JP2010039064A - 光ファイバ端面処理装置及び方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 本発明の課題は、空孔付き光ファイバの、光ファイバとフェルールの接合、研磨面形成、空孔封止を同時且つ高精度に行う光ファイバ端面処理装置を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、レーザ光源もしくは熱源1を用い、溶融により光ファイバ3の端面処理を行う光ファイバ端面処理装置において、レンズもしくは遮蔽板もしくは反射板2を用いて、光ファイバ3の処理断面に複数のピークをもつ温度分布を形成することを特徴とするものである。
【選択図】 図1

Description

本発明は、レーザ光源もしくは熱源を用い、溶融により光ファイバの端面処理を行う光ファイバ端面処理装置及び方法に関するものである。
光ファイバは光ファイバ伝送システムを支える基幹部品であり、コネクタを介して様々な光部品と接続される。しかしながら、コネクタ化には、接続損失や反射損失を抑制するため、複雑な端末処理が必須である。特にファイバをフェルール内に入れ接着剤にて固定する工程やコネクタを組み立て後に行うPC(Physical Contact)研磨の工程は製造負荷が大きい(研磨機を使用すると共に、高い頻度で研磨紙の交換が必要)。
また、光ファイバとして空孔を有するファイバ(ホーリファイバ、ホールアシステッドファイバ、フォトニックバンドギャップファイバ)を用いる場合、塵や水分等が空孔内へ浸入するのを防ぐため、空孔の封止工程が必要であり、更に工程が複雑化する。
また、MTコネクタ(Mechanically Transferable Splicing Connector)では、屈折率整合剤を使用して接続し反射損失を抑制するが、屈折率整合剤は比較的高い温度依存性があり、温度によっては大きく反射損失が増加する。
この様な状況を受け、コネクタ化処理の簡易化を目指して様々な検討がなされている。
光ファイバのフェルールへの固定については、フェルールへ挿入後に端面を加熱(レーザ、アーク放電等)することで光ファイバとフェルールを接合させることが考えられる(以下類推技術という)。
また端面の研磨については、炭酸ガスレーザをコア部付近のみに照射し溶融させることが報告されている(例えば、特許文献1参照。)。
また空孔の封止に関しては、端面をアーク放電にて溶融し融着する方法や接着剤を空孔内へ注入し封止する方法やレーザ照射にて端面を溶融し融着する方法等が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。
上記類推技術、特許文献1,2では屈折率整合剤を用いないため、温度依存性が小さく広範囲の温度変化に対して低反射を期待できる。従って、温度が比較的安定している室内に限らず屋外でも使用可能である。
しかしながら、上記類推技術、特許文献1,2を用いて3工程の光ファイバの端面処理(光ファイバとフェルールの接合、空孔の封止、PC研磨面の形成(PC研磨処理の不要))を一連の処理の中で行う場合、以下の課題がある。
上記類推技術ではPC研磨処理を必要とする点の課題がある。
また、特許文献1の課題として、充実光ファイバのみ対象であり、空孔光ファイバへの対応は不明確であり、またコア中心部のみヘのレーザ照射であるので、光ファイバとフェルールとの接合は出来ない(充実光ファイバ対象)。
また、特許文献2の課題として、空孔の封止のみでPC研磨面の形成および光ファイバとフェルールの接合は出来ない(空孔光ファイバ対象)。
また、上記類推技術と特許文献1を組み合わせることで3工程の処理が可能かどうかについて検討すると、上記類推技術では光ファイバの先端全体を加熱するため、光ファイバ長手方向に対しても広範囲に溶融し、このままでは光ファイバ先端付近で導波構造が崩れるため、研磨等により崩壊した部分を削り落とさない限り、低接続損失、低反射は得られない。したがって、この後に特許文献1の処理を行い、PC研磨面を形成したとしても、低損失の接続が困難である。また、特許文献1は充実型ファイバを対象とした処理であるためPC研磨面の形成が難しい点、過剰に溶融されることでさらに導波構造が崩壊し、逆に損失や反射の劣化が発生する点等が懸念される。特許文献2(レーザ照射、アーク放電の場合)については上記類推技術に包含されるものなので、この処理を追加しても課題解決には至らない。
