JP2010116595A - Device for supplying film-forming material - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、成膜装置用の成膜材料供給装置に関し、特にAC型プラズマディスプレイパネルの保護膜を成膜する成膜装置の成膜材料供給装置に関する。 The present invention relates to a film forming material supply apparatus for a film forming apparatus, and more particularly to a film forming material supply apparatus for a film forming apparatus for forming a protective film of an AC plasma display panel.
プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと呼ぶ)は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能、視野角が広い、大型化が容易である、自発光で表示品質が高いなどの理由から広く普及しつつある。 Plasma display panels (hereinafter referred to as PDPs) are becoming widespread for reasons such as high-speed display compared to liquid crystal panels, wide viewing angles, easy enlargement, and self-luminous and high display quality. is there.
AC型PDPは、前面側が透明な一対の基板を基板間に放電空間が形成されるように対向配置するとともに、放電空間を複数に仕切るための隔壁を基板に配置し、かつ隔壁により仕切られた放電空間で放電が発生するように基板に電極群を配置している。さらに、放電により発光する赤色、緑色、青色に発光する蛍光体を設けて複数の放電セルを構成している。放電によって発生する波長の短い真空紫外光によって蛍光体を励起し、赤色、緑色、青色の放電セルからそれぞれ赤色、緑色、青色の可視光を発することによりカラー表示を行っている。 In the AC type PDP, a pair of substrates whose front sides are transparent are arranged to face each other so that a discharge space is formed between the substrates, and a partition for partitioning the discharge space is arranged on the substrate, and is partitioned by the partition An electrode group is arranged on the substrate so that discharge occurs in the discharge space. Further, a plurality of discharge cells are configured by providing phosphors that emit red, green, and blue light that are emitted by discharge. The phosphor is excited by vacuum ultraviolet light having a short wavelength generated by discharge, and red, green, and blue discharge cells emit red, green, and blue visible light, respectively, to perform color display.
このような構造のPDPにおいては、基板の放電空間に露出する側が放電に晒され、イオン衝撃のスパッタリングにより表面状態が変化してしまうことを避けるために、基板の放電空間側に例えば酸化マグネシウム(MgO)材料による保護膜を形成している。このような保護膜の形成は、酸化マグネシウム(MgO)粒子などの成膜材料を電子ビームによって加熱して蒸発させる電子ビーム蒸着法により成膜する方法が一般的に用いられている。 In the PDP having such a structure, in order to prevent the surface exposed to the discharge space of the substrate from being exposed to the discharge and changing the surface state due to ion bombardment sputtering, for example, magnesium oxide ( A protective film made of a MgO material is formed. Such a protective film is generally formed by an electron beam evaporation method in which a film forming material such as magnesium oxide (MgO) particles is heated and evaporated by an electron beam.
このとき、成膜装置としての電子ビーム蒸着装置は、成膜室内に設けたハースに成膜材料を供給するための成膜材料供給装置を備え、ハース内の成膜材料に電子ビームを照射して成膜材料を蒸発させ、その蒸発ガスを移動する基板上に蒸着させることにより行われる。 At this time, the electron beam evaporation apparatus as a film forming apparatus includes a film forming material supply apparatus for supplying a film forming material to a hearth provided in the film forming chamber, and irradiates the film forming material in the hearth with an electron beam. Then, the film forming material is evaporated, and the evaporation gas is evaporated on the moving substrate.
これらのハースへの成膜材料の供給方法として、フィーダーからシューター上に供給された成膜材料を、シューター上を滑落させながらハースに投入する例が開示されている(例えば、特許文献1参照)。 As a method for supplying the film forming material to these hearts, an example in which the film forming material supplied from the feeder onto the shooter is thrown into the hearth while sliding down on the shooter is disclosed (for example, see Patent Document 1). .
