JP2007272197A - Optical film, coating composition, polarizing plate and image display device - Google Patents

Optical film, coating composition, polarizing plate and image display device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film excellent in stainproofness and dustproofness. <P>SOLUTION: An optical film, which comprises: a support; and a layer containing an electrically-conductive particulate material, in which an interior of the electrically-conductive particulate material is porous or hollow, wherein the optical film comprises a fluorine-containing silane compound. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は光学フィルム、特に反射防止フィルム、塗布組成物、偏光板及び画像表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film, particularly an antireflection film, a coating composition, a polarizing plate and an image display device.

近年、ディスプレイ装置は家庭で使用され一般ユーザーの取り扱いに対してもタフネスが要求されるようになってきている。例えば液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、SED(Surface−Conduction Electron−emitter Display)などのような様々な画像表示装置においては、その表面に用いられる光学フィルムには、高い物理強度(耐擦傷性など)、透明性、耐薬品性、耐候性(耐湿熱性、耐光性など)が要求される。また、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、防眩性能や反射防止性能が要求されている。さらにまた、ディスプレイの視認性を低下させる塵埃(埃など)が、光学フィルムの表面に付着するのを防止する対策が要求される。   In recent years, display devices have been used at home and demanded toughness for handling of general users. For example, in various image display devices such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display device (CRT), and a surface-conduction electron-emitter display (SED). The optical film used on the surface is required to have high physical strength (such as scratch resistance), transparency, chemical resistance, and weather resistance (such as moist heat resistance and light resistance). Further, in order to prevent a decrease in contrast due to reflection of external light or reflection of an image, antiglare performance and antireflection performance are required. Furthermore, measures are required to prevent dust (such as dust) that reduces the visibility of the display from adhering to the surface of the optical film.

汚れ付着防止の観点から、光学フィルムの表面自由エネルギーを低下させることが有効であり、含フッ素防汚剤の使用が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
一方、塵埃付着防止の観点から、導電性粒子を含有する帯電防止層を設けることが知られている(例えば、特許文献2)。
導電性粒子の屈折率を低下させるという観点から、シリカ粒子の表面を酸化アンチモンで被覆した粒子が提案されている(例えば、特許文献3参照)。
From the viewpoint of preventing the adhesion of dirt, it is effective to reduce the surface free energy of the optical film, and the use of a fluorine-containing antifouling agent is disclosed (for example, see Patent Document 1).
On the other hand, it is known to provide an antistatic layer containing conductive particles from the viewpoint of preventing dust adhesion (for example, Patent Document 2).
From the viewpoint of lowering the refractive index of conductive particles, particles in which the surface of silica particles is coated with antimony oxide have been proposed (see, for example, Patent Document 3).

特開平9−127305号公報JP-A-9-127305 特開2005−196122号公報JP 2005-196122 A 特開2005−119909号公報JP 2005-119909 A

しかし、特許文献1などに記載の含フッ素防汚剤は帯電しやすく、その使用量が増えると、塵埃が光学フィルム表面に付着しやすくなる。含フッ素防汚剤の使用量を制限しないで、十分な防汚性を付与することが望まれている。
また、特許文献2に記載の方法は、層を新たに設けることが必要であり、製造での時間的、経済的負荷が生じる。また、従来用いられている導電性粒子は、屈折率が1.6〜2.2程度のものが多く、該粒子を含有する帯電防止層の屈折率は高くなることがある。帯電防止層の屈折率が高い場合、光学フィルムにおいて、隣接層との屈折率の違いにより、意図せぬ干渉ムラや反射色の色味が強くなることがあり、これらの改善が望まれている。
特許文献3などの粒子に対しても防汚性の点で更なる改良が求められている。
However, the fluorine-containing antifouling agent described in Patent Document 1 and the like is easily charged, and dust tends to adhere to the optical film surface when the amount of use increases. It is desired to provide sufficient antifouling properties without limiting the amount of fluorine-containing antifouling agent used.
In addition, the method described in Patent Document 2 requires a new layer, which causes a time and economical burden in production. In addition, conductive particles that have been used in the past often have a refractive index of about 1.6 to 2.2, and the refractive index of the antistatic layer containing the particles may be high. When the refractive index of the antistatic layer is high, unintentional interference unevenness and the color of the reflected color may become strong due to the difference in refractive index between adjacent layers in the optical film, and these improvements are desired. .
Further improvement is demanded from the viewpoint of antifouling property for the particles of Patent Document 3, etc.

従来、含フッ素防汚剤は、帯電しやすいため、使用量を増やすことができない、又は帯電防止層と組み合わせて使用される。含フッ素防汚剤と導電粒子とを導入(例えば、低屈折率層等)することができれば、簡易な層構成で防汚性と帯電防止性を両立できる。よって、本発明の課題は、防汚性、防塵性に優れる、光学フィルムを提供することにある。   Conventionally, since the fluorine-containing antifouling agent is easily charged, the amount of use cannot be increased, or it is used in combination with an antistatic layer. If the fluorine-containing antifouling agent and the conductive particles can be introduced (for example, a low refractive index layer), the antifouling property and the antistatic property can be compatible with a simple layer structure. Therefore, the subject of this invention is providing the optical film which is excellent in antifouling property and dustproof property.

本発明者らは、上記課題に鑑み、鋭意研究を重ねた結果、本発明で規定される特定の構造を有する光学フィルムを見出し、予想外にも光学フィルムとして格別な性能を有することを見出し、本発明を完成した。   In light of the above problems, the present inventors have conducted extensive research and found an optical film having a specific structure defined by the present invention, and unexpectedly found to have exceptional performance as an optical film, The present invention has been completed.

(1)
支持体上に、粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層を有する光学フィルムであって、該光学フィルムが含フッ素シラン化合物を含有する光学フィルム。
(2)
該導電性粒子を含有する層の上層に、含フッ素シラン化合物を含有する防汚層を有する(1)に記載の光学フィルム。
(3)
粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層に、オルガノシランの加水分解物及び/又は縮合反応物の少なくともいずれか1種の硬化物を含有する(1)又は(2)に記載の光学フィルム。
(4)
粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層が、含フッ素シラン化合物を含有し、かつ該層が最表面層である(1)または(3)に記載の光学フィルム。
(5)
前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式[1]で表される化合物である(1)〜(4)に記載の光学フィルム。
一般式[1] (Rf−L1n−Si(R114-n
(式中、Rfは炭素数1〜20の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数6〜14の含フッ素芳香族基を表す。L1は炭素数10以下の2価の連結基を表し、R11はアルキル基、水酸基または加水分解可能な基を表す。nは1〜3の整数を表す。)
(6)
前記一般式[1]で表される含フッ素シラン化合物が下記一般式[2]で表される(5)に記載の光学フィルム。
一般式[2] Cn2n+1−(CH2m−Si(R)3
(式中、nは10以上の整数を表し、mは1〜5の整数を表す。Rは炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。)
(7)
前記含フッ素シラン化合物が、パーフルオロポリエーテル基を含有する(1)〜(4)に記載の光学フィルム。
(8)
前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式[3]で表される化合物である(7)に記載の光学フィルム。
一般式[3]
(1)
An optical film having a layer containing conductive particles having a porous or hollow particle inside on a support, wherein the optical film contains a fluorine-containing silane compound.
(2)
The optical film as described in (1) which has an antifouling layer containing a fluorine-containing silane compound on an upper layer of the layer containing the conductive particles.
(3)
(1) or (2) in which the layer containing the conductive particles in which the inside of the particles is porous or hollow contains at least one kind of cured product of organosilane hydrolyzate and / or condensation reaction product The optical film as described.
(4)
The optical film according to (1) or (3), wherein the layer containing conductive particles in which the particle interior is porous or hollow contains a fluorine-containing silane compound, and the layer is the outermost surface layer.
(5)
The optical film according to any one of (1) to (4), wherein the fluorine-containing silane compound is a compound represented by the following general formula [1].
Formula [1] (Rf-L 1 ) n -Si (R 11) 4-n
(In the formula, Rf represents a linear, branched or cyclic fluorinated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a fluorinated aromatic group having 6 to 14 carbon atoms. L 1 is a divalent divalent having 10 or less carbon atoms. Represents a linking group, R 11 represents an alkyl group, a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and n represents an integer of 1 to 3.)
(6)
The optical film according to (5), wherein the fluorine-containing silane compound represented by the general formula [1] is represented by the following general formula [2].
Formula [2] C n F 2n + 1 - (CH 2) m -Si (R) 3
(In the formula, n represents an integer of 10 or more, m represents an integer of 1 to 5. R represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom.)
(7)
The optical film according to any one of (1) to (4), wherein the fluorine-containing silane compound contains a perfluoropolyether group.
(8)
The optical film according to (7), wherein the fluorine-containing silane compound is a compound represented by the following general formula [3].
General formula [3]

Figure 2007272197
Figure 2007272197

(式中、Rf は炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Xはヨウ素原子または水素原子、Yは水素原子または低級アルキル基、Zはフッ素原子またはトリフルオロメチル基、R1は加水分解可能な基、R2 は水素または不活性な一価の有機基、a、b、c、dは0〜200の整数、eは0または1、mおよびnは0〜2の整数、及びpは1〜10の整数を表す。)
(9)
前記一般式[3]で表される含フッ素シラン化合物が、下記一般式[4]で表される化合物である(8)に記載の光学フィルム。
一般式[4]
Wherein R f is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms, X is an iodine atom or a hydrogen atom, Y is a hydrogen atom or a lower alkyl group, Z is a fluorine atom or a trifluoromethyl group. , R 1 is a hydrolyzable group, R 2 is hydrogen or an inert monovalent organic group, a, b, c, d are integers of 0 to 200, e is 0 or 1, and m and n are 0 to 0. (The integer of 2 and p represent the integer of 1-10.)
(9)
The optical film according to (8), wherein the fluorine-containing silane compound represented by the general formula [3] is a compound represented by the following general formula [4].
General formula [4]

Figure 2007272197
Figure 2007272197

(式中、Yは水素原子または低級アルキル基、R1は加水分解可能な基、qは1〜50の
整数を、mは0〜2の整数、pは2〜10の整数を表す。)
(10)
前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式[5]で表される化合物である(1)〜(4)に記載の光学フィルム。
一般式[5]
Rf5[−(L5−X−R51 −Si(OR523 ]
(式中、Rf5はパーフルオロポリエーテル基を、R51 はアルキレン基を、R52はアルキル基を、L5は−CO−を、Xは−O−、−NR53−、−S−、−SO−、−SONR53−、−NR53CO−から選ばれる基を、nは0又は1、mは2以下の自然数をそれぞれ表す。R53は水素原子又は炭素数3以下のアルキル基を表す。)
(11)
前記含フッ素シラン化合物を含有する層に、更に下記一般式[7]で表される化合物を含有する(1)〜(10)に記載の光学フィルム。
一般式[7]
71 −Si(OR72 3
(式中、R71 は炭素数10以上の長鎖炭化水素基を、R72はアルキル基を表す。)
(12)
X線光電子分光法により測定した、膜表面のシリコン原子(Si2p)とフッ素原子(
F1s)のピーク面積比(Si2p/F1s)が0.0以上0.4以下である(1)〜(11)に記載の光学フィルム。
(13)
動摩擦係数が0.02以上0.30以下である(1)〜(12)に記載の光学フィルム。
(14)
水の接触角が95度以上である(1)〜(13)に記載の光学フィルム。
(15)
光学フィルムの表面抵抗をlog(SR)で表したときの値が12以下である(1)〜(14)に記載の光学フィルム。
(16)
前記導電性粒子を含有する層が低屈折率層であり、膜厚が130nm以上500nm以下である(1)〜(15)に記載の光学フィルム。
(17)
以下の(A)、(B)、(C)の各成分を含有する塗布組成物。
(A)粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子。(B)オルガノシラン、及び/又はその加水分解物、及び/又はその縮合反応物の少なくともいずれか1種。
(C)含フッ素シラン化合物及び/又はその加水分解物、及び/又はその縮合反応物の少なくともいずれか1種。
(18)
前記(C)成分である含フッ素シラン化合物が、前記一般式[1]〜[5]のいずれかで表される(17)記載の塗布組成物。
(19)
(1)〜(16)のいずれかに記載の光学フィルムを有する偏光板。
(20)
(1)〜(16)のいずれかに記載の光学フィルムを有する画像表示装置。
(In the formula, Y represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 1 represents a hydrolyzable group, q represents an integer of 1 to 50, m represents an integer of 0 to 2, and p represents an integer of 2 to 10.)
(10)
The optical film according to any one of (1) to (4), wherein the fluorine-containing silane compound is a compound represented by the following general formula [5].
General formula [5]
Rf 5 [- (L 5) n -X-R 51 -Si (OR 52 ) 3 ] m
(Wherein Rf 5 represents a perfluoropolyether group, R 51 Is an alkylene group, R 52 is an alkyl group, L 5 is —CO—, X is —O—, —NR 53 —, —S—, —SO 2 —, —SO 2 NR 53 —, —NR 53. In the group selected from CO-, n represents 0 or 1, and m represents a natural number of 2 or less. R 53 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 3 or less carbon atoms. )
(11)
The optical film according to any one of (1) to (10), wherein the layer containing the fluorine-containing silane compound further contains a compound represented by the following general formula [7].
General formula [7]
R 71 -Si (OR 72 3
(Where R 71 Represents a long-chain hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms, and R 72 represents an alkyl group. )
(12)
Silicon atoms (Si2p) and fluorine atoms (on the film surface) measured by X-ray photoelectron spectroscopy
(1) to (11), wherein the peak area ratio (Si2p / F1s) of F1s) is 0.0 or more and 0.4 or less.
(13)
The optical film as described in (1)-(12) whose dynamic friction coefficient is 0.02 or more and 0.30 or less.
(14)
The optical film as described in (1)-(13) whose contact angle of water is 95 degree | times or more.
(15)
The optical film as described in (1)-(14) whose value when the surface resistance of an optical film is represented by log (SR) is 12 or less.
(16)
The layer containing the said electroconductive particle is a low refractive index layer, The optical film as described in (1)-(15) whose film thickness is 130 to 500 nm.
(17)
A coating composition containing the following components (A), (B), and (C).
(A) Conductive particles having a porous or hollow particle interior. (B) At least one of organosilane and / or its hydrolyzate and / or its condensation reaction product.
(C) At least one of a fluorine-containing silane compound and / or a hydrolyzate thereof and / or a condensation reaction product thereof.
(18)
The coating composition according to (17), wherein the fluorine-containing silane compound as the component (C) is represented by any one of the general formulas [1] to [5].
(19)
A polarizing plate having the optical film according to any one of (1) to (16).
(20)
The image display apparatus which has an optical film in any one of (1)-(16).

本発明の光学フィルムは、防汚性・防塵性に優れ、特に防汚耐久性に優れる。また、本発明の光学フィルムは、耐擦傷性に優れ、塗布ムラが低減され、生産性の高い光学フィルムである。また、表面層に導電性を付与できる構成は、帯電防止剤の量が少なくても表面の導電性が改良され、コスト的にも有利である効果を有する。更に、本発明の光学フィルムは、粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を使用するために、反射率が低い。本発明の光学フィルムを用いた偏光板やディスプレイ装置は取り扱い性に優れ、外光や背景の映り込みが少なく、視認性が高い。   The optical film of the present invention has excellent antifouling properties and dustproof properties, and particularly excellent antifouling durability. In addition, the optical film of the present invention is an optical film that has excellent scratch resistance, reduced coating unevenness, and high productivity. Moreover, the structure which can provide electroconductivity to a surface layer has the effect that surface electroconductivity is improved even if there is little quantity of an antistatic agent, and it is advantageous also in cost. Furthermore, since the optical film of the present invention uses conductive particles in which the particle interior is porous or hollow, the reflectance is low. A polarizing plate or a display device using the optical film of the present invention is excellent in handleability, has little reflection of external light and background, and has high visibility.

以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「(メタ)アクリル酸」等も同様である。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. . In the present specification, the description “(meth) acrylate” means “at least one of acrylate and methacrylate”. The same applies to “(meth) acrylic acid” and the like.

本発明の光学フィルムは、粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子と含フッ素シラン化合物を含有する光学フィルムである。好ましくは、該粒子を含有する層が、オルガノシランの加水分解物及び又は縮合反応物の少なくともいずれか1種の硬化物を含有する。該導電性粒子を含有する層は、光学フィルムにおいて、その機能に特に制限はなく、導電層、ハードコート層、防眩層、低屈折率層などの機能を有することができる。特に好ましくは低屈折率層であり、該導電粒子含有層自身及び/又は隣接する上層の防汚層に含フッ素オルガノシラン化合物を含有する態様が最も本発明の効果が大きい。本発明において、粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子と含フッ素シラン化合物を併用することで、単に導電性と防汚性が付与できるだけでなく、防汚耐久性が改良できることは全く予想外であった。含フッ素シラン化合物のフィルム上での反応性や固定性に、粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子が何らかの影響を与えている可能性があり、今後の解析で明らかとなろう。
以下に、本発明の構成成分について詳細に説明する。
The optical film of the present invention is an optical film containing conductive particles having a porous or hollow particle interior and a fluorine-containing silane compound. Preferably, the layer containing the particles contains a cured product of at least one of hydrolyzate of organosilane and / or condensation reaction product. The layer containing the conductive particles in the optical film is not particularly limited in its function, and can have functions such as a conductive layer, a hard coat layer, an antiglare layer, and a low refractive index layer. The low refractive index layer is particularly preferable, and the embodiment of the present invention is most effective when the conductive particle-containing layer itself and / or the adjacent upper antifouling layer contains a fluorine-containing organosilane compound. In the present invention, the combination of the conductive particles having a porous or hollow particle inside and the fluorine-containing silane compound can not only provide conductivity and antifouling property but also improve antifouling durability. It was outside. Conductive particles with porous or hollow particles may have some influence on the reactivity and fixability of the fluorine-containing silane compound on the film, which will become clear in future analysis.
Below, the component of this invention is demonstrated in detail.

<粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子>
本発明に用いる粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子について説明する。発明の導電性微粒子は、粒子内部が多孔質または中空であってかつ導電性を有する微粒子である限り、如何なる組成や構造の微粒子であってもよい。本発明の好ましい導電性微粒子は、高気孔率(高空隙率)の微粒子を核としてその外側に導電性物質のシェル層を設けたコア/シェル型複合微粒子と、酸、アルカリ又は有機溶剤可溶の微粒子を核としてその外側に導電性物質のシェル層を設けて複合微粒子を形成させた後、酸、アルカリ又は有機溶剤の処理を行なって核粒子を除去して内部空孔を形成させた内部空孔型中空微粒子とが挙げられる。
いずれにおいても、核粒子は導電性であっても、非導電性であってもかまわない。
<Conductive particles whose inside is porous or hollow>
The conductive particles in which the inside of the particles used in the present invention is porous or hollow will be described. The conductive fine particles of the invention may be fine particles having any composition and structure as long as the inside of the particles is porous or hollow and has conductivity. Preferred conductive fine particles of the present invention are core / shell type composite fine particles having a high porosity (high porosity) fine particle as a core and a shell layer of a conductive material provided on the outside, and soluble in acids, alkalis or organic solvents. After forming a composite fine particle by providing a shell layer of a conductive material on the outside with the fine particle of the core as a nucleus, the core particle is removed by treatment with an acid, alkali or organic solvent to form an internal void. And void-type hollow fine particles.
In any case, the core particle may be conductive or non-conductive.

前者、すなわちコア/シェル型複合微粒子の場合、核粒子としては、高気孔率微粒子でかつシェル付け可能である限り種類を問わないが、好ましい核粒子はシリカゲル、合成又は天然ゼオライト、カーボンブラック、フラーレン、多孔酸化チタンを挙げることができる。特にシリカゲルが好ましい。
後者、すなわち内部空包型中空微粒子の場合、製造過程に用いる核粒子としては、酸、アルカリ又は有機溶剤の処理によってシェル層を通して溶解・流失可能である限り種類を問わないが、好ましい核粒子は周期律表の2A,2B,3A及び5B族元素から選ばれる金属の金属酸化物微粒子であり、中でもZnO、Y、Sb微粒子が好ましい。
In the case of the former, that is, the core / shell type composite fine particle, the core particle is not limited as long as it is a high-porosity fine particle and can be shelled. And porous titanium oxide. Silica gel is particularly preferable.
In the case of the latter, that is, in the case of internal enveloping hollow fine particles, the core particles used in the production process are not limited as long as they can be dissolved and washed away through the shell layer by treatment with an acid, alkali or organic solvent, but preferred core particles are Metal oxide fine particles of a metal selected from Group 2A, 2B, 3A and 5B elements of the periodic table, among which ZnO, Y 2 O 3 and Sb 2 O 5 fine particles are preferable.

コア/シェル型複合微粒子の場合、シェル付けの方法としては、金属アルコキシドを用いるゾルゲル変換法、カップリング剤又はその加水分解物を介する金属超微粒子付加法、導電性物質のドーピング法などを挙げることができる。
例えば、特開平7−133105号や特開2001−233611号に記載の方法で製造したSiO粒子表面にこれらの金属のアルコキシドなどを用いてゾルゲル法により上記無機微粒子を直接形成してもよい。
また、内部空包型中空微粒子の場合、核粒子とシェル物質の組合せとしては、ZnO、Y、Sbなどの微粒子の表面をATO、ITO、SnOなどの超微粒子もしくはこれらの薄膜で被覆したのち、内部の微粒子を酸又はアルカリ水溶液で溶出させることにより中空の導電性無機微粒子を形成する方法を用いることができる。シリカ粒子の表面を酸化アンチモンで被覆した粒子については、特開2005−119909号公報に記載されている。
一方、Au、Ag、Cu、Sn、Al、Ni、Fe、Rhなどの金属やAl−Cu、Cu−Niなどの合金は、着色しているものの1.7以下の比較的低い屈折率を有し、かつ高い導電性を示すことが知られている。したがってこれらの金属(合金)超微粒子を導電性微粒子のシェルとして少量用いることでも実質的に高い透明性を有し、かつ低い屈折率の導電性微粒子が形成できる。
In the case of core / shell type composite fine particles, examples of the shell attaching method include a sol-gel conversion method using a metal alkoxide, a metal ultrafine particle addition method via a coupling agent or a hydrolyzate thereof, and a conductive material doping method. Can do.
For example, the inorganic fine particles may be directly formed on the surface of SiO 2 particles produced by the methods described in JP-A-7-133105 and JP-A-2001-233611 by using a sol-gel method using an alkoxide of these metals.
Further, in the case of the inner void type hollow fine particles, as a combination of the core particles and the shell material, the surface of the fine particles such as ZnO, Y 2 O 3 , Sb 2 O 5 is made ultra fine particles such as ATO, ITO, SnO 2 or these A method of forming hollow conductive inorganic fine particles by eluting the fine particles inside with an acid or alkaline aqueous solution after coating with the above thin film can be used. The particle | grains which coat | covered the surface of the silica particle with the antimony oxide are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-119909.
On the other hand, metals such as Au, Ag, Cu, Sn, Al, Ni, Fe, and Rh and alloys such as Al—Cu and Cu—Ni are colored, but have a relatively low refractive index of 1.7 or less. In addition, it is known to exhibit high conductivity. Therefore, even when these metal (alloy) ultrafine particles are used in a small amount as a shell of conductive fine particles, conductive fine particles having substantially high transparency and a low refractive index can be formed.

次に、本発明の中空の導電性微粒子の好ましい形態であるカップリング剤によるシェル付けによるコア/シェル型複合微粒子についてさらに説明する。
この導電性微粒子は、平均粒子径が2〜100nmである半導体微粒子又は絶縁体微粒子を核粒子としてその表面に、少なくとも1種のカップリング剤もしくはその加水分解物を介して、平均粒子径1〜20nmの金属超微粒子フィラーを結合させた複合微粒子である。本発明においては上記半導体微粒子又は絶縁体微粒子の核粒子は透明でかつ屈折率1.70以下の化合物が望ましい。かかる化合物としてはAl、SiOなどが挙げられる。カップリング剤は、分子中に反応基を2つ以上有し、その中の少なくとも一つが半導体又は絶縁体微粒子と結合し、残りの少なくとも一つが金属超微粒子と結合することにより、半導体又は絶縁体微粒子と金属超微粒子との橋かけを行なうものである。カップリング剤はその加水分解物が半導体又は絶縁体微粒子と金属超微粒子との橋かけを行なうものであってもよい。好ましいカップリング剤は下記一般式[A]で表わせる化合物である。
Next, the core / shell type composite fine particles by shelling with a coupling agent, which is a preferred form of the hollow conductive fine particles of the present invention, will be further described.
The conductive fine particles have semiconductor particles or insulator fine particles having an average particle diameter of 2 to 100 nm as core particles, and have an average particle diameter of 1 to 1 on the surface via at least one coupling agent or a hydrolyzate thereof. Composite fine particles in which 20 nm ultrafine metal particle fillers are bonded. In the present invention, the core particles of the semiconductor fine particles or insulator fine particles are preferably transparent and have a refractive index of 1.70 or less. Examples of such compounds include Al 2 O 3 and SiO 2 . The coupling agent has two or more reactive groups in the molecule, and at least one of them is bonded to the semiconductor or insulator fine particles, and at least one of the remaining is bonded to the metal ultrafine particles, whereby the semiconductor or insulator It is a bridge between fine particles and ultrafine metal particles. The coupling agent may be one in which the hydrolyzate cross-links the semiconductor or insulator fine particles and the metal ultrafine particles. A preferred coupling agent is a compound represented by the following general formula [A].

一般式〔A〕 M―(R)
一般式〔A〕において、MはSi又はAlを表わし、nはMの原子価に相当する整数を
表わす。Rは有機性基を表し、n個のRは同じでも異なっていてもよく、n個のRのうちの少なくとも2つは半導体微粒子、絶縁体微粒子又は金属超微粒子と反応性を有する基である。
Formula [A] M- (R) n
In the general formula [A], M represents Si or Al, and n represents an integer corresponding to the valence of M. R represents an organic group, and the n Rs may be the same or different, and at least two of the n Rs are groups having reactivity with semiconductor fine particles, insulator fine particles or metal ultrafine particles. .

Rで表わされる有機性基のうち、半導体微粒子、絶縁体微粒子又は金属超微粒子と反応性を有する基としては、例えば、(1)ビニル基、アリルオキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、イソシアナト基、ホルミル基、エポキシ基、スチリル基、ウレイド基、ハロゲンなどの反応性基、又はこれらを末端に有するアルキル基、(2)末端に−SH、−CN、−NH、−SOOH、−SOOH、−OPO(OH)、−COOHなどの吸着性の基を有するアルキル基、(3)メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、n−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などアルコキシ基、及び(4)フェノキシ基が挙げられる。これらのアルキル基、アルコキシ基及びフェノキシ基としては、炭素数が8以下のものが望ましい。また、これらのアルキル基、アルコキシ基及びフェノキシ基はさらに置換基を有していてもよい。Rで表わされる残りの有機性基としては任意のものでよいが、好ましくは炭素数が8以下のものである。 Among the organic groups represented by R, examples of the group having reactivity with semiconductor fine particles, insulator fine particles or metal ultrafine particles include (1) vinyl group, allyloxy group, acryloxy group, methacryloxy group, isocyanato group, formyl. group, an epoxy group, a styryl group, a ureido group, a reactive group such as a halogen, or an alkyl group having them end, (2) -SH terminated, -CN, -NH 2, -SO 2 OH, -SOOH, An alkyl group having an adsorptive group such as -OPO (OH) 2 or -COOH; (3) an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group, an n-propoxy group, a t-butoxy group, or an n-butoxy group. And (4) a phenoxy group. As these alkyl group, alkoxy group and phenoxy group, those having 8 or less carbon atoms are desirable. Further, these alkyl group, alkoxy group and phenoxy group may further have a substituent. The remaining organic group represented by R may be any group, but preferably has 8 or less carbon atoms.

以下にカップリング剤の具体例を列挙するが、これらの化合物に限定されるものではない。
N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノフェノキシジメチルビニルシラン、アミノフェニルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、ビス(トリメトキシシリルプロピル)アミン、(p−クロロメチル)フェニルトリメトキシシラン、(3−グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、(3−グリシドキシプロピル)−3−メルカプトプロピルジメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、テトラエトキシシラン、アミノフェニルアルミニウムジメトキシド、アルミニウムイソプロポキシドなど。
Although the specific example of a coupling agent is enumerated below, it is not limited to these compounds.
N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminophenoxydimethylvinylsilane, aminophenyltrimethoxysilane, 3-amino Propyltriethoxysilane, bis (trimethoxysilylpropyl) amine, (p-chloromethyl) phenyltrimethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) trimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, (3-glycid Xylpropyl) -3-mercaptopropyldimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, tetraethoxysilane, aminophenylaluminum dimethoxide, aluminum isopropoxide and the like.

金属超微粒子は、20℃における比抵抗が20μΩ・cm以下(好ましくは10μΩ・cm以下、より好ましくは6μΩ・cm以下)である金属または合金(複合金属)からなるものであることが好ましい。一般的に、金属または合金の物性値は、バルクと粒子とでは異なることが知られているが、前記比抵抗の範囲は、金属または合金のバルクの値をいう。したがって、かかる物性値は「化学便覧(日本化学会編)」、「分析化学便覧(日本分析化学会編)」などの文献に記載されている。
上記条件を満足する金属としては、Au、Ag、Cu、Zn、Cd、Al、In、Tl、Sn、Co、Ni、Fe、Pd、Ir、Mo、Pt、Ru、Rh、Wなどが挙げられる。これらの中でもAu、Ag、Cu、Pt、Pd、Ni、RuおよびSnが比抵抗が小さくかつ酸化されにくいので好ましい。前記金属超微粒子が合金からなる場合、Au、Ag、Cu、Pt、Pd、Ni、RuおよびSnの少なくとも1種含有する合金を用いるのが好ましい。かかる合金としては、Cu−Zn、Cu−Sn、Al−Cu、Cu−Sn−P、Cu−Ni、Au−Ag−Cu、Au−Zn、Au−Ni、Ag−Cu−Zn、Ag−Cu−Zn−Sn、Sn−Pb、Ag−In、Cu−Ag−Ni、Ag−Pdなどが挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。合金中の各金属の組成比については特に制限はなく、種々選択できる。また、金属および合金は不純物元素を含んでいてもよいが、その量は1%未満であるのが好ましい。不純物元素としては、Cr、Sb、Bi、Rhなどの金属、また金属以外にも、P、B、C、N、Sなどの非金属、Na、Kなどのアルカリ金属、およびMg、Caなどのアルカリ土類金属が挙げられる。これらの不純物元素は、1種もしくは2種以上含有されていてもよい。
The ultrafine metal particles are preferably made of a metal or alloy (composite metal) having a specific resistance at 20 ° C. of 20 μΩ · cm or less (preferably 10 μΩ · cm or less, more preferably 6 μΩ · cm or less). In general, it is known that the physical property value of a metal or an alloy is different between the bulk and the particle, but the specific resistance range refers to the bulk value of the metal or the alloy. Therefore, such physical property values are described in documents such as “Chemical Handbook (Edited by the Chemical Society of Japan)”, “Analytical Chemical Handbook (Edited by the Chemical Society of Japan)” and the like.
Examples of the metal that satisfies the above conditions include Au, Ag, Cu, Zn, Cd, Al, In, Tl, Sn, Co, Ni, Fe, Pd, Ir, Mo, Pt, Ru, Rh, and W. . Among these, Au, Ag, Cu, Pt, Pd, Ni, Ru, and Sn are preferable because of their low specific resistance and resistance to oxidation. When the ultrafine metal particles are made of an alloy, it is preferable to use an alloy containing at least one of Au, Ag, Cu, Pt, Pd, Ni, Ru, and Sn. Such alloys include Cu—Zn, Cu—Sn, Al—Cu, Cu—Sn—P, Cu—Ni, Au—Ag—Cu, Au—Zn, Au—Ni, Ag—Cu—Zn, and Ag—Cu. -Zn-Sn, Sn-Pb, Ag-In, Cu-Ag-Ni, Ag-Pd and the like can be mentioned, but are not limited thereto. There is no restriction | limiting in particular about the composition ratio of each metal in an alloy, and it can select variously. The metal and alloy may contain an impurity element, but the amount is preferably less than 1%. Examples of the impurity element include metals such as Cr, Sb, Bi, and Rh, and non-metals such as P, B, C, N, and S, alkali metals such as Na and K, and Mg and Ca. Examples include alkaline earth metals. One or more of these impurity elements may be contained.

コア/シェル型複合微粒子は、核粒子の質量当たり、金属超微粒子が少なくとも1/10倍質量結合していることが好ましく、1/5倍質量結合していることがさらに好ましい。
本発明において導電性微粒子は、屈折率が1.20〜2.00であることが好ましく、1.30〜1.80であることがさらに好ましく、1.30〜1.70であることが特に好ましく、1.35〜1.65であることが最も好ましい。
導電性微粒子の粉体抵抗は低いほどよく、好ましくは1×10Ω・cm以下、より好ましくは1×10Ω・cm以下、さらに好ましくは1×10Ω・cm以下、特に好ましくは1×10Ω・cm以下である。粉体抵抗は、例えば試料粉体を9.8MPa(100kg/cm)の圧力で成形して、圧粉体とし、その直流抵抗を測定して求めることができる。例えば、特開平6−92636に記載されている。
導電性微粒子の一次粒子の平均粒子径は可視光波長領域以下(すなわち400nm以下)であることが好ましいが、1〜200nmであることがより好ましく、さらに好ましくは1〜100nm、特に好ましくは1〜80nmである。粒子が内部空包型粒子の場合、粒子の外殻を形成するシエル部の厚みは、1〜100nmが好ましく、より好ましくは1〜50nm、最も好ましくは1〜20nmである。導電性微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、棒状、不定形状又はそれらの混合形状のいずれであってもよい。ここでいう平均粒子径は、それぞれの微粒子の最大径の平均値で表し、例えば紡錘状などの場合、各微粒子の長軸径の平均値を平均粒子径とする。導電性微粒子の粒子径は、電子顕微鏡写真により少なくとも1000個の粒子について測定した平均粒子径によって定義される。
In the core / shell type composite fine particles, it is preferable that the ultrafine metal particles are bonded at least 1/10 times the mass and more preferably 1/5 times the mass bonded per mass of the core particles.
In the present invention, the conductive fine particles preferably have a refractive index of 1.20 to 2.00, more preferably 1.30 to 1.80, and particularly preferably 1.30 to 1.70. Preferably, it is 1.35 to 1.65.
The powder resistance of the conductive fine particles is preferably as low as possible, preferably 1 × 10 5 Ω · cm or less, more preferably 1 × 10 4 Ω · cm or less, further preferably 1 × 10 3 Ω · cm or less, particularly preferably. 1 × 10 2 Ω · cm or less. The powder resistance can be obtained, for example, by molding a sample powder at a pressure of 9.8 MPa (100 kg / cm 2 ) to form a green compact, and measuring the direct current resistance. For example, it is described in JP-A-6-92636.
The average particle diameter of the primary particles of the conductive fine particles is preferably not more than the visible light wavelength region (that is, not more than 400 nm), more preferably 1 to 200 nm, still more preferably 1 to 100 nm, particularly preferably 1 to 1. 80 nm. In the case where the particles are internally enveloping particles, the thickness of the shell part forming the outer shell of the particles is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 50 nm, and most preferably 1 to 20 nm. The shape of the conductive fine particles may be any of a rice granular shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a rod shape, an indefinite shape, or a mixed shape thereof. The average particle diameter here is represented by the average value of the maximum diameters of the respective fine particles. For example, in the case of a spindle shape, the average value of the major axis diameters of the respective fine particles is defined as the average particle diameter. The particle diameter of the conductive fine particles is defined by an average particle diameter measured for at least 1000 particles by an electron micrograph.

<本発明の導電性粒子を含有する層に用いるオルガノシラン化合物>
本発明に用いるオルガノシラン化合物について詳細に説明する。この化合物はそのまま、又は加水分解物、又は縮合物として本発明の導電性粒子を含有する層のバインダーとして用いることができる。一般式を以下に示す。
一般式(B):(R10m−Si(X)4-m
上記一般式(B)においてR10は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ヘキシル基、t-ブチル基、sec-ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ヘキサデ
シル基等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは1〜6のものである。アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
<Organosilane compound used for layer containing conductive particles of the present invention>
The organosilane compound used in the present invention will be described in detail. This compound can be used as a binder of a layer containing the conductive particles of the present invention as it is or as a hydrolyzate or a condensate. The general formula is shown below.
Formula (B) :( R 10) m -Si (X) 4-m
In the general formula (B), R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, hexyl group, t-butyl group, sec-butyl group, hexyl group, decyl group, hexadecyl group and the like. The alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group, and a phenyl group is preferable.

Xは、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基としては、例えばアルコキシ基(炭素数1〜5のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子(例えばCl、Br、I等)、およびR2COO基(R2は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基が好ましい。例えばCH3COO基、C25COO基等が挙げられる)が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
mは0〜3の整数を表す。R10もしくはXが複数存在するとき、複数のR10もしくはXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。mとして好ましくは0、1または2である。
X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group (an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group and an ethoxy group), a halogen atom (for example, Cl, Br, I, etc.), and R 2. COO groups (R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Examples include CH 3 COO groups and C 2 H 5 COO groups), preferably alkoxy groups, particularly preferably. Is a methoxy group or an ethoxy group.
m represents an integer of 0 to 3. When R 10 or X there are a plurality, a plurality of R 10 or X groups may be different, even the same, respectively. m is preferably 0, 1 or 2.

10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル基、エチル基、i-プロピル基、プロピル基、t-ブチル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチル基等)、芳香族ヘテロ環基(フリル基、ピラゾリル基、ピリジル基等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、i-プロポキシ基、ヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、アルキルチオ基(メチルチオ基、エチルチオ基等)、アリールチオ基(フェニルチオ基等)、アルケニル基(ビニル基、1-プロペニル基等)、アシルオキシ基(アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル基等)、カルバモイル基(カルバモイル基、N-メチルカルバモイル基、N,N-ジメチルカルバモイル基、N-メチル-N-オクチルカルバモイル基等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アクリルアミノ基、メタクリルアミノ基等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。なお、本明細書においては、水素原子を置換するものが単一の原子であっても、便宜上置換基として取り扱う。
10が複数ある場合は、少なくとも一つが、置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。中でも該置換アルキル基もしくは置換アリール基がさらにビニル重合性基を有することが好ましい。
The substituent contained in R 10 is not particularly limited, but is a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl group, ethyl group, i -Propyl group, propyl group, t-butyl group etc.), aryl group (phenyl group, naphthyl group etc.), aromatic heterocyclic group (furyl group, pyrazolyl group, pyridyl group etc.), alkoxy group (methoxy group, ethoxy group) , I-propoxy group, hexyloxy group etc.), aryloxy group (phenoxy group etc.), alkylthio group (methylthio group, ethylthio group etc.), arylthio group (phenylthio group etc.), alkenyl group (vinyl group, 1-propenyl group) Etc.), acyloxy groups (acetoxy group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl groups (me Toxylcarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (phenoxycarbonyl group, etc.), carbamoyl group (carbamoyl group, N-methylcarbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-methyl-N-octylcarbamoyl group) Etc.), acylamino groups (acetylamino group, benzoylamino group, acrylamino group, methacrylamino group, etc.) and the like, and these substituents may be further substituted. In the present specification, even if a hydrogen atom is replaced by a single atom, it is treated as a substituent for convenience.
When there are a plurality of R 10 , at least one is preferably a substituted alkyl group or a substituted aryl group. Of these, the substituted alkyl group or substituted aryl group preferably further has a vinyl polymerizable group.

本発明において好ましい化合物は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン;ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のジアルコキシシラン等が挙げられる。この中でも硬化組成物中での無機粒子の分散安定性、耐擦傷性の観点からテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。   Preferred compounds in the present invention are tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetrabutoxysilane; methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltri Methoxysilane, propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, butyltriethoxysilane, pentyltrimethoxysilane, pentyltriethoxysilane, heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, dodecyltri Methoxysilane, dodecyltriethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltriethoxysilane, octadecyltrimethyl Xysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ- Trialkoxysilanes such as glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltriethoxysilane; dimethyl Examples thereof include dialkoxysilanes such as dimethoxysilane and dimethyldiethoxysilane. Among these, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and γ-acryloxypropyltrimethoxysilane are preferable from the viewpoints of dispersion stability of the inorganic particles in the cured composition and scratch resistance.

(オルガノシランの加水分解、縮合反応)
本発明においてオルガノシラン化合物は、あらかじめ加水分解又はそれらを部分縮合させて塗布組成物に用いることができる。オルガノシランの加水分解および縮合反応の少なくともいずれかの反応は、触媒の存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類等が挙げられるが、無機酸化物微粒子液の製造安定性や保存安定性の点から、本発明においては、酸触媒(無機酸類、有機酸類)及び金属キレート化合物の少なくともいずれかが用いられる。無機酸では塩酸、硫酸、硝酸、有機酸では、水中での酸解離定数(pKa値(25℃))が4.5以下のものが好ましい。有機酸の中では、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が好ましく、シュウ酸が特に好ましい。
(Hydrolysis and condensation reaction of organosilane)
In the present invention, the organosilane compound can be used in the coating composition after hydrolysis or partial condensation thereof. It is preferable that at least one of hydrolysis and condensation reaction of organosilane is performed in the presence of a catalyst. Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid; organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia; triethylamine, Examples include organic bases such as pyridine; metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum and tetrabutoxyzirconium. From the viewpoint of production stability and storage stability of the inorganic oxide fine particle liquid, an acid catalyst is used in the present invention. At least one of (inorganic acids, organic acids) and a metal chelate compound is used. Among inorganic acids, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and organic acids preferably have an acid dissociation constant (pKa value (25 ° C.)) of 4.5 or less in water. Among organic acids, methanesulfonic acid, oxalic acid, phthalic acid, and malonic acid are preferable, and oxalic acid is particularly preferable.

本発明において、オルガノシランの加水分解物の生成および縮合反応に用いる金属キレート化合物は、一般式R3OH(式中、R3は炭素数1〜10のアルキル基を示す。)で表されるアルコールと一般式R4COCH2COR5(式中、R4は炭素数1〜10のアルキル基を、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を示す。)で表される化合物とを配位子とした、Zr、TiおよびAlから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも1種の金属キレート化合物が好ましい。 In the present invention, the metal chelate compound used for the formation of the hydrolyzate of organosilane and the condensation reaction is represented by the general formula R 3 OH (wherein R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms). alcohol of the general formula R 4 COCH 2 COR 5 (wherein, the R 4 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 5 represents an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms having 1 to 10 carbon atoms. And at least one metal chelate compound having a metal selected from Zr, Ti and Al as a central metal.

