JP2010078971A - Alignment layer-forming method and rubbing device - Google Patents

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Kazuma Taniwaki
和磨 谷脇
Yasuhiro Seno
靖弘 瀬能
Yuki Yasu
祐樹 安
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the following problem: although an in-cell structure for a higher contrast is designed for a retardation film of a reflection type liquid crystal mobile display, an alignment layer as a base becomes easy to repel liquid crystal since the retardation film is made of polymerizable liquid crystal and the liquid crystal is cured by crosslinking, and if the repelling is caused in a reflection area, polarization control at the part ends in failure to cause a large defect. <P>SOLUTION: The alignment layer after being baked in an oven is irradiated with excimer UV and then subjected to rubbing processing to avoid repellence. Using this method reduces electrostatic charging of a substrate during the rubbing as well as avoiding the repellence. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶ディスプレイ分野に関わる配向膜、とりわけ位相差膜用の配向膜の形成方法とラビング装置に関する。   The present invention relates to a method and a rubbing apparatus for forming an alignment film, particularly an alignment film for a retardation film, in the liquid crystal display field.

液晶ディスプレイに用いられる配向膜は、液晶を整列させる機能を持つ。電圧ON時、またはOFF時に液晶をある方向に整列させることにより、光通過時に位相差を付与し、さらに偏光板を用いることによって黒白表示を実現している。また、カラーフィルタを利用することにより、カラー表示を実現している。   An alignment film used for a liquid crystal display has a function of aligning liquid crystals. By aligning the liquid crystal in a certain direction when the voltage is ON or OFF, a phase difference is imparted when light passes, and a black and white display is realized by using a polarizing plate. In addition, color display is realized by using a color filter.

配向膜は、布等で一定方向に擦ることによって、配向膜上に注入、もしくは塗布された液晶を整列させることができる。前記の擦る工程はラビング工程と呼ばれている。   The alignment film can be aligned with the liquid crystal injected or applied onto the alignment film by rubbing in a certain direction with a cloth or the like. The rubbing process is called a rubbing process.

液晶は、ラビング処理された配向膜の上ではラビング方向に整列し、液晶層は異方性を生じる。   The liquid crystal is aligned in the rubbing direction on the alignment film subjected to the rubbing treatment, and the liquid crystal layer is anisotropic.

偏光板を通った光が、ある角度で異方性を持った液晶層に入射した場合、液晶の遅延相に対応する光成分のみ位相差を生じる。これにより、光は円偏光に変化したり、90°回転した直線偏光になったりする。   When light that has passed through the polarizing plate enters an anisotropic liquid crystal layer at a certain angle, only a light component corresponding to the delayed phase of the liquid crystal produces a phase difference. As a result, the light changes to circularly polarized light or linearly polarized light rotated by 90 °.

以上のメカニズムを用いることによって、液晶に電圧を印加する状態(ON)と印加しない状態(OFF)で通過する光の偏光状態を操作することができる。   By using the above mechanism, it is possible to control the polarization state of light passing through the liquid crystal in a state where a voltage is applied (ON) and a state where the voltage is not applied (OFF).

現在、液晶ディスプレイは主にテレビ用途とモバイル用途に分けられる。モバイル用途では、比較的暗い屋内であっても、屋外の明るい場所であっても、いづれも見易くするように、反射型とは言え、使用される液晶セル内部に透過部と反射部の両方のディスプレイ機能が搭載される等、複雑な構成となっている。   At present, liquid crystal displays are mainly divided into TV applications and mobile applications. In mobile applications, both reflective and reflective parts are used inside the liquid crystal cell to make it easy to see both indoors and indoors, which are relatively dark. It has a complicated structure such as a display function.

図1は、通常の反射型モバイルディスプレイの層構成概要を示す断面模式図である。反射部では、視認側からの外光が液晶層を通過後、反射ミラー6にて反射するため、液晶層を2度通過することになるので、液晶層となる液晶セルギャップd/2が透過部の液晶セルギャップdと同等の機能を果たすことになる。更に詳しく述べると、視認側の偏光板1、カラーフィルター3、視認側の透明電極4、視認側の液晶配向膜5、液晶層をいずれも2度通過することになる。カラーフィルタ3は、視認側の透明基板3aと画素配列された着色層3bとから成る。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an outline of a layer structure of a normal reflective mobile display. In the reflection part, since the external light from the viewing side passes through the liquid crystal layer and then is reflected by the reflection mirror 6, it passes through the liquid crystal layer twice, so that the liquid crystal cell gap d / 2 serving as the liquid crystal layer is transmitted. The same function as the liquid crystal cell gap d of the portion is achieved. More specifically, the polarizing plate 1 on the viewing side, the color filter 3, the transparent electrode 4 on the viewing side, the liquid crystal alignment film 5 on the viewing side, and the liquid crystal layer all pass twice. The color filter 3 includes a transparent substrate 3a on the viewing side and a colored layer 3b in which pixels are arranged.

反射型ディスプレイでは、上記層構成に更に視認側の位相差膜2を追加することによって、光の位相を揃えて駆動するようにしなければならない。また、透過部を考慮した視認対面側の構造も必要であり、視認対面側の液晶配向膜7、視認対面側の透明電極8、視認対面側の透明基板9、視認対面側の位相差膜10、視認対面側の偏光板11、および液晶セル外部に設置されるバックライト12を含めた主な構成要素が配置される。なお、液晶駆動方式に対応して種々の電極配置が必要になるが、図1には、そのための電気的機構の詳細は省略し、光学的な構成要素を主に示している。   In the reflection type display, the phase difference film 2 on the viewing side is further added to the above layer structure to drive the light with the same phase. In addition, a viewing-facing-side structure in consideration of the transmission part is also necessary, and the viewing-facing-side liquid crystal alignment film 7, the viewing-facing-side transparent electrode 8, the viewing-facing-facing-side transparent substrate 9, and the viewing-facing-facing-side retardation film 10. The main components including the polarizing plate 11 on the side facing the viewer and the backlight 12 installed outside the liquid crystal cell are arranged. Various electrode arrangements are required corresponding to the liquid crystal driving method, but FIG. 1 omits the details of the electrical mechanism and mainly shows the optical components.

反射型ディスプレイのデメリットとして、位相差膜を液晶層の上下に挟む必要があるため、透過部の明るさが低下するという点が挙げられる。   As a disadvantage of the reflective display, it is necessary to sandwich the retardation film above and below the liquid crystal layer, so that the brightness of the transmissive portion is reduced.