特開平7−318756号公報 特開2002−323625号公報 International Telecommunication Union Study Group 15,Telecommunication Standardization Sector TD310Revl(PLEN/15),Temporary Document"Draft Recommendation G.657(ex−G.smx)version1.0(for consent)"Geneva,30 Octorber−10 November 2006
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、光ファイバの、光ファイバとフェルールの接合、研磨面形成、空孔封止(空孔光ファイバ使用時)を少なくとも1つ以上実現可能な温度分布の形成を高精度に行う光ファイバ端面処理装置及び方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明の光ファイバ端面処理装置及び方法は、レーザ光源もしくは熱源を用い、溶融により光ファイバの端面処理を行う光ファイバ端面処理装置において、レンズもしくは遮蔽板もしくは反射板を用いて、光ファイバの処理断面に複数のピークをもつ温度分布を形成することを特徴とするものである。
また本発明は、前記光ファイバ端面処理装置及び方法おいて、少なくとも1つ以上の円環状の高温領域が処理端面上に形成されることを特徴とするものである。
また本発明は、前記光ファイバ端面処理装置及び方法おいて、光ファイバとフェルールの界面の接合、PC研磨面の形成、空孔の封止(空孔光ファイバ使用時)を少なくとも1つ以上実現可能な温度分布を形成することを特徴とするものである。
本発明の光ファイバ端面処理装置及び方法は、空孔の封止(空孔光ファイバのみ)、光ファイバとフェルールの接合、PC研磨面形成を簡易かつ同時に行うことが可能となる。この結果、従来よりも大幅に工程が簡素化され、作製時間の短縮に伴う生産性の向上が期待できる。また空孔封止、光ファイバの固定、研磨面形成が一体化されることで歩留まりが改善され端末処理の経済化に大きく寄与する。
さらに、PC研磨の工程が不要となるため、研磨機や研磨紙(高い頻度で交換)が不要である。また端面を1度の溶融のみで処理を行うことも可能であるため、ガラスの機械的な熱履歴等への改善も予想され信頼性の面においても改善が期待される。
また、屈折率整合剤を用いないため、温度依存性が小さく広範囲の温度変化に対して低反射を期待できる。従って、温度が比較的安定している室内に限らず屋外でも使用可能である。また、光ファイバ端面処理装置も全工程ともに共通の部品を用いるため、低価格の装置の提供が可能となる。さらに高精度な処理のため、コネクタ特性の向上にも寄与する。
以下図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
[実施形態1]
図1は本発明の実施形態に係る光ファイバ端面処理装置を示す構成説明図である。図1において、1は光源もしくは熱源、2はレンズもしくは遮蔽板もしくは反射板、3は光ファイバ、4は反射側モニタ(反射側検出器)、5は光ファイバを通過後の透過光をモニタする透過側モニタ(透過光パワ一検出器)である。反射側モニタ4としては、光パワーをモニタする検出器、温度分布をモニタするサーモビューワー等がある。
図1に示すように、光源もしくは熱源1からの光および熱(輻射熱も含む)がレンズもしくは遮蔽板もしくは反射板2の集光もしくは集熱作用により、光ファイバの処理断面に、短峰形状もしくはガウシアン形状と異なる形状の温度分布、例えば複数のピークをもつ温度分布を形成し、溶融により光ファイバの端面処理を行う。この場合、少なくとも1つ以上の円環状の高温領域が光ファイバの処理断面に形成されるようにしてもよい。
また、反射側モニタ4もしくは透過側モニタ5により所望とする光ファイバの端面状態が形成されているかどうかを確認する。光ファイバ端面からの反射光をモニタする反射側モニタ4として光パワーをモニタする場合は、光の入射角度や反射角度およびパワーから表面の状態を観察する。特に複数の検出器を用いる場合は、そのパワー分布から端面の状態を詳細に把握することが可能である。サーモビューワーを使用時は温度分布を詳細に把握することは可能であるが、端面の構造を直接モニタするものではないので、光検出と比較してその精度は若干劣る。その他、光ファイバの処理端面の温度分布をモニタする温度分布モニタを用いてもよい。
