JP2010113051A - Passive matrix type display device for organic electroluminescence - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機EL用パッシブマトリックス型表示装置に関し、特に、パッシブマトリックス素子を構成する陽極線又は陰極線の配線構造に関する。 The present invention relates to a passive matrix display device for organic EL, and more particularly to a wiring structure of anode lines or cathode lines constituting a passive matrix element.
従来より、種々の有機EL用パッシブマトリックス型表示装置が提案されている。 Conventionally, various passive matrix display devices for organic EL have been proposed.
図5は、従来の一般的な有機EL用パッシブマトリックス型表示装置の平面図である。
図5に示すように、有機EL用パッシブマトリックス型表示装置21は、基板ガラス22とパッシブマトリックス素子23とから構成されている。基板ガラス22上には、パッシブマトリックス素子23が配置されており、パッシブマトリックス素子23上には、外気(湿気)と接触しないように封止ガラス24が接着剤等を使用して接着されている。
また、基板ガラス22上のパッシブマトリックス素子23の周辺領域(左右領域)には、長さW1の幅を有する配線領域25が設けられている。
FIG. 5 is a plan view of a conventional general organic EL passive matrix display device.
As shown in FIG. 5, the organic EL passive
A
パッシブマトリックス素子23は、m列の陽極ラインA1〜Amと、陽極ラインA1〜Amに交差するように配置されたn行の陰極ラインB1〜Bnと、陽極ラインA1〜Am及び陰極ラインB1〜Bnが接続されるドライバIC26とから構成されている。
陽極ラインA1〜Amは、ドライバIC26から基板ガラス22上の中央領域に向かって配線されている。一方、陰極ラインB1〜Bnは、陽極ラインA1〜Amと交差するとともに左右の配線領域25に分かれるように配線されている。また、基板ガラス22は、ドライバIC26に接続される引出線27を備えており、引出線27は、ドライバIC26に輝度信号を送るようになっている。
図6は、パッシブマトリックス素子23の構成をより詳細に示した図である。
図6に示すように、ドライバIC26は、カラムドライバ26aと、ロードライバ26bとを備えている。
陽極ラインA1〜Amは、カラムドライバ26aの各出力に接続しており、陰極ラインB1〜Bnは、ロードライバ26bの各出力に接続している。陽極ラインA1〜Amと陰極ラインB1〜Bnとは、交差するようにマトリックス状に配置されており、各陽極ラインA1〜Amが、各陰極ラインB1〜Bnに接続するようになっている。そして、各陽極ラインA1〜Amと陰極ラインB1〜Bnとの交差部分には、有機EL素子28が設けられており、この各有機EL素子28が、パッシブマトリックス素子23における1画素を担っている。
FIG. 6 is a diagram showing the configuration of the
As shown in FIG. 6, the driver IC 26 includes a
図6の構成では、ロードライバ26bに接続する陰極ラインB1〜Bnのうち1つの陰極ラインが低電位となることにより、引出線27(図5参照)から入力される輝度信号29に対応して、電流I1〜Imがカラムドライバ26aから有機EL素子28方向に流れ、有機EL素子28が点灯することになる。
そして、ロードライバ26bに接続する陰極ラインB1〜Bnが順番に低電位となることにより、パッシブマトリックス素子23が行単位で点灯し、これにより、所定の模様及び画像を表示することができる。
In the configuration of FIG. 6, one of the cathode lines B 1 to B n connected to the
Then, the cathode lines B 1 to B n connected to the
一方、特許文献1では、携帯電話やテレビ等に使用される液晶表示装置が開示されている。
特許文献1の液晶表示装置において、基板SUB1の上には、表示領域ARと駆動回路DRVとが設けられている。そして、基板SUB1上の表示領域ARの周辺領域には、走査信号線用の配線領域が設けられており、この配線領域には、走査信号線引出し配線GLP1,GLP2を絶縁膜を介して積層した多層配線構造が設けられている。
In the liquid crystal display device of