上記の問題を改善するため、最近では、反射部のみに位相差をつける方式が考案されている。この方式は、重合性液晶より成る位相差膜をカラーフィルターに塗布して、パターニング技術により、反射部のみに位相差が出現するようにパターニングする方法で、位相差膜をカラーフィルターの液晶セル内面側に形成してインセル化することが特徴である。層構成を図2に示す。   In order to improve the above problem, recently, a method of giving a phase difference only to the reflection part has been devised. In this method, a phase difference film made of a polymerizable liquid crystal is applied to a color filter, and is patterned using a patterning technique so that a phase difference appears only in the reflection part. It is characterized in that it is formed on the side and made in-cell. The layer structure is shown in FIG.

図2は、位相差膜をインセル化した反射型モバイルディスプレイの層構成概要を示す断面模式図である。図1に表示された、視認側の位相差膜2と視認対面側の位相差膜10を含まず、替わって、カラーフィルタ3の液晶セル内面側の反射部に対応した位置に異方性の位相差膜14を形成している。透過部に対応した位置に形成される等方性の位相差膜15は、後述のように、位相差膜としての機能を除去した結果であって、物質として除去することも可能である。また、位相差膜を形成するための手段として、位相差膜用の配向膜13を予めカラーフィルタ上に形成しておくことが必要である。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an outline of a layer structure of a reflective mobile display in which a retardation film is in-celled. 1 does not include the phase difference film 2 on the viewing side and the phase difference film 10 on the side facing the viewing side, and instead is anisotropic in a position corresponding to the reflective portion on the inner surface side of the liquid crystal cell of the color filter 3. A retardation film 14 is formed. As will be described later, the isotropic retardation film 15 formed at a position corresponding to the transmission part is a result of removing the function as the retardation film, and can be removed as a substance. Further, as a means for forming the retardation film, it is necessary to previously form the alignment film 13 for the retardation film on the color filter.

反射部のみに位相差を持たせる方法としては、フォトリソ方式により透過部の位相差膜を現像除去してしまう方法と、現像工程を要しないで、露光と焼成のみで形成する方法がある。   As a method of giving a phase difference only to the reflection portion, there are a method of developing and removing the retardation film of the transmission portion by a photolithography method, and a method of forming only by exposure and baking without requiring a development step.

前者は、透過部の位相差膜を露光と現像のパターニング手段により選択除去する技術、後者は、現像溶解性を持たない重合性液晶を配向膜上で配向させて異方性を持たせた後、反射部に対応する位置の重合性液晶のみを露光で硬化させて異方性を固定する一方、露光されていない透過部に対応する位置の重合性液晶は焼成時に等方相に戻るという技術を採用する。   The former is a technique that selectively removes the retardation film in the transmissive part by exposure and development patterning means, and the latter is after anisotropy is achieved by orienting a polymerizable liquid crystal having no development solubility on the alignment film. , Only the polymerizable liquid crystal at the position corresponding to the reflective portion is cured by exposure to fix the anisotropy, while the polymerizable liquid crystal at the position corresponding to the unexposed transmission portion returns to the isotropic phase upon firing. Is adopted.

どちらの技術も、透過部で本来の異方性を有する位相差膜をはさむ必要が無くなるため、光の透過を阻害しなくなる。したがって、透過部の明るさ向上という特性が得られ、コントラストの向上にも寄与する。   In either technique, it is not necessary to sandwich the retardation film having the original anisotropy at the transmission part, so that the transmission of light is not hindered. Therefore, the characteristic of improving the brightness of the transmissive part is obtained, which contributes to the improvement of contrast.

また、後述のように、位相差膜インセル化の技術を採用することによって、反射部についても、コントラストを向上させることができる。   Further, as will be described later, the contrast of the reflective portion can be improved by adopting the technology of retardation film in-cell.

元来、位相差膜は、光の波長λに対して主にλ/4の位相差を補正するものであるが、カラーフィルターディスプレイの画素は赤、青、緑等の各波長の光を生じるため、最も適正な位相差膜が異なる。つまり、赤は波長が長いため、長波長用の位相差膜、逆に青は波長が短いため、短波長用の位相差膜を用いることが望ましい。   Originally, the retardation film mainly corrects the phase difference of λ / 4 with respect to the wavelength λ of the light, but the pixel of the color filter display generates light of each wavelength such as red, blue, and green. Therefore, the most appropriate retardation film is different. That is, since red has a long wavelength, it is desirable to use a retardation film for a long wavelength, and conversely, blue has a short wavelength, so that a retardation film for a short wavelength is used.

通常の位相差膜をはさむ方式では、赤、青、緑、全ての画素で同一の位相差膜を使用することが前提となっている。しかし、位相差膜をインセル化して、反射部の各画素の色に対応させた位相差膜を形成することにより、位相差補正効果が最適となり、反射部のコントラストを向上させることができる。反射部の各画素の色に対応させた位相差膜とは、赤の画素、青の画素、緑の画素で位相差に階調をつけるものである。   In the method of sandwiching a normal retardation film, it is assumed that the same retardation film is used for all pixels of red, blue, and green. However, by forming the phase difference film in-cell and forming a phase difference film corresponding to the color of each pixel of the reflection portion, the effect of correcting the phase difference is optimized and the contrast of the reflection portion can be improved. The phase difference film corresponding to the color of each pixel of the reflection unit is a layer that adds gradation to the phase difference of the red pixel, the blue pixel, and the green pixel.

位相差膜に階調をつける方法としては、各画素での膜厚に変化をつける方法、または、露光量を制御することによって、位相差膜を構成する重合性液晶の重合性に階調をつけ、結果的に異方性に階調をつける方法がある。   As a method of adding gradation to the retardation film, a method of changing the film thickness at each pixel, or by controlling the exposure amount, gradation is applied to the polymerizable property of the polymerizable liquid crystal constituting the retardation film. As a result, there is a method of adding gradation to anisotropy.

近年のモバイルディスプレイへの画質向上需要が高まる中で、位相差膜のインセル化技術によるコントラスト向上は益々求められている。上記の異方性の位相差膜14を高品質で製造するためには、前述のとおり、位相差膜用の配向膜13を予めカラーフィルタ上に高品質で形成しておくことが必要である。   With the recent increase in image quality demand for mobile displays, there is an increasing demand for contrast enhancement by in-cell retardation film technology. In order to manufacture the anisotropic retardation film 14 with high quality, it is necessary to previously form the alignment film 13 for retardation film with high quality on the color filter as described above. .

