JP2010051983A - Manufacturing apparatus of microwave circuit substrate and manufacturing method of the same - Google Patents

Manufacturing apparatus of microwave circuit substrate and manufacturing method of the same Download PDF

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崇 進藤
Hiroshi Takahashi
博 高橋
Atsuhiro Yamashita
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus and method of manufacturing a microwave circuit substrate, in which higher-speed and higher-precision machining is made possible by laser. <P>SOLUTION: The manufacturing apparatus of a microwave circuit substrate is equipped with a laser oscillator 1, a placing table 9, a first and a second laser irradiation members 2, 3, a laser beam path switching member 7, and an image processor 22. The first and the second laser irradiation members 2, 3 are each equipped with a scanner 4, a focusing lens 5, and a condensing lens 6. The image processor 22 includes an image pickup light 23, an imaging part 24, and a read processor 25. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板にレーザを照射することにより、基板の被加工面に設けた金属導電膜を除去加工あるいは基板の被加工面に設けたレジストを露光処理加工して立体回路基板を製造する立体回路基板の製造装置及びその製造方法に関するものである。   The present invention provides a three-dimensional circuit board for manufacturing a three-dimensional circuit board by irradiating a laser on a substrate to remove a metal conductive film provided on the processed surface of the substrate or to perform exposure processing on a resist provided on the processed surface of the substrate. The present invention relates to a circuit board manufacturing apparatus and a manufacturing method thereof.

従来から、基板にレーザを照射することにより、基板の被加工面に設けた金属導電膜を除去加工あるいは基板の被加工面に設けたレジストを露光処理加工して立体回路基板を製造する方法が知られている。   Conventionally, there has been a method for manufacturing a three-dimensional circuit board by irradiating a laser on a substrate to remove a metal conductive film provided on the processed surface of the substrate or to expose a resist provided on the processed surface of the substrate. Are known.

この従来の方法として、例えばレーザ発振器からのレーザを基板の被加工面に照射しながら走査させる1つのスキャナと、パラレルリンク機構とシリアルリンク機構との混成による多自由度位置決め機構で3軸方向に回転可能にして姿勢制御できるように構成したジグとを用いるものがある(特許文献1参照)。そして、そのジグ上に基板を載せ、ジグを3軸方向のいずれか1つ以上の方向に回転させて種々の姿勢にすることにより、基板の上面に種々の方向からレーザを照射させながら走査させて立体回路を形成するようにしている。
特開2001−68817号公報
As a conventional method, for example, a single scanner that scans while irradiating a processing surface of a substrate with a laser from a laser oscillator, and a multi-degree-of-freedom positioning mechanism that combines a parallel link mechanism and a serial link mechanism in three-axis directions There is one using a jig configured to be rotatable and capable of posture control (see Patent Document 1). Then, the substrate is placed on the jig, and the jig is rotated in any one or more of the three axial directions to be in various postures, so that the upper surface of the substrate is scanned while being irradiated with laser from various directions. A three-dimensional circuit is formed.
JP 2001-68817 A

しかしながら、上記特許文献1に記載のジグのように、パラレルリンク機構とシリアルリンク機構との混成による多自由度位置決め機構では、3軸方向の夫々に回転させるための部材が連動している。そのため、例えば一軸の軸方向に回転させて姿勢変更する際には、他軸の軸方向に回転させるための部材をも同時に可動させなければならない。その結果、所望方向へ迅速に回転させて姿勢変更させるのが難しく、より高速度の加工がし難いとともに、姿勢変更に際して上記各部材の誤差による累積誤差が生じて高精度の加工がし難くなるおそれもあるという問題点がある。   However, as in the jig described in Patent Document 1, a multi-degree-of-freedom positioning mechanism based on a hybrid of a parallel link mechanism and a serial link mechanism is associated with members that rotate in three axial directions. Therefore, for example, when changing the posture by rotating in the axial direction of one axis, a member for rotating in the axial direction of the other axis must be moved at the same time. As a result, it is difficult to change the posture by quickly rotating it in a desired direction, and it is difficult to process at a higher speed, and at the time of changing the posture, an accumulated error due to the error of each of the above members occurs, and it is difficult to perform high-precision processing. There is a problem that there is also a fear.

本発明は、レーザによって、より一層の高速度及び高精度の加工を施し得る立体回路基板製造装置及びその製造方法の提供を目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a three-dimensional circuit board manufacturing apparatus and a manufacturing method thereof capable of performing further high-speed and high-precision processing with a laser.

上記課題を解決するため、請求項1の発明は、レーザ発振器からのレーザを基板の被加工面に照射することにより、当該基板の被加工面に立体回路を加工して立体回路基板を製造する立体回路基板の製造装置であって、前記レーザ発振器からのレーザを受けてその受けたレーザを前記基板の被加工面上に照射させつつ走査させる複数のスキャナと、前記スキャナのいずれか1つにレーザを選択的に送ってレーザ光路を切り替えるレーザ光路切替部材とを備え、
前記スキャナは、夫々、前記基板の被加工面に対するレーザ照射方向が異なるように構成されていることを特徴とする立体回路基板の製造装置を提供する。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention of claim 1 manufactures a three-dimensional circuit board by processing a three-dimensional circuit on the processing surface of the substrate by irradiating the processing surface of the substrate with a laser from a laser oscillator. An apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board, comprising: a plurality of scanners that receive a laser from the laser oscillator and scan the irradiated surface of the substrate while irradiating the processed laser; and any one of the scanners A laser beam path switching member that selectively switches the laser beam path by sending a laser;
Each of the scanners is configured so that a laser irradiation direction with respect to a processing surface of the substrate is different.

請求項2の発明は、レーザ発振器からのレーザを基板の被加工面に照射することにより、当該基板の被加工面に立体回路を加工して立体回路基板を製造する立体回路基板の製造装置であって、前記レーザ発振器からのレーザを受けてその受けたレーザを前記基板の被加工面に照射する複数のレーザ照射部材と、それらのレーザ照射部材のいずれか1つにレーザを選択的に送ってレーザ光路を切り替えるレーザ光路切替部材とを備え、前記レーザ照射部材は、第1レーザ照射部材と、前記基板の被加工面に対する前記レーザの照射方向が前記第1レーザ照射部材と異なる少なくとも1つの第2レーザ照射部材とを備え、前記第1レーザ照射部材と第2レーザ照射部材とは、夫々、前記基板の被加工面上にレーザを照射する際のレーザの焦点を調整し得る焦点調整レンズと、その焦点調整レンズを通過したレーザを前記基板の被加工面上に照射させつつ走査させるスキャナと、そのスキャナと基板との間に配設された集光レンズとを備えていることを特徴とする立体回路基板の製造装置である。   The invention of claim 2 is a three-dimensional circuit board manufacturing apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board by processing a three-dimensional circuit on the processing surface of the substrate by irradiating the processing surface of the substrate with a laser from a laser oscillator. A plurality of laser irradiation members that receive the laser from the laser oscillator and irradiate the processed surface of the substrate with the received laser, and selectively send the laser to any one of the laser irradiation members. A laser beam path switching member for switching the laser beam path, wherein the laser beam irradiation member includes a first laser beam irradiation member and at least one laser beam irradiation direction different from the first laser beam irradiation member with respect to the processing surface of the substrate. A second laser irradiation member, and each of the first laser irradiation member and the second laser irradiation member adjusts the focal point of the laser when irradiating the laser beam onto the processing surface of the substrate. A focus adjusting lens, a scanner that scans the processed surface of the substrate while irradiating a laser beam that has passed through the focus adjusting lens, and a condensing lens disposed between the scanner and the substrate. It is the manufacturing apparatus of the three-dimensional circuit board characterized by the above-mentioned.

請求項3の発明は、前記立体回路基板の製造装置は、前記レーザ照射部材により加工された基板の被加工面を撮像する撮像部を有する画像処理部を、更に備え、この画像処理部の撮像部で撮像された画像に基づいてレーザ照射部材による加工を点検できるようになっていることを特徴とする立体回路基板の製造装置である。   According to a third aspect of the present invention, the manufacturing apparatus of the three-dimensional circuit board further includes an image processing unit having an imaging unit that images a processed surface of the substrate processed by the laser irradiation member, and imaging of the image processing unit It is a manufacturing apparatus of the three-dimensional circuit board characterized by being able to check the process by a laser irradiation member based on the image imaged by the part.

請求項4の発明は、前記画像処理部は、いずれかのレーザ照射部材により加工された基板の被加工面に光を照射する撮像用ライトを備え、前記撮像用ライトは、その撮像用ライトからの光が前記いずれかのレーザ照射部材の焦点調整レンズとスキャナと集光レンズとを通るように構成され、前記撮像部は、前記基板の被加工面から反射されて前記いずれかのレーザ照射部材の集光レンズとスキャナと焦点調整レンズとを通過してきた光を取り込んで前記基板の被加工面を撮像できるように構成されていることを特徴とする立体回路基板の製造装置である。   According to a fourth aspect of the present invention, the image processing unit includes an imaging light that irradiates light to a processing surface of a substrate processed by any one of the laser irradiation members, and the imaging light includes the imaging light. The light is passed through the focus adjustment lens, the scanner, and the condenser lens of any one of the laser irradiation members, and the imaging unit is reflected from the processing surface of the substrate to be any one of the laser irradiation members The apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board is configured to capture light that has passed through the condenser lens, the scanner, and the focus adjustment lens, and to capture an image of the processed surface of the substrate.

請求項5の発明は、前記第1レーザ照射部材のスキャナと第2レーザ照射部材のスキャナとは、共に同じ原点及び座標軸を持ってレーザを走査させ得るように構成されていることを特徴とする立体回路基板の製造装置である。   The invention of claim 5 is characterized in that both the scanner of the first laser irradiation member and the scanner of the second laser irradiation member are configured to be able to scan the laser with the same origin and coordinate axes. It is a manufacturing apparatus of a three-dimensional circuit board.

請求項6の発明は、前記基板は、載置部材に載置され、前記載置部材は、1つの軸を中心に回転し得るように構成されていることを特徴とする立体回路基板の製造装置である。   The invention according to claim 6 is the manufacture of a three-dimensional circuit board characterized in that the substrate is placed on a placement member, and the placement member is configured to be rotatable about one axis. Device.

請求項7の発明は、前記基板は、載置部材に載置され、前記載置部材は、上面に基板を載置する載置面を備えているとともに、その載置面に略垂直な垂直軸を中心に回転し得るように構成され、前記第1レーザ照射部材は、前記垂直軸の軸方向にレーザを照射可能とされ、前記撮像用ライトは、その撮像用ライトからの光が前記第1レーザ照射部材の焦点調整レンズとスキャナと集光レンズとを通るように構成され、前記撮像部は、前記基板の被加工面から反射されて前記第1レーザ照射部材の集光レンズとスキャナと焦点調整レンズとを通過してきた光を取り込んで前記基板の被加工面を撮像できるように構成されていることを特徴とする立体回路基板の製造装置である。   According to a seventh aspect of the present invention, the substrate is mounted on a mounting member, and the mounting member includes a mounting surface on which the substrate is mounted on an upper surface, and is perpendicular to the mounting surface. The first laser irradiation member is configured to be capable of irradiating a laser in an axial direction of the vertical axis, and the imaging light has light from the imaging light being emitted from the first light. The focus adjustment lens, the scanner, and the condenser lens of one laser irradiation member are configured to pass through, and the imaging unit is reflected from the processing surface of the substrate to be reflected by the condenser lens of the first laser irradiation member and the scanner. The apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board is configured to capture light that has passed through a focus adjustment lens and to image a processed surface of the substrate.

又、上記課題を解決するために、請求項8の発明は、レーザ発振器からのレーザを受けてその受けたレーザを前記基板の被加工面に対してレーザの照射方向が異なる複数のスキャナとそれらのスキャナのいずれか1つにレーザを選択的に送ってレーザの光路を切り替えるレーザ光路切替部材とを有する立体回路基板の製造装置を用い、当該基板の被加工面に立体回路を加工して立体回路基板を製造する方法であって、前記レーザ発振器からのレーザを、前記複数のスキャナの内のひとつのスキャナに送り、当該ひとつのスキャナによってそのレーザを前記基板の被加工面に照射させつつ走査させるようにして加工し、次に、前記レーザ発振器からのレーザを、前記レーザ光路切替部材によって、前記ひとつのスキャナと異なる他のスキャナに送って光路を切り替え、当該他のスキャナによって前記基板の被加工面に、前記ひとつのスキャナのレーザ照射方向と異なる方向からレーザを照射させつつ走査させるようにして加工することを特徴とする立体回路基板の製造方法を提供する。   In order to solve the above-mentioned problem, the invention of claim 8 is directed to a plurality of scanners having different laser irradiation directions with respect to the processed surface of the substrate and receiving the laser from the laser oscillator. A three-dimensional circuit board manufacturing apparatus having a laser optical path switching member that selectively sends a laser to any one of the scanners to switch the optical path of the laser, and processes the three-dimensional circuit on the processing surface of the substrate. A method of manufacturing a circuit board, wherein a laser from the laser oscillator is sent to one of the plurality of scanners, and scanning is performed by irradiating the processed surface of the board with the one scanner. Next, the laser from the laser oscillator is transferred to another scanner different from the one scanner by the laser beam path switching member. The three-dimensional circuit is characterized in that the processing is performed by switching the optical path and scanning the processing surface of the substrate by irradiating the laser from a direction different from the laser irradiation direction of the one scanner by the other scanner. A method for manufacturing a substrate is provided.

請求項9の発明は、前記レーザによって加工を施した基板の被加工面を撮像する撮像部を有する画像処理部と、基板を載置する載置部材とを、更に備えた立体回路基板の製造装置を用い、前記載置部材に2つの基板を載置し、前記ひとつのスキャナによって前記基板のいずれか一方にレーザを照射させつつ走査させるようにして加工し、次に、前記他のスキャナによって前記基板の他方に照射させつつ走査させるとともに、その間に、前記基板の一方に加工を施した被加工面を、前記画像処理部の撮像部で撮像することを特徴とする立体回路基板の製造方法である。   The invention according to claim 9 is a method of manufacturing a three-dimensional circuit board, further comprising: an image processing unit having an imaging unit that images a processed surface of the substrate processed by the laser; and a mounting member on which the substrate is mounted. Using the apparatus, the two substrates are placed on the mounting member, processed by irradiating one of the substrates with a laser by the one scanner, and then processed by the other scanner. A method of manufacturing a three-dimensional circuit board, wherein the other surface of the substrate is scanned while being irradiated, and a processed surface processed on one of the substrates is imaged by the imaging unit of the image processing unit during the scanning. It is.

本発明の請求項1、及び8によれば、基板の被加工面に対するレーザ照射方向が異なるように構成された複数のスキャナと、前記スキャナのいずれか1つにレーザを選択的に送ってレーザの光路を切り替えるレーザ光路切替部材とを備えている。   According to the first and eighth aspects of the present invention, the laser is selectively sent to any one of the plurality of scanners configured to have different laser irradiation directions with respect to the processing surface of the substrate, and the laser. And a laser beam path switching member that switches the beam path.

これにより、1つのレーザ発振器からのレーザを、レーザ光路切替部材によって、いずれかのスキャナに選択的に送り、そのレーザを受けたスキャナによって、基板の被加工面に異なる方向から照射できる。   As a result, the laser from one laser oscillator can be selectively sent to one of the scanners by the laser optical path switching member, and the processed surface of the substrate can be irradiated from different directions by the scanner that has received the laser.

従って、例えば基板を載置する載置部材を可動させなくても種々の方向から照射でき、載置部材を、従来の3軸方向に回転させるものに比べ、簡単な構成にできる。   Therefore, for example, irradiation can be performed from various directions without moving the mounting member on which the substrate is mounted, and the mounting member can be configured in a simple manner as compared with the conventional configuration in which the mounting member is rotated in the three-axis direction.

又、従来のように各軸方向に回転させる部材を連動させていないため、迅速に回転させることができ、従来のものに比べ、高速度に可動させることができる。しかも、従来のように可動に際しての部材の連動による累積誤差が生じるのを防止でき、高精度に可動させることができる。よって、基板の被加工面に、従来に比べて、より一層の高速度及び高精度の加工を施すことができる。   Further, since the members that rotate in the respective axial directions are not interlocked as in the prior art, they can be rotated quickly and can be moved at a higher speed than the conventional one. In addition, it is possible to prevent a cumulative error due to the interlocking of the members during the movement as in the conventional case, and the movement can be performed with high accuracy. Therefore, the processing surface of the substrate can be processed with higher speed and higher accuracy than in the past.

請求項2によれば、第1レーザ照射部材と第2レーザ照射部材とは、夫々、焦点調整レンズと、その焦点調整レンズを通過したレーザを基板の被加工面上に照射させつつ走査させるスキャナと、そのスキャナと基板との間に配設された集光レンズとを備えている。   According to the second aspect of the present invention, the first laser irradiation member and the second laser irradiation member are each a focus adjustment lens, and a scanner that scans while irradiating the processed surface of the substrate with the laser that has passed through the focus adjustment lens. And a condensing lens disposed between the scanner and the substrate.

これにより、例えば基板を載置する載置部材を可動させなくても種々の方向から照射でき、載置部材を、従来の3軸方向に回転させるものに比べ、簡単な構成にできる。従って載置部材を、従来のものに比べ、高速度に可動させることができる。しかも、従来のように可動に際しての部材の連動による累積誤差が生じるのを防止でき、高精度に可動させることができる。   Thereby, for example, it is possible to irradiate from various directions without moving the mounting member on which the substrate is mounted, and it is possible to make the configuration simpler than that in which the mounting member is rotated in the conventional three-axis direction. Therefore, the mounting member can be moved at a higher speed than the conventional one. In addition, it is possible to prevent a cumulative error due to the interlocking of the members during the movement as in the conventional case, and the movement can be performed with high accuracy.

更に、焦点調整レンズによって、レーザを照射させつつ走査させる基板の被加工面に対するスキャナの高さ方向の調整を不要にでき、構成を簡素化できるとともに、レーザを高速に走査できる。   Further, the focus adjustment lens eliminates the need to adjust the height direction of the scanner with respect to the work surface of the substrate to be scanned while irradiating the laser, thereby simplifying the configuration and scanning the laser at high speed.

請求項3によれば、立体回路基板製造装置は、レーザ照射部材により加工された基板の被加工面を撮像する撮像部を備えている。これにより、例えばレーザ照射部材によって加工開始位置を加工した場合或いはレーザ照射部材によって立体回路を加工した場合にそれらの加工を、撮像部で撮像された画像に基づいて点検できる。従って、レーザ照射部材による加工が基板の所定の位置になるように調整することが可能となるとともに、加工が設定外である場合は加工の工程中に排除することも可能となる。   According to the third aspect of the present invention, the three-dimensional circuit board manufacturing apparatus includes an imaging unit that images the processed surface of the substrate processed by the laser irradiation member. Accordingly, for example, when the processing start position is processed by the laser irradiation member or when the solid circuit is processed by the laser irradiation member, the processing can be inspected based on the image captured by the imaging unit. Therefore, it is possible to adjust the processing by the laser irradiation member so as to be a predetermined position of the substrate, and it is also possible to eliminate the processing during the processing step when the processing is outside the setting.

請求項4によれば、画像処理部は、撮像用ライトを備え、そして、その撮像用ライトは、その撮像用ライトからの光が前記レーザ照射部材の焦点調整レンズとスキャナと集光レンズとを通るように構成されている。又、撮像部は、基板の被加工面から反射されて集光レンズとスキャナと焦点調整レンズとを通過してきた光によって基板の被加工面を撮像できるように構成されている。   According to the fourth aspect of the present invention, the image processing unit includes an imaging light, and the imaging light is configured so that light from the imaging light passes through the focus adjustment lens, the scanner, and the condenser lens of the laser irradiation member. It is configured to pass. The imaging unit is configured to be able to image the processed surface of the substrate by light reflected from the processed surface of the substrate and passing through the condenser lens, the scanner, and the focus adjustment lens.

これにより、撮像用ライトからの光を焦点調整レンズを通すことで、集光できる。又、焦点調整レンズで集光した光を、集光レンズを通すことで、更に集光させながら基板に当てることができる。又、基板から反射された光を集光レンズ及び焦点調整レンズを通すため、光を拡散させることなく集光できる。そして、その集光した光によって撮像部で基板を撮像するため、基板を明確に撮像できる。   Thereby, the light from the imaging light can be condensed by passing through the focus adjustment lens. Further, the light condensed by the focus adjustment lens can be applied to the substrate while being further condensed by passing through the condenser lens. Further, since the light reflected from the substrate passes through the condenser lens and the focus adjustment lens, the light can be condensed without being diffused. And since a board | substrate is imaged in an imaging part with the condensed light, a board | substrate can be imaged clearly.