例えば、上述の図5の構成を携帯電話等に使用される大きなマトリックス(QVGA:240RGB×320行)に適用する場合、左右の配線領域25には陰極ラインが各160本配置されることになる。この場合、陰極ラインB1〜Bnの配線ピッチを0.05mmとすると、配線幅W1が8mmとかなり大きくなってしまう。ここで、有機EL用パッシブマトリックス型表示装置21を規定の幅W以下に収めるには、画像等が表示されるパッシブマトリックス素子23の領域を小さくするか、陰極ラインB1〜Bnの配線ピッチを小さくする必要がある。
しかしながら、パッシブマトリックス素子23の領域を小さくする場合、それに伴って携帯電話等で表示される画像が小さくなってしまうという問題がある。また、陰極ラインB1〜Bnの配線ピッチを小さくして配線領域25の幅W1を狭めた場合、配線抵抗が上昇し、駆動電圧及び消費電力が増加してしまうという問題がある。
For example, when the configuration of FIG. 5 described above is applied to a large matrix (QVGA: 240 RGB × 320 rows) used for a mobile phone or the like, 160 cathode lines are arranged in the left and
However, when the area of the
一方、上述の特許文献1の構成では、配線領域に走査信号線引出し配線GLP1,GLP2を積層した多層配線構造を設けているので、配線幅W1が大きくなることを防ぐことはできるが、多層配線構造を設けたことにより配線領域の高さが増加してしまうという問題がある。このように配線領域の高さが増加すると、装置全体として小型化を図ることが困難となる。
さらに、上述の特許文献1の構成では、各層の間の絶縁性を保持するために、走査信号線引出し配線GLP1,GLP2の間に絶縁膜を配置している。この場合、絶縁膜を走査信号線引出し配線GLP1,GLP2の高さよりも高くなるように形成しなければならず、配線領域の高さが大きくなってしまう。このように、配線領域の高さが大きくなると、基板と封止ガラスとの間の接着間隔が大きくなり、その結果、パッシブマトリックス素子の発光特性を劣化させる外気(湿気)が侵入するおそれがある。
On the other hand, in the configuration of
Further, in the configuration of the above-described
本発明はこのような実状に鑑みてなされたものであって、その目的は、基板ガラス上の画像領域の大きさを維持しつつ配線領域の小型化を可能とし、且つパッシブマトリックス素子に外気が侵入するのを防ぐことも可能な有機EL用パッシブマトリックス型表示装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to make it possible to reduce the size of the wiring area while maintaining the size of the image area on the substrate glass, and to allow the outside air to pass through the passive matrix element. It is to provide a passive matrix display device for organic EL that can also prevent intrusion.
上記従来技術の有する課題を解決するために、請求項1の本発明では、基板上のパッシブマトリックス素子の周辺領域に駆動用ICに接続される複数列の電極線の配線領域を設け、該配線領域に前記複数列の電極線を積層した多層配線構造を設けた有機EL用パッシブマトリックス表示装置において、前記多層配線構造における偶数層の各電極線が、奇数層の隣接する電極線の間に位置するように配置されている。
In order to solve the above-described problems of the prior art, in the present invention of
請求項2の本発明では、前記パッシブマトリックス素子が、2つのユニットに分割して構成され、前記駆動用ICが、2つ以上のドライバICを備えるとともに前記2つのユニットを分割駆動するように構成され、前記配線領域には、前記2つ以上のドライバIC間を接続する制御信号用配線及び電源用配線が設けられている。 According to the second aspect of the present invention, the passive matrix element is configured to be divided into two units, and the driving IC includes two or more driver ICs and is configured to drive the two units in a divided manner. In the wiring area, a control signal wiring and a power supply wiring for connecting the two or more driver ICs are provided.
請求項3の本発明では、前記配線領域の前記多層配線構造の上側には、前記制御信号用配線及び前記電源用配線を積層した積層構造が設けられ、該積層構造における偶数層の各配線が、奇数層の隣接する配線の間に位置するように配置されている。
In the present invention of
上述の如く、本発明に係る有機EL用パッシブマトリックス表示装置によれば、基板上のパッシブマトリックス素子の周辺領域に駆動用ICに接続される複数列の電極線の配線領域を設け、該配線領域に前記複数列の電極線を積層した多層配線構造を設けた有機EL用パッシブマトリックス表示装置において、前記多層配線構造における偶数層の各電極線が、奇数層の隣接する電極線の間に位置するように配置されているので、配線領域の幅が抑制されるだけでなく、配線領域における多層配線構造の高さも抑制されることになる。これにより、画像等が表示されるパッシブマトリックス素子の領域を維持しつつ、有機EL用パッシブマトリックス表示装置の小型化を実現することができる。
また、本発明に係る有機EL用パッシブマトリックス表示装置によれば、電極線間に配置する絶縁性材料を従来に比べて薄く形成しても電極線間の絶縁性を保持することができる。これにより、多層配線構造の高さが抑制されるので、基板と封止ガラスとの間の接着間隔が従来に比べて小さくなり、その結果、パッシブマトリックス素子の発光特性を劣化させる外気の侵入を防ぐことができる。
As described above, according to the passive matrix display device for organic EL according to the present invention, the wiring region of the electrode lines of a plurality of columns connected to the driving IC is provided in the peripheral region of the passive matrix element on the substrate, and the wiring region In the passive matrix display device for organic EL provided with a multilayer wiring structure in which the plurality of rows of electrode lines are stacked on each other, each even-numbered electrode line in the multilayer wiring structure is located between adjacent electrode lines in the odd-numbered layer Thus, not only the width of the wiring region is suppressed, but also the height of the multilayer wiring structure in the wiring region is suppressed. Thereby, size reduction of the passive matrix display device for organic EL is realizable, maintaining the area | region of the passive matrix element in which an image etc. are displayed.
In addition, according to the passive matrix display device for organic EL according to the present invention, the insulation between the electrode lines can be maintained even if the insulating material disposed between the electrode lines is formed thinner than the conventional one. As a result, the height of the multilayer wiring structure is suppressed, so that the bonding interval between the substrate and the sealing glass is smaller than the conventional one, and as a result, intrusion of outside air that deteriorates the light emission characteristics of the passive matrix element is prevented. Can be prevented.
さらに、本発明に係る有機EL用パッシブマトリックス表示装置によれば、前記パッシブマトリックス素子が、2つのユニットに分割して構成され、前記駆動用ICが、2つ以上のドライバICを備えるとともに前記2つのユニットを分割駆動するように構成され、前記配線領域には、前記2つ以上のドライバIC間を接続する制御信号用配線及び電源用配線が設けられているので、発光輝度を上げるためにパッシブマトリックス素子を2つのユニットに分割した場合でも、配線領域における多層配線構造の幅及び高さが抑制されることになる。これにより、画像等が表示されるパッシブマトリックス素子の領域を維持しつつ、有機EL用パッシブマトリックス表示装置の小型化を実現することができる。 Further, according to the passive matrix display device for organic EL according to the present invention, the passive matrix element is divided into two units, and the driving IC includes two or more driver ICs and the 2 The unit is configured to divide and drive, and the wiring region is provided with a control signal wiring and a power supply wiring for connecting the two or more driver ICs. Even when the matrix element is divided into two units, the width and height of the multilayer wiring structure in the wiring region are suppressed. Thereby, size reduction of the passive matrix display device for organic EL is realizable, maintaining the area | region of the passive matrix element in which an image etc. are displayed.
また、本発明に係る有機EL用パッシブマトリックス表示装置によれば、前記配線領域の前記多層配線構造の上側には、前記制御信号用配線及び前記電源用配線を積層した積層構造が設けられ、該積層構造における偶数層の各配線が、奇数層の隣接する配線の間に位置するように配置されているので、制御信号用配線及び電源用配線を配線領域に配置した場合でも、配線領域の幅及び高さが抑制されることになり、有機EL用パッシブマトリックス表示装置の更なる小型化を実現することができる。
さらに、制御信号用配線及び電源用配線を多層配線構造の上側に積層した場合でも積層構造の高さが抑制されるので、基板と封止ガラスとの間の接着間隔が従来に比べて小さくなり、その結果、パッシブマトリックス素子の発光特性を劣化させる外気の侵入を防ぐことができる。
Further, according to the passive matrix display device for organic EL according to the present invention, a laminated structure in which the control signal wiring and the power supply wiring are laminated is provided above the multilayer wiring structure in the wiring region, Since each wiring of the even layer in the laminated structure is arranged so as to be positioned between the adjacent wirings of the odd layer, the width of the wiring region even when the control signal wiring and the power supply wiring are arranged in the wiring region. Further, the height is suppressed, and further downsizing of the passive matrix display device for organic EL can be realized.
