JP2010037581A - 金属材料の表面処理法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の金属材料の表面処理法は、酸化マグネシウム粉末をフッ化炭素系化合物分散液に分散させ、金属材料の表面に、前記分散液を塗布した後、大気中もしくは酸素雰囲気中にて加熱することにより、前記金属材料の表面に、フッ化不動態膜を形成することを特徴とする。
【選択図】なし
Description
このような各種の装置は、その表面が強力な腐食性の塩素ガス、フッ化水素ガス、あるいは、フッ素ラジカルなどに晒される。そこで、このような装置に用いられるアルミニウム合金は、耐食性を向上し、長寿命化を図るために、その表面にアルマイト処理により、アルマイト被膜が形成されていた。
しかしながら、このアルマイト被膜は、長期間の使用により、フッ素ラジカルによってエッチングされ、消失するという問題があった。
また、マグネシウムを含むアルミニウム合金の耐食性表面処理法については、対象物を容器内で加熱した後、容器内に危険性のあるフッ素ガスもしくはフッ素系化合物ガスを導入して加熱することにより、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面にフッ化物からなる被膜を形成する方法が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
この表面処理方法によって形成されたフッ化不動態膜は耐食性を示すので、この表面処理方法を、プラズマCVD法のアルミニウム合金製のシャワープレートの表面処理に応用すれば、電気的特性に優れた(特にVth(閾値電圧)シフトのない)被膜を形成することができる。
また、本発明の金属材料の表面処理法では、フッ化炭素系化合物が分散された分散液に、マグネシウム源としてのマグネシウム化合物を分散させた後、金属材料の表面に塗布して、大気中もしくは酸素雰囲気中にて加熱するので、マグネシウム化合物中のマグネシウムがフッ素と選択的に反応するとともに、大気中もしくは酸素雰囲気中にて反応が行われるので、フッ化炭素系化合物中の炭素は酸化した後、離脱して、フッ化不働態膜中には残留しない。したがって、得られたフッ化不動態膜は、マグネシウムおよびフッ素を含む金属化合物となり、耐食性に優れるとともに、真空中、300℃以上の加熱雰囲気中にて、金属材料を用いても、金属材料に含まれるマグネシウムの飛散防止に有効な膜となる。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
液晶フラットパネルディスプレイの制御回路に用いられる材料の成膜法としては、プラズマCVD法が挙げられる。プラズマCVD法によるa−Si膜の成膜プロセスにおいては、一定のプロセスを重ねる毎に、プラズマCVD装置のヒーター周辺や反応ガス導入用のシャワープレートに析出したケイ素(Si)を取り除く必要がある。そこで、三フッ化窒素(NF3)ガスを用いて、高周波(RF)またはマイクロ波によって分解励起されたフッ素ラジカルにより、ヒーター周辺やシャワープレートの周辺に析出したケイ素の膜をエッチングして取り除いていた。
特許文献2の表面処理方法によって得られるマグネシウムフッ化物からなる被膜は、耐食性に優れる特性がある。したがって、この被膜をプラズマCVD装置の基板加熱ヒーターの表面に、使用に耐え得る十分な厚みで設けられれば、特許文献2の表面処理方法は、従来のアルマイト被膜に代る耐食性に優れた被膜の形成方法として有意義な処理法となる。
本発明の金属材料の表面処理法は、マグネシウム源をフッ化炭素系化合物分散液に分散させ、金属材料の表面に、この分散液を塗布した後、大気中もしくは酸素雰囲気中にて加熱することにより、金属材料の表面に、厚み1μm以上のフッ化不動態膜を形成する方法である。
フッ化炭素系化合物の含有率を30重量%以上かつ50重量%以下とした理由は、フッ化炭素系化合物の含有率が30重量%未満では、十分に均一な塗布量が得られないからであり、一方、フッ化炭素系化合物の含有率が50重量%を超えると、液留まりを起こしやすいからである。
なお、本発明では、このフッ化炭素系化合物が分散された分散液を、純水により希釈して用いてもよい。
マグネシウム源の含有率を、フッ化炭素系化合物の質量の1.5分の1以上かつ1.3分の1以下とした理由は、マグネシウム源の含有率をこの範囲内とすれば、フッ化マグネシウムの化学量論組成の膜からなるフッ化不動態膜が得られるからである。
その後、図1に示すような構成の加熱装置を用いて、分散液が塗布された金属材料を加熱する。
この加熱装置10は、加熱炉11と、加熱炉11内に空気もしくは酸素を供給するための流路12と、流路12の途中に設けられた流量計13とから概略構成されている。
