JP2010091906A - Method for manufacturing electro-optical device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は電気光学装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an electro-optical device.
電気光学装置の一つとしての液晶装置は、シール材を介して貼り合わされた一対の基板
と、該一対の基板の間に封入された液晶層とを備えている。該一対の基板の液晶層側の面
には、液晶層に含有される液晶分子を所定の方向に配向させるための配向膜が形成されて
いる。かかる配向膜の配向処理方法として、近年、光配向材料に偏光を露光することによ
り配向処理を行なう光配向が注目されている(例えば特許文献1)。
A liquid crystal device as one of the electro-optical devices includes a pair of substrates bonded together with a sealant, and a liquid crystal layer sealed between the pair of substrates. An alignment film for aligning liquid crystal molecules contained in the liquid crystal layer in a predetermined direction is formed on the surface of the pair of substrates on the liquid crystal layer side. As an alignment treatment method for such an alignment film, in recent years, photo-alignment in which alignment treatment is performed by exposing polarized light to a photo-alignment material has attracted attention (for example, Patent Document 1).
かかる光配向方法の一つとして、ロングアーク型、すなわち蛍光灯型(長尺状)の光源
から照射される光を偏光子を介して配向膜に照射する方法がある(例えば特許文献2)。
配向膜が形成された基板を上述の光源の下を搬送することにより、大面積の配向膜の配向
処理を効率的に行なうことができる。
As one of such optical alignment methods, there is a method of irradiating an alignment film with light irradiated from a long arc type, that is, a fluorescent lamp type (long) light source (for example, Patent Document 2).
By transporting the substrate on which the alignment film is formed under the above-described light source, alignment processing of a large-area alignment film can be performed efficiently.
しかしながら上述の構成の装置を用いた配向方法は、搬送方向に直交する方向で異なる
方向の配向を形成する場合には不向きで有り、高い精度も望めない。したがって、近年市
場が拡大している横電界方式の半透過反射型の液晶装置のように、画素内で液晶の配向方
向が異なる液晶装置における配向処理を好適に実施できないという課題がある。
However, the alignment method using the apparatus having the above-described configuration is not suitable for forming an alignment in a direction orthogonal to the conveyance direction, and high accuracy cannot be expected. Therefore, there is a problem that alignment processing cannot be suitably performed in a liquid crystal device in which the alignment directions of liquid crystals are different within a pixel, such as a horizontal electric field type transflective liquid crystal device whose market is expanding in recent years.
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形
態又は適用例として実現することが可能である。
SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.
[適用例1]光源から照射された光をワイヤーグリッド偏光子に入射して、該ワイヤー
グリッド偏光子から出射された直線偏光の光を、搬送手段の搬送面に載置された配向膜を
有する板状部材に照射して光配向処理を行なう電気光学装置の製造方法であって、上記光
源は長手方向を有して光を照射するとともに、上記ワイヤーグリッド偏光子は、上記長手
方向に隣り合うように配置された第1の方向に延在するワイヤーグリッドを備えた第1の
領域と上記第1の方向とは異なる第2の方向に延在するワイヤーグリッドを備えた第2の
領域とを有しており、上記ワイヤーグリッド偏光子の上記第1の領域から出射された第1
の偏光と、上記ワイヤーグリッド偏光子の上記第2の領域から出射された上記第1の偏光
と偏光方向が異なる第2の偏光とを夫々、上記配向膜を有した上記板状部材上の異なる領
域に同時に照射して光配向処理を行なうことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
[Application Example 1] An alignment film placed on the transport surface of the transport means, which has the light irradiated from the light source incident on the wire grid polarizer, and the linearly polarized light emitted from the wire grid polarizer is placed on the transport surface. An electro-optical device manufacturing method for performing optical alignment processing by irradiating a plate-like member, wherein the light source has a longitudinal direction and irradiates light, and the wire grid polarizer is adjacent to the longitudinal direction. A first region having a wire grid extending in a first direction and a second region having a wire grid extending in a second direction different from the first direction. And a first output from the first region of the wire grid polarizer.
And the second polarized light having a polarization direction different from the first polarized light emitted from the second region of the wire grid polarizer, respectively, on the plate member having the alignment film. A method of manufacturing an electro-optical device, wherein the region is simultaneously irradiated to perform photo-alignment processing.
このような製造方法であれば、画素領域内で隣り合う微細な領域毎に、互いに異なる方
向の配向を形成できる。したがって、画素領域内で液晶の配向方向が異なる液晶装置の製
造コストを低減できる。
With such a manufacturing method, it is possible to form orientations in directions different from each other for each minute region adjacent in the pixel region. Accordingly, it is possible to reduce the manufacturing cost of the liquid crystal device in which the alignment direction of the liquid crystal is different in the pixel region.
[適用例2]上述の製造方法であって、上記ワイヤーグリッド偏光子は、上記第1の方
向に延在したワイヤーグリッドが上記第1の領域に対応して選択的に設けられた第1のワ
イヤーグリッド偏光子と、該第1のワイヤーグリッド偏光子に重ねられ、上記第2の方向
に延在したワイヤーグリッドが上記第2の領域に対応して選択的に設けられた第2のワイ
ヤーグリッド偏光子と、を有して構成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方
法。
Application Example 2 In the above-described manufacturing method, the wire grid polarizer is a first in which a wire grid extending in the first direction is selectively provided corresponding to the first region. A wire grid polarizer and a second wire grid overlaid on the first wire grid polarizer and selectively provided in correspondence with the second region, the wire grid extending in the second direction. A method for manufacturing an electro-optical device, comprising: a polarizer.
このような構成であれば、個々のワイヤーグリッド偏光子には同一方向のワイヤーグリ
ッドを形成すれば済む。したがって、このような製造方法であれば、画素領域内で隣り合
うより一層微細な領域毎に互いに異なる方向の配向を形成でき、表示品質の高い液晶装置
の製造コストを低減できる。
With such a configuration, it is only necessary to form wire grids in the same direction on the individual wire grid polarizers. Therefore, according to such a manufacturing method, alignments in different directions can be formed for each further finer region adjacent in the pixel region, and the manufacturing cost of a liquid crystal device with high display quality can be reduced.
[適用例3]上述の製造方法であって、上記ワイヤーグリッド偏光子は、同一基板上に
上記第1の領域と上記第2の領域とが配置されていることを特徴とする電気光学装置の製
造方法。
Application Example 3 In the above-described manufacturing method, in the wire grid polarizer, the first region and the second region are arranged on the same substrate. Production method.
このような構成であれば、ワイヤーグリッド偏光子の構成を簡略化できる。したがって
、電気光学装置の製造コストを低減できる。
With such a configuration, the configuration of the wire grid polarizer can be simplified. Therefore, the manufacturing cost of the electro-optical device can be reduced.
[適用例4]光源から照射された光をワイヤーグリッド偏光子に入射して、該ワイヤー
グリッド偏光子から出射された直線偏光の光を変調素子を介して、搬送手段の搬送面に載
置された配向膜を有する板状部材に照射して光配向処理を行なう電気光学装置の製造方法
であって、上記光源は長手方向を有して光を照射するとともに、上記変調素子は、上記長
手方向に隣り合うように配置された複屈折性の異なる第1の領域と第2の領域とを有して
おり、上記変調素子の上記第1の領域から出射された第1の偏光と、上記変調素子の上記
第2の領域から出射された上記第1の偏光と偏光方向が異なる第2の偏光とをそれぞれ、
上記配向膜を有した上記板状部材上の異なる領域に同時に照射して光配向処理を行なうこ
とを特徴とする電気光学装置の製造方法。
Application Example 4 Light irradiated from a light source is incident on a wire grid polarizer, and linearly polarized light emitted from the wire grid polarizer is placed on a transport surface of a transport unit via a modulation element. A method of manufacturing an electro-optical device that performs optical alignment processing by irradiating a plate-like member having an alignment film, wherein the light source has a longitudinal direction and irradiates light, and the modulation element has the longitudinal direction. A first region having a different birefringence and a second region arranged adjacent to each other, the first polarized light emitted from the first region of the modulation element, and the modulation The first polarized light emitted from the second region of the element and the second polarized light having a different polarization direction,
A method of manufacturing an electro-optical device, wherein a light alignment process is performed by simultaneously irradiating different regions on the plate-like member having the alignment film.
このような製造方法であれば、画素領域内で隣り合う微細な領域毎に、互いに異なる方
向の配向を形成できる。したがって、画素領域内で液晶の配向方向が異なる液晶装置の製
造コストを低減できる。
With such a manufacturing method, it is possible to form orientations in directions different from each other for each minute region adjacent in the pixel region. Accordingly, it is possible to reduce the manufacturing cost of the liquid crystal device in which the alignment direction of the liquid crystal is different in the pixel region.
[適用例5]上述の電気光学装置の製造方法であって、上記変調素子は、上記第1の領
域が光学的に等方性を有し、上記第2の領域が複屈折性を有する位相変調素子であり、上
記ワイヤーグリッド偏光子を透過した偏光を、上記第1の領域において偏光方向を変えず
に上記第1の偏光として出射し、上記第2の領域において偏光方向を変えて上記第2の偏
光として出射することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
Application Example 5 In the above-described electro-optical device manufacturing method, the modulation element includes a phase in which the first region has optical isotropy and the second region has birefringence. A modulation element that emits polarized light that has passed through the wire grid polarizer as the first polarized light without changing the polarization direction in the first region, and changes the polarization direction in the second region; A method for manufacturing an electro-optical device, wherein the light is emitted as two polarized light beams.
かかる変調素子であれば、電気的な制御を行なわずに偏光方向を変化させることができ
る。したがって、このような製造方法であれば、画素領域内で隣り合う微細な領域毎に液
晶の配向方向が異なる液晶装置の製造コストをより一層低減できる。
With such a modulation element, the polarization direction can be changed without electrical control. Therefore, with such a manufacturing method, it is possible to further reduce the manufacturing cost of the liquid crystal device in which the alignment direction of the liquid crystal is different for each minute region adjacent in the pixel region.
[適用例6]上述の電気光学装置の製造方法であって、上記複屈折性を有する領域は重
合性液晶を硬化させることにより形成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方
法。
Application Example 6 In the above-described electro-optical device manufacturing method, the region having birefringence is formed by curing a polymerizable liquid crystal.
重合性液晶をサーマルパターニングすると、複屈折性を有する領域と光学的等方性を有
する領域とを微細なピッチで形成できる。したがって、このような製造方法であれば、画
素領域内で隣り合うより一層微細な領域毎に互いに異なる方向の配向を形成でき、表示品
質の高い液晶装置の製造コストを低減できる。
When the polymerizable liquid crystal is subjected to thermal patterning, a region having birefringence and a region having optical isotropy can be formed at a fine pitch. Therefore, according to such a manufacturing method, alignments in different directions can be formed for each further finer region adjacent in the pixel region, and the manufacturing cost of a liquid crystal device with high display quality can be reduced.
[適用例7]上述の電気光学装置の製造方法であって、上記変調素子は、第1の基板と
、上記第1の基板とシール材を介して貼り合わされた第2の基板と、上記第1の基板と上
記第2の基板との間で上記シール材によって囲まれた領域内に充填された液晶層と、上記
液晶層に電圧を印加する電極と、を備える液晶素子であり、上記液晶層の配向状態を上記
長手方向に隣り合う領域毎に変化させることにより、偏光方向の異なる偏光をそれぞれ、
上記配向膜を有した上記板状部材上の異なる領域に同時に照射して光配向処理を行なうこ
とを特徴とする電気光学装置の製造方法。
Application Example 7 In the above-described method for manufacturing an electro-optical device, the modulation element includes a first substrate, a second substrate bonded to the first substrate via a sealing material, and the first substrate. A liquid crystal element comprising: a liquid crystal layer filled in a region surrounded by the sealing material between one substrate and the second substrate; and an electrode for applying a voltage to the liquid crystal layer. By changing the orientation state of the layer for each region adjacent to the longitudinal direction, polarized light with different polarization directions,
A method of manufacturing an electro-optical device, wherein a light alignment process is performed by simultaneously irradiating different regions on the plate-like member having the alignment film.
このような構成の変調素子としての液晶素子であれば、上述の電圧を印加する電極の選
択により、上述の偏光方向を容易に変更できる。したがって、多品種の液晶装置の配向処
理を同一の変調素子を用いて実施でき、製造コストをより一層低減できる。
If it is a liquid crystal element as a modulation element of such a structure, the above-mentioned polarization direction can be easily changed by selection of the electrode which applies the above-mentioned voltage. Therefore, alignment processing of a wide variety of liquid crystal devices can be performed using the same modulation element, and the manufacturing cost can be further reduced.
以下、図面を参照し、液晶装置、及び液晶装置の製造方法について説明する。なお、以
下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、
各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。
Hereinafter, a liquid crystal device and a method for manufacturing the liquid crystal device will be described with reference to the drawings. In each figure shown below, in order to make each component large enough to be recognized on the drawing,
The dimensions and ratios of the components are appropriately changed from the actual ones.
(第1の実施形態)
図1は、本実施形態の製造方法の対象である液晶装置の構成を模式的に示す図である。
図1(a)は液晶装置1の斜視図、図1(b)は図1(a)中のA−A’線における断面
図である。液晶装置1は横電界方式の一つであるFFS(Fringe-Field Switching)方式
の半透過反射型液晶装置であり、枠状のシール材14を介して対向して貼り合わされた素
子基板10及び対向基板11を有している。上記双方の基板は透明性が必要であり、ガラ
スあるいは石英等で形成されている。
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a configuration of a liquid crystal device that is a target of the manufacturing method of the present embodiment.
FIG. 1A is a perspective view of the
素子基板10、対向基板11、シール材14によって囲まれた空間には、液晶層55が
封入されている。素子基板10の液晶層55とは反対側の面には、第1の偏光板47が配
置されており、対向基板11の液晶層55とは反対側の面には、第2の偏光板48が配置
されている。素子基板10は、対向基板11より大きく、一部が対向基板11に対して張
り出した状態で貼り合わされている。この張り出した部分には、液晶層55を駆動するた
めのドライバIC15が実装されている。
A liquid crystal layer 55 is sealed in a space surrounded by the
素子基板10の液晶層55側の面には第1の配向膜57aが形成されており、対向基板
11の液晶層55側の面には第2の配向膜57bが形成されている。したがって、液晶層
55は上述の一対の配向膜で挟持されており、かかる配向膜により初期配向状態が規定さ
れている。画像形成領域100には後述する画素26(図3等参照)が規則的に形成され
ている。なお、画素26とは、光を射出する領域を示す平面的な概念と、後述する画素電
極等の構成要素を含む機能的な概念の双方の意味を有している。
A
液晶装置1はアクティブマトリクス型の液晶装置であり、各々の画素がスイッチング素
子としてTFT(薄膜トランジスタ)20(図3等参照)で駆動され、該画素部の液晶の
配向状態が変化することで、画像形成領域100に画像が形成される。本実施形態にかか
る製造方法は、上述の一対の配向膜の形成工程、すなわち光配向材料からなる薄膜に直線
偏光の紫外線を照射することにより、該偏光の振動方向に沿った配向規制力を付与する工
程に関するものである。
The
図2は、液晶装置1の回路構成図である。液晶装置1の画像形成領域100に規則的に
配置された複数の画素26の各々には、画素電極21と共通電極22と画素電極21をス
イッチング制御するためのTFT20とが形成されている。共通電極22は走査線駆動回
路112から延在する共通線106と電気的に接続されており、全ての画素26間で、す
なわち画像形成領域100の全域で共通の電位に保持されている。なお、画素26に付記
されているアルファベットは、各々の画素が備える、後述するカラーフィルタの色である
。
FIG. 2 is a circuit configuration diagram of the
データ線駆動回路114から延在するデータ線104がTFT20のソース電極と電気
的に接続されている。ここで、データ線104の延在方向をY方向と定義する。データ線
駆動回路114は、画像信号S1、S2、…、Snを、データ線104を介して各画素2
6に供給する。
A
6 is supplied.
TFT20のゲート電極には、走査線駆動回路112から延在する走査線102が電気
的に接続されている。ここで、走査線102の延在方向をX方向と定義する。走査線駆動
回路112からは、所定のタイミングで走査線102にパルス的に供給される走査信号G
1、G2、…、Gmが、この順に線順次でTFT20のゲート電極に印加される。画素電
極21は、TFT20のドレイン電極に電気的に接続されている。スイッチング素子であ
るTFT20が走査信号G1、G2、…、Gmの入力により一定期間だけオン状態とされ
ることで、データ線104から供給される画像信号S1、S2、…、Snが所定のタイミ
ングで画素電極21に書き込まれるようになっている。画素電極21を介して液晶に書き
込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、画素電極21と液晶層55(図
1(b)参照)を介して対向する共通電極22との間で一定期間保持される。
A
1, G2,..., Gm are applied to the gate electrode of the
図3は、本実施形態の液晶装置1の素子基板10の液晶層55側の面上の構成を模式的
に示す図である。図示するように、各々の画素26は、梯子状の平面形状(平面視での形
状)を有する画素電極21と、該画素電極21に平面視で略重なる位置に形成された略矩
形状の共通電極22とを備えている。そして画素電極21は、TFT20とコンタクトホ
ール20cを介して接続している。上記双方の電極は互いに略直交するように形成された
走査線102とデータ線104とで形成される略矩形の枠内に平面視で重なるように形成
されており、図示しない層間絶縁層で電気的に絶縁されている。
FIG. 3 is a diagram schematically showing a configuration on the surface on the liquid crystal layer 55 side of the
TFT20は、走査線102とデータ線104との交差部近傍に形成されており、デー
タ線104及び画素電極21と電気的に接続されている。上述したように走査線102の
延在方向がX方向であり、データ線104の延在方向がY方向である。
The
上記双方の電極が重なり合う領域が、透過光又は反射光を射出する画素領域である。そ
して、各々の画素領域の対向基板11側にはなお、画素26に付記されているアルファベ
ットの色(B=青色、G=緑色、R=赤色)に対応するカラーフィルタ(不図示)と各々
のカラーフィルタ間を遮光する遮光層(不図示)とが形成されている。図示するように、
各々の画素領域は走査線102と平行な分割線により反射表示領域Rと透過表示領域Tと
に分割されている。透過表示領域Tは図示しないバックライトから照射される光を透過さ
せて画像を形成する領域であり、反射表示領域Rは外光を反射させて画像を形成する領域
である。
A region where both the electrodes overlap is a pixel region that emits transmitted light or reflected light. Further, on the
Each pixel region is divided into a reflective display region R and a transmissive display region T by a dividing line parallel to the
なお、上述の透過表示領域Tと反射表示領域Rとは、本来は画素領域毎に定められる領
域であるが、本明細書では走査線102の延在方向に連なる(すなわち遮光層の形成領域
も含む)帯状の領域として定義する。理由は、後述するように、本実施形態の製造方法は
、上記双方の表示領域に異なる方向に配向された配向膜を形成する方法にかかるものであ
り、上述の一対の配向膜は遮光層とも重なるように少なくとも画像形成領域100の全域
に形成されており、光配向処理は走査線102の延在方向に沿って連続的に行なわれるた
めである。
Note that the transmissive display region T and the reflective display region R described above are regions that are originally determined for each pixel region, but in this specification, the transmissive display region T and the reflective display region R are continuous in the extending direction of the scanning line 102 (that is, the light shielding layer forming region also includes Defined as a band-like region. The reason is that, as will be described later, the manufacturing method of the present embodiment is related to a method of forming an alignment film oriented in different directions in both the display areas. This is because it is formed over at least the entire
画素電極21はITO(酸化インジウム・錫合金)等の透明導電材料からなり、スリッ
ト23と該スリット間の領域である帯状部24とを有している。該帯状部と共通電極22
との間に形成される電界により液晶層55に含有される液晶分子の配向方向を制御する。
The
The orientation direction of the liquid crystal molecules contained in the liquid crystal layer 55 is controlled by the electric field formed between the two.