尚、光源として、光ファイバの処理端面を溶融させるレーザ光源を用いることができ、この場合、レーザの光軸が光ファイバのコアの軸線と一致するようにする。また、レンズとして、光ファイバの処理端面の断面内におけるレーザ照射による光パワー分布が単峰形状もしくはガウシアン形状と異なる形状が得られる偏光作用、例えば2ピーク以上得られる偏光作用を有したレンズを用いることができる。この場合、光ファイバの処理端面の断面内におけるレーザ照射による光パワー分布が円環状の高温域となる偏光作用を有したレンズを用いることができる。
また、熱源として、光ファイバの処理端面を溶融させる熱源を用いることができ、この場合、熱源の放射方向が光ファイバのコアの軸線と一致するようにする。また、遮蔽板および反射板として、光ファイバの処理端面の断面内における熱源による温度分布が単峰形状もしくはガウシアン形状と異なる形状が得られる偏熱作用、例えば熱源からの輻射熱が光ファイバの処理端面上で2ピーク以上の温度分布が得られる偏熱作用を有した遮蔽板および反射板の少なくともいずれか1つを用いることができる。この場合、光ファイバの処理端面の断面内における熱源による熱パワー分布が円環状の高温域となる偏熱作用を有した遮蔽板および反射板の少なくともいずれか1つを用いることができる。
したがって、本発明の実施形態に係る光ファイバ端面処理装置は、空孔光ファイバ(ホーリファイバ、ホールアシステッドファイバ、フォトニックバンドギャップファイバ)の空孔を封止する端面処理を可能にする温度分布を処理端面上に形成することができ、この場合、空孔付近の温度が他の部分よりも高温となる。また、光ファイバのフェルールへの固定のため、光ファイバとフェルールの界面を溶融して接合することが可能な温度分布を処理端面上に形成することができる。さらに、PC(Physical Contact)研磨面を形成可能な温度分布を処理端面上に形成することができる。このような、フェルールと光ファイバの界面の接合、PC研磨面の形成、空孔の封止(空孔光ファイバのみ)は同時にもしくはいずれかの順に実現可能な温度分布を形成する。
図2〜図4は本発明の実施形態に係る光ファイバ端面処理装置の具体例を示す説明図である。図2〜図4の具体的な実施例{1}〜{9}は種々の光源・熱源、レンズ・遮蔽板・反射板、光ファイバを用いた場合を示す。
・実施例{1}
実施例{1}では、光源として波長10.6μmのCOレーザ(色素レーザ、自由電子レーザ等の赤外光レーザも使用可)を用い、集光デバイスとしてフレネルレンズ11,12(側面図、尚、正面図は円環状)を2枚用い、光ファイバ13としてホールアシステッドファイバ(非特許文献1のG.657B準拠)を用いた。フレネルレンズ11,12は1枚目のレンズ11で平行ビームに変換後、2枚目のレンズ12で円環状(正面図)の高パワー領域が得られ、光ファイバ13の空孔15の位置に重なるように設計されている。
光ファイバ13の空孔15に強度の強い光パワーが照射されることで、光ファイバ13の空孔15の位置が高温部17となる温度分布(正面図)となり、空孔15の封止処理が可能となる。また空孔15以外の部分にも比較的弱い光パワーが照射されるため端面が平滑され、条件によってはPC研磨面(欧州の規格IEC1300−3−16に準拠)の形成が可能となる。処理後の端面特性については接続損失:0.3dB、反射損失:45dBであった。光ファイバ13の端面形状(正面図)において、14はクラッド、16はコアである。
・実施例{2}
実施例{2}では、光源として波長10.6μmのCOレーザを用い、集光デバイスとして小型の凹レンズ21((a)は側面図、(b)は正面図)を6枚用い、光ファイバ22としてホールアシステッドファイバ(G.657B準拠)を用いた。
6枚のレンズ21は、ホールアシステッドファイバ22の6個の空孔24と位置が合うように配置されており、光ファイバ22の空孔24付近のみに高強度の光パワーが照射されることで、光ファイバ22の空孔24の位置が高温部26となる温度分布(正面図)となり、空孔24の高精度の封止処理が可能となる。しかしながら、実施例{1}では必要としなかった回転軸方向の位置あわせが必要となる。
また、光ファイバ22の空孔24以外の部分にも比較的弱い光パワーが照射されるため端面が平滑され、条件によってはPC研磨面(IEC1300−3−16に準拠)の形成が可能となる。処理後の端面特性については接続損失:0.4dB、反射損失:42dBであった。光ファイバ13の端面形状(正面図)において、23はクラッド、25はコアである。
・実施例{3}