金属キレート化合物は、Zr、TiまたはAlから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、2種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる金属キレート化合物の具体例としては、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−n−ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n−ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n−プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物;ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセトン)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物;ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。   The metal chelate compound can be suitably used without particular limitation as long as it has a metal selected from Zr, Ti or Al as a central metal. Within this category, two or more metal chelate compounds may be used in combination. Specific examples of the metal chelate compound used in the present invention include tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethylacetoacetate) zirconium, n-butoxytris (ethylacetoacetate) zirconium, tetrakis (n Zirconium chelate compounds such as propylacetoacetate) zirconium, tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (acetylacetate) titanium , Titanium chelate compounds such as diisopropoxy bis (acetylacetone) titanium; diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum Diisopropoxyacetylacetonate aluminum, isopropoxybis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonato) aluminum, monoacetylacetonate bis (Ethyl acetoacetate) Aluminum chelate compounds such as aluminum can be mentioned.

これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、1種単独であるいは2種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。   Among these metal chelate compounds, tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisopropoxybis (acetylacetonato) titanium, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, and tris (ethyl acetoacetate) aluminum are preferable. These metal chelate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Moreover, the partial hydrolyzate of these metal chelate compounds can also be used.

オルガノシランの加水分解および縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができる。この反応により、本発明の硬化性組成物を製造することができる。溶媒を用いる場合はオルガノシランの加水分解物およびその部分縮合物の濃度を適宜に定めることができる。溶媒としては成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いられることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。   The hydrolysis and condensation reaction of the organosilane can be performed without a solvent or in a solvent. By this reaction, the curable composition of the present invention can be produced. When a solvent is used, the concentration of the hydrolyzate of organosilane and its partial condensate can be appropriately determined. As the solvent, an organic solvent is preferably used in order to uniformly mix the components. For example, alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, ketones, esters and the like are preferable. The solvent preferably dissolves the organosilane and the catalyst. In addition, it is preferable in the process that an organic solvent is used as a coating solution or a part of the coating solution, and those that do not impair the solubility or dispersibility when mixed with other materials such as a fluorine-containing polymer are preferable.

このうち、アルコール類としては、例えば1価アルコールまたは2価アルコールを挙げることができ、このうち1価アルコールとしては炭素数1〜8の飽和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec −ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。   Among these, examples of the alcohols include monohydric alcohols and dihydric alcohols. Among these, monohydric alcohols are preferably saturated aliphatic alcohols having 1 to 8 carbon atoms. Specific examples of these alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol. Examples thereof include monobutyl ether and ethylene glycol monoethyl ether acetate.

また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。これらの有機溶媒は、1種単独であるいは2種以上を混合して使用することもできる。該反応における溶媒に対する固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常1質量%〜90質量%の範囲であり、好ましくは20質量%〜70質量%の範囲である。   Specific examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene and the like. Specific examples of ethers include tetrahydrofuran and dioxane. Specific examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, Specific examples of esters such as diisobutyl ketone include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and propylene carbonate. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. The concentration of the solid content relative to the solvent in the reaction is not particularly limited, but is usually in the range of 1% by mass to 90% by mass, and preferably in the range of 20% by mass to 70% by mass.

加水分解および縮合反応は、通常、オルガノシランの加水分解性基1モルに対して0.3〜2モル、好ましくは0.5〜1モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして酸触媒の存在下に、25〜100℃で、撹拌することにより行われる。 加水分解性基がアルコキシ基で酸触媒が有機酸の場合には、有機酸のカルボキシル基やスルホ基がプロトンを供給するために、水の添加量を減らすことができ、オルガノシランのアルコキシ基等の加水分解性基1モルに対する水の添加量は、0〜2モル、好ましくは0〜1.5モル、より好ましくは、0〜1モル、特に好ましくは、0〜0.5モルである。アルコールを溶媒に用いた場合には、実質的に水を添加しない場合も好適である。   In the hydrolysis and condensation reaction, usually 0.3 to 2 mol, preferably 0.5 to 1 mol of water is added to 1 mol of the hydrolyzable group of the organosilane, and in the presence or absence of the solvent. Under stirring and in the presence of an acid catalyst at 25-100 ° C. When the hydrolyzable group is an alkoxy group and the acid catalyst is an organic acid, since the carboxyl group or sulfo group of the organic acid supplies protons, the amount of water added can be reduced, such as the alkoxy group of organosilane. The amount of water added to 1 mol of the hydrolyzable group is 0 to 2 mol, preferably 0 to 1.5 mol, more preferably 0 to 1 mol, and particularly preferably 0 to 0.5 mol. When alcohol is used as the solvent, it is also preferred that substantially no water is added.

酸触媒の使用量は、酸触媒が無機酸の場合には加水分解性基に対して0.01〜10モル%、好ましくは0.1〜5モル%であり、酸触媒が有機酸の場合には、水の添加量によって最適な使用量が異なるが、水を添加する場合には加水分解性基に対して0.01〜10モル%、好ましくは0.1〜5モル%であり、実質的に水を添加しない場合には、加水分解性基に対して1〜500モル%、好ましくは10〜200モル%であり、より好ましくは20〜200モル%であり、更に好ましくは50〜150モル%であり、特に好ましくは50〜120モル%である。 反応は25〜100℃で撹拌することにより行われるがオルガノシランの反応性により調節されることが好ましい。   The amount of the acid catalyst used is 0.01 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol%, based on the hydrolyzable group when the acid catalyst is an inorganic acid, and the acid catalyst is an organic acid. However, when water is added, the optimal amount of use is 0.01 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol%, based on the hydrolyzable group. When substantially no water is added, it is 1 to 500 mol%, preferably 10 to 200 mol%, more preferably 20 to 200 mol%, still more preferably 50 to 50 mol% with respect to the hydrolyzable group. 150 mol%, particularly preferably 50 to 120 mol%. The reaction is carried out by stirring at 25 to 100 ° C., but is preferably controlled by the reactivity of organosilane.

(オルガノシランの加水分解物および縮合反応物の形状及び分子量)
本発明に用いられるオルガノシランの加水分解物および縮合反応物の形状は鎖状であっても3次元の網目構造であっても良い。また、これらの化合物の質量平均分子量は、エチレングリコール換算による質量平均分子量が300〜10000であることが好ましい。質量平均分子量が上記範囲にあると、硬化性組成物の塗工および保存安定性が良好であると共に、硬化膜の耐擦傷性を充分に確保でき、好ましい。エチレングリコール換算による質量平均分子量が300〜9000であることがさらに好ましく、300〜8000であることが特に好ましい。
前記質量平均分子量は、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したGPC分析装置により、DMF、示差屈折計検出によるエチレングリコール換算で表した分子量である。
(Shape and molecular weight of organosilane hydrolyzate and condensation reaction product)
The organosilane hydrolyzate and condensation reaction product used in the present invention may have a chain or a three-dimensional network structure. Moreover, as for the mass average molecular weight of these compounds, it is preferable that the mass average molecular weight by conversion of ethylene glycol is 300-10000. When the mass average molecular weight is in the above range, the coating and storage stability of the curable composition are good, and the scratch resistance of the cured film can be sufficiently secured, which is preferable. The mass average molecular weight in terms of ethylene glycol is more preferably 300 to 9000, and particularly preferably 300 to 8000.
The mass average molecular weight is a molecular weight expressed in terms of ethylene glycol by DMF and differential refractometer detection using a GPC analyzer using columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL (both trade names manufactured by Tosoh Corporation). It is.

<本発明の光学フィルムの表面に含有される含フッ素オルガノシラン化合物>
以下に、本発明の光学フィルムの表面に含有される含フッ素オルガノシラン化合物について説明する。該化合物は、フッ素原子を含むオルガノシラン化合物である限り制限はないが、以下に示す一般式[1]〜[4]で表される化合物が好ましい。以下順次説明する。
<Fluorine-containing organosilane compound contained on the surface of the optical film of the present invention>
Hereinafter, the fluorine-containing organosilane compound contained on the surface of the optical film of the present invention will be described. The compound is not limited as long as it is an organosilane compound containing a fluorine atom, but compounds represented by the following general formulas [1] to [4] are preferable. This will be sequentially described below.

一般式[1] (Rf−L1n−Si(R114-n
上記式中、Rfは炭素数1〜20の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数6〜14の含フッ素芳香族基を表す。Rfは更に別の置換基で置換されていても良い。Rfは、炭素数3〜14の直鎖、分岐、環状のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数4〜14の直鎖のフルオロアルキル基が更に好ましい。L1は炭素数10以下の2価の連結基を表し、好ましくは炭素数1〜10のアルキレン基、更に好ましくは炭素数1〜5のアルキレン基を表す。アルキレン基は、直鎖もしくは分岐の、置換もしくは無置換の、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミド)を有していてもよいアルキレン基である。アルキレン基は置換基を有していてもよく、その場合の好ましい置換基は、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。R11はアルキル基、水酸基または加水分解可能な基を表し、炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、及び塩素原子が更に好ましい。Rf、L1、R11が複数存在するときはそれぞれは、同じでも異なっていても良い。nは1〜3の整数を表す。
Formula [1] (Rf-L 1 ) n -Si (R 11) 4-n
In the above formula, Rf represents a linear, branched or cyclic fluorinated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a fluorinated aromatic group having 6 to 14 carbon atoms. Rf may be further substituted with another substituent. Rf is preferably a linear, branched or cyclic fluoroalkyl group having 3 to 14 carbon atoms, and more preferably a linear fluoroalkyl group having 4 to 14 carbon atoms. L 1 represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms. The alkylene group is a linear or branched, substituted or unsubstituted alkylene group which may have a linking group (for example, ether, ester, amide) inside. The alkylene group may have a substituent, and preferable substituents in that case include a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group. R 11 represents an alkyl group, a hydroxyl group or a hydrolyzable group, preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, more preferably a methoxy group, an ethoxy group, or a chlorine atom. When there are a plurality of Rf, L 1 and R 11, each may be the same or different. n represents an integer of 1 to 3.

一般式[1]で表される含フッ素シラン化合物の中でも、下記一般式[2]で表される含フッ素シラン化合物が好ましい。
一般式[2] Cn2n+1−(CH2m−Si(R)3
上記式中、nは10以上の整数、mは1〜5の整数を表す。Rは炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。nは10〜14が好ましく、mは1〜3が好ましく、Rはメトキシ基、エトキシ基、及び塩素原子が好ましい。一般式[2]で表される化合物を用いることで、防汚耐久性が向上する。特に、日常の清掃で用いられることのある弱アルカリ性の洗剤を含む布で擦られた後の防汚耐久性に優れる。これは、表面がフッ素原子で覆われ、かつ含フッ素化合物の固定性が高いことによりアルカリ性下で擦られても含フッ素化合物が脱落しないためと推定される。
Among the fluorine-containing silane compounds represented by the general formula [1], a fluorine-containing silane compound represented by the following general formula [2] is preferable.
Formula [2] C n F 2n + 1 - (CH 2) m -Si (R) 3
In the above formula, n represents an integer of 10 or more, and m represents an integer of 1 to 5. R represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. n is preferably 10 to 14, m is preferably 1 to 3, and R is preferably a methoxy group, an ethoxy group, or a chlorine atom. By using the compound represented by the general formula [2], the antifouling durability is improved. In particular, it is excellent in antifouling durability after being rubbed with a cloth containing a weak alkaline detergent that may be used in daily cleaning. This is presumed to be because the fluorine-containing compound does not fall off even when rubbed under alkalinity because the surface is covered with fluorine atoms and the fixability of the fluorine-containing compound is high.

以下に、一般式[1]または[2]で表される含フッ素シランカップリング剤の具体例を示すが、これに限定されるものではない。   Specific examples of the fluorine-containing silane coupling agent represented by the general formula [1] or [2] are shown below, but are not limited thereto.

Figure 2007272197
Figure 2007272197

Figure 2007272197
Figure 2007272197

Figure 2007272197
Figure 2007272197

CHCHSi(OCA−41
17CHCHSi(CH)(OCH A−42
1021CHCHSi(OCHA−43
1021CHCHSi(OCA−44
1224CHCHSi(OCHA−45
1429CHCHSi(OCHA−46
C 3 F 7 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5) 3 A-41
C 8 F 17 CH 2 CH 2 Si (CH 3) (OCH 3) 2 A-42
C 10 F 21 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 A-43
C 10 F 21 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5) 3 A-44
C 12 F 24 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 A-45
C 14 F 29 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 A-46

これら具体例のなかで、(A−43)、(A−45)、(A−46)が好ましく、特に(A−43)が好ましい。これらの化合物は例えば特開平11−189599に記載の方法によって合成することができる。   Among these specific examples, (A-43), (A-45), and (A-46) are preferable, and (A-43) is particularly preferable. These compounds can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-11-189599.

また、本発明において防汚性に加えて表面の潤滑性を向上させる観点からは、パーフルオロポリエーテル基を含有する含フッ素シラン化合物が好ましい。該化合物について以下好ましい構造の化合物を順次説明する。
一般式[3]
In addition, in the present invention, a fluorine-containing silane compound containing a perfluoropolyether group is preferable from the viewpoint of improving surface lubricity in addition to antifouling properties. The compounds having preferred structures will be sequentially described below.
General formula [3]

Figure 2007272197
Figure 2007272197

(式中、Rf は炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Xはヨウ素原子または水素原子、Yは水素原子または低級アルキル基、Zはフッ素原子またはトリフルオロメチル基、R1は加水分解可能な基、R2 は水素または不活性な一価の有機基、a、b、c、dは0〜200の整数、eは0または1、mおよびnは0〜2の整数、及びpは1〜10の整数を表す。)
一般式[3]中のRf は、通常、炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基であり、好ましくはCF3基、C25 基、C37基である。Yにおける低級アルキル基としては通常、炭素数1〜5のものが挙げられる。R1の加水分解可能な基として
は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、R3 O基、R3 COO基、(R42C=C(R3 )CO基、(R32 C=NO基、R5C=NO基、(R42 N基、及びR3 CONR4 基が好ましい。(ここで、R3はアルキル基等の通常は炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基またはフェニル基等の通常は炭素数6〜20の芳香族炭化水素基、R4は水素原子またはアルキル基等の通常は炭素数1〜5の低級脂肪族炭化水素基、R5はアルキリデン基等の通常は炭素数3〜6の二価の脂肪族炭化水素基である。)さらに好ましくは、塩素原子、CH3O基、C25 O基である。R2 は水素原子または不活性な一価の有機基であり、好ましくは、アルキル基等の通常は炭素数1〜4の一価の炭化水素基である。a、b、c、dは0〜200の整数であり、好ましくは1〜50である。mおよびnは、0〜2の整数であり、好ましくは0である。pは1または2以上の整数であり、好ましくは1〜10の整数であり、さらに好ましくは1〜5の整数である。また、数平均分子量は5×102〜1×105が好ましく、更に好ましくは1×103〜1×104 である。
Wherein R f is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms, X is an iodine atom or a hydrogen atom, Y is a hydrogen atom or a lower alkyl group, Z is a fluorine atom or a trifluoromethyl group. , R 1 is a hydrolyzable group, R 2 is hydrogen or an inert monovalent organic group, a, b, c, d are integers of 0 to 200, e is 0 or 1, and m and n are 0 to 0. (The integer of 2 and p represent the integer of 1-10.)
R f in the general formula [3] is usually a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms, preferably a CF 3 group, a C 2 F 5 group, or a C 3 F 7 group. is there. Examples of the lower alkyl group for Y usually include those having 1 to 5 carbon atoms. Examples of the hydrolyzable group for R 1 include halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom and iodine atom, R 3 O group, R 3 COO group, (R 4 ) 2 C═C (R 3 ) CO group, ( R 3 ) 2 C═NO group, R 5 C═NO group, (R 4 ) 2 N group, and R 3 CONR 4 group are preferred. (Wherein, R 3 is usually generally aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms and an aliphatic hydrocarbon group or a phenyl group having 1 to 10 carbon atoms such as an alkyl group, R 4 is a hydrogen atom or an alkyl Group is usually a lower aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and R 5 is usually a divalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 6 carbon atoms such as an alkylidene group.) More preferably, chlorine An atom, a CH 3 O group, and a C 2 H 5 O group. R 2 is a hydrogen atom or an inert monovalent organic group, and is preferably a monovalent hydrocarbon group usually having 1 to 4 carbon atoms such as an alkyl group. a, b, c and d are integers of 0 to 200, preferably 1 to 50. m and n are integers of 0 to 2, preferably 0. p is an integer of 1 or 2 or more, preferably an integer of 1 to 10, and more preferably an integer of 1 to 5. The number average molecular weight is preferably 5 × 10 2 to 1 × 10 5, more preferably 1 × 10 3 to 1 × 10 4 .

また、上記の一般式[3]で表される含フッ素シラン化合物の好ましい構造のものとして、Rf がC3 7 基であり、aが1〜50の整数であり、b、c及びdが0であり、eが1であり、Zがフッ素原子であり、nが0であり、pが2〜10である化合物、即ち下記の一般式[4]で表される化合物がある。
一般式[4]
Further, as a preferable structure of the fluorine-containing silane compound represented by the general formula [3], R f is C 3 F 7 group, a is an integer of 1 to 50, b, c and d Is 0, e is 1, Z is a fluorine atom, n is 0, and p is 2 to 10, that is, a compound represented by the following general formula [4].
General formula [4]

Figure 2007272197
Figure 2007272197

(式中、Y、m及びR1は前記と同じ意味を表し、qは1〜50の整数を表し、pは2〜10の整数を表す。)
本発明において、防汚耐久性、特にアルカリ洗剤で擦られた後の防汚耐久性向上のためには、pは2以上であることが好ましく、3以上であることが最も好ましい。含フッ素エーテル化合物がpが2以上の複数個の結合基でマトリックス本体と結合することで耐久性が向上すると推定される。
(In the formula, Y, m and R 1 represent the same meaning as described above, q represents an integer of 1 to 50, and p represents an integer of 2 to 10).
In the present invention, in order to improve antifouling durability, particularly antifouling durability after rubbing with an alkaline detergent, p is preferably 2 or more, and most preferably 3 or more. It is presumed that the durability is improved when the fluorine-containing ether compound is bonded to the matrix body by a plurality of bonding groups having p of 2 or more.

これらの含フッ素シラン化合物は、市販のパーフルオロポリエーテルをシラン処理することによって得ることができる。例えば、特開平1−294709号公報に開示のあるごとくである。   These fluorine-containing silane compounds can be obtained by treating a commercially available perfluoropolyether with silane. For example, as disclosed in JP-A-1-294709.

また、下記一般式で表されるパーフルオロポリエーテル基を有する化合物も防汚性に優れ好ましい。
一般式[5]
Rf5[−(L5−X−R51 −Si(OR523 ]
(式中、Rf5はパーフルオロポリエーテル基を、R51 はアルキレン基を、R52はアルキル基を、L5は−CO−を、Xは−O−、−NR53−、−S−、−SO−、−SONR53ー、−NR53CO−から選ばれる基を、nは0又は1、mは2以下の自然数をそれぞれ表す。R53は水素原子又は炭素数3以下のアルキル基を表す。)
一般式[5]中のパーフルオロポリエーテル基Rf5のうち、一価のものとしては、例えば下記一般式[51]、[52]あるいは[53]等が例示されるが、これら構造式に限定されることはない。また二価のものであってもよい。この場合にはRf5基の両末端にアルコキシシラン化合物が結合する。パーフルオロポリエーテル基の分子量はこれも特に限定はないが、安定性や取り扱い易さの観点からは数平均分子量で500〜10,000、さらに好ましくは500〜2,000のものが使用される。
一般式[51] F(CF2 CF2 CF2 O)j
一般式[52] CF3 (OCF(CF3 )CF2 m (OCF2 l
一般式[53] F(CF(CF3 )CF2 O)k
ここで上記一般式[51]、[52]あるいは[53]中のj、k、lおよびmは、1以上の自然数を表す。
好ましい化合物の具体例は、例えば特開平10−148701号公報に記載されている。
A compound having a perfluoropolyether group represented by the following general formula is also preferable because of its excellent antifouling property.
General formula [5]
Rf 5 [- (L 5) n -X-R 51 -Si (OR 52 ) 3 ] m
(Wherein Rf 5 represents a perfluoropolyether group, R 51 The alkylene group, the R 52 is an alkyl group, L 5 is a -CO-, X is -O -, - NR 53 -, - S -, - SO 2 -, - SO 2 NR 53 over, -NR 53 In the group selected from CO-, n represents 0 or 1, and m represents a natural number of 2 or less. R 53 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 3 or less carbon atoms. )
Of the perfluoropolyether groups Rf 5 in the general formula [5], examples of monovalent ones include the following general formulas [51], [52], and [53]. There is no limit. Moreover, a bivalent thing may be sufficient. In this case, an alkoxysilane compound is bonded to both ends of the Rf 5 group. The molecular weight of the perfluoropolyether group is not particularly limited, but from the viewpoint of stability and ease of handling, a number average molecular weight of 500 to 10,000, more preferably 500 to 2,000 is used. .
Formula [51] F (CF 2 CF 2 CF 2 O) j
Formula [52] CF 3 (OCF (CF 3 ) CF 2 ) m (OCF 2 ) l
Formula [53] F (CF (CF 3 ) CF 2 O) k
Here, j, k, l and m in the general formula [51], [52] or [53] represent a natural number of 1 or more.
Specific examples of preferred compounds are described in, for example, JP-A-10-148701.

また、硬化の際の反応性が高いオルガノシラザン化合物として以下の一般式の化合物が挙げられる。
一般式[6]
[C2n+12mSi(CH]−NH
式中、nは4以上の整数であり、mは2又は3である。このようなジシラザン化合物として例えば以下のものが挙げられる。
〔C4 9 2 4 (CH3 2 Si〕2 NH
〔C4 9 3 6 (CH3 2 Si〕2 NH
〔C8 172 4 (CH3 2 Si〕2 NH
〔C8 173 6 (CH3 2 Si〕2 NH
〔C8 173 6 (CH3 )(C2 5 )Si〕2 NH
〔C10213 6 (CH3 2 Si〕2 NH
これらの化合物は単独又は混合して使用される。これらは、特開平10−26703に開示されている。
Moreover, the compound of the following general formula is mentioned as an organosilazane compound with high reactivity in the case of hardening.
General formula [6]
[C n F 2n + 1 C m H 2m Si (CH 3) 2] 2 -NH
In the formula, n is an integer of 4 or more, and m is 2 or 3. Examples of such a disilazane compound include the following.
[C 4 F 9 C 2 H 4 (CH 3) 2 Si ] 2 NH
[C 4 F 9 C 3 H 6 (CH 3) 2 Si ] 2 NH
[C 8 F 17 C 2 H 4 (CH 3 ) 2 Si] 2 NH
[C 8 F 17 C 3 H 6 (CH 3 ) 2 Si] 2 NH
[C 8 F 17 C 3 H 6 (CH 3) (C 2 H 5) Si ] 2 NH
[C 10 F 21 C 3 H 6 (CH 3) 2 Si ] 2 NH
These compounds are used alone or in combination. These are disclosed in JP-A-10-26703.

本発明において、用いるフッ素化合物としては、上記一般式[3]〜[5]で表されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物が、単純なパーフルオロアルキル基を有する化合物よりも耐磨耗性や撥水性の点で好ましい。この理由は必ずしも明らかではないが、フッ素化合物基同士の相互作用が少なからずあること、あるいは極性基であるアルコキシシラン化合物基と下地の層との相互作用が変化すること等が考えられる。   In the present invention, as the fluorine compound to be used, the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the above general formulas [3] to [5] is more resistant to abrasion than a compound having a simple perfluoroalkyl group. From the viewpoint of properties and water repellency. The reason for this is not necessarily clear, but it is conceivable that there is a considerable interaction between fluorine compound groups, or that the interaction between the alkoxysilane compound group, which is a polar group, and the underlying layer changes.

また、高分子の含フッ素シラン化合物として、特開2000−191977号公報、特開2000−204319号公報、特開2000−328001号公報等に記載の化合物を用いることも塗布故障が少なく好ましい。   Further, it is preferable to use the compounds described in JP 2000-191977 A, JP 2000-204319 A, JP 2000-328001 A, etc. as the high-molecular fluorine-containing silane compound since there are few coating failures.

(含フッ素シラン化合物を光学フィルム上に配置せしめる方法)
本発明の含フッ素シラン化合物は、上述の本発明の導電性粒子とオルガノシラン化合物、加水分解物、又は縮合物とともに同一塗布組成物の中に含有させ塗膜を形成しても良いし、本発明の導電性粒子を含有する層の上に別層の防汚層として設けても良い。また、両方法を併用することもできる。同一塗布組成物に含有させる方法は、新たな防汚層を設ける必要がなく生産性が高い。また、新たな防汚層として設ける場合には、難溶性の含フッ素シラン化合物を用いても、専用の溶媒を用いたり、溶媒無しの真空蒸着などの方法で使用することができる。防汚耐久性を向上させる点では、防汚層に添加することが好ましい。
(Method of placing a fluorine-containing silane compound on an optical film)
The fluorine-containing silane compound of the present invention may be contained in the same coating composition together with the above-described conductive particles of the present invention and the organosilane compound, hydrolyzate, or condensate to form a coating film. You may provide as another antifouling layer on the layer containing the electroconductive particle of invention. Moreover, both methods can also be used together. The method of containing in the same coating composition has high productivity because it is not necessary to provide a new antifouling layer. Moreover, when providing as a new antifouling layer, even if it uses a slightly soluble fluorine-containing silane compound, it can be used by methods, such as a vacuum evaporation without a solvent, using a solvent for exclusive use. In terms of improving antifouling durability, it is preferable to add to the antifouling layer.

含フッ素シラン化合物は、本発明のオルガノシラン化合物とあらかじめ部分的に縮合させて使用することも塗布面状の安定性に優れ好ましい。また、含フッ素オルガノシラン化合物含有層に下記一般式[7]で表されるオルガノシラン化合物を併用することが防汚性耐久性の点で特に好ましい。
一般式[7]
71 −Si(OR72 3
(式中、R71 は炭素数10以上の長鎖炭化水素基を、R72はアルキル基を表す。長鎖炭化水素基R71 は、その構成炭素数が10以上のものが好まく、直鎖、分岐の別は問わない。また不飽和結合や、芳香環等の環状構造を含んでいても良い。しかしながら、好ましくは、炭素数12〜20の範囲で直鎖状のものが選ばれる。かかる分子設計により、一般式(7)のアルコキシシラノ基部分は反射防止層のSiO2 等との相互作用が得られるとともに、長鎖炭化水素基R71 部分の疏水性が大きくなり、疏水基同士の分子間相互作用すなわちファンデルワールス力が高まる。これを一般式[3]〜[5]で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と併用することにより、これらの効果が相乗され、耐溶剤性、撥水性、耐磨耗性が大きく改良される。
The fluorine-containing silane compound is preferably excellent in the stability of the coated surface because it is partially condensed in advance with the organosilane compound of the present invention. In addition, it is particularly preferable from the viewpoint of antifouling durability to use an organosilane compound represented by the following general formula [7] in the fluorine-containing organosilane compound-containing layer.
General formula [7]
R 71 -Si (OR 72 3
(Where R 71 Represents a long-chain hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms, and R 72 represents an alkyl group. Long chain hydrocarbon group R 71 Are preferably those having 10 or more carbon atoms, whether linear or branched. Further, it may contain an unsaturated bond or a cyclic structure such as an aromatic ring. However, a straight chain is preferably selected in the range of 12 to 20 carbon atoms. With this molecular design, the alkoxysilano group portion of the general formula (7) can interact with the SiO 2 of the antireflection layer and the long chain hydrocarbon group R71. The water repellency of the part is increased, and the intermolecular interaction between the water-repellent groups, that is, the van der Waals force is increased. By using this together with the alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the general formulas [3] to [5], these effects are synergized, and the solvent resistance, water repellency and wear resistance are large. Improved.

含フッ素シラン化合物を防汚層に用いる場合には、含フッ素オルガノシラン化合物100質量部に対する、フッ素非含有オルガノシランの割合は1質量部以上150質量部以下が好ましく、更に好ましくは1質量部以上50質量部である。この範囲にすることで、防汚性と耐擦傷性が優れる。
本発明の光学フィルムは、粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層が、含フッ素シラン化合物を含有し、かつ該層が最表面層であることも好ましい。
When the fluorine-containing silane compound is used for the antifouling layer, the ratio of the fluorine-free organosilane to 100 parts by mass of the fluorine-containing organosilane compound is preferably 1 part by mass or more and 150 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass or more. 50 parts by mass. By setting it within this range, antifouling properties and scratch resistance are excellent.
In the optical film of the present invention, it is also preferred that the layer containing conductive particles whose inside is porous or hollow contains a fluorine-containing silane compound and that the layer is the outermost layer.

<本発明の導電性粒子を含有する層の塗布組成物>
本発明の導電性粒子を含有する層は、該粒子と本発明のオルガノシラン化合物と場合により本発明の含フッ素シラン化合物を含有する塗布組成物を用いて成膜することが好ましい。具体的な成膜方法としては、スピン塗布、浸漬塗布、ロールコート塗布、グラビアコート塗布、カーテンフロー塗布、ダイコート塗布等が用いられる。
<Coating composition of layer containing conductive particles of the present invention>
The layer containing the conductive particles of the present invention is preferably formed using a coating composition containing the particles, the organosilane compound of the present invention, and optionally the fluorine-containing silane compound of the present invention. Specific film forming methods include spin coating, dip coating, roll coating coating, gravure coating coating, curtain flow coating, and die coating coating.

(導電性粒子の表面改質)
本発明の導電性粒子は、塗布液での安定性、塗布膜の導電性向上、塗膜強度向上の観点から、必要により表面処理を行うことができる。本発明においては、大別して、粒子表面と共有結合を形成する化合物で処理する方法と共有結合を形成しない化合物で処理する方法が挙げられる。
(Surface modification of conductive particles)
The conductive particles of the present invention can be subjected to surface treatment as necessary from the viewpoints of stability in a coating solution, improvement in conductivity of a coating film, and improvement in coating film strength. In the present invention, there are roughly classified a method of treating with a compound that forms a covalent bond with the particle surface and a method of treating with a compound that does not form a covalent bond.

共有結合を形成しない化合物としては、特に限定するわけではないが、好ましくはHLB値が4以下または10以上のノニオン系界面活性剤、直鎖アルキル基を有するカチオン系界面活性剤、等が挙げられる。
また、塩基性の低分子アミンも塗膜の導電性が高く好ましい分散剤である。
The compound that does not form a covalent bond is not particularly limited, but preferably includes a nonionic surfactant having an HLB value of 4 or less or 10 or more, a cationic surfactant having a linear alkyl group, and the like. .
Basic low molecular amines are also preferred dispersants because of their high conductivity of the coating film.

粒子表面と共有結合を形成する化合物として、好ましくは、シランカップリング剤およびチタネートカップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。特にシランカップリング剤(オルガノシラン化合物)、その部分加水分解物、およびその縮合物の少なくとも一種で表面処理されていることが好ましい。
具体的化合物例については、前述の本発明のフッ素非含有又はフッ素含有オルガノシラン化合物を挙げることができる。本発明においては、特に(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、フッ素置換アルキル基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。シランカップリング剤の使用量に特に制限はないが、導電性粒子当たり1質量%〜300質量%が好ましく、更に好ましくは1質量%〜100質量%、最も好ましくは3質量%〜50質量%である。
オルガノシラン化合物の使用量が上記範囲であると、分散液の安定化効果が充分得られ、塗膜の強度上昇や、高い導電性が得られる。
The compound that forms a covalent bond with the particle surface preferably includes a silane coupling agent and a titanate coupling agent. Silane coupling agents are most preferred. In particular, the surface treatment is preferably performed with at least one of a silane coupling agent (organosilane compound), a partial hydrolyzate thereof, and a condensate thereof.
Specific examples of the compound include the fluorine-free or fluorine-containing organosilane compound of the present invention described above. In the present invention, an organosilane compound having a (meth) acryloyl group, an epoxy group, an oxetanyl group, or a fluorine-substituted alkyl group is particularly preferable. Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a silane coupling agent, 1 mass%-300 mass% per electroconductive particle are preferable, More preferably, they are 1 mass%-100 mass%, Most preferably, they are 3 mass%-50 mass%. is there.
When the amount of the organosilane compound used is in the above range, a sufficient stabilizing effect of the dispersion can be obtained, and the strength of the coating film can be increased and high conductivity can be obtained.

(塗布組成物の溶媒)
以上説明した本発明に係る導電性粒子は、バインダーと必要により希釈溶媒と組み合わせてコーティング組成物となし、この組成物から光学フィルムの各層を形成することができる。コーティング組成物の溶媒に制限は無いが、少なくとも2種類の揮発性溶媒を含有することが好ましい。例えば、アルコールとその誘導体類、エーテル類、ケトン類、炭化水素類、エステル類、の中から選ばれる少なくとも2種を組み合わせて用いることが好ましい。バインダー成分の溶解度、無機微粒子の安定性、コーティング液の粘度調節などの観点から溶媒を選択することができる。本発明に用いられる溶媒の好ましい沸点は、50℃以上250℃以下が好ましく、更に好ましくは65℃以上200℃以下である。また、好ましい誘電率は20℃において、1以上50以下が好ましく、5以上30以下が更に好ましい。誘電率が10以上の溶媒を導電性微粒子に対して10質量%以上含むと分散安定性上好ましい。
(Solvent for coating composition)
The conductive particles according to the present invention described above can be combined with a binder and, if necessary, a diluent solvent to form a coating composition, and each layer of the optical film can be formed from this composition. Although there is no restriction | limiting in the solvent of a coating composition, It is preferable to contain at least 2 type of volatile solvent. For example, it is preferable to use a combination of at least two selected from alcohol and derivatives thereof, ethers, ketones, hydrocarbons, and esters. A solvent can be selected from the viewpoint of the solubility of the binder component, the stability of the inorganic fine particles, and the adjustment of the viscosity of the coating liquid. The boiling point of the solvent used in the present invention is preferably 50 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, more preferably 65 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. Further, the preferable dielectric constant is preferably 1 or more and 50 or less, more preferably 5 or more and 30 or less at 20 ° C. It is preferable in view of dispersion stability that a solvent having a dielectric constant of 10 or more is contained in an amount of 10% by mass or more based on the conductive fine particles.

以下に本発明に用いることのできる溶媒を挙げるが、これらに限定されるものではない。
・アルコールとその誘導体類(メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、イソブタノール、第二ブタノール、第三ブタノール、n−アミルアルコール、イソアミルアルコール、第二アミルアルコール、3−ペンタノール、第三アミルアルコール、n−ヘキサノール、メチルアミルアルコール、2−エチルブタノール、n−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、n−オクタノール、2−オクタノール、2−エチルヘキサノール、3,5,5−トリメチルヘキサノール、ノナノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールイソアミルエーテル、メトキシメトキシエタノール、メトキシプロパノール、ブトキシエタノール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル)
Although the solvent which can be used for this invention below is mentioned, it is not limited to these.
Alcohol and its derivatives (methanol, ethanol, n-propanol, isopropyl alcohol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, tert-butanol, n-amyl alcohol, isoamyl alcohol, sec amyl alcohol, 3-pentanol , Tertiary amyl alcohol, n-hexanol, methyl amyl alcohol, 2-ethylbutanol, n-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, n-octanol, 2-octanol, 2-ethylhexanol, 3,5,5- Trimethylhexanol, nonanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol Diethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol isopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol isoamyl ether, methoxymethoxyethanol, methoxypropanol, butoxyethanol, ethylene glycol Monoacetate, ethylene glycol diacetate, diethylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol Mono butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether)

・エーテル類(イソプロピルエーテル、n−ブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、メチルフェニルエーテル、エチルフェニルエーテル)
・ケトン類(アセトン、メチルアセトン、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチル−n−ブチル、メチルイソブチルケトン、メチル−n−アミルケトン、メチル−n−ヘキシルケトン、ジエチルケトン、エチル−n−ブチルケトン、ジ−n−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン)
・ Ethers (isopropyl ether, n-butyl ether, diisoamyl ether, methylphenyl ether, ethylphenyl ether)
Ketones (acetone, methylacetone, methylethylketone, methyl-n-propylketone, methyl-n-butyl, methylisobutylketone, methyl-n-amylketone, methyl-n-hexylketone, diethylketone, ethyl-n-butylketone, Di-n-propyl ketone, diisobutyl ketone, acetonyl acetone, diacetone alcohol, cyclohexanone, methylcyclohexanone)

・炭化水素類(n−へキサン、イソへキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、イソオクタン、n−デカン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、アミルベンゼン)
・エステル類(ギ酸プロピル、ギ酸−n−ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸−n−アミル、酢酸イソアミル、酢酸メチルイソアミル、酢酸メトキシブチル、酢酸第二へキシル、酢酸−2−エチルブチル、酢酸−2−エチルヘキシル、酢酸シクロへキシル、酢酸メチルシクロへキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸−n−ブチル、プロピオン酸イソアミル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸−n−ブチル、酪酸イソアミル、オキシイソ酪酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、イソ吉草酸イソアミル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸−n−ブチル、乳酸イソブチル、乳酸−n−アミル、乳酸イソアミル、安息香酸メチル、シュウ酸ジエチル)
Hydrocarbons (n-hexane, isohexane, n-heptane, n-octane, isooctane, n-decane, toluene, xylene, ethylbenzene, diethylbenzene, isopropylbenzene, amylbenzene)
Esters (propyl formate, n-butyl formate, isobutyl formate, amyl formate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, sec-butyl acetate, n-amyl acetate) , Isoamyl acetate, methyl isoamyl acetate, methoxybutyl acetate, secondary hexyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, cyclohexyl acetate, methyl cyclohexyl acetate, benzyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate , N-butyl propionate, isoamyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, n-butyl butyrate, isoamyl butyrate, ethyl oxyisobutyrate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, isoamyl isovalerate, methyl lactate, ethyl lactate, Lactic acid-n-butyl, isobutyl lactate, milk -n- amyl lactate, isoamyl, methyl benzoate, diethyl oxalate)

特に好ましい組み合わせはアルコールとその誘導体類、ケトン類、エステル類の中から少なくとも2種類、更に好ましくは3種類用いることである。好ましい例としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、2−メトキシプロパノール、2−ブトキシエタノール、イソプロピルアルコール、メチルアルコール、エチルアルコールの中から2種又は3種を併用して用いることができる。   A particularly preferred combination is the use of at least two, more preferably three, of alcohol and its derivatives, ketones and esters. As a preferable example, for example, two or three of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, butyl acetate, 2-methoxypropanol, 2-butoxyethanol, isopropyl alcohol, methyl alcohol, and ethyl alcohol are used in combination. Can do.

<防汚層の溶媒>
本発明の含フッ素シラン化合物は、本発明の導電性粒子を含有する層の上に設けることのできる防汚層に含有させることもできる。防汚層を塗布で形成する場合には、溶剤で希釈して行うことが該フッ素シラン化合物からなる層の厚みを制御する点で、また作業性の点で好ましい。該溶剤としては、例えばパーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−1、3−ジメチルシクロヘキサン等の通常は炭素数5〜12のパーフルオロ脂肪族炭化水素、ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン等の多フッ素化芳香族炭化水素、多フッ素化脂肪族炭化水素等が挙げられる。塗布液中の該フッ素シラン化合物濃度は0.05〜0.5質量%が好ましい。
<Stain of antifouling layer>
The fluorine-containing silane compound of the present invention can also be contained in an antifouling layer that can be provided on the layer containing the conductive particles of the present invention. When the antifouling layer is formed by coating, it is preferable to dilute with a solvent from the viewpoint of controlling the thickness of the layer comprising the fluorine silane compound and from the viewpoint of workability. Examples of the solvent include perfluoroaliphatic hydrocarbons usually having 5 to 12 carbon atoms such as perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane, perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane, and bis (trifluoromethyl) benzene. Examples thereof include polyfluorinated aromatic hydrocarbons and polyfluorinated aliphatic hydrocarbons. The concentration of the fluorine silane compound in the coating solution is preferably 0.05 to 0.5% by mass.

<塗膜の硬化方法>
本発明の導電性粒子を含有する層は、支持体上の塗布組成物を塗布した後、溶媒を蒸発させ硬化させることにより形成される。硬化の条件は使用するオルガノシラン化合物や触媒によって異なるが、通常20℃〜200℃の範囲が好ましく。更に好ましくは60℃〜140℃、最も好ましくは80℃〜110℃である。上記範囲にすることで、十分な硬化速度が得られ支持体に対してのダメージも少なくできる。硬化時間は特に制限はないが、例えば、60℃の場合通常1時間〜50時間、140℃の場合1分〜30分が好ましい。硬化触媒については、前述のオルガノシランの加水分解の触媒で述べた酸を用いることが好ましい。
防汚層の硬化条件も上記と同様である。防汚層は、隣接する下層を硬化させた後に塗布・硬化しても良いが、硬化無し又は部分硬化させた後に塗布・硬化することも含フッ素シラン化合物の固定性が向上して防汚性が改良され好ましい。
また、導電性粒子を含む層の下面に多官能アクリレートに代表されるラジカル重合性化合物が含有されている場合には、上記熱硬化の前、途中、又は後に電離放射線を照射することもできる。両層の界面結合が強化され、塗膜の耐擦傷性が向上する。下層に使用できる材料については後に1−(1)バインダーの頁で述べる。
<Coating method of coating film>
The layer containing the conductive particles of the present invention is formed by applying a coating composition on a support and then evaporating and curing the solvent. The curing conditions vary depending on the organosilane compound and catalyst used, but a range of 20 ° C to 200 ° C is usually preferable. More preferably, it is 60 degreeC-140 degreeC, Most preferably, it is 80 degreeC-110 degreeC. By setting it in the above range, a sufficient curing rate can be obtained and damage to the support can be reduced. The curing time is not particularly limited, but for example, it is usually preferably 1 hour to 50 hours at 60 ° C, and preferably 1 minute to 30 minutes at 140 ° C. As the curing catalyst, it is preferable to use the acid described in the above-mentioned catalyst for hydrolysis of organosilane.
The curing conditions for the antifouling layer are the same as above. The antifouling layer may be applied and cured after the adjacent lower layer has been cured, but it can also be applied and cured after it has been cured or partially cured, thereby improving the fixing property of the fluorine-containing silane compound and thus preventing the antifouling property. Improved and preferred.
Moreover, when the radically polymerizable compound represented by polyfunctional acrylate is contained in the lower surface of the layer containing electroconductive particle, it can also irradiate with ionizing radiation before the said thermosetting. The interface bond between both layers is strengthened, and the scratch resistance of the coating film is improved. The materials that can be used for the lower layer will be described later on page 1- (1) Binder.