また、複数段の材料ホッパーと回転円筒体のフィーダーとを用いて成膜材料をハースに安定的に供給する例が開示されている(例えば、特許文献2参照)。
上記のような構成の成膜材料供給装置において、フィーダーはハースに成膜材料を所定量供給するための定量供給装置としての役目を有する。 In the film forming material supply apparatus configured as described above, the feeder serves as a quantitative supply apparatus for supplying a predetermined amount of film forming material to the hearth.
PDPの保護膜を安定して成膜するためには、ハースへの成膜材料の投入を安定して行うことが要求される。すなわち、所定量の成膜材料がフィーダーから安定してシューターに供給され、シューター上を安定に滑落してハースの所定位置に安定して供給されることが重要となる。 In order to stably form the protective film of the PDP, it is required to stably input the film forming material into the hearth. That is, it is important that a predetermined amount of the film forming material is stably supplied from the feeder to the shooter, stably slides on the shooter and is stably supplied to a predetermined position of the hearth.
すなわち、ハースへの成膜材料の安定供給のためには、材料ホッパーからのフィーダーへの安定供給と、フィーダーからシューターへの安定供給と、シューターからハースへの安定供給の全てが実現されることが重要となる。 In other words, all of the stable supply from the material hopper to the feeder, the stable supply from the feeder to the shooter, and the stable supply from the shooter to the hearth are realized in order to stably supply the film forming material to the hearth. Is important.
材料ホッパーからフィーダーに急激に大量の成膜材料が供給されると、フィーダーからあふれた成膜材料が大量にシューターに供給され、シューター上で閉塞して流れなくなるブリッジ現象の発生や、大量にハースに供給されることによる蒸着レートの不安定現象の発生などを引き起こす。 When a large amount of film forming material is suddenly supplied from the material hopper to the feeder, a large amount of film forming material overflowing from the feeder is supplied to the shooter. Causes an unstable phenomenon of the deposition rate due to being supplied to the substrate.
特許文献2には、材料ホッパーを複数段設けてフィーダーに所定量の安定供給をする例が開示されているが、材料ホッパーの構成そのものが複雑になるといった課題を有している。
本発明はこのような課題を解決して、材料ホッパーからの材料供給が変化しても安定した成膜材料の供給が可能な成膜材料供給装置を簡単な構成で実現することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve such problems and to realize a film forming material supply apparatus that can supply a film forming material stably even if the material supply from the material hopper changes, with a simple configuration. .
上記の目的を達成するために、本発明の成膜材料供給装置は、材料ホッパーと、材料フィーダーと、排出制御部と、を備える成膜材料供給装置であって、材料ホッパーは、内部に収納した成膜材料を材料フィーダーに供給し、材料フィーダーは、材料ホッパーからの成膜材料を受け且つ内壁面に螺旋溝を有する円筒体を備え、螺旋溝を回転させることで円筒体内の成膜材料を、材料フィーダーの上端部にまで搬送の上、材料フィーダー外に排出し、排出制御部は、材料フィーダーの上端部から材料フィーダー外部に排出される成膜材料の排出量を制御している。 In order to achieve the above object, a film forming material supply apparatus of the present invention is a film forming material supply apparatus including a material hopper, a material feeder, and a discharge control unit, and the material hopper is accommodated therein. The film forming material is supplied to the material feeder, and the material feeder includes a cylindrical body that receives the film forming material from the material hopper and has a spiral groove on the inner wall surface, and rotates the spiral groove to form the film forming material in the cylinder. Is discharged to the outside of the material feeder after being transported to the upper end portion of the material feeder, and the discharge control unit controls the discharge amount of the film forming material discharged from the upper end portion of the material feeder to the outside of the material feeder.
このような構成によれば、円筒体から排出される成膜材料の排出を制御し、材料ホッパーから材料フィーダーへの過剰な供給があった場合でも、成膜装置への安定供給を実現することができる。 According to such a configuration, it is possible to control the discharge of the film forming material discharged from the cylindrical body and realize a stable supply to the film forming apparatus even when there is an excessive supply from the material hopper to the material feeder. Can do.