Furthermore, even when the control signal wiring and power supply wiring are stacked on the upper side of the multilayer wiring structure, the height of the stacked structure is suppressed, so that the bonding interval between the substrate and the sealing glass becomes smaller than the conventional one. As a result, it is possible to prevent intrusion of outside air that deteriorates the light emission characteristics of the passive matrix element.
以下、本発明に係る有機EL用パッシブマトリックス表示装置を、図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, a passive matrix display device for organic EL according to the present invention will be described with reference to the drawings.
[第1の実施形態]
図1は、本発明の第1の実施形態に係る有機EL用パッシブマトリックス表示装置の平面図である。
図1に示すように、有機EL用パッシブマトリックス型表示装置1は、基板ガラス2とパッシブマトリックス素子3とから構成されている。
基板ガラス2上には、パッシブマトリックス素子3が配置されており、パッシブマトリックス素子3上には、外気と接触しないように封止ガラス4が接着剤等を使用して接着されている。また、基板ガラス2上のパッシブマトリックス素子3の周辺領域(左右領域)には、長さW1の幅を有する配線領域5a,5bが設けられている。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a plan view of a passive matrix display device for organic EL according to a first embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the organic EL passive
A
図1に示すように、パッシブマトリックス素子3は、m列の陽極ラインA1〜Amと、陽極ラインA1〜Amに交差するように配置されたn行の陰極ラインB1〜Bnと、陽極ラインA1〜Am及び陰極ラインB1〜Bnが接続されるドライバIC6とから構成されている。
ドライバIC6は、基板ガラス2の長手方向の端部近傍に配置されており、陽極ラインA1〜Amは、ドライバIC6から基板ガラス2上の中央領域に向かって配線されている。
As shown in FIG. 1, the
Driver IC6, the longitudinal end portion is disposed near the anode line A 1 to A m of the
一方、陰極ラインB1〜Bnは、陽極ラインA1〜Amと交差するとともに左右の配線領域5a,5bに分かれるように配線されている。そして、陰極ラインB1〜Bnは、配線領域5a,5bにおいて基板ガラス2の長手方向に延在し、配線領域5a,5bを通ってドライバIC6に接続している。なお、本実施形態では、陰極ラインB1〜Bnは、320本からなり、左右の配線領域5a,5bには、陰極ラインが各160本配置されている。また、基板ガラス2は、ドライバIC6に接続される引出線7を備えており、引出線7は、ドライバIC6に輝度信号を送るようになっている。
On the other hand, the
また、本実施形態のパッシブマトリックス素子3は、上述した図6の構成と同様の構成となっている。
以上の構成から、本実施形態における有機EL用パッシブマトリックス型表示装置1では、ドライバIC6に接続する陰極ラインB1〜Bnが順番に低電位となることにより、引出線7から入力される輝度信号に対応した電流が陽極ラインA1〜Amを通って有機EL素子へ向かって流れ(図6参照)、これにより、所定の模様及び画像を表示するようになっている。
Further, the
From the above configuration, in the organic EL passive
図2は、図1におけるA−A線断面図であり、配線領域5bに4層の多層配線構造8を設けた例を示している。なお、上述したように、本実施形態では、配線領域5bには160本の陰極ラインが配置されているが、図2では構成を分かり易くするために一部分のみ示している。
図2に示すように、本実施形態において、右側の配線領域5bには、複数列の陰極ラインB2,B4,・・・,Bnを積層した多層配線構造8が設けられている。
