JP2010064063A - 液体浄化装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】被浄化液中のシリカ、カルシュウム、マグネシュウムを効率的に除去することにより、逆浸透膜の目詰まり対策、並びに、逆浸透膜の濃縮廃水のリサイクル使用を目的とする液体浄化装置を提供する。
【解決手段】被浄化液9中に鉄イオン21を投入するか、または、被浄化液中にバブリング装置10によって微細気泡を混入するか、少なくとも何れか一の処理を行ってシリカを酸化させた後、マグネシュウムの水酸化物からなる粉末状体もしくは顆粒状体あるいはペレット状体の吸着剤5の相互間隙中を通過させ、被浄化液9中の微粒子を凝集させてシリカを除去する。
【選択図】図17
【解決手段】被浄化液9中に鉄イオン21を投入するか、または、被浄化液中にバブリング装置10によって微細気泡を混入するか、少なくとも何れか一の処理を行ってシリカを酸化させた後、マグネシュウムの水酸化物からなる粉末状体もしくは顆粒状体あるいはペレット状体の吸着剤5の相互間隙中を通過させ、被浄化液9中の微粒子を凝集させてシリカを除去する。
【選択図】図17
Description
この発明は、例えば、被浄化液中のシリカの除去、並びに、被浄化液中のカルシュウム、マグネシュウムの除去を目的とする液体浄化装置に関する。
例えば、逆浸透膜は、被浄化液中のシリカにより目詰まりする。このため、シリカを効率的に除去することが求められる。
また、逆浸透膜で被浄化液を濾過する場合、被浄化液の30%〜40%の濃縮廃水が非透過水として発生し、廃水処理が必要となる。この濃縮廃水中には、主としてカルシュウム・マグネシュウムが含まれており、これらを効率的に除去すれば、濃縮廃水を、再び、逆浸透膜の供給水としてリサイクル使用し得る。
また、逆浸透膜で被浄化液を濾過する場合、被浄化液の30%〜40%の濃縮廃水が非透過水として発生し、廃水処理が必要となる。この濃縮廃水中には、主としてカルシュウム・マグネシュウムが含まれており、これらを効率的に除去すれば、濃縮廃水を、再び、逆浸透膜の供給水としてリサイクル使用し得る。
従来の浄化技術では、被浄化液中のシリカ、並びに、カルシュウム・マグネシュウムを効率的に除去することが出来ず、今日に至っている。
請求項1の発明は、第一の工程で被浄化液中のシリカを、鉄イオンの投入によって、もしくは、バブリングによって酸化させて、あるいは、これらの併用処理をした後、第二の工程で、マグネシュウムの水酸化物からなる粉末状体もしくは顆粒状体あるいはペレット状体の吸着剤の相互間隙中を通過させることにより凝集させて除去する。
請求項2の発明は、第一の工程で被浄化液中のカルシュウム、あるいは、マグネシュウムの少なくとも何れか一を、消石灰、もしくは、炭酸ナトリュウムの少なくとも何れか一の投入によって、あるいは、これらの少なくとも何れか一とリン酸塩との投入によって予備凝集を行って後、第二の工程で、マグネシュウムの水酸化物からなる粉末状体もしくは顆粒状体あるいはペレット状体の吸着剤の相互間隙中を通過させることにより凝集させて除去する。
第二の工程の凝集作用は、吸着剤の電荷0ポイントの性状を利用して行う。即ち、被浄化液のpH値が吸着剤の電荷0ポイントより低いpH領域の場合、吸着剤から負に帯電する水酸基が被浄化液中に溶解して、吸着剤の表面が正に帯電する性状を利用する。
吸着剤が水酸化マグネシュウムの場合、その電荷0ポイントはpH12で、pH領域がpH6〜pH12の被浄化液中にあっては、水酸化マグネシュウムから水酸基が被浄化液中へ溶解して、水酸化マグネシュウムの表面は正に帯電する。
なお、現在知られている物質の中では、水酸化マグネシュウムの電荷0ポイントが一番高く、また、被浄化液中の微粒子は、pH6〜pH12の領域の水溶液中にあっては負に帯電する。
例えば、被浄化液中の微粒子が鉄粉の場合、被浄化液中では鉄粉は酸化鉄となり、その電荷0ポイントはpH4で、pH6〜pH12の被浄化液中では負に帯電する。
負に帯電している微粒子は、正に帯電している吸着剤の表面に吸引されて微粒子の相互間距離が、互いに吸引力が働きく距離まで狭くなり、互いに凝集して大きな塊となる。大きな塊となった微粒子は、目の粗い、例えば20μmのフイルタで捕捉される。
