JP2010076044A - 有機高分子ナノワイヤーとその製造方法 - Google Patents
有機高分子ナノワイヤーとその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010076044A JP2010076044A JP2008247004A JP2008247004A JP2010076044A JP 2010076044 A JP2010076044 A JP 2010076044A JP 2008247004 A JP2008247004 A JP 2008247004A JP 2008247004 A JP2008247004 A JP 2008247004A JP 2010076044 A JP2010076044 A JP 2010076044A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nanowire
- organic polymer
- polymer
- nanowires
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
本発明は、従来の方法では不可能であったより細い有機高分子ナノワイヤーと従来法とは全く異なる原理をもって有機高分子ナノワイヤーを製造することができる製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
発明1の有機高分子ナノワイヤーは、直径が300nm未満であることを特徴とする。
【選択図】図7
Description
様々な実験を行った結果、ワイヤーの材料とする高分子のフィルムを準備し、それにレーザ光を吸収する光吸収剤(例えば、クマリン、ペリレンなどの有機分子)を分散させておき、そのフィルムにパルスレーザー光、1パルスを、対物レンズを用いて集光照射すると光吸収剤が光励起されると共に、そのエネルギーによって極めて細い(直径が20〜200nm程度、長さ100〜2000μm程度、条件により変化可能)高分子ナノワイヤーが生成されることを知見した。
条件によっては、中空状のナノワイヤー、つまりナノチューブも生成することができる。
本明細書では、別途ことわりがない限り、ナノワイヤーをナノチューブを含む意味で用いる。 図1にその実験概観を示す。同時に、この生成プロセスを解明するために、超高速度カメラならびにゲートCCDカメラによる測定を行った。
レーザー光源:宇翔窒素レーザー(KEN-3010)によりポンピングされるクマリンダイレーザー
パルス幅900ps、波長440nm、レーザー強度300μJ/パルス以下、パルス周波数10Hz以下
母材と光吸収剤は以下のものをモノクロロベンゼン(Wako製)に溶解し、スピンコーターを使ってカバーガラス上に約30μm厚にスピンコーティングした。
母材:ポリブチルメタクリレート(PBMA、PMMA,PEMA, Polystylene)
光吸収剤:クマリン6
そこに前述のレーザー光を1パルス照射した。PBMAのサンプルの場合には、レーザー強度590 mJ/cm2の時が長い高分子ナノワイヤーが作製できた。
その他、(PMMA,PEMA, Polystylene)を用いても同様にナノワイヤーを作製することができた。また、クマリン6の代わりにペリレン分子を同質量比で混合した高分子を用いてもナノワイヤーが作製されることが明らかとなった。しかしながら、それらの材料を変えた場合には、ナノワイヤーができる最適なレーザー強度は変化し、それぞれに最適な強度が存在する。
以上の内容の詳細を表1に具体的に示す。
図3は、表1の実験No.1の例を示し、クマリン6分子分散PBMAのケースで、高分子ナノチューブは倒れている。
図4は、表1の実験No.23の例を示し、クマリン6分子分散ポリスチレン(PS)のケース 高分子ナノチューブは細いものが渦巻いていたり倒れたりしている。
図5は、表1の実験No.23の例を示し、クマリン6分子分散ポリスチレン(PS)のケースを示す。
図6は、表1の実験No.23の例を示し、クマリン6分子分散ポリスチレン(PS)のケース 非常に細いワイヤーも作製可能である。
図7は、表1の実験No.23の例を示す。
Claims (2)
- 有機高分子からなる線状のナノワイヤーであって、直径が300nm未満であることを特徴とする有機高分子ナノワイヤー
- 有機高分子からなる線状のナノワイヤーを製造する方法であって、所定の有機高分子中に、光吸収性剤が分散されてなる薄膜に対して、前記光吸収性剤の吸収波長に該当する波長のレーザー光を照射し、当該照射箇所を起点として、前記有機高分子からなるナノワイヤーを伸長させることを特徴とする有機高分子ナノワイヤーの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008247004A JP5598805B2 (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | 有機高分子ナノワイヤーとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008247004A JP5598805B2 (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | 有機高分子ナノワイヤーとその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010076044A true JP2010076044A (ja) | 2010-04-08 |
JP5598805B2 JP5598805B2 (ja) | 2014-10-01 |
Family
ID=42207080
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008247004A Active JP5598805B2 (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | 有機高分子ナノワイヤーとその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5598805B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013089201A1 (ja) | 2011-12-14 | 2013-06-20 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | ナノ粒子含有高分子ナノワイヤー及びその製造方法 |
WO2014017658A1 (ja) | 2012-07-24 | 2014-01-30 | 株式会社ダイセル | 導電性繊維被覆粒子、並びに、硬化性組成物及びその硬化物 |
WO2014192839A1 (ja) | 2013-05-28 | 2014-12-04 | 株式会社ダイセル | 光半導体封止用硬化性組成物 |
US9293518B2 (en) | 2012-11-08 | 2016-03-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film transistor, and organic light-emitting display device therewith |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007076978A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Japan Atomic Energy Agency | セラミックナノワイヤー及びイオンビーム照射によるその製造法 |
JP2008223178A (ja) * | 2007-03-14 | 2008-09-25 | Japan Atomic Energy Agency | 高分子多段ナノワイヤー及びスターバースト型ナノ粒子並びにそれらの製造方法 |
JP2008221385A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Nec Corp | ナノ材料配列基材 |
JP2010036292A (ja) * | 2008-08-04 | 2010-02-18 | National Institute For Materials Science | 高分子ナノワイヤとその製造方法。 |
JP2010509171A (ja) * | 2006-11-07 | 2010-03-25 | ナノシス・インク. | ナノワイヤー成長用システム及び方法 |
-
2008
- 2008-09-26 JP JP2008247004A patent/JP5598805B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007076978A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Japan Atomic Energy Agency | セラミックナノワイヤー及びイオンビーム照射によるその製造法 |
JP2010509171A (ja) * | 2006-11-07 | 2010-03-25 | ナノシス・インク. | ナノワイヤー成長用システム及び方法 |
JP2008221385A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Nec Corp | ナノ材料配列基材 |
JP2008223178A (ja) * | 2007-03-14 | 2008-09-25 | Japan Atomic Energy Agency | 高分子多段ナノワイヤー及びスターバースト型ナノ粒子並びにそれらの製造方法 |