基板ガラス2上の配線領域5bには、複数の陰極ライン(例えば、B2,B4,・・・,Bnのうち40本)からなる第1の陰極層9aが形成されている。ここで、第1の陰極層9aの陰極ラインは、基板ガラス2上にAl等の低抵抗金属をスパッタリングで成膜した後にパターニングすることにより形成されている。
そして、第1の陰極層9a上には、第1の絶縁膜10aが第1の陰極層9aの陰極ラインより厚みが薄くなるように形成されている。なお、本実施形態では、第1の絶縁膜10aは、例えば、レジスト等の樹脂性の材料で形成されている。
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 1, and shows an example in which a four-layer
As shown in FIG. 2, in the present embodiment, on the right side of the
In the
A first insulating
また、図2に示すように、第1の絶縁膜10a上には、複数の陰極ライン(例えば、B2,B4,・・・,Bnのうち40本)からなる第2の陰極層9bが形成されている。ここで、第2の陰極層9bの各陰極ラインは、第1の陰極層9aの隣接する陰極ラインの間に位置するように配置されている。
そして、第2の陰極層9b上には、第2の絶縁膜10bが第2の陰極層9bの陰極ラインより厚みが薄くなるように形成されている。ここで、第2の絶縁膜10bは、第1の絶縁膜10aと同様の材料で形成され、表面が平坦になるように形成されている。
As shown in FIG. 2, a second cathode layer comprising a plurality of cathode lines (for example, 40 of B 2 , B 4 ,..., B n ) is formed on the first insulating
A second
図2に示すように、第2の絶縁膜10b上には、複数の陰極ライン(例えば、B2,B4,・・・,Bnのうち40本)からなる第3の陰極層9cが形成されている。そして、第3の陰極層9c上には、第3の絶縁膜10cが第3の陰極層9cの陰極ラインより厚みが薄くなるように形成されている。ここで、第3の絶縁膜10cは、第1の絶縁膜10aと同様の材料で形成されている。
また、第3の絶縁膜10c上には、複数の陰極ライン(例えば、B2,B4,・・・,Bnのうち40本)からなる第4の陰極層9dが形成されている。ここで、第4の陰極層9dの各陰極ラインは、第3の陰極層9cの隣接する陰極ラインの間に位置するように配置されている。そして、第4の陰極層9d上には、第4の絶縁膜10dが第4の陰極層9dより厚みが薄くなるように形成されている。ここで、第4の絶縁膜10dは、第1の絶縁膜10aと同様の材料で形成され、表面が平坦になるように形成されている。
As shown in FIG. 2, a
Further, a
このように、第1の実施形態に係る有機EL用パッシブマトリックス型表示装置1によれば、多層配線構造8における偶数層(第2の陰極層9b、第4の陰極層9d)の各陰極ラインが、奇数層(第1の陰極層9a、第3の陰極層9c)の隣接する陰極ラインの間に位置するように配置されているので、配線領域5a,5bの幅W1を抑制するだけでなく、配線領域5a,5bにおける多層配線構造8の高さを抑制することができる。例えば、本実施形態のような4層の多層配線構造8の場合では、従来では高さが約8mmであったが、約2mmにまで抑えることができる。これにより、画像等が表示されるパッシブマトリックス素子3の領域を維持しつつ、有機EL用パッシブマトリックス表示装置1の小型化を実現することができる。
As described above, according to the organic EL passive
さらに、例えば、従来の特許文献1の構成では、多層配線構造における各層の陰極ライン間の絶縁性を保持するためには、陰極ラインの高さ以上の厚みで絶縁膜を形成する必要があったが、本実施形態では、多層配線構造8における偶数層(第2の陰極層9b、第4の陰極層9d)の各陰極ラインを奇数層(第1の陰極層9a、第3の陰極層9c)の隣接する陰極ラインの間に位置するように配置することにより、各陰極層9a,9b,9c,9dの間に形成される絶縁膜10a,10b,10c,10dの厚みを従来に比べて薄く形成しても絶縁性を保持することができる。これにより、多層配線構造8の高さが抑制されるので、基板ガラス2と封止ガラス4との間の接着間隔が従来に比べて小さくなり、その結果、パッシブマトリックス素子3の発光特性を劣化させる外気が侵入しにくくなる。
Further, for example, in the configuration of the
[第2の実施形態]
次に、図3を用いて、本発明の第2の実施形態に係る有機EL用パッシブマトリックス型表示装置1を説明する。
図3は、本発明の第2の実施形態に係る有機EL用パッシブマトリックス表示装置1の平面図である。なお、前述した第1の実施形態で説明したものと同様の部材については、同一の符号を付して重複する説明は省略する。
[Second Embodiment]
Next, a passive
FIG. 3 is a plan view of the organic EL passive