前述の位相差膜は、重合性液晶からなるが、通常の駆動用の液晶材料と同様に、異方性を持たせるためには下地に配向膜が必要となる。配向膜には、主にポリイミド(PI)が用いられており、ラビングと呼ばれる処理によって、その上に塗られる重合性液晶を配向させる。   The retardation film described above is made of a polymerizable liquid crystal, but an alignment film is required as a base in order to provide anisotropy in the same manner as a normal liquid crystal material for driving. For the alignment film, polyimide (PI) is mainly used, and the polymerizable liquid crystal applied thereon is aligned by a process called rubbing.

しかし、通常の駆動用液晶材は、硬化していない低粘度状態で液性の高いものが封入されるのに対して、重合性液晶は、形成過程において光、熱によって次第に硬化していくため、液晶材の面内流動によりハジキを発生してしまう。配向膜上に塗られた重合性液晶剤がハジキを生じると、その部分は全く異方性を失ってしまい、光の偏向を制御できなくなる重大な欠陥となる。   However, normal liquid crystal materials for driving are encapsulated in an uncured, low-viscosity, highly liquid material, whereas polymerizable liquid crystals are gradually cured by light and heat during the formation process. Then, repelling occurs due to in-plane flow of the liquid crystal material. When the polymerizable liquid crystal agent applied on the alignment film is repelled, the portion loses anisotropy at all and becomes a serious defect that makes it impossible to control the deflection of light.

また、ラビング工程は、基板を布等で擦るドライ工程であるため、被ラビング基板は帯電しやすい。帯電した基板には塵埃が付着しやすくなる等の不具合を発生する。ラビング装置には帯電除去のためのイオナイザーを付帯することが多いが、それでも十分な帯電除去対策とは言えない。   Further, since the rubbing process is a dry process in which the substrate is rubbed with a cloth or the like, the substrate to be rubbed is easily charged. There is a problem that dust is likely to adhere to the charged substrate. Although the rubbing apparatus is often accompanied by an ionizer for removing the charge, it is still not a sufficient charge removal measure.

一方、半導体基板や液晶表示基板の表面処理方法に関して、多くの提案がなされており、紫外線を基板に照射して基板表面の清浄度を高める工夫も行われている(特許文献1参照)。中でも、真空紫外光と呼ばれる波長100〜200nmの光は、殆どの物質の原子間結合力より大きく、結合を直接切断することが可能である。近年、Xe(キセノン)ガスを代表とする希ガスを用いたエキシマランプの実用化が進み、基板の洗浄等の表面処理技術への応用が図られている。
特開2001−300454号公報
On the other hand, many proposals have been made regarding surface treatment methods for semiconductor substrates and liquid crystal display substrates, and devices have been devised to increase the cleanliness of the substrate surface by irradiating the substrate with ultraviolet rays (see Patent Document 1). Among these, light having a wavelength of 100 to 200 nm called vacuum ultraviolet light is larger than the interatomic bonding force of most substances and can directly break the bond. In recent years, excimer lamps using a rare gas typified by Xe (xenon) gas have been put into practical use, and applied to surface treatment techniques such as substrate cleaning.
JP 2001-300454 A

本発明が解決しようとする課題は、液晶表示素子に用いる配向膜の表面に高い清浄度を実現させ、ハジキ等の生じない均一な配向膜を形成し、ラビング工程とその後の工程に高品質の部材を提供するための方法と、それを実現するためのラビング装置を提供することである。特に、重合性液晶から成る異方性の位相差膜を形成するための配向膜の表面に高い清浄度を実現して、異方性の位相差膜がハジキによる欠陥を発生させないことを目的とする。   The problem to be solved by the present invention is to realize a high cleanliness on the surface of the alignment film used in the liquid crystal display element, to form a uniform alignment film free from cissing, etc., and to provide a high quality for the rubbing process and subsequent processes. It is providing the method for providing a member, and the rubbing apparatus for implement | achieving it. In particular, it is intended to achieve high cleanliness on the surface of the alignment film for forming an anisotropic retardation film made of polymerizable liquid crystal, so that the anisotropic retardation film does not cause defects due to repelling. To do.

請求項1記載の発明は、液晶表示素子に用いる配向膜を形成する方法であって、該配向膜の塗布、焼成の後、ラビング処理前にUV(紫外線)を照射することを特徴とする配向膜形成方法である。   The invention according to claim 1 is a method for forming an alignment film used for a liquid crystal display element, wherein the alignment film is irradiated with UV (ultraviolet rays) after being applied and baked and before rubbing. This is a film forming method.

また、請求項2記載の発明は、前記配向膜が、位相差膜用の配向膜であることを特徴とする請求項1記載の配向膜形成方法である。   The invention according to claim 2 is the alignment film forming method according to claim 1, wherein the alignment film is an alignment film for a retardation film.

また、請求項3記載の発明は、前記照射する紫外線が、波長100〜200nmの真空紫外域にピークを有するUV照射方式であることを特徴とする請求項1または2に記載の配向膜形成方法である。   The invention according to claim 3 is the alignment film forming method according to claim 1 or 2, wherein the ultraviolet ray to be irradiated is a UV irradiation method having a peak in a vacuum ultraviolet region having a wavelength of 100 to 200 nm. It is.

また、請求項4記載の発明は、前記照射する紫外線が、172nm付近の単一波長にピークを有するXe(キセノン)ガスを用いたエキシマUV照射方式であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の配向膜形成方法である。   The invention according to claim 4 is an excimer UV irradiation method using Xe (xenon) gas having a peak at a single wavelength near 172 nm. The alignment film forming method according to any one of the above.

また、請求項5記載の発明は、前記Xeガスを用いたエキシマUV照射方式において、照射する紫外線の光量が、10mJ/cm2〜200mJ/cm2の範囲内にあることを特徴とする請求項4記載の配向膜形成方法である。 Further, Claim invention of claim 5, in excimer UV irradiation system using the Xe gas, the quantity of ultraviolet light to be irradiated, characterized in that in the range of 10mJ / cm 2 ~200mJ / cm 2 4. An alignment film forming method according to 4.

また、請求項6記載の発明は、前記Xeガスを用いたエキシマUV照射方式において、UV照射窓面と被照射基板面との距離を、1mm〜5mmの範囲とすることを特徴とする請求項4または5に記載の配向膜形成方法である。   The invention described in claim 6 is characterized in that, in the excimer UV irradiation method using the Xe gas, the distance between the UV irradiation window surface and the substrate surface to be irradiated is in the range of 1 mm to 5 mm. 4. The alignment film formation method according to 4 or 5.

また、請求項7記載の発明は、液晶配向膜、もしくはラビングにより配向性を有する膜を形成する際に用いる装置であって、該膜のラビング処理前にUV(紫外線)を照射する手段を具備するラビング装置である。   The invention described in claim 7 is an apparatus used when forming a liquid crystal alignment film or a film having orientation by rubbing, and comprises means for irradiating UV (ultraviolet light) before rubbing treatment of the film. It is a rubbing device.

また、請求項8記載の発明は、前記照射する紫外線を、波長100〜200nmの真空紫外域にピークを有するUV照射手段から発することを特徴とする請求項7記載のラビング装置である。   The invention according to claim 8 is the rubbing apparatus according to claim 7, characterized in that the ultraviolet rays to be emitted are emitted from UV irradiation means having a peak in a vacuum ultraviolet region having a wavelength of 100 to 200 nm.

また、請求項9記載の発明は、前記照射する紫外線を、172nm付近の単一波長にピークを有するXe(キセノン)ガスを封したエキシマUV照射手段から発することを特徴とする請求項7または8に記載のラビング装置である。   The invention according to claim 9 is characterized in that the ultraviolet rays to be emitted are emitted from an excimer UV irradiation means sealed with Xe (xenon) gas having a peak at a single wavelength near 172 nm. The rubbing apparatus described in 1.

また、請求項10記載の発明は、前記Xeガスを封したエキシマUV照射手段において、UV照射窓面と被照射基板面との距離を、1mm〜5mmの範囲に設定できることを特徴とする請求項9記載のラビング装置である。   The invention according to claim 10 is characterized in that, in the excimer UV irradiation means in which the Xe gas is sealed, the distance between the UV irradiation window surface and the irradiated substrate surface can be set in a range of 1 mm to 5 mm. 9. The rubbing apparatus according to 9.

本発明は以上の構成であるから、以下に示す如き効果がある。すなわち、請求項1に係わる発明によれば、配向膜を塗布し、焼成した後に、ラビング処理前に紫外線を照射することによって、配向膜の表面を改質、親水化処理した後にラビングすることが可能となるので、配向膜に十分なラビング効果を付与することができる。また、配向膜表面のラビングによる帯電も、事前の紫外線照射によって緩和されるという除電効果が得られ、帯電による塵埃付着を回避できるので、高品質の部材を提供することができる。   Since this invention is the above structure, there exist the following effects. That is, according to the invention according to claim 1, after the alignment film is applied and baked, the surface of the alignment film is modified and hydrophilized by irradiating with ultraviolet rays before the rubbing process. Thus, a sufficient rubbing effect can be imparted to the alignment film. Further, since the charge due to rubbing of the alignment film surface is also reduced by the prior ultraviolet irradiation, dust removal due to the charge can be avoided, so that a high quality member can be provided.

また、請求項2に係わる発明によれば、配向膜の焼成後、ラビング処理前に紫外線を照射すると、焼成により配向膜中より配向膜最表面に染み出し(ブリードアウト)した添加剤等に選択的に紫外線が作用し、例えばコート性向上のためのレベリング剤等の添加剤は塗布後は不要となるものであり、添加剤を酸化除去、もしくは親水化することが可能となる。これにより、配向性の阻害因子を除去した状態でラビング処理が可能となり、より効率的なラビング処理が実現する。特に、位相差膜用の配向膜においては、平坦化機能を兼ね備えて比較的厚い膜とすることが多いので、配向膜最表面にブリードアウトする添加剤の影響が無視できないため、とりわけ、顕著な効果を得ることができる。しかも、ラビング後の塗布工程でハジキを生じやすい重合性液晶に対する影響は、通常の駆動用液晶材に対する影響より厳しいだけに、その効果も顕著となる。   Further, according to the invention according to claim 2, when the alignment film is baked and irradiated with ultraviolet rays before the rubbing treatment, an additive that bleeds out (bleeds out) from the alignment film to the outermost surface of the alignment film is selected. In particular, ultraviolet rays act, and additives such as a leveling agent for improving coatability are not required after coating, and the additive can be removed by oxidation or hydrophilicized. As a result, the rubbing process can be performed in a state in which the orientation inhibiting factor is removed, and a more efficient rubbing process is realized. In particular, in an alignment film for a retardation film, since it is often a relatively thick film having a flattening function, the influence of an additive that bleeds out to the outermost surface of the alignment film cannot be ignored. An effect can be obtained. In addition, since the influence on the polymerizable liquid crystal that is likely to cause repelling in the coating process after rubbing is more severe than the influence on the normal driving liquid crystal material, the effect is also remarkable.

また、請求項3に係わる発明によれば、真空紫外域に強度のピークを有する紫外線は殆どの物質の原子間結合力より大きく、結合を直接切断することが可能なので、請求項1および2に関して述べた上述の表面改質効果を効率よく確実に得ることができる。   Further, according to the invention according to claim 3, ultraviolet rays having an intensity peak in the vacuum ultraviolet region are larger than the interatomic bonding force of most substances and can directly break the bond. The aforementioned surface modification effect described above can be obtained efficiently and reliably.

また、請求項4に係わる発明によれば、172nm付近の単一波長を有するXeエキシマUV照射を利用すれば、表面改質に必要となる活性種「O・」、「O3」、「HO・」を効率的に生成することが可能となり、最も安定して使用できる。すなわち、紫外線の被
照射基板全体に対するダメージが少なく、被照射基板の表面付近のみで表面改質反応が促進するという特徴がある。
Further, according to the invention of claim 4, if Xe excimer UV irradiation having a single wavelength near 172 nm is used, active species “O.”, “O 3 ”, “HO” required for surface modification are used. "" Can be generated efficiently and can be used most stably. That is, there is a feature that the surface modification reaction is accelerated only in the vicinity of the surface of the substrate to be irradiated with little damage to the entire substrate to be irradiated with ultraviolet rays.

また、請求項5に係わる発明によれば、照射する紫外線の光量は、10mJ/cm2〜200mJ/cm2の範囲内で照射することにより、基板ダメージが無く、表面改質が良好に、すなわちハジキを回避して行うことができる。10mJ/cm2未満ではハジキに対して効果が低く、200mJ/cm2を超えて照射するとラビング効果が低下する。 Further, according to the invention according to claim 5, the amount of ultraviolet rays to be irradiated, by irradiating in a range of 10mJ / cm 2 ~200mJ / cm 2 , no substrate damage, better surface modification, i.e. This can be done while avoiding repelling. If it is less than 10 mJ / cm 2 , the effect on repelling is low, and if it exceeds 200 mJ / cm 2 , the rubbing effect decreases.