JP2010036292A (ja) * | 2008-08-04 | 2010-02-18 | National Institute For Materials Science | 高分子ナノワイヤとその製造方法。 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6013041752; H. Hasegawa, T. Kubota, S. Mashiko: 'Fabrication of molecular nanowire using an electrochemical method' Thin Solid Films 438-439, 2003, 352-355, ELSEVIER * |
JPN6013041755; Hua-Bing Xu, Hong-Zheng Chen, Wen-Jun Xu, Mang Wang: 'Fabrication of organic copper phthalocyanine nanowire arrays via a simple AAO template-based electro' Chemical Physics Letters 412, 20050726, 294-298, ELSEVIER * |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013089201A1 (ja) | 2011-12-14 | 2013-06-20 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | ナノ粒子含有高分子ナノワイヤー及びその製造方法 |
EP2792717A4 (en) * | 2011-12-14 | 2014-10-22 | Nat Inst For Materials Science | POLYMER NANOFIL CONTAINING NANOPARTICLES AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
EP2792717A1 (en) * | 2011-12-14 | 2014-10-22 | National Institute for Materials Science | Nanoparticle-containing polymer nanowire and method for producing same |
JPWO2013089201A1 (ja) * | 2011-12-14 | 2015-04-27 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | ナノ粒子含有高分子ナノワイヤー及びその製造方法 |
US9957371B2 (en) | 2011-12-14 | 2018-05-01 | National Institute For Materials Science | Nanoparticle-containing polymer nanowire and method for producing the same |
WO2014017658A1 (ja) | 2012-07-24 | 2014-01-30 | 株式会社ダイセル | 導電性繊維被覆粒子、並びに、硬化性組成物及びその硬化物 |
US9293518B2 (en) | 2012-11-08 | 2016-03-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film transistor, and organic light-emitting display device therewith |
WO2014192839A1 (ja) | 2013-05-28 | 2014-12-04 | 株式会社ダイセル | 光半導体封止用硬化性組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5598805B2 (ja) | 2014-10-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Rebollar et al. | Laser induced periodic surface structures on polymer films: From fundamentals to applications | |
Sugioka et al. | Femtosecond laser three-dimensional micro-and nanofabrication | |
Wang et al. | Direct modification of silicon surface by nanosecond laser interference lithography | |
Mele et al. | Multilevel, room-temperature nanoimprint lithography for conjugated polymer-based photonics | |
US20090239042A1 (en) | Material Assisted Laser Ablation | |
CN106653941B (zh) | 一种利用溶液限域生长制备光电材料阵列的方法及应用 | |
JP5598805B2 (ja) | 有機高分子ナノワイヤーとその製造方法 | |
Palla-Papavlu et al. | Microfabrication of polystyrene microbead arrays by laser induced forward transfer | |
JP2006239718A (ja) | ナノ空孔周期配列体の作製方法及びその装置 | |
Persano et al. | Integrated bottom-up and top-down soft lithographies and microfabrication approaches to multifunctional polymers | |
Liu et al. | Direct patterning on reduced graphene oxide nanosheets using femtosecond laser pulses | |
Ladika et al. | Synthesis and application of triphenylamine-based aldehydes as photo-initiators for multi-photon lithography | |
Rebollar et al. | Laser interactions with organic/polymer materials | |
Handrea-Dragan et al. | Multifunctional structured platforms: from patterning of polymer-based films to their subsequent filling with various nanomaterials | |
Li et al. | Shaping organic microcrystals using focused ion beam milling | |
JP2008221385A (ja) | ナノ材料配列基材 | |
Tiaw et al. | Precision laser micro-processing of polymers | |
CN101607692A (zh) | 利用聚焦电子束制作高精度纳米孔及纳米孔阵列的方法 | |
JP5920846B2 (ja) | ナノ粒子含有高分子ナノワイヤー及びその製造方法 | |
Duan et al. | Microfabrication of Two and Tree Dimensional Structures by Two-Photon Polymerization | |
JP5445990B2 (ja) | 有機分子の注入方法とその装置 | |
KR101894982B1 (ko) | 나노입자 조립체의 제조방법 | |
Ulmeanu et al. | 3-D patterning of silicon by laser-initiated, liquid-assisted colloidal (LILAC) lithography | |
Zimmermann | Nanoscale lithography and thermometry with thermal scanning probes | |
Cohn | Capillary-force-directed self-assembly of suspended nanomechanical structures above the electronic circuit layer |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110801 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130827 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131022 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140318 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140515 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140715 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140804 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5598805 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |