JP2010044184A - Transparent molded body - Google Patents

Transparent molded body Download PDF

Info

Publication number
JP2010044184A
JP2010044184A JP2008207713A JP2008207713A JP2010044184A JP 2010044184 A JP2010044184 A JP 2010044184A JP 2008207713 A JP2008207713 A JP 2008207713A JP 2008207713 A JP2008207713 A JP 2008207713A JP 2010044184 A JP2010044184 A JP 2010044184A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
acrylate
less
molded body
convex structure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008207713A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2010044184A5 (en
Inventor
Hideko Okamoto
英子 岡本
Masa Nakamura
雅 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Rayon Co Ltd filed Critical Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority to JP2008207713A priority Critical patent/JP2010044184A/en
Publication of JP2010044184A publication Critical patent/JP2010044184A/en
Publication of JP2010044184A5 publication Critical patent/JP2010044184A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent molded body which is excellent in fingerprint wiping-off property and also is excellent in scratch resistance, the transparent molded body having a fine rugged structure of which the pitch is equal to or less than a wavelength of visible light on at least one side surface thereof. <P>SOLUTION: The transparent molded body has the fine rugged structure of which the pitch is equal to or less than a wavelength of visible light on at least one side surface thereof, further has a cover layer which consists of a hydrolysate condensation body of silane coupling agent having a dynamic friction coefficient of 0.2 or less, on the surface of the fine rugged structure and is suitably used for an antireflection article or the like. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は表面に微細な凹凸構造を有する透明成形体に関する。   The present invention relates to a transparent molded body having a fine uneven structure on the surface.

近年、可視光の波長以下の周期の微細なモスアイ構造と呼ばれる凹凸構造を材料表面に設けると、材料と空気の界面で屈折率が空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に増大していくため有効な反射防止の手段となることが知られている。   In recent years, when a concavo-convex structure called a fine moth-eye structure with a period shorter than the wavelength of visible light is provided on the material surface, the refractive index continuously increases from the refractive index of air to the refractive index of the material at the interface between the material and air. Therefore, it is known to be an effective antireflection means.

また、微細凹凸構造が外部に露出して人や物が直接触れることで指紋などの汚れがつくまたは汚れが除去できないことが懸念されているが、これについてもモスアイ構造上にフッ素系のシランカップリング剤から成る層を形成して撥油性材料とすることで解決しようと試みられている(例えば、特許文献1)。また、類似の構造としてモスアイ構造の表面に低表面エネルギー材料を成膜した超撥水材料なども知られている(例えば、特許文献2、3)。
特開2000−71290号公報 特開2003−172808号公報 特開2007−187868号公報
In addition, there is concern that fingerprints and other dirt may be removed or removed by direct contact with people or objects when the fine concavo-convex structure is exposed to the outside. This is also the case with fluorine-based silane cups on the moth-eye structure. Attempts have been made to solve this problem by forming a layer made of a ring agent to form an oil-repellent material (for example, Patent Document 1). Further, as a similar structure, a super water-repellent material in which a low surface energy material is formed on the surface of a moth-eye structure is also known (for example, Patent Documents 2 and 3).
JP 2000-71290 A Japanese Patent Laid-Open No. 2003-172808 JP 2007-187868 A

しかしながら、例えば特許文献1では、CF3(CF27CH2CH2−SiCl3、CF3(CF27CH2CH2−SiCH3Cl2、CF3(CF2)CH2CH2−Si−(OCH33等の各種フルオロアルキルシラン、フルオロアルコキシシランの層を形成することが具体例として挙げられているが、実施例ではオレイン酸の接触角が高く撥油性が高いことが述べられているだけである。特許文献1に例示されたようなシランカップリング剤層では指紋付着量は低減するものの、付着した指紋を拭き取ることは難しい。 However, in Patent Document 1, for example, CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 —SiCl 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 —SiCH 3 Cl 2 , CF 3 (CF 2 ) CH 2 CH 2 Specific examples include forming layers of various fluoroalkylsilanes and fluoroalkoxysilanes such as —Si— (OCH 3 ) 3. In the examples, the contact angle of oleic acid is high and the oil repellency is high. It is only stated. In the silane coupling agent layer exemplified in Patent Document 1, although the amount of fingerprint adhesion is reduced, it is difficult to wipe off the adhered fingerprint.

また、特許文献2や3では表面に低表面エネルギー材料となる樹脂が積層されているだけであるため密着性に乏しく耐久性に欠けるという問題点があった。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、微細凹凸構造があっても指紋拭き取り性に優れ、また同時に耐擦傷性も向上した透明成形体を提供することを目的とする。
Further, in Patent Documents 2 and 3, there is a problem that since the resin as the low surface energy material is only laminated on the surface, the adhesion is poor and the durability is insufficient.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a transparent molded article that has excellent fingerprint wiping properties and has improved scratch resistance even when there is a fine concavo-convex structure.

本発明者らは鋭意検討の結果、周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造の表面に、特定の動摩擦係数を有する被覆層を形成することで、微細凹凸構造があっても指紋拭き取り性に優れ、また同時に耐擦傷性も向上する透明成形体になることを見出した。すなわち、本発明の透明成形体は、少なくとも一方の面に周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造を有し、該微細凹凸構造の表面に動摩擦係数が0.2以下のシランカップリング剤の加水分解縮合体からなる被覆層を有するものである。   As a result of intensive studies, the present inventors have formed a coating layer having a specific dynamic friction coefficient on the surface of a fine concavo-convex structure whose period is equal to or less than the wavelength of visible light. It has been found that a transparent molded article having excellent resistance to abrasion and at the same time improving scratch resistance is obtained. That is, the transparent molded body of the present invention has a fine concavo-convex structure whose period is not more than the wavelength of visible light on at least one surface, and a silane coupling agent having a dynamic friction coefficient of 0.2 or less on the surface of the fine concavo-convex structure. It has a coating layer which consists of a hydrolysis-condensation product.

本発明は、少なくとも一方の面に周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造を有する透明成形体において、特定の動摩擦係数を有する被覆層を微細凹凸構造の表面に形成することによって、指紋拭き取り性に優れるとともに、耐擦傷性にも優れた透明成形体を提供できる。   The present invention relates to a transparent molded body having a fine concavo-convex structure whose period is equal to or less than the wavelength of visible light on at least one surface, and forming a coating layer having a specific dynamic friction coefficient on the surface of the fine concavo-convex structure, thereby wiping the fingerprint. It is possible to provide a transparent molded body having excellent properties and scratch resistance.