実施例{3}では、光源として波長10.6μmのCOレーザを用い、集光デバイスとしてフレネルレンズ31(側面図、尚、正面図は円環状)と回折レンズ32(側面図、尚、正面図は円環状)をそれぞれ1枚用い、光ファイバ33としてホールアシステッドファイバ(G.657B準拠)を用いた。1枚目のフレネルレンズ31で平行ビームに変換後、2枚目の回折レンズ32で円環状の高パワー領域が得られ、光ファイバ33の空孔35の位置に重なるように設計されている。
光ファイバ33の空孔35に強度の強い光パワーが照射されることで、光ファイバ33の空孔35の位置が高温部37となる温度分布(正面図)となり、空孔35の封止処理が可能となる。
また、光ファイバ33の空孔35以外の部分にも比較的弱い光パワーが照射されるため端面が平滑され、条件によってはPC研磨面(IEC1300−3−16に準拠)の形成が可能となる。処理後の端面特性については接続損失:0.3dB、反射損失:45dBであった。光ファイバ13の端面形状(正面図)において、34はクラッド、36はコアである。
・実施例{4}
実施例{4}では、光源として波長10.6μmのCOレーザを用い、集光デバイスとしてフレネルレンズ41(側面図、尚、正面図は円環状)を1枚用い、光ファイバ42としてホールアシステッドファイバ(G.657B準拠)を用いた。
フレネルレンズ41は、円環状の高パワー領域が得られ、光ファイバ42の空孔44の位置に重なるように設計されている。光ファイバ42の空孔44に強度の強い光パワーが照射されることで、光ファイバ42の空孔44の位置が高温部46となる温度分布(正面図)となり、空孔44の封止処理が可能となる。実施例{1}と比較し、1枚のレンズ41で円環状の高パワー領域を実現できる特徴はあるが、設計が難しい面もある。
また、光ファイバ42の空孔44以外の部分にも比較的弱い光パワーが照射されるため端面が平滑され、条件によってはPC研磨面(IEC1300−3−16に準拠)の形成が可能となる。処理後の端面特性については接続損失:0.4dB、反射損失:42dBであった。光ファイバ42の端面形状(正面図)において、43はクラッド、45はコアである。
・実施例{5}
実施例{5}では、光源として波長10.6μmのCOレーザを用い、集光デバイスとしてフレネルレンズ51(側面図、尚、正面図は円環状)と回折レンズ52(側面図、尚、正面図は円環状)をそれぞれ1枚用い、光ファイバ53としてホールアシステッドファイバ(G.657B準拠)を用いた。
1枚目のフレネルレンズ51で平行ビームに変換後、2枚目の回折レンズ52で円環状の高パワー領域と中パワー領域がそれぞれ1つ得られ、高パワー域は光ファイバ53の空孔55の位置に、低パワー域は光ファイバ53の外縁部に重なるように設計されている。
光ファイバ53の空孔55に強度の強い光パワーが照射されることで、光ファイバ53の空孔55の位置、例えばコア56を中心に6〜23μmの円環位置が例えば1800℃の高温部57となる温度分布(正面図)となり、空孔55の封止処理が可能となる。光ファイバ53の外縁部に中程度の強度の光パワーを照射することで、光ファイバ53の外縁部、例えばコア56を中心に半径55μmより大きい円環部が例えば1700〜1800℃の中温部59となる温度分布(正面図)となり、PC研磨面(IEC1300−3−16に準拠)の形成を容易にする。
また、光ファイバ53の空孔55以外の部分にも比較的弱い光パワーが照射されるため、例えば1600〜1700℃の低温部58となる温度分布(正面図)となり、端面が平滑される。処理後の端面特性については接続損失:0.2dB、反射損失:48dBであった。光ファイバ53の端面形状(正面図)において、54はクラッドである。
・実施例{6}
実施例{6}では、光源として波長10.6μmのCOレーザを用い、集光デバイスとしてフレネルレンズ61(側面図、尚、正面図は円環状)と回折レンズ62(側面図、尚、正面図は円環状)をそれぞれ1枚用い、光ファイバ63としてホールアシステッドファイバ(G.657B準拠)を用いた。光ファイバ63はフェルール67内に挿入された状態である。フェルール67としてはジルコニア、プラスチック、結晶化ガラス、石英ガラス等があるが、温度的親和性のためには石英ガラス系のフェルールが望ましい。
1枚目のフレネルレンズ61で平行ビームに変換後、2枚目の回折レンズ62で円環状の高パワー領域が2つ得られ、光ファイバ63の空孔65の位置および光ファイバ63とフェルール67の界面に重なるように設計されている。光ファイバ63の空孔65に強度の強い光パワーが照射されることで、光ファイバ63の空孔65の位置が高温部68となる温度分布(正面図)となり、空孔65の封止処理が可能となる。光ファイバ63とフェルール67の界面に高強度の光パワーを照射することで、光ファイバ63とフェルール67の界面位置が高温部68となる温度分布(正面図)となり、光ファイバ63とフェルール67の融着接合が可能となる。
