JP2010118514A - Developing device and development method - Google Patents

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Hidetoshi Takano
英俊 高野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible in a developing device to easily determine whether or not the distance from a blocking member to the rear face of a substrate is an appropriate value or not. <P>SOLUTION: The developing device is equipped with a stage 50, a nozzle 200, a blocking member 120, and a measuring unit. The stage 50 is a place to place a substrate 10 on, and has a planar shape smaller than that of the substrate 10. The nozzle 200 discharges a chemical onto the surface of the substrate 10 placed on the stage 50. The blocking member 120 is arranged on the rear face of the substrate 10 to suppress the attachment of the chemical to the rear face of the substrate 10. The measuring unit 300 measures the distance (d) between the blocking member 120 and the substrate 10. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板に現像液などの薬液を塗布する現像装置及び現像方法に関する。   The present invention relates to a developing device and a developing method for applying a chemical solution such as a developer to a substrate.

半導体装置の製造工程には、基板上に現像液やリンス剤等の薬液を塗布してレジスト膜を現像する現像装置が用いられる。この装置は、基板をステージ上に載置し、ステージ及び基板を回転させつつ薬液を基板の表面に吐出することにより、遠心力を利用して基板の表面の全面に薬液を塗布するものである。そしてステージの周辺には、薬液の飛散を抑制するために、カップが設けられている（特許文献１〜３）。   In the manufacturing process of a semiconductor device, a developing device that develops a resist film by applying a chemical solution such as a developer or a rinse agent on a substrate is used. In this apparatus, a chemical solution is applied to the entire surface of a substrate using centrifugal force by placing the substrate on a stage and discharging the chemical solution onto the surface of the substrate while rotating the stage and the substrate. . And the cup is provided in the periphery of a stage in order to suppress scattering of a chemical | medical solution (patent documents 1-3).

また、基板の裏面側に薬液が回り込むと、基板を搬送するときにトラブルが生じる可能性がある。そこで、基板の裏面の近くに、薬液が基板の裏面側に付着することを抑制する遮断部材を設けることがある（特許文献１，３）。
特開２００１−１１０７１４号公報 特開２００１−３３２４８６号公報 特開２０００−３０６８０４号公報 特開２００５−０７７９４４号公報 Further, if the chemical solution wraps around the back side of the substrate, trouble may occur when the substrate is transported. Therefore, a blocking member that suppresses the chemical solution from adhering to the back surface side of the substrate may be provided near the back surface of the substrate (Patent Documents 1 and 3).
JP 2001-110714 A JP 2001-332486 A JP 2000-306804 A JP 2005-077944 A

しかし、遮断部材を設けても、遮断部材から基板の裏面までの距離が適切な値になっていない場合には、基板の裏面に薬液が付着することがある。   However, even if the blocking member is provided, if the distance from the blocking member to the back surface of the substrate is not an appropriate value, the chemical solution may adhere to the back surface of the substrate.

本発明によれば、基板を載置するステージと、
前記基板の表面に薬液を吐出するノズルと、
前記基板の裏面側に配置され、前記薬液が前記基板の裏面に付着することを抑制する遮断部材と、
前記遮断部材と前記基板の距離を測定する測定部と、
を備える現像装置が提供される。 According to the present invention, a stage on which a substrate is placed;
A nozzle for discharging a chemical on the surface of the substrate;
A blocking member that is disposed on the back side of the substrate and suppresses the chemical solution from adhering to the back side of the substrate;
A measuring unit for measuring a distance between the blocking member and the substrate;
Is provided.

本発明によれば、遮断部材と基板の距離を測定する測定部を設けたため、遮断部材から基板までの距離が適切な値であるか否かを容易に判断することができる。   According to the present invention, since the measurement unit that measures the distance between the blocking member and the substrate is provided, it can be easily determined whether or not the distance from the blocking member to the substrate is an appropriate value.

本発明によれば、基板を載置するステージと、
前記基板の表面に薬液を吐出するノズルと、
前記ノズルからの前記薬液の吐出を制御するノズル制御部と、
前記基板の裏面側に配置され、前記薬液が前記基板の裏面に付着することを抑制する遮断部材と、
を備える現像装置を用いた現像方法であって、
前記遮断部材と前記基板の距離を測定する測定部を設け、
前記測定部により測定された前記距離が基準から外れているときに、前記ノズル制御部は、前記ノズルに前記薬液の吐出を行わせない現像方法が提供される。 According to the present invention, a stage on which a substrate is placed;
A nozzle for discharging a chemical on the surface of the substrate;
A nozzle control unit for controlling the discharge of the chemical liquid from the nozzle;
A blocking member that is disposed on the back side of the substrate and suppresses the chemical solution from adhering to the back side of the substrate;
A developing method using a developing device comprising:
A measuring unit for measuring a distance between the blocking member and the substrate;
A developing method is provided in which the nozzle control unit does not cause the nozzle to discharge the chemical solution when the distance measured by the measurement unit is out of a reference.

本発明によれば、遮断部材から基板の裏面までの距離が適切な値であるか否かを容易に判断することができる。   According to the present invention, it is possible to easily determine whether or not the distance from the blocking member to the back surface of the substrate is an appropriate value.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same reference numerals are given to the same components, and the description will be omitted as appropriate.

図１は、第１の実施形態における現像装置の構成を示す断面図である。この現像装置は、ステージ５０、ノズル２００、遮断部材１２０、及び測定部を備える。ステージ５０は、基板１０を載置する。ステージ５０は基板１０より平面形状が小さい。ノズル２００は、ステージ５０に載置された基板１０の表面に現像液やリンス剤などの薬液を吐出する。遮断部材１２０は、基板１０の裏面側に配置され、薬液が基板１０の裏面に付着することを抑制する。測定部３００は、遮断部材１２０と基板１０の距離ｄを測定する。以下、詳細に説明する。   FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a developing device according to the first embodiment. The developing device includes a stage 50, a nozzle 200, a blocking member 120, and a measurement unit. The stage 50 places the substrate 10 thereon. The stage 50 has a smaller planar shape than the substrate 10. The nozzle 200 discharges a chemical solution such as a developer or a rinse agent onto the surface of the substrate 10 placed on the stage 50. The blocking member 120 is disposed on the back surface side of the substrate 10 and suppresses the chemical solution from adhering to the back surface of the substrate 10. The measurement unit 300 measures the distance d between the blocking member 120 and the substrate 10. Details will be described below.

ステージ５０は、基板１０を吸着し、また回転機構５２によって回転する。ステージ５０が回転することにより基板１０も回転し、これにより、ノズル２００から吐出された薬液が遠心力により基板１０の全面上に広がる。そして余分な薬液は、遠心力によって基板１０の縁から排出される。   The stage 50 sucks the substrate 10 and rotates by the rotation mechanism 52. As the stage 50 rotates, the substrate 10 also rotates, whereby the chemical solution discharged from the nozzle 200 spreads over the entire surface of the substrate 10 by centrifugal force. The excess chemical solution is discharged from the edge of the substrate 10 by centrifugal force.

ステージ５０の外側にはカップ１００が設けられている。カップ１００は、基板１０の縁から排出された薬液が飛散することを防止する。カップ１００の一部は裏面被覆部材１１０となっている。裏面被覆部材１１０は、ステージ５０の裏面、基板１０の裏面、及びステージ５０の支持軸５４を覆い、これらに薬液が付着することを抑制する。そして裏面被覆部材１１０の上面に、リング状の遮断部材１２０が取り付けられている。   A cup 100 is provided outside the stage 50. The cup 100 prevents the chemical liquid discharged from the edge of the substrate 10 from scattering. A part of the cup 100 is a back surface covering member 110. The back surface covering member 110 covers the back surface of the stage 50, the back surface of the substrate 10, and the support shaft 54 of the stage 50, and suppresses the chemical solution from adhering thereto. A ring-shaped blocking member 120 is attached to the upper surface of the back surface covering member 110.