吸着剤が水酸化マグネシュウムの場合、その電荷0ポイントはpH12で、pH領域がpH6〜pH12の被浄化液中にあっては、水酸化マグネシュウムから水酸基が被浄化液中へ溶解して、水酸化マグネシュウムの表面は正に帯電する。
なお、現在知られている物質の中では、水酸化マグネシュウムの電荷0ポイントが一番高く、また、被浄化液中の微粒子は、pH6〜pH12の領域の水溶液中にあっては負に帯電する。
例えば、被浄化液中の微粒子が鉄粉の場合、被浄化液中では鉄粉は酸化鉄となり、その電荷0ポイントはpH4で、pH6〜pH12の被浄化液中では負に帯電する。
負に帯電している微粒子は、正に帯電している吸着剤の表面に吸引されて微粒子の相互間距離が、互いに吸引力が働きく距離まで狭くなり、互いに凝集して大きな塊となる。大きな塊となった微粒子は、目の粗い、例えば20μmのフイルタで捕捉される。
図1は、凝集濾過装置1を示し、管体2内に吸着剤カセット3がセットされており、吸着剤カセット3は、中心軸にセットされた、例えば、絶対値20μmの円筒状のフイルタ4と、このフイルタ4の外周に充填された水酸化マグネシュウムを主成分とする吸着剤5と、吸着剤5の外周に設けられた200μmの濾紙6とからなっている。
図2の写真に示すシリコンのダイシング廃水を、凝集濾過装置1で浄化した状況を、図3,図4に示す。
図3は、図1の写真で示すシリコンのダイシング廃水を、凝集濾過装置1で1パス濾過した状況を示す写真。
図4は、図1の写真で示すシリコンのダイシング廃水を、凝集濾過装置1で3パス濾過した状況を示す写真である。
これらの液中のシリカ濃度を表1に示す。表1において、原液の項、1パスの項、3パスの項に、それぞれ図2,図3,図4の写真で示す液中のシリカ濃度を示す。
図3は、図1の写真で示すシリコンのダイシング廃水を、凝集濾過装置1で1パス濾過した状況を示す写真。
図4は、図1の写真で示すシリコンのダイシング廃水を、凝集濾過装置1で3パス濾過した状況を示す写真である。
これらの液中のシリカ濃度を表1に示す。表1において、原液の項、1パスの項、3パスの項に、それぞれ図2,図3,図4の写真で示す液中のシリカ濃度を示す。
即ち、図2のダイシング廃水は、シリカを120ppm含有している。
また、図4の3パス濾過液中には、粒径0.1μm〜0.4μmのシリコンの微粒子は、光散乱法による測定で検出不能なレベルまで除去されているが、シリカを75ppm含有している。この状態では、シリカの含有濃度が高く、逆浸透膜への供給水として使用し得ない。
このため、図4の濾過液に図5の写真に示す如く5分間微細気泡を混入させてバブリングしシリカを酸化させた後、凝集濾過装置1で1パス濾過した状況を図6の写真で示す。
図6の写真で示す濾過液中のシリカ濃度は、表1のバブリング浄化の項の如く、6.4ppmとなり、逆浸透膜への供給水として十分使用し得る。
また、図4の3パス濾過液中には、粒径0.1μm〜0.4μmのシリコンの微粒子は、光散乱法による測定で検出不能なレベルまで除去されているが、シリカを75ppm含有している。この状態では、シリカの含有濃度が高く、逆浸透膜への供給水として使用し得ない。
このため、図4の濾過液に図5の写真に示す如く5分間微細気泡を混入させてバブリングしシリカを酸化させた後、凝集濾過装置1で1パス濾過した状況を図6の写真で示す。
図6の写真で示す濾過液中のシリカ濃度は、表1のバブリング浄化の項の如く、6.4ppmとなり、逆浸透膜への供給水として十分使用し得る。
図7は、この発明の一実施例を示すフロー図である。
図7において、容器8は、図8の写真に示す被浄化液9を入れている。この被浄化液9をバブリング装置10により5分間バブリングして、被浄化液9中のシリカを酸化させ、図8の写真の酸化被浄化液9aに示す如く、若干赤みを帯びた状態にする。
図7において、容器8は、図8の写真に示す被浄化液9を入れている。この被浄化液9をバブリング装置10により5分間バブリングして、被浄化液9中のシリカを酸化させ、図8の写真の酸化被浄化液9aに示す如く、若干赤みを帯びた状態にする。
バブリング装置10は、容器8内の被浄化液9を吸入する第一のポンプ11と、第一のポンプ11の吐出口に逆支弁12を介して吸入口が接続され、吐出口が絞り弁13を介して容器8に接続された第二のポンプ14と、逆支弁12と第二のポンプ14の吸入口との間に、逆支弁15を介して接続された圧縮空気送出口16とにより構成されている。
即ち、第一のポンプ11により容器8内の被浄化液9を吸入し、この吸入した被浄化液9中に圧縮空気送出口16から圧縮空気を送り込み、絞り弁13を絞ることにより、第二のポンプ14で被浄化液9と圧縮空気とを撹拌混合し、圧縮空気を微細気泡として後、容器8内に送り込む。これにより、図8の写真で示す被浄化液9を酸化させ、図8の写真で示す酸化被浄化液9aの如く若干赤みを帯びた状態にする。
即ち、第一のポンプ11により容器8内の被浄化液9を吸入し、この吸入した被浄化液9中に圧縮空気送出口16から圧縮空気を送り込み、絞り弁13を絞ることにより、第二のポンプ14で被浄化液9と圧縮空気とを撹拌混合し、圧縮空気を微細気泡として後、容器8内に送り込む。これにより、図8の写真で示す被浄化液9を酸化させ、図8の写真で示す酸化被浄化液9aの如く若干赤みを帯びた状態にする。
次に、この酸化被浄化液9aを、凝集濾過装置1a,1bで循環濾過する。
図8の写真の9−1は循環濾過回数1パスの濾過状況を、図8の写真の9−5は循環濾過回数5パスの濾過状況をそれぞれ示す。
これらの液中のシリカ濃度を表2に示す。表2において、原液の項、1パスの項、5パスの項に、それぞれ図8の写真の被浄化液9、循環濾過回数1パスの濾過液9−1、循環濾過回数5パスの濾過液9−5の、それぞれのシリカ濃度を示す。
図8の写真の9−1は循環濾過回数1パスの濾過状況を、図8の写真の9−5は循環濾過回数5パスの濾過状況をそれぞれ示す。
これらの液中のシリカ濃度を表2に示す。表2において、原液の項、1パスの項、5パスの項に、それぞれ図8の写真の被浄化液9、循環濾過回数1パスの濾過液9−1、循環濾過回数5パスの濾過液9−5の、それぞれのシリカ濃度を示す。
図8の写真の濾過液9−5中のシリカ濃度は、表2の5パスの項の如く、16ppmとなり、逆浸透膜への供給水として十分リサイクル使用し得る。
なお、この場合の鉄イオン濃度は表2に示す如く、被浄化液9は0.18ppm、1パス、並びに、5パスとも、測定不可能なレベルとなっている。
なお、この場合の鉄イオン濃度は表2に示す如く、被浄化液9は0.18ppm、1パス、並びに、5パスとも、測定不可能なレベルとなっている。
次に、軟水器を通過させて、鉄イオンを除去した被浄化液中のシリカの除去について説明する。
即ち、図9の写真に示す軟水器を通過させた被浄化液17を、図7に示すシリカ除去装置のフローで浄化した場合について説明する。
図10の写真は、被浄化液17をバブリング装置10で5分間、バブリングした酸化被浄化液17aの状況を示す。表3の被浄化液17の項に示す如く、被浄化液17中の鉄イオンは0.01ppm未満のため、図8の酸化被浄化液9aの如く赤くならない。
図11の写真は、酸化被浄化液17aを凝集濾過装置1a,1bで1パス濾過した濾過液17−1を示す。
図12の写真は、酸化被浄化液17aを凝集濾過装置1a,1bで3パス循環濾過した濾過液17−3を示す。
濾過液17−3中のシリカ濃度は、表3の3パスの項の如く28ppmであり、逆浸透膜への供給水として不十分である。これは被浄化液17中の鉄イオンの含有量が少ないためである。
即ち、図9の写真に示す軟水器を通過させた被浄化液17を、図7に示すシリカ除去装置のフローで浄化した場合について説明する。
図10の写真は、被浄化液17をバブリング装置10で5分間、バブリングした酸化被浄化液17aの状況を示す。表3の被浄化液17の項に示す如く、被浄化液17中の鉄イオンは0.01ppm未満のため、図8の酸化被浄化液9aの如く赤くならない。
図11の写真は、酸化被浄化液17aを凝集濾過装置1a,1bで1パス濾過した濾過液17−1を示す。
図12の写真は、酸化被浄化液17aを凝集濾過装置1a,1bで3パス循環濾過した濾過液17−3を示す。
濾過液17−3中のシリカ濃度は、表3の3パスの項の如く28ppmであり、逆浸透膜への供給水として不十分である。これは被浄化液17中の鉄イオンの含有量が少ないためである。
続いて、シリカ濃度28ppmの濾過液17−3に鉄イオンを投入して、シリカの除去テストを行う。
図13は、濾過液17−3に、総鉄イオンが13ppmになるように硫酸第二鉄を投入した状況を示す被浄化液18の写真。
図14は、被浄化液18を、5分間、バブリングした状況を示す酸化被浄化液18aの写真。
図15は、酸化被浄化液18aを、凝集濾過装置1a,1bで1パス濾過した濾過液18−1を示す写真。
図16は、酸化被浄化液18aを、凝集濾過装置1a,1bで3パス濾過した濾過液18−3を示す写真である。
濾過液18−1中、並びに、濾過液18−3中のシリカ濃度は、表4の1パスの項、並びに、3パスの項の如く、17ppmとなり、逆浸透膜への供給水として十分リサイクル使用し得る。
図13は、濾過液17−3に、総鉄イオンが13ppmになるように硫酸第二鉄を投入した状況を示す被浄化液18の写真。
図14は、被浄化液18を、5分間、バブリングした状況を示す酸化被浄化液18aの写真。
図15は、酸化被浄化液18aを、凝集濾過装置1a,1bで1パス濾過した濾過液18−1を示す写真。
図16は、酸化被浄化液18aを、凝集濾過装置1a,1bで3パス濾過した濾過液18−3を示す写真である。
濾過液18−1中、並びに、濾過液18−3中のシリカ濃度は、表4の1パスの項、並びに、3パスの項の如く、17ppmとなり、逆浸透膜への供給水として十分リサイクル使用し得る。
即ち、被浄化液中に鉄イオンを投入すると、シリカは効率よく除去できる。鉄イオンの投入量は、表2から明らかな如く0.1ppm以上あればよく、最大投入量は、シリカの含有濃度と同等以下であればよい。その投入量は、被浄化液中のシリカ濃度にもよるが、1ppm〜10ppmの範囲が最適である。
図17はこの発明に係る他の実施例を示すフローで、図において、被浄化液9を容器8に入れて後、バブリング装置10により、微細気泡を被浄化液9に混入し、約5分程度バブリングして、被浄化液9を酸化被浄化液9aにする。
鉄イオン投入口21は、容器8内の被浄化液9中に、例えば、硫酸第二鉄等の鉄イオンを投入するもので、被浄化液9中の鉄イオンが、少なくとも0.1ppmになるようにする。
被浄化液9を、バブリング装置10により5分間程度バブリングした後、または、被浄化液9に鉄イオンを投入した後、もしくは、バブリングと鉄イオンの投入との両方を処置した後、この処置された酸化被浄化液9aを図1と同一構成の凝集濾過装置1a,1bで循環濾過してシリカ濃度を低減し、その後、逆浸透膜22に供給する。
鉄イオン投入口21は、容器8内の被浄化液9中に、例えば、硫酸第二鉄等の鉄イオンを投入するもので、被浄化液9中の鉄イオンが、少なくとも0.1ppmになるようにする。
被浄化液9を、バブリング装置10により5分間程度バブリングした後、または、被浄化液9に鉄イオンを投入した後、もしくは、バブリングと鉄イオンの投入との両方を処置した後、この処置された酸化被浄化液9aを図1と同一構成の凝集濾過装置1a,1bで循環濾過してシリカ濃度を低減し、その後、逆浸透膜22に供給する。
図18は、この発明の他の実施例を示すフローで、逆浸透膜22の濃縮廃水中のカルシウム・マグネシウムの少なくとも何れか一を除去して後、逆浸透膜22の供給水としてリサイクル使用するもので、逆浸透膜22の濃縮廃水23は容器24に受けられ、消石灰投入口25からの消石灰と、炭酸ナトリウム投入口26からの炭酸ナトリウムと、リン酸塩投入口27からのリン酸塩が投入され予備凝集される。
また、これらの投入物は、バブリング装置10によりバブリングされ、濃縮廃水23中に撹拌され混入される。
また、これらの投入物は、バブリング装置10によりバブリングされ、濃縮廃水23中に撹拌され混入される。
濃縮廃水23中のカルシウム・マグネシウムの総硬度が50ppm以上でよい場合
消石灰の投入量 :(炭酸塩硬度+マグネシア硬度)×0.74mg/l [化1]
炭酸ナトリウムの投入量:(濃縮廃水23の総硬度−炭酸塩硬度)×1.06mg/l [化2]
消石灰の投入量 :(炭酸塩硬度+マグネシア硬度)×0.74mg/l [化1]
炭酸ナトリウムの投入量:(濃縮廃水23の総硬度−炭酸塩硬度)×1.06mg/l [化2]
濃縮廃水23中のカルシウム・マグネシウムの総硬度を50ppm以下にする場合
上記[化1]式と[化2]式との消石灰と炭酸ナトリウムとに加え、リン酸塩投入口27からリン酸塩を投入すればよい。
上記各投入量は、最適値を示したものであり、
消石灰の投入量 :(炭酸塩硬度+マグネシア硬度)×0.25mg/l [化3]
炭酸ナトリウムの投入量:(濃縮廃水22の総硬度−炭酸塩硬度)×0.3mg/l [化4]
リン酸塩の投入量 :(炭酸塩硬度+マグネシア硬度)×0.05mg/l [化5]
以上であればよい。
また、消石灰・炭酸ナトリウムの何れか一のみを投入してもよく、消石灰・炭酸ナトリウムの何れか一とリン酸塩とを投入してもよい。特に、カルシュウム濃度が高い場合、消石灰のみの投入で十分対応できる。
上記[化1]式と[化2]式との消石灰と炭酸ナトリウムとに加え、リン酸塩投入口27からリン酸塩を投入すればよい。
上記各投入量は、最適値を示したものであり、
消石灰の投入量 :(炭酸塩硬度+マグネシア硬度)×0.25mg/l [化3]
炭酸ナトリウムの投入量:(濃縮廃水22の総硬度−炭酸塩硬度)×0.3mg/l [化4]
リン酸塩の投入量 :(炭酸塩硬度+マグネシア硬度)×0.05mg/l [化5]
以上であればよい。
また、消石灰・炭酸ナトリウムの何れか一のみを投入してもよく、消石灰・炭酸ナトリウムの何れか一とリン酸塩とを投入してもよい。特に、カルシュウム濃度が高い場合、消石灰のみの投入で十分対応できる。
カルシウム・マグネシウムが除去された濃縮廃水23は、図1と同一構成の凝集濾過装置1a,1bで循環濾過されて後、逆浸透膜22の供給水としてリサイクル使用される。
図18の実施例に基づき、濃縮廃水23中のカルシュウム・シリカを除去したデーターを表5に示す。
表5において、濃縮廃水の項は、図18における濃縮廃水23中のカルシュウム・シリカ濃度を示し、浄化水の項は、図18における凝集濾過装置1a,1bの通過水中のカルシュウム・シリカ濃度をそれぞれ示す。
なお、この場合の、消石灰の投入量は50mg/l、炭酸ナトリュウムの投入量は35mg/l、リン酸塩の投入量は20mg/lである。
表5において、濃縮廃水の項は、図18における濃縮廃水23中のカルシュウム・シリカ濃度を示し、浄化水の項は、図18における凝集濾過装置1a,1bの通過水中のカルシュウム・シリカ濃度をそれぞれ示す。
図19は、この発明の他の実施例を示すフローである。
即ち、図18の実施例は、逆浸透膜22の濃縮廃水23を浄化して、濃縮廃水23を、再度、逆浸透膜22の供給水としてリサイクル使用する場合を示したが、図19の実施例は、逆浸透膜22への供給水中のシリカ、カルシュウム、マグネシュウムの除去、並びに、逆浸透膜22からの濃縮廃水23中のシリカ、カルシュウム、マグネシュウムの除去を、同一装置によって行うようにしたものである。
即ち、図18の実施例は、逆浸透膜22の濃縮廃水23を浄化して、濃縮廃水23を、再度、逆浸透膜22の供給水としてリサイクル使用する場合を示したが、図19の実施例は、逆浸透膜22への供給水中のシリカ、カルシュウム、マグネシュウムの除去、並びに、逆浸透膜22からの濃縮廃水23中のシリカ、カルシュウム、マグネシュウムの除去を、同一装置によって行うようにしたものである。
なお、上記各実施例は、逆浸透膜22への供給水中のシリカ、カルシュウム、マグネシュウムの除去、並びに、逆浸透膜22からの濃縮廃水23中のシリカ、カルシュウム、マグネシュウムの除去について述べたが、どのような被浄化液が対象であっても良い。
特許請求項1の発明は、被浄化液中に鉄イオンを投入するか、または、被浄化液中に微細気泡を混入してバブリングするかの、少なくとも何れか一の処理を行ってシリカを酸化させた後、マグネシュウムの水酸化物からなる粉末状体もしくは顆粒状体あるいはペレット状体の吸着剤の相互間隙中を通過させ、被浄化液中の微粒子を凝集させてシリカを効率的に除去することができる。
特許請求項2の発明は、被浄化液中に、消石灰、もしくは、炭酸ナトリュウムの少なくとも何れか一を投入して、あるいは、これらの少なくとも何れか一とリン酸塩とを投入して、被浄化液中のカルシュウム、あるいは、マグネシュウムの少なくとも何れか一を予備凝集させた後、マグネシュウムの水酸化物からなる粉末状体もしくは顆粒状体あるいはペレット状体の吸着剤の相互間隙中を通過させて、被浄化液中のカルシュウム、あるいは、マグネシュウムの、少なくとも何れか一を効果的に除去することができる。
特許請求項2の発明は、被浄化液中に、消石灰、もしくは、炭酸ナトリュウムの少なくとも何れか一を投入して、あるいは、これらの少なくとも何れか一とリン酸塩とを投入して、被浄化液中のカルシュウム、あるいは、マグネシュウムの少なくとも何れか一を予備凝集させた後、マグネシュウムの水酸化物からなる粉末状体もしくは顆粒状体あるいはペレット状体の吸着剤の相互間隙中を通過させて、被浄化液中のカルシュウム、あるいは、マグネシュウムの、少なくとも何れか一を効果的に除去することができる。
1 : 凝集濾過装置
2 : 管体
3 : 吸着剤カセット
4 : フイルタ
5 : 吸着剤
6 : 濾紙
10 : バブリング装置
21 : 鉄イオン投入口
22 : 逆浸透膜
23 : 濃縮廃水
25 : 消石灰投入口
26 : 炭酸ナトリウム投入口
27 : リン酸塩投入口
2 : 管体
3 : 吸着剤カセット
4 : フイルタ
5 : 吸着剤
6 : 濾紙
10 : バブリング装置
21 : 鉄イオン投入口
22 : 逆浸透膜
23 : 濃縮廃水
25 : 消石灰投入口
26 : 炭酸ナトリウム投入口
27 : リン酸塩投入口
Claims (2)
- 被浄化液中に鉄イオンを投入するか、または、微細気泡を混入してバブリングするか、少なくとも何れか一の処理を行ってシリカを酸化させる第一の工程と、
第一の工程が施された被浄化液を、マグネシュウムの水酸化物からなる粉末状体もしくは顆粒状体あるいはペレット状体の吸着剤の相互間隙中を通過させ、被浄化液中の微粒子を凝集させて除去する第二の工程を具備したことを特徴とする液体浄化装置。 - 被浄化液中に消石灰、もしくは、炭酸ナトリュウムの少なくとも何れか一、あるいは、これらの少なくとも一とリン酸塩とを投入して被浄化液中のカルシュウム、もしくは、マグネシュウムの少なくとも何れか一を予備凝集させる第一の工程と、
第一の工程が施された被浄化液を、マグネシュウムの水酸化物からなる粉末状体もしくは顆粒状体あるいはペレット状体の吸着剤の相互間隙中を通過させ、被浄化液の微粒子を凝集させて除去する第二の工程を具備したことを特徴とする液体浄化装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010271711A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-12-02 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 現像装置、現像液の処理方法、印刷版の製造方法、及びろ過装置 |
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2008
- 2008-09-09 JP JP2008263254A patent/JP2010064063A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010271711A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-12-02 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 現像装置、現像液の処理方法、印刷版の製造方法、及びろ過装置 |
JP4689759B2 (ja) * | 2009-04-24 | 2011-05-25 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 現像装置、現像液の処理方法、印刷版の製造方法、及びろ過装置 |
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