また、光ファイバ63の空孔65以外の部分にも比較的弱い光パワーが照射されるため、低温部69となる温度分布(正面図)となり、端面が平滑され、条件によってはPC研磨面(IEC1300−3−16に準拠)の形成が可能となる。処理後の端面特性については接続損失:0.2dB、反射損失:48dBであった。光ファイバ53の端面形状(正面図)において、64はクラッド、66はコアである。
・実施例{7}
実施例{7}では熱源としてニクロム線ヒータ(モリブテン、タングステン、カーボンヒータ等も使用可)を用い、集熱デバイスとして熱遮蔽板71(側面図、尚、正面図は円環状)を用い、光ファイバ72としてホールアシステッドファイバ(G.657B準拠)を用いた。熱遮蔽板71は、円環状に穴部が開いており(中央の遮蔽板の固定のため細いブリッジ等を設置)指向性を高くするため長尺の導入部を備えている。
熱遮蔽板71の円環状の穴部は光ファイバ72の空孔74部と一致するように設計されており、光ファイバ72の空孔74に強度の強い熱パワーが照射されることで、光ファイバ72の空孔74の位置が高温部76となる温度分布(正面図)となり、空孔74付近が高温溶融されることで、空孔74の封止処理が可能となる。
また、光ファイバ72の空孔74以外の部分にも比較的低い温度分布(正面図)が形成されるため微小に端面が溶融されて平滑化され、条件によってはPC研磨面(IEC1300−3−16に準拠)の形成が可能となる。処理後の端面特性については接続損失:0.3dB、反射損失:43dBであった。光ファイバ72の端面形状(正面図)において、73はクラッド、75はコアである。
・実施例{8}
実施例{8}では熱源としてカーボンヒータを用い、集熱デバイスとして熱遮蔽板81((a)は側面図、(b)は正面図)を用い、光ファイバ83としてホーリファイバを用いた。熱遮蔽板81は、光ファイバ83の空孔84部と一致するように、円環状に複数の穴部82が設置されており、各穴部82は指向性を高くするため長尺の導入部を備えている。
カーボンヒータから熱遮蔽板81の穴部82を通して光ファイバ83の空孔84部に強度の強い熱パワーが照射されることで、光ファイバ83の空孔84の位置が高温部85となる温度分布(正面図)となり、空孔84付近が高温溶融されることで、空孔84の高精度の封止処理が可能となる。しかしながら、実施例{7}では必要としなかった回転軸方向の位置あわせが必要となる。
また、光ファイバ83の空孔84以外の部分にも比較的低い温度分布(正面図)が形成されるため微小に端面が溶融されて平滑化され、条件によってはPC研磨面(IEC1300−3−16に準拠)の形成が可能となる。処理後の端面特性については接続損失:0.4dB、反射損失:43dBであった。光ファイバ83の端面形状は正面図を表す。
・実施例{9}
実施例{9}では熱源としてカーボンヒータを用い、集熱デバイスとして輻射熱反射板91(側面図、尚、正面図は円環状)を用い、光ファイバ92としてホーリファイバを用いた。輻射熱反射板91は、円環状に2重に穴部が開いており(輻射熱反射板91の固定のため細いブリッジ等を設置)指向性と反射効率を高くするため長尺かつテーパ状の導入部を備えている。
輻射熱反射板91の内側の円環部は、光ファイバ92の空孔93部と一致するように、円環状に穴部が設置されており、カーボンヒータから輻射熱反射板91を介して光ファイバ92の空孔93部に強度の強い熱パワーが照射されることで、光ファイバ92の空孔93の位置が高温部94となる温度分布(正面図)となり、空孔94付近が高温溶融されることで、空孔94の高精度の封止処理が可能となる。輻射熱反射板91の外側の円環状穴部は、光ファイバ92の外縁部と一致しており、カーボンヒータから輻射熱反射板91を介して光ファイバ92の外縁部に中程度の熱パワーが照射されることで、光ファイバ92の外縁部の位置が中温部96となる温度分布(正面図)となり、光ファイバ92の外縁部を中程度の温度に加熱することでPC研磨面(IEC1300−3−16に準拠)の形成を容易にする。
また、光ファイバ92の空孔94以外の部分にも比較的弱い熱パワーが照射されるため、低温部95となる温度分布(正面図)となり、端面が平滑される。処理後の端面特性については接続損失:0.25dB、反射損失:46dBであった。光ファイバ53の端面形状は正面図を表す。
