JP2010106241A - Antistatic film - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antistatic film excellent in heat-sealing properties, etc., without impairing primary surface characteristics of a base resin making up of an antistatic film. <P>SOLUTION: The antistatic film includes (A) 40-98 wt.% of a polyolefin resin, (B) 1-30 wt.% of an antistatic agent including a block polymer having a structure formed by repeatedly and alternately bonding a block of polyolefin (a) to a block of a hydrophilic polymer (b) having a volume resistivity value of 1×10<SP>5</SP>to 1×10<SP>11</SP>Ω×cm and (C) 1-30 wt.% of carbodiimide compound based on the total weight of (A) to (C). <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、帯電防止性フィルムに関し、さらに詳しくは、ヒートシール性に優れる帯電防止性フィルムに関する。   The present invention relates to an antistatic film, and more particularly to an antistatic film excellent in heat sealability.

従来、ポリオレフィンのブロックと、体積固有抵抗値が1×105〜1×1011Ω・cmの親水性ポリマーのブロックとが、繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマーおよびベース樹脂のポリオレフィン樹脂を必須成分とする帯電防止性樹脂組成物からなる表層フィルムと、熱可塑性樹脂からなる基層フィルムとからなる多層フィルムが帯電防止性および強度に優れるものとして提案されている(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, a block polymer having a structure in which a polyolefin block and a hydrophilic polymer block having a volume specific resistance value of 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω · cm are repeatedly bonded alternately and a base resin polyolefin resin A multilayer film composed of a surface film composed of an antistatic resin composition as an essential component and a base film composed of a thermoplastic resin has been proposed as having excellent antistatic properties and strength (see, for example, Patent Document 1). .

特開2002−321314号公報JP 2002-321314 A

しかしながら、上記多層フィルムでは、表層フィルムにブロックポリマーを含有することから、ベース樹脂であるポリオレフィン樹脂のフィルム表面特性に少なからぬ影響があり、ヒートシール性が悪化したり、表面荒れや表面析出物がある、塗装や印刷がしにくくなるという問題がある。
本発明の目的は、帯電防止性フィルムを構成するベース樹脂の本来の表面特性を損なう(表面荒れや表面析出物がある)ことなく、ヒートシール性等に優れる帯電防止性フィルムを提供することにある。
However, since the above-mentioned multilayer film contains a block polymer in the surface layer film, it has a considerable influence on the film surface characteristics of the polyolefin resin, which is the base resin, and heat sealability deteriorates, and surface roughness and surface precipitates are present. There is a problem that painting and printing are difficult.
An object of the present invention is to provide an antistatic film excellent in heat sealability and the like without impairing the original surface characteristics of the base resin constituting the antistatic film (there is surface roughness and surface deposits). is there.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。すなわち、本発明は、下記(A)〜(C)を含有してなり、(A)〜(C)の合計重量に基づいて、(A)を40〜98%、(B)を1〜30%、(C)を1〜30%含有することを特徴とする帯電防止性フィルム
(A)ポリオレフィン樹脂
(B)ポリオレフィン(a)のブロックと、体積固有抵抗値が1×105〜1×1011Ω
・cmの親水性ポリマー(b)のブロックとが、繰り返し交互に結合した構造を有
するブロックポリマーからなる帯電防止剤
(C)カルボジイミド化合物
;並びに、該フィルムに塗装および/または印刷を施してなるフィルム物品である。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has reached the present invention. That is, this invention contains the following (A)-(C), and based on the total weight of (A)-(C), (A) is 40-98%, (B) is 1-30. %, (C) 1-30% antistatic film (A) polyolefin resin (B) polyolefin (a) block, volume resistivity of 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω
・ Antistatic agent (C) carbodiimide compound consisting of a block polymer having a structure in which blocks of hydrophilic polymer (b) of cm are repeatedly and alternately bonded; and the film is coated and / or printed It is a film article.

本発明の帯電防止性フィルムは、下記の効果を奏する。
(1)永久帯電防止性およびヒートシール性に優れる。
(2)帯電防止性フィルムを構成するベース樹脂の本来の表面特性を損なうことがない。
The antistatic film of the present invention has the following effects.
(1) Excellent permanent antistatic property and heat sealability.
(2) The original surface characteristics of the base resin constituting the antistatic film are not impaired.

[ポリオレフィン樹脂(A)]
本発明におけるポリオレフィン樹脂(A)としては、例えばポリプロピレン、ポリエチレン、プロピレン−エチレン共重合体[共重合比(重量比)=0.1/99.9〜99.9/0.1]、プロピレンおよび/またはエチレンと他のα−オレフィン[炭素数(以下Cと略記)4〜12]の1種以上との共重合体(ランダムおよび/またはブロック付加)[共重合比(重量比)=99/1〜5/95]、エチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA
)[共重合比(重量比)=95/5〜60/40]、エチレン/エチルアクリレート共重合体(EEA)[共重合比(重量比)=95/5〜60/40]が挙げられる。
これらのうち後述の(B)および(C)との相溶性およびヒートシール性の観点から好ましいのは、ポリプロピレン、ポリエチレン、プロピレン−エチレン共重合体、プロピレンおよび/またはエチレンとC4〜12のα−オレフィンの1種以上との共重合体[共重合比(重量比)=90/10〜10/90、ランダムおよび/またはブロック付加]、エチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA)[共重合比(重量比)=85/15〜60/40]である。
[Polyolefin resin (A)]
Examples of the polyolefin resin (A) in the present invention include polypropylene, polyethylene, propylene-ethylene copolymer [copolymerization ratio (weight ratio) = 0.1 / 99.9 to 99.9 / 0.1], propylene and Copolymer (random and / or block addition) with one or more ethylene and other α-olefin [carbon number (hereinafter abbreviated as C) 4-12] [copolymerization ratio (weight ratio) = 99 / 1-5 / 95], ethylene / vinyl acetate copolymer (EVA
) [Copolymerization ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40], ethylene / ethyl acrylate copolymer (EEA) [Copolymerization ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40].
Among these, polypropylene, polyethylene, propylene-ethylene copolymer, propylene and / or ethylene and C4-12 α- are preferable from the viewpoints of compatibility with (B) and (C) described later and heat sealability. Copolymers with one or more olefins [copolymerization ratio (weight ratio) = 90/10 to 10/90, random and / or block addition], ethylene / vinyl acetate copolymer (EVA) [copolymerization ratio ( Weight ratio) = 85/15 to 60/40].

(A)のメルトフローインデックス(以下MFRと略記)は、後述するフィルムの帯電防止性および機械特性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K6758に準じて(例えばポリプロピレンの場合:23
0℃、荷重2.16kgf、ポリエチレンの場合:190℃、荷重2.16kgf)測定される。
(A)の結晶化度は、帯電防止性の観点から好ましくは98%以下、さらに好ましくは0〜80%、とくに好ましくは0〜70%である。結晶化度は、X線回折、赤外線吸収スペクトル等の方法によって測定される〔「高分子の固体構造−高分子実験学講座2」(南篠初五郎)、42頁、共立出版1958年刊参照〕。
The melt flow index (hereinafter abbreviated as MFR) of (A) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of antistatic properties and mechanical properties of the film described later. MFR conforms to JIS K6758 (for example, in the case of polypropylene: 23
0 ° C., load 2.16 kgf, polyethylene: 190 ° C., load 2.16 kgf).
The crystallinity of (A) is preferably 98% or less, more preferably 0 to 80%, particularly preferably 0 to 70% from the viewpoint of antistatic properties. The crystallinity is measured by a method such as X-ray diffraction, infrared absorption spectrum, etc. [Refer to “Solid Structure of Polymers—Human Laboratory for Polymer Experiments 2” (Hatsugoro Nanshino), page 42, published by Kyoritsu Shuppan 1958).

[帯電防止剤(B)]
(B)を構成するブロックポリマー(BP)としては、国際公開WO00/47652号公報明細書に記載されているブロックポリマーが使用できる。
(BP)を構成するポリオレフィン(a)としては、カルボニル基含有基(カルボキシル基、アルデヒド基、カルボキシアルキル基、アミド基が含まれ、ブロックポリマーの形成のし易さの観点から、カルボキシル基が好ましい)をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a1)、水酸基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a2)、アミノ基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a3)が使用でき、さらに、カルボニル基含有基をポリマーの片末端に有するポリオレフィン(a4)、水酸基をポリマーの片末端に有するポリオレフィン(a5)およびアミノ基をポリマーの片末端に有するポリオレフィン(a6)が使用できる。これらのうち、変性のし易さからカルボニル基含有基を有するポリオレフィン(a1)および(a4)が好ましい。
[Antistatic agent (B)]
As the block polymer (BP) constituting (B), the block polymer described in International Publication WO00 / 47652 can be used.
As the polyolefin (a) constituting (BP), a carbonyl group-containing group (carboxyl group, aldehyde group, carboxyalkyl group, amide group is included, and a carboxyl group is preferable from the viewpoint of easy formation of a block polymer. ) At both ends of the polymer, polyolefin (a2) having hydroxyl groups at both ends of the polymer, polyolefin (a3) having amino groups at both ends of the polymer, and a carbonyl group-containing group. A polyolefin (a4) having one end of the polymer, a polyolefin (a5) having a hydroxyl group at one end of the polymer, and a polyolefin (a6) having an amino group at one end of the polymer can be used. Among these, polyolefins (a1) and (a4) having a carbonyl group-containing group are preferable because of easy modification.

(a1)〜(a3)としては、両末端が変性可能なポリオレフィンの両末端にそれぞれ、カルボニル基含有基、水酸基、アミノ基を導入したものが用いられる。
(a4)〜(a6)としては、少なくとも片末端が変性可能なポリオレフィンの片末端にそれぞれ、カルボニル基含有基、水酸基、アミノ基を導入したものが用いられる。
末端が変性可能なポリオレフィンとは、ポリオレフィン鎖の末端に変性可能な官能基(二重結合、アミノ基、カルボキシル基、アリル基、グリシジル基等が含まれ、変性のし易さの観点から二重結合が好ましい。)を有するポリオレフィンを意味する。
As (a1) to (a3), those in which a carbonyl group-containing group, a hydroxyl group, and an amino group are introduced at both ends of a polyolefin that can be modified at both ends are used.
As (a4) to (a6), those obtained by introducing a carbonyl group-containing group, a hydroxyl group, and an amino group into one end of a polyolefin that can be modified at least one end are used.
The polyolefin having a terminal-modifiable polyolefin includes a functional group (double bond, amino group, carboxyl group, allyl group, glycidyl group, etc., which can be modified at the end of the polyolefin chain. Is preferred).

変性可能なポリオレフィンとしては、両末端が変性可能なポリオレフィンを主成分(好ましくは含量50重量%以上、さらに好ましくは75重量%以上、とくに好ましくは80〜100重量%)とするポリオレフィン(a0)が使用できる。(a0)は、通常、両末端が変性可能なポリオレフィン、片末端が変性可能なポリオレフィンおよび変性可能な末端基を持たないポリオレフィンの混合物であり、(a0)を変性した場合、官能基(カルボニル基含有基、水酸基またはアミノ基)を両末端に導入したポリオレフィン、官能基を片末端に導入したポリオレフィンおよび官能基を導入していないポリオレフィンの混合物が得られる。   Examples of the modifiable polyolefin include a polyolefin (a0) whose main component (preferably the content is 50% by weight or more, more preferably 75% by weight or more, and particularly preferably 80 to 100% by weight). Can be used. (A0) is usually a mixture of a polyolefin that can be modified at both ends, a polyolefin that can be modified at one end, and a polyolefin that does not have a modifiable end group, and when (a0) is modified, a functional group (carbonyl group) A mixture of a polyolefin having a containing group, a hydroxyl group or an amino group) introduced at both ends, a polyolefin having a functional group introduced at one end, and a polyolefin having no functional group introduced.

(a0)としては、C2〜30のオレフィンの1種または2種以上の混合物の(共)重合(重合または共重合を意味する。以下同様。)によって得られるポリオレフィン[重合法]および高分子量のポリオレフィン(C2〜30のオレフィンの重合によって得られるポリオレフィン)の熱減成法によって得られる低分子量ポリオレフィン[熱減成法]が使用できる。   As (a0), a polyolefin [polymerization method] obtained by (co) polymerization (meaning polymerization or copolymerization) of one or a mixture of two or more C2-30 olefins, and a high molecular weight A low molecular weight polyolefin [thermal degradation method] obtained by a thermal degradation method of polyolefin (polyolefin obtained by polymerization of C2-30 olefin) can be used.

C2〜30のオレフィンとしては、エチレン、プロピレン、C4〜30(帯電防止性の観点から好ましくは4〜12、さらに好ましくは4〜10)のα−オレフィン、およびC4〜30(帯電防止性の観点から好ましくは4〜18、さらに好ましくは4〜8)のジエン等が挙げられる。
α−オレフィンとしては、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ペンテン、1−オクテン、1−デセンおよび1−ドデセン等が挙げられ、ジエンとしては、ブタジエン、イソプレン、1,4−ペンタジエン、1,6−ヘキサジエン、シクロペンタジエンおよび1,11−ドデカジエン等が挙げられる。
これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのはC2〜12のオレフィン(エチレン、プロピレン、C4〜12のα−オレフィン、ブタジエンおよび/またはイソプレン等)、さらに好ましいのはC2〜10(エチレン、プロピレン、C4〜10のα−オレフィンおよび/またはブタジエン等)、とくに好ましいのはエチレン、プロピレンおよび/またはブタジエンである。
C2-30 olefins include ethylene, propylene, C4-30 (preferably 4-12, more preferably 4-10 from the viewpoint of antistatic properties), and C4-30 (antistatic properties). To preferably 4-18, more preferably 4-8).
Examples of the α-olefin include 1-butene, 4-methyl-1-pentene, 1-pentene, 1-octene, 1-decene and 1-dodecene, and the diene includes butadiene, isoprene, 1,4- Examples include pentadiene, 1,6-hexadiene, cyclopentadiene, and 1,11-dodecadiene.
Among these, C2-12 olefins (ethylene, propylene, C4-12 α-olefins, butadiene and / or isoprene, etc.) are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and C2-10 (ethylene, propylene, C4-10 α-olefin and / or butadiene, etc.), particularly preferred are ethylene, propylene and / or butadiene.

熱減成法によって得られる低分子量ポリオレフィンは、例えば、特開平3−62804号公報記載の方法等により容易に得ることができる。
重合法によって得られるポリオレフィンは種々の方法で製造でき、例えば、ラジカル触媒、金属酸化物触媒、チーグラー触媒およびチーグラー−ナッタ触媒等の存在下で上記オレフィンを(共)重合させる方法等により容易に得ることができる。
ラジカル触媒としては、例えばジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルベンゾエート、デカノールパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、パーオキシ−ジ−カーボネートエステル、アゾ化合物等、およびγ−アルミナ担体に酸化モリブデンを付着させたもの等が挙げられる。金属酸化物触媒としては、シリカ−アルミナ担体に酸化クロムを付着させたもの等が挙げられる。チーグラー触媒およびチーグラー−ナッタ触媒としては、(C253Al−TiCl4等が挙げられる。
重合法としては、−50〜−100℃に冷却したキシレン、トルエン等の炭化水素系溶媒に、触媒、モノマーを加え、重合する方法等が挙げられる。
変性基であるカルボニル基含有基の導入のしやすさ、および入手のしやすさの点で、熱減成法による低分子量ポリオレフィンが好ましい。
The low molecular weight polyolefin obtained by the thermal degradation method can be easily obtained by, for example, the method described in JP-A-3-62804.
The polyolefin obtained by the polymerization method can be produced by various methods, for example, easily obtained by (co) polymerizing the olefin in the presence of a radical catalyst, a metal oxide catalyst, a Ziegler catalyst, a Ziegler-Natta catalyst, or the like. be able to.
As a radical catalyst, for example, di-t-butyl peroxide, t-butyl benzoate, decanol peroxide, lauryl peroxide, peroxy-dicarbonate ester, azo compound, etc., and molybdenum oxide are attached to a γ-alumina support. And the like. Examples of the metal oxide catalyst include those obtained by attaching chromium oxide to a silica-alumina support. Examples of Ziegler catalysts and Ziegler-Natta catalysts include (C 2 H 5 ) 3 Al—TiCl 4 .
Examples of the polymerization method include a method in which a catalyst and a monomer are added to a hydrocarbon solvent such as xylene and toluene cooled to −50 to −100 ° C. for polymerization.
From the viewpoint of easy introduction of a carbonyl group-containing group which is a modifying group and easy availability, a low molecular weight polyolefin by a thermal degradation method is preferred.

(a0)のMnは帯電防止性の観点から好ましくは800〜20,000、さらに好ましくは1,000〜10,000、とくに好ましくは1,200〜6,000である。
(a0)中の二重結合の量は、帯電防止性の観点から好ましくは、C1,000個当たり1〜40個、さらに好ましくは2〜30個、とくに好ましくは4〜20個である。
1分子当たりの二重結合の平均数は、繰り返し構造の形成性の観点および帯電防止性の観点から好ましくは、1.1〜5、さらに好ましくは1.3〜3、とくに好ましくは1.5〜2.5、最も好ましくは1.8〜2.2である。
熱減成法においては、Mnが800〜6,000の範囲で、1分子当たりの平均末端二重結合数が1.5〜2個の低分子量ポリオレフィンが容易に得られる〔例えば、村田勝英、牧野忠彦、日本化学会誌、192頁(1975)参照〕。
Mn of (a0) is preferably 800 to 20,000, more preferably 1,000 to 10,000, and particularly preferably 1,200 to 6,000 from the viewpoint of antistatic properties.
The amount of the double bond in (a0) is preferably 1 to 40, more preferably 2 to 30, and particularly preferably 4 to 20 per 1,000 C from the viewpoint of antistatic properties.
The average number of double bonds per molecule is preferably 1.1 to 5, more preferably 1.3 to 3, particularly preferably 1.5 from the viewpoints of repetitive structure formation and antistatic properties. ~ 2.5, most preferably 1.8-2.2.
In the thermal degradation method, a low molecular weight polyolefin having an average number of terminal double bonds per molecule of 1.5 to 2 with an Mn in the range of 800 to 6,000 can be easily obtained [for example, Katsuhide Murata, See Tadahiko Makino, Journal of the Chemical Society of Japan, page 192 (1975)].

カルボニル基含有基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a1)としては、両末端を変性可能なポリオレフィンの両末端をα、β−不飽和カルボン酸(無水物)(α,β−不飽和カルボン酸、そのC1〜4のアルキルエステルまたはその無水物を意味する。
以下、同様。)で変性した構造を有するポリオレフィン(a11)、(a11)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性した構造を有するポリオレフィン(a12)、両末端を変性可能なポリオレフィンを酸化またはヒドロホルミル化変性した構造を有するポリオレフィン(a13)、(a13)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性した構造を有するポリオレフィン(a14)、(a13)をヒドロキシアミンで二次変性した構造を有するポリオレフィン(a15)およびこれらの2種以上の混合物等;水酸基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a2)としては、(a11)をヒドロキシルアミンで変性した構造を有するポリオレフィン(a21)、(13)をヒドロキシルアミンで変性した構造を有するポリオレフィン(a22)、およびこれらの2種以上の混合物等;アミノ基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a3)としては、(a11)をジアミンで二次変性した構造を有するポリオレフィン(a31)、(a12)をジアミンで二次変性した構造を有するポリオレフィン(a32)、(a12)をヒドロキシアミンで変性した構造を有するポリオレフィン(a33)、(a13)をジアミンで二次変性した構造を有するポリオレフィン(a34)、(a13)をヒドロキシアミンで変性した構造を有するポリオレフィン(a235)、(a214)をジアミンで二次変性した構造を有するポリオレフィン(a36)およびこれらの2種以上の混合物等が挙げられる。
As the polyolefin (a1) having a carbonyl group-containing group at both ends of the polymer, both ends of the polyolefin which can be modified at both ends are α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) (α, β-unsaturated carboxylic acid). , Its C1-4 alkyl ester or its anhydride.
The same applies hereinafter. The polyolefin (a11) having a structure modified with), the polyolefin (a12) having a structure obtained by secondary modification of (a11) with a lactam or an aminocarboxylic acid, and a structure obtained by oxidizing or hydroformylating a polyolefin capable of modifying both ends. Polyolefin (a13), polyolefin (a14) having a structure in which (a13) is secondarily modified with lactam or aminocarboxylic acid, polyolefin (a15) having a structure in which (a13) is secondarily modified with hydroxyamine, and these 2 Mixture of more than seeds, etc .; polyolefin (a2) having hydroxyl groups at both ends of the polymer has polyolefin (a21) having a structure in which (a11) is modified with hydroxylamine, and has a structure in which (13) is modified with hydroxylamine Polyolefin (a 2), and a mixture of two or more of these; as the polyolefin (a3) having amino groups at both ends of the polymer, polyolefins (a31) and (a12) having a structure in which (a11) is secondarily modified with diamine A polyolefin (a32) having a structure secondary modified with diamine, a polyolefin (a33) having a structure modified with hydroxyamine (a12), a polyolefin (a34) having a structure secondary modified with diamine (a13), Examples include polyolefin (a235) having a structure in which (a13) is modified with hydroxyamine, polyolefin (a36) having a structure in which (a214) is secondarily modified with diamine, and a mixture of two or more thereof.

(a11)は、両末端を変性可能なポリオレフィンをα,β−不飽和カルボン酸(無水物)により変性することにより得られる。
α,β−不飽和カルボン酸(無水物)としては、C3〜12のカルボン酸、例えばモノカルボン酸[(メタ)アクリル酸等]、ジカルボン酸(マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等)、これらのアルキル(C1〜4)エステル[(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、イタコン酸ジエチル等]およびこれらの無水物が挙げられる。
これらのうち両末端を変性可能なポリオレフィンとの反応性の観点から好ましいのは、ジカルボン酸、これらのアルキルエステルおよびこれらの無水物、さらに好ましいのはマレイン酸(無水物)およびフマル酸、とくに好ましいのはマレイン酸(無水物)である。
(A11) can be obtained by modifying a polyolefin capable of modifying both ends with an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride).
Examples of α, β-unsaturated carboxylic acids (anhydrides) include C3-12 carboxylic acids such as monocarboxylic acids [(meth) acrylic acid, etc.], dicarboxylic acids (maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, etc. ), These alkyl (C1-4) esters [methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, diethyl itaconate, etc.], and anhydrides thereof.
Of these, dicarboxylic acids, their alkyl esters and their anhydrides are preferred, and maleic acid (anhydride) and fumaric acid are particularly preferred from the viewpoint of reactivity with polyolefins capable of modifying both ends. Is maleic acid (anhydride).

α、β−不飽和カルボン酸(無水物)の使用量は、両末端を変性可能なポリオレフィンの重量に基づき、繰り返し構造の形成性および帯電防止性の観点から好ましくは、0.5〜40重量%、さらに好ましくは1〜30重量%、とくに好ましくは2〜20重量%である。
α,β−不飽和カルボン酸(無水物)による両末端を変性可能なポリオレフィンの変性は種々の方法、例えば、両末端を変性可能なポリオレフィンの末端二重結合に、溶液法または溶融法のいずれかの方法で、α,β−不飽和カルボン酸(無水物)を熱的に付加(エン反応)させることにより行うことができる。
溶液法としては、キシレン、トルエン等の炭化水素系溶媒の存在下、両末端を変性可能なポリオレフィンにα,β−不飽和カルボン酸(無水物)を加え、窒素等の不活性ガス雰囲気中170〜230℃で反応させる方法等が挙げられる。
溶融法としては、両末端を変性可能なポリオレフィンを加熱溶融した後に、α,β−不飽和カルボン酸(無水物)を加え、窒素等の不活性ガス雰囲気中170〜230℃で反応させる方法が挙げられる。
これらの方法のうち、反応の均一性の観点から好ましいのは溶液法である。
The amount of α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) to be used is preferably 0.5 to 40% based on the weight of the polyolefin that can be modified at both ends, from the viewpoint of the formation of a repeating structure and antistatic properties. %, More preferably 1 to 30% by weight, particularly preferably 2 to 20% by weight.
The modification of the polyolefin capable of modifying both ends with an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) can be carried out in various ways, for example, by either the solution method or the melting method to the terminal double bond of the polyolefin capable of modifying both ends. This method can be carried out by thermally adding (ene reaction) an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride).
As a solution method, an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) is added to a polyolefin that can be modified at both ends in the presence of a hydrocarbon solvent such as xylene and toluene, and the reaction is performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen. The method of making it react at -230 degreeC etc. are mentioned.
As a melting method, there is a method in which a polyolefin capable of modifying both ends is heated and melted, and then α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) is added and reacted at 170 to 230 ° C. in an inert gas atmosphere such as nitrogen. Can be mentioned.
Among these methods, the solution method is preferable from the viewpoint of the uniformity of the reaction.

(a12)は、(a11)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性することにより得られる。
ラクタムまたはアミノカルボン酸としては、前述のものが使用できる。
これらのうち、二次変性の反応性の観点から好ましいのは、カプロラクタム、ラウロラクタム、グリシン、ロイシン、ω−アミノカプリル酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸、さらに好ましいのはカプロラクタム、ラウロラクタム、ω−ア
ミノカプリル酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸、特に好ましいのはカプロラクタムおよび12−アミノドデカン酸である。
ラクタムまたはアミノカルボン酸の使用量は、帯電防止性の観点から好ましくは、α,β−不飽和カルボン酸からカルボキシル基を除いた残基1個当たり、ラクタムまたはアミノカルボン酸0.1〜20個、さらに好ましくは0.3〜15個、特に好ましくは0.5〜10個である。
(A12) can be obtained by secondary modification of (a11) with lactam or aminocarboxylic acid.
As the lactam or aminocarboxylic acid, those described above can be used.
Of these, caprolactam, laurolactam, glycine, leucine, ω-aminocaprylic acid, 11-aminoundecanoic acid and 12-aminododecanoic acid are preferred from the viewpoint of reactivity of secondary modification, and caprolactam is more preferred. Laurolactam, ω-aminocaprylic acid, 11-aminoundecanoic acid, 12-aminododecanoic acid, particularly preferred are caprolactam and 12-aminododecanoic acid.
The amount of lactam or aminocarboxylic acid used is preferably from the viewpoint of antistatic properties, and preferably 0.1 to 20 lactams or aminocarboxylic acids per residue obtained by removing the carboxyl group from the α, β-unsaturated carboxylic acid. More preferably, the number is 0.3 to 15, particularly preferably 0.5 to 10.

(a13)は、両末端を変性可能なポリオレフィンを酸素および/またはオゾンにより酸化またはオキソ法によりヒドロホルミル化してカルボニル基含有基を導入することにより得られる。
酸化によるカルボニル基含有基の導入は、種々の方法、例えば、米国特許第3,692,877号明細書記載の方法で行うことができる。ヒドロホルミル化によるカルボニル基含有基の導入は、種々の方法、例えば、Macromolecules、Vol.31、5943頁記載の方法で行うことができる。
(A13) can be obtained by introducing a carbonyl group-containing group by oxidizing a polyolefin capable of modifying both ends with oxygen and / or ozone or hydroformylating by an oxo method.
The introduction of the carbonyl group-containing group by oxidation can be performed by various methods, for example, the method described in US Pat. No. 3,692,877. Introduction of carbonyl group-containing groups by hydroformylation can be accomplished by various methods, for example, Macromolecules, Vol. 31, 5943 page.

(a14)は、(a13)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性することにより得られる。
ラクタムおよびアミノカルボン酸としては、前述したものが挙げられその使用量も同様である。
(A14) can be obtained by secondary modification of (a13) with lactam or aminocarboxylic acid.
As lactam and aminocarboxylic acid, what was mentioned above is mentioned, The usage-amount is also the same.

(a15)は、(a13)をヒドロキシルアミンで二次変性することにより得られる。ヒドロキシルアミンとしては、C2〜10のヒドロキシルアミン、例えば、2−アミノエタノール、3−アミノプロパノール、1−アミノ−2−プロパノール、4−アミノブタノール、5−アミノペンタノール、6−アミノヘキサノール、3−アミノメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキサノール等が挙げられる。これらのうち好ましいのは、2−アミノエタノールである。ヒドロキシルアミンによる変性は、(a11)とヒドロキシルアミンとを直接反応させることにより行うことができる。反応温度は、通常120〜230℃である。変性に用いるヒドロキシルアミンのヒドロキシル基の量は、(a11)中のα、β不飽和カルボン酸(無水物)の残基1個当たり0.1〜2個、好ましくは0.3〜1.5個、特に好ましくは0.5〜1.2個、最も好ましくは1個である。   (A15) can be obtained by secondary modification of (a13) with hydroxylamine. Hydroxylamine includes C2-10 hydroxylamines such as 2-aminoethanol, 3-aminopropanol, 1-amino-2-propanol, 4-aminobutanol, 5-aminopentanol, 6-aminohexanol, 3- Examples include aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexanol. Of these, 2-aminoethanol is preferred. The modification with hydroxylamine can be carried out by directly reacting (a11) with hydroxylamine. The reaction temperature is usually 120 to 230 ° C. The amount of hydroxyl group of hydroxylamine used for modification is 0.1 to 2, preferably 0.3 to 1.5, per residue of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride) in (a11). The number is preferably 0.5 to 1.2, and most preferably 1.

(a3)は、(a11)をジアミンで二次変性することにより得られる。ジアミンとしては、C2〜18、好ましくは2〜12のジアミン、例えば、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジアミン等が挙げられる。これらのうち好ましいのは、エチレンジアミンである。ジアミンによる変性は、(a11)とジアミンとを直接反応させることにより行うことができる。反応温度は、通常120〜230℃である。変性に用いるジアミンのアミノ基の量は、(a11)中のα、β不飽和カルボン酸(無水物)の残基1個当たり0.1〜2個、好ましくは0.3〜1.5個、特に好ましくは0.5〜1.2個、最も好ましくは1個である。   (A3) can be obtained by secondary modification of (a11) with diamine. Examples of the diamine include C2-18, preferably 2-12 diamines such as ethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, decamethylenediamine and the like. Of these, ethylenediamine is preferred. Modification with diamine can be carried out by directly reacting (a11) with diamine. The reaction temperature is usually 120 to 230 ° C. The amount of the amino group of the diamine used for modification is 0.1 to 2, preferably 0.3 to 1.5, per residue of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride) in (a11). The number is particularly preferably 0.5 to 1.2, and most preferably 1.

(a32)は、(a12)をヒドロキシルアミンで二次変性することにより得られる。
ヒドロキシルアミンとしては、(a15)で例示したものが挙げられその使用量も同様である。
(A32) can be obtained by secondary modification of (a12) with hydroxylamine.
Examples of hydroxylamine include those exemplified in (a15), and the amount used thereof is also the same.

(a32)は、(a13)をジアミンで二次変性することにより得られる。
ジアミンとしては、前述で例示したものが挙げられその使用量も同様である。
(A32) can be obtained by secondary modification of (a13) with diamine.
Examples of the diamine include those exemplified above, and the amount used is also the same.

片末端を変性したポリオレフィン(a4)〜(a6)については、片末端が変性可能なポリオレフィンを(a1)〜(a3)と同様の方法で変性することにより得られる。   The polyolefins (a4) to (a6) whose one end is modified can be obtained by modifying a polyolefin whose one end can be modified by the same method as (a1) to (a3).

ポリオレフィン(a)のMnは、耐熱性および後述する(b)との反応性の観点から好ましくは、800〜25,000、さらに好ましくは1,000〜20,000、とくに好ましくは2,500〜10,000である。
また、(a)は、カルボキシル基を含有することが好ましく、その場合、(a)の酸価(mgKOH/g、以下は数値のみで示す。)は、(b)との反応性の観点から好ましくは、4〜280、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。水酸基を含有する場合、(a)の水酸基価(mgKOH/g、以下は数値のみで示す。)は、(b)との反応性の観点から好ましくは、4〜280、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。アミノ基を含有する場合、(a)のアミン価(mgKOH/g、以下は数値のみで示す。)は、(b)との反応性の観点から好ましくは、4〜280、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
Mn of the polyolefin (a) is preferably from 800 to 25,000, more preferably from 1,000 to 20,000, and particularly preferably from 2,500 to 5,000 from the viewpoint of heat resistance and reactivity with (b) described later. 10,000.
Moreover, it is preferable that (a) contains a carboxyl group, in which case the acid value of (a) (mgKOH / g, the following is indicated only by numerical values) is from the viewpoint of reactivity with (b). Preferably, it is 4-280, More preferably, it is 4-100, Most preferably, it is 5-50. In the case of containing a hydroxyl group, the hydroxyl value of (a) (mgKOH / g, the following is shown only by numerical values) is preferably 4 to 280, more preferably 4 to 100, from the viewpoint of reactivity with (b). Especially preferably, it is 5-50. In the case of containing an amino group, the amine value of (a) (mgKOH / g, the following is shown only by numerical values) is preferably from 4 to 280, more preferably from 4 to 280 from the viewpoint of reactivity with (b). 100, particularly preferably 5-50.

ブロックポリマー(BP)を構成する親水性ポリマー(b)は、1×105〜1×1011(好ましくは1×106〜1×1010、さらに好ましくは1×107〜1×109)Ω・cmの体積固有抵抗値を有する。該体積固有抵抗値が1×105未満ではフィルムの機械特性が悪くなり、1×1011を超えるとフィルムの帯電防止性が低下する。該体積固有抵抗値は、後述の方法で、23℃、50%RHの雰囲気下で測定される値である。
なお、ここにおいて親水性とは吸湿性を意味するものであり、親水性ポリマーとは上記1×105〜1×1011Ω・cmの体積固有抵抗値を有するポリマーを指すものとする。
The hydrophilic polymer (b) constituting the block polymer (BP) is 1 × 10 5 to 1 × 10 11 (preferably 1 × 10 6 to 1 × 10 10 , more preferably 1 × 10 7 to 1 × 10 9. ) It has a volume resistivity value of Ω · cm. When the volume resistivity is less than 1 × 10 5 , the mechanical properties of the film are deteriorated, and when it exceeds 1 × 10 11 , the antistatic property of the film is lowered. The volume specific resistance value is a value measured by an after-mentioned method in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH.
Here, the hydrophilic property means a hygroscopic property, and the hydrophilic polymer means a polymer having a volume specific resistance value of 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω · cm.

親水性ポリマー(b)としては、ポリエーテル(b1)、ポリエーテル含有親水性ポリマー(b2)、カチオン性ポリマー(b3)およびアニオン性ポリマー(b4)が使用できる。
(b1)としては、ポリエーテルジオール(b1−1)およびポリエーテルジアミン(b1−2)、およびこれらの変性物(b1−3)が使用できる。(b2)としては、ポリエーテルセグメント形成成分としてポリエーテルジオール(b1−1)のセグメントを有するポリエーテルエステルアミド(b2−1)、(b1−1)のセグメントを有するポリエーテルアミドイミド(b2−2)、(b1−1)のセグメントを有するポリエーテルエステル(b2−3);(b1−2)のセグメントを有するポリエーテルアミド(b2−4)、および(b1−1)または(b1−2)のセグメントを有するポリエーテルウレタン(b2−5)が使用できる。
(b3)としては、非イオン性分子鎖(c1)で隔てられた2〜80個、好ましくは3〜60個のカチオン性基(c2)を分子内に有するカチオン性ポリマーが使用できる。
(b4)としては、スルホ基を有するジカルボン酸(e1)と、ジオール(b01)またはポリエーテル(b1)とを必須構成単位とし、かつ分子内に2〜80個、好ましくは3〜60個のスルホ基を有するアニオン性ポリマーが使用できる。
As the hydrophilic polymer (b), polyether (b1), polyether-containing hydrophilic polymer (b2), cationic polymer (b3) and anionic polymer (b4) can be used.
As (b1), polyether diol (b1-1), polyether diamine (b1-2), and modified products thereof (b1-3) can be used. (B2) includes polyether ester amide (b2-1) having a segment of polyether diol (b1-1) as a polyether segment forming component, and polyether amide imide (b2-) having a segment of (b1-1). 2), polyether ester (b2-3) having a segment of (b1-1); polyether amide (b2-4) having a segment of (b1-2), and (b1-1) or (b1-2) ) Polyether urethane (b2-5) having a segment can be used.
As (b3), a cationic polymer having 2 to 80, preferably 3 to 60, cationic groups (c2) separated by a nonionic molecular chain (c1) in the molecule can be used.
As (b4), the dicarboxylic acid (e1) having a sulfo group and the diol (b01) or the polyether (b1) are essential structural units, and 2 to 80, preferably 3 to 60 in the molecule. An anionic polymer having a sulfo group can be used.

ポリエーテル(b1)のうち、ポリエーテルジオール(b1−1)としては、ジオール(b01)または2価フェノール(b02)にエチレンオキシド(以下EOと略記)を必須成分として含むアルキレンオキシド(以下AOと略記)(C2〜12)を付加反応させることにより得られる構造のもの、例えば下記の一般式で示されるものが挙げられる。

H(OA1)mO−E1−O(A1O)m'

式中、E1は(b01)または(b02)から水酸基を除いた残基を表し、A1はC2〜4のアルキレン基;mおよびm’は1〜300、好ましくは2〜250、さらに好ましくは10〜100の整数を表し、mとm’とは同一でも異なっていてもよい。また、m個の(OA1)とm’個の(A1O)とは同一でも異なっていてもよく、また、これらが2種以上のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式はランダムおよび/またはブロックのいずれでもよい。
Of the polyether (b1), the polyether diol (b1-1) is an alkylene oxide (hereinafter abbreviated as AO) containing ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO) as an essential component in the diol (b01) or dihydric phenol (b02). ) Those having a structure obtained by addition reaction of (C2-12), for example, those represented by the following general formula.

H (OA 1 ) m O—E 1 —O (A 1 O) m ′ H

In the formula, E 1 represents a residue obtained by removing a hydroxyl group from (b01) or (b02), A 1 is a C2-4 alkylene group; m and m ′ are 1-300, preferably 2-250, more preferably Represents an integer of 10 to 100, and m and m ′ may be the same or different. Further, m (OA 1 ) and m ′ (A 1 O) may be the same or different, and the bond form when these are composed of two or more oxyalkylene groups is random. And / or blocks.

ジオール(b01)としては、例えばC2〜12(好ましくは2〜10、さらに好ましくは2〜8)の2価アルコール(例えば脂肪族、脂環式および芳香脂肪族2価アルコール)およびC1〜12の3級アミノ基含有ジオールが挙げられる。
脂肪族2価アルコールとしては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール(以下それぞれEG、PG、1,4−BD、1,6−HD、NPGと略記)および1,12−ドデカンジオールが挙げられる。
脂環式2価アルコールとしては、例えば1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロオクタンジオールおよび1,3−シクロペンタンジオールが挙げられる。
芳香脂肪族2価アルコールとしては、例えばキシリレンジオール、1−フェニル−1,2−エタンジオールおよび1,4−ビス(ヒドロキシエチル)ベンゼンが挙げられる。
Examples of the diol (b01) include C2-12 (preferably 2-10, more preferably 2-8) dihydric alcohols (eg, aliphatic, alicyclic and araliphatic dihydric alcohols) and C1-12. A tertiary amino group-containing diol may be mentioned.
Examples of the aliphatic dihydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, and neopentyl glycol (hereinafter, EG, PG, 1,4-BD, 1,6-HD, respectively). And abbreviated as NPG) and 1,12-dodecanediol.
Examples of the alicyclic dihydric alcohol include 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclooctanediol, and 1,3-cyclopentanediol.
Examples of the araliphatic dihydric alcohol include xylylenediol, 1-phenyl-1,2-ethanediol and 1,4-bis (hydroxyethyl) benzene.

3級アミノ基含有ジオールとしては、脂肪族または脂環式1級モノアミン(C1〜12、好ましくは2〜10、さらに好ましくは2〜8)のビスヒドロキシアルキル(アルキル基のC1〜12、好ましくは2〜10、さらに好ましくは2〜8)化物および芳香(脂肪)族1級モノアミン(C6〜12)のビスヒドロキシアルキル(アルキル基のC1〜12)化物が挙げられる。
モノアミンのビスヒドロキシアルキル化物は、例えばモノアミンとC2〜4のAO[例えばEO、POおよびブチレンオキシド]とを反応させるか、モノアミンとC1〜12のハロゲン化ヒドロキシアルキル(例えば2−ブロモエチルアルコールおよび3−クロロプロピルアルコール)とを反応させることにより容易に得ることができる。
As the tertiary amino group-containing diol, aliphatic or alicyclic primary monoamine (C1-12, preferably 2-10, more preferably 2-8) bishydroxyalkyl (alkyl group C1-12, preferably 2-10, more preferably 2-8) and aromatic (aliphatic) primary monoamines (C6-12) bishydroxyalkyl (alkyl group C1-12) compounds.
Monoamine bishydroxyalkylates are obtained by reacting, for example, monoamines with C2-4 AO [eg EO, PO and butylene oxide], or monoamines with C1-12 halogenated hydroxyalkyl (eg 2-bromoethyl alcohol and 3 It can be easily obtained by reacting with (chloropropyl alcohol).

脂肪族1級モノアミンとしては、例えばメチルアミン、エチルアミン、1−および2−プロピルアミン、n−およびi−アミルアミン、ヘキシルアミン、1,3−ジメチルブチルアミン、3,3−ジメチルブチルアミン、2−および3−アミノヘプタン、ヘプチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミンおよびドデシルアミンが挙げられる。
脂環式1級モノアミンとしては、例えばシクロプロピルアミン、シクロペンチルアミンおよびシクロヘキシルアミンが挙げられる。
芳香(脂肪)族1級モノアミンとしては、例えばアニリンおよびベンジルアミンが挙げられる。
Examples of aliphatic primary monoamines include methylamine, ethylamine, 1- and 2-propylamine, n- and i-amylamine, hexylamine, 1,3-dimethylbutylamine, 3,3-dimethylbutylamine, 2- and 3 -Aminoheptane, heptylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine and dodecylamine.
Examples of the alicyclic primary monoamine include cyclopropylamine, cyclopentylamine, and cyclohexylamine.
Examples of the aromatic (aliphatic) primary monoamine include aniline and benzylamine.

2価フェノール(b02)としては、C6〜18(好ましくは8〜18、さらに好ましくは10〜15)、例えば単環2価フェノール(例えばハイドロキノン、カテコール、レゾルシンおよびウルシオール)、ビスフェノール(例えばビスフェノールAおよび−F)および縮合多環2価フェノール(例えばジヒドロキシナフタレンおよびビナフトール)が挙げられる。   Examples of the dihydric phenol (b02) include C6-18 (preferably 8-18, more preferably 10-15), such as monocyclic dihydric phenol (for example, hydroquinone, catechol, resorcin and urushiol), bisphenol (for example, bisphenol A). And -F) and condensed polycyclic dihydric phenols such as dihydroxynaphthalene and binaphthol.

(b01)および(b02)のうち帯電防止性の観点から好ましいのは、2価アルコールおよび2価フェノール、さらに好ましいのは脂肪族2価アルコールおよびビスフェノール、とくに好ましいのはEGおよびビスフェノールAである。   Of (b01) and (b02), from the viewpoint of antistatic properties, dihydric alcohol and dihydric phenol are preferred, aliphatic dihydric alcohol and bisphenol are more preferred, and EG and bisphenol A are particularly preferred.

ジオール(b01)または2価フェノール(b02)に付加反応させるAOとしては、EO以外には例えばC3〜12のAO(例えばPO、1,2−、1,4−、2,3−および1,3−ブチレンオキシドおよびこれらの2種以上の混合物)が挙げられるが、必要によりその他のAOおよび置換AOを併用してもよい。
その他のAOおよび置換AOとしては、例えばC5〜12のα−オレフィンのエポキシ化物、スチレンオキシドおよびエピハロヒドリン(例えばエピクロルヒドリンおよびエピブロモヒドリン)が挙げられる。他のAOおよび置換AOのそれぞれの使用量は、全AO
の重量に基づいて帯電防止性の観点から好ましくは30%以下、さらに好ましくは0または25%以下、特に好ましくは0または20%以下である。
As AO to be subjected to addition reaction with diol (b01) or dihydric phenol (b02), for example, C3-12 AO (for example, PO, 1,2-, 1,4-, 2,3- and 1, other than EO) 3-butylene oxide and a mixture of two or more thereof), but other AO and substituted AO may be used in combination if necessary.
Examples of other AO and substituted AO include epoxidized C5-12 α-olefin, styrene oxide and epihalohydrin (for example, epichlorohydrin and epibromohydrin). The amount of each other AO and substituted AO used is the total AO
From the viewpoint of antistatic properties, it is preferably 30% or less, more preferably 0 or 25%, and particularly preferably 0 or 20% or less based on the weight.

AOの付加モル数は、親水性ポリマー(b)の体積固有抵抗値の観点から好ましくは、(b01)または(b02)の水酸基1個当り1〜300モル、さらに好ましくは2〜250モル、特に好ましくは10〜100モルである。2種以上のAOを併用するときの結合形式はランダムおよび/またはブロックのいずれでもよい。   The number of added moles of AO is preferably 1 to 300 moles, more preferably 2 to 250 moles per hydroxyl group of (b01) or (b02), from the viewpoint of the volume resistivity value of the hydrophilic polymer (b). Preferably it is 10-100 mol. When two or more kinds of AO are used in combination, the coupling form may be random and / or block.

AOの付加反応は、例えばアルカリ触媒(例えば水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム)の存在下、100〜200℃、圧力0〜0.5MPaGの条件で行なうことができる。
ポリエーテルジオール(b1−1)中のオキシアルキレン単位の含量は、(b1−1)の重量に基づいて親水性ポリマー(b)の体積固有抵抗値および(B)の(A)への分散性の観点から好ましくは5〜99.8%、さらに好ましくは8〜99.6%、特に好ましくは10〜98%である。また、ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は、ポリオキシアルキレン鎖の重量に基づいて(b)の体積固有抵抗値および(B)の(A)への分散性の観点から好ましくは5〜100%、さらに好ましくは10〜100%、特に好ましくは50〜100%、最も好ましくは60〜100%である。
The addition reaction of AO can be performed, for example, in the presence of an alkali catalyst (for example, potassium hydroxide and sodium hydroxide) at 100 to 200 ° C. and a pressure of 0 to 0.5 MPaG.
The content of oxyalkylene units in the polyether diol (b1-1) is based on the weight specific value of the hydrophilic polymer (b) and the dispersibility of (B) in (A) based on the weight of (b1-1). From this viewpoint, it is preferably 5 to 99.8%, more preferably 8 to 99.6%, and particularly preferably 10 to 98%. The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is preferably 5 from the viewpoint of the volume resistivity value of (b) and the dispersibility of (B) in (A) based on the weight of the polyoxyalkylene chain. -100%, more preferably 10-100%, particularly preferably 50-100%, most preferably 60-100%.

ポリエーテルジアミン(b1−2)としては、ポリエーテルジオール(b1−1)の水酸基をアミノ基(1級または2級アミノ基)に変性した構造のもの、例えば、一般式:RNH−A2−(OA1)mO−E1−O(A1O)m'−A2−NHRで示されるものが挙げられる。従って、ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は(b1−1)の場合と同じであり、(b1−2)中のオキシアルキレン単位の含量は対応する(b1−1)中のオキシアルキレン単位の含量と同じである。
上記式中の記号E1、A1、mおよびm’は前記と同様であり、A2はC2〜4のアルキ
レン基を表し、A1とA2とは同じでも異なっていてもよい。RはHまたはC1〜4(好ましくは1または2)のアルキル基を表す。
(b1−2)は、(b1−1)の両末端水酸基を種々の方法によりアミノ基に変えることにより、容易に得ることができる。
水酸基をアミノ基に変える方法としては、例えば(b1−1)の水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元してアミノ基とする方法[例えば、(b1−1)とアクリロニトリルとを反応させ、得られるシアノエチル化物に水素添加する方法]、(b1−1)とアミノカルボン酸またはラクタムとを反応させる方法、および(b1−1)とハロゲン化アミンをアルカリ条件下で反応させる方法が挙げられる。
The polyether diamine (b1-2) has a structure in which the hydroxyl group of the polyether diol (b1-1) is modified to an amino group (primary or secondary amino group), for example, a general formula: RNH-A 2 — Examples include (OA 1 ) m O—E 1 —O (A 1 O) m ′ —A 2 —NHR. Accordingly, the content of the oxyethylene unit in the polyoxyalkylene chain is the same as in the case of (b1-1), and the content of the oxyalkylene unit in (b1-2) is the same as that of the corresponding oxyalkylene in (b1-1). Same as unit content.
Symbols E 1 , A 1 , m and m ′ in the above formula are the same as described above, A 2 represents a C2-4 alkylene group, and A 1 and A 2 may be the same or different. R represents H or a C1-4 (preferably 1 or 2) alkyl group.
(B1-2) can be easily obtained by changing both terminal hydroxyl groups of (b1-1) to amino groups by various methods.
As a method of changing a hydroxyl group to an amino group, for example, a method of reducing a terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating the hydroxyl group of (b1-1) to form an amino group [for example, (b1-1) and acrylonitrile are combined. A method of reacting and hydrogenating the resulting cyanoethylated product], a method of reacting (b1-1) with an aminocarboxylic acid or lactam, and a method of reacting (b1-1) with a halogenated amine under alkaline conditions. Can be mentioned.

(b1−1)または(b1−2)の変性物(b1−3)としては、例えば(b1−1)または(b1−2)のアミノカルボン酸変性物(末端アミノ基)、同イソシアネート変性物(末端イソシアネート基)および同エポキシ変性物(末端エポキシ基)が挙げられる。   Examples of the modified product (b1-3) of (b1-1) or (b1-2) include, for example, an aminocarboxylic acid modified product (terminal amino group) of (b1-1) or (b1-2), and an isocyanate modified product thereof. (Terminal isocyanate group) and the same epoxy modified product (terminal epoxy group).

ポリエーテル(b1)のMnは、耐熱性およびポリオレフィン(a)のブロックとの反応性の観点から好ましくは150〜20,000、さらに好ましくは300〜18,000、とくに好ましくは1,000〜15,000、最も好ましくは1,200〜8,000である。   Mn of the polyether (b1) is preferably 150 to 20,000, more preferably 300 to 18,000, and particularly preferably 1,000 to 15 from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the block of the polyolefin (a). 1,000, most preferably 1,200 to 8,000.

ポリエーテル含有親水性ポリマー(b2)としては、国際公開WO00/47652号公報明細書に記載のポリエーテル含有親水性ポリマー(b2)が挙げられる。   Examples of the polyether-containing hydrophilic polymer (b2) include the polyether-containing hydrophilic polymer (b2) described in International Publication WO00 / 47652.

カチオン性ポリマー(b3)は、非イオン性分子鎖(c1)で隔てられた2〜80個、好ましくは3〜60個のカチオン性基(c2)を分子内に有する。
(c2)としては、4級アンモニウム塩およびホスホニウム塩を有する基が挙げられる。
The cationic polymer (b3) has 2 to 80, preferably 3 to 60, cationic groups (c2) in the molecule separated by a nonionic molecular chain (c1).
Examples of (c2) include groups having a quaternary ammonium salt and a phosphonium salt.

(c2)の対アニオンとしては、Hammettの酸度関数(−H0)が12〜20の
超強酸のアニオン、およびその他のアニオンが挙げられる。超強酸としては、(1)プロトン酸(d1)とルイス酸(d2)との組み合わせから誘導される超強酸(四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸等)、(2)プロトン酸(過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸等)が挙げられる。
その他のアニオンとしては、例えばハロゲンイオン(F-、Cl-、Br-、I-等)、OH-、PO4 -、CH3OSO4 -、C25OSO4 -、ClO4 -が挙げられる。
As the counter anion of (c2), Hammett acidity function (-H 0) super strong acid anions 12-20, and other anions. Examples of super strong acids include (1) super strong acids (tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, etc.) derived from a combination of protonic acid (d1) and Lewis acid (d2), and (2) protonic acid (peroxygen). Chloric acid, trifluoromethanesulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, etc.).
Examples of other anions include halogen ions (F , Cl , Br , I etc.), OH , PO 4 , CH 3 OSO 4 , C 2 H 5 OSO 4 , and ClO 4 −. It is done.

(d1)の具体例としては、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素等が挙げられる。また、(d2)の具体例としては、三フッ化ホウ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、五フッ化ヒ素、五フッ化タンタル等が挙げられる。
(d1)と(d2)の組み合わせは任意であるが、これらの組み合わせから誘導される超強酸アニオンの好ましい例としては、BF4 -、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、TaF6 -、BF3Cl-、PF5Cl-、SbF5Cl-、AsF5Cl-、TaF5Cl-、BF3Br-、PF5Br-、SbF5Br-、AsF5Br-、TaF5Br-、BF3-、PF5-、SbF5-、AsF5-およびTaF5-などが挙げられ、これらの2種以上の組み合わせでもよい。これらの対アニオンのうち耐熱性の観点から、好ましいのは超強酸のアニオン、さらに好ましいのはBF4 -、PF6 -、BF3Cl-およびPF5Cl-、特に好ましいのはBF4 -およびPF6 -である。
Specific examples of (d1) include hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide and the like. Specific examples of (d2) include boron trifluoride, phosphorus pentafluoride, antimony pentafluoride, arsenic pentafluoride, and tantalum pentafluoride.
The combination of (d1) and (d2) is arbitrary, but preferred examples of superacid anions derived from these combinations include BF 4 , PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , TaF 6 −. , BF 3 Cl , PF 5 Cl , SbF 5 Cl , AsF 5 Cl , TaF 5 Cl , BF 3 Br , PF 5 Br , SbF 5 Br , AsF 5 Br , TaF 5 Br BF 3 I , PF 5 I , SbF 5 I , AsF 5 I −, TaF 5 I − and the like, and a combination of two or more of these may be used. Among these counter anions, from the viewpoint of heat resistance, an anion of a super strong acid is preferable, BF 4 , PF 6 , BF 3 Cl and PF 5 Cl are particularly preferable, and BF 4 and are particularly preferable. PF 6 .

非イオン性分子鎖(c1)としては、2価の炭化水素基、またはエーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、イミノ結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結合および/またはシロキシ結合を有する炭化水素基および窒素原子もしくは酸素原子を含む複素環構造を有する炭化水素基からなる群から選ばれる少なくとも1種の2価の有機基;並びにこれらの2種以上の併用が挙げられる。   The nonionic molecular chain (c1) includes a divalent hydrocarbon group, or an ether bond, a thioether bond, a carbonyl bond, an ester bond, an imino bond, an amide bond, an imide bond, a urethane bond, a urea bond, a carbonate bond, and / or Or at least one divalent organic group selected from the group consisting of a hydrocarbon group having a siloxy bond and a hydrocarbon group having a heterocyclic structure containing a nitrogen atom or an oxygen atom; and combinations of two or more thereof. It is done.

2価の炭化水素基としては、C1〜18(好ましくは2〜8)の直鎖または分岐の脂肪族炭化水素基(アルキレン基、アルケニレン基等)、例えばエチレン、プロピレン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、デカメチレン、ドデカメチレン、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンなど;C6〜20の芳香族炭化水素基、例えば1,3−および1,4−フェニレン、2,4−および2,6−トリレン、4,4’−および2,4’−メチレンビスフェニレン、m−およびp−キシリレン、α,α,α’,α’−テトラメチルキシリレン、ナフチレン等;C4〜15の脂環式炭化水素基、例えばシクロヘキシレン、メチルシクロヘキシレン、4,4’−メチレンビスシクロヘキシレン、2,5−および/または2,6−ノルボルニレンなどが挙げられる。   Examples of the divalent hydrocarbon group include a C1-18 (preferably 2-8) linear or branched aliphatic hydrocarbon group (an alkylene group, an alkenylene group, etc.) such as ethylene, propylene, tetramethylene, hexamethylene, Decamethylene, dodecamethylene, 2,2,4-trimethylhexamethylene, etc .; C6-20 aromatic hydrocarbon groups such as 1,3- and 1,4-phenylene, 2,4- and 2,6-tolylene, 4 , 4′- and 2,4′-methylenebisphenylene, m- and p-xylylene, α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene, naphthylene, etc .; C4-15 alicyclic hydrocarbon group, Examples include cyclohexylene, methylcyclohexylene, 4,4′-methylenebiscyclohexylene, 2,5- and / or 2,6-norbornylene. That.

エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、イミノ結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結合および/またはシロキシ結合を有する2価の炭化水素基としては、(ポリ)オキシアルキレン基、例えば前記ポリエーテルジオール(b−1)の残基[例えば−(OA1)m−E1−(A1O)m'−(式中、E1、A1、mおよびm’は前記と同様)]、および一般式−A1−O−E1−で示されるモノエーテルジオールの残基(式中、E1、A1は前記と同様);上記に相当する(酸素原子がイオウ原子に置き換った)ポリチオエーテルの残基;ポリエステルおよび/またはポリアミドの残基、例えば下記一般式(1)〜(4)で示される基;ポリウレタンおよび/またはポリウレアの残基、例えば下記一般式(5)で示される基;ポリカーボネート[前記ジオール(b01)とホスゲンとから誘導される]の残基;ポリシロキサン(ポリオルガノシロキサン、例えばポリジメチルシロキサン)の残基などが挙げられる。 The divalent hydrocarbon group having an ether bond, thioether bond, carbonyl bond, ester bond, imino bond, amide bond, imide bond, urethane bond, urea bond, carbonate bond and / or siloxy bond includes (poly) oxyalkylene A group such as a residue of the polyether diol (b-1) [eg-(OA 1 ) m -E 1- (A 1 O) m ' -(where E 1 , A 1 , m and m' are The same as above), and the residue of a monoether diol represented by the general formula -A 1 -O-E 1- (wherein E 1 and A 1 are the same as above); Residues of polythioethers (replaced by sulfur atoms); Residues of polyesters and / or polyamides, eg groups of the following general formulas (1) to (4); Residues of polyurethanes and / or polyureas For example, a group represented by the following general formula (5); a residue of polycarbonate [derived from the diol (b01) and phosgene]; a residue of polysiloxane (polyorganosiloxane such as polydimethylsiloxane) .

上記一般式(1)〜(5)中、Dは酸素原子またはイミノ基、R1はC1〜11の炭化
水素基、R2はカチオン性基と結合する2価の有機基、E2はジオールの残基(Dが酸素原子の場合)またはジアミンの残基(Dがイミノ基の場合)、E3はジカルボン酸の残基、
4は後述のジイソシアネートの残基、uおよびvは0または1、kは1〜20の整数を
表す。
1には、ラクタムの残基(Dがイミノ基の場合)およびラクトンの残基(Dが酸素原
子の場合)が含まれ、ラクタムとしては前記のもの、ラクトンとしては前記ラクタムに相当するラクトン(カプロラクトンなど)が挙げられる。R2としては、C2〜12の2価
の炭化水素基、例えばアルキレン基、および前記(ポリ)オキシアルキレン基[−A1
O−E1−、−(A1O)m−E1−(OA1m'−]が挙げられる。
In the general formulas (1) to (5), D is an oxygen atom or imino group, R 1 is a C 1-11 hydrocarbon group, R 2 is a divalent organic group bonded to a cationic group, and E 2 is a diol. Residue (when D is an oxygen atom) or diamine residue (when D is an imino group), E 3 is a residue of a dicarboxylic acid,
E 4 is a diisocyanate residue described later, u and v are 0 or 1, and k is an integer of 1-20.
R 1 includes a lactam residue (when D is an imino group) and a lactone residue (when D is an oxygen atom), the lactam as described above, and the lactone as a lactone corresponding to the lactam. (Such as caprolactone). R 2 includes a C 2-12 divalent hydrocarbon group such as an alkylene group, and the (poly) oxyalkylene group [—A 1
O-E 1 -, - ( A 1 O) m -E 1 - (OA 1) m '-] and the like.

2のうちジオールの残基としては、2価アルコール(例えば前述のようなC2〜12
の脂肪族、脂環族および芳香族2価アルコール)、これらのAO(C2〜4)付加物(付加モル数1〜20またはそれ以上)、2価フェノール(例えば前述のようなC6〜18の2価フェノール)のAO(C2〜4)付加物(付加モル数2〜20またはそれ以上)、およびこれらの2種以上の混合物などのジオールからヒドロキシル基を除いた残基が挙げられる。
Among E 2 , the diol residue may be a dihydric alcohol (for example, C2-12 as described above).
Aliphatic, alicyclic and aromatic dihydric alcohols), these AO (C2-4) adducts (additional moles of 1-20 or more), dihydric phenols (for example, C6-18 as described above) Examples thereof include residues obtained by removing hydroxyl groups from diols, such as AO (C2-4) adducts of dihydric phenol) (additional moles of 2 to 20 or more), and mixtures of two or more thereof.

2のうちジアミンの残基としては、低分子量ジアミン、例えば前記ジイソシアネート
に相当するジアミン:C2〜20の脂肪族ジアミン(エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,12−ドデカンジアミン等)、C6〜15の脂環式ジアミン(1,4−シクロヘキシレンジアミン、イソホロンジアミン、4,4’−ジアミノシクロヘキシルメタン等)、C8〜15の芳香脂肪族ジアミン(キシリレンジアミン等)、C6〜15の芳香族ジアミン[p−フェニレンジアミン、2,4−および2,6−トルエンジアミン、2,2−ビス(4,4’−ジアミノフェニル)プロパン等]、前記ポリエーテルジアミン(b1−2)、およびこれらの2種以上の混合物などのジアミンからア
ミノ基を除いた残基が挙げられる。
Among E 2 , the diamine residue may be a low molecular weight diamine such as a diamine corresponding to the diisocyanate: C2-20 aliphatic diamine (ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, 1,12-dodecanediamine, etc.), C6 -15 alicyclic diamine (1,4-cyclohexylenediamine, isophorone diamine, 4,4'-diaminocyclohexylmethane, etc.), C8-15 araliphatic diamine (xylylenediamine, etc.), C6-15 fragrance Group diamines [p-phenylenediamine, 2,4- and 2,6-toluenediamine, 2,2-bis (4,4′-diaminophenyl) propane, etc.], the polyether diamine (b1-2), and these And a residue obtained by removing an amino group from a diamine, such as a mixture of two or more thereof.

3としては、ジカルボン酸[C4〜12の脂肪族ジカルボン酸(例えばコハク酸、ア
ジピン酸、グルタル酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸などの飽和ジカルボン酸、および前記不飽和ジカルボン酸)、C8〜15の芳香族ジカルボン酸(フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等)、およびこれらの2種以上の混合物などのジカルボン酸からカルボキシル基を除いた残基が挙げられる。
4としてはジイソシアネート(例えば芳香族、脂肪族、脂環式および芳香脂肪族ジイソシアネート、これらの変性体、およびこれらの2種以上の混合物)からイソシアネート基を除いた残基が挙げられる。
E 3 may be a dicarboxylic acid [C4-12 aliphatic dicarboxylic acid (for example, succinic acid, adipic acid, glutaric acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, etc.) Dicarboxylic acid), C8-15 aromatic dicarboxylic acid (phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, etc.), and residues obtained by removing the carboxyl group from dicarboxylic acid such as a mixture of two or more thereof.
Examples of E 4 include residues obtained by removing isocyanate groups from diisocyanates (for example, aromatic, aliphatic, alicyclic and araliphatic diisocyanates, modified products thereof, and mixtures of two or more thereof).

上記ジイソシアネートとしては、C(NCO基中の炭素を除く、以下同様。)6〜20の芳香族ジイソシアネート、C2〜18の脂肪族ジイソシアネート、C4〜15の脂環式ジイソシアネート、C8〜15の芳香脂肪族ジイソシアネート、これらのジイソシアネートの変性体およびこれらの2種以上の混合物が使用できる。
上記芳香族ジイソシアネートの具体例としては、1,3−および1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−および2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、粗製TDI、2,4’−および4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトジフェニルメタン、1,5−ナフチレンジイソシアネートなどが挙げられる。
上記脂肪族ジイソシアネートの具体例としては、エチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ドデカメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2,6−ジイソシアナトメチルカプロエート、ビス(2−イソシアナトエチル)フマレート、ビス(2−イソシアナトエチル)カーボネート、2−イソシアナトエチル−2,6−ジイソシアナトヘキサノエートなどが挙げられる。
Examples of the diisocyanate include C (excluding carbon in the NCO group, the same shall apply hereinafter) 6 to 20 aromatic diisocyanate, C2 to 18 aliphatic diisocyanate, C4 to 15 alicyclic diisocyanate, and C8 to 15 aromatic fat. Group diisocyanates, modified products of these diisocyanates, and mixtures of two or more thereof.
Specific examples of the aromatic diisocyanate include 1,3- and 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- and 2,6-tolylene diisocyanate (TDI), crude TDI, 2,4′- and 4,4. '-Diphenylmethane diisocyanate (MDI), 4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanato Examples thereof include diphenylmethane and 1,5-naphthylene diisocyanate.
Specific examples of the aliphatic diisocyanate include ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), dodecamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, and 2,6-diisocyanatomethyl carbonate. Examples include proate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, bis (2-isocyanatoethyl) carbonate, 2-isocyanatoethyl-2,6-diisocyanatohexanoate.

上記脂環式ジイソシアネートの具体例としては、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート(水添MDI)、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート(水添TDI)、ビス(2−イソシアナトエチル)−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレート、2,5−又は2,6−ノルボルナンジイソシアネートなどが挙げられる。
上記芳香脂肪族ジイソシアネートの具体例としては、m−またはp−キシリレンジイソシアネート(XDI)、α,α,α’,α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)などが挙げられる。
また、上記ジイソシアネートの変性体としては、ウレタン変性体、ウレア変性体、カルボジイミド変性体及びウレトジオン変性体などが挙げられる。
これらのうち、好ましいのはTDI、MDIおよびHDI、特に好ましいのはHDIである。
Specific examples of the alicyclic diisocyanate include isophorone diisocyanate (IPDI), dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate (hydrogenated MDI), cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate (hydrogenated TDI), bis (2- And isocyanatoethyl) -4-cyclohexene-1,2-dicarboxylate, 2,5- or 2,6-norbornane diisocyanate.
Specific examples of the araliphatic diisocyanate include m- or p-xylylene diisocyanate (XDI), α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), and the like.
Examples of the modified diisocyanate include urethane-modified products, urea-modified products, carbodiimide-modified products, and uretdione-modified products.
Of these, TDI, MDI and HDI are preferred, and HDI is particularly preferred.

非イオン性分子鎖(c1)の分子量は通常分子量28以上かつMn10,000以下、好ましくはMn300〜5,000である。これらの非イオン性分子鎖(c1)のうち好ましいのは、2価の炭化水素基およびエーテル結合を有する2価の炭化水素基、さらに好ましいのはC1〜8のアルキレン基(ヘキサメチレン基等)、フェニレン基;並びに(ポリ)オキシアルキレン基、とくに好ましいのは(ポリ)オキシエチレン基、(ポリ)オキシプロピレン基である。   The molecular weight of the nonionic molecular chain (c1) is usually a molecular weight of 28 or more and Mn 10,000 or less, preferably Mn 300 to 5,000. Of these nonionic molecular chains (c1), a divalent hydrocarbon group and a divalent hydrocarbon group having an ether bond are preferable, and a C1-8 alkylene group (such as a hexamethylene group) is more preferable. , Phenylene groups; and (poly) oxyalkylene groups, particularly preferred are (poly) oxyethylene groups and (poly) oxypropylene groups.

カチオン性ポリマー(b3)としては、例えば下記一般式(6)で示される繰り返し単位を有するものが挙げられる。   Examples of the cationic polymer (b3) include those having a repeating unit represented by the following general formula (6).

式中、Mは窒素原子またはリン原子、J-は対アニオン、dは2〜60の整数、L1は非イオン性分子鎖(c1)、R3、R4は1価の非イオン性有機基である。さらに、(b3)は、下記一般式(7)または(8)で示されるように一般式(6)の隣接するR3および
/またはR4がそれぞれ互いに結合して2価の非イオン性有機基(L3、L5)となりM+とともに環を形成していてもよい。
In the formula, M is a nitrogen atom or phosphorus atom, J is a counter anion, d is an integer of 2 to 60, L 1 is a nonionic molecular chain (c1), R 3 and R 4 are monovalent nonionic organic compounds It is a group. Further, (b3) is a divalent nonionic organic compound in which adjacent R 3 and / or R 4 in the general formula (6) are bonded to each other as shown by the following general formula (7) or (8). It may become a group (L 3 , L 5 ) and may form a ring together with M + .

式中、Mは窒素原子またはリン原子、L2、L3、L4およびL5は2価の非イオン性分子鎖、R4、R4'は1価の非イオン性有機基、J-は対アニオン、eは1〜30の整数である。 In the formula, M is a nitrogen atom or phosphorus atom, L 2 , L 3 , L 4 and L 5 are divalent nonionic molecular chains, R 4 and R 4 ′ are monovalent nonionic organic groups, J Is a counter anion, and e is an integer of 1-30.

一般式(6)および(7)におけるR3、R4およびR4'としては、エーテル結合もしくはエステル結合を有していてもよい、C1〜20の、脂肪族、脂環式および芳香族の1価炭化水素基[例えばばアルキル基(メチル基、エチル基、オクチル基、ドデシル基等)、アルケニル基(アリル基、1−ブテニル基、オレイル基等)、(置換)アラルキル基(ベンジル基、4−メチルベンジル基等)、脂環式炭化水素基(シクロヘキシル基等)、アルコキシ(C1〜12)アルキル(C1〜20)基(メトキシエチル基等)、アシロキシ(C1〜12)アルキル(C1〜20)基(アセトキシ基等)]等が挙げられる。
dは通常2〜60またはそれ以上の整数で、帯電防止性および前記末端変性ポリオレフィン(a1)〜(a6)との反応性の観点から好ましくは3〜50、さらに好ましくは5〜30の整数である。
R 3 , R 4 and R 4 ′ in the general formulas (6) and (7) may have an ether bond or an ester bond, and may be an aliphatic, cycloaliphatic or aromatic group of C1-20. Monovalent hydrocarbon group [eg, alkyl group (methyl group, ethyl group, octyl group, dodecyl group, etc.), alkenyl group (allyl group, 1-butenyl group, oleyl group, etc.), (substituted) aralkyl group (benzyl group, 4-methylbenzyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon group (cyclohexyl group, etc.), alkoxy (C1-12) alkyl (C1-20) group (methoxyethyl group, etc.), acyloxy (C1-12) alkyl (C1- 20) group (acetoxy group and the like)] and the like.
d is an integer of usually 2 to 60 or more, preferably 3 to 50, more preferably an integer of 5 to 30 from the viewpoint of antistatic properties and reactivity with the terminal-modified polyolefins (a1) to (a6). is there.

1〜L5としては、前述のような非イオン性分子鎖(c1)が挙げられる。 Examples of L 1 to L 5 include the nonionic molecular chain (c1) as described above.

カチオン性ポリマー(b3)の好ましい例としては、一般式(6)または(8)の繰り返し単位を有するものである。さらに好ましい例としては、一般式(6)において、R3
、R4がC1〜8のアルキル基、L1がポリエステルの残基[とくに好ましいのは一般式(2)中R2がC2〜4のアルキレン基、Dが酸素原子、kが1であるポリエステル]であるもの、および一般式(8)においてL2、L3およびL5がC2〜8のアルキレン基、L4がC2〜20のアルキレン基であるものである。それらの具体例としては下記式(9)および(10)で示される繰り返し単位を有するものが挙げられる。
Preferable examples of the cationic polymer (b3) are those having a repeating unit of the general formula (6) or (8). As a more preferable example, in the general formula (6), R 3
, R 4 is a C1-8 alkyl group, L 1 is a polyester residue [particular preference is given to a polyester in which R 2 is a C2-4 alkylene group in general formula (2), D is an oxygen atom, and k is 1. And L 2 , L 3 and L 5 in the general formula (8) are C2-8 alkylene groups, and L 4 is a C2-20 alkylene group. Specific examples thereof include those having a repeating unit represented by the following formulas (9) and (10).

式(9)および(10)中、J-は対アニオン、fは2〜12の整数を表す。 In formulas (9) and (10), J represents a counter anion, and f represents an integer of 2 to 12.

カチオン性ポリマー(b3)の他の例としては、下記一般式(11)で示される繰り返し単位を有するものが挙げられる。   Other examples of the cationic polymer (b3) include those having a repeating unit represented by the following general formula (11).

式(11)中、Aは3価の炭化水素基、M、J-、R3、R4、R4'及びdは前記と同じである。
3価の炭化水素基Aとしては、C2〜20の3価の脂肪族炭化水素基、例えば、−CH2(CH2gCH<で示される基(gは0または1〜18の整数)、C6〜12の3価の芳香族炭化水素基、例えば結合位置が1,3,5−、1,2,4−または1,2,3−であるベンゼン環が挙げられる。
カチオン性基(c2)としては、4級アンモニウム塩またはホスホニウム塩を有する基が挙げられる。4級アンモニウム塩を有する基としては2価の4級アンモニウム塩含有複素環基が好ましい。
2価の4級アンモニウム塩基含有複素環基としては、2価の三級アミノ基含有複素環基[例えば2価のイミダゾール環基(1,4−イミダゾレン基、2−フェニル−1,4−イミダゾレン基など)、2価のピペリジン環基(2,3−、3,4−または2,6−ピペリジレン基)、2価の芳香複素環基(2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−又は3,5−ピリジレン基、2,5−ピリミジニレン基、3,6−ピリダジニレン基、2,5−ピラジニレン基など)]が4級化された構造の基が挙げられる。
In formula (11), A is a trivalent hydrocarbon group, and M, J , R 3 , R 4 , R 4 ′ and d are the same as described above.
As the trivalent hydrocarbon group A, a C2-20 trivalent aliphatic hydrocarbon group, for example, a group represented by —CH 2 (CH 2 ) g CH <(g is 0 or an integer of 1 to 18). , C6-12 trivalent aromatic hydrocarbon group, for example, a benzene ring in which the bonding position is 1,3,5-, 1,2,4- or 1,2,3-.
Examples of the cationic group (c2) include a group having a quaternary ammonium salt or a phosphonium salt. The group having a quaternary ammonium salt is preferably a divalent quaternary ammonium salt-containing heterocyclic group.
Examples of the divalent quaternary ammonium base-containing heterocyclic group include a divalent tertiary amino group-containing heterocyclic group [for example, a divalent imidazole ring group (1,4-imidazolene group, 2-phenyl-1,4-imidazolene). Group), divalent piperidine ring group (2,3-, 3,4- or 2,6-piperidylene group), divalent aromatic heterocyclic group (2,3-, 2,4-, 2,5). -, 2,6-, 3,4- or 3,5-pyridylene group, 2,5-pyrimidinylene group, 3,6-pyridazinylene group, 2,5-pyrazinylene group, etc.)] Groups.

カチオン性ポリマー(b3)の末端構造はポリオレフィン(a)のブロックとの反応性の観点から好ましいのはカルボニル基、水酸基またはアミノ基である。
(b3)のMnは、帯電防止性および前記末端変性ポリオレフィン(a1)〜(a6)との反応性の観点から、好ましくは500〜20,000、さらに好ましくは1,000〜15,000、とくに好ましくは1,200〜8,000である。
The terminal structure of the cationic polymer (b3) is preferably a carbonyl group, a hydroxyl group or an amino group from the viewpoint of reactivity with the block of the polyolefin (a).
Mn of (b3) is preferably 500 to 20,000, more preferably 1,000 to 15,000, particularly from the viewpoint of antistatic properties and reactivity with the terminal-modified polyolefins (a1) to (a6). Preferably, it is 1,200 to 8,000.

アニオン性ポリマー(b4)は、スルホ基を有するジカルボン酸(e1)と、ジオール(b01)またはポリエーテル(b1)とを必須構成単位とし、かつ分子内に2〜80個、好ましくは3〜60個のスルホ基を有する。   The anionic polymer (b4) comprises a dicarboxylic acid (e1) having a sulfo group and a diol (b01) or a polyether (b1) as essential constituent units, and 2 to 80, preferably 3 to 60 in the molecule. Having one sulfo group.

(e1)としては、スルホ基を有する芳香族ジカルボン酸、例えば5−スルホ−、2−スルホ−および4−スルホイソフタル酸、4−スルホ−2,6−ナフタレンジカルボン酸、およびこれらのエステル形成性誘導体[低級アルキル(C1〜4)エステル(メチルエステル、エチルエステル等)、酸無水物等];スルホ基を有する脂肪族ジカルボン酸、例えばスルホコハク酸、そのエステル形成性誘導体[低級アルキル(C1〜4)エステル(メチルエステル、エチルエステル等)、酸無水物等];およびこれらのスルホ基のみの塩〔アルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)塩、アルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム等)塩、アンモニウム塩、有機アミン塩[モノ−、ジ−およびトリ−ア
ルキル(C1〜4)アミン(モノ−、ジ−およびトリエチルアミン等)、またはヒドロキシアルキル(C2〜4)基を有するアミン(モノ−、ジ−およびトリエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン等)等]およびこれらアミンの4級アンモニウム塩等];およびこれらの2種以上の併用が挙げられる。
これらのうち好ましいのはスルホ基を有する芳香族ジカルボン酸(塩)、さらに好ましいのは5−スルホイソフタル酸塩(とくに5−スルホイソフタル酸−ナトリウムおよび−カリウム)である。
(E1) is an aromatic dicarboxylic acid having a sulfo group, such as 5-sulfo-, 2-sulfo- and 4-sulfoisophthalic acid, 4-sulfo-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and ester forming properties thereof. Derivatives [lower alkyl (C1-4) esters (methyl esters, ethyl esters, etc.), acid anhydrides, etc.]; aliphatic dicarboxylic acids having a sulfo group, such as sulfosuccinic acid, ester-forming derivatives thereof [lower alkyl (C1-4 ) Esters (methyl esters, ethyl esters, etc.), acid anhydrides, etc.]; and salts of these sulfo groups only [alkali metal (lithium, sodium, potassium, etc.) salts, alkaline earth metal (magnesium, calcium, etc.) salts, Ammonium salts, organic amine salts [mono-, di- and tri-alkyl (C1-4) amines -, Di- and triethylamine etc.), or amines having hydroxyalkyl (C2-4) groups (mono-, di- and triethanolamine, diethylethanolamine etc.) and the like, and quaternary ammonium salts of these amines etc.]; And a combination of two or more of these.
Of these, preferred are aromatic dicarboxylic acids (salts) having a sulfo group, and more preferred are 5-sulfoisophthalates (especially 5-sulfoisophthalic acid-sodium and -potassium).

アニオン性ポリマー(b4)を構成するジオール(b01)またはポリエーテル(b1)のうち好ましいのは、C2〜10のアルカンジオール、EG、ポリエチレングリコール(以下PEGと略記)(重合度2〜20)、ビスフェノール(ビスフェノールA等)のEO付加物(付加モル数2〜60)およびこれらの2種以上の混合物である。
(b4)のMnは、帯電防止性および前記末端変性ポリオレフィン(a1)〜(a6)との反応性の観点から、好ましくは500〜20,000、さらに好ましくは1,000〜15,000、とくに好ましくは1,200〜8,000である。
親水性ポリマー(b)として上述したものは、2種以上を任意に併用してもよい。
Of the diol (b01) or polyether (b1) constituting the anionic polymer (b4), C2-10 alkanediol, EG, polyethylene glycol (hereinafter abbreviated as PEG) (degree of polymerization 2-20), An EO adduct of bisphenol (such as bisphenol A) (addition mole number: 2 to 60) and a mixture of two or more of these.
Mn of (b4) is preferably 500 to 20,000, more preferably 1,000 to 15,000, particularly from the viewpoint of antistatic properties and reactivity with the terminal-modified polyolefins (a1) to (a6). Preferably, it is 1,200 to 8,000.
Two or more of the above-described hydrophilic polymers (b) may be used in combination.

(b)のMnは、耐熱性およびポリオレフィン(a)のブロックとの反応性の観点から好ましい下限は150、さらに好ましくは300、とくに好ましくは1,000、最も好ましくは1,200、好ましい上限は20,000、さらに好ましくは18,000、とくに好ましくは15,000、最も好ましくは8,000である。   Mn of (b) is preferably 150 from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the block of polyolefin (a), more preferably 300, particularly preferably 1,000, most preferably 1,200, and preferred upper limit is 20,000, more preferably 18,000, particularly preferably 15,000, most preferably 8,000.

ブロックポリマー(BP)は、上記ポリオレフィン(a)のブロックと、親水性ポリマー(b)のブロックとが、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するものであり、これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは、(b)がポリエーテル(b1)であるブロックポリマー(BP1)、(b)がカチオン性ポリマー(b3)であるブロックポリマー(BP3)、(b)がアニオン性ポリマー(b4)であるブロックポリマー(BP4)である。   The block polymer (BP) is at least one selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond and a urethane bond, in which the polyolefin (a) block and the hydrophilic polymer (b) block are included. Of these, a block polymer (BP1) in which (b) is a polyether (b1), (b) is preferred from the viewpoint of antistatic properties. Is a block polymer (BP3), which is a cationic polymer (b3), and (b) is a block polymer (BP4), which is an anionic polymer (b4).

ブロックポリマー(BP1)は、下記一般式(12)で示される繰り返し単位を有する。   The block polymer (BP1) has a repeating unit represented by the following general formula (12).

式(12)において、nは2〜50(好ましくは3〜40、さらに好ましくは4〜30、特に好ましくは4〜30)の整数;R5およびR6の一方はHで他方はHまたはメチル基;yは15〜800(好ましくは20〜500、さらに好ましくは30〜400)の整数;E1、A1、mおよびm’は前記と同様であり;XおよびX’は、下記一般式(13)、(14)および対応する(13’)、(14’)から選ばれる基、すなわち、Xが一般式(13)で示される基のとき、X’は一般式(13’)で示される基であり、一般式(14)と(14’)についても同様の関係である。 In the formula (12), n is an integer of 2 to 50 (preferably 3 to 40, more preferably 4 to 30, particularly preferably 4 to 30); one of R 5 and R 6 is H and the other is H or methyl Group; y is an integer of 15 to 800 (preferably 20 to 500, more preferably 30 to 400); E 1 , A 1 , m and m ′ are as defined above; X and X ′ are represented by the following general formula (13), (14) and a corresponding group selected from (13 ′), (14 ′), that is, when X is a group represented by the general formula (13), X ′ is represented by the general formula (13 ′) It is a group shown, and the same relations apply to the general formulas (14) and (14 ′).

;一般式(13)、(14)および対応する(13’)、(14’)式において、Rは前記(b2)において述べたものと同じでH又はC1〜4(好ましくは1または2)のアルキル基、R7はC2〜22(好ましくは3〜16、さらに好ましくは5〜11)の2価の炭化水素基、R8はHまたはC1〜10(好ましくは1〜8、さらに好ましくは1〜6)のアルキル基;rは1〜20(好ましくは1〜15、さらに好ましくは1〜10)の整数であり、uは0または1;Q、Q’、TおよびT’は次式で示される基 In the general formulas (13) and (14) and the corresponding formulas (13 ′) and (14 ′), R is the same as described in the above (b2) and is H or C1-4 (preferably 1 or 2); R 7 is a C 2-22 (preferably 3-16, more preferably 5-11) divalent hydrocarbon group, R 8 is H or C 1-10 (preferably 1-8, more preferably 1-6) alkyl group; r is an integer of 1-20 (preferably 1-15, more preferably 1-10), u is 0 or 1; Q, Q ′, T and T ′ are represented by the following formulae: Group represented by

;上記の一般式(15)、(16)および対応する(15’)、(16’)式中、R9はHまたはC1〜10(好ましくは1〜8、さらに好ましくは1〜6)のアルキル基、R10はHまたはメチル基、tはR10がメチル基のとき1、Hのとき0である。 In the above general formulas (15), (16) and the corresponding (15 ′), (16 ′), R 9 is H or C1-10 (preferably 1-8, more preferably 1-6); An alkyl group, R 10 is H or a methyl group, t is 1 when R 10 is a methyl group, and 0 when H is H.

一般式(12)で示される繰り返し単位中の{ }内のポリエーテルセグメント{(O
1)mO−E1−O(A1O)m'}は、前記ポリエーテルジオール(b1−1)またはポリエーテルジアミン(b1−2)に由来する構造であり、式中のE1、A1、mおよびm’は前記と同様である。
Polyether segment {} in {} in the repeating unit represented by the general formula (12)
A 1) m O-E 1 -O (A 1 O) m '} is a structure derived from the polyether diol (b1-1) or polyether diamine (b1-2), E 1 of the formula , A 1 , m and m ′ are the same as described above.

一般式(12)において、Xが一般式(13)で示される基、およびX’が一般式(13’)で示される基であるブロックポリマーには、前記末端変性ポリオレフィン(a11)および/または(a12)と(b1−1)とを重合反応させることにより得られる(BP11)と、(a11)および/または(a12)と(b1−2)とを重合反応させることにより得られる(BP12)とが含まれる。
(BP11)には(a11)と(b1−1)とを組み合わせた(BP11−1)、(a12)と(b1−1)とを組み合わせた(BP11−2)、および(BP11−1)と(BP11−2)の混合物が含まれる。また、同様に(BP12)には(a11)と(b1−2)とを組み合わせた(BP12−1)、(a12)と(b1−2)とを組み合わせた(BP12−2)、および(BP12−1)と(BP12−2)の混合物が含まれる。
In the general formula (12), the terminal-modified polyolefin (a11) and / or the block polymer in which X is a group represented by the general formula (13) and X ′ is a group represented by the general formula (13 ′) (BP11) obtained by polymerizing (a12) and (b1-1), and (a11) and / or (a12) and (b1-2) obtained by polymerizing (BP12) And are included.
(BP11) (BP11-1) in which (a11) and (b1-1) are combined, (BP11-2) in which (a12) and (b1-1) are combined, and (BP11-1) A mixture of (BP11-2) is included. Similarly, (BP12) is a combination of (BP12-1), which is a combination of (a11) and (b1-2), (BP12-2) which is a combination of (a12) and (b1-2), and (BP12). -1) and a mixture of (BP12-2).

(BP11)は、例えば(a11)および/または(a12)に、(b1−1)を加えて減圧下、通常200〜250℃で重合(重縮合)反応を行う方法、または、一軸もしくは二軸の押出機を用い、通常160〜250℃、滞留時間0.1〜20分で重合する方法により製造することができる。
上記の重合反応では、種々の触媒、例えばアンチモン触媒(例えば三酸化アンチモン);スズ触媒(例えばモノブチルスズオキシド);チタン触媒(例えばテトラブチルチタネート);ジルコニウム触媒(例えばテトラブチルジルコネート);有機酸金属塩触媒[例えばジルコニウム有機酸塩(例えば酢酸ジルコニル)および酢酸亜鉛];およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。これらのうち好ましいのは、ジルコニウム触媒およびジルコニウム有機酸塩、さらに好ましいのは酢酸ジルコニルである。
触媒の使用量は、(a11)および/または(a12)と(b1−1)の合計重量に対
して、好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%である。
(BP11) is, for example, a method in which (b1-1) is added to (a11) and / or (a12) and a polymerization (polycondensation) reaction is usually performed at 200 to 250 ° C. under reduced pressure, or uniaxial or biaxial In general, it can be produced by a method of polymerizing at 160 to 250 ° C. and a residence time of 0.1 to 20 minutes.
In the above polymerization reaction, various catalysts such as antimony catalysts (eg antimony trioxide); tin catalysts (eg monobutyltin oxide); titanium catalysts (eg tetrabutyl titanate); zirconium catalysts (eg tetrabutylzirconate); organic acids Metal salt catalysts [eg zirconium organic acid salts (eg zirconyl acetate) and zinc acetate]; and mixtures of two or more thereof. Among these, a zirconium catalyst and a zirconium organic acid salt are preferable, and zirconyl acetate is more preferable.
The amount of the catalyst used is preferably 0.001 to 5%, more preferably 0.01 to 3%, based on the total weight of (a11) and / or (a12) and (b1-1).

(BP11)のうち、(BP11−2)は(a11)を前記ラクタムもしくはアミノカルボン酸で二次変性した後に、(b1−1)を加えて反応させてもよいし、(a11)とラクタムもしくはアミノカルボン酸を(b1−1)の存在下反応させ、続いて(b1−1)と反応させて製造してもよい。   Among (BP11), (BP11-2) may be reacted with (b11) after (a11) is secondarily modified with the above lactam or aminocarboxylic acid, or (a11) and lactam or An aminocarboxylic acid may be reacted in the presence of (b1-1) and subsequently reacted with (b1-1).

(BP12)は、(BP11)における(a11)および/または(a12)と(b1−1)の組み合わせを、(a11)および/または(a12)と(b1−2)の組み合わせに代える以外は(BP11)と同様の方法で製造することができる。
また、(BP12)のうち、(BP12−2)は(a11)を前記ラクタムもしくはアミノカルボン酸で二次変性した後に、これと(b1−2)とを反応させて製造してもよい。
(BP12) except that the combination of (a11) and / or (a12) and (b1-1) in (BP11) is replaced with the combination of (a11) and / or (a12) and (b1-2) ( It can be produced by the same method as BP11).
Of (BP12), (BP12-2) may be produced by secondarily modifying (a11) with the lactam or aminocarboxylic acid and then reacting it with (b1-2).

一般式(12)において、Xが一般式(14)で示される基、およびX’が一般式(14’)で示される基であるブロックポリマーには、(a13)(r=1の場合)および/または(a14)(r≧2の場合)と(b1−1)とを重合反応させることにより得られる(BP13)と、(a13)および/または(a14)と(b1−2)とを重合反応させることにより得られる(BP14)とが含まれる。
(BP13)には(a13)と(b1−1)とを組み合わせた(BP13−1)、(a14)と(b1−1)とを組み合わせた(BP13−2)、および(BP13−1)と(BP13−2)の混合物が含まれる。また、同様に(BP14)には(a13)と(b1−2)とを組み合わせた(BP14−1)、(a14)と(b1−2)とを組み合わせた(BP14−2)、および(BP14−1)と(BP14−2)の混合物が含まれる。
(BP13)および(BP14)は(BP11)や(BP12)と同様の方法で製造することができる。
In the general formula (12), the block polymer in which X is a group represented by the general formula (14) and X ′ is a group represented by the general formula (14 ′) includes (a13) (when r = 1) And / or (a14) (when r ≧ 2) and (b1-1) are subjected to a polymerization reaction (BP13), and (a13) and / or (a14) and (b1-2) (BP14) obtained by polymerization reaction.
(BP13) (BP13-1) combining (a13) and (b1-1), (BP13-2) combining (a13) and (b1-1), and (BP13-1) A mixture of (BP13-2) is included. Similarly, (BP14) is a combination of (BP14-1) in which (a13) and (b1-2) are combined, (BP14-2) in which (a14) and (b1-2) are combined, and (BP14) -1) and a mixture of (BP14-2).
(BP13) and (BP14) can be produced by the same method as (BP11) and (BP12).

ブロックポリマー(BP3)は、カチオン性ポリマー(b3)のブロックを有するものであり、前記ポリオレフィン(a)と(b3)とが繰り返し交互に結合した構造を有する。(BP3)は前記(a1)〜(a3)と(b3)との重合反応により得ることができ、上記(BP1)における、(a11)および/または(a12)と(b1)との重合反応と同様の方法で製造することができる。また、必要により、(b3)と(b1)とを任意の割合(例えば1:9〜9:1の重量比)で併用することができる。
(BP3)中のカチオン性基(c2)の含量は、帯電防止性の観点から(BP3)1分子当たり好ましくは2〜500個、さらに好ましくは10〜300個、とくに好ましくは15〜250個である。また、(c2)1個当たりの(BP3)のMnは、帯電防止性の観点から好ましくは120〜30,000、さらに好ましくは200〜6,000、とくに好ましくは300〜4,000である。
The block polymer (BP3) has a block of the cationic polymer (b3), and has a structure in which the polyolefins (a) and (b3) are bonded alternately and repeatedly. (BP3) can be obtained by the polymerization reaction of (a1) to (a3) and (b3), and the polymerization reaction of (a11) and / or (a12) and (b1) in (BP1) It can be manufactured by a similar method. Moreover, (b3) and (b1) can be used together in arbitrary ratios (for example, weight ratio of 1: 9-9: 1) as needed.
The content of the cationic group (c2) in (BP3) is preferably 2 to 500, more preferably 10 to 300, particularly preferably 15 to 250 per molecule of (BP3) from the viewpoint of antistatic properties. is there. In addition, Mn of (BP3) per (c2) is preferably 120 to 30,000, more preferably 200 to 6,000, and particularly preferably 300 to 4,000 from the viewpoint of antistatic properties.

ブロックポリマー(BP4)は、アニオン性ポリマー(b4)のブロックを有するものであり、前記ポリオレフィン(a)と(b4)とが繰り返し交互に結合した構造を有する。(BP4)は前記(a1)〜(a3)と(b4)との重合反応により得ることができ、上記(BP1)と同様の方法で製造することができる。また、必要により、(b4)と(b1)とを任意の割合(例えば1:9〜9:1の重量比)で併用してもよい。
(BP4)中のスルホ基の含量は、帯電防止性の観点から(BP4)1分子当たり好ましくは2〜500個、さらに好ましくは10〜300個、とくに好ましくは15〜250個である。また、スルホ基1個当たりの(BP4)のMnは、帯電防止性の観点から好ましくは120〜30,000、さらに好ましくは200〜6,000、とくに好ましくは300〜4,000である。
The block polymer (BP4) has a block of the anionic polymer (b4), and has a structure in which the polyolefins (a) and (b4) are bonded alternately and repeatedly. (BP4) can be obtained by the polymerization reaction of (a1) to (a3) and (b4), and can be produced by the same method as (BP1) above. Moreover, you may use together (b4) and (b1) in arbitrary ratios (for example, weight ratio of 1: 9-9: 1) as needed.
The content of the sulfo group in (BP4) is preferably 2 to 500, more preferably 10 to 300, and particularly preferably 15 to 250 per molecule of (BP4) from the viewpoint of antistatic properties. The Mn of (BP4) per sulfo group is preferably 120 to 30,000, more preferably 200 to 6,000, and particularly preferably 300 to 4,000 from the viewpoint of antistatic properties.

ブロックポリマー(BP)を構成する(b)の量は、帯電防止性の観点から好ましくは(a)と(b)との合計重量に基づいて20〜90%、さらに好ましくは25〜80%、特に好ましくは30〜70%である。   The amount of (b) constituting the block polymer (BP) is preferably 20 to 90%, more preferably 25 to 80% based on the total weight of (a) and (b) from the viewpoint of antistatic properties. Especially preferably, it is 30 to 70%.

ブロックポリマー(BP)のMnは、帯電防止性および帯電防止剤(B)の(A)への分散性の観点から好ましくは2,000〜60,000、さらに好ましくは5,000〜40,000、特に好ましくは8,000〜30,000である。   The Mn of the block polymer (BP) is preferably 2,000 to 60,000, more preferably 5,000 to 40,000 from the viewpoint of antistatic properties and dispersibility of the antistatic agent (B) in (A). Especially preferably, it is 8,000-30,000.

(BP)の構造において、(a)のブロックと、(b)のブロックとの繰り返し単位の平均繰り返し数(Nn)は、帯電防止性および帯電防止剤(B)の(A)への分散性の観点から好ましくは2〜50、さらに好ましくは2.3〜30、特に好ましくは2.7〜20、最も好ましくは3〜10である。
Nnは、(BP)のMnおよび1H−NMR分析によって求めることができる。
例えば、(a11)のブロックと(b1−1)のブロックとが繰り返し交互に結合した構造を有する(BP11)の場合は、1H−NMR分析において、4.0〜4.1ppmのエステル結合{−C(C=O)−OCH2−}のプロトンに帰属されるシグナル、および3.2〜3.7ppmのPEGのプロトンに帰属されるシグナルが観測できることから、これらのプロトン積分値の比を求めて、この比とMnとからNnを求めることができる。
In the structure of (BP), the average number of repeating units (Nn) of the repeating units of the block (a) and the block (b) is the antistatic property and the dispersibility of the antistatic agent (B) in (A). From this viewpoint, it is preferably 2 to 50, more preferably 2.3 to 30, particularly preferably 2.7 to 20, and most preferably 3 to 10.
Nn can be determined by Mn and 1 H-NMR analysis of (BP).
For example, in the case of (BP11) having a structure in which the blocks of (a11) and (b1-1) are alternately and repeatedly bonded, 4.0 1 to 4.1 ppm ester bond { Since a signal attributed to protons of —C (C═O) —OCH 2 —} and a signal attributed to protons of 3.2 to 3.7 ppm PEG can be observed, the ratio of these proton integral values is Thus, Nn can be obtained from this ratio and Mn.

