JP2010032341A - X線分析装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ビームラインが短く、分解能が高く、且つ短時間で2次元領域の測定が可能な分析装置、特にXAFS分析装置又は小角散乱X線分析装置を提供すること。
【解決手段】荷電粒子発生手段によって生成された荷電粒子を内部に周回させる荷電粒子周回手段(1)と、
周回する荷電粒子の周回軌道(13)上に配置された横長ターゲット(14)に、周回する荷電粒子を衝突させて発生したX線を分光して単色X線を発生させる分光手段(2)と、
分光手段(2)から出力される単色X線を測定対象の試料(4)に照射し、試料(4)から出力されるX線を測定する測定手段(3)とを備える。
【選択図】 図1
【解決手段】荷電粒子発生手段によって生成された荷電粒子を内部に周回させる荷電粒子周回手段(1)と、
周回する荷電粒子の周回軌道(13)上に配置された横長ターゲット(14)に、周回する荷電粒子を衝突させて発生したX線を分光して単色X線を発生させる分光手段(2)と、
分光手段(2)から出力される単色X線を測定対象の試料(4)に照射し、試料(4)から出力されるX線を測定する測定手段(3)とを備える。
【選択図】 図1
Description
本発明は、X線を用いた分析装置に関し、特にX線吸収微細構造(X-ray absorption fine structure:XAFS)分析装置及び小角散乱X線分析装置に関する。
X線を用いた分析装置として、X線吸収微細構造(以下、XAFSと記す)分析装置、小角散乱X線分析装置が知られている。XAFS分析装置では、光源から放射されるX線を、分光器(結晶)を用いて分光し、分光されたX線を測定対象物に照射してX線の透過光を測定することによって、X線波長に依存する吸収波形を得る。X線光源には、強収束タイプのシンクロトロン(例えば、SPring8)や、X線管が使用される。小角散乱X線分析装置では、X線を測定対象に照射し、X線の入射方向に対して微小角度を成す方向に散乱されるX線を観測する(例えば、下記特許文献1参照)。
一方、X線を発生する方法に関しては、種々の方法が知られている。その一つとして、電子ビームをターゲット(陽極)金属に当ててターゲット物質固有の特性X線を発生するX線管による方法がある。さらに、シンクロトロン放射を利用してX線を発生する方法、みらくる型放射光発生装置によるX線発生方法、加速器の高エネルギー電子ビームを用いたX線レーザーを発生する方法、パラメトリックX線を発生する方法などが知られている。みらくる型放射光発生装置は、放射光発生装置として、弱収束シンクロトロンを用いた小型の放射光発生装置である。下記特許文献2には、弱収束シンクロトロンを用いた小型の放射光発生装置の応用として、卓上型放射光治療診断装置が開示されている。
特開平8−145916号公報
特開2005−237730号公報
しかし、SPring8などの強収束型の放射光装置からの放射光を用いてXAFSを測定する場合、光源の大きさが約20μmと比較的大きい。従って、波長分解能(λ/Δλ:λは波長)として約5000の値を実現するためには、ビームラインは、例えば約20mと長くなってしまう。さらに、波長分解能を高くするには、より長いビームラインが必要となり、分光に必要な結晶が二枚もしくは四枚必要となる。また、X線波長を変えるためには、これらの結晶を走査することが必要であるので、精度の高い駆動機構が必要となり、測定時間が比較的長くなる。
また、X線管は発散角は大きいが、単色であるので、XAFS分析装置の光源には使用することができない。
また、Spring8などの強収束型の放射光装置からの放射光を用いて種々の波長で小角散乱を測定する場合にも、XAFSの場合と同様に、光源が比較的大きく、発散角度が小さいので、分光のためにビームラインが長くなる。また、ある所定の面積領域に関して測定する場合、照射X線を走査することが必要となり、測定に時間がかかってしまう。
従って、本発明の目的は、ビームラインが短く、分解能が高く、且つ短時間で2次元領域の測定が可能な分析装置、特にXAFS分析装置又は小角散乱X線分析装置を提供することにある。
本発明の目的は、以下の手段によって達成される。
即ち、本発明に係るX線分析装置は、荷電粒子を横長ターゲットに衝突させ、発生したX線を分光して利用するX線分析装置において、前記横長ターゲットに衝突する前記荷電粒子が、前記横長ターゲットの長手方向に広がった軌道を形成し、前記横長ターゲットから発生する前記長手方向に広がって分布するX線から単色X線を発生させることを特徴としている。
