JP2010023482A - 発光装置および電子機器 - Google Patents

発光装置および電子機器 Download PDF

Info

Publication number
JP2010023482A
JP2010023482A JP2009059046A JP2009059046A JP2010023482A JP 2010023482 A JP2010023482 A JP 2010023482A JP 2009059046 A JP2009059046 A JP 2009059046A JP 2009059046 A JP2009059046 A JP 2009059046A JP 2010023482 A JP2010023482 A JP 2010023482A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
drive
drive circuit
transistor
semiconductor layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009059046A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5515336B2 (ja
Inventor
Shinpei Noshita
晋平 野下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2009059046A priority Critical patent/JP5515336B2/ja
Priority to US12/472,690 priority patent/US20090315486A1/en
Publication of JP2010023482A publication Critical patent/JP2010023482A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5515336B2 publication Critical patent/JP5515336B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/447Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using arrays of radiation sources
    • B41J2/45Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using arrays of radiation sources using light-emitting diode [LED] or laser arrays
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/04Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
    • G03G15/04036Details of illuminating systems, e.g. lamps, reflectors
    • G03G15/04045Details of illuminating systems, e.g. lamps, reflectors for exposing image information provided otherwise than by directly projecting the original image onto the photoconductive recording material, e.g. digital copiers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/22Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20
    • G03G15/32Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 in which the charge pattern is formed dotwise, e.g. by a thermal head
    • G03G15/326Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 in which the charge pattern is formed dotwise, e.g. by a thermal head by application of light, e.g. using a LED array
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/04Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
    • H04N1/12Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using the sheet-feed movement or the medium-advance or the drum-rotation movement as the slow scanning component, e.g. arrangements for the main-scanning
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/04Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
    • H04N1/19Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays
    • H04N1/191Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays the array comprising a one-dimensional array, or a combination of one-dimensional arrays, or a substantially one-dimensional array, e.g. an array of staggered elements
    • H04N1/192Simultaneously or substantially simultaneously scanning picture elements on one main scanning line

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)

Abstract

【課題】素子群の両側に配置された駆動回路の特性がばらつくことを抑制する。
【解決手段】X方向に沿って配列する複数の発光素子14からなる素子群Gと、素子群Gから見てX方向の負側に配置されて素子群Gに属する2以上の第1発光素子14aの各々を駆動する複数の第1駆動回路20aと、素子群Gから見てX方向の正側に配置されて素子群Gに属する2以上の第2発光素子14bの各々を駆動する複数の第2駆動回路20bと、を備え、各第1駆動回路20aに含まれるトランジスタの半導体層のX方向における位置は、各第2駆動回路20bに含まれるトランジスタの半導体層のX方向における位置と同じである。
【選択図】 図2

Description

本発明は、発光装置および電子機器に関する。
例えば電子写真方式の画像形成装置においては、感光体ドラムなどの像担持体に静電潜像を形成するための光ヘッドとして、複数の発光素子を基板上に配置した発光装置が用いられる。そのような発光装置が像担持体に形成する画像(潜像)を高精細化するために、発光素子間のピッチを狭くするという技術が考えられる。例えば特許文献1においては、図14に示すように、複数の発光素子が主走査方向(図14に示すX方向)に沿って配置されて構成される素子群の両側(素子群から見て図14に示すY方向の正側および負側)に複数の発光素子の各々を駆動するための複数の駆動回路を配置する技術が開示されている。特許文献1の構成によれば、素子群の片側(素子群から見てY方向の正側および負側の何れか)のみに複数の駆動回路が配置された態様に比べて発光素子間のピッチを狭くできるから、画像の高解像度化が可能となる。
特開2001−205847号公報
ところで、上述の発光装置においては、素子群を構成する複数の発光素子と、複数の駆動回路とが同一基板上に形成され、駆動回路には、発光素子に供給される駆動電流の制御に用いられる薄膜トランジスタが含まれる。駆動回路に含まれる薄膜トランジスタの半導体層を基板上に形成するプロセスでは、シリコンを結晶化するためにレーザを照射する。図14において、レーザの照射は、照射範囲をY方向に沿って順次に移動させながら実行され、1回当たりのレーザ照射範囲は図14に示す点線で囲まれた範囲である。図14に示すように、1回当たりのレーザ照射範囲の長手方向は、各駆動回路が配列するX方向に沿って延びている。
ここで、1回当たりのレーザ照射範囲において、その長手方向(図14に示すX方向)における位置によってレーザの光量が異なる場合がある。図14に示す構成では、素子群から見てY方向の負側の駆動回路PのX方向における位置と、素子群から見てY方向の正側の駆動回路QのX方向における位置とが異なるから、X方向における位置に応じてレーザの光量が異なると、駆動回路Pに照射されるレーザの光量と、駆動回路Qに照射されるレーザの光量とが異なる。これにより、駆動回路Pの特性と、駆動回路Qの特性とがばらついてしまうという問題があった。
以上の事情に鑑みて、本発明は、素子群の両側に配置された駆動回路の特性がばらつくことを抑制するという課題の解決を目的としている。
以上の課題を解決するために、本発明に係る発光装置は、第1方向に沿って配列する複数の発光素子からなる素子群と、素子群に属する2以上の第1発光素子の各々を駆動する複数の第1駆動回路と、素子群に属する2以上の第2発光素子の各々を駆動する複数の第2駆動回路と、を備え、素子群の少なくとも一部は、第1方向とは異なる第2方向において、複数の第1駆動回路と複数の第2駆動回路との間に配置され、各第1駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層の第1方向における位置は、各第2駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層の第1方向における位置と同じである。
また、本発明の別の観点によれば、本発明に係る発光装置は、基板と、第1発光素子と、第2発光素子と、第3発光素子と、第4発光素子とを少なくとも含む素子群と、第1発光素子を駆動する第1駆動回路と、第2発光素子を駆動する第2駆動回路と、第3発光素子を駆動する第3駆動回路と、第4発光素子を駆動する第4駆動回路と、を備え、素子群は、基板上の第1の領域に配置され、第1駆動回路と、第3駆動回路は、基板上の第2の領域に配置され、第2駆動回路と、第4駆動回路は、基板上の第3の領域に配置され、第1の領域は、第2の領域と第3の領域の間の領域であり、第1駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層は、第1の領域を挟んで、第2駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層と対向して配置され、第3駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層は、第1の領域を挟んで、第4駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層と対向して配置される。また、好ましくは、本発明に係る発光装置は、基板と、第1発光素子と、第2発光素子と、第3発光素子と、第4発光素子とを少なくとも含む素子群と、第1発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられた第1駆動トランジスタと、第2発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられた第2駆動トランジスタと、第3発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられた第3駆動トランジスタと、第4発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられた第4駆動トランジスタと、を備え、素子群は、基板上の第1の領域に配置され、第1駆動トランジスタと、第3駆動トランジスタは、基板上の第2の領域に配置され、第2駆動トランジスタと、第4駆動トランジスタは、基板上の第3の領域に配置され、第1の領域は、第2の領域と第3の領域の間の領域であり、第1駆動トランジスタの半導体層は、第1の領域を挟んで、第2駆動トランジスタの半導体層と対向して配置され、第3駆動トランジスタの半導体層は、第1の領域を挟んで、第4駆動トランジスタの半導体層と対向して配置される。
また、以上の課題を解決するために、本発明に係る発光装置は、第1方向に沿って配列する複数の発光素子からなる素子群と、素子群から見て第1方向とは異なる第2方向の一方側に配置されて素子群に属する2以上の第1発光素子の各々を駆動する複数の第1駆動回路と、
素子群から見て第2方向の他方側に配置されて素子群に属する2以上の第2発光素子の各々を駆動する複数の第2駆動回路と、を備え、各第1駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層の第1方向における位置は、各第2駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層の第1方向における位置と同じである。
この構成においては、各第1駆動回路に含まれるトランジスタの半導体層の第1方向における位置は、各第2駆動回路に含まれるトランジスタの半導体層の第1方向における位置と同じであるから、第1方向における位置に応じてレーザの光量が異なる場合でも、第1駆動回路に照射されるレーザの光量と、素子群を挟んで当該第1駆動回路の反対側に配置された第2駆動回路に照射されるレーザの光量とがばらつくことを抑制できる。従って、第1駆動回路の特性と、素子群を挟んで当該第1駆動回路の反対側に配置された第2駆動回路の特性とがばらつくことを抑制できるという利点がある。
本発明に係る発光装置として、複数の第1駆動回路の各々は、第1発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられる第1駆動トランジスタを含み、複数の第2駆動回路の各々は、第2発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられる第2駆動トランジスタを含み、各第1駆動トランジスタの半導体層の第1方向における位置は、各第2駆動トランジスタの半導体層の第1方向における位置と同じであることが好ましい。
この構成によれば、第1駆動回路の第1駆動トランジスタの特性と、素子群を挟んで当該第1駆動回路の反対側に配置された第2駆動回路の第2駆動トランジスタの特性とがばらつくことを抑制できるから、素子群の中心線を挟んで反対側に配置された各駆動回路(第1駆動回路、第2駆動回路)を流れる駆動電流がばらつくことを抑制できるという利点がある。
本発明に係る発光装置として、複数の第1駆動回路の各々は、第1発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられる第1駆動トランジスタのゲートに対するデータ信号の供給の可否を決定する第1選択トランジスタを含み、複数の第2駆動回路の各々は、第2発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられる第2駆動トランジスタのゲートに対するデータ信号の供給の可否を決定する第2選択トランジスタを含み、各第1選択トランジスタの半導体層の第1方向における位置は、各第2選択トランジスタの半導体層の第1方向における位置と同じであることが好ましい。
この構成によれば、第1駆動回路の第1選択トランジスタの特性と、素子群を挟んで当該第1駆動回路の反対側に配置された第2駆動回路の第2選択トランジスタの特性とがばらつくことを抑制できるから、各駆動回路(第1駆動回路,第2駆動回路)において、選択トランジスタを介してリークする電荷量のばらつきが抑制される。従って、各駆動回路内の駆動トランジスタのゲートの電位の変動量がばらつくことを抑制できるという利点がある。
本発明に係る発光装置として、複数の第1駆動回路の各々は、第1電極と、当該第1駆動回路に含まれるトランジスタの半導体層と同層から形成される第2電極とを有するとともに、第1駆動トランジスタのゲートの電位を保持するための第1の容量素子を含み、複数の第2駆動回路の各々は、第3電極と、当該第2駆動回路に含まれるトランジスタの半導体層と同層から形成される第4電極とを有するとともに、第2駆動トランジスタのゲートの電位を保持するための第2の容量素子を含み、各第1の容量素子の第1方向における位置は、各第2の容量素子の第1方向における位置と同じであることが好ましい。
この構成によれば、第1駆動回路内の第1の容量素子の特性(抵抗値)と、素子群を挟んで当該第1駆動回路の反対側に配置された第2駆動回路内の第2の容量素子の特性とがばらつくことを抑制できるから、各駆動回路(第1駆動回路,第2駆動回路)の駆動トランジスタのゲートの電位(ひいては駆動電流の電流値)がばらつくことを抑制できるという利点がある。
本発明に係る発光装置として、第1駆動トランジスタに流れる駆動電流の方向は、第2駆動トランジスタに流れる駆動電流の方向と同じであることが好ましい。この構成によれば、第1駆動回路の第1駆動トランジスタに流れる駆動電流の方向と、素子群を挟んで当該第1駆動回路の反対側に配置された第2駆動回路の第2駆動トランジスタに流れる駆動電流の方向とが異なる態様に比べて、第1駆動回路の駆動トランジスタに流れる駆動電流の電流値と、素子群を挟んで当該第1駆動回路の反対側に配置された第2駆動回路の駆動トランジスタに流れる駆動電流の電流値とがばらつくことを抑制できるという利点がある。
本発明に係る発光装置として、各第1駆動回路に含まれるトランジスタと、各第2駆動回路に含まれるトランジスタとは、第1方向に沿って延びる素子群の中心線(例えば図2に示す直線A、図6に示す直線B3、図8に示す直線H5)に対して対称に配置されることが好ましい。
本発明に係る発光装置として、各第1駆動回路における各要素の配置の態様と、各第2駆動回路における各要素の配置の態様とは、第1方向に沿って延びる素子群の中心線(例えば図2に示す直線A、図6に示す直線B3、図8に示す直線H5)に対して対称であることが好ましい。ここで、各駆動回路における各要素の配置の態様には、各駆動回路における各要素(例えばトランジスタや容量素子等)の位置や形態(形状、サイズ、構成)が含まれる。
本発明に係る発光装置として、複数の発光素子は千鳥状に配置されることが好ましい。この構成によれば、発光素子間のピッチを狭くすることができるから、画像の高解像度化が可能になるという利点がある。
次に、本発明に係る電子機器は、以上に例示した各発光装置を備える。本発明に係る発光装置は各種の電子機器に利用される。本発明に係る電子機器の典型例は、以上の各発光装置を感光体ドラムなどの像担持体の露光に利用した電子写真方式の画像形成装置である。画像形成装置は、露光によって潜像が形成される像担持体と、像担持体を露光する本発明の発光装置と、像担持体の潜像に対する現像材(例えばトナー)の付加によって顕像を形成する現像器とを含む。
第1実施形態に係る画像形成装置の部分的な構成を示す斜視図である。 第1実施形態に係る発光装置の概略構成を示す平面図である。 第1実施形態に係る発光装置の具体的な構造を示す平面図である。 各駆動回路内の各要素の位置関係を示す図である。 第1実施形態に係る発光装置の平面図である。 発光装置の概略構成を示す平面図である。 発光装置の具体的な構造を示す平面図である。 各駆動回路内の各要素の位置関係を示す図である。 第2実施形態に係る発光装置の概略構成を示す平面図である。 第2実施形態に係る発光装置の具体的な構造を示す平面図である。 本発明の変形例に係る発光装置の概略構成を示す平面図である。 レーザ照射の他の例を示す図である。 本発明に係る電子機器の具体例(画像形成装置)を示す斜視図である。 従来の発光装置の概略構成を示す平面図である。
<A:第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る発光装置を露光装置(光ヘッド)として利用した画像形成装置の部分的な構成を示す斜視図である。同図に示すように、画像形成装置は発光装置10と集光性レンズアレイ11と感光体ドラム(像担持体)12とを含む。発光装置10は、基板13の表面に直線状に配列された多数の発光素子(図1においては図示略)を含む。これらの発光素子は、用紙などの記録材に印刷されるべき画像の態様に応じて選択的に発光する。感光体ドラム12は、X方向(主走査方向)に延在する回転軸に支持され、外周面を発光装置10に対向させた状態でY方向(記録材が搬送される副走査方向)に回転する。
集光性レンズアレイ11は発光装置10と感光体ドラム12との間隙に配置される。発光装置10の各発光素子からの出射光は集光性レンズアレイ11の各レンズを透過したうえで感光体ドラム12の表面に到達する。この露光によって感光体ドラム12の表面には所望の画像に応じた潜像(静電潜像)が形成される。
図2は、本実施形態に係る発光装置10の概略構成を示す平面図である。基板13の表面には、素子群Gが配置される。素子群Gは、X方向に配列する複数の発光素子14(14a,14b)で構成される。図2に示すように、各発光素子14の中心は、X方向に沿って延びる直線A上に位置する。本実施形態では、複数の発光素子14は、2以上の第1発光素子14aと2以上の第2発光素子14bとからなる。図2に示すように、第1発光素子14aと第2発光素子14bとはX方向に沿って交互に配置される。また、本実施形態では、発光素子14は、陽極と陰極との間に有機EL材料の発光層を介在させた有機EL素子である。
図2に示すように、素子群Gから見てY方向の負側には、2以上の第1発光素子14aの各々を駆動する複数の第1駆動回路20aが配置される。複数の第1駆動回路20aは、素子群Gに沿ってX方向に配列する。また、素子群Gから見てY方向の正側には、2以上の第2発光素子14bの各々を駆動する複数の第2駆動回路20bが配置される。複数の第2駆動回路20bは、素子群Gに沿ってX方向に配列する。図2に示すように、各第1駆動回路20aと各第2駆動回路20bとは、直線Aに対して対称に配置される。
図2に示すひとつの第1駆動回路20aに着目して、第1駆動回路20aの構成について説明する。図2に示すように、第1駆動回路20aは、Nチャネル型の駆動トランジスタTdと、Nチャネル型の選択トランジスタTrと、容量素子Cとを含む。
駆動トランジスタTdは第1発光素子14aに供給される駆動電流Idsの経路上に設けられる。図2に示すように、駆動トランジスタTdのドレインは、電源電位VELが供給される電源線30に接続される一方、ソースは第1発光素子14aの陽極に接続される。第1発光素子14aに供給される駆動電流Idsは、駆動トランジスタTdのゲートの電位に応じた電流値となる。
容量素子Cは、駆動トランジスタTdのゲートの電位を保持するための手段である。図2に示すように、容量素子Cは第1電極L1と第2電極L2とを有する。第1電極L1は定電位VQが供給される保持容量線32と接続され、第2電極L2は駆動トランジスタTdのゲートと接続される。
選択トランジスタTrは、駆動トランジスタTdのゲートに対するデータ信号dの供給の可否を決定するスイッチング手段である。図2に示すように、選択トランジスタTrのドレインは、データ信号dが供給されるデータ線34に接続される一方、ソースは駆動トランジスタTdのゲートおよび容量素子Cの第2電極L2に接続される。選択トランジスタTrのゲートは、走査信号Gが供給される走査線36と接続される。選択トランジスタTrは、ゲートに供給される走査信号Gに応じてオン状態およびオフ状態が切り替わり、選択トランジスタTrがオン状態になると、データ線34からのデータ信号dが駆動トランジスタTdのゲートに供給されるとともに、容量素子Cに書き込まれる。
なお、他の第1駆動回路20aの構成および各第2駆動回路20bの構成も以上に説明したひとつの第1駆動回路20aの構成と同様である。
図3は、本実施形態に係る発光装置10の具体的な構造を示す平面図である。図3において、同じハッチングが付された複数の要素は、共通の膜体(単層および複数層の何れであるかは不問である)の選択的な除去によって同一の工程で形成される。複数の要素が共通の膜体の選択的な除去によって同一の工程で形成されることを以下では単に「同層から形成される」と表記する。なお、各層間には絶縁層等の層が介在しているが、図3においては図示を省略している。
図3に示すように、電源線30と保持容量線32とデータ線34とは同層から形成され、それぞれX方向に沿って延びる。電源線30とデータ線34との間の領域には、各駆動回路20の各要素が配置される。図3において、ひとつの第1駆動回路20aに着目して、当該第1駆動回路20aに含まれる各要素の構造について説明する。図3に示すように、駆動トランジスタTdの半導体層41は、選択トランジスタTrの半導体層51と、容量素子Cの第2電極L2と同層から形成される。駆動トランジスタTdのゲート層43は、選択トランジスタTrのゲート層53と、容量素子Cの第1電極L1と同層から形成される。駆動トランジスタTdのドレイン層45は電源線30に連続し、コンタクトホールCH1を介して半導体層41と導通する。駆動トランジスタTdのソース層47はドレイン層45と同層から形成され、コンタクトホールCH2を介して半導体層41と導通するとともにコンタクトホールCH3を介して配線層60aと導通する。