また、請求項6に係わる発明によれば、Xeガスを用いたエキシマUV照射方式において、UV照射窓面と被照射基板面との距離は1mm〜5mmの範囲としている。これにより、照射窓面と被照射基板の表面が離れるにつれて、大気吸収により紫外線が急速に減衰して表面改質効果が減少する影響を防ぐとともに、逆に距離が近過ぎて、照射窓面と被照射基板が接触する恐れや表面改質効果が不均一になることを避けることができる。   According to the invention relating to claim 6, in the excimer UV irradiation method using Xe gas, the distance between the UV irradiation window surface and the irradiated substrate surface is in the range of 1 mm to 5 mm. As a result, as the irradiation window surface and the surface of the substrate to be irradiated are separated from each other, the ultraviolet light is rapidly attenuated due to atmospheric absorption to prevent the effect of reducing the surface modification effect, and conversely, the distance is too close to the irradiation window surface. It is possible to avoid the possibility that the substrate to be irradiated comes into contact and the non-uniform surface modification effect.

また、請求項7〜10に係わる発明によれば、前述の請求項1〜6に述べた配向膜形成方法を実施するための実用的な生産装置をラビング装置として提供することにより、UV照射をラビング処理前に確実に安定して実施するための一体となる手段を得ることができ、工程を安定化させ、高品質の部材を提供することができる。   Moreover, according to the invention concerning Claims 7-10, UV irradiation is provided by providing the practical production apparatus for implementing the alignment film formation method described in the above-mentioned Claims 1-6 as a rubbing apparatus. It is possible to obtain an integrated means for reliably and stably performing the rubbing process, stabilize the process, and provide a high-quality member.

以下に、本発明における配向膜形成方法およびラビング装置について、その実施の形態に基づいて説明する。   Hereinafter, an alignment film forming method and a rubbing apparatus according to the present invention will be described based on embodiments thereof.

図3は、本発明の配向膜形成方法を説明するためのライン構成図であり、配向膜の塗布、焼成、紫外線照射、ラビングまでの各処理の流れを簡潔に示した図である。16は塗布装置、17は焼成のためのオーブン、18はラビング装置、19はUV照射手段を示すものであり、矢印20の向きに処理基板を通過させる。塗布装置16は、塗布膜の材質や厚さ等の条件により、適宜選択でき、スピンコート、ダイコート、カーテンコート、フレキソ印刷、グラビア印刷、インクジェット塗布、等により、可能である。オーブン17はバッチ式の熱循環式でもホットプレート式でも良く、乾燥から焼成に至る条件に応じてそれらを使い分ける。ラビング装置18は回転式のラビング布の機構と基板送りステージとそれらの位置および角度の調整機能を有している一般的なもので良い。   FIG. 3 is a line configuration diagram for explaining the alignment film forming method of the present invention, and is a diagram briefly showing the flow of each process from alignment film coating, baking, ultraviolet irradiation, and rubbing. Reference numeral 16 denotes a coating apparatus, 17 denotes an oven for baking, 18 denotes a rubbing apparatus, and 19 denotes a UV irradiation means. The processing substrate is passed in the direction of an arrow 20. The coating device 16 can be appropriately selected depending on conditions such as the material and thickness of the coating film, and can be achieved by spin coating, die coating, curtain coating, flexographic printing, gravure printing, inkjet coating, and the like. The oven 17 may be a batch type heat circulation type or a hot plate type, and they are used properly according to conditions from drying to baking. The rubbing device 18 may be a general one having a rotary rubbing cloth mechanism, a substrate feed stage, and a function of adjusting their position and angle.

焼成オーブンとラビング装置の間にUV照射手段19として、エキシマUV照射装置を配置することができるが、エキシマUV照射装置は焼成オーブン内やラビング装置内に設けられていてもかまわない。しかし、ラビング装置内に設ける方が、ラビングまでの条件を一定に保ち易く、より好ましい。本発明では、配向膜の焼成後から配向膜のラビング開始までにUV照射をすることが必須である。配向膜の焼成前のUV照射では、UV照射後に焼成により配向膜中からの添加剤等のブリードアウトが発生して、表面改質の効果は不十分となる。また、ラビング処理後のUV照射では、ラビング処理そのものの効果を打ち消す方向のダメージを与える。   An excimer UV irradiation device can be disposed as the UV irradiation means 19 between the baking oven and the rubbing device, but the excimer UV irradiation device may be provided in the baking oven or the rubbing device. However, it is more preferable to provide in the rubbing apparatus because the conditions up to rubbing can be easily maintained. In the present invention, it is essential to perform UV irradiation after baking the alignment film and before starting the rubbing of the alignment film. In the UV irradiation before firing of the alignment film, bleedout of additives and the like from the alignment film occurs by baking after UV irradiation, and the effect of surface modification becomes insufficient. Further, the UV irradiation after the rubbing process causes damage in a direction that cancels the effect of the rubbing process itself.

UV照射手段19として、172nmの単一波長のピークをもつXeガスを用いたエキシマUVランプが望ましい。Xeガスを用いたエキシマUVランプを採用する場合は、照射光量を10mJ/cm2〜200mJ/cm2程度とすることが好ましい。少な過ぎれば、照射の効果が充分に得られず、また、多過ぎれば、エネルギー効率が悪いだけでなく、過剰な表面改質効果が行過ぎて表面へのダメージを引き起こす。また、この時のUV照射窓面と被照射基板面との距離は1mm〜5mmの範囲が適当である。照射窓面と被照射基板の表面が離れるにつれて、大気吸収により紫外線が急速に減衰して表面改質効果が減少するので、5mm以下とし、逆に距離が近過ぎて、照射窓面と被照射基板が接触する恐れや表面改質効果が不均一になることを避けるために、1mm以上の距離を保つ。 As the UV irradiation means 19, an excimer UV lamp using Xe gas having a single wavelength peak of 172 nm is desirable. When employing an excimer UV lamp using Xe gas is preferably set to 10mJ / cm 2 ~200mJ / cm 2 about the irradiation light amount. If the amount is too small, the effect of irradiation cannot be sufficiently obtained. If the amount is too large, not only is the energy efficiency poor, but an excessive surface modification effect is excessively caused to cause damage to the surface. In addition, the distance between the UV irradiation window surface and the irradiated substrate surface at this time is suitably in the range of 1 mm to 5 mm. As the irradiation window surface and the surface of the substrate to be irradiated are separated from each other, ultraviolet rays are rapidly attenuated due to atmospheric absorption and the surface modification effect is reduced. Therefore, the surface modification effect is reduced to 5 mm or less. The distance of 1 mm or more is maintained in order to avoid the possibility of contact with the substrate and non-uniform surface modification effects.