さらに、排出制御部が、材料フィーダーの上端部に設けた、所定の開口面積の開口部を有する制御板であることが望ましい。このような構成によれば、材料ホッパーから円筒体への成膜材料の供給が過剰になった場合でも、螺旋溝に搭載されて搬送される成膜材料のみを排出させて所定量の安定した供給を実現することができる。 Furthermore, it is desirable that the discharge control unit is a control plate having an opening with a predetermined opening area provided at the upper end of the material feeder. According to such a configuration, even when the supply of the film forming material from the material hopper to the cylindrical body becomes excessive, only a film forming material that is mounted and transported in the spiral groove is discharged, and a predetermined amount of stable is achieved. Supply can be realized.
さらに、排出制御部が、円筒体の螺旋溝の内周側に設けた仕切り板であることが望ましい。このような構成によれば、材料ホッパーから円筒体への成膜材料の供給が過多になった場合でも、螺旋溝への成膜材料の過多搭載を抑制して所定量の安定搬送を実現することができる。 Furthermore, it is desirable that the discharge control unit is a partition plate provided on the inner peripheral side of the spiral groove of the cylindrical body. According to such a configuration, even when the supply of the film forming material from the material hopper to the cylindrical body becomes excessive, the predetermined amount of stable conveyance is realized by suppressing the excessive loading of the film forming material into the spiral groove. be able to.
さらに、材料ホッパーは材料排出口を備え、仕切り板を材料排出口の下部より円筒体の内部まで延伸して設け、かつ、水平面内で材料排出口と排出部との間に位置させることが望ましい。このような構成によれば、円筒体の内部を材料ホッパーからの成膜材料の供給は受ける領域と、排出される側との領域とに分割し、排出される側では材料ホッパーからの成膜材料の供給の影響を受けずに、常に安定した排出を実現することができる。 Furthermore, the material hopper is preferably provided with a material discharge port, and a partition plate is provided extending from the lower part of the material discharge port to the inside of the cylindrical body, and is preferably positioned between the material discharge port and the discharge unit in a horizontal plane. . According to such a configuration, the inside of the cylindrical body is divided into a region that receives the supply of film forming material from the material hopper and a region that is discharged, and the film is formed from the material hopper on the discharged side. Stable discharge can always be realized without being affected by the supply of materials.
さらに、円筒体を水平面に対して傾斜させることが望ましい。このような構成によれば、円筒体内で確実に螺旋溝に成膜材料を搭載することができ、螺旋溝による成膜材料の搬送を確実に行うことができる。 Furthermore, it is desirable to incline the cylindrical body with respect to the horizontal plane. According to such a configuration, the film forming material can be reliably mounted in the spiral groove in the cylindrical body, and the film forming material can be reliably conveyed by the spiral groove.
以上のように本発明の成膜材料供給装置によれば、成膜材料を成膜室内に設けたハースに安定して供給することができる成膜材料供給装置を簡単な構成で実現することができ、良好な画像表示を行うPDPを実現できる。 As described above, according to the film formation material supply apparatus of the present invention, it is possible to realize a film formation material supply apparatus that can stably supply film formation material to the hearth provided in the film formation chamber with a simple configuration. And a PDP that performs good image display can be realized.
以下、本発明の一実施の形態における成膜材料供給装置について図面を用いて説明するが、本発明の実施の態様はこれに限定されるものではない。
(実施の形態1)
まず、PDPの構造について図1を用いて説明する。図1はAC型PDPの構造を示す斜視図である。図1に示すように、PDP1は前面ガラス基板3などよりなる前面板2と、背面ガラス基板11などよりなる背面板10とが対向して配置され、その外周部がガラスフリットなどからなる封着材によって気密封着されている。封着されたPDP1内部の放電空間16には、キセノン(Xe)とネオン(Ne)などの放電ガスが400Torr〜600Torrの圧力で封入されている。
Hereinafter, although the film-forming material supply apparatus in one embodiment of this invention is demonstrated using drawing, the embodiment of this invention is not limited to this.
(Embodiment 1)
First, the structure of the PDP will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a perspective view showing the structure of an AC type PDP. As shown in FIG. 1, the
前面板2の前面ガラス基板3上には、走査電極4および維持電極5よりなる一対の帯状の表示電極6とブラックストライプ(遮光層)7とが、互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板3上には表示電極6と遮光層7とを覆うように電荷を保持してコンデンサとしての働きをする誘電体層8が形成され、さらにその上に保護膜9が形成されている。
On the
また、背面板10の背面ガラス基板11上には、前面板2の走査電極4および維持電極5と直交する方向に、複数の帯状のアドレス電極12が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層13が被覆している。さらに、アドレス電極12間の下地誘電体層13上には放電空間16を区切る所定の高さの隔壁14が形成されている。隔壁14間の溝ごとに、紫外線によって赤色、緑色および青色にそれぞれ発光する蛍光体層15が順次塗布して形成されている。走査電極4および維持電極5とアドレス電極12とが交差する位置に放電空間16が形成され、表示電極6方向に並んだ赤色、緑色、青色の蛍光体層15を有する放電空間がカラー表示のための画素になる。
On the
次に、保護膜9を形成するための成膜装置について説明する。
Next, a film forming apparatus for forming the
図2は本発明の実施の形態1における成膜材料供給装置を用いたPDPの保護膜を形成するための成膜装置の概略構成を示す断面図である。図3は本発明の実施の形態1における成膜材料供給装置40のうちの、材料ホッパーと材料フィーダーの構成の詳細を示す断面図であり、図4は同成膜材料供給装置40の制御板の構成の詳細を示す図であり、図4(a)は図3のA−A線断面図、図4(b)は図3のB−B線断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a film forming apparatus for forming a protective film of a PDP using the film forming material supply apparatus in
成膜装置20は、成膜材料を電子ビームで加熱、溶融して蒸着する電子ビーム(EB)蒸着装置であり、真空槽である真空チャンバ21の内部に、成膜材料22を満たしたハース23が配置されている。真空チャンバ21の側壁には電子ビーム源24が設置され、電子ビーム源24から電子ビーム25をハース23上の成膜材料22に照射する。電子ビーム25の照射は、ハース23の側面に配置された電磁石(図示せず)を制御することによりその照射位置を制御できる。また、真空チャンバ21を真空排気するための排気ポンプ26や真空度を計測するための真空計27などが設けられている。
The
また、ハース23のほぼ上方には、PDP1の前面ガラス基板3上に表示電極6とブラックストライプ(遮光層)7、および誘電体層8が形成された前面板2が設置され、さらに、この前面板2の上方には成膜時に前面板2を加熱するための加熱ヒーター28が設置されている。そして、前面板2とハース23との間には、シャッター板29が設けられ、シャッター板29を回転させることにより成膜時以外のタイミングで蒸着粒子30が不用意に前面板2に付着するのを防止するようにしている。なお、前面板2に成膜された保護膜9の膜厚を膜厚モニタ31で随時計測するようにしている。
Near the
PDP1の保護膜9としては酸化マグネシウム(MgO)の薄膜が用いられる。そこで本発明の実施の形態1では、成膜材料22としては酸化マグネシウム(MgO)のペレットを用いている。
A thin film of magnesium oxide (MgO) is used as the
ハース23の材料受け部23aに収容した成膜材料22に電子ビーム25を照射して、成膜材料22を蒸発させ、その蒸着粒子30を、前面板2の誘電体層8上に蒸着させることにより保護膜9の形成が行われる。
The
また、図2に示すように、ハース23は回転軸32によって回転可能な構成となっており、ハース23において成膜材料22が供給される位置と、電子ビーム25が照射される位置とを異ならせるようにしている。
Further, as shown in FIG. 2, the
成膜装置20には、ハース23内の成膜材料22であるペレットが成膜に伴う加熱、蒸発により消費されるため、成膜材料22を補給するための成膜材料供給装置40が連結されている。成膜材料供給装置40は、材料ホッパー41と、材料ホッパー41の材料排出口42の直下に配置された材料フィーダー43と、材料フィーダー43の排出部44に連結されたシューター45とからなる。なお、材料ホッパー41、材料フィーダー43は、真空排気された真空槽チャンバ(図示せず)に設置され、成膜材料22である酸化マグネシウム(MgO)ペレットに吸着した水分を除去する作用とともに、成膜材料22を供給する際の真空チャンバ21内の真空度低下を最小限に抑える予備真空室を構成している。
The
また、成膜材料供給装置40の材料ホッパー41の材料排出口42には開閉弁42aが設けられ、開閉弁42aの開閉によって材料フィーダー43への成膜材料22の投入を制御している。また、図2に示すように、材料フィーダー43はその下部に駆動モータ43aを備え、駆動モータ43aの駆動軸43bが容器を構成する円筒体43cに連結されている。円筒体43cの内壁面43dには螺旋溝43eが形成されている。円筒体43cの回転によって、材料ホッパー41から材料フィーダー43の円筒体43cに投入された成膜材料22が、螺旋溝43eに搭載されて底部から上部に移送され、傾斜した円筒体43cの上端部46aに設けた排出部44からシューター45上に滑落するようにしている。
The
シューター45への成膜材料22の供給量、すなわちハース23への成膜材料22の供給量の制御は、駆動モータ43aの回転数などを制御することによって行うことができる。
The supply amount of the
次に、本発明の実施の形態1における成膜材料供給装置40の構成の詳細について図3、図4を用いて説明する。
Next, details of the configuration of the film forming
材料ホッパー41には、連続運転する期間に応じて、必要量の成膜材料22である酸化マグネシウム(MgO)ペレットが収納される。例えば、成膜装置20を所定期間連続運転する場合、その期間にハース23で消費される量に相当する成膜材料22を材料ホッパー41に収納しておく。材料ホッパー41の下部は漏斗状になっていて、材料排出口42に設けた開閉弁42aの開閉を制御して材料フィーダー43への成膜材料22の供給を制御し、円筒体43c内の成膜材料22の量がほぼ一定となるように制御している。
The
材料フィーダー43には、内壁面43dに螺旋溝43eが形成された円筒体43cが設けられ、回転軸となる駆動軸43bによって駆動モータ43aに連結されている。また、円筒体43cは、図3に示すように水平面に対してθが50度〜60度の角度で傾斜するように配置されている。円筒体43cの外側には筐体43fが設けられ、傾斜した円筒体43cの上端部のうち最も位置の低い位置である上端部46aには、排出部44が筐体43fに固定されて設けられている。なお、排出部44は円筒体43cの回転を阻害せず、なおかつ、成膜材料22が外部に落下しない程度の隙間を有して配置されている。
The
また、図3、図4(a)に示すように、本発明の実施の形態1では、排出制御部として、成膜材料22が通過する所定開口面積を有する開口部47を備えた制御板48が、成膜材料22が排出される上端部46aの筐体43fに設けられている。制御板48の開口部47は、螺旋溝43eのピッチと同等の高さH1の開口であり、制御板48は、上端部46aと反対側の上端部46bよりも高い位置までの高さを有するようにしている。また、図4(b)に示すように、制御板48は円筒体43cの外周に沿って円弧状に設けられている。また、図4(b)に示すように螺旋溝43eに搭載されて搬送された成膜材料22は、制御板48の開口部47から排出部44に落下する。そのため、制御板48の下流部の螺旋溝43eには成膜材料22が存在しない状態となる。
Further, as shown in FIGS. 3 and 4A, in the first embodiment of the present invention, a
次に、本発明の実施の形態1における成膜材料供給装置40を用いて成膜材料22をハース23に供給する場合について詳細に説明する。
Next, the case where the film-forming
材料ホッパー41の開閉弁42aを開放することにより、材料ホッパー41内の成膜材料22を所定量だけ円筒体43c内部に供給する。円筒体43cに供給された成膜材料22は、円筒体43cが水平面に対して傾斜してあるために、円筒体43c内の成膜材料22が少ない場合でも、円筒体43cの内壁面43dに設けられた螺旋溝43eに確実に成膜材料22を搭載することができるようにしている。
By opening the on-off
螺旋溝43eに搭載された成膜材料22は、駆動モータ43aによって円筒体43cが回転することにより、螺旋溝43eによって円筒体43cの上端部46aの方向に搬送される。上端部46aまで搬送された成膜材料22はその上端部46aから排出部44に落下する。排出部44に落下した成膜材料22は、排出部44に接続されたシューター45上を滑落し、ハース23の材料受け部23aに供給される。
The
図5は、材料ホッパー41から材料フィーダー43の円筒体43cに供給された成膜材料22の、円筒体43c内での貯留状態を示す模式図である。円筒体43c内に貯留される成膜材料22の境界を図5の一点鎖線で示している。図5に示すように、貯留される成膜材料22の境界線Cは、材料ホッパー41の材料排出口42の直下では少し盛り上げるが、全体としては水平線とほぼ同じになる。材料フィーダー43からの排出量が、材料ホッパー41からの供給量に比べて少なくなると、その境界線Dは円筒体43cの上端部46aと同じ位置まで上昇する。この状態になると、上端部46aから排出部44に落下する成膜材料22の排出量は、螺旋溝43eによって搬送される搬送量に、さらに境界線Dより溢れた成膜材料22が付加されて多くなり、排出量の制御が不能の状態となる。通常は、このような状態が発生しないように、材料フィーダー43からの排出量と、材料ホッパー41からの供給量を制御している。
FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a storage state of the
一方、図5の境界線Dの状態で、材料ホッパー41から材料フィーダー43への材料投入が急激に増加すると、排出部44に大量に成膜材料22が落下する。このような状態では、大量の成膜材料22がシューター45に流入し、ハース23に大量に材料供給されて蒸着のレートが変わってしまうなどの課題を引き起こす。また、シューター45上に大量の成膜材料22が流入するために、滑落が追いつかずにシューター45上にブリッジ現象を発生し、ハース23に成膜材料22が供給されないなどの課題を引き起こす。
On the other hand, when the material input from the
本発明の実施の形態1では、図3、図4に示すように、排出制御部として、成膜材料22が通過する所定開口面積を有する開口部47を備えた制御板48を、成膜材料22が排出される上端部46aの筐体43fに設けている。また、制御板48の開口部47は、図5に示す螺旋溝43eのピッチP1と同等の高さH1を有する開口であり、制御板48の高さは、上端部46aと反対側の上端部46bよりも高い位置までの高さを有するようにしている。このように、本発明の実施の形態1では、開口部47を有する制御板48によって、排出部44に落下する成膜材料22の排出量を制御するようにしている。
In the first embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 3 and 4, a
図6は、本発明の実施の形態1の成膜材料供給装置40において、材料ホッパー41から材料フィーダー43に大量に成膜材料22が供給された状態を示す図である。図6に示すように、材料ホッパー41から大量に材料フィーダー43に成膜材料22が供給されて、材料フィーダー43の上端部46aからあふれるような状態になったとしても、排出部44に落下する成膜材料22の排出量は、開口部47の開口面積によって制御される。また、このとき、少なくとも開口部47の高さH1を螺旋溝43eのピッチP1と同等にすることによって、螺旋溝43eに搭載されて搬送される成膜材料22のみが通過できるようにしているため、その排出量は螺旋溝43eの面積と回転速度とにのみ依存した排出量とすることができる。また、このとき、制御板48の高さを、上端部46aと反対側の上端部46bよりも高い位置までの高さとすれば、制御板48を乗り越えて排出部44に落下する虞を軽減することができる。
(実施の形態2)
図7は、本発明の実施の形態2における成膜材料供給装置50のうちの、材料ホッパー41と材料フィーダー52の構成の詳細を示す断面図である。また、図8は、図7におけるE−E線断面図である。本発明の実施の形態2における成膜材料供給装置50の基本構成は、実施の形態1と同様であり、同一構成要素には同一符号を付与している。
FIG. 6 is a diagram showing a state where a large amount of the
(Embodiment 2)
FIG. 7 is a cross-sectional view showing details of the configuration of the
本発明の実施の形態2が実施の形態1と異なるのは、材料フィーダー43に設けた排出制御部の構成が異なる。すなわち、実施の形態1においては、排出制御部として制御板48を設けていたが、本発明の実施の形態2では、このような制御板48は設けず、図7に示すように、円筒体43cの螺旋溝43eの内周側に排出制御部として仕切り板53を設けている。
The second embodiment of the present invention differs from the first embodiment in the configuration of the discharge control unit provided in the