前記長手方向に広がる前記荷電粒子の軌道を形成する手段は、荷電粒子発生手段によって発生された荷電粒子を内部に周回させる荷電粒子周回手段であり、周回する前記荷電粒子の周回軌道面内に配置された線状の前記横長ターゲットに、周回する前記荷電粒子が衝突して発生するX線を分光する分光手段と、前記分光手段から出力されたX線を測定する測定手段とを備えることができる。
また、前記荷電粒子周回手段は、前記荷電粒子を、軌道面に対して垂直な方向に幅5mm以下、水平な方向に幅1mm以上60mm以下にわたって円盤状に分布させる手段であることができる。
また、前記荷電粒子周回手段は、弱収束の電子周回装置であり、前記軌道面に垂直な方向の電子の収束力を、前記軌道面に平行な方向の電子の収束力よりも強くしてもよい。
また、前記横長ターゲットから放射されるX線を分光する手段は、円盤状の軌道面に対して平行な開口を持ち、分光されたX線が線状に分布して放射され、分光された前記X線のエネルギー分散が、前記円盤状の軌道面に対して垂直な方向に発生することができる。
また、前記分光手段は、平板もしくは湾曲形状の結晶で構成されていることができる。
また、前記ターゲットに入射する前記電子のエネルギーが30keV以上20MeV以下であり、前記ターゲットの線径が10μm以下で長さが1cm以上であることができる。
また、前記X線分析装置をEXAFS測定に使用する場合、前記横長ターゲットの長手方向に平行に、分析対象である同種または異種の複数の試料を配置することができる。
また、前記X線分析装置をX線反射率測定に使用する場合、線状に分布する分光された単色X線を、測定対象である横長試料の全面に照射することができる。
また、前記X線分析装置を散乱実験に使用する場合、前記横長ターゲットの長手方向に平行に、同種または異種の複数の試料を配置し、線状に分布するX線に対して直角方向の散乱を観測することができる。
本発明によれば、光源の大きさが比較的小さく、発散角度が比較的大きい白色光を生成することができる荷電粒子周回手段を使用するので、一枚もしくは二枚の比較的少ない分光用の結晶を用い、短いビームラインで、高い波長分解能のX線分析装置を実現することができる。
本願発明を、XAFS分析装置として実現すれば、高い波長分解能の測定が可能であり、測定を短時間で行える。発散角度が比較的大きいので、分光手段にて分光される波長範囲が広いために位置敏感型検出器を用いることによって、X線波長を走査することなく、短時間で測定が可能である。小角散乱X線分析装置として実現すれば、2次元領域の測定を短時間で行うことができる。両装置は、測定対象物質の時間的な変化を測定することも可能である。
同様に、本発明は、EXAFS(Extended X-ray absorption fine structure)の測定に適用することや、小角散乱に限定されないX線反射率測定および散乱実験に適用することもでき、その場合にも上記と同様の効果を奏することができる。
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施の形態に関して詳細に説明する。
(第1の実施の形態)
図1は本発明の第1の実施の形態に係るX線分析装置、特にXAFS分析装置の概略構成を示す平面図である。本実施形態に係るX線分析装置は、荷電粒子周回手段1と、荷電粒子発生手段(図示せず)と、分光手段2と、測定手段3とを備えて構成されている。
図1は本発明の第1の実施の形態に係るX線分析装置、特にXAFS分析装置の概略構成を示す平面図である。本実施形態に係るX線分析装置は、荷電粒子周回手段1と、荷電粒子発生手段(図示せず)と、分光手段2と、測定手段3とを備えて構成されている。
荷電粒子発生手段は、例えばマイクロトロンである。荷電粒子発生手段によって生成された電子は輸送され、荷電粒子周回手段1に導入される。
荷電粒子周回手段1は、例えば、弱集束型シンクロトロンであり、導入された荷電粒子を内部で周回させて蓄積する。荷電粒子は、主磁石(図示せず)による磁場の下で、パータベータ11によって軌道を調整され、加速空洞12によって加速されて、安定なビーム軌道13を形成する。このとき、荷電粒子の収束力を、前記ビーム軌道13面に垂直な方向で強く、平行な方向で弱くすることによって、扁平なビーム軌道13を形成することができる。すなわち、ビーム軌道13平面に垂直な方向をZ軸とする場合、扁平なビーム軌道13は、動径方向Rに広がり、Z軸方向に圧縮された形状である。図1では、ビーム軌道13を、その外周及び内周に対応する2つの円で示している。図1では、パータベータ11の電流の時間変化、加速空洞12による電場発生タイミングを制御する制御装置などは省略されている。なお、弱集束型シンクロトロンは公知であるので、ここでは詳細な説明は省略する。
荷電粒子周回手段1内で周回する荷電粒子は、ビーム軌道13上に配置されたターゲット14に入射し、種々の波長のX線(すなわち白色光)15を放射する。ターゲット14は横長の形状であり、ターゲット14の長手方向の面に荷電粒子が入射するように配置されている。荷電粒子が電子の場合、ターゲット14には、例えば、ベリリウム(Be)、銅(Cu)、炭素(C)、アルミニウム(Al)などが使用される。
分光手段2は、入射されるX線15を波長に応じて異なる方向に出力する手段であり、例えば結晶である。分光手段2に入射するX線15が種々の波長を含む白色光であるので、結晶格子による回折によって、出力方向に応じてX線の波長が決まる。
測定手段3は、例えば2次元のX線検出器である。
従って、分光手段2と測定手段3との間に測定対象の試料4を配置し、分光手段2からのX線を試料4に照射し、透過するX線強度をX線の測定手段3によって測定すれば、試料4のX線吸収微細構造(XAFS)の影響を受けたスペクトルを測定することができる。このとき、荷電粒子周回手段1からのX線は白色光であるが、分光手段2から出力されるX線の波長は、図1に矢印で示したλ方向に変化している。そしてλ方向に垂直なZ軸方向については波長は一定である。従って、試料4の2次元領域に関して、XASFを一度に測定することができる。
また、荷電粒子周回手段1中のターゲット14から放射されるX線は光源点の大きさが約1μmと小さいので、分解能λ/Δλが非常に高くなる。所定の分解能λ/Δλを得るためには、ビームラインを従来よりも非常に短くすることができ、従って、装置全体を非常にコンパクトに形成することが可能になる。
分解能は光源点の大きさに比例するので、例えば、従来のSPring8においては、光源点の大きさが約20μmであり、λ/Δλ=5000の分解能を得るためには、ビームラインとして約20mが必要であるとすると、本発明のX線分析装置では、光源点の大きさが約2μmであるので、λ/Δλ=5000の分解能を得るためには、ビームラインとして約2mでよいことになる。また、本発明において、ビームラインをSPring8と同様に20mにすると、λ/Δλ=10000の分解能を実現することができる。
さらに、本発明のX線分析装置では、電子のエネルギーが20MeVの場合、荷電粒子周回手段1中のターゲット14から放射されるX線は発散角θが約50mradと非常に大きいので一度に分光できるX線波長範囲は広くなる。例えば、従来のSPring8においては、発散角θが約0.06mradであるために、一度に分光できるX線波長範囲はかなり狭い。よって、本発明のX線分析装置では、波長を走査する必要がなく、測定手段にて、一度にXAFSの測定が可能である。従って、走査なしに短時間で測定ができる。
なお、本発明では発散角θが約50mradと大きいので、分光手段2には約10cm以上の大きさの結晶を使用することが望ましい。
また、ターゲット14からのX線は、錐状に放射されるので、分光手段2及び測定手段3の配置は、図1に示した配置に限定されない。即ち、図1に示した分光手段2及び測定手段3を、放射X線15の放射方向の回りに任意の角度だけ回転させて配置してもよい。
また、図1の分光手段2は平面の結晶面を使用しているので、分光後のX線は、分光手段2にX線が入射する面積よりも広がる。これに対しては、例えば、湾曲形状結晶の一つである図2に示したサジタル分光手段2aを使用して、X線の広がりを集束させることができる。図2において、Z軸は図1と同じであり、X軸の方向はZ軸及びY軸に直交する方向である。また、図2に示したサジタル分光手段2aの配置は、図1において、サジタル分光手段2aに対応する分光手段2を、放射X線15の放射方向の回りに90度回転させた配置である。サジタル分光手段2aのX線が入射される面は、図2に示したような曲面に形成されている。具体的には、結晶の一方の面を、円筒の側面の一部を切り出した形状に形成する。サジタル分光手段2aは、その円筒軸が、ターゲットから放射されるX線の放射方向に略平行になるように配置されている。この場合、長さLの線状(又は細い棒状)のターゲット14aを使用し、ターゲット14aを、ビーム軌道13の面に平行であり、且つターゲット14aの長手方向(Y軸方向)の側面に電子ビームが入射するように、配置する。