請求項5によれば、第1レーザ照射部材のスキャナと第2レーザ照射部材のスキャナとは、共に同じ原点及び座標軸を持ってレーザを走査させ得るように構成されている。これにより、各スキャナによって基板にレーザを走査させる際における基板上の座標点を指示する数値として、各スキャナに同じ数値を用いることができ、各スキャナの操作やデータ管理等を容易なものにできる。   According to the fifth aspect, the scanner of the first laser irradiation member and the scanner of the second laser irradiation member are both configured to be able to scan the laser with the same origin and coordinate axes. As a result, the same numerical value can be used for each scanner as the numerical value indicating the coordinate point on the substrate when the laser is scanned on the substrate by each scanner, and the operation and data management of each scanner can be facilitated. .

請求項6によれば、基板を載置した載置部材は、1つの軸を中心に回転し得るように構成されている。これにより、基板の被加工面が立体状である場合でも、例えば第1レーザ照射部材によって、基板の被加工面における水平状の面にレーザを照射できる。一方、第2レーザ照射部材によって、例えば上記水平状の面に垂直な面にレーザを照射できる。又、その垂直な面が、例えば前、後、左、又は右方向に向いている場合でも、載置部材が回転することで、1つの第2レーザ照射部材で、順次にレーザを照射できる。   According to the sixth aspect, the mounting member on which the substrate is mounted is configured to be able to rotate around one axis. Thereby, even when the processed surface of the substrate is three-dimensional, for example, the horizontal surface of the processed surface of the substrate can be irradiated with the laser by the first laser irradiation member. On the other hand, the second laser irradiation member can irradiate a laser on a surface perpendicular to the horizontal surface, for example. Further, even when the vertical surface is directed to the front, back, left, or right direction, for example, the laser can be sequentially irradiated with one second laser irradiation member by rotating the mounting member.

請求項7によれば、第1レーザ照射部材は、垂直軸の軸方向にレーザを照射可能とされ、撮像用ライトは、その撮像用ライトからの光が第1レーザ照射部材の焦点調整レンズとスキャナと集光レンズとを通るように構成されている。又、撮像部は、基板の被加工面から反射されて第1レーザ照射部材の集光レンズとスキャナと焦点調整レンズとを通過してきた光を取り込んで基板の被加工面を撮像できるように構成されている。   According to the seventh aspect, the first laser irradiation member can irradiate the laser in the axial direction of the vertical axis, and the imaging light has the light from the imaging light and the focus adjustment lens of the first laser irradiation member. It is configured to pass through the scanner and the condenser lens. The imaging unit is configured to capture the light reflected from the processing surface of the substrate and passing through the condenser lens, the scanner, and the focus adjustment lens of the first laser irradiation member and image the processing surface of the substrate. Has been.

これにより、基板の被加工面を垂直方向から撮像でき、基板の被加工面が立体状になっている場合でも、撮像した画像から正確な寸法を読み取ることができる。従って、例えば撮像した画像に基づいて点検すれば、加工精度の良いものを得ることができる。   Thereby, the to-be-processed surface of a board | substrate can be imaged from a perpendicular direction, and when a to-be-processed surface of a board | substrate is three-dimensional, an exact dimension can be read from the imaged image. Therefore, for example, if inspection is performed based on the captured image, a product with high processing accuracy can be obtained.

請求項9によれば、他のスキャナによって基板の他方に照射させつつ走査させるとともに、その間に、基板の一方に加工を施した被加工面を、画像処理部の撮像部で撮像する。   According to the ninth aspect, the other surface of the substrate is scanned while being irradiated by the other scanner, and the processed surface processed on one side of the substrate is imaged by the imaging unit of the image processing unit.

これにより、レーザによって基板を連続的に加工しつつ同時に加工した面を撮像して点検をできる。従って、立体回路の製造を短時間で行うことができるとともに、加工不良のものを製造工程中に排除できる。   Thereby, the surface processed simultaneously can be imaged and inspected while continuously processing the substrate with the laser. Therefore, the three-dimensional circuit can be manufactured in a short time, and defective ones can be excluded during the manufacturing process.

以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態の立体回路基板の製造装置の概略説明図である。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic explanatory diagram of an apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board according to an embodiment of the present invention.

この実施形態の立体回路基板の製造装置は、レーザ発振器1と、加工対象物である基板100を載置する載置部材としての載置テーブル9と、その基板100にレーザを照射するための2つのレーザ照射部材2、3と、レーザ光路切替部材7とを備えている。   The apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board according to this embodiment includes a laser oscillator 1, a mounting table 9 as a mounting member on which a substrate 100 as a processing target is mounted, and 2 for irradiating the substrate 100 with a laser. Two laser irradiation members 2 and 3 and a laser beam path switching member 7 are provided.

レーザ発振器1は、この実施形態では、レーザ発振器用コントローラ11が付設されており、このレーザ発振器用コントローラ11によってレーザの発振量等が制御されるようになっている。又、レーザ発振器用コントローラ11は、通信可能に接続された主コントローラ10から発振量等の情報を受信し、その受信した発振量等の情報に基づいて上記制御を行うようになっている。   In this embodiment, the laser oscillator 1 is provided with a laser oscillator controller 11, and the laser oscillation amount is controlled by the laser oscillator controller 11. The laser oscillator controller 11 receives information such as the oscillation amount from the communicably connected main controller 10 and performs the above control based on the received information such as the oscillation amount.

載置テーブル9は、上面が載置面91を構成している。そして、この載置面91は、ほぼ水平状になるように配設されており、この載置面91に、基板100が載置されて固定されるようになっている。   An upper surface of the mounting table 9 constitutes a mounting surface 91. The placement surface 91 is disposed so as to be substantially horizontal, and the substrate 100 is placed and fixed on the placement surface 91.

そして、基板100は、この載置テーブル9の載置面91に載置された状態で、基板100の上面(被加工面)に、上方側からレーザが照射されるようになっている。又、載置テーブル9は、図4に示すように、載置面91に垂直な方向のZ軸103を中心に回転自在とされている。   The substrate 100 is irradiated with laser from above on the upper surface (surface to be processed) of the substrate 100 in a state where the substrate 100 is mounted on the mounting surface 91 of the mounting table 9. Further, as shown in FIG. 4, the mounting table 9 is rotatable about a Z axis 103 in a direction perpendicular to the mounting surface 91.

レーザ照射部材2、3は、この実施形態では、図1に示すように第1レーザ照射部材2と、第2レーザ照射部材3とを備えている。第1レーザ照射部材2は、レーザ発振器1からレーザを上記Z軸103の軸方向に照射できるように構成されている。   In this embodiment, the laser irradiation members 2 and 3 include a first laser irradiation member 2 and a second laser irradiation member 3 as shown in FIG. The first laser irradiation member 2 is configured to be able to irradiate the laser from the laser oscillator 1 in the axial direction of the Z axis 103.

一方、第2レーザ照射部材3は、レーザを上記第1レーザ照射部材2と異なる方向に照射できるように構成されている。この実施形態の第2レーザ照射部材3は、図4に示すように上記第1レーザ照射部材2の右斜め側方側に配設されており、レーザを基板100に右斜め上方側から照射するように構成されている。   On the other hand, the second laser irradiation member 3 is configured to be able to irradiate a laser in a direction different from that of the first laser irradiation member 2. As shown in FIG. 4, the second laser irradiation member 3 of this embodiment is disposed on the diagonally right side of the first laser irradiation member 2, and irradiates the substrate 100 with the laser beam from the diagonally upper right side. It is configured as follows.

第1レーザ照射部材2と第2レーザ照射部材3とは、夫々、図1に示すようにスキャナ4と、焦点調整レンズ5と、集光レンズ6とを備えている。スキャナ4は、レーザ発振器1からのレーザを、基板100の上面上に照射させつつ走査させるもので、2つの反射ミラー41を備えている。   Each of the first laser irradiation member 2 and the second laser irradiation member 3 includes a scanner 4, a focus adjustment lens 5, and a condenser lens 6, as shown in FIG. The scanner 4 scans while irradiating the laser from the laser oscillator 1 on the upper surface of the substrate 100, and includes two reflection mirrors 41.

反射ミラー41は、夫々、駆動モータであるガルバノモータ(図示せず)が付設されており、このガルバノモータの作動によって、載置テーブル9に載置された基板100の上面に対する向き(角度)を変え得るように構成されている。   Each of the reflection mirrors 41 is provided with a galvano motor (not shown) as a drive motor, and the direction (angle) with respect to the upper surface of the substrate 100 placed on the placement table 9 is activated by the operation of the galvano motor. It is configured to change.

これにより、図4に示すようにレーザを、載置テーブル9に載置された基板100の上面における上記Z軸103と直交するX軸101の軸方向と、X軸101及びZ軸103に直交するY軸102の軸方向に照射させつつ走査できるようになっている。   As a result, as shown in FIG. 4, the laser beam is orthogonal to the axial direction of the X axis 101 perpendicular to the Z axis 103 on the upper surface of the substrate 100 placed on the placement table 9 and to the X axis 101 and the Z axis 103. Scanning can be performed while irradiating in the axial direction of the Y axis 102.

また、レーザを、図2(a)に示すように載置テーブル9に載置された基板100の上面における一端から、図2(b)に示すようにその上面における他端までの範囲に渡ってレーザを走査できるようになっている。   Further, the laser is spread over a range from one end on the upper surface of the substrate 100 mounted on the mounting table 9 as shown in FIG. 2A to the other end on the upper surface as shown in FIG. 2B. The laser can be scanned.

又、上記反射ミラー41の向きが変わることにより、基板100の上面に対して一定の角度範囲でレーザを照射可能とされている。この実施形態では、第1レーザ照射部材2のスキャナ4の反射ミラー41は、図3に示すようにZ軸103に対して角度αが略30°から90°をなす範囲に照射可能とされている。   Further, by changing the direction of the reflection mirror 41, it is possible to irradiate the laser within a certain angle range with respect to the upper surface of the substrate 100. In this embodiment, the reflection mirror 41 of the scanner 4 of the first laser irradiation member 2 can irradiate in a range where the angle α is approximately 30 ° to 90 ° with respect to the Z axis 103 as shown in FIG. Yes.

従って、第1レーザ照射部材2のスキャナ4は、基板100の上面において、Z軸103に対して角度αが30°よりも大きく、90°よりも小さい(30°<α<90°)緩傾斜面及び水平面(α=90°)にレーザを照射する。このようにして、第1レーザ照射部材2のスキャナ4は、緩傾斜面と水平面とに(図3では、角度αが30°以下とし、一点鎖線で示した面、以下、緩傾斜面と水平面とを略水平面という)、レーザを照射し、立体回路の略水平面を加工形成する。   Therefore, the scanner 4 of the first laser irradiation member 2 has a gentle inclination on the upper surface of the substrate 100 with respect to the Z axis 103 with an angle α larger than 30 ° and smaller than 90 ° (30 ° <α <90 °). The laser is irradiated on the surface and the horizontal plane (α = 90 °). In this way, the scanner 4 of the first laser irradiation member 2 has a gently inclined surface and a horizontal plane (in FIG. 3, the angle α is 30 ° or less and is a surface indicated by a one-dot chain line, hereinafter, the gently inclined surface and the horizontal plane. Is called a substantially horizontal plane), and a laser is irradiated to process and form a substantially horizontal plane of the three-dimensional circuit.

尚、この実施形態の第1レーザ照射部材2は、レーザを照射させつつ走査させることにより立体回路を加工形成するとともに、その立体回路104を加工形成する際の加工開始点マーク104aを加工形成する。   The first laser irradiation member 2 of this embodiment processes and forms a three-dimensional circuit by scanning while irradiating a laser, and forms a processing start point mark 104a when processing the three-dimensional circuit 104. .

この実施形態の加工開始点マーク104aは、図5〜図8に示すように基板100の上面に予め設けられた基準点100aから設定距離だけ離れた位置に加工形成するようになっている。   The processing start point mark 104a of this embodiment is processed and formed at a position away from a reference point 100a provided in advance on the upper surface of the substrate 100 by a set distance, as shown in FIGS.

一方、第2レーザ照射部材3のスキャナ4の反射ミラー41は、図3に示すように、上記Z軸103に対して角度αが0°〜30°をなす範囲まで照射可能とされている。   On the other hand, as shown in FIG. 3, the reflection mirror 41 of the scanner 4 of the second laser irradiation member 3 can irradiate up to a range where the angle α is 0 ° to 30 ° with respect to the Z axis 103.

従って、第2レーザ照射部材3のスキャナ4は、基板100の上面において、Z軸103に対して角度αが0°よりも大きく、30°よりも小さい(0°<α≦30°)急傾斜面及び垂直面(α=0°)にレーザを照射する。このようにして、第2レーザ照射部材3のスキャナ4は、急傾斜面と垂直面とに(図3中に、二点鎖線で示した面、以下、急傾斜面と垂直面とを立ち面という)にレーザを照射し、立体回路の立ち面を加工形成する。   Therefore, the scanner 4 of the second laser irradiation member 3 has a steep inclination on the upper surface of the substrate 100 with respect to the Z axis 103 with an angle α larger than 0 ° and smaller than 30 ° (0 ° <α ≦ 30 °). The laser is irradiated on the surface and the vertical surface (α = 0 °). In this way, the scanner 4 of the second laser irradiation member 3 has a steeply inclined surface and a vertical surface (a surface indicated by a two-dot chain line in FIG. And the standing surface of the three-dimensional circuit is processed and formed.

又、この実施形態における第1レーザ照射部材2の反射ミラー41と第2レーザ照射部材3の反射ミラー41とは、共に同じ原点及び座標軸を持ってレーザを走査させ得るように構成されている。   In this embodiment, the reflection mirror 41 of the first laser irradiation member 2 and the reflection mirror 41 of the second laser irradiation member 3 are both configured to be able to scan the laser with the same origin and coordinate axes.

詳しくは、第1レーザ照射部材2の反射ミラー41、第2レーザ照射部材3の反射ミラー41夫々を可動させる上記ガルバノモータは、夫々、図1に示すようにスキャナコントローラ20、30に通信可能に接続されている。そして、スキャナコントローラ20、30によって、反射ミラー41の可動が制御されるように構成されている。   Specifically, the galvano motors that move the reflection mirror 41 of the first laser irradiation member 2 and the reflection mirror 41 of the second laser irradiation member 3 can communicate with the scanner controllers 20 and 30, respectively, as shown in FIG. It is connected. The movable movement of the reflection mirror 41 is controlled by the scanner controllers 20 and 30.

又、これらのスキャナコントローラ20、30は、主コントローラ10に通信可能に接続され、例えば主コントローラ10に入力されて送信されてくる情報に基づいてスキャナコントローラ20、30は反射ミラー41の可動を制御する。   The scanner controllers 20 and 30 are communicably connected to the main controller 10. For example, the scanner controllers 20 and 30 control the movement of the reflection mirror 41 based on information input and transmitted to the main controller 10. To do.

そして、その際、第1レーザ照射部材2の反射ミラー41と第2レーザ照射部材3の反射ミラー41とは、図4に示すように、共に同じ原点O、及び、X軸101とY軸102とからなる座標軸を持つように設定されている。   At that time, the reflection mirror 41 of the first laser irradiation member 2 and the reflection mirror 41 of the second laser irradiation member 3 are both the same origin O, the X axis 101, and the Y axis 102 as shown in FIG. Is set to have a coordinate axis consisting of

従って、レーザを走査させる座標軸上の点を指示する数値として、第1レーザ照射部材2の反射ミラー41と第2レーザ照射部材3の反射ミラー41とに対して同じものを用いることができる。   Therefore, the same numerical values can be used for the reflection mirror 41 of the first laser irradiation member 2 and the reflection mirror 41 of the second laser irradiation member 3 as numerical values indicating the point on the coordinate axis for scanning the laser.

よって、例えば主コントローラ10に、夫々の反射ミラー41に対して同じ数値を入力すれば、夫々の反射ミラー41は、スキャナコントローラ20、30を介してレーザを、同じ経路を通るように走査させることができる。従って、第1レーザ照射部材2の反射ミラー41と第2レーザ照射部材3の反射ミラー41との制御を容易なものにでき、使用し易いものにできる。   Therefore, for example, if the same numerical value is input to the respective reflection mirrors 41 to the main controller 10, the respective reflection mirrors 41 cause the lasers to scan through the same path via the scanner controllers 20 and 30. Can do. Therefore, the control of the reflection mirror 41 of the first laser irradiation member 2 and the reflection mirror 41 of the second laser irradiation member 3 can be made easy and easy to use.

次に、焦点調整レンズ5について説明する。この焦点調整レンズ5は、図1に示すように基板100の上面にレーザを照射する際のレーザの焦点が基板100の上面上にくるように調整するためのもので、複数のレンズを備えている。   Next, the focus adjustment lens 5 will be described. As shown in FIG. 1, the focus adjustment lens 5 is for adjusting the focal point of the laser when irradiating the upper surface of the substrate 100 with the laser on the upper surface of the substrate 100, and includes a plurality of lenses. Yes.

より詳しくは、焦点調整レンズ5は、絞りレンズ51と、その絞りレンズ51に対して退行・接近する方向に移動可能な移動レンズ52等の複数のレンズを備えている。   More specifically, the focus adjustment lens 5 includes a plurality of lenses such as a diaphragm lens 51 and a movable lens 52 that can move in a direction in which the diaphragm lens 51 retreats and approaches.

そして、移動レンズ52が絞りレンズ51に対して退行・接近する方向に移動することにより、レーザの焦点を高位置又は低位置に調整するようになっている。   The moving lens 52 moves in the direction of retreating and approaching the diaphragm lens 51, thereby adjusting the focal point of the laser to a high position or a low position.

レーザ照射部材2、3の集光レンズ6は、スキャナ4と基板100との間に配設され、スキャナ4から送られてくるレーザを通すことにより、レーザを集光させる。   The condensing lens 6 of the laser irradiation members 2 and 3 is disposed between the scanner 4 and the substrate 100, and condenses the laser by passing a laser sent from the scanner 4.

又、この実施形態における立体回路基板の製造装置は、画像処理部22を備えている。この実施形態における画像処理部22は、第1レーザ照射部材2又は第2レーザ照射部材3により加工された基板100の上面を撮像するとともに、撮像した画像に基づいて画像から所定の寸法を読み取り処理するように構成されている。この画像処理部22は、撮像用ライト23と、撮像部24と、読み取り処理部25とを備えている。   In addition, the apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board in this embodiment includes an image processing unit 22. The image processing unit 22 in this embodiment images the upper surface of the substrate 100 processed by the first laser irradiation member 2 or the second laser irradiation member 3, and reads a predetermined dimension from the image based on the captured image. Is configured to do. The image processing unit 22 includes an imaging light 23, an imaging unit 24, and a reading processing unit 25.

撮像用ライト23は、上記加工された基板100の上面を撮像する際に基板100の上面に光を照射する。この実施形態では、撮像用ライト23は、その光が、照射用光反射部材23aを介して、上記第1レーザ照射部材2の焦点調整レンズ5、スキャナ4、及び集光レンズ6を通って基板100の上面に当たるように構成さている。   The imaging light 23 irradiates light on the upper surface of the substrate 100 when imaging the upper surface of the processed substrate 100. In this embodiment, the imaging light 23 is a substrate whose light passes through the focus adjustment lens 5, the scanner 4, and the condenser lens 6 of the first laser irradiation member 2 through the irradiation light reflection member 23 a. 100 is configured to hit the upper surface of 100.

詳しくは、上記第1レーザ照射部材2の焦点調整レンズ5の上方側に、光を反射可能な照射用光反射部材23aが配設されている。又、この照射用光反射部材23aは、後述の第1レーザ光路71のほぼ光路上の光路上位置27aから、その第1レーザ光路71から側方側に退いた退避位置27bまでの範囲を移動可能とされている。   Specifically, an irradiation light reflecting member 23a capable of reflecting light is disposed above the focus adjustment lens 5 of the first laser irradiation member 2. Further, the irradiation light reflecting member 23a moves in a range from an optical path position 27a substantially on the optical path of a first laser optical path 71, which will be described later, to a retreat position 27b retracted laterally from the first laser optical path 71. It is possible.

そして、照射用光反射部材23aは、レーザが上記第2レーザ照射部材3に送られた際に上記光路上位置27aに配位される。この状態で、撮像用ライト23からの光が照射用光反射部材23aによって反射されて上記第1レーザ照射部材2の焦点調整レンズ5、スキャナ4、及び集光レンズ6を通るようになっている。   The irradiation light reflecting member 23a is arranged at the position 27a on the optical path when the laser is sent to the second laser irradiation member 3. In this state, the light from the imaging light 23 is reflected by the irradiation light reflecting member 23 a and passes through the focus adjustment lens 5, the scanner 4, and the condenser lens 6 of the first laser irradiation member 2. .

撮像部24は、上記加工された基板100の上面を撮像するものである。この実施形態では、基板100の上面から上記第1レーザ照射部材2の集光レンズ6、スキャナ4、及び焦点調整レンズ5を通ってきた上記撮像用ライト23の光を、撮像用光反射部材24aを介して受けて撮像するように構成さている。   The imaging unit 24 images the upper surface of the processed substrate 100. In this embodiment, the light of the imaging light 23 that has passed through the condensing lens 6, the scanner 4, and the focus adjustment lens 5 of the first laser irradiation member 2 from the upper surface of the substrate 100 is used as the imaging light reflecting member 24a. It is comprised so that it may receive through and may image.

この撮像用光反射部材24aは、上記照射用光反射部材23aとほぼ同構成を採っており、焦点調整レンズ5の上方側に、上記光路上位置27aから上記退避位置27bまでの範囲を移動可能とされている。   The imaging light reflecting member 24a has substantially the same configuration as the irradiation light reflecting member 23a, and is movable above the focus adjustment lens 5 within a range from the optical path position 27a to the retracted position 27b. It is said that.

そして、撮像用光反射部材24aは、レーザ光路切替部材7によってレーザが上記第2レーザ照射部材3に送られた際に上記光路上位置27aに配位される。この状態で、基板100の上面から上記集光レンズ6、スキャナ4、及び焦点調整レンズ5を通ってきた上記撮像用ライト23の光を撮像部24に反射して送る。   The imaging light reflecting member 24a is positioned at the optical path position 27a when the laser is sent to the second laser irradiation member 3 by the laser optical path switching member 7. In this state, the light of the imaging light 23 that has passed through the condenser lens 6, the scanner 4, and the focus adjustment lens 5 from the upper surface of the substrate 100 is reflected and sent to the imaging unit 24.

読み取り処理部25は、撮像部24によって撮像された画像に基づいて、図5〜図8に示した基準点100aに対する加工開始点マーク104aの位置(距離)を読み取る。又、読み取り処理部25は、基準点100aに対して加工形成された立体回路104における予め設定された点の位置(距離)を読み取る。   The reading processing unit 25 reads the position (distance) of the processing start point mark 104a with respect to the reference point 100a illustrated in FIGS. 5 to 8 based on the image captured by the imaging unit 24. The reading processing unit 25 reads the position (distance) of a preset point in the three-dimensional circuit 104 processed and formed with respect to the reference point 100a.

尚、このようにして画像処理部22の読み取り処理部25によって読み取られた寸法データは、画像処理部22と通信可能に接続された主コントローラ10に送信される。そして、主コントローラ10は、寸法データと予め記憶された設定値とに基づいて許容範囲内にあるか否かの判定を行うようになっている。   The dimension data read by the reading processing unit 25 of the image processing unit 22 in this way is transmitted to the main controller 10 connected to the image processing unit 22 so as to be communicable. Then, the main controller 10 determines whether or not it is within the allowable range based on the dimension data and a preset value stored in advance.

次に、レーザ光路切替部材7について説明する。レーザ光路切替部材7は、第1レーザ照射部材2又は第2レーザ照射部材3のいずれか1つにレーザを選択的に送ってレーザの光路を切り替えるためのものである。   Next, the laser light path switching member 7 will be described. The laser light path switching member 7 is for selectively sending a laser to any one of the first laser irradiation member 2 and the second laser irradiation member 3 to switch the optical path of the laser.

この実施形態のレーザ光路切替部材7は、レーザを反射可能なものから構成されている。そして、このレーザ光路切替部材7は、レーザ発振器1と第1レーザ照射部材2との間におけるレーザ光路上に移動可能に、且つ反射したレーザが第2レーザ照射部材3の方向に向かうように配設されている。   The laser beam path switching member 7 of this embodiment is made of a material that can reflect a laser. The laser beam path switching member 7 is arranged so that it can move on the laser beam path between the laser oscillator 1 and the first laser irradiation member 2, and the reflected laser is directed toward the second laser irradiation member 3. It is installed.

詳しくは、この実施形態においては、図1に示すようにレーザ発振器1から発振されたレーザは、第1レーザ照射部材2の焦点調整レンズ5の方向に向かうようになっている。そして、レーザ発振器1から第1レーザ照射部材2の間にレーザが通る第1レーザ光路71が形成されるようになっている。   Specifically, in this embodiment, as shown in FIG. 1, the laser oscillated from the laser oscillator 1 is directed toward the focus adjustment lens 5 of the first laser irradiation member 2. A first laser beam path 71 through which the laser passes is formed between the laser oscillator 1 and the first laser irradiation member 2.

レーザ光路切替部材7は、第1レーザ光路71の光路上を遮る遮断位置7aから、側方側に退いた退避位置7bまでの範囲を移動可能とされている。   The laser beam path switching member 7 is movable in a range from a blocking position 7 a that blocks the first laser beam path 71 on the optical path to a retracted position 7 b that is retracted to the side.

そして、レーザ光路切替部材7が第1レーザ光路71から退いた退避位置7bに配位された状態では、レーザ発振器1から発振されたレーザは、レーザ光路切替部材7に反射されることなく第1レーザ光路71に沿って進んで第1レーザ照射部材2に入る。   Then, in a state where the laser light path switching member 7 is arranged at the retracted position 7 b retracted from the first laser light path 71, the laser oscillated from the laser oscillator 1 is not reflected by the laser light path switching member 7. It proceeds along the laser beam path 71 and enters the first laser irradiation member 2.

一方、レーザ光路切替部材7が上記遮断位置7aに配位された状態で、レーザ発振器1から発振されたレーザは、レーザ光路切替部材7に反射されて第2レーザ照射部材3の方向に向かう。これにより、レーザ光路切替部材7と第2レーザ照射部材3との間に第2レーザ光路72が形成される。従って、この状態で、レーザ光路切替部材7は、第1レーザ光路71から第2レーザ光路72にレーザの光路を切替える。   On the other hand, the laser oscillated from the laser oscillator 1 in a state where the laser beam path switching member 7 is arranged at the blocking position 7 a is reflected by the laser beam path switching member 7 and travels in the direction of the second laser irradiation member 3. Thereby, a second laser light path 72 is formed between the laser light path switching member 7 and the second laser irradiation member 3. Therefore, in this state, the laser beam path switching member 7 switches the laser beam path from the first laser beam path 71 to the second laser beam path 72.

尚、図1では、説明の都合上、第1レーザ光路71及び第2レーザ光路72を屈曲させて表示しているが、実際は、レーザ光路切替部材7以外のところはレーザが直進し、真っ直ぐレーザ光路である。ただし、上記レーザ光路切替部材7と同様な光路切替部材を用いることでレーザ光路を屈曲させることもでき、適宜変更使用できる。   In FIG. 1, for convenience of explanation, the first laser beam path 71 and the second laser beam path 72 are shown as bent. However, in reality, the laser beam travels straight except for the laser beam path switching member 7 and is a straight laser. It is an optical path. However, by using an optical path switching member similar to the laser optical path switching member 7, the laser optical path can be bent, and can be appropriately changed and used.

次に、以上のように構成された上記装置を用いて、立体回路を有する基板を製造する場合の動作の一実施例について説明する。この実施例では、2つの基板を載置テーブル9に載置し、第1ステップ〜第4ステップを1サイクルとして加工を行う。   Next, an example of the operation when manufacturing a substrate having a three-dimensional circuit using the apparatus configured as described above will be described. In this embodiment, two substrates are mounted on the mounting table 9, and the first step to the fourth step are processed as one cycle.

尚、基板100、200、300は、図9に示すように、その上面が、上記略水平面1111と、立ち面とから構成されているものとする。又、その立ち面における基板の第1側面112a側を向いた面を第1立ち面112、基板の第2側面113a側を向いた面を第2立ち面113とする。又、基板の第3側面114a側を向いた面を第3立ち面114、基板の第4側面115a側を向いた面を第4立ち面115とする。そして、以下の実施例では、立ち面における第2立ち面113〜第4立ち面115を第2レーザ照射部材3によって加工し、第1立ち面112の加工を行わないものとして説明する。   As shown in FIG. 9, the top surfaces of the substrates 100, 200, and 300 are configured by the substantially horizontal surface 1111 and the standing surface. Further, a surface of the standing surface facing the first side surface 112a of the substrate is referred to as a first standing surface 112, and a surface facing the second side surface 113a of the substrate is referred to as a second standing surface 113. The surface facing the third side surface 114a of the substrate is defined as a third standing surface 114, and the surface facing the fourth side surface 115a of the substrate is defined as a fourth standing surface 115. In the following embodiments, the second standing surface 113 to the fourth standing surface 115 in the standing surface are processed by the second laser irradiation member 3 and the first standing surface 112 is not processed.

又、説明の都合上、載置テーブル9に最初に載置された基板100(第n基板、以下、先の基板100)は、図5に示すように加工開始点マーク104aが加工されているとともに、加工開始点マーク104aの位置が撮像されて点検されているものとする。更に、第4側面115a側を向いた第4立ち面115(図9参照)が加工されており、又、載置テーブル9に載置された状態から反時計方向に180°回転した状態とする。また、レーザ光路切替部材7は、図1に示すように退避位置7bに配位され、照射用光反射部材23a及び撮像用光反射部材24aは、遮断位置27bに配位された状態から説明する。   Further, for convenience of explanation, a processing start point mark 104a is processed on the substrate 100 (the nth substrate, hereinafter referred to as the previous substrate 100) first mounted on the mounting table 9, as shown in FIG. At the same time, it is assumed that the position of the processing start point mark 104a has been imaged and inspected. Furthermore, the fourth standing surface 115 (see FIG. 9) facing the fourth side surface 115a side is processed, and the state where the fourth standing surface 115 is rotated 180 degrees counterclockwise from the state of being placed on the placement table 9 is set. . Further, the laser light path switching member 7 is arranged at the retracted position 7b as shown in FIG. 1, and the irradiation light reflecting member 23a and the imaging light reflecting member 24a are arranged at the blocking position 27b. .

第1ステップにおいては、図5に示すように、第1レーザ照射部材2のスキャナ41によって、その基板100における略水平面を加工する。又、その加工をしている間に、載置テーブル9に、新たに加工する基板200(第(n+1)基板、以下、後の基板200)を載置する。   In the first step, as shown in FIG. 5, a substantially horizontal plane on the substrate 100 is processed by the scanner 41 of the first laser irradiation member 2. During the processing, the substrate 200 to be newly processed (the (n + 1) th substrate, hereinafter referred to as the subsequent substrate 200) is mounted on the mounting table 9.

次に、第1レーザ照射部材2のスキャナ41によって、上記後の基板200に加工開始点マーク104aを加工する。その後、レーザ光路切替部材7が退避位置7bから遮断位置7aに移動し(図1参照)、レーザ光路が第1レーザ光路71から第2レーザ光路72に切替わり、レーザが第2レーザ照射部材3に入る。   Next, the processing start point mark 104 a is processed on the subsequent substrate 200 by the scanner 41 of the first laser irradiation member 2. Thereafter, the laser beam path switching member 7 moves from the retracted position 7b to the blocking position 7a (see FIG. 1), the laser beam path is switched from the first laser beam path 71 to the second laser beam path 72, and the laser is switched to the second laser irradiation member 3. to go into.

そして、第2レーザ照射部材3によって、先の基板100における第3側面114aを向いた第3立ち面114(図9参照)が加工される。又、上記レーザ光路切替部材7の移動にあわせて、照射用光反射部材23aと撮像用光反射部材24aとが夫々、遮断位置27aに移動する(図1参照)。   And the 3rd standing surface 114 (refer FIG. 9) which faced the 3rd side surface 114a in the previous board | substrate 100 by the 2nd laser irradiation member 3 is processed. Further, in accordance with the movement of the laser light path switching member 7, the irradiation light reflection member 23a and the imaging light reflection member 24a move to the blocking position 27a (see FIG. 1).

これにより、撮像用ライト23からの光が第1レーザ照射部材2の焦点調整レンズ5、スキャナ4、及び集光レンズ6を通って上記後の基板200の上面に当たる。後の基板200の上面に当った光は、さらに、集光レンズ6、スキャナ4、及び焦点調整レンズ5を通って撮像用光反射部材24aを介して撮像部24に入る。そして、その光によって、撮像部24は、後の基板200の上面を撮像する。   As a result, the light from the imaging light 23 strikes the upper surface of the subsequent substrate 200 through the focus adjustment lens 5, the scanner 4, and the condenser lens 6 of the first laser irradiation member 2. The light hitting the upper surface of the subsequent substrate 200 further passes through the condenser lens 6, the scanner 4, and the focus adjustment lens 5 and enters the imaging unit 24 via the imaging light reflecting member 24 a. And the imaging part 24 images the upper surface of the board | substrate 200 after that with the light.

その際、撮像用ライト23からの光が絞りレンズ51を有する焦点調整レンズ5を通ることで、光を拡散させることなく集光できるとともに、集光レンズ6を通すことで更に集光できる。又、さらに後の基板200の上面に当った光を、集光レンズ6及び焦点調整レンズ5を通すことで、より確実に拡散させることなく集光でき、撮像部24における撮像に際して後の基板200の上面を鮮明に撮像できる。   At this time, the light from the imaging light 23 can be condensed without being diffused by passing through the focus adjustment lens 5 having the aperture lens 51, and can be further condensed by passing through the condenser lens 6. Further, the light hitting the upper surface of the subsequent substrate 200 can be condensed without being diffused more reliably by passing through the condensing lens 6 and the focus adjustment lens 5, and the subsequent substrate 200 during imaging in the imaging unit 24. The upper surface of the image can be clearly imaged.

撮像した画像は、読み取り処理部25に送られ、それを受け取った読み取り処理部25は、画像に基づいて、後の基板200の基準点100aに対する加工開始点マーク104aの位置を読み取る。   The captured image is sent to the reading processing unit 25, and the reading processing unit 25 that receives the image reads the position of the processing start point mark 104a with respect to the reference point 100a of the subsequent substrate 200 based on the image.

そして、読み取った位置データは、主コントローラ10に送られ、それを受け取った主コントローラ10は、加工開始点マーク104aの位置の良否を判定する。尚、主コントローラ10が上記位置を良と判定した場合、後の基板200は、次のステップに移され、一方、否と判定した場合、後の基板200は載置テーブル9から外される。以上が第1ステップである。   The read position data is sent to the main controller 10, and the main controller 10 that has received the position data determines whether the position of the processing start point mark 104a is acceptable. If the main controller 10 determines that the position is good, the subsequent substrate 200 is moved to the next step, whereas if determined not, the subsequent substrate 200 is removed from the placement table 9. The above is the first step.

次に、第2ステップについて説明する。図6に示すように載置テーブル9が反時計方向に90°だけ回転する。その状態から、第2レーザ照射部材3によって、先の基板100における第2側面113aを向いた第2立ち面113(図9参照)が加工される。   Next, the second step will be described. As shown in FIG. 6, the mounting table 9 rotates by 90 ° counterclockwise. From this state, the second standing surface 113 (see FIG. 9) facing the second side surface 113a of the previous substrate 100 is processed by the second laser irradiation member 3.

その後、第2レーザ照射部材3によって、後の基板200における第4側面115aを向いた第4立ち面115(図9参照)が加工される。又、その第2レーザ照射部材3による加工がされている間に、撮像部24は、先の基板100の上面を撮像し、撮像された画像に基づいて第1レーザ照射部材2及び第2レーザ照射部材3により加工された回路における設定された点の基準点100aに対する位置を読み取る。   Thereafter, the fourth standing surface 115 (see FIG. 9) facing the fourth side surface 115a of the subsequent substrate 200 is processed by the second laser irradiation member 3. Further, while the processing by the second laser irradiation member 3 is being performed, the imaging unit 24 images the upper surface of the previous substrate 100, and based on the captured image, the first laser irradiation member 2 and the second laser. The position of the set point in the circuit processed by the irradiation member 3 is read with respect to the reference point 100a.

そして、読み取った位置データは、上述の加工開始点マーク104aの位置データと同様に、主コントローラ10に送られ、主コントローラ10で、回路の位置の良否を判定する。その後、回路の位置の良否の判定が行われた先の基板100が載置テーブル9から外される。以上が、第2ステップである。   The read position data is sent to the main controller 10 in the same manner as the position data of the processing start point mark 104a described above, and the main controller 10 determines the quality of the circuit position. Thereafter, the previous substrate 100 on which the determination of the quality of the circuit is made is removed from the mounting table 9. The above is the second step.

次に、第3ステップについて説明する。図7に示すように載置テーブル9が更に反時計方向に90°だけ回転するとともに、レーザ光路切替部材7が遮断位置7aから退避位置7bに移動し(図1参照)、レーザ光路が第2レーザ光路72から第1レーザ光路71に切替わり、レーザが第1レーザ照射部材2に入る。   Next, the third step will be described. As shown in FIG. 7, the mounting table 9 is further rotated by 90 ° counterclockwise, the laser beam path switching member 7 is moved from the blocking position 7a to the retracted position 7b (see FIG. 1), and the laser beam path is second. The laser beam path 72 is switched to the first laser beam path 71, and the laser enters the first laser irradiation member 2.

そして、第1レーザ照射部材2によって、上記後の基板200における略水平面が加工される。又、その加工の間に、載置テーブル9に、次の新たな基板300(第(n+2)基板、以下、次の基板)が載置される。その後、第1レーザ照射部材2によって、上記次の基板300に加工開始点マーク104aが加工される。   Then, the substantially horizontal plane of the subsequent substrate 200 is processed by the first laser irradiation member 2. During the processing, the next new substrate 300 ((n + 2) th substrate, hereinafter, the next substrate) is placed on the placement table 9. Thereafter, the processing start point mark 104 a is processed on the next substrate 300 by the first laser irradiation member 2.

次に、レーザ光路切替部材7が退避位置7bから遮断位置7aに移動し、レーザ光路が第1レーザ光路71から第2レーザ光路72に切替わり、レーザが第2レーザ照射部材3に入る。そして、第2レーザ照射部材3によって、上記後の基板200における第3側面114aを向いた第3立ち面114(図9参照)が加工される。   Next, the laser beam path switching member 7 moves from the retracted position 7 b to the blocking position 7 a, the laser beam path is switched from the first laser beam path 71 to the second laser beam path 72, and the laser enters the second laser irradiation member 3. And the 3rd standing surface 114 (refer FIG. 9) which faced the 3rd side surface 114a in the said board | substrate 200 after the said 2nd laser irradiation member 3 is processed.

また、その加工の間に、撮像部24は、上記先の基板100の場合と同様に、上記次の基板300の上面を撮像し、基準点100aに対する加工開始点マーク104aの位置を読み取る。そして、主コントローラ10において、その加工開始点マーク104aの位置の良否を判定する。以上が、第3ステップである。   During the processing, the imaging unit 24 images the upper surface of the next substrate 300 as in the case of the previous substrate 100, and reads the position of the processing start point mark 104a with respect to the reference point 100a. Then, the main controller 10 determines the quality of the position of the processing start point mark 104a. The above is the third step.

次に、第4ステップについて説明する。図8に示すように載置テーブル9が、更に反時計方向に90°だけ回転する。そして、第2レーザ照射部材3によって、上記後の基板200における第2側面113aを向いた第2立ち面113(図9参照)が加工される。   Next, the fourth step will be described. As shown in FIG. 8, the mounting table 9 further rotates by 90 ° counterclockwise. And the 2nd standing surface 113 (refer FIG. 9) which faced the 2nd side surface 113a in the said board | substrate 200 after the said 2nd laser irradiation member 3 is processed.

その後、第2レーザ照射部材3によって、次の基板300における第4側面115aを向いた第4立ち面115(図9参照)が加工される。又、ほぼ同時に、画像処理部24によって、上記後の基板200に加工された回路の基準点100aに対する位置が読み取り処理され、主コントローラ10で、回路の位置の良否を判定する。その後、回路の位置の良否の判定が行われた上記後の基板200が載置テーブル9から外される。以上が、第4ステップである。そして、この第4ステップの次に、上記第1ステップに戻り、上記ステップを繰り返す。   Then, the 4th standing surface 115 (refer FIG. 9) which faced the 4th side surface 115a in the following board | substrate 300 by the 2nd laser irradiation member 3 is processed. At almost the same time, the image processing unit 24 reads and processes the position of the circuit processed on the subsequent substrate 200 with respect to the reference point 100a, and the main controller 10 determines whether the circuit position is good or bad. Thereafter, the subsequent substrate 200 on which the determination of the quality of the circuit is performed is removed from the mounting table 9. The above is the fourth step. Then, after the fourth step, the process returns to the first step and the above steps are repeated.

尚、上記実施形態では、レーザ照射部材を、第1レーザ照射部材2と、第2レーザ照射部材3との2つから構成しているが、レーザ照射部材の数は特に限定されず、適宜変更できる。   In the above embodiment, the laser irradiation member is composed of the first laser irradiation member 2 and the second laser irradiation member 3, but the number of laser irradiation members is not particularly limited, and can be changed as appropriate. it can.

例えば図10、図11に示すように、上述の第1レーザ照射部材2と第2レーザ照射部材3に加え、第1レーザ照射部材2の左方側に配設され左斜め上方側から基板100にレーザを照射する第3レーザ照射部材3aと、第1レーザ照射部材2の前後両側に配設され前後夫々の斜め上方側から基板100にレーザを照射する第4レーザ照射部材3b及び第5レーザ照射部材3cとを備えたものとしても良い。   For example, as shown in FIGS. 10 and 11, in addition to the first laser irradiation member 2 and the second laser irradiation member 3 described above, the substrate 100 is disposed on the left side of the first laser irradiation member 2 from the upper left side. A third laser irradiating member 3a for irradiating the first and second laser irradiating members, and a fourth laser irradiating member 3b and a fifth laser for irradiating the substrate 100 with laser beams from the obliquely upper sides of the first and second laser irradiating members 2, respectively. It is good also as what was provided with the irradiation member 3c.

又、このように、レーザ照射部材を3個以上から構成する場合は、レーザ光路切替部材7を、いずれか任意の1つのレーザ照射部材に選択的にレーザを送り得るように複数配設すれば良い。   Further, when the laser irradiation member is composed of three or more as described above, a plurality of laser optical path switching members 7 may be provided so that the laser can be selectively sent to any one of the laser irradiation members. good.

又、上述のように、第1レーザ照射部材2の前後左右の側方に、夫々、第2レーザ照射部材3〜第5レーザ照射部材3cを配設する場合、載置部材9を水平方向に回転自在なものとしても良いが、回転不能なものから構成しても良く、適宜変更できる。   In addition, as described above, when the second laser irradiation member 3 to the fifth laser irradiation member 3c are disposed on the front, rear, left, and right sides of the first laser irradiation member 2, respectively, the mounting member 9 is set in the horizontal direction. Although it is good also as what can rotate freely, you may comprise from the thing which cannot rotate, and can change suitably.

又、上記実施形態では、第1レーザ照射部材2は、加工開始点マーク104aを加工成形しているが、この形態のものに限らず、適宜変更できる。例えば加工開始点マーク104aを第2レーザ照射部材3が加工成形し、又は、加工開始点マーク104aを本装置とは別の装置で加工成形していても良い。   Moreover, in the said embodiment, although the 1st laser irradiation member 2 processes and shape | molds the process start point mark 104a, it is not restricted to this form, It can change suitably. For example, the processing start point mark 104a may be processed and formed by the second laser irradiation member 3, or the processing start point mark 104a may be processed and formed by an apparatus different from the present apparatus.

また、上記実施形態では、第1レーザ照射部材2及び第2レーザ照射部材3を、スキャナ4と、焦点調整レンズ5と、集光レンズ6とを備えたものとしているが、この形態のものに限らず、適宜変更できる。例えばスキャナ4だけを備えたものとし、あるいは、スキャナ4と焦点調整レンズ5または集光レンズ6を備えたものとしても良い。   Moreover, in the said embodiment, although the 1st laser irradiation member 2 and the 2nd laser irradiation member 3 shall be provided with the scanner 4, the focus adjustment lens 5, and the condensing lens 6, in this form Not limited, but can be changed as appropriate. For example, only the scanner 4 may be provided, or the scanner 4 and the focus adjustment lens 5 or the condenser lens 6 may be provided.

又、上記実施形態では、画像処理部22を備えたものとしているが、画像処理部22を有しないものとしても良く、適宜変更できる。又、画像処理部22を備えたものとする場合に、上記実施形態のように、撮像用ライト23と、撮像部24と、読み取り処理部25とを備えてた形態のものに限らず、例えば撮像部24だけを備えたものとする。あるいは画像処理部22は、撮像部24と撮像用ライト23または読み取り処理部25とを備えたものとしても良い。   In the above embodiment, the image processing unit 22 is provided. However, the image processing unit 22 may not be provided and can be changed as appropriate. Further, when the image processing unit 22 is provided, the image processing unit 22 is not limited to the type including the imaging light 23, the imaging unit 24, and the reading processing unit 25 as in the above embodiment. It is assumed that only the imaging unit 24 is provided. Alternatively, the image processing unit 22 may include an imaging unit 24 and an imaging light 23 or a reading processing unit 25.

本発明の一実施の形態の立体回路基板の製造装置の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the manufacturing apparatus of the three-dimensional circuit board of one embodiment of this invention. スキャナによってレーザが基板を走査する際の説明図に係り、図2(a)は、スキャナによってレーザが基板の一端側を走査している状態の説明図、図2(b)は、スキャナによってレーザが基板の他端側を走査している状態の説明図である。FIG. 2A is an explanatory diagram when the laser scans the substrate by the scanner, FIG. 2A is an explanatory diagram in a state where the laser is scanning one end side of the substrate, and FIG. 2B is a laser by the scanner. FIG. 6 is an explanatory diagram of a state in which the other end side of the substrate is being scanned. 第1レーザ照射部材及び第2レーザ照射部材の基板に対するレーザ照射角度を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the laser irradiation angle with respect to the board | substrate of a 1st laser irradiation member and a 2nd laser irradiation member. 第1レーザ照射部材と第2レーザ照射部材との夫々が基板に対してレーザを走査する際の座標軸を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the coordinate axis when each of a 1st laser irradiation member and a 2nd laser irradiation member scans a laser with respect to a board | substrate. 第1レーザ照射部材と第2レーザ照射部材とによって、基板を加工成形する第1のステップを説明する際における載置部材に載置した基板の平面図である。It is a top view of the board | substrate mounted in the mounting member in the case of explaining the 1st step which processes and shape | molds a board | substrate with a 1st laser irradiation member and a 2nd laser irradiation member. 第1レーザ照射部材と第2レーザ照射部材とによって、基板を加工成形する第2のステップを説明する際における載置部材に載置した基板の平面図である。It is a top view of the board | substrate mounted in the mounting member in the case of explaining the 2nd step which processes and shape | molds a board | substrate with a 1st laser irradiation member and a 2nd laser irradiation member. 第1レーザ照射部材と第2レーザ照射部材とによって、基板を加工成形する第3のステップを説明する際における載置部材に載置した基板の平面図である。It is a top view of the board | substrate mounted in the mounting member in the case of explaining the 3rd step which processes and shape | molds a board | substrate with a 1st laser irradiation member and a 2nd laser irradiation member. 第1レーザ照射部材と第2レーザ照射部材とによって、基板を加工成形する第4のステップを説明する際における載置部材に載置した基板の平面図である。It is a top view of the board | substrate mounted in the mounting member in the case of explaining the 4th step which processes and shape | molds a board | substrate with a 1st laser irradiation member and a 2nd laser irradiation member. 加工する基板の加工対象面の説明図である。It is explanatory drawing of the process target surface of the board | substrate to process. 他の実施形態の立体回路基板の製造装置の概略の平面図である。It is a schematic top view of the manufacturing apparatus of the three-dimensional circuit board of other embodiment. 図10の他の実施形態の立体回路基板の製造装置の概略の側面図である。It is a schematic side view of the manufacturing apparatus of the three-dimensional circuit board of other embodiment of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 レーザ発振器
2 第1レーザ照射部材
3 第2レーザ照射部材
4 スキャナ
5 焦点調整レンズ
6 集光レンズ
7 レーザ光路切替部材
9 載置テーブル(載置部材)
22 画像処理部
23 撮像用ライト
24 撮像部
25 読み取り処理部
100 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser oscillator 2 1st laser irradiation member 3 2nd laser irradiation member 4 Scanner 5 Focus adjustment lens 6 Condensing lens 7 Laser optical path switching member 9 Mounting table (mounting member)
22 Image Processing Unit 23 Imaging Light 24 Imaging Unit 25 Reading Processing Unit 100 Substrate

Claims (9)