配線層60aは、第1発光素子14aの陽極62aに連続する。図3においては図示を省略しているが、陽極62aの上には有機EL材料からなる発光層が形成され、発光層上には陰極が形成される。発光層からの出射光は陽極62aと基板13とを透過して感光体ドラム(像担持体)12側に出射する。すなわち、本実施形態に係る発光装置10はボトムエミッション型である。
また、図3において、配線層60aに連続する第1発光素子14aの陽極62aと、第2駆動回路20b内のソース層47に導通する配線層60bに連続する第2発光素子14aの陽極62bとは、第1発光素子14aの中心Dと第2発光素子14bの中心Eとの間の中点Fを中心として、点対称に配置される。
図3に示すように、選択トランジスタTrのゲート層53はコンタクトホールCH4を介して走査線36と接続される。走査線36は駆動トランジスタTdのドレイン層45と同層から形成される。選択トランジスタTrのドレイン層55はデータ線34に連続し、コンタクトホールCH5を介して半導体層51と導通する。選択トランジスタTrのソース層57は駆動トランジスタTdのドレイン層45と同層から形成され、コンタクトホールCH6を介して半導体層51と導通する。また、図3に示すように、選択トランジスタTrのソース層57は、コンタクトホールCH7を介して駆動トランジスタTdのゲート層43と導通し、コンタクトホールCH8を介して容量素子Cの第2電極L2と導通する。
図3に示すように、容量素子Cの第1電極L1はコンタクトホールCH9を介して保持容量線32と導通する。
図3において、各第1駆動回路20aにおける各要素(特に、駆動トランジスタTd、選択トランジスタTr、容量素子C)の配置の態様(レイアウト)と、各第2駆動回路における各要素の配置の態様とは、素子群Gの中心線Aに対して線対称である。具体的な内容については、図4を参照しながら以下に説明する。図4は、第1駆動回路20a内の半導体層41および51、容量素子Cの第2電極L2と、第2駆動回路20b内の半導体層41および51、容量素子Cの第2電極L2との位置関係を示す模式図である。
第1駆動回路20aの駆動トランジスタTdの半導体層41と、第2駆動回路20bの駆動トランジスタTdの半導体層41とは、以下に説明するように、素子群Gの中心線Aに対して線対称の関係にある。先ず、第1駆動回路20a内の半導体層41と第2駆動回路20b内の半導体層41とは、X方向の位置が同じである。すなわち、図4に示すように、第1駆動回路20a内の半導体層41および第2駆動回路20b内の半導体層41の双方とも、間隔をあけてY方向に延在する直線m1と直線m2とにわたって形成される。また、第1駆動回路20a内の半導体層41と第2駆動回路20b内の半導体層41とは、形状およびサイズ(大きさ)が共通する。さらに、第1駆動回路20a内の半導体層41と第2駆動回路20b内の半導体層41とは、中心線Aから等距離(図4に示すdy1)にある。
同様に、第1駆動回路20aの選択トランジスタTrの半導体層51と、第2駆動回路20bの選択トランジスタTrの半導体層51とは、中心線Aに対して線対称の関係にある。すなわち、第1駆動回路20a内の半導体層51と第2駆動回路20b内の半導体層51とは、X方向の位置や形状およびサイズが共通で、中心線Aから等距離(図4に示すdy2)にある。
同様に、第1駆動回路20aの容量素子Cの第2電極L2と第2駆動回路20bの容量素子Cの第2電極L2とは、中心線Aに対して線対称の関係にある。先ず、第1駆動回路20a内の第2電極L2と第2駆動回路20b内の第2電極L2とは、X方向の位置が同じである。すなわち、図4に示すように、第1駆動回路20a内の第2電極L2および第2駆動回路20b内の第2電極L2の双方とも、間隔をあけてY方向に延在する直線m3と直線m4とにわたって形成される。また、第1駆動回路20a内の第2電極L2と第2駆動回路20b内の第2電極L2とは、形状およびサイズが共通し、中心線Aから等距離(図4に示すdy3)にある。
ところで、本実施形態においては、各半導体層41および51、各容量素子Cの第2電極L2は、非晶質のシリコン膜にレーザを照射(レーザアニール)して形成されたポリシリコンの膜体である。各半導体層41および51、各第2電極L2へのレーザの照射は、図5に示すように照射範囲をY方向に沿って順次に移動させながら実行され、1回当たりのレーザ照射範囲は図5に示す点線で囲まれた範囲である。図5に示すように、1回当たりのレーザ照射範囲の長手方向は、各駆動回路20が配列するX方向に沿って延びている。そして、1回当たりのレーザ照射範囲においては、その長手方向(X方向)における位置によってレーザの光量が異なる場合がある。
ここで、本実施形態においては、各第1駆動回路20a内の半導体層41のX方向における位置と、各第2駆動回路20b内の半導体層41のX方向における位置とが同じであるから、X方向における位置に応じてレーザの光量が異なる場合であっても、中心線Aを挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)内の半導体層41に照射されるレーザの光量のばらつきが抑制される。従って、第1駆動回路20a内の駆動トランジスタTdと、中心線Aを挟んで当該第1駆動回路20aの反対側(第1駆動回路20aから見てY方向の正側)に配置された第2駆動回路20b内の駆動トランジスタTdの特性とがばらつくことを抑制できる。これにより、第1駆動回路20aを流れる駆動電流Idsの電流値と、中心線Aを挟んで当該第1駆動回路20aの反対側に配置された第2駆動回路20bを流れる駆動電流Idsの電流値とがばらつくことを抑制できる。
また、本実施形態においては、各第1駆動回路20a内の半導体層51のX方向における位置と、各第2駆動回路20b内の半導体層51のX方向における位置とが同じであるから、中心線Aを挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)内の半導体層51に照射されるレーザの光量のばらつきが抑制される。従って、中心線Aを挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)内の選択トランジスタTrの特性がばらつくことを抑制できる。
ここで、容量素子Cによって保持された電荷が選択トランジスタTrを通ってデータ線34へリークする場合がある。本実施形態によれば、中心線Aを挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)内の選択トランジスタTrの特性がばらつくことが抑制されるから、各々において、容量素子Cから選択トランジスタTrを介してリークする電荷量のばらつきが抑制される。従って、中心線Aを挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)内の駆動トランジスタTdのゲートの電位の変動量がばらつくことを抑制できる。
さらに、本実施形態においては、各第1駆動回路20a内の第2電極L2のX方向における位置と、各第2駆動回路20b内の第2電極L2のX方向における位置とが同じであるから、中心線Aを挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)内の第2電極L2に照射されるレーザの光量のばらつきが抑制される。従って、中心線Aを挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)内の容量素子Cの特性(抵抗値)がばらつくことを抑制できるから、各駆動回路20(20a,20b)の駆動トランジスタTdのゲートの電位(ひいては駆動電流Idsの電流値)がばらつくことを抑制できる。
すなわち、本実施形態においては、各第1駆動回路20aにおける各要素の配置の態様と、各第2駆動回路20bにおける各要素の配置の態様とが、中心線Aに対して線対称であるから、中心線Aを挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)の特性(さらには駆動電流Idsの電流値)がばらつくことを抑制できる。これにより、第1駆動回路20aによって駆動される第1発光素子14aの光量と、中心線Aを挟んで当該第1駆動回路20aの反対側に配置された第2駆動回路20bによって駆動される第2発光素子14bの光量とがばらつくことを抑制できる(つまり、X方向に隣接する第1発光素子14aと第2発光素子14bとの間で光量がばらつくことを抑制できる)という利点がある。
また、本実施形態においては、各第1駆動回路20aにおける各要素の配置の態様と、各第2駆動回路における各要素の配置の態様とが、中心線Aに対して線対称であるから、第1駆動回路20aの駆動トランジスタTdに流れる駆動電流Idsの方向(半導体層41のドレイン領域からソース領域へ向かう方向)と、第2駆動回路20bの駆動トランジスタTdに流れる駆動電流Idsの方向とは同じ(本実施形態ではX方向の正側へ向かう方向)である。従って、中心線Aを挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)の駆動トランジスタTdに流れる駆動電流Idsが逆方向である態様と比べて、各駆動回路20(20a,20b)を流れる駆動電流Idsの電流値がばらつくことを抑制できるという利点がある。
また、図3に示すように、第1発光素子14aの中心Dと駆動トランジスタTdとの位置関係を、第2発光素子14bの中心Eと駆動トランジスタTdの位置関係と同じになるように配置することが好ましい。そして、陽極62aと駆動トランジスタTdとを接続する配線60aは、陽極62bと駆動トランジスタTdとを接続する配線60bと同じ長さで構成することが好ましい。これにより、第1発光素子14aもしくは第2発光素子14bと駆動トランジスタTdとの間の抵抗を同様にすることができる。
本発明の別の観点からは、上述の発光装置10は、図6〜図8に示されるような態様として捉えることもできる。図6は、発光装置10の概略構成を示す平面図(図2に対応)である。図7は、発光装置10の具体的な構造を示す平面図(図3に対応)である。図8は、駆動回路20内の各要素の位置関係を示す図(図4に対応)である。
図6および図7に示されるように、素子群Gは、基板13上の第1の領域Jに配置される。素子群Gを構成する複数の発光素子14は、1以上の第1発光素子14aと、1以上の第2発光素子14bと、1以上の第3発光素子14cと、1以上の第4発光素子14dとからなる。第1発光素子14aを駆動する第1駆動回路20a、および、第3発光素子14cを駆動する第3駆動回路20cは、基板13上の第2の領域Kに配置される。また、第2発光素子14bを駆動する第2駆動回路20b、および、第4発光素子14dを駆動する第4駆動回路20dは、基板13上の第3の領域Lに配置される。第1の領域Jは、第2の領域Kと第3の領域Lとの間の領域である。
そして、第1駆動回路20aに含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層は、第1の領域Jを挟んで、第2駆動回路20bに含まれる少なくとも1つの半導体層と対向して配置される。より具体的には、以下のとおりである。第1駆動回路20aの駆動トランジスタTdの半導体層41は、第1の領域Jを挟んで、第2駆動回路20bの駆動トランジスタTdの半導体層41と対向するように配置される。さらに詳述すると、第1駆動回路20a内の半導体層41と第2駆動回路20b内の半導体層41とは、素子群Gの中心線Aに対して線対称の関係になるように配置され、X方向の位置が同じであることが好ましい。すなわち、図8に示すように、第1駆動回路20a内の半導体層41および第2駆動回路20b内の半導体層41の双方とも、間隔をあけてY方向に延在する直線m1と直線m2とにわたって形成されることが好ましい。また、第1駆動回路20a内の半導体層41と第2駆動回路20b内の半導体層41とは、形状およびサイズ(大きさ)が共通することが好ましい。さらに、第1駆動回路20a内の半導体層41と第2駆動回路20b内の半導体層41とは、中心線Aから等距離(図8に示すdy1)にあることが好ましい
同様に、第1駆動回路20aの選択トランジスタTrの半導体層51は、第1の領域Jを挟んで、第2駆動回路20bの選択トランジスタTrの半導体層51と対向して配置される。図8に示すように、第1駆動回路20a内の半導体層51と第2駆動回路20b内の半導体層51とは、素子群Gの中心線Aに対して線対称の関係になるように配置され、X方向の位置や形状およびサイズが共通で、中心線Aから等距離(図8に示すdy2)にあることが好ましい。同様に、第1駆動回路20aの容量素子Cの第2電極L2は、第1の領域Jを挟んで、第2駆動回路20bの容量素子Cの第2電極L2と対向して配置される。図8に示すように、第1駆動回路20a内の第2電極L2および第2駆動回路20b内の第2電極L2の双方とも、間隔をあけてY方向に延在する直線m3と直線m4とにわたって形成され、形状およびサイズが共通で、中心線Aから等距離(図8に示すdy3)にあることが好ましい
また、第3駆動回路20cに含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層は、第1の領域Jを挟んで、第4駆動回路20dに含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層と対向して配置される。より具体的には、以下のとおりである。第3駆動回路20cの駆動トランジスタTdの半導体層41は、第1の領域Jを挟んで、第4駆動回路20dの駆動トランジスタTdの半導体層41と対向して配置される。さらに詳述すると、第3駆動回路20c内の半導体層41と第4駆動回路20d内の半導体層41とは、素子群Gの中心線Aに対して線対称の関係になるように配置され、X方向における位置は同じであることが好ましい。すなわち、図8に示すように、第3駆動回路20c内の半導体層41および第4駆動回路20d内の半導体層41の双方とも、間隔をあけてY方向に延在する直線m5と直線m6とにわたって形成されることが好ましい。また、第3駆動回路20c内の半導体層41と第4駆動回路20d内の半導体層41とは、形状およびサイズ(大きさ)が共通することが好ましい。さらに、第3駆動回路20c内の半導体層41と第4駆動回路20d内の半導体層41とは、中心線Aから等距離(図8に示すdy1)にあることが好ましい
同様に、第3駆動回路20cの選択トランジスタTrの半導体層51は、第1の領域Jを挟んで、第4駆動回路20dの選択トランジスタTrの半導体層51と対向して配置される。図8に示すように、第3駆動回路20c内の半導体層51と第4駆動回路20d内の半導体層51とは、素子群Gの中心線Aに対して線対称の関係になるように配置され、X方向の位置や形状およびサイズが共通で、中心線Aから等距離(図8に示すdy2)にあることが好ましい。同様に、第3駆動回路20cの容量素子Cの第2電極L2は、第1の領域Jを挟んで、第4駆動回路20dの容量素子Cの第2電極L2と対向して配置される。図8に示すように、第3駆動回路20c内の第2電極L2および第4駆動回路20d内の第2電極L2の双方とも、間隔をあけてY方向に延在する直線m7と直線m8とにわたって形成され、形状およびサイズが共通で、中心線Aから等距離(図8に示すdy3)にあることが好ましい
<B:第2実施形態>
図9は、本発明の第2実施形態に係る発光装置10の概略構成を示す平面図である。図9に示すように、2以上の第1発光素子14aの各々の中心は、X方向に沿って延びる直線B1上に位置するようにピッチPaで配置される。また、2以上の第2発光素子14bの各々の中心は、直線B1と間隔をあけてX方向に延びる直線B2上に位置するようにピッチPaで配置される。
図9に示すように、各第1発光素子14aと各第2発光素子14bとはX方向に異なる位置に配置され、X方向に隣合う第1発光素子14aと第2発光素子14bとの間のX方向における距離はPa/2である。すなわち、素子群Gに属する各発光素子14は2列の千鳥状に配置されるから、素子群Gにおいて互いにX方向に隣り合う各発光素子14のX方向における距離(つまり、X方向に隣合う第1発光素子14aと第2発光素子14bとの間のX方向における距離Pa/2)は、複数の発光素子14をピッチPaで1列のみに配列する構成(例えば図2に示す第1実施形態の構成)に比べて小さくできる。従って、本実施形態の構成によれば、発光装置10が像担持体に形成する画像(潜像)を第1実施形態の構成に比べて高精細化できるという利点がある。また、換言すれば、発光素子間のピッチを同じにする場合、第1実施形態と比して発光面積をより大きくできる。したがって、発光素子に流れる電流密度を低減でき、長寿命化を図れる。
図10は、本実施形態に係る発光装置10の具体的な構造を示す平面図である。図9および図10に示すように、各第1駆動回路20aと各第2駆動回路20bとは、直線B1および直線B2からの距離が等しい直線B3に対して線対称に配置される。より具体的には、図10において、各第1駆動回路20aにおける各要素の配置の態様(レイアウト)と、各第2駆動回路における各要素の配置の態様とは、上述の第1実施形態と同様、素子群Gの中心線である直線B3に対して線対称である。
<C:変形例>
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下の変形が可能である。また、以下に示す変形例のうちの2以上の変形例を組み合わせることもできる。
(1)変形例1
第2実施形態においては、素子群Gに属する各発光素子14を2列の千鳥状に配置したが、これに限らず、素子群Gに属する各発光素子14の列数は任意である。例えば、図11に示すように、素子群Gに属する各発光素子14が4列の千鳥状に配置される態様とすることもできる。
図11において、複数の第1発光素子14aの各々は、相互に間隔をあけてX方向に延びる直線H1および直線H2の各々の線上に位置するように配置される。図11に示すように、各第1発光素子14aのX方向における位置は異なり、各第1発光素子14aは2列の千鳥状に配置される。
また、複数の第2発光素子14bの各々は、相互に間隔をあけてX方向に延びる直線H3および直線H4の各々の線上に位置するように配置される。図11に示すように、各第2発光素子のX方向における位置は異なり、各第2発光素子14bは2列の千鳥状に配置される。
図11に示す直線H5は、直線H1および直線H4からの距離が等しく、かつ、直線H2および直線H3からの距離が等しい直線であって、素子群Gの中心線に相当する。そして、図11に示す態様においても、各第1駆動回路20aと各第2駆動回路20bとは、素子群Gの中心線である直線H5に対して対称に配置される。
(2)変形例2
上述の各実施形態においては、各第1駆動回路20aにおける各要素の配置の態様と、各第2駆動回路における各要素の配置の態様とを、素子群Gの中心線(直線A,直線B3)に対して線対称としたが、これに限らず、素子群Gの中心線を挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)における各要素の一部のみが素子群Gの中心線に対して線対称である態様とすることもできる。
例えば、素子群Gの中心線を挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)の駆動トランジスタTdのみが素子群Gの中心線に対して対称に配置される態様とすることもできるし、選択トランジスタTrのみが素子群Gの中心線に対して対称に配置される態様とすることもできる。要するに、各第1駆動回路20aに含まれるトランジスタと、各第2駆動回路20bに含まれるトランジスタとが、素子群Gの中心線に対して対称に配置される態様であればよい。
また、素子群Gの中心線を挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)における各要素が素子群Gの中心線に対して線対称であることは必ずしも必要ではない。例えば図4において、素子群Gの中心線から第1駆動回路20aの半導体層41までのY方向における距離と、素子群Gの中心線から第2駆動回路20bの半導体層41までのY方向における距離とが異なる態様とすることもできる。このような態様であっても、各第1駆動回路20a内の半導体層41のX方向における位置と、各第2駆動回路20b内の半導体層41のX方向における位置とが同じであれば、素子群Gの中心線を挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)内の半導体層41に照射されるレーザの光量のばらつきを抑制できる。従って、素子群Gの中心線を挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)内の駆動トランジスタTdの特性がばらつくことを抑制できる。
以上においては、駆動トランジスタTdの半導体層41について例示したが、選択トランジスタTrの半導体層51についても同様である。要するに、各第1駆動回路20aに含まれるトランジスタの半導体層のX方向における位置が、各第2駆動回路20bに含まれるトランジスタの半導体層のX方向における位置と同じである態様であればよい。
(3)変形例3
レーザの照射の仕方は以上の例示から変更される。例えば図12に示すように、レーザの照射は、照射範囲をX方向に沿って順次に移動させながら実行され、1回当たりのレーザ照射範囲はY方向に延びる態様とすることもできる。図12に示す態様において、1回当たりのレーザ照射範囲においては長手方向(Y方向)のどの位置でもレーザの光量は同じであるが、ショット毎のレーザの光量が異なる場合がある。第1実施形態においては、各第1駆動回路20aにおける各要素の配置の態様と、各第2駆動回路における各要素の配置の態様とが中心線Aに対して線対称であるから、X方向における位置に応じてレーザの光量が異なる場合であっても、中心線Aを挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)に照射されるレーザの光量がばらつくことを抑制できる。すなわち、第1実施形態の構成によれば、図12に示すような場合でも、中心線Aを挟んで反対側に位置する各駆動回路20(20a,20b)の特性がばらつくことを抑制できる。
(4)変形例4
上述の各実施形態においては、発光素子14の一例として、有機EL素子を取り上げたが、無機発光ダイオードやLED(Light Emitting Diode)であってもよい。要は、印加される電気エネルギに応じた発光輝度で発光するのであれば、どのような素子であってもよい。但し、直流で駆動される自発光素子であり、特に薄膜トランジスタを用いて制御される発光装置に適用することが好ましい。
<D:電子機器>
次に、図13を参照して、本発明に係る電子機器のひとつの態様である画像形成装置について説明する。この画像形成装置は、ベルト中間転写体方式を利用したタンデム型のフルカラー画像形成装置である。
この画像形成装置では、各々が同様の構成である4個の発光装置10K,10C,10M,10Yが、各々の構成が同様である4個の感光体ドラム(像担持体)110K,110C,110M,110Yの像形成面110に対向する位置にそれぞれ配置されている。発光装置10K,10C,10M,10Yは、上記の各形態に係る発光装置10と同様の構成である。
図13に示すように、この画像形成装置には、駆動ローラ121と従動ローラ122とが設けられており、これらのローラ121,122には無端の中間転写ベルト120が巻回されて、矢印に示すようにローラ121,122の周囲を回転させられる。図示しないが、中間転写ベルト120に張力を与えるテンションローラなどの張力付与手段を設けてもよい。
この中間転写ベルト120の周囲には、外周面に感光層を有する4個の感光体ドラム110K,110C,110M,110Yが互いに所定の間隔をおいて配置される。添字「K」,「C」,「M」,「Y」はそれぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローの顕像を形成するために使用されることを意味している。他の部材についても同様である。感光体ドラム110K,110C,110M,110Yは、中間転写ベルト120の駆動と同期して回転駆動される。
各感光体ドラム110(K,C,M,Y)の周囲には、コロナ帯電器111(K,C,M,Y)と、発光装置10(K,C,M,Y)と、現像器114(K,C,M,Y)とが配置されている。コロナ帯電器111(K,C,M,Y)は、これに対応する感光体ドラム110(K,C,M,Y)の像形成面110A(外周面)を一様に帯電させる。発光装置10(K,C,M,Y)は、各感光体ドラムの帯電した像形成面110Aに静電潜像を書き込む。各発光装置10(K,C,M,Y)においては、感光体ドラム110(K,C,M,Y)の母線(主走査方向)に沿って複数の発光素子20が配列する。静電潜像の書き込みは、複数の発光素子20によって感光体ドラム110(K,C,M,Y)に光を照射することにより行う。現像器114(K,C,M,Y)は、静電潜像に現像剤としてのトナーを付着させることにより感光体ドラム110(K,C,M,Y)に顕像(すなわち可視像)を形成する。
このような4色の単色顕像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各顕像は、中間転写ベルト120上に順次に一次転写されることによって中間転写ベルト120上で重ね合わされ、この結果としてフルカラーの顕像が形成される。中間転写ベルト120の内側には、4つの一次転写コロトロン(転写器)112(K,C,M,Y)が配置されている。一次転写コロトロン112(K,C,M,Y)は、感光体ドラム110(K,C,M,Y)の近傍にそれぞれ配置されており、感光体ドラム110(K,C,M,Y)から顕像を静電的に吸引することにより、感光体ドラムと一次転写コロトロンの間を通過する中間転写ベルト120に顕像を転写する。
最終的に画像を形成する対象(記録材)としてのシート102は、ピックアップローラ103によって、給紙カセット101から1枚ずつ給送されて、駆動ローラ121に接した中間転写ベルト120と二次転写ローラ126の間のニップに送られる。中間転写ベルト120上のフルカラーの顕像は、二次転写ローラ126によってシート102の片面に一括して二次転写され、定着部である定着ローラ対127を通ることでシート102上に定着される。この後、シート102は、排紙ローラ対128によって、装置上部に形成された排紙カセット上へ排出される。
図13に例示した画像形成装置は、OLED素子を発光素子として採用した光源(露光手段)を利用しているので、レーザ走査光学系を用いた場合よりも装置が小型化される。なお、以上に例示した以外の電子写真方式の画像形成装置にも本発明の発光装置10を採用することができる。例えば、中間転写ベルトを使用せずに感光体ドラムからシートに対して直接的に顕像を転写するタイプの画像形成装置や、モノクロの画像を形成する画像形成装置にも本発明に係る発光装置10を応用することが可能である。
本発明に係る発光装置の用途は感光体の露光に限定されない。例えば、本発明の発光装置は、原稿などの読取対象に光を照射するライン型の光ヘッド(照明装置)としてスキャナなどの画像読取装置に採用される。この種の画像読取装置としては、スキャナ、複写機やファクシミリの読取部分、バーコードリーダ、あるいはQRコード(登録商標)のような二次元画像コードを読む二次元画像コードリーダがある。また、複数の発光素子(特に発光素子)を面状に配列した発光装置は、液晶パネルの背面側に配置されるバックライトユニットとしても採用される。また、複数の発光素子を行列状に配列した発光装置は各種の電子機器の表示装置として採用される。
10……発光装置、14a……第1発光素子、14b……第2発光素子、20a……第1駆動回路、20b……第2駆動回路、41,51……半導体層、G……素子群、Td……駆動トランジスタ、Tr……選択トランジスタ、C……容量素子、L1……第1電極、L2……第2電極。

Claims (11)

  1. 第1方向に沿って配列する複数の発光素子からなる素子群と、
    前記素子群に属する2以上の第1発光素子の各々を駆動する複数の第1駆動回路と、
    前記素子群に属する2以上の第2発光素子の各々を駆動する複数の第2駆動回路と、を備え、
    前記素子群の少なくとも一部は、前記第1方向とは異なる第2方向において、前記複数の第1駆動回路と前記複数の第2駆動回路との間に配置され、
    前記各第1駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層の前記第1方向における位置は、前記各第2駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層の前記第1方向における位置と同じである、
    発光装置。
  2. 前記複数の第1駆動回路の各々は、前記第1発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられる第1駆動トランジスタを含み、
    前記複数の第2駆動回路の各々は、前記第2発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられる第2駆動トランジスタを含み、
    前記各第1駆動トランジスタの半導体層の前記第1方向における位置は、前記各第2駆動トランジスタの半導体層の前記第1方向における位置と同じである、
    請求項1の発光装置。
  3. 前記複数の第1駆動回路の各々は、前記第1発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられる第1駆動トランジスタのゲートに対するデータ信号の供給の可否を決定する第1選択トランジスタを含み、
    前記複数の第2駆動回路の各々は、前記第2発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられる前記第2駆動トランジスタのゲートに対するデータ信号の供給の可否を決定する第2選択トランジスタを含み、
    前記各第1選択トランジスタの半導体層の前記第1方向における位置は、前記各第2選択トランジスタの半導体層の前記第1方向における位置と同じである、
    請求項1または請求項2の発光装置。
  4. 前記複数の第1駆動回路の各々は、第1電極と、当該第1駆動回路に含まれる前記トランジスタの半導体層と同層から形成される第2電極とを有するとともに、前記第1駆動トランジスタのゲートの電位を保持するための第1の容量素子を含み、
    前記複数の第2駆動回路の各々は、第3電極と、当該第2駆動回路に含まれる前記トランジスタの半導体層と同層から形成される第4電極とを有するとともに、前記第2駆動トランジスタのゲートの電位を保持するための第2の容量素子を含み、
    前記各第1の容量素子の前記第1方向における位置は、前記各第2の容量素子の前記第1方向における位置と同じである、
    請求項2または請求項3の発光装置。
  5. 前記第1駆動トランジスタに流れる前記駆動電流の方向は、前記第2駆動トランジスタに流れる前記駆動電流の方向と同じである、
    請求項2から請求項4の何れかの発光装置。
  6. 前記各第1駆動回路に含まれるトランジスタと、前記各第2駆動回路に含まれる前記トランジスタとは、前記第1方向に沿って延びる前記素子群の中心線に対して対称に配置される、
    請求項1から請求項5の何れかの発光装置。
  7. 前記各第1駆動回路における各要素の配置の態様と、前記各第2駆動回路における各要素の配置の態様とは、前記第1方向に沿って延びる前記素子群の中心線に対して対称である、
    請求項1から請求項6の何れかの発光装置。
  8. 前記複数の発光素子は千鳥状に配置される、
    請求項1から請求項7の何れかの発光装置。
  9. 基板と、
    第1発光素子と、第2発光素子と、第3発光素子と、第4発光素子とを少なくとも含む素子群と、
    前記第1発光素子を駆動する第1駆動回路と、
    前記第2発光素子を駆動する第2駆動回路と、
    前記第3発光素子を駆動する第3駆動回路と、
    前記第4発光素子を駆動する第4駆動回路と、を備え、
    前記素子群は、前記基板上の第1の領域に配置され、
    前記第1駆動回路と、前記第3駆動回路は、前記基板上の第2の領域に配置され、
    前記第2駆動回路と、前記第4駆動回路は、前記基板上の第3の領域に配置され、
    前記第1の領域は、前記第2の領域と前記第3の領域の間の領域であり、
    前記第1駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層は、前記第1の領域を挟んで、前記第2駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層と対向して配置され、
    前記第3駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層は、前記第1の領域を挟んで、前記第4駆動回路に含まれる少なくとも1つのトランジスタの半導体層と対向して配置される、
    発光装置。
  10. 基板と、
    第1発光素子と、第2発光素子と、第3発光素子と、第4発光素子とを少なくとも含む素子群と、
    前記第1発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられた第1駆動トランジスタと、
    前記第2発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられた第2駆動トランジスタと、
    前記第3発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられた第3駆動トランジスタと、
    前記第4発光素子に供給される駆動電流の経路上に設けられた第4駆動トランジスタと、を備え、
    前記素子群は、前記基板上の第1の領域に配置され、
    前記第1駆動トランジスタと、前記第3駆動トランジスタは、前記基板上の第2の領域に配置され、
    前記第2駆動トランジスタと、前記第4駆動トランジスタは、前記基板上の第3の領域に配置され、
    前記第1の領域は、前記第2の領域と前記第3の領域の間の領域であり、
    前記第1駆動トランジスタの半導体層は、前記第1の領域を挟んで、前記第2駆動トランジスタの半導体層と対向して配置され、
    前記第3駆動トランジスタの半導体層は、前記第1の領域を挟んで、前記第4駆動トランジスタの半導体層と対向して配置される、
    発光装置。
  11. 請求項1から請求項10の何れかの発光装置を具備する電子機器。
JP2009059046A 2008-06-20 2009-03-12 発光装置および電子機器 Expired - Fee Related JP5515336B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009059046A JP5515336B2 (ja) 2008-06-20 2009-03-12 発光装置および電子機器
US12/472,690 US20090315486A1 (en) 2008-06-20 2009-05-27 Light emitting device and electronic apparatus