(BP)の末端は、(a)由来のカルボニル基、アミノ基および/または無変性ポリオレフィン末端(何ら変性がなされていないポリオレフィン末端、すなわち、アルキル基またはアルケニル基)、あるいは(b)由来の水酸基および/またはアミノ基のいずれかである。これらのうち反応性の観点から末端として好ましいのはアミノ基、およびさらに好ましいのはカルボニル基および水酸基である。   The terminal of (BP) is a carbonyl group, amino group and / or unmodified polyolefin terminal derived from (a) (polyolefin terminal not modified at all, ie, an alkyl group or alkenyl group), or a hydroxyl group derived from (b) And / or any amino group. Among these, an amino group is preferable as a terminal from the viewpoint of reactivity, and a carbonyl group and a hydroxyl group are more preferable.

[カルボジイミド化合物(C)]
カルボジイミド化合物(C)には、カルボジイミド単量体(C1)およびカルボジイミド(共)重合体(C2)が含まれる。これらのうち、(C)の(A)および/または(B)への分散性の観点からカルボジイミド(共)重合体(C2)が好ましい。
[Carbodiimide compound (C)]
The carbodiimide compound (C) includes a carbodiimide monomer (C1) and a carbodiimide (co) polymer (C2). Among these, a carbodiimide (co) polymer (C2) is preferable from the viewpoint of dispersibility of (C) in (A) and / or (B).

カルボジイミド単量体(C1)は、下記一般式(17)で示される。
The carbodiimide monomer (C1) is represented by the following general formula (17).

式(17)において、R11はC1〜20の、脂肪族、脂環式および芳香族の1価炭化水素基である。 In the formula (17), R 11 is a C1-20 aliphatic, alicyclic or aromatic monovalent hydrocarbon group.

カルボジイミド単量体(C1)としては、例えば、ジメチルカルボジイミド、ジエチルカルボジイミド、ジプロピルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、ジヘキシルカルボジイミド、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフェニルカルボジイミド、ビス(メチルフェニル)カルボジイミド、ビス(ジメチルフェニル)カルボジイミド、ビス(ジプロピルフェニル)カルボジイミド等が挙げられる。   Examples of the carbodiimide monomer (C1) include dimethylcarbodiimide, diethylcarbodiimide, dipropylcarbodiimide, diisopropylcarbodiimide, dihexylcarbodiimide, dicyclohexylcarbodiimide, diphenylcarbodiimide, bis (methylphenyl) carbodiimide, bis (dimethylphenyl) carbodiimide, and bis ( And dipropylphenyl) carbodiimide.

カルボジイミド(共)重合体(C2)は、下記一般式(18)で示される繰り返し単位を有する。
The carbodiimide (co) polymer (C2) has a repeating unit represented by the following general formula (18).

式(18)において、R12は脂肪族、脂環式および芳香族の2価炭化水素基である。 In the formula (18), R 12 is an aliphatic, alicyclic or aromatic divalent hydrocarbon group.

(C2)の合成法は特に限定されるものではないが、例えば以下の多価ポリイソシアナネート化合物の1種または2種以上を、イソシアネート基のカルボジイミド化反応を促進する触媒(以下カルボジイミド化触媒と略記)の存在下で反応させることにより合成することができる。
該ポリイソシアネートのうち、ジイソシアネートとしては、前記の芳香族、脂肪族、脂環式および芳香脂肪族ジイソシアネートが挙げられる。
3官能以上のポリイソシアネートとしては、フェニル−1,3,5−トリイソシアネート、ジフェニルメタン−2,4,4′−トリイソシアネート、ジフェニルメタン−2,5,4′−トリイソシアネート、トリフェニルメタン−2,4’,4’’−トリイソシアネート、トリフェニルメタン−4,4’,4’’−トリイソシアネート、ジフェニルメタン−2,4,2’,4’−テトライソシアネート、ジフェニルメタン−2,5,2’,5’−テトライソシアネート、シクロヘキサン−1,3,5−トリイソシアネート、シクロヘキサン−1,3,5−トリス(メチルイソシアネート)、3,5−ジメチルシクロヘキサン−1,3,5−トリス(メチルイソシアネート)、1,3,5−トリメチルシクロヘキサン−1,3,5−トリス(メチルイソシアネート)、ジシクロヘキシルメタン−2,4,2’−トリイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−2,4,4’−トリイソシアネート等が挙げられる。
これらのうちカルボジイミド化反応の容易さの観点から好ましいのはジイソシアネートである。
Although the synthesis method of (C2) is not particularly limited, for example, a catalyst that promotes a carbodiimidization reaction of an isocyanate group using one or more of the following polyvalent polyisocyanate compounds (hereinafter referred to as a carbodiimidization catalyst) And abbreviation) can be synthesized.
Among the polyisocyanates, examples of the diisocyanate include the aromatic, aliphatic, alicyclic and araliphatic diisocyanates.
Examples of the trifunctional or higher polyisocyanate include phenyl-1,3,5-triisocyanate, diphenylmethane-2,4,4'-triisocyanate, diphenylmethane-2,5,4'-triisocyanate, triphenylmethane-2, 4 ′, 4 ″ -triisocyanate, triphenylmethane-4,4 ′, 4 ″ -triisocyanate, diphenylmethane-2,4,2 ′, 4′-tetraisocyanate, diphenylmethane-2,5,2 ′, 5′-tetraisocyanate, cyclohexane-1,3,5-triisocyanate, cyclohexane-1,3,5-tris (methyl isocyanate), 3,5-dimethylcyclohexane-1,3,5-tris (methyl isocyanate), 1,3,5-trimethylcyclohexane-1,3,5-tris (methylisocyanate And dicyclohexylmethane-2,4,2′-triisocyanate, dicyclohexylmethane-2,4,4′-triisocyanate, and the like.
Of these, diisocyanate is preferred from the viewpoint of ease of carbodiimidization reaction.

(C2)のMnは、好ましくはMn400〜500,000、さらに好ましくはMn1,000〜200,000、とくに好ましくはMn2,000〜100,000である。   Mn of (C2) is preferably Mn 400 to 500,000, more preferably Mn 1,000 to 200,000, and particularly preferably Mn 2,000 to 100,000.

カルボジイミド化触媒としては、例えばホスホレン化合物(1−フェニル−2−ホスホレン−1−オキシド、1−フェニル−3−メチル−2−ホスホレン−1−オキシド、1−フェニル−2−ホスホレン−1−スルフィド、1−フェニル−3−メチル−2−ホスホレン−1−スルフィド、1−エチル−2−ホスホレン−1−オキシド、1−エチル−3−メチル−2−ホスホレン−1−オキシド、1−エチル−2−ホスホレン−1−スルフィド、1−エチル−3−メチル−2−ホスホレン−1−スルフィド、1−メチル−2−ホスホレン−1−オキシド、1−メチル−3−メチル−2−ホスホレン−1−オキシド、1−メチル−2−ホスホレン−1−スルフィド、1−メチル−3−メチル−2−ホスホレン−1−スルフィド、およびこれらの3−ホスホレン異性体等)、金属カルボニル錯体(ペンタカルボニル鉄、ノナカルボニル二鉄、テトラカルボニルニッケル、ヘキサカルボニルタングステン、ヘキサカルボニルクロム等)、金属(ベリリウム、アルミニウム、ジルコニウム、クロム、鉄等)のアセチルアセトン錯体、リン酸エステル(トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリイソプロピルホスフェート、トリ−t−ブチルホスフェート、トリフェニルホスフェート等)が挙げられる。カルボジイミド化触媒は、1種単独で使用することも、あるいは2種以上を混合して使用することもできる。
該触媒の使用量は、ポリイソシアネートの重量に基づいて、好ましくは0.001〜30%、さらに好ましくは0.01〜10%である。
Examples of the carbodiimidization catalyst include phospholene compounds (1-phenyl-2-phospholene-1-oxide, 1-phenyl-3-methyl-2-phospholene-1-oxide, 1-phenyl-2-phospholene-1-sulfide, 1-phenyl-3-methyl-2-phospholene-1-sulfide, 1-ethyl-2-phospholene-1-oxide, 1-ethyl-3-methyl-2-phospholene-1-oxide, 1-ethyl-2- Phospholene-1-sulfide, 1-ethyl-3-methyl-2-phospholene-1-sulfide, 1-methyl-2-phospholene-1-oxide, 1-methyl-3-methyl-2-phospholene-1-oxide, 1-methyl-2-phospholene-1-sulfide, 1-methyl-3-methyl-2-phospholene-1-sulfide, and these 3 Phospholene isomers), metal carbonyl complexes (pentacarbonyliron, nonacarbonyldiiron, tetracarbonylnickel, hexacarbonyltungsten, hexacarbonylchromium, etc.), acetylacetone complexes of metals (beryllium, aluminum, zirconium, chromium, iron, etc.), And phosphoric acid esters (trimethyl phosphate, triethyl phosphate, triisopropyl phosphate, tri-t-butyl phosphate, triphenyl phosphate, etc.). A carbodiimidization catalyst can be used individually by 1 type, or 2 or more types can also be mixed and used for it.
The amount of the catalyst used is preferably 0.001 to 30%, more preferably 0.01 to 10%, based on the weight of the polyisocyanate.

[帯電防止性フィルム]
本発明の帯電防止性フィルムは、上記(A)〜(C)を含有してなり、(A)〜(C)の合計重量に基づいて、(A)を40〜98(好ましくは55〜95)%、(B)を1〜30(好ましくは3〜25)%、(C)を1〜30(好ましくは2〜20)%含有することを特徴とする。
(A)の含有量が40%未満ではフィルムの機械特性が悪くなり、98%を超えるとフィルムの帯電防止性が悪くなる;(B)の含有量が1%未満ではフィルムの帯電防止性が悪くなり、30%を超えるとフィルムの表面特性が悪くなる;(C)の含有量が1%未満ではフィルムのヒートシール性が悪くなり、30%を超えるとフィルムの機械特性および外観が悪くなる。
該フィルム中の(A)〜(C)の各成分の含有量は、得られたフィルム自体から推定することもできる。すなわち、フィルム断面における分散状態を透過型電子顕微鏡で観察後、画像解析[観察像中の白色部分:(A)、灰色部分:(B)、黒色部分:(C)]を行い、適当な範囲(例えば10μm×10μm)の中での面積比により求める方法が挙げられる。仕込み割合(重量比)が既知の(A)〜(C)から得られたフィルムについての上記画像解析によれば、該面積比と仕込み重量比はほぼ一致する。
[Antistatic film]
The antistatic film of the present invention comprises the above (A) to (C), and based on the total weight of (A) to (C), (A) is 40 to 98 (preferably 55 to 95). )%, (B) 1-30 (preferably 3-25)%, and (C) 1-30 (preferably 2-20)%.
When the content of (A) is less than 40%, the mechanical properties of the film are deteriorated, and when it exceeds 98%, the antistatic property of the film is deteriorated; when the content of (B) is less than 1%, the antistatic property of the film is deteriorated. When the content exceeds 30%, the surface properties of the film deteriorate; when the content of (C) is less than 1%, the heat sealability of the film deteriorates, and when it exceeds 30%, the mechanical properties and appearance of the film deteriorate. .
The content of each component (A) to (C) in the film can also be estimated from the obtained film itself. That is, after observing the dispersion state in the film cross-section with a transmission electron microscope, image analysis [white portion in the observed image: (A), gray portion: (B), black portion: (C)] is performed, and an appropriate range (For example, the method of calculating | requiring by the area ratio in 10 micrometers x 10 micrometers) is mentioned. According to the above image analysis for films obtained from known charge ratios (weight ratios) (A) to (C), the area ratio and the charge weight ratio almost coincide.

本発明の帯電防止性フィルムは、上記(A)〜(C)を含有する樹脂組成物を成形することにより得られるが、該樹脂組成物には、フィルムの帯電防止性をさらに向上させる目的で、必要によりアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の塩(D1)、界面活性剤(D2)およびイオン性液体(D3)からなる群から選ばれる少なくとも1種の添加剤(D)を含有させてもよい。   The antistatic film of the present invention can be obtained by molding a resin composition containing the above (A) to (C), and the resin composition has the purpose of further improving the antistatic property of the film. If necessary, at least one additive (D) selected from the group consisting of an alkali metal or alkaline earth metal salt (D1), a surfactant (D2) and an ionic liquid (D3) may be contained. .

(D1)としては、アルカリ金属(リチウム、ナトリウムおよびカリウム等)および/またはアルカリ土類金属(例えばマグネシウムおよびカルシウム等)の有機酸(C1〜12のモノ−およびジカルボン酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸およびコハク酸;C1〜20のスルホン酸、例えばメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸;およびチオシアン酸)の塩、および無機酸(ハロゲン化水素酸、例えば塩酸および臭化水素酸、過塩素酸、硫酸、硝酸、リン酸)の塩が挙げられる。   (D1) includes alkali acids (such as lithium, sodium and potassium) and / or alkaline earth metals (such as magnesium and calcium) organic acids (C1-12 mono- and dicarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propion) Salts of acids, oxalic acid and succinic acid; C1-20 sulfonic acids such as methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid; and thiocyanic acid, and inorganic acids (hydrohalic acids such as hydrochloric acid and hydrobromic acid, Perchloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid).

(D1)の具体例としては、ハロゲン化物[フッ化物(フッ化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、塩化物(塩化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、臭化物(臭化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)およびヨウ化物(ヨウ化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)等]、過塩素酸塩(過塩素酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、フッ化スルホン酸塩(フルオロスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、メタンスルホン酸塩(メタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、トリフルオロメタンスルホン酸塩(トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ペンタフルオロエタンスルホン酸塩(ペンタフルオロエタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ノナフルオロブタンスルホン酸塩(ノナフルオロブタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸塩(ウンデカフルオロペンタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸塩(トリデカフルオロヘキサンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、酢酸塩(酢酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、硫酸塩(硫酸ナトリ
ウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、燐酸塩(燐酸ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、チオシアン酸塩(チオシアン酸カリウム等)等が挙げられる。
これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは、ハロゲン化物、過塩素酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、酢酸塩、さらに好ましいのは塩化リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、過塩素酸リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、酢酸カリウムである。
Specific examples of (D1) include halides [fluorides (lithium fluoride, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), chlorides (lithium chloride, -sodium, -potassium, -magnesium, and -calcium). Etc.), bromides (such as lithium bromide, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium) and iodides (such as lithium iodide, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium) etc.], perchlorates (Such as lithium perchlorate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), fluorinated sulfonates (such as lithium fluorosulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), methanesulfonate ( Lithium methanesulfonate, -sodium, Potassium, -magnesium and -calcium), trifluoromethanesulfonate (lithium trifluoromethanesulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), pentafluoroethanesulfonate (lithium pentafluoroethanesulfonate, -Sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), nonafluorobutane sulfonate (such as lithium nonafluorobutane sulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), undecafluoropentane sulfonate ( Undecafluoropentanesulfonate lithium, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium, etc.), tridecafluorohexanesulfonate (tridecafluorohexanes) Lithium fonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), acetates (lithium acetate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium etc.), sulfates (sodium sulfate, -potassium, -magnesium and -Calcium etc.), phosphate (sodium phosphate, -potassium, -magnesium, -calcium etc.), thiocyanate (potassium thiocyanate etc.), etc. are mentioned.
Of these, from the viewpoint of antistatic properties, preferred are halides, perchlorates, trifluoromethanesulfonates, acetates, and more preferred are lithium chloride, -potassium and -sodium, lithium perchlorate, -potassium. And -sodium, lithium trifluoromethanesulfonate, -potassium and -sodium, potassium acetate.

(D1)の使用量は、帯電防止性向上効果の観点および樹脂表面に析出せず良好な外観のフィルムを与える観点から、(A)および(B)の合計重量に基づいて、好ましくは0.001〜3%、さらに好ましくは0.01〜2.5%、特に好ましくは0.1〜2%、最も好ましくは0.15〜1%である。
(D1)を含有させる方法については特に限定はないが、樹脂組成物中への効果的な分散の観点から、帯電防止剤(B)中に予め分散させておくことが好ましい。
また、(B)中へ(D1)を分散させる場合、(B)の製造(重合)時に予め(D1)を含有、分散させておくのが特に好ましい。(D1)を(B)の製造時に含有させるタイミングは特に制限なく、製造前、製造中および製造直後のいずれでもよい。
The amount of (D1) used is preferably 0.00 on the basis of the total weight of (A) and (B) from the viewpoint of an antistatic improvement effect and a film having a good appearance without being deposited on the resin surface. 001 to 3%, more preferably 0.01 to 2.5%, particularly preferably 0.1 to 2%, and most preferably 0.15 to 1%.
The method of containing (D1) is not particularly limited, but it is preferable to disperse in the antistatic agent (B) in advance from the viewpoint of effective dispersion in the resin composition.
Further, when (D1) is dispersed in (B), it is particularly preferable that (D1) is contained and dispersed in advance during the production (polymerization) of (B). There is no particular limitation on the timing at which (D1) is contained during the production of (B), and any time before production, during production, or immediately after production may be used.

界面活性剤(D2)としては、非イオン性、アニオン性、カチオン性および両性の界面活性剤、並びにこれらの混合物が挙げられる。
非イオン性界面活性剤としては、例えばEO付加型非イオン性界面活性剤[例えば高級アルコール(C8〜18、以下同じ)、高級脂肪酸(C8〜24、以下同じ)または高級アルキルアミン(C8〜24)のEO付加物(分子量158以上かつMn200,000以下);グリコールのEO付加物であるポリアルキレングリコール(分子量150以上かつMn6,000以下)の高級脂肪酸エステル;多価アルコール(C2〜18の2価〜8価またはそれ以上、例えばEG、プロピレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトールおよびソルビタン)高級脂肪酸エステルのEO付加物(分子量250以上かつMn30,000以下);高級脂肪酸アミドのEO付加物(分子量200以上かつMn30,000以下);および多価アルコール(前記のもの)アルキル(C3〜60)エーテルのEO付加物(分子量120以上かつMn30,000以下)]、および多価アルコ−ル(C3〜60)型非イオン性界面活性剤[例えば多価アルコールの脂肪酸(C3〜60)エステル、多価アルコールのアルキル(C3〜60)エーテルおよび脂肪酸(C3〜60)アルカノールアミド]が挙げられる。
Surfactant (D2) includes nonionic, anionic, cationic and amphoteric surfactants, and mixtures thereof.
Nonionic surfactants include, for example, EO addition type nonionic surfactants [for example, higher alcohol (C8-18, the same hereinafter), higher fatty acid (C8-24, same hereinafter) or higher alkylamine (C8-24). ) EO adduct (molecular weight 158 or more and Mn 200,000 or less); higher fatty acid ester of polyalkylene glycol (molecular weight 150 or more and Mn 6,000 or less) which is an EO adduct of glycol; polyhydric alcohol (C2-18) To 8 or more, for example, EG, propylene glycol, glycerin, pentaerythritol and sorbitan) higher fatty acid ester EO adduct (molecular weight 250 or more and Mn 30,000 or less); higher fatty acid amide EO adduct (molecular weight 200 or more) And Mn 30,000 or less); and polyvalent alcohol EO adduct of alkyl (C3-60) ether (molecular weight of 120 or more and Mn 30,000 or less)], and polyhydric alcohol (C3-60) type nonionic surfactant [for example, many Fatty acid (C3-60) ester of polyhydric alcohol, alkyl (C3-60) ether of polyhydric alcohol and fatty acid (C3-60) alkanolamide].

アニオン性界面活性剤としては、上記(D1)を除く化合物が使用でき、例えば、高級脂肪酸塩等のカルボン酸塩;高級アルコール硫酸エステル塩、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩等の硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、パラフィンスルホン酸塩等のスルホン酸塩;高級アルコールリン酸エステル塩等のリン酸エステル塩等が挙げられる。   As the anionic surfactant, compounds other than the above (D1) can be used, for example, carboxylates such as higher fatty acid salts; sulfates such as higher alcohol sulfates and higher alkyl ether sulfates; alkylbenzene sulfones. Examples thereof include sulfonates such as acid salts, alkyl sulfonates, and paraffin sulfonates; and phosphate ester salts such as higher alcohol phosphate salts.

カチオン性界面活性剤としては、第4級アンモニウム塩型[例えばテトラアルキル(C4〜100)アンモニウム塩(例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイドおよびステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド)、トリアルキル(C3〜80)ベンジルアンモニウム塩(例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド(塩化ベンザルコニウム)、アルキル(C2〜60)ピリジニウム塩(例えばセチルピリジニウムクロライド)、ポリオキシアルキレン(C2〜4)トリアルキルアンモニウム塩(例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド)およびサパミン型第4級アンモニウム塩(例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート)];およびアミン塩型[例えば高級脂肪族アミン(C12〜60、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミンおよびロジンアミン)の無機酸(例えば
塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸)塩または有機酸(C2〜22、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸およびアゼライン酸)塩、脂肪族アミン(C1〜30)のEO付加物等の無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩および3級アミン(C3〜30、例えばトリエタノールアミンモノステアレートおよびステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミン)の無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩]が挙げられる。
Cationic surfactants include quaternary ammonium salt types [eg, tetraalkyl (C4-100) ammonium salts (eg, lauryltrimethylammonium chloride, didecyldimethylammonium chloride, dioctyldimethylammonium bromide and stearyltrimethylammonium bromide), Alkyl (C3-80) benzylammonium salts (eg lauryldimethylbenzylammonium chloride (benzalkonium chloride), alkyl (C2-60) pyridinium salts (eg cetylpyridinium chloride), polyoxyalkylene (C2-4) trialkylammonium salts (Eg, polyoxyethylenetrimethylammonium chloride) and sapamine type quaternary ammonium salts (eg, stearamide ester) Rudiethylmethyl ammonium methosulfate)]; and amine salt forms [eg higher aliphatic amines (C12-60, eg laurylamine, stearylamine, cetylamine, hardened tallow amine and rosinamine) inorganic acids (eg hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and Phosphoric acid) salts or organic acids (C2-22, eg acetic acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid, benzoic acid, succinic acid, adipic acid and azelaic acid) salts, EO adducts of aliphatic amines (C1-30) Inorganic acids (above) or organic acids (above) and tertiary amines (C3-30, eg triethanolamine monostearate and stearamide ethyl diethyl methylethanolamine) Or salt of organic acid (above)].

両性界面活性剤としては、高級アルキルアミノプロピオン酸塩等のアミノ酸型両性界面活性剤、高級アルキルジメチルベタイン、高級アルキルジヒドロキシエチルベタイン等のベタイン型両性界面活性剤等が挙げられる。
両性界面活性剤としては、アミノ酸型両性界面活性剤[例えば高級アルキルアミン(C8〜24)のプロピオン酸塩]、ベタイン型両性界面活性剤[例えば高級アルキル(C12〜18)ジメチルベタイン、高級アルキルジヒドロキシエチルベタイン]、硫酸エステル塩型両性界面活性剤[例えば高級アルキルアミン(C8〜24)の硫酸エステル塩およびヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステル塩]、スルホン酸塩型両性界面活性剤(例えばペンタデシルスルホタウリン塩およびイミダゾリンスルホン酸塩)およびリン酸エステル塩型両性界面活性剤[例えばグリセリン高級脂肪酸(C8〜24)エステル化物のリン酸エステル塩]が挙げられる。
Examples of amphoteric surfactants include amino acid-type amphoteric surfactants such as higher alkylaminopropionates, and betaine-type amphoteric surfactants such as higher alkyldimethylbetaine and higher alkyldihydroxyethylbetaine.
Examples of amphoteric surfactants include amino acid type amphoteric surfactants [for example, propionates of higher alkylamines (C8-24)], betaine type amphoteric surfactants [for example, higher alkyl (C12-18) dimethylbetaines, higher alkyldihydroxys. Ethyl betaine], sulfate ester type amphoteric surfactants [for example, sulfate esters of higher alkylamines (C8-24) and hydroxyethylimidazoline sulfate esters], sulfonate type amphoteric surfactants (eg, pentadecyl sulfotaurine salts) And imidazoline sulfonate) and phosphate ester type amphoteric surfactants [for example, phosphate ester salts of glycerin higher fatty acid (C8-24) esterified products].

これらの界面活性剤は単独使用でも2種以上を併用してもよい。
上記のアニオン性および両性界面活性剤における塩には、金属塩、例えばアルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ土類金属(カルシウム、マグネシウム等)およびIIB族金属(亜鉛等)の塩;アンモニウム塩;並びに、アミン塩[アルキルアミン(C1〜20)塩およびアルカノールアミン(C2〜12、例えばモノ−、ジ−およびトリエタノールアミン)塩等]および4級アンモニウム塩が含まれる。
これらのうち、帯電防止性の観点から好ましいのはアニオン性界面活性剤、さらに好ましいのはスルホン酸塩、特に好ましいのはアルキルベンゼンスルホン酸塩(ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等)、アルキルスルホン酸塩およびパラフィンスルホン酸塩である。
These surfactants may be used alone or in combination of two or more.
Salts in the above anionic and amphoteric surfactants include metal salts, such as salts of alkali metals (lithium, sodium, potassium, etc.), alkaline earth metals (calcium, magnesium, etc.) and group IIB metals (zinc, etc.); And ammonium salts [alkylamine (C1-20) and alkanolamine (C2-12, such as mono-, di- and triethanolamine) salts] and quaternary ammonium salts.
Of these, anionic surfactants are preferred from the viewpoint of antistatic properties, sulfonates are more preferred, alkylbenzene sulfonates (such as sodium dodecylbenzene sulfonate), alkyl sulfonates and paraffins are particularly preferred. Sulfonate.

(D2)の使用量は、(A)〜(C)の合計重量に基づいて、帯電防止性および樹脂表面に析出せず良好な外観のフィルムを与える観点から好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%、特に好ましくは0.1〜2.5%である。
(D2)を含有させる方法についても特に限定はないが、樹脂組成物中へ効果的な分散の観点から、帯電防止剤(B)中に予め分散させておくことが好ましい。また、(B)中へ(D2)を分散させる場合のタイミング等は前記(D1)の場合と同じである。
The amount of (D2) used is preferably 0.001 to 5%, based on the total weight of (A) to (C), from the viewpoint of providing an antistatic property and a film having a good appearance without depositing on the resin surface. More preferably, it is 0.01 to 3%, Most preferably, it is 0.1 to 2.5%.
The method of containing (D2) is also not particularly limited, but it is preferable to disperse in the antistatic agent (B) in advance from the viewpoint of effective dispersion in the resin composition. Further, the timing when (D2) is dispersed in (B) is the same as in (D1).

イオン性液体(D3)は、上記(D1)および(D2)を除く化合物で、室温以下の融点を有し、(D3)を構成するカチオンまたはアニオンのうち少なくとも一つが有機物イオンで、初期電導度が1〜200ms/cm(好ましくは10〜200ms/cm)である常温溶融塩であって、例えばWO95/15572公報に記載の常温溶融塩が挙げられる。(D3)を構成するカチオンとしては、例えばアミジニウムカチオン、グアニジニウムカチオンおよび3級アンモニウムカチオンが挙げられる。   The ionic liquid (D3) is a compound other than the above (D1) and (D2), has a melting point of room temperature or lower, and at least one of cations or anions constituting (D3) is an organic ion, and has an initial conductivity. Is a room temperature molten salt of 1 to 200 ms / cm (preferably 10 to 200 ms / cm), for example, a room temperature molten salt described in WO95 / 15572. Examples of the cation constituting (D3) include an amidinium cation, a guanidinium cation, and a tertiary ammonium cation.

アミジニウムカチオンとしては、例えばイミダゾリニウムカチオン[1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1,3,4−トリメチル−2−エチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチル−2,4−ジエチルイミダゾリニウム等]、イミダゾリウムカチオン[1,3−ジメチルイミダゾリウム、1,3−ジエチルイミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウム等]、テトラヒドロピリミジニウムカチオン[1,3−ジメチル−1,4
,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,5−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム等]、およびジヒドロピリミジニウムカチオン[1,3−ジメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム等]が挙げられる。
Examples of the amidinium cation include an imidazolinium cation [1,2,3,4-tetramethylimidazolinium, 1,3,4-trimethyl-2-ethylimidazolinium, 1,3-dimethylimidazolinium. 1,3-dimethyl-2,4-diethylimidazolinium, etc.], imidazolium cation [1,3-dimethylimidazolium, 1,3-diethylimidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium, 1, 2,3-trimethylimidazolium etc.], tetrahydropyrimidinium cation [1,3-dimethyl-1,4
, 5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3,4-tetramethyl-1,4,5,6- Tetrahydropyrimidinium, 1,2,3,5-tetramethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, etc.], and dihydropyrimidinium cation [1,3-dimethyl-1,4- or- 1,6-dihydropyrimidinium, 1,2,3-trimethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium, 1,2,3,4-tetramethyl-1,4- or -1 , 6-dihydropyrimidinium and the like].

グアニジニウムカチオンとしては、例えばイミダゾリニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、2−ジエ
チルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリニウム等]、イミダゾリウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリウム等]、テトラヒドロピリミジニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム等]、およびジヒドロピリミジニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム等]が挙げられる。
Examples of the guanidinium cation include a guanidinium cation having an imidazolinium skeleton [2-dimethylamino-1,3,4-trimethylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethylimidazolinium, 2-dimethylamino-1-methyl-3,4-diethylimidazolinium, etc.], guanidinium cation having an imidazolium skeleton [2-dimethyl Amino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethylimidazolium, 2-dimethylamino-1-methyl -3,4-diethylimidazolium etc.], tetrahydropyrimidiniu Guanidinium cation having a skeleton [2-dimethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4 , 5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, etc.], and guanidinium having a dihydropyrimidinium skeleton Cation [2-dimethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4- or -1, 6-dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium, etc.] And the like.

3級アンモニウムカチオンとしては、例えばメチルジラウリルアンモニウムが挙げられる。   Examples of the tertiary ammonium cation include methyl dilauryl ammonium.

上記のアミジニウムカチオン、グアニジニウムカチオンおよび3級アンモニウムカチオンは1種単独でも、また2種以上を併用してもいずれでもよい。
これらのうち、初期電導度の観点から好ましいのはアミジニウムカチオン、さらに好ましいのはイミダゾリウムカチオン、特に好ましいのは1−エチル−3−メチルイミダゾリウムカチオンである。
The amidinium cation, guanidinium cation and tertiary ammonium cation may be used alone or in combination of two or more.
Of these, from the viewpoint of initial conductivity, an amidinium cation is preferable, an imidazolium cation is more preferable, and a 1-ethyl-3-methylimidazolium cation is particularly preferable.

(D3)において、アニオンを構成する有機酸または無機酸としては下記のものが挙げられる。
有機酸としては、例えばカルボン酸、硫酸エステル、高級アルキルエーテル硫酸エステル、スルホン酸およびリン酸エステルが挙げられる。
無機酸としては、例えば超強酸(例えばホウフッ素酸、四フッ化ホウ素酸、過塩素酸、六フッ化リン酸、六フッ化アンチモン酸および六フッ化ヒ素酸)、リン酸およびホウ酸が挙げられる。
上記有機酸および無機酸は1種単独でも2種以上の併用でもいずれでもよい。
上記有機酸および無機酸のうち、(D3)の初期電導度の観点から好ましいのは(D3)を構成するアニオンのHamett酸度関数(−H0)が12〜100である、超強酸の共役塩基、超強酸の共役塩基以外のアニオンを形成する酸およびこれらの混合物である。
In (D3), examples of the organic acid or inorganic acid constituting the anion include the following.
Examples of the organic acid include carboxylic acid, sulfate ester, higher alkyl ether sulfate ester, sulfonic acid and phosphate ester.
Examples of the inorganic acid include super strong acids (for example, borofluoric acid, tetrafluoroboric acid, perchloric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluoroantimonic acid and hexafluoroarsenic acid), phosphoric acid and boric acid. It is done.
The organic acid and inorganic acid may be used alone or in combination of two or more.
Among the organic and inorganic acids, Hamett acidity function initial conductivity standpoint preferred from of the anion constituting the (D3) of (D3) (-H 0) is 12 to 100, the superacid conjugate base , Acids that form anions other than the conjugate bases of super strong acids, and mixtures thereof.

超強酸の共役塩基以外のアニオンとしては、例えばハロゲン(例えばフッ素、塩素および臭素)イオン、アルキル(C1〜12)ベンゼンスルホン酸(例えばp−トルエンスル
ホン酸およびドデシルベンゼンスルホン酸)イオンおよびポリ(n=1〜25)フルオロアルカンスルホン酸(例えばウンデカフルオロペンタンスルホン酸)イオンが挙げられる。
Examples of the anion other than the conjugate base of the super strong acid include halogen (for example, fluorine, chlorine and bromine) ions, alkyl (C1-12) benzenesulfonic acid (for example, p-toluenesulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid) ions and poly (n = 1-25) Fluoroalkanesulfonic acid (for example, undecafluoropentanesulfonic acid) ion.

超強酸としては、プロトン酸およびプロトン酸とルイス酸との組み合わせから誘導されるもの、およびこれらの混合物が挙げられる。
超強酸としてのプロトン酸としては、例えばビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド酸、ビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸、トリス(トリフルオロメチルスルホニル)メタン、過塩素酸、フルオロスルホン酸、アルカン(C1〜30)スルホン酸[例えばメタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸等)、ポリ(n=1〜30)フルオロアルカン(C1〜30)スルホン酸(例えばトリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸およびトリデカフルオロヘキサンスルホン酸)、ホウフッ素酸および四フッ化ホウ素酸が挙げられる。
これらのうち合成の容易さの観点から好ましいのはホウフッ素酸、トリフルオロメタンスルホン酸およびビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸である。
Super strong acids include those derived from protonic acids and combinations of protonic acids and Lewis acids, and mixtures thereof.
Examples of the protonic acid as the super strong acid include bis (trifluoromethylsulfonyl) imidic acid, bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid, tris (trifluoromethylsulfonyl) methane, perchloric acid, fluorosulfonic acid, alkane (C1 -30) sulfonic acid [eg methane sulfonic acid, dodecane sulfonic acid etc.], poly (n = 1-30) fluoroalkane (C1-30) sulfonic acid (eg trifluoromethane sulfonic acid, pentafluoroethane sulfonic acid, heptafluoropropane) Sulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid and tridecafluorohexanesulfonic acid), borofluoric acid and tetrafluoroboric acid.
Of these, borofluoric acid, trifluoromethanesulfonic acid and bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid are preferable from the viewpoint of ease of synthesis.

ルイス酸と組合せて用いられるプロトン酸としては、例えばハロゲン化水素(例えばフッ化水素、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素)、過塩素酸、フルオロスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸およびこれらの混合物が挙げられる。
これらのうち(D3)の初期電導度の観点から好ましいのはフッ化水素である。
ルイス酸としては、例えば三フッ化ホウ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、五フッ化ヒ素、五フッ化タンタルおよびこれらの混合物が挙げられる。これらのうちで、(D3)の初期電導度の観点から好ましいのは三フッ化ホウ素および五フッ化リンである。
プロトン酸とルイス酸の組み合わせは任意であるが、これらの組み合わせからなる超強酸としては、例えばテトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸、六フッ化タンタル酸、六フッ化アンチモン酸、六フッ化タンタルスルホン酸、四フッ化ホウ素酸、六フッ化リン酸、塩化三フッ化ホウ素酸、六フッ化ヒ素酸およびこれらの混合物が挙げられる。
Examples of the protonic acid used in combination with the Lewis acid include hydrogen halide (for example, hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide), perchloric acid, fluorosulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid. , Pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid, tridecafluorohexanesulfonic acid and mixtures thereof.
Of these, hydrogen fluoride is preferred from the viewpoint of the initial conductivity of (D3).
Examples of the Lewis acid include boron trifluoride, phosphorus pentafluoride, antimony pentafluoride, arsenic pentafluoride, tantalum pentafluoride, and mixtures thereof. Of these, boron trifluoride and phosphorus pentafluoride are preferable from the viewpoint of the initial conductivity of (D3).
The combination of the protonic acid and the Lewis acid is arbitrary, but as the super strong acid comprising these combinations, for example, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluorotantalic acid, hexafluoroantimonic acid, tantalum hexafluoride Examples include sulfonic acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, chloroboron trifluoride, arsenic hexafluoride, and mixtures thereof.

上記のアニオンのうち、(D3)の初期電導度の観点から好ましいのは超強酸の共役塩基(プロトン酸からなる超強酸およびプロトン酸とルイス酸との組合せからなる超強酸)、さらに好ましいのはプロトン酸からなる超強酸およびプロトン酸と、三フッ化ホウ素および/または五フッ化リンとからなる超強酸の共役塩基である。   Among the above anions, (D3) from the viewpoint of the initial conductivity, a super strong acid conjugate base (a super strong acid consisting of a proton acid and a super strong acid consisting of a combination of a proton acid and a Lewis acid), more preferably It is a conjugate base of a super strong acid consisting of a super strong acid consisting of a proton acid and a proton acid and boron trifluoride and / or phosphorus pentafluoride.

(D3)の使用量は、(A)〜(C)の合計重量に基づいて、通常10%以下、フィルムの良好な外観と帯電防止性効果、および機械特性の観点から好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%である。
(D3)を添加する方法についても特に限定はないが、樹脂組成物中への効果的な分散の観点から、帯電防止剤(B)中に予め分散させておくことが好ましい。また、(B)中へ(D3)を分散させる場合のタイミング等は前記(D1)の場合と同じである。
The amount of (D3) used is usually 10% or less based on the total weight of (A) to (C), preferably from 0.001 in view of the good appearance and antistatic effect of the film and mechanical properties. 5%, more preferably 0.01 to 3%.
The method of adding (D3) is not particularly limited, but it is preferable to disperse in the antistatic agent (B) in advance from the viewpoint of effective dispersion in the resin composition. The timing when (D3) is dispersed in (B) is the same as in (D1) above.

(D3)の製造法としては、例えばジメチルカーボネート等で4級化して得られるアミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンのジメチルカーボネート塩に、酸[(D3)においてアニオンを構成する前記の有機酸または無機酸]を加えて酸交換を行う方法、または、アミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンを一旦加水分解してモノアミドアミンを生成した後、そのモノアミドアミンを酸(上記に同じ)で中和する方法が挙げられる。   The production method of (D3) includes, for example, an amidinium cation and / or guanidinium cation dimethyl carbonate salt obtained by quaternization with dimethyl carbonate, etc. Acid or inorganic acid] for acid exchange, or once the amidinium cation and / or guanidinium cation is hydrolyzed to form a monoamidoamine, then the monoamidoamine is converted to an acid (same as above) The method of neutralizing with is mentioned.

本発明における樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲で必要により、相溶化剤(E)およびその他の樹脂用添加剤(F)からなる群から選ばれる少なくとも1種の添加剤を含有させることができる。   The resin composition in the present invention contains at least one additive selected from the group consisting of a compatibilizing agent (E) and other additives for resin (F) as necessary as long as the effects of the present invention are not impaired. It can be included.

相溶化剤(E)としては、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基およびポリオキシアルキレン基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基(極性基)を有する変性ビニル重合体等が使用でき、例えば、特開平3−258850号公報に記載の重合体が挙げられる。また、例えば、特開平6−345927号公報に記載のスルホニル基を有する変性ビニル重合体、ポリオレフィン部分と芳香族ビニル重合体部分とを有するブロック重合体等も使用できる。
(E)の使用量は、フィルムの機械的強度の観点から、(A)〜(C)の合計重量に基づいて、好ましくは0.1〜15%、さらに好ましくは1〜10%、特に好ましくは1.5〜8%である。
(E)を含有させる方法については特に限定はないが、樹脂組成物中への効果的な分散または溶解の観点から、帯電防止剤(B)中に予め分散させておくことが好ましい。
また、(B)中へ(E)を分散もしくは溶解させる場合のタイミング等は前記(D)の場合と同じである。
As the compatibilizer (E), a modified vinyl polymer having at least one functional group (polar group) selected from the group consisting of a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group and a polyoxyalkylene group is used. Examples thereof include polymers described in JP-A-3-258850. Further, for example, a modified vinyl polymer having a sulfonyl group described in JP-A-6-345927, a block polymer having a polyolefin portion and an aromatic vinyl polymer portion, and the like can be used.
The amount of (E) used is preferably from 0.1 to 15%, more preferably from 1 to 10%, particularly preferably from the viewpoint of the mechanical strength of the film, based on the total weight of (A) to (C). Is 1.5-8%.
The method of containing (E) is not particularly limited, but it is preferable to disperse in the antistatic agent (B) in advance from the viewpoint of effective dispersion or dissolution in the resin composition.
The timing when (E) is dispersed or dissolved in (B) is the same as in (D) above.

その他の樹脂用添加剤(F)としては、核剤(F1)、滑剤(F2)、顔料(F3)、染料(F4)、離型剤(F5)、酸化防止剤(F6)、難燃剤(F7)、紫外線吸収剤(F8)、抗菌剤(F9)、分散剤(F10)、可塑剤(F11)、導電性物質(F12)および充填剤(F13)からなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。   Other resin additives (F) include nucleating agent (F1), lubricant (F2), pigment (F3), dye (F4), mold release agent (F5), antioxidant (F6), flame retardant ( F7), an ultraviolet absorber (F8), an antibacterial agent (F9), a dispersant (F10), a plasticizer (F11), a conductive substance (F12), and a filler (F13). Can be mentioned.

核剤(F1)としては、有機系核剤[例えば1,3,2,4−ジ−ベンジリデン−ソルビトール、アルミニウム−モノ−ヒドロキシ−ジ−p−t−ブチルベンゾエート、ソジウム−ビス(4−t−ブチルフェニル)ホスフェートおよび安息香酸ナトリウム]および無機系核剤(例えばグラファイト、カーボンブラック、酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、タルク、カオリン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化亜鉛、アルミナ、硫酸バリウムおよび硫酸カルシウム)が挙げられる。
滑剤(F2)としては、ワックス(例えばカルナバロウワックス、パラフィンワックスおよびポリオレフィンワックス)、高級脂肪酸(C8〜24、例えばステアリン酸、オレイン酸、リノール酸およびリノレン酸)、高級アルコール(C8〜18、例えばステアリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、セトステアリルアルコールおよびベヘニルアルコール)および高級脂肪酸アミド(C8〜24、例えばステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール酸アミドおよびリノレン酸アミド)が挙げられる。
Examples of the nucleating agent (F1) include organic nucleating agents [for example, 1,3,2,4-di-benzylidene-sorbitol, aluminum-mono-hydroxy-di-pt-butylbenzoate, sodium-bis (4-t -Butylphenyl) phosphate and sodium benzoate] and inorganic nucleating agents (eg graphite, carbon black, magnesium oxide, calcium silicate, magnesium silicate, talc, kaolin, calcium carbonate, magnesium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, zinc oxide, Alumina, barium sulfate and calcium sulfate).
Lubricants (F2) include waxes (eg carnauba wax, paraffin wax and polyolefin wax), higher fatty acids (C8-24, eg stearic acid, oleic acid, linoleic acid and linolenic acid), higher alcohols (C8-18, eg stearyl). Alcohols, lauryl alcohol, myristyl alcohol, cetyl alcohol, cetostearyl alcohol and behenyl alcohol) and higher fatty acid amides (C8-24, such as stearic acid amide, oleic acid amide, linoleic acid amide and linolenic acid amide).

顔料(F3)としては、無機顔料[白色顔料(酸化チタン、リトポン、鉛白、亜鉛華等)、コバルト化合物(オーレオリン、コバルトグリーン等)、鉄化合物(酸化鉄、紺青等)、クロム化合物(酸化クロム、クロム酸鉛等)および硫化物(硫化カドミウム、ウルトラマリン等)等]、有機顔料[アゾ顔料(アゾレーキ系、モノアゾ系、ジスアゾ系、キレートアゾ系等)、多環式顔料(ベンゾイミダゾロン系、フタロシアニン系、イソインドリノン系、アンスラキノン系等)等が挙げられる。
染料(F4)としては、アゾ系、インジゴイド系、硫化系、アリザリン系、アクリジン系、チアゾール系、ニトロ系、アニリン系等が挙げられる。
離型剤(F5)としては、高級脂肪酸(上記のもの)の低級(C1〜4)アルコールエステル(例えばステアリン酸ブチル)、脂肪酸(C2〜18)の多価(2価〜4価またはそれ以上)アルコールエステル(例えば硬化ヒマシ油)、脂肪酸(C2〜18)のグリコール(C2〜8)エステル(例えばEGモノステアレート)および流動パラフィンが挙げ
られる。
Examples of the pigment (F3) include inorganic pigments [white pigments (titanium oxide, lithopone, lead white, zinc white, etc.), cobalt compounds (aureolin, cobalt green, etc.), iron compounds (iron oxide, bitumen, etc.), chromium compounds (oxidation). Chromium, lead chromate, etc.) and sulfides (cadmium sulfide, ultramarine, etc.)], organic pigments [azo pigments (azo lakes, monoazos, disazos, chelate azos, etc.), polycyclic pigments (benzoimidazolones) Phthalocyanine, isoindolinone, anthraquinone, etc.).
Examples of the dye (F4) include azo, indigoid, sulfide, alizarin, acridine, thiazole, nitro, and aniline.
As the release agent (F5), lower fatty acid (C1-4) alcohol ester (for example, butyl stearate) of higher fatty acid (above), polyvalent (divalent to tetravalent or higher) of fatty acid (C2-18) ) Alcohol esters (eg hydrogenated castor oil), glycol (C2-8) esters of fatty acids (C2-18) (eg EG monostearate) and liquid paraffin.

酸化防止剤(F6)としては、フェノール系{例えば単環フェノール[例えば2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾールおよびブチル化ヒドロキシアニソール]、ビスフェノール[例えば2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル)−6−t−ブチルフェノールおよび4,4’−チオビス(3−メチル)−6−t−ブチルフェノール]および多環フェノール〔例えば1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、テトラキス[メチレン−3−(3’、5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン〕};硫黄系〔例えばジラウリル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリルβ,β’−チオジブチレートおよびジラウリルサルファイド〕;リン系〔例えばトリフェニルホスファイト、トリイソデシルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニルジトリデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイトおよびジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト〕;およびアミン系〔例えばオクチル化ジフェニルアミン、N−n−ブチル−p−アミノフェノール、N,N−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−α−ナフチルアミン、フェニル−β−ナフチルアミンおよびフェノチアジン〕が挙げられる。   Antioxidants (F6) include phenolic {eg monocyclic phenols [eg 2,6-di-t-butyl-p-cresol and butylated hydroxyanisole], bisphenols [eg 2,2′-methylenebis (4- Methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidenebis (3-methyl) -6-tert-butylphenol and 4,4′-thiobis (3-methyl) -6-tert-butylphenol] and polycyclic phenols [ For example, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-) 5-t-butylphenyl) butane, tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate ] Methane]}; sulfur-based [eg, dilauryl 3,3'-thiodipropionate, distearyl 3,3'-thiodipropionate, lauryl stearyl 3,3'-thiodipropionate, dimyristyl 3,3'- Thiodipropionate, distearyl β, β'-thiodibutyrate and dilauryl sulfide]; phosphorus systems [eg triphenyl phosphite, triisodecyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (2 , 4-di-t-butylphenyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite, 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-t) -Butylphenylditridecyl) phosphite, cyclic neopentanetetri Bis (octadecyl phosphite), cyclic neopentanetetrayl bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl bis (2,4-di-t-butyl) Phenyl) phosphite and diisodecyl pentaerythritol diphosphite]; and amine systems such as octylated diphenylamine, Nn-butyl-p-aminophenol, N, N-diisopropyl-p-phenylenediamine, N, N-bis ( 1-ethyl-3-methylpentyl) -p-phenylenediamine, N, N-diphenyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-α-naphthylamine, phenyl-β-naphthylamine and phenothiazine.

難燃剤(F7)には、ハロゲン含有難燃剤(F71)、窒素含有難燃剤(F72)、硫黄含有難燃剤(F73)、珪素含有難燃剤(F74)およびリン含有難燃剤(F75)からなる群から選ばれる1種または2種以上の難燃剤が含まれる。   The flame retardant (F7) includes a halogen-containing flame retardant (F71), a nitrogen-containing flame retardant (F72), a sulfur-containing flame retardant (F73), a silicon-containing flame retardant (F74), and a phosphorus-containing flame retardant (F75). 1 type or 2 types or more of flame retardants chosen from these are included.

ハロゲン含有難燃剤(F71)としては、ヘキサクロロペンタジエン、ヘキサブロモジフェニル、オクタブロモジフェニルオキシド、トリブロモフェノキシメタン、デカブロモジフェニル、デカブロモジフェニルオキシド、テトラブロモビスフェノールA、テトラブルモフタルイミド、ヘキサブロモブテン、ヘキサブロモシクロドデカン等;   Examples of the halogen-containing flame retardant (F71) include hexachloropentadiene, hexabromodiphenyl, octabromodiphenyl oxide, tribromophenoxymethane, decabromodiphenyl, decabromodiphenyl oxide, tetrabromobisphenol A, tetromophthalimide, hexabromobutene, Hexabromocyclododecane, etc .;

窒素含有難燃剤(F72)としては、尿素化合物、グアニジン化合物またはトリアジン化合物(メラミン、グアナミン等)と、シアヌール酸またはイソシアヌル酸との塩等;
硫黄含有難燃剤(F73)としては、硫酸エステル、有機スルホン酸、スルファミン酸、有機スルファミン酸、およびそれらの、塩、エステルおよびアミド等;
珪素含有難燃剤(F74)としては、ポリオルガノシロキサン等;
Examples of the nitrogen-containing flame retardant (F72) include a salt of urea compound, guanidine compound or triazine compound (melamine, guanamine, etc.) and cyanuric acid or isocyanuric acid;
Examples of the sulfur-containing flame retardant (F73) include sulfuric acid ester, organic sulfonic acid, sulfamic acid, organic sulfamic acid, and salts, esters and amides thereof;
Examples of the silicon-containing flame retardant (F74) include polyorganosiloxane;

リン含有難燃剤(F75)としては、リン含有の酸およびそのエステル(C2〜20)、例えばリン酸、ホスフェート、ハロゲン含有ホスフェート、亜リン酸、ホスホネート、およびリン酸アンモニウム塩等が挙げられる。   Examples of the phosphorus-containing flame retardant (F75) include phosphorus-containing acids and esters thereof (C2-20) such as phosphoric acid, phosphate, halogen-containing phosphate, phosphorous acid, phosphonate, and ammonium phosphate.

上記ホスフェートとしては、ホスフェート[トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ホスフェート等]、縮合ホスフェート[トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ポリ(n=2〜30)ホスフェート等];
ハロゲン含有ホスフェートとしては、トリスハロゲン化アルキル(アルキル基はC2〜4)ホスフェート等;
ホスホネートとしては、ホスホネート[トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ホスホネート等]、縮合ホスホネート[トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ポリ(n=2〜30)ホスホネート等];
リン酸アンモニウム塩としては通常難燃剤用に市販されているもの等、を用いることができる。これらは、必要に応じてメラミン化合物(例えばメラミン単体)、ペンタエリスリトール化合物(例えばペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール)、アミド(例えばナイロン6、ナイロン66)等を併用してもよい。
Examples of the phosphate include phosphate [trialkyl (alkyl group is C1-12) phosphate and the like], condensed phosphate [trialkyl (alkyl group is C1-12) poly (n = 2 to 30) phosphate and the like];
Examples of the halogen-containing phosphate include tris alkyl halide (alkyl group is C2-4) phosphate and the like;
Examples of the phosphonate include phosphonate [trialkyl (alkyl group is C1-12) phosphonate, etc.], condensed phosphonate [trialkyl (alkyl group is C1-12) poly (n = 2-30) phosphonate, etc.];
As the ammonium phosphate, those usually marketed for flame retardants can be used. These may be used in combination with a melamine compound (for example, melamine alone), a pentaerythritol compound (for example, pentaerythritol, dipentaerythritol), an amide (for example, nylon 6, nylon 66), or the like as necessary.

上記難燃剤は、必要に応じて難燃助剤[ドリップ防止剤(例えばポリテトラフルオロエチレン)、金属酸化物(例えば酸化亜鉛)等]を併用してもよい。
上記難燃剤のうち難燃性、および焼却時におけるダイオキシン発生等の環境汚染がないとの観点から好ましいのは(F72)である。
The flame retardant may be used in combination with a flame retardant aid [anti-drip agent (for example, polytetrafluoroethylene), metal oxide (for example, zinc oxide), etc.] as necessary.
Of the above flame retardants, (F72) is preferred from the viewpoint of flame retardancy and the absence of environmental pollution such as dioxin generation during incineration.

紫外線吸収剤(F8)としては、ベンゾトリアゾール系[例えば2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール]、ベンゾフェノン系[例えば2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンおよび2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン]、サリチレート系[例えばフェニルサリチレートおよびEGモノサリチレート]およびアクリレート系[例えば2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3’1−ジフェニルアクリレート]が挙げられる。   Examples of the ultraviolet absorber (F8) include benzotriazoles [for example, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2′-hydroxy-4′-octoxyphenyl) benzotriazole], Benzophenone series [eg 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone and 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone], salicylate series [eg phenyl salicylate and EG monosalicylate] and acrylate series [eg 2-ethylhexyl-2-cyano -3,3'1-diphenyl acrylate].

抗菌剤(F9)としては、安息香酸、パラオキシ安息香酸エステル、ソルビン酸、ハロゲン化フェノール(例えば2,4,6−トリブロモフェノールナトリウム塩)、有機ヨウ素(例えば4−クロロフェニル−3−ヨードプロパギルホルマール)、ニトリル(例えば2,4,5,6−テトラクロロイソフタロニトリル)、チオシアノ(例えばメチレンビスチアノシアネート)、N−ハロアルキルチオイミド(例えばN−テトラクロロエチル−チオ−テトラヒドロフタルイミド)、銅剤(例えば8−オキシキノリン銅)、ベンズイミダゾール(例えば2−4−チアゾリルベンズイミダゾール)、ベンゾチアゾール(例えば2−チオシアノメチルチオベンゾチアゾール)、トリハロアリル(例えば3−ブロモ−2,3−ジヨード−2−プロペニルエチルカルボナート)、トリアゾール(例えばアザコナゾール)、有機窒素硫黄化合物(例えばスラオフ39)、4級アンモニウム化合物(例えばトリメトキシシリル−プロピルオクタデシルアンモニウムクロライド)およびピリジン系化合物[例えば2,3,5,6−チトクロロ−4−(メチルスルホニル)−ピリジン]が挙げられる。   Examples of the antibacterial agent (F9) include benzoic acid, paraoxybenzoic acid ester, sorbic acid, halogenated phenol (for example, 2,4,6-tribromophenol sodium salt), organic iodine (for example, 4-chlorophenyl-3-iodopropargyl). Formal), nitrile (eg, 2,4,5,6-tetrachloroisophthalonitrile), thiocyano (eg, methylene bisthianocyanate), N-haloalkylthioimide (eg, N-tetrachloroethyl-thio-tetrahydrophthalimide), copper agent (Eg 8-oxyquinoline copper), benzimidazole (eg 2-4-thiazolylbenzimidazole), benzothiazole (eg 2-thiocyanomethylthiobenzothiazole), trihaloallyl (eg 3-bromo-2,3-diiodo- 2-propenyl Til carbonate), triazoles (eg azaconazole), organic nitrogen sulfur compounds (eg Suraoff 39), quaternary ammonium compounds (eg trimethoxysilyl-propyloctadecylammonium chloride) and pyridine compounds [eg 2,3,5,6- Cytochloro-4- (methylsulfonyl) -pyridine].

分散剤(F10)としては、Mn1,000〜100,000の分散剤、例えばナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物(Mn1,000〜10,000)、ポリスチレンスルホン酸金属[例えばアルカリ金属(例えばナトリウムおよびカリウム)]塩(Mn1,000〜100,000)、ポリアクリル酸金属[例えばアルカリ金属(上記に同じ)]塩(Mn2,000〜50,000)、カルボキシメチルセルロースおよびポリビニルアルコールが挙げられる。   As the dispersant (F10), a dispersant of Mn 1,000 to 100,000, for example, naphthalene sulfonic acid formalin condensate (Mn 1,000 to 10,000), polystyrene sulfonate metal [for example, alkali metals (for example, sodium and potassium) ] Salt (Mn 1,000-100,000), polyacrylic acid metal [for example, alkali metal (same as above)] salt (Mn 2,000-50,000), carboxymethyl cellulose and polyvinyl alcohol.

可塑剤(F11)としては、ポリオキシアルキレン鎖を含有するモノおよびジエステル、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、芳香族カルボン酸エステル[C10〜28、例えばフタル酸エステル(例えばジオクチルフタレートおよびジブチルフタレート、ジ2−エチルヘキシルフタレート等)]、脂肪族モノカルボン酸エステル[C3〜30、例えばメチルアセチルリシノレートおよびトリエチレングリコールジベンゾエート]、脂肪族ジカルボン酸エステル[C8以上かつMn2,000以下、例えばジ(2−エ
チルヘキシル)アジペートおよびアジピン酸−プロピレングリコール系ポリエステル(Mn200〜2,000)]、脂肪族トリカルボン酸エステル[例えばクエン酸エステル(例えばクエン酸トリエチル)]、リン酸トリエステル[例えばトリフェニルホスフェート]および石油樹脂等が挙げられる。
Examples of the plasticizer (F11) include mono- and diesters containing polyoxyalkylene chains, polyester polyols, polyether polyols, aromatic carboxylic acid esters [C10-28, such as phthalic acid esters (for example, dioctyl phthalate and dibutyl phthalate, di-2). -Ethylhexyl phthalate etc.)], aliphatic monocarboxylic acid esters [C3-30, such as methylacetylricinoleate and triethylene glycol dibenzoate], aliphatic dicarboxylic acid esters [C8 or more and Mn2,000 or less, such as di (2- Ethylhexyl) adipate and adipic acid-propylene glycol-based polyester (Mn 200 to 2,000)], aliphatic tricarboxylic acid ester [eg citrate ester (eg triethyl citrate)] Phosphoric acid triester [e.g. triphenyl phosphate] and petroleum resins.

導電性物質(F12)としては、前記(D1)および(D3)を除く化合物で、例えばカーボンナノチューブ、カーボンブラックおよびホワイトカーボンが挙げられる。   Examples of the conductive substance (F12) are compounds other than the above (D1) and (D3), and examples thereof include carbon nanotubes, carbon black, and white carbon.

充填剤(F13)としては、例えば無機充填剤(例えば炭酸カルシウム、タルク、クレー、けい酸、けい酸塩、アスベスト、マイカ、ガラス繊維、ガラスバルーン、カーボン繊維、金属繊維、セラミックウィスカおよびチタンウィスカ)および有機充填剤[例えば尿素、ステアリン酸カルシウムおよび有機架橋微粒子(例えばエポキシ系およびウレタン系)]が挙げられる。   Examples of the filler (F13) include inorganic fillers (eg, calcium carbonate, talc, clay, silicic acid, silicate, asbestos, mica, glass fiber, glass balloon, carbon fiber, metal fiber, ceramic whisker and titanium whisker). And organic fillers [for example, urea, calcium stearate and organic crosslinked fine particles (for example, epoxy-based and urethane-based)].

(F)の合計の使用量は、(A)〜(C)の合計重量に基づいて、通常45%以下、各添加剤の効果およびフィルムの機械特性の観点から好ましくは0.001〜40%、さらに好ましくは0.01〜35%、とくに好ましくは0.05〜30%である。
(F)のうち、(F9)、(F10)、(F11)および(F13)はそれぞれ通常10%以下、好ましくは1〜5%;(F7)は通常20%以下、好ましくは1〜10%;(F3)、(F4)および(F12)は通常5%以下、好ましくは0.1〜3%;(F1)、(F2)、(F5)、(F6)および(F8)は通常3%以下、好ましくは0.05〜1%である。
The total use amount of (F) is usually 45% or less based on the total weight of (A) to (C), preferably 0.001 to 40% from the viewpoint of the effect of each additive and the mechanical properties of the film. More preferably, it is 0.01 to 35%, and particularly preferably 0.05 to 30%.
Of (F), (F9), (F10), (F11) and (F13) are each usually 10% or less, preferably 1 to 5%; (F7) is usually 20% or less, preferably 1 to 10%. (F3), (F4) and (F12) are usually 5% or less, preferably 0.1 to 3%; (F1), (F2), (F5), (F6) and (F8) are usually 3% Hereinafter, it is preferably 0.05 to 1%.

本発明の(A)〜(C)を含有してなるフィルムは上記樹脂組成物を、例えば下記の工程に従って成形することにより得られる。また、後述のように該フィルムを少なくとも表層に用いて多層フィルムを形成することもできる。
1.フィルムの製造
<1>(A)〜(C)および必要により加えられる(D)〜(F)の混合工程;
<2>製膜工程;
<3>ロール等による冷却工程;
<4>延伸工程(必要に応じて行われる)
また、熱可塑性樹脂(G)からなるフィルムおよび/または本発明の前記フィルムを基層とし、該基層の片面または両面に本発明の前記フィルムを表層として積層して成形した多層フィルムとすることもできる。
ここにおいて、熱可塑性樹脂(G)には、本発明におけるポリオレフィン樹脂(A)を含む後述のものが含まれ、上記の基層を構成する熱可塑性樹脂(G)からなるフィルムには、本発明における帯電防止剤(B)が含まれていても含まれていなくてもいずれでもよい。
The film containing (A) to (C) of the present invention can be obtained by molding the resin composition according to, for example, the following steps. Further, as described later, a multilayer film can be formed using the film as at least a surface layer.
1. Production of film <1> (A) to (C) and optionally added (D) to (F) mixing step;
<2> Film forming step;
<3> Cooling step using rolls or the like;
<4> Stretching step (performed as necessary)
In addition, a film made of a thermoplastic resin (G) and / or the film of the present invention can be used as a base layer, and a multilayer film formed by laminating the film of the present invention as a surface layer on one or both sides of the base layer can also be formed. .
Here, the thermoplastic resin (G) includes those described later including the polyolefin resin (A) in the present invention, and the film made of the thermoplastic resin (G) constituting the above-mentioned base layer includes the film in the present invention. The antistatic agent (B) may or may not be included.

熱可塑性樹脂(G)には、前記ポリオレフィン樹脂(A)の他に、ポリアセタール樹脂(G1);ビニル樹脂〔ポリアクリル樹脂(G2)[例えばポリメタクリル酸メチル];ポリスチレン樹脂(G3)[ビニル基含有芳香族炭化水素単独またはビニル基含有芳香族炭化水素と、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリルおよびブタジエンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを構成単位とする共重合体、例えばポリスチレン、スチレン/アクリロニトリル共重合体(AN樹脂)、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(ABS樹脂)、メタクリル酸メチル/ブタジエン/スチレン共重合体(MBS樹脂)、スチレン/メタクリル酸メチル共重合体(MS樹脂)]等〕;ポリエステル樹脂(G4)[例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリブチレンアジペート、ポリエチレンアジペート];ポリアミド樹脂(G5)[例えばナイロン66、ナイロン69、ナイロン612、ナイロン6、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン46、ナイロン6/66、ナイロン6/12];ポリカーボネート樹脂(G6)[例えばポリカーボネート、ポリカーボネート/ABSアロイ樹脂];ポリフェニレンエーテル樹脂(G7);生分解性樹脂(G8)、およびこれらの2種以上の混合物等が挙げられる。   In addition to the polyolefin resin (A), the thermoplastic resin (G) includes polyacetal resin (G1); vinyl resin [polyacrylic resin (G2) [for example, polymethyl methacrylate]; polystyrene resin (G3) [vinyl group A copolymer comprising, for example, polystyrene, containing aromatic hydrocarbon alone or vinyl group-containing aromatic hydrocarbon and at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile and butadiene Styrene / acrylonitrile copolymer (AN resin), acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer (ABS resin), methyl methacrylate / butadiene / styrene copolymer (MBS resin), styrene / methyl methacrylate copolymer (MS Resin)] etc.]; polyester resin (G4) [for example Ethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, polybutylene adipate, polyethylene adipate]; polyamide resin (G5) [eg nylon 66, nylon 69, nylon 612, nylon 6, nylon 11, nylon 12, nylon 46, nylon 6/66, nylon 6/12]; polycarbonate resin (G6) [for example, polycarbonate, polycarbonate / ABS alloy resin]; polyphenylene ether resin (G7); biodegradable resin (G8), and a mixture of two or more thereof Is mentioned.

積層する場合は、表層フィルムを基層の片面または両面に積層してよく、両面に積層する場合の表層樹脂の種類はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、基層の表裏面のそれぞれにおいて樹脂の種類の異なるフィルムを多層(2〜6層またはそれ以上)に積層してもよい。また、基層は、熱可塑性樹脂(G)からなるフィルム−本発明のフィルム、の単位が繰り返される多層フィルムであってもよい。
また、表層および基層のいずれかまたは両方が発泡層または発泡層と非発泡層からなる多層フィルムや、表層および基層の少なくとも一層が一軸または多軸に延伸されている多層フィルムであってもよい。
When laminating, the surface layer film may be laminated on one side or both sides of the base layer, and the type of the surface layer resin when laminating on both sides may be the same or different, and the type of resin on each of the front and back sides of the base layer Different films may be laminated in multiple layers (2-6 layers or more). Further, the base layer may be a multilayer film in which the units of the film made of the thermoplastic resin (G) -the film of the present invention are repeated.
Alternatively, either or both of the surface layer and the base layer may be a foamed layer or a multilayer film composed of a foamed layer and a non-foamed layer, or a multilayer film in which at least one of the surface layer and the base layer is stretched uniaxially or multiaxially.

フィルム製造工程について以下にさらに詳細に説明する。
<1>混合工程
樹脂組成物の混合方法は、特に限定されないが、例えば、
(1)(A)、(B)、(C)および必要により(D)〜(F)をタンブルミキサー、リボンブレンダーまたはヘンシェルミキサー等でドライブレンドして混合する方法、
(2)上記の各成分を上記の方法でドライブレンドした後、押出機で溶融混合(通常200〜280℃)してペレット化する方法、
(3)(A)の一部、(B)および(C)のマスターバッチ樹脂組成物を押出機による溶融混合(200〜280℃)で予め作成しておき[マスターバッチ樹脂組成物中の(B)の含有量は好ましくは30〜70重量%]、該マスターバッチ、残りの(A)および必要により(D)〜(F)を上記混合機でドライブレンドして混合する方法が挙げられる。
これらの方法のうち、(B)の(A)への分散性の観点から好ましいのは(2)および(3)、とくに好ましいのは(2)の方法である。本発明におけるフィルムを形成する樹脂組成物では(A)と(B)が相溶性に優れることから、(1)の方法でも良好なフィルムを得ることができる。
The film production process will be described in more detail below.
<1> Mixing step The mixing method of the resin composition is not particularly limited.
(1) A method in which (A), (B), (C) and, if necessary, (D) to (F) are dry blended with a tumble mixer, ribbon blender, Henschel mixer or the like and mixed,
(2) A method of dry blending each of the above components by the above method, followed by melt mixing (usually 200 to 280 ° C.) with an extruder and pelletizing,
(3) A part of (A), the masterbatch resin composition of (B) and (C) was prepared in advance by melt mixing (200 to 280 ° C.) using an extruder [in the masterbatch resin composition ( The content of B) is preferably 30 to 70% by weight], and the master batch, the remaining (A) and, if necessary, (D) to (F) may be dry blended with the above mixer and mixed.
Among these methods, the methods (2) and (3) are preferable from the viewpoint of dispersibility of (B) into (A), and the method (2) is particularly preferable. In the resin composition for forming a film in the present invention, (A) and (B) are excellent in compatibility, so that a good film can be obtained even by the method (1).

<2>製膜工程
製膜方法については、特に限定はなく、種々の製膜方法(例えば押出成形法、インフレーション法およびチューブラー法)を用いることができる。
いずれの方法においても、共押出が可能なダイスから樹脂組成物を積層した状態で押出して製膜するか、基層に表層をラミネートするかまたは表層と基層を接着剤もしくは接着層を用いて貼り合わせる等を行い、多層フィルムとしてもよい。
製膜時に発泡剤(例えば塩化メチル、ブタン、炭酸ガスおよびアゾビスイソブチロニトリル)を添加することによりフィルム中に発泡層を形成させることもできる。
<2> Film-forming step The film-forming method is not particularly limited, and various film-forming methods (for example, an extrusion molding method, an inflation method, and a tubular method) can be used.
In either method, a resin composition is laminated from a die that can be co-extruded to form a film, or a surface layer is laminated to the base layer, or the surface layer and the base layer are bonded together using an adhesive or an adhesive layer. It is good also as a multilayer film.
A foaming layer can also be formed in the film by adding a foaming agent (for example, methyl chloride, butane, carbon dioxide and azobisisobutyronitrile) during film formation.

共押出では、例えば樹脂組成物の温度はその加熱流動温度85〜280℃とし、ダイスの温度は180〜280℃とするのが好ましい。
基層に表層をラミネートする場合は、例えば各層を積層した後に加熱圧着してもよいし、予めそれぞれの接合面を加熱装置によって加熱した後に接合して圧着してもよい。
貼り合わせる方法において使用される接着剤は、特に限定されないが、例えばエチレン−酢酸ビニル共重合体およびメタアクリル酸メチル重合体エラストマー〔例えば商品名:タフプレンおよびタフテック[いずれも旭化成工業(株)製]〕等の接着剤が好ましい。
In coextrusion, for example, the temperature of the resin composition is preferably 85 to 280 ° C., and the die temperature is preferably 180 to 280 ° C.
In the case of laminating the surface layer on the base layer, for example, the layers may be laminated and then thermocompression bonded, or the respective bonding surfaces may be preliminarily heated with a heating device and then bonded and pressure bonded.
The adhesive used in the bonding method is not particularly limited. For example, an ethylene-vinyl acetate copolymer and a methyl methacrylate polymer elastomer [for example, trade names: Tufprene and Tuftec [both manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.] ] Is preferred.

<3>ロール等による冷却工程
冷却方法については、例えば、ロールとの接触によって冷却する方法(例えば押出成形法のとき)および空気を吹き付け冷却する方法(例えばインフレーション法およびチューブラー法のとき)を用いることができる。
<3> Cooling step by rolls etc. As for the cooling method, for example, a method of cooling by contact with a roll (for example, extrusion method) and a method of cooling by blowing air (for example, an inflation method and a tubular method) are used. Can be used.

<4>延伸工程
延伸方法としては、例えば予め無延伸のフィルムを製膜した後、別工程で延伸する方法(例えばロールの周速度の差を利用して延伸する方法およびテンター法)と、フィルムの生産工程に延伸工程が含まれるような方法(例えばインフレーション法およびチューブラー法)を挙げることができる。
<4> Stretching step As a stretching method, for example, after forming a non-stretched film in advance, a method of stretching in a separate step (for example, a method of stretching using a difference in peripheral speed of rolls and a tenter method) and a film Examples of the production process include a stretching process (for example, an inflation method and a tubular method).

延伸倍率は、いずれの延伸方法においても帯電防止性の観点から、一軸延伸の場合は好ましくは2〜20倍、二軸延伸の場合は好ましくはそれぞれの方向に2〜15倍である。本発明の帯電防止性樹脂フィルムは延伸工程を経ることで、さらに優れた帯電防止性を発現させることができる。   In any stretching method, the stretching ratio is preferably 2 to 20 times in the case of uniaxial stretching and 2 to 15 times in each direction in the case of biaxial stretching, from the viewpoint of antistatic properties. The antistatic resin film of the present invention can exhibit further excellent antistatic properties through the stretching step.

また、本発明の帯電防止性フィルムには、用途(例えばフィルムへの印刷および他の物へのフィルムの接着)、目的(例えば印刷インキの定着性やフィルムの接着性の改良)に応じて、コロナ処理や火炎処理等の表面処理を行うこともできる。
該表面処理をする面は、帯電防止性の表層の面であっても、帯電防止性表層が積層されていない(片側積層の場合)裏面側(基層表面)であってもよい。
In addition, the antistatic film of the present invention can be used depending on the purpose (for example, printing on a film and adhesion of the film to other objects) and purpose (for example, improvement in fixing property of printing ink or film adhesion). Surface treatments such as corona treatment and flame treatment can also be performed.
The surface to be surface-treated may be the surface of the antistatic surface layer or the back surface side (base layer surface) where the antistatic surface layer is not laminated (in the case of one-side lamination).

積層する場合は、フィルムの製造と同じく、多層シートであってもよいし、発泡層を含んでいてもよいし、延伸されていてもよい。   In the case of laminating, it may be a multilayer sheet, may contain a foamed layer, or may be stretched, as in the production of the film.

本発明のフィルムは、優れた機械特性および永久帯電防止性を有すると共に、良好な塗装性および印刷性を有する。
該フィルムを塗装する方法としては、エアスプレー法、エアレススプレー法、静電スプレー法、浸漬法、ローラー法、刷毛塗り法等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また、該フィルムに印刷する方法としては、種々の印刷法、例えばグラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷およびオフセット印刷が挙げられる。
印刷インキとしてはプラスチックの印刷に通常用いられるものが挙げられる。
The film of the present invention has excellent mechanical properties and permanent antistatic properties, as well as good paintability and printability.
Examples of the method for applying the film include, but are not limited to, an air spray method, an airless spray method, an electrostatic spray method, a dipping method, a roller method, and a brush coating method.
Examples of the method for printing on the film include various printing methods such as gravure printing, flexographic printing, screen printing, and offset printing.
Examples of the printing ink include those usually used for printing plastics.

以下実施例をもって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の部は重量部、%は重量%を表す。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the part in an Example represents a weight part and% represents weight%.

製造例1[酸変性ポリオレフィン(a−1)の製造]
ステンレス製オートクレーブに、熱減成法[23℃における密度0.90g/cm3
MFR6.0g/10分のエチレン/プロピレン(ランダム付加)共重合体(エチレン含量2%)を410±0.1℃で熱減成]で得られた低分子量エチレン/プロピレンランダム共重合体(Mn3,500、密度0.89g/cm3、C1,000個当たりの二重結
合量7.1個、1分子当たりの二重結合の平均数1.8、両末端変性可能なポリオレフィンの含有量90%)95部、無水マレイン酸10部、キシレン30部を仕込み、窒素ガス雰囲気(密閉)下、200℃で溶融し、200℃、20時間反応させた。
その後、過剰の無水マレイン酸とキシレンを減圧下、200℃、3時間で留去して、酸変性ポリオレフィン(a−1)を得た。(a−1)の酸価は27.2、Mnは3,700であった。
Production Example 1 [Production of acid-modified polyolefin (a-1)]
To a stainless steel autoclave, the thermal degradation method [density 0.90 g / cm 3 at 23 ° C.,
Low molecular weight ethylene / propylene random copolymer (Mn3) obtained by thermal degradation of ethylene / propylene (random addition) copolymer (ethylene content 2%) of MFR 6.0 g / 10 min at 410 ± 0.1 ° C.] , 500, density 0.89 g / cm 3 , 7.1 double bonds per 1,000 C, average number of double bonds per molecule 1.8, content of polyolefin that can be modified at both ends 90 %) 95 parts, maleic anhydride 10 parts and xylene 30 parts were charged, melted at 200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere (sealed), and reacted at 200 ° C. for 20 hours.
Thereafter, excess maleic anhydride and xylene were distilled off under reduced pressure at 200 ° C. for 3 hours to obtain acid-modified polyolefin (a-1). The acid value of (a-1) was 27.2, and Mn was 3,700.

製造例2[二次変性ポリオレフィン(a−2)の製造]
ステンレス製オートクレーブに、(a−1)66部と12−アミノドデカン酸34部を仕込み、窒素ガス雰囲気下、200℃で溶融し、200℃、3時間、1.3kPa以下の減圧下、反応させ、二次変性ポリオレフィン(a−2)を得た。(a−2)の酸価は17.7、Mnは5,700であった。
Production Example 2 [Production of secondary modified polyolefin (a-2)]
A stainless steel autoclave was charged with 66 parts of (a-1) and 34 parts of 12-aminododecanoic acid, melted at 200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere, and reacted at 200 ° C. for 3 hours under a reduced pressure of 1.3 kPa or less. Secondary modified polyolefin (a-2) was obtained. The acid value of (a-2) was 17.7, and Mn was 5,700.

製造例3[ブロックポリマーからなる帯電防止剤(B−1)の製造]
ステンレス製オートクレーブに、(a−2)73.3部、Mn2,000、体積固有抵抗値1×107Ω・cmのPEGの両末端の水酸基をシアノアルキル化して得られる末端
シアノアルキル基を還元して1級アミノ基に変性した親水性ポリマー(体積固有抵抗値2×108Ω・cm)(b−1)26.7部、および酸化防止剤[商品名「イルガノックス
1010」、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製。以下同じ。]0.3部を仕込み、220℃、0.13kPa以下の減圧下の条件で3時間重合させ粘稠なポリマーを得た。このポリマ−をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによってブロックポリマーからなる帯電防止剤(B−1)を得た。
Production Example 3 [Production of Antistatic Agent (B-1) Consisting of Block Polymer]
Reduce the terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating the hydroxyl groups at both ends of PEG with (a-2) 73.3 parts, Mn 2,000, volume resistivity 1 × 10 7 Ω · cm into a stainless steel autoclave. 26.7 parts of a hydrophilic polymer (volume resistivity 2 × 10 8 Ω · cm) (b-1) modified to a primary amino group and an antioxidant [trade name “Irganox 1010”, Ciba Specialty Made by Tea Chemicals. same as below. 0.3 parts were charged and polymerized for 3 hours under the reduced pressure of 220 ° C. and 0.13 kPa or less to obtain a viscous polymer. The polymer was taken out on a belt in the form of a strand and pelletized to obtain an antistatic agent (B-1) comprising a block polymer.

製造例4[カチオン性ポリマー(b−2)(親水性ポリマー)の製造]
ガラス製オートクレーブにN−メチルジエタノールアミン41部、アジピン酸49部および酢酸ジルコニル0.3部を仕込み、窒素置換後、2時間かけて220℃まで昇温し、1時間かけて0.13kPaまで減圧してポリエステル化反応を行わせた。反応終了後、50℃まで冷却し、メタノール100部を加えて溶解した。撹拌しながら反応容器中の温度を120℃に保ち、炭酸ジメチル31部を3時間かけて徐々に滴下し、同温度で6時間熟成させた。室温まで冷却後、60%ヘキサフルオロリン酸水溶液100部を加え、室温で1時間撹拌した。次いで溶剤を減圧留去し、4級アンモニウム基を平均12個有するカチオン性ポリマー(b−2)(水酸基価30.1、酸価0.5、体積固有抵抗値1×105Ω・cm)を得た。
Production Example 4 [Production of Cationic Polymer (b-2) (Hydrophilic Polymer)]
A glass autoclave was charged with 41 parts of N-methyldiethanolamine, 49 parts of adipic acid and 0.3 part of zirconyl acetate. After purging with nitrogen, the temperature was raised to 220 ° C. over 2 hours and reduced to 0.13 kPa over 1 hour. The polyesterification reaction was performed. After completion of the reaction, the reaction mixture was cooled to 50 ° C. and dissolved by adding 100 parts of methanol. While stirring, the temperature in the reaction vessel was kept at 120 ° C., 31 parts of dimethyl carbonate was gradually added dropwise over 3 hours, and aged at the same temperature for 6 hours. After cooling to room temperature, 100 parts of a 60% hexafluorophosphoric acid aqueous solution was added and stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, the solvent was distilled off under reduced pressure, and a cationic polymer (b-2) having an average of 12 quaternary ammonium groups (hydroxyl value 30.1, acid value 0.5, volume resistivity 1 × 10 5 Ω · cm) Got.

製造例5[ブロックポリマーからなる帯電防止剤(B−2)の製造]
ステンレス製オートクレーブに、(a−2)63.0部、(b−2)37.0部、酸化防止剤0.3部および酢酸ジルコニル0.5部を加え、230℃、0.13kPa以下の減圧下の条件で4時間重合させ粘稠なポリマーを得た。このポリマ−をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによってブロックポリマーからなる帯電防止剤(B−2)を得た。
Production Example 5 [Production of antistatic agent (B-2) comprising block polymer]
(A-2) 63.0 parts, (b-2) 37.0 parts, antioxidant 0.3 parts and zirconyl acetate 0.5 parts were added to a stainless steel autoclave at 230 ° C. and 0.13 kPa or less. Polymerization was performed for 4 hours under reduced pressure to obtain a viscous polymer. The polymer was taken out in a strand form on a belt and pelletized to obtain an antistatic agent (B-2) comprising a block polymer.

製造例6[アニオン性ポリマー(b−3)(親水性ポリマー)の製造]
ステンレス製オートクレーブに、 Mn300のPEG67部、5−スルホイソフタル
酸ジメチルエステルのナトリウム塩49部およびジブチルスズオキシド0.2部を仕込み、0.67kPaの減圧下で190℃まで昇温し、メタノールを留去しながら6時間エステル交換反応を行い、1分子内にスルホン酸ナトリウム塩基を平均5個有するアニオン性ポリマー(b−3)(水酸基価29.6、酸価0.4、体積固有抵抗値2×106Ω・cm)を得た。
Production Example 6 [Production of Anionic Polymer (b-3) (Hydrophilic Polymer)]
A stainless steel autoclave was charged with 67 parts of PEG of Mn300, 49 parts of sodium salt of 5-sulfoisophthalic acid dimethyl ester and 0.2 part of dibutyltin oxide, and the temperature was raised to 190 ° C. under a reduced pressure of 0.67 kPa, and methanol was distilled off. An anionic polymer (b-3) having an average of 5 sodium sulfonate bases in one molecule (hydroxyl value 29.6, acid value 0.4, volume resistivity 2 × 10 6 Ω · cm).

製造例7[ブロックポリマーからなる帯電防止剤(B−3)の製造]
製造例5において(a−2)63.0部、(b−2)37.0部に代えて、(a−2)62.6部、(b−3)37.4部を用いた以外は、製造例5と同様にして、ブロックポリマーからなる帯電防止剤(B−3)を得た。
Production Example 7 [Production of antistatic agent (B-3) comprising block polymer]
In Production Example 5, instead of (a-2) 63.0 parts and (b-2) 37.0 parts, (a-2) 62.6 parts and (b-3) 37.4 parts were used. Obtained the antistatic agent (B-3) which consists of a block polymer like manufacture example 5. FIG.

製造例8[ブロックポリマーからなる帯電防止剤(B−4)の製造]
製造例3において(a−2)73.3部、(b−1)26.7部に代えて、(a−2)77.9部、ポリテトラメチレングリコール(Mn1,800、体積固有抵抗値1×1011Ω・cm)(b−4)22.1部を用い、さらに酢酸ジルコニル0.5部を加えた以外は、製造例3と同様にして、ブロックポリマーからなる帯電防止剤(B−4)を得た。
Production Example 8 [Production of antistatic agent (B-4) comprising block polymer]
Instead of (a-2) 73.3 parts and (b-1) 26.7 parts in Production Example 3, (a-2) 77.9 parts, polytetramethylene glycol (Mn1,800, volume resistivity) 1 × 10 11 Ω · cm) (b-4) An antistatic agent (B) comprising a block polymer in the same manner as in Production Example 3, except that 0.5 part of zirconyl acetate was added. -4) was obtained.

実施例1〜6、比較例1〜6
表1に示す配合組成に従って、T型ダイを備えた押出成形機[シリンダー温度:(A−1)使用時は220℃、(A−2)使用時は180℃、(A−3)使用時は150℃とする。以下同じ。]により溶融押出し、20℃の冷却ロールで急冷することにより厚さ100μmの押出フィルム(単層フィルム)とした。
Examples 1-6, Comparative Examples 1-6
Extruder with a T-die according to the composition shown in Table 1 [Cylinder temperature: 220 ° C. when using (A-1), 180 ° C. when using (A-2), and (A-3) using Is 150 ° C. same as below. ] And melt-extruded by a cooling roll of 20 ° C. to obtain an extruded film (single layer film) having a thickness of 100 μm.

実施例7〜13、比較例7〜13
表2に示す配合組成に従って、基層(X)、表層(Y)を2種3層共押出が可能なT型ダイを備えた押出成形機[シリンダー温度は上記に同じ。(A−1)〜(A−3)のうち2種類を使用する場合のシリンダー温度は高い方の温度とする。]により溶融押出し、20℃の冷却ロールで急冷することにより表裏面に10μmの表層(Y)を有する厚さ70μmの(Y)/(X)/(Y)型押出フィルム(3層フィルム)とした。
Examples 7-13, Comparative Examples 7-13
Extruder equipped with a T-type die capable of coextruding two types and three layers of the base layer (X) and the surface layer (Y) according to the composition shown in Table 2 [Cylinder temperature is the same as above. The cylinder temperature when two types of (A-1) to (A-3) are used is the higher temperature. ] (70) -thick (Y) / (X) / (Y) -type extruded film (3-layer film) having a surface layer (Y) of 10 μm on the front and back surfaces by quenching with a cooling roll at 20 ° C. did.

(注)
A−1:ポリプロピレン樹脂[商品名:ノバテックPP F203T、日本ポリプロ(株
)製]
A−2:ポリエチレン樹脂[商品名:ノバテックLL UJ960、日本ポリエチレン
(株)製]
A−3:エチレン/酢酸ビニル共重合樹脂[商品名:ノバテックEVA LV430、日
本ポリエチレン(株)製]
G−1:ナイロン樹脂[商品名:ウベナイロン 1013B、宇部興産(株)製]
G−2:シクロヘキサンジメタノール/エチレングリコール/テレフタル酸共重合物(ポ
リエステル樹脂)[商品名:EASTER PETG6763、イーストマンケ
ミカルジャパン(株)製]
C−1:カルボジイミド化合物[カルボジライトLA−1」、日清紡(株)製]
C−2:カルボジイミド化合物[カルボジライトHMV−8CA」、日清紡(株)製]
D−1:1−エチル−3−メチルイミダゾリウムドデシルベンゼンスルホン酸塩
D−2:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
(note)
A-1: Polypropylene resin [Brand name: Novatec PP F203T, manufactured by Nippon Polypro Co., Ltd.]
A-2: Polyethylene resin [Brand name: Novatec LL UJ960, manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd.]
A-3: Ethylene / vinyl acetate copolymer resin [Brand name: Novatec EVA LV430, manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd.]
G-1: Nylon resin [Brand name: Ube Nylon 1013B, manufactured by Ube Industries, Ltd.]
G-2: Cyclohexanedimethanol / ethylene glycol / terephthalic acid copolymer (polyester resin) [trade name: EASTER PETG6763, manufactured by Eastman Chemical Japan Co., Ltd.]
C-1: Carbodiimide compound [Carbodilite LA-1], manufactured by Nisshinbo Co., Ltd.]
C-2: Carbodiimide compound [Carbodilite HMV-8CA], manufactured by Nisshinbo Co., Ltd.]
D-1: 1-ethyl-3-methylimidazolium dodecylbenzenesulfonate D-2: sodium dodecylbenzenesulfonate

[性能試験等]
上記で得られたフィルムについて、下記の試験法に基づき性能評価等を行った。結果を表3に示す。
[1]帯電防止性[ASTM D257(1984年)に準拠]
表面固有抵抗値(単位はΩ)で評価。フィルムからそれぞれ切り出した試験片(100×100mm)を用い、該試験片を23℃、湿度50%RHの条件で48時間静置後、超絶縁計[アドバンテスト(株)製、以下同じ。]により同条件の雰囲気下で測定する。
[Performance tests, etc.]
About the film obtained above, performance evaluation etc. were performed based on the following test method. The results are shown in Table 3.
[1] Antistatic property [Conforms to ASTM D257 (1984)]
Evaluated by surface resistivity (unit: Ω). Each test piece (100 × 100 mm) cut out from the film was used, and the test piece was allowed to stand for 48 hours under the conditions of 23 ° C. and humidity 50% RH. ] Under the same conditions.

[2]ヒートシール性[JIS Z−0238に準拠]
フィルムを2枚合わせて重ね、熱傾斜試験機[東洋精機(株)製]を使用して、熱圧着〔温度:合わせた面が(A−1)、(A−2)または(A−3)を使用時はそれぞれ160℃、140℃または90℃、圧力:3kg/cm2、時間:1秒〕後、該試験片を23℃、湿度50%RHの条件で24時間静置後、引張試験[JIS K7127−1989に準拠]と同様の方法で試験し、ヒートシール部分の破断強度(単位はkg/15mm)を測定する。
[2] Heat sealability [conforms to JIS Z-0238]
Two films are stacked and stacked, and a thermal inclination tester [manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.] is used to perform thermocompression bonding [temperature: the combined surfaces are (A-1), (A-2) or (A-3). ) Is used at 160 ° C., 140 ° C. or 90 ° C., pressure: 3 kg / cm 2 , time: 1 second], then the test piece is allowed to stand at 23 ° C. and humidity 50% RH for 24 hours, and then pulled. The test is performed in the same manner as in the test [based on JIS K7127-1989], and the breaking strength (unit: kg / 15 mm) of the heat seal portion is measured.

[3]表面粗度[JIS B0601−2001に準拠]
表面を、形状測定顕微鏡[超深度形状測定顕微鏡VK−8550、(株)キーエンス製]を用いて、倍率1,250倍の条件でJIS B0601:2001の付属書2に記載
された中心線平均粗さ(Ra)(単位はμm)を5箇所測定し、これらの平均値を指標とした。なお、数値は小さいほど表面粗さが小さく良好であることを示している。表面粗度により表面荒れを評価する。
[3] Surface roughness [conforms to JIS B0601-2001]
The surface was subjected to centerline average roughness described in Appendix 2 of JIS B0601: 2001 under the conditions of a magnification of 1,250 times using a shape measurement microscope [VD-8550, manufactured by Keyence Corporation]. (Ra) (unit: μm) was measured at five locations, and the average of these was used as an index. The smaller the numerical value, the smaller the surface roughness and the better. Surface roughness is evaluated by surface roughness.

[4]ガラス板汚染性
フィルムから切り出した試験片(100×100mm)と2枚のガラス板(120×120×2mm)を、それぞれ超純水(比抵抗17.5MΩ・cm)を用いて充分に水洗した後、循風乾燥機内50℃で2時間乾燥させる。該試験片を表裏面から該2枚のガラス板で挟んで密着させ、さらに片面のガラス板上に1kgの重しを置き、60℃、90%RHで7日間静置する。その後、試験片を取り除き、ガラス板の試験片接触面を観察し、付着物の有無でガラス板汚染性を評価する。ガラス板汚染性によりフィルム表面析出物の有無を評価する。

評価基準 ○:ガラス板に付着物なし
×:ガラス板に付着物あり
[4] Contamination property of glass plate A test piece (100 × 100 mm) cut out from a film and two glass plates (120 × 120 × 2 mm) are sufficiently obtained using ultrapure water (specific resistance 17.5 MΩ · cm), respectively. Then, it is dried in an air circulation dryer at 50 ° C. for 2 hours. The test piece is put in close contact with the two glass plates from the front and back surfaces, and a 1 kg weight is placed on the glass plate on one side, and left still at 60 ° C. and 90% RH for 7 days. Then, a test piece is removed, the test piece contact surface of a glass plate is observed, and glass plate contamination property is evaluated by the presence or absence of a deposit. The presence or absence of film surface deposits is evaluated based on the glass plate contamination.

Evaluation criteria ○: No deposit on glass plate
×: There is a deposit on the glass plate.

[5]単層または表層フィルムの断面の画像解析による成分の面積比率
単層フィルムまたは、3層フィルムにおける表層フィルムの各断面中の(A)〜(C)成分の分散状態を透過型電子顕微鏡で観察し、得られた画像の10μm×10μmの範囲について、画像解析計測ソフトウェア[商品名「WinROOF」、三谷商事(株)製]を用いて、(A)〜(C)の各面積比率(%)を求めた。
[5] Area ratio of components by image analysis of cross section of single layer or surface layer film Transmission electron microscope shows dispersion state of components (A) to (C) in each cross section of surface layer film in single layer film or three layer film Each area ratio of (A) to (C) is measured using image analysis measurement software [trade name “WinROOF”, manufactured by Mitani Corporation] for the range of 10 μm × 10 μm of the obtained image. %).

表3から明らかなように、本発明の帯電防止性フィルムは、比較の樹脂組成物を成形してなるフィルムと比較して、ヒートシール性、永久帯電防止性に優れ、表面特性にも優れることがわかる。   As is apparent from Table 3, the antistatic film of the present invention is superior in heat sealability, permanent antistatic properties, and surface characteristics as compared with a film formed by molding a comparative resin composition. I understand.

本発明の帯電防止性フィルムは、帯電防止性およびヒートシール性に優れることから、包装材(インスタント食品やマヨネーズ等の食品用包装袋、タバコの個包装袋、クリーニングの袋、プラスチック製ケース用フィルム、電気部品の包装袋等)、被覆材(紙にラミネートするプリントラミ、フレキシブルディスクの保護フィルム、農業材料等)、テープ材(半導体製造プロセス用のテープ基材等)その他帯電防止性およびヒートシール性を必要とする幅広い分野の各種材料として極めて有用である。   Since the antistatic film of the present invention is excellent in antistatic properties and heat sealing properties, it can be used as a packaging material (packaging bags for foods such as instant foods and mayonnaise, individual packaging bags for cigarettes, cleaning bags, and plastic case films. , Packaging bags for electrical parts, etc.), covering materials (print laminates laminated on paper, protective films for flexible disks, agricultural materials, etc.), tape materials (tape substrates for semiconductor manufacturing processes, etc.) and other antistatic properties and heat sealing It is extremely useful as various materials in a wide range of fields that require high performance.

Claims (5)

下記(A)〜(C)を含有してなり、(A)〜(C)の合計重量に基づいて、(A)を40〜98%、(B)を1〜30%、(C)を1〜30%含有することを特徴とする帯電防止性フィルム。
(A)ポリオレフィン樹脂。
(B)ポリオレフィン(a)のブロックと、体積固有抵抗値が1×105〜1×1011Ω
・cmの親水性ポリマー(b)のブロックとが、繰り返し交互に結合した構造を有
するブロックポリマーからなる帯電防止剤
(C)カルボジイミド化合物
It contains the following (A) to (C), and based on the total weight of (A) to (C), (A) is 40 to 98%, (B) is 1 to 30%, and (C) is An antistatic film containing 1 to 30%.
(A) Polyolefin resin.
(B) Polyolefin (a) block and volume resistivity value of 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω
-Antistatic agent (C) carbodiimide compound comprising a block polymer having a structure in which blocks of hydrophilic polymer (b) of cm are repeatedly and alternately bonded
さらに、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の塩、界面活性剤およびイオン性液体からなる群から選ばれる少なくとも1種の添加剤(D)を含有させてなる請求項1記載のフィルム。 The film according to claim 1, further comprising at least one additive (D) selected from the group consisting of an alkali metal or alkaline earth metal salt, a surfactant and an ionic liquid. 熱可塑性樹脂からなるフィルムおよび/または請求項1または2記載のフィルムを基層とし、該基層の片面または両面に請求項1または2記載のフィルムを表層として積層してなる帯電防止性多層フィルム。 An antistatic multilayer film comprising a film made of a thermoplastic resin and / or a film according to claim 1 or 2 as a base layer, and the film according to claim 1 or 2 is laminated as a surface layer on one side or both sides of the base layer. 請求項1〜3のいずれか記載のフィルムに塗装および/または印刷を施してなるフィルム物品。 A film article obtained by coating and / or printing the film according to claim 1. ポリオレフィン樹脂(A)、およびポリオレフィン(a)のブロックと、体積固有抵抗値が1×105〜1×1011Ω・cmの親水性ポリマー(b)のブロックとが、繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマーからなる帯電防止剤(B)を含有してなる帯電防止性フィルムに、カルボジイミド化合物(C)を含有させることを特徴とする、該フィルムのヒートシール性向上方法。 Structure in which a block of polyolefin resin (A) and polyolefin (a) and a block of hydrophilic polymer (b) having a volume resistivity value of 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω · cm are alternately and repeatedly bonded. A carbodiimide compound (C) is contained in an antistatic film comprising an antistatic agent (B) comprising a block polymer having the above-described method, and the method for improving the heat sealability of the film.
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