<塗膜の組成・物性>
本発明の導電性粒子を含有する層において、導電性粒子の占める体積分率としては、15%以上90%以下が好ましく、更に好ましくは30%以上80%以下、最も好ましくは40%以上70%以下である。上記範囲にすることで導電性と耐擦傷性を好ましい範囲にすることができる。
また、該導電性粒子を含有する層において、導電性粒子以外の成分の内で、本発明のオルガノシラン化合物の加水分解物及び/又は縮合反応物が硬化した成分の体積分率は、5%以上100%以下が好ましく、更に好ましくは10%以上100%以下である。
本発明の含フッ素シラン化合物を、本発明の導電性粒子及び本発明のオルガノシラン化合物と同一層に使用する場合には、含フッ素シラン化合物は、該層の全固形分に対して、0.01質量%以上50質量%以下で使用するのが好ましく、更に好ましくは0.1質量%以上20質量%以下、最も好ましくは、0.2質量%以上10質量%以下である。
また、本発明の導電性粒子を含有する層には、更に別の無機微粒子を併用することもできる。例えば、後述の、導電性成分を含有しない多孔質又は中空の粒子を用いることで低屈折率化が計られ、また内部が稠密の汎用のシリカ粒子を併用することで塗膜の耐擦傷性を向上させることができる。具体的な材料については、後に<低屈折率粒子>の頁で述べる。
<Composition / physical properties of coating film>
In the layer containing the conductive particles of the present invention, the volume fraction occupied by the conductive particles is preferably 15% or more and 90% or less, more preferably 30% or more and 80% or less, and most preferably 40% or more and 70%. It is as follows. By setting the content in the above range, the conductivity and scratch resistance can be set in a preferable range.
In the layer containing the conductive particles, the volume fraction of the component obtained by curing the hydrolyzate and / or condensation reaction product of the organosilane compound of the present invention among components other than the conductive particles is 5%. It is preferably 100% or less and more preferably 10% or more and 100% or less.
When the fluorine-containing silane compound of the present invention is used in the same layer as the conductive particles of the present invention and the organosilane compound of the present invention, the fluorine-containing silane compound is in an amount of 0. It is preferably used in an amount of from 01% by mass to 50% by mass, more preferably from 0.1% by mass to 20% by mass, and most preferably from 0.2% by mass to 10% by mass.
Moreover, another inorganic fine particle can also be used together for the layer containing the electroconductive particle of this invention. For example, the refractive index can be lowered by using porous or hollow particles which do not contain a conductive component, which will be described later, and the scratch resistance of the coating film can be increased by using general-purpose silica particles having a dense inside. Can be improved. Specific materials will be described later in the <low refractive index particles> page.

塗布組成物の組成は、膜の硬化後に上記組成となるように各成分を混合して用いることができる。塗布組成物の固形分濃度としては、1質量%以上10質量%が好ましく、更に好ましくは、1質量%以上5質量%以下である。   The composition of the coating composition can be used by mixing each component so that the above composition is obtained after the film is cured. The solid content concentration of the coating composition is preferably 1% by mass or more and 10% by mass, and more preferably 1% by mass or more and 5% by mass or less.

本発明の導電性粒子を含有する層の厚みは、特に制限はなく、ハードコート層に使用する場合には0.1μm以上50μm以下が好ましく、更に好ましくは1.0μm以上20μ以下である。低屈折率層に用いる場合には、30nm以上500nm以下が好ましく、更に好ましくは70nm以上500nmである。導電性を上げるという観点では低屈折率層の厚さは、130nm以上500nm以下が好ましく、最も好ましくは230nm以上330nm以下である。   There is no restriction | limiting in particular in the thickness of the layer containing the electroconductive particle of this invention, When using for a hard-coat layer, 0.1 to 50 micrometer is preferable, More preferably, it is 1.0 to 20 micrometer. When used for the low refractive index layer, the thickness is preferably from 30 nm to 500 nm, more preferably from 70 nm to 500 nm. From the viewpoint of increasing conductivity, the thickness of the low refractive index layer is preferably 130 nm or more and 500 nm or less, and most preferably 230 nm or more and 330 nm or less.

本発明の導電粒子を使用する層の屈折率は、特に制限はなく、使用する層に要求される屈折率にすることができる。低屈折率層に使用する場合には、1.30以上1.48以下が好ましく、更に好ましくは1.35以上1.46以下、最も好ましくは1.35以上1.45以下である。屈折率をこの範囲にすることで、反射率の低下と導電性を両立することができる。   The refractive index of the layer using the conductive particles of the present invention is not particularly limited, and can be a refractive index required for the layer to be used. When used for the low refractive index layer, it is preferably 1.30 or more and 1.48 or less, more preferably 1.35 or more and 1.46 or less, and most preferably 1.35 or more and 1.45 or less. By making the refractive index within this range, it is possible to achieve both reduction in reflectance and conductivity.

本発明の含フッ素シラン化合物を含有する防汚層を設けた場合には、該層の膜厚は0.5nm以上150nm以下が好ましく、更に好ましくは1.0nm以上10nm以下である。防汚層の直下の層がフッ素原子を含む化合物を含有する場合には、防汚層は必ずしも均一な層を形成せずとも本発明の目的である防汚性を付与できる場合もある。   When the antifouling layer containing the fluorine-containing silane compound of the present invention is provided, the thickness of the layer is preferably from 0.5 nm to 150 nm, and more preferably from 1.0 nm to 10 nm. When the layer immediately below the antifouling layer contains a compound containing a fluorine atom, the antifouling layer may be able to impart the antifouling property that is the object of the present invention without necessarily forming a uniform layer.

(光学フィルムの表面の元素組成)
本発明の光学フィルムの表面の元素組成は、以下に述べるX線光電子分光法により測定した、表面のシリコン原子(Si2p)とフッ素原子(F1s)のピーク面積比(Si2p/F1s)が0.0以上0.4以下であることが好ましい。更に好ましくは、0.0以上0.3以下、最も好ましくは0.05以上0.15以下である。この比が小さい程、膜表面のシリコーン原子に対するフッ素原子の割合が大きく、表面自由エネルギーの低下が期待される。
本発明においては、上記ピーク面積比は、島津製作所(株)製“ESCA−3400”で(真空度1×10-5Pa、X線源;ターゲットMg、電圧12kV、電流20mA)で測定した最表面のSi2p及びF1sの光電子スペクトルの面積を用いて算出したものと定義する。
(Elemental composition of the surface of the optical film)
The elemental composition of the surface of the optical film of the present invention is such that the peak area ratio (Si2p / F1s) of silicon atoms (Si2p) and fluorine atoms (F1s) on the surface measured by X-ray photoelectron spectroscopy described below is 0.0. It is preferable that it is 0.4 or more. More preferably, it is 0.0 or more and 0.3 or less, and most preferably 0.05 or more and 0.15 or less. The smaller this ratio, the greater the ratio of fluorine atoms to silicone atoms on the film surface, and a reduction in surface free energy is expected.
In the present invention, the peak area ratio was measured with “ESCA-3400” manufactured by Shimadzu Corporation (vacuum degree 1 × 10 −5 Pa, X-ray source; target Mg, voltage 12 kV, current 20 mA). It is defined as that calculated using the area of the photoelectron spectrum of the surface Si2p and F1s.

(光学フィルムの表面抵抗)
光学フィルムの表面抵抗は、10〜1012Ω/sqであることが好ましく、10〜1011Ω/sqであることがさらに好ましく、10〜1010Ω/sqであることが最も好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、25℃60%RH下で四探針法により測定することができる。
(Surface resistance of optical film)
The surface resistance of the optical film is preferably 10 5 to 10 12 Ω / sq, more preferably 10 6 to 10 11 Ω / sq, and most preferably 10 7 to 10 10 Ω / sq. . The surface resistance of the antistatic layer can be measured by a four-probe method at 25 ° C. and 60% RH.

(光学フィルムの接触角)
本発明のフィルムの接触角は純水に対して95度以上であることが好ましく。100度以上であることがさらに好ましく、105度以上であることが最も好ましい。例えば以下のように測定することができる。
接触角計[‘CA−V’型接触角計、協和界面科学(株)製]を用い、乾燥状態(25℃/60%RH)で、液体として純水を使用して2μlの液滴をフィルムの表面に作った。フィルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を接触角とする。
(Contact angle of optical film)
The contact angle of the film of the present invention is preferably 95 degrees or more with respect to pure water. The angle is more preferably 100 degrees or more, and most preferably 105 degrees or more. For example, it can be measured as follows.
Using a contact angle meter ['CA-V' type contact angle meter, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.], in a dry state (25 ° C./60% RH), using pure water as the liquid, 2 μl droplets were Made on the surface of the film. The angle formed between the tangent to the liquid surface and the film surface at the point where the film and the liquid are in contact with each other is defined as the contact angle.

(光学フィルムの表面自由エネルギー)
表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」,リアライズ社,1989.12.10発行に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である2種の溶液を滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。
(Surface free energy of optical film)
The surface energy can be obtained by a contact angle method, a wet heat method, and an adsorption method as described in “Basics and Applications of Wetting”, Realize, Inc., 1989.12.10. In the case of the film of the present invention, it is preferable to use a contact angle method.
Specifically, two types of solutions with known surface energies are dropped, and at the intersection of the droplet surface and the film surface, the tangent drawn to the droplet and the angle formed by the film surface contain the droplet. Is defined as the contact angle, and the surface energy of the film can be calculated by calculation.

本発明のフィルムの表面自由エネルギー(γs:単位、mN/m)とはD.K.Owens:J.Appl.Polym.Sci.,13,1741(1969)を参考に、光学フィルム上で実験的に求めた純水H2Oとヨウ化メチレンCH2I2のそれぞれの接触角から求めたγsとγsの和で表される値γs(=γs+γs)で定義する表面張力を表す。このγsが小さく、低表面自由エネルギーであるほど表面のはじき性が高く、一般に防汚性に優れる。
接触角の測定はフィルムを25℃60%RHの条件下で、協和界面科学(株)製、自動接触角計CA−V型を用いて2μlの液滴をフィルム上に滴下してから30秒後に接触角を求めた。
本発明の光学フィルムの表面自由エネルギーは25mN/m以下であることが好ましく、更に好ましくは20mN/mである。
The surface free energy (γs v : unit, mN / m) of the film of the present invention is D.I. K. Owens: J.M. Appl. Polym. Sci. , Referring to 13,1741 (1969), the value represented by the sum of gamma] s d and gamma] s h determined from the respective contact angles of pure water H2O and methylene iodide CH2I2 determined experimentally on the optical film gamma] s v It represents the surface tension defined by (= γs d + γs h ). The gamma] s v is small, the more high repellency of the surface with a low surface free energy, generally excellent antifouling property.
The contact angle was measured at 25 ° C. and 60% RH for 30 seconds after a 2 μl droplet was dropped on the film using an automatic contact angle meter CA-V type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. Later, the contact angle was determined.
The surface free energy of the optical film of the present invention is preferably 25 mN / m or less, more preferably 20 mN / m.

(光学フィルムの動摩擦係数)
表面滑り性の指標として動摩擦係数を用いることができる。本発明の光学フィルムは、0.02以上0.30以下が好ましく、更に好ましくは0.02以上0.25以下、最も好ましくは0.05以上0.20以下である。上記範囲にすることで防汚性と耐擦傷性を良好に保つことができる。
動摩擦係数は試料を25℃60%RHで24時間調湿した後、HEIDON−14動摩擦測定機により5mmφステンレス鋼球、荷重100g、速度60cm/minにて測定した値を用いた。
(Dynamic friction coefficient of optical film)
A dynamic friction coefficient can be used as an index of surface slipperiness. The optical film of the present invention is preferably 0.02 or more and 0.30 or less, more preferably 0.02 or more and 0.25 or less, and most preferably 0.05 or more and 0.20 or less. By setting it within the above range, the antifouling property and scratch resistance can be kept good.
As the dynamic friction coefficient, a sample was conditioned at 25 ° C. and 60% RH for 24 hours, and then a value measured with a HEIDON-14 dynamic friction measuring machine at a 5 mmφ stainless steel ball, a load of 100 g, and a speed of 60 cm / min was used.

1.本発明の構成物
まず、本発明のフィルムに使用することのできる各種化合物について記載する。
1. First, the various compounds that can be used in the film of the present invention will be described.

1−(1)バインダー
本発明のフィルムは、熱及び/または電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成することができる。すなわち、バインダーとして電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。特に好ましくは下記の1分子内に2つ以上の(メタ)アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
1- (1) Binder The film of the present invention can be formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a heat and / or ionizing radiation curable compound. That is, a coating composition containing an ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer as a binder is coated on a transparent support, and the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction. be able to.
The functional group of the ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable.
Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable. Particularly preferably, a compound containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule described below can be used.

光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、
ネオペンチルグリコールアクリレート、1,6−ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類;
2,2−ビス{4−(アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル}プロパン、2−2−ビス{4−(アクリロキシ・ポリプロポキシ)フェニル}プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類;
等を挙げることができる。
As a specific example of a photopolymerizable polyfunctional monomer having a photopolymerizable functional group,
(Meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts such as 2,2-bis {4- (acryloxy · diethoxy) phenyl} propane and 2-bis {4- (acryloxy · polypropoxy) phenyl} propane ;
Etc.

さらにはエポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。   Furthermore, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates are also preferably used as the photopolymerizable polyfunctional monomer.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、1,2,4−シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールトリアクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールペンタアクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、(ジ)ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。本明細書において、「(メタ)アクリレート」、「(メタ)アクリル酸」、「(メタ)アクリロイル」は、それぞれ「アクリレートまたはメタクリレート」、「アクリル酸またはメタクリル酸」、「アクリロイルまたはメタクリロイル」を表す。   Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. More preferably, a polyfunctional monomer having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is preferable. Specifically, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, 1,2,4-cyclohexanetetra (meth) acrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, (di) pentaerythritol triacrylate, (di) pentaerythritol pentaacrylate, (di) pentaerythritol tetra (meth) acrylate, (di) pentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol triacrylate , Tripentaerythritol hexatriacrylate and the like. In the present specification, “(meth) acrylate”, “(meth) acrylic acid”, and “(meth) acryloyl” represent “acrylate or methacrylate”, “acrylic acid or methacrylic acid”, and “acryloyl or methacryloyl”, respectively. .

モノマーバインダーとしては、各層の屈折率を制御するために、屈折率の異なるモノマーを用いることが出来る。特に高屈折率モノマーの例としては、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。
また、例えば特開2005−76005号、同2005−36105号に記載されたデンドリマーや、例えば特開2005−60425号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
As the monomer binder, monomers having different refractive indexes can be used to control the refractive index of each layer. Examples of particularly high refractive index monomers include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether, and the like.
Further, for example, dendrimers described in JP-A-2005-76005 and JP-A-2005-36105, and norbornene ring-containing monomers as described in JP-A-2005-60425 can also be used.

多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
Two or more polyfunctional monomers may be used in combination.
Polymerization of these monomers having an ethylenically unsaturated group can be carried out by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.
It is preferable to use a photopolymerization initiator for the polymerization reaction of the photopolymerizable polyfunctional monomer. As the photopolymerization initiator, a photoradical polymerization initiator and a photocationic polymerization initiator are preferable, and a photoradical polymerization initiator is particularly preferable.

1−(2)ポリマ−バインダー
本発明にはバインダーとして、ポリマーあるいは架橋しているポリマーを用いることができる。架橋しているポリマーはアニオン性基を有するのが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋している構造を有する。
1- (2) Polymer Binder In the present invention, a polymer or a crosslinked polymer can be used as the binder. The crosslinked polymer preferably has an anionic group. The polymer having a crosslinked anionic group has a structure in which the main chain of the polymer having an anionic group is crosslinked.

ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン(飽和炭化水素)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖およびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖およびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。
ポリオレフィン主鎖は飽和炭化水素からなる。ポリオレフィン主鎖は、例えば、不飽和重合性基の付加重合反応により得られる。ポリエーテル主鎖は、エーテル結合(−O−)によって繰り返し単位が結合している。ポリエーテル主鎖は、例えば、エポキシ基の開環重合反応により得られる。ポリウレア主鎖は、ウレア結合(−NH−CO−NH−)によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレア主鎖は、例えば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応により得られる。ポリウレタン主鎖はウレタン結合(−NH−CO−O−)によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレタン主鎖は、例えば、イソシアネート基と、水酸基(N−メチロール基を含む)との縮重合反応により得られる。ポリエステル主鎖は、エステル結合(−CO−O−)によって繰り返し単位が結合している。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキシル基(酸ハライド基を含む)と水酸基(N−メチロール基を含む)との縮重合反応により得られる。ポリアミン主鎖はイミノ結合(−NH−)によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミン主鎖は、例えば、エチレンイミン基の開環重合反応により得られる。ポリアミド主鎖は、アミド結合(−NH−CO−)によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミド主鎖は、例えば、イソシアネート基とカルボキシル基(酸ハライド基を含む)との反応により得られる。メラミン樹脂主鎖は、例えば、トリアジン基(例、メラミン)とアルデヒド(例、ホルムアルデヒド)との縮重合反応により得られる。なお、メラミン樹脂は、主鎖そのものが架橋構造を有する。
Examples of the polymer main chain include polyolefin (saturated hydrocarbon), polyether, polyurea, polyurethane, polyester, polyamine, polyamide and melamine resin. A polyolefin main chain, a polyether main chain and a polyurea main chain are preferable, a polyolefin main chain and a polyether main chain are more preferable, and a polyolefin main chain is most preferable.
The polyolefin main chain consists of saturated hydrocarbons. The polyolefin main chain is obtained, for example, by an addition polymerization reaction of an unsaturated polymerizable group. The polyether main chain has repeating units bonded by an ether bond (—O—). The polyether main chain is obtained, for example, by a ring-opening polymerization reaction of an epoxy group. In the polyurea main chain, repeating units are bonded by a urea bond (—NH—CO—NH—). The polyurea main chain is obtained, for example, by a condensation polymerization reaction between an isocyanate group and an amino group. In the polyurethane main chain, repeating units are bonded by a urethane bond (—NH—CO—O—). The polyurethane main chain is obtained, for example, by a polycondensation reaction between an isocyanate group and a hydroxyl group (including an N-methylol group). The polyester main chain has repeating units bonded by an ester bond (—CO—O—). The polyester main chain is obtained, for example, by a polycondensation reaction between a carboxyl group (including an acid halide group) and a hydroxyl group (including an N-methylol group). The polyamine main chain has repeating units bonded by imino bonds (—NH—). The polyamine main chain is obtained, for example, by a ring-opening polymerization reaction of an ethyleneimine group. The polyamide main chain has repeating units bonded by an amide bond (—NH—CO—). The polyamide main chain is obtained, for example, by a reaction between an isocyanate group and a carboxyl group (including an acid halide group). The melamine resin main chain is obtained, for example, by a polycondensation reaction between a triazine group (eg, melamine) and an aldehyde (eg, formaldehyde). In the melamine resin, the main chain itself has a crosslinked structure.

アニオン性基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させる。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として主鎖に結合させることが好ましい。
アニオン性基の例としては、カルボン酸基(カルボキシル)、スルホン酸基(スルホ)およびリン酸基(ホスホノ)などが挙げられ、スルホン酸基およびリン酸基が好ましい。
アニオン性基は塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは解離していてもよい。
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−CO−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。
The anionic group is bonded directly to the main chain of the polymer or bonded to the main chain via a linking group. The anionic group is preferably bonded to the main chain as a side chain via a linking group.
Examples of the anionic group include a carboxylic acid group (carboxyl), a sulfonic acid group (sulfo), and a phosphoric acid group (phosphono), and a sulfonic acid group and a phosphoric acid group are preferable.
The anionic group may be in a salt state. The cation that forms a salt with the anionic group is preferably an alkali metal ion. Moreover, the proton of the anionic group may be dissociated.
The linking group that binds the anionic group and the polymer main chain is preferably a divalent group selected from —CO—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof.

架橋構造は二以上の主鎖を化学的に結合(好ましくは共有結合)するものであるが、三以上の主鎖を共有結合することが好ましい。架橋構造は、−CO−、−O−、−S−、窒素原子、リン原子、脂肪族残基、芳香族残基およびこれらの組み合わせから選ばれる二価以上の基からなることが好ましい。   The crosslinked structure is a structure in which two or more main chains are chemically bonded (preferably covalent bonds), but it is preferable to covalently bond three or more main chains. The cross-linked structure is preferably composed of a divalent or higher valent group selected from —CO—, —O—, —S—, a nitrogen atom, a phosphorus atom, an aliphatic residue, an aromatic residue, and combinations thereof.

架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、2〜96質量%であることが好ましく、4〜94質量%であることがさらに好ましく、6〜92質量%であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋構造を有する繰り返し単位の割合は、4〜98質量%であることが好ましく、6〜96質量%であることがさらに好ましく、8〜94質量%であることが最も好ましい。   The crosslinked polymer having an anionic group is preferably a copolymer having a repeating unit having an anionic group and a repeating unit having a crosslinked structure. The proportion of the repeating unit having an anionic group in the copolymer is preferably 2 to 96% by mass, more preferably 4 to 94% by mass, and most preferably 6 to 92% by mass. The repeating unit may have two or more anionic groups. The proportion of the repeating unit having a crosslinked structure in the copolymer is preferably 4 to 98% by mass, more preferably 6 to 96% by mass, and most preferably 8 to 94% by mass.

架橋しているアニオン性基を有するポリマーの繰り返し単位は、アニオン性基と架橋構造の双方を有していてもよい。また、その他の繰り返し単位(アニオン性基も架橋構造もない繰り返し単位)が含まれていてもよい。
その他の繰り返し単位としては、アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位およびベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に無機粒子の分散状態を維持する機能を有する。なお、アミノ基、四級アンモニウム基およびベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位あるいは架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても同様の効果が得られる。
アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位では、アミノ基または四級アンモニウム基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させる。アミノ基または四級アンモニウム基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させることが好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基は、二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることが好ましく、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、アルキル基であることが好ましく、炭素原子数が1〜12のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が1〜6のアルキル基であることがさらに好ましい。四級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−CO−、−NH−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーが、アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は0.06〜32質量%であることが好ましく、0.08〜30質量%であることがさらに好ましく、0.1〜28質量%であることが最も好ましい。
The repeating unit of the polymer having a crosslinked anionic group may have both an anionic group and a crosslinked structure. Further, other repeating units (repeating units having neither an anionic group nor a crosslinked structure) may be contained.
Other repeating units are preferably a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group and a repeating unit having a benzene ring. The amino group or the quaternary ammonium group has a function of maintaining the dispersed state of the inorganic particles, like the anionic group. The same effect can be obtained even when the amino group, quaternary ammonium group and benzene ring are contained in a repeating unit having an anionic group or a repeating unit having a crosslinked structure.
In a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group, the amino group or quaternary ammonium group is directly bonded to the main chain of the polymer or bonded to the main chain through a linking group. The amino group or quaternary ammonium group is preferably bonded to the main chain as a side chain via a linking group. The amino group or quaternary ammonium group is preferably a secondary amino group, a tertiary amino group or a quaternary ammonium group, more preferably a tertiary amino group or a quaternary ammonium group. The group bonded to the nitrogen atom of the secondary amino group, tertiary amino group or quaternary ammonium group is preferably an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, Is more preferably an alkyl group of 1 to 6. The counter ion of the quaternary ammonium group is preferably a halide ion. The linking group that connects the amino group or quaternary ammonium group to the polymer main chain is a divalent group selected from -CO-, -NH-, -O-, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. Preferably there is. When the polymer having a crosslinked anionic group contains a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group, the ratio is preferably 0.06 to 32% by mass, and 0.08 to 30% by mass. It is more preferable that it is 0.1 to 28% by mass.

1−(3)オルガノシラン化合物
本発明のフィルムには、オルガノシラン化合物又は、該オルガノシラン化合物の加水分解物および/またはその部分縮合物等(以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する)を含有させることが、耐擦傷性の点で好ましい。
これら化合物は、硬化性組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することによりバインダーとして機能する。本発明の導電性粒子含有層に用いることのできる具体的化合物は、前記一般式(B)で表される化合物に代表される。
1- (3) Organosilane Compound The film of the present invention contains an organosilane compound, a hydrolyzate of the organosilane compound and / or a partial condensate thereof (hereinafter referred to as “sol component”). From the viewpoint of scratch resistance.
These compounds function as a binder by applying a curable composition and then condensing in a drying and heating process to form a cured product. Specific compounds that can be used in the conductive particle-containing layer of the present invention are represented by the compound represented by the general formula (B).

本発明においては、一般式(B)で表されるオルガノシラン化合物の使用量について説明する。
(A)無機微粒子の表面処理に使用する場合
特に制限はないが、無機酸化物微粒子当たり1質量%〜300質量%が好ましく、更に好ましくは3質量%〜100質量%、最も好ましくは5質量%〜50質量%である。無機酸化物の表面の水酸基基準の規定度濃度(Formol)当たりでは1〜300モル%が好ましく、更に好ましくは5〜300モル%、最も好ましくは10〜200モル%である。
オルガノシラン化合物の使用量が上記範囲であると、分散液の安定化効果が充分得られ、塗膜形成時に膜強度も上昇する。複数種のオルガノシラン化合物を併用することも好ましく、複数種の化合物を同時に添加することも、添加時間をずらして反応させることもできる。また、複数種の化合物を予め部分縮合物にしてから添加すると反応制御が容易であり好ましい。
(B)光学フィルムの構成層に使用する場合
光学フィルムの構成層の全固形分の0.1〜90質量%が好ましく、0.5〜30質量%がより好ましく、1〜20質量%が最も好ましい。
前記オルガノシラン化合物は硬化性組成物(防眩層用、低屈折率層用等の塗布液)に直接添加してもよいが、前記オルガノシラン化合物をあらかじめ触媒の存在下に処理して前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物を調製し、得られた反応溶液(ゾル液)を用いて前記硬化性組成物を調整するのが好ましく、本発明においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物および金属キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物を添加した液を防眩層もしくは低屈折率層の少なくとも1層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
In this invention, the usage-amount of the organosilane compound represented by general formula (B) is demonstrated.
(A) When used for surface treatment of inorganic fine particles Although there is no particular limitation, it is preferably 1% by mass to 300% by mass, more preferably 3% by mass to 100% by mass, and most preferably 5% by mass per inorganic oxide fine particle. -50 mass%. It is preferably 1 to 300 mol%, more preferably 5 to 300 mol%, and most preferably 10 to 200 mol% per normal concentration (Formol) based on hydroxyl groups on the surface of the inorganic oxide.
When the amount of the organosilane compound used is in the above range, a sufficient stabilizing effect of the dispersion can be obtained, and the film strength is also increased during coating film formation. It is also preferable to use a plurality of types of organosilane compounds in combination, and a plurality of types of compounds can be added at the same time, or the reaction can be carried out by shifting the addition time. Also, it is preferable to add a plurality of kinds of compounds in the form of partial condensates in advance because the reaction control is easy.
(B) When used for the constituent layer of the optical film 0.1 to 90% by mass of the total solid content of the constituent layer of the optical film is preferable, 0.5 to 30% by mass is more preferable, and 1 to 20% by mass is the most. preferable.
The organosilane compound may be added directly to the curable composition (coating liquid for antiglare layer, low refractive index layer, etc.), but the organosilane compound is treated in the presence of a catalyst in advance to prepare the organosilane compound. It is preferable to prepare a hydrolyzate and / or partial condensate of a silane compound and prepare the curable composition using the obtained reaction solution (sol solution). In the present invention, first, the organosilane compound A composition containing a hydrolyzate and / or a partial condensate and a metal chelate compound is prepared, and a liquid obtained by adding a β-diketone compound and / or a β-ketoester compound thereto is added to at least an antiglare layer or a low refractive index layer. It is preferable to coat it in a single layer coating solution.

1−(4)開始剤
各種のエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
本発明のフィルムを作成するに当り、光開始剤あるいは熱開始剤を併用することができる。
1- (4) Initiator Polymerization of monomers having various ethylenically unsaturated groups can be carried out by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.
In preparing the film of the present invention, a photoinitiator or a thermal initiator can be used in combination.

<光開始剤>
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類(特開2001−139663号等)、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
アセトフェノン類の例には、2,2−ジメトキシアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシ−ジメチル−p−イソプロピルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、が含まれる。
<Photoinitiator>
Examples of photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides (JP-A No. 2001-139663, etc.), 2, 3 -Dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, coumarins and the like.
Examples of acetophenones include 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxy-dimethylphenylketone, 1-hydroxy-dimethyl-p-isopropylphenylketone, 1-hydroxy Cyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t- Butyl-dichloroacetophenone is included.

ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、3,3’、4、4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどが含まれる。   Examples of benzoins include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl dimethyl ketal, benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether It is. Examples of benzophenones include benzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethylaminobenzophenone (Michler's ketone), 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone and the like are included.

ボレート塩としては、例えば、特許第2764769号、特開2002−116539号等の各公報、および、Kunz,Martin“Rad Tech’98.Proceeding April 19〜22頁,1998年,Chicago”等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物があげられる。例えば、前記特開2002−116539号明細書の段落番号[0022]〜[0027]記載の化合物が挙げられる。またその他の有機ホウ素化合物としては、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられ、具体例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。   Examples of the borate salt are described in Japanese Patent Nos. 2764769 and 2002-116539, and Kunz, Martin “Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”. And the organic borate compounds described. For example, the compounds described in JP-A-2002-116539, paragraph numbers [0022] to [0027] can be mentioned. Examples of other organic boron compounds include JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-306527, and JP-A-7-292014. Specific examples include organoboron transition metal coordination complexes and the like, and specific examples include ion complexes with cationic dyes.

ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
活性エステル類の例には1、2−オクタンジオン、1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。
具体的には特開2000−80068記載の実施例記載化合物1〜21が特に好ましい。
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
Examples of active esters include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], sulfonic acid esters, cyclic active ester compounds, and the like.
Specifically, Examples 1 to 21 described in JP-A 2000-80068 are particularly preferable.
Examples of the onium salts include aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, and aromatic sulfonium salts.

活性ハロゲン類としては、具体的には、若林 等の“Bull Chem.Soc Japan“42巻、2924頁(1969年)、米国特許第3,905,815号明細書、特開平5−27830号、M.P.Hutt“Jurnal of Heterocyclic Chemistry”1巻(3号),(1970年)等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物:s−トリアジン化合物が挙げられる。より好適には、少なくとも一つのモノ、ジまたはトリハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体が挙げられる。具体的な例にはS−トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−スチリルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(3−Br−4−ジ(エチル酢酸エステル)アミノ)フェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−トリハロメチル−5−(p−メトキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールが含まれる。具体的には特開昭58−15503のp14〜p30、特開昭55−77742のp6〜p10、特公昭60−27673のp287記載のNo.1〜No.8、特開昭60−239736のp443〜p444のNo.1〜No.17、US−4701399のNo.1〜19などの化合物が特に好ましい。
無機錯体の例にはビス(η−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムが挙げられる。
クマリン類の例には3−ケトクマリンが挙げられる。
Specific examples of the active halogens include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, JP-A-5-27830, M.M. P. Examples include compounds described in Hutt “Journal of Heterocyclic Chemistry”, Vol. 1 (No. 3), (1970), and in particular, oxazole compounds substituted with a trihalomethyl group: s-triazine compounds. More preferred are s-triazine derivatives in which at least one mono-, di- or trihalogen-substituted methyl group is bonded to the s-triazine ring. Specific examples include S-triazine and oxathiazole compounds, such as 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl). -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-styrylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3-Br-4-di (ethyl) Acetate) amino) phenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-trihalomethyl-5- (p-methoxyphenyl) -1,3,4-oxadiazole. Specifically, p.14 to p30 in JP-A-58-15503, p6-p10 in JP-A-55-77742, and p287 in JP-B-60-27673. 1-No. 8, No. pp. 443 to p444 of JP-A-60-239736. 1-No. 17, No. 4,701,399. Compounds such as 1-19 are particularly preferred.
Examples of inorganic complexes include bis (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium.
Examples of coumarins include 3-ketocoumarin.

これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。
「最新UV硬化技術」,(株)技術情報協会,1991年,p.159、及び、「紫外線硬化システム」 加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
These initiators may be used alone or in combination.
“Latest UV Curing Technology”, Technical Information Association, 1991, p. 159, and “UV curing system” written by Kayo Kiyomi, 1989, General Technology Center, p. Various examples are also described in 65-148 and are useful in the present invention.

市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DETX−S,BP−100,BDMK,CTX,BMS,2−EAQ,ABQ,CPTX,EPD,ITX,QTX,BTC,MCAなど)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア(651,184,500,819,907,369,1173,1870,2959,4265,4263など)、サートマー社製のEsacure(KIP100F,KB1,EB3,BP,X33,KT046,KT37,KIP150,TZT)等およびそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。   Commercially available radical photopolymerization initiators include KAYACURE (DETX-S, BP-100, BDKM, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. MCA, etc.), Irgacure (651, 184, 500, 819, 907, 369, 1173, 1870, 2959, 4265, 4263, etc.) manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Ltd., Esacure (KIP100F, KB1, manufactured by Sartomer) EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT) and the like and combinations thereof are preferred examples.

光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。   It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of polyfunctional monomers, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.

<光増感剤>
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーケトンおよびチオキサントン、などを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を1種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DMBI,EPA)などが挙げられる。
<Photosensitizer>
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.
Further, one or more auxiliary agents such as an azide compound, a thiourea compound, and a mercapto compound may be used in combination.
Examples of commercially available photosensitizers include KAYACURE (DMBI, EPA) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

<熱開始剤>
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2,2‘−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(プロピオニトリル)、1,1‘−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
<Thermal initiator>
As the thermal radical initiator, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Diazo compounds such as ammonium sulfate, potassium persulfate and the like, 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 2,2′-azobis (propionitrile), 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile), etc. And diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium and the like.

本発明では上述した熱酸発生剤の他に光照射により酸を発生する化合物、すなわち感光性酸発生剤をさらに添加しても良い。該感光性酸発生剤は当該硬化性樹脂組成物の塗膜に感光性を付与し、例えば、光等の放射線を照射することによって当該塗膜を光硬化させることを可能にする物質である。この感光性酸発生剤としては、例えば、(1)ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩等の各種オニウム塩;(2)β−ケトエステル、β−スルホニルスルホンとこれらのα−ジアゾ化合物等のスルホン化合物;(3)アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等のスルホン酸エステル類;(4)スルホンイミド化合物類;(5)ジアゾメタン化合物類;その他を挙げることができ、適宜使用することができる。   In the present invention, in addition to the thermal acid generator described above, a compound that generates an acid upon irradiation with light, that is, a photosensitive acid generator may be further added. The photosensitive acid generator is a substance that imparts photosensitivity to the coating film of the curable resin composition and enables the coating film to be photocured by, for example, irradiation with radiation such as light. Examples of the photosensitive acid generator include (1) various onium salts such as iodonium salt, sulfonium salt, phosphonium salt, diazonium salt, ammonium salt, pyridinium salt; (2) β-ketoester, β-sulfonylsulfone and these Sulfone compounds such as α-diazo compounds; (3) sulfonic acid esters such as alkyl sulfonic acid esters, haloalkyl sulfonic acid esters, aryl sulfonic acid esters and imino sulfonates; (4) sulfonimide compounds; (5) diazomethane compounds Others can be mentioned and can be used as appropriate.

感光性酸発生剤は、単独で、又は2種以上を併用することができ、さらに前記熱酸発生剤と併用することもできる。感光性酸発生剤の使用割合は、硬化性樹脂組成物中の含フッ素ポリマー100質量部に対して、好ましくは0〜20質量部、さらに好ましくは0.1〜10質量部である。感光性酸発生剤の割合が該上限値以下であれば、得られる硬化膜の強度が優れたものとなり、透明性も良好なので好ましい。   The photosensitive acid generator can be used alone or in combination of two or more, and can also be used in combination with the thermal acid generator. The use ratio of the photosensitive acid generator is preferably 0 to 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the fluoropolymer in the curable resin composition. If the ratio of the photosensitive acid generator is less than or equal to the upper limit, it is preferable because the resulting cured film has excellent strength and good transparency.

感光性酸発生剤の使用割合は、硬化性樹脂組成物100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、さらに好ましくは0.1〜5質量部である。
その他、具体的な化合物や使用法として、例えば特開2005―43876号記載の内容などを用いることができる。
The use ratio of the photosensitive acid generator is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin composition.
In addition, as specific compounds and methods of use, for example, the contents described in JP-A-2005-43876 can be used.

1−(5)透光性粒子
本発明のフィルム、特に防眩層やハードコート層には、防眩性(表面散乱性)や内部散乱性を付与するため、各種の透光性粒子を用いることが出来る。
1- (5) Translucent Particles Various translucent particles are used for imparting antiglare properties (surface scattering properties) and internal scattering properties to the film of the present invention, particularly the antiglare layer and the hard coat layer. I can do it.

透光性粒子は有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、ヘイズ値の設計が容易となる。透光性粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、バインダーとの屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子(屈折率1.49)、架橋ポリ(アクリル−スチレン)共重合体粒子(屈折率1.54)、メラミン樹脂粒子(屈折率1.57)、ポリカーボネート粒子(屈折率1.57)、ポリスチレン粒子(屈折率1.60)、架橋ポリスチレン粒子(屈折率1.61)、ポリ塩化ビニル粒子(屈折率1.60)、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子(屈折率1.68)等が用いられる。
無機粒子としては、シリカ粒子(屈折率1.44)、アルミナ粒子(屈折率1.63)、ジルコニア粒子、チタニア粒子、また中空や細孔を有する無機粒子が挙げられる。
The translucent particles may be organic particles or inorganic particles. As the particle size is not varied, the scattering characteristics are less varied, and the design of the haze value is facilitated. As the translucent particles, plastic beads are preferable, and those having particularly high transparency and a difference in refractive index with the binder are preferable.
As organic particles, polymethyl methacrylate particles (refractive index 1.49), crosslinked poly (acryl-styrene) copolymer particles (refractive index 1.54), melamine resin particles (refractive index 1.57), polycarbonate particles ( Refractive index 1.57), polystyrene particles (refractive index 1.60), crosslinked polystyrene particles (refractive index 1.61), polyvinyl chloride particles (refractive index 1.60), benzoguanamine-melamine formaldehyde particles (refractive index 1. 68) etc. are used.
Examples of the inorganic particles include silica particles (refractive index: 1.44), alumina particles (refractive index: 1.63), zirconia particles, titania particles, and inorganic particles having hollows and pores.

なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。
さらに、3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としたバインダー(硬化後の屈折率が1.50〜1.53)とアクリル含率50〜100質量パーセントである架橋ポリ(メタ)アクリレート重合体からなる透光性粒子を組合せて用いることが好ましく、特にバインダーと架橋ポリ(スチレン−アクリル)共重合体からなる透光性粒子(屈折率が1.48〜1.54)との組合せが好ましい。
Of these, cross-linked polystyrene particles, cross-linked poly ((meth) acrylate) particles, and cross-linked poly (acryl-styrene) particles are preferably used, and a binder is selected according to the refractive index of each light-transmitting particle selected from these particles. By adjusting the refractive index, the internal haze, surface haze, and centerline average roughness of the present invention can be achieved.
Further, a binder (having a refractive index after curing of 1.50 to 1.53) composed mainly of a trifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer and a crosslinked poly (meth) acrylate weight having an acrylic content of 50 to 100 mass percent. It is preferable to use a combination of translucent particles composed of a combination, and in particular, a combination of a binder and translucent particles composed of a crosslinked poly (styrene-acrylic) copolymer (with a refractive index of 1.48 to 1.54). preferable.

本発明におけるバインダー(透光性樹脂)と透光性粒子との屈折率は、1.45〜1.70であることが好ましく、より好ましくは1.48〜1.65である。屈折率を前記範囲とするには、バインダー及び透光性粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
また、本発明においては、バインダーと透光性粒子との屈折率の差(透光性粒子の屈折率−バインダーの屈折率)は、絶対値として好ましくは0.001〜0.030であり、より好ましくは0.001〜0.020、更に好ましくは0.001〜0.015である。この差が0.030を超えると、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じる。
The refractive index of the binder (translucent resin) and translucent particles in the present invention is preferably 1.45 to 1.70, more preferably 1.48 to 1.65. In order to set the refractive index within the above range, the type and amount ratio of the binder and the light-transmitting particles may be appropriately selected. How to select can be easily known experimentally in advance.
In the present invention, the difference in refractive index between the binder and the translucent particles (the refractive index of the translucent particles−the refractive index of the binder) is preferably 0.001 to 0.030 as an absolute value, More preferably, it is 0.001-0.020, More preferably, it is 0.001-0.015. If this difference exceeds 0.030, problems such as film character blur, a decrease in dark room contrast, and surface turbidity occur.

ここで、バインダーの屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる2種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。   Here, the refractive index of the binder can be quantitatively evaluated by directly measuring it with an Abbe refractometer or by measuring a spectral reflection spectrum or a spectral ellipsometry. The refractive index of the translucent particles is measured by measuring the turbidity by dispersing an equal amount of the translucent particles in the solvent in which the refractive index is changed by changing the mixing ratio of two types of solvents having different refractive indexes. It is measured by measuring the refractive index of the solvent when the turbidity is minimized with an Abbe refractometer.

上記のような透光性粒子の場合には、バインダー中で透光性粒子が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径0.5μm以下の無機フィラーを、バインダーに対して塗膜の透明性を損なわない程度に、0.1質量%未満程度含有させるとよい。   In the case of the above translucent particles, the translucent particles easily settle in the binder, and therefore an inorganic filler such as silica may be added to prevent sedimentation. As the amount of the inorganic filler added increases, it is more effective in preventing the translucent particles from settling, but adversely affects the transparency of the coating film. Therefore, preferably, an inorganic filler having a particle size of 0.5 μm or less is contained in an amount of less than 0.1% by mass so as not to impair the transparency of the coating film with respect to the binder.

透光性粒子の平均粒径は0.5〜20μmが好ましく、より好ましくは2.0〜15.0μmである。平均粒径が0.5μm以上であると、光の散乱角度分布が広角にまで広がることがないため、ディスプレイの文字ボケを引き起こさないので好ましい。一方、20μm以下であると、添加する層の膜厚を厚くする必要がないので、カールやコストの面から好ましい。   The average particle diameter of the translucent particles is preferably 0.5 to 20 μm, more preferably 2.0 to 15.0 μm. When the average particle size is 0.5 μm or more, the scattering angle distribution of light does not spread to a wide angle, which is preferable because character blur of the display is not caused. On the other hand, when the thickness is 20 μm or less, it is not necessary to increase the thickness of the layer to be added, which is preferable in terms of curling and cost.

