JP2010085519A - 位相差フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ヘイズの値が０．５以下であり、５０ｎｍ以上であるＲｅを有する位相差フィルムを製造する。
【解決手段】ドープを流延ドラムに流延する。この流延ドラムにより流延膜を冷却する。流延膜を固化する。溶媒が多く含まれた状態の流延膜をフィルム１２として剥ぎ取る。フィルム１２をテンタ１５で乾燥する。溶媒残留率が６０重量％となるまでフィルム１２を乾燥する。溶媒残留率が１０重量％になるまで、温度が１０５℃以下の気体を吹き付けてフィルム１２を乾燥する。溶媒残留率が１０重量％のフィルム１２のセルロースアシレートのガラス転移点をＴｇ℃とする。フィルム１２が（Ｔｇ＋１０）℃以上（Ｔｇ＋６０）℃以下の温度範囲のときにフィルム１２を拡幅して、位相差フィルム１４を得る。
【選択図】図３

Description

本発明は、偏光板に用いられる位相差フィルムの製造方法に関する。

位相差フィルムは、液晶ディスプレイにおける液晶層の位相差と合わせることにより、液晶層を通過した後の楕円偏光を直線偏光に近い状態へ変換するものである。そして、液晶層の位相差は一律ではない。そこで、用いる液晶層に応じて、組み合わせるべき位相差フィルムを選択する必要がある。

このため、位相差フィルムには、様々な光学特性が要求される。光学特性として、液晶ディスプレイに高い正面コントラストを発現させ、かつ、５０ｎｍ以上という高いＲｅを発現する位相差フィルムが特に求められている。

Ｒｅは、フィルムの厚み方向に直交する方向、すなわちフィルムの面方向におけるレタデーション値（単位；ｎｍ）であり、以下の式（１）により求められる。Ｒｔｈは、フィルムの厚み方向におけるレタデーション値であり、以下の式（２）により求められる。Ｎｘは位相差フィルムの面での遅相軸方向であるＸ軸における屈折率、Ｎｙは進相軸方向であるＹ軸における屈折率、Ｎｚはフィルムの厚み方向Ｚ軸における屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である。
Ｒｅ＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ ・・・（１）
Ｒｔｈ＝｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｝×ｄ ・・・（２）

正面コントラストとは、液晶ディスプレイを正面から見たときに、その液晶ディスプレイの最も明るい部分（白）と暗い部分（黒）との輝度の比をいう。正面コントラストは、位相差フィルムが透明であるほど高くなることが知られている。

一般に、位相差フィルムの透明性を表す値としてヘイズ値がある。ヘイズ値は小さくなるほど、フィルムの透明性が高いことを示す。従って、小さいヘイズ値を有する位相差フィルムを液晶ディスプレイで使用したときには、その液晶ディスプレイの正面コントラストは高くなる傾向がある。正面コントラストを高くすることについては、これまでも重視されてきたが、最近では、その目標レベルが一層高まってきており、位相差フィルムの透明性のレベルを従来よりも更に高めることが求められるようになってきた。求められる透明性のレベルは、ヘイズ値で１前後という従来のレベルよりも非常に小さい０．５以下といわれている。

ヘイズ値は、透明なフィルムの内部又は表面のくもり様の度合いを意味し、以下の式（３）により求められる。ヘイズの試験方法では、フィルムの光線透過率が測定される。Ｔｈはヘイズ値、Ｔｄは散乱光線透過率、Ｔｔは全光線透過率である。
Ｔｈ＝１００×（Ｔｄ／Ｔｔ） ・・・（３）

位相差フィルムとされるポリマーフィルムには、様々なものがあり、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルメタクリレートのフィルムが例として挙げられる。これらのフィルムは、溶液製膜方法と溶融製膜方法との少なくともいずれか一方で製造される。長尺の位相差フィルムを製造する場合には、例えば長尺のポリマーフィルムの側端部をクリップ等の保持手段により保持して、幅方向に張力を付与して幅を広げ、Ｒｅを上昇させる。このような拡幅により、Ｒｅを上昇させるとともにヘイズの調整を行うこともある。

上記のようなポリマーフィルムのうちセルロースアシレートフィルムは、主に溶液製膜方法で製造される。溶液製膜方法は、周知のように、ポリマーを溶媒に溶かしたポリマー溶液（以下、ドープと称する）を、ドラムあるいはバンドのような支持体に流延して流延膜とし、この流延膜を支持体から剥がして乾燥することによりフィルムをつくる方法である。位相差フィルムを用途とする場合には、上記のような拡幅を、溶液製膜の過程で、あるいは、溶液製膜で製造されたセルロースアシレートフィルムに対して行う。

延伸工程を溶液製膜の過程で実施する場合には、セルロースアシレートフィルムの溶媒残留率が極めて小さくなってから拡幅工程を行うことが多い。これは、溶媒残留率が高いうちに拡幅してもＲｅを上昇させる効果が小さいからである。例えば、特許文献１では、溶媒残留率が１０〜１００質量％以下であるセルロースアシレートフィルムに対して、延伸後の幅が延伸前の幅の１．０〜４．０倍となるように延伸工程を実施し、これによりＲｅが３０〜３００ｎｍであるセルロースアシレートフィルムが得られるとしている。

特許文献２には、流延膜を溶媒残留率が７０〜１６０質量％の範囲になるまで乾燥してからセルロースアシレートフィルムとして剥がし、溶媒残留率が１０〜５０質量％の範囲になるまでこのセルロースアシレートフィルムを乾燥してから延伸し始める方法が提案されている。この方法は２回の延伸工程を有し、２回目の延伸工程は、溶媒残留率が５質量％以下のセルロースアシレートフィルムに対して実施している。

また、少なくとも２つの芳香族環を有する芳香族化合物をドープに含ませて、セルロースアシレートからなる位相差フィルムを製造する方法も提案されている（例えば、特許文献３参照）。このように、添加によりレタデーションを上昇させて位相差を発現させるものはレタデーション上昇剤と呼ばれる。
特開２００２−１８７９６０号公報 特開２００２−３１１２４５号公報 国際公開第００／６５３８４号パンフレット

