JP2010108038A - Touch panel, manufacturing method thereof, and touch panel display device - Google Patents

Touch panel, manufacturing method thereof, and touch panel display device Download PDF

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Shinji Sekiguchi
慎司 関口
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To form a highly transparent touch panel, and to achieve high repair property by using the physical property of silicon gel or silicon rubber. <P>SOLUTION: This touch panel includes: a first substrate on which a plurality of first signal lines and a plurality of second signal lines crossing the first signal lines are formed; and a second substrate arranged at the touch face side of the first substrate, wherein an impact-resistant adhesive layer is formed by hardening liquid adhesive composition, and the first substrate and the second substrate are arranged so as to be opposed to each other through the impact-resistant adhesive layer, and the impact-resistant adhesive layer is formed of silicon gel. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明はタッチパネル及びその製造方法並びにタッチパネル表示装置に係わり、特に、静電容量結合方式のタッチパネルに関するものである。   The present invention relates to a touch panel, a manufacturing method thereof, and a touch panel display device, and more particularly to a capacitively coupled touch panel.

タッチパネルは、指やペン等でタッチ(押圧)することによって、コンピュータ等の情報処理装置に対話形式で情報を入力する装置である。また、タッチパネルは、その動作原理によって、抵抗膜方式、静電容量結合方式、赤外線方式、超音波方式及び電磁誘導結合方式等に分類される。その中でも、低コストで搭載可能な抵抗膜方式及び静電容量結合方式のタッチパネルが近年よく利用されている。   A touch panel is a device that inputs information interactively to an information processing device such as a computer by touching (pressing) with a finger, a pen, or the like. The touch panel is classified into a resistance film method, a capacitive coupling method, an infrared method, an ultrasonic method, an electromagnetic induction coupling method, and the like according to the operation principle. Among them, resistive film type and capacitive coupling type touch panels that can be mounted at low cost are often used in recent years.

抵抗膜方式のタッチパネルは、例えば、互いに対向配置された一対のガラス基板と、それら一対のガラス基板の間に挟持された絶縁性スペーサと、各ガラス基板の内側の全面に抵抗膜として設けられた透明導電膜と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。そして、そのタッチパネルは、液晶表示装置等のディスプレイ画面の前面に装着して使用される。このような構成の抵抗膜方式のタッチパネルでは、ディスプレイ画面の前面をタッチすることにより、各抵抗膜同士が接触(短絡)して、各抵抗膜間に電流が流れる。このときの電圧の変化をタッチ位置検知回路によって検知することにより、タッチされた位置が検出される。しかしながら、抵抗膜方式のタッチパネルは、一対の抵抗膜が空気層を挟んで対向配置しているので、その空気層によって屈折率の差が大きくなり、光透過率が低下してしまうという欠点を有している。また、物理的な変形を伴う検出のため、耐久性(寿命)が低いという欠点も有している。   The resistive film type touch panel, for example, is provided as a resistive film on the entire inner surface of each glass substrate, a pair of glass substrates arranged opposite to each other, an insulating spacer sandwiched between the pair of glass substrates It is composed of a transparent conductive film and a touch position detection circuit. The touch panel is used by being mounted on the front surface of a display screen such as a liquid crystal display device. In the resistive film type touch panel having such a configuration, when the front surface of the display screen is touched, the resistive films come into contact with each other (short circuit), and current flows between the resistive films. The touched position is detected by detecting the voltage change at this time by the touch position detection circuit. However, a resistive film type touch panel has a drawback that a pair of resistive films are arranged opposite to each other with an air layer interposed therebetween, so that a difference in refractive index is increased by the air layer and light transmittance is decreased. is doing. In addition, it has a drawback that durability (life) is low because of detection accompanied by physical deformation.

次に静電容量結合方式のタッチパネルについて説明する。   Next, a capacitive coupling type touch panel will be described.

図1は一般的な静電容量結合方式のタッチパネルを有するタッチパネル表示装置の断面模式図であり、図2は一般的な静電容量結合方式のタッチパネルを有するタッチパネル表示装置の斜視図である。このタッチパネル表示装置1は、液晶パネル17と、該液晶パネル17の図中下側に偏光板8及び拡散シート9を介して設けられたバックライトモジュール14と、液晶パネル17の図中上側に偏光板2を介して設けられたタッチパネル18とを有している。このタッチパネル18は、液晶パネル17側に位置検出用透明電極41を有し、両面テープ等の接着層15によって液晶パネル17に固定されている。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a touch panel display device having a general capacitive coupling type touch panel, and FIG. 2 is a perspective view of the touch panel display device having a general capacitive coupling type touch panel. The touch panel display device 1 includes a liquid crystal panel 17, a backlight module 14 provided on the lower side of the liquid crystal panel 17 through the polarizing plate 8 and the diffusion sheet 9, and a polarization on the upper side of the liquid crystal panel 17 in the figure. And a touch panel 18 provided via the plate 2. The touch panel 18 has a transparent electrode 41 for position detection on the liquid crystal panel 17 side, and is fixed to the liquid crystal panel 17 by an adhesive layer 15 such as a double-sided tape.

タッチパネル18は、ガラス基板40と、そのガラス基板40の全面に設けられた位置検出用透明電極41と、該位置検出用透明電極41の周縁部に一定のピッチで設けられた位置検出用電極41と、タッチ位置を検出するための位置検出回路とにより構成されている。該タッチパネル18では、ディスプレイ画面の前面すなわち光透過性の基板42の表面をタッチすることにより、位置検出用透明電極41はタッチされた点で人体の静電容量を介して接地されるため、各位置検出用電極41と接地点との間の抵抗値に変化が生じる。この変化をタッチ位置検出回路で検出することにより、タッチされた位置が検出される構成となっている。なお、図1の構成において、液晶パネル17は液晶5と該液晶5を介して対向配置されるカラーフィルタ基板12とTFT基板13とから構成される。TFT基板13はバックライトモジュール14側から偏光板8、TFT基板用ガラス7、及びTFT素子層6が順に積層された構成となっている。カラーフィルタ基板12は液晶5側からカラーフィルタ(RGB)層4、カラーフィルタ基板用ガラス3、及び偏光板2が順に積層された構成となっている。   The touch panel 18 includes a glass substrate 40, a position detection transparent electrode 41 provided on the entire surface of the glass substrate 40, and a position detection electrode 41 provided at a constant pitch on the periphery of the position detection transparent electrode 41. And a position detection circuit for detecting the touch position. In the touch panel 18, by touching the front surface of the display screen, that is, the surface of the light-transmitting substrate 42, the position detection transparent electrode 41 is grounded via the capacitance of the human body at the touched point. A change occurs in the resistance value between the position detection electrode 41 and the grounding point. By detecting this change by the touch position detection circuit, the touched position is detected. In the configuration of FIG. 1, the liquid crystal panel 17 includes a liquid crystal 5, a color filter substrate 12 and a TFT substrate 13 that are arranged to face each other with the liquid crystal 5 interposed therebetween. The TFT substrate 13 has a configuration in which the polarizing plate 8, the TFT substrate glass 7, and the TFT element layer 6 are sequentially laminated from the backlight module 14 side. The color filter substrate 12 has a configuration in which a color filter (RGB) layer 4, a color filter substrate glass 3, and a polarizing plate 2 are sequentially laminated from the liquid crystal 5 side.

このような静電容量結合方式のタッチパネル表示装置1では、前述する抵抗膜方式のタッチパネルよりもガラス基板の枚数が1枚少なくなると共に、抵抗膜方式のタッチパネルにおいて存在する各ガラス基板の間の空気層が存在しないため、光透過率に優れている。   In such a capacitively coupled touch panel display device 1, the number of glass substrates is one less than that of the resistive film type touch panel described above, and the air between the glass substrates existing in the resistive film type touch panel. Since there is no layer, the light transmittance is excellent.

静電容量結合方式のタッチパネルの1例として、特許文献1には、タッチ位置検出のための透明導電膜が設けられた第1の透明基板のタッチ面側に、透明接着材によってグレア防止用の第2の透明基板が貼り合わせられて構成された静電容量結合方式のタッチパネルが開示されている。この特許文献に記載の技術によれば、透明導電膜の損傷を防止するとともに、生産性の向上が可能になると記載されている。   As an example of a capacitively coupled touch panel, Patent Document 1 discloses a glare-preventing method using a transparent adhesive on the touch surface side of a first transparent substrate provided with a transparent conductive film for touch position detection. A capacitively coupled touch panel configured by bonding a second transparent substrate is disclosed. According to the technique described in this patent document, it is described that damage to the transparent conductive film can be prevented and productivity can be improved.

しかしながら、前述するようなタッチパネルをディスプレイ画面の前面に装着して使用するタイプのタッチパネル表示装置では、タッチパネル自体をディスプレイ画面の前面に装着する必要があるので、装置全体の厚みや重量が大きくなる、或いはコストがかかるという問題があった。そこで、装置の薄型化や軽量化を図るため、タッチパネルを構成するガラス基板及び位置検出用透明電極を、表示装置を構成する部材と共有させることにより、省略することが知られている。   However, in the type of touch panel display device that is used by attaching the touch panel as described above to the front surface of the display screen, it is necessary to attach the touch panel itself to the front surface of the display screen, which increases the thickness and weight of the entire device. Or there was a problem that it costs. Therefore, in order to reduce the thickness and weight of the device, it is known to omit the glass substrate and the position detection transparent electrode constituting the touch panel by sharing them with the members constituting the display device.

特許文献2には、2枚の透明絶縁板の間に、共通透明電極、液晶、表示透明電極を順に積層し、文字や画像を表示すると共に指等の接触物が接触する共通透明電極側に配置される透明絶縁板上の接触部の位置座標を検知するために、共通透明電極の四隅に、接触物と透明絶縁板を介して共通透明電極との間に流れる電流を検出する電流検出器を取り付け、接触物が透明絶縁板上の接触部へ接触することによる静電容量の変化に影響される四隅の電流検出器からの電流信号により接触部の位置座標を計算するための信号処理回路を備えた静電容量結合方式タッチパネル装置が記載されている。   In Patent Document 2, a common transparent electrode, a liquid crystal, and a display transparent electrode are sequentially laminated between two transparent insulating plates, and are arranged on the side of the common transparent electrode where characters and images are displayed and a contact object such as a finger contacts. In order to detect the position coordinates of the contact part on the transparent insulating plate, current detectors are installed at the four corners of the common transparent electrode to detect the current flowing between the contact object and the common transparent electrode via the transparent insulating plate. A signal processing circuit is provided for calculating the position coordinates of the contact portion based on the current signals from the current detectors at the four corners affected by the change in capacitance caused by the contact object contacting the contact portion on the transparent insulating plate. A capacitively coupled touch panel device is described.

また、特許文献3には、マトリクス状に配列された複数の画素電極を有するアクティブマトリクス基板と、そのアクティブマトリクス基板に対向する透明対向電極とを備えた表示装置において、透明対向電極に対して表示用の電圧または電流を供給する液晶表示回路と、透明対向電極の複数の箇所から流れる電流を検出する位置検出回路と、これらの回路のいずれか一方を透明共通電極と電気的に導通させるスイッチング回路とを備えたタッチセンサ一体型表示装置が記載されている。このため、静電容量方式のタッチパネルの絶縁膜形成方法については、導通用のスルーホールを形成する必要性から、フォトリソグラフィが主流である。特許文献4には厚みが数100μm程度の感光性樹脂からなるレジスト材が用いられている。
特開平5−324203号公報 特開2003−99192号公報 特開2003−66417号公報 特開2008−134975号公報
Further, Patent Document 3 discloses a display device provided with an active matrix substrate having a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix and a transparent counter electrode opposed to the active matrix substrate, with respect to the transparent counter electrode. Liquid crystal display circuit for supplying a voltage or current for use, a position detection circuit for detecting current flowing from a plurality of locations of the transparent counter electrode, and a switching circuit for electrically connecting one of these circuits to the transparent common electrode A touch sensor integrated display device comprising: For this reason, photolithography is the mainstream for the insulating film forming method of the capacitive touch panel because of the need to form through holes for conduction. Patent Document 4 uses a resist material made of a photosensitive resin having a thickness of about several hundred μm.
JP-A-5-324203 JP 2003-99192 A JP 2003-66417 A JP 2008-134975 A

従来の静電容量方式のタッチパネル表示装置では、抵抗膜式のタッチパネル表示装置と異なり、絶縁膜、透明導電膜を積層した構造をとることから、タッチ面の強度、耐傷性、耐打鍵性などを確保するために絶縁膜、透明導電膜を積層形成した後にハードコート層を形成するか、ガラス基板、プラスチック基板などの光透過性の基板42を張り合わせる必要がある。   Unlike conventional resistive touch panel display devices, the capacitive touch panel display device has a structure in which an insulating film and a transparent conductive film are laminated, so that the touch surface strength, scratch resistance, keystroke resistance, etc. In order to ensure, it is necessary to form a hard coat layer after laminating an insulating film and a transparent conductive film, or to attach a light-transmitting substrate 42 such as a glass substrate or a plastic substrate.

ガラス基板、プラスチック基板を保護膜として貼り合せる場合、タッチパネル表示装置と光透過性の基板42を外形枠で固定する方法がある。外形枠だけ固定した場合は表示領域が空気層16になるため、基板と空気層との界面による外光の反射により、表示領域の透過率が低下する。   When a glass substrate or a plastic substrate is bonded as a protective film, there is a method of fixing the touch panel display device and the light transmissive substrate 42 with an outer frame. When only the outer frame is fixed, the display area becomes the air layer 16, and the transmittance of the display area is reduced due to reflection of external light by the interface between the substrate and the air layer.

また、タッチパネル表示装置と光透過性の基板42を全面で固定する方法をとった場合、透明な粘着シートで張り合わせることができ、表示領域の透過率は低下しない。   In addition, when the method of fixing the touch panel display device and the light-transmitting substrate 42 over the entire surface is adopted, it can be bonded with a transparent adhesive sheet, and the transmittance of the display area does not decrease.

しかしながら、携帯電話やデジタルカメラ等にタッチパネル表示装置を実装した後、光透過性の基板42に何らかの不具合が生じた場合、これを張り替えることでタッチパネル表示装置をリペアすることができるが、透明な粘着シートの場合、光透過性の基板42の引き剥がし時に絶縁膜、透明導電膜をも破壊してしまうという問題がある。   However, after a touch panel display device is mounted on a mobile phone, a digital camera, or the like, if a problem occurs in the light-transmitting substrate 42, the touch panel display device can be repaired by replacing it with a transparent one. In the case of the adhesive sheet, there is a problem that the insulating film and the transparent conductive film are also destroyed when the light-transmitting substrate 42 is peeled off.

本発明は前述する課題を解決すべくなされたものであり、本発明の目的はシリコーンゲルの物性を利用し、高透明なタッチパネルを形成可能とし、かつ、高いリペア性を実現することにある。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to make it possible to form a highly transparent touch panel by utilizing the physical properties of silicone gel and to realize high repairability.

また、本発明の他の目的は、シリコーンゴムの物性を利用し、高透明なタッチパネルを形成可能とし、かつ、高いリペア性を実現することにある。   Another object of the present invention is to make it possible to form a highly transparent touch panel by utilizing the physical properties of silicone rubber and to realize high repairability.

本発明のその他の目的については、明細書全体の記載から明らかにされる。   Other objects of the present invention will become apparent from the description of the entire specification.

前記課題を解決すべく、複数本の第1の信号線と、前記第1の信号線と交差する複数本の第2の信号線とが形成される第1基板と、該第1基板のタッチ面側に配置される第2基板とを備えるタッチパネルであって、液状粘着組成物を硬化させ形成される耐衝撃粘着層を備え、前記第1基板と前記第2基板とが前記耐衝撃粘着層を介して対向配置され、前記耐衝撃粘着層がシリコーンゲルで形成されるタッチパネルである。   In order to solve the above problem, a first substrate on which a plurality of first signal lines and a plurality of second signal lines intersecting with the first signal lines are formed, and the touch of the first substrate It is a touch panel provided with the 2nd board | substrate arrange | positioned at the surface side, Comprising: The impact-resistant adhesive layer formed by hardening | curing a liquid adhesive composition is provided, and the said 1st board | substrate and the said 2nd board | substrate are the said impact-resistant adhesive layer. Is a touch panel in which the impact-resistant adhesive layer is formed of silicone gel.

前記課題を解決すべく、複数本の第1の信号線と、前記第1の信号線と交差する複数本の第2の信号線とが形成される第1基板と、該第1基板のタッチ面側に配置される第2基板とを備えるタッチパネルであって、液状粘着組成物を硬化させ形成される耐衝撃粘着層を備え、前記第1基板と前記第2基板とが前記耐衝撃粘着層を介して対向配置され、前記耐衝撃粘着層がシリコーンゴムで形成されるタッチパネルである。   In order to solve the above problem, a first substrate on which a plurality of first signal lines and a plurality of second signal lines intersecting with the first signal lines are formed, and the touch of the first substrate It is a touch panel provided with the 2nd board | substrate arrange | positioned at the surface side, Comprising: The impact-resistant adhesive layer formed by hardening | curing a liquid adhesive composition is provided, and the said 1st board | substrate and the said 2nd board | substrate are the said impact-resistant adhesive layer. Is a touch panel in which the impact-resistant adhesive layer is formed of silicone rubber.

前記課題を解決すべく、複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線とを有し、前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素の領域とする表示パネルと、複数本の第1の信号線と、前記第1の信号線と交差する複数本の第2の信号線とが形成される第1基板と、該第1基板のタッチ面側に配置される第2基板と、液状粘着組成物を硬化させ形成される耐衝撃粘着層とを有し、前記第1基板と前記第2基板とが前記耐衝撃粘着層を介して対向配置され、前記耐衝撃粘着層がシリコーンゲルで形成されるタッチパネルとを備えるタッチパネル表示装置である。   In order to solve the above problem, a display having a plurality of drain lines and a plurality of gate lines intersecting with the drain lines, and a region surrounded by the drain lines and the gate lines being a pixel region A first substrate on which a panel, a plurality of first signal lines, and a plurality of second signal lines intersecting with the first signal lines are formed, and disposed on the touch surface side of the first substrate The second substrate and an impact-resistant adhesive layer formed by curing the liquid adhesive composition, wherein the first substrate and the second substrate are disposed to face each other via the impact-resistant adhesive layer, It is a touch panel display device provided with the touch panel by which an impact-resistant adhesion layer is formed with a silicone gel.

前記課題を解決すべく、複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線とを有し、前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素の領域とする表示パネルと、複数本の第1の信号線と、前記第1の信号線と交差する複数本の第2の信号線とが形成される第1基板と、該第1基板のタッチ面側に配置される第2基板と、液状粘着組成物を硬化させ形成される耐衝撃粘着層とを有し、前記第1基板と前記第2基板とが前記耐衝撃粘着層を介して対向配置され、前記耐衝撃粘着層がシリコーンゴムで形成されるタッチパネルとを備えるタッチパネル表示装置である。   In order to solve the above problem, a display having a plurality of drain lines and a plurality of gate lines intersecting with the drain lines, and a region surrounded by the drain lines and the gate lines being a pixel region A first substrate on which a panel, a plurality of first signal lines, and a plurality of second signal lines intersecting with the first signal lines are formed, and disposed on the touch surface side of the first substrate The second substrate and an impact-resistant adhesive layer formed by curing the liquid adhesive composition, wherein the first substrate and the second substrate are disposed to face each other via the impact-resistant adhesive layer, It is a touch panel display device provided with the touch panel in which an impact-resistant adhesion layer is formed with silicone rubber.

前記課題を解決すべく、複数本の第1の信号線と、前記第1の信号線と交差する複数本の第2の信号線とが形成される第1基板と、該第1基板のタッチ面側に配置される第2基板と、液状粘着組成物を硬化させ形成される耐衝撃粘着層とを備えるタッチパネルの製造方法であって、液状粘着組成物を前記第1基板のタッチ面側又は前記第2基板の対向面側に塗布する工程と、放射線の照射又は加熱により、前記塗布された液状粘着組成物を硬化させ耐衝撃粘着層を形成する硬化工程と、該硬化工程で形成された耐衝撃粘着層により、前記第1基板のタッチ面側と前記第2基板の対向面側とを貼り合わせる工程とを有し、前記耐衝撃粘着層がシリコーンゲルからなるタッチパネルの製造方法である。   In order to solve the above problem, a first substrate on which a plurality of first signal lines and a plurality of second signal lines intersecting with the first signal lines are formed, and the touch of the first substrate A touch panel manufacturing method comprising a second substrate disposed on a surface side and an impact-resistant adhesive layer formed by curing a liquid adhesive composition, wherein the liquid adhesive composition is a touch surface side of the first substrate or Formed in the step of applying to the opposite surface side of the second substrate, a curing step of curing the applied liquid adhesive composition by irradiation or heating to form an impact-resistant adhesive layer, and the curing step It is a method for manufacturing a touch panel, which includes a step of bonding the touch surface side of the first substrate and the opposite surface side of the second substrate with an impact-resistant adhesive layer, and the impact-resistant adhesive layer is made of silicone gel.

前記課題を解決すべく、複数本の第1の信号線と、前記第1の信号線と交差する複数本の第2の信号線とが形成される第1基板と、該第1基板のタッチ面側に配置される第2基板と、液状粘着組成物を硬化させ形成される耐衝撃粘着層とを備えるタッチパネルの製造方法であって、液状粘着組成物を前記第1基板のタッチ面側又は前記第2基板の対向面側に塗布する工程と、放射線の照射又は加熱により、前記塗布された液状粘着組成物を硬化させ耐衝撃粘着層を形成する硬化工程と、該硬化工程で形成された耐衝撃粘着層により、前記第1基板のタッチ面側と前記第2基板の対向面側とを貼り合わせる工程とを有し、前記耐衝撃粘着層がシリコーンゴムからなるタッチパネルの製造方法である。   In order to solve the above problem, a first substrate on which a plurality of first signal lines and a plurality of second signal lines intersecting with the first signal lines are formed, and the touch of the first substrate A touch panel manufacturing method comprising a second substrate disposed on a surface side and an impact-resistant adhesive layer formed by curing a liquid adhesive composition, wherein the liquid adhesive composition is a touch surface side of the first substrate or Formed in the step of applying to the opposite surface side of the second substrate, a curing step of curing the applied liquid adhesive composition by irradiation or heating to form an impact-resistant adhesive layer, and the curing step A touch panel manufacturing method comprising a step of bonding the touch surface side of the first substrate and the opposite surface side of the second substrate with an impact-resistant adhesive layer, wherein the impact-resistant adhesive layer is made of silicone rubber.

本発明のタッチパネルでは、シリコーンゲル又はシリコーンゴムの物性を利用した構成となっているので、高透明なタッチパネルが形成可能であり、かつ、高いリペア性を実現することができる。   Since the touch panel of the present invention has a configuration utilizing the physical properties of silicone gel or silicone rubber, a highly transparent touch panel can be formed and high repairability can be realized.

本発明のその他の効果については、明細書全体の記載から明らかにされる。   Other effects of the present invention will become apparent from the description of the entire specification.

以下、本発明が適用された実施形態の例について、図面を用いて説明する。ただし、以下の説明において、同一構成要素には同一符号を付し繰り返しの説明は省略する。   Hereinafter, an example of an embodiment to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings. However, in the following description, the same components are denoted by the same reference numerals, and repeated description is omitted.

〈実施形態1〉
〈全体構成〉
図3は本発明の実施形態1のタッチパネル表示装置の概略構成を説明するための断面模式図である。ただし、図3に示すタッチパネル表示装置100はタッチパネル18の構成を除く他の構成は従来のタッチパネル装置と同様である。従って、以下の説明では、タッチパネル18の構成について詳細に説明する。
<Embodiment 1>
<overall structure>
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view for explaining a schematic configuration of the touch panel display device according to the first embodiment of the present invention. However, the touch panel display device 100 shown in FIG. 3 is the same as the conventional touch panel device except for the configuration of the touch panel 18. Therefore, in the following description, the configuration of the touch panel 18 will be described in detail.

図3から明らかなように、実施形態1のタッチパネル表示装置100は、液晶パネル17と、該液晶パネル17の図中下側に偏光板8及び拡散シート9を介して設けられたバックライトモジュール14と、液晶パネル17の図中上側に偏光板2を介して設けられたタッチパネル18とを有している。液晶パネル17は液晶5と該液晶5を介して対向配置されるカラーフィルタ基板12とTFT基板13とから構成される。TFT基板13はバックライトモジュール14側から偏光板8、TFT基板用ガラス7、及びTFT素子層6が順に積層された構成となっている。カラーフィルタ基板12は液晶5側からカラーフィルタ(RGB)層4、カラーフィルタ基板用ガラス3、及び偏光板2が順に積層された構成となっている。   As is clear from FIG. 3, the touch panel display device 100 according to the first embodiment includes a liquid crystal panel 17 and a backlight module 14 provided on the lower side of the liquid crystal panel 17 in the figure via a polarizing plate 8 and a diffusion sheet 9. And a touch panel 18 provided on the upper side of the liquid crystal panel 17 through the polarizing plate 2. The liquid crystal panel 17 includes a liquid crystal 5, a color filter substrate 12 and a TFT substrate 13 that are arranged to face each other with the liquid crystal 5 interposed therebetween. The TFT substrate 13 has a configuration in which the polarizing plate 8, the TFT substrate glass 7, and the TFT element layer 6 are sequentially laminated from the backlight module 14 side. The color filter substrate 12 has a configuration in which a color filter (RGB) layer 4, a color filter substrate glass 3, and a polarizing plate 2 are sequentially laminated from the liquid crystal 5 side.

本実施形態1のタッチパネル18は、液晶パネル17と反対の側すなわちタッチパネル18のタッチ面側に位置検出用透明電極41が形成されるタッチパネル用基板(第1基板)40を有する構成となっており、該タッチパネル用基板40が両面テープ等の接着層15によって液晶パネル17に固定される構成となっている。すなわち、タッチパネル18は、タッチパネル用基板40と、該タッチパネル用基板40の全面に設けられた位置検出用透明電極41と、タッチパネル用基板40の周縁部に一定のピッチで設けられた位置検出用電極41と、タッチ位置を検出するための図示しない位置検出回路とにより構成されている。また、実施形態1のタッチパネル18では耐衝撃粘着層50を介して、その前面すなわちタッチ面側に光透過性の基板(第2基板)42が固定される構成となっている。このように構成されたタッチパネル18を有するタッチパネル表示装置100では、ディスプレイ画面の前面すなわち光透過性の基板42の表面をタッチすることにより、位置検出用透明電極41がタッチされた点で人体の静電容量を介して接地されるため、各位置検出用電極41と接地点との間の抵抗値に変化が生じる。この変化をタッチ位置検出回路で検出することにより、タッチされた位置が検出される構成となっている。   The touch panel 18 according to the first embodiment includes a touch panel substrate (first substrate) 40 on which a position detection transparent electrode 41 is formed on the side opposite to the liquid crystal panel 17, that is, on the touch surface side of the touch panel 18. The touch panel substrate 40 is fixed to the liquid crystal panel 17 by an adhesive layer 15 such as a double-sided tape. That is, the touch panel 18 includes a touch panel substrate 40, a position detection transparent electrode 41 provided on the entire surface of the touch panel substrate 40, and position detection electrodes provided at a constant pitch on the periphery of the touch panel substrate 40. 41 and a position detection circuit (not shown) for detecting the touch position. In the touch panel 18 according to the first embodiment, a light-transmitting substrate (second substrate) 42 is fixed to the front surface, that is, the touch surface side via the impact-resistant adhesive layer 50. In the touch panel display device 100 having the touch panel 18 configured as described above, the position detection transparent electrode 41 is touched by touching the front surface of the display screen, that is, the surface of the light transmissive substrate 42. Since it is grounded via the capacitance, a change occurs in the resistance value between each position detection electrode 41 and the grounding point. By detecting this change by the touch position detection circuit, the touched position is detected.

〈タッチパネル構成〉
図4は本発明の実施形態1のタッチパネルの概略構成を説明するための断面模式図であり、図5は本発明の実施形態1のタッチパネルの概略構成を説明するための平面模式図である。
<Touch panel configuration>
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining a schematic configuration of the touch panel according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a schematic plan view for explaining a schematic configuration of the touch panel according to the first embodiment of the present invention.

図4に示すように、本実施形態1のタッチパネル表示装置100は、光透過性を有するタッチパネル用基板40の片面(タッチ面側)に位置を検出するための透明導電膜(第2の信号線)20と信号が供給される透明導電膜(第1の信号線)10が絶縁膜層30を介して配置される構成となっている。ただし、タッチパネル用基板40としては、ソーダガラスや、ホウケイ酸ガラスなどのアルカリガラスでもよく、無アルカリガラスを使用してもよい。さらには、ガラス基板だけでなく、プラスチック基板を用いてもよい。また、化学強化ガラスを用いることも可能である。   As shown in FIG. 4, the touch panel display device 100 according to the first embodiment includes a transparent conductive film (second signal line) for detecting a position on one surface (touch surface side) of a light-transmissive touch panel substrate 40. ) 20 and a transparent conductive film (first signal line) 10 to which a signal is supplied are arranged via an insulating film layer 30. However, the touch panel substrate 40 may be soda glass, alkali glass such as borosilicate glass, or non-alkali glass. Further, not only a glass substrate but also a plastic substrate may be used. It is also possible to use chemically strengthened glass.

また、透明導電膜20の図中上方には耐衝撃粘着層50が形成され、該耐衝撃粘着層50の上方に光透過性の基板42が形成される構成となっている。タッチパネル用の図示しないドライバーICと透明導電膜10、20を電気的に接続するための金属製の端子部21がタッチパネル用基板40の一辺の端部に形成される構成となっている。透明導電膜10、20の両端は基板40の周囲でそれぞれ引き出し電極22に接続され、それぞれの引き出し電極22はそれぞれ端子部21に接続されている。なお、引き出し電極22は金属製であるが、これに限定されることはなく、透明の導電膜を用いてもよい。   In addition, an impact-resistant adhesive layer 50 is formed above the transparent conductive film 20, and a light-transmitting substrate 42 is formed above the impact-resistant adhesive layer 50. A metal terminal portion 21 for electrically connecting a driver IC (not shown) for the touch panel and the transparent conductive films 10 and 20 is formed at an end portion of one side of the touch panel substrate 40. Both ends of the transparent conductive films 10 and 20 are respectively connected to the extraction electrode 22 around the substrate 40, and each extraction electrode 22 is connected to the terminal portion 21. The lead electrode 22 is made of metal, but is not limited to this, and a transparent conductive film may be used.

このように積層された各薄膜層は、図5に示すように、タッチパネルとして機能する機能部24として示す領域内では図中縦方向に延在する透明導電膜10が横方向に複数並設して形成される構成となっている。また、該機能部24の領域内で図中横方向に延在する透明導電膜20が縦方向に複数並設して形成される構成となっている。タッチパネル用基板40の図中右端部にはドライバー接続部23が設けられており、端子部21が形成されている。各端子部21には引き出し電極22の一端が電気的に接続される構成となっており、該引き出し電極22の他端は複数の透明導電膜10、20のいずれかに電気的に接続される構成となっている。このとき、図5から明らかなように、各引き出し電極22は機能部24の外側領域に形成される。なお、引き出し電極22が透明導電膜10か透明導電膜20のどちらの透明導電膜に接続されているのかをわかりやすく示すために、図5中では透明導電膜10、20と同じパターンを引き出し電極22にも用いて図示した。   As shown in FIG. 5, each thin film layer laminated in this manner has a plurality of transparent conductive films 10 extending in the horizontal direction in the region in the region shown as the functional unit 24 functioning as a touch panel. The structure is formed. In addition, a plurality of transparent conductive films 20 extending in the horizontal direction in the figure in the region of the functional unit 24 are formed side by side in the vertical direction. A driver connection portion 23 is provided at the right end portion of the touch panel substrate 40 in the figure, and a terminal portion 21 is formed. One end of the extraction electrode 22 is electrically connected to each terminal portion 21, and the other end of the extraction electrode 22 is electrically connected to one of the plurality of transparent conductive films 10 and 20. It has a configuration. At this time, as is apparent from FIG. 5, each extraction electrode 22 is formed in the outer region of the functional unit 24. In order to clearly show whether the extraction electrode 22 is connected to the transparent conductive film 10 or the transparent conductive film 20, the same pattern as that of the transparent conductive films 10 and 20 is shown in FIG. 22 is also illustrated.

〈タッチパネルの形成方法〉
以下、図4及び図5に基づいて、実施形態1のタッチパネル100の形成手順を説明する。
<Method for forming touch panel>
Hereinafter, based on FIG.4 and FIG.5, the formation procedure of the touch panel 100 of Embodiment 1 is demonstrated.

透明導電膜10としては、非晶質のITO(Indium Tin Oxide)膜又はIZO(Indium Zinc Oxide)膜からなる透明導電膜(厚さ50〜200Å)を、表面抵抗が500〜2000Ωになるように、スパッタリング法により成膜し、次にレジスト材料を塗布し、露光、現像プロセスによりパターニングする。このときレジスト材料としてはポジ型、ネガ型どちらでもよく、アルカリ現像タイプが容易に形成できる。その後、ITOをエッチングによりパターン形成する。このときのエッチング液は臭化水素酸水溶液等を選択すればよい。   As the transparent conductive film 10, a transparent conductive film (thickness 50 to 200 mm) made of an amorphous ITO (Indium Tin Oxide) film or an IZO (Indium Zinc Oxide) film is used so that the surface resistance is 500 to 2000Ω. Then, a film is formed by a sputtering method, and then a resist material is applied and patterned by an exposure and development process. At this time, the resist material may be either a positive type or a negative type, and an alkali development type can be easily formed. Thereafter, ITO is patterned by etching. As the etching solution at this time, a hydrobromic acid aqueous solution or the like may be selected.

絶縁膜層30としては、膜厚は絶縁膜材料の誘電率を考慮すれば各種選択できるが、絶縁膜層を比誘電率3〜4で調整するのが容易であり、膜厚は1〜20μmで形成することができる。絶縁膜層の材料としては、UV(紫外線)硬化型樹脂材料やアルカリ現像可能なネガまたはポジ型の絶縁膜材料、加熱で硬化する熱硬化型樹脂材料を用いることができるが、アルカリ現像タイプが容易に形成できる。ただし、絶縁膜層30の可視光領域(400nm〜800nm)透過率は、タッチパネル表示装置100と同時に使用する画像表示装置の性能を下げないために、90%以上とすることが好ましい。さらには、絶縁膜層30は、透明導電膜20上または基板40上に直接形成された構造をとるため、透明導電膜20および透明導電膜40、これを介した絶縁膜層は、表示品質の低下を防ぐために、できるだけ薄く形成することが望ましい。   As the insulating film layer 30, various thicknesses can be selected in consideration of the dielectric constant of the insulating film material, but it is easy to adjust the insulating film layer with a relative dielectric constant of 3 to 4, and the film thickness is 1 to 20 μm. Can be formed. As a material for the insulating film layer, a UV (ultraviolet) curable resin material, an alkali developable negative or positive insulating film material, and a thermosetting resin material cured by heating can be used. Can be easily formed. However, the visible light region (400 nm to 800 nm) transmittance of the insulating film layer 30 is preferably 90% or more so as not to lower the performance of the image display device used simultaneously with the touch panel display device 100. Furthermore, since the insulating film layer 30 has a structure formed directly on the transparent conductive film 20 or the substrate 40, the transparent conductive film 20 and the transparent conductive film 40, and the insulating film layer interposed therebetween have display quality. In order to prevent the decrease, it is desirable to form it as thin as possible.

さらに、絶縁膜層30上に、非晶質のITO膜又はIZO(Indium Zinc Oxide)膜からなる透明導電膜(厚さ50〜200Å)を、表面抵抗が500〜2000Ωになるように、スパッタリング法により成膜し、次にレジスト材料を塗布し、露光、現像プロセスによりパターニングすることにより、透明導電膜20が形成される。このときレジスト材料としてはポジ型、ネガ型どちらでもよく、アルカリ現像タイプが容易に形成できる。その後、ITOをエッチングによりパターン形成する。このときのエッチング液は臭化水素酸水溶液等を選択すればよい。   Further, a transparent conductive film (thickness 50 to 200 mm) made of an amorphous ITO film or an IZO (Indium Zinc Oxide) film is formed on the insulating film layer 30 by a sputtering method so that the surface resistance is 500 to 2000Ω. Then, a transparent conductive film 20 is formed by applying a resist material and patterning it by an exposure and development process. At this time, the resist material may be either a positive type or a negative type, and an alkali development type can be easily formed. Thereafter, ITO is patterned by etching. As the etching solution at this time, a hydrobromic acid aqueous solution or the like may be selected.

次に、透明導電膜10、20と絶縁膜30との積層構造を保護する目的で透明なシリコーンゲルにより、図中の透明導電膜20の上方に耐衝撃粘着層50を形成する。該耐衝撃粘着層50の形成は、後述するように硬化前の液状のシリコーンゲルを用いて所望の領域に塗布した後に、硬化工程で硬化させることにより形成する。硬化後の該耐衝撃粘着層50の有す粘着性を用いて光透過性の基板42を貼り合せることにより、実施形態1のタッチパネル100が形成される。ただし、光透過性の基板42としては、ソーダガラスや、ホウケイ酸ガラスなどのアルカリガラスでもよく、無アルカリガラスを使用してもよい。また、化学強化ガラスを用いることも可能である。さらには、ガラス基板だけでなく、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリルなどのプラスチック基板を用いてもよい。なお、本願発明の特徴である耐衝撃粘着層50と光透過性の基板42との貼り合わせの詳細については、後述する実施形態3において詳述する。   Next, for the purpose of protecting the laminated structure of the transparent conductive films 10 and 20 and the insulating film 30, the impact resistant adhesive layer 50 is formed above the transparent conductive film 20 in the figure with a transparent silicone gel. The impact-resistant adhesive layer 50 is formed by applying it to a desired region using a liquid silicone gel before curing as described later and then curing it in a curing step. The touch panel 100 of the first embodiment is formed by bonding the light-transmitting substrate 42 using the adhesive property of the impact-resistant adhesive layer 50 after curing. However, the light transmissive substrate 42 may be soda glass, alkali glass such as borosilicate glass, or non-alkali glass. It is also possible to use chemically strengthened glass. Furthermore, not only a glass substrate but also a plastic substrate such as polycarbonate, polystyrene, or acrylic may be used. The details of the bonding between the impact-resistant adhesive layer 50 and the light-transmitting substrate 42, which is a feature of the present invention, will be described in detail in Embodiment 3 to be described later.