共通電極22は、ITO等の透明導電材料からなり透過表示領域Tに対応する透明共通
電極22tと、アルミニウムや銀などの光反射性を有する金属材料からなり反射表示領域
Rに対応する反射共通電極22rと、からなる。透明共通電極22tと反射共通電極22
rとは、互いの端部において電気的に接続されている。本実施形態では、反射共通電極2
2rは、走査線102と平行に延びる共通線106と一体に形成されている。したがって
、透明共通電極22tと反射共通電極22rとからなる共通電極22は、共通線106と
電気的に接続されている。
The
r are electrically connected to each other at their ends. In the present embodiment, the reflective
2r is formed integrally with a
透過表示領域Tにおける配向膜(上記の一対の配向膜)の配向方向(配向規制方向)は
走査線102の延在方向と同一方向(0度)から7度までの角度を有する方向である。以
下の記載では、該延在方向と同一(0度)の角度として説明する。したがって、非印加時
(画素電極21と共通電極22との間に電圧が印加されていない状態)において、該領域
の液晶分子LCtは走査線102と略平行の方向に配向されている。一方、反射表示領域
Rにおける配向膜の配向方向は走査線102の延在方向に対して反時計回りに略45度の
角度を有する方向である。該角度も所定の幅を有する値であるが、以下の記載では、45
度として説明する。したがって、非印加時において、該領域の液晶分子LCrは走査線1
02に対して45度の方向に配向されている。
The alignment direction (alignment regulating direction) of the alignment film (the pair of alignment films) in the transmissive display region T is a direction having an angle from the same direction (0 degree) to 7 degrees as the extending direction of the
Described as a degree. Accordingly, when no voltage is applied, the liquid crystal molecules LCr in the region are scanned
Oriented in the direction of 45 degrees with respect to 02.
上記一対の電極間に電圧が印加されている状態であれば、液晶分子LC(LCr及びL
Ct)は印加電圧の大きさに合わせて回転する。そして、画素26毎に該回転の角度に応
じた比率で透過光又は反射光を射出することにより画像形成領域100に画像を形成する
。なお、上述したように液晶装置1は横電界方式の液晶装置であり、上記双方の領域にお
ける第1の配向膜57aの配向方向と第2の配向膜57bの配向方向とは同一である。
If a voltage is applied between the pair of electrodes, the liquid crystal molecules LC (LCr and LCr
Ct) rotates in accordance with the magnitude of the applied voltage. An image is formed in the
図4は、基板上における2種類の表示領域の配置を示す図である。図4(a)は、素子
基板10及び対向基板11の画像形成領域100における画素26の配置を示す図である
。図示するように、素子基板10及び対向基板11の画像形成領域100には画素26(
R,G,B)が規則的に形成されている。そして、各々の画素26は、Y方向に隣り合う
透過表示領域Tと反射表示領域Rとを有している。したがって、画像形成領域100には
、Y方向に隣り合う透過表示領域Tと反射表示領域RとがX方向に、帯状に延在する。
FIG. 4 is a diagram showing the arrangement of two types of display areas on the substrate. FIG. 4A is a diagram showing the arrangement of the
R, G, B) are regularly formed. Each
図4(b)は、液晶装置1を製造する際に用いられる、板状部材としてのマザー基板W
を示す図である。かかるマザー基板Wは、上述の素子基板10又は対向基板11の集合体
である。液晶装置1は、素子基板10と対向基板11とが、かかる大面積の基板(マザー
基板W)上に別途形成され、シール材14を介して貼り合わされた後に切り分けられて、
個々の液晶装置1となる。したがって、上述の一対の配向膜の光配向処理は、かかるマザ
ー基板Wの全体に形成した配向膜に対して一括で行なわれる。なお、光配向処理がなされ
る前の膜は、本来は配向膜ではないが、以下の記載においては該光配向処理がなされる前
の高分子材料からなる膜も配向膜と呼称する。
FIG. 4B shows a mother substrate W as a plate-like member used when the
FIG. The mother substrate W is an assembly of the
Individual
具体的には、X方向に延在する長尺状の光源を用いて、透過表示領域Tに対する走査線
の延在方向(X方向)と略平行に振動する紫外線の照射と、反射表示領域Rに対する走査
線の延在方向に対して略45度の方向に振動する紫外線の照射と、を同時に行ない、画素
26のY方向の長さ(数μm乃至数百μm)の略半分の幅でY方向に延在する互いに配向
方向が異なる2種類の配向領域を同時に形成する。
なお、図3のY方向において互いに隣り合う画素26の間の領域は、配向を付与する必
要はないが、本明細書では、かかる領域にも配向を付与するものとして記載している。
Specifically, using a long light source extending in the X direction, irradiation of ultraviolet rays that vibrate substantially parallel to the extending direction (X direction) of the scanning line with respect to the transmissive display region T, and the reflective display region R Are simultaneously irradiated with ultraviolet rays oscillating in a direction of approximately 45 degrees with respect to the direction in which the scanning line extends, and the width of the
Note that the region between the
図5は、本実施形態、及び後述する第2〜第4の実施形態に共通する、光配向処理方法
を示す図であり、長尺状の光源32の長手方向33(図6参照)から見た模式断面図であ
る。また、かかる光配向処理方法に用いる装置を示す図でもある。図6は、本実施形態に
かかる電気光学装置の製造方法としての光配向処理方法を模試的に示す斜視図である。光
源32と集光鏡36と光源32から照射される照射光39とワイヤーグリッド偏光子42
と集光レンズ34とマザー基板Wとを図示し、搬送手段38(図5参照)は図示を省略し
ている。以下、上記双方の図を用いて説明する。
FIG. 5 is a diagram showing a photo-alignment processing method common to the present embodiment and second to fourth embodiments to be described later, and is viewed from the longitudinal direction 33 (see FIG. 6) of the elongated
The condensing
図5、及び図6に示すように、本実施形態の光配向処理方法に用いる装置は、光源32
と、集光鏡36と、ワイヤーグリッド偏光子42と、集光レンズ34と、搬送手段38と
、を備えている。光源32は、光配向処理を行なうための紫外線を照射する光源であり、
図6に示すように、長尺状、すなわち中心軸を有する棒状の形状を有している。かかる中
心軸の方向が長手方向33である。図示するように、長手方向はY方向と略同一である。
なお、かかる「長手方向」は、ワイヤーグリッド偏光子42等の他の構成要素にも適用さ
れる概念である。集光鏡36は、少なくとも光源32と同等の長さ(長手方向の寸法)を
有する長尺状の形状である。光源32の搬送手段38側の反対側を覆う様に位置しており
、光源32から周囲に照射された光の多くを、ワイヤーグリッド偏光子42の方向に反射
させて集光している。
As shown in FIGS. 5 and 6, the apparatus used in the photo-alignment processing method of the present embodiment is a
A
As shown in FIG. 6, it has a long shape, that is, a rod shape having a central axis. The direction of the central axis is the
The “longitudinal direction” is a concept applied to other components such as the
光源32と集光鏡36とは、光源32の中心軸が集光鏡36の第1焦点と略一致するよ
うな位置関係を有している。光源32から照射される光を集光鏡36で集めて、ワイヤー
グリッド偏光子42により直線偏光とした後、集光レンズ34で集光して搬送手段38で
搬送されるマザー基板Wに照射している。集光レンズ34は必須のものではなく、マザー
基板Wを集光鏡36の第2焦点に位置させて照射することも可能である。しかし、かかる
方式は装置の大型化につながるため、集光レンズ34を用いることが好ましい。なお、集
光鏡36は長尺状であるため、焦点も長手方向に連続する直線状となっているが、長手方
向に垂直な断面図では「点]で図示できるため、以下の記載においても「焦点」と表記す
る。
The
集光レンズ34は、光源32と搬送手段38との間に位置する長尺状の平凸レンズであ
る。ワイヤーグリッド偏光子を透過した直線偏光を、X方向にのみ絞って、マザー基板W
上における、Y方向の延在し(X方向の)幅が狭い領域に照射できる。なお、集光レンズ
の態様は平凸レンズに限定されるものではなく、両凸レンズ等を用いることもできる。
The condensing
It is possible to irradiate a region extending in the Y direction and having a narrow width (in the X direction). In addition, the aspect of a condensing lens is not limited to a plano-convex lens, A biconvex lens etc. can also be used.