Ｒｅを高くするためには、延伸による拡幅率を大きくすればよい。しかし、拡幅率を大きくするほど、フィルムに空隙が生じ、更には、この空隙がクレイズ、すなわち割れ目になってしまうことがある。空隙やクレイズには、目視では明確に確認されなくても光学顕微鏡で観察すると確認できるようなものもある。そして、フィルムに空隙やクレイズがある箇所は、白濁して見えることもある。このような空隙やクレイズがある箇所では、フィルムに入射した光が反射してしまい、散乱してしまうからであるからである。従って、空隙やクレイズがあるフィルムはヘイズ値が高くなってしまう。

特許文献１や特許文献２の方法では、延伸によりＲｅが高い位相差フィルムを得ることはできるものの、ヘイズ値が高くなるため、その位相差フィルムでは、液晶ディスプレイに近年求められる程度の高い正面コントラストを発現させることができない。このため、Ｒｅが高く、かつ、高い正面コントラストを液晶ディスプレイに発現させる位相差フィルムを得ることはできない。

特許文献３では、ドープにレタデーション上昇剤を添加することにより、Ｒｅを上昇させている。しかし、このレタデーション上昇剤の割合が多くなると、このレタデーション上昇剤がドープに溶解しにくくなるため、ヘイズ値が高くなる傾向がある。このため、その位相差フィルムでは、液晶ディスプレイに高い正面コントラストを発現させることができない。結果的に、Ｒｅが高く、かつ、液晶ディスプレイに高い正面コントラストを発現させる位相差フィルムを得ることはできなかった。

そこで、本発明では、上記問題に鑑み、ヘイズの値が０．５以下であり、５０ｎｍ以上であるＲｅを発現する位相差フィルムの製造方法を提供することを目的とする。

本発明の位相差フィルムの製造方法は、セルロースアシレートと溶媒とを含むドープを、支持体上に流延ダイから連続的に流出して流延膜とし、この流延膜を前記支持体からフィルムとして剥ぎ取る流延工程と、溶媒残留率が６０重量％となるまで前記フィルムを加熱して乾燥する第１乾燥工程と、溶媒残留率が６０重量％から１０重量％になるまで、前記フィルムを温度が１０５℃以下の気体を吹き付けて乾燥する第２乾燥工程と、溶媒残留率が１０重量％である前記フィルム中の前記セルロースアシレートのガラス転移点をＴｇとするとき、前記第２工程を終えた前記フィルムを（Ｔｇ＋１０）℃以上（Ｔｇ＋６０）℃以下の温度範囲に保持しながら拡幅する拡幅工程とを有し、前記拡幅工程では、前記フィルムの拡幅前の幅をＬ１、拡幅後の幅をＬ２とするときに、（Ｌ２−Ｌ１）／Ｌ１×１００で求める拡幅率（％）が３０％以上６５％以下の範囲となるように前記フィルムを拡幅することを特徴とする。また、前記支持体を冷却することにより前記流延膜を固化させることが好ましい。

本発明により、ヘイズの値が０．５以下であり、かつ、５０ｎｍ以上であるＲｅを有する位相差フィルムを製造することができる。

以下に、本発明の実施様態について詳細に説明する。ただし、本発明はここに挙げる実施様態に限定されるものではない。

［原料］
ポリマーとしては、溶液製膜方法により位相差フィルムとすることができる公知のポリマーを用いることができる。ポリマーの中でもセルロースアシレートが好ましく、セルロースアシレートの中でも、セルロースの水酸基をカルボン酸でエステル化している割合、つまりアシル基の置換度（以下、アシル基置換度と称する）が下記式（Ｉ）〜（III）の全ての条件を満足するものがより好ましい。なお、（Ｉ）〜（III）において、Ａ及びＢはともにアシル基置換度であり、Ａにおけるアシル基はアセチル基であり、Ｂにおけるアシル基は炭素原子数が３〜２２のものである。
２．５≦Ａ＋Ｂ≦３．０ ・・・（Ｉ）
０≦Ａ≦３．０ ・・・（II）
０≦Ｂ≦２．９ ・・・（III）

セルロースを構成しβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部がエステル化されて、水酸基の水素が炭素数２以上のアシル基に置換された重合体（ポリマー）である。なお、グルコース単位中のひとつの水酸基のエステル化が１００％されていると置換度は１であるので、セルロースアシレートの場合には、２位、３位および６位の水酸基がそれぞれ１００％エステル化されていると置換度は３となる。

ここで、グルコース単位の２位のアシル基置換度をＤＳ２、３位のアシル基置換度をＤＳ３、６位のアシル基置換度をＤＳ６とする。ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６で求められる全アシル基置換度は２．００〜３．００であることが好ましく、２．２２〜２．９０であることがより好ましく、２．４０〜２．８８であることがさらに好ましい。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は０．３２以上であることが好ましく、０．３２２以上であることがより好ましく、０．３２４〜０．３４０であることがさらに好ましい。

アシル基は１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上であってもよい。アシル基が２種類以上であるときには、そのひとつがアセチル基であることが好ましい。２位、３位及び６位の水酸基の水素のアセチル基による置換度の総和をＤＳＡとし、２位、３位及び６位におけるアセチル基以外のアシル基による置換度の総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は２．２〜２．８６であることが好ましく、２．４０〜２．８０であることが特に好ましい。ＤＳＢは１．５０以上であることが好ましく、１．７以上であることが特に好ましい。そして、ＤＳＢはその２８％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましいが、より好ましくは３０％以上、さらに好ましくは３１％以上、特に好ましくは３２％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましい。

また、セルロースアシレートの６位のＤＳＡ＋ＤＳＢの値が０．７５以上であることが好ましく、０．８０以上であることがより好ましく、０．８５以上であることが特に好ましい。以上のようなセルロースアシレートを用いることにより、溶解性が好ましいドープや、粘度が低く、ろ過性がよいドープを製造することができる。特に非塩素系有機溶媒を用いる場合には、上記のようなセルロースアシレートが好ましい。