本発明において、(メタ)アクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。また、活性エネルギー線は、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線(赤外線等)等を意味する。   In the present invention, (meth) acrylate means acrylate or methacrylate. Moreover, an active energy ray means visible light, an ultraviolet-ray, an electron beam, plasma, a heat ray (infrared rays etc.), etc.

本発明の透明成形体は、図1に示すように、少なくとも一方の面に周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造を有し、微細凹凸構造の表面に被覆層が形成されている。被覆層は、動摩擦係数が0.2以下のシランカップリング剤の加水分解縮合体から構成される。ここで、被覆層の動摩擦係数とは、平滑面上に被覆膜を成膜した状態で測定した動摩擦係数をいう。   As shown in FIG. 1, the transparent molded body of the present invention has a fine concavo-convex structure whose period is not more than the wavelength of visible light on at least one surface, and a coating layer is formed on the surface of the fine concavo-convex structure. The coating layer is composed of a hydrolytic condensate of a silane coupling agent having a dynamic friction coefficient of 0.2 or less. Here, the dynamic friction coefficient of the coating layer refers to a dynamic friction coefficient measured in a state where a coating film is formed on a smooth surface.

<微細凹凸構造>
本発明の微細凹凸構造とは、可視光の波長以下の周期を有する。この「可視光の波長以下」とは400nm以下を指す。400nmより大きいと可視光の散乱がおこるため反射防止膜などの光学用途の使用には適さない。微細凹凸構造の高さ(深さ)は50nm以上、更には100nm以上であることが好ましい。50nm以上で反射率が低下する。また、アスペクト比(=高さ/周期)は0.5以上が好ましく、1以上が更に好ましく、1.4以上が最も好ましい。0.5以上で転写品の反射率が低く、入射角依存性も小さくなるため、高いほうが好ましい。微細凹凸構造の形状は特に限定されないが、例えば空気から材料表面まで連続的に屈折率を増大させて低反射率と低波長依存性を両立させた反射防止機能を得るためには、円錐状、角錐状、釣鐘状、など膜面で切断した時の断面積の占有率が連続的に増大するような構造が好ましい。また、より微細な突起が合一して上記の微細凹凸構造を形成していてもよい。
<Fine uneven structure>
The fine concavo-convex structure of the present invention has a period equal to or shorter than the wavelength of visible light. This “below the wavelength of visible light” refers to 400 nm or less. If it is larger than 400 nm, visible light scattering occurs, so that it is not suitable for use in an optical application such as an antireflection film. The height (depth) of the fine concavo-convex structure is preferably 50 nm or more, and more preferably 100 nm or more. The reflectance decreases at 50 nm or more. Further, the aspect ratio (= height / cycle) is preferably 0.5 or more, more preferably 1 or more, and most preferably 1.4 or more. Since the reflectance of the transfer product is low at 0.5 or more and the incident angle dependency is also small, a higher value is preferable. The shape of the fine concavo-convex structure is not particularly limited, but for example, in order to obtain an antireflection function that achieves both low reflectance and low wavelength dependency by continuously increasing the refractive index from the air to the material surface, a conical shape, A structure in which the occupation ratio of the cross-sectional area when cutting on the film surface, such as a pyramid shape or a bell shape, continuously increases is preferable. Further, finer protrusions may be combined to form the fine concavo-convex structure.

本発明の微細凹凸構造を形成する材料は平滑面で弾性率0.6GPa以上5.0GPa以下であることが好ましく、1.3GPa以上4.5GPa以下が更に好ましく、2.0GPa以上4.0GPa以下が最も好ましい。0.6GPa以上5.0GPa以下で低荷重の擦傷試験や擦傷回数の少ない擦傷試験で耐擦傷性が得られるため、本発明の動摩擦係数が0.2以下のシランカップリング剤の加水分解縮合体が形成することで更に耐擦傷性が向上する。平滑面の弾性率は例えばフィッシャー・インストルメンツ製の超微小硬さ計等で測定することができる。   The material forming the fine concavo-convex structure of the present invention has a smooth surface and preferably has an elastic modulus of 0.6 GPa or more and 5.0 GPa or less, more preferably 1.3 GPa or more and 4.5 GPa or less, and 2.0 GPa or more and 4.0 GPa or less. Is most preferred. Hydrolysis condensate of silane coupling agent having a dynamic friction coefficient of 0.2 or less according to the present invention because scratch resistance can be obtained by a low load scratch test or a scratch test with few scratches at 0.6 GPa or more and 5.0 GPa or less. As a result, the scratch resistance is further improved. The elastic modulus of the smooth surface can be measured with, for example, an ultra-micro hardness meter manufactured by Fischer Instruments.

<活性エネルギー線硬化性樹脂組成物>
本発明の微細凹凸構造を形成する材料としては熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ガラス、ゾルゲル性無機材料、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物など特に限定されないが、生産性、材料設計自由度の点から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物から成るのが好ましい。
<Active energy ray-curable resin composition>
The material for forming the fine concavo-convex structure of the present invention is not particularly limited, such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, glass, a sol-gel inorganic material, a cured product of an active energy ray curable composition, but productivity and freedom of material design. From the point of view, it is preferably made of a cured product of the active energy ray-curable resin composition.

本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、重合性化合物および重合開始剤を含む。重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および/またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。活性エネルギー線硬化性組成物は、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含んでいてもよい。   The active energy ray-curable composition of the present invention contains a polymerizable compound and a polymerization initiator. Examples of the polymerizable compound include monomers, oligomers, and reactive polymers having a radical polymerizable bond and / or a cationic polymerizable bond in the molecule. The active energy ray-curable composition may contain a non-reactive polymer, an active energy ray sol-gel reactive composition.

ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。単官能モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート誘導体;(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロニトリル;スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体;(メタ)アクリルアミド、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the monomer having a radical polymerizable bond include a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer. Monofunctional monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t- Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl ( )) (Meth) acrylate derivatives such as acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, (meth) acrylonitrile; styrene, α -Styrene derivatives such as methylstyrene; (meth) acrylamide derivatives such as (meth) acrylamide, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-diethyl (meth) acrylamide, dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、1,2−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)エタン、1,4−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート等の三官能モノマー;コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート等の四官能以上のモノマー;二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。   Polyfunctional monomers include ethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (Meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (3- ( Ta) acryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl) propane, 1,2-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ethane, 1,4-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ) Butane, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, ethylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, propylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, neopentyl glycol di (meth) hydroxypivalate Bifunctional monomers such as acrylate, divinylbenzene, and methylenebisacrylamide; pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide Functional tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (meth) acrylate and other trifunctional monomers; succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid 4 or more functional monomers such as dipentaerystol hexa (meth) acrylate, dipentaerystol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate; bifunctional or more Urethane acrylates, bifunctional or higher functional polyester acrylates, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。
オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。
Examples of the monomer having a cationic polymerizable bond include monomers having an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazolyl group, a vinyloxy group, and the like, and a monomer having an epoxy group is particularly preferable.
Examples of the oligomer or reactive polymer include unsaturated polyesters such as a condensate of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, epoxy (meth) Examples thereof include acrylates, urethane (meth) acrylates, cationic polymerization type epoxy compounds, homopolymers of the above-described monomers having a radical polymerizable bond in the side chain, and copolymerized polymers.

非反応性のポリマーとしては、アクリル樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、例えば、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。
Non-reactive polymers include acrylic resins, styrene resins, polyurethane resins, cellulose resins, polyvinyl butyral resins, polyester resins, thermoplastic elastomers, and the like.
Examples of the active energy ray sol-gel reactive composition include alkoxysilane compounds and alkylsilicate compounds.

アルコキシシラン化合物としては、下記一般式(1)の化合物が挙げられる。

Figure 2010044184
Examples of the alkoxysilane compound include compounds represented by the following general formula (1).
Figure 2010044184

(式中、R、R’は、それぞれ炭素数1〜10のアルキル基を表し、x、yは、x+y=4の関係を満たす整数を表す。)
アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。
(In the formula, R and R ′ each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and x and y represent integers satisfying the relationship of x + y = 4.)
Examples of the alkoxysilane compound include tetramethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, Examples include methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylpropoxysilane, and trimethylbutoxysilane.

アルキルシリケート化合物としては、下記一般式(2)の化合物が挙げられる。

Figure 2010044184
Examples of the alkyl silicate compound include compounds of the following general formula (2).
Figure 2010044184

(式中、R〜Rは、それぞれ炭素数1〜5のアルキル基を表し、zは、3〜20の整数を表す。)
アルキルシリケート化合物としては、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、n−プロピルシリケート、n−ブチルシリケート、n−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。
(Wherein, R 1 to R 4 each represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, z represents an integer of 3 to 20.)
Examples of the alkyl silicate compound include methyl silicate, ethyl silicate, isopropyl silicate, n-propyl silicate, n-butyl silicate, n-pentyl silicate, acetyl silicate and the like.

光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   When using a photocuring reaction, examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone, 2,2-diethoxy. Acetophenone, α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone, methylphenylglyoxylate, ethylphenylglyoxylate, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane- Carbonyl compounds such as 1-one; sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide and tetramethylthiuram disulfide; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, benzoic acid Diethoxy phosphine oxide, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4−フェニルベンゾフェノン、t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン;ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等のアセトフェノン;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド;メチルベンゾイルホルメート、1,7−ビスアクリジニルヘプタン、9−フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   When using an electron beam curing reaction, examples of the polymerization initiator include benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl orthobenzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, t- Thioxanthone such as butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone; diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl Dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholy Acetophenone such as phenyl) -butanone; benzoin ether such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl)- Acylphosphine oxides such as 2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; methylbenzoylformate, 1,7-bisacridinylheptane, 9-phenyl Examples include acridine. These may be used alone or in combination of two or more.

熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルパーオキシオクトエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物;前記有機過酸化物にN,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチル−p−トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。   When a thermosetting reaction is used, examples of the thermal polymerization initiator include methyl ethyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-butyl peroxy octoate, organic peroxides such as t-butylperoxybenzoate and lauroyl peroxide; azo compounds such as azobisisobutyronitrile; N, N-dimethylaniline, N, N-dimethyl-p- Examples thereof include a redox polymerization initiator combined with an amine such as toluidine.

重合開始剤の量は、重合性化合物100質量部に対して、0.1〜10質量部が好ましい。重合開始剤の量が0.1質量部未満では、重合が進行しにくい。重合開始剤の量が10質量部を超えると、硬化膜が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。   As for the quantity of a polymerization initiator, 0.1-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of polymeric compounds. When the amount of the polymerization initiator is less than 0.1 parts by mass, the polymerization is difficult to proceed. When the amount of the polymerization initiator exceeds 10 parts by mass, the cured film may be colored or the mechanical strength may be lowered.

活性エネルギー線硬化性組成物は、必要に応じて、透明性を損なわず着色しない範囲で帯電防止剤、離型剤等の添加剤;微粒子、少量の溶剤を含んでいてもよい。   The active energy ray-curable composition may contain additives such as an antistatic agent and a release agent, fine particles, and a small amount of a solvent, as necessary, as long as the transparency is not impaired and the pigment is not colored.

<シランカップリング剤>
本発明のシランカップリング剤の加水分解縮合体からなる被覆層に用いるシランカップリング剤は動摩擦係数が0.2以下であることが好ましく、0.18以下が更に好ましく、0.15以下が最も好ましい。0.2以下で指紋拭き取り性と耐擦傷性が発現するため低いほど好ましい。例えばパーフルオロポリエーテルシランCFCFCF(OCFCFCF0CFCFCHCH−Si(OR)(Rはメチル、エチルなどの炭素数4以下のアルキル基)が好ましい。nは1〜50までの整数で、3〜40が更に好ましく、10〜40が最も好ましい。1より小さいと指紋拭き取り性や耐擦傷性が低くなったり、50より大きいと高密度に微細凹凸構造表面と結合することが出来ずに指紋拭き取り性や耐擦傷性が低くなったりすることがある。また、市販で購入できるものとしては、ダイキン社製オプツールDSX、HD1100、HD2100、ハーベス社製デュラサーフDS5100、HD4100、フロロテクノロジー社製FG−5010などが挙げられる。
<Silane coupling agent>
The silane coupling agent used in the coating layer comprising the hydrolyzed condensate of the silane coupling agent of the present invention preferably has a dynamic friction coefficient of 0.2 or less, more preferably 0.18 or less, most preferably 0.15 or less. preferable. Since it is 0.2 or less and the fingerprint wiping property and scratch resistance are exhibited, the lower the value, the better. For example, perfluoropolyether silane CF 3 CF 2 CF 2 (OCF 2 CF 2 CF 2 ) n 0CF 2 CF 2 CH 2 CH 2 —Si (OR) 3 (R is an alkyl group having 4 or less carbon atoms, such as methyl and ethyl. ) Is preferred. n is an integer from 1 to 50, more preferably 3 to 40, and most preferably 10 to 40. If it is smaller than 1, the fingerprint wiping property and scratch resistance may be lowered, and if it is larger than 50, it may not be bonded to the surface of the fine concavo-convex structure at a high density and the fingerprint wiping property and scratch resistance may be lowered. . Moreover, as what can be purchased commercially, Daikin Optool DSX, HD1100, HD2100, Harves Durasurf DS5100, HD4100, Fluoro Technology FG-5010, etc. are mentioned.

シランカップリング剤の加水分解縮合体からなる被覆層の厚さは微細凹凸構造が維持されるよう0.01〜20nmが好ましく、0.1〜10nmが更に好ましく、0.1〜5nmが最も好ましい。0.01nm未満では均一に被覆されにくい。また、20nm以上では元の微細凹凸構造が維持されず本来の反射防止性能などに影響を及ぼすことがある。   The thickness of the coating layer composed of the hydrolyzed condensate of the silane coupling agent is preferably 0.01 to 20 nm, more preferably 0.1 to 10 nm, and most preferably 0.1 to 5 nm so that the fine uneven structure is maintained. . If it is less than 0.01 nm, uniform coating is difficult. On the other hand, when the thickness is 20 nm or more, the original fine concavo-convex structure is not maintained, and the original antireflection performance may be affected.

<透明基材>
微細凹凸構造は透明基材上に形成されていても良い。透明基材としては、例えば、ポリカーボネート、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、アクリル系樹脂、ガラス等が挙げられる。透明基材の形状としては、フィルム、シート、射出成形品、プレス成形品等の溶融成形品等が挙げられる。
<Transparent substrate>
The fine concavo-convex structure may be formed on a transparent substrate. Examples of the transparent substrate include polycarbonate, polystyrene resin, polyester, polyether sulfone, polysulfone, polyether ketone, polyurethane, acrylic resin, and glass. Examples of the shape of the transparent substrate include melt molded products such as films, sheets, injection molded products, and press molded products.

<製造方法>
本発明の透明成形体の製造方法は、微細凹凸構造を有する透明成形体上に上述のシランカップリング剤を成膜できれば特に限定されない。シランカップリング剤の加水分解縮合体からなる被覆層と微細凹凸構造との密着性を高くするために微細凹凸構造を形成する材料に水酸基やカルボン酸基を有するものを用いたり、微細凹凸構造をコロナ処理したりプラズマ処理して表面に水酸基やカルボン酸基を形成しても良い。または二酸化珪素等の透明な薄膜をスパッタリングや真空蒸着その等の方法により積層する方法も挙げられる。
<Manufacturing method>
The manufacturing method of the transparent molded object of this invention will not be specifically limited if the above-mentioned silane coupling agent can be formed into a film on the transparent molded object which has a fine uneven structure. In order to increase the adhesion between the coating layer composed of the hydrolyzed condensate of the silane coupling agent and the fine concavo-convex structure, the material forming the fine concavo-convex structure may be a material having a hydroxyl group or a carboxylic acid group, or a fine concavo-convex structure may be used. A hydroxyl group or a carboxylic acid group may be formed on the surface by corona treatment or plasma treatment. Alternatively, a method of laminating a transparent thin film such as silicon dioxide by a method such as sputtering or vacuum deposition may be used.

シランカップリング剤を塗布する方法としては、特に限定されないがマイクログラビヤコート、マイヤーバーコート、スピンコート、スプレーコート、ディップコート等の方法が好ましい。   The method for applying the silane coupling agent is not particularly limited, but methods such as micro gravure coat, Mayer bar coat, spin coat, spray coat, dip coat and the like are preferable.

シランカップリング剤の濃度としては0.01〜1.0質量%が好ましく、0.05〜0.5質量%が更に好ましく、0.05〜0.3質量%が最も好ましい。0.01質量%未満では均一に被覆されにくく、また、0.5質量%以上では形成される膜が厚くなりすぎて微細凹凸構造が維持されず反射防止性能など本来の性能が低下することがある。   The concentration of the silane coupling agent is preferably 0.01 to 1.0% by mass, more preferably 0.05 to 0.5% by mass, and most preferably 0.05 to 0.3% by mass. If it is less than 0.01% by mass, it is difficult to coat uniformly, and if it is 0.5% by mass or more, the formed film becomes too thick and the fine uneven structure is not maintained, and the original performance such as antireflection performance may be deteriorated. is there.

微細凹凸構造の製造方法としては、特に限定されないが、可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を有する鋳型を用いて熱可塑性樹脂に熱インプリントする方法や可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を有する鋳型を用いて透明基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物の微細凹凸構造を形成する方法などが挙げられる。可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を有する鋳型として、電子ビームリソグラフィー法やレーザー光干渉法などが挙げられるが、鋳型の大面積化やロール形状の鋳型を簡便に作製できるという点から陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として用いるのが好ましい。また、電子ビームリソグラフィー法やレーザー光干渉法などで作製した鋳型は規則性が高すぎて得られる反射防止物品の凹凸構造も規則性が高く青や紫などの干渉色が見られるが陽極酸化ポーラスアルミナは他の光学性能に悪影響を与えない程度に規則性が低いため干渉色が無いという利点もある。   The method for producing the fine concavo-convex structure is not particularly limited, but a method for performing a thermal imprint on a thermoplastic resin using a mold having a fine concavo-convex structure with a period of less than or equal to the wavelength of visible light, or a fine with a period of less than or equal to the wavelength of visible light. Examples thereof include a method of forming a fine uneven structure of a cured product of the active energy ray-curable resin composition on a transparent substrate using a mold having an uneven structure. Examples of a mold having a fine concavo-convex structure with a period equal to or less than the wavelength of visible light include an electron beam lithography method and a laser beam interferometry method. However, the anode can be easily manufactured from a large mold area or a roll-shaped mold. It is preferable to use porous alumina alumina as a mold. In addition, molds made by electron beam lithography or laser beam interferometry are too regular, and the uneven structure of the antireflective article obtained is also highly regular, and interference colors such as blue and purple are seen, but anodized porous Alumina also has an advantage of no interference color because of its low regularity that does not adversely affect other optical performances.

<透明成形体>
本発明の透明成形体は水の接触角が120°以上であることが好ましく130°以上であることが更に好ましく、150°以上であることが最も好ましい。120°以上であれば反射防止膜以外に超撥水材料として自動車用窓などの自動車外装材、鉄道車両用窓、ヘルメット等の用途に用いることができ、着氷防止材料としてヘッドランプカバーなどの自動車外装材等の用途に用いることができる。
<Transparent molding>
The transparent molded body of the present invention preferably has a water contact angle of 120 ° or more, more preferably 130 ° or more, and most preferably 150 ° or more. If it is 120 ° or more, in addition to the antireflection film, it can be used as a super water-repellent material for automobile exterior materials such as automobile windows, railway vehicle windows, helmets, etc. It can be used for applications such as automobile exterior materials.

<反射防止物品>
(反射率)
前記微細凹凸構造は透明基材の一方の面のみに形成されていてもよく、両面に形成されていても良い。一方の面にのみ微細凹凸構造が形成された時の反射率の評価では、もう一方の面は反射率の値に影響を与えずに光を吸収できるようにサンドペーパーで粗面化した後、艶消しブラックコートを施して相対反射率測定を行なう。波長380〜780nmの反射率は0.3%以下が好ましく、0.25%以下が更に好ましい。0.3%以上では映り込みが十分低減できない。
<Anti-reflective article>
(Reflectance)
The fine concavo-convex structure may be formed only on one surface of the transparent substrate, or may be formed on both surfaces. In the evaluation of the reflectance when the fine uneven structure is formed only on one surface, the other surface is roughened with sandpaper so that it can absorb light without affecting the reflectance value, Apply a matte black coat and measure relative reflectance. The reflectance at a wavelength of 380 to 780 nm is preferably 0.3% or less, and more preferably 0.25% or less. If it is 0.3% or more, the reflection cannot be sufficiently reduced.

本発明の反射防止物品の反射率の波長380〜780nmの波長依存性は最大反射率と最小反射率の差が0.3以下が好ましく、0.2以下が更に好ましく、0.15以下が最も好ましい。0.3を超えると特定波長の反射が相対的に大きくなるため僅かにのこる反射光が強く色づいて見える。   In the wavelength dependence of the reflectance of the antireflection article of the present invention at a wavelength of 380 to 780 nm, the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is preferably 0.3 or less, more preferably 0.2 or less, most preferably 0.15 or less. preferable. If it exceeds 0.3, the reflection at a specific wavelength becomes relatively large, so that slightly reflected light appears to be strongly colored.

(用途)
本発明の方法で製造された微細凹凸構造を有する反射防止物品は、反射防止フィルム、反射防止膜、例えば液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置のような画像表示装置、1/2波長板、ローパスフィルター、水晶デバイスレンズ、ショーウィンドー、メーターパネル、眼鏡等の表面で使用される反射防止膜、反射防止フィルムや反射防止シート等が挙げられる。画像表示装置に用いる場合は、最表面上にフィルムを貼り付けたり直接最表面を形成する材料上に形成しても良く、また、前面板にフィルム貼りつけたり、基板に直接形成しても良い。
(Use)
An antireflection article having a fine concavo-convex structure manufactured by the method of the present invention includes an antireflection film, an antireflection film, such as an image display device such as a liquid crystal display device, a plasma display panel, an electroluminescence display, and a cathode tube display device, Examples thereof include an antireflection film, an antireflection film, and an antireflection sheet used on the surface of a half-wave plate, a low-pass filter, a crystal device lens, a show window, a meter panel, and glasses. When used in an image display device, a film may be affixed on the outermost surface or may be formed directly on a material that forms the outermost surface, or may be affixed to a front plate or directly formed on a substrate.

以下に本発明の実施例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例中における物性は、以下の方法に従って評価した。   Examples of the present invention are shown below. However, the present invention is not limited to these. The physical properties in the examples were evaluated according to the following methods.

(1)細孔形状、樹脂微細凹凸形状
鋳型は断面にプラチナを1分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子社製、JSM−7400F)を用いて、加速電圧3.00kVの条件にて、断面を観察し、細孔の周期、細孔の深さを測定した。樹脂は破断面にプラチナを5分間蒸着し、同様に観察して周期、凸部高さを測定した。
(1) Pore shape, resin fine concavo-convex shape The mold was formed by depositing platinum on the cross section for 1 minute, and using a field emission scanning electron microscope (manufactured by JEOL Ltd., JSM-7400F) under an acceleration voltage of 3.00 kV. The cross section was observed, and the period of the pores and the depth of the pores were measured. For the resin, platinum was vapor-deposited on the fracture surface for 5 minutes, and the period and the height of the convex portion were measured in the same manner.

(2)反射率測定
裏面反射の影響をなくすためサンドペーパーで粗面化した透明基材の裏面をつや消し黒色に塗った成形体について、分光光度計(日立製作所社製、U−4000)を用い、入射角5°、波長380〜780nmの範囲で相対反射率を測定した。視感度反射率はJIS R3106に準拠して算出した。
(2) Reflectance measurement Using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000) for a molded body in which the back surface of a transparent base material roughened with sandpaper is applied in black to eliminate the influence of back surface reflection. The relative reflectance was measured in the range of an incident angle of 5 ° and a wavelength of 380 to 780 nm. The visibility reflectance was calculated according to JIS R3106.

(3)接触角
接触角測定装置(Kruss社製、「DSA10−Mk2」を用いて11.6μlの水をサンプル表面に滴下した後、10秒後の接触角を1秒間隔で10点測定し、それらの平均値を算出した。同一の操作を、水を滴下する位置を変えて3回行い、それらの平均値を産出することにより水接触角を決定した。
(3) Contact angle Contact angle measuring device (manufactured by Kruss, “DSA10-Mk2”) was used to measure 11.6 μl of water on the sample surface, and 10 contact angles after 10 seconds were measured at intervals of 1 second. The same operation was performed three times, changing the position where the water was dropped, and the water contact angle was determined by producing the average value.

(4)動摩擦係数
99.99%のアルミニウムを電解研磨して鏡面化し、0.05Mの五ホウ酸アンモニウム水溶液中で、温度20℃の条件で直流40Vで60秒、80Vで90秒、120Vで90秒、160Vで90秒、200Vで3分間陽極酸化を行って平滑な陽極酸化アルミナ層を表面に形成した。得られた陽極酸化アルミナ層を脱イオン水で洗浄した後、表面の水分をエアーブローで除去し、以下のシランカップリング剤溶液で処理してサンプルを得た。
(4) Coefficient of dynamic friction 99.99% aluminum is electropolished to be mirror-finished and in 0.05M ammonium pentaborate aqueous solution at a temperature of 20 ° C., DC 40V for 60 seconds, 80V for 90 seconds, 120V A smooth anodized alumina layer was formed on the surface by anodizing at 90 seconds, 160 V for 90 seconds, and 200 V for 3 minutes. The obtained anodized alumina layer was washed with deionized water, and then water on the surface was removed by air blow and treated with the following silane coupling agent solution to obtain a sample.

新東科学工業(株)製のHEIDON−14Sの表面性試験機により平面圧子、垂直荷重200g、すべり速度100mm/minの条件により上記サンプルの摩擦抵抗試験を行い、ASTM D 1894に準拠して動摩擦係数を求めた。   The frictional resistance test of the above sample was conducted under the conditions of a flat indenter, a vertical load of 200 g, and a sliding speed of 100 mm / min using a HEIDON-14S surface property tester manufactured by Shinto Kagaku Kogyo Co., Ltd., and kinetic friction was performed according to ASTM D 1894 The coefficient was obtained.

〔シランカップリング剤A〕
オプツールDSX(ダイキン社製)を固形分0.1質量%になるように希釈剤HD−ZV(ハーベス社製)で希釈した溶液に10分間浸漬し、80℃で5時間風乾してサンプルを得た。上述の方法で求めた動摩擦係数は0.13であった。
[Silane coupling agent A]
Immerse Optool DSX (manufactured by Daikin) in a solution diluted with a diluent HD-ZV (manufactured by Harves) to a solid content of 0.1% by mass for 10 minutes and air dry at 80 ° C. for 5 hours to obtain a sample. It was. The dynamic friction coefficient obtained by the above method was 0.13.

〔シランカップリング剤B〕
KBM−7803(信越化学工業社製)CF(CFCHCH−Si(OCHを固形分0.5質量%になるようにメタノールで希釈した溶液に浸漬し、風乾した後、120℃で2時間熱処理することによりサンプルを得た。上述の方法で求めた動摩擦係数は0.34であった。
[Silane coupling agent B]
KBM-7803 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 —Si (OCH 3 ) 3 is immersed in a solution diluted with methanol to a solid content of 0.5% by mass and air-dried. Then, a sample was obtained by heat treatment at 120 ° C. for 2 hours. The dynamic friction coefficient obtained by the above method was 0.34.

(5)指紋ふき取り性試験
各サンプルに指紋を付着させた後、東レ社製トレシーに水道水を十分染込ませたものを水滴が滴り落ちなくなる程度まで絞ったもので、拭き取った際の外観を評価した。
○:汚れが目視ではわからない。
△:目視で若干の指紋が確認される。
×:指紋がのび広がるだけで、ほとんど拭き取られない。
(5) Fingerprint wiping test After attaching a fingerprint to each sample, the Toray-made Toraysee was thoroughly soaked with tap water to the extent that water droplets do not drip. evaluated.
○: Dirt is not visually recognized.
Δ: Some fingerprints are visually confirmed.
X: The fingerprint spreads and is hardly wiped off.

(6)耐擦傷性試験
直径2cmの圧子にネル布をとりつけ荷重750gで600回転擦傷試験を行い、裏面を黒色に塗って表面の傷つき具合評価した。
○:傷3本まで。
△:傷3本〜10本まで。
×:傷10本以上または、線状ではなく面状の傷がある。
(6) Scratch resistance test A nell cloth was attached to an indenter having a diameter of 2 cm, a 600-rotation scratch test was performed at a load of 750 g, the back surface was painted black, and the degree of scratching on the surface was evaluated.
○: Up to 3 scratches.
Δ: 3 to 10 scratches.
X: There are 10 or more scratches, or there are planar scratches instead of linear ones.

(7)平滑硬化膜の弾性率
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をアルミニウム鏡面板とフィルムの間に充填してフィルム側から微細凹凸構造を作製するときと同等の積算光量の紫外線を照射することによって得られた、表面に凸部を有さない硬化膜について、超微小硬さ計(フィッシャー・インストルメンツ社製、フィッシャースコープHM2000)を用い、下記条件にて測定した。照射する紫外線の積算光量は鋳型転写時の紫外線の積算光量と同様にした。
荷重速度 1mN/10秒
保持時間 10秒
荷重除荷速度 1mN/10秒
圧子 ビッカース。
(7) Elastic modulus of smooth cured film Irradiation with an ultraviolet ray with an integrated light amount equivalent to that when an active energy ray-curable resin composition is filled between an aluminum mirror plate and a film to produce a fine relief structure from the film side. The cured film having no convex portion on the surface was measured using an ultra-micro hardness meter (Fischer Instruments, Fisherscope HM2000) under the following conditions. The integrated amount of ultraviolet light to be irradiated was the same as the integrated amount of ultraviolet light at the time of mold transfer.
Load speed 1 mN / 10 seconds Holding time 10 seconds Load unload speed 1 mN / 10 seconds Indenter Vickers.

〔製造例1〕
純度99.99%のアルミニウムを、羽布研磨および過塩素酸/エタノール混合溶液(1/4体積比)中で電解研磨し鏡面化した。次いで、次の(a)〜(e)工程により、周期100nm、深さ180nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
[Production Example 1]
Aluminum having a purity of 99.99% was mirror polished by feather polishing and electrolytic polishing in a perchloric acid / ethanol mixed solution (1/4 volume ratio). Next, anodized porous alumina having substantially conical pores with a period of 100 nm and a depth of 180 nm was obtained by the following steps (a) to (e).

(a)工程:該アルミニウム板について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16℃の条件で30分間陽極酸化を行った。
(b)工程:酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、6質量%リン酸/1.8質量%クロム酸混合水溶液に6時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
(c)工程:該アルミニウム板について、0.3Mシュウ酸水溶液中、直流40V、温度16℃の条件で30秒陽極酸化を行った。
(d)工程:酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、32℃の5質量%リン酸に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
(e)工程:前記(c)工程および(d)工程を合計で5回繰り返した。
Step (a): The aluminum plate was anodized in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution for 30 minutes under conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C.
(B) Process: The aluminum plate in which the oxide film was formed was immersed in 6 mass% phosphoric acid / 1.8 mass% chromic acid mixed aqueous solution for 6 hours, and the oxide film was removed.
Step (c): The aluminum plate was anodized for 30 seconds in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution under the conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C.
(D) Process: The aluminum plate in which the oxide film was formed was immersed in 5 mass% phosphoric acid of 32 degreeC for 8 minutes, and the pore diameter expansion process was performed.
(E) Process: The said (c) process and (d) process were repeated 5 times in total.

得られた陽極酸化ポーラスアルミナは脱イオン水で洗浄した後、表面の水分をエアーブローで除去し、オプツールDSX(ダイキン社製)を固形分0.1質量%になるように希釈剤HD−ZV(ハーベス社製)で希釈した溶液に10分間浸漬し、20時間風乾してスタンパを得た。   The obtained anodized porous alumina was washed with deionized water, and then water on the surface was removed by air blow, and OPTOOL DSX (manufactured by Daikin) was diluted with diluent HD-ZV so that the solid content was 0.1% by mass. A stamper was obtained by immersing in a solution diluted with Harves Co., Ltd. for 10 minutes and air drying for 20 hours.

〔活性エネルギー線硬化性樹脂組成物A〕
トリメチロールエタンアクリル酸・無水コハク酸縮合エステル 50質量部
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 30質量部
ラジカル重合性シリコーンオイル(信越化学工業社製、X−22−1602)
20質量部
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)
3.0質量部
フェニルビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア819)
0.18質量部。
[Active energy ray-curable resin composition A]
Trimethylolethaneacrylic acid / succinic anhydride condensation ester 50 parts by mass 1,6-hexanediol diacrylate 30 parts by mass Radical polymerizable silicone oil (X-22-1602, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
20 parts by mass 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
3.0 parts by mass Phenylbis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide (Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 819)
0.18 parts by mass.

<実施例1>
製造例1で作製した陽極酸化ポーラスアルミナの表面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aを数滴垂らし、透明基材としてポリエステルフィルム(東洋紡社製、A4300厚み188μm)を被せ陽極酸化ポーラスアルミナ全面に行き渡るようローラーで押し広げた。
<Example 1>
A few drops of the active energy ray-curable resin composition A is dropped on the surface of the anodized porous alumina produced in Production Example 1, and a polyester film (A4300 thickness 188 μm, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) is covered as a transparent substrate. I spread it with a roller so that it would spread.

ポリエステルフィルム側から、積算光量3000mJ/cmの紫外線を照射し、硬化性樹脂組成物Aの硬化を行った後、室温まで冷却して陽極酸化ポーラスアルミナから分離し、表面に微細凹凸構造を有するフィルムを得た。凸部間の周期は100nm、凸部の高さは170nmであった。 After irradiating the polyester film side with ultraviolet light with an integrated light quantity of 3000 mJ / cm 2 to cure the curable resin composition A, it is cooled to room temperature and separated from the anodized porous alumina, and has a fine uneven structure on the surface. A film was obtained. The period between the convex portions was 100 nm, and the height of the convex portions was 170 nm.

次に上記微細凹凸構造を有するフィルムにナビタス株式会社製コロナ処理装置ポリダイン1を用いて印加電圧11kv、電極と処理ワーク距離3mm、処理速度1.7m/minでコロナ処理を行った。同じ処理を合計3回行い、表面の接触角が10°になることを確認した。   Next, the film having the fine concavo-convex structure was subjected to a corona treatment using a corona treatment apparatus Polydyne 1 manufactured by Navitas Co., Ltd. at an applied voltage of 11 kv, an electrode-treated workpiece distance of 3 mm, and a treatment speed of 1.7 m / min. The same treatment was performed three times in total, and it was confirmed that the contact angle of the surface was 10 °.

次にシランカップリング剤(A)オプツールDSX(ダイキン社製)を固形分0.1質量%になるように希釈剤HD−ZV(ハーベス社製)で希釈した溶液を用いてスピンコーティングを行い、80℃で5時間熱処理してシランカップリング剤の縮合物による層を形成した透明成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、動摩擦係数、微細凹凸構造表面の接触角、耐擦傷試験結果、視感度反射率を表1に示す。   Next, spin coating is performed using a solution obtained by diluting the silane coupling agent (A) OPTOOL DSX (manufactured by Daikin) with a diluent HD-ZV (manufactured by Harves) so that the solid content is 0.1% by mass. A transparent molded body in which a layer of a silane coupling agent condensate was formed by heat treatment at 80 ° C. for 5 hours was obtained. Table 1 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the dynamic friction coefficient, the contact angle of the surface of the fine concavo-convex structure, the scratch resistance test result, and the visibility reflectance.

<比較例1>
シランカップリング剤(B)を用いてスピンコーティングを行い、120℃で2時間熱処理した以外は実施例1と同様にして透明成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、動摩擦係数、微細凹凸構造表面の接触角、耐擦傷試験結果、視感度反射率を表1に示す。
<Comparative Example 1>
A transparent molded body was obtained in the same manner as in Example 1 except that spin coating was performed using the silane coupling agent (B) and heat treatment was performed at 120 ° C. for 2 hours. Table 1 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the dynamic friction coefficient, the contact angle of the surface of the fine concavo-convex structure, the scratch resistance test result, and the visibility reflectance.

<比較例2>
シランカップリング剤の加水分解縮合体層を形成しなかった以外は実施例1と同様にして透明成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、動摩擦係数、微細凹凸構造表面の接触角、耐擦傷試験結果、視感度反射率を表1に示す。

Figure 2010044184
<Comparative example 2>
A transparent molded body was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hydrolysis condensate layer of the silane coupling agent was not formed. Table 1 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the dynamic friction coefficient, the contact angle of the surface of the fine concavo-convex structure, the scratch resistance test result, and the visibility reflectance.
Figure 2010044184

微細凹凸構造の最表面にシランカップリング剤の加水分解縮合体からなる被覆層が形成されている図である。It is a figure in which the coating layer which consists of a hydrolysis condensate of a silane coupling agent is formed in the outermost surface of a fine concavo-convex structure. 鋳型の細孔形状を示す図である。It is a figure which shows the pore shape of a casting_mold | template.

符号の説明Explanation of symbols

1 被覆層
2 微細凹凸構造
1 Coating layer 2 Fine uneven structure

Claims (3)

少なくとも一方の面に周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造を有し、該微細凹凸構造の表面に動摩擦係数が0.2以下のシランカップリング剤の加水分解縮合体からなる被覆層を有する透明成形体。   A coating layer comprising a hydrolyzed condensate of a silane coupling agent having a fine concavo-convex structure with a period not longer than the wavelength of visible light on at least one surface, and a dynamic friction coefficient of 0.2 or less on the surface of the fine concavo-convex structure. Transparent molded body having. 水の接触角が120°以上であることを特徴とする請求項1記載の透明成形体。   The transparent molded body according to claim 1, wherein the contact angle of water is 120 ° or more. 請求項1または2に記載の透明成形体からなる反射防止物品。   An antireflection article comprising the transparent molded article according to claim 1 or 2.
JP2008207713A 2008-08-12 2008-08-12 Transparent molded body Pending JP2010044184A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008207713A JP2010044184A (en) 2008-08-12 2008-08-12 Transparent molded body

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008207713A JP2010044184A (en) 2008-08-12 2008-08-12 Transparent molded body

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010044184A true JP2010044184A (en) 2010-02-25
JP2010044184A5 JP2010044184A5 (en) 2011-09-22

Family

ID=42015626

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008207713A Pending JP2010044184A (en) 2008-08-12 2008-08-12 Transparent molded body

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010044184A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013003383A (en) * 2011-06-17 2013-01-07 Nissan Motor Co Ltd Abrasion-resistant fine structure and method of manufacturing the same
JP2013142770A (en) * 2012-01-11 2013-07-22 Dainippon Printing Co Ltd Antireflection film
WO2014038288A1 (en) * 2012-09-05 2014-03-13 シャープ株式会社 Moth-eye film
JP2014164102A (en) * 2013-02-25 2014-09-08 Dainippon Printing Co Ltd Anti-reflection article and image display device
JP2015079262A (en) * 2014-11-28 2015-04-23 大日本印刷株式会社 Antireflection film
JP2016071132A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 富士フイルム株式会社 Antireflection film, production method of antireflection film, and kit including antireflection film and cleaning cloth
JP6048604B1 (en) * 2016-03-11 2016-12-21 Jsr株式会社 Line pattern, light control member, and optical imaging member manufacturing method
US9784889B2 (en) 2012-06-22 2017-10-10 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection structure and display device
JPWO2018079525A1 (en) * 2016-10-25 2019-07-25 ダイキン工業株式会社 Functional membrane
JP2019188897A (en) * 2018-04-20 2019-10-31 矢崎総業株式会社 Cover for vehicle display unit and vehicle display device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007068760A2 (en) * 2005-12-15 2007-06-21 Essilor International (Compagnie Generale D'optique) Article coated with a ultra high hydrophobic film and process for obtaining same
JP2007272197A (en) * 2006-03-06 2007-10-18 Fujifilm Corp Optical film, coating composition, polarizing plate and image display device
JP2007322763A (en) * 2006-06-01 2007-12-13 Nissan Motor Co Ltd Anti-reflection structure, anti-reflection structural body and its manufacturing method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007068760A2 (en) * 2005-12-15 2007-06-21 Essilor International (Compagnie Generale D'optique) Article coated with a ultra high hydrophobic film and process for obtaining same
JP2009519149A (en) * 2005-12-15 2009-05-14 エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック Article coated with ultra-high hydrophobic membrane and method for obtaining the same
JP2007272197A (en) * 2006-03-06 2007-10-18 Fujifilm Corp Optical film, coating composition, polarizing plate and image display device
JP2007322763A (en) * 2006-06-01 2007-12-13 Nissan Motor Co Ltd Anti-reflection structure, anti-reflection structural body and its manufacturing method

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013003383A (en) * 2011-06-17 2013-01-07 Nissan Motor Co Ltd Abrasion-resistant fine structure and method of manufacturing the same
JP2013142770A (en) * 2012-01-11 2013-07-22 Dainippon Printing Co Ltd Antireflection film
US9784889B2 (en) 2012-06-22 2017-10-10 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection structure and display device
JPWO2014038288A1 (en) * 2012-09-05 2016-08-08 シャープ株式会社 Moth eye film
US9411158B2 (en) 2012-09-05 2016-08-09 Sharp Kabushiki Kaisha Moth-eye film
WO2014038288A1 (en) * 2012-09-05 2014-03-13 シャープ株式会社 Moth-eye film
JP2014164102A (en) * 2013-02-25 2014-09-08 Dainippon Printing Co Ltd Anti-reflection article and image display device
JP2016071132A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 富士フイルム株式会社 Antireflection film, production method of antireflection film, and kit including antireflection film and cleaning cloth
JP2015079262A (en) * 2014-11-28 2015-04-23 大日本印刷株式会社 Antireflection film
JP6048604B1 (en) * 2016-03-11 2016-12-21 Jsr株式会社 Line pattern, light control member, and optical imaging member manufacturing method
JPWO2018079525A1 (en) * 2016-10-25 2019-07-25 ダイキン工業株式会社 Functional membrane
US10781335B2 (en) 2016-10-25 2020-09-22 Daikin Industries, Ltd. Functional film
JP2021138147A (en) * 2016-10-25 2021-09-16 ダイキン工業株式会社 Functional membrane
JP7137098B2 (en) 2016-10-25 2022-09-14 ダイキン工業株式会社 functional membrane
JP2019188897A (en) * 2018-04-20 2019-10-31 矢崎総業株式会社 Cover for vehicle display unit and vehicle display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010044184A (en) Transparent molded body
JP5162344B2 (en) Anti-reflective article and automotive parts equipped with the same
JP5162726B2 (en) Method for manufacturing article having fine concavo-convex structure on surface
US9290666B2 (en) Laminate and method for manufacturing the same
JP4990414B2 (en) Method for producing article having fine concavo-convex structure on surface, mold release treatment method, and active energy ray curable resin composition for mold surface release treatment
JP5605223B2 (en) Antireflection article and display device
JP5362826B2 (en) Method for producing an article in which a cured resin layer having a fine relief structure is formed on the surface of a substrate
JP5673534B2 (en) MOLD, ITS MANUFACTURING METHOD, ARTICLE HAVING FINE RADIO-CONDENSED STRUCTURE ON THE SURFACE, AND MANUFACTURING METHOD
JP2011090326A (en) Transparent molded body and reflection preventing article using the same
JPWO2011155480A1 (en) Method for manufacturing article having fine concavo-convex structure on surface
JP6686284B2 (en) Article containing cured product of active energy ray curable resin composition
WO2015022916A1 (en) Method for producing mold for nanoimprinting and anti-reflective article
JP2009271782A (en) Conductive transparent substrate and touch panel
JP2009269237A (en) Film for lamination, and laminated body
JP2013129198A (en) Formed body
JP2009271298A (en) Antifogging transparent member and article equipped with the same
JP6455127B2 (en) Production method of transparent film
JP2009258487A (en) Traffic safety facility
JP2009271205A (en) Optical mirror
JP2009241351A (en) Film for insert molding, insert-molded article and method of manufacturing the same
JP2014077040A (en) Active energy ray-curable composition and fine uneven structure using the same
WO2014192709A1 (en) Laminate and method for producing same
JP2009270327A (en) Wall material and wall structure including the same
JP2015223725A (en) Production method of article having fine uneven structure on surface
JP2011224900A (en) Mold, manufacturing method and treating method for the same, and manufacturing method for article

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110808

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110808

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120713

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120726

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120920

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121018

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130131