実施例{1}〜{9}のいずれにおいても、接続損失:0.4dB以下、反射損失:40dB以上の優れた接続特性を実現しており、本発明の有効性を実証した。
尚、実施例{1}〜{9}では、空孔ファイバの空孔数が6穴であったがその他の空孔数であっても同様の結果が得られることは言うまでもない。さらに空孔ファイバでない充実型光ファイバであっても同様の特性が得られる。
また、実施例{1}〜{9}で接続特性が微小に異なるが、光ファイバの種類や接続条件により微小に変化するので、それぞれ構成の優位性を示すものではない。しかしながら、接続損失:0.4dB以下、反射損失:40dB以上は確保される。
さらに、温度分布は、高温部、中温部、低温部に分けられているが、必ずしもその境界部分において明確な温度差があるわけではない。殆どの場合、滑らかに温度が変化しており、ある温度での区切りが高温部(もしくは中温部もしくは低温部)と分けているに過ぎない。また、高温部、中温部、低温部のいずれであっても、ガラスが溶融する温度であり、温度の違いが溶融量の違いに影響するということを表している(基本的には高温の方が溶融量が多くなる)。
また、レーザの波長に関しては短波長の方がスポットサイズを小さくすることが可能であるので、COレーザに変えて、3μmのHFレーザ、5〜7μmのCOレーザ、2〜5μmのInAsSb系半導体レーザ、5〜9μmのPbSSe系半導体レーザ等を用いることで微細な加工が可能である。しかしながら、短波長過ぎるとガラスの透過性が高くなり光パワーに対する熱変換効率が低下するので、それらを加味して総合的に判断する必要がある。本実施例ではCOレーザを用いたが,無論これらのレーザを本実施例に適用可能であることは言うまでもない。
[実施形態2]
図5は本発明の実施形態に係る光ファイバ端面処理装置の使用例を示す構成説明図である。図5において、101は光ファイバ端面処理装置、102は光源もしくは熱源、103はレンズもしくは熱遮蔽板もしくは反射板、104はレンズ、105は光ファイバ、106はフェルール、107は空孔、108はコア、109は高温部、110は高温部、111は外縁部に行くに従い高温となる温度分布部である。
本発明の実施形態2では、光ファイバの空孔の封止処理、光ファイバとフェルールの接合、PC研磨面の形成の3つの工程(空孔ファイバでない場合には、光ファイバとフェルールの接合、PC研磨面の形成の2工程のみ)に分けて行う光ファイバ端面処理について説明する。ここでは、光源102として波長10.6μmのCOレーザ、光ファイバ105としてホールアシステッドファイバ(G.657B準拠)、レンズ103としてフレネルレンズ、フェルール106として石英ガラスのフェルールを用いた。本工程では、光ファイバ端面処理装置101と光ファイバ105の端面までの距離と光ファイバ端面処理装置101内に内蔵されているレンズ104の位置を調整し、光ファイバ105の端面上における温度分布を制御することで実現される。
工程[1]では、光ファイバ端面処理装置101は光ファイバ105の端面より比較的遠い位置にあり、光ファイバ105の空孔107部分に円環の高温部109が一致するようにレンズ104と共に位置調整を行った後、光源102からレーザの照射を行い、光ファイバ105の空孔107を封止する。
工程[2]では、光ファイバ端面処理装置101と内蔵するレンズ104を光ファイバ105の端面の方へ移動させ、光ファイバ105とフェルール106の界面に円環の高温部110が一致するようにする。その後、光源102からレーザを照射し、光ファイバ105とフェルール106の界面の接合を行う。
工程[3]では、光ファイバ端面処理装置101を更に光ファイバ105の端面側に近づけ、一方内蔵のレンズ104は光ファイバ105の端面から遠い方へ移動させることで、フェルール106の外縁部が高温部で光ファイバ105の中心に行くに従い、温度が徐々に低くなる温度分布部111を実現する。その後、光源102からレーザを照射し、PC研磨面が実現される。
本工程[1]〜[3]の処理後、コネクタ化を行い端面特性の評価をした結果、接続損失:0.1dB以下(波長1.3μmおよび1.55μm)、反射損失:50dB以上の優れた接続特性が得られた。
本実施形態2では、工程[1]の後に工程[2]を行ったがその逆でも同等の結果が得られる。また光ファイバとして充実型のファイバの場合は工程[2]と工程[3]により簡易な光ファイバ端面処理が可能となる。
さらに、本実施形態2の効果について述べると、工程は3段階であるが、光ファイバ端面処理装置や内蔵レンズを移動させるのみ(本実施形態2ではいずれも1つの軸線上)で全工程を行うことが出来るため、製造負荷を大幅に抑えることが可能となることに加え、装置の部品点数を大幅に抑えることが可能である。
尚、光ファイバの処理端面の状況を観察する手段として、実施形態1において説明した反射側モニタや透過側モニタを適用できることは言うまでもない。
以上のように本発明の実施形態に係る光ファイバの端面処理装置は、光ファイバの処理端面上における温度分布の形状を詳細に制御することで、(1)フェルール内へ光ファイバを固定する工程、(2)PC研磨レスのPC研磨面形成、(3)空孔を有する光ファイバの空孔の封止工程、の少なくとも1つ以上の工程を一連の温度分布形成過程により同時かつ高精度に行うことを特徴としている。
上記特徴を実現するため、本発明の実施形態では単峰形状もしくはガウシアン形状と異なる形状の温度分布を形成する。これは点光源や点熱源より発せられた光や輻射熱は、光ファイバの処理端面上で単峰形状やガウシアン形状の温度分布を発生し、所望の処理端面を実現するための溶融条件を満たしがたい。特に空孔ファイバの場合には、空孔を封止する程度の温度を単峰形状やガウシアン形状で実現しようとすると、溶融領域が広くなり球状となるため、研磨レスでのPC研磨面の形成が困難である。そこで、本発明の実施形態では、光ファイバの処理端面上の温度分布を細かく制御することで所望の光ファイバ端面の形成を実現する。具体的な例として2ピーク以上の高温域、円環状の高温域等を形成することで実現する。
所望の温度分布の形成は、光源を用いる場合は特殊形状や複数のレンズ、熱源を用いる場合は遮蔽板や反射板等により、光および熱の伝搬に指向性を与えることで実現される。
加熱過程は、フェルールと光ファイバの接合、PC研磨面生成、空孔封止の3過程あるが、1回の加熱で同時に3つの加熱過程を行う場合、2回もしくは3回に分けて異なる温度プロファイルで行う場合等が考えられる。さらに、光源とレンズを用いる場合、レンズの焦点距離を変化させることで、高温領域を変化させることが可能である。例えば円環状の高温域がある場合、焦点距離の調整で円環の直径や太さを変化させることが可能である。
光ファイバ端面の形成状況のモニタに関しては、光源の場合は端面からの反射光の空間分布を測定することで、表面の状況をモニタすることが可能であり、フィードバック制御を掛けることで端面処理の精度等を向上させることが可能である。
なお、本発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
本発明の実施形態に係る光ファイバ端面処理装置を示す構成説明図である。 本発明の実施形態に係る光ファイバ端面処理装置の具体例を示す説明図である。 本発明の実施形態に係る光ファイバ端面処理装置の具体例を示す説明図である。 本発明の実施形態に係る光ファイバ端面処理装置の具体例を示す説明図である。 本発明の実施形態に係る光ファイバ端面処理装置の使用例を示す構成説明図である。
符号の説明
1…光源もしくは熱源、2…レンズもしくは遮蔽板もしくは反射板、3…光ファイバ、4…反射側モニタ(反射側検出器)、5…光ファイバを通過後の透過光をモニタする透過側モニタ(透過光パワ一検出器)。

Claims (6)

  1. レーザ光源もしくは熱源を用い、溶融により光ファイバの端面処理を行う光ファイバ端面処理装置において、レンズもしくは遮蔽板もしくは反射板を用いて、光ファイバの処理断面に複数のピークをもつ温度分布を形成することを特徴とする光ファイバ端面処理装置。
  2. 請求項1記載の光ファイバ端面処理装置おいて、少なくとも1つ以上の円環状の高温領域が処理端面上に形成されることを特徴とする光ファイバ端面処理装置。
  3. 請求項1又は2記載の光ファイバ端面処理装置おいて、光ファイバとフェルールの界面の接合、PC研磨面の形成、空孔の封止(空孔光ファイバ使用時)を少なくとも1つ以上実現可能な温度分布を形成することを特徴とする光ファイバ端面処理装置。
  4. レーザ光源もしくは熱源を用い、溶融により光ファイバの端面処理を行う光ファイバ端面処理方法において、レンズもしくは遮蔽板もしくは反射板を用いて、光ファイバの処理断面に複数のピークをもつ温度分布を形成することを特徴とする光ファイバ端面処理方法。
  5. 請求項4記載の光ファイバ端面処理方法おいて、少なくとも1つ以上の円環状の高温領域が処理端面上に形成されることを特徴とする光ファイバ端面処理方法。
  6. 請求項4又は5記載の光ファイバ端面処理方法おいて、光ファイバとフェルールの界面の接合、PC研磨面の形成、空孔の封止(空孔光ファイバ使用時)を少なくとも1つ以上実現可能な温度分布を形成することを特徴とする光ファイバ端面処理方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013092634A (ja) * 2011-10-25 2013-05-16 Mitsubishi Cable Ind Ltd 光ファイバの端面処理方法及び端面処理された光ファイバ
JP2019527857A (ja) * 2016-08-12 2019-10-03 ボストン サイエンティフィック サイムド,インコーポレイテッドBoston Scientific Scimed,Inc. ファイバ終端部を溶融する方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3096163A1 (en) 2015-05-22 2016-11-23 Corning Optical Communications LLC Quantum cascade laser devices and methods for optical-fiber processing for connector applications

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06122086A (ja) * 1992-08-27 1994-05-06 Mitsubishi Electric Corp レーザ加工装置
JPH11142688A (ja) * 1997-09-12 1999-05-28 Whitaker Corp:The 光ファイバ固定方法及び光ファイバ固定構造
JP2005024842A (ja) * 2003-07-01 2005-01-27 Hitachi Cable Ltd 光ファイバ端部の封止構造及びその封止方法
JP2007025531A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Hitachi Cable Ltd 光ファイバ端部及びその加工方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06122086A (ja) * 1992-08-27 1994-05-06 Mitsubishi Electric Corp レーザ加工装置
JPH11142688A (ja) * 1997-09-12 1999-05-28 Whitaker Corp:The 光ファイバ固定方法及び光ファイバ固定構造
JP2005024842A (ja) * 2003-07-01 2005-01-27 Hitachi Cable Ltd 光ファイバ端部の封止構造及びその封止方法
JP2007025531A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Hitachi Cable Ltd 光ファイバ端部及びその加工方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013092634A (ja) * 2011-10-25 2013-05-16 Mitsubishi Cable Ind Ltd 光ファイバの端面処理方法及び端面処理された光ファイバ
JP2019527857A (ja) * 2016-08-12 2019-10-03 ボストン サイエンティフィック サイムド,インコーポレイテッドBoston Scientific Scimed,Inc. ファイバ終端部を溶融する方法
JP7117287B2 (ja) 2016-08-12 2022-08-12 ボストン サイエンティフィック サイムド,インコーポレイテッド ファイバ終端部を溶融する方法
US11442232B2 (en) 2016-08-12 2022-09-13 Boston Scientific Scimed, Inc. Methods for fusing a fiber termination
US11982843B2 (en) 2016-08-12 2024-05-14 Boston Scientific Scimed, Inc. Methods for fusing a fiber termination

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