JP2010116595A - Device for supplying film-forming material - Google Patents

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Kaname Mizogami
要 溝上
Seiji Imanaka
誠二 今中
Yoshihisa Oe
良尚 大江
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for supplying a film-forming material of a film-forming apparatus having a simple structure, which can stably supply the film-forming material even when an amount of the material supplied from a hopper has changed. <P>SOLUTION: The device 40 for supplying the film-forming material has a material hopper 41, a material feeder 43 and a control board 48. The material hopper 41 supplies the film-forming material 22 which is stored inside the hopper to the material feeder 43. The material feeder 43 has a cylindrical body 43c which receives the film-forming material 22 from the material hopper 41 and has a helical groove 43e on its inner wall surface 43d; transports the film-forming material 22 in the cylindrical body 43c to the upper end part 46a of the material feeder 43 by rotating the helical groove 43e, and discharges the material to the outside of the material feeder 43. The control board 48 controls the amount of the film-forming material 22 to be discharged from the upper end part 46a of the material feeder 43. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、成膜装置用の成膜材料供給装置に関し、特にAC型プラズマディスプレイパネルの保護膜を成膜する成膜装置の成膜材料供給装置に関する。   The present invention relates to a film forming material supply apparatus for a film forming apparatus, and more particularly to a film forming material supply apparatus for a film forming apparatus for forming a protective film of an AC plasma display panel.

プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと呼ぶ)は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能、視野角が広い、大型化が容易である、自発光で表示品質が高いなどの理由から広く普及しつつある。   Plasma display panels (hereinafter referred to as PDPs) are becoming widespread for reasons such as high-speed display compared to liquid crystal panels, wide viewing angles, easy enlargement, and self-luminous and high display quality. is there.

AC型PDPは、前面側が透明な一対の基板を基板間に放電空間が形成されるように対向配置するとともに、放電空間を複数に仕切るための隔壁を基板に配置し、かつ隔壁により仕切られた放電空間で放電が発生するように基板に電極群を配置している。さらに、放電により発光する赤色、緑色、青色に発光する蛍光体を設けて複数の放電セルを構成している。放電によって発生する波長の短い真空紫外光によって蛍光体を励起し、赤色、緑色、青色の放電セルからそれぞれ赤色、緑色、青色の可視光を発することによりカラー表示を行っている。   In the AC type PDP, a pair of substrates whose front sides are transparent are arranged to face each other so that a discharge space is formed between the substrates, and a partition for partitioning the discharge space is arranged on the substrate, and is partitioned by the partition An electrode group is arranged on the substrate so that discharge occurs in the discharge space. Further, a plurality of discharge cells are configured by providing phosphors that emit red, green, and blue light that are emitted by discharge. The phosphor is excited by vacuum ultraviolet light having a short wavelength generated by discharge, and red, green, and blue discharge cells emit red, green, and blue visible light, respectively, to perform color display.

このような構造のPDPにおいては、基板の放電空間に露出する側が放電に晒され、イオン衝撃のスパッタリングにより表面状態が変化してしまうことを避けるために、基板の放電空間側に例えば酸化マグネシウム(MgO)材料による保護膜を形成している。このような保護膜の形成は、酸化マグネシウム(MgO)粒子などの成膜材料を電子ビームによって加熱して蒸発させる電子ビーム蒸着法により成膜する方法が一般的に用いられている。   In the PDP having such a structure, in order to prevent the surface exposed to the discharge space of the substrate from being exposed to the discharge and changing the surface state due to ion bombardment sputtering, for example, magnesium oxide ( A protective film made of a MgO material is formed. Such a protective film is generally formed by an electron beam evaporation method in which a film forming material such as magnesium oxide (MgO) particles is heated and evaporated by an electron beam.

このとき、成膜装置としての電子ビーム蒸着装置は、成膜室内に設けたハースに成膜材料を供給するための成膜材料供給装置を備え、ハース内の成膜材料に電子ビームを照射して成膜材料を蒸発させ、その蒸発ガスを移動する基板上に蒸着させることにより行われる。   At this time, the electron beam evaporation apparatus as a film forming apparatus includes a film forming material supply apparatus for supplying a film forming material to a hearth provided in the film forming chamber, and irradiates the film forming material in the hearth with an electron beam. Then, the film forming material is evaporated, and the evaporation gas is evaporated on the moving substrate.

これらのハースへの成膜材料の供給方法として、フィーダーからシューター上に供給された成膜材料を、シューター上を滑落させながらハースに投入する例が開示されている(例えば、特許文献1参照)。   As a method for supplying the film forming material to these hearts, an example in which the film forming material supplied from the feeder onto the shooter is thrown into the hearth while sliding down on the shooter is disclosed (for example, see Patent Document 1). .

また、複数段の材料ホッパーと回転円筒体のフィーダーとを用いて成膜材料をハースに安定的に供給する例が開示されている(例えば、特許文献2参照)。
特開2008−19473号公報 特開2006−45589号公報
In addition, an example in which a film forming material is stably supplied to the hearth using a multi-stage material hopper and a rotating cylindrical feeder is disclosed (for example, see Patent Document 2).
JP 2008-19473 A JP 2006-45589 A

上記のような構成の成膜材料供給装置において、フィーダーはハースに成膜材料を所定量供給するための定量供給装置としての役目を有する。   In the film forming material supply apparatus configured as described above, the feeder serves as a quantitative supply apparatus for supplying a predetermined amount of film forming material to the hearth.

PDPの保護膜を安定して成膜するためには、ハースへの成膜材料の投入を安定して行うことが要求される。すなわち、所定量の成膜材料がフィーダーから安定してシューターに供給され、シューター上を安定に滑落してハースの所定位置に安定して供給されることが重要となる。   In order to stably form the protective film of the PDP, it is required to stably input the film forming material into the hearth. That is, it is important that a predetermined amount of the film forming material is stably supplied from the feeder to the shooter, stably slides on the shooter and is stably supplied to a predetermined position of the hearth.

すなわち、ハースへの成膜材料の安定供給のためには、材料ホッパーからのフィーダーへの安定供給と、フィーダーからシューターへの安定供給と、シューターからハースへの安定供給の全てが実現されることが重要となる。   In other words, all of the stable supply from the material hopper to the feeder, the stable supply from the feeder to the shooter, and the stable supply from the shooter to the hearth are realized in order to stably supply the film forming material to the hearth. Is important.

材料ホッパーからフィーダーに急激に大量の成膜材料が供給されると、フィーダーからあふれた成膜材料が大量にシューターに供給され、シューター上で閉塞して流れなくなるブリッジ現象の発生や、大量にハースに供給されることによる蒸着レートの不安定現象の発生などを引き起こす。   When a large amount of film forming material is suddenly supplied from the material hopper to the feeder, a large amount of film forming material overflowing from the feeder is supplied to the shooter. Causes an unstable phenomenon of the deposition rate due to being supplied to the substrate.

特許文献2には、材料ホッパーを複数段設けてフィーダーに所定量の安定供給をする例が開示されているが、材料ホッパーの構成そのものが複雑になるといった課題を有している。   Patent Document 2 discloses an example in which a plurality of material hoppers are provided to stably supply a predetermined amount to a feeder, but has a problem that the configuration of the material hopper itself is complicated.

本発明はこのような課題を解決して、材料ホッパーからの材料供給が変化しても安定した成膜材料の供給が可能な成膜材料供給装置を簡単な構成で実現することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve such problems and to realize a film forming material supply apparatus that can supply a film forming material stably even if the material supply from the material hopper changes, with a simple configuration. .

上記の目的を達成するために、本発明の成膜材料供給装置は、材料ホッパーと、材料フィーダーと、排出制御部と、を備える成膜材料供給装置であって、材料ホッパーは、内部に収納した成膜材料を材料フィーダーに供給し、材料フィーダーは、材料ホッパーからの成膜材料を受け且つ内壁面に螺旋溝を有する円筒体を備え、螺旋溝を回転させることで円筒体内の成膜材料を、材料フィーダーの上端部にまで搬送の上、材料フィーダー外に排出し、排出制御部は、材料フィーダーの上端部から材料フィーダー外部に排出される成膜材料の排出量を制御している。   In order to achieve the above object, a film forming material supply apparatus of the present invention is a film forming material supply apparatus including a material hopper, a material feeder, and a discharge control unit, and the material hopper is accommodated therein. The film forming material is supplied to the material feeder, and the material feeder includes a cylindrical body that receives the film forming material from the material hopper and has a spiral groove on the inner wall surface, and rotates the spiral groove to form the film forming material in the cylinder. Is discharged to the outside of the material feeder after being transported to the upper end portion of the material feeder, and the discharge control unit controls the discharge amount of the film forming material discharged from the upper end portion of the material feeder to the outside of the material feeder.

このような構成によれば、円筒体から排出される成膜材料の排出を制御し、材料ホッパーから材料フィーダーへの過剰な供給があった場合でも、成膜装置への安定供給を実現することができる。   According to such a configuration, it is possible to control the discharge of the film forming material discharged from the cylindrical body and realize a stable supply to the film forming apparatus even when there is an excessive supply from the material hopper to the material feeder. Can do.

さらに、排出制御部が、材料フィーダーの上端部に設けた、所定の開口面積の開口部を有する制御板であることが望ましい。このような構成によれば、材料ホッパーから円筒体への成膜材料の供給が過剰になった場合でも、螺旋溝に搭載されて搬送される成膜材料のみを排出させて所定量の安定した供給を実現することができる。   Furthermore, it is desirable that the discharge control unit is a control plate having an opening with a predetermined opening area provided at the upper end of the material feeder. According to such a configuration, even when the supply of the film forming material from the material hopper to the cylindrical body becomes excessive, only a film forming material that is mounted and transported in the spiral groove is discharged, and a predetermined amount of stable is achieved. Supply can be realized.

さらに、排出制御部が、円筒体の螺旋溝の内周側に設けた仕切り板であることが望ましい。このような構成によれば、材料ホッパーから円筒体への成膜材料の供給が過多になった場合でも、螺旋溝への成膜材料の過多搭載を抑制して所定量の安定搬送を実現することができる。   Furthermore, it is desirable that the discharge control unit is a partition plate provided on the inner peripheral side of the spiral groove of the cylindrical body. According to such a configuration, even when the supply of the film forming material from the material hopper to the cylindrical body becomes excessive, the predetermined amount of stable conveyance is realized by suppressing the excessive loading of the film forming material into the spiral groove. be able to.

さらに、材料ホッパーは材料排出口を備え、仕切り板を材料排出口の下部より円筒体の内部まで延伸して設け、かつ、水平面内で材料排出口と排出部との間に位置させることが望ましい。このような構成によれば、円筒体の内部を材料ホッパーからの成膜材料の供給は受ける領域と、排出される側との領域とに分割し、排出される側では材料ホッパーからの成膜材料の供給の影響を受けずに、常に安定した排出を実現することができる。   Furthermore, the material hopper is preferably provided with a material discharge port, and a partition plate is provided extending from the lower part of the material discharge port to the inside of the cylindrical body, and is preferably positioned between the material discharge port and the discharge unit in a horizontal plane. . According to such a configuration, the inside of the cylindrical body is divided into a region that receives the supply of film forming material from the material hopper and a region that is discharged, and the film is formed from the material hopper on the discharged side. Stable discharge can always be realized without being affected by the supply of materials.

さらに、円筒体を水平面に対して傾斜させることが望ましい。このような構成によれば、円筒体内で確実に螺旋溝に成膜材料を搭載することができ、螺旋溝による成膜材料の搬送を確実に行うことができる。   Furthermore, it is desirable to incline the cylindrical body with respect to the horizontal plane. According to such a configuration, the film forming material can be reliably mounted in the spiral groove in the cylindrical body, and the film forming material can be reliably conveyed by the spiral groove.

以上のように本発明の成膜材料供給装置によれば、成膜材料を成膜室内に設けたハースに安定して供給することができる成膜材料供給装置を簡単な構成で実現することができ、良好な画像表示を行うPDPを実現できる。   As described above, according to the film formation material supply apparatus of the present invention, it is possible to realize a film formation material supply apparatus that can stably supply film formation material to the hearth provided in the film formation chamber with a simple configuration. And a PDP that performs good image display can be realized.

以下、本発明の一実施の形態における成膜材料供給装置について図面を用いて説明するが、本発明の実施の態様はこれに限定されるものではない。
(実施の形態1)
まず、PDPの構造について図1を用いて説明する。図1はAC型PDPの構造を示す斜視図である。図1に示すように、PDP1は前面ガラス基板3などよりなる前面板2と、背面ガラス基板11などよりなる背面板10とが対向して配置され、その外周部がガラスフリットなどからなる封着材によって気密封着されている。封着されたPDP1内部の放電空間16には、キセノン(Xe)とネオン(Ne)などの放電ガスが400Torr〜600Torrの圧力で封入されている。
Hereinafter, although the film-forming material supply apparatus in one embodiment of this invention is demonstrated using drawing, the embodiment of this invention is not limited to this.
(Embodiment 1)
First, the structure of the PDP will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a perspective view showing the structure of an AC type PDP. As shown in FIG. 1, the PDP 1 has a front plate 2 made of a front glass substrate 3 and a back plate 10 made of a rear glass substrate 11 facing each other, and its outer peripheral portion is made of a glass frit or the like. The material is hermetically sealed. A discharge gas such as xenon (Xe) and neon (Ne) is sealed in the sealed discharge space 16 inside the PDP 1 at a pressure of 400 Torr to 600 Torr.

前面板2の前面ガラス基板3上には、走査電極4および維持電極5よりなる一対の帯状の表示電極6とブラックストライプ(遮光層)7とが、互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板3上には表示電極6と遮光層7とを覆うように電荷を保持してコンデンサとしての働きをする誘電体層8が形成され、さらにその上に保護膜9が形成されている。   On the front glass substrate 3 of the front plate 2, a pair of strip-like display electrodes 6 made up of scanning electrodes 4 and sustain electrodes 5 and black stripes (light-shielding layers) 7 are arranged in a plurality of rows in parallel with each other. A dielectric layer 8 is formed on the front glass substrate 3 so as to cover the display electrodes 6 and the light-shielding layer 7 and retain a charge, thereby functioning as a capacitor. A protective film 9 is further formed thereon. .

また、背面板10の背面ガラス基板11上には、前面板2の走査電極4および維持電極5と直交する方向に、複数の帯状のアドレス電極12が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層13が被覆している。さらに、アドレス電極12間の下地誘電体層13上には放電空間16を区切る所定の高さの隔壁14が形成されている。隔壁14間の溝ごとに、紫外線によって赤色、緑色および青色にそれぞれ発光する蛍光体層15が順次塗布して形成されている。走査電極4および維持電極5とアドレス電極12とが交差する位置に放電空間16が形成され、表示電極6方向に並んだ赤色、緑色、青色の蛍光体層15を有する放電空間がカラー表示のための画素になる。   On the back glass substrate 11 of the back plate 10, a plurality of strip-like address electrodes 12 are arranged in parallel to each other in a direction orthogonal to the scanning electrodes 4 and the sustain electrodes 5 of the front plate 2. Layer 13 is covering. Further, a partition wall 14 having a predetermined height is formed on the base dielectric layer 13 between the address electrodes 12 to divide the discharge space 16. In each groove between the barrier ribs 14, a phosphor layer 15 that emits red, green, and blue light by ultraviolet light is sequentially applied and formed. A discharge space 16 is formed at a position where the scan electrode 4, the sustain electrode 5 and the address electrode 12 intersect, and the discharge space having the red, green and blue phosphor layers 15 arranged in the direction of the display electrode 6 is used for color display. It becomes the pixel of.

次に、保護膜9を形成するための成膜装置について説明する。   Next, a film forming apparatus for forming the protective film 9 will be described.

図2は本発明の実施の形態1における成膜材料供給装置を用いたPDPの保護膜を形成するための成膜装置の概略構成を示す断面図である。図3は本発明の実施の形態1における成膜材料供給装置40のうちの、材料ホッパーと材料フィーダーの構成の詳細を示す断面図であり、図4は同成膜材料供給装置40の制御板の構成の詳細を示す図であり、図4(a)は図3のA−A線断面図、図4(b)は図3のB−B線断面図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a film forming apparatus for forming a protective film of a PDP using the film forming material supply apparatus in Embodiment 1 of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view showing details of the configuration of the material hopper and the material feeder in the film forming material supply apparatus 40 according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 4 is a control plate of the film forming material supply apparatus 40. FIG. 4A is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 3, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 3.

成膜装置20は、成膜材料を電子ビームで加熱、溶融して蒸着する電子ビーム(EB)蒸着装置であり、真空槽である真空チャンバ21の内部に、成膜材料22を満たしたハース23が配置されている。真空チャンバ21の側壁には電子ビーム源24が設置され、電子ビーム源24から電子ビーム25をハース23上の成膜材料22に照射する。電子ビーム25の照射は、ハース23の側面に配置された電磁石(図示せず)を制御することによりその照射位置を制御できる。また、真空チャンバ21を真空排気するための排気ポンプ26や真空度を計測するための真空計27などが設けられている。   The film forming apparatus 20 is an electron beam (EB) vapor deposition apparatus that heats, melts, and deposits a film forming material with an electron beam, and a hearth 23 in which a film forming material 22 is filled in a vacuum chamber 21 that is a vacuum tank. Is arranged. An electron beam source 24 is installed on the side wall of the vacuum chamber 21, and the film forming material 22 on the hearth 23 is irradiated with the electron beam 25 from the electron beam source 24. The irradiation position of the electron beam 25 can be controlled by controlling an electromagnet (not shown) arranged on the side surface of the hearth 23. Further, an exhaust pump 26 for evacuating the vacuum chamber 21 and a vacuum gauge 27 for measuring the degree of vacuum are provided.

また、ハース23のほぼ上方には、PDP1の前面ガラス基板3上に表示電極6とブラックストライプ(遮光層)7、および誘電体層8が形成された前面板2が設置され、さらに、この前面板2の上方には成膜時に前面板2を加熱するための加熱ヒーター28が設置されている。そして、前面板2とハース23との間には、シャッター板29が設けられ、シャッター板29を回転させることにより成膜時以外のタイミングで蒸着粒子30が不用意に前面板2に付着するのを防止するようにしている。なお、前面板2に成膜された保護膜9の膜厚を膜厚モニタ31で随時計測するようにしている。   Near the hearth 23, a front plate 2 in which a display electrode 6, a black stripe (light shielding layer) 7 and a dielectric layer 8 are formed on the front glass substrate 3 of the PDP 1 is installed. A heater 28 for heating the front plate 2 during film formation is installed above the face plate 2. A shutter plate 29 is provided between the front plate 2 and the hearth 23. By rotating the shutter plate 29, the vapor deposition particles 30 are inadvertently attached to the front plate 2 at a timing other than during film formation. Try to prevent. The film thickness of the protective film 9 formed on the front plate 2 is measured by the film thickness monitor 31 as needed.

PDP1の保護膜9としては酸化マグネシウム(MgO)の薄膜が用いられる。そこで本発明の実施の形態1では、成膜材料22としては酸化マグネシウム(MgO)のペレットを用いている。   A thin film of magnesium oxide (MgO) is used as the protective film 9 of the PDP 1. Therefore, in Embodiment 1 of the present invention, pellets of magnesium oxide (MgO) are used as the film forming material 22.

ハース23の材料受け部23aに収容した成膜材料22に電子ビーム25を照射して、成膜材料22を蒸発させ、その蒸着粒子30を、前面板2の誘電体層8上に蒸着させることにより保護膜9の形成が行われる。   The film forming material 22 accommodated in the material receiving portion 23a of the hearth 23 is irradiated with an electron beam 25 to evaporate the film forming material 22, and the deposited particles 30 are deposited on the dielectric layer 8 of the front plate 2. Thus, the protective film 9 is formed.

また、図2に示すように、ハース23は回転軸32によって回転可能な構成となっており、ハース23において成膜材料22が供給される位置と、電子ビーム25が照射される位置とを異ならせるようにしている。   Further, as shown in FIG. 2, the hearth 23 is configured to be rotatable by a rotation shaft 32, and the position at which the film forming material 22 is supplied to the hearth 23 is different from the position at which the electron beam 25 is irradiated. I try to make it.

成膜装置20には、ハース23内の成膜材料22であるペレットが成膜に伴う加熱、蒸発により消費されるため、成膜材料22を補給するための成膜材料供給装置40が連結されている。成膜材料供給装置40は、材料ホッパー41と、材料ホッパー41の材料排出口42の直下に配置された材料フィーダー43と、材料フィーダー43の排出部44に連結されたシューター45とからなる。なお、材料ホッパー41、材料フィーダー43は、真空排気された真空槽チャンバ(図示せず)に設置され、成膜材料22である酸化マグネシウム(MgO)ペレットに吸着した水分を除去する作用とともに、成膜材料22を供給する際の真空チャンバ21内の真空度低下を最小限に抑える予備真空室を構成している。   The film forming apparatus 20 is connected with a film forming material supply apparatus 40 for replenishing the film forming material 22 because pellets as the film forming material 22 in the hearth 23 are consumed by heating and evaporation accompanying the film forming. ing. The film forming material supply device 40 includes a material hopper 41, a material feeder 43 disposed immediately below the material discharge port 42 of the material hopper 41, and a shooter 45 connected to the discharge portion 44 of the material feeder 43. The material hopper 41 and the material feeder 43 are installed in a vacuum chamber (not shown) that has been evacuated to remove moisture adsorbed on the magnesium oxide (MgO) pellets that are the film forming material 22, as well as the composition. A preliminary vacuum chamber that minimizes a decrease in the degree of vacuum in the vacuum chamber 21 when the film material 22 is supplied is configured.

また、成膜材料供給装置40の材料ホッパー41の材料排出口42には開閉弁42aが設けられ、開閉弁42aの開閉によって材料フィーダー43への成膜材料22の投入を制御している。また、図2に示すように、材料フィーダー43はその下部に駆動モータ43aを備え、駆動モータ43aの駆動軸43bが容器を構成する円筒体43cに連結されている。円筒体43cの内壁面43dには螺旋溝43eが形成されている。円筒体43cの回転によって、材料ホッパー41から材料フィーダー43の円筒体43cに投入された成膜材料22が、螺旋溝43eに搭載されて底部から上部に移送され、傾斜した円筒体43cの上端部46aに設けた排出部44からシューター45上に滑落するようにしている。   The material discharge port 42 of the material hopper 41 of the film forming material supply apparatus 40 is provided with an opening / closing valve 42a, and the opening / closing of the opening / closing valve 42a controls the input of the film forming material 22 into the material feeder 43. As shown in FIG. 2, the material feeder 43 includes a drive motor 43a at the lower portion thereof, and a drive shaft 43b of the drive motor 43a is connected to a cylindrical body 43c constituting the container. A spiral groove 43e is formed on the inner wall surface 43d of the cylindrical body 43c. Due to the rotation of the cylindrical body 43c, the film forming material 22 put into the cylindrical body 43c of the material feeder 43 from the material hopper 41 is mounted on the spiral groove 43e and transferred from the bottom to the top, and the upper end of the inclined cylindrical body 43c. It slides down on the shooter 45 from the discharge part 44 provided in 46a.

シューター45への成膜材料22の供給量、すなわちハース23への成膜材料22の供給量の制御は、駆動モータ43aの回転数などを制御することによって行うことができる。   The supply amount of the film forming material 22 to the shooter 45, that is, the supply amount of the film forming material 22 to the hearth 23 can be controlled by controlling the number of revolutions of the drive motor 43a.

次に、本発明の実施の形態1における成膜材料供給装置40の構成の詳細について図3、図4を用いて説明する。   Next, details of the configuration of the film forming material supply apparatus 40 according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS.

材料ホッパー41には、連続運転する期間に応じて、必要量の成膜材料22である酸化マグネシウム(MgO)ペレットが収納される。例えば、成膜装置20を所定期間連続運転する場合、その期間にハース23で消費される量に相当する成膜材料22を材料ホッパー41に収納しておく。材料ホッパー41の下部は漏斗状になっていて、材料排出口42に設けた開閉弁42aの開閉を制御して材料フィーダー43への成膜材料22の供給を制御し、円筒体43c内の成膜材料22の量がほぼ一定となるように制御している。   The material hopper 41 stores a required amount of magnesium oxide (MgO) pellets as the film forming material 22 according to the period of continuous operation. For example, when the film forming apparatus 20 is continuously operated for a predetermined period, the film forming material 22 corresponding to the amount consumed by the hearth 23 during that period is stored in the material hopper 41. The lower part of the material hopper 41 has a funnel shape, and controls the opening / closing of an on-off valve 42a provided at the material discharge port 42 to control the supply of the film forming material 22 to the material feeder 43, thereby forming a component in the cylindrical body 43c. The amount of the film material 22 is controlled to be almost constant.

材料フィーダー43には、内壁面43dに螺旋溝43eが形成された円筒体43cが設けられ、回転軸となる駆動軸43bによって駆動モータ43aに連結されている。また、円筒体43cは、図3に示すように水平面に対してθが50度〜60度の角度で傾斜するように配置されている。円筒体43cの外側には筐体43fが設けられ、傾斜した円筒体43cの上端部のうち最も位置の低い位置である上端部46aには、排出部44が筐体43fに固定されて設けられている。なお、排出部44は円筒体43cの回転を阻害せず、なおかつ、成膜材料22が外部に落下しない程度の隙間を有して配置されている。   The material feeder 43 is provided with a cylindrical body 43c in which a spiral groove 43e is formed on the inner wall surface 43d, and is connected to the drive motor 43a by a drive shaft 43b serving as a rotation shaft. Moreover, the cylindrical body 43c is arrange | positioned so that (theta) may incline at an angle of 50 to 60 degree | times with respect to a horizontal surface, as shown in FIG. A housing 43f is provided outside the cylindrical body 43c, and a discharge portion 44 is fixed to the housing 43f at an upper end portion 46a which is the lowest position among the upper ends of the inclined cylindrical body 43c. ing. The discharge portion 44 is disposed with a gap that does not hinder the rotation of the cylindrical body 43c and does not drop the film forming material 22 to the outside.

また、図3、図4(a)に示すように、本発明の実施の形態1では、排出制御部として、成膜材料22が通過する所定開口面積を有する開口部47を備えた制御板48が、成膜材料22が排出される上端部46aの筐体43fに設けられている。制御板48の開口部47は、螺旋溝43eのピッチと同等の高さH1の開口であり、制御板48は、上端部46aと反対側の上端部46bよりも高い位置までの高さを有するようにしている。また、図4(b)に示すように、制御板48は円筒体43cの外周に沿って円弧状に設けられている。また、図4(b)に示すように螺旋溝43eに搭載されて搬送された成膜材料22は、制御板48の開口部47から排出部44に落下する。そのため、制御板48の下流部の螺旋溝43eには成膜材料22が存在しない状態となる。   Further, as shown in FIGS. 3 and 4A, in the first embodiment of the present invention, a control plate 48 provided with an opening 47 having a predetermined opening area through which the film forming material 22 passes as the discharge control unit. Is provided in the housing 43f of the upper end 46a from which the film forming material 22 is discharged. The opening 47 of the control plate 48 is an opening having a height H1 equivalent to the pitch of the spiral grooves 43e, and the control plate 48 has a height up to a position higher than the upper end 46b opposite to the upper end 46a. I am doing so. Further, as shown in FIG. 4B, the control plate 48 is provided in an arc shape along the outer periphery of the cylindrical body 43c. Also, as shown in FIG. 4B, the film forming material 22 mounted and transported in the spiral groove 43 e falls from the opening 47 of the control plate 48 to the discharge unit 44. Therefore, the film forming material 22 does not exist in the spiral groove 43e in the downstream portion of the control plate 48.

次に、本発明の実施の形態1における成膜材料供給装置40を用いて成膜材料22をハース23に供給する場合について詳細に説明する。   Next, the case where the film-forming material 22 is supplied to the hearth 23 using the film-forming material supply apparatus 40 according to Embodiment 1 of the present invention will be described in detail.

材料ホッパー41の開閉弁42aを開放することにより、材料ホッパー41内の成膜材料22を所定量だけ円筒体43c内部に供給する。円筒体43cに供給された成膜材料22は、円筒体43cが水平面に対して傾斜してあるために、円筒体43c内の成膜材料22が少ない場合でも、円筒体43cの内壁面43dに設けられた螺旋溝43eに確実に成膜材料22を搭載することができるようにしている。   By opening the on-off valve 42a of the material hopper 41, a predetermined amount of the film forming material 22 in the material hopper 41 is supplied into the cylindrical body 43c. Since the cylindrical body 43c is inclined with respect to the horizontal plane, the film forming material 22 supplied to the cylindrical body 43c is applied to the inner wall surface 43d of the cylindrical body 43c even when the film forming material 22 in the cylindrical body 43c is small. The film forming material 22 can be surely mounted in the provided spiral groove 43e.

螺旋溝43eに搭載された成膜材料22は、駆動モータ43aによって円筒体43cが回転することにより、螺旋溝43eによって円筒体43cの上端部46aの方向に搬送される。上端部46aまで搬送された成膜材料22はその上端部46aから排出部44に落下する。排出部44に落下した成膜材料22は、排出部44に接続されたシューター45上を滑落し、ハース23の材料受け部23aに供給される。   The film forming material 22 mounted in the spiral groove 43e is conveyed in the direction of the upper end portion 46a of the cylindrical body 43c by the spiral groove 43e when the cylindrical body 43c is rotated by the drive motor 43a. The film forming material 22 conveyed to the upper end portion 46 a falls from the upper end portion 46 a to the discharge portion 44. The film forming material 22 dropped on the discharge unit 44 slides down on the shooter 45 connected to the discharge unit 44 and is supplied to the material receiving unit 23 a of the hearth 23.

図5は、材料ホッパー41から材料フィーダー43の円筒体43cに供給された成膜材料22の、円筒体43c内での貯留状態を示す模式図である。円筒体43c内に貯留される成膜材料22の境界を図5の一点鎖線で示している。図5に示すように、貯留される成膜材料22の境界線Cは、材料ホッパー41の材料排出口42の直下では少し盛り上げるが、全体としては水平線とほぼ同じになる。材料フィーダー43からの排出量が、材料ホッパー41からの供給量に比べて少なくなると、その境界線Dは円筒体43cの上端部46aと同じ位置まで上昇する。この状態になると、上端部46aから排出部44に落下する成膜材料22の排出量は、螺旋溝43eによって搬送される搬送量に、さらに境界線Dより溢れた成膜材料22が付加されて多くなり、排出量の制御が不能の状態となる。通常は、このような状態が発生しないように、材料フィーダー43からの排出量と、材料ホッパー41からの供給量を制御している。   FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a storage state of the film forming material 22 supplied from the material hopper 41 to the cylindrical body 43c of the material feeder 43 in the cylindrical body 43c. The boundary of the film forming material 22 stored in the cylindrical body 43c is indicated by a one-dot chain line in FIG. As shown in FIG. 5, the boundary line C of the deposited film forming material 22 is slightly raised just below the material discharge port 42 of the material hopper 41, but is almost the same as the horizontal line as a whole. When the discharge amount from the material feeder 43 becomes smaller than the supply amount from the material hopper 41, the boundary line D rises to the same position as the upper end portion 46a of the cylindrical body 43c. In this state, the amount of film forming material 22 falling from the upper end 46a to the discharge unit 44 is such that the film forming material 22 overflowing from the boundary line D is added to the transport amount transported by the spiral groove 43e. As a result, it becomes impossible to control the discharge amount. Usually, the discharge amount from the material feeder 43 and the supply amount from the material hopper 41 are controlled so that such a state does not occur.

一方、図5の境界線Dの状態で、材料ホッパー41から材料フィーダー43への材料投入が急激に増加すると、排出部44に大量に成膜材料22が落下する。このような状態では、大量の成膜材料22がシューター45に流入し、ハース23に大量に材料供給されて蒸着のレートが変わってしまうなどの課題を引き起こす。また、シューター45上に大量の成膜材料22が流入するために、滑落が追いつかずにシューター45上にブリッジ現象を発生し、ハース23に成膜材料22が供給されないなどの課題を引き起こす。   On the other hand, when the material input from the material hopper 41 to the material feeder 43 rapidly increases in the state of the boundary line D in FIG. 5, a large amount of the film forming material 22 falls on the discharge unit 44. In such a state, a large amount of the film forming material 22 flows into the shooter 45 and causes a problem such as a large amount of material being supplied to the hearth 23 to change the deposition rate. Further, since a large amount of the film forming material 22 flows on the shooter 45, the sliding phenomenon does not catch up and a bridging phenomenon occurs on the shooter 45, causing problems such as the film forming material 22 not being supplied to the hearth 23.

本発明の実施の形態1では、図3、図4に示すように、排出制御部として、成膜材料22が通過する所定開口面積を有する開口部47を備えた制御板48を、成膜材料22が排出される上端部46aの筐体43fに設けている。また、制御板48の開口部47は、図5に示す螺旋溝43eのピッチP1と同等の高さH1を有する開口であり、制御板48の高さは、上端部46aと反対側の上端部46bよりも高い位置までの高さを有するようにしている。このように、本発明の実施の形態1では、開口部47を有する制御板48によって、排出部44に落下する成膜材料22の排出量を制御するようにしている。   In the first embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 3 and 4, a control plate 48 having an opening 47 having a predetermined opening area through which the film forming material 22 passes is used as a film forming material. 22 is provided in the housing 43f of the upper end portion 46a from which it is discharged. Further, the opening 47 of the control plate 48 is an opening having a height H1 equivalent to the pitch P1 of the spiral groove 43e shown in FIG. 5, and the height of the control plate 48 is the upper end on the side opposite to the upper end 46a. It has a height up to a position higher than 46b. As described above, in the first embodiment of the present invention, the discharge amount of the film forming material 22 falling on the discharge portion 44 is controlled by the control plate 48 having the opening 47.

図6は、本発明の実施の形態1の成膜材料供給装置40において、材料ホッパー41から材料フィーダー43に大量に成膜材料22が供給された状態を示す図である。図6に示すように、材料ホッパー41から大量に材料フィーダー43に成膜材料22が供給されて、材料フィーダー43の上端部46aからあふれるような状態になったとしても、排出部44に落下する成膜材料22の排出量は、開口部47の開口面積によって制御される。また、このとき、少なくとも開口部47の高さH1を螺旋溝43eのピッチP1と同等にすることによって、螺旋溝43eに搭載されて搬送される成膜材料22のみが通過できるようにしているため、その排出量は螺旋溝43eの面積と回転速度とにのみ依存した排出量とすることができる。また、このとき、制御板48の高さを、上端部46aと反対側の上端部46bよりも高い位置までの高さとすれば、制御板48を乗り越えて排出部44に落下する虞を軽減することができる。
(実施の形態2)
図7は、本発明の実施の形態2における成膜材料供給装置50のうちの、材料ホッパー41と材料フィーダー52の構成の詳細を示す断面図である。また、図8は、図7におけるE−E線断面図である。本発明の実施の形態2における成膜材料供給装置50の基本構成は、実施の形態1と同様であり、同一構成要素には同一符号を付与している。
FIG. 6 is a diagram showing a state where a large amount of the film forming material 22 is supplied from the material hopper 41 to the material feeder 43 in the film forming material supply apparatus 40 according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, even when the film forming material 22 is supplied in large quantities from the material hopper 41 to the material feeder 43 and overflows from the upper end portion 46 a of the material feeder 43, it falls to the discharge portion 44. The discharge amount of the film forming material 22 is controlled by the opening area of the opening 47. At this time, at least the height H1 of the opening 47 is made equal to the pitch P1 of the spiral groove 43e so that only the film forming material 22 mounted and transported in the spiral groove 43e can pass therethrough. The discharge amount can be a discharge amount that depends only on the area of the spiral groove 43e and the rotational speed. At this time, if the height of the control plate 48 is set to a position higher than the upper end portion 46b on the side opposite to the upper end portion 46a, the possibility of falling over the control plate 48 and falling to the discharge portion 44 is reduced. be able to.
(Embodiment 2)
FIG. 7 is a cross-sectional view showing details of the configuration of the material hopper 41 and the material feeder 52 in the film forming material supply apparatus 50 according to Embodiment 2 of the present invention. 8 is a cross-sectional view taken along line EE in FIG. The basic configuration of the film forming material supply apparatus 50 in the second embodiment of the present invention is the same as that in the first embodiment, and the same reference numerals are given to the same components.

本発明の実施の形態2が実施の形態1と異なるのは、材料フィーダー43に設けた排出制御部の構成が異なる。すなわち、実施の形態1においては、排出制御部として制御板48を設けていたが、本発明の実施の形態2では、このような制御板48は設けず、図7に示すように、円筒体43cの螺旋溝43eの内周側に排出制御部として仕切り板53を設けている。   The second embodiment of the present invention differs from the first embodiment in the configuration of the discharge control unit provided in the material feeder 43. That is, in the first embodiment, the control plate 48 is provided as the discharge control unit. However, in the second embodiment of the present invention, such a control plate 48 is not provided, and as shown in FIG. A partition plate 53 is provided as a discharge controller on the inner peripheral side of the spiral groove 43e of 43c.

以下、図7および図8を用いて詳細に説明する。図7に示すように、仕切り板53は、材料ホッパー41の開閉弁42aが設けられた取付けフランジ54に固定され、円筒体43cの螺旋溝43eの内周側に円筒体43cの内部に延伸して設けられた板状部材である。このとき、内部に延伸して設けた仕切り板53の下端部53aが、円筒体43cが回転可能な間隙を有して螺旋溝43eに接する程度に延伸することが望ましい。   This will be described in detail below with reference to FIGS. As shown in FIG. 7, the partition plate 53 is fixed to the mounting flange 54 provided with the on-off valve 42a of the material hopper 41, and extends into the inside of the cylindrical body 43c on the inner peripheral side of the spiral groove 43e of the cylindrical body 43c. It is the plate-shaped member provided. At this time, it is desirable that the lower end portion 53a of the partition plate 53 provided to extend inside is extended to such an extent that the cylindrical body 43c is in contact with the spiral groove 43e with a rotatable gap.

また、この仕切り板53の配置位置は、図7および図8に示すように、水平面内で材料ホッパー41の材料排出口42と排出部44との間に位置させるようにしている。すなわち、図7に示すように、仕切り板53が、材料排出口42の右側で排出部44の左側に位置し、その下端部53aが円筒体43cの内部のできるだけ底部まで挿入されている。また、図8に示すように、仕切り板53は、所定の幅を有し、その側端部53b、53cが、円筒体43cの螺旋溝43eを構成する凸部55の内周端に近接するようにすることが望ましい。すなわち、排出制御部としての仕切り板53は、円筒体43cの内部を、材料ホッパー41から成膜材料22が供給される側と、材料ホッパー41からの成膜材料22の供給がない排出部44側とに仕切る役割をしている。   Further, as shown in FIGS. 7 and 8, the partition plate 53 is disposed between the material discharge port 42 and the discharge portion 44 of the material hopper 41 in the horizontal plane. That is, as shown in FIG. 7, the partition plate 53 is positioned on the right side of the material discharge port 42 on the left side of the discharge portion 44, and the lower end portion 53a thereof is inserted as far as possible into the inside of the cylindrical body 43c. As shown in FIG. 8, the partition plate 53 has a predetermined width, and its side end portions 53b and 53c are close to the inner peripheral end of the convex portion 55 constituting the spiral groove 43e of the cylindrical body 43c. It is desirable to do so. That is, the partition plate 53 serving as a discharge control unit includes a cylindrical body 43 c on the side where the film forming material 22 is supplied from the material hopper 41 and the discharge unit 44 where the film forming material 22 is not supplied from the material hopper 41. It plays the role of partitioning with the side.

次に、本発明の実施の形態2における成膜材料供給装置50を用いて成膜材料22を排出部44に供給する場合について詳細に説明する。   Next, the case where the film-forming material 22 is supplied to the discharge part 44 using the film-forming material supply apparatus 50 in Embodiment 2 of this invention is demonstrated in detail.

材料ホッパー41の開閉弁42aを開放することによって、円筒体43cに供給された成膜材料22が螺旋溝43eに搭載され、螺旋溝43eの回転によって排出部44まで搬送される工程は、実施の形態1と同様である。   By opening the on-off valve 42a of the material hopper 41, the film forming material 22 supplied to the cylindrical body 43c is mounted on the spiral groove 43e and conveyed to the discharge unit 44 by the rotation of the spiral groove 43e. This is the same as the first embodiment.

図9は、本発明の実施の形態2における成膜材料供給装置50において、材料ホッパー41から材料フィーダー43の円筒体43cに供給された成膜材料22の貯留状態を示す模式図である。前述のように、本発明の実施の形態2における仕切り板53は、円筒体43cの内部を、材料ホッパー41から成膜材料22の供給を受ける領域と、成膜材料22が排出される側との領域とに分割する役割をしている。   FIG. 9 is a schematic diagram showing a storage state of the film forming material 22 supplied from the material hopper 41 to the cylindrical body 43c of the material feeder 43 in the film forming material supply apparatus 50 according to the second embodiment of the present invention. As described above, the partition plate 53 according to the second embodiment of the present invention has the inside of the cylindrical body 43c, the region where the film forming material 22 is supplied from the material hopper 41, and the side on which the film forming material 22 is discharged. It has a role of dividing into areas.

そのため、図9に示すように、材料ホッパー41からの成膜材料22が供給される側である領域Fでは、貯留された成膜材料22によって境界線Gが形成される。しかしながら、材料ホッパー41からの成膜材料22の供給がない側である領域Hでは基本的には成膜材料22の貯留はなく、領域Hの成膜材料22は螺旋溝43e内に搭載されている成膜材料22だけとなる。   Therefore, as shown in FIG. 9, the boundary line G is formed by the stored film forming material 22 in the region F on the side where the film forming material 22 from the material hopper 41 is supplied. However, in the region H on the side where the film forming material 22 is not supplied from the material hopper 41, there is basically no storage of the film forming material 22, and the film forming material 22 in the region H is mounted in the spiral groove 43e. Only the film forming material 22 is present.

したがって、図7に示すように材料ホッパー41から材料フィーダー43への材料投入が急激減に増加して領域Fで成膜材料22があふれる状態になったとしても、領域H側には影響を与えず、排出部44には螺旋溝43eに搭載されて搬送された成膜材料22のみが落下することとなる。   Therefore, even if the material input from the material hopper 41 to the material feeder 43 increases rapidly as shown in FIG. 7 and the film forming material 22 overflows in the region F, the region H side is affected. Instead, only the film forming material 22 carried in the spiral groove 43e is dropped on the discharge portion 44.

このように、本発明の実施の形態2では、材料フィーダー43の円筒体43c内を仕切り板53によって区画することにより、排出部44に落下する成膜材料22の排出量を制御するようにしている。すなわち、材料ホッパー41から材料フィーダー43に大量に成膜材料22が供給されても、排出部44に落下する成膜材料22の排出量は、螺旋溝43eに搭載される量とその搬送速度である回転速度のみによって安定に制御することができる。   As described above, in the second embodiment of the present invention, the discharge amount of the film forming material 22 falling to the discharge portion 44 is controlled by partitioning the inside of the cylindrical body 43c of the material feeder 43 by the partition plate 53. Yes. That is, even if a large amount of the film forming material 22 is supplied from the material hopper 41 to the material feeder 43, the amount of the film forming material 22 that falls to the discharge unit 44 depends on the amount mounted in the spiral groove 43e and its transport speed. It can be stably controlled only by a certain rotational speed.

なお、仕切り板53の位置は、材料ホッパー41の材料排出口42と排出部44につながる上端部46aとの間にあればよいが、より排出部44側に近づけて設けることによって仕切り板53を簡単な構成とすることも可能である。   The partition plate 53 may be positioned between the material discharge port 42 of the material hopper 41 and the upper end portion 46a connected to the discharge portion 44. However, the partition plate 53 is provided closer to the discharge portion 44 side. A simple configuration is also possible.

また、上記の説明では、円筒体43cに挿入した仕切り板53が、円筒体43cが回転可能な程度の隙間で近接するようにしているが、隙間としては成膜材料22の流れ込みのない隙間であればよい。   In the above description, the partition plate 53 inserted into the cylindrical body 43c is brought close to the cylindrical body 43c so that the cylindrical body 43c can rotate. However, the gap is a gap where the film forming material 22 does not flow. I just need it.

以上のように、本発明の実施の形態における成膜材料供給装置によれば、簡単な構成で成膜装置への成膜材料供給を安定して行うことができる。   As described above, according to the film formation material supply apparatus in the embodiment of the present invention, the film formation material supply to the film formation apparatus can be stably performed with a simple configuration.

本発明による成膜材料供給装置によれば、成膜装置への成膜材料供給を安定して行うことが可能で、成膜装置の安定した連続運転が可能となり、広く薄膜成膜装置などに適用が可能である。   According to the film forming material supply apparatus of the present invention, the film forming material can be stably supplied to the film forming apparatus, and the film forming apparatus can be stably operated continuously. Applicable.

AC型PDPの構造を示す斜視図A perspective view showing the structure of an AC type PDP 本発明の実施の形態1における成膜材料供給装置を用いたPDPの保護膜を形成するための成膜装置の概略構成を示す断面図Sectional drawing which shows schematic structure of the film-forming apparatus for forming the protective film of PDP using the film-forming material supply apparatus in Embodiment 1 of this invention 本発明の実施の形態1における成膜材料供給装置のうちのホッパーとフィーダーの構成の詳細を示す断面図Sectional drawing which shows the detail of a structure of the hopper and feeder of the film-forming material supply apparatus in Embodiment 1 of this invention 同成膜材料供給装置の制御板の構成の詳細を示す図The figure which shows the detail of a structure of the control board of the film-forming material supply apparatus 本発明の実施の形態1における材料ホッパーからフィーダーの円筒体に供給された成膜材料の、円筒体内での貯留状態を示す模式図The schematic diagram which shows the storage state in the cylindrical body of the film-forming material supplied to the cylindrical body of the feeder from the material hopper in Embodiment 1 of this invention 本発明の実施の形態1の成膜材料供給装置において、材料ホッパーから材料フィーダーに大量に成膜材料が供給された状態を示す図The figure which shows the state in which the film-forming material was supplied in large quantities from the material hopper to the material feeder in the film-forming material supply apparatus of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2における成膜材料供給装置のうちのホッパーとフィーダーの構成の詳細を示す断面図Sectional drawing which shows the detail of a structure of the hopper and feeder of the film-forming material supply apparatus in Embodiment 2 of this invention 図7におけるE−E線断面図EE sectional view in FIG. 本発明の実施の形態2における材料ホッパーからフィーダーの円筒体に供給された成膜材料の貯留状態を示す模式図The schematic diagram which shows the storage state of the film-forming material supplied to the cylindrical body of the feeder from the material hopper in Embodiment 2 of this invention

符号の説明Explanation of symbols

1 PDP
2 前面板
3 前面ガラス基板
4 走査電極
5 維持電極
6 表示電極
7 ブラックストライプ(遮光層)
8 誘電体層
9 保護膜
10 背面板
11 背面ガラス基板
12 アドレス電極
13 下地誘電体層
14 隔壁
15 蛍光体層
16 放電空間
20 成膜装置
21 真空チャンバ
22 成膜材料
23 ハース
23a 材料受け部
24 電子ビーム源
25 電子ビーム
26 排気ポンプ
27 真空計
28 加熱ヒーター
29 シャッター板
30 蒸着粒子
31 膜厚モニタ
32 回転軸
40,50 成膜材料供給装置
41 材料ホッパー
42 材料排出口
43,52 材料フィーダー
43a 駆動モータ
43b 駆動軸
43c 円筒体
43d 内壁面
43e 螺旋溝
43f 筐体
44 排出部
45 シューター
46a,46b 上端部
47 開口部
48 制御板
53 仕切り板
53a 下端部
53b,53c 側端部
54 取付けフランジ
55 凸部
1 PDP
2 Front plate 3 Front glass substrate 4 Scan electrode 5 Sustain electrode 6 Display electrode 7 Black stripe (light shielding layer)
8 Dielectric layer 9 Protective film 10 Back plate 11 Back glass substrate 12 Address electrode 13 Base dielectric layer 14 Partition 15 Phosphor layer 16 Discharge space 20 Film forming apparatus 21 Vacuum chamber 22 Film forming material 23 Hearth 23a Material receiving part 24 Electron Beam source 25 Electron beam 26 Exhaust pump 27 Vacuum gauge 28 Heater 29 Shutter plate 30 Vapor deposition particle 31 Film thickness monitor 32 Rotating shaft 40, 50 Film forming material supply device 41 Material hopper 42 Material discharge port 43, 52 Material feeder 43a Drive motor 43b Drive shaft 43c Cylindrical body 43d Inner wall surface 43e Spiral groove 43f Case 44 Discharge portion 45 Shooter 46a, 46b Upper end portion 47 Opening portion 48 Control plate 53 Partition plate 53a Lower end portion 53b, 53c Side end portion 54 Mounting flange 55 Protruding portion

Claims (5)

材料ホッパーと、材料フィーダーと、排出制御部と、を備える成膜材料供給装置であって、
前記材料ホッパーは、内部に収納した成膜材料を前記材料フィーダーに供給し、
前記材料フィーダーは、前記材料ホッパーからの前記成膜材料を受け且つ内壁面に螺旋溝を有する円筒体を備え、前記螺旋溝を回転させることで前記円筒体内の前記成膜材料を、前記材料フィーダーの上端部にまで搬送の上、前記材料フィーダー外に排出し、
前記排出制御部は、前記材料フィーダーの前記上端部から前記材料フィーダー外部に排出される前記成膜材料の排出量を制御する、
ことを特徴とする成膜材料供給装置。
A film forming material supply apparatus comprising a material hopper, a material feeder, and a discharge control unit,
The material hopper supplies the film forming material accommodated therein to the material feeder,
The material feeder includes a cylindrical body that receives the film forming material from the material hopper and has a spiral groove on an inner wall surface, and rotates the spiral groove to transfer the film forming material in the cylindrical body to the material feeder. After conveying to the upper end of the material, discharge out of the material feeder,
The discharge control unit controls the discharge amount of the film forming material discharged from the upper end portion of the material feeder to the outside of the material feeder.
A film forming material supply apparatus characterized by the above.
前記排出制御部が、材料フィーダーの上端部に設けた、所定の開口面積の開口部を有する制御板であることを特徴とする請求項1に記載の成膜材料供給装置。 2. The film forming material supply apparatus according to claim 1, wherein the discharge control unit is a control plate having an opening with a predetermined opening area provided at an upper end of the material feeder. 前記排出制御部が、前記円筒体の前記螺旋溝の内周側に設けた仕切り板であることを特徴とする請求項1に記載の成膜材料供給装置。 The film forming material supply apparatus according to claim 1, wherein the discharge control unit is a partition plate provided on an inner peripheral side of the spiral groove of the cylindrical body. 前記材料ホッパーは材料排出口を備え、前記仕切り板を、前記材料排出口の下部より前記円筒体の内部まで延伸して設け、かつ、水平面内で前記材料排出口と前記上端部との間に位置させることを特徴とする請求項3に記載の成膜材料供給装置。 The material hopper includes a material discharge port, the partition plate is provided to extend from the lower part of the material discharge port to the inside of the cylindrical body, and between the material discharge port and the upper end portion in a horizontal plane. The film forming material supply apparatus according to claim 3, wherein the film forming material supply apparatus is positioned. 前記円筒体を水平面に対して傾斜させたことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の成膜材料供給装置。 The film forming material supply apparatus according to claim 1, wherein the cylindrical body is inclined with respect to a horizontal plane.
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