測定部３００は、裏面被覆部材１１０のうち基板１０の裏面（すなわち基板１０の裏面のうちステージ５０から食み出している部分）と対向する部分に取り付けられている。このようにして測定部３００は、裏面被覆部材１１０を介して遮断部材１２０に対して一体的に取り付けられている。本実施形態において測定部３００は、基板１０の裏面に向けて光を照射し、基板１０の裏面からの反射光を受光することにより、基板１０と遮断部材１２０の距離ｄを測定する。ただし、測定部３００の測定原理はこれに限定されない。   The measurement unit 300 is attached to a portion of the back surface covering member 110 that faces the back surface of the substrate 10 (that is, the portion of the back surface of the substrate 10 that protrudes from the stage 50). In this way, the measurement unit 300 is integrally attached to the blocking member 120 via the back surface covering member 110. In the present embodiment, the measurement unit 300 measures the distance d between the substrate 10 and the blocking member 120 by irradiating light toward the back surface of the substrate 10 and receiving reflected light from the back surface of the substrate 10. However, the measurement principle of the measurement unit 300 is not limited to this.

測定部３００の測定値は、演算部３１０に出力される。演算部３１０は、測定値が基準の範囲内にあるか否かを判断する。演算部３１０は、測定値が基準を外れているとき（例えば測定値が基準値超のとき）、警報出力部３２０及びノズル制御部３３０に指令を出力する。   The measurement value of the measurement unit 300 is output to the calculation unit 310. The calculation unit 310 determines whether or not the measurement value is within a reference range. The calculation unit 310 outputs a command to the alarm output unit 320 and the nozzle control unit 330 when the measurement value is out of the reference (for example, when the measurement value exceeds the reference value).

警報出力部３２０は、演算部３１０から指令が入力されると、警報を出力する。警報の出力は、警報音の出力やライトの点灯をであっても良いし、表示部（図示せず）に警報表示を行うことであっても良い。   The alarm output unit 320 outputs an alarm when a command is input from the calculation unit 310. The output of the alarm may be output of an alarm sound or lighting of a light, or may be an alarm display on a display unit (not shown).

ノズル制御部３３０は、ノズル２００からの薬液の吐出を制御する。例えばノズル制御部３３０は、演算部３１０から指令が入力されると、ノズル２００からの薬液の吐出を行わない。例えばノズル制御部３３０は、ノズル２００から薬液を吐出しているときに演算部３１０から指令が入力されると、ノズル２００からの薬液の吐出を中断する。   The nozzle control unit 330 controls the discharge of the chemical solution from the nozzle 200. For example, when the command is input from the calculation unit 310, the nozzle control unit 330 does not discharge the chemical solution from the nozzle 200. For example, when a command is input from the calculation unit 310 while the chemical solution is being discharged from the nozzle 200, the nozzle control unit 330 interrupts the discharge of the chemical solution from the nozzle 200.

なお、測定部３００が測定した距離は、正確には測定部３００から基板１０の裏面までの距離である。そこで演算部３１０は、測定部３００の測定値を、測定部３００から遮断部材１２０の上端までの上下方向の距離で補正する（例えば測定値から前記した上下方向の距離を引く）ことにより、基板１０と遮断部材１２０の距離ｄを算出してもよい。   Note that the distance measured by the measurement unit 300 is precisely the distance from the measurement unit 300 to the back surface of the substrate 10. Accordingly, the calculation unit 310 corrects the measurement value of the measurement unit 300 by the vertical distance from the measurement unit 300 to the upper end of the blocking member 120 (for example, subtracts the above-described vertical distance from the measurement value), thereby obtaining The distance d between 10 and the blocking member 120 may be calculated.

図２は、基板１０、ステージ５０、及び測定部３００の相対位置を示す平面図である。基板１０は、例えばシリコンウェハなどの半導体ウェハであり、円形である。ステージ５０の平面形状も円形であるが、その径は基板１０より小さい。そして測定部３００は、基板１０及びステージ５０と同心である円周上に、一定角度ごとに配置されている。本図に示す例では、測定部３００は９０°間隔で配置されているが、１２０°間隔で配置されていてもよい。   FIG. 2 is a plan view showing relative positions of the substrate 10, the stage 50, and the measurement unit 300. The substrate 10 is a semiconductor wafer such as a silicon wafer, and has a circular shape. The planar shape of the stage 50 is also circular, but its diameter is smaller than the substrate 10. And the measurement part 300 is arrange | positioned for every fixed angle on the circumference concentric with the board | substrate 10 and the stage 50. FIG. In the example shown in the figure, the measuring units 300 are arranged at intervals of 90 °, but may be arranged at intervals of 120 °.

次に、本実施形態の作用及び効果について説明する。本実施形態によれば、測定部３００が遮断部材１２０と基板１０の距離ｄを測定するため、測定部３００の測定結果を用いることにより、遮断部材１２０から基板１０の裏面までの距離ｄが適切な値であるか否かを容易に判断することができる。   Next, the operation and effect of this embodiment will be described. According to the present embodiment, since the measurement unit 300 measures the distance d between the blocking member 120 and the substrate 10, the distance d from the blocking member 120 to the back surface of the substrate 10 is appropriate by using the measurement result of the measurement unit 300. It is possible to easily determine whether the value is a correct value.

また、ノズル制御部３３０は、測定部３００により測定された距離ｄが基準を外れているときには薬液の吐出を行わない。従って、薬液が基板１０の裏面に付着する可能性があるときに薬液の吐出が行われることを抑制できる。従って、薬液が基板１０の裏面に付着することを抑制でき、基板１０の搬送時にトラブルが生じることを抑制できる。   Further, the nozzle controller 330 does not discharge the chemical liquid when the distance d measured by the measuring unit 300 is out of the reference. Accordingly, it is possible to suppress the discharge of the chemical liquid when there is a possibility that the chemical liquid adheres to the back surface of the substrate 10. Therefore, it can suppress that a chemical | medical solution adheres to the back surface of the board | substrate 10, and can suppress that a trouble arises at the time of conveyance of the board | substrate 10. FIG.

また、警報出力部３２０は、測定部３００により測定された距離ｄが基準を外れているときには警報を出力する。従って、現像装置のオペレータは、遮断部材１２０から基板１０の裏面までの距離ｄが基準を外れたことをすぐに認識することができる。これにより、基板１０の搬送時にトラブルが生じることを抑制できる。   The alarm output unit 320 outputs an alarm when the distance d measured by the measurement unit 300 is out of the reference. Therefore, the operator of the developing device can immediately recognize that the distance d from the blocking member 120 to the back surface of the substrate 10 deviates from the standard. Thereby, it can suppress that a trouble arises at the time of conveyance of substrate 10.

図３は、第２の実施形態に係る現像装置の構成を示す断面図である。この現像装置は、距離制御機構３４０及び距離制御部３５０を備える点を除いて、第１の実施形態と同様の構成である。距離制御機構３４０は、ステージ５０及び遮断部材１２０の少なくとも一方を移動させる。距離制御部３５０は、測定部３００の測定結果に基づいて距離制御機構３４０を制御することにより、基板１０の裏面から遮断部材１２０までの距離ｄを制御する。具体的には、距離制御部３５０は、測定部３００の測定結果に基づいて距離制御機構３４０を制御することにより、基板１０の裏面から遮断部材１２０までの距離ｄが基準を満たすようにする。   FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a developing device according to the second embodiment. The developing device has the same configuration as that of the first embodiment except that a distance control mechanism 340 and a distance control unit 350 are provided. The distance control mechanism 340 moves at least one of the stage 50 and the blocking member 120. The distance control unit 350 controls the distance d from the back surface of the substrate 10 to the blocking member 120 by controlling the distance control mechanism 340 based on the measurement result of the measurement unit 300. Specifically, the distance control unit 350 controls the distance control mechanism 340 based on the measurement result of the measurement unit 300 so that the distance d from the back surface of the substrate 10 to the blocking member 120 satisfies the standard.

図３に示す例において、距離制御機構３４０は、裏面被覆部材１１０の下方に位置しており、裏面被覆部材１１０を上下させることにより、基板１０の裏面から遮断部材１２０までの距離ｄを制御する。なお距離制御機構３４０は、裏面被覆部材１１０から独立している支持部材１３０によって支持されている。   In the example shown in FIG. 3, the distance control mechanism 340 is located below the back surface covering member 110, and controls the distance d from the back surface of the substrate 10 to the blocking member 120 by moving the back surface covering member 110 up and down. . The distance control mechanism 340 is supported by a support member 130 that is independent from the back surface covering member 110.

図４は、基板１０、ステージ５０、測定部３００、及び距離制御機構３４０の相対位置を示す平面図である。基板１０、ステージ５０、及び測定部３００の相対位置は、第１の実施形態と同様である。また距離制御機構３４０は、基板１０及びステージ５０と同心である円周上に、一定角度ごとに、かつ測定部３００と重ならないように配置されている。本図に示す例では、測定部３００及び距離制御機構３４０は９０°間隔で配置されているが、１２０°間隔で配置されていてもよい。   FIG. 4 is a plan view showing relative positions of the substrate 10, the stage 50, the measurement unit 300, and the distance control mechanism 340. The relative positions of the substrate 10, the stage 50, and the measurement unit 300 are the same as those in the first embodiment. Further, the distance control mechanism 340 is arranged on a circumference that is concentric with the substrate 10 and the stage 50 so as not to overlap the measurement unit 300 at every fixed angle. In the example shown in the figure, the measurement unit 300 and the distance control mechanism 340 are arranged at 90 ° intervals, but may be arranged at 120 ° intervals.

図５は、距離制御機構３４０の構成を示す断面図である。距離制御機構３４０は、タコジェネレータ付のモータ３４１を有している。モータ３４１で生じた回転力は、カップリング３４２を介してリードスクリュー３４３に伝達される。リードスクリュー３４３は、上下方向に延伸している。リードスクリュー３４３の上端には雌ネジが設けられているが、この雌ネジは、支持部材３４４の下部の外面に設けられた雄ネジに螺合している。すなわちモータ３４１がリードスクリュー３４３を回転させると、支持部材３４４が上下に移動する。支持部材３４４の上端は裏面被覆部材１１０の下面に当接しているため、モータ３４１を回転させることにより、裏面被覆部材１１０を上下させることができる。そして距離制御部３５０は、モータ３４１の回転方向及び回転量を制御することにより、基板１０の裏面から遮断部材１２０までの距離ｄが基準を満たすようにすることができる。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing the configuration of the distance control mechanism 340. The distance control mechanism 340 includes a motor 341 with an tacho generator. The rotational force generated by the motor 341 is transmitted to the lead screw 343 via the coupling 342. The lead screw 343 extends in the vertical direction. A female screw is provided at the upper end of the lead screw 343, and this female screw is screwed into a male screw provided on the outer surface of the lower portion of the support member 344. That is, when the motor 341 rotates the lead screw 343, the support member 344 moves up and down. Since the upper end of the support member 344 is in contact with the lower surface of the back surface covering member 110, the back surface covering member 110 can be moved up and down by rotating the motor 341. The distance controller 350 can control the rotation direction and the rotation amount of the motor 341 so that the distance d from the back surface of the substrate 10 to the blocking member 120 satisfies the standard.

またリードスクリュー３４３は筐体３４５内に回転可能な状態で収容されている。筐体３４５の外周にはバネ３４６の一端が取り付けられている。バネ３４６の他端は裏面被覆部材１１０の下面に取り付けられている。バネ３４６は、筐体３４５すなわち距離制御機構３４０を裏面被覆部材１１０に近づける方向に付勢している。このため、支持部材３４４が下方に移動すると、裏面被覆部材１１０はすぐに下方に移動することができる。   The lead screw 343 is housed in the housing 345 in a rotatable state. One end of a spring 346 is attached to the outer periphery of the housing 345. The other end of the spring 346 is attached to the lower surface of the back surface covering member 110. The spring 346 biases the casing 345, that is, the distance control mechanism 340 in a direction in which the casing 345 approaches the back surface covering member 110. For this reason, when the supporting member 344 moves downward, the back surface covering member 110 can immediately move downward.

本実施形態によっても、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。また、距離制御部３５０を設けているため、測定部３００の測定結果を距離制御部３５０にフィードバックさせることにより、基板１０の裏面から遮断部材１２０までの距離ｄが基準を満たすようにすることができる。   Also according to this embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained. In addition, since the distance control unit 350 is provided, the distance d from the back surface of the substrate 10 to the blocking member 120 satisfies the standard by feeding back the measurement result of the measurement unit 300 to the distance control unit 350. it can.

以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described with reference to drawings, these are the illustrations of this invention, Various structures other than the above are also employable.

第１の実施形態における現像装置の構成を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a developing device according to a first embodiment. 基板、ステージ、及び測定部の相対位置を示す平面図である。It is a top view which shows the relative position of a board | substrate, a stage, and a measurement part. 第２の実施形態における現像装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the developing device in 2nd Embodiment. 基板、ステージ、測定部、及び距離制御機構の相対位置を示す平面図である。It is a top view which shows the relative position of a board | substrate, a stage, a measurement part, and a distance control mechanism. 距離制御機構の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of a distance control mechanism.

符号の説明Explanation of symbols

１０ 基板
５０ ステージ
５２ 回転機構
５４ 支持軸
１００ カップ
１１０ 裏面被覆部材
１２０ 遮断部材
１３０ 支持部材
２００ ノズル
３００ 測定部
３１０ 演算部
３２０ 警報出力部
３３０ ノズル制御部
３４０ 距離制御機構
３４１ モータ
３４２ カップリング
３４３ リードスクリュー
３４４ 支持部材
３４５ 筐体
３４６ バネ
３５０ 距離制御部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate 50 Stage 52 Rotating mechanism 54 Support shaft 100 Cup 110 Back surface covering member 120 Blocking member 130 Support member 200 Nozzle 300 Measuring unit 310 Calculation unit 320 Alarm output unit 330 Nozzle control unit 340 Distance control mechanism 341 Motor 342 Coupling 343 Lead screw 344 Support member 345 Housing 346 Spring 350 Distance control unit

Claims (5)

基板を載置するステージと、
前記基板の表面に薬液を吐出するノズルと、
前記基板の裏面側に配置され、前記薬液が前記基板の裏面に付着することを抑制する遮断部材と、
前記遮断部材と前記基板の距離を測定する測定部と、
を備える現像装置。 A stage on which a substrate is placed;
A nozzle for discharging a chemical on the surface of the substrate;
A blocking member that is disposed on the back side of the substrate and suppresses the chemical solution from adhering to the back side of the substrate;
A measuring unit for measuring a distance between the blocking member and the substrate;
A developing device comprising: 請求項１に記載の現像装置において、
前記ノズルからの前記薬液の吐出を制御するノズル制御部を備え、
前記ノズル制御部は、前記測定部により測定された前記距離が基準から外れているときに、前記ノズルに前記薬液の吐出を行わせない現像装置。 The developing device according to claim 1,
A nozzle control unit for controlling the discharge of the chemical liquid from the nozzle;
The nozzle control unit is a developing device that does not cause the nozzle to discharge the chemical solution when the distance measured by the measurement unit is out of a reference. 請求項１または２に記載の現像装置において、
前記測定部の測定結果に基づいて前記ステージ及び前記遮断部材の少なくとも一方を移動させることにより、前記距離を制御する距離制御部を備える現像装置。 The developing device according to claim 1 or 2,
A developing device including a distance control unit that controls the distance by moving at least one of the stage and the blocking member based on a measurement result of the measurement unit. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の現像装置において、
前記測定部は、
前記遮断部材に対して一体的に取り付けられており、
前記基板に向けて光を照射し、前記基板からの反射光を受光することにより前記距離を測定する現像装置。 In the developing device according to any one of claims 1 to 3,
The measuring unit is
It is integrally attached to the blocking member,
A developing device that measures the distance by irradiating light toward the substrate and receiving reflected light from the substrate. 基板を載置するステージと、
前記基板の表面に薬液を吐出するノズルと、
前記ノズルからの前記薬液の吐出を制御するノズル制御部と、
前記基板の裏面側に配置され、前記薬液が前記基板の裏面に付着することを抑制する遮断部材と、
を備える現像装置を用いた現像方法であって、
前記遮断部材と前記基板の距離を測定する測定部を設け、
前記測定部により測定された前記距離が基準から外れているときに、前記ノズル制御部は、前記ノズルに前記薬液の吐出を行わせない現像方法。 A stage on which a substrate is placed;
A nozzle for discharging a chemical on the surface of the substrate;
A nozzle control unit for controlling the discharge of the chemical liquid from the nozzle;
A blocking member that is disposed on the back side of the substrate and suppresses the chemical solution from adhering to the back side of the substrate;
A developing method using a developing device comprising:
A measuring unit for measuring a distance between the blocking member and the substrate;
The developing method in which the nozzle control unit does not cause the nozzle to discharge the chemical liquid when the distance measured by the measurement unit is out of a reference.
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