搬送手段38は、板状部材としてのマザー基板Wを該マザー基板が有する配向膜を光源
32側にして、矢印で示す搬送方向すなわちX方向に任意の速度で搬送する機能を有して
いる。上述したように光源32等は中心軸を有する長尺状であり、各々の中心軸は互いに
平行で,かつY方向に沿っている。搬送手段38は、搬送面すなわち搬送されるマザー基
板Wの基板面が上述の中心軸に平行になるように設定されている。
The transport means 38 has a function of transporting the mother substrate W as a plate-shaped member at an arbitrary speed in the transport direction indicated by an arrow, that is, the X direction, with the alignment film of the mother substrate as the
ワイヤーグリッド偏光子42は長尺状であり、光源32と集光レンズ34との間に、(
該ワイヤーグリッド偏光子の)中心軸が光源32等の中心軸と平行になるように位置して
いる。そして、光源から照射された自然光(振動方向がランダムに分布している光)であ
る照射光39を、所定の方向に振動する直線偏光に変える機能を果たしている。なお、以
下の記載において、照射光39は、ワイヤーグリッド偏光子42を透過する前の自然光と
ワイヤーグリッド偏光子42を透過後の直線偏光の双方を含んでいる。
The
The central axis (of the wire grid polarizer) is positioned so as to be parallel to the central axis of the
ワイヤーグリッド偏光子42は、図示するように、矩形の領域である第1の領域51と
第2の領域52とが長手方向に交互に隣接している。ここで「隣接している」とは、互い
に重ならず、かつ、隙間を空けることなく並んでいるということである。第1の領域51
は、マザー基板Wの透過表示領域T(図4参照)に対応する領域である。第2の領域52
は、マザー基板Wの反射表示領域R(図4参照)に対応する領域である。
As illustrated, the
Is an area corresponding to the transmissive display area T (see FIG. 4) of the mother substrate
Is an area corresponding to the reflective display area R (see FIG. 4) of the mother substrate W.
かかる第1の領域51と第2の領域52とは、互いに異なる振動方向を有する第1の偏
光(第1の直線偏光)と第2の偏光(第2の直線偏光)とを同時に形成できる。したがっ
て、本実施形態にかかる電気光学装置の製造方法によれば、かかるワイヤーグリッド偏光
子42を用いることにより、マザー基板Wが有する配向膜に領域毎に異なる方向の光配向
処理を同時に行なうことができる。具体的には、透過表示領域Tに必要な走査線102の
延在方向すなわちX方向の配向処理と、反射表示領域Rに必要な走査線102の延在方向
すなわちX方向に対して45度の方向の配向処理と、を同時に行なうことができる。
The
ここで、ワイヤーグリッド偏光子42の構成について説明する。図7は、一般的なワイ
ヤーグリッド偏光子の構成を示す図である。図7(a)はワイヤーグリッド偏光子の模式
斜視図、図7(b)はワイヤーグリッド偏光子の、ワイヤーグリッドの延在方向に垂直な
面における断面図である。
Here, the configuration of the
ワイヤーグリッド偏光子42は、ガラスあるいは石英等からなる透明基板53と該透明
基板上に所定のピッチをもって略平行に配列された幅及び高さが共通の金属体(金属細線
)からなる。以下の記載において、かかる金属体をワイヤーグリッド41と称する。ワイ
ヤーグリッド41は透明基板53上に形成された金属膜を干渉露光を用いたフォトリソグ
ラフィー法により形成される。各ワイヤーグリッド41のピッチは、照射される光の波長
以下、望ましくは1/3以下が好ましい。ワイヤーグリッド41の形成材料は、反射率の
高いAl(アルミニウム)やAg(銀)が好ましい。
The
かかる構造のワイヤーグリッド偏光子42は、上方から照射される光、すなわちワイヤ
ーグリッド41から透明基板53の方向に進む光を偏光分離する性質を有している。具体
的には、波長が上述のピッチ、幅、及び高さよりも小さい光が本図における上方から照射
された場合、上記光を構成する振動成分のうち、ワイヤーグリッド41の長手方向(延在
する方向)と平行する偏光成分を反射し、金属体の長手方向と直交する偏光成分を透過さ
せる性質を有している。したがって自然光を直線偏光にすることができる。
The
図8は、本実施形態で用いられるワイヤーグリッド偏光子42を示す図である。図8(
a)はワイヤーグリッド偏光子42を構成する第1のワイヤーグリッド偏光子42aと第
2のワイヤーグリッド偏光子42bとの模式平面図、図8(b)はワイヤーグリッド偏光
子42の模式斜視図、図8(c)はワイヤーグリッド偏光子42のYZ面における模式断
面図である。
FIG. 8 is a diagram showing a
a) is a schematic plan view of a first
図8(b)に示すように、ワイヤーグリッド偏光子42は、2つのワイヤーグリッド偏
光子、すなわち第1のワイヤーグリッド偏光子42aと第2のワイヤーグリッド偏光子4
2bとを、若干の間隔を有するように重ねて形成されている。なお、以下の記載において
、ワイヤーグリッド偏光子42は、上記2つのワイヤーグリッド偏光子(a,b)の総称
としても用いる。
As shown in FIG. 8B, the
And 2b are stacked so as to have a slight gap. In the following description, the
図8(a)に示すように、第1のワイヤーグリッド偏光子42aは、透明基板53上の
第1の領域51にY方向(すなわち走査線102に直交する方向)に延在するワイヤーグ
リッド41を備えている。そして、第2のワイヤーグリッド偏光子42bは、透明基板5
3上の第2の領域52にY方向に対して反時計回りに略45度の方向に延在するワイヤー
グリッド41を備えている。上記Y方向が第1の方向であり、該Y方向に対して反時計回
りに略45度の方向が第2の方向である。
As shown in FIG. 8A, the first
3 is provided with a
上述したように、第1の領域51は透過表示領域TにY方向において対応する領域であ
り、第2の領域52は反射表示領域RにY方向において対応する領域である。そして、図
8(c)に示すように、第1の領域51と第2の領域52とは、平面視でワイヤーグリッ
ド偏光子42の長手方向に交互に、かつ相補的に形成されている。したがって、第1のワ
イヤーグリッド偏光子42aと第2のワイヤーグリッド偏光子42bとを重ねた場合、第
1の領域51と第2の領域52とは、平面視で互いに重ならず、かつ間隔を有しないよう
に配置される。
As described above, the
かかる配置により、ワイヤーグリッド偏光子42に照射された照射光39は、図示する
ように第1の領域51と第2の領域52のいずれかの領域を透過する。すなわち、第1の
ワイヤーグリッド偏光子42aと第2のワイヤーグリッド偏光子42bとのいずれか備え
るワイヤーグリッド41を透過する。そして、上述のいずれかの領域に形成されているワ
イヤーグリッド41の延在方向に直交する方向に振動する直線偏光となって、マザー基板
Wに照射される。具体的には、第1のワイヤーグリッド偏光子42aが備えるワイヤーグ
リッド41を透過した照射光39は、X方向に振動する第1の直線偏光となり、第2のワ
イヤーグリッド偏光子42bが備えるワイヤーグリッド41を透過した照射光39は、X
方向に対して45度の方向に振動する第2の直線偏光となって、夫々が同時にマザー基板
Wに照射される。
With this arrangement, the
The second linearly polarized light that vibrates in a direction of 45 degrees with respect to the direction is applied to the mother substrate W at the same time.