また、粒子径の異なる2種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。   Moreover, you may use together and use 2 or more types of translucent particle | grains from which a particle diameter differs. It is possible to impart an antiglare property with a light-transmitting particle having a larger particle diameter, and to reduce the surface roughness with a light-transmitting particle having a smaller particle diameter.

前記透光性粒子は、添加層全固形分中に3〜30質量%含有されるように配合されることが画像ボケ、表面の白濁、ギラツキ等の観点から好ましい。より好ましくは5〜20質量%である。   It is preferable from the viewpoints of image blur, surface turbidity, glare and the like that the translucent particles are blended so as to be contained in an amount of 3 to 30% by mass in the total solid content of the additive layer. More preferably, it is 5-20 mass%.

また、透光性粒子の密度は、好ましくは10〜1000mg/m、より好ましくは100〜700mg/mである。 Moreover, the density of the translucent particles is preferably 10 to 1000 mg / m 2 , more preferably 100 to 700 mg / m 2 .

<透光性粒子調製、分級法> <Translucent particle preparation, classification method>

本発明に係る透光性粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」(大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社)130頁及び146頁から147頁の記載、「合成高分子」1巻、p.246〜290、同3巻、p.1〜108等に記載の方法、及び特許第2543503号明細書、同第3508304号明細書、同第2746275号明細書、同第3521560号明細書、同第3580320号明細書、特開平10−1561号公報、特開平7−2908号公報、特開平5−297506号公報、特開2002−145919号公報等に記載の方法を参考にすることができる。   Examples of the method for producing translucent particles according to the present invention include suspension polymerization, emulsion polymerization, soap-free emulsion polymerization, dispersion polymerization, seed polymerization, and the like. Good. These production methods are described in, for example, “Experimental Methods for Polymer Synthesis” (Takayuki Otsu and Masaaki Kinoshita, Chemical Dojinsha), pages 130 and 146 to 147, “Synthetic Polymers”, Vol. 246-290, 3rd volume, p. 1 to 108, etc., and Japanese Patent Nos. 2543503, 3508304, 2746275, 3521560, 3580320, and Japanese Patent Laid-Open No. 10-1561. Reference can be made to methods described in JP-A No. 7-2908, JP-A No. 5-297506, JP-A No. 2002-145919, and the like.

透光性粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも20%以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1%以下であり、さらに好ましくは0.01%以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製または合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
The particle size distribution of the translucent particles is preferably monodisperse particles in terms of haze value and control of diffusibility, and uniformity of the coated surface. For example, when particles having a particle size of 20% or more than the average particle size are defined as coarse particles, the proportion of the coarse particles is preferably 1% or less of the total number of particles, more preferably 0.1% or less. Yes, more preferably 0.01% or less. Particles having such a particle size distribution are also effective means of classification after preparation or synthesis reaction, and particles having a desired distribution can be obtained by increasing the number of classifications or increasing the degree of classification. .
It is preferable to use a method such as an air classification method, a centrifugal classification method, a sedimentation classification method, a filtration classification method, or an electrostatic classification method for classification.

1−(6)無機粒子
本発明には硬度などの物理特性、反射率、散乱性などの光学特性などの向上のため、各種無機粒子を用いることができる。
無機粒子としては、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つ金属の酸化物、具体例としては、ZrO、TiO、Al、In、ZnO、SnO、Sb、ITO等が挙げられる。その他BaSO、CaCO、タルクおよびカオリンなどが含まれる。
1- (6) Inorganic particles Various inorganic particles can be used in the present invention in order to improve physical properties such as hardness, optical properties such as reflectance, and scattering properties.
As the inorganic particles, an oxide of at least one metal selected from silicon, zirconium, titanium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony, specific examples include ZrO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , ITO and the like can be mentioned. In addition, BaSO 4 , CaCO 3 , talc and kaolin are included.

本発明に使用する無機粒子の粒径は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均径は1〜200nmである。好ましくは5〜150nmであり、さらに好ましくは10〜100nm、特に好ましくは10〜80nmである。無機粒子を100nm以下に微細化することで透明性を損なわないフィルムを形成できる。無機粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。   The particle diameter of the inorganic particles used in the present invention is preferably as fine as possible in the dispersion medium, and the mass average diameter is 1 to 200 nm. Preferably it is 5-150 nm, More preferably, it is 10-100 nm, Most preferably, it is 10-80 nm. A film that does not impair the transparency can be formed by refining the inorganic particles to 100 nm or less. The particle diameter of the inorganic particles can be measured by a light scattering method or an electron micrograph.

無機粒子の比表面積は、10〜400m/gであることが好ましく、20〜200m/gであることがさらに好ましく、30〜150m/gであることが最も好ましい。 The specific surface area of the inorganic particles is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, and most preferably from 30 to 150 m 2 / g.

本発明に使用する無機粒子は分散媒体中に分散物として使用する層の塗布液に添加することが好ましい。
無機粒子の分散媒体は、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が含まれる。トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが特に好ましい。
特に好ましい分散媒体は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンである。
The inorganic particles used in the present invention are preferably added to a coating solution for a layer used as a dispersion in a dispersion medium.
As the dispersion medium for the inorganic particles, a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. is preferably used. Examples of dispersion media include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ester (eg, methyl acetate, ethyl acetate, Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methyl) Carboxymethyl-2-propanol) are included. Toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferred.
Particularly preferred dispersion media are methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.

無機粒子は、分散機を用いて分散する。分散機の例には、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。   The inorganic particles are dispersed using a disperser. Examples of dispersers include sand grinder mills (eg, pinned bead mills), high speed impeller mills, pebble mills, roller mills, attritors and colloid mills. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

<高屈折率粒子>
本発明を構成する層を高屈折率化する目的に対しては、屈折率の高い無機粒子をモノマーと開始剤、有機置換されたケイ素化合物中に分散した組成物の硬化物が好ましく用いられる。
この場合の無機粒子としては、屈折率の観点から、特にZrO、TiO好ましくましく用いられる。ハードコート層の高屈折率化に対してはZrOが、高屈折率層、中屈折率層用の粒子としてはTiOの微粒子が最も好ましい。
<High refractive index particles>
For the purpose of increasing the refractive index of the layer constituting the present invention, a cured product of a composition in which inorganic particles having a high refractive index are dispersed in a monomer, an initiator, and an organically substituted silicon compound is preferably used.
As inorganic particles in this case, ZrO 2 and TiO 2 are particularly preferably used from the viewpoint of refractive index. ZrO 2 is most preferable for increasing the refractive index of the hard coat layer, and TiO 2 fine particles are most preferable as the particles for the high refractive index layer and the medium refractive index layer.

上記TiOの粒子としては、コバルト、アルミニウム、ジルコニウムから選ばれる少なくとも1つの元素を含有するTiOを主成分とする無機粒子が特に好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。
本発明におけるTiOを主成分とする粒子は、屈折率が1.90〜2.80であることが好ましく、2.10〜2.80であることがさらに好ましく、2.20〜2.80であることが最も好ましい。
TiOを主成分とする粒子の一次粒子の質量平均径は1〜200nmであることが好ましく、より好ましくは1〜150nm、さらに好ましくは1〜100nm、特に好ましくは1〜80nmである。
As the TiO 2 particles, inorganic particles mainly containing TiO 2 containing at least one element selected from cobalt, aluminum, and zirconium are particularly preferable. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles.
The particles mainly composed of TiO 2 in the present invention preferably have a refractive index of 1.90 to 2.80, more preferably 2.10 to 2.80, and 2.20 to 2.80. Most preferably.
The mass average diameter of primary particles of TiO 2 as a main component is preferably 1 to 200 nm, more preferably 1 to 150 nm, still more preferably 1 to 100 nm, and particularly preferably 1 to 80 nm.

TiOを主成分とする粒子の結晶構造は、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造が主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。 The crystal structure of the particles containing TiO 2 as the main component is preferably a rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, or amorphous structure, and particularly preferably a rutile structure. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles.

TiOを主成分とする粒子に、Co(コバルト)、Al(アルミニウム)及びZr(ジルコニウム)から選ばれる少なくとも1つの元素を含有することで、TiO2が有する光触媒活性を抑えることができ、本発明のフィルムの耐候性を改良することができる。
特に、好ましい元素はCo(コバルト)である。また、2種類以上を併用することも好ましい。
本発明のTiOを主成分とする無機粒子は、表面処理により特開2001−166104号公報記載のごとく、コア/シェル構造を有していても良い。
By containing at least one element selected from Co (cobalt), Al (aluminum), and Zr (zirconium) in the particles containing TiO 2 as a main component, the photocatalytic activity of TiO 2 can be suppressed, and the present invention. The weather resistance of the film can be improved.
A particularly preferable element is Co (cobalt). It is also preferable to use two or more types in combination.
The inorganic particles mainly composed of TiO 2 of the present invention may have a core / shell structure by surface treatment as described in JP-A No. 2001-166104.

層中のモノマーや無機粒子の添加量は、バインダーの全質量の10〜90質量%であることが好ましく、20〜80質量%であると更に好ましい。無機粒子は層内で二種類以上用いても良い。   The addition amount of the monomer and inorganic particles in the layer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, based on the total mass of the binder. Two or more kinds of inorganic particles may be used in the layer.

<低屈折率粒子>
低屈折率層に含有させる無機粒子は、低屈折率であることが望ましく、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点でシリカ微粒子が好ましい。
シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
<Low refractive index particles>
The inorganic particles contained in the low refractive index layer desirably have a low refractive index, and examples thereof include fine particles of magnesium fluoride and silica. In particular, silica fine particles are preferable in terms of refractive index, dispersion stability, and cost.
The average particle diameter of the silica fine particles is preferably 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 35% to 80%, and still more preferably 40% to 60%. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle diameter of the silica fine particles is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 80 nm, and still more preferably 40 nm to 60 nm.

シリカ微粒子の平均粒径を上記範囲にすることは、耐擦傷性の改良効果、低屈折率層表面の微細な凹凸、黒の締まりといった外観、積分反射率などの観点で好ましい。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。   It is preferable to make the average particle diameter of the silica fine particles in the above range from the viewpoint of the effect of improving the scratch resistance, the fine irregularities on the surface of the low refractive index layer, the appearance such as black tightening, the integrated reflectance, and the like. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.

また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満であるシリカ微粒子(「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)の少なくとも1種を上記の粒径のシリカ微粒子(「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)と併用することが好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が100nmの場合、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
Further, at least one kind of silica fine particles having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer (referred to as “small size particle size silica particles”) is used as silica fine particles having the above particle size (“large size particles”). It is preferably used in combination with “silica fine particles having a diameter”.
Since the fine silica particles having a small particle size can exist in the gaps between the fine silica particles having a large particle size, they can contribute as a retaining agent for the fine silica particles having a large particle size.
When the low refractive index layer is 100 nm, the average particle size of the silica fine particles having a small size is preferably from 1 nm to 20 nm, more preferably from 5 nm to 15 nm, and particularly preferably from 10 nm to 15 nm. Use of such silica fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.

低屈折率粒子の塗設量は、1mg/m〜100mg/mが好ましく、より好ましくは5mg/m〜80mg/m、更に好ましくは10mg/m〜60mg/mである。上記範囲にすることは、耐擦傷性の改良効果、低屈折率層表面の微細な凹凸、黒の締まりといった外観、積分反射率などの観点で好ましい。 The coating amount of the low refractive index particles is preferably 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . The above range is preferable from the viewpoints of the effect of improving the scratch resistance, the fine irregularities on the surface of the low refractive index layer, the appearance of black tightening, the integrated reflectance, and the like.

<中空シリカ粒子>
屈折率をより低下させる目的のためには、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。
<Hollow silica particles>
For the purpose of further reducing the refractive index, it is preferable to use hollow silica fine particles.

中空のシリカ微粒子は屈折率が1.15〜1.40が好ましく、更に好ましくは1.17〜1.35、最もに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記数式(VIII)で表される空隙率xは
(数式VIII)
x=(4πa/3)/(4πb/3)×100
好ましくは10〜60%、更に好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から1.15以上の粒子が好ましい。
The hollow silica fine particles preferably have a refractive index of 1.15 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and most preferably 1.17 to 1.30. The refractive index here represents the refractive index of the entire particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica particles. At this time, when the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x expressed by the following formula (VIII) is (formula VIII)
x = (4πa 3/3) / (4πb 3/3) × 100
Preferably it is 10-60%, More preferably, it is 20-60%, Most preferably, it is 30-60%. If the hollow silica particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. From the viewpoint of scratch resistance, particles of 1.15 or more are obtained. preferable.

中空シリカの製造方法は、例えば特開2001−233611や特開2002−79616に記載されている。特にシェルの内部に空洞を有している粒子で、そのシェルの細孔が閉塞されている粒子が特に好ましい。なお、これら中空シリカ粒子の屈折率は特開2002−79616に記載の方法で算出することができる。   A method for producing hollow silica is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-233611 and 2002-79616. In particular, particles having cavities inside the shell and having fine pores in the shell are particularly preferred. The refractive index of these hollow silica particles can be calculated by the method described in JP-A-2002-79616.

中空シリカの塗設量は、1mg/m〜100mg/mが好ましく、より好ましくは5mg/m〜80mg/m、更に好ましくは10mg/m〜60mg/mである。上記範囲にすることは、耐擦傷性の改良効果、低屈折率層表面の微細な凹凸、黒の締まりといった外観、積分反射率などの観点で好ましい。
中空シリカの平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、中空シリカの粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上100nm以下、更に好ましくは、40nm以上65nm以下である。
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、空腔部の割合が減り屈折率の低下が見込めず、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを2種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
本発明において中空シリカの比表面積は、20〜300m/gが好ましく、更に好ましくは30〜120m/g、最も好ましくは40〜90m/gである。表面積は窒素を用いBET法で求めることが出来る。
The coating amount of the hollow silica is preferably from 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . The above range is preferable from the viewpoints of the effect of improving the scratch resistance, the fine irregularities on the surface of the low refractive index layer, the appearance of black tightening, the integrated reflectance, and the like.
The average particle diameter of the hollow silica is preferably 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 35% to 80%, and still more preferably 40% to 60%. That is, if the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle size of the hollow silica is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 100 nm, and still more preferably 40 nm to 65 nm.
If the particle size of the silica particles is too small, the proportion of cavities will decrease and a decrease in refractive index cannot be expected. Getting worse. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and monodisperse particles are preferred. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.
Further, two or more kinds of hollow silica having different particle average particle sizes can be used in combination. Here, the average particle diameter of the hollow silica can be determined from an electron micrograph.
The specific surface area of the hollow silica in the present invention is preferably from 20 to 300 m 2 / g, more preferably 30~120m 2 / g, most preferably 40~90m 2 / g. The surface area can be obtained by the BET method using nitrogen.

本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、30nm以上150nm以下、更に好ましくは35nm以上100nm以下、最も好ましくは40nm以上80nm以下である。   In the present invention, silica particles having no voids can be used in combination with hollow silica. The preferred particle size of silica without voids is 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 100 nm, and most preferably 40 nm to 80 nm.

1−(7)導電性粒子
本発明のフィルムには導電性を付与するために、各種の導電性粒子を用いることができる。使用できる粒子については、例えば特開2005−196122号公報等に記載されている。
1- (7) Conductive Particles Various conductive particles can be used for imparting conductivity to the film of the present invention. The usable particles are described in, for example, JP-A-2005-196122.

1−(8)界面活性剤
本発明のフィルムには、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を光拡散層形成用の塗布組成物中に含有することが好ましい。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いることができる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることができる。
1- (8) Surfactant In the film of the present invention, in order to ensure surface uniformity such as coating unevenness, drying unevenness, point defect, etc., either a fluorine-based or silicone-based surfactant, or Both of them are preferably contained in the coating composition for forming the light diffusion layer. In particular, a fluorine-based surfactant can be preferably used because an effect of improving surface defects such as coating unevenness, drying unevenness, and point defects appears at a smaller addition amount. Productivity can be improved by giving high-speed coating suitability while improving surface uniformity.

フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体(「フッ素系ポリマー」と略記することもある)が挙げられ、該フッ素系ポリマーは、下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とする、あるいは下記(ii)のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。   Preferable examples of the fluorosurfactant include a fluoroaliphatic group-containing copolymer (sometimes abbreviated as “fluorine polymer”), and the fluoropolymer includes the following monomer (i): An acrylic resin, a methacrylic resin, and a vinyl monomer copolymerizable with the acrylic resin, the methacrylic resin characterized by containing a corresponding repeating unit, or a repeating unit corresponding to the monomer (ii) below: Copolymers are useful.

(i)下記一般式イで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
一般式イ
(I) Fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula A

Figure 2007272197
Figure 2007272197

一般式イにおいてR11は水素原子またはメチル基を表し、Xは酸素原子、イオウ原子または−N(R12)−を表し、mは1以上6以下の整数、nは2〜4の整数を表す。R12は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Xは酸素原子が好ましい。 In the general formula A, R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 12 ) —, m is an integer of 1 to 6 and n is an integer of 2 to 4. To express. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, specifically a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group. X is preferably an oxygen atom.

(ii)前記(i)と共重合可能な下記一般式ロで示されるモノマー
一般式ロ
(Ii) a monomer represented by the following general formula (b) copolymerizable with the above (i):

Figure 2007272197
Figure 2007272197

一般式ロにおいて、R13は水素原子またはメチル基を表し、Yは酸素原子、イオウ原子または−N(R15)−を表し、R15は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Yは酸素原子、−N(H)−、および−N(CH)−が好ましい。
14は置換基を有しても良い炭素数4以上20以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。R14のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数4以上20以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。
In the general formula (b), R 13 represents a hydrogen atom or a methyl group, Y represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 15 ) —, R 15 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, specifically Specifically, it represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group. Y is an oxygen atom, -N (H) -, and -N (CH 3) - are preferred.
R 14 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 4 to 20 carbon atoms which may have a substituent. Examples of the substituent for the alkyl group represented by R 14 include a hydroxyl group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group, a carboxyl group, an alkyl ether group, an aryl ether group, a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom, a nitro group, and a cyano group. , Amino groups and the like, but not limited thereto. Examples of the linear, branched or cyclic alkyl group having 4 to 20 carbon atoms include a butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group and undecyl group which may be linear or branched. , Dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, octadecyl group, eicosanyl group, etc., and monocyclic cycloalkyl groups such as cyclohexyl group, cycloheptyl group and bicycloheptyl group, bicyclodecyl group, tricycloundecyl group, A polycyclic cycloalkyl group such as a tetracyclododecyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, a tetracyclodecyl group, or the like is preferably used.

本発明で用いられるフッ素系ポリマー中に用いられるこれらの一般式イで示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて10モル%以上であり、好ましくは15〜70モル%であり、より好ましくは20〜60モル%の範囲である。   The amount of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula (a) used in the fluoropolymer used in the present invention is 10 mol% or more based on each monomer of the fluoropolymer, preferably Is 15 to 70 mol%, more preferably in the range of 20 to 60 mol%.

本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい質量平均分子量は、3000〜100,000が好ましく、5,000〜80,000がより好ましい。
更に、本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい添加量は、塗布液に対して0.001〜5質量%の範囲であり、好ましくは0.005〜3質量%の範囲であり、更に好ましくは0.01〜1質量%の範囲である。フッ素系ポリマーの添加量が0.001質量%未満では効果が不十分であり、また5質量%より多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能(例えば反射率、耐擦傷性)に悪影響を及ぼす。
The preferred weight average molecular weight of the fluoropolymer used in the present invention is preferably 3000 to 100,000, more preferably 5,000 to 80,000.
Furthermore, the preferable addition amount of the fluoropolymer used in the present invention is in the range of 0.001 to 5% by mass, preferably in the range of 0.005 to 3% by mass, and more preferably, with respect to the coating solution. It is the range of 0.01-1 mass%. If the addition amount of the fluorine-based polymer is less than 0.001% by mass, the effect is insufficient, and if it exceeds 5% by mass, the coating film may not be sufficiently dried or the performance as a coating film (for example, reflectance) Adversely affect the scratch resistance).

1−(9)増粘剤 1- (9) Thickener

本発明のフィルムは、塗布液の粘度を調整するために増粘剤を用いてもよい。
ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味し、添加することにより塗布液の粘度が上昇する大きさとして好ましくは0.05〜50cP(0.05〜50mPa.s)であり、さらに好ましくは0.10〜20cP(0.1〜20mPa.s)であり、最も好ましくは0.10〜10cP(0.10〜10mPa.s)である。
The film of the present invention may use a thickener to adjust the viscosity of the coating solution.
The term “thickener” as used herein means that the viscosity of the liquid is increased by adding it, and preferably 0.05 to 50 cP (0. 05 to 50 mPa.s), more preferably 0.10 to 20 cP (0.1 to 20 mPa.s), and most preferably 0.10 to 10 cP (0.10 to 10 mPa.s).

このような増粘剤としては以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
ポリ−ε−カプロラクトン
ポリ−ε−カプロラクトン ジオール
ポリ−ε−カプロラクトン トリオール
ポリビニルアセテート
ポリ(エチレン アジペート)
ポリ(1,4−ブチレン アジペート)
ポリ(1,4−ブチレン グルタレート)
ポリ(1,4−ブチレン スクシネート)
ポリ(1,4−ブチレン テレフタレート)
ポリ(エチレンテレフタレート)
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレンアジペート)
ポリ(2−メチル−1,3−プロピレン グルタレート)
ポリ(ネオペンチルグリコールアジペート)
ポリ(ネオペンチルグリコール セバケート)
ポリ(1,3−プロピレンアジペート)
ポリ(1,3−プロピレン グルタレート)
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
セルロースアセテート
セルロースプロピオネート
セルロースアセテートブチレート
Examples of such thickeners include, but are not limited to:
Poly-ε-caprolactone poly-ε-caprolactone diol poly-ε-caprolactone triol polyvinyl acetate poly (ethylene adipate)
Poly (1,4-butylene adipate)
Poly (1,4-butylene glutarate)
Poly (1,4-butylene succinate)
Poly (1,4-butylene terephthalate)
polyethylene terephthalate)
Poly (2-methyl-1,3-propylene adipate)
Poly (2-methyl-1,3-propylene glutarate)
Poly (neopentyl glycol adipate)
Poly (neopentyl glycol sebacate)
Poly (1,3-propylene adipate)
Poly (1,3-propylene glutarate)
Polyvinyl butyral polyvinyl formal polyvinyl acetal polyvinyl propanal polyvinyl hexanal polyvinyl pyrrolidone polyacrylic ester polymethacrylic acid ester cellulose acetate cellulose propionate cellulose acetate butyrate

この他にも特開平8−325491号記載のスメクタイト、フッ素四珪素雲母、ベントナイト、シリカ、モンモリロナイト及びポリアクリル酸ソーダ、特開平10−219136エチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピー性付与剤を使用することが出来る。   Other known viscosity modifiers such as smectite, tetrasilica mica, bentonite, silica, montmorillonite and sodium polyacrylate, JP-A-10-219136, ethyl cellulose, polyacrylic acid, and organic clay described in JP-A-8-325491. Or a thixotropic agent can be used.

1−(10)塗布溶剤
本発明の各層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。
溶媒は2種類以上のものを混合して用いることができる。特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が100℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が100℃以上の溶剤を少量含有することが好ましい。
1- (10) Coating solvent As a solvent used in the coating composition for forming each layer of the present invention, each component can be dissolved or dispersed, and a uniform surface is likely to be formed in the coating process and the drying process. Various solvents selected from the viewpoints of ensuring liquid storage stability and having an appropriate saturated vapor pressure can be used.
Two or more kinds of solvents can be mixed and used. In particular, from the viewpoint of drying load, it is preferable that a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower at normal pressure and room temperature as a main component and a small amount of solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher for adjusting the drying speed.

沸点が100℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン(沸点68.7℃)、ヘプタン(98.4℃)、シクロヘキサン(80.7℃)、ベンゼン(80.1℃)などの炭化水素類、ジクロロメタン(39.8℃)、クロロホルム(61.2℃)、四塩化炭素(76.8℃)、1,2−ジクロロエタン(83.5℃)、トリクロロエチレン(87.2℃)などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル(34.6℃)、ジイソプロピルエーテル(68.5℃)、ジプロピルエーテル (90.5℃)、テトラヒドロフラン(66℃)などのエーテル類、ギ酸エチル(54.2℃)、酢酸メチル(57.8℃)、酢酸エチル(77.1℃)、酢酸イソプロピル(89℃)などのエステル類、アセトン(56.1℃)、2−ブタノン(メチルエチルケトンと同じ、79.6℃)などのケトン類、メタノール(64.5℃)、エタノール(78.3℃)、2−プロパノール(82.4℃)、1−プロパノール(97.2℃)などのアルコール類、アセトニトリル(81.6℃)、プロピオニトリル(97.4℃)などのシアノ化合物類、二硫化炭素(46.2℃)などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では2−ブタノンが特に好ましい。   Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower include hydrocarbons such as hexane (boiling point 68.7 ° C.), heptane (98.4 ° C.), cyclohexane (80.7 ° C.), benzene (80.1 ° C.), Halogenated carbonization such as dichloromethane (39.8 ° C), chloroform (61.2 ° C), carbon tetrachloride (76.8 ° C), 1,2-dichloroethane (83.5 ° C), trichloroethylene (87.2 ° C) Hydrogens, diethyl ether (34.6 ° C), diisopropyl ether (68.5 ° C), dipropyl ether (90.5 ° C), ethers such as tetrahydrofuran (66 ° C), ethyl formate (54.2 ° C), Esters such as methyl acetate (57.8 ° C.), ethyl acetate (77.1 ° C.), isopropyl acetate (89 ° C.), acetone (56.1 ° C.), 2-butanone (methyl ether) Ketones such as Luketone, 79.6 ° C, methanol (64.5 ° C), ethanol (78.3 ° C), 2-propanol (82.4 ° C), 1-propanol (97.2 ° C), etc. Alcohols, cyano compounds such as acetonitrile (81.6 ° C.), propionitrile (97.4 ° C.), carbon disulfide (46.2 ° C.), and the like. Of these, ketones and esters are preferable, and ketones are particularly preferable. Among the ketones, 2-butanone is particularly preferable.

沸点が100℃を以上の溶剤としては、例えば、オクタン(125.7℃)、トルエン(110.6℃)、キシレン(138℃)、テトラクロロエチレン(121.2℃)、クロロベンゼン(131.7℃)、ジオキサン(101.3℃)、ジブチルエーテル(142.4℃)、酢酸イソブチル(118℃)、シクロヘキサノン(155.7℃)、2−メチル−4−ペンタノン(MIBKと同じ、115.9℃)、1−ブタノール(117.7℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(153℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(166℃)、ジメチルスルホキシド(189℃)などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、2−メチル−4−ペンタノンである。   Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or more include, for example, octane (125.7 ° C.), toluene (110.6 ° C.), xylene (138 ° C.), tetrachloroethylene (121.2 ° C.), and chlorobenzene (131.7 ° C.). , Dioxane (101.3 ° C), dibutyl ether (142.4 ° C), isobutyl acetate (118 ° C), cyclohexanone (155.7 ° C), 2-methyl-4-pentanone (same as MIBK, 115.9 ° C) 1-butanol (117.7 ° C.), N, N-dimethylformamide (153 ° C.), N, N-dimethylacetamide (166 ° C.), dimethyl sulfoxide (189 ° C.) and the like. Cyclohexanone and 2-methyl-4-pentanone are preferable.

1−(11)その他
本発明のフィルムには、前記の成分以外に、樹脂、カップリング剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤などを添加することもできる。
1- (11) Others In addition to the above-described components, the film of the present invention includes a resin, a coupling agent, a coloring inhibitor, a coloring agent (pigment, dye), an antifoaming agent, a leveling agent, a flame retardant, and an ultraviolet absorber. , Infrared absorbers, adhesion-imparting agents, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, and the like can also be added.

1−(12)支持体
本発明のフィルムの支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム(例えば、セルローストリアセテートフィルム(屈折率1.48)、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム)、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルム等が使用できる。
1- (12) Support The support of the film of the present invention is not particularly limited, such as a transparent resin film, a transparent resin plate, a transparent resin sheet, and transparent glass. Transparent resin films include cellulose acylate films (for example, cellulose triacetate film (refractive index 1.48), cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose acetate propionate film), polyethylene terephthalate film, polyethersulfone. Films, polyacrylic resin films, polyurethane resin films, polyester films, polycarbonate films, polysulfone films, polyether films, polymethylpentene films, polyetherketone films, (meth) acrylonitrile films, and the like can be used.

<セルロースアシレートフィルム>
その中でも、透明性が高く、光学的に複屈折が少なく、製造が容易であり、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムが好ましく、セルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。又、透明支持体の厚さは通常25μm〜1000μm程度とする。
<Cellulose acylate film>
Among them, a cellulose acylate film having high transparency, optically low birefringence, easy production, and generally used as a protective film for a polarizing plate is preferable, and a cellulose triacetate film is particularly preferable. The thickness of the transparent support is usually about 25 μm to 1000 μm.

本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が59.0〜61.5%であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D−817−91(セルロースアセテート等の試験法)におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
セルロースアシレートの粘度平均重合度(DP)は、250以上であることが好ましく、290以上であることがさらに好ましい。
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるMw/Mn(Mwは質量平均分子量、Mnは数平均分子量)の値が1.0に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なMw/Mnの値としては、1.0〜1.7であることが好ましく、1.3〜1.65であることがさらに好ましく、1.4〜1.6であることが最も好ましい。
In the present invention, it is preferable to use cellulose acetate having an acetylation degree of 59.0 to 61.5% for the cellulose acylate film.
The degree of acetylation means the amount of bound acetic acid per unit mass of cellulose. The degree of acetylation follows the measurement and calculation of the degree of acetylation in ASTM: D-817-91 (test method for cellulose acetate and the like).
The viscosity average degree of polymerization (DP) of cellulose acylate is preferably 250 or more, and more preferably 290 or more.
In addition, the cellulose acylate used in the present invention has a Mw / Mn (Mw is mass average molecular weight, Mn is number average molecular weight) value by gel permeation chromatography close to 1.0, in other words, a molecular weight distribution. Narrow is preferred. The specific value of Mw / Mn is preferably 1.0 to 1.7, more preferably 1.3 to 1.65, and most preferably 1.4 to 1.6. preferable.

一般に、セルロースアシレートの2,3,6位の水酸基は全体の置換度の1/3づつに均等に分配されるわけではなく、6位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの6位水酸基の置換度が、2,3位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して6位の水酸基が32%以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には33%以上、特に34%以上であることが好ましい。さらにセルロースアシレートの6位アシル基の置換度が0.88以上であることが好ましい。6位水酸基は、アセチル基以外に炭素数3以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、NMRによって求めることができる。
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平11−5851号公報の段落「0043」〜「0044」[実施例][合成例1]、段落「0048」〜「0049」[合成例2]、段落「0051」〜「0052」[合成例3]に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
In general, the hydroxyl groups at 2, 3, and 6 positions of cellulose acylate are not evenly distributed by 1/3 of the total substitution degree, and the substitution degree of the 6-position hydroxyl group tends to be small. In the present invention, it is preferable that the substitution degree of the 6-position hydroxyl group of cellulose acylate is larger than that of the 2- and 3-positions.
The hydroxyl group at the 6-position with respect to the total degree of substitution is preferably substituted with an acyl group of 32% or more, more preferably 33% or more, and particularly preferably 34% or more. Furthermore, the substitution degree of the 6-position acyl group of cellulose acylate is preferably 0.88 or more. The 6-position hydroxyl group may be substituted with a propionyl group, butyroyl group, valeroyl group, benzoyl group, acryloyl group or the like, which is an acyl group having 3 or more carbon atoms, in addition to the acetyl group. The degree of substitution at each position can be determined by NMR.
In the present invention, as cellulose acylate, paragraphs “0043” to “0044” [Example] [Synthesis Example 1], paragraphs “0048” to “0049” [Synthesis Example 2], paragraph “ Cellulose acetate obtained by the method described in “0051” to “0052” [Synthesis Example 3] can be used.

<ポリエチレンテレフタレートフィルム>
本発明では、ポリエチレンテレフタレートフィルムも、透明性、機械的強度、平面性、耐薬品性および耐湿性共に優れており、その上安価であり好ましく用いられる。
透明プラスチックフィルムとその上に設けられるハードコート層との密着強度をより向上させるため、透明プラスチックフィルムは易接着処理が施されたされたものであることが更に好ましい。
市販されている光学用易接着層付きPETフィルムとしては東洋紡績社製コスモシャインA4100、A4300等が挙げられる。
<Polyethylene terephthalate film>
In the present invention, the polyethylene terephthalate film is also preferably used because it is excellent in transparency, mechanical strength, flatness, chemical resistance and moisture resistance, and is inexpensive.
In order to further improve the adhesion strength between the transparent plastic film and the hard coat layer provided thereon, the transparent plastic film is more preferably subjected to an easy adhesion treatment.
Examples of commercially available PET films with an easily adhesive layer for optics include Toyobo Co., Ltd. Cosmo Shine A4100 and A4300.

2.フィルムを構成する層
本発明のフィルムは、上記の各種化合物を混合、塗設することによって得られるものであるが、次に、本発明のフィルムを構成する層について記載する。
2. The layer which comprises a film Although the film of this invention is obtained by mixing and coating said various compounds, it describes about the layer which comprises the film of this invention next.

2−(1)防眩層
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
2- (1) Antiglare Layer The antiglare layer is formed for the purpose of contributing to the film antiglare properties due to surface scattering and preferably hard coat properties for improving the scratch resistance of the film.

防眩性を形成する方法としては、特開平6−16851号記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法、特開2000−206317号記載のように電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法、特開2000−338310号記載のように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の質量比が減少することにより透光性微粒子および透光性樹脂とをゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法、特開2000−275404号記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法などが知られており、これら公知の方法を利用することができる。
本発明で用いることができる防眩層は好ましくはハードコート性を付与することのできるバインダー、防眩性を付与するための透光性粒子、および溶媒を必須成分として含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものであることが好ましい。
マット粒子の分散によって形成される防眩層は、バインダーとバインダー中に分散された透光性粒子とからなる。防眩性を有する防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。
As a method of forming the antiglare property, a method of laminating and forming a mat-shaped shaping film having fine irregularities on the surface as described in JP-A-6-16851, as described in JP-A-2000-206317 A method of forming by curing shrinkage of an ionizing radiation curable resin due to a difference in the amount of ionizing radiation applied, and by reducing the mass ratio of a good solvent to a light transmitting resin by drying as described in JP-A No. 2000-338310. A method of solidifying the light-sensitive fine particles and the translucent resin while gelling to form unevenness on the coating film surface, a method of imparting surface unevenness by external pressure as described in JP-A-2000-275404, etc. These known methods can be used.
The antiglare layer that can be used in the present invention preferably contains a binder capable of imparting hard coat properties, translucent particles for imparting antiglare properties, and a solvent as essential components. It is preferable that irregularities on the surface be formed by the protrusions of the protrusions themselves or protrusions formed by an aggregate of a plurality of particles.
The antiglare layer formed by dispersing the matte particles is composed of a binder and translucent particles dispersed in the binder. The antiglare layer having antiglare properties preferably has both antiglare properties and hard coat properties.

上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、TiO粒子等の無機化合物の粒子;アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。
マット粒子の形状は、球形あるいは不定形のいずれも使用できる。
As specific examples of the mat particles, particles of inorganic compounds such as silica particles and TiO 2 particles; resin particles such as acrylic particles, crosslinked acrylic particles, polystyrene particles, crosslinked styrene particles, melamine resin particles, and benzoguanamine resin particles are preferable. Can be mentioned. Of these, crosslinked styrene particles, crosslinked acrylic particles, and silica particles are preferred.
The shape of the mat particles can be either spherical or irregular.

マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。   The particle size distribution of the matte particles is measured by a Coulter counter method, and the measured distribution is converted into a particle number distribution.

これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせて透光性樹脂の屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズを達成することができる。具体的には、後述する本発明の防眩層に好ましく用いられる3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としてなる透光性樹脂(硬化後の屈折率が1.55〜1.70)と、スチレン含率50〜100質量%である架橋ポリ(メタ)アクリレート重合体からなる透光性粒子および/またはベンゾグアナミン粒子との組合せが好ましく、特に前記透光性樹脂とスチレン含率50〜100質量%である架橋ポリ(スチレン−アクリレート)共重合体からなる透光性粒子(屈折率が1.54〜1.59)との組合せが特に好ましい。   The internal haze and surface haze of the present invention can be achieved by adjusting the refractive index of the translucent resin in accordance with the refractive index of each translucent particle selected from these particles. Specifically, a translucent resin (having a refractive index after curing of 1.55 to 1.70) mainly composed of a trifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer preferably used in the antiglare layer of the present invention described later. And a combination of translucent particles and / or benzoguanamine particles made of a crosslinked poly (meth) acrylate polymer having a styrene content of 50 to 100% by mass, particularly the translucent resin and styrene content of 50 to 100. A combination with translucent particles (having a refractive index of 1.54 to 1.59) made of a crosslinked poly (styrene-acrylate) copolymer having a mass% is particularly preferred.

透光性粒子は、形成された防眩層中に、防眩層全固形分中に3〜30質量%含有されるように配合されることが防眩性、画像ボケ、表面の白濁、ギラツキ等の観点から好ましい。より好ましくは5〜20質量%である。3質量%未満であると、防眩性が不足し、30質量%を超えると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題が生じる。
また、透光性粒子の密度は、好ましくは10〜1000mg/m2、より好ましくは1
00〜700mg/m2である。
The translucent particles may be blended in the formed anti-glare layer so as to be contained in an amount of 3 to 30% by mass in the total solid content of the anti-glare layer. From the viewpoint of the above. More preferably, it is 5-20 mass%. If it is less than 3% by mass, the antiglare property is insufficient, and if it exceeds 30% by mass, problems such as image blur, surface turbidity and glare occur.
The density of the translucent particles is preferably 10 to 1000 mg / m 2 , more preferably 1
It is a 00~700mg / m 2.

また、透光性樹脂の屈折率と透光性粒子の屈折率の差の絶対値が0.04以下が好ましい。透光性樹脂の屈折率と透光性粒子の屈折率の差の絶対値は好ましくは0.001〜0.030であり、より好ましくは0.001〜0.020、更に好ましくは0.001〜0.015である。この差が0.040を超えると、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じる。
ここで、前記透光性樹脂の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる2種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
The absolute value of the difference between the refractive index of the translucent resin and the refractive index of the translucent particles is preferably 0.04 or less. The absolute value of the difference between the refractive index of the translucent resin and the refractive index of the translucent particles is preferably 0.001 to 0.030, more preferably 0.001 to 0.020, and still more preferably 0.001. ~ 0.015. If this difference exceeds 0.040, problems such as film character blur, dark room contrast reduction, and surface turbidity occur.
Here, the refractive index of the translucent resin can be quantitatively evaluated by directly measuring it with an Abbe refractometer or by measuring a spectral reflection spectrum or a spectral ellipsometry. The refractive index of the light-transmitting particles is measured by measuring the turbidity by equally dispersing the light-transmitting particles in the solvent in which the refractive index is changed by changing the mixing ratio of two kinds of solvents having different refractive indexes. It is measured by measuring the refractive index of the solvent when the turbidity is minimized with an Abbe refractometer.

また、粒子径の異なる2種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、133ppi以上の高精細ディスプレイに防眩性反射防止フィルムを貼り付けた場合に、「ギラツキ」と呼ばれる表示画像品位上の不具合が発生する場合がある。「ギラツキ」は、防眩性反射防止防止フィルム表面に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与するマット粒子よりも小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。   Two or more kinds of mat particles having different particle diameters may be used in combination. It is possible to impart anti-glare properties with mat particles having a larger particle size and to impart other optical characteristics with mat particles having a smaller particle size. For example, when an anti-glare antireflection film is attached to a high-definition display of 133 ppi or higher, a problem in display image quality called “glare” may occur. “Glitter” is derived from the fact that pixels are enlarged or reduced due to unevenness present on the surface of the antiglare and antireflection antireflection film, resulting in loss of luminance uniformity, but particles smaller than mat particles that impart antiglare properties. It can be greatly improved by using mat particles having a diameter different from that of the binder.

防眩層の膜厚は、1〜10μmが好ましく、1.2〜8μmがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が低下する場合があるので、前記範囲内とするのが好ましい。   The film thickness of the antiglare layer is preferably 1 to 10 μm, and more preferably 1.2 to 8 μm. If it is too thin, the hard property is insufficient, and if it is too thick, curling and brittleness may be deteriorated and workability may be lowered.

一方、防眩層の中心線平均粗さ(Ra)を0.10〜0.40μmの範囲が好ましい。0.40μmを超えると、ギラツキや外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生する。また、透過画像鮮明度の値は、5〜60%とするのが好ましい。   On the other hand, the center line average roughness (Ra) of the antiglare layer is preferably in the range of 0.10 to 0.40 μm. If it exceeds 0.40 μm, problems such as glare and whitening of the surface when external light is reflected occur. Further, it is preferable that the value of the transmitted image definition is 5 to 60%.

防眩層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。   The strength of the antiglare layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test.

2−(2)ハードコート層
本発明のフィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、防眩層に加えてハードコート層を設けることができる。
好ましくは、その上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
2- (2) Hard Coat Layer In addition to the antiglare layer, the film of the present invention can be provided with a hard coat layer in order to impart the physical strength of the film.
Preferably, a low refractive index layer is provided thereon, and more preferably, an intermediate refractive index layer and a high refractive index layer are provided between the hard coat layer and the low refractive index layer to constitute an antireflection film.
The hard coat layer may be composed of two or more layers.

本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が1.48〜2.00の範囲にあることが好ましく、より好ましくは1.52〜1.90であり、更に好ましくは1.55〜1.80である。本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも1層あるので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。   The refractive index of the hard coat layer in the present invention is preferably in the range of 1.48 to 2.00, more preferably 1.52 to 1, from the optical design for obtaining an antireflection film. .90, more preferably 1.55 to 1.80. In the present invention, since there is at least one low refractive index layer on the hard coat layer, if the refractive index is too small, the antireflection property is lowered, and if it is too large, the color of the reflected light tends to be strong. is there.

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常0.5μm〜50μm程度とし、好ましくは1μm〜20μm、さらに好ましくは2μm〜10μm、最も好ましくは3μm〜7μmである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
さらに、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
From the viewpoint of imparting sufficient durability and impact resistance to the film, the thickness of the hard coat layer is usually about 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 20 μm, more preferably 2 μm. 10 μm, most preferably 3 μm to 7 μm.
Further, the strength of the hard coat layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test.
Furthermore, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. For example, it may be formed by coating a coating composition containing an ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer on a transparent support and subjecting the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer to a crosslinking reaction or a polymerization reaction. it can.
The functional group of the ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable.
Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable.

ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が1.0〜10.0μm、好ましくは1.5〜7.0μmのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子を含有してもよい。   The hard coat layer contains matte particles having an average particle diameter of 1.0 to 10.0 μm, preferably 1.5 to 7.0 μm, such as inorganic compound particles or resin particles, for the purpose of imparting internal scattering properties. May be.

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマーまたは無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマーおよび/又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。   For the purpose of controlling the refractive index of the hard coat layer, a high refractive index monomer, inorganic particles, or both can be added to the binder of the hard coat layer. In addition to the effect of controlling the refractive index, the inorganic particles also have the effect of suppressing cure shrinkage due to the crosslinking reaction. In the present invention, a polymer formed by polymerizing the polyfunctional monomer and / or the high refractive index monomer after the hard coat layer is formed, and the inorganic particles dispersed therein are referred to as a binder.

画像の鮮明性を維持する目的では、表面の凹凸形状を調整することに加えて、透過画像鮮明度を調整することが好ましい。クリアな反射防止フィルムの透過画像鮮明度は60%以上が好ましい。透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。透過画像鮮明度は好ましくは70%以上であり、更に好ましくは80%以上である。   In order to maintain the sharpness of the image, it is preferable to adjust the clarity of the transmitted image in addition to adjusting the uneven shape of the surface. The clearness of the transmitted image of the clear antireflection film is preferably 60% or more. The transmitted image clarity is generally an index indicating the degree of blurring of an image reflected through a film, and the larger this value, the clearer and better the image viewed through the film. The transmitted image definition is preferably 70% or more, and more preferably 80% or more.

2−(3)高屈折率層、中屈折率層
本発明のフィルムには、高屈折率層、中屈折率層を設け、反射防止性を高めることができる。
以下の本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、透明支持体との関係で言えば屈性率は、透明支持体>低屈折率層、高屈折率層>透明支持体の関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。
2- (3) High Refractive Index Layer, Medium Refractive Index Layer The film of the present invention can be provided with a high refractive index layer and a medium refractive index layer to enhance antireflection properties.
In the following specification, the high refractive index layer and the medium refractive index layer may be collectively referred to as a high refractive index layer. In the present invention, “high”, “medium”, and “low” in the high refractive index layer, the medium refractive index layer, and the low refractive index layer represent the relative refractive index relationship between the layers. In terms of the relationship with the transparent support, the refractive index preferably satisfies the relationship of transparent support> low refractive index layer, high refractive index layer> transparent support.
In the present specification, the high refractive index layer, the middle refractive index layer, and the low refractive index layer may be collectively referred to as an antireflection layer.

高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は1.55〜2.40であることが好ましく、より好ましくは1.60〜2.20、更に好ましくは、1.65〜2.10、最も好ましくは1.80〜2.00である。   In order to construct an antireflection film by constructing a low refractive index layer on a high refractive index layer, the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.40, more preferably 1.60 to 2.20, more preferably 1.65 to 2.10, and most preferably 1.80 to 2.00.

支持体から近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作成する場合、高屈折率層の屈折率は、1.65乃至2.40であることが好ましく、1.70乃至2.20であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55乃至1.80であることが好ましい。   When an antireflective film is prepared by coating a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer in order from the support, the refractive index of the high refractive index layer is 1.65 to 2.40. Preferably, it is 1.70 to 2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be a value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55 to 1.80.

高屈折率層および中屈折率層に用いるTiOを主成分とする無機粒子は、分散物の状態で高屈折率層および中屈折率層の形成に使用する。
無機粒子の分散において、分散剤の存在下で分散媒体中に分散する。
The inorganic particles mainly composed of TiO 2 used for the high refractive index layer and the medium refractive index layer are used for forming the high refractive index layer and the medium refractive index layer in the state of dispersion.
In the dispersion of the inorganic particles, the inorganic particles are dispersed in a dispersion medium in the presence of a dispersant.

本発明に用いる高屈折率層および中屈折率層は、分散媒体中に無機粒子を分散した分散液に、好ましくは、さらにマトリックス形成に必要なバインダー前駆体(例えば、後述する電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)、光重合開始剤等を加えて高屈折率層および中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層および中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、電離放射線硬化性化合物(例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。   The high refractive index layer and the medium refractive index layer used in the present invention are preferably used in a dispersion liquid in which inorganic particles are dispersed in a dispersion medium, preferably a binder precursor necessary for matrix formation (for example, an ionizing radiation curable composition described later). Polyfunctional monomer, polyfunctional oligomer, etc.), photopolymerization initiator, etc. are added to form a coating composition for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer, and a high refractive index layer and a medium refractive index layer are formed on a transparent support. It is preferable that the coating composition is applied and cured by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound (for example, a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer).

さらに、高屈折率層および中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時または塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
このようにして作製した高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機粒子を含有する高屈折率層および中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。
Furthermore, it is preferable to cause the binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer to undergo a crosslinking reaction or a polymerization reaction with the dispersant simultaneously with or after the coating of the layer.
The binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer produced in this way is, for example, the above-mentioned preferred dispersant and ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer are crosslinked or polymerized to form a binder. The anionic group of the dispersant is incorporated. Furthermore, the binder of the high refractive index layer and the medium refractive index layer has a function in which the anionic group maintains the dispersion state of the inorganic particles, and the crosslinked or polymerized structure imparts a film forming ability to the binder and contains inorganic particles. To improve the physical strength, chemical resistance and weather resistance of the high refractive index layer and medium refractive index layer.

高屈折率層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して、5〜80質量%添加する。   The binder of the high refractive index layer is added in an amount of 5 to 80% by mass based on the solid content of the coating composition of the layer.

高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し10〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは15〜80質量%、特に好ましくは15〜75質量%である。無機粒子は高屈折率層内で二種類以上を併用してもよい。
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素(例えば、Br,I,Cl等)を含む電離放射線硬化性化合物、S,N,P等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
The content of the inorganic particles in the high refractive index layer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 15 to 80% by mass, and particularly preferably 15 to 75% by mass with respect to the mass of the high refractive index layer. . Two or more inorganic particles may be used in combination in the high refractive index layer.
When the low refractive index layer is provided on the high refractive index layer, the refractive index of the high refractive index layer is preferably higher than the refractive index of the transparent support.
The high refractive index layer contains an ionizing radiation curable compound containing an aromatic ring, an ionizing radiation curable compound containing a halogenated element other than fluorine (for example, Br, I, Cl, etc.), and atoms such as S, N, P, etc. A binder obtained by a crosslinking or polymerization reaction such as an ionizing radiation curable compound can also be preferably used.

高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を後述する光学干渉層として用いる場合、30〜200nmが好ましく、より好ましくは50〜170nm、特に好ましくは60〜150nmである。   The film thickness of the high refractive index layer can be appropriately designed depending on the application. When using a high refractive index layer as an optical interference layer described later, the thickness is preferably 30 to 200 nm, more preferably 50 to 170 nm, and particularly preferably 60 to 150 nm.

高屈折率層のヘイズは、防眩機能を付与する粒子を含有しない場合、低いほど好ましい。5%以下であることが好ましく、さらに好ましくは3%以下、特に好ましくは1%以下である。
高屈折率層は、前記透明支持体上に直接、又は、他の層を介して構築することが好ましい。
The haze of the high refractive index layer is preferably as low as possible when it does not contain particles that impart an antiglare function. It is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 1% or less.
The high refractive index layer is preferably constructed directly on the transparent support or via another layer.

2−(4)低屈折率層
本発明のフィルムの反射率を低減するため、低屈折率層を用いることができる。低屈折率層の屈折率は、1.20〜1.46であることが好ましく、1.25〜1.46であることがより好ましく、1.30〜1.46であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、30〜500nmであることが好ましく、70〜500nmであることがさらに好ましい。導電性付与のためには、低屈折率層を130〜500nmの厚みにすることが好ましい。低屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
2- (4) Low Refractive Index Layer In order to reduce the reflectance of the film of the present invention, a low refractive index layer can be used. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.20 to 1.46, more preferably 1.25 to 1.46, and particularly preferably 1.30 to 1.46.
The thickness of the low refractive index layer is preferably 30 to 500 nm, and more preferably 70 to 500 nm. In order to impart conductivity, it is preferable that the low refractive index layer has a thickness of 130 to 500 nm. The haze of the low refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less. The specific strength of the low refractive index layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test under a 500 g load.

2−(5)帯電防止層、導電性層
本発明においては、粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層以外に、更に帯電防止層を設けることがフィルム表面での静電気防止の点で好ましい。帯電防止層を形成する方法は、例えば、導電性微粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工液を塗工する方法、或いは透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングして導電性薄膜を形成する方法、ポリチオフェンやポリアニリンのような導電性の高分子を含有させる等の従来公知の方法を挙げることができる。導電性層は、支持体に直接又は支持体との接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。また、帯電防止層を反射防止膜の一部として使用することもできる。
2- (5) Antistatic layer, conductive layer In the present invention, in addition to a layer containing conductive particles in which the inside of the particle is porous or hollow, an antistatic layer may be provided to prevent static electricity on the film surface. This is preferable. The antistatic layer can be formed by, for example, applying a conductive coating solution containing conductive fine particles and a reactive curable resin, or depositing or sputtering a metal or metal oxide that forms a transparent film. Conventionally known methods such as a method of forming a conductive thin film and a conductive polymer such as polythiophene or polyaniline can be mentioned. The conductive layer can be formed directly on the support or via a primer layer that strengthens adhesion to the support. Further, the antistatic layer can be used as a part of the antireflection film.

帯電防止層の厚さは、0.01〜10μmが好ましく、0.03〜7μmであることがより好ましく、0.05〜5μmであることがさらに好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、10〜1012Ω/sqであることが好ましく、10〜10Ω/sqであることがさらに好ましく、10〜10Ω/sqであることが最も好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。 The thickness of the antistatic layer is preferably from 0.01 to 10 μm, more preferably from 0.03 to 7 μm, and even more preferably from 0.05 to 5 μm. The surface resistance of the antistatic layer is preferably from 10 5 ~10 12 Ω / sq, more preferably from 10 5 ~10 9 Ω / sq, most be 10 5 ~10 8 Ω / sq preferable. The surface resistance of the antistatic layer can be measured by a four probe method.

帯電防止層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、帯電防止層のヘイズが、10%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、3%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。波長550nmの光の透過率が、50%以上であることが好ましく、60%以上であることがより好ましく、65%以上であることがさらに好ましく、70%以上であることが最も好ましい。
本発明の帯電防止層は、強度が優れており、具体的な帯電防止層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがより好ましく、3H以上であることがさらに好ましく、4H以上であることが最も好ましい。
The antistatic layer is preferably substantially transparent. Specifically, the haze of the antistatic layer is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, further preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. . The transmittance of light having a wavelength of 550 nm is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, further preferably 65% or more, and most preferably 70% or more.
The antistatic layer of the present invention has excellent strength, and the specific antistatic layer has a pencil hardness of 1 kg, preferably H or higher, more preferably 2H or higher, more preferably 3H or higher. Is more preferable, and 4H or more is most preferable.

2−(6)干渉ムラ(虹ムラ)防止層
透明支持体とハードコート層、または透明支持体と防眩層に実質的な屈折率差(屈折率差が0.03以上)がある場合、透明支持体/ハードコート層、または透明支持体/防眩層界面で反射光が生じる。この反射光は反射防止層表面での反射光と干渉し、ハードコート層(または防眩層)の微妙な膜厚ムラに起因した干渉ムラを生じることがある。この様な干渉ムラを防止するために、例えば透明支持体とハードコート層(または防眩層)の間に中間の屈折率nを有し、膜厚dが下記式を満たす様な干渉ムラ防止層を設けることもできる。
2- (6) Interference unevenness (rainbow unevenness) prevention layer When there is a substantial refractive index difference (refractive index difference of 0.03 or more) between the transparent support and the hard coat layer, or between the transparent support and the antiglare layer, Reflected light is generated at the transparent support / hard coat layer or at the transparent support / antiglare layer interface. This reflected light interferes with the reflected light on the surface of the antireflection layer, and may cause interference unevenness due to subtle film thickness unevenness of the hard coat layer (or antiglare layer). In order to prevent such interference unevenness, for example, it has an intermediate refractive index n P between the transparent support and the hardcoat layer (or antiglare layer), such as the film thickness d P satisfies the following formula interference An unevenness prevention layer can also be provided.

数式(C)
=(2N−1)×λ/(4n
但し、λは可視光の波長で450〜650nmの範囲の何れかの値、Nは自然数を表す。
Formula (C)
d P = (2N−1) × λ / (4n P )
However, λ is a wavelength of visible light and any value in the range of 450 to 650 nm, and N represents a natural number.

また、光学フィルムを画像表示装置等に貼合する場合、透明支持体の反射防止層を積層していない側に粘着剤層(または接着剤層)を積層する場合がある。この様な態様で、透明支持体と粘着剤層(または接着剤層)の間に実質的な屈折率差(0.03以上)がある場合、透明支持体/粘着剤層(または接着剤層)の反射光が生じ、この反射光が、反射防止層表面の反射光などと干渉し、上記と同様に支持体やハードコート層の膜厚ムラに起因した干渉ムラを生じることがある。この様な干渉ムラを防止する目的で透明支持体の反射防止層を積層していない側に上記と同様の干渉ムラ防止層を設けることもできる。   Moreover, when bonding an optical film to an image display apparatus etc., an adhesive layer (or adhesive layer) may be laminated | stacked on the side which has not laminated | stacked the antireflection layer of the transparent support body. In such an embodiment, when there is a substantial refractive index difference (0.03 or more) between the transparent support and the pressure-sensitive adhesive layer (or adhesive layer), the transparent support / pressure-sensitive adhesive layer (or adhesive layer) The reflected light interferes with the reflected light on the surface of the antireflection layer, and the interference unevenness due to the film thickness unevenness of the support or the hard coat layer may occur as described above. For the purpose of preventing such interference unevenness, an interference unevenness preventing layer similar to the above can be provided on the side of the transparent support on which the antireflection layer is not laminated.

尚、この様な干渉ムラ防止層に関しては特開2004−345333号公報に詳しく記載されており、本発明ではここで紹介されている干渉ムラ防止層を用いることもできる。   Such an interference non-uniformity prevention layer is described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-345333, and the interference non-uniformity prevention layer introduced here can also be used in the present invention.

2−(7)易接着層
本発明のフィルムには易接着層を塗設することもできる。易接着層とは、例えば、偏光板用保護フィルムとその隣接層、あるいはハードコート層と支持体とを接着し易くする機能を付与する層のことをいう。
易接着処理としては、ポリエステル、アクリル酸エステル、ポリウレタン、ポリエチレンイミン、シランカップリング剤等からなる易接着剤により透明プラスチックフィルム上に易接着層を設ける処理が挙げられる。
本発明にて好ましく用いられる易接着層の例としては、−COOM(Mは水素原子またはカチオンを表す)基を有する高分子化合物を含有する層を含むものであり、さらに好ましい態様はフィルム基材側に−COOM基を有する高分子化合物を含有する層を設け、それに隣接させて偏光膜側に親水性高分子化合物を主たる成分として含む層を設けたものである。ここでいう−COOM基を有する高分子化合物としては例えば−COOM基を有するスチレン−マレイン酸共重合体や−COOM基を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸−無水マレイン酸共重合体などであり、特に−COOM基を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合体を用いると好ましい。このような高分子化合物を単独でまたは2種以上併用して用い、好ましい質量平均分子量としては500〜500,000程度のものであるとよい。−COOM基を有する高分子化合物の特に好ましい例は特開平6−094915号、特開平7−333436号各公報記載のものが好ましく用いられる。
2- (7) Easy-Adhesion Layer An easy-adhesion layer can be applied to the film of the present invention. An easy-adhesion layer means the layer which provides the function which makes it easy to adhere | attach a protective film for polarizing plates, its adjacent layer, or a hard-coat layer and a support body, for example.
Examples of the easy adhesion treatment include a treatment of providing an easy adhesion layer on a transparent plastic film with an easy adhesive composed of polyester, acrylic acid ester, polyurethane, polyethyleneimine, silane coupling agent and the like.
Examples of the easy-adhesion layer preferably used in the present invention include a layer containing a polymer compound having a -COOM (M represents a hydrogen atom or a cation) group, and a more preferable embodiment is a film substrate. A layer containing a polymer compound having a —COOM group is provided on the side, and a layer containing a hydrophilic polymer compound as a main component is provided on the polarizing film side adjacent to the layer. Examples of the polymer compound having -COOM group herein include styrene-maleic acid copolymer having -COOM group, vinyl acetate-maleic acid copolymer having -COOM group, and vinyl acetate-maleic acid-maleic anhydride. For example, it is preferable to use a vinyl acetate-maleic acid copolymer having a —COOM group. These polymer compounds are used alone or in combination of two or more, and the preferred mass average molecular weight is preferably about 500 to 500,000. Particularly preferred examples of the polymer compound having a —COOM group include those described in JP-A-6-094915 and JP-A-7-333436.

また親水性高分子化合物として好ましくは、親水性セルロース誘導体(例えば、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシセルロース等)、ポリビニルアルコール誘導体(例えば、ポリビニルアルコール、酢酸ビニルービニルアルコール共重合体、ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、ポリビニルベンザール等)、天然高分子化合物(例えば、ゼラチン、カゼイン、アラビアゴム等)、親水性ポリエステル誘導体(例えば、部分的にスルホン化されたポリエチレンテレフタレート等)、親水性ポリビニル誘導体(例えば、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリビニルインダゾール、ポリビニルピラゾール等)が挙げられ、単独或いは2種以上併用して用いられる。
易接着層の厚みとしては接着性の効果の観点から0.05〜1.0μmの範囲が好ましい。
The hydrophilic polymer compound is preferably a hydrophilic cellulose derivative (eg, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxy cellulose, etc.), a polyvinyl alcohol derivative (eg, polyvinyl alcohol, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, polyvinyl acetal, polyvinyl formal). , Polyvinyl benzal, etc.), natural polymer compounds (eg, gelatin, casein, gum arabic, etc.), hydrophilic polyester derivatives (eg, partially sulfonated polyethylene terephthalate), hydrophilic polyvinyl derivatives (eg, poly -N-vinylpyrrolidone, polyacrylamide, polyvinylindazole, polyvinylpyrazole and the like), and may be used alone or in combination of two or more.
The thickness of the easy adhesion layer is preferably in the range of 0.05 to 1.0 μm from the viewpoint of adhesive effect.

2−(8)カール防止層
本発明のフィルムには、カール防止加工を施すこともできる。カール防止加工とは、これを施した面を内側にして丸まろうとする機能を付与するものであるが、この加工を施すことによって、透明樹脂フィルムの片面に何らかの表面加工をして、両面に異なる程度・種類の表面加工を施した際に、その面を内側にしてカールしようとするのを防止する働きをするものである。
カール防止層は基材の防眩層または反射防止層を有する側と反対側に設ける態様或いは、例えば透明樹脂フィルムの片面に易接着層を塗設する場合もあり、また逆面にカール防止加工を塗設するような態様が挙げられる。
2- (8) Anti-curl Layer The film of the present invention can be subjected to anti-curl processing. The anti-curl processing is to give the function of trying to curl with the surface to which it is applied inside, but by applying this processing, some surface processing is performed on one side of the transparent resin film and both sides are processed. When surface treatments of different degrees and types are applied, it functions to prevent curling with the surface facing inward.
The anti-curl layer may be provided on the side opposite to the side having the anti-glare layer or anti-reflection layer of the base material, or for example, an easy-adhesion layer may be coated on one side of the transparent resin film, and the anti-curl processing is performed on the opposite side The mode which coats is mentioned.

カール防止加工の具体的方法としては、溶剤塗布によるもの、溶剤とセルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等の透明樹脂層を塗設するもの等が挙げられる。溶剤による方法とは、具体的には偏光板用保護フィルムとして用いるセルロースアシレートフィルムを溶解させる溶剤または膨潤させる溶剤を含む組成物を塗布することによって行われる。これらのカールを防止する機能を有する層の塗布液は従ってケトン系、エステル系の有機溶剤を含有するものが好ましい。好ましいケトン系の有機溶媒の例としてはアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、乳酸エチル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、エチル−n−ブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジエチルケトン、ジ−n−プロピルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチル−n−ブチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチル−n−ヘキシルケトン、メチル−n−へプチルケトン等であり、好ましいエステル系の有機溶剤の例としては酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。しかしながら、用いる溶剤としては溶解させる溶剤および/または膨潤させる溶剤の混合物の他、さらに溶解させない溶剤を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物および塗布量を用いて行う。この他にも、透明ハード加工や帯電防止加工を施してもカール防止機能を発揮する。   Specific examples of the anti-curl processing include solvent coating, and a method of applying a solvent and a transparent resin layer such as cellulose triacetate, cellulose diacetate, and cellulose acetate propionate. The method using a solvent is specifically performed by applying a composition containing a solvent for dissolving or swelling a cellulose acylate film used as a protective film for a polarizing plate. Accordingly, the coating solution for the layer having a function of preventing curling preferably contains a ketone-based or ester-based organic solvent. Examples of preferred ketone-based organic solvents include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl lactate, acetyl acetone, diacetone alcohol, isophorone, ethyl-n-butyl ketone, diisopropyl ketone, diethyl ketone, di-n-propyl ketone, Examples thereof include methylcyclohexanone, methyl-n-butyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-hexyl ketone, methyl-n-heptyl ketone, etc. Examples of preferable ester organic solvents include methyl acetate, ethyl acetate, acetic acid Examples include butyl, methyl lactate, and ethyl lactate. However, as a solvent to be used, in addition to a solvent mixture to be dissolved and / or a solvent to be swollen, it may further contain a solvent that does not dissolve, and a composition in which these are mixed at an appropriate ratio depending on the degree of curl of the transparent resin film and the type of resin. This is done using the product and the coating amount. In addition, the anti-curl function is exhibited even if transparent hard processing or antistatic processing is applied.

2−(9)水吸収層
本発明のフィルムには水吸収剤を使用することができる。水吸収剤は、アルカリ土類金属を中心に、水吸収機能を有する化合物から選択することができる。例えば、BaO、SrO、CaO、およびMgOなどが挙げられる。さらに、Ti、Mg、Ba、Caの様な金属元素から選択することもできる。これらの吸収剤粒子の粒子サイズは、好ましくは100nm以下であり、50nm以下で使用されるのがさらに好ましい。
これらの水吸収剤を含む層はバリア層と同様に真空下蒸着法等を使って作成してもよいし、ナノ粒子を各種方法で作成して用いてもよい。層の厚みは1〜100nmが好ましく、1〜10nmがより好ましい。水吸収剤を含む層は、支持体と積層体(バリア層と有機層の積層体)の間、積層体の最上層、積層体の間、或いは、積層体中の有機層或いはバリア層中に添加されていてもよい。バリア層に添加する場合には共蒸着法を用いることが好ましい。
2- (9) Water Absorbing Layer A water absorbent can be used in the film of the present invention. The water absorbent can be selected from compounds having a water absorption function, mainly alkaline earth metals. Examples thereof include BaO, SrO, CaO, and MgO. Further, it can be selected from metal elements such as Ti, Mg, Ba, and Ca. The particle size of these absorbent particles is preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.
The layer containing these water absorbents may be prepared by using a vacuum deposition method or the like, similarly to the barrier layer, or nanoparticles may be prepared by various methods. The thickness of the layer is preferably 1 to 100 nm, and more preferably 1 to 10 nm. The layer containing the water absorbent is between the support and the laminate (a laminate of the barrier layer and the organic layer), between the uppermost layer of the laminate, between the laminates, or in the organic layer or barrier layer in the laminate. It may be added. When added to the barrier layer, a co-evaporation method is preferably used.

2−(10)プライマー層・無機薄膜層
本発明のフィルムでは、支持体と積層体との間に、公知のプライマー層または無機薄膜層を設置することでガスバリアー性を高めたりすることができる。
プライマー層としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を用いることが可能であるが、本発明においてはこのプライマー層として有機無機ハイブリッド層を、無機薄膜層として無機蒸着層またはゾルーゲル法による緻密な無機コーティング薄膜が好ましい。無機蒸着層としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ等の蒸着層が好ましい。無機蒸着層は真空蒸着法、スパッタリング法等により形成することができる。
2- (10) Primer Layer / Inorganic Thin Film Layer In the film of the present invention, gas barrier properties can be enhanced by installing a known primer layer or inorganic thin film layer between the support and the laminate. .
As the primer layer, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a silicone resin or the like can be used. In the present invention, an organic-inorganic hybrid layer is used as the primer layer, an inorganic vapor deposition layer or a sol-gel is used as the inorganic thin film layer. A dense inorganic coating thin film by the method is preferred. As an inorganic vapor deposition layer, vapor deposition layers, such as a silica, a zirconia, an alumina, are preferable. The inorganic vapor deposition layer can be formed by a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or the like.

3.フィルムの層構成
本発明のフィルムについては、上記のような層を用い、公知の層構成を使用することができる。たとえば、代表的な例としては以下のようなものがある。
a.支持体/ハードコート層
b.支持体/ハードコート層/低屈折率層(図1)
c.支持体/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層(図2)
d.支持体/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層(図3)
3. Layer structure of film About the film of this invention, a well-known layer structure can be used using the above layers. For example, the following are typical examples.
a. Support / hard coat layer b. Support / hard coat layer / low refractive index layer (FIG. 1)
c. Support / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer (FIG. 2)
d. Support / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer (FIG. 3)

b(図1)のように、支持体上にハードコート層を塗布した上に、低屈折率層を積層すると、反射防止フィルムとして好適に用いることができる。低屈折率層はハードコート層の上に低屈折率層を光の波長の1/4前後の膜厚で形成することにより、薄膜干渉の原理により表面反射を低減することができる。
また、c(図2)のように支持体上にハードコート層を塗布した上に、高屈折率層、低屈折率層を積層しても反射防止フィルムとして好適に用いることができる。さらに、d(図3)のように支持体、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、そして低屈折率層の順序の層構成を設置することにより、反射率を1%以下とすることができる。
As shown in b (FIG. 1), when a hard coat layer is applied on a support and a low refractive index layer is laminated, it can be suitably used as an antireflection film. By forming the low refractive index layer on the hard coat layer with a film thickness of about 1/4 of the wavelength of light, surface reflection can be reduced by the principle of thin film interference.
Moreover, even if a high-refractive index layer and a low-refractive index layer are laminated after applying a hard coat layer on a support as shown in FIG. 2 (c), it can be suitably used as an antireflection film. Further, by installing a layer structure in the order of a support, a hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer as shown in d (FIG. 3), the reflectance is 1% or less. can do.

aないしdの構成において、ハードコート層(2)は防眩性を有する防眩層とすることができる。防眩性は図4に示されるようなマット粒子の分散によるものでも、図5に示されるようなエンボス加工などの方法による表面の賦形によって形成されてもよい。マット粒子の分散によって形成される防眩層は、バインダーとバインダー中に分散された透光性粒子とからなる。防眩性を有する防眩層は、好ましくは防眩性とハードコート性を兼ね備えており、複数層、例えば2層〜4層で構成されていてもよい。   In the constitutions a to d, the hard coat layer (2) can be an antiglare layer having antiglare properties. The antiglare property may be formed by dispersion of matte particles as shown in FIG. 4 or may be formed by surface shaping by a method such as embossing as shown in FIG. The antiglare layer formed by dispersing the matte particles is composed of a binder and translucent particles dispersed in the binder. The antiglare layer having antiglare properties preferably has both antiglare properties and hard coat properties, and may be composed of a plurality of layers, for example, 2 to 4 layers.

また透持体とそれよりも表面側の層の間あるいは最表面に設けても良い層として、干渉ムラ(虹ムラ)防止層、帯電防止層(ディスプレイ側からの表面抵抗値を下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合)、別のハードコート層(1層のハードコート層ないし防眩層だけで硬度が不足する場合)、ガスバリアー層、水吸収層(防湿層)、密着改良層、防汚層(汚染防止層)、等が挙げられる。
本発明における反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムを構成する各層の屈折率は以下の関係を満たすことが好ましい。
ハードコート層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率
In addition, interference unevenness (rainbow unevenness) prevention layer, antistatic layer (reduction of surface resistance value from the display side, etc.) may be provided between the support and the surface layer or the outermost layer. , If there is a problem with dust on the surface, etc.), another hard coat layer (when one hard coat layer or antiglare layer is insufficient in hardness), gas barrier layer, water absorption layer ( Moisture-proof layer), adhesion improving layer, antifouling layer (contamination preventing layer), and the like.
The refractive index of each layer constituting the antiglare antireflection film having the antireflection layer in the invention preferably satisfies the following relationship.
Refractive index of hard coat layer> refractive index of transparent support> refractive index of low refractive index layer

4.製造方法
本発明のフィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。4−(1)塗布液の調整
4). Manufacturing Method The film of the present invention can be formed by the following method, but is not limited to this method. 4- (1) Adjustment of coating solution

<調製>
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶剤の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は5%以下が好ましく、2%以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、或いはその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。
<Preparation>
First, a coating solution containing components for forming each layer is prepared. In that case, the raise of the moisture content in a coating liquid can be suppressed by suppressing the volatilization amount of a solvent to the minimum. The moisture content in the coating solution is preferably 5% or less, more preferably 2% or less. The suppression of the volatilization amount of the solvent is achieved by improving the sealing property at the time of stirring after putting each material into the tank, minimizing the air contact area of the coating liquid at the time of liquid transfer operation, and the like. Moreover, you may provide the means to reduce the moisture content in a coating liquid during application | coating, or before and behind that.

<塗布液物性>
本発明の塗布方式は液物性により塗布可能な上限の速度が大きく影響を受けるため、塗布する瞬間の液物性、特に粘度及び表面張力を制御する必要がある。
粘度については2.0[mPa・sec]以下であることが好ましく、更に好ましくは1.5[mPa・sec]以下、最も好ましくは1.0[mPa・sec]以下である。塗布液によってはせん断速度により粘度が変化するものもあるため、上記の値は塗布される瞬間のせん断速度における粘度を示している。塗布液にチキソトロピー剤を添加して、高せん断のかかる塗布時は粘度が低く、塗布液にせん断が殆どかからない乾燥時は粘度が高くなると乾燥時のムラが発生しにくくなり、好ましい。
また、液物性ではないが、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量も塗布可能な上限の速度に影響を与える。透明支持体に塗り付けられる塗布液の量は2.0〜5.0[cm3
/m]であることが好ましい。透明支持体に塗り付けられる塗布液の量を増やすと塗布可能な上限の速度が上がるため好ましいが、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量を増やしすぎると乾燥にかかる負荷が大きくなるため、液処方・工程条件によって最適な透明支持体に塗り付けられる塗布液の量を決めることが好ましい。
表面張力については、15〜36[mN/m]の範囲にあることが好ましい。レベリング剤を添加するなどして表面張力を低下させることは乾燥時のムラが抑止されるため好ましい。一方、表面張力が下がりすぎると塗布可能な上限の速度が低下してしまうため、17[mN/m]から32[mN/m]の範囲がより好まく、19[mN/m]から26[mN/m]の範囲が更に好ましい。
<Physical properties of coating solution>
In the coating method of the present invention, the upper limit speed at which coating is possible is greatly affected by the liquid physical properties, so it is necessary to control the liquid physical properties, particularly the viscosity and surface tension at the moment of coating.
The viscosity is preferably 2.0 [mPa · sec] or less, more preferably 1.5 [mPa · sec] or less, and most preferably 1.0 [mPa · sec] or less. Since there are some coating solutions whose viscosity changes depending on the shear rate, the above value indicates the viscosity at the shear rate at the moment of coating. When a thixotropic agent is added to the coating solution and the coating solution is subjected to high shear, the viscosity is low, and when the coating solution is hardly sheared, if the viscosity is high, unevenness during drying is less likely to occur.
Moreover, although it is not a liquid physical property, the quantity of the coating liquid apply | coated to a transparent support body also affects the upper limit speed | rate which can be apply | coated. The amount of the coating solution applied to the transparent support is 2.0 to 5.0 [cm 3
/ M 2 ]. Increasing the amount of the coating liquid applied to the transparent support is preferable because the upper limit of the application rate can be increased, but if the amount of the coating liquid applied to the transparent support is increased too much, the load on drying increases. It is preferable to determine the optimal amount of coating liquid to be applied to the transparent support depending on the liquid formulation and process conditions.
The surface tension is preferably in the range of 15 to 36 [mN / m]. It is preferable to reduce the surface tension by adding a leveling agent or the like because unevenness during drying is suppressed. On the other hand, if the surface tension is too low, the upper limit speed at which coating can be performed is reduced. Therefore, a range of 17 [mN / m] to 32 [mN / m] is more preferable, and 19 [mN / m] to 26 [mN / m]. mN / m] is more preferable.

<濾過>
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が0.1〜10μmのフィルターが用いられ、さらには絶対濾過精度が0.1〜5μmであるフィルタを用いることが好ましく用いられる。フィルターの厚さは、0.1〜10mmが好ましく、更には0.2〜2mmが好ましい。その場合、ろ過圧力は1.5MPa以下、より好ましくは1.0MPa以下、更には0.2MPa以下で濾過することが好ましい。
ろ過フィルター部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、無機化合物の湿式分散物のろ過部材と同様のものが挙げられる。
また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
<Filtration>
The coating solution used for coating is preferably filtered before coating. As a filter for filtration, it is preferable to use a filter having a pore diameter as small as possible within a range in which components in the coating solution are not removed. For filtration, a filter having an absolute filtration accuracy of 0.1 to 10 μm is used, and a filter having an absolute filtration accuracy of 0.1 to 5 μm is preferably used. The thickness of the filter is preferably 0.1 to 10 mm, and more preferably 0.2 to 2 mm. In that case, the filtration pressure is preferably 1.5 MPa or less, more preferably 1.0 MPa or less, and further preferably 0.2 MPa or less.
The filtration filter member is not particularly limited as long as it does not affect the coating solution. Specifically, the same thing as the filtration member of the wet dispersion of an inorganic compound is mentioned.
It is also preferable to ultrasonically disperse the filtered coating solution immediately before coating to assist defoaming and dispersion holding of the dispersion.

4−(2)塗布前の処理
本発明で使用する支持体は、塗布前に表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平7−333433号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
4- (2) Treatment before coating The support used in the present invention is preferably subjected to a surface treatment before coating. Specific examples include corona discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, acid treatment, alkali treatment, and ultraviolet irradiation treatment. In addition, as described in JP-A-7-333433, it is preferable to provide an undercoat layer.

さらに、塗布が行われる前工程としての除塵工程に用いられる除塵方法として、特開昭59−150571号公報に記載のフィルム表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法、特開平10−309553号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法、特開平7−333613号公報に記載される超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法(伸興社製、ニューウルトラクリーナー等)等の乾式除塵法が挙げられる。
また、洗浄槽中にフィルムを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法、特公昭49−13020号公報に記載されているフィルムに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行なう方法、特開2001−38306号に記載のように、ウェブを液体でぬらしたロールで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方法の内、超音波除塵による方法もしくは湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。
また、このような除塵工程を行う前に、フィルム支持体上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、UV、軟X線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後のフィルム支持体の帯電圧は、1000V以下が望ましく、好ましくは300V以下、特に好ましくは、100V以下である。
Furthermore, as a dust removing method used in the dust removing step as a pre-process for application, a method of pressing a nonwoven fabric, a blade or the like on the film surface described in JP-A-59-150571, JP-A-10-309553 A method of blowing the air with high cleanliness described at a high speed to peel off the deposits from the film surface and sucking it with a suction port close to it, blowing compressed air that is ultrasonically vibrated as described in JP-A-7-333613 Examples thereof include a dry dust removing method such as a method for peeling and sucking adhered substances (manufactured by Shinkosha, New Ultra Cleaner, etc.).
In addition, a method of introducing a film into a cleaning tank and peeling off deposits with an ultrasonic vibrator, supplying a cleaning liquid to the film described in Japanese Patent Publication No. 49-13020, and then blowing and sucking high-speed air As described in JP-A-2001-38306, a wet dust removal method such as a method in which a web is continuously rubbed with a roll wetted with a liquid and then washed by spraying the liquid onto the rubbed surface is used. Can do. Among such dust removal methods, a method using ultrasonic dust removal or a method using wet dust removal is particularly preferable in terms of dust removal effect.
In addition, it is particularly preferable to remove static electricity on the film support before performing such a dust removal step from the viewpoint of increasing dust removal efficiency and suppressing adhesion of dust. As such a static elimination method, a corona discharge ionizer, a light irradiation ionizer such as UV or soft X-ray, or the like can be used. The charged voltage of the film support before and after dust removal and coating is desirably 1000 V or less, preferably 300 V or less, and particularly preferably 100 V or less.

フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理において支持体(好ましくはセルロースアシレートフィルム)の温度をTg以下、具体的には150℃以下とすることが好ましい。
本発明のフィルムを偏光板の保護フィルムとして使用する場合のようにセルロースアシレートフィルムを偏光膜と接着させる場合には、偏光膜との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアシレートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
接着性などの観点から、セルロースアシレートフィルムの表面エネルギーは、55mN/m以上であることが好ましく、60mN/m以上75mN/m以下であることが更に好ましく、上記表面処理により調整することができる。
From the viewpoint of maintaining the flatness of the film, the temperature of the support (preferably a cellulose acylate film) in these treatments is preferably Tg or less, specifically 150 ° C. or less.
When the cellulose acylate film is adhered to the polarizing film as in the case of using the film of the present invention as a protective film for a polarizing plate, from the viewpoint of adhesiveness to the polarizing film, acid treatment or alkali treatment, that is, cellulose acylate. It is particularly preferred to carry out a saponification treatment on the rate.
From the viewpoint of adhesiveness and the like, the surface energy of the cellulose acylate film is preferably 55 mN / m or more, more preferably 60 mN / m or more and 75 mN / m or less, and it can be adjusted by the surface treatment. .

4−(3)塗布
本発明のフィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(ダイコート法)(米国特許2681294号明細書参照)、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
4- (3) Coating Each layer of the film of the present invention can be formed by the following coating method, but is not limited to this method.
Dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, wire bar coating method, gravure coating method and extrusion coating method (die coating method) (see US Pat. No. 2,681,294), micro gravure coating method, etc. Known methods are used, and among them, the micro gravure coating method and the die coating method are preferable.

本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約10〜100mm、好ましくは約20〜50mmで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくともハードコート層乃至フッ素含有オレフィン系重合体を含む低屈折率層の内の少なくとも一層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。   The micro gravure coating method used in the present invention is a gravure roll having a diameter of about 10 to 100 mm, preferably about 20 to 50 mm and engraved with a gravure pattern on the entire circumference, below the support and in the transport direction of the support. The gravure roll is rotated in reverse with respect to the gravure roll, the excess coating liquid is scraped off from the surface of the gravure roll by a doctor blade, and a fixed amount of the coating liquid is removed from the support in a position where the upper surface of the support is in a free state. The coating method is characterized in that the coating liquid is transferred onto the lower surface for coating. A roll-shaped transparent support is continuously unwound, and at least one layer of at least one of a hard coat layer or a low refractive index layer containing a fluorine-containing olefin-based polymer is formed on one side of the unwound support. It can be applied by a gravure coating method.

マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は50〜800本/インチが好ましく、100〜300本/インチがより好ましく、グラビアパターンの深度は1〜600μmが好ましく、5〜200μmがより好ましく、グラビアロールの回転数は3〜800rpmであることが好ましく、5〜200rpmであることがより好ましく、支持体の搬送速度は0.5〜100m/分であることが好ましく、1〜50m/分がより好ましい。   As coating conditions by the micro gravure coating method, the number of gravure patterns imprinted on the gravure roll is preferably 50 to 800 lines / inch, more preferably 100 to 300 lines / inch, and the depth of the gravure pattern is 1 to 600 μm. Is preferable, 5 to 200 μm is more preferable, the rotation speed of the gravure roll is preferably 3 to 800 rpm, more preferably 5 to 200 rpm, and the conveyance speed of the support is 0.5 to 100 m / min. It is preferably 1 to 50 m / min.

本発明のフィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法(ダイコート法)が好ましく用いられる。特に、ハードコート層や反射防止層のような、ウエット塗布量の少ない領域(20cm3/m以下)で好ましく用いることができる。 In order to supply the film of the present invention with high productivity, an extrusion method (die coating method) is preferably used. In particular, it can be preferably used in a region with a small wet coating amount (20 cm 3 / m 2 or less) such as a hard coat layer or an antireflection layer.

4−(4)<乾燥>
本発明のフィルムは、支持体上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送されることが好ましい。
溶剤を乾燥する方法としては、各種の知見を利用することができる。具体的な知見としては特開2001−286817号、同2001−314798号、同2003−126768号、同2003−315505号、同2004−34002号などが挙げられる。
乾燥ゾーンの温度は25℃〜140℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには120℃の温風中で数分以内にその数10%前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、2官能のアクリレートモノマー等は100℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
4- (4) <Drying>
The film of the present invention is preferably applied on a support directly or via another layer and then conveyed by a web to a heated zone to dry the solvent.
Various knowledges can be used as a method for drying the solvent. Specific examples include JP-A Nos. 2001-286817, 2001-314798, 2003-126768, 2003-315505, and 2004-34002.
The temperature of the drying zone is preferably 25 ° C. to 140 ° C., the first half of the drying zone is preferably a relatively low temperature, and the latter half is preferably a relatively high temperature. However, it is preferably below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating composition of each layer start to volatilize. For example, some of the commercially available photo radical generators used in combination with ultraviolet curable resins volatilize around several tens of percent within a few minutes in warm air at 120 ° C. Some acrylate monomers and the like undergo volatilization in warm air at 100 ° C. In such a case, it is preferable that it is below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating composition of each layer start to volatilize as described above.

また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の固形分濃度が1〜50%の間は塗膜表面の風速が0.1〜2m/秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後、乾燥ゾーン内で支持体の塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと支持体との温度差が0℃〜20℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
Moreover, the dry wind after apply | coating the coating composition of each layer on a support body has the wind speed of the coating-film surface of 0.1-2 m / sec while the solid content concentration of the said coating composition is 1-50%. It is preferable to be in the range in order to prevent drying unevenness.
Moreover, after apply | coating the coating composition of each layer on a support body, the temperature difference of the conveyance roll which contacts the surface opposite to the coating surface of a support body in a drying zone, and a support body is 0 to 20 degreeC or less. Then, the drying nonuniformity by the heat transfer nonuniformity on a conveyance roll can be prevented, and it is preferable.

4−(5)硬化
本発明のフィルムは溶剤の乾燥の後に、ウェブで電離放射線および/または熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することができる。
4- (5) Curing After drying the solvent, the film of the present invention can be passed through a zone in which each coating film is cured by ionizing radiation and / or heat on the web to cure the coating film.

本発明における電離放射線種は特に制限されるものではなく、皮膜を形成する硬化性組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、X線などから適宜選択することができが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。
紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく利用できる。
The ionizing radiation species in the present invention is not particularly limited, and is appropriately selected from ultraviolet rays, electron beams, near ultraviolet rays, visible light, near infrared rays, infrared rays, X-rays and the like according to the type of curable composition forming the film. Although it can be selected, ultraviolet rays and electron beams are preferred, and ultraviolet rays are particularly preferred because they are easy to handle and high energy can be easily obtained.
As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source that generates ultraviolet light can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used. Among these, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be preferably used.

また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。   Moreover, an electron beam can be used similarly. As an electron beam, 50 to 1000 keV, preferably 100 to 100, emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. An electron beam having an energy of 300 keV can be given.

照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は10mJ/cm以上が好ましく、更に好ましくは、50mJ/cm〜10000mJ/cmであり、特に好ましくは、50mJ/cm〜2000mJ/cmである。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて50〜100%の分布が好ましく、80〜100%の分布がより好ましい。 Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the amount of irradiation light is preferably 10 mJ / cm 2 or more, more preferably 50 mJ / cm 2 to 10000 mJ / cm 2 , and particularly preferably 50 mJ / cm 2 to 2000 mJ / cm 2. It is. At that time, the irradiation distribution in the width direction of the web is preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, including both ends with respect to the central maximum irradiation.

本発明では、支持体上に積層された少なくとも一層を、電離放射線を照射しかつ電離放射線照射開始から0.5秒以上の間、膜面温度60℃以上に加熱した状態で、酸素濃度10体積%以下の雰囲気で電離放射線を照射する工程によって硬化することが好ましい。
また電離放射線照射と同時および/または連続して酸素濃度3体積%以下の雰囲気で加熱されることも好ましい。
特に膜厚が薄い低屈折率層がこの方法で硬化されることが好ましい。硬化反応が熱で加速され、物理強度、耐薬品性に優れた皮膜を形成することができる。
In the present invention, at least one layer laminated on the support is irradiated with ionizing radiation and heated to a film surface temperature of 60 ° C. or more for 0.5 seconds or more from the start of irradiation with ionizing radiation, with an oxygen concentration of 10 volumes. It is preferable to cure by the step of irradiating ionizing radiation in an atmosphere of less than or equal to%.
It is also preferable to heat in an atmosphere having an oxygen concentration of 3% by volume or less simultaneously and / or continuously with ionizing radiation irradiation.
In particular, it is preferable that a low refractive index layer having a small thickness is cured by this method. The curing reaction is accelerated by heat, and a film having excellent physical strength and chemical resistance can be formed.

電離放射線を照射する時間については0.7秒以上60秒以下が好ましく、0.7秒以上10秒以下がより好ましい。0.7秒以上とすることで、硬化反応が完了し、十分な硬化を行うことができる。また60秒以下とすることで、長時間低酸素条件を維持する必要がないため、設備の大型化を避けることができる、多量の不活性ガスが不要である、などの観点で優れている。   The time for irradiating with ionizing radiation is preferably 0.7 seconds or longer and 60 seconds or shorter, and more preferably 0.7 seconds or longer and 10 seconds or shorter. By setting it as 0.7 second or more, the curing reaction is completed and sufficient curing can be performed. Moreover, since it is not necessary to maintain low-oxygen conditions for a long time by setting it as 60 seconds or less, it is excellent in the viewpoint that the enlargement of an installation can be avoided and a lot of inert gas is unnecessary.

酸素濃度は6体積%以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成することが好ましく、更に好ましくは酸素濃度が4体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が2体積%以下、最も好ましくは1体積%以下である。必要以上に酸素濃度を低減するためには、窒素などの不活性ガスの多量の使用量が必要であり、製造コストの観点から好ましくない。   The oxygen concentration is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound in an atmosphere of 6% by volume or less, more preferably 4% by volume or less, particularly preferably 2% by volume of oxygen. Hereinafter, it is most preferably 1% by volume or less. In order to reduce the oxygen concentration more than necessary, a large amount of inert gas such as nitrogen is required, which is not preferable from the viewpoint of production cost.

酸素濃度を10体積%以下にする手法としては、大気(窒素濃度約79体積%、酸素濃度約21体積%)を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換(窒素パージ)することである。   As a method of reducing the oxygen concentration to 10% by volume or less, it is preferable to replace the atmosphere (nitrogen concentration of about 79% by volume, oxygen concentration of about 21% by volume) with another gas, particularly preferably replacement with nitrogen (nitrogen purge). It is to be.

不活性ガスを電離放射線照射室に供給し、かつ照射室のウェッブ入り口側にやや吹き出す条件にすることで、ウェッブ搬送にともなう導搬エアーを排除し反応室の酸素濃度を有効に下げられるとともに、酸素による硬化阻害の大きい極表面の実質の酸素濃度を効率よく低減することができる。照射室のウェッブ入り口側での不活性ガスの流れの方向は、照射室の給気、排気のバランスを調整することなどで制御できる。
不活性ガスをウェッブ表面に直接吹き付けることも、導搬エアーを除去する方法として好ましく用いられる。
By supplying inert gas to the ionizing radiation irradiation chamber and making it slightly blown out to the web entrance side of the irradiation chamber, it is possible to effectively reduce the oxygen concentration in the reaction chamber by eliminating the carry air accompanying the web transfer, It is possible to efficiently reduce the substantial oxygen concentration on the pole surface where the inhibition of curing by oxygen is large. The direction of the inert gas flow on the web entrance side of the irradiation chamber can be controlled by adjusting the balance between supply and exhaust of the irradiation chamber.
Direct blowing of an inert gas onto the web surface is also preferably used as a method for removing the carried air.

また前記反応室の前に前室を設け、事前にウェッブ表面の酸素を排除することで、より硬化を効率よく進めることができる。また電離放射線反応室または前室のウェッブ入口側を構成する側面は、不活性ガスを効率的に使用するために、ウェッブ表面とのギャップは0.2〜15mmが好ましく、より好ましくは、0.2〜10mmとするのがよく、0.2〜5mmとするのがもっとも好ましい。しかし、ウェッブを連続製造するには、ウェッブを接合して繋げていく必要があり、接合には接合テープなどで貼る方法が広く用いられている。このため、電離放射線反応室または前室の入口面とウェッブのギャップをあまり狭くすると、接合テープなど接合部材が引っかかる問題が生じる。このためギャップを狭くするためには、電離放射線反応室または前室の入口面の少なくとも一部を可動とし、接合部が入るときは接合厚み分ギャップを広げるのが好ましい。この実現のためには、電離放射線反応室または前室の入口面を進行方向前後に可動にしておき、接合部が通過する際に前後に動いてギャップを広げるやり方や、電離放射線反応室または前室の入口面をウェッブ面に対し、垂直方向に可動にし、接合部が通過する際に上下に動いてギャップを広げるやり方を取ることができる。   Further, by providing a front chamber in front of the reaction chamber and excluding oxygen on the web surface in advance, the curing can proceed more efficiently. Further, the side surface constituting the web entrance side of the ionizing radiation reaction chamber or the front chamber is preferably 0.2 to 15 mm in gap with the web surface in order to use the inert gas efficiently, more preferably, 0.1%. The thickness is preferably 2 to 10 mm, and most preferably 0.2 to 5 mm. However, in order to continuously manufacture the web, it is necessary to join and connect the webs, and a method of sticking with a joining tape or the like is widely used for joining. For this reason, if the gap between the entrance surface of the ionizing radiation reaction chamber or the front chamber and the web is too narrow, there arises a problem that the joining member such as the joining tape is caught. For this reason, in order to narrow the gap, it is preferable to make at least a part of the entrance surface of the ionizing radiation reaction chamber or the front chamber movable, and to widen the gap by the junction thickness when the junction enters. In order to realize this, the entrance surface of the ionizing radiation reaction chamber or the front chamber is made movable in the forward and backward direction, and when the joint passes, the gap is moved back and forth to widen the gap, It is possible to move the chamber entrance surface vertically with respect to the web surface and move up and down to widen the gap as the joint passes.

硬化の際、フィルム面が60℃以上170℃以下で加熱されることが好ましい。60℃以下では加熱の硬化は少なく、170℃以上では基材の変形などの問題が生じる。更に好ましい温度は60℃〜100℃である。フィルム面とは硬化しようとする層の膜面温度を指す。またフィルムが前記温度になる時間は、UV照射開始から0.1秒以上、300秒以下が好ましく、更に10秒以下が好ましい。フィルム面の温度を上記の温度範囲に保つ時間が短すぎると、皮膜を形成する硬化性組成物の反応を促進できず、逆に長すぎてもフィルムの光学性能が低下し、また設備が大きくなるなどの製造上の問題も生じる。   In curing, the film surface is preferably heated at 60 ° C. or higher and 170 ° C. or lower. Below 60 ° C., there is little curing by heating, and at 170 ° C. or higher, problems such as deformation of the substrate occur. A more preferable temperature is 60 ° C to 100 ° C. The film surface refers to the film surface temperature of the layer to be cured. The time for the film to reach the temperature is preferably 0.1 second or more and 300 seconds or less from the start of UV irradiation, and more preferably 10 seconds or less. If the time for maintaining the temperature of the film surface in the above temperature range is too short, the reaction of the curable composition that forms the film cannot be accelerated, and conversely, if it is too long, the optical performance of the film deteriorates and the equipment is large. Manufacturing problems such as

加熱する方法に特に限定はないが、ロールを加熱してフィルムに接触させる方法、加熱した窒素を吹き付ける方法、遠赤外線あるいは赤外線の照射などが好ましい。特許2523574号に記載の回転金属ロールに温水や蒸気・オイルなどの媒体を流して加熱する方法も利用できる。加熱の手段としては誘電加熱ロールなどを使用しても良い。   There is no particular limitation on the heating method, but a method of heating a roll to contact the film, a method of spraying heated nitrogen, irradiation with far infrared rays or infrared rays is preferable. A method of heating a rotating metal roll described in Japanese Patent No. 2523574 by flowing a medium such as hot water, steam or oil can also be used. As a heating means, a dielectric heating roll or the like may be used.

紫外線照射は、構成する複数の層それぞれに対して1層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。あるいはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。   The ultraviolet irradiation may be performed every time one layer is provided for each of a plurality of constituent layers, or may be performed after lamination. Or you may irradiate combining these. From the viewpoint of productivity, it is preferable to irradiate ultraviolet rays after laminating multiple layers.

本発明では、支持体上に積層された少なくとも一層を複数回の電離放射線により硬化することができる。この場合、少なくとも2回の電離放射線が酸素濃度3体積%を超えることのない連続した反応室で行われることが好ましい。複数回の電離放射線照射を同一の低酸素濃度の反応室で行うことにより、硬化に必要な反応時間を有効に確保することができる。
特に高生産性のため製造速度をあげた場合には、硬化反応に必要な電離放射線のエネルギーを確保するために複数回の電離放射線照射が必要となる。
In the present invention, at least one layer laminated on the support can be cured by multiple times of ionizing radiation. In this case, it is preferable that at least two ionizing radiations are performed in a continuous reaction chamber in which the oxygen concentration does not exceed 3% by volume. By performing multiple times of ionizing radiation irradiation in the same low oxygen concentration reaction chamber, the reaction time required for curing can be effectively ensured.
In particular, when the production rate is increased for high productivity, ionizing radiation irradiation is required multiple times to ensure the energy of ionizing radiation necessary for the curing reaction.

また、硬化率(100−残存官能基含率)が100%未満のある値となった場合、その上に層を設けて電離放射線および/または熱により硬化した際に下層の硬化率が上層を設ける前よりも高くなると、下層と上層との間の密着性が改良され、好ましい。   Further, when the curing rate (100-residual functional group content) is a certain value of less than 100%, the lower layer has a curing rate of the upper layer when a layer is provided thereon and cured by ionizing radiation and / or heat. When the height is higher than before, the adhesion between the lower layer and the upper layer is improved, which is preferable.

4−(6)ハンドリング
本発明のフィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われることがある。
ロール状のフィルム支持体からフィルム支持体がクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布部で塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は乾燥室に送られて乾燥される。
乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は乾燥室から硬化室へ送り出され、塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。さらに、硬化した層を有するフィルム支持体は硬化部へ送られ硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持体は巻き取られてロール状となる。
4- (6) Handling In order to continuously produce the film of the present invention, a process of continuously feeding a roll-shaped support film, a process of applying / drying a coating liquid, a process of curing a coating film, and curing The process of winding up the support film which has a layer may be performed.
The film support is continuously sent out from the roll-shaped film support to the clean room. In the clean room, the static electricity charged on the film support is removed by an electrostatic charge-off device, and then the film support adheres on the film support. Remove the foreign material that has been removed with a dust remover. Subsequently, the coating liquid is applied onto the film support in the application section installed in the clean room, and the applied film support is sent to the drying chamber and dried.
The film support having the dried coating layer is fed from the drying chamber to the curing chamber, and the monomer contained in the coating layer is polymerized and cured. Further, the film support having the cured layer is sent to the curing unit to complete the curing, and the film support having the layer having been completely cured is wound up into a roll shape.

上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−硬化部を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能である。
本発明のフィルムを作成するためには、前記したように塗布液の精密濾過操作と同時に、塗布部における塗布工程および乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程および乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格209Eにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス10(0.5μm以上の粒子が353個/(立方メートル)以下)以上であることが望ましく、更に好ましくはクラス1(0.5μm以上の粒子が35.5個/(立方メートル)以下)以上であることが望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。
The above steps may be performed every time each layer is formed, or a plurality of coating parts-drying chambers-curing parts may be provided to continuously form each layer.
In order to create the film of the present invention, as described above, the coating step in the coating unit and the drying step performed in the drying chamber are performed in a highly clean air atmosphere simultaneously with the microfiltration operation of the coating solution, and It is preferable that dust and dust on the film are sufficiently removed before application. The air cleanliness of the coating process and the drying process is desirably class 10 (353 particles / 0.5 m or more / (cubic meter) or less) based on the standard of air cleanliness in the US Federal Standard 209E. Preferably it is class 1 (35.5 particles / (cubic meter) or less) having a particle size of 0.5 μm or more. Moreover, it is more preferable that the degree of air cleanliness is high also in the feeding and winding parts other than the coating-drying process.

4−(7)鹸化処理
本発明のフィルムを2枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作成する際には、偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。
4- (7) Saponification treatment When making a polarizing plate using the film of the present invention as one of the surface protective films of two polarizing films, the surface on the side to be bonded to the polarizing film should be hydrophilized. Thus, it is preferable to improve the adhesion on the bonding surface.

a.アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中にフィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は0.5〜3mol/Lであり、特に好ましくは1〜2mol/Lである。好ましいアルカリ液の液温は30〜75℃、特に好ましくは40〜60℃である。
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
a. Method of immersing in alkaline solution This is a method of saponifying all surfaces that are reactive with alkali on the entire surface of the film by immersing the film in an alkaline solution under appropriate conditions, and no special equipment is required. From the viewpoint of cost. The alkaline liquid is preferably a sodium hydroxide aqueous solution. A preferred concentration is 0.5 to 3 mol / L, particularly preferably 1 to 2 mol / L. The liquid temperature of a preferable alkali liquid is 30-75 degreeC, Most preferably, it is 40-60 degreeC.
The combination of the saponification conditions is preferably a combination of relatively mild conditions, but can be set according to the material and composition of the film and the target contact angle.
After being immersed in the alkaline solution, it is preferable to sufficiently wash with water or neutralize the alkaline component by immersing in a dilute acid so that the alkaline component does not remain in the film.

鹸化処理することにより、塗布層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層などとの接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、塗布層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に塗布層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは10度〜50度、より好ましくは30度〜50度、さらに好ましくは40度〜50度となる。50度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、10度未満では、フィルムが受けるダメージが大きすぎる為、物理強度を損ない、好ましくない。
By saponification treatment, the surface opposite to the surface having the coating layer is hydrophilized. The protective film for polarizing plate is used by adhering the hydrophilic surface of the transparent support to the polarizing film.
The hydrophilized surface is effective for improving the adhesiveness with an adhesive layer mainly composed of polyvinyl alcohol.
In the saponification treatment, the lower the contact angle with respect to the surface of the transparent support opposite to the side having the coating layer, the better from the viewpoint of adhesion to the polarizing film, while the dipping method simultaneously has the coating layer. Since it is damaged by alkali from the surface to the inside, it is important to set the minimum reaction conditions. When the contact angle to water of the transparent support on the opposite surface is used as an index of damage to each layer due to alkali, particularly when the transparent support is triacetylcellulose, preferably 10 to 50 degrees, more preferably Is 30 to 50 degrees, more preferably 40 to 50 degrees. If it is 50 degrees or more, there is a problem in the adhesion to the polarizing film, which is not preferable. On the other hand, if it is less than 10 degrees, the film suffers too much damage, which impairs physical strength and is not preferable.

b.アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を塗布層を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点ではa.の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
b. Method of applying alkaline solution As a means of avoiding damage to each film in the above-mentioned immersion method, an alkali solution is applied, heated, washed with water, and dried only on the surface opposite to the surface having the coating layer under appropriate conditions. A liquid coating method is preferably used. The application in this case means that an alkaline solution or the like is brought into contact only with the surface to be saponified, and in addition to the application, it may be carried out by spraying or contacting a belt containing the solution. Including. By adopting these methods, a separate facility and process for applying an alkaline solution are required, which is inferior to the immersion method a. On the other hand, since the alkali solution contacts only the surface to be saponified, the opposite surface can have a layer using a material that is weak against the alkali solution. For example, vapor deposition films and sol-gel films have various effects such as corrosion, dissolution, and peeling due to alkali solution, so it is not desirable to use the immersion method. Is possible.

前記a.、b.のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。   In any of the saponification methods a. And b., The saponification method can be carried out after the film is unwound from the roll-shaped support and the respective layers are formed. Furthermore, the polarizing plate can be produced more efficiently than the same operation with a single wafer by continuously performing the pasting step with the polarizing plate made of the unwound support.

c.ラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記b.と同様に、塗布層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、塗布層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記b.の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
c. Method of saponification by protecting with a laminate film As in the case of b. Above, when the coating layer has insufficient resistance to an alkaline solution, the laminate film is bonded to the surface on which the final layer is formed after the final layer is formed. Then, by immersing in an alkaline solution, only the surface of the triacetyl cellulose opposite to the surface on which the final layer is formed can be made hydrophilic, and then the laminate film can be peeled off. Even in this method, the hydrophilic treatment necessary for the polarizing plate protective film can be applied only to the surface opposite to the surface on which the final layer of the triacetyl cellulose film is formed without damaging the coating layer. Compared with the method b. Above, the laminate film is generated as waste, but there is an advantage that a device for applying a special alkaline solution is unnecessary.

d.中途層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
下層層まではアルカリ液に対する耐性があるが、上層のアルカリ液に対する耐性不足である場合には、下層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に上層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、たとえば防眩層とフッ素含有ゾル−ゲル膜の低屈折率層とからなるフィルムにおいて、親水基を有する場合には防眩層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
d. Method of immersing in alkaline solution after forming up to middle layer Although resistant to alkaline solution up to lower layer, but insufficient resistance to alkaline solution of upper layer, dip into alkaline solution after forming up to lower layer to make both sides hydrophilic The upper layer can also be formed after processing. Although the manufacturing process is complicated, for example, in a film composed of an antiglare layer and a low refractive index layer of a fluorine-containing sol-gel film, when having a hydrophilic group, interlayer adhesion between the antiglare layer and the low refractive index layer Has the advantage of improving.

e.予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに塗布層層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介して塗布層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、塗布層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから塗布層を形成することで対処できる。また、塗布層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
e. Method of forming a coating layer on a saponified triacetyl cellulose film A saponification of a triacetyl cellulose film by immersing it in an alkaline solution in advance and applying the coating layer directly on one side or via another layer It may be formed. In the case of saponification by dipping in an alkaline solution, the interlayer adhesion with the triacetyl cellulose surface hydrophilized by saponification may deteriorate. In such a case, after saponification, only the surface on which the coating layer is to be formed is treated by corona discharge, glow discharge or the like to remove the hydrophilic surface and then form the coating layer. Further, when the coating layer has a hydrophilic group, the interlayer adhesion may be good.

4−(8)偏光膜の作製
本発明のフィルムは、偏光膜およびその片側ないし両側に配置された保護フィルムとして使用し、偏光膜として使用することができる。
一方の保護フィルムとして、本発明のフィルムを用いる、他方の保護フィルムは、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、上述の溶液製膜法で製造され、且つ10〜100%の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。
更には、本発明の偏光板において、片面が反射防止フィルムであるのに対して他方の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであることが好ましい。
4- (8) Production of Polarizing Film The film of the present invention can be used as a polarizing film and a protective film disposed on one side or both sides thereof, and can be used as a polarizing film.
As one protective film, the film of the present invention is used. The other protective film may be a normal cellulose acetate film, but is produced by the above-mentioned solution casting method and at a stretch ratio of 10 to 100%. It is preferable to use a cellulose acetate film stretched in the width direction in the form of a roll film.
Furthermore, in the polarizing plate of the present invention, it is preferable that one side is an antireflection film, whereas the other protective film is an optical compensation film having an optically anisotropic layer made of a liquid crystalline compound.

偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
反射防止フィルムの透明支持体やセルロースアセテートフィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。
Examples of the polarizing film include an iodine polarizing film, a dye polarizing film using a dichroic dye, and a polyene polarizing film. The iodine polarizing film and the dye polarizing film are generally produced using a polyvinyl alcohol film.
The transparent support of the antireflection film and the slow axis of the cellulose acetate film and the transmission axis of the polarizing film are arranged so as to be substantially parallel.

偏光板の生産性には保護フィルムの透湿性が重要である。偏光膜と保護フィルムは水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤溶剤は保護フィルム中を拡散することで、乾燥される。保護フィルムの透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり、生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境(高湿下)により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。
保護フィルムの透湿性は、透明支持体やポリマーフィルム(および重合性液晶化合物)の厚み、自由体積、親疎水性、等により決定される。
本発明のフィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる場合、透湿性は100〜1000g/m・24hrsであることが好ましく、300〜700g/m・24hrsであることが更に好ましい。
透明支持体の厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインスピード、あるいは、延伸、圧縮により調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。
透明支持体の自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することができる。
この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。
透明支持体の親疎水性は、添加剤により調整することが出来る。上記自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。
上記透湿性を独立に制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。
The moisture permeability of the protective film is important for the productivity of the polarizing plate. The polarizing film and the protective film are bonded together with an aqueous adhesive, and the adhesive solvent is dried by diffusing in the protective film. The higher the moisture permeability of the protective film, the faster the drying and the higher the productivity. However, if the protective film is too high, moisture will enter the polarizing film depending on the usage environment (high humidity) of the liquid crystal display device. Polarization ability decreases.
The moisture permeability of the protective film is determined by the thickness, free volume, hydrophilicity / hydrophobicity, etc. of the transparent support or polymer film (and polymerizable liquid crystal compound).
When using the film of the present invention as a protective film of a polarizing plate, the moisture permeability is preferably from 100~1000g / m 2 · 24hrs, and more preferably a 300~700g / m 2 · 24hrs.
In the case of film formation, the thickness of the transparent support can be adjusted by lip flow rate and line speed, or stretching and compression. Since the moisture permeability varies depending on the main material to be used, it is possible to make a preferable range by adjusting the thickness.
In the case of film formation, the free volume of the transparent support can be adjusted by the drying temperature and time.
Also in this case, moisture permeability varies depending on the main material to be used, so that a preferable range can be obtained by adjusting the free volume.
The hydrophilicity / hydrophobicity of the transparent support can be adjusted by an additive. The moisture permeability can be increased by adding a hydrophilic additive to the free volume, and conversely, the moisture permeability can be lowered by adding a hydrophobic additive.
By independently controlling the moisture permeability, a polarizing plate having an optical compensation ability can be manufactured at low cost with high productivity.

偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に45°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
As the polarizing film, a known polarizing film or a polarizing film cut out from a long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used. A long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction is produced by the following method.
That is, a polarizing film stretched by applying tension while holding both ends of a continuously supplied polymer film by a holding means, stretched at least 1.1 to 20.0 times in the film width direction, The progress of the film is such that the difference between the moving speeds in the longitudinal direction of the holding device is within 3%, and the angle formed by the film moving direction at the exit of the step of holding both ends of the film and the substantial stretching direction of the film is inclined by 20 to 70 °. The film can be produced by a stretching method in which the direction is bent while holding both ends of the film. In particular, those inclined by 45 ° are preferably used from the viewpoint of productivity.

ポリマーフィルムの延伸方法については、特開2002−86554号公報の段落0020〜0030に詳しい記載がある。
偏光子の2枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
The method for stretching the polymer film is described in detail in paragraphs 0020 to 0030 of JP-A-2002-86554.
Of the two protective films of the polarizer, the film other than the antireflection film is preferably an optical compensation film having an optical compensation layer comprising an optically anisotropic layer. The optical compensation film (retardation film) can improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen.
A known film can be used as the optical compensation film, but the optical compensation film described in JP-A-2001-100042 is preferable in terms of widening the viewing angle.

6.本発明の使用形態
本発明のフィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置に用いられる。本発明に従う光学フィルターは、プラズマディスプレイパネル(PDP)または陰極管表示装置(CRT)など公知のディスプレー上に用いることが出来る。
6). Form of use of the present invention The film of the present invention is used in image display devices such as liquid crystal display devices (LCD), plasma display panels (PDP), electroluminescence displays (ELD) and cathode ray tube display devices (CRT). The optical filter according to the present invention can be used on a known display such as a plasma display panel (PDP) or a cathode ray tube display (CRT).

6−(1)液晶表示装置
本発明のフィルム、偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有し、液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置されることもある。
6- (1) Liquid Crystal Display Device The film and polarizing plate of the present invention can be advantageously used for an image display device such as a liquid crystal display device, and are preferably used for the outermost layer of the display.
The liquid crystal display device has a liquid crystal cell and two polarizing plates arranged on both sides thereof, and the liquid crystal cell carries a liquid crystal between two electrode substrates. Furthermore, one optically anisotropic layer may be disposed between the liquid crystal cell and one polarizing plate, or two optically anisotropic layers may be disposed between the liquid crystal cell and both polarizing plates.

液晶セルは、TNモード、VAモード、OCBモード、IPSモードまたはECBモードであることが好ましい。   The liquid crystal cell is preferably in TN mode, VA mode, OCB mode, IPS mode or ECB mode.

<TNモード>
TNモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに60〜120゜にねじれ配向している。
TNモードの液晶セルは、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
<TN mode>
In the TN mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied, and are twisted and aligned at 60 to 120 °.
The TN mode liquid crystal cell is most frequently used as a color TFT liquid crystal display device, and is described in many documents.

<VAモード>
VAモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of Tech. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。
<VA mode>
In a VA mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied.
The VA mode liquid crystal cell includes (1) a narrowly defined VA mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied, and substantially horizontally when a voltage is applied (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2-). 176625) (2) Liquid crystal cell (SID97, Digest of Tech. Papers (Proceedings) 28 (1997) 845 in which the VA mode is converted into a multi-domain (for MVA mode) in order to enlarge the viewing angle. ), (3) A liquid crystal cell in a mode (n-ASM mode) in which rod-like liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied and twisted multi-domain alignment is applied when a voltage is applied (Preliminary collections 58-59 of the Japan Liquid Crystal Society) (1998)) and (4) SURVAVAL mode liquid crystal cells (announced at LCD International 98).

<OCBモード>
OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend)液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
<OCB mode>
The OCB mode liquid crystal cell is a bend alignment mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned in substantially opposite directions (symmetrically) at the upper and lower portions of the liquid crystal cell. US Pat. No. 4,583,825, No. 5,410,422. Since the rod-like liquid crystal molecules are symmetrically aligned at the upper and lower portions of the liquid crystal cell, the bend alignment mode liquid crystal cell has a self-optical compensation function. Therefore, this liquid crystal mode is called an OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal mode. The bend alignment mode liquid crystal display device has an advantage of high response speed.

<IPSモード>
IPSモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはProc.IDRC(Asia Display ’95),p.577−580及び同p.707−710に記載されている。
<IPS mode>
The IPS mode liquid crystal cell is a type in which a nematic liquid crystal is switched by applying a lateral electric field. IDRC (Asia Display '95), p. 577-580 and p. 707-710.

<ECBモード>
ECBモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ECBモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平5−203946号公報に詳細が記載されている。
<ECB mode>
In the ECB mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystalline molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied. The ECB mode is one of the liquid crystal display modes having the simplest structure, and is described in detail in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-203946.

5―(2)液晶表示装置以外のディスプレイ
<PDP>
プラズマディスプレイパネル(PDP)は、一般に、ガス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。
プラズマディスプレイパネル(PDP)は、既に市販されている。プラズマディスプレイパネルについては、特開平5−205643号、同9−306366号の各公報に記載がある。
5- (2) Display other than liquid crystal display device <PDP>
A plasma display panel (PDP) is generally composed of a gas, a glass substrate, an electrode, an electrode lead material, a thick film printing material, and a phosphor. Two glass substrates are a front glass substrate and a rear glass substrate. An electrode and an insulating layer are formed on the two glass substrates. A phosphor layer is further formed on the rear glass substrate. Two glass substrates are assembled and gas is sealed between them.
Plasma display panels (PDP) are already commercially available. The plasma display panel is described in JP-A-5-205643 and JP-A-9-306366.

前面板をプラズマディスプレイパネルの前面に配置することがある。前面板はプラズマディスプレイパネルを保護するために充分な強度を備えていることが好ましい。前面板は、プラズマディスプレイパネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラズマディスプレイ本体に直貼りして使用することもできる。
プラズマディスプレイパネルのような画像表示装置では、光学フィルターをディスプレイ表面に直接貼り付けることができる。また、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側(外側)または裏側(ディスプレイ側)に光学フィルターを貼り付けることもできる。
The front plate may be disposed on the front surface of the plasma display panel. The front plate preferably has sufficient strength to protect the plasma display panel. The front plate can be used with a gap from the plasma display panel, or can be used by directly pasting the front plate to the plasma display body.
In an image display device such as a plasma display panel, an optical filter can be directly attached to the display surface. When a front plate is provided in front of the display, an optical filter can be attached to the front side (outside) or the back side (display side) of the front plate.

<タッチパネル>
本発明のフィルムは、特開平5−127822号公報、特開2002−48913号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。
<Touch panel>
The film of the present invention can be applied to touch panels described in JP-A-5-127822 and JP-A-2002-48913.

<有機EL素子>
本発明のフィルムは、有機EL素子等の基板(基材フィルム)や保護フィルムとして用いることができる。
本発明のフィルムを有機EL素子等に用いる場合には、特開平11−335661号、特開平11−335368号、特開2001−192651号、特開2001−192652号、特開2001−192653号、特開2001−335776号、特開2001−247859号、特開2001−181616号、特開2001−181617号、特開2002−181816号、特開2002−181617号、特開2002−056976号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開2001−148291号、特開2001−221916号、特開2001−231443号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。
<Organic EL device>
The film of the present invention can be used as a substrate (base film) such as an organic EL element or a protective film.
When the film of the present invention is used for an organic EL device or the like, JP-A-11-335661, JP-A-11-335368, JP-A-2001-192651, JP-A-2001-192652, JP-A-2001-192653, JP-A-2001-335776, JP-A-2001-247859, JP-A-2001-181616, JP-A-2001-181617, JP-A-2002-181816, JP-A-2002-181617, JP-A-2002-056776, etc. The contents described in each publication can be applied. Moreover, it is preferable to use together with the content of each gazette of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-148291, Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-221916, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-231443.

6.各種特性値
以下に本発明に関する各種測定法と、好ましい特性値を示す。
6−(1)反射率
鏡面反射率及び色味の測定は、分光光度計‘V−550’[日本分光(株)製]にアダプター‘ARV−474’を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における出射角−5゜の鏡面反射率を測定し、視感反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。
本発明の防眩性反射防止フィルムは、鏡面反射率2.5%以下、透過率90%以上とするのが、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため、好ましい。鏡面反射率は1.5%以下が特に好ましく、3−d記載のような層構成を用いることにより反射率を1.0%以下とすることが最も好ましい。
6). Various characteristic values Various measurement methods related to the present invention and preferable characteristic values are shown below.
6- (1) Reflectance Specular reflectance and color are measured by attaching an adapter 'ARV-474' to a spectrophotometer 'V-550' [manufactured by JASCO Corporation], and a wavelength of 380 to 780 nm. In the region, it is possible to measure the specular reflectance at the outgoing angle of -5 ° at the incident angle of 5 °, calculate the luminous reflectance, and evaluate the antireflection property.
The antiglare antireflection film of the present invention preferably has a specular reflectance of 2.5% or less and a transmittance of 90% or more because reflection of external light can be suppressed and visibility is improved. The specular reflectance is particularly preferably 1.5% or less, and most preferably the reflectance is 1.0% or less by using a layer structure as described in 3-d.

6−(2)色味
本発明の反射防止能付き偏光板は、CIE標準光源D65の、波長380nmから780nmの領域における入射角5゜の入射光に対して、正反射光の色味、すなわちCIE1976L色空間のL、a、b値を求めることで色味を評価することができる。
、a、b値は、それぞれ3≦L≦20、−7≦a≦7、且つ、−10≦b≦10の範囲内であることが好ましい。この範囲とすることで、従来の偏光板で問題となっていた赤紫色から青紫色の反射光の色味が低減され、さらに3≦L≦10、0≦a≦5、且つ、−7≦b≦0の範囲内とすることで大幅に低減され、液晶表示装置に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味がニュートラルで、気にならない。詳しくはa≦7であれば赤味が強くなりすぎることがなく、a≧−7であればシアン味が強くなりすぎることがなく好ましい。またb≧−7であれば青味が強くなりすぎることがなく、b≦0であれば黄味が強くなりすぎることがなく好ましい。
6- (2) color antireflection performance polarizing plate of the present invention, the CIE standard illuminant D 65, with respect to the incident angle of 5 ° incident light at 780nm region from the wavelength 380 nm, of the specularly reflected light color, That is, the color tone can be evaluated by obtaining the L * , a * , and b * values of the CIE 1976 L * a * b * color space.
The L * , a * , and b * values are preferably in the ranges of 3 ≦ L * ≦ 20, −7 ≦ a * ≦ 7, and −10 ≦ b * ≦ 10, respectively. By setting it within this range, the color of reflected light from red purple to blue purple, which has been a problem with conventional polarizing plates, is reduced, and further 3 ≦ L * ≦ 10, 0 ≦ a * ≦ 5, and − 7 ≦ b * ≦ 0 is greatly reduced, and when applied to a liquid crystal display device, when applied to a liquid crystal display device, such as indoor fluorescent lamps, a slight brightness of bright external light is reflected. Neutral, don't mind. Specifically, if a * ≦ 7, the reddish color will not be too strong, and if a * ≧ −7, the cyan color will not be too strong. If b * ≧ −7, the bluish color does not become too strong, and if b * ≦ 0, the yellowish color does not become too strong.

更には、反射光の色味均一性は、反射光の380nm〜680nmの反射スペクトルにより求めたL色度図上でのa、bより、下記の数式に従って色味の変化率として得ることができる。 Furthermore, the color uniformity of the reflected light is determined according to the following formula from the a * and b * on the L * a * b * chromaticity diagram obtained from the reflection spectrum of the reflected light from 380 nm to 680 nm. It can be obtained as the rate of change.

Figure 2007272197
Figure 2007272197

ここで、a max及びa minは、それぞれa値の最大値及び最小値;b max及びb minは、それぞれb値の最大値及び最小値;a av及びb avは、それぞれa値及びb値の平均値である。色の変化率は、それぞれ30%以下であることが好ましく、20%以下であることがより好ましく、8%以下であることが最も好ましい。 Here, a * max and a * min are the maximum value and minimum value of the a * value, respectively; b * max and b * min are the maximum value and minimum value of the b * value, respectively; a * av and b * av Are average values of a * value and b * value, respectively. The color change rate is preferably 30% or less, more preferably 20% or less, and most preferably 8% or less.

また、本発明のフィルムは、耐候性試験前後の色味の変化であるΔEが15以下であることが好ましく、10以下であることがより好ましく、5以下であることが最も好ましい。この範囲において、低反射と反射光の色味の低減を両立することができるため、例えば画像表示装置の最表面に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味が、ニュートラルで、表示画像の品位が良好となり、好ましい。 The film of the present invention preferably has a Delta] E w is 15 or less is the change in color before and after the weather resistance test, more preferably 10 or less, and most preferably 5 or less. In this range, it is possible to achieve both low reflection and reduction of the color of the reflected light. For example, when applied to the outermost surface of an image display device, there is a slight amount of high-brightness external light such as an indoor fluorescent lamp. The color tone when it is reflected is neutral, and the quality of the displayed image is good, which is preferable.

上記の色味の変化ΔEは、下記の数式(22)に従って求めることができる。
数式(22):ΔE=[(ΔL+(Δa+(Δb1/2
ここで、ΔL,Δa,Δbは、耐候性試験前後のL値,a値,b値それぞれの変化量である。
The color change ΔE w can be obtained according to the following formula (22).
Formula (22): ΔE w = [(ΔL w ) 2 + (Δa w ) 2 + (Δb w ) 2 ] 1/2
Here, ΔL w , Δa w , and Δb w are change amounts of the L * value, the a * value, and the b * value before and after the weather resistance test.

6−(3)透過画像鮮明度
透過画像鮮明度は、JIS−K7105に従い、スガ試験機(株)製の写像性測定器(ICM−2D型)にて、スリット幅が0.5mmの光学櫛を用いて測定できる。
6- (3) Transmission Image Sharpness The transmission image definition was measured according to JIS-K7105 using an optical comb having a slit width of 0.5 mm using a image clarity measuring instrument (ICM-2D type) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. Can be measured.

本発明のフィルムの透過画像鮮明度は60%以上が好ましい。透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。本発明のフィルムの透過画像鮮明製は5%〜30%であるのが、充分な防眩性と画像ボケ、暗室コントラスト低下の改善が両立されるので、好ましい。   The transmission image definition of the film of the present invention is preferably 60% or more. The transmitted image clarity is generally an index indicating the degree of blurring of an image reflected through a film, and the larger this value, the clearer and better the image viewed through the film. It is preferable that the transparent image of the film of the present invention is 5% to 30%, since sufficient antiglare property and improvement in image blur and dark room contrast are compatible.

6−(4)表面粗さ
中心線平均粗さ(Ra)の測定は、JIS−B0601に準じて行なうことができる。
本発明の光学フィルムは、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さRaが0.001〜0.30μm、10点平均粗さRzがRaの10倍以下、平均山谷距離Smが1〜100μmが好ましい。また、本発明の多孔質又は中空の導電性粒子を光学フィルムの低屈折率層に用いる態様では、従来の高屈折率の導電性粒子を含む導電層を含む態様に比較して、防眩性の低い領域でも干渉ムラの発生が低減されるため、Raが0.001〜0.15μmで特に本発明の効果が顕著である。
6- (4) Surface roughness Centerline average roughness (Ra) can be measured in accordance with JIS-B0601.
The optical film of the present invention has a surface roughness of 0.001 to 0.30 μm in the center line average roughness, 10 points or less of the average roughness Rz of 10 or less, and an average mountain valley distance Sm of 1 to 100 μm. preferable. Further, in the embodiment in which the porous or hollow conductive particles of the present invention are used for the low refractive index layer of the optical film, compared with the conventional embodiment including the conductive layer containing conductive particles having a high refractive index, the antiglare property is improved. Since the occurrence of interference unevenness is reduced even in a low region, Ra is 0.001 to 0.15 μm, and the effect of the present invention is particularly remarkable.

6−(5)ヘイズ
本発明のフィルムのヘイズはJIS−K7105に規定されたヘイズ値のことであり、JIS−K7361−1で規定された測定法に基づき、日本電色工業(株)製の濁度計「NDH−1001DP」を用いて測定したヘイズ=(拡散光/全透過光)×100(%)として自動計測される。
6- (5) Haze The haze of the film of the present invention is the haze value defined in JIS-K7105. Based on the measurement method defined in JIS-K7361-1, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. It is automatically measured as haze measured using a turbidimeter “NDH-1001DP” = (diffused light / total transmitted light) × 100 (%).

なお、表面ヘイズと内部ヘイズは以下の手順で測定することができる。
(1)JIS−K7136に準じてフィルムの全ヘイズ値(H)を測定する。
(2)フィルムの低屈折率層側の表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ1mmのガラス板(ミクロスライドガラス品番S 9111、MATSUNAMI製)を2枚用いて裏表より挟んで、完全に2枚のガラス板とフィルムを光学的に密着させ、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板2枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ(Hi)として算出する。
(3)上記(1)で測定した全ヘイズ(H)から上記(2)で算出した内部ヘイズ(Hi)を引いた値をフィルムの表面ヘイズ(Hs)として算出する。
The surface haze and internal haze can be measured by the following procedure.
(1) The total haze value (H) of the film is measured according to JIS-K7136.
(2) A few drops of silicone oil are added to the front and back surfaces of the low refractive index layer side of the film, and sandwiched from the front and back using two 1 mm thick glass plates (micro slide glass product number S 9111, manufactured by MATSANAMI), Two glass plates and a film are optically closely adhered to each other, and the haze is measured in a state where surface haze is removed, and only the silicone oil is sandwiched between two separately measured glass plates to subtract the measured haze. The calculated value is calculated as the internal haze (Hi) of the film.
(3) A value obtained by subtracting the internal haze (Hi) calculated in (2) from the total haze (H) measured in (1) above is calculated as the surface haze (Hs) of the film.

6−(7)耐擦傷性
<スチールウール耐傷性評価>
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とすることが出来る。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:スチールウール(日本スチールウール(株)製、ゲレードNo.0000)
試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)に巻いて、バンド固定。
移動距離(片道):13cm、
こすり速度:13cm/秒、
荷重:500g/cm、および200g/cm
先端部接触面積:1cm×1cm、こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察したり、擦った部分以外との反射光量との差によって評価する。
6- (7) Scratch resistance <Steel wool scratch resistance evaluation>
By using a rubbing tester and carrying out a rubbing test under the following conditions, it can be used as an index of scratch resistance.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rubbing material: Steel wool (Nippon Steel Wool Co., Ltd., gelled No. 0000)
Wrap around the tip (1cm x 1cm) of the scraper of the tester that comes into contact with the sample and fix the band.
Travel distance (one way): 13cm
Rubbing speed: 13 cm / second,
Load: 500 g / cm 2 and 200 g / cm 2
Tip contact area: 1 cm × 1 cm, rubbing frequency: 10 reciprocations.
An oil-based black ink is applied to the back side of the sample that has been rubbed, and scratches on the rubbed portion are visually observed with reflected light, or evaluation is made based on the difference from the amount of reflected light other than the rubbed portion.

<消しゴム擦り耐傷性評価>
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とすることが出来る。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:プラスチック消しゴム((株)トンボ鉛筆性 MONO)
試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)に固定
移動距離(片道):4cm、
こすり速度:2cm/秒、
荷重:500g/cm
先端部接触面積:1cm×1cm、
こすり回数:100往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察したり、擦った部分以外との反射光量との差によって評価する。
<Eraser scuff resistance evaluation>
By using a rubbing tester and carrying out a rubbing test under the following conditions, it can be used as an index of scratch resistance.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rubbing material: Plastic eraser (dragonfly pencil-like MONO)
Fixed to the tip (1 cm x 1 cm) of the scraper of the tester that comes into contact with the sample. Moving distance (one way): 4 cm,
Rubbing speed: 2 cm / second,
Load: 500 g / cm 2
Tip contact area: 1 cm × 1 cm,
Number of rubs: 100 round trips.
An oil-based black ink is applied to the back side of the sample that has been rubbed, and scratches on the rubbed portion are visually observed with reflected light, or evaluation is made based on the difference from the amount of reflected light other than the rubbed portion.

<テーパー試験>
JIS―K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量から擦傷性を評価することができる。
この摩耗量が少ないほど好ましい。
<Taper test>
In the Taber test according to JIS-K5400, the scratch resistance can be evaluated from the wear amount of the test piece before and after the test.
The smaller the amount of wear, the better.

6−(8)硬度
<鉛筆硬度>
本発明のフィルムの強度は、JIS―K5400に従う鉛筆硬度試験で評価することが出来る。
鉛筆硬度はH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
6- (8) Hardness <Pencil hardness>
The strength of the film of the present invention can be evaluated by a pencil hardness test according to JIS-K5400.
The pencil hardness is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher.

<表面弾性率>
本発明における表面弾性率は微小表面硬度計((株)フィッシャー・インスツルメンツ製:フィッシャースコープH100VP−HCU)を用いて求めた値である。具体的には、ダイヤモンド製の四角錐圧子(先端対面角度;136°)を使用し、押し込み深さが1μmを超えない範囲で、適当な試験荷重下での押し込み深さを測定し、除荷重時の荷重と変位の変化から求められる弾性率である。
また、前述の微小表面硬度計を用いて表面硬度をユニバーサル硬度として求めることもできる。ユニバーサル硬度は四角錐圧子の試験荷重下での押し込み深さを測定し、試験荷重をその試験荷重で生じた圧痕の幾何学的形状から計算される圧痕の表面積で割った値である。上記の表面弾性率とユニバーサル硬度の間には、正の相関を有することが知られている。
<Surface elastic modulus>
The surface elastic modulus in the present invention is a value determined using a micro surface hardness tester (manufactured by Fisher Instruments: Fisherscope H100VP-HCU). Specifically, using a diamond pyramid indenter (tip-to-face angle: 136 °), the indentation depth is measured under an appropriate test load within a range where the indentation depth does not exceed 1 μm. This is the elastic modulus obtained from the change in load and displacement over time.
Further, the surface hardness can be obtained as a universal hardness by using the above-mentioned micro surface hardness tester. The universal hardness is a value obtained by measuring the indentation depth of a quadrangular pyramid indenter under a test load and dividing the test load by the surface area of the indent calculated from the geometric shape of the indent generated by the test load. It is known that there is a positive correlation between the surface elastic modulus and the universal hardness.

本発明で定義する架橋性ポリマーのユニバーサル硬度とはガラス板上に硬化形成した約20〜30μm厚の該架橋性ポリマー膜についてフィッシャーインストルメンツ(株)製の微小硬度計H100によって以下測定手順で求めたユニバーサル硬度(N/mm)によって表わされる。
架橋性ポリマーの他に必要な触媒や架橋剤、重合開始剤等を含んだ固形分濃度約25%の塗布液を硬化後の膜厚が約20〜30μmになるように適切なバーコーターを選択してTOSHINRIKO.CO.LTD製、(26mm×76mm×1.2mm)みがきスライドガラス板上に塗布する。架橋性ポリマーが熱硬化性の場合には膜が十分硬化される熱硬化条件をあらかじめ求めておき(一例として125℃10分)、架橋性ポリマーが電離放射線硬化性の場合にも同様に膜が十分硬化される硬化条件をあらかじめ求めておく(一例として酸素濃度12ppm、UV照射量750mJ/cm)。それぞれの膜に対して荷重を0から4mNまで連続的に増加させ、基材のガラス板硬度の影響がでない1/10膜厚を最大として円錐ダイヤモンド圧子を押し込んだ際の各荷重Fに対する窪み面積A(mm)から求めたF/AのN=6測定平均値からユニバーサル硬度を算出する。
また、特開2004−354828記載のナノインデンテーションによって表面硬度をもとめることができ、この場合の硬度としては2GPa〜4GPa、ナノインデンテーション弾性率は10GPa〜30GPaであることが好ましい。
The universal hardness of the crosslinkable polymer defined in the present invention is determined by the following measurement procedure using a microhardness meter H100 manufactured by Fischer Instruments Co., Ltd. with respect to the crosslinkable polymer film having a thickness of about 20 to 30 μm cured on a glass plate. The universal hardness (N / mm 2 ).
Appropriate bar coater is selected so that the film thickness after curing of a coating solution with a solid content of about 25% containing the necessary catalyst, crosslinking agent, polymerization initiator, etc. in addition to the crosslinkable polymer is about 20-30 μm. TOSHINRIKO. CO. Made of LTD (26 mm × 76 mm × 1.2 mm) coated on a polished glass slide plate. In the case where the crosslinkable polymer is thermosetting, a thermosetting condition for sufficiently curing the film is obtained in advance (for example, 125 ° C. for 10 minutes), and when the crosslinkable polymer is ionizing radiation curable, the film is similarly formed. The curing conditions for sufficient curing are obtained in advance (as an example, the oxygen concentration is 12 ppm, the UV irradiation amount is 750 mJ / cm 2 ). Indentation area for each load F when the conical diamond indenter is pushed in by increasing the load continuously from 0 to 4 mN for each film and making the film thickness of 1/10 that is not affected by the glass plate hardness of the base material maximum Universal hardness is calculated from N = 6 measurement average value of F / A determined from A (mm 2 ).
The surface hardness can be determined by nanoindentation described in JP-A No. 2004-354828. In this case, the hardness is preferably 2 GPa to 4 GPa, and the nanoindentation elastic modulus is preferably 10 GPa to 30 GPa.

6−(9)防汚性試験
<マジック拭き取り性>
フィルムをガラス面上に粘着剤で固定し、25℃60RH%の条件下で黒マジック「マッキー極細(商品名:ZEBRA製)」のペン先(細)にて直径5mmの円形を3周書き込み、5秒後に10枚重ねに折り束ねたベンコット(商品名、旭化成(株))でベンコットの束がへこむ程度の荷重で20往復拭き取る。マジック後が拭き取りで消えなくなるまで前記の書き込みと拭き取りを前記条件で繰り返し、拭き取りできた回数により防汚性を評価することが出来る。
消えなくなるまでの回数は5回以上であることが好ましく、10回以上であることが更に好ましい。
6- (9) Antifouling test <Magic wiping>
The film is fixed on the glass surface with an adhesive, and a circle with a diameter of 5 mm is written three times with a pen tip (thin) of black magic “Mckey extra fine (product name: made by ZEBRA)” at 25 ° C. and 60 RH%. After 5 seconds, wipe it back and forth 20 times with a load that dents the bundle of Bencot (Brand name, Asahi Kasei Co., Ltd.) folded into 10 sheets. The writing and wiping are repeated under the above conditions until after the magic does not disappear by wiping, and the antifouling property can be evaluated by the number of times of wiping.
The number of times until it no longer disappears is preferably 5 times or more, and more preferably 10 times or more.

黒マジックについてはマジックインキ No.700(M700―T1 黒)極細を用い試料の上に直径1cmの円を描いて塗りつぶし、24時間放置後にベンコット(旭化成(株)製)で擦り、マジックがふき取れるかによっても評価することができる。   For Black Magic, Magic Ink No. 700 (M700-T1 black) Using an ultra-fine sample, draw a circle with a diameter of 1 cm on the sample, paint it for 24 hours, rub it with Bencott (Asahi Kasei Co., Ltd.), and evaluate whether the magic can be wiped off. .

6−(10)密着性評価
フィルムの層間、あるいは支持体と塗布層との密着性は以下の方法により評価することが出来る。
塗布層を有する側の表面にカッターナイフで碁盤目状に縦11本、横11本の切り込みを1mm間隔で入れて合計100個の正方形の升目を刻み、日東電工(株)製のポリエステル粘着テープ(NO.31B)を圧着し、24時間放置後引き剥がす試験を同じ場所で繰り返し3回行い、剥がれの有無を目視で観察する。
6- (10) Evaluation of adhesion The adhesion between the layers of the film or between the support and the coating layer can be evaluated by the following method.
Nitto Denko Co., Ltd. Polyester adhesive tape with 11 squares and 11 horizontal cuts at 1 mm intervals and a total of 100 squares on the surface of the coated layer. (NO.31B) is pressure-bonded, and the test for peeling off after leaving for 24 hours is repeated three times at the same place, and the presence or absence of peeling is visually observed.

100個の升目中、剥がれが10升以内であることが好ましく、2升以内であることが更に好ましい。   Of 100 squares, peeling is preferably within 10 mm, and more preferably within 2 mm.

6−(11)脆性試験(耐ひび割れ性)
耐ひび割れ性は、フィルムの塗布、加工、裁断、粘着剤の塗布、種々の物体への貼りつけ等のハンドリングで割れ欠陥を出さないための重要な特性である。
フィルム試料を35mm×140mmに切断し、温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間放置した後、筒状に丸めたときにひび割れが発生し始める曲率直径を測定し、表面のひび割れを評価することができる。
6- (11) Brittleness test (crack resistance)
Crack resistance is an important characteristic for preventing crack defects by handling such as film application, processing, cutting, adhesive application, and application to various objects.
A film sample is cut into 35 mm x 140 mm, left to stand for 2 hours at a temperature of 25 ° C and a relative humidity of 60%, and then the curvature diameter at which cracks start to occur when rolled into a cylinder is measured to evaluate surface cracks. can do.

本発明のフィルムの耐ひび割れ性は、塗布層側を外側にして丸めたときに、ひび割れが発生する曲率直径が、50mm以下であることが好ましく、40mm以下がより好ましく、30mm以下が最も好ましい。エッジ部のひび割れについては、ひび割れがないか、ひび割れの長さが平均で1mm未満であることが好ましい。   The crack resistance of the film of the present invention is preferably 50 mm or less, more preferably 40 mm or less, and most preferably 30 mm or less, when the film is rolled with the coating layer side facing outward. About the crack of an edge part, it is preferable that there is no crack or the length of a crack is less than 1 mm on average.

6−(12)塵埃除去性
本発明のフィルムをモニターに張り付け、モニター表面に塵埃(布団、衣服の繊維屑)を振りかけ、クリーニングクロスで塵埃を拭き取り、塵埃除去性を評価することができる。
6回の拭取りで完全に取除けることが好ましく、3回以内の拭き取りで塵埃が完全に取り除けることが更に好ましい。
6- (12) Dust Removability The film of the present invention can be attached to a monitor, dust (futon, fiber waste from clothes) can be sprinkled on the monitor surface, the dust can be wiped off with a cleaning cloth, and the dust removability can be evaluated.
It is preferable to remove completely by wiping 6 times, and it is more preferable to remove dust completely by wiping within 3 times.

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「%」は質量基準である。   In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

[粒子の合成例]
合成例1
[SiO微粒子へAu超微粒子を結合した中空の導電性微粒子A−1の合成]
中空シリカ微粒子のIPA(イソプロピルアルコール)分散物(特開2002−79616の調製例4に準じて作成;平均粒子径約40nm、シェル厚み約10nm、シリカ粒子の屈折率1.31、シリカ濃度20質量%)39g、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン3ml、およびアルミニウムイソプロポキシド15mgをMEK(エチルメチルケトン)200mlに添加し混合した。さらに水3mlを加えて60℃に昇温し,4時間撹拌し,反応させた。その後、塩化金(III)酸四水和物8.4gをMEK80mlに溶解して添加し、さらにヒドロキシアセトン15mlを添加して30分撹拌した。液温を室温まで下げて得られた分散物をTEMおよびXRDで解析したところ、中空シリカ微粒子表面上一面に粒子径3〜5nmのAuの超微粒子が結合しているのが観察された。
シリカ(SiO)に対するAuの質量比は0.62であった。導電性微粒子の粉体比抵抗は、90Ω・cmであった。
尚、粉体比抵抗は、試料粉末を9.8MPa(100kg/cm)の圧力で成形して
円柱状の粉体成形物(直径18mm、厚さ3mm)とし、その直流抵抗を測定して、下記の式によって粉体比抵抗(Ω・cm)を求めた。
粉体比抵抗(Ω・cm)=測定値(Ω)×[2.54(cm)/0.3(cm)]
[Example of particle synthesis]
Synthesis example 1
[Synthesis of hollow conductive fine particles A-1 in which Au ultrafine particles are bonded to SiO 2 fine particles]
IPA (isopropyl alcohol) dispersion of hollow silica fine particles (prepared according to Preparation Example 4 of JP-A-2002-79616; average particle diameter of about 40 nm, shell thickness of about 10 nm, silica particle refractive index of 1.31, silica concentration of 20 mass %) 39 g, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane 3 ml, and aluminum isopropoxide 15 mg were added to MEK (ethyl methyl ketone) 200 ml and mixed. Further, 3 ml of water was added, the temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was stirred for 4 hours for reaction. Thereafter, 8.4 g of gold chloride (III) acid tetrahydrate was dissolved in 80 ml of MEK and added, and further 15 ml of hydroxyacetone was added and stirred for 30 minutes. When the dispersion obtained by lowering the liquid temperature to room temperature was analyzed by TEM and XRD, it was observed that Au ultrafine particles having a particle diameter of 3 to 5 nm were bonded to the entire surface of the hollow silica fine particles.
The mass ratio of Au to silica (SiO 2 ) was 0.62. The powder specific resistance of the conductive fine particles was 90 Ω · cm.
The powder specific resistance is obtained by molding a sample powder at a pressure of 9.8 MPa (100 kg / cm 2 ) into a cylindrical powder molded product (diameter 18 mm, thickness 3 mm), and measuring the direct current resistance. The powder specific resistance (Ω · cm) was determined by the following formula.
Powder specific resistance (Ω · cm) = measured value (Ω) × [2.54 (cm 2 ) /0.3 (cm)]

合成例2
[SiO微粒子を酸化アンチモン被覆した中空の導電性微粒子A−2の合成]
[中空シリカ系微粒子(C-1)の調製]
平均粒径5nm、SiO2濃度20質量%のシリカゾル100gと純水1900gの混
合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2とし
て1.17質量%の珪酸ナトリウム水溶液9000gとAl23として0.83質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO2・Al23一次粒子分散液を調製した。
Synthesis example 2
[Synthesis of hollow conductive fine particles A-2 in which SiO 2 fine particles are coated with antimony oxide]
[Preparation of hollow silica fine particles (C-1)]
A mixture of 100 g of silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a SiO 2 concentration of 20% by mass and 1900 g of pure water was heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor was 10.5, and 9000 g of a 1.17 mass% sodium silicate aqueous solution as SiO 2 and 9000 g of a 0.83 mass% sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 were simultaneously added to the mother liquor. . Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition, and hardly changed thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a SiO 2 .Al 2 O 3 primary particle dispersion having a solid content concentration of 20% by mass.

この一次粒子分散液500gに純水1,700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、濃度0.5質量%の硫酸アンモニウム53,200gを添加し、ついでSiO2として濃度1.17質量%の珪酸ナトリウム水溶液3,000gとAl23としての濃度0.5質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9,000gを添加して複合酸化物微粒子(1)の分散液を得た。
ついで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった複合酸化物微粒子(1)の
分散液500gに純水1,125gを加え、さらに濃塩酸(濃度35.5質量%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離して固形分濃度20質量%の中空シリカ系微粒子(C-1)分散液とした。
このシリカ系微粒子(C-1)の平均粒子径は58nm、MOx/SiO2(モル比)は0.0097、屈折率は1.30であった。
1,700 g of pure water was added to 500 g of this primary particle dispersion and heated to 98 ° C. While maintaining this temperature, 53,200 g of ammonium sulfate having a concentration of 0.5% by mass was added, and then the concentration of SiO 2 was 1 A dispersion of composite oxide fine particles (1) was obtained by adding 3,000 g of a .17% by mass sodium silicate aqueous solution and 9,000 g of a 0.5% by mass sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 .
Next, 1,125 g of pure water was added to 500 g of the dispersion of the composite oxide fine particles (1) having a solid concentration of 13% by washing with an ultrafiltration membrane, and concentrated hydrochloric acid (concentration 35.5% by mass). Was dropped to pH 1.0, and dealumination was performed. Next, the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane was separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water to obtain a hollow silica fine particle (C-1) dispersion having a solid content concentration of 20% by mass.
The silica-based fine particles (C-1) had an average particle size of 58 nm, MO x / SiO 2 (molar ratio) of 0.0001, and a refractive index of 1.30.

[アンチモン酸の調製]
純水1800gに苛性カリ(旭硝子(株)製:純度85質量%)57gを溶解した溶液中に三酸化アンチモン(住友金属鉱山(株)製:KN 純度98.5質量%)111gを懸濁させた。この懸濁液を95℃に加熱し、次いで、過酸化水素水(林純薬(株)製:特級、純度35質量%)32.8gを純水110.7gで希釈した水溶液を9時間で添加(0.1mole/hr)し、三酸化アンチモンを溶解し、その後11時間熟成した。冷却後、得られた溶液から1000gを取り、この溶液を純水6000gで希釈した後、陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:pk-216)に通して脱イオン処理を行った。このときのpHは2.1、電導度は2.4mS/cmであった。
[Preparation of antimonic acid]
111 g of antimony trioxide (Sumitomo Metal Mining Co., Ltd .: KN purity 98.5% by mass) was suspended in a solution of 57 g of caustic potash (Asahi Glass Co., Ltd .: 85% by mass) dissolved in 1800 g of pure water. . This suspension was heated to 95 ° C., and then an aqueous solution obtained by diluting 32.8 g of hydrogen peroxide water (produced by Hayashi Junyaku Co., Ltd .: special grade, purity 35% by mass) with 110.7 g of pure water was added in 9 hours. It was added (0.1 mole / hr) to dissolve antimony trioxide, and then aged for 11 hours. After cooling, 1000 g was taken from the resulting solution, and this solution was diluted with 6000 g of pure water, and then passed through a cation exchange resin (Mitsubishi Chemical Corporation: pk-216) for deionization treatment. The pH at this time was 2.1, and the conductivity was 2.4 mS / cm.

ついで、上記で調製した中空シリカ系微粒子(C-1)分散液を固形分濃度1質量%に希釈した分散液400gに固形分濃度1質量%のアンチモン酸40gを加え、70℃で11時間撹拌し、限外濾過膜で濃縮し、固形分濃度20質量%の酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子(P-1)分散液を調製した。この酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子の平均粒子径は60nm、酸化アンチモン被覆層の厚さは約2nmであった。
この酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子分散液100gに純水300gとメタノール400gを加え、これに正珪酸エチル(SiO2濃度28質量%)3.57gを混合し、50℃で15時間加熱撹拌してシリカ被覆層を形成した酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子(A−2)分散液を調製した。この分散液を限外濾過膜を用い、メタノールにて溶媒置換するとともに固形分濃度20質量%になるまで濃縮した。ついで、ロータリーエバポレーターにてイソプロピルアルコールに溶媒置換して濃度20質量%のシリカ系微粒子のイソプロピルアルコール分散液とした。
Next, 40 g of antimonic acid having a solid concentration of 1% by mass was added to 400 g of the dispersion prepared by diluting the hollow silica-based fine particle (C-1) dispersion prepared above to a solid content of 1% by mass, and the mixture was stirred at 70 ° C. for 11 hours. Then, it was concentrated with an ultrafiltration membrane to prepare a dispersion of antimony oxide-coated silica-based fine particles (P-1) having a solid concentration of 20% by mass. The average particle size of the antimony oxide-coated silica-based fine particles was 60 nm, and the thickness of the antimony oxide coating layer was about 2 nm.
To 100 g of this antimony oxide-coated silica-based fine particle dispersion, 300 g of pure water and 400 g of methanol are added, mixed with 3.57 g of normal ethyl silicate (SiO 2 concentration 28 mass%), and heated and stirred at 50 ° C. for 15 hours to prepare silica. An antimony oxide-coated silica-based fine particle (A-2) dispersion having a coating layer was prepared. This dispersion was subjected to solvent replacement with methanol using an ultrafiltration membrane and concentrated to a solid content concentration of 20% by mass. Subsequently, the solvent was replaced with isopropyl alcohol by a rotary evaporator to obtain an isopropyl alcohol dispersion of silica-based fine particles having a concentration of 20% by mass.

ついで、このシリカ被覆層を形成した酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子のイソプロピルアルコール分散液100gにメタクリル系シランカップリング剤(信越化学(株)製:KBM−503)0.73gを加え、50℃で15時間加熱撹拌してシリカ被覆層を形成し、表面処理した酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子(A−2)分散液を調製した。
シリカ(SiO)に対する酸化アンチモンの質量比は0.11であった。導電性微粒子の粉体比抵抗は、1600Ω・cm、屈折率1.41であった
Next, 0.73 g of a methacrylic silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503) was added to 100 g of an isopropyl alcohol dispersion of the antimony oxide-coated silica-based fine particles on which the silica coating layer was formed, A silica coating layer was formed by heating and stirring for a time to prepare a surface-treated antimony oxide-coated silica-based fine particle (A-2) dispersion.
The mass ratio of antimony oxide to silica (SiO 2 ) was 0.11. The powder specific resistance of the conductive fine particles was 1600 Ω · cm and the refractive index was 1.41.

合成例3
[SiO微粒子を酸化アンチモン被覆した中空の導電性微粒子A−3の合成]
合成例2の中空シリカ系粒子(C−1)の調製の条件を変更し、平均粒子径76nm、屈折率1.26の粒子を得た。その粒子に対して、約4nmの酸化アンチモン被覆層を形成させ、平均粒子径78nmの酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子を形成し、濃度20質量%のシリカ系微粒子のイソプロピルアルコール分散液とした。
ついで、合成例2に準じて表面処理を行い、表面処理した酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子(A−3)分散液を調製した。
シリカ(SiO)に対する酸化アンチモンの質量比は0.20であった。導電性微粒子の粉体比抵抗は、600Ω・cm、屈折率1.41であった
Synthesis example 3
[Synthesis of hollow conductive fine particles A-3 in which SiO 2 fine particles are coated with antimony oxide]
The conditions for preparing the hollow silica-based particles (C-1) of Synthesis Example 2 were changed to obtain particles having an average particle diameter of 76 nm and a refractive index of 1.26. An antimony oxide coating layer having a thickness of about 4 nm was formed on the particles to form antimony oxide-coated silica-based fine particles having an average particle diameter of 78 nm, thereby obtaining an isopropyl alcohol dispersion of silica-based fine particles having a concentration of 20% by mass.
Next, a surface treatment was performed according to Synthesis Example 2 to prepare a surface-treated antimony oxide-coated silica-based fine particle (A-3) dispersion.
The mass ratio of antimony oxide to silica (SiO 2 ) was 0.20. The powder specific resistance of the conductive fine particles was 600 Ω · cm and the refractive index was 1.41.

合成例4(比較用)
[シリカ系微粒子(B−1)の調製]
合成例2で使用したシリカ系微粒子(C−1)を固形分濃度20質量%の水分散液とし、その水分散液100gに純水300gとメタノール400gを加え、これに正珪酸エチル(SiO2濃度28質量%)3.57gを混合し、50℃で15時間加熱撹拌してシリカ被覆層を形成したシリカ系微粒子水分散液を調製した。この分散液を限外濾過膜を用い、メタノールにて溶媒置換するとともに固形分濃度20質量%になるまで濃縮した。ついで、ロータリーエバポレーターにてイソプロピルアルコールに溶媒置換して濃度20質量%のシリカ系微粒子のイソプロピルアルコール分散液とした。
ついで、このシリカ系微粒子のイソプロピルアルコール分散液100gにメタクリル系シランカップリング剤(信越化学(株)製:KBM−503)0.73gを加え、50℃で15時間加熱撹拌してシリカ被覆層を形成し、表面処理したシリカ系微粒子(B−1)を調製した。このシリカ被覆層を形成し、表面処理したシリカ系微粒子(B−1)の平均粒子径は58nmであった。該微粒子の粉体は絶縁体であった。
Synthesis example 4 (for comparison)
[Preparation of silica-based fine particles (B-1)]
The silica-based fine particles (C-1) used in Synthesis Example 2 are used as an aqueous dispersion having a solid concentration of 20% by mass, and 300 g of pure water and 400 g of methanol are added to 100 g of the aqueous dispersion, and then added to normal ethyl silicate (SiO 2). A silica-based fine particle aqueous dispersion in which 3.57 g (concentration 28% by mass) was mixed and heated and stirred at 50 ° C. for 15 hours to form a silica coating layer was prepared. This dispersion was subjected to solvent replacement with methanol using an ultrafiltration membrane and concentrated to a solid content concentration of 20% by mass. Subsequently, the solvent was replaced with isopropyl alcohol by a rotary evaporator to obtain an isopropyl alcohol dispersion of silica-based fine particles having a concentration of 20% by mass.
Next, 0.73 g of a methacrylic silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503) is added to 100 g of this silica-based fine particle isopropyl alcohol dispersion, and the silica coating layer is heated and stirred at 50 ° C. for 15 hours. Silica-based fine particles (B-1) that were formed and surface-treated were prepared. The average particle diameter of the silica-based fine particles (B-1) on which the silica coating layer was formed and surface-treated was 58 nm. The fine particle powder was an insulator.

合成例5(比較用)
[酸化アンチモン微粒子(B−2)の調製]
純水1800gに苛性カリ(旭硝子(株)製:純度85質量%)57gを溶解した溶液中に三酸化アンチモン(住友金属鉱山(株)製:KN 純度98.5質量%)111gを懸濁させた。この懸濁液を95℃に加熱し、次いで、過酸化水素水(林純薬(株)製:特級、純度35質量%)59.2gを純水194.9gで希釈した水溶液を6時間で添加(0.27mole/hr)し、三酸化アンチモンを溶解し、その後14時間熟成した。冷却後、得られた溶液から1000gを取り、この溶液を純水6000gで希釈した後、陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:pk-216)に通して脱イオン処理を行った。このときのpHは2.0、電導度は3.1mS/cmであった。
ついで、温度70℃で10時間熟成した後、限外膜で濃縮して固形分濃度14質量%の酸化アンチモン微粒子分散液を調製した。得られた酸化アンチモン微粒子分散液(R-1)の
pHは2.1、電導度は1.2mS/cmであった。
Synthesis Example 5 (for comparison)
[Preparation of antimony oxide fine particles (B-2)]
111 g of antimony trioxide (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd .: KN purity 98.5 mass%) was suspended in a solution of 57 g of caustic potash (Asahi Glass Co., Ltd .: purity 85 mass%) dissolved in 1800 g of pure water. . This suspension was heated to 95 ° C., and then an aqueous solution obtained by diluting 59.2 g of hydrogen peroxide water (manufactured by Hayashi Junyaku Co., Ltd .: special grade, purity 35% by mass) with 194.9 g of pure water was obtained in 6 hours. It was added (0.27 mole / hr) to dissolve antimony trioxide, and then aged for 14 hours. After cooling, 1000 g was taken from the resulting solution, and this solution was diluted with 6000 g of pure water, and then passed through a cation exchange resin (Mitsubishi Chemical Corporation: pk-216) for deionization treatment. The pH at this time was 2.0, and the conductivity was 3.1 mS / cm.
Then, after aging for 10 hours at a temperature of 70 ° C., an antimony oxide fine particle dispersion having a solid content of 14% by mass was prepared by concentrating with an ultra-thin film. The obtained antimony oxide fine particle dispersion (R-1) had a pH of 2.1 and an electric conductivity of 1.2 mS / cm.

酸化アンチモン微粒子分散液(R−1)を希釈して固形分濃度5質量%の分散液とし、この分散液100gにメタノール100gを加え、これに正珪酸エチル(SiO2濃度28質量%)1.79gを混合し、50℃で15時間加熱撹拌してシリカ被覆層を形成した酸化アンチモン微粒子分散液を調製した。この分散液を限外濾過膜を用い、メタノールにて溶媒置換するとともに固形分濃度20質量%になるまで濃縮した。ついで、ロータリーエバポレーターにてイソプロピルアルコールに溶媒置換して濃度20質量%の酸化アンチモン微粒子のイソプロピルアルコール分散液とした。
ついで、このシリカ被覆層を形成した酸化アンチモン微粒子のイソプロピルアルコール分散液100gにメタクリル系シランカップリング剤(信越化学(株)製:KBM-503)1.5gを加え、50℃で15時間加熱撹拌してシリカ被覆層を形成し、表面処理した酸化アンチモン微粒子(B-2)分散液を調製した。
平均粒子径は20nm、導電性微粒子の粉体比抵抗は、500Ω・cm、屈折率1.63であった
The antimony oxide fine particle dispersion (R-1) was diluted to a dispersion having a solid concentration of 5% by mass, 100 g of methanol was added to 100 g of this dispersion, and normal ethyl silicate (SiO 2 concentration 28% by mass) was added to the dispersion. 79 g was mixed and heated and stirred at 50 ° C. for 15 hours to prepare an antimony oxide fine particle dispersion liquid in which a silica coating layer was formed. This dispersion was subjected to solvent replacement with methanol using an ultrafiltration membrane and concentrated to a solid content concentration of 20% by mass. Subsequently, the solvent was replaced with isopropyl alcohol by a rotary evaporator to obtain an isopropyl alcohol dispersion of antimony oxide fine particles having a concentration of 20% by mass.
Next, 1.5 g of a methacrylic silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503) is added to 100 g of the isopropyl alcohol dispersion of antimony oxide fine particles on which the silica coating layer is formed, and the mixture is heated and stirred at 50 ° C. for 15 hours. Thus, a silica coating layer was formed, and a surface-treated antimony oxide fine particle (B-2) dispersion was prepared.
The average particle size was 20 nm, the powder specific resistance of the conductive fine particles was 500 Ω · cm, and the refractive index was 1.63.

光学フィルムの作成例
[実施例1]
表1に示すハードコート層用塗布液(HC−1)〜(HC−6)を調製した。
Example of optical film creation
[Example 1]
Hard coat layer coating solutions (HC-1) to (HC-6) shown in Table 1 were prepared.

Figure 2007272197
Figure 2007272197

表中の構成成分は固形分の質量百分率で示す。使用した化合物の詳細を以下に示す。
PETA:(ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物 日本化薬(株)製)
DPHA:(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物 日本化薬(株)製)
オルガノシラン化合物:(3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、KBM−5103 信越化学工業(株)製)
重合開始剤:(イルガキュア184 日本チバガイギー(株)製)
架橋スチレン粒子:(3.5μm架橋ポリスチレン粒子、 SX−350、綜研化学(株)製)
架橋アクリルースチレン粒子:(3.5μm架橋アクリルースチレン粒子、
綜研化学(株)製)
架橋アクリル粒子:(3μm架橋PMMA粒子、MXS−300、
綜研化学(株)製)
シリカ粒子:(1.5μmシリカ粒子、KE−P150、日本触媒(株)製)
MIBK:(メチルイソブチルケトン)
IPA:(イソプロピルアルコール)
MEK:(メチルエチルケトン)
The constituents in the table are expressed as mass percentages of solids. Details of the compounds used are shown below.
PETA: (A mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
DPHA: (mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Organosilane compound: (3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Polymerization initiator: (Irgacure 184 manufactured by Nippon Ciba-Geigy Co., Ltd.)
Cross-linked styrene particles: (3.5 μm cross-linked polystyrene particles, SX-350, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)
Crosslinked acrylic-styrene particles: (3.5 μm crosslinked acrylic-styrene particles,
(Made by Soken Chemical Co., Ltd.)
Crosslinked acrylic particles: (3 μm crosslinked PMMA particles, MXS-300,
(Made by Soken Chemical Co., Ltd.)
Silica particles: (1.5 μm silica particles, KE-P150, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)
MIBK: (Methyl isobutyl ketone)
IPA: (Isopropyl alcohol)
MEK: (Methyl ethyl ketone)

低屈折率層の塗布液を以下のようにして調製した。
(低屈折率層用塗布液(LL−1)の調製)
正珪酸エチル(SiO2濃度28質量%)32.1gとヘンイコサフルオロドデシルトリメトキシシラン1.22gをイソプロピルアルコール55.0g、純水10g、濃度61質量%の硝酸1.69gとの混合液に混合し、50℃で1時間撹拌し、固形分濃度10質量%のマトリックス形成成分液(M−1)を調製した。
A coating solution for the low refractive index layer was prepared as follows.
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-1))
A mixture of 32.1 g of normal ethyl silicate (SiO 2 concentration 28 mass%) and 1.22 g of heicosafluorododecyltrimethoxysilane with 55.0 g of isopropyl alcohol, 10 g of pure water and 1.69 g of nitric acid with a concentration of 61 mass%. And stirred at 50 ° C. for 1 hour to prepare a matrix-forming component liquid (M-1) having a solid concentration of 10% by mass.

ついで、マトリックス形成成分液(M−1)6.7gに、上記で調製した酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子(A−2)分散液1.65gを混合し、イソプロピルアルコールで希釈
し、固形分濃度1.0質量%の低屈折率層用塗布液(LL−1)を調製した。
Next, 1.65 g of the antimony oxide-coated silica fine particle (A-2) dispersion prepared above was mixed with 6.7 g of the matrix-forming component liquid (M-1), diluted with isopropyl alcohol, and the solid content concentration was 1 A 0.0% by mass coating solution for low refractive index layer (LL-1) was prepared.

(低屈折率層用塗布液(LL−2)の調製)
低屈折率層用塗布液(LL−1)の調製において、酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子(A−2)の代わりに、上記比較用シリカ系粒子(B−1)を使用した以外は、(LL−1)と同様にして、固形分濃度1.0質量%の低屈折率層用塗布液(LL−2)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-2))
(LL) except that the comparative silica-based particles (B-1) were used in place of the antimony oxide-coated silica-based fine particles (A-2) in the preparation of the low refractive index layer coating solution (LL-1). In the same manner as in -1), a coating solution for low refractive index layer (LL-2) having a solid content concentration of 1.0% by mass was prepared.

(低屈折率層用塗布液(LL−3)の調製)
正珪酸エチル(SiO2濃度28質量%)36.5gをイソプロピルアルコール51.8g、純水10g、濃度61質量%の硝酸1.69gとの混合液に混合し、50℃で1時間撹拌し、固形分濃度10質量%のマトリックス形成成分液(M−2)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-3))
36.5 g of normal ethyl silicate (SiO 2 concentration: 28% by mass) was mixed with a mixture of 51.8 g of isopropyl alcohol, 10 g of pure water and 1.69 g of nitric acid having a concentration of 61% by mass, and stirred at 50 ° C. for 1 hour. A matrix-forming component liquid (M-2) having a solid content concentration of 10% by mass was prepared.

ついで、マトリックス形成成分液(M−2)7gに、上記で調製した酸化アンチモン被覆シリカ系微粒子(A−2)分散液1.5gを混合し、イソプロピルアルコールで希釈し、固形分濃度1.0質量%の低屈折率層用塗布液(LL−3)を調製した。   Next, 1.5 g of the antimony oxide-coated silica fine particle (A-2) dispersion prepared above was mixed with 7 g of the matrix-forming component liquid (M-2), diluted with isopropyl alcohol, and a solid content concentration of 1.0. A coating solution for low refractive index layer (LL-3) of mass% was prepared.

(低屈折率層用塗布液(LL−4)の調製)
正珪酸エチル(SiO2濃度28質量%)34.3gとヘンイコサフルオロドデシルトリメトキシシラン0.61gをイソプロピルアルコール55.0g、純水10g、濃度61質量%の硝酸1.69gとの混合液に混合し、50℃で1時間撹拌し、固形分濃度10質量%のマトリックス形成成分液(M−3)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-4))
A mixture of 34.3 g of normal ethyl silicate (SiO 2 concentration 28 mass%), 0.61 g of helicosafluorododecyltrimethoxysilane, 55.0 g of isopropyl alcohol, 10 g of pure water, and 1.69 g of nitric acid with a concentration of 61 mass%. And stirred at 50 ° C. for 1 hour to prepare a matrix-forming component liquid (M-3) having a solid concentration of 10% by mass.

ついで、マトリックス形成成分液(M−3)6.7gに、上記で調製した比較用シリカ粒子(B−1)分散液を1.65g混合し、イソプロピルアルコールで希釈し、固形分濃度1.0質量%の低屈折率層用塗布液(LL−4)を調製した。   Next, 1.65 g of the comparative silica particle (B-1) dispersion prepared above was mixed with 6.7 g of the matrix-forming component liquid (M-3), diluted with isopropyl alcohol, and a solid content concentration of 1.0. A coating solution for low refractive index layer (LL-4) of mass% was prepared.

(低屈折率層用塗布液(LL−7)の調製)
低屈折率層用塗布液(LL−1)において、含フッ素オルガノシラン化合物を同量のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランに変更した以外は同様にして、低屈折率層用塗布液(LL−7)を作製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-7))
The coating solution for low refractive index layer (LL-7) was the same as in the coating solution for low refractive index layer (LL-1) except that the fluorine-containing organosilane compound was changed to the same amount of heptadecafluorodecyltrimethoxysilane. ) Was produced.

(防汚層用塗布液(OC−1)の調製)
ヘンイコサフルオロドデシルトリメトキシシランをイソプロピルアルコールに溶解し、0.1質量%の防汚層用塗布液(OC−1)を調製した。
(Preparation of antifouling layer coating solution (OC-1))
Henicosafluorododecyltrimethoxysilane was dissolved in isopropyl alcohol to prepare a 0.1% by mass antifouling layer coating solution (OC-1).

上記のようにして得られた塗布液を用いて以下の光学フィルムを作製した。   The following optical films were produced using the coating solution obtained as described above.

(光学フィルム(101)の作製)
膜厚80μm、幅1340mmのトリアセチルセルロースフィルム“TAC−TD80U”{富士フイルム(株)製}上に、ハードコート層用塗料(HC-1)をマイクログラビア塗工方式で、搬送速度30m/分の条件で塗布し、60℃で150秒乾燥の後、窒素パージ(酸素濃度0.05%以下)しながら、160W/cmの空冷メタルハライドランプ{アイグラフィックス(株)製}を用いて、放射照度400mW/cm、照射エネルギー量100mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚4μmのハードコート層を作製した。このようにして得られたハードコート層付光学フィルムを(HC−1A)とする。
(Preparation of optical film (101))
On the triacetyl cellulose film “TAC-TD80U” {manufactured by FUJIFILM Corporation) with a film thickness of 80 μm and a width of 1340 mm, a hard coat layer coating (HC-1) is applied by a micro gravure coating method at a conveyance speed of 30 m / min. After applying for 150 seconds and drying at 60 ° C. for 150 seconds, using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp {manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen (oxygen concentration 0.05% or less), radiation The coating layer was cured by irradiating with ultraviolet rays having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation energy amount of 100 mJ / cm 2 to prepare a hard coat layer having a thickness of 4 μm. The optical film with a hard coat layer thus obtained is referred to as (HC-1A).

上記(HC−1A)の上に、上記低屈折率層用塗布液(LL−1)をマクログラビア方式で塗設して、硬化後の低屈折率層膜厚が95nmになるように調節して試料101を作製した。低屈折率層塗布直前に、低屈折率層用塗布液に全固形分に対して1.5質量%の3−イソシアネ−トプロピルトリエトキシシランを添加した。塗布後90℃、150秒で溶剤を蒸発させ、熱硬化を120℃、10分かけて行った。その後、酸素濃度が0.01体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、放射照度120mW/cm2、照射
エネルギー量240mJ/cm2の照射量で紫外線を照射した。硬化後の低屈折率層の屈
折率は1.43であった。このようにして光学フィルム(101)を作製した。
On the above (HC-1A), the low refractive index layer coating solution (LL-1) is coated by the macro gravure method, and the low refractive index layer thickness after curing is adjusted to 95 nm. Thus, sample 101 was manufactured. Immediately before the application of the low refractive index layer, 1.5% by mass of 3-isocyanatopropyltriethoxysilane was added to the coating solution for the low refractive index layer with respect to the total solid content. After coating, the solvent was evaporated at 90 ° C. for 150 seconds, and thermosetting was performed at 120 ° C. for 10 minutes. Then, using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (made by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 0.01% by volume or less, an irradiance of 120 mW / cm 2 , irradiation energy Ultraviolet rays were irradiated at a dose of 240 mJ / cm 2 . The refractive index of the low refractive index layer after curing was 1.43. Thus, an optical film (101) was produced.

(光学フィルム(102)の作製)
膜厚80μm、幅1340mmのトリアセチルセルロースフィルム“TAC−TD80U”{富士フイルム(株)製}上に、ハードコート層用塗料(HC-1)をマイクロ
グラビア塗工方式で、搬送速度30m/分の条件で塗布し、60℃で150秒乾燥の後、窒素パージ(酸素濃度0.05%以下)しながら、160W/cmの空冷メタルハライドランプ{アイグラフィックス(株)製}を用いて、放射照度400mW/cm、照射エネルギー量100mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚3.7μmのハードコート層(HC−2A)を作製した。
(Preparation of optical film (102))
On the triacetyl cellulose film “TAC-TD80U” {manufactured by FUJIFILM Corporation) with a film thickness of 80 μm and a width of 1340 mm, a hard coat layer coating (HC-1) is applied by a micro gravure coating method at a conveyance speed of 30 m / min. After applying for 150 seconds and drying at 60 ° C. for 150 seconds, using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp {manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen (oxygen concentration 0.05% or less), radiation The coating layer was cured by irradiating with ultraviolet rays having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation energy amount of 100 mJ / cm 2 to prepare a hard coat layer (HC-2A) having a thickness of 3.7 μm.

上記(HC−2A)の上に、上記ハードコート層用塗料(HC−2)をマイクログラビア塗工方式で、硬化後の膜厚が0.3μmになるように調節しながら、搬送速度30m/分の条件で塗布し、60℃で150秒乾燥の後、窒素パージ(酸素濃度0.05%以下)しながら、160W/cmの空冷メタルハライドランプ{アイグラフィックス(株)製}を用いて、放射照度400mW/cm、照射エネルギー量100mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させた。このようにして得られたハードコート層付光学フィルムを(HC−2B)とする。 On the above (HC-2A), the coating speed for hard coat layer (HC-2) is adjusted by a micro gravure coating method so that the film thickness after curing is 0.3 μm, while the conveyance speed is 30 m / After applying for 150 minutes and drying at 60 ° C. for 150 seconds, using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp {manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen (oxygen concentration 0.05% or less), The coating layer was cured by irradiating with ultraviolet rays having an irradiance of 400 mW / cm 2 and an irradiation energy amount of 100 mJ / cm 2 . The optical film with a hard coat layer thus obtained is designated as (HC-2B).

上記(HC−2B)のハードコート層の上に、上記低屈折率層用塗布液(LL−2)をマクログラビア方式で塗設して、硬化後の低屈折率層膜厚が95nmになるように調節して試料102を作製した。低屈折率層塗布直前に、低屈折率層用塗布液に全固形分に対して1.5質量%の3−イソシアネ−トプロピルトリエトキシシランを添加した。塗布後90℃、150秒で溶剤を蒸発させ、熱硬化を120℃、10分かけて行った。その後、酸素濃度が0.01体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、放射照度120mW/cm2、照射エネルギー量240mJ/cm2の照射量で紫外線を照射した。このようにして光学フィルム(102)を作製した。 The coating liquid for low refractive index layer (LL-2) is applied on the hard coat layer of (HC-2B) by the macro gravure method, and the thickness of the low refractive index layer after curing becomes 95 nm. The sample 102 was manufactured by adjusting as described above. Immediately before the application of the low refractive index layer, 1.5% by mass of 3-isocyanatopropyltriethoxysilane was added to the coating solution for the low refractive index layer with respect to the total solid content. After coating, the solvent was evaporated at 90 ° C. for 150 seconds, and thermosetting was performed at 120 ° C. for 10 minutes. Then, using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (made by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 0.01% by volume or less, an irradiance of 120 mW / cm 2 , irradiation energy Ultraviolet rays were irradiated at a dose of 240 mJ / cm 2 . Thus, an optical film (102) was produced.

(光学フィルム(103)〜(105)の作製)
上記光学フィルム(101)の作製において、低屈折率層用塗布液を(LL−2)〜(LL−4))に変更した以外は(101)同様にして反射防止フィルム(103)〜(105)を作製した。
(Production of optical films (103) to (105))
In the production of the optical film (101), the antireflective films (103) to (105) were the same as (101) except that the coating solution for the low refractive index layer was changed to (LL-2) to (LL-4)). ) Was produced.

(光学フィルム(106)の作製)
上記光学フィルム((103)の上に、上記防汚層用塗布液(OC−1)を塗布し、110℃10分で硬化させ防汚層を形成した。防汚層の厚みは2nmであった。
光学フィルム(101)〜(106)の構成を表2に示す。これらフィルムの表面粗さ(Ra)を測定した結果、0.03〜0.05の範囲にあり、クリアーな面状を呈していた。
(Preparation of optical film (106))
The antifouling layer coating solution (OC-1) was applied on the optical film ((103) and cured at 110 ° C. for 10 minutes to form an antifouling layer. The antifouling layer had a thickness of 2 nm. It was.
Table 2 shows the structures of the optical films (101) to (106). As a result of measuring the surface roughness (Ra) of these films, it was in the range of 0.03 to 0.05 and exhibited a clear surface shape.

Figure 2007272197
Figure 2007272197

(光学フィルムの評価)
得られたフィルムについて、25℃60%RH条件下に試料を24時間置いた後に以下の項目の評価を行った。
(評価1)表面抵抗値(LogSR)
表面抵抗値(SR)を円電極法で測定した。表面抵抗値の常用対数をとりlog(SR)を算出した。表面の電荷が漏洩し、埃付着の低減が顕著なのはlog(SR)で12以下であり、10以下が特に好ましい。
(Evaluation of optical film)
About the obtained film, the following items were evaluated after putting a sample on 25 degreeC60% RH conditions for 24 hours.
(Evaluation 1) Surface resistance value (LogSR)
The surface resistance value (SR) was measured by the circular electrode method. The log (SR) was calculated by taking the common logarithm of the surface resistance value. The charge on the surface leaks and the reduction in dust adhesion is remarkable at log (SR) of 12 or less, and 10 or less is particularly preferable.

(評価2)接触角
協和界面科学(株)製、自動接触角計CA−V型を用いて2μlの純水の液滴をフィルム上に滴下してから30秒後に接触角を求めた。本発明のフィルムの接触角は純水に対して95度以上であることが好ましく、105度以上であることが最も好ましい。
(Evaluation 2) Contact angle A contact angle was determined 30 seconds after a 2 μl drop of pure water was dropped on the film using an automatic contact angle meter CA-V manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. The contact angle of the film of the present invention is preferably 95 degrees or more, and most preferably 105 degrees or more with respect to pure water.

(評価3)動摩擦係数
HEIDON−14動摩擦測定機により5mmφステンレス鋼球、荷重100g、速度60cm/minにて測定した。0.30以下が好ましく、0.20が最も好ましい。
(Evaluation 3) A dynamic friction coefficient HEIDON-14 was measured with a dynamic friction measuring machine at a 5 mmφ stainless steel ball, a load of 100 g, and a speed of 60 cm / min. It is preferably 0.30 or less, and most preferably 0.20.

(評価4)(Si2p/F1s)
島津製作所(株)製“ESCA−3400”で(真空度1×10-5Pa、X線源;ターゲットMg、電圧12kV、電流20mA)で測定した光学フィルム最表面のSi2p及びF1sの光電子スペクトルの面積を用いて、表面のシリコン原子(Si2p)とフッ素原子(F1s)のピーク面積比(Si2p/F1s)を算出した。この比が小さい程、膜表面のシリコン原子に対するフッ素原子の割合が大きく、表面自由エネルギーの低下が期待される。
(Evaluation 4) (Si2p / F1s)
The photoelectron spectra of Si2p and F1s on the outermost surface of the optical film measured with “ESCA-3400” manufactured by Shimadzu Corporation (vacuum degree 1 × 10 −5 Pa, X-ray source; target Mg, voltage 12 kV, current 20 mA) Using the area, the peak area ratio (Si2p / F1s) of silicon atoms (Si2p) and fluorine atoms (F1s) on the surface was calculated. The smaller this ratio, the greater the ratio of fluorine atoms to silicon atoms on the film surface, and a reduction in surface free energy is expected.

(評価5)防汚性・防汚耐久性
光学フィルムをガラス面上に粘着剤で固定し、25℃60RH%の条件下で黒マジック「マッキー極細(商品名:ZEBRA製)」のペン先(細)にて直径5mmの円形を3周書き込み、5秒後に10枚重ねに折り束ねたベンコット(商品名、旭化成(株))でベンコットの束がへこむ程度の荷重で20往復拭き取る。マジック後が拭き取りで消えなくなるまで前記の書き込みと拭き取りを前記条件で繰り返し、拭き取りできた回数により防汚性を評価した。消えなくなるまでの回数は15回以上であることが好ましく、50回以上であることが更に好ましい。
また、ラビングテスターで以下の条件で光学フィルムを擦った後に上記防汚性の評価と同じ操作を行うことで、防汚耐久性の評価を行った。
こすり材:試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)にベンコットM−3((株)旭化成製)を巻いて、動かないようバンド固定した。こすり先端部のベンコットに弱アルカリ性の家庭用洗剤(ガラスマイペット 花王(株)製))を1.0g含浸させた。
移動距離(片道):13cm、こすり速度:13cm/秒、
荷重:200g/cm、先端部接触面積:1cm×1cm、
こすり回数:10往復。
(Evaluation 5) Antifouling and antifouling durability An optical film is fixed on a glass surface with an adhesive, and a black magic "Mackey extra fine (trade name: made by ZEBRA)" nib (25 ° C, 60RH%) Write a circle with a diameter of 5 mm for 3 rounds, and wipe it back and forth 20 times with a load that dents the bundle of Bencot (Brand name, Asahi Kasei Co., Ltd.) after 5 seconds. The above writing and wiping were repeated under the above conditions until after the magic did not disappear by wiping, and the antifouling property was evaluated by the number of times of wiping. The number of times until disappearance is preferably 15 times or more, and more preferably 50 times or more.
Moreover, after rubbing an optical film on the following conditions with a rubbing tester, antifouling durability evaluation was performed by performing the same operation as said antifouling evaluation.
Rub material: Bencot M-3 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) was wound around the rubbing tip (1 cm × 1 cm) of a tester that was in contact with the sample, and the band was fixed so as not to move. 1.0 g of a weak alkaline household detergent (Glass Mypet Kao Co., Ltd.) was impregnated into the rubbing tip of the becot.
Moving distance (one way): 13 cm, rubbing speed: 13 cm / second,
Load: 200 g / cm 3 , tip contact area: 1 cm × 1 cm,
Number of rubs: 10 round trips.

(評価6)防塵性
各反射防止フィルム試料の透明支持体側をCRT表面に張り付け、0.5μm以上のホコリ及びティッシュペーパー屑を、1ft3(立方フィート)当たり100〜200万個有する部屋で24時間使用した。反射防止膜100cm2当たり、付着したホコリとティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値が20個未満の場合をA、20〜49個の場合をB、50〜199個の場合をC、200個以上の場合をDとして評価した。
(Evaluation 6) Dustproofness The transparent support side of each antireflection film sample was attached to the surface of the CRT, and the dust and tissue paper waste of 0.5 μm or more were present in a room having 1 to 2 million per 1 ft 3 (cubic feet) for 24 hours. used. When the number of adhering dust and tissue paper waste is measured per 100 cm 2 of the antireflection film, the average value of each result is less than 20, A is 20 to 49, B is 50 to 199 Was evaluated as C, and the case of 200 or more was evaluated as D.

(評価7)スチールウール耐擦傷性評価(SW)
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行った。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)にスチールウール((株)日本スチールウール製、No.0000)を巻いて、動かないようバンド固定した。その上で下記条件の往復こすり運動を与えた。
移動距離(片道):13cm、こすり速度:13cm/秒、
荷重:200g/cm、先端部接触面積:1cm×1cm、
こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
○:非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○△:非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△:弱い傷が見える。
△×:中程度の傷が見える。
×:一目見ただけで分かる傷がある。
(Evaluation 7) Steel wool scratch resistance evaluation (SW)
A rubbing test was conducted using a rubbing tester under the following conditions.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rub material: Steel wool (No. 0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) was wound around the rubbing tip (1 cm × 1 cm) of a tester in contact with the sample, and the band was fixed so as not to move. Then, the reciprocating rubbing motion under the following conditions was given.
Moving distance (one way): 13 cm, rubbing speed: 13 cm / second,
Load: 200 g / cm 3 , tip contact area: 1 cm × 1 cm,
Number of rubs: 10 round trips.
An oil-based black ink was applied to the back side of the rubbed sample and visually observed with reflected light, and scratches on the rubbed portion were evaluated according to the following criteria.
○: Even when viewed very carefully, no scratches are visible.
○ △: Slightly weak scratches are visible when viewed very carefully.
Δ: A weak scratch is visible.
Δ ×: moderate scratches are visible.
X: There are scratches that can be seen at first glance.

(評価8)塗布ムラの評価
光学フィルムをA4の大きさのシートに切り出し、裏面に黒色粘着剤付きPETフィルムを貼り付け、3波長蛍光灯1000ルックス下で目視で、以下の基準で評価した。A4のシート5枚を観察し、ムラの発生の頻度を評価した。
◎:ムラが認められない。
○:1個以下のムラが認められる。通常の使用では満足できる。
△:1〜3個のムラが認められる。
×:3個以上のムラが認められる。
評価結果を表3に示す。
(Evaluation 8) Evaluation of coating unevenness The optical film was cut into a sheet having a size of A4, a PET film with a black adhesive was pasted on the back surface, and visually evaluated under the three-wavelength fluorescent lamp 1000 lux according to the following criteria. Five A4 sheets were observed to evaluate the frequency of occurrence of unevenness.
A: Unevenness is not recognized.
○: 1 or less unevenness is observed. Satisfactory with normal use.
Δ: 1 to 3 irregularities are observed.
X: Three or more unevenness is recognized.
The evaluation results are shown in Table 3.

Figure 2007272197
Figure 2007272197

本発明に従い、内部が多孔質または中空である導電性粒子含有する層を有し、かつ、含フッ素シラン化合物を含有する光学フィルムは、表面抵抗が低く、高接触角、動摩擦係数が低く、光学フィルムの防塵性・耐擦傷性を悪化することなく防汚性、防汚耐久性に優れることが分かる。また、本発明の構成では、また、防塵性付与のために低屈折率層が帯電防止層を兼ねており、帯電防止のための新たな層の設置が不要であり、かつ、高屈折率の帯電防止層の設置がないため塗布ムラの発生が抑制されている。更に光学フィルムの最表面の表面抵抗を下げるのに必要な導電性粒子の絶対量が少なくコスト的にも有利である(試料101と102の比較)。また、本発明の内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層又はその隣接層に含フッ素オルガノシラン化合物を含有する本発明の試料は、表面のフッ素原子の割合が同一でも、防汚耐久性に優れることが分かる(試料101と102、104の比較)。また、弱アルカリの洗剤を含有する不織布で擦った後の防汚耐久性は、炭素数が10以上のフルオロアルキル基(C1021−)を有するフッ素シラン化合物を用いると悪化が少なく、更に防汚層に用いると効果が高いことがわかる(試料101、105、107の比較)。また、本発明の光学フィルム(101)及び(106)は視感反射率が2.1と低反射であり、反射防止性能にも優れていた。 In accordance with the present invention, an optical film having a layer containing conductive particles that are porous or hollow inside and containing a fluorine-containing silane compound has a low surface resistance, a high contact angle, a low coefficient of dynamic friction, and an optical film. It can be seen that the film is excellent in antifouling property and antifouling durability without deteriorating the dust resistance and scratch resistance of the film. Further, in the configuration of the present invention, the low refractive index layer also serves as an antistatic layer for imparting dust resistance, and it is not necessary to install a new layer for antistatic, and a high refractive index is provided. Since there is no installation of an antistatic layer, the occurrence of coating unevenness is suppressed. Furthermore, the absolute amount of conductive particles necessary for lowering the surface resistance of the outermost surface of the optical film is small, which is advantageous in terms of cost (comparison between samples 101 and 102). In addition, the sample of the present invention containing a fluorine-containing organosilane compound in a layer containing conductive particles in which the inside of the present invention is porous or hollow, or an adjacent layer thereof, has the same proportion of fluorine atoms on the surface. It turns out that it is excellent in stain | pollution | contamination durability (comparison of sample 101, 102,104). Moreover, the antifouling durability after rubbing with a nonwoven fabric containing detergent weak alkali is more than 10 fluoroalkyl group having carbon atoms (C 10 F 21 -) is less deteriorated and using a fluorine silane compound having, further It can be seen that the effect is high when used for the antifouling layer (comparison of samples 101, 105, and 107). In addition, the optical films (101) and (106) of the present invention had a luminous reflectance as low as 2.1 and excellent antireflection performance.

[実施例2]
(低屈折率層用塗布液(LL−5)の調製)
低屈折率層用塗布液(LL−1)において、含フッ素オルガノシラン化合物を同量の下記化合物(21)に変更した以外は同様にして、低屈折率層用塗布液(LL−5)を作製した。
[Example 2]
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-5))
In the same manner as in the coating solution for low refractive index layer (LL-1), except that the fluorine-containing organosilane compound was changed to the same amount of the following compound (21), the coating solution for low refractive index layer (LL-5) was used. Produced.

化合物(21)
(CO)SiCNHCOCFO(CFO)
−(CFCFO)CFCONHCSi(OC
(式中、bおよびcはそれぞれ、2<b<16、3<c<14の自然数を表し、
1/2≦b/c≦2である。)
Compound (21)
(C 2 H 5 O) 3 SiC 3 H 6 NHCOCF 2 O (CF 2 O) b
- (CF 2 CF 2 O) c CF 2 CONHC 3 H 6 Si (OC 2 H 5) 3
(Wherein b and c each represent a natural number of 2 <b <16, 3 <c <14,
It is 1/2 <= b / c <= 2. )

(低屈折率層用塗布液(LL−6)の調製)
低屈折率層用塗布液(LL−1)において、含フッ素オルガノシラン化合物を同量の下記化合物(22)に変更した以外は同様にして、低屈折率層用塗布液(LL−6)を作製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-6))
In the same manner as in the coating solution for low refractive index layer (LL-1), except that the fluorine-containing organosilane compound was changed to the same amount of the following compound (22), the coating solution for low refractive index layer (LL-6) was used. Produced.

化合物(22)

〔C10213 6 (CH3 2 Si〕2 NH
Compound (22)

[C 10 F 21 C 3 H 6 (CH 3) 2 Si ] 2 NH

(防汚用塗布液(OC−2)の調製)
ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランをイソプロピルアルコールに溶解し、0.1質量%の防汚層用塗布液(OC−2)を調製した。
(Preparation of antifouling coating solution (OC-2))
Heptadecafluorodecyltrimethoxysilane was dissolved in isopropyl alcohol to prepare a 0.1% by mass antifouling layer coating solution (OC-2).

(防汚用塗布液(OC−3)の調製)
下記化合物(23)で表される含フッ素シラン化合物(分子量約5000、p=2〜10の混合物、ダイキン工業(株)製)をパーフルオロへキサンで希釈して、0.1質量%の防汚層用塗布液(OC−3)を調製した。
化合物(23)
(Preparation of antifouling coating solution (OC-3))
A fluorine-containing silane compound represented by the following compound (23) (a mixture having a molecular weight of about 5000 and p = 2 to 10, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) is diluted with perfluorohexane to give 0.1 mass% A soil layer coating solution (OC-3) was prepared.
Compound (23)

Figure 2007272197
Figure 2007272197

(防汚用塗布液(OC−4)の調製)
下記化合物(24)で表される含フッ素シラン化合物4質量部、と下記化合物(25)で表される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン1質量部を、エチルアルコール200質量部に溶解した。更にアセチルアセトン1質量部と濃塩酸0.001質量部を添加して均一な溶液とした後、エチルアルコールで希釈して濃度0.1%の防汚層用塗布液(OC−4)を調製した
(Preparation of antifouling coating solution (OC-4))
4 parts by mass of a fluorine-containing silane compound represented by the following compound (24) and 1 part by mass of an alkoxysilane having a long chain hydrocarbon group represented by the following compound (25) were dissolved in 200 parts by mass of ethyl alcohol. Further, 1 part by mass of acetylacetone and 0.001 part by mass of concentrated hydrochloric acid were added to obtain a uniform solution, and then diluted with ethyl alcohol to prepare a coating solution for antifouling layer (OC-4) having a concentration of 0.1%.

化合物(24)
CFO(CF(CF)CFO)CFCONHCSi(OC
(式中、aは、3≦a<12を表す。)
化合物(25)
1837Si(OC
Compound (24)
CF 3 O (CF (CF 3 ) CF 2 O) a CF 2 CONHC 3 H 6 Si (OC 2 H 5 ) 3
(Wherein, a represents 3 ≦ a <12)
Compound (25)
C 18 H 37 Si (OC 2 H 5 ) 3

(防汚用塗布液(OC−5)の調製)
フルオロポリエーテル基含有オルガノシラン化合物であるダイキン工業(株)製DSXをフロリナートFC−77(住友スリーエム(株)製)で希釈して、0.1質量%の防汚層用塗布液(OC−5)を調製した。
(Preparation of antifouling coating solution (OC-5))
DSX manufactured by Daikin Industries, Ltd., which is a fluoropolyether group-containing organosilane compound, is diluted with Fluorinert FC-77 (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.) to give a 0.1% by mass antifouling layer coating solution (OC- 5) was prepared.

(光学フィルム(201)の作製)
実施例1のハードコート層付光学フィルム(HC−1A)において、ハードコート層用塗布液を(HC−5)に変更した以外は同様にして、ハードコート層付光学フィルム(HC−5A)を作製した。
(HC−5A)上に、実施例1の試料(101)に準じて低屈折率層用塗布液(LL−1)を塗布・硬化して光学フィルム(201)を作製した。
(Preparation of optical film (201))
In the optical film with a hard coat layer (HC-1A) of Example 1, the optical film with a hard coat layer (HC-5A) was similarly prepared except that the coating liquid for hard coat layer was changed to (HC-5). Produced.
An optical film (201) was produced by applying and curing a coating solution for low refractive index layer (LL-1) on (HC-5A) in accordance with the sample (101) of Example 1.

(光学フィルム(202〜203)の作製)
光学フィルム(201)の作製において、低屈折率層用塗布液種を表4に示すように変更して、光学フィルム(202〜203)を作製した。
(Production of optical film (202 to 203))
In the production of the optical film (201), the coating liquid type for the low refractive index layer was changed as shown in Table 4 to produce optical films (202 to 203).

(光学フィルム(204)の作製)
上記ハードコート層付光学フィルム(HC−5A)上に、実施例1の試料(103)に準じて低屈折率層用塗布液(LL−3)を塗布・硬化し低屈折率層まで塗布した光学フィルム(204)を得た。その上層に更に、上記防汚層用塗布液(OC−2)塗布し、110℃10分で硬化させ防汚層を形成した。防汚層の厚みは2nmであった。
(Production of optical film (204))
On the optical film with a hard coat layer (HC-5A), the coating solution for low refractive index layer (LL-3) was applied and cured according to the sample (103) of Example 1 and applied to the low refractive index layer. An optical film (204) was obtained. Further, the antifouling layer coating solution (OC-2) was applied to the upper layer and cured at 110 ° C. for 10 minutes to form an antifouling layer. The thickness of the antifouling layer was 2 nm.

(光学フィルム(205〜208)の作製)
光学フィルム(204)の作製において、防汚層用塗布液を表4に示すように変更して、光学フィルム(205〜208)を作製した。
光学フィルム(201)〜(208)の構成を表4に示す。
(Production of optical film (205-208))
In the production of the optical film (204), the antifouling layer coating solution was changed as shown in Table 4 to produce optical films (205 to 208).
Table 4 shows the configurations of the optical films (201) to (208).

Figure 2007272197
Figure 2007272197

これら光学フィルムを実施例1に準じた評価を行った。結果を表5に示す。   These optical films were evaluated according to Example 1. The results are shown in Table 5.

Figure 2007272197
Figure 2007272197

表5から、本発明に従えば表面抵抗が低く、高接触角、動摩擦係数が低く、光学フィルムの防塵性・耐擦傷性を悪化することなく防汚性、防汚耐久性に優れることが分かる。特に、フルオロエーテル系化合物を用いた場合には、動摩擦係数が低く、防汚性・防汚耐久性ともに優れることが分かる。   From Table 5, it can be seen that according to the present invention, the surface resistance is low, the high contact angle and the coefficient of dynamic friction are low, and the optical film is excellent in antifouling property and antifouling durability without deteriorating the dust resistance and scratch resistance. . In particular, when a fluoroether compound is used, it can be seen that the coefficient of dynamic friction is low and the antifouling property and antifouling durability are excellent.

[実施例3]
(光学フィルム(301)の作製)
実施例2の光学フィルム(206)において、低屈折率層の厚みを280nmに変更した以外は全く同様にして光学フィルム(301)を作製した。
[Example 3]
(Preparation of optical film (301))
An optical film (301) was produced in the same manner as in the optical film (206) of Example 2, except that the thickness of the low refractive index layer was changed to 280 nm.

(光学フィルム(302)の作製)
実施例2の光学フィルム(206)において、低屈折率層の導電性粒子を(A−2)から(A−3)に変更した以外は全く同様にして光学フィルム(302)を作製した。
(Preparation of optical film (302))
An optical film (302) was produced in the same manner as in the optical film (206) of Example 2, except that the conductive particles of the low refractive index layer were changed from (A-2) to (A-3).

(光学フィルム(303)の作製)
実施例2の光学フィルム(206)において、低屈折率層の導電性粒子を(A−2)から(A−1)に変更した以外は全く同様にして光学フィルム(303)を作製した。
これら光学フィルムを実施例1に準じた評価を行った。また、防塵性については、相対湿度を40%に低下させた条件の評価も追加で行った。結果を表6に示す。
(Production of optical film (303))
An optical film (303) was produced in the same manner as in the optical film (206) of Example 2, except that the conductive particles of the low refractive index layer were changed from (A-2) to (A-1).
These optical films were evaluated according to Example 1. In addition, regarding the dustproof property, the evaluation of the conditions under which the relative humidity was reduced to 40% was additionally performed. The results are shown in Table 6.

Figure 2007272197
Figure 2007272197

表6から、導電性粒子を含む低屈折率層の膜厚を厚くすることや、導電性粒子自身の抵抗を下げることで、光学フィルムの表面抵抗が低下し、低湿度下での防塵性が改良されることが分かる。
光学フィルム(206)、(301)ともに視感反射率は1.9であった。導電性粒子を含有する層の膜厚を光学干渉の最適な条件に設定することにより視感反射率を実質上げることなく防塵性改良が達成できることが分かる。
From Table 6, by increasing the film thickness of the low refractive index layer containing conductive particles or by reducing the resistance of the conductive particles themselves, the surface resistance of the optical film is reduced, and the dust resistance under low humidity is reduced. It can be seen that it is improved.
Both the optical films (206) and (301) had a luminous reflectance of 1.9. It can be seen that the dustproof improvement can be achieved without substantially increasing the luminous reflectance by setting the film thickness of the layer containing conductive particles to the optimum condition of optical interference.

[実施例5]
実施例1の光学フィルム(206)においてハードコート層の組成を表7に示すように変更した試料501〜504を作成した。
[Example 5]
Samples 501 to 504 in which the composition of the hard coat layer in the optical film (206) of Example 1 was changed as shown in Table 7 were prepared.

Figure 2007272197
Figure 2007272197

各試料の表面粗さ、表面ヘイズ、内部ヘイズを測定した結果、以下の値を示した。
試料501(Ra=0.19μm、内部ヘイズ35%、表面へイズ6%)
試料502(Ra=0.06μm、内部ヘイズ15%、表面へイズ1%)
試料503(Ra=0.10μm、内部ヘイズ20%、表面へイズ3%)
試料504(Ra=0.10μm、内部ヘイズ 2%、表面へイズ8%)
As a result of measuring the surface roughness, surface haze, and internal haze of each sample, the following values were shown.
Sample 501 (Ra = 0.19 μm, internal haze 35%, surface haze 6%)
Sample 502 (Ra = 0.06 μm, internal haze 15%, surface haze 1%)
Sample 503 (Ra = 0.10 μm, internal haze 20%, surface haze 3%)
Sample 504 (Ra = 0.10 μm, internal haze 2%, surface haze 8%)

実施例2に準じた評価を行った結果、どの試料も実施例2の試料206と同様に、表面抵抗が低く、防塵性と防汚耐久性に優れることが分かった。   As a result of evaluation according to Example 2, it was found that each sample had a low surface resistance and excellent dust resistance and antifouling durability, similar to Sample 206 of Example 2.

[実施例6]
[光学フィルムの鹸化処理]
実施例2の光学フィルムの裏面を以下に示す条件で鹸化処理を行った。
アルカリ浴:1.5mol/dm水酸化ナトリウム水溶液、55℃−120秒。
第1水洗浴:水道水、60秒。
中和浴:0.05mol/dm硫酸、30℃−20秒。
第2水洗浴:水道水、60秒。
乾燥:120℃、60秒
[Example 6]
[Saponification of optical film]
The back surface of the optical film of Example 2 was saponified under the following conditions.
Alkaline bath: 1.5 mol / dm 3 sodium hydroxide aqueous solution, 55 ° C.-120 seconds.
First washing bath: tap water, 60 seconds.
Neutralization bath: 0.05 mol / dm 3 sulfuric acid, 30 ° C. for 20 seconds.
Second washing bath: tap water, 60 seconds.
Drying: 120 ° C, 60 seconds

[光学フィルム付き偏光板の作製]
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実施例2の鹸化処理済みの反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、該反射防止フィルムの支持体(トリアセチルセルロース)側が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。光学補償層を有する視野角拡大フィルム「ワイドビューフィルムSA12B」{富士写真フイルム(株)製}を鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜のもう一方の側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。
作製した本発明の偏光板を装着したTNのモードの透過型液晶表示装置を評価した結果、視認性、防塵性、耐擦傷性、防汚性に優れた表示装置が作製できることが確認された。
[Production of polarizing plate with optical film]
A polarizing film was prepared by adsorbing iodine to a stretched polyvinyl alcohol film. A saponification-treated antireflection film of Example 2 was attached to one side of the polarizing film using a polyvinyl alcohol-based adhesive so that the support (triacetylcellulose) side of the antireflection film was the polarizing film side. . A viewing angle widening film “Wide View Film SA12B” (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having an optical compensation layer was saponified and attached to the other side of the polarizing film using a polyvinyl alcohol adhesive. In this way, a polarizing plate was produced.
As a result of evaluating a TN mode transmissive liquid crystal display device equipped with the produced polarizing plate of the present invention, it was confirmed that a display device excellent in visibility, dust resistance, scratch resistance and antifouling property could be produced.

[実施例7]
実施例2の光学フィルム試料を、有機EL表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、防汚性に優れ、低反射で、視認性の高い表示装置が得られた。
[Example 7]
When the optical film sample of Example 2 was bonded to the glass plate on the surface of the organic EL display device via an adhesive, a display device having excellent antifouling property, low reflection, and high visibility was obtained.

本発明のフィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically preferable embodiment of the film of this invention. 本発明のフィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically preferable embodiment of the film of this invention. 本発明のフィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically preferable embodiment of the film of this invention. 本発明のフィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically preferable embodiment of the film of this invention. 本発明のフィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically preferable embodiment of the film of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

(1)支持体
(2)ハードコート層
(3)中屈折率層
(4)高屈折率層
(5)低屈折率層
(1) Support (2) Hard coat layer (3) Medium refractive index layer (4) High refractive index layer (5) Low refractive index layer

Claims (20)

支持体上に、粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層を有する光学フィルムであって、該光学フィルムが含フッ素シラン化合物を含有する光学フィルム。   An optical film having a layer containing conductive particles having a porous or hollow particle inside on a support, wherein the optical film contains a fluorine-containing silane compound. 該導電性粒子を含有する層の上層に、含フッ素シラン化合物を含有する防汚層を有する請求項1に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, further comprising an antifouling layer containing a fluorine-containing silane compound on an upper layer of the layer containing the conductive particles. 粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層に、オルガノシランの加水分解物及び/又は縮合反応物の少なくともいずれか1種の硬化物を含有する請求項1又は2に記載の光学フィルム。   The layer containing conductive particles in which the inside of the particles is porous or hollow contains at least one kind of cured product of organosilane hydrolyzate and / or condensation reaction product according to claim 1 or 2. Optical film. 粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子を含有する層が、含フッ素シラン化合物を含有し、かつ該層が最表面層である請求項1または3に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1 or 3, wherein the layer containing conductive particles in which the inside of the particle is porous or hollow contains a fluorine-containing silane compound, and the layer is the outermost surface layer. 前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式[1]で表される化合物である請求項1〜4に記載の光学フィルム。
一般式[1] (Rf−L1n−Si(R114-n
(式中、Rfは炭素数1〜20の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数6〜14の含フッ素芳香族基を表す。L1は炭素数10以下の2価の連結基を表し、R11はアルキル基、水酸基または加水分解可能な基を表す。nは1〜3の整数を表す。)
The optical film according to claim 1, wherein the fluorine-containing silane compound is a compound represented by the following general formula [1].
Formula [1] (Rf-L 1 ) n -Si (R 11) 4-n
(In the formula, Rf represents a linear, branched or cyclic fluorinated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a fluorinated aromatic group having 6 to 14 carbon atoms. L 1 is a divalent divalent having 10 or less carbon atoms. Represents a linking group, R 11 represents an alkyl group, a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and n represents an integer of 1 to 3.)
前記一般式[1]で表される含フッ素シラン化合物が下記一般式[2]で表される化合物である請求項5に記載の光学フィルム。
一般式[2] Cn2n+1−(CH2m−Si(R)3
(式中、nは10以上の整数を表し、mは1〜5の整数を表す。Rは炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。)
The optical film according to claim 5, wherein the fluorine-containing silane compound represented by the general formula [1] is a compound represented by the following general formula [2].
Formula [2] C n F 2n + 1 - (CH 2) m -Si (R) 3
(In the formula, n represents an integer of 10 or more, m represents an integer of 1 to 5. R represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom.)
前記含フッ素シラン化合物が、パーフルオロポリエーテル基を含有する請求項1〜4に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the fluorine-containing silane compound contains a perfluoropolyether group. 前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式[3]で表される化合物である請求項7に記載の光学フィルム。
一般式[3]
Figure 2007272197


(式中、Rf は炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Xはヨウ素原子または水素原子、Yは水素原子または低級アルキル基、Zはフッ素原子またはトリフルオロメチル基、R1は加水分解可能な基、R2 は水素または不活性な一価の有機基、a、b、c、dは0〜200の整数、eは0または1、mおよびnは0〜2の整数、及びpは1〜10の整数を表す。)
The optical film according to claim 7, wherein the fluorine-containing silane compound is a compound represented by the following general formula [3].
General formula [3]
Figure 2007272197


Wherein R f is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms, X is an iodine atom or a hydrogen atom, Y is a hydrogen atom or a lower alkyl group, Z is a fluorine atom or a trifluoromethyl group. , R 1 is a hydrolyzable group, R 2 is hydrogen or an inert monovalent organic group, a, b, c, d are integers of 0 to 200, e is 0 or 1, and m and n are 0 to 0. (The integer of 2 and p represent the integer of 1-10.)
前記一般式[3]で表される含フッ素シラン化合物が、下記一般式[4]で表される化合物である請求項8に記載の光学フィルム。
一般式[4]
Figure 2007272197


(式中、Yは水素原子または低級アルキル基、R1 は加水分解可能な基、qは1〜50の整数を、mは0〜2の整数、pは2〜10の整数を表す。)
The optical film according to claim 8, wherein the fluorine-containing silane compound represented by the general formula [3] is a compound represented by the following general formula [4].
General formula [4]
Figure 2007272197


(In the formula, Y represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 1 represents a hydrolyzable group, q represents an integer of 1 to 50, m represents an integer of 0 to 2, and p represents an integer of 2 to 10.)
前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式[5]で表される化合物である請求項1〜4に記載の光学フィルム。
一般式[5]
Rf5[−(L5−X−R51 −Si(OR523 ]
(式中、Rf5はパーフルオロポリエーテル基を、R51 はアルキレン基を、R52はアル
キル基を、L5は−CO−を、Xは−O−、−NR53−、−S−、−SO−、−SO
NR53−、−NR53CO−から選ばれる基を、nは0又は1、mは2以下の自然数をそれぞれ表す。R53は水素原子又は炭素数3以下のアルキル基を表す。)
The optical film according to claim 1, wherein the fluorine-containing silane compound is a compound represented by the following general formula [5].
General formula [5]
Rf 5 [- (L 5) n -X-R 51 -Si (OR 52 ) 3 ] m
(Wherein Rf 5 represents a perfluoropolyether group, R 51 Is an alkylene group, R 52 is an alkyl group, L 5 is —CO—, X is —O—, —NR 53 —, —S—, —SO 2 —, —SO 2.
In the group selected from NR 53 — and —NR 53 CO—, n represents 0 or 1, and m represents a natural number of 2 or less. R 53 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 3 or less carbon atoms. )
前記含フッ素シラン化合物を含有する層に、更に下記一般式[7]で表される化合物を含有する請求項1〜10に記載の光学フィルム。
一般式[7]
71 −Si(OR72 3
(式中、R71 は炭素数10以上の長鎖炭化水素基を、R72はアルキル基を表す。)
The optical film according to claim 1, wherein the layer containing the fluorine-containing silane compound further contains a compound represented by the following general formula [7].
General formula [7]
R 71 -Si (OR 72 3
(Where R 71 Represents a long-chain hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms, and R 72 represents an alkyl group. )
X線光電子分光法により測定した、膜表面のシリコン原子(Si2p)とフッ素原子(
F1s)のピーク面積比(Si2p/F1s)が0.0以上0.4以下である請求項1〜11に記載の光学フィルム。
Silicon atoms (Si2p) and fluorine atoms (on the film surface) measured by X-ray photoelectron spectroscopy
The peak area ratio (Si2p / F1s) of F1s) is 0.0 or more and 0.4 or less, The optical film according to claim 1-11.
動摩擦係数が0.02以上0.30以下である請求項1〜12に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the dynamic friction coefficient is 0.02 or more and 0.30 or less. 水の接触角が95度以上である請求項1〜13に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein a contact angle of water is 95 degrees or more. 光学フィルムの表面抵抗をlog(SR)で表したときの値が12以下である請求項1〜14に記載の光学フィルム。   The optical film according to any one of claims 1 to 14, which has a value of 12 or less when the surface resistance of the optical film is expressed by log (SR). 前記導電性粒子を含有する層が低屈折率層であり、膜厚が130nm以上500nm以下である請求項1〜15に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the layer containing the conductive particles is a low refractive index layer and has a thickness of 130 nm to 500 nm. 以下の(A)、(B)、(C)の各成分を含有する塗布組成物。
(A)粒子内部が多孔質または中空である導電性粒子。
(B)オルガノシラン、及び/又はその加水分解物、及び/又はその縮合反応物の少なくともいずれか1種。
(C)含フッ素シラン化合物及び/又はその加水分解物、及び/又はその縮合反応物の少なくともいずれか1種。
A coating composition containing the following components (A), (B), and (C).
(A) Conductive particles having a porous or hollow particle interior.
(B) At least one of organosilane and / or its hydrolyzate and / or its condensation reaction product.
(C) At least one of a fluorine-containing silane compound and / or a hydrolyzate thereof and / or a condensation reaction product thereof.
前記(C)成分である含フッ素シラン化合物が、下記一般式[1]〜[5]のいずれかで表される化合物である請求項17記載の塗布組成物。
一般式[1] (Rf−L1n−Si(R114-n
(式中、Rfは炭素数1〜20の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数6〜14の含フッ素芳香族基を表す。L1は炭素数10以下の2価の連結基を表し、R11はアルキル基、水酸基または加水分解可能な基を表す。nは1〜3の整数を表す。)
一般式[2] Cn2n+1−(CH2m−Si(R)3
(式中、nは10以上の整数を表し、mは1〜5の整数を表す。Rは炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。)
一般式[3]
Figure 2007272197
(式中、Rf は炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Xはヨウ素原子または水素原子、Yは水素原子または低級アルキル基、Zはフッ素原子またはトリフルオロメチル基、R1は加水分解可能な基、R2 は水素または不活性な一価の有機基、a、b、c、dは0〜200の整数、eは0または1、mおよびnは0〜2の整数、及びpは1〜10の整数を表す。)
一般式[4]
Figure 2007272197
(式中、Yは水素原子または低級アルキル基、R1 は加水分解可能な基、qは1〜50の整数を、mは0〜2の整数、pは2〜10の整数を表す。)
一般式[5]
Rf5[−(L5−X−R51 −Si(OR523 ]
(式中、Rf5はパーフルオロポリエーテル基を、R51 はアルキレン基を、R52はアル
キル基を、L5は−CO−を、Xは−O−、−NR53−、−S−、−SO−、−SO
NR53−、−NR53CO−から選ばれる基を、nは0又は1、mは2以下の自然数をそれぞれ表す。R53は水素原子又は炭素数3以下のアルキル基を表す。)
The coating composition according to claim 17, wherein the fluorine-containing silane compound as the component (C) is a compound represented by any one of the following general formulas [1] to [5].
Formula [1] (Rf-L 1 ) n -Si (R 11) 4-n
(In the formula, Rf represents a linear, branched or cyclic fluorinated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a fluorinated aromatic group having 6 to 14 carbon atoms. L 1 is a divalent divalent having 10 or less carbon atoms. Represents a linking group, R 11 represents an alkyl group, a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and n represents an integer of 1 to 3.)
Formula [2] C n F 2n + 1 - (CH 2) m -Si (R) 3
(In the formula, n represents an integer of 10 or more, m represents an integer of 1 to 5. R represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom.)
General formula [3]
Figure 2007272197
Wherein R f is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms, X is an iodine atom or a hydrogen atom, Y is a hydrogen atom or a lower alkyl group, Z is a fluorine atom or a trifluoromethyl group. , R 1 is a hydrolyzable group, R 2 is hydrogen or an inert monovalent organic group, a, b, c, d are integers of 0 to 200, e is 0 or 1, and m and n are 0 to 0. (The integer of 2 and p represent the integer of 1-10.)
General formula [4]
Figure 2007272197
(In the formula, Y represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 1 represents a hydrolyzable group, q represents an integer of 1 to 50, m represents an integer of 0 to 2, and p represents an integer of 2 to 10.)
General formula [5]
Rf 5 [- (L 5) n -X-R 51 -Si (OR 52 ) 3 ] m
(Wherein Rf 5 represents a perfluoropolyether group, R 51 Is an alkylene group, R 52 is an alkyl group, L 5 is —CO—, X is —O—, —NR 53 —, —S—, —SO 2 —, —SO 2.
In the group selected from NR 53 — and —NR 53 CO—, n represents 0 or 1, and m represents a natural number of 2 or less. R 53 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 3 or less carbon atoms. )
請求項1〜16のいずれかに記載の光学フィルムを有する偏光板。   A polarizing plate comprising the optical film according to claim 1. 請求項1〜16のいずれかに記載の光学フィルムを有する画像表示装置。   The image display apparatus which has an optical film in any one of Claims 1-16.
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