UV照射手段19として、185nm、254nmを含む低圧水銀ランプを搭載してもかまわない。低圧水銀ランプを採用する場合は、照射光量を100mJ/cm2〜1000mJ/cm2程度が好ましく、照射距離に関しても表面改質効果が敏感ではないため、10mm〜100mmの範囲が適当である。 As the UV irradiation means 19, a low-pressure mercury lamp including 185 nm and 254 nm may be mounted. When employing a low pressure mercury lamp is preferably about 100mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 irradiation amount, because it is not sensitive surface modification effect with regard irradiation distance, the range of 10mm~100mm is appropriate.

Xeガスを用いたエキシマUVを照射する場合、酸素濃度4%程度が最も表面改質効果が高い。したがって図3中の21に示すN2ガス供給スリットを設ける方法もある。しかし、請求項5で提示した光量10mJ/cm2〜200mJ/cm2は大気雰囲気下の条件であり、酸素濃度を調整する場合には、光量も随時調整する必要がある。 When excimer UV using Xe gas is irradiated, an oxygen concentration of about 4% has the highest surface modification effect. Therefore, there is a method of providing an N 2 gas supply slit 21 shown in FIG. However, the amount 10mJ / cm 2 ~200mJ / cm 2 presented in claim 5 is a condition under air atmosphere, in the case of adjusting the oxygen concentration, the amount of light it is necessary to adjust from time to time.

本発明の配向膜形成方法を実施するためのラビング装置は、液晶配向膜、もしくはラビングにより配向性を有する膜を形成する際に用いる装置であって、該膜のラビング処理前にUV(紫外線)を照射する手段を具備するラビング装置である。UVを照射するランプの本数やランプ固有の照度は特に限定するものではないが、Xeガスを用いたエキシマUV照射手段の場合は、照射する紫外線の光量が、10mJ/cm2〜200mJ/cm2の照射光量を確保できるようにランプと本数を選択して搭載することが望ましい。また、光量の調整はUV照射手段の下のコンベア搬送速度にて調整可能であるものとし、UVランプの点灯本数も任意に設定できる機構とする。 The rubbing apparatus for carrying out the alignment film forming method of the present invention is an apparatus used when forming a liquid crystal alignment film or a film having alignment properties by rubbing, and UV (ultraviolet light) before rubbing treatment of the film. It is a rubbing apparatus provided with the means to irradiate. The number of lamps to be irradiated with UV and the illuminance specific to the lamp are not particularly limited, but in the case of excimer UV irradiation means using Xe gas, the amount of ultraviolet light to be irradiated is 10 mJ / cm 2 to 200 mJ / cm 2. It is desirable to select and mount the lamp and the number so that the amount of irradiation light can be secured. In addition, the light quantity can be adjusted at the conveyor conveyance speed under the UV irradiation means, and the number of UV lamps to be turned on can be arbitrarily set.

エキシマUVランプは経時で照度低下を生じる。したがって、エキシマUVランプの照度は常時モニタリングできるものとし、減衰した分をランプ出力調整で自動フィードバックできることが望ましい。また照度を測定する受光器も経時で劣化し、正しい照度を算出できなくなる。受光器の交換頻度は1回/年以上の頻度で実施する必要がある。照度モニタリングの機構は図4のエキシマUVランプの構造説明図に示す。   Excimer UV lamps cause a decrease in illuminance over time. Therefore, it is desirable that the illuminance of the excimer UV lamp can be monitored at all times, and the attenuated amount can be automatically fed back by adjusting the lamp output. In addition, the light receiver that measures illuminance also deteriorates with time, and correct illuminance cannot be calculated. It is necessary to replace the light receiver at a frequency of once / year or more. The mechanism of illuminance monitoring is shown in the structure explanatory diagram of the excimer UV lamp in FIG.

図4中の24はUV反射ミラーであって、UVランプ25から上方に照射されたUVを反射し、UVランプ25からの直接光とともに、基板側に設けられたUV照射窓26の方に均一に照射する。また、22が受光器、23が受光部であり、23は反射ミラーに穴が開いた構造となっている。   In FIG. 4, reference numeral 24 denotes a UV reflecting mirror that reflects the UV irradiated upward from the UV lamp 25 and is uniform toward the UV irradiation window 26 provided on the substrate side together with the direct light from the UV lamp 25. Irradiate. Further, 22 is a light receiver, 23 is a light receiving portion, and 23 has a structure in which a hole is formed in the reflection mirror.

本発明の実施形態を説明したUV照射手段の内、172nm付近の単一波長を有するXe(キセノン)ガスを用いたエキシマUV照射手段は、各種の希ガスを用いるエキシマUVランプの中で最も一般的に使用されるものであり、一般に希ガスエキシマUVランプは真空紫外光と呼ばれる波長100〜200nmの光を放射する。真空紫外光のエネルギーは殆どの物質の原子間結合力より大きく、結合を直接切断することが可能なので、表面処理の手段として適していることが、一般に知られているが、本発明は、液晶表示素子に用いる配向膜を形成する方法において、塗布、焼成された配向膜のラビング処理前にエキシマUV照射による表面改質を行うことが有効であることを提案するものである。   The excimer UV irradiation means using Xe (xenon) gas having a single wavelength near 172 nm among the UV irradiation means explaining the embodiments of the present invention is the most common among excimer UV lamps using various rare gases. In general, rare gas excimer UV lamps emit light having a wavelength of 100 to 200 nm called vacuum ultraviolet light. It is generally known that the energy of vacuum ultraviolet light is larger than the interatomic bonding force of most substances and can be directly broken, so that it is suitable as a means for surface treatment. In the method of forming an alignment film used for a display element, it is proposed that it is effective to perform surface modification by excimer UV irradiation before rubbing the coated and baked alignment film.

以下、実施形態に沿った具体的な運用方法について説明する。配向膜の塗布、焼成からラビングまでの流れは既述の図3に示した通りであるが、実施例においては、各装置は単独の評価用装置であり、各工程は手搬送で処理を実施した。   Hereinafter, a specific operation method according to the embodiment will be described. The flow from coating and baking of the alignment film to rubbing is as shown in FIG. 3 described above. In the examples, each device is a single evaluation device, and each process is processed by hand conveyance. did.

