JP2010087204A - 透明導電膜のパターニング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材1の両面に透明電極層2,3が形成された透明導電膜のパターニングにおいて、YAGまたはYVO4レーザー4の基本波または第2高調波を用いることで、片面のみの精度の高いパターニングが可能となる。
【選択図】図1
Description
(A)レーザー源が、イットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)レーザーまたはイットリウム・バナジウムオキサイド(YVO4)レーザーの第2高調波である。
(B)レーザーの仕事率が0.2〜0.6Wである。
(C)パターニングはレーザー入射面あるいは入射とは反対の面のいずれか片面行う。
(D)(A)〜(C)によりパターニングされた線幅が8〜30μmである。
(A)レーザー源が、イットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)レーザーまたはイットリウム・バナジウムオキサイド(YVO4)レーザーの第2高調波である。
(B)レーザーの仕事率が0.2〜0.6Wである。
(C)パターニングはレーザー入射面あるいは入射とは反対の面のいずれか片面行う。
(D)(A)〜(C)によりパターニングされた線幅が8〜30μmである。
本発明にかかる透明電極層2およびは、マグネトロンスパッタリング法により本発明に必要な透明導電酸化物層2を形成することができる。マグネトロンスパッタリングの際の電源は直流電源や高周波(RF、VHF)等の電源を使用することができる。
シクロオレフィンポリマーフィルム(商品名ゼオノアフィルムZF−14、膜厚0.1mm、日本ゼオン社製)に、透明電極層をマグネトロンスパッタリング製膜した。ターゲットとしては、インジウム−錫複合酸化物(ITO:酸化錫10重量%)(実施例1)、2.0重量%の酸化アルミニウムが添加された酸化亜鉛(実施例2)を使用し、アルゴンガスを20sccm流しながら、圧力を0.2Paに調整し、8W/cm2のパワー密度をかけて50nmの膜厚を製膜した。電源は高周波電源(周波数:13.56MHz)を使用した。透明電極層はフィルムの両面に同じ条件で製膜し、パターニング前の透明導電膜を作製した。
実施例1と同様にして作製した透明導電膜に対して、YVO4レーザー(第2高調波:波長=532nm)を用いて実施例1と同様にZ軸調整と強度調整を行ってパターニングを実施した。
実施例1と同様にして作製した透明導電膜に対して、YAGレーザー(第3高調波:波長=355nm)を用いて実施例1と同様にZ軸調整と強度調整を行ってパターニングを実施した。
2 透明電極層
3 透明電極層
4 レーザー
5 集光レンズ
Claims (3)
- 透明基材の両面に透明電極層が形成された透明導電膜のパターニング方法において、パターニングが以下の(A)〜(D)の条件により施されることを特徴とする透明導電膜のパターニング方法。
(A)レーザー源が、イットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)レーザーまたはイットリウム・バナジウムオキサイド(YVO4)レーザーの第2高調波である。
(B)レーザーの仕事率が0.2〜0.6Wである。
(C)パターニングはレーザー入射面あるいは入射とは反対の面のいずれか片面行う。
(D)(A)〜(C)によりパターニングされた線幅が8〜30μmである。 - 上記透明電極層が酸化亜鉛を主成分とする透明導電酸化物層であることを特徴とする、請求項1に記載の透明導電膜のパターニング方法。
- 上記透明電極層が酸化インジウムを主成分とする透明導電酸化物層であることを特徴とする、請求項1に記載の透明導電膜のパターニング方法。
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