以下、図7および図8を用いて詳細に説明する。図7に示すように、仕切り板53は、材料ホッパー41の開閉弁42aが設けられた取付けフランジ54に固定され、円筒体43cの螺旋溝43eの内周側に円筒体43cの内部に延伸して設けられた板状部材である。このとき、内部に延伸して設けた仕切り板53の下端部53aが、円筒体43cが回転可能な間隙を有して螺旋溝43eに接する程度に延伸することが望ましい。
This will be described in detail below with reference to FIGS. As shown in FIG. 7, the
また、この仕切り板53の配置位置は、図7および図8に示すように、水平面内で材料ホッパー41の材料排出口42と排出部44との間に位置させるようにしている。すなわち、図7に示すように、仕切り板53が、材料排出口42の右側で排出部44の左側に位置し、その下端部53aが円筒体43cの内部のできるだけ底部まで挿入されている。また、図8に示すように、仕切り板53は、所定の幅を有し、その側端部53b、53cが、円筒体43cの螺旋溝43eを構成する凸部55の内周端に近接するようにすることが望ましい。すなわち、排出制御部としての仕切り板53は、円筒体43cの内部を、材料ホッパー41から成膜材料22が供給される側と、材料ホッパー41からの成膜材料22の供給がない排出部44側とに仕切る役割をしている。
Further, as shown in FIGS. 7 and 8, the
次に、本発明の実施の形態2における成膜材料供給装置50を用いて成膜材料22を排出部44に供給する場合について詳細に説明する。
Next, the case where the film-forming
材料ホッパー41の開閉弁42aを開放することによって、円筒体43cに供給された成膜材料22が螺旋溝43eに搭載され、螺旋溝43eの回転によって排出部44まで搬送される工程は、実施の形態1と同様である。
By opening the on-off
図9は、本発明の実施の形態2における成膜材料供給装置50において、材料ホッパー41から材料フィーダー43の円筒体43cに供給された成膜材料22の貯留状態を示す模式図である。前述のように、本発明の実施の形態2における仕切り板53は、円筒体43cの内部を、材料ホッパー41から成膜材料22の供給を受ける領域と、成膜材料22が排出される側との領域とに分割する役割をしている。
FIG. 9 is a schematic diagram showing a storage state of the
そのため、図9に示すように、材料ホッパー41からの成膜材料22が供給される側である領域Fでは、貯留された成膜材料22によって境界線Gが形成される。しかしながら、材料ホッパー41からの成膜材料22の供給がない側である領域Hでは基本的には成膜材料22の貯留はなく、領域Hの成膜材料22は螺旋溝43e内に搭載されている成膜材料22だけとなる。
Therefore, as shown in FIG. 9, the boundary line G is formed by the stored
したがって、図7に示すように材料ホッパー41から材料フィーダー43への材料投入が急激減に増加して領域Fで成膜材料22があふれる状態になったとしても、領域H側には影響を与えず、排出部44には螺旋溝43eに搭載されて搬送された成膜材料22のみが落下することとなる。
Therefore, even if the material input from the
このように、本発明の実施の形態2では、材料フィーダー43の円筒体43c内を仕切り板53によって区画することにより、排出部44に落下する成膜材料22の排出量を制御するようにしている。すなわち、材料ホッパー41から材料フィーダー43に大量に成膜材料22が供給されても、排出部44に落下する成膜材料22の排出量は、螺旋溝43eに搭載される量とその搬送速度である回転速度のみによって安定に制御することができる。
As described above, in the second embodiment of the present invention, the discharge amount of the
なお、仕切り板53の位置は、材料ホッパー41の材料排出口42と排出部44につながる上端部46aとの間にあればよいが、より排出部44側に近づけて設けることによって仕切り板53を簡単な構成とすることも可能である。
The
また、上記の説明では、円筒体43cに挿入した仕切り板53が、円筒体43cが回転可能な程度の隙間で近接するようにしているが、隙間としては成膜材料22の流れ込みのない隙間であればよい。
In the above description, the
以上のように、本発明の実施の形態における成膜材料供給装置によれば、簡単な構成で成膜装置への成膜材料供給を安定して行うことができる。 As described above, according to the film formation material supply apparatus in the embodiment of the present invention, the film formation material supply to the film formation apparatus can be stably performed with a simple configuration.
本発明による成膜材料供給装置によれば、成膜装置への成膜材料供給を安定して行うことが可能で、成膜装置の安定した連続運転が可能となり、広く薄膜成膜装置などに適用が可能である。 According to the film forming material supply apparatus of the present invention, the film forming material can be stably supplied to the film forming apparatus, and the film forming apparatus can be stably operated continuously. Applicable.
1 PDP
2 前面板
3 前面ガラス基板
4 走査電極
5 維持電極
6 表示電極
7 ブラックストライプ(遮光層)
8 誘電体層
9 保護膜
10 背面板
11 背面ガラス基板
12 アドレス電極
13 下地誘電体層
14 隔壁
15 蛍光体層
16 放電空間
20 成膜装置
21 真空チャンバ
22 成膜材料
23 ハース
23a 材料受け部
24 電子ビーム源
25 電子ビーム
26 排気ポンプ
27 真空計
28 加熱ヒーター
29 シャッター板
30 蒸着粒子
31 膜厚モニタ
32 回転軸
40,50 成膜材料供給装置
41 材料ホッパー
42 材料排出口
43,52 材料フィーダー
43a 駆動モータ
43b 駆動軸
43c 円筒体
43d 内壁面
43e 螺旋溝
43f 筐体
44 排出部
45 シューター
46a,46b 上端部
47 開口部
48 制御板
53 仕切り板
53a 下端部
53b,53c 側端部
54 取付けフランジ
55 凸部
1 PDP
2
8
Claims (5)
前記材料ホッパーは、内部に収納した成膜材料を前記材料フィーダーに供給し、
前記材料フィーダーは、前記材料ホッパーからの前記成膜材料を受け且つ内壁面に螺旋溝を有する円筒体を備え、前記螺旋溝を回転させることで前記円筒体内の前記成膜材料を、前記材料フィーダーの上端部にまで搬送の上、前記材料フィーダー外に排出し、
前記排出制御部は、前記材料フィーダーの前記上端部から前記材料フィーダー外部に排出される前記成膜材料の排出量を制御する、
ことを特徴とする成膜材料供給装置。 A film forming material supply apparatus comprising a material hopper, a material feeder, and a discharge control unit,
The material hopper supplies the film forming material accommodated therein to the material feeder,
The material feeder includes a cylindrical body that receives the film forming material from the material hopper and has a spiral groove on an inner wall surface, and rotates the spiral groove to transfer the film forming material in the cylindrical body to the material feeder. After conveying to the upper end of the material, discharge out of the material feeder,
The discharge control unit controls the discharge amount of the film forming material discharged from the upper end portion of the material feeder to the outside of the material feeder.
A film forming material supply apparatus characterized by the above.
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---|---|---|---|---|
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-
2008
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