位相差膜用の配向膜は図2の13に示す通り、カラーフィルターの上に形成する。しかし、実際のカラーフィルター表面は図2に示すような平坦ではなく、凹凸を持っている。この凹凸は図2の14に示す位相差膜の特性に不具合を引き起こすため、平坦化膜と配向膜双方の機能を有する平坦化配向膜として使用した。   The alignment film for the retardation film is formed on the color filter as indicated by 13 in FIG. However, the actual color filter surface is not flat as shown in FIG. Since the unevenness causes a problem in the characteristics of the retardation film 14 shown in FIG. 2, it was used as a planarizing alignment film having both functions of the planarizing film and the alignment film.

カラーフィルターに平坦化配向膜をスピンコート法で塗布し、到達圧133Paにて減圧乾燥した後、90℃にて60secプレベークを実施した。なお、プレベークにはホットプレートを使用した。プレベーク後は、熱循環式のオーブンにて200℃、60minの焼成を実施した。   A planarizing alignment film was applied to the color filter by spin coating, dried under reduced pressure at an ultimate pressure of 133 Pa, and then pre-baked at 90 ° C. for 60 seconds. A hot plate was used for pre-baking. After pre-baking, firing was performed at 200 ° C. for 60 minutes in a heat-circulating oven.

焼成後は、172nm単一波長のXeエキシマUVをギャップ2mmにて70mJ/cm2照射し、純水超音波にて10min洗浄、その後、ラビング処理を実施した。なお、ラビング条件にはラビング布回転速度500rpm、送り速度50mm/secを採用した。 After the firing, a Xe excimer UV at 172nm single wavelength and 70 mJ / cm 2 irradiation at gap 2 mm, 10min washed with pure water ultrasonic before performing the rubbing process. The rubbing conditions were a rubbing cloth rotation speed of 500 rpm and a feed speed of 50 mm / sec.

その後、再度純水にて10min洗浄し、重合性液晶をスピンコート法で塗布、平坦化配向膜と同一の条件にて減圧乾燥、プレベーク処理をした。重合性液晶材は現像液溶解性のものではなく、露光量で階調制御するものを採用した。オーブン処理も平坦化配向膜と同一の条件にて処理し、ハジキの有無と配向性を確認した。   Thereafter, it was again washed with pure water for 10 minutes, and the polymerizable liquid crystal was applied by spin coating, dried under reduced pressure, and pre-baked under the same conditions as the planarizing alignment film. The polymerizable liquid crystal material was not a developer-soluble material, but a material whose gradation was controlled by the exposure amount. The oven treatment was also performed under the same conditions as the planarized alignment film, and the presence and orientation of repelling were confirmed.

上記プロセスにて作製したサンプルを確認した結果、ハジキは確認されず、配向性にも問題はなかった。一方で、リファレンスとして作製したエキシマUV処理のみを無くしたサンプルではハジキが多発していることも確認できた。   As a result of confirming the sample produced by the above process, no repelling was confirmed, and there was no problem in the orientation. On the other hand, it was also confirmed that repellency occurred frequently in the sample without the excimer UV treatment produced as a reference.

平坦化配向膜へのエキシマUVの照射量と水の接触角の関係を図5に示す。水の接触角は任意単位で表示した。照射量を多くすると接触角が低下し、表面改質が進んでいることが分かる。80mJ/cm2程度でほぼ定常に達していることがわかる。 FIG. 5 shows the relationship between the amount of excimer UV applied to the planarizing alignment film and the contact angle of water. The water contact angle was displayed in arbitrary units. It can be seen that when the irradiation amount is increased, the contact angle is lowered and the surface modification is progressing. It can be seen that a steady state is reached at about 80 mJ / cm 2 .

また、配向性を示す黒輝度とエキシマUV照射量との関係を図6に示す。黒輝度は液晶セル反射部の値であり、任意単位で表示した。重合性液晶から成る異方性の位相差膜の配向状態が良好であると低い黒輝度を示すはずであるが、本実施例では、照射量80mJ/cm2以上で急激に黒輝度が上がっていることが分かり、これは配向性の悪化を示す。図6は、配向膜性能に対するエキシマUV照射量の依存性は少なくとも表している。 FIG. 6 shows the relationship between the black luminance indicating the orientation and the excimer UV irradiation amount. The black luminance is a value of the liquid crystal cell reflection portion and is displayed in an arbitrary unit. If the alignment state of the anisotropic retardation film made of a polymerizable liquid crystal is good, the black luminance should be low, but in this example, the black luminance suddenly increased at an irradiation amount of 80 mJ / cm 2 or more. This shows that the orientation deteriorates. FIG. 6 shows at least the dependence of the excimer UV dose on the alignment film performance.

平坦化配向膜、もしくは配向膜の材料によってエキシマUVへの耐性は異なる。今回使用した平坦化配向膜は80mJ/cm2がUV照射量としては適正であり、ハジキも配向性不良も発生しなかった。 The excimer UV resistance varies depending on the planarization alignment film or the material of the alignment film. The planarization alignment film used this time was 80 mJ / cm 2 as the UV irradiation amount, and neither repelling nor poor alignment occurred.

上述のように、液晶表示素子に用いる配向膜、特に重合性液晶から成る異方性の位相差膜を形成するための配向膜の表面に高い清浄度を実現させ、異方性の位相差膜がハジキによる欠陥を発生させないことが確認できた。これにより、本発明は、ハジキ等の生じない均一な配向膜を形成し、ラビング工程とその後の工程に高品質の部材を提供するための方法と、それを実現するためのラビング装置を提供できることが判明した。   As described above, the alignment film used for the liquid crystal display element, in particular, the surface of the alignment film for forming the anisotropic retardation film made of polymerizable liquid crystal realizes high cleanliness, and the anisotropic retardation film It was confirmed that no defect caused by repelling occurred. As a result, the present invention can provide a method for forming a uniform alignment film free from repelling, etc., and providing a high-quality member for the rubbing process and subsequent processes, and a rubbing apparatus for realizing the method. There was found.