荷電粒子周回手段内を周回する荷電粒子の集合(バンチ)は、周回面に平行な方向に広がった扁平な円盤状をしている。この断面形状は、軌道面に対して垂直な方向に幅5mm以下、水平な方向に幅1mm以上60mm以下であることが望ましいい。荷電粒子が電子の場合、例えば幅が約2cmである。従って、L=2(cm)のターゲット14aを上記したように配置すれば、ターゲット14aに入射する電子によって、図2に示したようにターゲット14aの各部分からX線が放射される。そしてサジタル分光手段2aに入射したX線は、分光されて出力される。このとき、サジタル分光手段2aの曲面の曲率に応じて、出力されるX線の広がりを集束させることができる。従って、測定対象の試料の大きさ(測定対象の面積)に応じて、適切な曲率の曲面を有するサジタル分光手段を使用すればよい。
(第2の実施の形態)
次に、本発明のX線分析装置を小角散乱X線分析装置として実現する場合について説明する。図3は、本実施の形態に係るX線分析装置(小角散乱X線分析装置)の概略構成を示す断面図である。本X線分析装置は、荷電粒子周回手段(図示せず)と、荷電粒子発生手段(図示せず)と、分光手段2と、測定手段3と、波長選択手段5とを備えて構成されている。荷電粒子周回手段、分光手段2、測定手段3、及び、荷電粒子のバンチの望ましい形状は、第1の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
次に、本発明のX線分析装置を小角散乱X線分析装置として実現する場合について説明する。図3は、本実施の形態に係るX線分析装置(小角散乱X線分析装置)の概略構成を示す断面図である。本X線分析装置は、荷電粒子周回手段(図示せず)と、荷電粒子発生手段(図示せず)と、分光手段2と、測定手段3と、波長選択手段5とを備えて構成されている。荷電粒子周回手段、分光手段2、測定手段3、及び、荷電粒子のバンチの望ましい形状は、第1の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
図3において、XYZ軸は図2と同様に設定している。ターゲットには、図2に示したように線状(又は細い棒状)のターゲット14aを、図2に関して説明したように配置する。波長選択手段5に、分光手段2から放射されるX線のうち、所定波長のX線を通過させ、それ以外の波長のX線を遮断するスリット51を備えている。第1の実施形態に関して説明したように、分光手段2から放射されるX線の放射方向と分光手段2の平面との成す角度でX線の波長が決まるので、スリット51の長手方向(Y軸方向)をターゲット14a長手方向と平行になるように配置すれば、スリット51を通過するX線の波長はほぼ等しくなる。
スリット51を通過したX線は、試料に照射される。図4は、試料4aに入射するX線と散乱されるX線を示す斜視図である。小角散乱を測定するには、測定手段の位置を、試料4aに入射するX線の入射方向と微小な角度φを成す方向に、試料4aから散乱されるX線を測定する。φは例えば、φ≦10(deg)である。そして、試料4aの位置を平行移動させれば、例えば、試料4aの所望領域について小角散乱X線を測定することができる。
従来では、試料の2次元領域について小角散乱X線を測定する場合、微小領域での小角散乱X線の測定と、X線の照射位置を2方向に変更する処理とを繰り返し実行しなければならなかったが、本実施形態のX線分析装置では、1方向(Y軸方向)に関しては一度に測定することができるので、これに直交する方向にのみ試料の照射位置をずらせばよい。従って、測定時間を短縮することができる。
また、分光手段2をターゲット14aの長軸に平行な軸(Y軸方向)の回りに所定角度回転させれば、スリット51を通過するX線の波長を変化させることができるので、波長毎の小角散乱X線を効率的に測定することができる。一方、分光手段2を固定して、波長選択手段5、試料4a及び測定手段3を、これらの相対的な位置関係を変化させずに、所定角度だけ回転させてスリット51を通過させるX線の波長を変更してもよい。
また、図3に示した分光手段2を、図2に示したサジタル分光手段2aに置き換えてもよい。即ち、測定対象の試料4aの大きさ(測定対象の面積)に応じて、適切な曲率の曲面を有するサジタル分光手段2aを使用すれば、より効率的な測定が可能になる。
以上、2つの実施の形態を用いて本発明のX線分析装置を説明したが、本発明は上記した実施の形態に限定されず、種々の変更を加えて実施することができ、それらも本発明の技術的範囲に含まれる。
1 荷電粒子周回手段
2 分光手段
2a サジタル分光手段
3 測定手段
4、4a 試料
5 波長選択手段
11 パータベータ
12 加速空洞
13 ビーム軌道
14、14a ターゲット
15 X線
51 スリット
2 分光手段
2a サジタル分光手段
3 測定手段
4、4a 試料
5 波長選択手段
11 パータベータ
12 加速空洞
13 ビーム軌道
14、14a ターゲット
15 X線
51 スリット
Claims (10)
- 荷電粒子を横長ターゲットに衝突させ、発生したX線を分光して利用するX線分析装置において、
前記横長ターゲットに衝突する前記荷電粒子が、前記横長ターゲットの長手方向に広がった軌道を形成し、
前記横長ターゲットから発生する前記長手方向に広がって分布するX線から単色X線を発生させることを特徴とするX線分析装置。 - 前記長手方向に広がる前記荷電粒子の軌道を形成する手段が、荷電粒子発生手段によって発生された荷電粒子を内部に周回させる荷電粒子周回手段であり、
周回する前記荷電粒子の周回軌道面内に配置された線状の前記横長ターゲットに、周回する前記荷電粒子が衝突して発生するX線を分光する分光手段と、
前記分光手段から出力されたX線を測定する測定手段とを備えることを特徴とする請求項1に記載のX線分析装置。 - 前記荷電粒子周回手段が、前記荷電粒子を、軌道面に対して垂直な方向に幅5mm以下、水平な方向に幅1mm以上60mm以下にわたって円盤状に分布させる手段であることを特徴とする請求項1又は2に記載のX線分析装置。
- 前記荷電粒子周回手段が、弱収束の電子周回装置であり、
前記軌道面に垂直な方向の電子の収束力が、前記軌道面に平行な方向の電子の収束力よりも強いことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のX線分析装置。 - 前記横長ターゲットから放射されるX線を分光する手段が、円盤状の軌道面に対して平行な開口を持ち、分光されたX線が線状に分布して放射され、
分光された前記X線のエネルギー分散が、前記円盤状の軌道面に対して垂直な方向に発生することを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載のX線分析装置。 - 前記分光手段が、平板もしくは湾曲形状の結晶で構成されていることを特徴とする請求項2〜5の何れか1項に記載のX線分析装置。
- 前記ターゲットに入射する前記電子のエネルギーが30keV以上20MeV以下であり、
前記ターゲットの線径が10μm以下で長さが1cm以上であることを特徴とする請求項4〜7の何れか1項に記載のX線分析装置。 - 前記X線分析装置をEXAFS測定に使用する場合、
前記横長ターゲットの長手方向に平行に、分析対象である同種または異種の複数の試料が配置されることを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載のX線分析装置。 - 前記X線分析装置をX線反射率測定に使用する場合、
線状に分布する分光された単色X線を、測定対象である横長試料の全面に照射することを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載のX線分析装置。 - 前記X線分析装置を散乱実験に使用する場合、
前記横長ターゲットの長手方向に平行に、同種または異種の複数の試料を配置し、線状に分布するX線に対して直角方向の散乱を観測することを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載のX線分析装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008194363A JP2010032341A (ja) | 2008-07-29 | 2008-07-29 | X線分析装置 |
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JP2008194363A JP2010032341A (ja) | 2008-07-29 | 2008-07-29 | X線分析装置 |
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2008
- 2008-07-29 JP JP2008194363A patent/JP2010032341A/ja active Pending
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