レーザ発振器からのレーザを基板の被加工面に照射することにより、当該基板の被加工面に立体回路を加工して立体回路基板を製造する立体回路基板の製造装置であって、
前記レーザ発振器からのレーザを受けてその受けたレーザを前記基板の被加工面上に照射させつつ走査させる複数のスキャナと、前記スキャナのいずれか1つにレーザを選択的に送ってレーザ光路を切り替えるレーザ光路切替部材とを備え、
前記スキャナは、夫々、前記基板の被加工面に対するレーザ照射方向が異なるように構成されていることを特徴とする立体回路基板の製造装置。
A three-dimensional circuit board manufacturing apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board by processing a three-dimensional circuit on a processing surface of the substrate by irradiating a processing surface of the substrate with a laser from a laser oscillator,
A plurality of scanners that receive the laser from the laser oscillator and scan the irradiated surface of the substrate while irradiating the processed surface of the substrate; and selectively send the laser to any one of the scanners to change the laser beam path A laser beam path switching member for switching,
The apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board, wherein each of the scanners is configured to have different laser irradiation directions with respect to a processing surface of the substrate.
レーザ発振器からのレーザを基板の被加工面に照射することにより、当該基板の被加工面に立体回路を加工して立体回路基板を製造する立体回路基板の製造装置であって、
前記レーザ発振器からのレーザを受けてその受けたレーザを前記基板の被加工面に照射する複数のレーザ照射部材と、それらのレーザ照射部材のいずれか1つにレーザを選択的に送ってレーザ光路を切り替えるレーザ光路切替部材とを備え、
前記レーザ照射部材は、第1レーザ照射部材と、前記基板の被加工面に対する前記レーザの照射方向が前記第1レーザ照射部材と異なる少なくとも1つの第2レーザ照射部材とを備え、
前記第1レーザ照射部材と第2レーザ照射部材とは、夫々、前記基板の被加工面上にレーザを照射する際のレーザの焦点を調整し得る焦点調整レンズと、その焦点調整レンズを通過したレーザを前記基板の被加工面上に照射させつつ走査させるスキャナと、そのスキャナと基板との間に配設された集光レンズとを備えていることを特徴とする立体回路基板の製造装置。
A three-dimensional circuit board manufacturing apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board by processing a three-dimensional circuit on a processing surface of the substrate by irradiating a processing surface of the substrate with a laser from a laser oscillator,
A plurality of laser irradiation members that receive the laser from the laser oscillator and irradiate the processed surface of the substrate with the received laser; and a laser beam path by selectively sending the laser to any one of the laser irradiation members A laser beam path switching member for switching
The laser irradiation member includes a first laser irradiation member and at least one second laser irradiation member in which an irradiation direction of the laser with respect to a processing surface of the substrate is different from the first laser irradiation member,
The first laser irradiation member and the second laser irradiation member have passed through a focus adjustment lens that can adjust the focus of the laser when irradiating the laser beam onto the processing surface of the substrate, and the focus adjustment lens, respectively. An apparatus for producing a three-dimensional circuit board, comprising: a scanner that scans while irradiating a surface of the substrate to be processed with a laser; and a condenser lens disposed between the scanner and the substrate.
前記立体回路基板の製造装置は、前記レーザ照射部材により加工された基板の被加工面を撮像する撮像部を有する画像処理部を、更に備え、
この画像処理部の撮像部で撮像された画像に基づいてレーザ照射部材による加工を点検できるようになっていることを特徴とする請求項2記載の立体回路基板の製造装置。
The manufacturing apparatus of the three-dimensional circuit board further includes an image processing unit having an imaging unit that images a processed surface of the substrate processed by the laser irradiation member,
The apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board according to claim 2, wherein the processing by the laser irradiation member can be inspected based on an image picked up by the image pickup section of the image processing section.
前記画像処理部は、いずれかのレーザ照射部材により加工された基板の被加工面に光を照射する撮像用ライトを備え、
前記撮像用ライトは、その撮像用ライトからの光が前記いずれかのレーザ照射部材の焦点調整レンズとスキャナと集光レンズとを通るように構成され、
前記撮像部は、前記基板の被加工面から反射されて前記いずれかのレーザ照射部材の集光レンズとスキャナと焦点調整レンズとを通過してきた光を取り込んで前記基板の被加工面を撮像できるように構成されていることを特徴とする請求項3記載の立体回路基板の製造装置。
The image processing unit includes an imaging light that irradiates light to a processing surface of a substrate processed by any laser irradiation member,
The imaging light is configured such that light from the imaging light passes through the focus adjustment lens, the scanner, and the condenser lens of any of the laser irradiation members,
The imaging unit captures the light reflected from the processing surface of the substrate and passed through the condenser lens, the scanner, and the focus adjustment lens of any one of the laser irradiation members, and can image the processing surface of the substrate. The apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board according to claim 3, wherein the apparatus is configured as described above.
前記第1レーザ照射部材のスキャナと第2レーザ照射部材のスキャナとは、共に同じ原点及び座標軸を持ってレーザを走査させ得るように構成されていることを特徴とする請求項2〜4のいずれか一項に記載の立体回路基板の製造装置。   5. The scanner according to claim 2, wherein the scanner of the first laser irradiation member and the scanner of the second laser irradiation member are both configured to scan the laser with the same origin and coordinate axes. An apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board according to claim 1. 前記基板は、載置部材に載置され、
前記載置部材は、1つの軸を中心に回転し得るように構成されていることを特徴とする請求項2〜5のいずれか一項に記載の立体回路基板の製造装置。
The substrate is mounted on a mounting member;
The apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board according to any one of claims 2 to 5, wherein the mounting member is configured to be rotatable about one axis.
前記基板は、載置部材に載置され、
前記載置部材は、上面に基板を載置する載置面を備えているとともに、その載置面に略垂直な垂直軸を中心に回転し得るように構成され、
前記第1レーザ照射部材は、前記垂直軸の軸方向にレーザを照射可能とされ、
前記撮像用ライトは、その撮像用ライトからの光が前記第1レーザ照射部材の焦点調整レンズとスキャナと集光レンズとを通るように構成され、
前記撮像部は、前記基板の被加工面から反射されて前記第1レーザ照射部材の集光レンズとスキャナと焦点調整レンズとを通過してきた光を取り込んで前記基板の被加工面を撮像できるように構成されていることを特徴とする請求項4〜6のいずれか一項に記載の立体回路基板の製造装置。
The substrate is mounted on a mounting member;
The mounting member includes a mounting surface for mounting the substrate on the upper surface, and is configured to be rotatable about a vertical axis substantially perpendicular to the mounting surface.
The first laser irradiation member can be irradiated with a laser in an axial direction of the vertical axis,
The imaging light is configured such that light from the imaging light passes through the focus adjustment lens, the scanner, and the condenser lens of the first laser irradiation member,
The imaging unit captures the light reflected from the processing surface of the substrate and passed through the condensing lens, the scanner, and the focus adjustment lens of the first laser irradiation member so that the processing surface of the substrate can be imaged. It is comprised by these, The manufacturing apparatus of the three-dimensional circuit board as described in any one of Claims 4-6 characterized by the above-mentioned.
レーザ発振器からのレーザを受けてその受けたレーザを前記基板の被加工面に対してレーザの照射方向が異なる複数のスキャナとそれらのスキャナのいずれか1つにレーザを選択的に送ってレーザの光路を切り替えるレーザ光路切替部材とを有する立体回路基板の製造装置を用い、当該基板の被加工面に立体回路を加工して立体回路基板を製造する方法であって、
前記レーザ発振器からのレーザを、前記複数のスキャナの内のひとつのスキャナに送り、当該ひとつのスキャナによってそのレーザを前記基板の被加工面に照射させつつ走査させるようにして加工し、
次に、前記レーザ発振器からのレーザを、前記レーザ光路切替部材によって、前記ひとつのスキャナと異なる他のスキャナに送って光路を切り替え、当該他のスキャナによって前記基板の被加工面に、前記ひとつのスキャナのレーザ照射方向と異なる方向からレーザを照射させつつ走査させるようにして加工することを特徴とする立体回路基板の製造方法。
A laser from a laser oscillator is received, and the received laser is selectively sent to a plurality of scanners having different laser irradiation directions with respect to the processing surface of the substrate and to any one of the scanners. A method of manufacturing a three-dimensional circuit board by processing a three-dimensional circuit on a processing surface of the substrate using a three-dimensional circuit board manufacturing apparatus having a laser optical path switching member for switching an optical path,
The laser from the laser oscillator is sent to one of the plurality of scanners, and the one scanner scans the substrate while irradiating the processing surface of the substrate.
Next, the laser from the laser oscillator is sent to another scanner different from the one scanner by the laser optical path switching member, and the optical path is switched. A method of manufacturing a three-dimensional circuit board, wherein the processing is performed such that scanning is performed while irradiating a laser from a direction different from the laser irradiation direction of the scanner.
前記レーザによって加工を施した基板の被加工面を撮像する撮像部を有する画像処理部と、基板を載置する載置部材とを、更に備えた立体回路基板の製造装置を用い、
前記載置部材に2つの基板を載置し、
前記ひとつのスキャナによって前記基板のいずれか一方にレーザを照射させつつ走査させるようにして加工し、
次に、前記他のスキャナによって前記基板の他方に照射させつつ走査させるとともに、その間に、前記基板の一方に加工を施した被加工面を、前記画像処理部の撮像部で撮像することを特徴とする請求項8記載の立体回路基板の製造方法。
Using an apparatus for manufacturing a three-dimensional circuit board, further comprising an image processing unit having an imaging unit that images a processed surface of a substrate processed by the laser, and a mounting member for mounting the substrate,
Place two substrates on the mounting member,
Processed so that one of the substrates is scanned while irradiating a laser with the one scanner,
Next, scanning is performed while irradiating the other of the substrates with the other scanner, and an image of the processing surface processed on one of the substrates is captured by the imaging unit of the image processing unit. The manufacturing method of the three-dimensional circuit board of Claim 8.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2505386C2 (en) * 2011-09-28 2014-01-27 ООО Научно-производственный центр "Лазеры и аппаратура ТМ" Method of material laser processing and device to this end
US8823950B2 (en) 2012-08-24 2014-09-02 Canon Kabushiki Kaisha Shape measurement apparatus, and shape measurement method
WO2014203489A1 (en) * 2013-06-17 2014-12-24 株式会社アマダミヤチ Outer can sealing method and outer can sealing device
KR20180027949A (en) * 2016-09-07 2018-03-15 주식회사 이오테크닉스 Laser processing apparatus and laser processing method using the same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08148803A (en) * 1994-11-18 1996-06-07 Matsushita Electric Works Ltd Forming method of solid circuit

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08148803A (en) * 1994-11-18 1996-06-07 Matsushita Electric Works Ltd Forming method of solid circuit

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2505386C2 (en) * 2011-09-28 2014-01-27 ООО Научно-производственный центр "Лазеры и аппаратура ТМ" Method of material laser processing and device to this end
US8823950B2 (en) 2012-08-24 2014-09-02 Canon Kabushiki Kaisha Shape measurement apparatus, and shape measurement method
WO2014203489A1 (en) * 2013-06-17 2014-12-24 株式会社アマダミヤチ Outer can sealing method and outer can sealing device
JP2015000423A (en) * 2013-06-17 2015-01-05 株式会社アマダミヤチ Exterior can sealing method and exterior can sealing apparatus
KR20180027949A (en) * 2016-09-07 2018-03-15 주식회사 이오테크닉스 Laser processing apparatus and laser processing method using the same
KR101899931B1 (en) * 2016-09-07 2018-09-18 주식회사 이오테크닉스 Laser processing apparatus and laser processing method using the same

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