図6の集光レンズ34に示す矢印の方向が、上述の振動方向である。該振動方向は、図
3に示す透過表示領域Tと反射表示領域Rとにおける、液晶分子LCの初期配向の方向と
一致している。したがって、光源32(図5参照)から紫外線を照射しつつマザー基板W
を(矢印の方向に)搬送すると、マザー基板Wにマトリクス状に配置されている個々の基
板(素子基板10若しくは対向基板11)が有する個々の画素26の透過表示領域Tにお
ける配向膜(第1の配向膜57a若しくは第2の配向膜57b)には走査線102の延在
方向の光配向処理が行なわれ、反射表示領域Rにおける該配向膜には走査線102の延在
方向に対して反時計回りに略45度の方向の光配向処理が、同時に行なわれる。したがっ
て、本実施形態にかかる製造方法によれば、画素26内の透過表示領域Tと反射表示領域
Rとで異なる方向に配向された配向膜57を有する液晶装置を得ることができる。
The direction of the arrow shown in the condensing
(In the direction of the arrow), the alignment film (first film) in the transmissive display region T of each
上述したように、一般的な液晶装置の画素の寸法は数μmから数100μmである。し
たがって、ラビング法を用いた場合、画素26内で異なる方向に配向された配向膜57を
有する液晶装置を得ることは困難である。本実施形態の液晶装置の製造方法によれば、振
動方向が長手方向で微細なピッチで入れ替わる光(紫外線)を同時に照射できるため、上
述の液晶装置、すなわち半透過反射型であり、透過表示領域Tと反射表示領域Rとで配向
方向が異なる配向膜を有する液晶装置を、製造コストの増加を抑制しつつ得ることができ
る。
As described above, the pixel size of a general liquid crystal device is several μm to several 100 μm. Therefore, when the rubbing method is used, it is difficult to obtain a liquid crystal device having the alignment film 57 aligned in different directions within the
また、本実施形態の製造方法はワイヤーグリッド偏光子42を2つのワイヤーグリッド
偏光子42(a,b)を重ねて形成している点も、微細な振動方向が微細なピッチで入れ
替わる光を照射することに寄与している。上述したようにワイヤーグリッド41は干渉露
光を用いて形成されているため、延在方向が交差する2以上のワイヤーグリッド41を同
一の基板上に形成するためには(該偏光子の)製造コストを増加させ得る。本実施形態で
用いたワイヤーグリッド偏光子42は、個々の透明基板53上形成されたワイヤーグリッ
ド41が交差していないため、一般的なワイヤーグリッド偏光子の製造方法をそのまま適
用でき、その点でも好適である。
なお、ワイヤーグリッド偏光子42を構成する2つのワイヤーグリッド偏光子42(a
,b)は、(間隔を空けないように)積層してもよく、間隔を空けて配置してもよい。
Moreover, the manufacturing method of this embodiment also irradiates light in which the fine vibration direction is switched at a fine pitch because the
Note that the two wire grid polarizers 42 (a
, B) may be stacked (so as not to be spaced) or may be spaced apart.
(第2の実施形態)
続いて第2の実施形態について説明する。図9は、第2の実施形態にかかる製造方法で
用いるワイヤーグリッド偏光子42を模式的に示す図である。本実施形態にかかる製造方
法の対象である液晶装置は、図1〜図3に示す液晶装置1と同一である。そして、第1の
実施形態と同様に、図4に示すマザー基板Wに対して偏光を照射する。また、用いる偏光
の照射に用いる装置も図5に示す装置と略同一であり、図6に示すようにマザー基板Wを
搬送して光配向処理を行なう。異なる点はワイヤーグリッド偏光子42のみである。そこ
で、本実施形態の製造方法については、ワイヤーグリッド偏光子42を示す図9のみを用
いて説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment will be described. FIG. 9 is a diagram schematically showing a
図9は、第2の実施形態にかかる製造方法で用いるワイヤーグリッド偏光子42を示す
図である。図9(a)は平面図、図9(b)は図9(a)のB−B’線での断面図である
。図9(a)に示すように本実施形態にかかるワイヤーグリッド偏光子42は、単一の透
明基板53上に互いに延在方向の異なるワイヤーグリッド41が形成されている。透明基
板53のY方向、すなわち光配向処理時に走査線102の延在方向と直交する方向に交互
に区画された第1の領域51と第2の領域52の夫々にワイヤーグリッド41が形成され
ている。ここで「交互」とは、第1の実施形態における第1の領域51及び第2の領域5
2と同様に、互いに重ならず、かつ間隔を有しないように配置されていると言うことであ
る。したがって、光源32(図5参照)により本実施形態にかかるワイヤーグリッド偏光
子42に照射された照射光39(図5参照)は、第1の領域51と第2の領域52のいず
れかの領域を透過する。
FIG. 9 is a diagram showing a
As in 2, it is said that they are arranged so as not to overlap each other and to have no gap. Therefore, the irradiation light 39 (see FIG. 5) irradiated to the
ここで、ワイヤーグリッド偏光子42が有するワイヤーグリッド41の延在方向は、上
述の第1の実施形態のワイヤーグリッド偏光子42と同様である。すなわち、第1の領域
51に形成されたワイヤーグリッド41の延在方向はY方向(すなわち走査線102に直
交する方向)であり第2の領域52に形成されたワイヤーグリッド41の延在方向はY方
向に対して反時計回りに略45度の方向である。したがって、第1の領域51を透過した
照射光39はX方向に振動する第1の直線偏光となり、第2の領域52を透過した照射光
39は、X方向に対して45度の方向に振動する第2の直線偏光となって、夫々が同時に
マザー基板Wに照射される。
Here, the extending direction of the
その結果、第1の実施形態にかかるワイヤーグリッド偏光子42を用いた場合と同様に
、画素26の透過表示領域Tにおける配向膜に対する走査線102の延在方向の光配向処
理と、反射表示領域Rにおける該配向膜にに対する走査線102の延在方向に対して反時
計回りに略45度の方向の光配向処理とが、夫々同時に行われる。したがって、本実施形
態にかかる製造方法によれば、画素26内の透過表示領域Tと反射表示領域Rとで異なる
方向に配向された配向膜57を有する液晶装置を得ることができる。
As a result, as in the case of using the
(第3の実施形態)
続いて第3の実施形態について、図10〜図12を用いて説明する。図10は、第1の
実施形態で用いた図6に相当する図であり、本実施形態、及び後述する第4の実施形態に
かかる光配向処理方法を模試的に示す斜視図である。図6と同様に、光源32と集光鏡3
6と光源32から照射される照射光39とワイヤーグリッド偏光子42と集光レンズ34
とマザー基板Wとを図示している。なお、搬送手段は図示を省略しているが、図5に示す
搬送手段38と同様の搬送手段、すなわちマザー基板WをX方向に搬送可能な搬送手段が
備えられている。
なお、本実施形態にかかる製造方法の対象である液晶装置は、図1〜図3に示す液晶装
置1と同一である。かかる液晶装置1の素子基板10と対向基板11とは、夫々マザー基
板W上にマトリクス状に形成される点も、第1の実施形態と同様である。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is a diagram corresponding to FIG. 6 used in the first embodiment, and is a perspective view schematically showing a photo-alignment processing method according to the present embodiment and a fourth embodiment described later. Similar to FIG. 6, the
6,
And the mother substrate W are illustrated. Although not shown, the transfer means is provided with a transfer means similar to the transfer means 38 shown in FIG. 5, that is, a transfer means capable of transferring the mother substrate W in the X direction.
In addition, the liquid crystal device which is the object of the manufacturing method according to the present embodiment is the same as the
図10に示すように、光源32及び集光鏡36等の構成も、第1の実施形態にかかる光
配向処理方法と類似している。すなわち、光源32はY方向と略一致する長手方向33を
有する長尺状であり、同じく長尺状の集光鏡36の焦点(実際には、焦点がY方向に連続
する線)に位置している。光源32から射出された照射光39は集光鏡36でマザー基板
Wの方向に集められた後、後述する光学素子40により振動方向が異なる2種類の直線偏
光とされ、さらに集光レンズ34によりX方向に絞られる。そして、マザー基板W上のY
方向に延在しX方向の幅が狭い領域に照射される。第1の実施形態にかかる光配向処理方
法と異なる点は、マザー基板Wの透過表示領域Tと反射表示領域Rとの領域毎に異なる直
線偏光を形成する手段である。本実施形態にかかる製造方法では、かかる領域毎に異なる
直線偏光を、ワイヤーグリッド偏光子42と変調素子としての位相変調素子45とを組み
合わせた光学素子40により得ている。図11に、かかる光学素子40の構成を模式的に
示す。
As shown in FIG. 10, the configuration of the
An area extending in the direction and having a narrow width in the X direction is irradiated. The difference from the photo-alignment processing method according to the first embodiment is a means for forming different linearly polarized light for each of the transmissive display area T and the reflective display area R of the mother substrate W. In the manufacturing method according to the present embodiment, linearly polarized light that differs for each region is obtained by the
図11(a)は本実施形態におけるワイヤーグリッド偏光子42の模式平面図であり、
図11(b)は位相変調素子45の模式平面図であり、図11(c)は図11(a)のC
−C’線における光学素子40の模式断面図である。図11(c)に示すように、本実施
形態で用いられる光学素子40は、ワイヤーグリッド偏光子42と変調素子としての位相
変調素子45とを組み合わせたものである。図11ではワイヤーグリッド偏光子42と位
相変調素子45とが積層されるように図示しているが、図10に示すように間隔を空けて
配置することもできる。ただし、ワイヤーグリッド偏光子42が光源32側に位置してい
る必要がある。
FIG. 11A is a schematic plan view of the
FIG. 11 (b) is a schematic plan view of the
It is a schematic cross section of the
本実施形態で用いられるワイヤーグリッド偏光子42は、上述の第2の実施形態で用い
られるワイヤーグリッド偏光子42と同様の構成であり、透明基板53と該透明基板上に
形成されたワイヤーグリッド41とで構成されている。ただしワイヤーグリッド41の延
在方向はY方向のみである。したがって、本実施形態のワイヤーグリッド偏光子42は単
一の直線偏光のみを形成している。本実施形態にかかる光学素子40は、かかる単一の直
線偏光を位相変調素子45により第1の領域51と第2の領域52(図11(b)参照)
毎に異なる方向の直線偏光にしている。
The
Different directions are linearly polarized light.
図11(b)に示すように、位相変調素子45は、平面視で、複屈折性を有する領域(
以下、「複屈折性領域」と称する。)61と光学的に等方性を有する領域(以下、「等方
性領域」と称する。)62とがY方向に隣り合う構成を有しているここで、複屈折性領域
61は上述の第2の領域52に対応する領域であり、等方性領域62は上述の第1の領域
51に対応する領域である。
As shown in FIG. 11B, the
Hereinafter, it is referred to as a “birefringent region”. ) 61 and an optically isotropic region (hereinafter referred to as “isotropic region”) 62 are adjacent to each other in the Y direction. The
図11(c)に示すように、位相変調素子45は、シール材14を介して対向配置され
た一対の透明基板53と該一対の透明基板間に充填された重合性液晶層(重合性液晶材料
を紫外線等で硬化させて配向状態を固定化した層)56とを備えている。透明基板53と
重合性液晶層56との間には配向膜(不図示)が形成されている。該(一対の)配向膜の
配向方向は同一である。そして、該重合性液晶層は、複屈折性領域61においては所定の
方向に配向された状態で硬化されて複屈折性層63となっており、等方性領域62におい
ては、ランダムに配向された状態で硬化されて等方性層64となっている。
As shown in FIG. 11C, the
かかる重合性液晶層の領域毎の配向は、サーマルパターニングによって形成されている
。上記一対の透明基板53間に重合性液晶材料を充填すると、該液晶材料は上記一対の配
向膜の配向方向に沿って配向される。かかる状態で、複屈折性領域61のみに選択的に紫
外線を照射すると、該領域の重合性液晶材料は上記一対の配向膜により付与された配向状
態を保ちつつ硬化されて複屈折性層63となる。次に、充填された重合性液晶材料を加熱
する。すると上記一対の配向膜の配向規制力にもかかわらず、未硬化状態である等方性領
域62の重合性液晶材料はランダムな配向となる。かかる状態を保ちつつ再度紫外線を照
射すると、該等方性領域に等方性層64が形成される。かかる複屈折性層63と等方性層
64とにより、位相変調素子45は該2つ(2種類)の領域で、互いに異なる方向に振動
する直線偏光を生成できる。
The alignment for each region of the polymerizable liquid crystal layer is formed by thermal patterning. When a polymerizable liquid crystal material is filled between the pair of
図12は、かかる複屈折性層63の配向方向と、該配向で得られる直線偏光の振動方向
等を示す図である。図12において図示する4方向は、ワイヤーグリッド41の延在方向
(すなわちY方向)81と、位相変調素子45に照射される第1の直線偏光の振動方向8
2と、複屈折性層63における重合性液晶層56の配向方向83と、複屈折性領域61に
形成されている複屈折性層63(図11)参照において生成される第2の直線偏光の振動
方向84、である。
FIG. 12 is a diagram showing the orientation direction of the
2, the
上述したようにワイヤーグリッド41の延在方向81はY方向であるため、位相変調素
子45に照射される直線偏光の振動方向82はX方向となる。重合性液晶層56の配向方
向83は、X方向に対して22.5度すなわちワイヤーグリッド41の延在方向に対して
67.5度傾いている。ここで、重合性液晶層56の配向方向83は、重合性液晶層56
を挟持する上述の一対の配向膜の配向方向でもある。
Since the extending
It is also the alignment direction of the above-mentioned pair of alignment films that sandwich the film.
複屈折性層63における重合性液晶層56の層厚は、複屈折値Δn・dがλ/2となる
ように設定されている。したがって、複屈折性層63において生成される第2の直線偏光
の振動方向84は、位相変調素子45に照射される直線偏光の振動方向82に対して45
度の角度を有する方向となる。
The layer thickness of the polymerizable
The direction has an angle of degrees.
上述したように、複屈折性層63が形成されている複屈折性領域61は、光学素子40
の第2の領域52に対応する領域であり、該第2の領域は、図4に示す反射表示領域Rに
対応する領域である。したがって、本実施形態にかかる光学素子40を用いると、マザー
基板W(図4参照)の反射表示領域Rに、X方向すなわち走査線102の延在方向に対し
て反時計回りに45度の角度を有する配向を形成できる。
As described above, the
The second region is a region corresponding to the reflective display region R shown in FIG. Therefore, when the
一方、等方性層64が形成されている等方性領域62は、上述したように光学素子40
の第1の領域51に対応する領域であり、該第1の領域は、図4に示す透過表示領域Tに
対応する領域である。また、等方性層64に照射された光は、振動方向を初期の状態、す
なわちX方向に保ったままで、該等方性層を透過する。したがって、等方性領域62にお
いて生成される第1の直線偏光は、X方向となる。
On the other hand, the
The
上述したように、等方性性層64が形成されている等方性性領域62は、光学素子40
の第1の領域51に対応する領域であり、該第1の領域は、図4に示す透過表示領域Tに
対応する領域である。したがって、本実施形態にかかる光学素子40を用いると、マザー
基板W(図4参照)の透過表示領域Tに、X方向すなわち走査線102の延在方向の配向
を形成できる。
As described above, the
The
上述したように、マザー基板Wは、個々の液晶装置が備える一対の基板(素子基板10
又は対向基板11)の夫々の集合体である。したがって、本実施形態にかかる光学素子4
0を用いて、図10に示すようにマザー基板Wに形成された配向膜57に光配向処理を行
なうと、該配向膜のY方向に微細(数μm〜数百μm)なピッチで設定された、帯状の透
過表示領域Tと反射表示領域Rの双方に夫々必要とされる方向の配向を、同時に形成でき
る。
As described above, the mother substrate W is a pair of substrates (element substrate 10) included in each liquid crystal device.
Alternatively, each of the counter substrates 11). Therefore, the optical element 4 according to the present embodiment.
When the alignment film 57 formed on the mother substrate W is subjected to a photo-alignment process using 0 as shown in FIG. 10, it is set at a fine pitch (several μm to several hundreds μm) in the Y direction of the alignment film. In addition, the orientations in the directions required for both the band-like transmissive display region T and the reflective display region R can be simultaneously formed.
本実施形態にかかる製造方法で用いる光学素子40は、第1及び第2の実施形態で用い
られるワイヤーグリッド偏光子42のみで構成された光学素子40と同様の機能を有する
ものである。そして、微細なピッチで区画される領域毎で異なる方向の配向処理を実施で
きる点で共通している。しかし、ワイヤーグリッド41の延在方向が単一であるため、ワ
イヤーグリッド偏光子42の形成が容易であるという利点を有している。
位相変調素子45は通常のフォトリソグラフィー法を用いて形成できるため、微細なパ
ターニングを容易に行なえる。したがって、本実施形態にかかる製造方法によれば、半透
過反射型の液晶装置のように画素内に異なる方向の配向処理が必要な液晶装置を製造する
にあたって、より一層高精細な液晶装置を製造できる。
The
Since the
(第4の実施形態)
続いて第4の実施形態について説明する。
本実施形態にかかる製造方法の対象である液晶装置は、(第3の実施形態にかかる製造
方法と同様に、)図1〜図3に示す液晶装置1と同一である。また、本実施形態にかかる
光配向処理方法は、図10に示す第3の実施形態にかかる光配向処理方法と略同一である
。すなわち、光源32、集光レンズ34、集光鏡36等の構成,及び配置の態様も、図1
0に示す第3の実施形態にかかる光配向処理方法と類似している。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment will be described.
The liquid crystal device that is the target of the manufacturing method according to the present embodiment is the same as the
This is similar to the photo-alignment processing method according to the third embodiment shown in FIG.
本実施形態にかかる製造方法は、かかる構成により、光源32から射出される照射光3
9を光学素子40により互いに振動方向が異なる2種類の直線偏光としている。そして、
Y方向(走査線102の延在方向に直交する方向)に隣り合う領域マザー基板W上の2つ
の領域、すなわち透過表示領域Tと反射表示領域Rとで(図4参照)、夫々の直線偏光を
照射している。第3の実施形態にかかる光配向処理方法と異なる点は、光学素子40の構
成のみである。(各符号については図6参照)そこで、本実施形態の電気光学装置の製造
方法については、光学素子40についてのみ、説明する。
In the manufacturing method according to the present embodiment, the irradiation light 3 emitted from the
9 is two types of linearly polarized light having different vibration directions by the
In the two regions on the mother substrate W adjacent to each other in the Y direction (the direction orthogonal to the extending direction of the scanning line 102), that is, the transmissive display region T and the reflective display region R (see FIG. 4), each linearly polarized light Is being irradiated. The difference from the photo-alignment processing method according to the third embodiment is only the configuration of the
図13は、第4の実施形態にかかる製造方法で用いる光学素子40を模式的に示す図で
ある。図13(a)は第1の透明基板53a上に形成された領域駆動電極68を示す図、
図13(b)は第2の透明基板53b上に形成された共通駆動電極67を示す図、図13
(c)は図13(a)のD−D’線における断面図、そして図13(d)は液晶素子46
を構成する一対の透明基板の液晶層(後述する変調素子液晶層49)側に形成された配向
膜(不図示)の配向方向を示す図である。
FIG. 13 is a diagram schematically showing an
FIG. 13B is a diagram showing the
FIG. 13C is a cross-sectional view taken along the line DD ′ of FIG. 13A, and FIG.
2 is a diagram showing the alignment direction of an alignment film (not shown) formed on the liquid crystal layer (modulation element
本実施形態の製造方法で用いられる光学素子40は、上述の第3の実施形態で用いられ
る光学素子40と類似したものである。すなわち、ワイヤーグリッド偏光子42と変調素
子とを、ワイヤーグリッド偏光子42が光源32(図5参照)側に位置するように組み合
わせたものである。ただし変調素子として、偏光変調機能を有する液晶素子46を用いて
いる点で、上述の第3の実施形態にかかる電気光学装置の製造方法とは異なっている。
The
図13(c)に示すように、ワイヤーグリッド偏光子42の構成も上述の第3の実施形
態で用いられるワイヤーグリッド偏光子42と同様であり、透明基板53と該透明基板上
に形成されたY方向に延在するワイヤーグリッド41とで構成されている。ワイヤーグリ
ッド偏光子42は単一の直線偏光のみを形成しており、該単一の直線偏光を液晶素子46
により2つの領域(第1の領域51と第2の領域52)毎に異なる方向の直線偏光(第1
の直線偏光と第2の直線偏光)にしている。
As shown in FIG. 13C, the configuration of the
The linearly polarized light in the different direction for each of the two regions (the
Linearly polarized light and second linearly polarized light).
液晶素子46は、図13(c)に示すように、シール材14を介して対向するように貼
り合わされた第1の透明基板53aと第2の透明基板53bとの一対の透明基板53と、
該一対の透明基板間に挟持されたTN型の液晶層である変調素子液晶層49と、該一対の
透明基板の変調素子液晶層49側に形成された一対の電極等からなる。
As shown in FIG. 13C, the
The modulation element
上述の一対の電極のうち、第1の透明基板53aに形成された電極が領域駆動電極68
であり、該領域駆動電極と変調素子液晶層49を挟んで対向する電極が共通駆動電極67
である。領域駆動電極68は、第1の領域51と第2の領域52の夫々に対応するように
、かつ互いに若干の間隔を空けて形成されている。上記双方の電極と透明基板53の間、
すなわち第1の透明基板53aと領域駆動電極68との間、及び第2の透明基板53bと
共通駆動電極67との間には配向膜(不図示)が形成されている。かかる一対の配向膜の
配向方向を、ワイヤーグリッド41の延在方向81等と共に図13(d)に示す。
Of the pair of electrodes described above, the electrode formed on the first
The electrode that faces the region driving electrode with the modulation element
It is. The
That is, an alignment film (not shown) is formed between the first
図13(d)に示すように、ワイヤーグリッド41の延在方向81はY方向であり、該
グリッドを透過して液晶素子46に照射される直線偏光の振動方向85はX方向である。
第1の透明基板53aの配向膜の配向方向はX方向であり、第2の透明基板53bの配向
膜の配向方向はX方向から反時計回りに45度傾いた方向である。したがって、変調素子
液晶層49に含有されている液晶分子は、上述の一対の電極間に電圧が印加されていない
ときは、ワイヤーグリッド偏光子42側から見て、反時計回りに45度回転するように配
向される。かかる配向の領域に直線偏光が照射されると、該偏光は振動方向が反時計回り
に45度回転した状態で集光レンズ34に向けて射出される。一方、上述の一対の電極間
に電圧が印加されている場合、変調素子液晶層49に含有されている液晶分子はZ方向す
なわち配向膜に垂直に配置される。かかる配向の領域に照射された直線偏光は振動方向を
初期の状態に保ったままで、集光レンズ34に向けて射出される。
As shown in FIG. 13D, the extending
The alignment direction of the alignment film of the first
上述したように、領域駆動電極68は第1の領域51と第2の領域52との夫々に対応
するように形成(パターニング)されている。したがって、第1の領域51に形成された
領域駆動電極68と共通駆動電極67との間に電圧を印加し、第2の領域52に形成され
た領域駆動電極68と共通駆動電極67との間に電圧を印加しない状態で光学素子40に
光源32から照射光39を照射すると、照射光39はマザー基板Wに向けて、以下のよう
に照射される。
As described above, the
まず、光学素子40の第1の領域51を透過した光は、透過前の振動方向すなわちX方
向(すなわち走査線102の延在方向)の振動を保つ第1の直線偏光となり、集光レンズ
34を介してマザー基板Wの透過表示領域Tに照射される。そして、該マザー基板Wの光
源32側の表面の該透過表示領域に形成されている配向膜57(図1(b)参照)にX方
向、すなわち走査線102の延在方向の配向を付与する。
First, the light transmitted through the
一方、光学素子40の第2の領域52を透過した光は透過前の振動方向、すなわちX方
向、から反時計回りに45度回転した方向の振動を有する第2の直線偏光となり、集光レ
ンズ34を介してマザー基板Wの反射表示領域Rに照射される。そして該マザー基板Wの
光源32側の表面の該反射表示領域に形成されている配向膜57に、走査線102の延在
方向からY方向(すなわちデータ線104の延在方向)に向けて反時計回りに45度回転
した方向の配向を付与する。
On the other hand, the light transmitted through the
上述したように、マザー基板Wは、個々の液晶装置が備える一対の基板(素子基板10
又は対向基板11)の夫々の集合体である。したがって、本実施形態にかかる光学素子4
0を用いて、図10に示すようにマザー基板Wに形成された配向膜に光配向処理を行なう
と、該配向膜のY方向に微細(数μm〜数百μm)なピッチで設定された帯状の透過表示
領域Tと反射表示領域Rの双方に夫々必要とされる方向の配向を同時に形成できる。
As described above, the mother substrate W is a pair of substrates (element substrate 10) included in each liquid crystal device.
Alternatively, each of the counter substrates 11). Therefore, the optical element 4 according to the present embodiment.
When the alignment film formed on the mother substrate W was subjected to a photo-alignment process using 0, the pitch was set at a fine pitch (several μm to several hundreds μm) in the Y direction of the alignment film. Orientations in the required directions can be simultaneously formed in both the band-like transmissive display region T and the reflective display region R.
本実施形態にかかる製造方法で用いる光学素子40は、第3の実施形態で用いられる光
学素子40と同様に、ワイヤーグリッド偏光子42と変調素子とを組み合わせて構成され
ている。異なる点は、変調素子として重合性液晶ではなくTN型の液晶を有する液晶素子
46を用いている点にある。かかる液晶素子は印加する領域駆動電極68の選択により、
任意の領域に、走査線102に対して角度を有する方向の光配向処理を行なうことができ
る。したがって、1つの光学素子40を用いて異なるパターニングの光配向処理を行なう
ことができ、製造効率等を向上できる。
Similar to the
Optical alignment processing in a direction having an angle with respect to the
(変形例1)
上述の第4の実施形態で用いた液晶素子46には、領域駆動電極68が、第1の領域5
1と第2の領域52の双方に対応するように形成されていた。しかし、第2の領域52に
対応する領域駆動電極68には電圧を印加しない場合は、該領域に対応する領域駆動電極
68を形成せずに構成を簡略化することもできる。図14はかかる変形例1の液晶素子4
6を示す図である。図示するように、第1の領域51に対応する領域駆動電極68のみを
形成することで構造を簡略化して、液晶素子46の製造コスト、及び該液晶素子を備える
光学素子40の製造コストを低減している。なお、図14において、図13に示す液晶素
子46の構成要素と共通する要素には同一の符号を付与異説明の記載は一部省略している
。
(Modification 1)
In the
It was formed so as to correspond to both the first and
FIG. As shown in the figure, the structure is simplified by forming only the
(変形例2)
上述の第4の実施形態で用いた液晶素子46には、領域駆動電極68が、第1の領域5
1と第2の領域52の双方に、1対1で対応するように形成されていた。しかし上述の各
領域毎に複数の領域駆動電極を形成することもできる。図15に示す液晶素子は、かかる
変形例2の液晶素子46を示す図である。図示するように、各領域毎に2つの領域駆動電
極68を形成しており、画素26(図3等参照)のピッチが1/2となるように微細化さ
れた液晶装置にも対応できる。各領域毎に3つ以上の領域駆動電極68を形成することも
できる。なお、図15において、図13に示す液晶素子46の構成要素と共通する要素に
は同一の符号を付与異説明の記載は一部省略している点は、上述の変形例1と同様である
。
(Modification 2)
In the
The first and
(変形例3)
上述の第1〜第4の実施形態では、マザー基板W上に形成された配向膜57に対して偏
光を照射する態様を示した。しかし、マザー基板Wを用いずに配向膜のみを搬送する態様
も可能である。ロール状の配向膜と該配向膜の巻き取り機構を用いることにより、配向膜
のみを光源32から照射される紫外線が照射される領域を通過させて光配向処理を行なう
ことができる。
(Modification 3)
In the above-described first to fourth embodiments, the mode in which the alignment film 57 formed on the mother substrate W is irradiated with polarized light has been described. However, an embodiment in which only the alignment film is transported without using the mother substrate W is also possible. By using the roll-shaped alignment film and the winding mechanism of the alignment film, the alignment process can be performed by passing only the alignment film through the region irradiated with the ultraviolet rays irradiated from the
(変形例4)
上述の各実施形態では、配向膜に形成される配向の方向は2種類であった。しかし、3
種類以上の方向の配向を付与することも可能である。第1の実施形態では、夫々異なる方
向に延在するワイヤーグリッド41が形成された透明基板を3枚重ねたワイヤーグリッド
偏光子42を用いることで、配向膜に3種類の方向の配向を付与することができる。第2
の実施形態では、ワイヤーグリッド41の延在方向を3種類とすることで、配向膜に3種
類の方向の配向を付与することができる。第3の実施形態では、複屈折性領域61を、該
領域を構成する重合性液晶の配向方向が互いに異なる2種類の領域とすることで、配向膜
に3種類の方向の配向を付与することができる。
(Modification 4)
In each of the embodiments described above, there are two types of alignment directions formed in the alignment film. But 3
It is also possible to provide orientations in more than one direction. In the first embodiment, by using a
In the embodiment, the alignment direction of the
1…電気光学装置としての液晶装置、10…素子基板、11…対向基板、14…シール
材、15…ドライバIC、20…TFT(薄膜トランジスタ)、20c…コンタクトホー
ル、21…画素電極、22…共通電極、22t…透明共通電極、22r…反射共通電極、
23…スリット、24…帯状部、26…画素、32…光源、33…長手方向、34…集光
レンズ、36…集光鏡、38…搬送手段、39…照射光、40…光学素子、41…ワイヤ
ーグリッド、42…ワイヤーグリッド偏光子、42a…第1のワイヤーグリッド偏光子、
42b…第2のワイヤーグリッド偏光子、45…変調素子としての位相変調素子、46…
変調素子としての液晶素子、47…第1の偏光板、48…第2の偏光板、49…変調素子
液晶層、51…第1の領域、52…第2の領域、53…透明基板、53a…第1の透明基
板、53b…第2の透明基板、55…液晶層、56…重合性液晶層、57…配向膜、57
a…第1の配向膜、57b…第2の配向膜、61…複屈折性領域、62…等方性領域、6
3…複屈折性層、64…等方性層、67…共通駆動電極、68…領域駆動電極、81…グ
リッドの延在方向、82…位相変調素子に照射される直線偏光の振動方向、83…複屈折
性層における重合性液晶層の配向方向、84…複屈折性層において生成される直線偏光の
振動方向、85…液晶素子に照射される直線偏光の振動方向、100…画像形成領域、1
02…走査線、104…データ線、106…共通線、112…走査線駆動回路、114…
データ線駆動回路、LC…液晶分子、R…反射表示領域、T…透過表示領域、W…板状部
材としてのマザー基板。
DESCRIPTION OF
DESCRIPTION OF
42b ... second wire grid polarizer, 45 ... phase modulation element as modulation element, 46 ...
Liquid crystal element as a modulation element, 47: first polarizing plate, 48: second polarizing plate, 49: liquid crystal layer of modulation element, 51: first region, 52: second region, 53: transparent substrate, 53a ... 1st transparent substrate, 53b ... 2nd transparent substrate, 55 ... Liquid crystal layer, 56 ... Polymerizable liquid crystal layer, 57 ... Alignment film, 57
a ... first alignment film, 57b ... second alignment film, 61 ... birefringent region, 62 ... isotropic region, 6
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 ... Birefringent layer, 64 ... Isotropic layer, 67 ... Common drive electrode, 68 ... Area drive electrode, 81 ... Extension direction of a grid, 82 ... Vibration direction of the linearly polarized light irradiated to a phase modulation element, 83 ... orientation direction of polymerizable liquid crystal layer in birefringent layer, 84 ... vibration direction of linearly polarized light generated in birefringent layer, 85 ... vibration direction of linearly polarized light irradiated to liquid crystal element, 100 ... image forming region, 1
02 ...
Data line driving circuit, LC ... liquid crystal molecule, R ... reflective display region, T ... transmissive display region, W ... mother substrate as plate member.
Claims (7)
子から出射された直線偏光の光を、搬送手段の搬送面に載置された配向膜を有する板状部
材に照射して光配向処理を行なう電気光学装置の製造方法であって、
前記光源は長手方向を有して光を照射するとともに、前記ワイヤーグリッド偏光子は、
前記長手方向に隣り合うように配置された第1の方向に延在するワイヤーグリッドを備え
た第1の領域と前記第1の方向とは異なる第2の方向に延在するワイヤーグリッドを備え
た第2の領域とを有しており、
前記ワイヤーグリッド偏光子の前記第1の領域から出射された第1の偏光と、前記ワイ
ヤーグリッド偏光子の前記第2の領域から出射された前記第1の偏光と偏光方向が異なる
第2の偏光とを夫々、前記配向膜を有した前記板状部材上の異なる領域に同時に照射して
光配向処理を行なうことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 Light emitted from a light source is incident on a wire grid polarizer, and linearly polarized light emitted from the wire grid polarizer is applied to a plate-like member having an alignment film placed on the transport surface of the transport means. An electro-optical device manufacturing method for performing optical alignment processing,
The light source has a longitudinal direction and emits light, and the wire grid polarizer is
A first region having a wire grid extending in a first direction and arranged adjacent to the longitudinal direction and a wire grid extending in a second direction different from the first direction are provided. A second region,
The first polarized light emitted from the first region of the wire grid polarizer and the second polarized light having a polarization direction different from that of the first polarized light emitted from the second region of the wire grid polarizer. And an optical alignment process by simultaneously irradiating different regions on the plate-like member having the alignment film.
前記ワイヤーグリッド偏光子は、前記第1の方向に延在したワイヤーグリッドが前記第
1の領域に対応して選択的に設けられた第1のワイヤーグリッド偏光子と、該第1のワイ
ヤーグリッド偏光子に重ねられ、前記第2の方向に延在したワイヤーグリッドが前記第2
の領域に対応して選択的に設けられた第2のワイヤーグリッド偏光子と、を有して構成さ
れていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 A method of manufacturing the electro-optical device according to claim 1,
The wire grid polarizer includes a first wire grid polarizer in which a wire grid extending in the first direction is selectively provided corresponding to the first region, and the first wire grid polarization. A wire grid overlaid on the child and extending in the second direction is the second
And a second wire grid polarizer that is selectively provided corresponding to the area of the electro-optical device.
前記ワイヤーグリッド偏光子は、同一基板上に前記第1の領域と前記第2の領域とが配
置されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 A method of manufacturing the electro-optical device according to claim 1,
In the wire grid polarizer, the first region and the second region are arranged on the same substrate.
子から出射された直線偏光の光を変調素子を介して、搬送手段の搬送面に載置された配向
膜を有する板状部材に照射して光配向処理を行なう電気光学装置の製造方法であって、
前記光源は長手方向を有して光を照射するとともに、前記変調素子は、前記長手方向に
隣り合うように配置された複屈折性の異なる第1の領域と第2の領域とを有しており、
前記変調素子の前記第1の領域から出射された第1の偏光と、前記変調素子の前記第2
の領域から出射された前記第1の偏光と偏光方向が異なる第2の偏光とをそれぞれ、前記
配向膜を有した前記板状部材上の異なる領域に同時に照射して光配向処理を行なうことを
特徴とする電気光学装置の製造方法。 The light irradiated from the light source is incident on the wire grid polarizer, and the linearly polarized light emitted from the wire grid polarizer has an alignment film placed on the transport surface of the transport means via the modulation element. A method of manufacturing an electro-optical device that irradiates a plate-like member and performs optical alignment treatment,
The light source has a longitudinal direction to irradiate light, and the modulation element has a first region and a second region having different birefringence arranged adjacent to the longitudinal direction. And
A first polarized light emitted from the first region of the modulation element; and the second polarization of the modulation element.
The first polarized light emitted from the first region and the second polarized light having a different polarization direction are simultaneously irradiated to different regions on the plate-like member having the alignment film to perform a photo-alignment process. A method for manufacturing an electro-optical device.
前記変調素子は、前記第1の領域が光学的に等方性を有し、前記第2の領域が複屈折性
を有する位相変調素子であり、前記ワイヤーグリッド偏光子を透過した偏光を、前記第1
の領域において偏光方向を変えずに前記第1の偏光として出射し、前記第2の領域におい
て偏光方向を変えて前記第2の偏光として出射することを特徴とする電気光学装置の製造
方法。 A method for manufacturing the electro-optical device according to claim 4,
The modulation element is a phase modulation element in which the first region has optical isotropy and the second region has birefringence, and the polarized light transmitted through the wire grid polarizer is First
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the first polarized light is emitted without changing the polarization direction in the region, and is emitted as the second polarized light with the polarization direction changed in the second region.
前記複屈折性を有する領域は重合性液晶を硬化させることにより形成されていることを
特徴とする電気光学装置の製造方法。 A method for manufacturing the electro-optical device according to claim 5,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the birefringent region is formed by curing a polymerizable liquid crystal.
前記変調素子は、第1の基板と、前記第1の基板とシール材を介して貼り合わされた第
2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間で前記シール材によって囲まれた領
域内に充填された液晶層と、前記液晶層に電圧を印加する電極と、を備える液晶素子であ
り、
前記液晶層の配向状態を前記長手方向に隣り合う領域毎に変化させることにより、偏光
方向の異なる偏光をそれぞれ、前記配向膜を有した前記板状部材上の異なる領域に同時に
照射して光配向処理を行なうことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 A method for manufacturing the electro-optical device according to claim 4,
The modulation element includes a first substrate, a second substrate bonded to the first substrate via a sealing material, and the sealing material between the first substrate and the second substrate. A liquid crystal element comprising: a liquid crystal layer filled in an enclosed region; and an electrode for applying a voltage to the liquid crystal layer,
By changing the alignment state of the liquid crystal layer for each region adjacent in the longitudinal direction, different alignment directions on the plate-shaped member having the alignment film are simultaneously irradiated with polarized light having different polarization directions to perform photo-alignment. A method for manufacturing an electro-optical device, characterized by performing processing.
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