ただし、シリコーンゲルはシリコーンゴムのモノマーにシリコーンオイルを白金触媒などの作用によって付加させて通常のシリコーンエラストマーの1/5〜1/10の架橋密度で硬化させた付加重合型シリコーン樹脂である。シリコーンゲルを含むゲル状物質は、およそ−50℃乃至200℃くらいの間で機械的な性質(ヤング率:柔らかさとも置き換えることができる。)がほぼ一定であり、寒冷地でかつ屋外での環境下や、また暑い日に直射日光を浴びるような環境下でも、ほぼ同じような良好な振動特性を保つことができる。さらには、ゲル状物質は圧縮残留歪が小さいため、長期間にわたって良好な振動特性を維持することができる。このような性質を有するので、タッチパネル表示装置への光透過性の基板42の固定にはゲル状物質を使用することが好ましく、特に広範囲な温度変化にも緩衝効果が変化しにくいシリコーンゲルを使用することが好ましい。   However, the silicone gel is an addition polymerization type silicone resin obtained by adding silicone oil to a silicone rubber monomer by the action of a platinum catalyst or the like and curing it at a crosslinking density of 1/5 to 1/10 of that of a normal silicone elastomer. Gel-like substances including silicone gels have substantially constant mechanical properties (Young's modulus: can be replaced with softness) between about -50 ° C and 200 ° C, and are used in cold regions and outdoors. The same good vibration characteristics can be maintained even in an environment or in an environment where it is exposed to direct sunlight on a hot day. Furthermore, since the gel-like substance has a small compressive residual strain, good vibration characteristics can be maintained over a long period of time. Since it has such properties, it is preferable to use a gel-like substance for fixing the light-transmitting substrate 42 to the touch panel display device, and in particular, a silicone gel that does not change the buffer effect even over a wide range of temperature changes is used. It is preferable to do.

本実施形態1のタッチパネル100においては、耐衝撃粘着層50を形成するシリコーンゲルの針入度(JIS K2207)は10〜100が望ましい。これは、針入度が10に満たない場合は密着力不足となり、貼り合せ時に気泡が進入しやすい。また、針入度が100を超えるとゲルとしての形状保持性が低く、光透過性の基板42を指で押した場合の微小な変形が戻るのに時間がかかり、光透過性の基板42の変形が視認できるためである。   In the touch panel 100 according to the first embodiment, the penetration (JIS K2207) of the silicone gel forming the impact resistant adhesive layer 50 is desirably 10 to 100. This is because when the penetration is less than 10, the adhesion is insufficient, and bubbles are likely to enter during bonding. Further, when the penetration exceeds 100, the shape retention as a gel is low, and it takes time to return the minute deformation when the light-transmitting substrate 42 is pressed with a finger. This is because the deformation can be visually recognized.

また、表示部である液晶パネル17の透過率低下を防ぐため、シリコーンゲルの耐衝撃粘着層50は可視光領域(400nm〜800nm)で90%以上、100%以下で形成することが好ましく、耐衝撃性を考慮すれば厚膜化が望ましいが、可視光領域の透過率との兼ね合いで3000μm以下が妥当である。また、耐衝撃性を実現するには10μm以上の膜厚が必要となる。   Moreover, in order to prevent the transmittance | permeability fall of the liquid crystal panel 17 which is a display part, it is preferable to form the impact-resistant adhesion layer 50 of a silicone gel by 90% or more and 100% or less in visible region (400 nm-800 nm). In consideration of impact properties, it is desirable to increase the film thickness, but in view of the transmittance in the visible light region, 3000 μm or less is appropriate. Further, in order to achieve impact resistance, a film thickness of 10 μm or more is required.

以上説明したように、本実施形態1のタッチパネル表示装置では、画素を駆動するTFTが形成されるTFT基板13とカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ基板12とが液晶5を介して対向配置して形成される液晶パネル17と、該液晶パネル17の裏面側(図中の下側)に配置されるバックライトモジュール14とからなる液晶表示装置の前面(図中上側)に、実施形態1のタッチパネル100が接着層15により接着される構成となっている。   As described above, in the touch panel display device according to the first embodiment, the TFT substrate 13 on which the TFT for driving the pixel is formed and the color filter substrate 12 on which the color filter is formed are arranged to face each other via the liquid crystal 5. The touch panel according to the first embodiment is provided on the front surface (upper side in the drawing) of the liquid crystal display device including the liquid crystal panel 17 to be formed and the backlight module 14 disposed on the back side (lower side in the drawing) of the liquid crystal panel 17. 100 is adhered by an adhesive layer 15.

このとき、本実施形態1のタッチパネル100は複数本の信号線である透明導電膜10及び該透明導電膜10に交差する複数本の透明導電膜20が生成されるタッチパネル用基板40と、該タッチパネル用基板40のタッチ面側に配置される光透過性の基板42とが、液状粘着組成物であるシリコーンゲルを硬化し形成される耐衝撃粘着層50を介して対向配置されるように、接着し固定される構成となっているので、高透明なタッチパネルが形成可能であり、かつ、高いリペア性を実現することができる。すなわち、実施形態1のタッチパネル表示装置では、耐衝撃粘着層50にガラスと同じ成分であるSiOを成分とするシリコーンゲルを用いる構成としているので高い透過率を実現できると共に、光透過性の基板42にもガラス基板等を用いた場合には、タッチ操作で生じる光透過性の基板42の変形に伴う表示光の屈折率変化による表示性能の低下を防止することも可能となる。ただし、タッチパネル表示装置のリペア性の詳細については後述する。   At this time, the touch panel 100 of Embodiment 1 includes a touch panel substrate 40 on which a transparent conductive film 10 that is a plurality of signal lines and a plurality of transparent conductive films 20 that intersect the transparent conductive film 10 are generated, and the touch panel. The light-transmitting substrate 42 disposed on the touch surface side of the substrate 40 is bonded so as to be opposed to each other through an impact-resistant adhesive layer 50 formed by curing a silicone gel that is a liquid adhesive composition. Since it is configured to be fixed, a highly transparent touch panel can be formed and high repairability can be realized. That is, in the touch panel display device according to the first embodiment, the impact-resistant adhesive layer 50 is made of a silicone gel containing SiO, which is the same component as glass, so that high transmittance can be realized and the light-transmitting substrate 42 is used. In addition, when a glass substrate or the like is used, it is possible to prevent the display performance from being deteriorated due to the change in the refractive index of the display light accompanying the deformation of the light transmissive substrate 42 caused by the touch operation. However, details of the repairability of the touch panel display device will be described later.

なお、本実施形態1のタッチパネル表示装置では、液晶パネル17とタッチパネル100との接着は通常の接着法を用いる構成としたがこれに限定されることはなく、液晶表示装置の固定層15にもシリコーンゲルやシリコーンゴムを使用してもよい。   In the touch panel display device of the first embodiment, the liquid crystal panel 17 and the touch panel 100 are bonded to each other using a normal bonding method. However, the present invention is not limited to this, and the fixing layer 15 of the liquid crystal display device is also used. Silicone gel or silicone rubber may be used.

また、本実施形態1のタッチパネル表示装置は、表示部に液晶表示装置を用いる構成としたが、これに限定されることはなく、有機EL表示装置等の他の表示装置の場合にも適用可能である。   The touch panel display device according to the first embodiment is configured to use a liquid crystal display device for the display unit, but is not limited thereto, and can be applied to other display devices such as an organic EL display device. It is.

さらには、本実施形態1では耐衝撃粘着層50をタッチパネル側に形成する構成としたが、これに限定されることはなく、光透過性の基板42の側に耐衝撃粘着層50を形成した後に、タッチパネル用基板40に接着させる構成でもよい。   Furthermore, in the first embodiment, the impact-resistant adhesive layer 50 is formed on the touch panel side. However, the present invention is not limited to this, and the impact-resistant adhesive layer 50 is formed on the light-transmitting substrate 42 side. A configuration may be employed in which the touch panel substrate 40 is bonded later.

〈実施形態2〉
〈タッチパネル構成〉
図6は本発明の実施形態2のタッチパネルの概略構成を説明するための断面模式図であり、図7は本発明の実施形態2のタッチパネルの概略構成を説明するための平面模式図である。ただし、実施形態2のタッチパネル表示装置は耐衝撃粘着層の構成が異なるのみで、他の構成は実施形態1のタッチパネル表示装置と同様の構成となるので、以下の説明では構成の異なる耐衝撃粘着層の構成についてのみ詳細に説明する。
<Embodiment 2>
<Touch panel configuration>
6 is a schematic cross-sectional view for explaining a schematic configuration of a touch panel according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a schematic plan view for explaining a schematic configuration of the touch panel according to the second embodiment of the present invention. However, the touch panel display device of the second embodiment is different only in the configuration of the impact-resistant adhesive layer, and the other configurations are the same as those of the touch panel display device of the first embodiment. Only the layer structure will be described in detail.

図6に示すように、本実施形態2のタッチパネル表示装置も実施形態1と同様に、光透過性の基板40の片面に位置を検出するための透明導電膜20と、信号が供給される透明導電膜10とが絶縁膜層30を介して配置される構成となっている。実施形態1と同様に、光透過性の基板40としては、ソーダガラスや、ホウケイ酸ガラスなどのアルカリガラスでもよく、無アルカリガラスを使用してもよい。さらに、ガラス基板だけでなく、プラスチック基板を用いてもよい。また、化学強化ガラスを用いることも可能である。   As shown in FIG. 6, the touch panel display device according to the second embodiment also has a transparent conductive film 20 for detecting a position on one surface of a light-transmitting substrate 40 and a transparent signal to which signals are supplied, as in the first embodiment. The conductive film 10 is arranged via the insulating film layer 30. As in the first embodiment, the light-transmitting substrate 40 may be soda glass, alkali glass such as borosilicate glass, or non-alkali glass. Further, not only a glass substrate but also a plastic substrate may be used. It is also possible to use chemically strengthened glass.

また、透明導電膜20の図6中上方にはシリコーンゴムの耐衝撃粘着層51が形成され、該耐衝撃粘着層51の上方に光透過性の基板42が形成される構成となっている。ここで、実施形態2の耐衝撃粘着層51はタッチパネル用基板40の一辺の端部に形成される金属製の端子部21を覆うように形成される構成となっている。すなわち、実施形態2のタッチパネルでは、端子部21を超えてタッチパネル用基板40の図中右側端部まで耐衝撃粘着層51が形成される構成となっている。この耐衝撃粘着層51の上部には光透過性の基板42が当該耐衝撃粘着層51の粘着性により接着し固定される構成となっている。   Further, a silicone rubber impact-resistant adhesive layer 51 is formed above the transparent conductive film 20 in FIG. 6, and a light-transmitting substrate 42 is formed above the impact-resistant adhesive layer 51. Here, the impact-resistant adhesive layer 51 of the second embodiment is configured to cover the metal terminal portion 21 formed at the end portion of one side of the touch panel substrate 40. That is, in the touch panel of the second embodiment, the impact-resistant adhesive layer 51 is formed from the terminal portion 21 to the right end portion of the touch panel substrate 40 in the drawing. A light transmissive substrate 42 is bonded and fixed to the upper portion of the impact resistant adhesive layer 51 by the adhesiveness of the impact resistant adhesive layer 51.

このように、実施形態2のタッチパネルでは、耐衝撃粘着層51で端子部21が覆われる構成となっているので、該端子部21に配線(配線テープ)を接続する際には、例えば圧着時のように配線テープを図中上部から押しつけるようにして、端子部21の上部に形成される耐衝撃粘着層51を破り、配線と端子部21との電気的接続を行うことが可能である。なお、配線テープの詳細については後述する。   Thus, in the touch panel of Embodiment 2, since the terminal part 21 is covered with the impact-resistant adhesive layer 51, when connecting the wiring (wiring tape) to the terminal part 21, for example, at the time of crimping In this way, the wiring tape is pressed from the upper part in the figure, and the impact-resistant adhesive layer 51 formed on the upper part of the terminal part 21 can be broken, and the wiring and the terminal part 21 can be electrically connected. Details of the wiring tape will be described later.

また、図7に示すように、実施形態2のタッチパネルでは、タッチパネル用基板40の全面が耐衝撃粘着層51で覆われる構成となっているので、端子部21に配線テープを電気的に接続するまでは該耐衝撃粘着層51が端子部21を保護する構成となっている。   Further, as shown in FIG. 7, in the touch panel of the second embodiment, the entire surface of the touch panel substrate 40 is covered with the impact-resistant adhesive layer 51, so that the wiring tape is electrically connected to the terminal portion 21. Up to this point, the impact-resistant adhesive layer 51 is configured to protect the terminal portion 21.

また、透明導電膜10、20や引き出し電極22等の構成は実施形態1のタッチパネルと同様の構成である。すなわち、透明導電膜10、20の両端は基板40の周囲すなわちタッチパネルの機能部24の外周領域でそれぞれ引き出し電極22に接続され、それぞれの引き出し電極22はそれぞれ端子部21に接続されている。引き出し電極22は金属製であるが、実施形態1と同様に、どちらの透明導電膜に接続されているのかをわかりやすく示すために、透明導電膜10、20と同じパターンを引き出し電極22にも用いて図示している。   The configurations of the transparent conductive films 10 and 20 and the extraction electrode 22 are the same as those of the touch panel of the first embodiment. That is, both ends of the transparent conductive films 10 and 20 are connected to the extraction electrode 22 around the substrate 40, that is, in the outer peripheral region of the functional unit 24 of the touch panel, and each extraction electrode 22 is connected to the terminal portion 21. Although the extraction electrode 22 is made of metal, in the same manner as in the first embodiment, the same pattern as the transparent conductive films 10 and 20 is also applied to the extraction electrode 22 in order to clearly show which transparent conductive film is connected to the extraction electrode 22. Used to illustrate.

〈タッチパネルの形成方法〉
以下、図6及び図7に基づいて、実施形態2のタッチパネル101の形成手順を説明する。
<Method for forming touch panel>
Hereinafter, based on FIG.6 and FIG.7, the formation procedure of the touch panel 101 of Embodiment 2 is demonstrated.

透明導電膜10としては、非晶質のITO膜又はIZO膜からなる透明導電膜(厚さ50〜200Å)を、表面抵抗が500〜2000Ωになるように、スパッタリング法により成膜し、次にレジスト材料を塗布し、露光、現像プロセスによりパターニングする。このときレジスト材料としてはポジ型、ネガ型どちらでもよく、アルカリ現像タイプが容易に形成できる。その後、ITOをエッチングによりパターン形成する。このときのエッチング液は臭化水素酸水溶液等を選択すればよい。   As the transparent conductive film 10, a transparent conductive film (thickness 50 to 200 mm) made of an amorphous ITO film or IZO film is formed by sputtering so that the surface resistance is 500 to 2000Ω, A resist material is applied and patterned by exposure and development processes. At this time, the resist material may be either a positive type or a negative type, and an alkali development type can be easily formed. Thereafter, ITO is patterned by etching. As the etching solution at this time, a hydrobromic acid aqueous solution or the like may be selected.

絶縁膜層30としては、膜厚は絶縁膜材料の誘電率を考慮すれば各種選択できるが、絶縁膜層を比誘電率3〜4で調整するのが容易であり、膜厚は1〜20μmで形成することができる。絶縁膜層の材料としては、UV(紫外線)硬化型樹脂材料やアルカリ現像可能なネガまたはポジ型の絶縁膜材料、加熱で硬化する熱硬化型樹脂材料を用いることができるが、アルカリ現像タイプが容易に形成できる。   As the insulating film layer 30, various thicknesses can be selected in consideration of the dielectric constant of the insulating film material, but it is easy to adjust the insulating film layer with a relative dielectric constant of 3 to 4, and the film thickness is 1 to 20 μm. Can be formed. As a material for the insulating film layer, a UV (ultraviolet) curable resin material, an alkali developable negative or positive insulating film material, and a thermosetting resin material cured by heating can be used. Can be easily formed.

さらに、絶縁膜層30上に、非晶質のITO膜又はIZO膜からなる透明導電膜(厚さ50〜200Å)を、表面抵抗が500〜2000Ωになるように、スパッタリング法により成膜し、次にレジスト材料を塗布し、露光、現像プロセスによりパターニングすることにより透明導電膜20が形成される。このときレジスト材料としてはポジ型、ネガ型どちらでもよく、アルカリ現像タイプが容易に形成できる。その後、ITOをエッチングによりパターン形成する。このときのエッチング液は臭化水素酸水溶液等を選択すればよい。   Further, a transparent conductive film (thickness 50 to 200 mm) made of an amorphous ITO film or IZO film is formed on the insulating film layer 30 by a sputtering method so that the surface resistance is 500 to 2000Ω, Next, a transparent conductive film 20 is formed by applying a resist material and patterning it by exposure and development processes. At this time, the resist material may be either a positive type or a negative type, and an alkali development type can be easily formed. Thereafter, ITO is patterned by etching. As the etching solution at this time, a hydrobromic acid aqueous solution or the like may be selected.

絶縁膜層30の可視光領域(400nm〜800nm)透過率は、タッチパネル101と同時に使用する画像表示装置の性能を下げないために、90%以上とすることが好ましい。   The visible light region (400 nm to 800 nm) transmittance of the insulating film layer 30 is preferably 90% or more so as not to lower the performance of the image display device used simultaneously with the touch panel 101.

ここで、絶縁膜層30は透明導電膜20上または基板40上に直接形成された構造をとるため、透明導電膜20および透明導電膜40、これを介した絶縁膜層30は、表示品質の低下を防ぐために、できるだけ薄く形成することが望ましい。   Here, since the insulating film layer 30 has a structure formed directly on the transparent conductive film 20 or the substrate 40, the transparent conductive film 20 and the transparent conductive film 40, and the insulating film layer 30 interposed therebetween have a display quality. In order to prevent the decrease, it is desirable to form it as thin as possible.

実施形態2のタッチパネル101では、透明導電膜20と絶縁膜30の積層構造を保護する目的で透明なシリコーンゴムにより耐衝撃粘着層51を形成し、該耐衝撃粘着層51の粘着性により光透過性の基板42を貼り合せる構成となっている。光透過性の基板42としては、ソーダガラスや、ホウケイ酸ガラスなどのアルカリガラスでもよく、無アルカリガラスを使用してもよい。また、化学強化ガラスを用いることも可能である。さらに、ガラス基板だけでなく、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリルなどのプラスチック基板を用いてもよい。   In the touch panel 101 according to the second embodiment, the impact-resistant adhesive layer 51 is formed of transparent silicone rubber for the purpose of protecting the laminated structure of the transparent conductive film 20 and the insulating film 30, and light is transmitted by the adhesiveness of the impact-resistant adhesive layer 51. It is the structure which bonds the property board | substrate 42 together. The light-transmitting substrate 42 may be soda glass, alkali glass such as borosilicate glass, or non-alkali glass. It is also possible to use chemically strengthened glass. Further, not only a glass substrate but also a plastic substrate such as polycarbonate, polystyrene, or acrylic may be used.

特に、本実施形態2のタッチパネル表示装置においては、耐衝撃粘着層51を形成するシリコーンゴムの硬度(Shore A)は10〜100が望ましく、100を超えると密着性が低くなり、光透過性の基板42が容易に剥離してしまうため、好ましくない。また、表示部の透過率低下を防ぐため、シリコーンゴムは可視光領域(400nm〜800nm)で90%以上、100%以下で形成することが好ましく、耐衝撃性を考慮すれば厚膜化が望ましいが、可視光領域の透過率との兼ね合いで3000μm以下が適当である。また、耐衝撃性を実現するには10μm以上の膜厚が必要となる。なお、タッチパネル表示装置と液晶表示装置の接着層15にもシリコーンゴムを使用することができる。   In particular, in the touch panel display device of the second embodiment, the hardness (Shore A) of the silicone rubber forming the impact-resistant adhesive layer 51 is desirably 10 to 100, and if it exceeds 100, the adhesion becomes low and the light transmitting property is reduced. This is not preferable because the substrate 42 is easily peeled off. In order to prevent a decrease in the transmittance of the display portion, the silicone rubber is preferably formed in the visible light region (400 nm to 800 nm) at 90% or more and 100% or less, and it is desirable to increase the thickness in consideration of impact resistance. However, 3000 μm or less is appropriate in view of the transmittance in the visible light region. Further, in order to achieve impact resistance, a film thickness of 10 μm or more is required. Silicone rubber can also be used for the adhesive layer 15 of the touch panel display device and the liquid crystal display device.

以上説明したように、本実施形態2のタッチパネル表示装置においても、画素を駆動するTFTが形成されるTFT基板とカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ基板とが液晶を介して対向配置して形成される液晶パネルと、該液晶パネルの裏面側に配置されるバックライトモジュールとからなる液晶表示装置の前面に、実施形態2のタッチパネル101が接着層15により接着される構成となっている。   As described above, in the touch panel display device according to the second embodiment, the TFT substrate on which the TFT for driving the pixel is formed and the color filter substrate on which the color filter is formed are formed so as to face each other through the liquid crystal. The touch panel 101 according to the second embodiment is adhered to the front surface of a liquid crystal display device including a liquid crystal panel and a backlight module disposed on the back side of the liquid crystal panel.

このとき、本実施形態2のタッチパネル101は複数本の信号線である透明導電膜10及び該透明導電膜10に交差する複数本の透明導電膜20が生成されるタッチパネル用基板40と、該タッチパネル用基板40のタッチ面側に配置される光透過性の基板42とが、液状粘着組成物であるシリコーンゴムを硬化させ形成される耐衝撃粘着層51を介して対向配置されるように、接着し固定される構成となっているので、高透明なタッチパネルが形成可能であり、かつ、高いリペア性を実現することができる。すなわち、実施形態2のタッチパネル表示装置においては、耐衝撃粘着層51にガラスと同じ成分であるSiOを成分とするシリコーンゴムを用いる構成としているので高い透過率を実現できると共に、光透過性の基板42にもガラス基板を用いた場合には、タッチ操作で生じる光透過性の基板42の変形に伴う表示光の屈折率変化による表示性能の低下を防止することも可能となる。なお、タッチパネル表示装置のリペア性の詳細については後述する。   At this time, the touch panel 101 of the second embodiment includes a touch panel substrate 40 on which a transparent conductive film 10 that is a plurality of signal lines and a plurality of transparent conductive films 20 that intersect the transparent conductive film 10 are generated, and the touch panel. Adhering so that the light-transmitting substrate 42 disposed on the touch surface side of the working substrate 40 is disposed opposite to the impact-resistant adhesive layer 51 formed by curing silicone rubber that is a liquid adhesive composition. Since it is configured to be fixed, a highly transparent touch panel can be formed and high repairability can be realized. That is, in the touch panel display device according to the second embodiment, the impact-resistant adhesive layer 51 uses a silicone rubber containing SiO, which is the same component as glass, so that high transmittance can be realized and a light-transmitting substrate is used. When a glass substrate is also used for 42, it is possible to prevent display performance from being deteriorated due to a change in the refractive index of display light accompanying deformation of the light-transmitting substrate 42 caused by touch operation. The details of the repairability of the touch panel display device will be described later.

〈実施形態3〉
本実施形態3においては本発明の実施形態1のタッチパネル表示装置の製造方法について説明する
図8は実施形態1のタッチパネル表示装置におけるタッチパネルの製造方法を説明するための平面模式図であり、図9は実施形態1のタッチパネル表示装置におけるタッチパネルに光透過性の基板の貼り付け方法を説明するための側面図である。ただし、本実施形態はスクリーン印刷を用いて、シリコーンゲルで耐衝撃粘着層50を形成する製造方法に関するものである。
<Embodiment 3>
In Embodiment 3, a method for manufacturing a touch panel display device according to Embodiment 1 of the present invention will be described. FIG. 8 is a schematic plan view for explaining a method for manufacturing a touch panel in the touch panel display device according to Embodiment 1. FIG. 3 is a side view for explaining a method of attaching a light-transmitting substrate to the touch panel in the touch panel display device of Embodiment 1. However, the present embodiment relates to a manufacturing method for forming the impact-resistant adhesive layer 50 with silicone gel using screen printing.

前述するように、実施形態1のタッチパネル表示装置100は透明導電膜10、20と絶縁膜30の積層構造を保護する目的で透明なシリコーンゲルにより、耐衝撃粘着層50を形成し、光透過性の基板42を貼り合せる構成を備えている。耐衝撃粘着層50は可視光領域の透過率を損なわず、耐衝撃性を兼ね備えるため、10μm以上3000μm以下で形成する必要があり、シリコーンゲルを架橋前にスクリーン印刷により印刷形成したものである。本実施形態3における製造方法では、スクリーン版はメッシュ径500μmのステンレスメッシュ製を使用し、前述する図5に示す耐衝撃粘着層50の領域すなわちタッチパネル用基板40の表面領域の内でドライバー接続部23を除く領域を印刷領域とする。なお、シリコーンゲルの塗布はスクリーン印刷法に限定されることはなく、ブレードコータ法、マイクログラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、コンマコート法、ダイコート法、及びスピンコート法等の他の塗工方法でもよい。   As described above, the touch panel display device 100 according to the first embodiment forms the impact-resistant adhesive layer 50 with a transparent silicone gel for the purpose of protecting the laminated structure of the transparent conductive films 10 and 20 and the insulating film 30, and transmits light. The substrate 42 is attached. The impact-resistant adhesive layer 50 does not impair the transmittance in the visible light region and also has impact resistance. Therefore, the impact-resistant adhesive layer 50 needs to be formed with a thickness of 10 μm or more and 3000 μm or less, and a silicone gel is formed by screen printing before crosslinking. In the manufacturing method according to the third embodiment, the screen plate is made of stainless mesh having a mesh diameter of 500 μm, and the driver connecting portion is within the region of the impact-resistant adhesive layer 50 shown in FIG. An area excluding 23 is set as a print area. The application of the silicone gel is not limited to the screen printing method, but other methods such as a blade coater method, a micro gravure coating method, a bar coating method, a spray coating method, a comma coating method, a die coating method, and a spin coating method. A coating method may be used.

まず、図8に基づいて、スクリーン印刷法で耐衝撃粘着層50を形成する方法を説明する。なお、シリコーンゲルの硬化は加熱による硬化が一般的となっているので、以下の説明においても、硬化前の液状のシリコーンゲルをスクリーン印刷法で塗布する場合について説明する。   First, a method for forming the impact-resistant adhesive layer 50 by screen printing will be described with reference to FIG. In addition, since the hardening of a silicone gel is common by the heating, also in the following description, the case where the liquid silicone gel before hardening is apply | coated by the screen printing method is demonstrated.

まず、液状のシリコーンゲル(架橋前のシリコーンゲル)を耐衝撃粘着層50となる領域すなわちタッチパネル用基板40の表面領域の内でドライバー接続部23を除く領域にスクリーン印刷法で形成する。その後に、周知のホットプレート等で加熱することで、シリコーンゲルを硬化させ(硬化処理)、所定の接着性能と弾性を有する耐衝撃粘着層50を形成する。このときの加熱温度は、使用するシリコーンゲルに適した温度を選択する。例えば、旭化成ワッカー社製のポッティングエラストマーSilGel 612などが耐衝撃粘着層50として適しており、このポッティングエラストマーSilGel 612を使用した場合には、スクリーン印刷後に、ホットプレートを用いて70℃で30分間加熱して耐衝撃粘着層50を形成する。なお、本実施形態3のシリコーンゲルは熱で硬化するタイプのものを使用したので、硬化に加熱処理を行う構成としたが、放射線等で硬化をするタイプのシリコーンゲルを用いた場合には前述の加熱処理の代わりに放射線等の照射処理が必要となる。   First, a liquid silicone gel (silicone gel before cross-linking) is formed by a screen printing method in an area to be the impact-resistant adhesive layer 50, that is, an area excluding the driver connection portion 23 in the surface area of the touch panel substrate 40. Thereafter, the silicone gel is cured (curing treatment) by heating with a known hot plate or the like to form the impact-resistant adhesive layer 50 having predetermined adhesion performance and elasticity. As the heating temperature at this time, a temperature suitable for the silicone gel to be used is selected. For example, potting elastomer SilGel 612 manufactured by Asahi Kasei Wacker is suitable as the impact-resistant adhesive layer 50. When this potting elastomer SilGel 612 is used, it is heated at 70 ° C. for 30 minutes using a hot plate after screen printing. Thus, the impact-resistant adhesive layer 50 is formed. In addition, since the silicone gel of this Embodiment 3 used the type hardened | cured with a heat | fever, it was set as the structure which heat-processes for hardening, but when using the type of silicone gel hardened | cured with a radiation etc., it is mentioned above Irradiation treatment such as radiation is required instead of the heat treatment.

耐衝撃粘着層50の可視光領域(400nm〜800nm)における透過率は、タッチパネル表示装置100と同時に使用する画像表示装置の性能を下げないために、90%以上、100%以下とすることが好ましい。   The transmittance of the impact-resistant adhesive layer 50 in the visible light region (400 nm to 800 nm) is preferably 90% or more and 100% or less so as not to lower the performance of the image display device used simultaneously with the touch panel display device 100. .

以上の手順により、耐衝撃粘着層50を備えたタッチパネル表示装置をスクリーン印刷により、形成することができる。   By the above procedure, the touch panel display device provided with the impact-resistant adhesive layer 50 can be formed by screen printing.

この耐衝撃粘着層50の形成の後に、図示しないドライバーICと透明導電膜10、20とを電気的に接続するための配線を複数本備えるフィルム状の配線テープ55を、図8に示すように端子部21に接続する。この配線テープ55の接続により、各端子からドライバーICまで配線が接続される。なお、配線テープ55の接続は、耐衝撃粘着層50を形成した後が好ましいが、作業性から耐衝撃粘着層50を印刷する前でもよい。また、本実施形態3では、耐衝撃粘着層50をタッチパネル側に印刷したが、光透過性の基板42に直接印刷する構成でもよい。   After the formation of the impact-resistant adhesive layer 50, a film-like wiring tape 55 having a plurality of wirings for electrically connecting a driver IC (not shown) and the transparent conductive films 10 and 20 as shown in FIG. Connect to terminal portion 21. With the connection of the wiring tape 55, the wiring is connected from each terminal to the driver IC. The connection of the wiring tape 55 is preferably after the impact resistant adhesive layer 50 is formed, but may be before the impact resistant adhesive layer 50 is printed from the viewpoint of workability. Further, in the third embodiment, the impact-resistant adhesive layer 50 is printed on the touch panel side, but it may be configured to print directly on the light-transmitting substrate 42.

次に、本実施形態3の耐衝撃粘着層50を備えたタッチパネル100に、光透過性の基板42を貼り合せる工程を説明する。なお、光透過性の基板42の貼り合わせでは、耐衝撃粘着層50を備えるタッチパネル用基板40単体、又は液晶パネルが接着された後の耐衝撃粘着層50を備えるタッチパネル用基板40のいずれでもよい。従って、以下の説明では、タッチパネル用基板40単体又は液晶パネルが接着された後の耐衝撃粘着層50を備えるタッチパネル用基板40として、透明基板側パネル60と記す。   Next, a process of bonding the light transmissive substrate 42 to the touch panel 100 including the impact-resistant adhesive layer 50 of the third embodiment will be described. The light-transmissive substrate 42 may be bonded by either the touch panel substrate 40 provided with the impact-resistant adhesive layer 50 or the touch panel substrate 40 provided with the impact-resistant adhesive layer 50 after the liquid crystal panel is bonded. . Accordingly, in the following description, the touch panel substrate 40 including the single touch panel substrate 40 or the impact-resistant adhesive layer 50 after the liquid crystal panel is bonded is referred to as a transparent substrate side panel 60.

図9に示すように、耐衝撃粘着層50を備えた透明基板側パネル60に、光透過性の基板42を重ね合わせた後に、図中の上部すなわち光透過性の基板42のタッチ面側から一定荷重(所定荷重)をかけながらローラー70を回転させる事で固定する。ローラー70は金属製のローラー軸71にゴム状のクッション層72を備える構成が好ましく、光透過性の基板42の端面に沿って回転させ、耐衝撃粘着層50を備えたタッチパネル又はタッチパネル表示装置が形成できる。   As shown in FIG. 9, after a transparent substrate 42 is superimposed on a transparent substrate side panel 60 having an impact-resistant adhesive layer 50, the upper portion in the drawing, that is, from the touch surface side of the transparent substrate 42 is shown. The roller 70 is fixed by rotating it while applying a constant load (predetermined load). The roller 70 is preferably configured to include a rubber cushion layer 72 on a metal roller shaft 71, and a touch panel or a touch panel display device provided with an impact-resistant adhesive layer 50 by rotating along the end face of the light-transmitting substrate 42. Can be formed.

以上説明したように、実施形態3の製造方法によれば、液状粘着組成物である液状のシリコーンゲルを透明基板側パネル(第1基板)60のタッチ面側、又は光透過性の基板(第2基板)42の対向面側に塗布(塗工)する工程と、加熱処理により、塗布されたシリコーンゲルを硬化させ耐衝撃粘着層50を形成する硬化工程と、該硬化工程で形成された耐衝撃粘着層50により、透明基板側パネル60のタッチ面側と光透過性の基板42の対向面側とを貼り合わせる工程とを有するものである。   As described above, according to the manufacturing method of the third embodiment, the liquid silicone gel that is the liquid adhesive composition is applied to the touch surface side of the transparent substrate side panel (first substrate) 60 or the light transmissive substrate (first substrate). 2 substrate) 42 is applied (coated) to the opposite surface side, a heat treatment is performed to cure the applied silicone gel to form the impact-resistant adhesive layer 50, and the anti-resistance formed in the curing step. The impact adhesive layer 50 includes a step of bonding the touch surface side of the transparent substrate side panel 60 and the opposite surface side of the light transmissive substrate 42 together.

〈実施形態4〉
本実施形態4においては本発明の実施形態2のタッチパネル表示装置の製造方法について説明する
図10は実施形態2のタッチパネル表示装置におけるタッチパネルの製造方法を説明するための平面模式図である。ただし、本実施形態4はスクリーン印刷を用いて、シリコーンゴムで耐衝撃粘着層51を形成する製造方法に関するものであり、耐衝撃粘着層51の形成領域と配線テープ55の接続方法を除く他の製造方法は実施形態4と同様の製造方法である。従って、以下の説明では、耐衝撃粘着層51の形成領域と配線テープ55の接続方法について詳細に説明する。
<Embodiment 4>
In Embodiment 4, a method for manufacturing a touch panel display device according to Embodiment 2 of the present invention will be described. FIG. 10 is a schematic plan view for explaining a method for manufacturing a touch panel in the touch panel display device according to Embodiment 2. However, the fourth embodiment relates to a manufacturing method for forming the impact-resistant adhesive layer 51 with silicone rubber using screen printing, and other than the method for connecting the region where the impact-resistant adhesive layer 51 is formed and the wiring tape 55 are connected. The manufacturing method is the same as that of the fourth embodiment. Therefore, in the following description, a method for connecting the formation region of the impact-resistant adhesive layer 51 and the wiring tape 55 will be described in detail.

まず、液状のシリコーンゴムを耐衝撃粘着層51の形成領域であるタッチパネル用基板40の全面にスクリーン印刷法で形成する。その後に、周知のホットプレート等で加熱することで、シリコーンゴムを硬化させることによって、所定の接着性能と弾性を有する耐衝撃粘着層51を形成する。このときの加熱温度は、使用するシリコーンゴムに適した温度を適宜選択する。なお、本実施形態4のシリコーンゴムは熱で硬化するタイプのものを使用したので、硬化に加熱処理を行う構成としたが、放射線等で硬化をするタイプのシリコーンゲルを用いた場合には加熱処理の代わりに放射線等の照射処理が必要となる。   First, liquid silicone rubber is formed by screen printing on the entire surface of the touch panel substrate 40, which is a region where the impact-resistant adhesive layer 51 is formed. Thereafter, the silicone rubber is cured by heating with a known hot plate or the like, thereby forming an impact-resistant adhesive layer 51 having predetermined adhesion performance and elasticity. As the heating temperature at this time, a temperature suitable for the silicone rubber to be used is appropriately selected. In addition, since the silicone rubber of the fourth embodiment is of a type that is cured by heat, the heat treatment is performed for curing. However, when a silicone gel that is cured by radiation or the like is used, heating is performed. Irradiation processing such as radiation is required instead of processing.

以上の手順により、耐衝撃粘着層51を備えたタッチパネル表示装置をスクリーン印刷により、形成することができる。   By the above procedure, the touch panel display device provided with the impact-resistant adhesive layer 51 can be formed by screen printing.

この耐衝撃粘着層51の形成の後に、図示しないドライバーICと透明導電膜10、20とを電気的に接続するための配線を複数本備えるフィルム状の配線テープ55を、図10に示すように端子部21に接続する。このとき、端子部21は耐衝撃粘着層51で覆われる構成となっているので、本実施形態4の配線テープ55の接続では、例えば圧着時のように該配線テープ55をタッチ面側から押しつけるようにして、端子部21の上部に形成される耐衝撃粘着層51を破り、配線テープ55と端子部21との電気的接続を行う。この配線テープ55の接続により、各端子からドライバーICまで配線が接続される。なお、配線テープ55の接続は、耐衝撃粘着層50を形成した後が好ましいが、作業性から耐衝撃粘着層50を印刷する前でもよい。また、本実施形態4では、耐衝撃粘着層50をタッチパネル側に印刷したが、光透過性の基板42に直接印刷する構成でもよい。   After the formation of the impact-resistant adhesive layer 51, a film-like wiring tape 55 having a plurality of wirings for electrically connecting a driver IC (not shown) and the transparent conductive films 10 and 20 as shown in FIG. Connect to terminal portion 21. At this time, since the terminal portion 21 is covered with the impact-resistant adhesive layer 51, when connecting the wiring tape 55 of the fourth embodiment, the wiring tape 55 is pressed from the touch surface side, for example, at the time of crimping. Thus, the impact-resistant adhesive layer 51 formed on the upper portion of the terminal portion 21 is broken, and the wiring tape 55 and the terminal portion 21 are electrically connected. With the connection of the wiring tape 55, the wiring is connected from each terminal to the driver IC. The connection of the wiring tape 55 is preferably after the impact resistant adhesive layer 50 is formed, but may be before the impact resistant adhesive layer 50 is printed from the viewpoint of workability. Further, in the fourth embodiment, the impact-resistant adhesive layer 50 is printed on the touch panel side, but it may be configured to print directly on the light-transmitting substrate 42.

この後に、実施形態3と同様の手順により、本実施形態4の耐衝撃粘着層51を備えたタッチパネル101に、光透過性の基板42を貼り合せたタッチパネル101が形成される。   Thereafter, the touch panel 101 in which the light-transmissive substrate 42 is bonded to the touch panel 101 including the impact-resistant adhesive layer 51 of the fourth embodiment is formed by the same procedure as that of the third embodiment.

以上説明したように、実施形態4の製造方法によれば、液状粘着組成物である液状のシリコーンゴムを、上面に透明導電膜10、20等が形成されるタッチパネル用基板(透明基板側パネル、第1基板)40のタッチ面側、又は光透過性の基板(第2基板)42の対向面側に塗布(塗工)する工程と、加熱処理により、塗布されたシリコーンゴムを硬化させ耐衝撃粘着層51を形成する硬化工程と、該硬化工程で形成された耐衝撃粘着層51により、透明基板側パネルのタッチ面側と光透過性の基板42の対向面側とを貼り合わせる工程とを有するものである。   As described above, according to the manufacturing method of Embodiment 4, a liquid silicone rubber, which is a liquid adhesive composition, is formed on a touch panel substrate (transparent substrate side panel, Applying (coating) to the touch surface side of the first substrate 40 or the opposite surface side of the light-transmitting substrate (second substrate) 42, and heat treatment, the applied silicone rubber is cured and shock resistant. A curing step for forming the adhesive layer 51, and a step of bonding the touch surface side of the transparent substrate side panel and the opposite surface side of the light-transmitting substrate 42 by the impact resistant adhesive layer 51 formed in the curing step. It is what you have.

〈実施形態5〉
本実施形態5においては本発明の実施形態1のタッチパネル表示装置のリペア法について説明する
図11は実施形態1のタッチパネル表示装置におけるタッチパネルのリペア手順を説明するための側面図である。ただし、以下の説明では、タッチパネルのみの構成におけるリペア法を説明するが、タッチパネルと液晶パネル17とを接着層15で接着した後のタッチパネル表示装置でのリペア法も同様の手順である。
<Embodiment 5>
In the fifth embodiment, a repair method of the touch panel display device according to the first embodiment of the present invention will be described. FIG. 11 is a side view for explaining a touch panel repair procedure in the touch panel display device according to the first embodiment. However, in the following description, the repair method in the configuration of only the touch panel will be described, but the repair method in the touch panel display device after the touch panel and the liquid crystal panel 17 are bonded with the adhesive layer 15 is the same procedure.

実施形態3に記した製造方法で得られた光透過性の基板42を備えたタッチパネル表示装置に、耐衝撃粘着層50としてシリコーンゲルを使用した場合のリペア方法を以下順に説明する。   A repair method in the case where a silicone gel is used as the impact-resistant adhesive layer 50 in the touch panel display device including the light-transmitting substrate 42 obtained by the manufacturing method described in the third embodiment will be described in the following order.

図11(a)に示すように、始めに、光透過性の基板42と透明基板側パネル60との隙間に、該隙間より薄いブレード80を差し込む。このブレードは金属、樹脂等の適宜材質を選択できるが、耐衝撃粘着層50として使用しているシリコーンゲルとの密着性がある材質が好ましい。ブレード80を、光透過性の基板42および透明基板側パネル60に傷を付けない程度差し込んだ後、ブレード80の端面に耐衝撃粘着層50を形成するシリコーンゲルが付着したまま、引っ張り出すことが出来る。このときの耐衝撃粘着層50の引き出しは、粘着性(表面粘着力)が弱粘着性であること、硬化後であっても柔らかいこと、粘着力よりも引っ張り強度の方が大きいこと等のシリコーンゲルの特性により可能となるものである。   As shown in FIG. 11A, first, a blade 80 thinner than the gap is inserted into the gap between the light transmissive substrate 42 and the transparent substrate side panel 60. The blade can be made of any suitable material such as metal or resin, but is preferably made of a material having adhesion to the silicone gel used as the impact resistant adhesive layer 50. After inserting the blade 80 to such an extent that the light-transmitting substrate 42 and the transparent substrate side panel 60 are not damaged, the blade 80 can be pulled out with the silicone gel forming the impact resistant adhesive layer 50 attached to the end surface of the blade 80. I can do it. In this case, the impact-resistant adhesive layer 50 is pulled out from silicone such that the adhesiveness (surface adhesive strength) is weakly adhesive, soft even after curing, and the tensile strength is greater than the adhesive strength. This is made possible by the properties of the gel.

次に、図11(b)に示すように、引っ張り出したシリコーンゲルを回転可能な棒82に巻きつける。この棒82は金属、樹脂の適宜材質を選択できるが、シリコーンゲルを効率よく巻き取るために、細かい溝のついたワイヤー等が好ましい。   Next, as shown in FIG. 11 (b), the pulled silicone gel is wound around a rotatable rod 82. The rod 82 can be selected from metal and resin as appropriate. However, a wire with a fine groove is preferable in order to efficiently wind the silicone gel.

図11(c)に示すように、棒82を回転させながら、光透過性の基板42と透明基板側パネル60とを互いに反対方向に引き剥がす力81を加え続ける。耐衝撃粘着層50を形成するシリコーンゲルを最後まで巻き取る事で、シリコーンゲルを光透過性の基板42と透明基板側パネル60との界面から取り去る事ができ、光透過性の基板42と透明基板側パネル60とに傷を付けずにリペアが出来る。このとき、引き剥がしの始点、および透明基板側パネル60の外周枠部分にシリコーンゲルが残りやすいが、引き剥がし後に綿棒等で簡単に取り去る事が出来る。   As shown in FIG. 11C, while the rod 82 is rotated, a force 81 that peels the light-transmitting substrate 42 and the transparent substrate side panel 60 in the opposite directions is continuously applied. By winding up the silicone gel forming the impact-resistant adhesive layer 50 to the end, the silicone gel can be removed from the interface between the light-transmitting substrate 42 and the transparent substrate side panel 60, and the light-transmitting substrate 42 and the transparent substrate 42 are transparent. Repair can be performed without damaging the substrate-side panel 60. At this time, silicone gel tends to remain at the starting point of peeling and the outer peripheral frame portion of the transparent substrate side panel 60, but can be easily removed with a cotton swab after peeling.

以上説明したように、シリコーンゲルを耐衝撃粘着層50に用いた実施形態1のタッチパネルにおける透明基板側パネル60と光透過性の基板42との引き剥がしでは、当該透明基板側パネル60と光透過性の基板42とを貼り合わせた際の隙間からシリコーンゲルを引き抜くようにして耐衝撃粘着層50を除去することができるので、作業量を大幅に低減させることが可能となり、高いリペア性を実現することができる。   As described above, in peeling off the transparent substrate side panel 60 and the light transmissive substrate 42 in the touch panel of the first embodiment using the silicone gel as the impact resistant adhesive layer 50, the transparent substrate side panel 60 and the light transmissive substrate 42 are separated. Since the impact-resistant adhesive layer 50 can be removed by pulling out the silicone gel from the gap when the substrate 42 is bonded together, the amount of work can be greatly reduced and high repairability is achieved. can do.

以上説明したリペア法は、タッチパネル用基板40(図11中では透明基板側パネル60として表示パネル17を含む場合も考慮した)及び光透過性の基板42のいずれの端部よりも耐衝撃粘着層50が内側に形成される場合のリペア法であるが、図13に示すように、耐衝撃粘着層50にはみ出し部位52を形成することにより、リペアを更に効率的に行うことが可能となる。   In the repair method described above, the touch-resistant substrate 40 (considering the case where the display panel 17 is included as the transparent substrate side panel 60 in FIG. 11) and the light-resistant substrate 42 are more resistant to impact than the adhesive layer. This is a repair method in which 50 is formed on the inner side. However, as shown in FIG. 13, by forming the protruding portion 52 in the impact-resistant adhesive layer 50, the repair can be performed more efficiently.

すなわち、図13に示すように、タッチパネル用基板40又は光透過性の基板42の内の少なくともどちらか一方の基板の端部よりも外側に位置する部位52を、耐衝撃粘着層50のすくなくとも一部に形成するものである。このような構成とすることにより、リペア時においてははみ出し部位52を前述の引き出し部位の代わりにして、前述する図11(b)の手順からのリペアが可能となるので、光透過性の基板42と透明基板側パネル60との引き剥がし要する作業量をさらに低減することができる。   That is, as shown in FIG. 13, at least one portion 52 of the impact-resistant adhesive layer 50 is located on the outer side of the end portion of at least one of the touch panel substrate 40 and the light transmissive substrate 42. It is formed in the part. By adopting such a configuration, at the time of repair, the protruding portion 52 can be replaced with the above-described pulling-out portion, so that the repair from the procedure of FIG. The amount of work required to peel off the transparent substrate side panel 60 can be further reduced.

〈実施形態6〉
本実施形態6においては本発明の実施形態2のタッチパネル表示装置のリペア法について説明する
図12は実施形態2のタッチパネル表示装置におけるタッチパネルのリペア手順を説明するための側面図である。ただし、以下の説明では、タッチパネルのみの構成におけるリペア法を説明するが、タッチパネルと液晶パネル17とを接着層15で接着した後のタッチパネル表示装置でのリペア法も同様の手順である。
<Embodiment 6>
In the sixth embodiment, a repair method of the touch panel display device according to the second embodiment of the present invention will be described. FIG. 12 is a side view for explaining a touch panel repair procedure in the touch panel display device according to the second embodiment. However, in the following description, the repair method in the configuration of only the touch panel will be described, but the repair method in the touch panel display device after the touch panel and the liquid crystal panel 17 are bonded with the adhesive layer 15 is the same procedure.

実施形態4に記した製造方法で得られた光透過性の基板42を備えたタッチパネル表示装置に、耐衝撃粘着層51としてシリコーンゴムを使用した場合のリペア方法を以下順に説明する。   A repair method in the case where silicone rubber is used as the impact-resistant adhesive layer 51 in the touch panel display device provided with the light-transmitting substrate 42 obtained by the manufacturing method described in the fourth embodiment will be described in the following order.

図12に示すように、始めに、光透過性の基板42と透明基板側パネル60との隙間にその隙間より、対になった二つの薄いブレード85を差し込む。ここでブレード85の差込量は、耐衝撃粘着層51として使用しているシリコーンゴムに触れる必要がなく、光透過性の基板42と透明基板側パネル60とをそれぞれの対ブレード85で支えるだけでよい。このため、ブレード85は金属よりも、樹脂等の材質が好ましく、光透過性の基板42と透明基板側パネル60とを引き剥がす方向81に弱い荷重をかけ続けることが出来る強度が必要である。この引き剥がしにかける荷重は100g程度が好ましく、数分放置する事で、完全に剥がす事が出来る。荷重と時間は使用する光透過性の基板42と透明基板側パネル60との耐変形性に依存しており、適宜選択すればよい。   As shown in FIG. 12, first, two thin blades 85 are inserted into the gap between the light-transmitting substrate 42 and the transparent substrate side panel 60 through the gap. Here, the insertion amount of the blade 85 does not need to touch the silicone rubber used as the impact-resistant adhesive layer 51, and only supports the light-transmitting substrate 42 and the transparent substrate side panel 60 with the respective blades 85. It's okay. For this reason, the blade 85 is preferably made of a material such as resin rather than metal, and needs to be strong enough to continue to apply a weak load in the direction 81 in which the light-transmitting substrate 42 and the transparent substrate side panel 60 are peeled off. The load applied to the peeling is preferably about 100 g, and can be completely peeled by leaving it for several minutes. The load and time depend on the deformation resistance of the light transmissive substrate 42 and the transparent substrate side panel 60 to be used, and may be appropriately selected.

このときの光透過性の基板42と透明基板側パネル60との引き剥がしは、粘着性(表面粘着力)が弱粘着性であること、硬化後であっても柔らかいこと等のシリコーンゴムの特性により可能となるものである。   At this time, the light-transmitting substrate 42 and the transparent substrate-side panel 60 are peeled off from each other by the characteristics of the silicone rubber such that the adhesiveness (surface adhesive force) is weakly adhesive and is soft even after curing. Is possible.

以上説明したように、シリコーンゴムを耐衝撃粘着層50に用いた実施形態2のタッチパネルにおける透明基板側パネル60と光透過性の基板42との引き剥がしでは、当該透明基板側パネル60と光透過性の基板42とを貼り合わせた際の隙間を広げるような力を加えることのみで耐衝撃粘着層50で接着される透明基板側パネル60と光透過性の基板42とを引き剥がすことができるので、作業量を大幅に低減させることが可能となり、高いリペア性を実現することができる。   As described above, in peeling off the transparent substrate side panel 60 and the light transmissive substrate 42 in the touch panel of the second embodiment using silicone rubber for the impact resistant adhesive layer 50, the transparent substrate side panel 60 and the light transmissive substrate 42 are separated. The transparent substrate-side panel 60 and the light-transmitting substrate 42 that are bonded by the impact-resistant adhesive layer 50 can be peeled off only by applying a force that widens the gap when the substrate 42 is bonded. Therefore, the amount of work can be greatly reduced, and high repairability can be realized.

一般的な静電容量結合方式のタッチパネルを有するタッチパネル表示装置の断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of a touch panel display device having a general capacitive coupling type touch panel. 一般的な静電容量結合方式のタッチパネルを有するタッチパネル表示装置の斜視図である。It is a perspective view of a touch panel display device having a general capacitive coupling type touch panel. 本発明の実施形態1のタッチパネル表示装置の概略構成を説明するための断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating schematic structure of the touchscreen display apparatus of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態1のタッチパネルの概略構成を説明するための断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating schematic structure of the touchscreen of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態1のタッチパネルの概略構成を説明するための平面模式図である。It is a plane schematic diagram for demonstrating schematic structure of the touchscreen of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態2のタッチパネルの概略構成を説明するための断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating schematic structure of the touchscreen of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施形態2のタッチパネルの概略構成を説明するための平面模式図である。It is a plane schematic diagram for demonstrating schematic structure of the touchscreen of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施形態1のタッチパネル表示装置におけるタッチパネルの製造方法を説明するための平面模式図である。It is a plane schematic diagram for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen in the touchscreen display apparatus of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態1のタッチパネル表示装置におけるタッチパネルに光透過性の基板の貼り付け方法を説明するための側面図である。It is a side view for demonstrating the sticking method of a light-transmitting board | substrate to the touchscreen in the touchscreen display apparatus of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態2のタッチパネル表示装置におけるタッチパネルの製造方法を説明するための平面模式図である。It is a plane schematic diagram for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen in the touchscreen display apparatus of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施形態1のタッチパネル表示装置におけるタッチパネルのリペア手順を説明するための側面図である。It is a side view for demonstrating the repair procedure of the touchscreen in the touchscreen display apparatus of Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態2のタッチパネル表示装置におけるタッチパネルのリペア手順を説明するための側面図である。It is a side view for demonstrating the repair procedure of the touchscreen in the touchscreen display apparatus of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施形態1のタッチパネルのリペア性を高めたその他のタッチパネルの概略構成を説明するための平面模式図である。It is a plane schematic diagram for demonstrating schematic structure of the other touch panel which improved the repairability of the touch panel of Embodiment 1 of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・従来のタッチパネル表示装置、2・・・偏光板
3・・・カラーフィルタ基板用ガラス、4・・・カラーフィルタ(RGB)層
5・・・液晶、6・・・TFT素子層、7・・・TFT基板用ガラス、8・・・偏光板
9・・・拡散シート、10・・・第1の透明導電膜、12・・・カラーフィルタ基板
13・・・TFT基板、14・・・バックライトモジュール、15・・・接着層
16・・・空気層、17・・・液晶パネル
18・・・タッチパネル表示装置のタッチパネル、20・・・第2の透明電極膜
21・・・端子部、22・・・引き出し電極、23・・・ドライバー接続部
30・・・絶縁膜層、40・・・タッチパネル用基板、41・・・位置検出用透明電極
42・・・光透過性の基板、43・・・タッチする指、50、51・・・耐衝撃粘着層
52・・・はみ出し部位、55・・・端子部とドライバーを接続する配線フィルム
60・・・液晶表示装置に固定されたタッチパネル表示装置
70・・・ローラー、71・・・ローラー軸、72・・・クッション層
80・・・ブレード、81・・・引き剥がし方向、82・・・棒
83・・・棒の回転方向、85・・・対ブレード、100、101・・・タッチパネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conventional touch panel display device, 2 ... Polarizing plate 3 ... Glass for color filter substrates, 4 ... Color filter (RGB) layer 5 ... Liquid crystal, 6 ... TFT element layer, DESCRIPTION OF SYMBOLS 7 ... Glass for TFT substrates, 8 ... Polarizing plate 9 ... Diffusion sheet, 10 ... 1st transparent conductive film, 12 ... Color filter substrate 13 ... TFT substrate, 14 ... -Backlight module, 15 ... Adhesive layer 16 ... Air layer, 17 ... Liquid crystal panel 18 ... Touch panel of touch panel display device, 20 ... Second transparent electrode film 21 ... Terminal part 22 ... extraction electrode, 23 ... driver connection part 30 ... insulating film layer, 40 ... substrate for touch panel, 41 ... transparent electrode for position detection 42 ... light transmissive substrate, 43 ... Finger to touch, 50, 51 ... Impact resistant adhesive layer 52... Protruding portion, 55... Wiring film 60 connecting the terminal part and driver... Touch panel display device 70 fixed to liquid crystal display device 70... Roller 71. 72 ... Cushion layer 80 ... Blade, 81 ... Stripping direction, 82 ... Bar 83 ... Direction of rotation of the rod, 85 ... To blade, 100, 101 ... Touch panel

Claims (11)

複数本の第1の信号線と、前記第1の信号線と交差する複数本の第2の信号線とが形成される第1基板と、
該第1基板のタッチ面側に配置される第2基板と
を備えるタッチパネルであって、
液状粘着組成物を硬化させ形成される耐衝撃粘着層を備え、
前記第1基板と前記第2基板とが前記耐衝撃粘着層を介して対向配置され、
前記耐衝撃粘着層がシリコーンゲルで形成される
ことを特徴とするタッチパネル。
A first substrate on which a plurality of first signal lines and a plurality of second signal lines intersecting the first signal lines are formed;
A touch panel comprising: a second substrate disposed on a touch surface side of the first substrate;
An impact-resistant adhesive layer formed by curing the liquid adhesive composition,
The first substrate and the second substrate are arranged to face each other with the impact-resistant adhesive layer interposed therebetween,
The touch panel, wherein the impact-resistant adhesive layer is formed of silicone gel.
請求項1に記載のタッチパネルにおいて、
前記シリコーンゲルで形成される耐衝撃粘着層の針入度(JIS K2207)が10〜100である
ことを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to claim 1,
The penetration resistance (JIS K2207) of the impact-resistant adhesive layer formed of the silicone gel is 10-100.
複数本の第1の信号線と、前記第1の信号線と交差する複数本の第2の信号線とが形成される第1基板と、
該第1基板のタッチ面側に配置される第2基板と
を備えるタッチパネルであって、
液状粘着組成物を硬化させ形成される耐衝撃粘着層を備え、
前記第1基板と前記第2基板とが前記耐衝撃粘着層を介して対向配置され、
前記耐衝撃粘着層がシリコーンゴムで形成される
ことを特徴とするタッチパネル。
A first substrate on which a plurality of first signal lines and a plurality of second signal lines intersecting the first signal lines are formed;
A touch panel comprising: a second substrate disposed on a touch surface side of the first substrate;
An impact-resistant adhesive layer formed by curing the liquid adhesive composition,
The first substrate and the second substrate are arranged to face each other with the impact-resistant adhesive layer interposed therebetween,
The touch panel, wherein the impact-resistant adhesive layer is formed of silicone rubber.
請求項3に記載のタッチパネルにおいて、
前記シリコーンゴムで形成される耐衝撃粘着層のゴム硬度(Shore A)が10〜100である
ことを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to claim 3,
The rubber hardness (Shore A) of the impact-resistant adhesive layer formed of the silicone rubber is 10 to 100.
請求項1乃至4の内のいずれかに記載のタッチパネルにおいて、
前記耐衝撃粘着層の厚さが10〜3000μmである
ことを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to any one of claims 1 to 4,
The thickness of the said impact-resistant adhesion layer is 10-3000 micrometers. The touchscreen characterized by the above-mentioned.
請求項1乃至5の内のいずれかに記載のタッチパネルにおいて、
前記耐衝撃粘着層の透過率は、可視光領域(400nm〜800nm)で90%以上、100%以下である
ことを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to any one of claims 1 to 5,
The transmittance of the impact-resistant adhesive layer is 90% or more and 100% or less in the visible light region (400 nm to 800 nm).
請求項1乃至6の内のいずれかに記載のタッチパネルにおいて、
静電容量結合方式によりタッチ位置を検出する
ことを特徴とするタッチパネル。
The touch panel according to any one of claims 1 to 6,
A touch panel that detects a touch position by a capacitive coupling method.
複数本のドレイン線と、前記ドレイン線と交差する複数本のゲート線とを有し、前記ドレイン線と前記ゲート線とに囲まれた領域を画素の領域とする表示パネルと、
前記表示パネルの表示面側に配置される請求項1乃至7の内のいずれかに記載のタッチパネルと
を備えることを特徴とするタッチパネル表示装置。
A display panel having a plurality of drain lines and a plurality of gate lines intersecting the drain lines, wherein a region surrounded by the drain lines and the gate lines is a pixel region;
A touch panel display device comprising: the touch panel according to claim 1 disposed on a display surface side of the display panel.
複数本の第1の信号線と、前記第1の信号線と交差する複数本の第2の信号線とが形成される第1基板と、該第1基板のタッチ面側に配置される第2基板と、液状粘着組成物を硬化させ形成される耐衝撃粘着層とを備えるタッチパネルの製造方法であって、
液状粘着組成物を前記第1基板のタッチ面側又は前記第2基板の対向面側に塗布する工程と、
放射線の照射又は加熱により、前記塗布された液状粘着組成物を硬化させ耐衝撃粘着層を形成する硬化工程と、
該硬化工程で形成された耐衝撃粘着層により、前記第1基板のタッチ面側と前記第2基板の対向面側とを貼り合わせる工程と
を有し、
前記耐衝撃粘着層がシリコーンゲルからなる
ことを特徴とするタッチパネルの製造方法。
A first substrate on which a plurality of first signal lines and a plurality of second signal lines intersecting with the first signal lines are formed, and a first substrate disposed on the touch surface side of the first substrate. A method for manufacturing a touch panel comprising two substrates and an impact-resistant adhesive layer formed by curing a liquid adhesive composition,
Applying the liquid adhesive composition to the touch surface side of the first substrate or the opposing surface side of the second substrate;
A curing step of curing the applied liquid adhesive composition by irradiation or heating to form an impact-resistant adhesive layer;
Bonding the touch surface side of the first substrate and the opposite surface side of the second substrate by the impact-resistant adhesive layer formed in the curing step;
The method for manufacturing a touch panel, wherein the impact-resistant adhesive layer is made of silicone gel.
複数本の第1の信号線と、前記第1の信号線と交差する複数本の第2の信号線とが形成される第1基板と、該第1基板のタッチ面側に配置される第2基板と、液状粘着組成物を硬化させ形成される耐衝撃粘着層とを備えるタッチパネルの製造方法であって、
液状粘着組成物を前記第1基板のタッチ面側又は前記第2基板の対向面側に塗布する工程と、
放射線の照射又は加熱により、前記塗布された液状粘着組成物を硬化させ耐衝撃粘着層を形成する硬化工程と、
該硬化工程で形成された耐衝撃粘着層により、前記第1基板のタッチ面側と前記第2基板の対向面側とを貼り合わせる工程と
を有し、
前記耐衝撃粘着層がシリコーンゴムからなる
ことを特徴とするタッチパネルの製造方法。
A first substrate on which a plurality of first signal lines and a plurality of second signal lines intersecting with the first signal lines are formed, and a first substrate disposed on the touch surface side of the first substrate. A method for manufacturing a touch panel comprising two substrates and an impact-resistant adhesive layer formed by curing a liquid adhesive composition,
Applying the liquid adhesive composition to the touch surface side of the first substrate or the opposing surface side of the second substrate;
A curing step of curing the applied liquid adhesive composition by irradiation or heating to form an impact-resistant adhesive layer;
Bonding the touch surface side of the first substrate and the opposite surface side of the second substrate by the impact-resistant adhesive layer formed in the curing step;
The method for manufacturing a touch panel, wherein the impact-resistant adhesive layer is made of silicone rubber.
請求項9又は10に記載のタッチパネルの製造方法において、
前記第1基板のタッチ面側又は前記第2基板の対向面側に液状粘着組成物を塗布する工程がスクリーン印刷である
ことを特徴とするタッチパネルの製造方法。
In the manufacturing method of the touch panel according to claim 9 or 10,
The method of manufacturing a touch panel, wherein the step of applying the liquid adhesive composition to the touch surface side of the first substrate or the opposite surface side of the second substrate is screen printing.
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