炭素数が２以上であるアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく、特に限定されない。例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどがあり、これらは、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、プロピオニル基、ブタノイル基が特に好ましい。

セルロースアシレートの詳細については、特開２００５−１０４１４８号公報の［０１４０］段落から［０１９５］段落に記載されており、これらの記載は本発明にも適用することができる。

ドープには、レタデーション上昇剤を含ませることができる。レタデーション上昇剤は、特に限定されず、例えば、特開２００６−２３５４８３号公報の段落［００３０］〜［０１４２］に記載されるものを用いることができる。また、溶媒及び可塑剤，劣化防止剤，紫外線吸収剤，光学異方性コントロール剤，染料，マット剤，剥離剤等の添加剤についても、同じく同じく特開２００５−１０４１４８号公報の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されており、これらの記載も本発明に適用することができる。

ドープを製造するための溶媒としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが例示される。なお、ここで、ドープとはポリマーを溶媒に溶解または分散媒に分散して得られるポリマー溶液または分散液である。

セルロースアシレートの溶媒としては、これらの溶媒の中でも炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく、ジクロロメタンが最も好ましい。そして、セルローストリアセテート（以下、「ＴＡＣ」と称する。）の溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械的強度、フィルムの光学特性等の特性の観点から、炭素原子数１〜５のアルコールを一種ないし数種類を、ジクロロメタンに混合して用いることが好ましい。このとき、アルコールの含有量は、溶媒全体に対し２重量％〜２５重量％であることが好ましく、５重量％〜２０重量％であることがより好ましい。アルコールの好ましい具体例としては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノール等が挙げられるが、中でも、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。

環境に対する影響を最小限に抑えることを目的にした場合には、ジクロロメタンを用いずにドープを製造してもよい。この場合の溶媒としては、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステルが好ましく、これらを適宜混合して用いることがある。これらのエーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、溶媒として用いることができる。また、溶媒は、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を化学構造中に有するものであってもよい。

流延すべきドープの製造方法は特に限定されない。しかし、後述のように、流延されたドープからなる流延膜を冷却により固化させて剥ぎ取る場合には、流延膜を乾燥して剥ぎ取る場合のドープよりも、セルロースアシレート等の固形分の濃度が高くなるように、ドープを製造することが好ましい。この方法としては、いわゆるフラッシュ濃縮法を用いることが好ましい。フラッシュ濃縮法とは、目的とする濃度よりも低い濃度のドープを一旦つくり、このドープを公知のフラッシュ装置で吹き出させることにより溶媒の一部を蒸発させる方法である。

流延すべきドープは、セルロースアシレートの濃度が５重量％〜４０重量％であることが好ましく、１５重量％以上３０重量％以下の範囲とすることがより好ましく、１７重量％以上２５重量％以下の範囲とすることがさらに好ましい。

なお、ＴＡＣフィルムを得る溶液製膜法における素材、原料、添加剤の溶解方法、ろ過方法、脱泡、添加方法については、特開２００５−１０４１４８号公報の［０５１７］段落から［０６１６］段落が詳しく、これらの記載も本発明に適用することができる。

［フィルム製造設備及び方法］
図１は位相差フィルムを製造するための、本発明の実施形態の溶液製膜設備１０を示す概略図である。ただし、本発明は、この溶液製膜設備１０に限定されるものではない。以下の説明では、ドープのポリマー成分としてセルロースアシレートを用いる場合を例として記載するが、他のポリマーを用いてもよい。

溶液製膜設備１０には、ドープ１１を流延してセルロースアシレートフィルム（以下、単にフィルムと称する）１２とするための流延室１３と、フィルム１２の両側端部を保持してフィルム１２を拡幅し位相差フィルム１４とするテンタ１５と、位相差フィルム１４の両側端部を切り離す耳切装置１６と、位相差フィルム１４を複数のローラ１７に掛け渡して搬送しながら乾燥する乾燥室２１と、位相差フィルム１４を冷却するための冷却室２２と、位相差フィルム１４の帯電量を減らすための除電装置２３と、側端部にエンボス加工を施すナーリング付与ローラ対２４と、位相差フィルム１４を巻き取る巻取室２５とが上流側から順に備えられる。

流延室１３には、案内されてきたドープ１１を連続的に流出する流延ダイ３１と、周面にドープ１１が流延されるように流延ダイ３１のドープ流出口に対向して備えられ、周方向に回転する支持体としての流延ドラム３２とを備える。

流延ダイ３１には、流延ドラム３２に向けて流出するドープ１１の温度が所定温度に保持されるように、流延ダイ３１の温度を制御する温度コントローラ（図示なし）が取り付けられる。流延ドラム３２は、駆動手段（図示せず）により、矢線Ａに示す回転方向に回転する。回転方向Ａに回転する流延ドラム３２の上に流延ダイ３１から連続的にドープ１１を流出することにより、流延ドラム３２の周面でドープ１１が流延されて流延膜３３が形成される。

流延ドラム３２には、流延ドラム３２に所定の温度の伝熱媒体を供給して、流延ドラム３２の周面温度を制御する伝熱媒体循環装置３４が備えられる。流延ドラム３２の内部には、伝熱媒体の流路（図示せず）が形成されており、その流路中を、伝熱媒体が通過することにより、流延ドラム３２の周面の温度が所定の値に保持されるものとなっている。流延ドラム３２の表面温度は、溶媒の種類、固形成分の種類、ドープ１１の濃度等に応じて適宜設定する。流延ドラム３２は、回転速度むらが所定の回転速度の０．２％以内となるように高精度で回転できるものであることが好ましい。

流延ドラム３２の回転方向Ａにおける流延ダイ３１の上流側には、空気を吸引する減圧チャンバ３５が備えられる。減圧チャンバ３５による空気の吸引により、ビードとして流出されたドープ１１の上流側のエリアを減圧して下流側のエリアよりも低い圧力にする。

流延室１３には、その内部温度を所定の値に保つための温調装置３６と、ドープ１１及び流延膜３３から蒸発した溶媒を凝縮回収するための凝縮器（コンデンサ）３７とが設けられる。そして、凝縮液化した溶媒を回収するための回収装置３８が流延室１３の外部に設けられている。

流延室の下流に設けられるテンタ１５には、矢線Ｂに示す、フィルム１２の搬送方向に延び、温度調整された空気をフィルム１２に対して上方から吹き付けるように送り出す送風ダクト４１が備えられる。この送風ダクト４１は、内部がフィルムの搬送方向で複数に区画されており、各区画にはフィルム１２の幅方向に延びるスリット（図示せず）がフィルム搬送路に対向するように形成されている。そして、これらの各スリットから空気が流出する。この空気は、送風ダクト４１に接続された送風機４２により送風ダクト４１に送られる。送風機４２には、送風ダクト４１の各区画のスリットからの空気の送り出しのオン・オフ、風量、風速、空気の温度及び湿度を制御するコントローラ（図示無し）が備えられ、このコントローラが、区画毎に、送り出す空気の温湿度と空気の流出条件とを独立して制御する。

耳切装置１６には、切り取られた位相差フィルム１４の側端部屑を細かく切断処理するためのクラッシャ４３が備えられる。

乾燥室２１には、位相差フィルム１４から蒸発した溶媒、すなわち溶媒ガスを吸着して回収する吸着回収装置４４が接続する。乾燥室２１の下流には冷却室２２が設けられており、乾燥室２１と冷却室２２との間に位相差フィルム１４の含水量を調整するための調湿室（図示しない）がさらに設けられてもよい。除電装置２３は、除電バー等のいわゆる強制除電装置であり、位相差フィルム１４の帯電圧を所定の範囲となるように調整する。除電装置２３の位置は、冷却室２２の下流側に限定されない。ナーリング付与ローラ対２４は、位相差フィルム１４の両側端部にエンボス加工でナーリングを付与する。巻取室２５の内部には、位相差フィルム１４を巻き取るための巻取ロール４６と、その巻き取り時のテンションを制御するためのプレスローラ４７とが備えられている。

次に、溶液製膜設備１０により位相差フィルム１４を製造する方法の一例を説明する。ドープ１１は、伝熱媒体により冷却された流延ドラム３２に流延ダイ３１から流延される。流延時におけるドープ１１の温度は３０〜３５℃の範囲で一定、流延ドラム３２の表面温度は−１０〜１０℃の範囲で一定とされることが好ましい。流延室１３の温度は、温調装置３６により１０℃〜３０℃とされることが好ましい。なお、流延室１３の内部で蒸発した溶媒は回収装置３８により回収された後、再生させてドープ製造用の溶媒として再利用される。

流延ダイ３１から流延ドラム３２にかけては流延ビードが形成され、流延ドラム３２の上には流延膜３３が形成される。流延ビードの様態を安定させるために、このビードに関し上流側のエリアは、所定の圧力値となるように減圧チャンバ３５で制御される。ビードに関して上流側のエリアの圧力は、下流側のエリアよりも２０００Ｐａ〜１０Ｐａ低くすることが好ましい。なお、減圧チャンバ３５にジャケット（図示しない）を取り付けて、内部温度が所定の温度を保つようにすることが好ましい。この温度は、ドープ１１の溶媒の凝縮点以上であることが好ましい。

流延膜３３を流延ドラム３２で冷却することによりゲル状にし、固化させる。そして、流延膜３３が自己支持性をもつように固まったら、流延ドラム３２から剥ぎ取る。この剥ぎ取りは、流延ドラム３２の下流側からフィルム１２を引っ張って、このフィルム１２が搬送路に備えられた剥取ローラ５１に支持されることにより、実施される。流延膜３３の溶媒残留率の高低に関わらず、流延膜３３が搬送に十分な硬さとなっていれば、剥ぎ取りを行うことができる。このように、主に乾燥によるのではなく冷却により固化することにより、流延膜３３の剥ぎ取りのタイミングを早めることができるようになり、位相差フィルム１４の製造速度を３５ｍ／分以上、さらには、４５ｍ／分以上１２０ｍ／分以下の範囲にまでアップさせることができる。

生産速度をアップさせるほど、剥ぎ取り時の溶媒残留率が高くなるので、冷却速度、すなわち単位時間あたりに下降する温度の変化量が大きくなるように、冷却することが好ましい。溶媒残留率が３２０％よりも高い場合には、流延膜３３を冷却しても搬送するに十分な硬さとはいえず、また、テンタ１５での拡幅開始までに十分な硬さとはならずに拡幅時に裂けてしまうことがあるので、剥ぎ取り時における流延膜３３の溶媒の重量は、固形分の重量を１００％としたときに３２０％以下であることが好ましい。このように、本発明において溶媒残留率（単位；％）は乾量基準の値であり、具体的には、溶媒の重量をｘ、流延膜３３の重量をｙとするときに、｛ｘ／（ｙ−ｘ）｝×１００で求める値である。

溶媒を含んだ状態で流延ドラム３２から剥ぎ取られたフィルム１２は、テンタ１５に案内される。そして、フィルム１２の両側端部が保持手段としてのピンに保持されて下流側へ搬送される。この搬送の間に、フィルム１２は送風ダクト４１から熱せられた空気が吹き付けられて、乾燥がすすめられる。加えて、このテンタ１５では、フィルム１２を拡幅して、フィルム１２の幅方向の屈折率を高くして、フィルム１２を、高いＲｅを発現する位相差フィルム１４とすることができる。

なお、フィルム１２の温度は、送風ダクト４１から流出される空気により制御される。送風ダクト４１のスリットは、フィルム１２の搬送路近傍に設けられている。また、テンタ１５における、フィルム１２の溶媒残留率と、温度条件と、拡幅するフィルム１２の幅の制御とについては、別の図面を用いて後述する。