この加熱工程では、まず、加熱炉11内に分散液が塗布された金属材料を配置した後、流量計13により流量を調節しながら、流路12を介して、加熱炉11内に空気もしくは酸素を供給し、加熱炉11内を大気雰囲気または酸素雰囲気とする。
次いで、加熱炉11内に配置した金属材料を、大気中もしくは酸素雰囲気中にて、400℃以上かつ500℃以下にて、8時間以上加熱する。加熱時間は、必要とされるフッ化不動態膜の厚み(分散液の塗布量)によって異なるが、概ね24時間以下である。この加熱により、分散液中に含まれるマグネシウム源とフッ化炭素系化合物が反応して、マグネシウムフッ化不動態膜を形成する。これに伴って、金属材料としてマグネシウムを含むアルミニウム合金を用いた場合、加熱により合金に含まれるマグネシウムがその表面に拡散してきて、このマグネシウムと合金の表面に塗布されたフッ化炭素系化合物に含まれるフッ素とが選択的に反応して、マグネシウムを含むアルミニウム合金の表面にマグネシウムフッ化不動態膜が形成される。このような2つの反応の相乗効果により、より密着性が高く、より強固なフッ化不動態膜が形成される。
なお、本発明の表面処理法では、酸素雰囲気中における処理を行うため、マグネシウムを主成分とする合金の種類によって異なる発火点に配慮し、フッ化不働態膜の形成温度を設定する必要がある。
金属材料としてアルミニウム合金(A6061合金)を用意した。
ポリテトラフルオロエチレン(三井・デュポンフロロケミカル社製)を分散してなる分散液に、粒子径が3μm程度の酸化マグネシウム粉末を添加し、十分に攪拌、混合して、ポリテトラフルオロエチレンおよび酸化マグネシウム粉末を分散した分散液を調製した。
次いで、アルミニウム合金の表面に、この分散液を噴霧することにより塗布した後、この合金を大気中にて、500℃にて24時間加熱し、表面処理を行った。
なお、分散液に混合する酸化マグネシウム粉末の比率は、質量割合として、酸化マグネシウムを1とした場合、分散液中のポリテトラフルオロエチレン原料そのものを1.3の割合で混合した。
表面処理を施したアルミニウム合金の表面近傍に、ダイヤモンド刃を用いた超精密ミクロトームにより、鏡面断面を形成した。
この鏡面断面を形成した試料表面を光学顕微鏡により観察したところ、アルミニウム合金の表面には、厚み5μmのマグネシウムフッ化不動態膜が形成されていることが確認された。
この光学顕微鏡像を図2に示す。
図2の表面層は、厚み5μm程度のアルミニウム合金と異なる層であった。
アルミニウム合金(A6061合金)の表面に、ポリテトラフルオロエチレン(三井・デュポンフロロケミカル社製)を分散してなる溶液を噴霧することにより塗布した後、この合金を大気中にて、500℃にて24時間加熱し、表面処理を行った。
表面処理を施したアルミニウム合金の表面近傍に、ダイヤモンド刃を用いた超精密ミクロトームにより、鏡面断面を形成した。
この鏡面断面を形成した試料表面を光学顕微鏡により観察したところ、アルミニウム合金の表面には、厚み0.5μm以下のマグネシウムフッ化不動態膜が形成されていることがかろうじて確認された。
この光学顕微鏡像を図3に示す。
図3の表面層は、厚み0.5μm以下のアルミニウム合金と異なる層であった。
実験例1で作製した試料の鏡面断面を、電子線プローブマイクロアナライザー(EPMA)により元素分析を行った。この元素分析の条件を、マグネシウム(Mg)、フッ素(F)、アルミニウム(Al)、酸素(O)を中心に、ライン分析幅20μmとした。
結果を図4に示す。
図4の結果から、本発明の金属材料の表面処理法を施したアルミニウム合金の表面層には、マグネシウムおよびフッ素の急峻なピークが検出されることから、マグネシウムおよびフッ素が多く存在することが確認された。また、表面層のアルミニウム合金側、すなわち、マグネシウムを含むアルミニウム合金側には酸素のピークも弱く検出されることから、酸素も不純物程度に含まれていることが確認された。そして、アルミニウム合金、すなわち、金属材料の層では、アルミニウムのピークは急峻に減少していき、代わって、マグネシウムとフッ素のピークが急峻に立ち上がっていることが確認された。以上の結果から、アルミニウム合金の表面には、マグネシウムフッ化不動態膜が形成されていることが確認された。
Claims (2)
- マグネシウム源をフッ化炭素系化合物分散液に分散させ、金属材料の表面に、前記分散液を塗布した後、大気中もしくは酸素雰囲気中にて加熱することにより、前記金属材料の表面に、フッ化不動態膜を形成することを特徴とする金属材料の表面処理法。
- 前記金属材料は、マグネシウムを含むアルミニウム合金もしくはマグネシウム合金であることを特徴とする請求項1に記載の金属材料の表面処理法。
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