measurement conforms to JIS K 0070 (1992). This hydroxyl value is defined as the number of mg of potassium hydroxide required to neutralize acetic acid bonded to a hydroxyl group when 1 g of a sample is acetylated. Specifically, sample Xg (about 1 g) is precisely weighed in a flask, and 20 ml of an acetylating reagent (a solution obtained by adding pyridine to 20 ml of acetic anhydride to 400 ml) is accurately added thereto. An air cooling tube is attached to the mouth of the flask and heated in a glycerin bath at 95-100 ° C.

1時間30分後、冷却し、空気冷却管から精製水1mlを加え、無水酢酸を酢酸に分解する。次に電位差滴定装置を用いて0.5mol/L水酸化カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得られた滴定曲線の変曲点を終点とする。更に空試験として、試料を入れないで滴定し、滴定曲線の変曲点を求める。   After 1 hour and 30 minutes, the mixture is cooled, 1 ml of purified water is added from an air condenser, and acetic anhydride is decomposed into acetic acid. Next, titration is performed with a 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution using a potentiometric titrator, and the inflection point of the obtained titration curve is set as the end point. Further, as a blank test, titration is performed without a sample, and an inflection point of the titration curve is obtained.

水酸基価は、次の式によって算出する。   The hydroxyl value is calculated by the following formula.

水酸基価={(B−C)×f×28.05/X}+D
(式中、Bは空試験に用いた0.5mol/Lの水酸化カリウムエタノール溶液の量(ml)、Cは滴定に用いた0.5mol/Lの水酸化カリウムエタノール溶液の量(ml)、fは0.5mol/L水酸化カリウムエタノール溶液のファクター、Dは酸価、また、28.05は水酸化カリウムの1mol量56.11の1/2を表す)
上述のポリマーX、ポリマーYは何れもセルロースエステルとの相溶性に優れ、蒸発や揮発もなく生産性に優れ、偏光板用保護フィルムとしての保留性がよく、透湿度が小さく、寸法安定性に優れている。
Hydroxyl value = {(BC) × f × 28.05 / X} + D
(Wherein B is the amount of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used in the blank test (ml), and C is the amount of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used in the titration (ml). F is a factor of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution, D is an acid value, and 28.05 is 1/2 of 1 mol amount of potassium hydroxide 56.11)
The above-mentioned polymer X and polymer Y are both excellent in compatibility with cellulose ester, excellent in productivity without evaporation and volatilization, good retention as a protective film for polarizing plates, low moisture permeability, and dimensional stability. Are better.

ポリマーXとポリマーYのセルロースエステルフィルム中での含有量は、下記式(i)、式(ii)を満足する範囲であることが好ましい。ポリマーXの含有量をXg(質量%=ポリマーXの質量/セルロースエステルの質量×100)、ポリマーYの含有量をYg(質量%)とすると、
式(i) 5≦Xg+Yg≦35(質量%)
式(ii) 0.05≦Yg/(Xg+Yg)≦0.4
式(i)の好ましい範囲は、10〜25質量%である。
The content of the polymer X and the polymer Y in the cellulose ester film is preferably in a range satisfying the following formulas (i) and (ii). When the content of the polymer X is Xg (mass% = the mass of the polymer X / the mass of the cellulose ester × 100) and the content of the polymer Y is Yg (mass%),
Formula (i) 5 ≦ Xg + Yg ≦ 35 (mass%)
Formula (ii) 0.05 ≦ Yg / (Xg + Yg) ≦ 0.4
A preferable range of the formula (i) is 10 to 25% by mass.

ポリマーXとポリマーYは総量として5質量%以上であれば、リターデーション値Rtの低減に十分な作用をする。また、総量として35質量%以下であれば、偏光子PVAとの接着性が良好である。   If the total amount of the polymer X and the polymer Y is 5% by mass or more, the polymer X and the polymer Y sufficiently act to reduce the retardation value Rt. Moreover, if it is 35 mass% or less as a total amount, adhesiveness with polarizer PVA is favorable.

ポリマーXとポリマーYは後述するドープ液を構成する素材として直接添加、溶解するか、もしくはセルロースエステルを溶解する有機溶媒に予め溶解した後ドープ液に添加することができる。   The polymer X and the polymer Y can be directly added and dissolved as a material constituting the dope liquid described later, or can be added to the dope liquid after being previously dissolved in an organic solvent for dissolving the cellulose ester.

セルロースエステルフィルム中の上記可塑剤の総含有量は、固形分総量に対し、5〜20質量%が好ましく、6〜16質量%が更に好ましく、特に好ましくは8〜13質量%である。また、2種の可塑剤の含有量は各々少なくとも1質量%以上であり、好ましくは各々2質量%以上含有することである。   The total content of the plasticizer in the cellulose ester film is preferably 5 to 20% by mass, more preferably 6 to 16% by mass, and particularly preferably 8 to 13% by mass with respect to the total solid content. The contents of the two kinds of plasticizers are each at least 1% by mass, preferably 2% by mass or more.

多価アルコールエステル系可塑剤は1〜15質量%含有することが好ましく、特に3〜11質量%含有することが好ましい。少ないと平面性の劣化が認められ、多すぎるとブリードアウトがしやすい。多価アルコールエステル系可塑剤とその他の可塑剤との質量比率は1:4〜4:1の範囲であることが好ましく、1:3〜3:1であることが更に好ましい。可塑剤の添加量が多すぎても、また少なすぎてもフィルムが変形しやすく好ましくない。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is preferably contained in an amount of 1 to 15% by mass, particularly preferably 3 to 11% by mass. If the amount is too small, deterioration of flatness is recognized, and if it is too large, bleeding out tends to occur. The mass ratio between the polyhydric alcohol ester plasticizer and the other plasticizer is preferably in the range of 1: 4 to 4: 1, more preferably 1: 3 to 3: 1. If the amount of the plasticizer added is too large or too small, the film is liable to be deformed, which is not preferable.

本発明の反射防止フィルムには、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。   An ultraviolet absorber is preferably used for the antireflection film of the present invention.

紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。   As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties.

本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of ultraviolet absorbers preferably used in the present invention include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, and the like. However, it is not limited to these.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば下記の紫外線吸収剤を具体例として挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorbers include the following ultraviolet absorbers, but the present invention is not limited thereto.

UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171、Ciba製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109、Ciba製)
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole UV-3 : 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6 (Linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol (TINUVIN171, manufactured by Ciba)
UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl- 4-Hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate (TINUVIN109, manufactured by Ciba)
Moreover, although the following specific example is shown as a benzophenone series ultraviolet absorber, this invention is not limited to these.

UV−10:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: Bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
As the ultraviolet absorber preferably used in the present invention, a benzotriazole-based ultraviolet absorber and a benzophenone-based ultraviolet absorber that are highly transparent and excellent in preventing the deterioration of the polarizing plate and the liquid crystal are preferable, and unnecessary coloring is less. A benzotriazole-based ultraviolet absorber is particularly preferably used.

また、特開2001−187825号に記載されている分配係数が9.2以上の紫外線吸収剤は、長尺フィルムの面品質を向上させ、塗布性にも優れている。特に分配係数が10.1以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。   Moreover, the ultraviolet absorber whose distribution coefficient described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-187825 is 9.2 or more improves the surface quality of a long film, and is excellent also in applicability | paintability. In particular, it is preferable to use an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 10.1 or more.

また、特開平6−148430号に記載の一般式(1)または一般式(2)、特願2000−156039号の一般式(3)、(6)、(7)記載の高分子紫外線吸収剤(または紫外線吸収性ポリマー)も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、PUVA−30M(大塚化学(株)製)等が市販されている。   Further, the polymer ultraviolet absorber described in the general formula (1) or general formula (2) described in JP-A-6-148430 and the general formulas (3), (6), and (7) described in Japanese Patent Application No. 2000-156039 (Or UV-absorbing polymer) is also preferably used. As a polymer ultraviolet absorber, PUVA-30M (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) and the like are commercially available.

また、本発明に用いられるセルロースエステルフィルムには滑り性を付与するため、前述の活性線硬化型樹脂を含む塗布層で記載するものと同様の微粒子を用いることができる。   Moreover, in order to provide slipperiness to the cellulose-ester film used for this invention, the microparticles | fine-particles similar to what is described with the application layer containing the above-mentioned actinic radiation curable resin can be used.

微粒子としては、無機化合物の例としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。   As fine particles, as examples of inorganic compounds, silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate And magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low turbidity, and silicon dioxide is particularly preferable.

微粒子の一次粒子の平均粒子径は5〜50nmが好ましく、さらに好ましいのは7〜20nmである。これらは主に粒子径0.05〜0.3μmの2次凝集体として含有されることが好ましい。セルロースエステルフィルム中のこれらの微粒子の含有量は0.05〜1質量%であることが好ましく、特に0.1〜0.5質量%が好ましい。共流延法による多層構成のセルロースエステルフィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。   The average primary particle diameter of the fine particles is preferably 5 to 50 nm, and more preferably 7 to 20 nm. These are preferably contained mainly as secondary aggregates having a particle size of 0.05 to 0.3 μm. The content of these fine particles in the cellulose ester film is preferably 0.05 to 1% by mass, particularly preferably 0.1 to 0.5% by mass. In the case of a cellulose ester film having a multilayer structure by the co-casting method, it is preferable to contain fine particles of this addition amount on the surface.

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。   Silicon dioxide fine particles are commercially available under the trade names of, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). it can.

酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。   Zirconium oxide fine particles are commercially available, for example, under the trade names Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used.

微粒子としてポリマー粒子を用いることもでき、ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。   Polymer particles can also be used as the fine particles, and examples of the polymer include silicone resins, fluororesins, and acrylic resins. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもアエロジル200V、アエロジルR972Vがセルロースエステルフィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられるセルロースエステルフィルムにおいてはハードコート層を設けるのとは反対面側の動摩擦係数が1.0以下であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large effect of reducing the friction coefficient while keeping the turbidity of the cellulose ester film low. In the cellulose ester film used in the present invention, it is preferable that the coefficient of dynamic friction on the side opposite to the side where the hard coat layer is provided is 1.0 or less.

〈セルロースエステルフィルムの製造方法〉
次に、セルロースエステルフィルムの製造方法について、まず溶液流延法について説明する。
<Method for producing cellulose ester film>
Next, the solution casting method will be described first for the method for producing a cellulose ester film.

(溶液流延法)
セルロースエステルフィルムの溶液流延法による製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、さらに乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。
(Solution casting method)
Manufacture of the cellulose ester film by the solution casting method is a step of preparing a dope by dissolving the cellulose ester and additives in a solvent, a step of casting the dope on a belt-shaped or drum-shaped metal support, and casting. It is performed by a step of drying the dope as a web, a step of peeling from the metal support, a step of stretching or maintaining the width, a step of drying, and a step of winding the finished film.

ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、さらに好ましくは、15〜25質量%である。   The process for preparing the dope will be described. The concentration of cellulose ester in the dope is preferably higher because the drying load after casting on the metal support can be reduced. However, if the concentration of cellulose ester is too high, the load during filtration increases and the filtration accuracy increases. Becomes worse. The concentration for achieving both of these is preferably 10 to 35% by mass, and more preferably 15 to 25% by mass.

ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が70〜98質量%であり、貧溶剤が2〜30質量%である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルのアシル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースエステルの酢酸エステル(アセチル基置換度2.4)、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル(アセチル基置換度2.8)では貧溶剤となる。   The solvent used in the dope may be used alone or in combination of two or more, but it is preferable to use a mixture of a good solvent and a poor solvent of cellulose ester in terms of production efficiency, and there are many good solvents. This is preferable from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester. The preferable range of the mixing ratio of the good solvent and the poor solvent is 70 to 98% by mass for the good solvent and 2 to 30% by mass for the poor solvent. With a good solvent and a poor solvent, what dissolve | melts the cellulose ester to be used independently is defined as a good solvent, and what poorly swells or does not melt | dissolve is defined as a poor solvent. Therefore, depending on the acyl group substitution degree of the cellulose ester, the good solvent and the poor solvent change. For example, when acetone is used as the solvent, the cellulose ester acetate ester (acetyl group substitution degree 2.4) and cellulose acetate propionate are good. As a solvent, cellulose acetate (acetyl group substitution degree 2.8) is a poor solvent.

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。   Although the good solvent used for this invention is not specifically limited, Organic halogen compounds, such as a methylene chloride, dioxolanes, acetone, methyl acetate, methyl acetoacetate, etc. are mentioned. Particularly preferred is methylene chloride or methyl acetate.

また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、n−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が0.01〜2質量%含有していることが好ましい。   Moreover, although the poor solvent used for this invention is not specifically limited, For example, methanol, ethanol, n-butanol, cyclohexane, cyclohexanone, etc. are used preferably. Moreover, it is preferable that 0.01-2 mass% of water contains in dope.

上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤または膨潤させた後、さらに良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。   A general method can be used as a dissolution method of the cellulose ester when preparing the dope described above. When heating and pressurization are combined, it is possible to heat above the boiling point at normal pressure. It is preferable to stir and dissolve while heating at a temperature that is equal to or higher than the boiling point of the solvent at normal pressure and that the solvent does not boil under pressure, in order to prevent the generation of massive undissolved materials called gels and mamacos. Moreover, after mixing a cellulose ester with a poor solvent and making it wet or swell, the method of adding a good solvent and melt | dissolving is also used preferably.

加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。   The pressurization may be performed by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas or a method of increasing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.

溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高すぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45〜120℃であり、60〜110℃がより好ましく、70℃〜105℃がさらに好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。   The heating temperature with the addition of the solvent is preferably higher from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester, but if the heating temperature is too high, the required pressure increases and the productivity deteriorates. A preferable heating temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 60 to 110 ° C, and still more preferably 70 ° C to 105 ° C. The pressure is adjusted so that the solvent does not boil at the set temperature.

または冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチル等の溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。   Alternatively, a cooling dissolution method is also preferably used, whereby the cellulose ester can be dissolved in a solvent such as methyl acetate.

次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001〜0.008mmの濾材がより好ましく、0.003〜0.006mmの濾材がさらに好ましい。   Next, this cellulose ester solution is filtered using a suitable filter medium such as filter paper. As the filter medium, it is preferable that the absolute filtration accuracy is small in order to remove insoluble matters and the like. However, if the absolute filtration accuracy is too small, there is a problem that the filter medium is likely to be clogged. For this reason, a filter medium with an absolute filtration accuracy of 0.008 mm or less is preferable, a filter medium with 0.001 to 0.008 mm is more preferable, and a filter medium with 0.003 to 0.006 mm is more preferable.

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン(登録商標)等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。   There are no particular restrictions on the material of the filter medium, and ordinary filter media can be used. However, plastic filter media such as polypropylene and Teflon (registered trademark), and metal filter media such as stainless steel do not drop off fibers. preferable. It is preferable to remove and reduce impurities, particularly bright spot foreign matter, contained in the raw material cellulose ester by filtration.

輝点異物とは、2枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースエステルフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点(異物)のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下であることが好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、さらに好ましくは50個/m2以下であり、さらに好ましくは0〜10個/cm2以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない方が好ましい。 A bright spot foreign substance is when two polarizing plates are placed in a crossed Nicol state, a cellulose ester film is placed between them, light is applied from the side of one polarizing plate, and observed from the side of the other polarizing plate. It is a point (foreign matter) where light from the opposite side appears to leak, and the number of bright spots having a diameter of 0.01 mm or more is preferably 200 / cm 2 or less. More preferably, it is 100 pieces / cm < 2 > or less, More preferably, it is 50 pieces / m < 2 > or less, More preferably, it is 0-10 pieces / cm < 2 > or less. Further, it is preferable that the number of bright spots of 0.01 mm or less is small.

ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差(差圧という)の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は45〜120℃であり、45〜70℃がより好ましく、45〜55℃であることがさらに好ましい。   The dope can be filtered by a normal method, but the method of filtering while heating at a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal pressure and in a range where the solvent does not boil under pressure is the filtration pressure before and after filtration. The increase in the difference (referred to as differential pressure) is small and preferable. A preferred temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 45 to 70 ° C, and even more preferably 45 to 55 ° C.

濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることがさらに好ましい。   A smaller filtration pressure is preferred. The filtration pressure is preferably 1.6 MPa or less, more preferably 1.2 MPa or less, and further preferably 1.0 MPa or less.

ここで、ドープの流延について説明する。   Here, the dope casting will be described.

流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃がさらに好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used as the metal support. The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set to −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferred because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or the flatness may deteriorate. A preferable support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.

セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、さらに好ましくは20〜40質量%または60〜130質量%であり、特に好ましくは、20〜30質量%または70〜120質量%である。   In order for the cellulose ester film to exhibit good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Especially preferably, it is 20-30 mass% or 70-120 mass%.

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。   In the present invention, the amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
なお、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
Note that M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.

また、セルロースエステルフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、さらに乾燥し、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、さらに好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%以下である。   Further, in the drying step of the cellulose ester film, the web is peeled off from the metal support, and further dried, and the residual solvent amount is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, Especially preferably, it is 0-0.01 mass% or less.

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   In the film drying process, generally, a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides are alternately passed through and dried) or a method of drying while transporting the web by a tenter method is adopted.

本発明の反射防止フィルム用のセルロースエステルフィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向に延伸し、さらにウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが特に好ましい。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率は1.01〜1.3倍であり、1.05〜1.15倍がさらに好ましい。縦方向及び横方向延伸により面積が1.12〜1.44倍となっていることが好ましく、1.15〜1.32倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることができる。縦方向と横方向の延伸倍率のいずれかが1.01倍未満ではハードコート層を形成する際の紫外線照射による平面性の劣化が生じやすくなる。   In order to produce the cellulose ester film for the antireflection film of the present invention, the web is stretched in the conveying direction where the residual solvent amount of the web immediately after peeling from the metal support is large, and both ends of the web are gripped with clips or the like. It is particularly preferable to perform stretching in the width direction by a tenter method. A preferable draw ratio in both the machine direction and the transverse direction is 1.01 to 1.3 times, and more preferably 1.05 to 1.15 times. It is preferable that the area is 1.12 to 1.44 times, and preferably 1.15 to 1.32 times due to longitudinal and lateral stretching. This can be determined by the draw ratio in the longitudinal direction × the draw ratio in the transverse direction. If one of the stretching ratios in the machine direction and the transverse direction is less than 1.01, the flatness is likely to deteriorate due to ultraviolet irradiation when the hard coat layer is formed.

剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力及びその後の搬送張力によって延伸することが好ましい。例えば剥離張力を210N/m以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは220〜300N/mである。   In order to stretch in the machine direction immediately after peeling, it is preferable to stretch by peeling tension and subsequent transport tension. For example, it is preferable to peel at a peeling tension of 210 N / m or more, and particularly preferably 220 to 300 N / m.

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。   The means for drying the web is not particularly limited, and can be generally performed with hot air, infrared rays, a heating roll, microwave, or the like, but it is preferably performed with hot air in terms of simplicity.

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は30〜200℃で段階的に高くしていくことが好ましく、50〜180℃の範囲で段階的に高くすることが寸法安定性をよくするためさらに好ましい。   The drying temperature in the web drying step is preferably increased stepwise from 30 to 200 ° C, and more preferably stepwise increased from 50 to 180 ° C in order to improve dimensional stability.

