JP2010073386A - Organic el display device - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 30
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 claims description 8
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 242
- 239000010408 film Substances 0.000 description 56
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 37
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 10
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 10
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 3
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FQJQNLKWTRGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-(4-tert-butylphenyl)-5-[3-[5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazol-2-yl]phenyl]-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=C(C=CC=2)C=2OC(=NN=2)C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)O1 FQJQNLKWTRGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXWWMGJBPGRWRS-CMDGGOBGSA-N 4- -2-tert-butyl-6- -4h-pyran Chemical compound O1C(C(C)(C)C)=CC(=C(C#N)C#N)C=C1\C=C\C1=CC(C(CCN2CCC3(C)C)(C)C)=C2C3=C1 HXWWMGJBPGRWRS-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- DIVZFUBWFAOMCW-UHFFFAOYSA-N 4-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n-bis[4-(n-(3-methylphenyl)anilino)phenyl]-4-n-phenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 DIVZFUBWFAOMCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K bis[(2-methylquinolin-8-yl)oxy]-(4-phenylphenoxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC([O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
本発明は、有機EL表示装置に関する。 The present invention relates to an organic EL display device.
有機EL表示装置において、素子の寿命を伸ばすために有機EL素子を構成する電極層と、発光層を含む有機化合物層と、を交互に積層する構成が提案されている。特許文献1には、1画素を2つの副画素で構成し、1つの副画素には異なる発光色を示す2つの有機EL層が積層されている有機EL表示装置が開示されている。
In an organic EL display device, a configuration in which electrode layers constituting an organic EL element and organic compound layers including a light emitting layer are alternately stacked has been proposed in order to extend the lifetime of the element.
ところで有機EL表示装置を構成する有機化合物層を形成する手法として、蒸着法、転写法、インクジェット法等が挙げられるが、素子の発光効率、寿命という観点から現時点では蒸着法が最も有力である。しかしながら、1つのサブピクセルに2つの有機EL層が積層されてなる有機EL表示装置を蒸着法で作製する場合には、サブピクセル毎に発光層等の薄膜を個別に形成する必要がある。このため、高精細なマスクを使用する工程が少なくとも2回入れる必要がある。ここで高精細マスクを使用して発光層等を選択的に形成する場合、マスクの精細度が高くなればなるほど、蒸着時に発生する異物がマスク開口部に挟まりやすく成膜不良の原因になる、という問題がある。また蒸着時にマスク上に付着した蒸着材料を除去するためのマスク洗浄の費用がかかるという問題もある。従って、高精細マスクを使用する工程は1つでも低減することがプロセス的に望ましい。 By the way, as a method of forming the organic compound layer constituting the organic EL display device, there are a vapor deposition method, a transfer method, an ink jet method, and the like, but at present, the vapor deposition method is the most powerful from the viewpoint of the light emission efficiency and lifetime of the element. However, when an organic EL display device in which two organic EL layers are stacked on one subpixel is manufactured by an evaporation method, it is necessary to individually form a thin film such as a light emitting layer for each subpixel. For this reason, it is necessary to insert a process using a high-definition mask at least twice. Here, when a light emitting layer or the like is selectively formed using a high-definition mask, the higher the definition of the mask, the more easily foreign substances generated during vapor deposition are trapped in the mask opening, causing film formation defects. There is a problem. There is also a problem that the cost of cleaning the mask for removing the vapor deposition material adhering to the mask during vapor deposition is high. Therefore, it is desirable in terms of process to reduce even one process using a high-definition mask.
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、高精細マスクの使用回数を低減することが可能な有機EL表示装置を提供することである。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide an organic EL display device capable of reducing the number of times a high-definition mask is used.
本発明の有機EL表示装置は、基板と、
該基板上に設けられる複数の画素と、から構成され、
該画素が、第一副画素と、第二副画素と、を備え、
該第一副画素が、第一電極と、第一発光層を含み第一色を発する第一有機EL層と、第二電極と、第二発光層を含み第二色を発する第二有機EL層と、第三電極と、からなり、
該第二副画素が、第一電極と、第一発光層を含み第一色を発する第一有機EL層と、第二電極と、第二発光層及び第三発光層を含み第三色を発する第三有機EL層と、第三電極と、からなり、
該第一有機EL層が、該第一副画素と該第二副画素とで共通して形成されており、
該第二発光層が、該第一副画素と該第二副画素とで共通して形成されており、
該第二色のPLピーク波長が該第三色のPLピーク波長よりも短いことを特徴とする。
The organic EL display device of the present invention includes a substrate,
A plurality of pixels provided on the substrate,
The pixel comprises a first subpixel and a second subpixel,
The first subpixel includes a first electrode, a first organic EL layer that includes the first light emitting layer and emits a first color, a second electrode, and a second organic EL that includes the second light emitting layer and emits a second color. A layer and a third electrode,
The second subpixel includes a first electrode, a first organic EL layer that includes the first light emitting layer and emits a first color, a second electrode, a second light emitting layer, and a third light emitting layer that includes a third color. A third organic EL layer that emits, and a third electrode,
The first organic EL layer is formed in common with the first subpixel and the second subpixel,
The second light emitting layer is formed in common with the first subpixel and the second subpixel;
The PL peak wavelength of the second color is shorter than the PL peak wavelength of the third color.