テンタ１５からの位相差フィルム１４は、ピンで保持されていた両側端部を耳切装置１６により切断除去される。切り離された両側端部はカッターブロワ（図示なし）によりクラッシャ４３に送られる。クラッシャ４３により、側端部は粉砕されてチップとなる。このチップはドープ製造用に再利用されるので、原料の有効利用を図ることができる。

一方、両側端部を切断除去された位相差フィルム１４は、乾燥室２１に送られて、さらに乾燥される。乾燥室２１では、位相差フィルム１４はローラ１７に巻き掛けられながら搬送される。乾燥室２１の内部温度は、特に限定されるものではないが、５０〜１６０℃とすることが好ましい。なお、乾燥室２１は、送風温度を変えるために、位相差フィルム１４の搬送方向で複数の区画に分割されていることがより好ましい。また、耳切装置１６と乾燥室２１との間に予備乾燥室（図示せず）を設けて位相差フィルム１４を予備乾燥すると、乾燥室２１で位相差フィルム１４の温度が急激に上昇することが防止されるので、乾燥室２１での位相差フィルム１４の形状変化を抑制することができる。

乾燥室２１で蒸発して発生した溶媒ガスは、吸着回収装置４４により吸着回収される。溶媒成分が除去された空気は、乾燥室２１の内部に乾燥風として再度送られる。

位相差フィルム１４は、冷却室２２で略室温にまで冷却される。そして、除電装置２３により、位相差フィルム１４の帯電圧が−３ｋＶ〜＋３ｋＶとされることが好ましい。さらに、位相差フィルム１４は、ナーリング付与ローラ対２４によりナーリングが両側端部に付与される。なお、ナーリングされた箇所の凹凸の高さは１μｍ〜２００μｍであることが好ましい。

位相差フィルム１４は、巻取室２５の巻取ロール４６で巻き取られる。プレスローラ４７で所望のテンションを位相差フィルム１４に付与しつつ巻き取ることが好ましい。なお、テンションは巻取開始時から終了時まで徐々に変化させることがより好ましく、これによりフィルムロールにおける過度な巻き締めを防止することができる。巻き取られる位相差フィルム１４の長さは１００ｍ以上とすることが好ましい。巻き取られる位相差フィルム１４の幅は６００ｍｍ以上であることが好ましく、１４００ｍｍ以上２５００ｍｍ以下であることが好ましい。しかし、２５００ｍｍよりも幅が大きい場合でも本発明は適用される。また、本発明は、厚みが１５μｍ以上１００μｍ以下の薄いフィルムを製造する際にも本発明は適用される。

流延ダイ、減圧チャンバ、支持体などの構造、剥離法、延伸、各工程の乾燥条件、ハンドリング方法、カール、平面性矯正後の巻取り方法から、溶媒回収方法、フィルム回収方法まで、特開２００５−１０４１４８号公報の［０６１７］段落から［０８８９］段落に詳しく記述されている。これらの記載は本発明に適用することができる。

図２は、テンタ１５の内部の概略図である。テンタ１５の内部には、フィルム１２の搬送路に沿って、フィルム１２の両側端部の位置に、フィルム１２の保持手段としての多数のピン７１を有するピンプレート７２と、この多数のピンプレート７２が取り付けられた無端で走行するチェーン７３とチェーンの軌道を決定するレール７６と、送風ダクトとが備えられる。そして、レール７６にはシフト機構７７が備えられる。テンタ１５に送り込まれたフィルム１２は、所定の位置に達すると、両側端部にピン７１が差し込まれて保持される。シフト機構７７は、レール７６をフィルム１２の幅方向に移動させ、これによりチェーン７３は変位する。チェーン７３上のピンプレート７２は、フィルム１２を保持した状態でフィルム１２の幅方向に移動し、フィルム１２は幅方向に張力が付与される。

流延ドラム３２（図１参照）から剥ぎ取った直後のフィルム１２は、多量の溶媒を含んでおり非常に不安定であるために、ローラで搬送するのが困難である他、クリップによる把持にも耐えることができない場合がある。そこで、本実施形態のように、ピン７１でフィルム１２の両側端部を突き刺すと、フィルム１２を安定的に保持して搬送することができる。

図３は、流延ドラム３２（図１参照）からの剥ぎ取りからテンタ１５のピンでの保持を解除するまでのフィルム１２の説明図である。矢線Ｂは、フィルム１２の搬送方向である。テンタ１５では、フィルム１２を矢線Ｘ１，Ｘ２で示す幅方向に張力を加える。テンタ１５において、ピン７１（図２参照）によるフィルム１２の保持を開始する位置を保持開始位置ＰＳ、保持を解除する位置を保持解除位置ＰＥ、流延ドラム３２からの剥ぎ取り位置を第１位置Ｐ１とする。なお、テンタ１５の入口は保持開始位置ＰＳよりも上流側、出口は保持解除位置ＰＥよりも下流側にあるが、図３においては図示を略す。なお、符号ＫＬは、ピン７１で保持されるフィルム１２の保持対象部のうち、フィルム１２の幅方向における最も中央部側の位置を表す。

第１位置Ｐ１で流延ドラム３２から剥がされてから、フィルム１２からは徐々に溶媒が蒸発し、また、テンタ１５では送風ダクト４１（図１参照）から吹き付けられる乾燥風によりさらに蒸発が進められる。このため、フィルム１２の溶媒残留率は、剥ぎ取られた直後より低くなる。フィルム１２の溶媒残留率が６０重量％となる第２位置Ｐ２までフィルム１２の乾燥は進められる。以降の説明においては、この工程を第１乾燥工程と称する。第１位置Ｐ１から第２位置Ｐ２までの間、第１乾燥工程が行われることとなる。

溶媒残留率が６０重量％以上のときには、送風ダクト４１からフィルム１２に吹き付けられた乾燥風の熱エネルギーのうち、フィルム１２にある溶媒が気体となるための蒸発潜熱に消費される割合が多い。このため、送風ダクト４１から吹き付けられる乾燥風の温度を高くしても、フィルム１２自体の温度が大きく上昇することはない。そこで、溶媒残留率が６０重量％になるまでの第１乾燥工程では、フィルム１２に吹き付ける乾燥風の温度を、最高で１２０℃にまで上げることができる。１２０℃を超える場合には、フィルム１２が発泡してしまう可能性がある。なお、第１位置Ｐ１から第２位置Ｐ２に至るまでのフィルム１２を加熱する手段は、特に限定されない。

次に、第２位置Ｐ２から、溶媒残留率が１０重量％となる第３位置Ｐ３まで、フィルム１２には送風ダクト４１から乾燥風が吹き付けられる。この工程を、以降の説明においては、第２乾燥工程と称する。第２乾燥工程における乾燥風の温度は４０℃以上１０５℃以下の範囲となるように制御される。この乾燥風の温度は、より好ましくは、５０℃以上９５℃以下の範囲であり、更に好ましくは、５５℃以上８５℃以下の範囲である。

第２乾燥工程における乾燥風の温度を４０℃より低くすると、フィルム１２から溶媒が蒸発する速度が遅くなりすぎるため、位相差フィルム１４の生産性が悪くなる。

一方、第２乾燥工程での乾燥風の温度を１０５℃よりも高くすると、後に行われる拡幅で、フィルム１２に空隙更にはクレイズまでもが発生してしまうことがある。これは、この第２乾燥工程での溶媒残留量のタイミングで１０５℃よりも高い温度の乾燥風にフィルム１２が接触することにより、拡幅により生じる空隙よりも非常に小さくこの空隙のもととなる極微小な空隙（以下、ミクロボイドと称する）がフィルム１２に生じるからである。このミクロボイドは、光学顕微鏡でも認めることができないほどの微小なものである。このように、ミクロボイドは非常に小さいので、第２乾燥工程を終了した時点のフィルム１２には白濁はみられないが、後に、フィルム１２が拡幅されることによりミクロボイドは大きくなって白濁を呈する大きさの空隙ないしクレイズとなる。

乾燥風の温度の上限を１０５℃とすることの上記効果は、フィルム１２にいわゆるマット剤のような微粒子を含ませてある場合に特に顕著である。微粒子が含まれる場合には、後の拡幅で、セルロースアシレートと微粒子との間に隙間が生じやすく、この隙間も上記空隙やクレイズと同様に白濁の原因、すなわち、ヘイズ上昇の原因となる。しかし、乾燥風の温度の上限を上記値として乾燥を進めることにより、後の拡幅では、セルロースアシレートと微粒子との間に隙間が生じない。なお、微粒子としては、粒径が０．００１μｍ以上２０μｍ以下のものが位相差フィルム１４には好ましく用いられる。

溶媒残留率が６０重量％以下の場合には、フィルム１２に吹き付けられる乾燥風により、フィルム１２の温度が影響を受け易い。フィルム１２に含まれる溶媒の量が少ないため、乾燥風から与えられる熱エネルギーが、溶媒が気体となるための蒸発潜熱にだけでなく、フィルム１２の温度上昇にも使われるからである。

溶媒残留率が６０重量％のフィルム１２を温度が１０５℃以下の乾燥風で乾燥させる場合、フィルム１２の膜面温度は、結晶化温度Ｔｃを超えることはない。

フィルム１２は、テンタ１５において、矢線Ｘ１，Ｘ２で示す幅方向に張力を加えずにいると、自重で弛んだり、溶媒の蒸発に伴い幅方向Ｘ１，Ｘ２に収縮したりする。そこで、弛みを防ぐ目的の他、本発明ではＲｅをより高く発現させるために、フィルム１２を幅方向Ｘ１，Ｘ２に張力を加えて拡幅する。張力は、フィルム１２の幅方向における中心に関して対称に、フィルム１２に付与されることが好ましい。分子配向の制御を、フィルム１２の幅方向で均等に行うためである。

第３位置Ｐ３または、第３位置Ｐ３よりも下流で拡幅を開始する。以降の説明においては、この拡幅を拡幅工程と称する。ここで、拡幅とは、フィルム１２の幅を大きくすることをいう。なお、フィルム１２の幅を保持することは拡幅に該当しない。本実施形態では、第３位置Ｐ３よりも下流の第４位置Ｐ４でフィルム１２を拡幅しはじめている。本発明では、フィルム１２が第２乾燥工程を経ていれば、フィルム１２を拡幅することができ、拡幅を開始するタイミングは、必ずしも第３位置Ｐ３の下流からでなくてもよい。すなわち、この実施形態に限らず、第３位置Ｐ３からフィルム１２の拡幅をし始めてもよい。以下の説明では、拡幅を終了する位置を第５位置Ｐ５と称する。

この拡幅工程の前に、溶媒残留量が６０重量％から１０重量％になるまでの乾燥を、１０５℃以下である乾燥風の吹き付けにより実施することにより、この拡幅工程では、フィルム１２に空隙ないしクレイズが発生することがない。従って、フィルム１２の透明性は拡幅工程でも保持され、得られる位相差フィルム１４はヘイズが従来よりも低いものとなる。

溶媒残留率が１０重量％であるフィルム１２のセルロースアシレートのガラス転移点をＴｇ℃とするとき、拡幅工程では、フィルム１２の温度が（Ｔｇ＋１０）℃以上（Ｔｇ＋６０）℃以下の範囲となるように、送風ダクト４１から吹き出す乾燥風の温度を調整する。この拡幅工程においては、フィルム１２の温度を（Ｔｇ＋２０）℃以上（Ｔｇ＋５０）℃以下の範囲とすることがより好ましく、（Ｔｇ＋３０）℃以上（Ｔｇ＋４０）℃以下の範囲とすることが更に好ましい。

フィルム１２の温度が（Ｔｇ＋１０）℃未満の場合には、フィルム１２を拡幅すると、フィルム１２が破断する可能性があるため、好ましくない。フィルム１２の温度が（Ｔｇ＋６０）℃より大きい場合には、位相差フィルム１４に、５０ｎｍ以上の高いＲｅを発現させることができないため、好ましくない。

フィルム１２に幅方向Ｘ１，Ｘ２に張力を加えることにより、第４位置Ｐ４におけるフィルム１２の幅Ｌ１（以後、「第１幅」と称する。）を、第５位置Ｐ５におけるフィルム１２の幅Ｌ２（以後、「第２幅」と称する）に大きくする。なお、第１幅Ｌ１、第２幅Ｌ２はいずれも両側の保持対象ラインＫＬ間の距離である。

拡幅工程の拡幅率は、３０％以上６５％以下とする。４０％以上６０％以下とすることがより好ましく、更には、４５％以上５５％以下とすることが好ましい。ここで、拡幅率とは、拡幅する前の幅に対する拡幅して伸びた分の幅の割合のことであり、｛（Ｌ２−Ｌ１）／Ｌ１｝×１００で求める値である。

拡幅率が３０％より小さい場合には、フィルム１２に５０ｎｍ以上の高いＲｅを発現させることができない。拡幅率が６５％より大きい場合には、フィルム１２にクレイズが生じる可能性が高くなり、ヘイズ値が高くなりやすい。加えて、フィルム１２が破断する可能性もある。

このテンタ１５では、フィルム１２を拡幅して、幅方向Ｘ１，Ｘ２における、フィルム１２を構成するセルロースアシレートの分子の配向性を高めることができる。これにより、フィルム１２の幅方向の屈折率が高くなるのでＲｅが高くなり、フィルム１２を５０ｎｍ以上のＲｅを発現する位相差フィルム１４とすることができる。

拡幅工程が終了した第５位置Ｐ５から保持解除位置ＰＥまでの間では、フィルム１２を拡幅せずに、幅を一定に保持してもよいし、縮幅してもよい。すなわち、この幅Ｌ２はこの後変わらないように保持されてもよいし、さらに、図３に示すように保持の後に小さくしてもよい。第２幅Ｌ２を保持する場合も、第２幅Ｌ２から幅を小さくする場合もフィルム１２には幅方向Ｘ１，Ｘ２に張力が付与される。縮幅する場合には、ピンで保持しない場合に自然に収縮するというフィルム１２の収縮力を利用して、この収縮力とピンによる張力とのバランスを調整することにより幅を制御する。

ところで、溶液製膜方法では、流延膜を支持体上で乾燥することにより固化して剥ぎ取るという方法（以下、乾燥流延法と称する）と、流延膜を支持体上で冷却することにより固化して剥ぎ取るという方法（以下、冷却流延法と称する）とがある。

生産効率、すなわち単位時間あたりの生産量の点では、冷却流延法の方が乾燥流延法より格段に優れる。従って、冷却流延法により位相差フィルムを生産することが望ましい。しかし、冷却流延法では、乾燥流延法におけるよりも溶媒残留率が高い状態で流延膜は、流延ドラムに付着する傾向がある。このため、流延ドラムから流延膜をフィルムとして剥離するために、流延膜を搬送方向に強く引っ張る必要がある。また、乾燥流延法の場合と同じ程度の力で引っ張って、流延膜が流延ドラムから剥がれたとしても、乾燥流延の場合よりも、その力によって、溶媒残留率が高い状態の流延膜及びフィルムは伸ばされる傾向がある。これにより、フィルムは搬送方向Ｂに、分子が配向し易く屈折率が高くなる。このため、Ｒｅを高くするには、幅方向に拡幅する拡幅率を乾燥流延の場合よりも高くする。

ところが、従来では、冷却流延法であっても、溶媒残留率が６０重量％から１０重量％になるまでのフィルムを１０５℃より高い温度の気体を吹き付けてフィルムを乾燥してから、拡幅を行っていた。このため、結晶化温度を超えた場合に、結晶化するフィルムであるか、あるいは、結晶化温度を超えた場合に、結晶化するか明確ではないフィルムであっても、結晶化するフィルムであれば、拡幅する前のフィルムは結晶化が進んでおり、これを拡幅して得られた位相差フィルムは白濁し、ヘイズの値が高いものとなっていた。一方、本発明によれば、拡幅を行う前に、１０５℃より低い温度の気体を吹き付けて、溶媒残留率が６０重量％から１０重量％となるまでフィルムを乾燥してから、拡幅を行う。これにより、フィルムが白濁することを抑え、ヘイズ値を低く抑えることができる。このようにして、本発明は、比較的に高い溶媒残留率の状態で流延膜が剥ぎ取られて乾燥が行われる冷却流延法では、特に有効である。

本実施形態は、冷却流延法を実施する場合を示すものであるが、この態様に代えて、勿論、流延ドラムを連続走行する流延バンドとして乾燥流延法を実施することもできる。

さらに、本実施形態は、拡幅工程をピンテンタで実施するものであるが、本発明がこの態様に限るものではなく、可能であれば、拡幅工程をクリップテンタで実施してもよい。クリップテンタとは、ピンテンタにおけるピンに代えて、フィルムの側端部を把持するクリップを用いるものである。

次に、拡幅工程をオフラインで実施する態様を説明する。この態様では、製造工程のうち、拡幅工程を除いて、フィルムをつくり、巻き取る。このようにして得られたフィルムロールを以下のオフライン設備で延伸する。

図４は、オフライン延伸設備の概略図である。オフライン延伸設備８１では、フィルム送出室８２にあるフィルム送出機８３から、フィルムロール８４からフィルム８５を送出して、テンタ８６で拡幅工程を実施する。図４において、第１実施形態と同じ部材については、同じ符号を付する。

テンタ８６において、拡幅工程が実施されて位相差フィルム８７が形成される。それから、位相差フィルム８７は、冷却室（図示せず）を経由して、巻取室２５で、巻き取られる。

このように、拡幅工程を、第１乾燥工程と第２乾燥工程とはオフライン延伸設備で行っても良い。この実施形態に限られず、第１乾燥工程を先に行い、後に、拡幅工程と第２乾燥工程とをオフライン延伸設備で行っても良い。

下記の処方のドープ１１をつくった。
セルロースアシレート １００重量部
（置換度２．９４のセルローストリアセテート、粘度平均重合度３０５．６％、ジクロロメタン溶液６質量％の粘度 ３５０ｍＰａ・ｓ）
ジクロロメタン（溶媒の第１成分） ３９０重量部
メタノール（溶媒の第２成分） ６０重量部
レタデーション上昇剤 ９重量部
クエン酸エステル混合物（クエン酸、モノエチルエステル、ジエチルエステル、トリエチルエステル混合物） ０．００６重量部
微粒子（二酸化ケイ素（平均粒径１５ｎｍ）、モース硬度 約７） ０．０５重量部
なお、レタデーション上昇剤としては、Ｎ−Ｎ’−ジ−ｍ−トルイル−Ｎ”−ｐ−メトキシフェニル−１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリアミンを用いた。

上記ドープを用いて、図１に示す溶液製膜設備１０により厚み６５μｍの複数の位相差フィルム１４を６０ｍ／分の生産速度で製造した。第１位置Ｐ１における溶媒残留率を２５０重量％とし、テンタ１５での第１乾燥工程におけるフィルム１２に吹き付ける乾燥風の温度を７０℃とした。第２乾燥工程におけるフィルム１２に吹き付ける乾燥風の温度を１０５℃とした。拡幅工程では、溶媒残留率が１０重量％であるフィルム１２のセルロースアシレートのガラス転移点をＴｇ℃とするとき、フィルム１２の温度をＴｇ＋３０℃とした。拡幅率を５７％とした。拡幅工程の後に、フィルム１２の幅をＬ２に保持した。

実施例２では、第２乾燥工程におけるフィルム１２に吹き付ける乾燥風の温度を９０℃とした以外は実施例１と同じ条件とした。

［比較例１］
比較例１では、拡幅工程におけるフィルム１２の温度を（Ｔｇ＋５）℃とした以外は実施例１と同じ条件とした。

［比較例２］
比較例２では、拡幅工程におけるフィルム１２の温度を（Ｔｇ＋６５）℃とした以外は実施例１と同じ条件とした。

［比較例３］
比較例３では、第２乾燥工程におけるフィルム１２に吹き付ける乾燥風の温度を１１０℃とした以外は実施例１と同じ条件とした。

［比較例４］
比較例４では、溶媒残留率が１０重量％であるフィルム１２の拡幅率を２５％とした以外は実施例１と同じ条件とした。

実施例１から比較例４で得られた各位相差フィルムにつき、Ｒｅ，Ｒｔｈとヘイズ値を測定した。以上の実施例１から比較例４の実施条件及び、Ｒｅ，Ｒｔｈとヘイズ値を測定結果及び評価結果を表１に示す。

Ｒｅ，Ｒｔｈについては、巻取室２５で巻き取られた位相差フィルム１４の一部をサンプリングし、このサンプル片の屈折率を測定した。具体的には、Ｒｅは、２５℃，６０％ＲＨでの各屈折率による値（単位：ｎｍ）であり、Ｒｔｈは２５℃，６０％ＲＨでの各屈折率による値（単位：ｎｍ）である。ヘイズ値（単位：％）も同様に、２５℃，６０％ＲＨでのサンプル片の光線透過率を測定し、１００×（散乱光線透過率Ｔｄ／全光線透過率Ｔｔ）の値とした。

Ｒｅが５０ｎｍ以上であれば、良好である。ヘイズ値については、０．５以下であれば、位相差フィルムとして良好である。
ヘイズ値≦０．５ ；良好
０．５＜ヘイズ値 ；従来品並であり、不良

本発明を満たさない比較例１〜４について、比較例１，３においては、位相差フィルム１４の透明性を保つことができず、低いヘイズ値を有する位相差フィルム１４を得ることができなかった。比較例２，４においては、５０ｎｍ以上の高いＲｅを発現する位相差フィルム１４を得ることができなかった。

一方、本発明を満たす実施例１，２では、Ｒｅが５０ｎｍ以上であり、ヘイズ値も０．５以下である、高いＲｅを有し、ヘイズ値が低い位相差フィルム１４が得られたことがわかる。

本発明によると、０．５以下のヘイズ値を有し、５０ｎｍ以上であるＲｅを有する位相差フィルムを製造することができる。そして、ヘイズ値が０．５以下であるため、この位相差フィルムは、液晶ディスプレイに高い正面コントラストを発現させることができる。

本発明の実施形態の溶液製膜設備を示す概略図である。 テンタにおけるフィルムの保持状態を示す概略図である。 テンタにおけるフィルムの拡幅及び縮幅を示す説明図である。 本発明の実施形態のオフライン延伸設備を示す概略図である。

符号の説明

１０ 溶液製膜設備
１１ ドープ
１２ フィルム
１４ 位相差フィルム
１５ テンタ
３１ 流延ダイ
３２ 流延ドラム

Claims (2)

1. セルロースアシレートと溶媒とを含むドープを、支持体上に流延ダイから連続的に流出して流延膜とし、この流延膜を前記支持体からフィルムとして剥ぎ取る流延工程と、
   溶媒残留率が６０重量％となるまで前記フィルムを加熱して乾燥する第１乾燥工程と、
   溶媒残留率が６０重量％から１０重量％になるまで、前記フィルムを温度が１０５℃以下の気体を吹き付けて乾燥する第２乾燥工程と、
   溶媒残留率が１０重量％である前記フィルム中の前記セルロースアシレートのガラス転移点をＴｇとするとき、前記第２工程を終えた前記フィルムを（Ｔｇ＋１０）℃以上（Ｔｇ＋６０）℃以下の温度範囲に保持しながら拡幅する拡幅工程とを有し、
   前記拡幅工程では、前記フィルムの拡幅前の幅をＬ１、拡幅後の幅をＬ２とするときに、（Ｌ２−Ｌ１）／Ｌ１×１００で求める拡幅率（％）が３０％以上６５％以下の範囲となるように前記フィルムを拡幅することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
2. 前記支持体を冷却することにより前記流延膜を固化させることを特徴とする請求項１記載の位相差フィルムの製造方法。

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