セルロースエステルフィルムの膜厚は、特に限定はされないが10〜200μmが好ましく用いられる。特に10〜70μmの薄膜フィルムでは平面性と耐擦傷性に優れた反射防止フィルムを得ることが困難であったが、本発明によれば、平面性と耐擦傷性に優れた薄膜の反射防止フィルムが得られ、また生産性にも優れているため、セルロースエステルフィルムの膜厚は10〜70μmであることが特に好ましい。さらに好ましくは20〜60μmである。最も好ましくは35〜60μmである。また、共流延法によって多層構成としたセルロースエステルフィルムも好ましく用いることができる。セルロースエステルが多層構成の場合でも紫外線吸収剤と可塑剤を含有する層を有しており、それがコア層、スキン層、もしくはその両方であってもよい。   Although the film thickness of a cellulose-ester film is not specifically limited, 10-200 micrometers is used preferably. In particular, it was difficult to obtain an antireflection film excellent in flatness and scratch resistance with a thin film of 10 to 70 μm. According to the present invention, a thin antireflection film excellent in flatness and scratch resistance was obtained. And the film thickness of the cellulose ester film is particularly preferably 10 to 70 μm. More preferably, it is 20-60 micrometers. Most preferably, it is 35-60 micrometers. Moreover, the cellulose ester film made into the multilayer structure by the co-casting method can also be used preferably. Even when the cellulose ester has a multilayer structure, it has a layer containing an ultraviolet absorber and a plasticizer, and it may be a core layer, a skin layer, or both.

本発明の反射防止フィルムは、幅1m以上であり、幅1.4〜4mのものが好ましく用いられる。特に好ましくは1.4〜3mである。4mを超えると搬送が困難となる。また、セルロースエステルフィルムのハードコート層を設ける面の中心線平均粗さ(Ra)は0.001〜1μmのものを用いることができる。   The antireflection film of the present invention has a width of 1 m or more and preferably has a width of 1.4 to 4 m. Especially preferably, it is 1.4-3 m. If it exceeds 4 m, conveyance becomes difficult. Moreover, the centerline average roughness (Ra) of the surface which provides the hard-coat layer of a cellulose-ester film can use a 0.001-1 micrometer thing.

(溶融流延法)
本発明に係る反射防止フィルムに用いられるセルロースエステルフィルムは、溶融流延法によって形成することも好ましい。
(Melt casting method)
The cellulose ester film used for the antireflection film according to the present invention is also preferably formed by a melt casting method.

溶液流延法において用いられる溶媒(例えば塩化メチレン等)を用いずに、加熱溶融する溶融流延による成形法は、さらに詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度等に優れるセルロースエステルフィルムを得るためには、溶融押し出し法が優れている。   The molding method by melt casting that heats and melts without using the solvent (for example, methylene chloride, etc.) used in the solution casting method, more specifically, melt extrusion molding method, press molding method, inflation method, injection molding method And can be classified into blow molding, stretch molding and the like. Among these, in order to obtain a cellulose ester film excellent in mechanical strength, surface accuracy and the like, the melt extrusion method is excellent.

本発明に用いられるセルロースエステル及び添加剤の混合物を熱風乾燥または真空乾燥した後、溶融押出し、T型ダイよりフィルム状に押出して、静電印加法等により冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸フィルムを得る。冷却ドラムの温度は90〜150℃に維持されていることが好ましい。   The mixture of cellulose ester and additives used in the present invention is hot-air dried or vacuum dried, then melt extruded, extruded into a film form from a T-shaped die, brought into close contact with a cooling drum by an electrostatic application method, etc., cooled and solidified, An unstretched film is obtained. The temperature of the cooling drum is preferably maintained at 90 to 150 ° C.

本発明において、セルロースエステルと、その他必要により添加される安定化剤等の添加剤は、溶融する前に混合しておくことが好ましく、セルロースエステルと添加剤を加熱前に混合することがさらに好ましい。混合は、混合機等により行ってもよく、また、セルロースエステル調製過程において混合してもよい。混合機を使用する場合は、V型混合機、円錐スクリュー型混合機、水平円筒型混合機等、ヘンシェルミキサー、リボンミキサー一般的な混合機を用いることができる。   In the present invention, the cellulose ester and other additives such as a stabilizer added if necessary are preferably mixed before melting, and more preferably the cellulose ester and the additive are mixed before heating. . Mixing may be performed by a mixer or the like, or may be performed in the cellulose ester preparation process. When a mixer is used, a general mixer such as a V-type mixer, a conical screw type mixer, a horizontal cylindrical type mixer, a Henschel mixer, or a ribbon mixer can be used.

上記のようにフィルム構成材料を混合した後に、その混合物を押出し機を用いて直接溶融して製膜するようにしてもよいが、一旦、フィルム構成材料をペレット化した後、該ペレットを押出し機で溶融して製膜するようにしてもよい。また、フィルム構成材料が、融点の異なる複数の材料を含む場合には、融点の低い材料のみが溶融する温度で一旦、いわゆるおこし状の半溶融物を作製し、半溶融物を押出し機に投入して製膜することも可能である。フィルム構成材料に熱分解しやすい材料が含まれる場合には、溶融回数を減らす目的で、ペレットを作製せずに直接製膜する方法や、上記のようなおこし状の半溶融物を作ってから製膜する方法が好ましい。   After the film constituent materials are mixed as described above, the mixture may be directly melted and formed into a film using an extruder, but once the film constituent materials are pelletized, the pellets are extruded. The film may be melted to form a film. In addition, when the film constituent material includes a plurality of materials having different melting points, a so-called braided semi-melt is once produced at a temperature at which only a material having a low melting point is melted, and the semi-melt is put into an extruder. It is also possible to form a film. If the film component contains a material that is easily pyrolyzed, in order to reduce the number of times of melting, a method of directly forming a film without producing pellets, or after making a paste-like semi-molten material as described above A method of forming a film is preferred.

押出し機は、市場で入手可能な種々の押出し機を使用可能であるが、溶融混練押出し機が好ましく、単軸押出し機でも2軸押出し機でもよい。フィルム構成材料からペレットを作製せずに、直接製膜を行う場合、適当な混練度が必要であるため2軸押出し機を用いることが好ましいが、単軸押出し機でも、スクリューの形状をマドック型、ユニメルト、ダルメージ等の混練型のスクリューに変更することにより、適度の混練が得られるので、使用可能である。フィルム構成材料として、一旦、ペレットやおこし状の半溶融物を使用する場合は、単軸押出し機でも2軸押出し機でも使用可能である。   As the extruder, various commercially available extruders can be used, but a melt-kneading extruder is preferable, and a single-screw extruder or a twin-screw extruder may be used. When forming a film directly without producing pellets from film constituent materials, it is preferable to use a twin-screw extruder because an appropriate degree of kneading is necessary, but even with a single-screw extruder, the screw shape is a Maddock type. By changing to a kneading type screw such as unimelt or dull mage, moderate kneading can be obtained, so that it can be used. When a pellet or braided semi-melt is once used as a film constituent material, it can be used in either a single screw extruder or a twin screw extruder.

押出し機内及び押出した後の冷却工程は、窒素ガス等の不活性ガスで置換するか、あるいは減圧することにより、酸素の濃度を下げることが好ましい。   In the extruder and in the cooling step after extrusion, it is preferable to reduce the oxygen concentration by replacing with an inert gas such as nitrogen gas or reducing the pressure.

押出し機内のフィルム構成材料の溶融温度は、フィルム構成材料の粘度や吐出量、製造するシートの厚み等によって好ましい条件が異なるが、一般的には、フィルムのガラス転移温度Tgに対して、Tg以上、Tg+100℃以下、好ましくはTg+10℃以上、Tg+90℃以下である。具体的には、溶融押出し時の温度は、150〜300℃であることが好ましく、特に180〜270℃の範囲であることが好ましい。更に200〜250℃の範囲であることが好ましい。押出し時の溶融粘度は、10〜100000ポイズ、好ましくは100〜10000ポイズである。また、押出し機内でのフィルム構成材料の滞留時間は短い方が好ましく、5分以内、好ましくは3分以内、より好ましくは2分以内である。滞留時間は、押出し機1の種類、押出す条件にも左右されるが、材料の供給量やL/D、スクリュー回転数、スクリューの溝の深さ等を調整することにより短縮することが可能である。   The melting temperature of the film constituent material in the extruder varies depending on the viscosity and discharge amount of the film constituent material, the thickness of the sheet to be manufactured, etc., but generally it is Tg or more with respect to the glass transition temperature Tg of the film. Tg + 100 ° C. or lower, preferably Tg + 10 ° C. or higher, and Tg + 90 ° C. or lower. Specifically, the temperature during melt extrusion is preferably 150 to 300 ° C, and particularly preferably 180 to 270 ° C. Furthermore, it is preferable that it is the range of 200-250 degreeC. The melt viscosity at the time of extrusion is 10 to 100,000 poise, preferably 100 to 10,000 poise. Further, the residence time of the film constituting material in the extruder is preferably shorter, and is within 5 minutes, preferably within 3 minutes, more preferably within 2 minutes. Although the residence time depends on the type of the extruder 1 and the extrusion conditions, it can be shortened by adjusting the material supply amount, L / D, screw rotation speed, screw groove depth, etc. It is.

上記押出し機でフィルム状に押出して、静電印加法等により冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸フィルムを得る。冷却ドラムの温度は90〜150℃に維持されていることが好ましい。   Extruded into a film by the above extruder, brought into close contact with a cooling drum by an electrostatic application method or the like, and cooled and solidified to obtain an unstretched film. The temperature of the cooling drum is preferably maintained at 90 to 150 ° C.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは、幅手方向もしくは製膜方向に延伸製膜されたフィルムであることが特に好ましい。   The cellulose ester film used in the present invention is particularly preferably a film stretched in the width direction or the film forming direction.

前述の冷却ドラムから剥離され、得られた未延伸フィルムを複数のロール群及び/または赤外線ヒーター等の加熱装置を介してセルロースエステルのガラス転移温度(Tg)からTg+100℃の範囲内に加熱し、一段または多段縦延伸することが好ましい。次に、上記のようにして得られた縦方向に延伸されたセルロースエステルフィルムを横延伸し、次いで熱処理することが好ましい。   The unstretched film peeled off from the cooling drum described above is heated in a range of Tg + 100 ° C. from the glass transition temperature (Tg) of the cellulose ester via a heating device such as a plurality of roll groups and / or an infrared heater, It is preferable to perform single-stage or multistage longitudinal stretching. Next, the cellulose ester film stretched in the longitudinal direction obtained as described above is preferably stretched in the transverse direction and then heat-treated.

熱処理は、Tg−20℃〜延伸温度の範囲内で通常0.5〜300秒間搬送しながら行うことが好ましい。   It is preferable to perform heat processing, conveying normally for 0.5 to 300 second within the range of Tg-20 degreeC-extending | stretching temperature.

熱処理されたフィルムは通常Tg以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻き取られる。また冷却は、最終熱処理温度からTgまでを、毎秒100℃以下の冷却速度で徐冷することが好ましい。   The heat-treated film is usually cooled to Tg or less, and clip holding portions at both ends of the film are cut and wound. Further, the cooling is preferably performed by gradually cooling from the final heat treatment temperature to Tg at a cooling rate of 100 ° C. or less per second.

冷却する手段は特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数の温度領域で順次冷却しながらこれらの処理を行うことがフィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。尚、冷却速度は、最終熱処理温度をT1、フィルムが最終熱処理温度からTgに達するまでの時間をtとしたとき、(T1−Tg)/tで求めた値である。   The means for cooling is not particularly limited, and can be performed by a conventionally known means. In particular, it is preferable to perform these treatments while sequentially cooling in a plurality of temperature ranges from the viewpoint of improving the dimensional stability of the film. The cooling rate is a value obtained by (T1-Tg) / t, where T1 is the final heat treatment temperature and t is the time until the film reaches Tg from the final heat treatment temperature.

透明樹脂フィルムを溶融流延法で製造する際に好ましく用いられる添加剤について説明する。   The additive preferably used when manufacturing a transparent resin film by the melt casting method will be described.

〈劣化防止剤〉
劣化防止剤とは、高分子が熱や酸素、水分、酸などによって分解されることを化学的な作用によって抑制する材料のことである。本発明に用いられる透明樹脂フィルムは、溶融流延法の場合、特に200℃以上の高温下で成形されるため、高分子の分解・劣化が起きやすい系であり、劣化防止剤をフィルム形成材料中に含有させることが好ましい。
<Deterioration inhibitor>
The deterioration preventing agent is a material that suppresses decomposition of a polymer by heat, oxygen, moisture, acid, or the like by a chemical action. In the case of the melt casting method, the transparent resin film used in the present invention is formed at a high temperature of 200 ° C. or higher. It is preferable to contain in.

フィルム形成材料の酸化防止、分解して発生した酸の捕捉、光または熱によるラジカル種基因の分解反応を抑制または禁止する等、解明できていない分解反応を含めて、着色や分子量低下に代表される変質や材料の分解による揮発成分の生成を抑制するために劣化防止剤を用いる。   It is represented by coloring and molecular weight reduction, including decomposition reactions that have not been elucidated, such as preventing oxidation of film-forming materials, capturing acid generated by decomposition, and suppressing or prohibiting decomposition reactions caused by radical species due to light or heat. Degradation inhibitors are used to suppress the generation of volatile components due to deterioration and material decomposition.

劣化防止剤としては、例えば、酸化防止剤、ヒンダードアミン光安定剤、酸捕捉剤、金属不活性化剤などが挙げられるが、これらに限定されない。これらは、特開平3−199201号公報、特開平5−1907073号公報、特開平5−194789号公報、特開平5−271471号公報、特開平6−107854号公報などに記載がある。これらの中でも、本発明の目的のためには、フィルム形成材料中に劣化防止剤として酸化防止剤を含むことが好ましい。   Examples of the degradation inhibitor include, but are not limited to, an antioxidant, a hindered amine light stabilizer, an acid scavenger, and a metal deactivator. These are described in JP-A-3-199201, JP-A-5-1907073, JP-A-5-194789, JP-A-5-271471, JP-A-6-107854, and the like. Among these, for the purpose of the present invention, it is preferable to include an antioxidant as a deterioration preventing agent in the film forming material.

本発明に用いられるフィルム形成材料中の劣化防止剤は、少なくとも1種以上選択でき、添加する量は、本発明に用いられるセルロースエステルの質量に対して、劣化防止剤の添加量は0.01質量%以上10質量%以下が好ましく、より好ましくは0.1質量%以上5.0質量%以下であり、更に好ましくは0.2質量%以上2.0質量%以下である。   The deterioration preventing agent in the film-forming material used in the present invention can be selected from at least one or more. The amount to be added is 0.01% with respect to the mass of the cellulose ester used in the present invention. The mass is preferably from 10% by mass to 10% by mass, more preferably from 0.1% by mass to 5.0% by mass, and still more preferably from 0.2% by mass to 2.0% by mass.

なお、劣化防止剤の添加量が上記添加量の範囲よりも多いとセルロースエステルへの相溶性の観点から透明樹脂フィルムとしての透明性の低下を引き起こし、またフィルムが脆くなることもあるために好ましくない。   In addition, it is preferable that the addition amount of the deterioration inhibitor is larger than the above range of the addition amount because it causes a decrease in transparency as a transparent resin film from the viewpoint of compatibility with the cellulose ester, and the film may become brittle. Absent.

フィルム形成材料は、材料の変質や吸湿性を回避する目的で、構成する材料が1種または複数種のペレットに分割して保存することができる。ペレット化は、加熱時の溶融物の混合性または相溶性が向上でき、または得られたフィルムの光学的な均一性が確保できることもある。   The film-forming material can be stored by dividing the constituent material into one or a plurality of types of pellets for the purpose of avoiding material alteration and hygroscopicity. Pelletization may improve the mixing or compatibility of the melt during heating, or may ensure the optical uniformity of the resulting film.

フィルム形成材料を加熱溶融するとき、及び加熱溶融したものを後工程で使用するとき、更には製品として消費者のもとで使用されるとき、上述の劣化防止剤が存在することは、材料の劣化や分解に基づく強度や光学的透明性の劣化を低減すること、または材料固有の強度を維持できる観点で優れている。   When the film-forming material is heat-melted, and when the heat-melted material is used in a post-process, or when used as a product under the consumer, the presence of the above-mentioned deterioration preventive agent It is excellent in terms of reducing the strength and deterioration of optical transparency due to deterioration and decomposition, or maintaining the strength inherent to the material.

フィルム形成材料が加熱により著しく劣化すると、着色が発生して反射防止フィルムとしては用いることができなくなることがある。また、流延工程の次に延伸の工程がある場合、フィルム形成材料が加熱により著しく劣化すると、形成されたフィルムが脆くなり、延伸の工程で破断が生じやすくなったりする。   If the film-forming material is significantly deteriorated by heating, coloring may occur and it may not be used as an antireflection film. Moreover, when there exists an extending | stretching process after a casting process, when a film forming material deteriorates remarkably by heating, the formed film will become weak and it will become easy to produce a fracture | rupture in an extending process.

そこで、上述の劣化防止剤の存在は、加熱溶融時において可視光領域の着色物の生成を抑制すること、または加熱溶融時及び加熱溶融後のフィルムを構成する材料が分解して生じた揮発成分等によって生じる透過率やヘイズ値の低下といった反射防止フィルムとして好ましくない劣化を抑制または消滅できる点でも優れている。   Therefore, the presence of the above-mentioned deterioration preventing agent suppresses the generation of a colored material in the visible light region at the time of heating and melting, or a volatile component generated by decomposition of the material constituting the film at the time of heating and melting. It is also excellent in that it can suppress or eliminate deterioration that is undesirable as an antireflection film such as a decrease in transmittance and haze value caused by the above.

本発明において液晶表示装置の表示画像は、フィルムのヘイズ値が1%を超えると影響を与えるため、好ましくはヘイズ値は1%未満、より好ましくは0.5%未満である。また着色性の指標としては黄色度(イエローインデックス、YI)を用いることができ、好ましくは3.0以下、より好ましくは1.0以下である。黄色度はJIS−K7103に基づいて測定することができる。   In the present invention, the display image of the liquid crystal display device is affected when the haze value of the film exceeds 1%. Therefore, the haze value is preferably less than 1%, more preferably less than 0.5%. As an index of colorability, yellowness (yellow index, YI) can be used, preferably 3.0 or less, more preferably 1.0 or less. Yellowness can be measured based on JIS-K7103.

上述のフィルム形成材料の保存或いは製膜工程において、空気中の酸素あるいは水分による劣化反応が併発することがある。この場合、上記劣化防止剤の安定化作用とともに、空気中の湿度・酸素濃度を低減させることも本発明を具現化する上で好ましく併用できる。これは、公知の技術として不活性ガスとして窒素やアルゴンの使用、減圧〜真空による脱気操作、及び密閉環境下による操作が挙げられ、これら3者の内少なくとも1つの方法を上記安定剤の存在と併用することが好ましい。   In the above-described film forming material storage or film forming process, deterioration reactions due to oxygen or moisture in the air may occur simultaneously. In this case, in addition to the stabilizing action of the deterioration preventing agent, reducing the humidity and oxygen concentration in the air can be preferably used in combination for realizing the present invention. This includes the use of nitrogen or argon as an inert gas as a known technique, degassing operation under reduced pressure to vacuum, and operation in a sealed environment, and at least one of these three methods is the presence of the stabilizer. It is preferable to use together.

〈酸化防止剤〉
セルロースエステルは高温下では熱だけでなく酸素によっても分解が促進されるため、本発明の反射防止フィルムにおいては劣化防止剤として酸化防止剤を含有することが好ましい。
<Antioxidant>
Since cellulose ester is decomposed not only by heat but also by oxygen at a high temperature, the antireflection film of the present invention preferably contains an antioxidant as a deterioration preventing agent.

本発明において有用な酸化防止剤としては、酸素によるフィルム形成材料の劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でもフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、アルキルラジカル捕捉剤、過酸化物分解剤、酸素スカベンジャー等が挙げられる。これらの中でもフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、アルキルラジカル捕捉剤が好ましいが、フェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤の2者の組み合わせを用いることがより好ましく、フェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤とアルキルラジカル捕捉剤の3者の組み合わせを用いることが最も好ましい。これらの酸化防止剤を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、溶融成型時の熱や熱酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止できる。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、本発明に用いられるセルロースエステルの質量に対して、0.01質量%以上10質量%以下が好ましく、より好ましくは0.1質量%以上5.0質量%以下であり、更に好ましくは0.2質量%以上2.0質量%以下である。   The antioxidant useful in the present invention can be used without limitation as long as it is a compound that suppresses deterioration of the film-forming material due to oxygen, and among them, a phenolic antioxidant, a phosphorus antioxidant, and a sulfur antioxidant. Agents, alkyl radical scavengers, peroxide decomposers, oxygen scavengers and the like. Among these, phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, and alkyl radical scavengers are preferable, but it is more preferable to use a combination of two of a phenolic antioxidant and a phosphorus antioxidant, and phenolic antioxidants. It is most preferable to use a combination of three agents, a phosphorus-based antioxidant and an alkyl radical scavenger. By blending these antioxidants, it is possible to prevent coloring and strength reduction of the molded product due to heat during heat molding or deterioration due to thermal oxidation without lowering transparency, heat resistance and the like. These antioxidants can be used singly or in combination of two or more, and the blending amount thereof is appropriately selected within the range not impairing the object of the present invention, but the cellulose ester used in the present invention. Is preferably 0.01% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or more and 5.0% by mass or less, and still more preferably 0.2% by mass or more and 2.0% by mass. % Or less.

(フェノール系酸化防止剤)
フェノール系酸化防止剤は既知の化合物であり、パラ−t−ブチルフェノール、パラ−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール等のアルキル基置換フェノールの他、例えば、米国特許第4,839,405号明細書の第12〜14欄に記載の、2,6−ジアルキルフェノール誘導体化合物、所謂ヒンダードフェノール系化合物が挙げられるが、これらの中で、ヒンダードフェノール系化合物が好ましい。
(Phenolic antioxidant)
Phenol-based antioxidants are known compounds. In addition to alkyl group-substituted phenols such as para-t-butylphenol and para- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, for example, US Pat. Examples include 2,6-dialkylphenol derivative compounds, so-called hindered phenol compounds, described in columns 12 to 14 of No. 839,405, and among these, hindered phenol compounds are preferable.

ヒンダードフェノールフェノール系化合物の具体例としては、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−アセテート、n−オクタデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、n−ヘキシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、n−ドデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ドデシルβ(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、エチルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(2−ヒドロキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ステアルアミドN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、n−ブチルイミノN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,2−プロピレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ネオペンチルグリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、グリセリン−l−n−オクタデカノエート−2,3−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、ペンタエリスリトール−テトラキス−[3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,1,1−トリメチロールエタン−トリス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ソルビトールヘキサ−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−ヒドロキシエチル7−(3−メチル−5−tブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−ステアロイルオキシエチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,6−n−ヘキサンジオール−ビス[(3′,5′−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトール−テトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、チバスペシャルティケミカルズから、“IRGANOX1076”及び“IRGANOX1010”という商品名で市販されている。   Specific examples of the hindered phenol phenol compound include n-octadecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate, n-octadecyl 3- (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxyphenyl) -acetate, n-octadecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, n-hexyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, n-dodecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, neo-dodecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, dodecyl β (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, ethyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobuty Rate, octadecyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobutyrate, octadecyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2- (N-octylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzoate, 2- (n-octylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-phenyl acetate, 2- ( n-octadecylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate, 2- (n-octadecylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzoate, 2- ( 2-hydroxyethylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, diethyl glycol bis- (3,5-di -T-butyl-4-hydroxy-phenyl) propionate, 2- (n-octadecylthio) ethyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, stearamide N, N-bis- [ Ethylene 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], n-butylimino N, N-bis- [ethylene 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) ) Propionate], 2- (2-stearoyloxyethylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, 2- (2-stearoyloxyethylthio) ethyl 7- (3-methyl-5- t-butyl-4-hydroxyphenyl) heptanoate, 1,2-propylene glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl- -Hydroxyphenyl) propionate], ethylene glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], neopentylglycol bis- [3- (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], ethylene glycol bis- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate), glycerin-1-n-octadecanoate-2,3-bis- ( 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate), pentaerythritol-tetrakis- [3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate], 1,1 , 1-Trimethylolethane-tris- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propione ), Sorbitol hexa- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2-hydroxyethyl 7- (3-methyl-5-tbutyl-4-hydroxyphenyl) propionate 2-stearoyloxyethyl 7- (3-methyl-5-t-butyl-4-hydroxyphenyl) heptanoate, 1,6-n-hexanediol-bis [(3 ', 5'-di-t-butyl- 4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythritol-tetrakis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate). The above type of phenolic compounds are commercially available from Ciba Specialty Chemicals under the trade names “IRGANOX1076” and “IRGANOX1010”, for example.

(リン系酸化防止剤)
本発明において有用なリン系酸化防止剤として、ホスファイト系化合物、及びホスホナイト系化合物が挙げられる。ホスファイト系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)ホスファイト、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1.3.2]ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物;4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,4′−イソプロピリデン−ビス(フェニル−ジ−アルキル(C12〜C15)ホスファイト)等のジホスファイト系化合物;等が挙げられる。上記タイプのホスファイト系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“SumilizerGP”、旭電化工業株式会社から“ADK STAB PEP−24G”、“ADK STAB PEP−36”、“ADK STAB 3010”、“ADK STAB HP−10”及び“ADK STAB 2112”という商品名で市販されている。
(Phosphorus antioxidant)
Examples of phosphorus antioxidants useful in the present invention include phosphite compounds and phosphonite compounds. Specific examples of the phosphite compound include triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di -T-butylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl) phosphite, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9, 10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 6- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10- Mono such as tetra-t-butyldibenz [d, f] [1.3.2] dioxaphosphine, tridecyl phosphite Sphite compounds; 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenyl-di-tridecyl phosphite), 4,4'-isopropylidene-bis (phenyl-di-alkyl (C12- And diphosphite compounds such as C15) phosphite). The above type of phosphite compounds are, for example, from Sumitomo Chemical Co., Ltd., “Sumizer GP”, from Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., “ADK STAB PEP-24G”, “ADK STAB PEP-36”, “ADK STAB 3010”, “ It is commercially available under the trade names of “ADK STAB HP-10” and “ADK STAB 2112”.

ホスホナイト系化合物の具体例としては、ジメチル−フェニルホスホナイト、ジ−t−ブチル−フェニルホスホナイト、ジフェニル−フェニルホスホナイト、ジ−(4−ペンチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2−t−ブチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2−メチル−3−ペンチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2−メチル−4−オクチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(3−ブチル−4−メチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(3−ヘキシル−4−エチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2,4,6−トリメチルフェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2,3−ジメチル−4−エチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2,6−ジエチル−3−ブチルフェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2,3−ジプロピル−5−ブチルフェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)−フェニルホスホナイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)ビフェニル−4−イル−ホスホナイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)−4′−(ビス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェノキシ)ホスフィノ)ビフェニル−4−イル−ホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3,4−トリメチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジメチル−5−エチル−フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジメチル−4−プロピルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジメチル−5−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジメチル−4−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジエチル−5−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジエチル−4−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4,5−トリエチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジエチル−4−プロピルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジエチル−6−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジエチル−5−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジエチル−6−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジプロピル−5−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジプロピル−4−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジプロピル−5−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジプロピル−6−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジプロピル−5−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジブチル−4−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジブチル−3−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジブチル−4−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−3−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−3−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−t−ブチル−3−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジブチル−4−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジブチル−3−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジブチル−4−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−3−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−5−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−6−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−3−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−4−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−6−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−t−ブチル−3−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−t−ブチル−5−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3,4−トリブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト等が挙げられる。上記タイプのリン系化合物は、例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社から“IRGAFOS P−EPQ”、堺化学工業株式会社から“GSY−P101”という商品名で市販されている。   Specific examples of the phosphonite compound include dimethyl-phenylphosphonite, di-t-butyl-phenylphosphonite, diphenyl-phenylphosphonite, di- (4-pentyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- (2- t-butyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- (2-methyl-3-pentyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- (2-methyl-4-octyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- ( 3-butyl-4-methyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- (3-hexyl-4-ethyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- (2,4,6-trimethylphenyl) -phenylphosphonite, Di- (2,3-dimethyl-4-ethyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- (2,6-diethi -3-butylphenyl) -phenylphosphonite, di- (2,3-dipropyl-5-butylphenyl) -phenylphosphonite, di- (2,4,6-tri-t-butylphenyl) -phenylphosphonite Bis (2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl) biphenyl-4-yl-phosphonite, bis (2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl) -4 '-(bis ( 2,4-di-tert-butyl-5-methylphenoxy) phosphino) biphenyl-4-yl-phosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butyl-phenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, Tetrakis (2,5-di-t-butyl-phenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (3,5-di-t-butyl-phenyl) -4,4'-bif Nylene diphosphonite, tetrakis (2,3,4-trimethylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite, tetrakis (2,3-dimethyl-5-ethyl-phenyl) -4,4'-biphenylene diphospho Knight, tetrakis (2,3-dimethyl-4-propylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite, tetrakis (2,3-dimethyl-5-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylene diphospho Knight, tetrakis (2,5-dimethyl-4-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite, tetrakis (2,3-diethyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylene diphospho Knight, tetrakis (2,6-diethyl-4-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4,5-triethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-diethyl-4-propylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2, 5-diethyl-6-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,3-diethyl-5-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2, 5-diethyl-6-tert-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,3-dipropyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2, 6-dipropyl-4-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-dipropyl-5- Tilphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,3-dipropyl-6-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-dipropyl-5-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,3-dibutyl-4-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-dibutyl-3-methylphenyl) -4 , 4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-dibutyl-4-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-3-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl) -4 4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-6-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-di-t-butyl-3- Methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-di-t-butyl-4-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-di-) t-butyl-6-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-t-butyl-3-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis ( 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-t-butyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,3-dibutyl-4-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-dibutyl-3-ethylphenyl) -4 , 4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-dibutyl-4-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-3-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-5-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl) -6-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-di-t-butyl-3-ethylphenyl) -4,4'- Phenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-di-t-butyl-4-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-di-t-butyl-6-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-t-butyl-3-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-t-butyl) -4-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-t-butyl-5-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,3 , 4-tributylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4,6-tri-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylene Phosphonite, and the like. The phosphorus compound of the above type is commercially available from Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. under the trade name “IRGAFOS P-EPQ” and from Sakai Chemical Industry Co., Ltd. as “GSY-P101”.

本発明において有用なリン系酸化防止剤として、ホスホナイト系化合物が好ましく、中でも、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト等の4,4′−ビフェニレンジホスホナイト化合物が好ましく、特に好ましいものはテトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイトである。   As the phosphorus antioxidant useful in the present invention, a phosphonite compound is preferable, and among them, 4,4 ′ such as tetrakis (2,4-di-t-butyl-phenyl) -4,4′-biphenylenediphosphonite. -Biphenylene diphosphonite compounds are preferred, and tetrakis (2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite is particularly preferred.

(アルキルラジカル捕捉剤)
本発明において「アルキルラジカル捕捉剤」とは、アルキルラジカルが速やかに反応しうる基を有し、かつアルキルラジカルと反応後に後続反応が起こらない安定な生成物を与える化合物を意味する。
(Alkyl radical scavenger)
In the present invention, the “alkyl radical scavenger” means a compound having a group that can react rapidly with an alkyl radical and giving a stable product that does not undergo subsequent reaction after reaction with the alkyl radical.

本発明において好ましいアルキルラジカル捕捉剤として、下記一般式(7)で表される化合物、及び下記一般式(8)で表される化合物が挙げられる。   Preferred alkyl radical scavengers in the present invention include a compound represented by the following general formula (7) and a compound represented by the following general formula (8).

Figure 0004935393
Figure 0004935393

〔式中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R2およびR3は、それぞれ独立して炭素数1〜8のアルキル基を表す。〕 [Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 and R 3 each independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. ]

Figure 0004935393
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〔式中、R12〜R15はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、R16は水素原子または置換基を表し、nは1〜4の整数を表す。nが1であるとき、R11は置換基を表し、nが2〜4の整数であるとき、R11は2〜4価の連結基を表す。〕
以下、本発明に用いられる前記一般式(7)で表される化合物について具体例に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[Wherein, R 12 to R 15 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, R 16 represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents an integer of 1 to 4. When n is 1, R 11 represents a substituent, and when n is an integer of 2 to 4, R 11 represents a divalent to tetravalent linking group. ]
Hereinafter, although the compound represented with the said General formula (7) used for this invention is demonstrated to a specific example, this invention is not limited to these.

前記一般式(7)中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表し、好ましくは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子またはメチル基である。 In the general formula (7), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group. is there.

2およびR3は、それぞれ独立して炭素数1〜8のアルキル基を表し、直鎖でも、分岐構造または環構造を有してもよい。R2およびR3は、好ましくは4級炭素を含む「*−C(CH32−R′」で表される構造(*は芳香環への連結部位を表し、R′は炭素数1〜5のアルキル基を表す。)である。R2は、より好ましくはtert−ブチル基、tert−アミル基またはtert−オクチル基である。R3は、より好ましくはtert−ブチル基、tert−アミル基である。 R 2 and R 3 each independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and may be linear or have a branched structure or a ring structure. R 2 and R 3 are preferably a structure represented by “* —C (CH 3 ) 2 —R ′” containing a quaternary carbon (* represents a linking site to an aromatic ring, and R ′ represents a carbon number of 1 Represents an alkyl group of ˜5). R 2 is more preferably a tert-butyl group, a tert-amyl group or a tert-octyl group. R 3 is more preferably a tert-butyl group or a tert-amyl group.

上記一般式(7)で表される化合物として、住友化学株式会社から、“SumilizerGM”、“SumilizerGS”という商品名で市販されている。   The compound represented by the general formula (7) is commercially available from Sumitomo Chemical Co., Ltd. under the trade names of “Sumilizer GM” and “Sumilizer GS”.

以下に前記一般式(7)で表される化合物の具体例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the specific example of a compound represented by the said General formula (7) below is illustrated, this invention is not limited to these.

Figure 0004935393
Figure 0004935393

Figure 0004935393
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次に、本発明に用いられる前記一般式(8)で表される化合物について具体例に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Next, although the compound represented by the said General formula (8) used for this invention is demonstrated to a specific example, this invention is not limited to these.

一般式(8)において、R12〜R15はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表す。R12とR13、R13とR14、またはR14とR15は、互いに結合して環を形成してもよい。R16は水素原子または置換基を表し、nは1〜4の整数を表し、nが1であるとき、R11は置換基を表し、nが2〜4の整数であるとき、R11は2〜4価の連結基を表す。 In General formula (8), R < 12 > -R < 15 > represents a hydrogen atom or a substituent each independently. R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , or R 14 and R 15 may be bonded to each other to form a ring. R 16 represents a hydrogen atom or a substituent, n represents an integer of 1 to 4, and when n is 1, R 11 represents a substituent, and when n is an integer of 2 to 4, R 11 is Represents a divalent to tetravalent linking group.

12〜R15が置換基を表すとき、該置換基としては特に制限はないが、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、4−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等)、アルキニル基(例えば、プロパルギル基等)、複素環基(例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等)、アルキルスルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基等)、アリールスルフィニル基(例えば、フェニルスルフィニル基等)、ホスホノ基、アシル基(例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、シアノ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等)、アニリノ基(例えば、フェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、イミド基、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、アルコキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基等)、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。これらの置換基は同様の置換基によってさらに置換されていてもよい。 When R 12 to R 15 represent a substituent, the substituent is not particularly limited. For example, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a pentyl group, Hexyl group, octyl group, dodecyl group, trifluoromethyl group, etc.), cycloalkyl group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.), acylamino group (eg, acetylamino) Group, benzoylamino group, etc.), alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkenyl group (eg, vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl) Group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 4-hexenyl group, cyclohexenyl group, etc.), halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, etc.), alkynyl group (eg, propargyl group, etc.), heterocyclic group (eg, pyridyl group, thiazolyl, etc.) Group, oxazolyl group, imidazolyl group, etc.), alkylsulfonyl group (eg, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group etc.), arylsulfonyl group (eg, phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group etc.), alkylsulfinyl group (eg, methylsulfinyl group) Group), arylsulfinyl group (for example, phenylsulfinyl group), phosphono group, acyl group (for example, acetyl group, pivaloyl group, benzoyl group), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethyl group) Aminocarbo Group, butylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (for example, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, Hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), sulfonamide group (for example, methanesulfonamide group, benzene) Sulfonamide group etc.), cyano group, alkoxy group (eg methoxy group, ethoxy group, propoxy group etc.), aryloxy group (eg phenoxy group, naphtho group) Oxy group), heterocyclic oxy group, siloxy group, acyloxy group (for example, acetyloxy group, benzoyloxy group, etc.), sulfonic acid group, sulfonic acid salt, aminocarbonyloxy group, amino group (for example, amino group, Ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, etc.), anilino group (for example, phenylamino group, chlorophenylamino group, toluidino group, anisidino group, naphthylamino group) 2-pyridylamino group, etc.), imide group, ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2- Pyridylaminoure Id group etc.), alkoxycarbonylamino group (eg methoxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group etc.), alkoxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl etc.), aryloxycarbonyl group (eg Phenoxycarbonyl group, etc.), heterocyclic thio group, thioureido group, carboxyl group, carboxylic acid salt, hydroxyl group, mercapto group, nitro group and the like. These substituents may be further substituted with the same substituent.

前記一般式(8)において、R12〜R15は水素原子またはアルキル基が好ましい。 In the general formula (8), R 12 to R 15 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

前記一般式(8)において、R16は水素原子または置換基を表し、R16で表される置換基は、R12〜R15が表す置換基と同様な基を挙げることができる。特に、R16は水素原子が好ましい。 In the general formula (8), R 16 represents a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent represented by R 16 include the same groups as the substituents represented by R 12 to R 15 . In particular, R 16 is preferably a hydrogen atom.

前記一般式(8)において、nは1〜4の整数を表すが、nが1であるとき、R11は置換基を表し、置換基としては、R12〜R15が表す置換基と同様な基を挙げることができる。nが2〜4の整数であるとき、R11はそれぞれ対応して2〜4価の連結基を表す。 In the general formula (8), n represents an integer of 1 to 4, but when n is 1, R 11 represents a substituent, and the substituent is the same as the substituent represented by R 12 to R 15. Can be mentioned. When n is an integer of 2 to 4, R 11 correspondingly represents a divalent to tetravalent linking group.

11が2〜4価の連結基を表すとき、2価の連結基として例えば、置換基を有してもよい2価のアルキレン基、置換基を有してもよい2価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、あるいはこれらの連結基の組み合わせを挙げることができる。 When R 11 represents a divalent to tetravalent linking group, examples of the divalent linking group include a divalent alkylene group that may have a substituent, a divalent arylene group that may have a substituent, An oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a combination of these linking groups can be exemplified.

3価の連結基としては、例えば、置換基を有してもよい3価のアルキレン基、置換基を有してもよい3価のアリーレン基、窒素原子、あるいはこれらの連結基の組み合わせを挙げることができ、4価の連結基として例えば、置換基を有してもよい4価のアルキレン基、置換基を有してもよい4価のアリーレン基、あるいはこれらの連結基の組み合わせを挙げることができる。   Examples of the trivalent linking group include a trivalent alkylene group which may have a substituent, a trivalent arylene group which may have a substituent, a nitrogen atom, or a combination of these linking groups. Examples of the tetravalent linking group include a tetravalent alkylene group which may have a substituent, a tetravalent arylene group which may have a substituent, or a combination of these linking groups. Can do.

前記一般式(8)において、nは1が好ましく、その時のR11は置換または無置換のフェニル基が好ましく、置換基としては、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基が好ましく、炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数1ないし8のアルコキシ基がより好ましい。 In the general formula (8), n is preferably 1, and R 11 at that time is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group. The substituent includes an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and 1 to 18 carbon atoms. Alkoxy groups having 1 to 8 carbon atoms and alkoxy groups having 1 to 8 carbon atoms are more preferable.

以下に、本発明における前記一般式(8)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by the general formula (8) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

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(その他の酸化防止剤)
その他の酸化防止剤としては、具体的には、ジラウリル3,3−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3′−チオジプロピピオネート、ジステアリル3,3−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス(β−ラウリル−チオ−プロピオネート)、3,9−ビス(2−ドデシルチオエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等のイオウ系酸化防止剤が挙げられる。上記タイプのイオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“Sumilizer TPL−R”及び“Sumilizer TP−D”という商品名で市販されている。更には、特公平08−27508号記載の3,4−ジヒドロ−2H−1−ベンゾピラン系化合物、3,3′−スピロジクロマン系化合物、1,1−スピロインダン系化合物、モルホリン、チオモルホリン、チオモルホリンオキシド、チオモルホリンジオキシド、ピペラジン骨格を部分構造に有する化合物、特開平3−174150号記載のジアルコキシベンゼン系化合物等の酸素スカベンジャー等が挙げられる。これら酸化防止剤の部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていても良い。
(Other antioxidants)
Specific examples of the other antioxidants include dilauryl 3,3-thiodipropionate, dimyristyl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3-thiodipropionate, lauryl stearyl 3,3. -Thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis (β-lauryl-thio-propionate), 3,9-bis (2-dodecylthioethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane And sulfur-based antioxidants such as The above-mentioned type of sulfur-based compound is commercially available from Sumitomo Chemical Co., Ltd. under the trade names “Sumilizer TPL-R” and “Sumilizer TP-D”, for example. Furthermore, 3,4-dihydro-2H-1-benzopyran compounds, 3,3′-spirodichroman compounds, 1,1-spiroindane compounds, morpholine, thiomorpholine, thio described in JP-B-08-27508 Examples include morpholine oxide, thiomorpholine dioxide, compounds having a piperazine skeleton in the partial structure, and oxygen scavengers such as dialkoxybenzene compounds described in JP-A-3-174150. These antioxidant partial structures may be part of the polymer or regularly pendant to the polymer.

《ヒンダードアミン光安定剤》
本発明において、フィルム形成材料の熱溶融時の劣化防止剤、また製造後に偏光子保護フィルムとして晒される外光や液晶ディスプレイのバックライトからの光に対する劣化防止剤として、ヒンダードアミン光安定剤(HALS)化合物が挙げられ、これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第4,619,956号明細書の第5〜11欄及び米国特許第4,839,405号明細書の第3〜5欄に記載されているように、2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン化合物、またはそれらの酸付加塩もしくはそれらと金属化合物との錯体が含まれる。
《Hindered amine light stabilizer》
In the present invention, a hindered amine light stabilizer (HALS) is used as an anti-deterioration agent during heat melting of a film-forming material, and as an anti-deterioration agent against external light exposed as a polarizer protective film after production or light from a backlight of a liquid crystal display. Compounds, which are known compounds, such as columns 5-11 of US Pat. No. 4,619,956 and columns 3-5 of US Pat. No. 4,839,405. 2,2,6,6-tetraalkylpiperidine compounds, or their acid addition salts or complexes of them with metal compounds.

ヒンダードアミン光安定剤の具体例としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1−アクロイル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)デカンジオエート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルメタクリレート、4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−1−[2−(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル]−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)プロピオンアミド、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。   Specific examples of the hindered amine light stabilizer include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) succinate, bis ( 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-octoxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-benzyloxy-2, 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6) -Pentamethyl-4-piperidyl) 2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-butylmalonate, bis (1-acryloyl-2,2,6,6- Tramethyl-4-piperidyl) 2,2-bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-butylmalonate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4- Piperidyl) decanedioate, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl methacrylate, 4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -1- [ 2- (3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy) ethyl] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 2-methyl-2- (2,2, 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) amino-N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) propionamide, tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) 1,2,3,4-butane tetracarboxylate, tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) 1,2,3,4-butane tetracarboxylate, and the like.

また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、N,N′,N″,N″′−テトラキス−[4,6−ビス−〔ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ〕−トリアジン−2−イル]−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジン−N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジンとN,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔{(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、1,6−ヘキサンジアミン−N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)とモルホリン−2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジンとの重縮合物、ポリ[(6−モルホリノ−s−トリアジン−2,4−ジイル)〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕−ヘキサメチレン〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕]等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量HALS;コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重合物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールと3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Further, it may be a polymer type compound. As specific examples, N, N ′, N ″, N ″ ′-tetrakis- [4,6-bis- [butyl- (N-methyl-2,2,6, 6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino] -triazin-2-yl] -4,7-diazadecane-1,10-diamine, dibutylamine and 1,3,5-triazine-N, N′-bis ( 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -1,6-hexamethylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine polycondensate, di Polycondensate of butylamine, 1,3,5-triazine and N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, poly [{(1,1,3,3 -Tetramethylbutyl) amino-1,3,5-tri Gin-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], Weight of 1,6-hexanediamine-N, N'-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) and morpholine-2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine Condensate, poly [(6-morpholino-s-triazine-2,4-diyl) [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] -hexamethylene [(2,2,6, 6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]] and other high molecular weight HALS in which a plurality of piperidine rings are bonded via a triazine skeleton; dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1 -Piperidine Etano 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and 3,9-bis (2-hydroxy-1,1-dimethyl) (Ethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane and the like, and the like are exemplified by compounds in which a piperidine ring is bonded through an ester bond, but the present invention is not limited thereto. It is not a thing.

これらの中でも、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジンとN,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔{(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量(Mn)が2,000〜5,000のものが好ましい。   Among these, polycondensates of dibutylamine, 1,3,5-triazine and N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, poly [{(1, 1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2 , 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], a polymer of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, etc. Those having a molecular weight (Mn) of 2,000 to 5,000 are preferred.

上記タイプのヒンダードアミン化合物は、例えば、チバスペシャルティケミカルズから、“TINUVIN144”及び“TINUVIN770”、旭電化工業株式会社から“ADK STAB LA−52”という商品名で市販されている。   Hindered amine compounds of the above type are commercially available, for example, from Ciba Specialty Chemicals under the trade names “TINUVIN 144” and “TINUVIN 770” and “ADK STAB LA-52” from Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.

本発明においては、ヒンダードアミン光安定剤は、本発明に用いられるセルロースエステルの質量に対して、0.1〜10質量%添加することが好ましく、更に0.2〜5質量%添加することが好ましく、更に0.5〜2質量%添加することが好ましい。これらは2種以上を併用してもよい。   In the present invention, the hindered amine light stabilizer is preferably added in an amount of 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.2 to 5% by mass, based on the mass of the cellulose ester used in the present invention. Further, it is preferable to add 0.5 to 2% by mass. Two or more of these may be used in combination.

〈酸捕捉剤〉
セルロースエステルは、溶融製膜が行われるような高温環境下では酸によっても分解が促進されるため、本発明の反射防止フィルムにおいては劣化防止剤として酸捕捉剤を含有することが好ましい。本発明において有用な酸捕捉剤としては、酸と反応して酸を不活性化する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも米国特許第4,137,201号明細書に記載されているような、エポキシ基を有する化合物が好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール1モル当たりに約8〜40モルのエチレンオキシド等の縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテル等、金属エポキシ化合物(例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの)、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(即ち、4,4′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン)、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル(特に、2〜22個の炭素原子の脂肪酸の4〜2個程度の炭素原子のアルキルのエステル(例えば、ブチルエポキシステアレート)等)、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリド等(例えば、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油等)の組成物によって代表され例示され得るエポキシ化植物油及び他の不飽和天然油(これらはときとしてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に12〜22個の炭素原子を含有している)が含まれる。また、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物として、EPON 815Cやその他のエポキシ化エーテルオリゴマー縮合生成物も好ましく用いることができる。
<Acid scavenger>
Cellulose ester is preferably decomposed by an acid in a high temperature environment where melt film formation is performed, and therefore the antireflection film of the present invention preferably contains an acid scavenger as an anti-degradation agent. Any acid scavenger useful in the present invention can be used without limitation as long as it is a compound that reacts with an acid to inactivate the acid, and is described in U.S. Pat. No. 4,137,201. A compound having an epoxy group is preferred. Epoxy compounds as such acid scavengers are known in the art and are derived by condensation of various polyglycol diglycidyl ethers, particularly about 8 to 40 moles of ethylene oxide per mole of polyglycol. Glycol, diglycidyl ether of glycerol, etc., metal epoxy compounds (such as those conventionally used in and with vinyl chloride polymer compositions), epoxidized ether condensation products, diphenols of bisphenol A Glycidyl ether (ie, 4,4'-dihydroxydiphenyldimethylmethane), epoxidized unsaturated fatty acid ester (especially an ester of an alkyl of about 4 to 2 carbon atoms of a fatty acid of 2 to 22 carbon atoms (for example, Butyl epoxy stearate) And epoxidized vegetable oils and other unsaturated natural oils (sometimes epoxies) that may be represented and exemplified by compositions of various epoxidized long chain fatty acid triglycerides and the like (eg, epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, etc.) Natural fatty glycerides or unsaturated fatty acids, which generally contain 12 to 22 carbon atoms). Moreover, EPON 815C and other epoxidized ether oligomer condensation products can also be preferably used as commercially available epoxy group-containing epoxide resin compounds.

更に上記以外に用いることが可能な酸捕捉剤としては、オキセタン化合物やオキサゾリン化合物、あるいはアルカリ土類金属の有機酸塩やアセチルアセトナート錯体、特開平5−194788号公報の段落68〜105に記載されているものが含まれる。   Furthermore, examples of acid scavengers that can be used other than the above include oxetane compounds, oxazoline compounds, organic earth salts of alkaline earth metals and acetylacetonate complexes, and paragraphs 68 to 105 of JP-A-5-194788. Is included.

本発明においては、酸捕捉剤は、本発明に用いられるセルロースエステルの質量に対して、0.1〜10質量%添加することが好ましく、更に0.2〜5質量%添加することが好ましく、更に0.5〜2質量%添加することが好ましい。これらは2種以上を併用してもよい。   In the present invention, the acid scavenger is preferably added in an amount of 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.2 to 5% by mass, based on the mass of the cellulose ester used in the present invention. Furthermore, it is preferable to add 0.5-2 mass%. Two or more of these may be used in combination.

なお酸捕捉剤は、酸掃去剤、酸捕獲剤、酸キャッチャー等と称されることもあるが、本発明においてはこれらの呼称による差異なく用いることができる。   In addition, although an acid scavenger may be called an acid scavenger, an acid capture agent, an acid catcher, etc., in this invention, it can use without a difference by these names.

〈金属不活性剤〉
金属不活性剤とは、酸化反応において開始剤あるいは触媒として作用する金属イオン不活性化する化合物を意味し、ヒドラジド系化合物、シュウ酸ジアミド系化合物、トリアゾール系化合物等が挙げられ、例えば、N,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン、2−ヒドロキシエチルシュウ酸ジアミド、2−ヒドロキシ−N−(1H−1,2,4−トリアゾール−3−イル)ベンズアミド、N−(5−tert−ブチル−2−エトキシフェニル)−N′−(2−エチルフェニル)シュウ酸アミド等が挙げられる。
<Metal deactivator>
A metal deactivator means a metal ion deactivating compound that acts as an initiator or a catalyst in an oxidation reaction, and examples thereof include hydrazide compounds, oxalic acid diamide compounds, triazole compounds, and the like. N'-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine, 2-hydroxyethyl oxalic acid diamide, 2-hydroxy-N- (1H-1,2,4- And triazol-3-yl) benzamide and N- (5-tert-butyl-2-ethoxyphenyl) -N '-(2-ethylphenyl) oxalic acid amide.

本発明においては、金属不活性剤は、本発明に用いられるセルロースエステルの質量に対して、0.0002〜2質量%添加することが好ましく、更に0.0005〜2質量%添加することが好ましく、更に0.001〜1質量%添加することが好ましい。これらは2種以上を併用してもよい。   In this invention, it is preferable to add a metal deactivator 0.0002-2 mass% with respect to the mass of the cellulose ester used for this invention, Furthermore, it is preferable to add 0.0005-2 mass%. Furthermore, it is preferable to add 0.001-1 mass%. Two or more of these may be used in combination.

〈可塑剤〉
本発明の溶融流延による反射防止フィルムに形成においては、フィルム形成材料中に可塑剤の少なくとも1種を添加することが好ましい。
<Plasticizer>
In forming the antireflection film by melt casting according to the present invention, it is preferable to add at least one plasticizer in the film forming material.

可塑剤とは、一般的には高分子中に添加することによって脆弱性を改良したり、柔軟性を付与したりする効果のある添加剤であるが、本発明においては、フィルム形成材料の溶融温度を低下させる添加剤、または同じ温度においてフィルム形成材料の粘度を低下させる添加剤として用いることができる。溶融温度を低下させたり溶融粘度を低下させることにより、溶融プロセス中におけるセルロースエステルの劣化を抑制することができるため、本発明ではこのような効果を有する材料であれば制限なく可塑剤として用いることができる。このような融点低下効果・粘度低減降下は、添加する可塑剤がセルロースエステルのガラス転移温度よりも低い融点またはガラス転移温度をもつ可塑剤を用いると、より大きい効果が得られやすい。   Generally, a plasticizer is an additive having an effect of improving brittleness or imparting flexibility by adding it to a polymer. In the present invention, a plasticizer is melted. It can be used as an additive that lowers the temperature or as an additive that lowers the viscosity of the film-forming material at the same temperature. Since it is possible to suppress the degradation of the cellulose ester during the melting process by lowering the melting temperature or lowering the melt viscosity, in the present invention, any material having such an effect can be used as a plasticizer without limitation. Can do. Such a melting point lowering effect / viscosity reduction lowering can be more easily obtained when a plasticizer to be added has a melting point or glass transition temperature lower than the glass transition temperature of the cellulose ester.

また、可塑剤を添加することによってセルロースエステルフィルムの機械的性質向上、引き裂き強度向上、耐吸水性付与、水分透過率の低減等の効果が見られることもあるため、このような効果を有する材料を可塑剤として用いることがより好ましい。   In addition, the addition of a plasticizer may improve the mechanical properties of the cellulose ester film, improve the tear strength, impart water resistance resistance, and reduce moisture permeability. It is more preferable to use as a plasticizer.

なお可塑剤も、上記のように添加によってセルロースエステルの熱溶融プロセスにおける劣化を抑制する効果があるが、その効果は物理的な効果によるものであり、化学的な効果に起因するものではないため、本発明においては劣化防止剤としては分類しない。   In addition, the plasticizer also has an effect of suppressing degradation in the hot melt process of the cellulose ester by adding as described above, but the effect is due to a physical effect and not due to a chemical effect. In the present invention, it is not classified as a deterioration inhibitor.

上記のような条件を満たし、本発明に用いられる可塑剤としては、例えば、前述したリン酸エステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤(エチレングリコールエステル系可塑剤、グリセリンエステル系可塑剤、ジグリセリンエステル系可塑剤など)、多価カルボン酸エステル系可塑剤、炭水化物エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤等が挙げられる。また、前述のアクリルポリマーを用いることもできる。   Examples of the plasticizer that satisfies the above-described conditions and is used in the present invention include the above-described phosphate ester plasticizers, polyhydric alcohol ester plasticizers (ethylene glycol ester plasticizers, glycerin ester plasticizers, Diglycerin ester plasticizers), polycarboxylic acid ester plasticizers, carbohydrate ester plasticizers, polymer plasticizers, and the like. Moreover, the above-mentioned acrylic polymer can also be used.

この中でも多価アルコールエステル系可塑剤及び多価カルボン酸エステル系可塑剤が好ましく、更に多価アルコールエステル系可塑剤が好ましい。また、可塑剤は液体であっても固体であっても良く、組成物の制約上無色であることが好ましい。添加量は光学物性・機械物性に悪影響がなければ良く、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され、本発明に用いられるセルロースエステルの質量に対して、好ましくは1〜25質量%含有することを特徴とするセルロースエステルフィルムである。1質量%よりも少ないと平面性改善の効果が認められず、25質量%よりも多いとブリードアウトが発生しやすくなり、フィルムの経時安定性が低下するために好ましくない。より好ましくは可塑剤を3〜20質量%含有するセルロースエステルフィルムであり、更に好ましくは5〜15質量%含有するセルロースエステルフィルムである。   Of these, polyhydric alcohol ester plasticizers and polycarboxylic acid ester plasticizers are preferred, and polyhydric alcohol ester plasticizers are more preferred. Further, the plasticizer may be a liquid or a solid, and is preferably colorless due to restrictions on the composition. The addition amount may be as long as it does not adversely affect the optical properties and mechanical properties, and the blending amount is appropriately selected within the range not impairing the object of the present invention, and preferably 1 to the mass of the cellulose ester used in the present invention. It is a cellulose-ester film characterized by containing 25 mass%. When the content is less than 1% by mass, the effect of improving the flatness is not recognized, and when the content is more than 25% by mass, bleeding out easily occurs and the temporal stability of the film decreases, which is not preferable. More preferred is a cellulose ester film containing 3 to 20% by mass of a plasticizer, and still more preferred is a cellulose ester film containing 5 to 15% by mass.

溶融流延法においては、多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、及び多価カルボン酸と1価のアルコールからなるエステル系可塑剤はセルロースエステルと親和性が高いので好ましく、多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤はセルロースエステルと親和性がさらに高まるので、特に好ましい。   In the melt casting method, an ester plasticizer comprising a polyhydric alcohol and a monovalent carboxylic acid, and an ester plasticizer comprising a polyhydric carboxylic acid and a monohydric alcohol are preferred because of their high affinity with the cellulose ester, An ester plasticizer comprising a polyhydric alcohol and a monovalent carboxylic acid is particularly preferred because it further increases the affinity with the cellulose ester.

本発明において好ましく用いられるエステル系可塑剤の原料である多価アルコールの例としては、より詳細には以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   More specifically, examples of the polyhydric alcohol that is a raw material of the ester plasticizer preferably used in the present invention include the following, but the present invention is not limited thereto.

アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、グリセリン、ジグリセリン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエチスリトール、ジペンタエリスリトール、キシリトール等を挙げることができる。特に、エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパンが好ましい。   Adonitol, arabitol, ethylene glycol, glycerin, diglycerin, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane-1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, trimethylolethane, pentaethysitol, dipentaerythritol, xylene Mention may be made of the toll and the like. In particular, ethylene glycol, glycerin, and trimethylolpropane are preferable.

また、好ましい有機酸の例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ピバリン酸、アクリル酸、メタクリル酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、アニス酸、3,4,5−トリメトキシ安息香酸、トルイル酸、tert−ブチル安息香酸、ナフトエ酸、ピコリン酸等が挙げられるが、セルロースエステルの透湿度を低減する効果が高い不飽和カルボン酸、例えば芳香族カルボン酸によって多価アルコールエステルを形成していることが好ましい。   Examples of preferred organic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, pivalic acid, acrylic acid, methacrylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, benzoic acid, anisic acid, 3,4,5-trimethoxybenzoic acid, toluyl Acid, tert-butylbenzoic acid, naphthoic acid, picolinic acid, etc. are mentioned, but polyhydric alcohol ester is formed by unsaturated carboxylic acid, for example, aromatic carboxylic acid, which is highly effective in reducing moisture permeability of cellulose ester It is preferable.

多価アルコールエステルに用いられる有機酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。   One type of organic acid may be used for the polyhydric alcohol ester, or a mixture of two or more types may be used. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or a part of the OH groups may be left as they are.

多価アルコールエステル系の一つであるエチレングリコールエステル系の可塑剤としては、具体的には、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジブチレート等のエチレングリコールアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジシクロプロピルカルボキシレート、エチレングリコールジシクロヘキルカルボキシレート等のエチレングリコールシクロアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジベンゾエート、エチレングリコールジ4−メチルベンゾエート等のエチレングリコールアリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にエチレングリコール部も置換されていてもよく、エチレングリコールエステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Specific examples of ethylene glycol ester plasticizers that are one of the polyhydric alcohol esters include ethylene glycol alkyl ester plasticizers such as ethylene glycol diacetate and ethylene glycol dibutyrate, and ethylene glycol dicyclopropyl. Examples thereof include ethylene glycol cycloalkyl ester plasticizers such as carboxylate and ethylene glycol dicyclohexylcarboxylate, and ethylene glycol aryl ester plasticizers such as ethylene glycol dibenzoate and ethylene glycol di4-methylbenzoate. These alkylate groups, cycloalkylate groups, and arylate groups may be the same or different, and may be further substituted. Further, it may be a mix of alkylate group, cycloalkylate group and arylate group, and these substituents may be covalently bonded. Further, the ethylene glycol part may be substituted, and the ethylene glycol ester partial structure may be part of the polymer or regularly pendant, and may be an antioxidant, an acid scavenger, an ultraviolet absorber, etc. It may be introduced into a part of the molecular structure of the additive.

多価アルコールエステル系の一つであるグリセリンエステル系の可塑剤としては、具体的にはトリアセチン、トリブチリン、グリセリンジアセテートカプリレート、グリセリンオレートプロピオネート等のグリセリンアルキルエステル、グリセリントリシクロプロピルカルボキシレート、グリセリントリシクロヘキシルカルボキシレート等のグリセリンシクロアルキルエステル、グリセリントリベンゾエート、グリセリン4−メチルベンゾエート等のグリセリンアリールエステル、ジグリセリンテトラアセチレート、ジグリセリンテトラプロピオネート、ジグリセリンアセテートトリカプリレート、ジグリセリンテトララウレート、等のジグリセリンアルキルエステル、ジグリセリンテトラシクロブチルカルボキシレート、ジグリセリンテトラシクロペンチルカルボキシレート等のジグリセリンシクロアルキルエステル、ジグリセリンテトラベンゾエート、ジグリセリン3−メチルベンゾエート等のジグリセリンアリールエステル等が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にグリセリン、ジグリセリン部も置換されていてもよく、グリセリンエステル、ジグリセリンエステルの部分構造がポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Specific examples of the glycerin ester plasticizer that is one of the polyhydric alcohol esters include glycerol alkyl esters such as triacetin, tributyrin, glycerol diacetate caprylate, glycerol oleate propionate, and glycerol tricyclopropylcarboxylate. Glycerol glycerol esters such as glycerol tricyclohexyl carboxylate, glycerol aryl esters such as glycerol tribenzoate and glycerol 4-methylbenzoate, diglycerol tetraacetylate, diglycerol tetrapropionate, diglycerol acetate tricaprylate, diglycerol Tetralaurate, diglycerin alkyl ester, diglycerin tetracyclobutylcarboxylate, diglycerin tet Diglycerol cycloalkyl esters such as cyclopentyl carboxylate, diglycerin tetrabenzoate, diglycerin aryl ester such as diglycerin 3-methylbenzoate or the like. These alkylate groups, cycloalkylcarboxylate groups, and arylate groups may be the same or different, and may be further substituted. Further, it may be a mixture of alkylate group, cycloalkylcarboxylate group, and arylate group, and these substituents may be bonded by a covalent bond. Furthermore, the glycerin and diglycerin part may be substituted, the partial structure of the glycerin ester and the diglycerin ester may be part of the polymer or regularly pendant, and the antioxidant, acid scavenger, You may introduce | transduce into a part of molecular structure of additives, such as a ultraviolet absorber.

その他の多価アルコールエステル系の可塑剤としては、具体的には特開2003−12823号公報の段落30〜33記載の多価アルコールエステル系可塑剤が挙げられる。   Specific examples of other polyhydric alcohol ester plasticizers include polyhydric alcohol ester plasticizers described in paragraphs 30 to 33 of JP-A No. 2003-12823.

これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更に多価アルコール部も置換されていてもよく、多価アルコールの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   These alkylate groups, cycloalkylcarboxylate groups, and arylate groups may be the same or different, and may be further substituted. Further, it may be a mixture of alkylate group, cycloalkylcarboxylate group, and arylate group, and these substituents may be bonded by a covalent bond. Furthermore, the polyhydric alcohol part may be substituted, and the partial structure of the polyhydric alcohol may be part of the polymer or regularly pendant, and may be an antioxidant, an acid scavenger, an ultraviolet absorber. May be introduced into a part of the molecular structure of the additive.

上記多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤の中では、アルキル多価アルコールアリールエステルが好ましく、具体的には上記のエチレングリコールジベンゾエート、グリセリントリベンゾエート、ジグリセリンテトラベンゾエート、特開2003−12823号公報の段落31記載例示化合物16が挙げられる。   Among the ester plasticizers composed of the polyhydric alcohol and the monovalent carboxylic acid, alkyl polyhydric alcohol aryl esters are preferred. Specifically, the above-mentioned ethylene glycol dibenzoate, glycerin tribenzoate, diglycerin tetrabenzoate, Exemplified compound 16 described in paragraph 31 of JP2003-12823A can be mentioned.

多価カルボン酸エステル系の一つであるジカルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的には、ジドデシルマロネート(C1)、ジオクチルアジペート(C4)、ジブチルセバケート(C8)等のアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロペンチルサクシネート、ジシクロヘキシルアジーペート等のアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルサクシネート、ジ4−メチルフェニルグルタレート等のアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジヘキシル−1,4−シクロヘキサンジカルボキシレート、ジデシルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロヘキシル−1,2−シクロブタンジカルボキシレート、ジシクロプロピル−1,2−シクロヘキシルジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニル−1,1−シクロプロピルジカルボキシレート、ジ2−ナフチル−1,4−シクロヘキサンジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロプロピルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルフタレート、ジ4−メチルフェニルフタレート等のアリールジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート等のグリコール酸エステル系の可塑剤、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等のクエン酸系の可塑剤等が挙げられる。これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また一置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Specific examples of the dicarboxylic acid ester plasticizer that is one of polyvalent carboxylic acid esters include alkyl dicarboxylic acids such as didodecyl malonate (C1), dioctyl adipate (C4), and dibutyl sebacate (C8). Alkyl ester plasticizers, alkyl dicarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as dicyclopentyl succinate and dicyclohexyl adipate, and alkyl dicarboxylic acid aryl ester plastics such as diphenyl succinate and di-4-methylphenyl glutarate , Dicyclohexyl-1,4-cyclohexanedicarboxylate, didecylbicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylate and other cycloalkyldicarboxylic acid alkyl ester plasticizers, dicyclohexyl-1,2 -Cyclobutane Cycloalkyldicarboxylic acid cycloalkyl ester type plasticizers such as carboxylate and dicyclopropyl-1,2-cyclohexyldicarboxylate, diphenyl-1,1-cyclopropyldicarboxylate, di2-naphthyl-1,4- Cycloalkyldicarboxylic acid aryl ester plasticizers such as cyclohexane dicarboxylate, aryl dicarboxylic acid alkyl ester plasticizers such as diethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, and di-2-ethylhexyl phthalate, dicyclopropyl Aryl dicarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as phthalate and dicyclohexyl phthalate, and aryl dicarboxylic acid esters such as diphenyl phthalate and di4-methylphenyl phthalate Ester plasticizers, glycolic acid ester plasticizers such as butyl phthalyl butyl glycolate and ethyl phthalyl ethyl glycolate, citric acid plastics such as acetyl trimethyl citrate, acetyl triethyl citrate and acetyl tributyl citrate Agents and the like. These alkoxy groups and cycloalkoxy groups may be the same or different, may be mono-substituted, and these substituents may be further substituted. The alkyl group and cycloalkyl group may be mixed, and these substituents may be bonded together by a covalent bond. Furthermore, the aromatic ring of phthalic acid may be substituted, and a multimer such as a dimer, trimer or tetramer may be used. Also, the partial structure of phthalate ester may be part of the polymer, or may be regularly pendant to the polymer, and part of the molecular structure of additives such as antioxidants, acid scavengers, UV absorbers It may be introduced.

その他の多価カルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的にはトリドデシルトリカルバレート、トリブチル−meso−ブタン−1,2,3,4−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロヘキシルトリカルバレート、トリシクロプロピル−2−ヒドロキシ−1,2,3−プロパントリカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル2−ヒドロキシ−1,2,3−プロパントリカルボキシレート、テトラ3−メチルフェニルテトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、テトラヘキシル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート、テトラブチル−1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、テトラシクロプロピル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート、トリシクロヘキシル−1,3,5−シクロヘキシルトリカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル−1,3,5−シクロヘキシルトリカルボキシレート、ヘキサ4−メチルフェニル−1,2,3,4,5,6−シクロヘキシルヘキサカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、トリドデシルベンゼン−1,2,4−トリカルボキシレート、テトラオクチルベンゼン−1,2,4,5−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロペンチルベンゼン−1,3,5−トリカルボキシレート、テトラシクロヘキシルベンゼン−1,2,3,5−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤トリフェニルベンゼン−1,3,5−テトラカルボキシレート、ヘキサ4−メチルフェニルベンゼン−1,2,3,4,5,6−ヘキサカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また1置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造がポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Examples of other polycarboxylic acid ester plasticizers include alkyl polycarboxylic acid alkyl esters such as tridodecyl tricarbarate and tributyl-meso-butane-1,2,3,4-tetracarboxylate. Plasticizers, alkylpolycarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as tricyclohexyltricarbarate, tricyclopropyl-2-hydroxy-1,2,3-propanetricarboxylate, triphenyl 2-hydroxy- Alkyl polyvalent carboxylic acid aryl ester plasticizers such as 1,2,3-propanetricarboxylate, tetra-3-methylphenyltetrahydrofuran-2,3,4,5-tetracarboxylate, tetrahexyl-1,2, 3,4-cyclobutanetetracarboxylate, tetrabu Cycloalkyl polycarboxylic acid alkyl ester plasticizers such as ru-1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylate, tetracyclopropyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylate, tricyclohexyl- Cycloalkyl polycarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as 1,3,5-cyclohexyl tricarboxylate, triphenyl-1,3,5-cyclohexyl tricarboxylate, hexa-4-methylphenyl-1,2, Cycloalkyl polycarboxylic acid aryl ester plasticizers such as 3,4,5,6-cyclohexylhexacarboxylate, tridodecylbenzene-1,2,4-tricarboxylate, tetraoctylbenzene-1,2,4 , 5-tetracarboxylate and other aryl polyvalent Rubinoic acid alkyl ester plasticizers, tricyclopentylbenzene-1,3,5-tricarboxylate, tetracyclohexylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylate and other aryl polyvalent carboxylic acid cycloalkyl esters Plasticizers of aryl polyvalent carboxylic acid aryl esters such as plasticizers triphenylbenzene-1,3,5-tetracarboxylate, hexa-4-methylphenylbenzene-1,2,3,4,5,6-hexacarboxylate Agents. These alkoxy groups and cycloalkoxy groups may be the same or different, and may be mono-substituted, and these substituents may be further substituted. The alkyl group and cycloalkyl group may be mixed, and these substituents may be bonded together by a covalent bond. Furthermore, the aromatic ring of phthalic acid may be substituted, and a multimer such as a dimer, trimer or tetramer may be used. Also, the partial structure of phthalate ester may be part of the polymer or regularly pendant into the polymer, and introduced into part of the molecular structure of additives such as antioxidants, acid scavengers, UV absorbers, etc. May be.

上記多価カルボン酸と1価のアルコールからなるエステル系可塑剤の中では、アルキルジカルボン酸アルキルエステルが好ましく、具体的には上記のジオクチルアジペートが挙げられる。   Among the ester plasticizers composed of the polyvalent carboxylic acid and the monohydric alcohol, alkyl dicarboxylic acid alkyl esters are preferable, and specific examples include the dioctyl adipate.

本発明に用いられるその他の可塑剤としては、リン酸エステル系可塑剤、炭水化物エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤等が挙げられる。   Examples of other plasticizers used in the present invention include phosphate ester plasticizers, carbohydrate ester plasticizers, and polymer plasticizers.

リン酸エステル系の可塑剤としては、具体的には、トリアセチルホスフェート、トリブチルホスフェート等のリン酸アルキルエステル、トリシクロベンチルホスフェート、シクロヘキシルホスフェート等のリン酸シクロアルキルエステル、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルオスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート等のリン酸アリールエステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。   Specific examples of the phosphoric acid ester plasticizer include phosphoric acid alkyl esters such as triacetyl phosphate and tributyl phosphate, phosphoric acid cycloalkyl esters such as tricyclopentyl phosphate and cyclohexyl phosphate, triphenyl phosphate, and trichlorate. Examples thereof include phosphoric acid aryl esters such as zil phosphate, cresyl phenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, trinaphthyl phosphate, trixylyl phosphate, tris ortho-biphenyl phosphate. These substituents may be the same or different, and may be further substituted. Moreover, the mix of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group may be sufficient, and substituents may couple | bond together by the covalent bond.

また、エチレンビス(ジメチルホスフェート)、ブチレンビス(ジエチルホスフェート)等のアルキレンビス(ジアルキルホスフェート)、エチレンビス(ジフェニルホスフェート)、プロピレンビス(ジナフチルホスフェート)等のアルキレンビス(ジアリールホスフェート)、フェニレンビス(ジブチルホスフェート)、ビフェニレンビス(ジオクチルホスフェート)等のアリーレンビス(ジアルキルホスフェート)、フェニレンビス(ジフェニルホスフェート)、ナフチレンビス(ジトルイルホスフェート)等のアリーレンビス(ジアリールホスフェート)等のリン酸エステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。   Also, alkylene bis (dialkyl phosphate) such as ethylene bis (dimethyl phosphate), butylene bis (diethyl phosphate), alkylene bis (diaryl phosphate) such as ethylene bis (diphenyl phosphate), propylene bis (dinaphthyl phosphate), phenylene bis (dibutyl) And phosphate esters such as arylene bis (diaryl phosphate) such as arylene bis (dialkyl phosphate), phenylene bis (diphenyl phosphate), naphthylene bis (ditoluyl phosphate) such as biphenylene bis (dioctyl phosphate). These substituents may be the same or different, and may be further substituted. Moreover, the mix of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group may be sufficient, and substituents may couple | bond together by the covalent bond.

更にリン酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。上記化合物の中では、リン酸アリールエステル、アリーレンビス(ジアリールホスフェート)が好ましく、具体的にはトリフェニルホスフェート、フェニレンビス(ジフェニルホスフェート)が好ましい。   Furthermore, the partial structure of phosphate ester may be part of the polymer, or may be regularly pendant, and also introduced into part of the molecular structure of additives such as antioxidants, acid scavengers, UV absorbers, etc. May be. Among the above-mentioned compounds, phosphoric acid aryl ester and arylene bis (diaryl phosphate) are preferable, and specifically, triphenyl phosphate and phenylene bis (diphenyl phosphate) are preferable.

次に、炭水化物エステル系可塑剤について説明する。炭水化物とは、糖類がピラノースまたはフラノース(6員環または5員環)の形態で存在する単糖類、二糖類または三糖類を意味する。炭水化物の非限定的例としては、グルコース、サッカロース、ラクトース、セロビオース、マンノース、キシロース、リボース、ガラクトース、アラビノース、フルクトース、ソルボース、セロトリオース及びラフィノース等が挙げられる。炭水化物エステルとは、炭水化物の水酸基とカルボン酸が脱水縮合してエステル化合物を形成したものを指し、詳しくは、炭水化物の脂肪族カルボン酸エステル、或いは芳香族カルボン酸エステルを意味する。脂肪族カルボン酸として、例えば酢酸、プロピオン酸等を挙げることができ、芳香族カルボン酸として、例えば安息香酸、トルイル酸、アニス酸等を挙げることができる。炭水化物は、その種類に応じた水酸基の数を有するが、水酸基の一部とカルボン酸が反応してエステル化合物を形成しても、水酸基の全部とカルボン酸が反応してエステル化合物を形成してもよい。本発明においては、水酸基の全部とカルボン酸が反応してエステル化合物を形成するのが好ましい。   Next, the carbohydrate ester plasticizer will be described. The carbohydrate means a monosaccharide, disaccharide or trisaccharide in which the saccharide is present in the form of pyranose or furanose (6-membered ring or 5-membered ring). Non-limiting examples of carbohydrates include glucose, saccharose, lactose, cellobiose, mannose, xylose, ribose, galactose, arabinose, fructose, sorbose, cellotriose and raffinose. The carbohydrate ester refers to an ester compound formed by dehydration condensation of a carbohydrate hydroxyl group and a carboxylic acid, and specifically means an aliphatic carboxylic acid ester or an aromatic carboxylic acid ester of a carbohydrate. Examples of the aliphatic carboxylic acid include acetic acid and propionic acid, and examples of the aromatic carboxylic acid include benzoic acid, toluic acid, and anisic acid. Carbohydrates have a number of hydroxyl groups depending on the type, but even if a part of the hydroxyl group reacts with the carboxylic acid to form an ester compound, the whole hydroxyl group reacts with the carboxylic acid to form an ester compound. Also good. In the present invention, it is preferable that all of the hydroxyl groups react with the carboxylic acid to form an ester compound.

炭水化物エステル系可塑剤として、具体的には、グルコースペンタアセテート、グルコースペンタプロピオネート、グルコースペンタブチレート、サッカロースオクタアセテート、サッカロースオクタベンゾエート等を好ましく挙げることができ、この内、サッカロースオクタアセテート、サッカロースオクタベンゾエートがより好ましい。   Specific examples of the carbohydrate ester plasticizer include glucose pentaacetate, glucose pentapropionate, glucose pentabylate, saccharose octaacetate, saccharose octabenzoate and the like. Among these, saccharose octaacetate, saccharose Octabenzoate is more preferred.

ポリマー可塑剤としては、具体的には、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとメタクリル酸−2−ヒドロキシエチルとの共重合体、メタクリル酸メチルとアクリル酸メチルとメタクリル酸−2−ヒドロキシエチルとの共重合体等のアクリル系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリN−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ4−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。数平均分子量は1000〜500000程度が好ましく、特に好ましくは、5000〜200000である。1000以下では揮発性に問題が生じ、500000を超えると可塑化能力が低下し、セルロースエステルフィルムの機械的性質に悪影響を及ぼす。これらポリマー可塑剤は1種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを2種以上併用して用いてもよい。   Specific examples of the polymer plasticizer include aliphatic hydrocarbon polymers, alicyclic hydrocarbon polymers, polyethyl acrylate, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate. Polymers, acrylic polymers such as copolymers of methyl methacrylate, methyl acrylate and methacrylate-2-hydroxyethyl, vinyl polymers such as polyvinyl isobutyl ether and poly N-vinyl pyrrolidone, polystyrene, poly 4-hydroxy Examples thereof include styrene polymers such as styrene, polyesters such as polybutylene succinate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethers such as polyethylene oxide and polypropylene oxide, polyamides, polyurethanes and polyureas. The number average molecular weight is preferably about 1,000 to 500,000, particularly preferably 5,000 to 200,000. If it is 1000 or less, a problem arises in volatility, and if it exceeds 500000, the plasticizing ability is lowered, and the mechanical properties of the cellulose ester film are adversely affected. These polymer plasticizers may be a homopolymer composed of one type of repeating unit or a copolymer having a plurality of repeating structures. Two or more of the above polymers may be used in combination.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムにおいて、多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と1価のアルコールからなるエステル系可塑剤を1〜25質量%含有することが好ましいが、それ以外の可塑剤と併用してもよい。   The cellulose ester film used in the present invention contains 1 to 25% by mass of an ester plasticizer comprising a polyhydric alcohol and a monovalent carboxylic acid, and an ester plasticizer comprising a polyvalent carboxylic acid and a monohydric alcohol. However, it may be used in combination with other plasticizers.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムにおいて、多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤が更に好ましいが、3価以上のアルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤がセルロースエステルに対する相溶性が高く、高添加率で添加することができる特徴があるため、他の可塑剤や添加剤を併用してもブリードアウトを発生することがなく、必要に応じて他種の可塑剤や添加剤を容易に併用することができるので最も好ましい。   In the cellulose ester film used in the present invention, an ester plasticizer comprising a polyhydric alcohol and a monovalent carboxylic acid is more preferred, but an ester plasticizer comprising a trivalent or higher alcohol and a monovalent carboxylic acid is a cellulose ester. High compatibility and high addition rate, so there is no bleed out even when other plasticizers and additives are used together. And additives are most preferable because they can be easily used together.

〈紫外線吸収剤〉
溶融流延法に用いられる紫外線吸収剤としては、前述のオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平10−182621号、同8−337574号公報記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号、特開2003−113317号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
<Ultraviolet absorber>
Examples of the ultraviolet absorber used in the melt casting method include the aforementioned oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, triazine compounds, and the like. However, a benzophenone compound, a benzotriazole compound and a triazine compound with little coloring are preferable. Further, ultraviolet absorbers described in JP-A Nos. 10-182621 and 8-337574, and polymer ultraviolet absorbers described in JP-A Nos. 6-148430 and 2003-113317 may be used.

市販品として、チヌビン(TINUVIN)326、チヌビン(TINUVIN)109、チヌビン(TINUVIN)171、チヌビン(TINUVIN)900、チヌビン(TINUVIN)928、チヌビン(TINUVIN)360(いずれもチバスペシャルティケミカルズ社製)、LA31(旭電化社製)、Sumisorb250(住友化学社製)、RUVA−100(大塚化学製)が挙げられる。   As commercial products, TINUVIN 326, TINUVIN 109, TINUVIN 171, TINUVIN 900, TINUVIN 928, TINUVIN 928, TINUVIN 360 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals), LA31 (Manufactured by Asahi Denka), Sumisorb 250 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and RUVA-100 (manufactured by Otsuka Chemical).

本発明においては、紫外線吸収剤は、セルロースエステルの質量に対して、0.1〜10質量%添加することが好ましく、更に0.2〜5質量%添加することが好ましく、更に0.5〜3質量%添加することが好ましい。これらは2種以上を併用してもよい。   In this invention, it is preferable to add 0.1-10 mass% of ultraviolet absorbers with respect to the mass of a cellulose ester, Furthermore, it is preferable to add 0.2-5 mass%, Furthermore, 0.5- It is preferable to add 3% by mass. Two or more of these may be used in combination.

またベンゾトリアゾール構造やトリアジン構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、可塑剤、酸化防止剤、酸掃去剤等の他の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   The benzotriazole structure or triazine structure may be part of the polymer, or may be regularly pendant to the polymer, and part of the molecular structure of other additives such as plasticizers, antioxidants, and acid scavengers. May be introduced.

従来公知の紫外線吸収性ポリマーとしては、特に限定されないが、例えば、RUVA−93(大塚化学製)を単独重合させたポリマー及びRUVA−93と他のモノマーとを共重合させたポリマー等が挙げられる。具体的には、RUVA−93とメチルメタクリレートを3:7の比(質量比)で共重合させたPUVA−30M、5:5の比(質量比)で共重合させたPUVA−50M等が挙げられる。更に、特開2003−113317号公報に記載のポリマー等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a conventionally well-known ultraviolet absorptive polymer, For example, the polymer which homopolymerized RUVA-93 (made by Otsuka Chemical), the polymer which copolymerized RUVA-93, and another monomer, etc. are mentioned. . Specific examples include PUVA-30M obtained by copolymerization of RUVA-93 and methyl methacrylate at a ratio (mass ratio) of 3: 7, and PUVA-50M obtained by copolymerization at a ratio of 5: 5 (mass ratio). It is done. Furthermore, the polymer etc. which are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-113317 are mentioned.

〈その他の添加剤〉
その他の添加剤として、例えば、前述のアクリルポリマー、マット剤、フィラー、シリカやケイ酸塩等の無機化合物、染料、顔料、蛍光体、二色性色素、リターデーション制御剤、屈折率調整剤、ガス透過抑制剤、抗菌剤、生分解性付与剤などが挙げられる。また、上記機能を有するものであれば、これに分類されない添加剤も用いることができる。
<Other additives>
Other additives include, for example, the aforementioned acrylic polymer, matting agent, filler, inorganic compounds such as silica and silicate, dyes, pigments, phosphors, dichroic dyes, retardation control agents, refractive index adjusting agents, Examples thereof include a gas permeation inhibitor, an antibacterial agent, and a biodegradability imparting agent. Moreover, the additive which is not classified into this can be used if it has the said function.

そして、これらの添加剤をセルロースエステルに含有させる方法としては、各々の材料を固体或いは液体のまま混合し、加熱溶融し混練して均一な溶融物とした後、流延して透明樹脂フィルムを形成する方法であっても、予め全ての材料を溶媒等を用いて、溶解して均一溶液とした後、溶媒を除去して、添加剤とセルロースエステルの混合物を形成し、これを加熱溶融し、流延して透明樹脂フィルムを形成してもよい。   Then, as a method of incorporating these additives into the cellulose ester, each material is mixed in a solid or liquid state, heated and melted and kneaded to obtain a uniform melt, and then cast into a transparent resin film. Even in the formation method, all materials are dissolved in advance using a solvent to obtain a uniform solution, and then the solvent is removed to form a mixture of the additive and the cellulose ester, which is heated and melted. The transparent resin film may be formed by casting.

《偏光板》
本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板について述べる。
"Polarizer"
A polarizing plate using the antireflection film of the present invention will be described.

偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明の反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した反射防止フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面に該反射防止フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明の反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、20〜70nm、Rtが100〜400nmの位相差を有する光学補償フィルム(位相差フィルム)であることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957号、特願2002−155395号記載の方法で作製することができる。または、さらにディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348号記載の方法で光学異方性層を形成することができる。或いはRoが590nmで0〜5nm、Rtが−20〜+20nmの無配向フィルムも好ましく用いられる。   The polarizing plate can be produced by a general method. The back surface side of the antireflection film of the present invention is subjected to alkali saponification treatment, and a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution is used on at least one surface of a polarizing film prepared by immersing and stretching the treated antireflection film in an iodine solution It is preferable to bond them together. The antireflection film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. With respect to the antireflection film of the present invention, the polarizing plate protective film used on the other surface has an in-plane retardation Ro of 590 nm, an optical compensation film having a phase difference of 20 to 70 nm and Rt of 100 to 400 nm. A phase difference film). These can be prepared, for example, by the methods described in JP-A No. 2002-71957 and Japanese Patent Application No. 2002-155395. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. Alternatively, a non-oriented film with Ro of 590 nm to 0 to 5 nm and Rt of -20 to +20 nm is also preferably used.

本発明の反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。   By using in combination with the antireflection film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.

裏面側に用いられる偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルムとして、KC8UX2MW、KC4UX、KC5UX、KC4UY、KC8UY、KC12UR、KC4UEW、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC8UCR−5、KC4FR−1、KC4FR−2(コニカミノルタオプト(株)製)等が好ましく用いられる。   As a polarizing plate protective film used on the back side, as a commercially available cellulose ester film, KC8UX2MW, KC4UX, KC5UX, KC4UY, KC8UY, KC12UR, KC4UEW, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5, KC4FR-1, KC4F-1, -2 (manufactured by Konica Minolta Opto) is preferably used.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるがこれのみに限定されるものではない。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜の膜厚は5〜30μm、好ましくは8〜15μmの偏光膜が好ましく用いられる。該偏光膜の面上に、本発明の反射防止フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are ones in which iodine is dyed on a system film and ones in which a dichroic dye is dyed, but it is not limited to this. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. A polarizing film having a thickness of 5 to 30 μm, preferably 8 to 15 μm, is preferably used. On the surface of the polarizing film, one side of the antireflection film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

《表示装置》
本発明の反射防止フィルム面を表示装置の鑑賞面側に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明の反射防止フィルムは前記偏光板に組み込まれ、反射型、透過型、半透過型LCDまたはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明の反射防止フィルムは反射防止層の反射光の色ムラが著しく少なく、また、反射率が低く、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。
<Display device>
By incorporating the antireflection film surface of the present invention on the viewing surface side of the display device, various display devices of the present invention having excellent visibility can be produced. The antireflection film of the present invention is incorporated in the polarizing plate, and is reflective, transmissive, transflective LCD or TN, STN, OCB, HAN, VA (PVA, MVA), IPS, etc. It is preferably used in LCDs of various drive systems. In addition, the antireflection film of the present invention has significantly less color unevenness in the reflected light of the antireflection layer, and has a low reflectance and excellent flatness, and is a plasma display, field emission display, organic EL display, inorganic EL display, electronic It is also preferably used for various display devices such as paper.

特に、本発明の反射防止フィルムを、プラズマディスプレイの前面板フイルターとして加工し、装着したプラズマディスプレイは光干渉ムラもなく優れた視認性を有する表示装置であった。また、30型以上の大画面のプラズマディスプレイ表示装置でも、色ムラや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。また本発明の反射防止フィルムは良好な帯電防止性も有していた。   In particular, the antireflection film of the present invention was processed as a front plate filter of a plasma display, and the mounted plasma display was a display device having excellent visibility without light interference unevenness. In addition, even a 30-inch or larger large-screen plasma display display device has the effect of reducing color unevenness and wavy unevenness, and preventing eyestrain from being watched for a long time. The antireflection film of the present invention also had good antistatic properties.

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

最初に実施例に用いたイオン液体を下記に示す。   The ionic liquid used for the Example first is shown below.

イオン液体1:1−butyl−3−metylimidazolium octylsulfate
イオン液体2:1−butyl−3−metylimidazolium hexafluorophoshate
イオン液体3:1−エチル−2,3,5−トリメチルピラゾリウムビストリフルオロメタンスルホニルイミド
イオン液体4:1−エチル−3−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート
イオン液体5:グリシジルトリメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホネート
イオン液体6:グリシジルトリメチルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド
イオン液体7:1−ブチル−3−メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド
イオン液体8:ジアリルジメチルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド
実施例1
(セルロースエステルフィルム1〜6の製造)
〈ドープ液の調製〉
下記の材料を、順次密閉容器中に投入し、容器内温度を20℃から80℃まで昇温した後、温度を80℃に保ったままで3時間攪拌を行って、セルロースエステルを完全に溶解した。酸化ケイ素微粒子は予め添加する溶媒と少量のセルロースエステルの溶液中に分散して添加した。このドープを濾紙(安積濾紙株式会社製、安積濾紙No.244)を使用して濾過し、ドープ液A及びドープ液B及びドープ液Cを得た。
Ionic liquid 1: 1-butyl-3-methylimidazolium octylsulfate
Ionic liquid 2: 1-butyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate
Ionic liquid 3: 1-ethyl-2,3,5-trimethylpyrazolium bistrifluoromethanesulfonylimide Ionic liquid 4: 1-ethyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate Ionic liquid 5: Glycidyltrimethylammonium trifluoromethanesulfonate ion Liquid 6: Glycidyltrimethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide Ionic liquid 7: 1-Butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide Ionic liquid 8: Diallyldimethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide Example 1
(Production of cellulose ester films 1 to 6)
<Preparation of dope solution>
The following materials were sequentially put into a sealed container, the temperature in the container was raised from 20 ° C. to 80 ° C., and the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. to completely dissolve the cellulose ester. . The silicon oxide fine particles were added dispersed in a solution of a solvent to be added in advance and a small amount of cellulose ester. This dope was filtered using a filter paper (Azumi filter paper No. 244 manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd.) to obtain a dope liquid A, a dope liquid B, and a dope liquid C.

(ドープ液Aの調製)
セルロースエステル(セルローストリアセテート;アセチル基置換度2.9)
100質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート 5質量部
エチルフタリルエチルグリコレート 5質量部
酸化ケイ素微粒子(アエロジルR972V(日本アエロジル株式会社製))
0.1質量部
チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ社製) 1質量部
チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ社製) 1質量部
メチレンクロライド 400質量部
エタノール 40質量部
ブタノール 5質量部
上記のように調製したドープ液Aを、35℃に保温した流延ダイを通して、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる35℃の支持体上に流延してウェブを形成し、支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が80質量%になるまで支持体上で乾燥させた後、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。
(Preparation of dope solution A)
Cellulose ester (cellulose triacetate; acetyl group substitution degree 2.9)
100 parts by mass Trimethylolpropane tribenzoate 5 parts by mass Ethylphthalyl ethyl glycolate 5 parts by mass Silicon oxide fine particles (Aerosil R972V (produced by Nippon Aerosil Co., Ltd.))
0.1 parts by weight Tinuvin 109 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1 part by weight Tinuvin 171 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1 part by weight Methylene chloride 400 parts by weight Ethanol 40 parts by weight Butanol 5 parts by weight The dope solution prepared as described above A is passed through a casting die kept at 35 ° C. onto a 35 ° C. support made of a stainless steel endless belt to form a web, dried on the support, and the residual solvent amount of the web is 80 After drying on a support until it became mass%, the web was peeled from the support with a peeling roll.

ついで、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で90℃の乾燥風にて乾燥させながら搬送し、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、130℃で幅方向に延伸前の1.1倍となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で135℃の乾燥風にて乾燥させた。乾燥工程の雰囲気置換率15(回/時間)とした雰囲気内で15分間熱処理した後、室温まで冷却して巻き取り、幅1.5m、膜厚80μm、長さ4000m、屈折率1.49の長尺のセルロースエステルフィルム1を作製した。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出される剥離直後のウェブ搬送方向の延伸倍率は1.1倍であった。   Next, the web is transported while being dried with a drying air of 90 ° C. in a transport and drying process using a plurality of rolls arranged on the top and bottom, subsequently gripping both end portions of the web with a tenter, and then before stretching in the width direction at 130 ° C. The film was stretched so as to be 1 time. After stretching with a tenter, the web was dried with a drying air of 135 ° C. in a transport drying process using a plurality of rolls arranged vertically. After heat-treating for 15 minutes in an atmosphere with an atmosphere substitution rate of 15 (times / hour) in the drying process, the film was cooled to room temperature and wound up. A long cellulose ester film 1 was produced. The draw ratio in the web conveyance direction immediately after peeling calculated from the rotational speed of the stainless steel band support and the operating speed of the tenter was 1.1 times.

膜厚を40μmとした以外は同様にしてセルロースエステルフィルム2を作製した。   A cellulose ester film 2 was produced in the same manner except that the film thickness was 40 μm.

なお、雰囲気置換率は、熱処理室に雰囲気容量をV(m3)、Fresh−air送風量をFA(m3/hr)とした場合、下式によって求められる単位時間あたり雰囲気をFresh−airで置換される回数である。 Note that the atmosphere substitution rate is expressed in terms of Fresh-air as the atmosphere per unit time determined by the following equation when the atmosphere capacity is V (m 3 ) and the fresh air flow rate is FA (m 3 / hr) in the heat treatment chamber. The number of replacements.

雰囲気置換率=FA/V(回/時間)
ドープ液Aをドープ液Bに変更した以外は同様にして、セルロースエステルフィルム3(膜厚80μm)、セルロースエステルフィルム4(膜厚40μm)を作製した。
Atmosphere replacement rate = FA / V (times / hour)
Cellulose ester film 3 (film thickness 80 μm) and cellulose ester film 4 (film thickness 40 μm) were produced in the same manner except that dope liquid A was changed to dope liquid B.

(ドープ液Bの調製)
使用する材料を下記の材料に変更した以外は同様にしてドープBを得た。
(Preparation of dope solution B)
Dope B was obtained in the same manner except that the material used was changed to the following material.

セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート;アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.9) 100質量部
トリフェニルホスフェート 10質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート 2質量部
酸化ケイ素微粒子(アエロジルR972V(日本アエロジル株式会社製))
0.1質量部
チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ社製) 1質量部
チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ社製) 1質量部
酢酸メチル 300質量部
エタノール 70質量部
ブタノール 5質量部
ドープ液Aをドープ液Cに変更した以外は同様にして、セルロースエステルフィルム5(膜厚80μm)、セルロースエステルフィルム6(膜厚40μm)を作製した。
Cellulose ester (cellulose acetate propionate; acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.9) 100 parts by weight Triphenyl phosphate 10 parts by weight Biphenyl diphenyl phosphate 2 parts by weight Silicon oxide fine particles (Aerosil R972V (Nippon Aerosil Co., Ltd.) Company-made))
0.1 parts by weight Tinuvin 109 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1 part by weight Tinuvin 171 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1 part by weight Methyl acetate 300 parts by weight Ethanol 70 parts by weight Butanol 5 parts by weight Dope solution A as dope solution C A cellulose ester film 5 (film thickness of 80 μm) and a cellulose ester film 6 (film thickness of 40 μm) were produced in the same manner except for the change.

(ドープ液Cの調製)
使用する材料を下記の材料に変更した以外は同様にしてドープCを得た。
(Preparation of dope solution C)
Dope C was obtained in the same manner except that the material used was changed to the following material.

セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート;アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.9) 100質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート 5質量部
メチルアクリレートと2−ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体(各モノマー成分のモル比9:1、重量平均分子量4000) 8質量部
酸化ケイ素微粒子(アエロジルR972V(日本アエロジル株式会社製))
0.1質量部
チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ社製) 1質量部
チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ社製) 1質量部
メチレンクロライド 325質量部
エタノール 70質量部
ブタノール 5質量部
(溶融流延法によるセルロースエステルフィルム7、8の製造)
〈セルロースエステル〉
C−1:セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度1.3、プロピオニル基置換度1.3、分子量Mn=60000、分子量Mw=180000、Mw/Mn=3)
〈可塑剤〉
トリメチロールプロパントリベンゾエート
〈添加剤〉
添加剤a IRGANOX−1010(チバスペシャルティケミカルズ社製)
添加剤b スミライザーGS (住友化学株式会社製)
添加剤c GSY−P101 (堺化学工業株式会社製)
〈紫外線吸収剤〉
チヌビン(TINUVIN)360(チバスペシャルティケミカルズ社製)
〈マット剤〉
アエロジル(AEROSIL)200V(0.016μmのシリカ微粒子、日本アエロジル社製)
セルロースエステルC−1 100質量部に、可塑剤10質量部、添加剤a 0.5質量部、添加剤b 0.3質量部、添加剤c 0.3質量部、紫外線吸収剤0.5質量部、マット剤 0.2質量部を加え、タンブラー型混合機で30分間混合した。
Cellulose ester (cellulose acetate propionate; acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.9) 100 parts by mass Trimethylolpropane tribenzoate 5 parts by mass Copolymer of methyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (each Molar ratio of monomer component 9: 1, weight average molecular weight 4000) 8 parts by mass Silicon oxide fine particles (Aerosil R972V (produced by Nippon Aerosil Co., Ltd.))
0.1 parts by weight Tinuvin 109 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1 part by weight Tinuvin 171 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1 part by weight Methylene chloride 325 parts by weight Ethanol 70 parts by weight Butanol 5 parts by weight (cellulose ester by melt casting method) Production of films 7 and 8)
<Cellulose ester>
C-1: Cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.3, propionyl group substitution degree 1.3, molecular weight Mn = 60000, molecular weight Mw = 18000, Mw / Mn = 3)
<Plasticizer>
Trimethylolpropane tribenzoate (additive)
Additive a IRGANOX-1010 (Ciba Specialty Chemicals)
Additive b Sumilizer GS (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
Additive c GSY-P101 (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.)
<Ultraviolet absorber>
Tinuvin 360 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
<Matting agent>
Aerosil 200V (0.016μm silica fine particles, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
Cellulose ester C-1 100 parts by mass, plasticizer 10 parts by mass, additive a 0.5 parts by mass, additive b 0.3 parts by mass, additive c 0.3 parts by mass, ultraviolet absorber 0.5 parts by mass Part, 0.2 part by mass of matting agent was added and mixed for 30 minutes with a tumbler mixer.

得られた混合物を、除湿熱風式乾燥機((株)松井製作所DMZ2)により熱風温度150℃、露点−36℃で乾燥した。次いで、窒素雰囲気下で、この混合物をテクノベル(株)製二軸押出し機に供給し、250℃で溶融させ、ドロー比15で溶融押出ししたフィルムを、各々120℃に温度調整された弾性タッチロールと冷却ロールの間で押圧しながら搬送し、引取り3本ロール間を通し、テンターで幅手方向に1.5倍に延伸した後、エッジをスリットしてワインダーに巻き取った。   The obtained mixture was dried by a dehumidifying hot air dryer (Matsui Seisakusho DMZ2) at a hot air temperature of 150 ° C. and a dew point of −36 ° C. Next, in a nitrogen atmosphere, this mixture was supplied to a Technobel Co., Ltd. twin-screw extruder, melted at 250 ° C., and melt-extruded at a draw ratio of 15 to each elastic touch roll whose temperature was adjusted to 120 ° C. The sheet was conveyed between the roll and the cooling roll, passed between the three take-up rolls and stretched 1.5 times in the width direction by a tenter, and then the edge was slit and wound around a winder.

巻き取ったフィルムの厚みを押出し量と引取りロールの回転速度で調整し、幅2.3mのセルロースエステルフィルム7(膜厚80μm)、セルロースエステルフィルム8(膜厚40μm)を作製した。   The thickness of the wound film was adjusted by the amount of extrusion and the rotational speed of the take-up roll to produce a cellulose ester film 7 (film thickness 80 μm) and a cellulose ester film 8 (film thickness 40 μm) having a width of 2.3 m.

(反射防止フィルムの作製)
上記作製したセルロースエステルフィルム1〜8、及び下記市販のセルロースエステルフィルム(コニカミノルタタック KC8UX2MW、KC4UY、KC4UE、KC4FR−1、KC8UCR−5、コニカミノルタオプト(株)製)を支持体(透明樹脂フィルム)として用いて、下記手順により反射防止フィルムをそれぞれ作製した。
(Preparation of antireflection film)
The above prepared cellulose ester films 1 to 8 and the following commercially available cellulose ester films (Konica Minoltak KC8UX2MW, KC4UY, KC4UE, KC4FR-1, KC8UCR-5, manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) support (transparent resin film) ) And an antireflection film was prepared according to the following procedure.

セルロースエステルフィルム9:コニカミノルタタック KC8UX2MW
セルロースエステルフィルム10:コニカミノルタタック KC4UY
セルロースエステルフィルム11:コニカミノルタタック KC4UE
セルロースエステルフィルム12:コニカミノルタタック KC4FR−1
セルロースエステルフィルム13:コニカミノルタタック KC8UCR−5
反射防止層を構成する各層の屈折率は下記方法で測定した。
Cellulose ester film 9: Konica Minoltack KC8UX2MW
Cellulose ester film 10: Konica Minoltack KC4UY
Cellulose ester film 11: Konica Minolta KC4UE
Cellulose ester film 12: Konica Minoltack KC4FR-1
Cellulose ester film 13: Konica Minoltack KC8UCR-5
The refractive index of each layer constituting the antireflection layer was measured by the following method.

(屈折率)
各屈折率層の屈折率は、各層を単独で下記で作製したハードコートフィルム上に塗設したサンプルについて、分光光度計の分光反射率の測定結果から求めた。分光光度計はU−4000型(日立製作所製)を用いて、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域(400nm〜700nm)の反射率の測定を行った。
(Refractive index)
The refractive index of each refractive index layer was calculated | required from the measurement result of the spectral reflectance of the spectrophotometer about the sample which coated each layer on the hard coat film produced below. The spectrophotometer uses U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.), and after roughening the back side of the measurement side of the sample, light absorption treatment is performed with black spray to prevent reflection of light on the back side. The reflectance in the visible light region (400 nm to 700 nm) was measured under the condition of regular reflection at 5 degrees.

(金属酸化物微粒子の粒径)
使用する金属酸化物微粒子の粒径は電子顕微鏡観察(SEM)にて各々100個の微粒子を観察し、各微粒子に外接する円の直径を粒子径としてその平均値を粒径とした。
(Particle size of metal oxide fine particles)
As for the particle diameter of the metal oxide fine particles used, 100 fine particles were observed with an electron microscope (SEM), the diameter of a circle circumscribing each fine particle was taken as the particle diameter, and the average value was taken as the particle diameter.

《ハードコートフィルムの作製》
上記作製したセルロースエステルフィルム1上に、下記のハードコート層組成物を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を0.2J/cm2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚10μmのハードコート層を形成しハードコートフィルム1を作製した。
<< Production of hard coat film >>
On the produced cellulose ester film 1, the following hard coat layer composition is filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a hard coat layer coating solution, which is applied using a micro gravure coater, After drying at 90 ° C., an ultraviolet lamp is used to cure the coating layer with an illuminance of the irradiated part of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 0.2 J / cm 2 to form a hard coat layer having a dry film thickness of 10 μm. Coat film 1 was produced.

尚、下記バックコート層組成物1をウェット膜厚14μmとなるように、ハードコート層を塗布した面とは反対の面に押し出しコーターで塗布し、85℃にて乾燥した。   The following back coat layer composition 1 was applied on the surface opposite to the surface coated with the hard coat layer so as to have a wet film thickness of 14 μm by an extrusion coater and dried at 85 ° C.

(ハードコート層組成物1)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物1とした。
(Hard coat layer composition 1)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer composition 1.

ペンタエリスリトールトリアクリレート 20質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 60質量部
ウレタンアクリレート(新中村化学工業社製 商品名U−4HA) 50質量部
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 20質量部
イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 12質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(信越化学社製 KF−351) 0.8質量部
ポリオキシアルキルエーテル(花王社製 エマルゲン1108) 1.0質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
〈バックコート層組成物1〉
アセトン 54質量部
メチルエチルケトン 24質量部
メタノール 22質量部
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート;アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8) 0.6質量部
超微粒子シリカ2%アセトン分散液
(日本アエロジル(株)製アエロジル200V) 0.2質量部
同様にして、セルロースエステルフィルム、ハードコート層組成物、ハードコート層の膜厚を表1に記載のように変更して、ハードコートフィルム2〜25を作製した。
Pentaerythritol triacrylate 20 parts by mass Pentaerythritol tetraacrylate 60 parts by mass Urethane acrylate (trade name U-4HA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 50 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 20 parts by mass Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 12 parts by weight Polyether-modified silicone oil (KF-351, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.8 parts by weight Polyoxyalkyl ether (Emulgen 1108, Kao Corporation) 1.0 part by weight Propylene glycol monomethyl ether 110 110 parts by mass of ethyl acetate <Backcoat layer composition 1>
Acetone 54 parts by weight Methyl ethyl ketone 24 parts by weight Methanol 22 parts by weight Cellulose ester (cellulose acetate propionate; acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.8) 0.6 part by weight Ultrafine silica 2% acetone dispersion (Aerosil 200V manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.2 parts by mass Similarly, the film thickness of the cellulose ester film, the hard coat layer composition, and the hard coat layer is changed as shown in Table 1, and the hard coat film 2 to 25 were produced.

(ハードコート層組成物2)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物2とした。
(Hard coat layer composition 2)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer composition 2.

アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 220質量部
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 20質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 2質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
(ハードコート層組成物3)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物3とした。
Acrylic monomer; KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 220 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 20 parts by mass Silicone surfactant (FZ-2207, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) ) 10% propylene glycol monomethyl ether solution 2 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 110 parts by weight Ethyl acetate 110 parts by weight (Hardcoat layer composition 3)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer composition 3.

アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 220質量部
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 20質量部
イオン液体1 20質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 2質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
(ハードコート層組成物4)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物4とした。
Acrylic monomer; KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku) 220 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 20 parts by mass Ionic liquid 1 20 parts by mass Silicone surfactant (FZ-2207, Nippon Unicar Co., Ltd.) 10% propylene glycol monomethyl ether solution 2 parts by weight propylene glycol monomethyl ether 110 parts by weight ethyl acetate 110 parts by weight (hard coat layer composition 4)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer composition 4.

ペンタエリスリトールトリアクリレート 20質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 60質量部
ウレタンアクリレート(新中村化学工業社製 商品名U−4HA) 50質量部
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 20質量部
イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 12質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(信越化学社製 KF−351) 0.8質量部
ポリオキシアルキルエーテル(花王社製 エマルゲン1108) 1.0質量部
イオン液体2 5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
(ハードコート層組成物5)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物5(防眩性ハードコート層)とした。
Pentaerythritol triacrylate 20 parts by mass Pentaerythritol tetraacrylate 60 parts by mass Urethane acrylate (trade name U-4HA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 50 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 20 parts by mass Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 12 parts by mass Polyether-modified silicone oil (KF-351, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.8 parts by mass Polyoxyalkyl ether (Emulgen 1108, manufactured by Kao Corporation) 1.0 part by mass Ionic liquid 2 5 parts by mass Parts propylene glycol monomethyl ether 110 parts by weight ethyl acetate 110 parts by weight (hard coat layer composition 5)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer composition 5 (antiglare hard coat layer).

ペンタエリスリトールトリアクリレート 20質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 60質量部
ウレタンアクリレート(新中村化学工業社製 商品名U−4HA) 50質量部
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 20質量部
イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 12質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(信越化学社製 KF−351) 0.8質量部
ポリオキシアルキルエーテル(花王社製 エマルゲン1108) 1.0質量部
架橋ポリスチレン粒子 平均一次粒径3.5μm 5質量部
シリカ粒子 粒径0.1μm 5質量部
イオン液体3 1質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
(ハードコート層組成物6)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物6とした。
Pentaerythritol triacrylate 20 parts by mass Pentaerythritol tetraacrylate 60 parts by mass Urethane acrylate (trade name U-4HA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 50 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 20 parts by mass Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 12 parts by mass Polyether-modified silicone oil (KF-351, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.8 parts by mass Polyoxyalkyl ether (Emulgen 1108, Kao Corporation) 1.0 part by mass Cross-linked polystyrene particles Average primary Particle size 3.5 μm 5 parts by mass Silica particles Particle size 0.1 μm 5 parts by mass Ionic liquid 3 1 part by mass Propylene glycol monomethyl ether 110 parts by mass Ethyl acetate 110 parts by mass (Hardcoat layer composition 6)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer composition 6.

アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 220質量部
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 20質量部
イオン液体5 10質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 2質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
(ハードコート層組成物7)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物7とした。
Acrylic monomer; KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 220 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 20 parts by mass Ionic liquid 5 10 parts by mass Silicon-based surfactant (FZ-2207, Nippon Unicar Co., Ltd.) 10% propylene glycol monomethyl ether solution 2 parts by weight propylene glycol monomethyl ether 110 parts by weight ethyl acetate 110 parts by weight (hard coat layer composition 7)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer composition 7.

アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 220質量部
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 20質量部
イオン液体6 10質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 2質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
(ハードコート層組成物8)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物8とした。
Acrylic monomer; KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku) 220 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 20 parts by mass Ionic liquid 6 10 parts by mass Silicon-based surfactant (FZ-2207, Nippon Unicar Co., Ltd.) 10% propylene glycol monomethyl ether solution 2 parts by weight propylene glycol monomethyl ether 110 parts by weight ethyl acetate 110 parts by weight (hard coat layer composition 8)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer composition 8.

アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 220質量部
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 20質量部
イオン液体7 10質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 2質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
(ハードコート層組成物9)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物9とした。
Acrylic monomer; KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 220 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 20 parts by mass Ionic liquid 7 10 parts by mass Silicon-based surfactant (FZ-2207, Nippon Unicar Co., Ltd.) 10% propylene glycol monomethyl ether solution 2 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 110 parts by weight Ethyl acetate 110 parts by weight (Hardcoat layer composition 9)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer composition 9.

アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 220質量部
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 20質量部
イオン液体8 10質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 2質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
(ハードコート層組成物10)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物10とした。
Acrylic monomer; KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 220 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 20 parts by mass Ionic liquid 8 10 parts by mass Silicon-based surfactant (FZ-2207, Nippon Unicar Co., Ltd.) 10% propylene glycol monomethyl ether solution 2 parts by weight propylene glycol monomethyl ether 110 parts by weight ethyl acetate 110 parts by weight (hard coat layer composition 10)
The following materials were stirred and mixed to obtain a hard coat layer composition 10.

アクリルモノマー;KAYARAD DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製) 220質量部
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 20質量部
イオン液体4 2質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 2質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
Acrylic monomer; KAYARAD DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku) 220 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 20 parts by mass Ionic liquid 4 2 parts by mass Silicon-based surfactant (FZ-2207, Nippon Unicar Co., Ltd.) 10% propylene glycol monomethyl ether solution 2 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 110 parts by mass Ethyl acetate 110 parts by mass

Figure 0004935393
Figure 0004935393

《反射防止フィルム101〜144の作製》
上記作製したハードコートフィルム1上に、下記のように高屈折率層、次いで、低屈折率層の順に反射防止層を塗設し、反射防止フィルム101を作製した。
<< Preparation of antireflection films 101-144 >>
On the hard coat film 1 produced as described above, an antireflection film 101 was produced by coating an antireflection layer in the order of a high refractive index layer and then a low refractive index layer as follows.

《反射防止層の作製:高屈折率層》
ハードコートフィルム1上に、下記高屈折率層塗布組成物1を押し出しコーターで塗布し、80℃で1分間乾燥させ、次いで紫外線を0.1J/cm2照射して硬化させ、更に100℃で1分熱硬化させ、厚さが78nmとなるように高屈折率層1を設けた。
<Preparation of antireflection layer: high refractive index layer>
On the hard coat film 1, the following high refractive index layer coating composition 1 is applied by an extrusion coater, dried at 80 ° C. for 1 minute, then cured by irradiation with ultraviolet rays of 0.1 J / cm 2 , and further at 100 ° C. The high refractive index layer 1 was provided so as to be thermally cured for 1 minute and to have a thickness of 78 nm.

この高屈折率層の屈折率は、1.6であった。   The refractive index of this high refractive index layer was 1.6.

(高屈折率層塗布組成物1)
金属酸化物微粒子のイソプロピルアルコール溶液(固形分20%、ITO粒子、一次平均粒子径50nm) 55質量部
金属化合物:Ti(OBu)4(テトラ−n−ブトキシチタン) 1.3質量部
電離放射線硬化型樹脂:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
3.2質量部
光重合開始剤:イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)
0.8質量部
イオン液体1 0.3質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 1.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 120質量部
イソプロピルアルコール 240質量部
メチルエチルケトン 40質量部
(高屈折率層塗布組成物2)
金属酸化物微粒子のイソプロピルアルコール溶液(固形分20%、ITO粒子、一次平均粒子径50nm) 55質量部
金属化合物:Ti(OBu)4(テトラ−n−ブトキシチタン) 1.3質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート 1.2質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 1.3質量部
ウレタンアクリレート(商品名:U−4HA 新中村化学工業社製) 0.7質量部
光重合開始剤:イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)
1.8質量部
イオン液体4 0.2質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 1.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 120質量部
イソプロピルアルコール 240質量部
メチルエチルケトン 40質量部
(高屈折率層塗布組成物3)
〈粒子分散液Aの作製〉
メタノール分散アンチモン複酸化物コロイド(固形分60%、日産化学工業(株)製アンチモン酸亜鉛ゾル、商品名:セルナックスCX−Z610M−F2)6.0kgにイソプロピルアルコール12.0kgを攪拌しながら徐々に添加し、粒子分散液Aを調製した。
(High refractive index layer coating composition 1)
Isopropyl alcohol solution of metal oxide fine particles (solid content 20%, ITO particles, primary average particle diameter 50 nm) 55 parts by mass Metal compound: Ti (OBu) 4 (tetra-n-butoxytitanium) 1.3 parts by mass Ionizing radiation curing Mold resin: Dipentaerythritol hexaacrylate
3.2 parts by mass Photopolymerization initiator: Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.8 part by mass Ionic liquid 1 0.3 part by mass 10% propylene glycol monomethyl ether solution of silicon surfactant (FZ-2207, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 1.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 120 parts by mass Isopropyl alcohol 240 parts by weight Methyl ethyl ketone 40 parts by weight (High refractive index layer coating composition 2)
Isopropyl alcohol solution of metal oxide fine particles (solid content 20%, ITO particles, primary average particle diameter 50 nm) 55 parts by mass Metal compound: Ti (OBu) 4 (tetra-n-butoxytitanium) 1.3 parts by mass Pentaerythritol tri Acrylate 1.2 parts by mass Pentaerythritol tetraacrylate 1.3 parts by mass Urethane acrylate (trade name: U-4HA, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.7 parts by mass Photopolymerization initiator: Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Made)
1.8 parts by mass Ionic liquid 4 0.2 parts by mass 10% propylene glycol monomethyl ether solution of silicon surfactant (FZ-2207, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 1.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 120 parts by mass Isopropyl alcohol 240 parts by weight Methyl ethyl ketone 40 parts by weight (High refractive index layer coating composition 3)
<Preparation of particle dispersion A>
Methanol-dispersed antimony double oxide colloid (solid content 60%, zinc antimonate sol manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name: Celnax CX-Z610M-F2) 6.0 kg of isopropyl alcohol was gradually stirred with stirring. To prepare a particle dispersion A.

PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル) 40質量部
イソプロピルアルコール 25質量部
メチルエチルケトン 25質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート 0.9質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 1.0質量部
ウレタンアクリレート(商品名:U−4HA 新中村化学工業社製) 0.6質量部
イオン液体3 0.1質量部
粒子分散液A 20質量部
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 0.4質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 0.2質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 0.4質量部
(高屈折率層塗布組成物4)
金属酸化物微粒子のイソプロピルアルコール溶液(固形分20%、ITO粒子、一次平均粒子径50nm) 55質量部
金属化合物:Ti(OBu)4(テトラ−n−ブトキシチタン) 1.3質量部
電離放射線硬化型樹脂:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 3.2質量部
光重合開始剤:イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)
2.8質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 1.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 120質量部
イソプロピルアルコール 240質量部
メチルエチルケトン 40質量部
(高屈折率層塗布組成物5)
〈粒子分散液Aの作製〉
メタノール分散アンチモン複酸化物コロイド(固形分60%、日産化学工業(株)製アンチモン酸亜鉛ゾル、商品名:セルナックスCX−Z610M−F2)6.0kgにイソプロピルアルコール12.0kgを攪拌しながら徐々に添加し、粒子分散液Aを調製した。
PGME (propylene glycol monomethyl ether) 40 parts by mass Isopropyl alcohol 25 parts by mass Methyl ethyl ketone 25 parts by mass Pentaerythritol triacrylate 0.9 parts by mass Pentaerythritol tetraacrylate 1.0 part by mass Urethane acrylate (trade name: U-4HA Shin-Nakamura Chemical 0.6 parts by mass Ionic liquid 3 0.1 parts by mass Particle dispersion A 20 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.4 parts by mass Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.2 part by mass 10% propylene glycol monomethyl ether solution of silicon-based surfactant (FZ-2207, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 0.4 part by mass (high refractive index layer coating composition 4)
Isopropyl alcohol solution of metal oxide fine particles (solid content 20%, ITO particles, primary average particle diameter 50 nm) 55 parts by mass Metal compound: Ti (OBu) 4 (tetra-n-butoxytitanium) 1.3 parts by mass Ionizing radiation curing Type resin: dipentaerythritol hexaacrylate 3.2 parts by mass Photopolymerization initiator: Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
2.8 parts by mass 10% propylene glycol monomethyl ether solution of silicon surfactant (FZ-2207, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 1.5 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 120 parts by mass Isopropyl alcohol 240 parts by mass Methyl ethyl ketone 40 parts by mass Part (High refractive index layer coating composition 5)
<Preparation of particle dispersion A>
Methanol-dispersed antimony double oxide colloid (solid content 60%, zinc antimonate sol manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name: Celnax CX-Z610M-F2) 6.0 kg of isopropyl alcohol was gradually stirred with stirring. To prepare a particle dispersion A.

PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル) 40質量部
イソプロピルアルコール 25質量部
メチルエチルケトン 25質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート 0.9質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 1.0質量部
ウレタンアクリレート(商品名:U−4HA 新中村化学工業社製) 0.6質量部
粒子分散液A 20質量部
イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 0.4質量部
イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 0.2質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 0.4質量部
《反射防止層の作製:低屈折率層》
前記高屈折率層上に、下記の低屈折率層塗布組成物1を押し出しコーターで塗布し、100℃で1分間乾燥させた後、紫外線を0.1J/cm2照射して硬化させ、更に120℃で5分間熱硬化させ、厚さ95nmとなるように低屈折率層を設け、表2記載の反射防止フィルム101を作製した。なお、この低屈折率層の屈折率は1.37であった。
PGME (propylene glycol monomethyl ether) 40 parts by mass Isopropyl alcohol 25 parts by mass Methyl ethyl ketone 25 parts by mass Pentaerythritol triacrylate 0.9 parts by mass Pentaerythritol tetraacrylate 1.0 part by mass Urethane acrylate (trade name: U-4HA Shin-Nakamura Chemical 0.6 parts by mass Particle dispersion A 20 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.4 parts by mass Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.2 parts by mass Silicon-based interface 0.4% by mass of 10% propylene glycol monomethyl ether solution of activator (FZ-2207, Nippon Unicar Co., Ltd.) << Preparation of antireflection layer: low refractive index layer >>
On the high refractive index layer, the following low refractive index layer coating composition 1 is applied by an extrusion coater, dried at 100 ° C. for 1 minute, cured by irradiation with ultraviolet rays of 0.1 J / cm 2 , and Heat-cured at 120 ° C. for 5 minutes, a low refractive index layer was provided so as to have a thickness of 95 nm, and an antireflection film 101 shown in Table 2 was produced. The refractive index of this low refractive index layer was 1.37.

(低屈折率層塗布組成物1)
〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン230gとエタノール440gを混合し、これに2%酢酸水溶液120gを添加した後に、室温(25℃)にて26時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製した。
(Low refractive index layer coating composition 1)
<Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A>
Tetraethoxysilane hydrolyzate A was prepared by mixing 230 g of tetraethoxysilane and 440 g of ethanol, adding 120 g of 2% aqueous acetic acid solution thereto, and then stirring the mixture at room temperature (25 ° C.) for 26 hours.

プロピレングリコールモノメチルエーテル 430質量部
イソプロピルアルコール 430質量部
テトラエトキシシラン加水分解物A 120質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(商品名:KBM503、信越化学工業社製) 3質量部
イソプロピルアルコール分散中空シリカゾル(固形分20%、触媒化成工業社製シリカゾル、商品名:ELCOM V−8209) 40質量部
アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート 3質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 3質量部
更に表2に記載のハードコートフィルム及び高屈折率層組成物及び低屈折率層組成物を変更した以外はハードコートフィルム2〜30の上に、反射防止フィルム101と同様にして上記高屈折率層及び低屈折率層を設け、反射防止フィルム102〜144を作製した。
Propylene glycol monomethyl ether 430 parts by mass Isopropyl alcohol 430 parts by mass Tetraethoxysilane hydrolyzate A 120 parts by mass γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (trade name: KBM503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 3 parts by mass Isopropyl alcohol-dispersed hollow silica sol (Solid content 20%, Silica sol manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name: ELCOM V-8209) 40 parts by mass Aluminum ethyl acetoacetate diisopropylate 3 parts by mass Silicone surfactant (FZ-2207, Nippon Unicar Co., Ltd.) 3% by weight of 10% propylene glycol monomethyl ether solution manufactured on the hard coat films 2 to 30 except that the hard coat film, the high refractive index layer composition and the low refractive index layer composition shown in Table 2 were changed. , Anti In the same manner as the antireflection film 101 provided with the high refractive index layer and a low refractive index layer, thereby fabricating an antireflection film 102-144.

(低屈折率層塗布組成物2の調製)
〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン230gとエタノール440gを混合し、これに2%酢酸水溶液120gを添加した後に、室温(25℃)にて26時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製した。
(Preparation of low refractive index layer coating composition 2)
<Preparation of tetraethoxysilane hydrolyzate A>
Tetraethoxysilane hydrolyzate A was prepared by mixing 230 g of tetraethoxysilane and 440 g of ethanol, adding 120 g of 2% aqueous acetic acid solution thereto, and then stirring the mixture at room temperature (25 ° C.) for 26 hours.

プロピレングリコールモノメチルエーテル 430質量部
イソプロピルアルコール 430質量部
テトラエトキシシラン加水分解物A 120質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(商品名:KBM503、信越化学工業社製) 3.0質量部
イソプロピルアルコール分散中空シリカゾル(固形分20%、触媒化成工業社製シリカゾル、商品名:ELCOM V−8209) 40質量部
アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート 3.0質量部
イオン液体1 0.3質量部
シリコン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 3質量部
《反射防止フィルムの熱処理》
作製した反射防止フィルム101〜144を、各々プラスチックコアに巻き長2500mで巻き取った。この反射防止フィルムロールを用いて、熱処理室にて80℃で4日間の熱処理を行った。
Propylene glycol monomethyl ether 430 parts by mass Isopropyl alcohol 430 parts by mass Tetraethoxysilane hydrolyzate A 120 parts by mass γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (trade name: KBM503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 3.0 parts by mass Isopropyl alcohol dispersion Hollow silica sol (solid content 20%, silica sol manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name: ELCOM V-8209) 40 parts by mass Aluminum ethyl acetoacetate diisopropylate 3.0 parts by mass Ionic liquid 1 0.3 parts by mass Silicon-based interface 3 parts by mass of 10% propylene glycol monomethyl ether liquid of activator (FZ-2207, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) <Heat treatment of antireflection film>
The produced antireflection films 101 to 144 were each wound around a plastic core with a winding length of 2500 m. Using this antireflection film roll, heat treatment was performed at 80 ° C. for 4 days in a heat treatment chamber.

《評価方法》
作製した反射防止フィルム試料について下記方法により評価した。評価の結果を表2に示す。
"Evaluation methods"
The produced antireflection film samples were evaluated by the following methods. The evaluation results are shown in Table 2.

(反射率)
分光光度計(U−4000、日立製作所製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における分光反射率を測定した。反射防止性能は広い波長領域において反射率が小さいほど良好であるため、測定結果から450〜650nmにおける最低反射率を求めた。測定は、観察側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止して、反射率の測定を行った。
(Reflectance)
Using a spectrophotometer (U-4000, manufactured by Hitachi, Ltd.), the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 380 to 780 nm. Since the antireflection performance is better as the reflectance is smaller in a wide wavelength region, the minimum reflectance at 450 to 650 nm is obtained from the measurement result. In the measurement, the back surface on the observation side was roughened, and then light absorption processing was performed using a black spray to prevent reflection of light on the back surface of the film, and the reflectance was measured.

その結果、反射防止フィルム101〜144の反射率はいずれも1%未満であった。   As a result, the reflectance of each of the antireflection films 101 to 144 was less than 1%.

(筋故障の評価)
フィルム面の筋状故障を目視観察し、下記の基準に基づき評価した。
(Evaluation of muscle failure)
The streaks on the film surface were visually observed and evaluated based on the following criteria.

評価基準:
◎:全く故障なく優れているレベル
○:極少数の筋故障はあるが実用上無視可能範囲内にあり良好なレベル
△:若干の筋故障はあるが実用可能な従来製品の平均的レベル
×:筋故障が多く実用不可で、従来製品より劣るレベル
(反射色のムラ評価)
目視により反射色のムラを下記基準で評価した。
Evaluation criteria:
◎: Excellent level without failure ○: Very few muscle failures, but in practically negligible range, good level △: Average level of conventional products that can be practically used although there are some muscle failures ×: Unusable because of many muscle failures (evaluation of reflection color unevenness)
The reflection color unevenness was visually evaluated according to the following criteria.

◎:反射光の色調変化が認められない
○:ごく一部に反射光の色調変化が認められる(面積の10%未満)
△:部分的に反射光の色調変化が認められる(面積の10%以上30%未満)
×:全体的に反射光の色調変化が認められる
◎: Change in color tone of reflected light is not recognized ○: Change in color tone of reflected light is recognized in a small part (less than 10% of area)
Δ: Partial change in color of reflected light is recognized (10% or more and less than 30% of area)
X: Change in color tone of reflected light is recognized as a whole

Figure 0004935393
Figure 0004935393

本発明の反射防止フィルム101〜130は、筋故障、反射色のムラに優れていることが明らかである。また、本発明に係るイオン液体を高屈折率層に含有させることにより、本発明の効果がより向上することが分かる。   It is clear that the antireflection films 101 to 130 of the present invention are excellent in muscle failure and uneven reflection color. Moreover, it turns out that the effect of this invention improves more by containing the ionic liquid which concerns on this invention in a high refractive index layer.

実施例2
次いで、実施例1で作製した反射防止フィルム101〜144を用いて下記のようにして偏光板を作製し、それらの偏光板を液晶表示パネル(画像表示装置)に組み込み、視認性を評価した。
Example 2
Next, polarizing plates were produced as follows using the antireflection films 101 to 144 produced in Example 1, and these polarizing plates were incorporated into a liquid crystal display panel (image display device) to evaluate the visibility.

下記の方法に従って、上記反射防止フィルム101〜144とセルロースエステル系光学補償フィルムであるKC4FR−1(コニカミノルタオプト(株)製)各々1枚を偏光板保護フィルムとして用いて偏光板101〜144を作製した。   In accordance with the following method, polarizing plates 101 to 144 are prepared using one of each of the above antireflection films 101 to 144 and KC4FR-1 (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) as a polarizing plate protective film. Produced.

(a)偏光膜の作製
けん化度99.95モル%、重合度2400のポリビニルアルコール(以下PVAと略す)100質量部に、グリセリン10質量部および水170質量部を含浸させたものを溶融混練し、脱泡後、Tダイから金属ロール上に溶融押出し、製膜した。その後、乾燥・熱処理してPVAフィルムを得た。得られたPVAフィルムは平均厚みが40μm、水分率が4.4%、フィルム幅が3mであった。
(A) Production of polarizing film 100 parts by mass of polyvinyl alcohol (hereinafter abbreviated as PVA) having a saponification degree of 99.95 mol% and a polymerization degree of 2400 was melt-kneaded with 10 parts by mass of glycerin and 170 parts by mass of water. After defoaming, the film was melt extruded from a T die onto a metal roll to form a film. Then, it dried and heat-processed and obtained the PVA film. The obtained PVA film had an average thickness of 40 μm, a moisture content of 4.4%, and a film width of 3 m.

前記したPVAフィルムを予備膨潤、染色、湿式法による一軸延伸、固定処理、乾燥、熱処理の順番で連続的に処理して偏光フィルムを作製した。PVAフィルムを30℃の水中に30秒間浸して予備膨潤し、ヨウ素濃度0.4g/リットル、ヨウ化カリウム濃度40g/リットルの35℃の水溶液中に3分間浸した。続いて、ホウ酸濃度4%の50℃の水溶液中でフィルムにかかる張力が700N/mの条件下で6倍に一軸延伸を行い、ヨウ化カリウム濃度40g/リットル、ホウ酸濃度40g/リットル、塩化亜鉛濃度10g/リットルの30℃の水溶液中に5分間浸漬して固定処理を行った。その後、PVAフィルムを取り出し、40℃で熱風乾燥し、さらに100℃で5分間熱処理を行った。得られた偏光膜は平均厚みが15μmであった。   The aforementioned PVA film was processed in the order of pre-swelling, dyeing, uniaxial stretching by a wet method, fixing treatment, drying, and heat treatment to produce a polarizing film. The PVA film was pre-swelled by immersing it in water at 30 ° C. for 30 seconds and immersed in an aqueous solution at 35 ° C. having an iodine concentration of 0.4 g / liter and a potassium iodide concentration of 40 g / liter for 3 minutes. Subsequently, the film was uniaxially stretched 6 times in an aqueous solution of boric acid concentration 4% at 50 ° C. under a tension of 700 N / m. The potassium iodide concentration 40 g / liter, boric acid concentration 40 g / liter, Fixation was performed by immersing in an aqueous solution at 30 ° C. with a zinc chloride concentration of 10 g / liter for 5 minutes. Thereafter, the PVA film was taken out, dried with hot air at 40 ° C., and further subjected to heat treatment at 100 ° C. for 5 minutes. The obtained polarizing film had an average thickness of 15 μm.

(b)偏光板の作製
次いで、下記工程1〜5に従って、偏光膜と偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて偏光板101〜144を作製した。
(B) Preparation of polarizing plate Subsequently, according to the following processes 1-5, the polarizing film and the protective film for polarizing plates were bonded together, and the polarizing plates 101-144 were produced.

工程1:光学補償フィルムと反射防止フィルムを2mol/Lの水酸化ナトリウム溶液に60℃で90秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。反射防止フィルムの反射防止層を設けた面にはあらかじめ剥離性の保護フィルム(PET製)を張り付けて保護した。   Step 1: The optical compensation film and the antireflection film were immersed in a 2 mol / L sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water and dried. A surface of the antireflection film provided with the antireflection layer was previously protected with a peelable protective film (PET).

同様に光学補償フィルムを2mol/Lの水酸化ナトリウム溶液に60℃で90秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。   Similarly, the optical compensation film was immersed in a 2 mol / L sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water and dried.

工程2:前述の偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒間浸漬した。   Process 2: The above-mentioned polarizing film was immersed for 1 to 2 seconds in the polyvinyl alcohol adhesive tank of 2 mass% of solid content.

工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、それを工程1でアルカリ処理した光学補償フィルムと反射防止フィルムで挟み込んで、積層配置した。   Step 3: Excess adhesive adhered to the polarizing film in Step 2 was lightly removed, and it was sandwiched between the optical compensation film and the antireflection film that had been subjected to alkali treatment in Step 1, and laminated.

工程4:2つの回転するローラーにて20〜30N/cm2の圧力で10m/minの速度で張り合わせた。このとき気泡が入らないように注意して実施した。 Process 4: It bonded together at the speed | rate of 10 m / min with the pressure of 20-30 N / cm < 2 > with the two rotating rollers. At this time, care was taken to prevent bubbles from entering.

工程5:80℃の乾燥機中にて工程4で作製した試料を2分間乾燥処理し、偏光板を作製した。   Step 5: The sample prepared in Step 4 in a dryer at 80 ° C. was dried for 2 minutes to prepare a polarizing plate.

市販の液晶表示パネル(VA型)の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた偏光板101〜144を張り付けた。   A polarizing plate on the outermost surface of a commercially available liquid crystal display panel (VA type) was carefully peeled off, and polarizing plates 101 to 144 having the same polarization direction were attached thereto.

上記のようにして得られた液晶パネル1〜56を床から80cmの高さの机上に配置し、床から3mの高さの天井部に昼色光直管蛍光灯(FLR40S・D/M−X 松下電器産業(株)製)40W×2本を1セットとして1.5m間隔で10セット配置した。このとき評価者が液晶パネル表示面正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に前記蛍光灯がくるように配置した。液晶パネルは机に対する垂直方向から25°傾けて蛍光灯が写り込むようにして画面の見易さ(視認性)を下記のようにランク評価した。   The liquid crystal panels 1 to 56 obtained as described above are placed on a desk 80 cm high from the floor, and a daylight direct fluorescent lamp (FLR40S · D / MX) is placed on the ceiling 3 m high from the floor. Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.) 40W × 2 were set as one set, and 10 sets were arranged at 1.5 m intervals. At this time, when the evaluator is in front of the display surface of the liquid crystal panel, the fluorescent lamp is arranged so that the fluorescent lamp comes to the ceiling from the evaluator's overhead to the rear. The liquid crystal panel was tilted by 25 ° from the vertical direction with respect to the desk, and a fluorescent lamp was reflected so that the visibility of the screen (visibility) was evaluated as follows.

A:もっとも近い蛍光灯の移りこみから気にならず、フォントの大きさ8以下の文字もはっきりと読める
B:近くの蛍光灯の写りこみはやや気になるが、遠くは気にならず、フォントの大きさ8以下の文字もなんとかと読める
C:遠くの蛍光灯の写りこみも気になり、フォントの大きさ8以下の文字を読むのは困難である
D:蛍光灯の写りこみがかなり気になり、写り込みの部分はフォントの大きさ8以下の文字を読むことはできない
評価の結果、本発明の反射防止フィルム、偏光板を用いた液晶パネルはいずれもB以上の評価結果であり、比較の反射防止フィルム、偏光板を用いた液晶パネルより視認性が良好であった。
A: You don't have to worry about the movement of the nearest fluorescent light, and you can clearly read characters with a font size of 8 or less. B: The reflection of the nearby fluorescent light is a little worrisome, but you don't care about the distance. Can manage to read characters with a font size of 8 or less C: It is difficult to read characters with a font size of 8 or less. Worrying, the imprinted part cannot read characters with a font size of 8 or less. As a result of the evaluation, both the antireflection film of the present invention and the liquid crystal panel using the polarizing plate have an evaluation result of B or more. Visibility was better than a liquid crystal panel using a comparative antireflection film and a polarizing plate.

また、前記偏光板作製工程において、セルロースエステル系光学補償フィルムであるKC4FR−1(コニカミノルタオプト(株)製)をセルロースエステルフィルム KC4UE(コニカミノルタオプト(株)製)に変更した以外は同様にして、偏光板201〜244を作製した。   Moreover, in the said polarizing plate preparation process, it is the same except having changed KC4FR-1 (made by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) which is a cellulose ester type optical compensation film into a cellulose ester film KC4UE (made by Konica Minolta Opto Co., Ltd.). Thus, polarizing plates 201 to 244 were produced.

市販の液晶表示パネル(IPS型)の両面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた偏光板201〜244を張り付けた。評価の結果、本発明の反射防止フィルム、偏光板を用いた液晶パネルはいずれもB以上の評価結果であり、比較の反射防止フィルム、偏光板を用いた液晶パネルより視認性が良好であった。特に、本発明に係るイオン液体を高屈折率層に含有させた反射防止フィルムを用いた水準は、いずれも視認性評価がAであった。   The polarizing plates on both sides of a commercially available liquid crystal display panel (IPS type) were carefully peeled off, and polarizing plates 201 to 244 having the same polarization direction were attached thereto. As a result of the evaluation, both the antireflection film of the present invention and the liquid crystal panel using the polarizing plate were evaluation results of B or more, and the visibility was better than the liquid crystal panel using the comparative antireflection film and the polarizing plate. . In particular, the evaluation using the antireflection film in which the ionic liquid according to the present invention is contained in the high refractive index layer has a visibility evaluation of A.

Claims (4)

透明樹脂フィルムの少なくとも一方の面にハードコート層、及び反射防止層を有する反射防止フィルムにおいて、少なくとも1つの層がイオン液体を含有し、
前記反射防止層が高屈折率層を有し、該高屈折率層がイオン液体を含有し、
前記高屈折率層の屈折率が1.5〜2.2であることを特徴とする反射防止フィルム。
In the antireflection film having a hard coat layer and an antireflection layer on at least one surface of the transparent resin film, at least one layer contains an ionic liquid ,
The antireflective layer has a high refractive index layer, the high refractive index layer contains an ionic liquid;
The antireflective film, wherein the high refractive index layer has a refractive index of 1.5 to 2.2 .
前記反射防止層が低屈折率層を有し、該低屈折率層が中空シリカ系微粒子を含有することを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 1, wherein the antireflection layer has a low refractive index layer, and the low refractive index layer contains hollow silica-based fine particles. 請求項1または2に記載の反射防止フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に貼合したことを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising the antireflection film according to claim 1 or 2 bonded to at least one surface of a polarizer. 請求項1または2に記載の反射防止フィルム、または請求項に記載の偏光板を用いることを特徴とする表示装置。 The antireflection film according to claim 1 or 2, the display device characterized by using the polarizing plate according to or claim 3,.
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