図3に示すように、本実施形態において、パッシブマトリックス素子3は、発光輝度を上げるために2つのユニット3a,3bに分割して構成されている。ユニット3aは、基板ガラス2の長手方向の端部近傍に配置されており、一方、ユニット3bは、ユニット3aの反対側の端部近傍に配置されている。
As shown in FIG. 3, in this embodiment, the
第1のユニット3aは、240(RGB)列の第1の陽極ラインA1〜A240と、第1の陽極ラインA1〜A240に交差するように配置された160行の第1の陰極ラインB1〜B160と、第1の陽極ラインA1〜A240及び第1の陰極ラインB1〜B160が接続される第1のドライバIC6aとから構成されている。
第1の陰極ラインB1〜B160は、第1の陽極ラインA1〜A240と交差するとともに左右の配線領域5a,5bに分かれるように配線されている。そして、第1の陰極ラインB1〜B160は、配線領域5a,5bにおいて基板ガラス2の長手方向に延在し、配線領域5a,5bを通って第1のドライバIC6aに接続している。なお、本実施形態では、左右の配線領域5a,5bには、第1の陰極ラインB1〜B160が各80本配置されている。
The
The first cathode lines B 1 to B 160 are wired so as to intersect the first anode lines A 1 to A 240 and to be divided into left and
また、第2のユニット3bは、240(RGB)列の第2の陽極ラインC1〜C240と、第2の陽極ラインC1〜C240に交差するように配置された160行の第2の陰極ラインD1〜D160と、第2の陽極ラインC1〜C240及び第2の陰極ラインD1〜D160が接続される第2のドライバIC6bとから構成されている。
第2の陰極ラインD1〜D160は、第2の陽極ラインC1〜C240と交差するとともに左右の配線領域5a,5bに分かれるように配線されている。そして、第2の陰極ラインD1〜D160は、配線領域5a,5bにおいて基板ガラス2の長手方向に延在し、配線領域5a,5bを通って第2のドライバIC6bに接続している。なお、本実施形態では、左右の配線領域5a,5bには、第2の陰極ラインD1〜D160が各80本配置されている。
以上の構成から、本実施形態では、パッシブマトリックス素子3における2つのユニット3a,3bが2つのドライバIC6a,6bにより分割駆動されるようになっている。
In addition, the
The second cathode lines D 1 to D 160 are wired so as to intersect the second anode lines C 1 to C 240 and to be divided into left and
From the above configuration, in this embodiment, the two
図4は、図3におけるB−B線断面図であり、配線領域5bに多層配線構造を設けた例を示している。なお、上述したように、本実施形態では、配線領域5bには80本の第2の陰極ラインD1〜D160が配置されているが、図4では構成を分かり易くするために一部分のみ示している。
図4に示すように、本実施形態において、右側の配線領域5bには、複数列の陰極ラインD2,D4,・・・,D160を積層した多層配線構造8が設けられている。なお、この多層配線構造8の構成は、上述の第1の実施形態と同様である。
そして、配線領域5bの多層配線構造8の上側には、2つのユニット3a,3b間を接続する制御信号用配線(例えば、2つのユニット3a,3b間の連動信号用配線、あるいはデータバス等)11及び電源用配線12を積層した積層構造13が設けられている。
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 3 and shows an example in which a multilayer wiring structure is provided in the
As shown in FIG. 4, in the present embodiment, a
Further, on the upper side of the
多層配線構造8の上側には、制御信号用配線11からなる第1の配線層14aが形成されている。そして、第1の配線層14a上には、第1の絶縁層15aが第1の配線層14aより厚みが薄くなるように形成されている。
また、図4に示すように、第1の絶縁層15a上には、電源用配線12からなる第2の配線層14bが形成されている。ここで、第2の配線層14bの各電源用配線12は、第1の配線層14aの隣接する制御信号用配線11の間に位置するように配置されている。そして、第2の配線層14b上には、第2の絶縁層15bが第2の配線層14bより厚みが薄くなるように形成され、表面が平坦になるように形成されている。
なお、上述の第1及び第2の絶縁層15a,15bは、例えば、レジスト等の樹脂性の材料で形成されている。
On the upper side of the
Further, as shown in FIG. 4, a
Note that the first and second insulating
このように、第2の実施形態に係る有機EL用パッシブマトリックス型表示装置1によれば、パッシブマトリックス素子3が、2つのユニット3a,3bに分割して構成され、2つのドライバIC6a,6bが、2つのユニット3a,3bを分割駆動するように構成され、配線領域5a,5bの多層配線構造8の上側には、制御信号用配線11及び電源用配線12を積層した積層構造13が設けられ、積層構造13における偶数層(第2の配線層14b)の各電源用配線12が、奇数層(第1の配線層14a)の隣接する制御信号用配線11の間に位置するように配置されているので、制御信号用配線11及び電源用配線12を配線領域5a,5bに配置した場合でも、配線領域5a,5bの幅W1及び高さを抑制することができる。これにより、画像等が表示されるパッシブマトリックス素子3の領域を維持しつつ、有機EL用パッシブマトリックス表示装置1の小型化を実現することができる。
Thus, according to the passive
さらに、制御信号用配線11及び電源用配線12を多層配線構造8の上側に積層した場合でも積層構造13の高さが抑制されるので、基板ガラス2と封止ガラス4との間の接着間隔が小さくなり、その結果、従来に比べてパッシブマトリックス素子3の発光特性を劣化させる外気の侵入を防ぐことができる。
Further, even when the
以上、本発明の実施の形態につき述べたが、本発明は既述の実施形態に限定されるものでなく、本発明の技術的思想に基づいて各種の変形及び変更が可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and changes can be made based on the technical idea of the present invention.
例えば、パッシブマトリックス素子の構成がQVGAの240×320RGBの場合においては、配線領域に陽極ラインを配線し、陽極ラインを上述の実施形態のように多層配線構造とすることができる。これにより、有機EL用パッシブマトリックス型表示装置を小型化するとともに、パッシブマトリックス素子の発光特性を劣化させる外気の侵入を防ぐことができる。 For example, when the passive matrix device has a configuration of 240 × 320 RGB of QVGA, an anode line can be wired in the wiring region, and the anode line can have a multilayer wiring structure as in the above-described embodiment. As a result, the passive matrix display device for organic EL can be miniaturized, and intrusion of outside air that degrades the light emission characteristics of the passive matrix element can be prevented.
1 有機EL用パッシブマトリックス型表示装置
2 基板ガラス
3 パッシブマトリックス素子
4 封止ガラス
5a,5b 配線領域
6 ドライバIC
7 引出線
8 多層配線構造
9a,9b,9c,9d 陰極層
10a,10b,10c,10d 絶縁膜
11 制御信号用配線
12 電源用配線
13 積層構造
14a,14b 配線層
15a,15b 絶縁層
A,C 陽極ライン
B,D 陰極ライン
DESCRIPTION OF
7
Claims (3)
前記多層配線構造における偶数層の各電極線が、奇数層の隣接する電極線の間に位置するように配置されている有機EL用パッシブマトリックス型表示装置。 For organic EL in which a wiring region of a plurality of rows of electrode lines connected to a driving IC is provided in a peripheral region of a passive matrix element on a substrate, and a multilayer wiring structure in which the plurality of rows of electrode wires are stacked in the wiring region In passive matrix display devices,
A passive matrix display device for organic EL, wherein each of the even-numbered electrode lines in the multilayer wiring structure is disposed between adjacent electrode lines of the odd-numbered layer.
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