通常の反射型モバイルディスプレイの層構成概要を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the layer structure outline | summary of a normal reflection type mobile display. 位相差膜をインセル化した反射型モバイルディスプレイの層構成概要を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the layer structure outline | summary of the reflection type mobile display which made the retardation film in-cell. 本発明の配向膜形成方法を説明するためのライン構成図である。It is a line block diagram for demonstrating the alignment film formation method of this invention. エキシマUVランプの構造説明図である。It is structure explanatory drawing of an excimer UV lamp. 位相差膜用の配向膜へのエキシマUV照射量と水の接触角との関係を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the relationship between the excimer UV irradiation amount to the alignment film for retardation films, and the contact angle of water. 位相差膜用の配向膜へのエキシマUV照射量と液晶セル反射部の黒輝度との関係を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the relationship between the excimer UV irradiation amount to the alignment film for retardation films, and the black luminance of a liquid crystal cell reflection part.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・・視認側の偏光板
2・・・・視認側の位相差膜
3・・・・カラーフィルター
3a・・・視認側の透明基板
3b・・・着色層
4・・・・視認側の透明電極
5・・・・視認側の液晶配向膜
6・・・・反射ミラー
7・・・・視認対面側の液晶配向膜
8・・・・視認対面側の透明電極
9・・・・視認対面側の透明基板
10・・・視認対面側の位相差膜
11・・・視認対面側の偏光板
12・・・バックライト
13・・・位相差膜用の配向膜
14・・・異方性の位相差膜
15・・・等方性の位相差膜
16・・・塗布装置
17・・・オーブン
18・・・ラビング装置
19・・・UV照射手段
20・・・基板通過ライン
21・・・N2ガス供給スリット
22・・・UV照度モニター受光器
23・・・UV照度モニター受光器の受光部
24・・・UV反射ミラー
25・・・UVランプ
26・・・UV照射窓
27・・・N2ガス供給口
28・・・N2ガス排出口
d、d/2・・・液晶セルギャップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... The polarizing plate 2 on the visual recognition side ... The retardation film 3 on the visual recognition side ... The color filter 3a ... The transparent substrate 3b on the visual recognition side ... The colored layer 4 ... The visual recognition side Transparent electrode 5 of the viewing side Liquid crystal alignment film 6 on the viewing side Reflecting mirror 7 Liquid crystal orientation film 8 on the facing side Visible transparent electrode 9 on the viewing side Face-to-face transparent substrate 10 ... Visually-facing face-side retardation film 11 ... Visually-facing face-side polarizing plate 12 ... Backlight 13 ... Retardation film alignment film 14 ... Anisotropy The phase difference film 15 of the isotropic phase difference film 16 ... the coating device 17 ... the oven 18 ... the rubbing device 19 ... the UV irradiation means 20 ... the substrate passing line 21 ... N 2 gas supply slit 22 · · · UV irradiance monitor photodetector 23 · · · UV irradiance monitor photodetector of the light receiving unit 24 · · · UV anti Mirror 25 · · · UV lamp 26 · · · UV irradiation windows 27 · · · N 2 gas supply port 28 · · · N 2 gas outlet d, d / 2 ··· liquid crystal cell gap

Claims (10)

液晶表示素子に用いる配向膜を形成する方法であって、該配向膜の塗布、焼成の後、ラビング処理前にUV(紫外線)を照射することを特徴とする配向膜形成方法。   A method for forming an alignment film for use in a liquid crystal display device, wherein the alignment film is irradiated with UV (ultraviolet rays) after being applied and baked and before rubbing. 前記配向膜が、位相差膜用の配向膜であることを特徴とする請求項1記載の配向膜形成方法。   The alignment film forming method according to claim 1, wherein the alignment film is an alignment film for a retardation film. 前記照射する紫外線が、波長100〜200nmの真空紫外域にピークを有するUV照射方式であることを特徴とする請求項1または2に記載の配向膜形成方法。   The alignment film forming method according to claim 1 or 2, wherein the ultraviolet ray to be irradiated is a UV irradiation method having a peak in a vacuum ultraviolet region having a wavelength of 100 to 200 nm. 前記照射する紫外線が、172nm付近の単一波長にピークを有するXe(キセノン)ガスを用いたエキシマUV照射方式であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の配向膜形成方法。   4. The alignment film forming method according to claim 1, wherein the ultraviolet ray to be irradiated is an excimer UV irradiation method using Xe (xenon) gas having a peak at a single wavelength near 172 nm. . 前記Xeガスを用いたエキシマUV照射方式において、照射する紫外線の光量が、10mJ/cm2〜200mJ/cm2の範囲内にあることを特徴とする請求項4記載の配向膜形成方法。 In excimer UV irradiation system using the Xe gas, the amount of ultraviolet rays irradiated alignment film forming method according to claim 4, characterized in that in the range of 10mJ / cm 2 ~200mJ / cm 2 . 前記Xeガスを用いたエキシマUV照射方式において、UV照射窓面と被照射基板面との距離を、1mm〜5mmの範囲とすることを特徴とする請求項4または5に記載の配向膜形成方法。   6. The alignment film forming method according to claim 4, wherein in the excimer UV irradiation method using the Xe gas, the distance between the UV irradiation window surface and the surface of the substrate to be irradiated is in a range of 1 mm to 5 mm. . 液晶配向膜、もしくはラビングにより配向性を有する膜を形成する際に用いる装置であって、該膜のラビング処理前にUV(紫外線)を照射する手段を具備するラビング装置。   A rubbing apparatus for use in forming a liquid crystal alignment film or a film having orientation by rubbing, and comprising means for irradiating UV (ultraviolet light) before rubbing treatment of the film. 前記照射する紫外線を、波長100〜200nmの真空紫外域にピークを有するUV照射手段から発することを特徴とする請求項7記載のラビング装置。   8. The rubbing apparatus according to claim 7, wherein the irradiating ultraviolet rays are emitted from a UV irradiation means having a peak in a vacuum ultraviolet region having a wavelength of 100 to 200 nm. 前記照射する紫外線を、172nm付近の単一波長にピークを有するXe(キセノン)ガスを封したエキシマUV照射手段から発することを特徴とする請求項7または8に記載のラビング装置。   The rubbing apparatus according to claim 7 or 8, wherein the ultraviolet rays to be emitted are emitted from an excimer UV irradiation means sealed with Xe (xenon) gas having a peak at a single wavelength near 172 nm. 前記Xeガスを封したエキシマUV照射手段において、UV照射窓面と被照射基板面との距離を、1mm〜5mmの範囲に設定できることを特徴とする請求項9記載のラビング装置。   The rubbing apparatus according to claim 9, wherein in the excimer UV irradiation means sealed with the Xe gas, the distance between the UV irradiation window surface and the irradiated substrate surface can be set in a range of 1 mm to 5 mm.
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