本発明によれば、高精細マスクの使用回数を低減することが可能な有機EL表示装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the organic electroluminescent display apparatus which can reduce the frequency | count of use of a high-definition mask can be provided.
本発明の有機EL表示装置は、基板と、基板上に設けられる複数の画素と、から構成される。ここで画素は、以下に述べる第一副画素と、第二副画素と、を備える部材である。 The organic EL display device of the present invention includes a substrate and a plurality of pixels provided on the substrate. Here, the pixel is a member provided with a first subpixel and a second subpixel described below.
一方、この画素が備える第一副画素は、第一電極と、第一発光層を含み第一色を発する第一有機EL層と、第二電極と、第二発光層を含み第二色を発する第二有機EL層と、第三電極と、からなる部材である。 On the other hand, the first subpixel included in the pixel includes a first electrode, a first organic EL layer that includes the first light emitting layer and emits a first color, a second electrode, and a second color that includes the second light emitting layer. It is a member composed of a second organic EL layer that emits and a third electrode.
またこの画素が備える第二副画素は、第一電極と、第一発光層を含み第一色を発する第一有機EL層と、第二電極と、第二発光層及び第三発光層を含み第三色を発する第三有機EL層と、第三電極と、からなる部材である。 The second subpixel included in the pixel includes a first electrode, a first organic EL layer that includes the first light emitting layer and emits a first color, a second electrode, a second light emitting layer, and a third light emitting layer. It is a member consisting of a third organic EL layer emitting a third color and a third electrode.
ただし、各副画素において、基板上に設けられる電極(下部電極)は、第一電極であってもよいし、第三電極であってもよい。 However, in each subpixel, the electrode (lower electrode) provided on the substrate may be the first electrode or the third electrode.
これら第一副画素、第二副画素を構成する部材のうち、第一有機EL層は、第一副画素と第二副画素とで共通して形成されている積層体である。また第二発光層も、第一副画素と第二副画素とで共通して形成されている積層体である。 Among the members constituting the first subpixel and the second subpixel, the first organic EL layer is a stacked body formed in common by the first subpixel and the second subpixel. The second light emitting layer is also a laminate formed in common with the first subpixel and the second subpixel.
本発明の有機EL表示装置において、第二色のPLピーク波長は第三色のPLピーク波長よりも短いことを特徴とする。 In the organic EL display device of the present invention, the PL peak wavelength of the second color is shorter than the PL peak wavelength of the third color.
以下、図面を参照しながら本発明の有機EL表示装置の実施形態について説明する。ただし以下に説明する実施形態は、あくまでも本発明の実施形態の一つであり、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the organic EL display device of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the embodiment described below is merely one embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to these.
[第一の実施形態]
図1は、本発明の有機EL表示装置における第一の実施形態を示す断面模式図である。
[First embodiment]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a first embodiment of the organic EL display device of the present invention.
図1の有機EL表示装置1は、基板10と、この基板10上に設けられる第一副画素1Aと第二副画素1Bとで構成されている。
The organic
図1の有機EL表示装置1において、第一副画素1Aは、基板10上に、第一電極20、第一有機EL層30、第二電極40、第二有機EL層50及び第三電極70がこの順に設けられている。ここで第一副画素1Aを構成する第一有機EL層30は、第一正孔注入/輸送層31、第一発光層32及び第一電子注入/輸送層33からなる積層体である。また第一副画素1Aを構成する第二有機EL層50は、第二正孔注入/輸送層51、第二発光層52及び第二電子注入/輸送層53からなる積層体である。尚、本実施形態において、第一電極20は陽極として機能し、第三電極70は陰極として機能する。
In the organic
図1の有機EL表示装置1において、第二副画素1Bは、基板10上に、第一電極20、第一有機EL層30、第二電極40、第三有機EL層60及び第三電極70がこの順に設けられている。ここで第二副画素1Bを構成する第一有機EL層30は、第一副画素1Aを構成する第一有機EL層30と共通して形成される積層体であるので、その層構成は、第一副画素1Aを構成する第一有機EL層30と同様である。また第二副画素1Bを構成する第三有機EL層60は、第二正孔注入/輸送層51、第三発光層62、第二発光層52及び第二電子注入/輸送層53からなる積層体である。ここで第二副画素1Bを構成する第三有機EL層60のうち、第二正孔注入/輸送層51、第二発光層52及び第二電子注入/輸送層53は、第一副画素1Aを構成する第二有機EL層50と共通して形成されている。尚、本実施形態において、第一電極20は陽極として機能し、第三電極70は陰極として機能する。
In the organic
本発明の有機EL表示装置は、第二発光層52から発せられる第二色のPLピーク波長は、第三発光層62から発せられる第三色のPLピーク波長よりも短いことを特徴とする。また図1に示すように、第三有機EL層60に含まれる第二発光層52が第三発光層62と陰極(第三電極70)との間に設けられる態様が好ましい。
The organic EL display device of the present invention is characterized in that the PL peak wavelength of the second color emitted from the second
以上を考慮すると、第三有機EL層60に含まれる2層の発光層のうち、PLピーク波長の短い発光層である第二発光層52が、第一副画素1Aと第二副画素1Bとで共通して形成されている。逆に、PLピーク波長の長い発光層である第三発光層62が、第一副画素1Aと第二副画素1Bとで共通して形成されていると、以下の不都合が生じる。即ち、電子の励起エネルギーが他方よりも小さくなるため、励起子の移動が起こりやすく、最悪の場合光らないといったことが起こるという不都合が生じる。
In consideration of the above, of the two light emitting layers included in the third
また第二発光層52及び第三発光層62は、好ましくは、ホストとゲストとからなる層である。さらに第三発光層62のホストのLUMOの絶対値は第二発光層52のホストのLUMOの絶対値よりも大きいのが好ましい。一般に、ホストはLUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)のエネルギー準位が低いため電子が入りやすい。このため、第三発光層62のホストのLUMOの絶対値が第二発光層52のホストのLUMOの絶対値よりも大きければ、第三電極70から流れる電子は、第三発光層62のホストの方へ流れやすくなる。
The second
一方で第三発光層62のホストのHOMOの絶対値は第二発光層52のホストのHOMOの絶対値よりも小さいのが好ましい。こうすることにより、第二電極40から流れる正孔は、第三発光層62のホストの方へ流れやすくなる。
On the other hand, the absolute value of the HOMO of the host of the third
従って、陰極(第三電極70)から注入された電子、及び陽極(第二電極40)から注入される正孔は、それぞれ第三発光層62でトラップされる。その結果、電子と正孔との再結合領域は第三発光層62内に局在化することになる。また、PLピーク波長がより短い第二発光層52の電子の励起エネルギーは、第三発光層の電子の励起エネルギーよりも大きい。このため、第三発光層62で発生した励起子は第二発光層52に移動することなく第三発光層62内に閉じ込められる。
Accordingly, electrons injected from the cathode (third electrode 70) and holes injected from the anode (second electrode 40) are trapped in the third
従って、第三有機EL層60では、二種類の発光層(第三発光層62、第二発光層52)が含まれているが、第三発光層62のみが選択的に発光する。
Therefore, the third
第三発光層62のゲストは、好ましくは、燐光発光材料である。通常、ゲストが燐光発光材料である場合、ホストにおいて正孔が局在せず電子注入/輸送層側に抜けやすい。しかし本発明のように、第三発光層62の電子注入/輸送層側には励起エネルギーが相対的に高い発光層(第二発光層52)が配置されているので、この発光層は正孔阻止層として機能するため好適である。
The guest of the third
上記のように、各画素を構成する有機EL層は、基本的には、正孔注入/輸送層と、発光層と、電子注入/輸送層と、からなる積層体である。ただし有機EL層の層構成はこれに限定されるものではない。例えば、下記(i)〜(v)に示される層構成であってもよい。
(i)単層型(発光層)
(ii)2層型(発光層/正孔注入層)
(iii)3層型(電子輸送層/発光層/正孔輸送層)
(iv)4層型(電子注入層/発光層/正孔輸送層/正孔注入層)
(v)5層型(電子注入層/電子輸送層/発光層/正孔輸送層/正孔注入層)
As described above, the organic EL layer constituting each pixel is basically a laminate including a hole injection / transport layer, a light emitting layer, and an electron injection / transport layer. However, the layer structure of the organic EL layer is not limited to this. For example, the layer configuration shown in the following (i) to (v) may be used.
(I) Single layer type (light emitting layer)
(Ii) Two-layer type (light emitting layer / hole injection layer)
(Iii) Three-layer type (electron transport layer / light emitting layer / hole transport layer)
(Iv) 4 layer type (electron injection layer / light emitting layer / hole transport layer / hole injection layer)
(V) 5-layer type (electron injection layer / electron transport layer / light emitting layer / hole transport layer / hole injection layer)
また各副画素(1A、1B)を構成する二種類の有機EL層は発光色が異なっている。即ち、第一副画素1Aを構成する第一有機EL層30は第一色を発し、第二有機EL層50は第二色を発する。一方、第二副画素1Bを構成する第一有機EL層30は第一色を発し、第三有機EL層60は第三色を発する。ただし、ここでいう第一色、第二色及び第三色の具体的な色については特に限定されないが、好ましくは、第一色をB(青色)、第二色をG(緑色)、第三色をR(赤色)とする。
The two types of organic EL layers constituting each subpixel (1A, 1B) have different emission colors. That is, the first
次に、本実施形態の有機EL表示装置の電気接続の状態及び駆動方法について説明する。 Next, the electrical connection state and driving method of the organic EL display device of the present embodiment will be described.
図2は、図1の有機EL表示装置の等価回路を示す回路図である。各副画素(1A、1B)に設けられている第二電極40は、それぞれ画素回路81,82内に設けられている駆動用TFT81a,82aに接続されている。尚、第三電極70は、第一電極20と同電位である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of the organic EL display device of FIG. The
実際に、各副画素を駆動する際にその駆動方法は同一なので、第一有機EL層30(青色発光)と第二有機EL層50(緑色発光)とを有する第一副画素1Aを例にとって以下に説明する。 Actually, since the driving method is the same when driving each sub-pixel, the first sub-pixel 1A having the first organic EL layer 30 (blue light emission) and the second organic EL layer 50 (green light emission) is taken as an example. This will be described below.
第一副画素1Aに含まれる第一有機EL層30を発光させる場合には、第一電極20からプラス電圧が、第二電極40からマイナス電圧がそれぞれ印加される。これにより、第一発光層32に電子と正孔とが注入され、電子と正孔とが第一発光層32内で再結合することで励起子か形成される。この励起子が基底状態に戻る際に青色の発光が得られる。尚、このとき第三電極70からプラス電圧が印加され、第二有機EL層50には逆方向の電圧が印加されるため、第二有機EL層50に含まれる第二発光層52は発光しない。一方、第一副画素1Aに含まれる第二有機EL層50を発光させる場合には、先程とは逆に、第三電極70にマイナス電圧、第二電極50にプラス電圧を印加する(このとき第一電極70からマイナス電圧が印加される。)。
When the first
図3は、印加される電圧の波形の具体例を示す図である。図3は、交流電圧の波形である。第一有機EL層30と第二有機EL層50とを発光させて、混合色を発光する場合には、図3に示すように交流電圧を印加して交流駆動を行う。具体的には、人間が識別できない程度、例えば、60Hz程度あるいはそれ以上高い周期で電圧をプラス側とマイナス側とに切り替えて制御する。こうすることにより、第一有機EL層30の発光色と第二有機EL層50の発光色とを混合した色の光を表現することができる。
FIG. 3 is a diagram illustrating a specific example of a waveform of an applied voltage. FIG. 3 shows an AC voltage waveform. When the first
次に、有機EL表示装置の構成部材について説明する。 Next, components of the organic EL display device will be described.
基板10としては、絶縁性の材料からなる基板が好ましく使用される。例えば、ガラス基板等が挙げられる。尚、アクティブマトリクス型の表示装置とする場合は、基板10上に有機EL表示装置を駆動させるためのTFT駆動回路(図示せず)を設ける必要がある。
As the
基板10上に設けられる下部電極(本実施例における第一電極20)は、通常陽極として機能する。また表示装置がトップエミッション型である場合は、下部電極は反射電極として機能する。このとき反射電極の構成部材としては、光反射性の材料であることが好ましく、例えば、Cr、Al、Ag、Au、Pt等の金属材料が挙げられる。これらの金属材料のうち反射率が高い材料は、光の取り出し効率を向上できるので好ましい。また下部電極を、上記の光反射性の材料からなる薄膜と、この薄膜上に設けられるITO膜等からなる透明導電膜と、からなる積層体としてもよい。この場合は、光反射機能を上記の光反射性の材料(金属材料)によって確保しつつ、電極としての機能を上記透明導電膜によって確保することができる。
The lower electrode (
一方、表示装置がボトムエミッション型である場合は、下部電極は透明電極として機能する。このとき透明電極の構成材料としては、ITO、IZO等の透明導電性の材料が挙げられる。 On the other hand, when the display device is a bottom emission type, the lower electrode functions as a transparent electrode. At this time, examples of the constituent material of the transparent electrode include transparent conductive materials such as ITO and IZO.
有機EL層(30,50,60)の構成材料として、公知の正孔注入・輸送材料、発光材料及び電子注入・輸送材料を使用することができる。 As a constituent material of the organic EL layer (30, 50, 60), known hole injection / transport materials, light emitting materials, and electron injection / transport materials can be used.
正孔注入・輸送材料として、例えば、TPD、α−NPD、m−MTDATA等が挙げられる。 Examples of the hole injection / transport material include TPD, α-NPD, m-MTDATA, and the like.
発光材料としては、青色発光材料、緑色発光材料、赤色発光材料のいずれも使用することができる。青色発光材料として、例えば、Perylene、BAlq等が挙げられる。緑色発光材料として、例えば、Coumarinn6、Zn(BTZ)2等が挙げられる。赤色発光材料として、例えば、DCM、DCJTB等が挙げられる。 As the light emitting material, any of a blue light emitting material, a green light emitting material, and a red light emitting material can be used. Examples of the blue light emitting material include Perylene and BAlq. Examples of the green light emitting material include Coumarin 6 and Zn (BTZ) 2 . Examples of the red light emitting material include DCM and DCJTB.
電子注入・輸送材料として、例えば、Alq3、BCP、Bphen、OXD−7等が挙げられる。 Examples of the electron injection / transport material include Alq 3 , BCP, Bphen, and OXD-7.
2層の有機EL層の間に設けられている中間電極層(本実施例における第二電極40)の構成材料としては、ITO、IZO等透明導電膜やAl、Ag、Mgといった金属導電膜が挙げられる。尚、中間電極層が金属導電膜である場合は、膜厚を調整して光透過性を確保するのが望ましい。また、中間電極層は基板10上に形成されるTFT等のスイッチング素子(図示せず)を介して電源手段(図示せず)と電気接続されている。
As a constituent material of the intermediate electrode layer (
上部電極(本実施例における第三電極70)は、表示装置がトップエミッション型である場合は、透明電極として機能する。一方、表示装置がボトムエミッション型である場合は、反射電極として機能する。透明電極として機能する場合、構成材料としては、ITO、IZO等の透明導電性の材料が挙げられる。一方、反射電極として機能する場合、構成材料としては、Cr、Al、Ag、Au、Pt等の金属材料が挙げられる。
The upper electrode (the
次に、本実施形態の有機EL表示装置の製造方法について説明する。 Next, a method for manufacturing the organic EL display device of this embodiment will be described.
基板10上に設けられる第一電極20は、スパッタ法等の公知の方法により形成することができる。
The
第一電極20上に順次設けられる第一有機EL層30及び第二電極40は、蒸着法、転写法等といった公知の方法により形成することができる。
The first
第二電極40上には第二有機EL層50及び第三有機EL層60が形成される。このとき双方の有機EL層を形成する際には、第三発光層62以外の薄膜層を画素単位で形成することができる。
A second
従来、蒸着法等により1つの画素中に異なる色の発光層を形成する際には、シャドウマスク(高精細マスク)を用いて色毎に個別に形成する必要があった。このため一画素につき2色の発光層を設ける場合は、高精細マスクを用いる工程を2回必要とした。これに対して本実施形態の有機EL表示装置においては、第三発光層62のみを所定の領域に選択的に形成すればよい。このため、下記表1に示すように、高精細マスクを用いる工程を少なくすることができる。
Conventionally, when forming light emitting layers of different colors in one pixel by vapor deposition or the like, it has been necessary to individually form each color using a shadow mask (high definition mask). For this reason, in the case of providing a light emitting layer of two colors per pixel, a process using a high-definition mask is required twice. On the other hand, in the organic EL display device of the present embodiment, only the third
一般に、高精細マスクを用いる工程はコストアップの要因になるため、本実施形態であれば装置の製造コストを下げることができる。また高精細マスクを使用する場合、精細度が高くなればなるほど、層を形成する際に発生する異物がマスク開口部に挟まる可能性が高くなるという問題点があり、成膜不良の原因になる。また、高精細マスクを用いると、マスク上に付着した蒸着材料を除去するためのマスク洗浄の費用がかかるという課題がある。以上より、高精細マスクを使用する工程を低減できる本実施形態は、プロセス的に望ましいと言える。 In general, since a process using a high-definition mask causes an increase in cost, the manufacturing cost of the apparatus can be reduced according to this embodiment. In addition, when using a high-definition mask, there is a problem that the higher the definition, the higher the possibility that foreign matter generated when forming a layer will be trapped in the mask opening, causing film formation defects. . In addition, when a high-definition mask is used, there is a problem that the cost of mask cleaning for removing the vapor deposition material attached on the mask is high. From the above, it can be said that the present embodiment that can reduce the process of using a high-definition mask is desirable in terms of process.
[第二の実施形態]
図4は、本発明の有機EL表示装置における第二の実施形態を示す断面模式図である。尚、本実施形態において、上記第一の実施形態と同様の事項については説明を省略することがある。
[Second Embodiment]
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a second embodiment of the organic EL display device of the present invention. In the present embodiment, description of matters similar to those in the first embodiment may be omitted.
図1の有機EL表示装置1は、基板10と、この基板10上に設けられる第一副画素1Aと第二副画素1Bとで構成されている。
The organic
図4の有機EL表示装置2において、第一副画素2Aは、基板10上に、第三電極70、第二有機EL層50、第二電極40、第1有機EL層30及び第一電極20がこの順に設けられている。尚、本実施形態において、第一電極20は陽極として機能し、第二電極40は陰極として機能し、第三電極70は陽極として機能する。
In the organic
図4の有機EL表示装置2において、第二副画素2Bは、基板10上に、第三電極70、第三有機EL層60、第二電極40、第一有機EL層30及び第1電極20がこの順に設けられている。尚、本実施形態において、第一電極20は陽極として機能し、第二電極40は陰極として機能し、第三電極70は陽極として機能する。
In the organic
本実施形態の有機EL表示装置も、上記第一の実施形態と同様に、第二発光層52から発せられる第二色のPLピーク波長は、第三発光層62から発せられる第三色のPLピーク波長よりも短いことを特徴とする。また図4に示すように、第三有機EL層60に含まれる第二発光層52が第三発光層62と陰極(第二電極40)との間に設けられる態様が好ましい。
Similarly to the first embodiment, the organic EL display device of the present embodiment also has the second color PL peak wavelength emitted from the second
以上を考慮すると、第三有機EL層60に含まれる2層の発光層のうち、PLピーク波長の短い発光層である第二発光層52が、第一副画素2Aと第二副画素2Bとで共通して形成されている。
In consideration of the above, of the two light emitting layers included in the third
また各副画素(2A、2B)を構成する二種類の有機EL層は発光色が異なっている。即ち、第一副画素2Aを構成する第一有機EL層30は第一色を発し、第二有機EL層50は第二色を発する。一方、第二副画素2Bを構成する第一有機EL層30は第一色を発し、第三有機EL層60は第三色を発する。ただし、ここでいう第一色、第二色及び第三色の具体的な色については、第二色のPLピーク波長が第三色のPLピーク波長よりも短ければ特に限定されない。例えば、第一色をR(赤色)、第二色をB(青色)、第三色をG(緑色)としてもよい。
The two types of organic EL layers constituting each subpixel (2A, 2B) have different emission colors. That is, the first
本実施形態の有機EL表示装置の電気接続方法の具体例について、図面を参照しながら説明する。ただし本発明はこれに限定されるものではない。 A specific example of the electrical connection method of the organic EL display device of this embodiment will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to this.
図5は、図4の有機EL表示装置の等価回路を示す回路図である。図5より、第二電極40は全有機EL素子(34,54,64)に共通の陰極として機能する。ただし、それぞれの有機EL素子の陽極20,70は、それぞれ画素回路83,84,85内に設けられている駆動用TFT83a,84a,85aに接続されている。これにより個々の有機EL素子を独立に駆動することができる。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of the organic EL display device of FIG. From FIG. 5, the
[実施例1]
図1に示される有機EL表示装置1を以下に示す方法により作製した。
[Example 1]
The organic
支持体(ガラス基板)上に、低温ポリシリコンからなるTFT駆動回路(省略)を形成した後、TFT駆動回路上にアクリル樹脂からなる平坦化膜(省略)を形成した。このように平坦化膜まで形成されている支持体を基板10として使用した。
After a TFT drive circuit (omitted) made of low-temperature polysilicon was formed on a support (glass substrate), a planarizing film (omitted) made of acrylic resin was formed on the TFT drive circuit. Thus, the support body formed to the planarization film was used as the
次に、スパッタリング法により、基板10上にアルミニウム合金(AlNiPd)を成膜し合金膜を形成した。このとき合金膜の膜厚を約100nmとした。次に、この合金膜をウェットエッチング法により所定の形状となるようにパターニングを行った。次に、スパッタリング法により、当該合金薄膜上にIZOを成膜して透明導電膜を形成した。このとき透明導電膜の膜厚を20nmとした。次に、この透明導電膜をウェットエッチング法により所定の形状となるようにパターニングを行った。尚、パターンニングされた上記合金薄膜及び上記透明導電膜は第一電極20(反射電極)として機能する。
Next, an aluminum alloy (AlNiPd) was formed on the
次に、スリットスピン法により基板10及び第一電極20上にアクリル樹脂を成膜した後、フォトリソ法により所望の形状にパターニングを行うことにより、基板10上であって第一電極20が形成されていない領域に画素分離膜を形成した。このとき画素分離膜の膜厚は1.5μmであった。これをイソプロピルアルコール(IPA)で超音波洗浄し、次いで、IPAで煮沸洗浄後乾燥した。さらに、UV/オゾン洗浄を行った。
Next, after an acrylic resin film is formed on the
次に、真空蒸着法により第一電極20上に第一有機EL層30を形成した。
Next, the first
具体的には、まずα−NPDを成膜し第一正孔注入/輸送層31を形成した。このとき第一正孔注入/輸送層31の膜厚を40nmとした。次に、ホストであるBalqと、ゲスト(ドーパント)であるPeryleneと、を重量比にして40:1となるように共蒸着して第一発光層32を形成した。このとき第一発光層32の膜厚を30nmとした。尚、第一発光層32は青色発光する。次に、Bphenを成膜した。このときBphen膜の膜厚を30nmとした。次に、LiFを成膜した。このときLiF膜の膜厚を0.5nmとした。尚、Bphen膜及びLiF膜は第一電子注入/輸送層33として機能する。以上により第一有機EL層30を形成した。
Specifically, first, α-NPD was formed to form the first hole injection /
次に、スパッタ法により、第一有機EL層30上にMgとAgとを重量比にして10:1となるように制御しながら成膜し第二電極40を形成した。このとき第二電極40の膜厚を15nmとした。尚、第二電極40を形成する際には電極用マスクを用いた。
Next, the
次に、真空蒸着法により第二電極40上に第二有機EL層50及び第三有機EL層60をそれぞれ第一副画素1A及び第二副画素1Bに相当する領域に形成した。
Next, the second
具体的には、まず共通マスクを用いて、TPDを成膜し第二正孔注入/輸送層51を形成した。このとき第二正孔注入/輸送層51の膜厚を70nmとした。次に、第二副画素1Bに相当する領域のみを成膜することができる高精細マスクを用いて、第三発光層62を形成した。具体的には、ホストであるRubreneと、ゲスト(ドーパント)であるDCMと、を重量比にして40:1となるように共蒸着した。このとき第三発光層62の膜厚を30nmとした。尚、第三発光層62は赤色発光する。次に、共通マスクを用いて、第二発光層52を形成した。具体的には、ホストであるBalqと、ゲスト(ドーパント)であるCoumarinn6と、を重量比にして40:1となるように共蒸着した。このとき第二発光層52の膜厚を30nmとした。尚、第二発光層52は緑色発光する。次に、BCPを成膜した。このときBCP膜の膜厚を30nmとした。次に、LiFを成膜した。このときLiF膜の膜厚を0.5nmとした。尚、BCP膜及びLiF膜は第二電子注入/輸送層53として機能する。以上により第二有機EL層50及び第三有機EL層60を形成した。
Specifically, first, using a common mask, TPD was formed to form the second hole injection /
次に、スパッタ法により、第二有機EL層50及び第三有機EL層60を覆うように、MgとAgを重量比にして10:1となるように制御しながら成膜し第三電極70を形成した。このとき第三電極70の膜厚を15nmとした。尚、第三電極70を形成する際には電極用マスクを用いた。
Next, the
以上により、有機EL表示層を得た。ここで本実施例における第三有機EL層60に含まれる各層の構成材料(ゲストを除く)において、各々のエネルギー準位について、大気中光電子分光装置及び紫外分光法による解析により評価した。評価の結果、図6に示されるエネルギーダイアグラムが得られた。
Thus, an organic EL display layer was obtained. Here, in the constituent materials (excluding the guest) of each layer included in the third
[実施例2]
図4に示される有機EL表示装置2を以下に示す方法により作製した。
[Example 2]
The organic
まず実施例1と同様の方法により基板10を作製した。
First, a
次に、スパッタリング法により、基板10上にアルミニウム合金(AlNiPd)を成膜し合金膜を形成した。このとき合金膜の膜厚を約100nmとした。次に、この合金膜をウェットエッチング法により所定の形状となるようにパターニングを行った。次に、スパッタリング法により、当該合金薄膜上にIZOを成膜して透明導電膜を形成した。このとき透明導電膜の膜厚を20nmとした。次に、この透明導電膜をウェットエッチング法により所定の形状となるようにパターニングを行った。尚、パターンニングされた上記合金薄膜及び上記透明導電膜は第三電極(反射電極)70として機能する。
Next, an aluminum alloy (AlNiPd) was formed on the
次に、スリットスピン法により基板10及び第三電極70上にアクリル樹脂を成膜した後、フォトリソ法により所望の形状にパターニングを行うことにより、基板10上であって第三電極70が形成されていない領域に画素分離膜を形成した。このとき画素分離膜の膜厚は1.5μmであった。これをイソプロピルアルコール(IPA)で超音波洗浄し、次いで、IPAで煮沸洗浄後乾燥した。さらに、UV/オゾン洗浄を行った。
Next, after an acrylic resin film is formed on the
次に、真空蒸着法により第三電極70上に第二有機EL層50及び第三有機EL層60をそれぞれ第一副画素2A及び第二副画素2Bに相当する領域に形成した。
Next, the second
具体的には、まず共通マスクを用いて、TPDを成膜し第二正孔注入/輸送層51を形成した。このとき第二正孔注入/輸送層51の膜厚を40nmとした。次に、第二副画素2Bに相当する領域のみを成膜することができる高精細マスクを用いて、第三発光層62を形成した。具体的には、ホストであるAlq3と、ゲスト(ドーパント)であるCoumarin6と、を重量比にして40:1となるように共蒸着した。このとき第三発光層62の膜厚を30nmとした。尚、第三発光層62は緑色発光する。次に、共通マスクを用いて、第二発光層52を形成した。具体的には、ホストであるBalqと、ゲスト(ドーパント)であるPeryleneと、を重量比にして40:1となるように共蒸着した。このとき第二発光層52の膜厚を30nmとした。尚、第二発光層52は青色発光する。次に、BCPを成膜した。このときBCP膜の膜厚を30nmとした。次に、LiFを成膜した。このときLiF膜の膜厚を0.5nmとした。尚、BCP膜及びLiF膜は第二電子注入/輸送層53として機能する。以上により第二有機EL層50及び第三有機EL層60を形成した。
Specifically, first, using a common mask, TPD was formed to form the second hole injection /
次に、スパッタ法により、第二有機EL層50及び第三有機EL層60を覆うように、MgとAgを重量比にして10:1となるように制御しながら成膜し第二電極40を形成した。このとき第二電極40の膜厚を15nmとした。尚、第二電極40を形成する際には電極用マスクを用いた。
Next, the
次に、真空蒸着法により第二電極40上に第一有機EL層30を形成した。
Next, the first
具体的には、まずTPDを成膜し第一正孔注入/輸送層31を形成した。このとき第一正孔注入/輸送層31の膜厚を70nmとした。次に、ホストであるRubreneと、ゲスト(ドーパント)であるDCMと、を重量比にして40:1となるように共蒸着して第一発光層32を形成した。このとき第一発光層32の膜厚を30nmとした。尚、第一発光層32は赤色発光する。次に、BCPを成膜した。このときBCP膜の膜厚を30nmとした。次に、LiFを成膜した。このときLiF膜の膜厚を0.5nmとした。尚、BCP膜及びLiF膜は第一電子注入/輸送層33として機能する。以上により第一有機EL層30を形成した。
Specifically, first, TPD was formed to form the first hole injection /
次に、スパッタ法により、第一有機EL層30上に、MgとAgとを重量比にして10:1となるように制御しながら成膜し第一電極20を形成した。このとき第一電極20の膜厚を15nmとした。尚、第一電極20を形成する際には電極用マスクを用いた。
Next, the
以上により、有機EL表示層を得た。ここで本実施例における第三有機EL層60に含まれる各層の構成材料(ゲストを除く)において、各々のエネルギー準位について、実施例1と同様に評価した。評価の結果、図7に示されるエネルギーダイアグラムが得られた。
Thus, an organic EL display layer was obtained. Here, in the constituent materials (excluding the guest) of each layer included in the third
1,2 有機EL表示装置
1A,2A 第一副画素
1B,2B 第二副画素
10 基板
20 第一電極
30 第一有機EL層
31 第一正孔注入/輸送層
32 第一発光層
33 第一電子注入/輸送層
34 第一有機EL素子
40 第二電極
50 第二有機EL層
51 第二正孔注入/輸送層
52 第二発光層
53 第二電子注入/輸送層
54 第一有機EL素子
60 第三有機EL層
62 第三発光層
64 第一有機EL素子
70 第三電極
81,82,83,84,85 画素回路
81a,82a,83a,84a,85a 駆動TFT
1, 2 Organic EL display devices 1A, 2A First subpixel 1B,
Claims (6)
該基板上に設けられる複数の画素と、から構成され、
該画素が、第一副画素と、第二副画素と、を備え、
該第一副画素が、第一電極と、第一発光層を含み第一色を発する第一有機EL層と、第二電極と、第二発光層を含み第二色を発する第二有機EL層と、第三電極と、からなり、
該第二副画素が、第一電極と、第一発光層を含み第一色を発する第一有機EL層と、第二電極と、第二発光層及び第三発光層を含み第三色を発する第三有機EL層と、第三電極と、からなり、
該第一有機EL層が、該第一副画素と該第二副画素とで共通して形成されており、
該第二発光層が、該第一副画素と該第二副画素とで共通して形成されており、
該第二色のPLピーク波長が該第三色のPLピーク波長よりも短いことを特徴とする、有機EL表示装置。 A substrate,
A plurality of pixels provided on the substrate,
The pixel comprises a first subpixel and a second subpixel,
The first subpixel includes a first electrode, a first organic EL layer that includes the first light emitting layer and emits a first color, a second electrode, and a second organic EL that includes the second light emitting layer and emits a second color. A layer and a third electrode,
The second subpixel includes a first electrode, a first organic EL layer that includes the first light emitting layer and emits a first color, a second electrode, a second light emitting layer, and a third light emitting layer that includes a third color. A third organic EL layer that emits, and a third electrode,
The first organic EL layer is formed in common with the first subpixel and the second subpixel,
The second light emitting layer is formed in common with the first subpixel and the second subpixel;
An organic EL display device, wherein the PL peak wavelength of the second color is shorter than the PL peak wavelength of the third color.
前記第二色が緑色であり、
前記第三色が赤色であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の有機EL表示装置。 The first color is blue;
The second color is green;
The organic EL display device according to claim 1, wherein the third color is red.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family
ID=42204992
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008237415A Withdrawn JP2010073386A (en) | 2008-09-17 | 2008-09-17 | Organic el display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010073386A (en) |
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---|---|---|---|---|
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-
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