JP2010117479A - Color filter and organic el display element - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter for an organic EL display element where the organic EL display element is not degraded by moisture from the color filter without forming a barrier layer, and to provide an organic EL display element where an organic EL layer is not degraded by moisture from the color filter. <P>SOLUTION: This color filter for the organic EL display element is heated from 25°C to 240°C at a pressure of 3.0×10<SP>-6</SP>Pa, and the amount of moisture obtained when it is held at 240°C for 30 minutes is 3.5 μg/cm<SP>2</SP>. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機EL表示素子用カラーフィルタ及び該カラーフィルタを用いた有機EL表示素子に関する。   The present invention relates to a color filter for an organic EL display element and an organic EL display element using the color filter.

近年、パーソナルコンピュータの発達、携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶表示素子、有機EL表示素子の需要が増加する傾向にあり、現在まで、様々なカラーフィルタが考案されている。特に有機EL表示素子は自発光型の表示素子であり、薄型化、軽量化が容易なため今後の需要増加が予想される。   In recent years, with the development of personal computers and portable personal computers, the demand for liquid crystal display elements and organic EL display elements has been increasing, and various color filters have been devised up to now. In particular, the organic EL display element is a self-luminous display element, and since it is easy to reduce the thickness and weight, future demand increases are expected.

一般的に、有機EL表示素子用のカラーフィルタは、ブラックマトリクスを設けたガラス透明基板上に赤色(R),緑色(G),青色(B)の3原色がパターニングされたカラー画素層を形成した後、無色で透明のオーバーコート層などをその上に形成し、さらにオーバーコート層上に窒化珪素、または窒化珪素と酸化珪素混合物から成る無機膜を成膜する場合が多い。   Generally, a color filter for an organic EL display element is formed by forming a color pixel layer in which three primary colors of red (R), green (G), and blue (B) are patterned on a glass transparent substrate provided with a black matrix. After that, a colorless and transparent overcoat layer or the like is formed thereon, and an inorganic film made of silicon nitride or a mixture of silicon nitride and silicon oxide is often formed on the overcoat layer.

有機ELは、これに用いる発光材料が水分で劣化しやすい。これを改善するために、窒化珪素、酸化珪素などの無機化合物を、有機ELへの水分の侵入を防ぐためのバリア層として用いる技術が示されている(特許文献1、特許文献2)。   In organic EL, the light emitting material used for this is easily deteriorated by moisture. In order to improve this, a technique using an inorganic compound such as silicon nitride or silicon oxide as a barrier layer for preventing moisture from entering the organic EL is disclosed (Patent Documents 1 and 2).

このように、前記無機膜は、カラーフィルタを形成する樹脂層などからの水分による有機EL層の劣化を防止するために該水分を封止するためのバリア層として機能させるために配置される。   As described above, the inorganic film is disposed to function as a barrier layer for sealing the moisture in order to prevent the organic EL layer from being deteriorated by moisture from a resin layer or the like forming the color filter.

しかしながら、一方、前記バリア層の形成は、CVD法やスパッタリング法にて行う必要があるため、専用の装置を必要とする。これらの成膜は、真空でかつ高温の環境で行う必要があるため、圧力の調整と装置内の加熱、冷却にかなりの時間を要する。従って生産性が低下し、製造コストがあがる要因となる。また、バリア層を形成する工程が増えるため、収率低下を招く要因が増すこととなり、これらが生産上の大きな課題となっている。
特開2004-119119号公報 特開2005-174726号公報
However, since the barrier layer needs to be formed by a CVD method or a sputtering method, a dedicated device is required. Since these film formations must be performed in a vacuum and in a high temperature environment, it takes a considerable time to adjust the pressure and to heat and cool the apparatus. Therefore, productivity is lowered and the manufacturing cost is increased. Moreover, since the process of forming a barrier layer increases, the factor which causes a yield fall increases, and these are the big problems on production.
JP 2004-119119 A JP 2005-174726 A

本発明は、以上の問題点を鑑みてなされたものであり、有機EL表示素子用カラーフィルタにおいて、バリア層を形成することなしに、有機EL表示素子がカラーフィルターからの水分によって劣化することのないような有機EL表示素子用のカラーフィルタを提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and in an organic EL display element color filter, the organic EL display element is deteriorated by moisture from the color filter without forming a barrier layer. It is an object of the present invention to provide a color filter for an organic EL display element that does not exist.

また、本発明は、有機EL表示素子において有機EL層がカラーフィルターからの水分によって劣化することのないような有機EL表示素子を提供することを課題とする。   Another object of the present invention is to provide an organic EL display element in which the organic EL layer does not deteriorate due to moisture from the color filter.

本発明は、前記目的を達成するために為されたものであって、請求項1記載の発明は、有機EL表示素子用カラーフィルタであって、基板上に少なくともブラックマトリックス層と、カラー層と、オーバーコート層とを形成して構成されるカラーフィルタであって、該カラー層が少なくとも赤色,緑色,青色の3色から成り、また、該オーバーコート層が
透明な材料から成り、該カラーフィルタが、3.0x10-6Paの圧力にて、25℃から240℃に加熱して、240℃にて30分間保持したときに得られる水分量が3.5μg/cm2以下であることを特徴とする有機EL表示素子用カラーフィルタである。
The present invention has been made to achieve the above object, and the invention according to claim 1 is a color filter for an organic EL display element, comprising at least a black matrix layer, a color layer on a substrate. A color filter comprising an overcoat layer, the color layer comprising at least three colors of red, green and blue, and the overcoat layer comprising a transparent material, However, the moisture content obtained when heated from 25 ° C. to 240 ° C. and kept at 240 ° C. for 30 minutes at a pressure of 3.0 × 10 −6 Pa is 3.5 μg / cm 2 or less. It is a color filter for organic EL display elements.

請求項2記載の発明は、前記基板が、透明基板であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタである。   The invention according to claim 2 is the color filter according to claim 1, wherein the substrate is a transparent substrate.

請求項3記載の発明は、前記カラー層が各色のカラーレジストをパターニングして形成されることを特徴とする請求項1または2に記載のカラーフィルタである。   A third aspect of the present invention is the color filter according to the first or second aspect, wherein the color layer is formed by patterning a color resist of each color.

請求項4記載の発明は、 前記オーバーコート層が、有機性高分子から成ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のカラーフィルタである。   The invention according to claim 4 is the color filter according to any one of claims 1 to 3, wherein the overcoat layer is made of an organic polymer.

請求項5記載の発明は、請求項1〜4のいずれか1項に記載のカラーフィルタと、少なくとも有機EL層を基板上に形成した有機EL基板とを、前記カラー層の形成された面と前記有機EL層が形成された面とが対向して内側となるように貼り合わせてなる有機EL表示素子である。   The invention according to claim 5 is the color filter according to any one of claims 1 to 4 and the organic EL substrate on which at least the organic EL layer is formed on the substrate, the surface on which the color layer is formed, It is an organic EL display element that is bonded so that the surface on which the organic EL layer is formed is opposed to the inside.

請求項1に記載の本発明により、有機EL表示素子用カラーフィルタであって、基板上に少なくともブラックマトリックス層と、カラー層と、オーバーコート層とを形成して構成されるカラーフィルタであって、該カラーフィルタが、3.0x10-6Paの圧力にて、25℃から240℃に加熱して、240℃にて30分間保持したときに得られる水分量が3.5μg/cm2以下であることを特徴とする有機EL表示素子用カラーフィルタを用いることにより、該カラーフィルタにバリア層を形成することなしに、有機EL表示素子がカラーフィルタからの水分によって劣化することのないような有機EL表示素子用のカラーフィルタを提供することができる。 According to the first aspect of the present invention, there is provided a color filter for an organic EL display element, wherein the color filter is formed by forming at least a black matrix layer, a color layer, and an overcoat layer on a substrate. The water content obtained when the color filter is heated from 25 ° C. to 240 ° C. at a pressure of 3.0 × 10 −6 Pa and kept at 240 ° C. for 30 minutes is 3.5 μg / cm 2 or less. By using a color filter for an organic EL display element, the organic EL display element is not deteriorated by moisture from the color filter without forming a barrier layer on the color filter. A color filter for an EL display element can be provided.

請求項5に記載の本発明により、請求項1〜4のいずれか1項に記載のカラーフィルタをもちいることにより、有機EL表示素子において有機EL層がカラーフィルターからの水分によって劣化することのないような有機EL表示素子を提供することができる。   According to the present invention described in claim 5, by using the color filter according to any one of claims 1 to 4, the organic EL layer in the organic EL display element is deteriorated by moisture from the color filter. Such an organic EL display element can be provided.

以下に、本発明の実施の一形態を具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるわけではない。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited thereto.

本発明におけるカラーフィルタの基板としては、透明な基板が望ましく、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどのガラス基板が用いることができる。
また、透明な有機系高分子フィルムに透明な無機膜を形成してバリア機能や、耐溶剤機能を付加した複合フィルム材料を用いてもよい。
As the substrate of the color filter in the present invention, a transparent substrate is desirable, and a glass substrate such as soda glass, non-alkali glass, borosilicate glass, or quartz glass can be used.
Alternatively, a composite film material in which a transparent inorganic film is formed on a transparent organic polymer film to add a barrier function or a solvent resistance function may be used.

前記有機系高分子フィルムとしては、PET,PEN,環状ポリオレフィン、などを用いることができる。また、前記無機膜としては、窒化珪素、酸化珪素、窒化珪素と酸化珪素との混成物などを用いることができる。   As the organic polymer film, PET, PEN, cyclic polyolefin, and the like can be used. As the inorganic film, silicon nitride, silicon oxide, a mixture of silicon nitride and silicon oxide, or the like can be used.

次に、この基板上に、クロムなどから成る無機系ブラックマトリックスや、黒色顔料が分散された樹脂などからなる有機系ブラックマトリックスなどを形成する。   Next, an inorganic black matrix made of chromium or the like, an organic black matrix made of a resin in which a black pigment is dispersed, or the like is formed on the substrate.

次に、カラーレジスト材料から成るカラー画素層を積層させる。カラー画素層としては
通常フォトリソグラフィー法により形成される染色膜、顔料分散膜などが用いられるが、耐熱性、耐光性などの点から顔料分散膜が好適に用いられる。
Next, a color pixel layer made of a color resist material is laminated. As the color pixel layer, a dyed film, a pigment dispersed film or the like usually formed by a photolithography method is used, but a pigment dispersed film is preferably used from the viewpoint of heat resistance and light resistance.

このようにして作製されたカラー画素上に、熱硬化性または光硬化性のアクリル系樹脂、またはポリイミド系樹脂組成物を塗布した後、熱硬化性の場合は焼成を行い、また光硬化性の場合は、紫外線照射により硬化させ、オーバーコート層を形成する。   After applying a thermosetting or photocurable acrylic resin or a polyimide resin composition on the color pixel thus prepared, baking is performed in the case of thermosetting, and photocurable. In this case, it is cured by ultraviolet irradiation to form an overcoat layer.

以上のようにして形成したカラーフィルタを、230℃以上の温度にて1.5時間以上焼成する。このようにして、EL表示素子用カラーフィルタを作成することができる。   The color filter formed as described above is baked at a temperature of 230 ° C. or more for 1.5 hours or more. In this manner, a color filter for an EL display element can be created.

前記の本発明によるEL表示素子用カラーフィルタを、3.0x10-6Paの圧力にて250℃で30分間加熱した際の水蒸気析出量は3.5μg/cm2以下となった。 When the color filter for an EL display element according to the present invention was heated at 250 ° C. for 30 minutes at a pressure of 3.0 × 10 −6 Pa, the water vapor deposition amount was 3.5 μg / cm 2 or less.

次に、本発明による有機EL表示素子の一例を図1を用いて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Next, an example of the organic EL display element according to the present invention will be described with reference to FIG. 1, but the present invention is not limited thereto.

図1に示すように、前記の手順にて作成した有機EL表示素子用カラーフィルタの配置された基板11を、陽極である下部電極21、有機EL層31,32,33、陰極である上部電極22が順に積層された有機EL層基板12と端部を封止材4で隙間のないように貼り合せることにより、長期に渡り欠陥の発生、拡大のない有機EL表示素子を得ることができる。   As shown in FIG. 1, a substrate 11 on which an organic EL display element color filter prepared in the above-described procedure is arranged is a lower electrode 21 that is an anode, organic EL layers 31, 32, and 33, and an upper electrode that is a cathode. By bonding the organic EL layer substrate 12 on which the layers 22 are sequentially laminated and the end portion with the sealing material 4 so as not to have a gap, an organic EL display element that does not generate and expand defects over a long period of time can be obtained.

前記図1のように、本発明の有機EL表示素子用カラーフィルタを組み込んだ、本発明の有機EL表示素子は、有機EL基板12と対向するカラーフィルタ基板11側から光を取り出すトップエミッション方式の有機EL表示素子に好適に適用できる。一般に トップエミッション型の有機EL基板は、発光層である有機EL層が、基板にあらかじめ形成された光反射性の下部電極21上に間接あるいは直接的に形成されていることが一般的である。   As shown in FIG. 1, the organic EL display element of the present invention incorporating the color filter for the organic EL display element of the present invention is a top emission type that extracts light from the color filter substrate 11 side facing the organic EL substrate 12. It can be suitably applied to an organic EL display element. In general, in a top emission type organic EL substrate, an organic EL layer as a light emitting layer is generally formed indirectly or directly on a light-reflective lower electrode 21 formed in advance on the substrate.

図2に基づいて、さらに本発明の有機EL表示素子の説明を行う。有機EL層の配置された基板12には、必要に応じて、予め薄膜トランジスタ(TFT)7を形成し、駆動用基板として用いても良い。本発明の有機EL表示素子用カラーフィルタはパッシブマトリックス方式の有機EL表示素子、アクティブマトリックス方式の有機EL表示素子用としても適用可能である。パッシブマトリックス方式としてはストライプ状の電極を直交させるように対向させ、その交点を発光させる方式であるのに対し、アクティブマトリックス方式は画素毎にTFTを形成した、いわゆるTFT基板を用いることにより、画素毎に独立して発光させる方式である。   The organic EL display element of the present invention will be further described based on FIG. A thin film transistor (TFT) 7 may be formed in advance on the substrate 12 on which the organic EL layer is arranged, if necessary, and used as a driving substrate. The color filter for organic EL display elements of the present invention can also be applied to passive matrix type organic EL display elements and active matrix type organic EL display elements. The passive matrix method is a method in which stripe-shaped electrodes are opposed to each other so as to be orthogonal to each other, and light is emitted at the intersection. On the other hand, the active matrix method uses a so-called TFT substrate in which a TFT is formed for each pixel. This is a method of emitting light independently.

図2において、陽極である下部電極21は、光の反射機能をもつ電極とし、カラーフィルタ基板12側への光の取り出し効率を向上させるために、クロム膜、またはクロム膜とITO膜の積層膜を好適に用いることができる。パッシブマトリックス方式の有機EL表示素子の場合、下部電極21はストライプ状に形成され、アクティブマトリックス方式の有機EL表示素子の場合には、各画素ごとにパターニングするのがよい。   In FIG. 2, a lower electrode 21 as an anode is an electrode having a light reflection function, and a chromium film or a laminated film of a chromium film and an ITO film is used to improve the light extraction efficiency to the color filter substrate 12 side. Can be suitably used. In the case of a passive matrix type organic EL display element, the lower electrode 21 is formed in a stripe shape, and in the case of an active matrix type organic EL display element, it is preferable to pattern each pixel.

本発明における有機EL層31,32,33としては、発光物質を含む有機発光単層、あるいは多層で形成することができる。多層で形成する場合の構成例としては、正孔輸送層、電子輸送性有機発光層、電子輸送層からなる3層構成、さらには必要に応じて正孔(電子)注入機能と正孔(電子)輸送機能を分けたり、正孔(電子)の輸送をブロックする層などを挿入することにより、さらに多層形成することが好ましい。   The organic EL layers 31, 32 and 33 in the present invention can be formed of an organic light emitting single layer containing a light emitting substance or a multilayer. Examples of the configuration in the case of forming in multiple layers include a three-layer configuration including a hole transport layer, an electron transporting organic light emitting layer, and an electron transport layer, and a hole (electron) injection function and a hole (electron) as required. It is preferable to further form multiple layers by dividing the transport function or inserting a layer that blocks the transport of holes (electrons).

正孔輸送材料の例としては、銅フタロシアニン(CuPc)、テトラ(t−ブチル)銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類及び無金属フタロシアニン類、キナクリドン化合物、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(3−メチルフェニル)−1,1'−ビフェニル−4,4'−ジアミン、N,N'−ジ(1−ナフチル)−N,N'−ジフェニル−1,1'−ビフェニル−4,4'−ジアミン(α−NPD)等の芳香族アミン系低分子正孔注入輸送材料や、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との混合物などの高分子正孔輸送材料、ポリチオフェンオリゴマー材料、その他既存の正孔輸送材料の中から選ぶことができる。   Examples of hole transport materials include metal phthalocyanines and metal-free phthalocyanines such as copper phthalocyanine (CuPc) and tetra (t-butyl) copper phthalocyanine, quinacridone compounds, 1,1-bis (4-di-p-tolyl) Aminophenyl) cyclohexane, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1′-biphenyl-4,4′-diamine, N, N′-di (1-naphthyl) -N, N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (α-NPD) and other aromatic amine low molecular hole injection and transport materials, polyaniline, polythiophene, polyvinylcarbazole, poly ( 3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid and other polymer hole transport materials, polythiophene oligomer materials, and other existing hole transport materials You can choose from materials.

有機発光材料としては、キノロン誘導体、フェノキサゾン誘導体、9,10−ジアリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレン、ルブレン、1,1,4,4−テトラフェニルブタジエン、トリス(8−キノリノール)アルミニウム錯体(Alq3)、トリス(4−メチル−8−キノリノラート)アルミニウム錯体、ビス(8−キノリノラート)亜鉛錯体、トリス(4−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリノラート)アルミニウム錯体、トリス(4−メチル−5−シアノ−8−キノリノラート)アルミニウム錯体、ビス(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キノリノラート)[4−(4−シアノフェニル)フェノラート]アルミニウム錯体、ビス(2−メチル−5−シアノ−8−キノリノラート)[4−(4−シアノフェニル)フェノラート]アルミニウム錯体、トリス(8−キノリノラート)スカンジウム錯体、ビス〔8−(パラ−トシル)アミノキノリン〕亜鉛錯体及びカドミウム錯体、1,2,3,4−テトラフェニルシクロペンタジエン、ペンタフェニルシクロペンタジエン、ポリ−2,5−ジヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレン、クマリン系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンスロン系蛍光体、ポルフィリン系蛍光体、キナクリドン系蛍光体、N,N'−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光体、ナフタルイミド系蛍光体、N,N'−ジアリール置換ピロロピロール系蛍光体等、Ir錯体等の燐光性発光体などの低分子系発光材料や、ポリフルオレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリスピロなどの高分子材料や、これら高分子材料に前記低分子材料の分散または共重合した材料や、その他既存の発光材料を用いることができる。また、R(赤)31、G(緑)32、B(青)33といった異なる発光色を有する発光材料を画素ごとにパターン形成することにより、フルカラーの有機EL表示素子とすることができる。   Examples of organic light emitting materials include quinolone derivatives, phenoxazone derivatives, 9,10-diarylanthracene derivatives, pyrene, coronene, perylene, rubrene, 1,1,4,4-tetraphenylbutadiene, tris (8-quinolinol) aluminum complex (Alq3). ), Tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum complex, bis (8-quinolinolato) zinc complex, tris (4-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) aluminum complex, tris (4-methyl-5) -Cyano-8-quinolinolato) aluminum complex, bis (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) [4- (4-cyanophenyl) phenolate] aluminum complex, bis (2-methyl-5-cyano- 8-quinolinolato) [4- (4- Anophenyl) phenolate] aluminum complex, tris (8-quinolinolato) scandium complex, bis [8- (para-tosyl) aminoquinoline] zinc complex and cadmium complex, 1,2,3,4-tetraphenylcyclopentadiene, pentaphenylcyclo Pentadiene, poly-2,5-diheptyloxy-para-phenylene vinylene, coumarin phosphor, perylene phosphor, pyran phosphor, anthrone phosphor, porphyrin phosphor, quinacridone phosphor, N, N Low molecular light emitting materials such as' -dialkyl-substituted quinacridone phosphors, naphthalimide phosphors, N, N'-diaryl-substituted pyrrolopyrrole phosphors, phosphorescent phosphors such as Ir complexes, polyfluorenes, poly High in paraphenylene vinylene, polythiophene, polyspiro, etc. Molecular materials, materials obtained by dispersing or copolymerizing the low molecular materials in these polymer materials, and other existing light emitting materials can be used. Further, a full color organic EL display element can be formed by patterning light emitting materials having different light emission colors such as R (red) 31, G (green) 32, and B (blue) 33 for each pixel.

電子輸送材料の例としては、4,4‘−ビス(2,2'−ジフェニルビニル)ビフェニル、2−(4−ビフィニルイル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、オキサジアゾール誘導体、Alq3やビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリノラート)ベリリウム錯体(BeBq2)、トリアゾール化合物等を用いることができる。   Examples of electron transport materials include 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) biphenyl, 2- (4-bifinylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4- Oxadiazole, 2,5-bis (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, oxadiazole derivatives, Alq3, bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinolato) beryllium complex (BeBq2), triazole A compound or the like can be used.

有機EL層31,32,33の形成方法としては、材料に応じて、真空蒸着法や、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法といったコーティング法や、凸版印刷法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、凹版オフセット印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法を用いることができる。   As a method for forming the organic EL layers 31, 32, and 33, depending on the material, a coating method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a spray coating method, or a die coating method, a relief printing method, a gravure printing method, and an offset printing method are used. Printing methods such as intaglio offset printing and ink jet printing can be used.

陰極である上部電極22は、発光の取り出し部を兼ねるので、透光性を持たせるために仕事関数が低いLi,Caを薄く設けた後に、ITO(インジウムスズ複合酸化物)やインジウム亜鉛複合酸化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの金属複合酸化物を積層してもよく、前記有機EL層31,32,33に、仕事関数が低いLi,Caなどの金属を少量ドーピングして、ITOなどの金属酸化物を積層してもよい。   Since the upper electrode 22 serving as a cathode also serves as a light emission extraction portion, after providing Li and Ca having a low work function in order to provide translucency, an ITO (indium tin composite oxide) or indium zinc composite oxide is provided. In addition, a metal composite oxide such as a zinc-aluminum composite oxide may be laminated, and the organic EL layers 31, 32, and 33 may be doped with a small amount of a metal such as Li or Ca having a low work function to obtain ITO or the like. A metal oxide may be stacked.

下部電極21には、光反射性に優れた導電性材料を用いることができる。陽極として用
いる場合、ニッケル、銀、金、白金、ロジウム、クロム或いはこれらの合金があげられる。陰極として用いる場合、Ag、Al、In、Mgなど、あるいはこれらの合金があげられる。
For the lower electrode 21, a conductive material having excellent light reflectivity can be used. When used as an anode, nickel, silver, gold, platinum, rhodium, chromium or an alloy thereof can be used. When used as a cathode, Ag, Al, In, Mg, etc., or alloys thereof can be used.

カラーフィルタを形成した基板11と有機EL層31,32,33および電極21,22を形成した基板12との貼り合せは封止材4を介して基板周囲に隙間が生じないように封止することにより行う。このとき、両基板間の雰囲気は有機EL層31,32,33の劣化を防ぐため、乾燥窒素などの不活性ガスとする。   The substrate 11 on which the color filter is formed and the substrate 12 on which the organic EL layers 31, 32, and 33 and the electrodes 21 and 22 are formed are sealed with a sealing material 4 so that no gap is generated around the substrate. By doing. At this time, the atmosphere between the substrates is an inert gas such as dry nitrogen in order to prevent the organic EL layers 31, 32, and 33 from deteriorating.

封止材4の材料としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂シリコーン樹脂などからなる光硬化型接着性樹脂、熱硬化型接着性樹脂、や、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変性物からなる熱可塑性接着性樹脂などを使用することができる。封止材4の形成方法としては、材料やパターンに応じて、スピンコート、スプレーコート、フレキソ、グラビア、マイクログラビア、凹版オフセットなどのコーティング法または印刷法や、インクジェット法、ラミネート法、転写法などを用いることができる。封止材4の厚みには特に制限はないが、なるべく薄い方が水分の透過量を少なくできるため、5〜50μm程度が好ましい。   Examples of the material of the sealing material 4 include a photo-curing adhesive resin made of an epoxy resin, an acrylic resin silicone resin, a thermosetting adhesive resin, and a thermoplastic adhesive resin made of an acid-modified product such as polyethylene or polypropylene. Etc. can be used. As a method of forming the sealing material 4, depending on the material and pattern, a coating method or a printing method such as spin coating, spray coating, flexography, gravure, micro gravure, intaglio offset, ink jet method, laminating method, transfer method, etc. Can be used. Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of the sealing material 4, Since the thinner one can reduce the permeation | transmission amount of a water | moisture content, about 5-50 micrometers is preferable.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが本発明はこれに限定されるものわけではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

<実施例1>
図1にしめすように、基板12として厚さ0.7mmのガラスを用い、基板上に下部電極21として、マスク蒸着法により、ストライプ状のクロム反射電極を200nmの厚みで形成した。第1正孔注入輸送層としてCuPcを10nm真空蒸着し、第2正孔注入輸送層としてα-NPDを50nmの厚さで真空蒸着した。
<Example 1>
As shown in FIG. 1, glass having a thickness of 0.7 mm was used as the substrate 12, and a striped chromium reflective electrode having a thickness of 200 nm was formed on the substrate as the lower electrode 21 by mask vapor deposition. CuPc was vacuum-deposited with a thickness of 10 nm as a first hole injection transport layer, and α-NPD was vacuum-deposited with a thickness of 50 nm as a second hole injection transport layer.

次に、赤色に発光させたいα−NPDが蒸着されたストライプ上に、マスク蒸着法により赤色発光層31として、Alq3とフェノキサゾン誘導体であるナイルレッドを蒸着速度比1000:1にて25nm蒸着し、さらに有機電子注入輸送層としてBeBq2を25nm蒸着した。   Next, Alq3 and Nile red, which is a phenoxazone derivative, are vapor-deposited at a deposition rate ratio of 1000: 1 as a red light-emitting layer 31 on the stripe on which α-NPD desired to emit red light is vapor-deposited. Further, BeBq2 was deposited by 25 nm as an organic electron injecting and transporting layer.

次に、赤色発光層が形成されていないα−NPD層が露出されたままのストライプパターンの内、緑色に発光させたいストライプ上に、マスク蒸着法により緑色有機発光層32としてAlq3とキナクリドンを蒸着速度比200:1で25nm蒸着し、さらに有機電子注入輸送層としてBeBq2を25nm蒸着した。   Next, Alq3 and quinacridone are vapor-deposited as a green organic light-emitting layer 32 by a mask vapor deposition method on the stripe pattern in which the α-NPD layer in which the red light-emitting layer is not formed is left exposed. Vapor deposition was performed at a speed ratio of 200: 1 to 25 nm, and BeBq2 was deposited to 25 nm as an organic electron injecting and transporting layer.

次に、赤色発光層および緑色発光層が形成されておらず、α−NPD層が露出されたままのストライプパターン上に、青色有機発光層33として4,4'−ビス(2,2'−ジフェニルビニル)ビフェニルと、化学式(1)で表されるキノロン誘導体を蒸着速度比50:1で共蒸着し、膜厚25nmとし、さらにその上に有機電子注入輸送層としてAlq3を25nm蒸着した。   Next, 4,4′-bis (2,2′-) is formed as the blue organic light emitting layer 33 on the stripe pattern in which the red light emitting layer and the green light emitting layer are not formed and the α-NPD layer is exposed. Diphenylvinyl) biphenyl and a quinolone derivative represented by the chemical formula (1) were co-deposited at a deposition rate ratio of 50: 1 to a film thickness of 25 nm, and further Alq3 was deposited as an organic electron injecting and transporting layer to the thickness of 25 nm.

Figure 2010117479
Figure 2010117479

前記のように赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色発光層、および電子注入輸送層を形成した後、各ストライプ上に上部電極22としてまず、Ca膜を厚み5nmで蒸着した後、ITOをスパッタリング法により1400Åの厚みで積層させた。Ca膜、およびI
TO膜はマスクを介して成膜することにより下部電極と直交するストライプ状とした。このようにして、R,G,B3色の発色が可能なマトリックス駆動型の有機EL表示素子を形成した。
After the red (R), green (G), and blue (B) light emitting layers and the electron injecting and transporting layer are formed as described above, a Ca film is first deposited as a top electrode 22 on each stripe with a thickness of 5 nm. After that, ITO was laminated to a thickness of 1400 mm by sputtering. Ca film and I
The TO film was formed into a stripe shape orthogonal to the lower electrode by forming it through a mask. In this way, a matrix drive type organic EL display element capable of developing R, G and B colors was formed.

続けて基板11として厚さ0.7mmのガラス基板上に、フォトリソグラフィー工程により、厚み1.25μmのブラックマトリクスパターンを形成した。その後、この基板にアクリル樹脂と顔料を混錬して成る赤色(R),緑色(G),青色(B)3色のカラーレジストにて、フォトリソグラフィー工程によりR,G,Bパタンを形成した。まず、赤色顔料分散レジストをスピンコートにより仕上がり膜厚保が1.8μmとなるように塗布した。減圧乾燥後、着色層形成用のストライプ状フォトマスクを通して高圧水銀灯の光を100mJ/cm2照射し、アルカリ現像液にて45秒現像して、ストライプ状の赤色画素を得た。その後、230℃で20分焼成した。 Subsequently, a black matrix pattern having a thickness of 1.25 μm was formed on the glass substrate having a thickness of 0.7 mm as the substrate 11 by a photolithography process. Thereafter, R, G, and B patterns were formed by a photolithography process using red (R), green (G), and blue (B) three color resists obtained by kneading acrylic resin and pigment on the substrate. . First, a red pigment dispersion resist was applied by spin coating so that the finished film thickness was 1.8 μm. After drying under reduced pressure, light from a high-pressure mercury lamp was irradiated through a striped photomask for forming a colored layer at 100 mJ / cm 2 and developed with an alkali developer for 45 seconds to obtain striped red pixels. Then, it baked at 230 degreeC for 20 minutes.

次に、緑色顔料分散レジストも同様にスピンコートにより仕上がり膜厚が1.8μmとなるように塗布した。減圧乾燥後、前述の赤色画素と隣接した位置にパターンが形成されるようにフォトマスクを通して露光し、現像することで緑色画素を得た。その後230℃で20分焼成した。さらに、赤色、緑色と全く同様にして青色顔料分散レジストについても仕上がり膜厚が1.8μmとなるように赤色、緑色画素と隣接した青色画素を得た。その後、230℃で20分焼成した。以上のようにして、ガラス基板上に赤、緑、青3色のストライプ状の着色画素で構成される着色層が得られた。   Next, the green pigment dispersion resist was similarly applied by spin coating so that the finished film thickness was 1.8 μm. After drying under reduced pressure, green pixels were obtained by exposing through a photomask and developing so that a pattern was formed adjacent to the red pixels. Thereafter, baking was performed at 230 ° C. for 20 minutes. Further, blue pixels adjacent to the red and green pixels were obtained in the same manner as red and green so that the blue pigment dispersion resist had a finished film thickness of 1.8 μm. Then, it baked at 230 degreeC for 20 minutes. As described above, a colored layer composed of striped colored pixels of three colors of red, green, and blue was obtained on the glass substrate.

続けて、アクリルモノマを含有する紫外線硬化性透明樹脂から構成されるオーバーコート材料(JSR社製 商品名NN815)を上述の着色層上に仕上がり膜厚が1.5μmになるようにスピンコートし、減圧乾燥後、90℃で90秒加熱した。その後、高圧水銀灯を光源とする光を100mJ/cm2照射した。その後、アルカリ現像液にて30秒間現像処理を行った後、230℃で40分焼成した。このようにしてカラーフィルタ基板を得た。 Subsequently, an overcoat material composed of an ultraviolet curable transparent resin containing an acrylic monomer (trade name NN815, manufactured by JSR Co., Ltd.) is spin-coated on the above colored layer so that the finished film thickness is 1.5 μm. After drying under reduced pressure, the mixture was heated at 90 ° C. for 90 seconds. Then, 100 mJ / cm 2 of light using a high pressure mercury lamp as a light source was irradiated. Then, after developing for 30 seconds with an alkali developer, baking was performed at 230 ° C. for 40 minutes. In this way, a color filter substrate was obtained.

続けて前記カラーフィルタが形成された基板11を、230℃のオーブン中で1.5時間焼成した後、上部電極22、有機EL層31,32,33、下部電極21の積層体がパターニングされた基板12と図1に示すように間に5μmの隙間を隔ててカラーフィルタの着色層とEL層が向き合うように貼り合せ、有機EL表示素子を形成した。ここで、両ガラス基板の端部はカチオンUV硬化型エポキシ樹脂(ナガセケムテックス製)を使用した。   Subsequently, the substrate 11 on which the color filter was formed was baked in an oven at 230 ° C. for 1.5 hours, and then the laminate of the upper electrode 22, the organic EL layers 31, 32, 33, and the lower electrode 21 was patterned. As shown in FIG. 1, the organic EL display element was formed by bonding the substrate 12 and the EL layer so that the colored layer and the EL layer face each other with a gap of 5 μm therebetween. Here, a cationic UV curable epoxy resin (manufactured by Nagase ChemteX) was used for the ends of both glass substrates.

このようにして得た有機EL表示素子の両電極間に電圧印加し、R,G,B各色を200cd/m2の輝度で点灯したところ、初期のダークスポットの発生数は0個であった。初期の欠陥は0であることを示す。 When voltage was applied between both electrodes of the organic EL display device thus obtained and each color of R, G, B was turned on with a luminance of 200 cd / m 2 , the number of initial dark spots was 0. . The initial defect is zero.

次に、前記有機EL表示素子に加速試験として、95℃の環境で50時間放置した後、再度200cd/m2の輝度で点灯したところダークスポットの発生数は0個であり、新たに発生したダークスポットはなかった。すなわち、新たな欠陥の発生はなかった。その後95℃での加熱時間が累積1000時間になるまで、50時間毎に、200cd/m2の輝度で点灯したところ、新たなダークスポットの発生はなかった。 Next, as an accelerated test on the organic EL display element, after being left in an environment of 95 ° C. for 50 hours and then turned on again at a luminance of 200 cd / m 2 , the number of dark spots generated was 0 and newly generated. There were no dark spots. That is, no new defect occurred. Thereafter, lighting was performed at a luminance of 200 cd / m 2 every 50 hours until the heating time at 95 ° C. reached 1000 hours, and no new dark spot was generated.

実施例1で230℃1.5時間の焼成処理を行ったのと同じカラーフィルタ基板を19mmx19mサイズに切り出し、RIGAKU TPD−TypeVにて3.0 x 10−6Paの圧力で240℃で30分間保持したときの脱水分量を測定したところ、検出された水分量は3.36μg/cm2であった。 Cut the same color filter substrate as was fired process 230 ° C. 1.5 hours in Example 1 19mmx19m size, 30 minutes at 240 ° C. at a pressure of 3.0 x 10- 6 Pa at RIGAKU TPD-TypeV When the amount of dehydrated water when it was held was measured, the amount of water detected was 3.36 μg / cm 2 .

<比較例1>
カラーフィルタ形成後の基板1の加熱処理を行わない以外は実施例1と同様の方法にて有機EL表示素子を形成した。
<Comparative Example 1>
An organic EL display element was formed in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment of the substrate 1 after forming the color filter was not performed.

このようにして得た有機EL表示素子を200cd/m2の輝度で点灯したところ、初期のダークスポットの発生数は0個であったが、95℃で50時間放置に点灯したところダークスポットが発生した。すなわち、新たに欠陥が発生した。その後、累積加熱時間が1000時間になるまで50時間毎に200cd/m2の輝度で点灯したところ、ダークスポットの発生数、面積に増大が見られた。 When the organic EL display device thus obtained was lit at a luminance of 200 cd / m 2 , the number of initial dark spots was 0, but when it was lit at 95 ° C. for 50 hours, dark spots were observed. Occurred. That is, a new defect has occurred. Thereafter, when the lamp was turned on at a luminance of 200 cd / m 2 every 50 hours until the cumulative heating time reached 1000 hours, the number of dark spots generated and the area increased.

<比較例1でのカラーフィルタ水分検出量>
比較例1で使用したのと同じ、オーバーコート層の形成まで行ったカラーフィルタを、実施例2と同じように、19mm x 19mmのサイズに切り出し、RIGAKU TPD−TypeVにて3.0 x 10-6Pa以下の圧力で240℃で30分間保持したときの脱水分量を測定したところ、検出された水分量は4.09μg/cm2であった。
<Color filter moisture detection amount in Comparative Example 1>
The same color filter used up to the formation of the overcoat layer as used in Comparative Example 1 was cut out to a size of 19 mm × 19 mm as in Example 2, and 3.0 × 10 at RIGAKU TPD-TypeV. When the amount of dehydration when measured at a pressure of 6 Pa or less at 240 ° C. for 30 minutes was measured, the amount of water detected was 4.09 μg / cm 2 .

Figure 2010117479
Figure 2010117479

表1に 実施例1及び比較例1を含むカラーフィルタの水分検出量とダークスポット発生数との関係を示した。   Table 1 shows the relationship between the amount of moisture detected by the color filters including Example 1 and Comparative Example 1 and the number of dark spots generated.

本発明に係る有機EL表示素子の説明図である。It is explanatory drawing of the organic EL display element which concerns on this invention. 本発明に係る有機EL表示素子の他の説明図である。It is another explanatory drawing of the organic EL display element concerning the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

11・・・カラーフィルタ用基板
12・・・有機EL用基板
21・・・有機EL層用下部電極
22・・・有機EL層用上部電極
31・・・赤色発光有機EL層
32・・・緑色発光有機EL層
33・・・青色発光有機EL層
4・・・・封止材
5・・・・カラーフィルタ層
51・・・赤色カラーフィルタ層
52・・・緑色カラーフィルタ層
53・・・青色カラーフィルタ層
6・・・・ブラックマトリックス層
7・・・・TFT(Thin Film Transistor)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Color filter substrate 12 ... Organic EL substrate 21 ... Organic EL layer lower electrode 22 ... Organic EL layer upper electrode 31 ... Red light emitting organic EL layer 32 ... Green Light-emitting organic EL layer 33 ... Blue light-emitting organic EL layer 4 ... Sealing material 5 ... Color filter layer 51 ... Red color filter layer 52 ... Green color filter layer 53 ... Blue Color filter layer 6 ... Black matrix layer 7 ... TFT (Thin Film Transistor)

Claims (5)

有機EL表示素子用カラーフィルタであって、基板上に少なくともブラックマトリックス層と、カラー層と、オーバーコート層とを形成して構成されるカラーフィルタであって、該カラー層が少なくとも赤色,緑色,青色の3色から成り、また、該オーバーコート層が透明な材料から成り、該カラーフィルタが、3.0x10-6Paの圧力にて、25℃から240℃に加熱して、240℃にて30分間保持したときに得られる水分量が3.5μg/cm2以下であることを特徴とする有機EL表示素子用カラーフィルタ。 A color filter for an organic EL display element, which is a color filter formed by forming at least a black matrix layer, a color layer, and an overcoat layer on a substrate, wherein the color layer is at least red, green, The overcoat layer is made of a transparent material, and the color filter is heated from 25 ° C. to 240 ° C. at a pressure of 3.0 × 10 −6 Pa at 240 ° C. A color filter for an organic EL display element, wherein the amount of water obtained when held for 30 minutes is 3.5 μg / cm 2 or less. 前記基板が、透明基板であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ。   2. The color filter according to claim 1, wherein the substrate is a transparent substrate. 前記カラー層が各色のカラーレジストをパターニングして形成されることを特徴とする請求項1または2に記載のカラーフィルタ。   The color filter according to claim 1, wherein the color layer is formed by patterning a color resist of each color. 前記オーバーコート層が、有機性高分子から成ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のカラーフィルタ。   The color filter according to claim 1, wherein the overcoat layer is made of an organic polymer. 請求項1〜4のいずれか1項に記載のカラーフィルタと、少なくとも有機EL層を基板上に形成した有機EL基板とを、前記カラー層の形成された面と前記有機EL層が形成された面とが対向して内側となるように貼り合わせてなる有機EL表示素子。   5. The color filter according to claim 1, the organic EL substrate having at least an organic EL layer formed on the substrate, the surface on which the color layer is formed, and the organic EL layer are formed. An organic EL display element that is bonded so that the surface faces the inside.
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