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008161386 2008-06-20
JP2008161386 2008-06-20
JP2009059046A JP5515336B2 (ja) 2008-06-20 2009-03-12 発光装置および電子機器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010023482A true JP2010023482A (ja) 2010-02-04
JP5515336B2 JP5515336B2 (ja) 2014-06-11

Family

ID=41430536

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009059046A Expired - Fee Related JP5515336B2 (ja) 2008-06-20 2009-03-12 発光装置および電子機器

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20090315486A1 (ja)
JP (1) JP5515336B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016088048A (ja) * 2014-11-11 2016-05-23 コニカミノルタ株式会社 光書込み装置および画像形成装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB202020243D0 (en) * 2020-12-21 2021-02-03 Alltec Angewandte Laserlicht Tech Gesellschaft Mit Beschraenkter Haftung Laser marking system

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61205153A (ja) * 1985-03-08 1986-09-11 Oki Electric Ind Co Ltd 光プリントヘツド
JP2001205847A (ja) * 2000-01-25 2001-07-31 Kyocera Corp 発光素子アレイ
JP2004064347A (ja) * 2002-07-26 2004-02-26 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 表示装置
JP2005144685A (ja) * 2003-11-11 2005-06-09 Seiko Epson Corp ラインヘッドおよびそれを用いた画像形成装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002215063A (ja) * 2001-01-19 2002-07-31 Sony Corp アクティブマトリクス型表示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61205153A (ja) * 1985-03-08 1986-09-11 Oki Electric Ind Co Ltd 光プリントヘツド
JP2001205847A (ja) * 2000-01-25 2001-07-31 Kyocera Corp 発光素子アレイ
JP2004064347A (ja) * 2002-07-26 2004-02-26 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 表示装置
JP2005144685A (ja) * 2003-11-11 2005-06-09 Seiko Epson Corp ラインヘッドおよびそれを用いた画像形成装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016088048A (ja) * 2014-11-11 2016-05-23 コニカミノルタ株式会社 光書込み装置および画像形成装置
US9671715B2 (en) 2014-11-11 2017-06-06 Konica Minolta, Inc. Optical writing device and image forming device

Also Published As

Publication number Publication date
US20090315486A1 (en) 2009-12-24
JP5515336B2 (ja) 2014-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100732642B1 (ko) 노광 장치 및 화상 형성 장치
US7948509B2 (en) Line head and image forming device using the same
JP4193893B2 (ja) 露光装置および画像形成装置
KR100721841B1 (ko) 라인 헤드 및 화상 형성 장치
JP2009158477A (ja) 発光装置および電子機器
JP5515336B2 (ja) 発光装置および電子機器
US20090140631A1 (en) Light-emitting device and electronic apparatus
JP2007203647A (ja) 光ヘッドおよび画像形成装置
KR100760345B1 (ko) 라인 헤드 및 화상 형성 장치
JP2007184125A (ja) 発光装置および画像印刷装置
JP2009111212A (ja) 発光装置及び電子機器
JP2010093048A (ja) 発光装置及び画像形成装置
JP2009204794A (ja) 電気光学装置および電子機器。
JP4552601B2 (ja) 露光装置及び画像形成装置
US7942547B2 (en) Light emitting device and electronic apparatus
JP2007076082A (ja) 光ヘッド、その駆動方法および画像形成装置
JP2007212912A (ja) 発光装置および電子機器
JP2011023388A (ja) 発光装置および画像形成装置
JP2009151975A (ja) 発光装置および電子機器
JP2007210266A (ja) 電気光学装置および電子機器
JP2012089355A (ja) 発光装置、及び電子機器
JP2006272685A (ja) ラインヘッド及び画像形成装置
JP2011000844A (ja) 発光装置、駆動回路、駆動方法、電子機器および画像形成装置
JP2008091174A (ja) 発光装置および電子機器
JP2008087198A (ja) 露光装置および画像形成装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120120

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130604

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140304

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140317

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5515336

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees