JP2010023254A - Mesh for printing pattern aperture of mask, method of creating mesh pattern data, mask, two-layer structured mask, method of manufacturing mask and method of manufacturing two-layer structured mask - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば、マスクの印刷パターン開口用のメッシュ(メッシュ板)であって、所定の開口パターンを有するメッシュに関する。また、本発明は、例えば、上記メッシュを用いて製造されたマスク、上記メッシュの製造方法、上記メッシュを製造するために使用するメッシュパターンデータの作成方法及び上記メッシュを用いたマスクの製造方法に関する。 The present invention relates to a mesh (mesh plate) for opening a print pattern of a mask, for example, and relates to a mesh having a predetermined opening pattern. The present invention also relates to, for example, a mask manufactured using the mesh, a method for manufacturing the mesh, a method for creating mesh pattern data used for manufacturing the mesh, and a method for manufacturing a mask using the mesh. .
めっきにより形成され、印刷パターン開口を有する層と、めっきにより形成され、メッシュパターン開口を有する層とが積層された2層構造のマスクがある。特に、2層構造のマスクにおいて、印刷パターン開口の縁と重なる部分に、メッシュパターン開口を形成する網が鋭角でつながらないようにしたマスクがある(特許文献1参照)。これにより、印刷時に、印刷パターン開口の縁と重なる部分に形成されたメッシュパターン開口にインクペーストが詰まり固まってしまうことを防止している。
また、ハニカム構造状に複数の孔が形成されたメッシュがある(特許文献2参照)。
Further, there is a mesh in which a plurality of holes are formed in a honeycomb structure (see Patent Document 2).
従来のメッシュには、メッシュ形成領域の端部に形成された孔の形状、サイズを他の部分(他の端部)に形成された孔の形状、サイズとの関係から制御して製造されたものはない。そのため、従来のメッシュでは、端部におけるインクペーストの透過量は、他の部分におけるインクペーストの透過量とは異なる。したがって、例えば、従来のメッシュを用いたマスクで印刷を行った場合、メッシュが形成された部分の端部に、他の部分と均一にインクペーストを塗布することができない。
また、メッシュ形成領域の端部におけるインクペーストの透過量を制御するため、端部に形成された孔の形状を、他の部分に形成された孔との規則性を無視して変形すると、メッシュの強度が低下する虞がある。
本発明は、強度の高いメッシュであって、メッシュが形成された部分に均一にインクペーストを塗布することを可能とするメッシュを提供することを目的とする。また、上記メッシュを用いて製造されたマスクを提供することを目的とする。
The conventional mesh was manufactured by controlling the shape and size of the holes formed at the end of the mesh formation region from the relationship between the shape and size of the holes formed at other parts (other ends). There is nothing. For this reason, in the conventional mesh, the amount of ink paste transmitted at the end is different from the amount of ink paste transmitted at other portions. Therefore, for example, when printing is performed with a mask using a conventional mesh, the ink paste cannot be uniformly applied to the end portion of the portion where the mesh is formed with other portions.
In addition, in order to control the amount of ink paste permeated at the end of the mesh formation region, the shape of the hole formed at the end may be deformed while ignoring the regularity with the holes formed at other portions. There is a risk that the strength of the steel will decrease.
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a mesh having a high strength and capable of uniformly applying an ink paste to a portion where the mesh is formed. Moreover, it aims at providing the mask manufactured using the said mesh.
この発明に係るマスクの印刷パターン開口用のメッシュは、マスクの印刷パターン開口用のメッシュであって、所定の略矩形領域内に同一開口面積の複数の円形の孔が形成されたメッシュであり、
上記所定の略矩形領域の角を除く端部には、上記円形の円周の一部と上記所定の略矩形領域を成す辺の一部を一辺とする長方形とにより舌状の孔が形成され、上記所定の略矩形領域の角を除く端部に形成された舌状の孔は、上記円形の孔の開口面積と同一の開口面積を有する
ことを特徴とする。
The mesh for printing pattern opening of the mask according to the present invention is a mesh for printing pattern opening of the mask, and is a mesh in which a plurality of circular holes having the same opening area are formed in a predetermined substantially rectangular region,
A tongue-shaped hole is formed at the end of the predetermined substantially rectangular area excluding the corners by a part of the circumference of the circle and a rectangle having one side of the side forming the predetermined approximately rectangular area. The tongue-shaped hole formed at the end excluding the corner of the predetermined substantially rectangular region has the same opening area as that of the circular hole.
上記マスクの印刷パターン開口用のメッシュは、さらに、上記複数の円形の孔の間に所定の大きさの補助孔が形成された
ことを特徴とする。
The mesh for printing pattern opening of the mask is further characterized in that auxiliary holes of a predetermined size are formed between the plurality of circular holes.
上記補助孔は、他の孔との間のリブの幅が所定の幅以上になるように設けられた
ことを特徴とする。
The auxiliary hole is provided so that the width of the rib between the other hole is a predetermined width or more.
この発明に係るメッシュパターンデータの作成方法は、所定の略矩形領域内に同一開口面積の複数の円形の孔が並べられたメッシュパターンのメッシュパターンデータの作成方法であり、
所定の幅のリブを間に挟みながら上記所定の略矩形領域の縦方向又は横方向に並べると丁度収まる円の直径であって、円の直径が所定の長さ以上で上記所定の長さに近い円の直径を計算する計算ステップと、
上記計算ステップで計算した直径の円を上記所定の略矩形領域を覆うように上記リブを間に挟みながら規則的に並べる敷詰ステップと、
上記敷詰ステップで上記所定の略矩形領域の角を除く端部に並べられた円を変形して、上記端部へ線で接する舌状体を生成する変形ステップと、
上記計算ステップで計算した円の面積と、上記変形ステップで変形して生成した舌状体の面積とが同一面積となるように調整する調整ステップと、
上記調整ステップで調整した円と舌状体とを孔とするメッシュパターンデータを生成するデータ生成ステップと
を備えることを特徴とする。
The method of creating mesh pattern data according to the present invention is a method of creating mesh pattern data of a mesh pattern in which a plurality of circular holes having the same opening area are arranged in a predetermined substantially rectangular region,
The diameter of a circle that fits exactly when placed in the vertical or horizontal direction of the predetermined substantially rectangular region with a rib having a predetermined width in between, the diameter of the circle being equal to or greater than a predetermined length and the predetermined length A calculation step to calculate the diameter of a near circle;
A laying step of regularly arranging the circles of the diameter calculated in the calculation step while sandwiching the ribs so as to cover the predetermined substantially rectangular region;
Deformation step of deforming the circles arranged at the end excluding the corner of the predetermined substantially rectangular region in the laying step to generate a tongue-like body that is in line with the end;
An adjustment step for adjusting the area of the circle calculated in the calculation step and the area of the tongue generated by deformation in the deformation step to be the same area;
And a data generation step of generating mesh pattern data having a hole formed in the circle and tongue adjusted in the adjustment step.
上記変形ステップでは、上記所定の略矩形領域の端部に並べられた円の円周の一部に、一辺を上記所定の略矩形領域を成す辺の一部とする長方形を接続して舌状体に変形する
ことを特徴とする。
In the deforming step, a tongue having one side connected to a part of a circumference of the circle arranged at the end of the predetermined substantially rectangular area and having a side as a part of the predetermined rectangular area is connected to a tongue shape. It is characterized by being transformed into a body.
上記調整ステップでは、上記円の直径を長くすることで上記円の面積を大きくして調整する
ことを特徴とする。
In the adjusting step, the area of the circle is increased and adjusted by increasing the diameter of the circle.
上記メッシュパターンデータの作成方法は、さらに、
上記リブに所定の大きさの補助孔を形成する補助孔形成ステップ
を備えることを特徴とする。
The method of creating the mesh pattern data is further
An auxiliary hole forming step for forming an auxiliary hole of a predetermined size in the rib is provided.
この発明に係るマスクの印刷パターン開口用のメッシュは、マスクの印刷パターン開口用のメッシュであって、所定の略矩形領域内に辺の長さが同一の複数の菱形の孔が所定の幅のリブを間に挟んで形成されたメッシュであり、
上記所定の略矩形領域の端部には、上記菱形の一部の辺と上記所定の略矩形領域を成す辺とにより多角形の孔が形成され、上記多角形の孔のうち、上記所定の略矩形領域の縦方向又は横方向の端部に形成された多角形の孔であって、角を除く端部に形成された多角形の孔は、上記菱形の孔と同一開口面積である
ことを特徴とする。
The mesh for printing pattern opening of the mask according to the present invention is a mesh for printing pattern opening of the mask, and a plurality of rhombic holes having the same side length in a predetermined substantially rectangular region have a predetermined width. It is a mesh formed with ribs in between,
A polygonal hole is formed at an end of the predetermined substantially rectangular area by a part of the rhombus and an edge forming the predetermined approximately rectangular area. Among the polygonal holes, the predetermined hole A polygonal hole formed at the end of the substantially rectangular region in the vertical direction or the horizontal direction, and the polygonal hole formed at the end excluding the corners has the same opening area as the diamond-shaped hole. It is characterized by.
この発明に係るメッシュパターンデータの作成方法は、所定の略矩形領域内に辺の長さが同一の複数の菱形の孔が並べられたメッシュパターンのメッシュパターンデータの作成方法であり、
所定の幅のリブを間に挟みながら上記所定の略矩形領域の縦方向又は横方向に並べると丁度収まる所定の菱形の幅であって、縦方向又は横方向の幅が所定の幅以上で上記所定の幅に近い菱形の幅を計算する計算ステップと、
上記計算ステップで計算した幅の菱形を上記所定の略矩形領域を覆うように間に上記リブを挟みながら規則的に並べるステップであって、上記所定の略矩形領域の端部と並べた菱形の一部の辺とから構成された多角形が、対向する端部の多角形と対称な形状となるように上記菱形を並べる敷詰ステップと、
上記敷詰ステップで並べた菱形と、上記多角形とを孔とするメッシュパターンデータを生成するデータ生成ステップと
を備えることを特徴とする。
The method of creating mesh pattern data according to the present invention is a method of creating mesh pattern data of a mesh pattern in which a plurality of rhombus holes having the same side length are arranged in a predetermined substantially rectangular region,
A predetermined rhombus width that fits in the vertical or horizontal direction of the predetermined substantially rectangular region with a rib having a predetermined width in between, the vertical or horizontal width being equal to or greater than the predetermined width A calculation step for calculating the width of the rhombus close to a predetermined width;
The step of arranging the rhombus having the width calculated in the calculating step regularly with the rib interposed therebetween so as to cover the predetermined substantially rectangular region, the rhombus being aligned with the end of the predetermined approximately rectangular region A laying step of arranging the rhombuses so that a polygon constituted by a part of the sides is symmetrical to a polygon of an opposing end;
A data generation step of generating mesh pattern data having the rhombus arranged in the laying step and the polygon as a hole is provided.
上記メッシュパターンデータの作成方法は、さらに、
上記所定の略矩形領域の端部のうち、左右の端部又は上下の端部に形成された多角形であって、角を除く端部に形成された多角形の面積が、上記菱形の面積と同一の面積となるように調整する調整ステップ
を備えることを特徴とする。
The method of creating the mesh pattern data is further
The polygon formed at the left and right ends or the top and bottom ends among the ends of the predetermined substantially rectangular area, and the area of the polygon formed at the ends excluding the corners is the area of the rhombus And an adjustment step for adjusting to have the same area.
上記調整ステップでは、上記菱形の幅を縦方向又は横方向へ伸縮することにより調整する
ことを特徴とする。
In the adjusting step, the width of the rhombus is adjusted by expanding or contracting in the vertical direction or the horizontal direction.
上記メッシュパターンデータの作成方法は、さらに、
上記多角形に所定の内接円が描けない場合には、上記多角形と隣接する菱形と上記多角形とを併合する併合ステップ
を備えることを特徴とする。
The method of creating the mesh pattern data is further
When a predetermined inscribed circle cannot be drawn on the polygon, the method includes a merging step of merging the polygon with the rhombus adjacent to the polygon.
この発明に係るメッシュパターンデータの作成方法は、所定の略矩形領域内に辺の長さが同一の複数の菱形の孔が並べられたメッシュパターンのメッシュパターンデータの作成方法であり、
所定の幅のリブを間に挟みながら上記所定の略矩形領域の縦方向又は横方向に並べると丁度収まる所定の菱形の幅であって、縦方向又は横方向の幅が所定の幅以上で上記所定の幅に近い菱形の幅を計算する計算ステップと、
上記計算ステップで計算した幅の菱形を上記所定の略矩形領域を覆うように間に上記リブを挟みながら規則的に並べる敷詰ステップと、
上記所定の略矩形領域の端部と上記敷詰ステップで並べた菱形の一部の辺とから構成された多角形が、対向する端部の多角形と対称な形状となるように調整する調整ステップと、
上記調整ステップで調整した菱形と多角形とを孔とするメッシュパターンデータを生成するデータ生成ステップと
を備えることを特徴とする。
The method of creating mesh pattern data according to the present invention is a method of creating mesh pattern data of a mesh pattern in which a plurality of rhombus holes having the same side length are arranged in a predetermined substantially rectangular region,
A predetermined rhombus width that fits in the vertical or horizontal direction of the predetermined substantially rectangular region with a rib having a predetermined width in between, the vertical or horizontal width being equal to or greater than the predetermined width A calculation step for calculating the width of the rhombus close to a predetermined width;
A laying step of regularly arranging rhombuses having a width calculated in the calculation step with the ribs sandwiched therebetween so as to cover the predetermined substantially rectangular region;
Adjustment that adjusts the polygon composed of the end of the predetermined substantially rectangular area and the side of the rhombus arranged in the laying step to be symmetrical to the polygon of the opposite end Steps,
And a data generation step of generating mesh pattern data having a rhombus and a polygon adjusted in the adjustment step as holes.
この発明に係るマスクは、略矩形領域の大きさ又は方向が異なる多数の印刷パターンに上記記載のマスクの印刷パターン用のメッシュを備えることを特徴とする。 The mask according to the present invention is characterized in that a large number of print patterns having substantially rectangular regions of different sizes or directions are provided with the mask print pattern mesh described above.
この発明に係る2層構造マスクは、略矩形領域の大きさ又は方向が異なる多数の印刷パターンに上記記載のマスクの印刷パターン開口用のメッシュを有する層と、このメッシュを有する層の一面に重ねて設けられメッシュが成形された上記印刷パターン開口に重なる部分にメッシュ無しの印刷開口を有する層とを備えることを特徴とする。 The two-layer structure mask according to the present invention has a layer having a mesh for printing pattern opening of the mask described above in a large number of printing patterns having different sizes or directions of substantially rectangular regions, and is superimposed on one surface of the layer having the mesh. And a layer having a printing opening without a mesh in a portion overlapping the printing pattern opening on which the mesh is formed.
上記記載のメッシュパターンデータの作成方法で生成したメッシュパターンデータを入力するデータ入力ステップと、
上記データ入力ステップで入力したメッシュパターンデータに基づき、基材に塗布されたレジストを露光し、現像してメッシュパターンの開口部分に対応するレジストパターンを形成する露光現像ステップと、
上記露光現像ステップで上記レジストパターンが形成された部分を除いて、上記基材に金属層をめっきにより形成する金属層生成ステップと、
上記レジストパターンを除去し、上記金属層から基材を剥離する除去剥離ステップと
を備えることにより、印刷パターン開口となる部分に上記メッシュパターンデータに基づくメッシュを形成する
ことを特徴とする。
A data input step for inputting mesh pattern data generated by the mesh pattern data creation method described above;
Based on the mesh pattern data input in the data input step, the resist applied to the substrate is exposed and developed to form a resist pattern corresponding to the opening portion of the mesh pattern;
Except for the portion where the resist pattern is formed in the exposure and development step, a metal layer generation step for forming a metal layer on the base material by plating; and
A removal peeling step of removing the resist pattern and peeling the substrate from the metal layer is provided, thereby forming a mesh based on the mesh pattern data in a portion to be a printing pattern opening.
この発明に係る2層構造マスク製造方法は、メッシュ無しの印刷開口を有する層を、上記記載のマスク製造方法により製造したメッシュを有する層に重ねて製造する2層構造マスク製造方法であり、
メッシュが形成された印刷パターン開口にメッシュ無しの印刷開口が重なるように、上記メッシュを有する層の一面に重ねてメッシュ無しの印刷開口を有する層を生成する
ことを特徴とする。
The two-layer structure mask manufacturing method according to the present invention is a two-layer structure mask manufacturing method for manufacturing a layer having a mesh-free printing opening on a layer having a mesh manufactured by the mask manufacturing method described above,
It is characterized in that a layer having a mesh-free printing opening is formed on one surface of the layer having the mesh so that a printing opening without a mesh overlaps with a printing pattern opening in which a mesh is formed.
本発明に係るメッシュは、中央部には同一形状の孔が規則的に形成されており、中央部に均一にインクペーストを塗布することができる。また、本発明に係るメッシュは、端部には対向する端部に形成された孔と対称形状の孔が形成されており、対向する端部間で均一にインクペーストを塗布することができる。さらに、本発明に係るメッシュは、端部まで規則的に孔が形成されているため、強度が弱い部分がない。 In the mesh according to the present invention, holes having the same shape are regularly formed in the central portion, and the ink paste can be uniformly applied to the central portion. In addition, the mesh according to the present invention is formed with symmetrically formed holes at the opposite end portions, and the ink paste can be uniformly applied between the opposite end portions. Furthermore, since the mesh according to the present invention has holes regularly formed up to the end, there is no portion with low strength.
実施の形態1.
この実施の形態では、所定の矩形領域10にハニカム構造状に複数の六角形(正規形状の図形の一例)の孔11が形成されたメッシュ1について説明する。
In this embodiment, a
図1は、この実施の形態に係るメッシュ1の開口形状を示す図である。
図1に示すように、この実施の形態に係るメッシュ1は、指定されたX×Yの矩形領域10に、ハニカム構造状に複数の同一の六角形の孔11が形成されている。矩形領域10の中央部には六角形の孔11が形成され、矩形領域10の端部(周辺部)には六角形の孔11を形成する六角形の一部の辺と矩形領域10を成す辺とにより多角形(変形形状の図形の一例)の孔12,13が形成されている。特に、横方向(X方向)の端部を除く縦方向(Y方向)の端部には、六角形の孔11以外に、台形の孔12が形成されている。また、横方向の端部には、五角形の孔13が形成されている。各孔11,12,13の間には所定の幅のリブ14が形成されている。
矩形領域10の端部に形成された多角形の孔12,13は、対向する端部に形成された多角形の孔12,13と線対称の形状である。また、矩形領域10の横方向の端部に形成された五角形の孔13の開口面積は、六角形の孔11の開口面積と同一である。また、矩形領域10の縦方向の端部に形成された台形の孔12は、加工限界値以上の(加工限界値を示す内接円を描くことができる)大きさである。
以上のように、この実施の形態に係るメッシュ1は、矩形領域10の中央部にはハニカム構造状に複数の同一の六角形の孔11が形成されているため、矩形領域10の中央部全体に均一にインクペーストを塗布することができる。また、矩形領域10の横方向の端部には、六角形の孔11と同一開口面積の五角形の孔13が形成されているため、矩形領域10の中央部とともに均一にインクペーストを塗布することができる。
さらに、この実施の形態に係るメッシュ1は、ハニカム構造状に孔が形成されているため強度が高い。
なお、開口面積が同一とは、上記効果が得られる程度に同一であれば足りる。
FIG. 1 is a diagram showing an opening shape of a
As shown in FIG. 1, a
Polygonal holes 12 and 13 formed at the ends of the
As described above, since the
Furthermore, the
It should be noted that the same opening area is sufficient as long as the above effects are obtained.
また、六角形の孔11は、矩形領域10の縦方向の端部を成す辺と一部の辺が平行な正六角形、又は、上記正六角形が横方向へ伸縮された六角形に形成されている。そのため、六角形の孔11は、矩形領域10の横方向の端部を成す辺と平行な辺を有さない。六角形の孔11の一部の辺が矩形領域10の縦方向の端部を成す辺と平行であるため、台形の孔12、五角形の孔13の一部の辺も縦方向の端部を成す辺と平行である。そのため、五角形の孔13の辺のうち矩形領域10の横方向の端部を成す辺により形成された辺を除き、台形の孔12、五角形の孔13は、横方向の端部を成す辺と平行の辺を有さない。
このメッシュ1を用いて製造したスクリーン印刷用のマスクを使って、スキージを摺動させて印刷を行う。この場合、スキージの移動方向に垂直な辺を有する孔がメッシュ1に存在すると、その孔へインクペーストが十分に充填されない虞がある。しかし、メッシュ1には矩形領域10の横方向の端部を成す辺により形成された辺を除き矩形領域10の縦方向と平行な辺を有する孔はない。そのため、矩形領域10の横方向へスキージを移動させれば、各孔へ十分にインクを充填することができる。
Further, the
Printing is performed by sliding a squeegee using a screen printing mask manufactured using the
なお、矩形領域10は、概ね矩形であればよく、完全な矩形でなくてもよい。例えば、矩形領域10は、矩形の角の部分に丸みを帯びていてもよい。
In addition, the rectangular area |
次に、この実施の形態に係るメッシュ1のメッシュパターンデータの作成方法について説明する。
図2は、メッシュ1のメッシュパターンデータを作成するメッシュパターン作成装置100の機能を示す機能ブロック図である。図3は、メッシュパターンデータの作成処理の流れを示すフローチャートである。
メッシュパターン作成装置100は、データ入力部101、計算部102、敷詰部103、併合部104、調整部105、データ生成部106を備える。メッシュパターン作成装置100は、以下のように動作することで、メッシュパターンデータを作成する。
<S11:データ入力ステップ>
データ入力部101は、矩形領域10の縦方向、横方向の幅(X,Yの長さ)と、六角形の孔11の最低サイズと、リブ14の幅と、加工限界値とを入力データとして入力して記憶装置に記憶する。
なお、以下の説明では、六角形の孔11のサイズは六角形の幅で表す。六角形の幅とは、六角形の対向する2辺間の距離(図1のS1)である。なお、六角形が正六角形でない場合には、六角形の幅は、矩形領域10の縦方向に対向する2辺間の距離とする。
また、六角形の孔11の最低サイズを入力せず、単位面積(例えば、1インチ)当たりに形成したい孔の最大数(メッシュ数)を入力してもよい。この場合、入力されたメッシュ数とリブ14の幅とから、六角形の孔11の最低サイズを計算することができる。
<S12:計算ステップ>
計算部102は、指定された幅のリブ14を間に挟みながら矩形領域10の縦方向に並べると丁度(ぴったりと)収まる正六角形の幅であって、縦方向の幅が指定された幅以上で指定された幅に最も近い正六角形の幅S1を処理装置により計算する。
つまり、図4に示すように、計算部102は、矩形領域10の上の端部を成す辺の一部を一辺とする正六角形から始まって、指定された幅のリブ14を間に挟みながら同じ幅の正六角形を並べて、矩形領域10の下の端部を成す辺の一部を一辺とする正六角形で終わる正六角形の幅S1を計算する。特に、計算部102は、データ入力ステップで入力された六角形の幅以上で入力された幅に最も近い幅S1を計算する。
<S13:敷詰ステップ>
敷詰部103は、計算ステップで計算した幅の正六角形を矩形領域10を覆うようにハニカム構造状に間にリブ14を挟みながら処理装置により並べる。
例えば、図5に示すように、矩形領域10の横方向中央から順に正六角形を並べる。つまり、まず、図5(a)に示すように、矩形領域10の横方向の中心と、正六角形の横方向の中心とが一致するように、第1の列15を並べる。第1の列15とは、矩形領域10の上の端部を成す辺の一部を一辺とする幅S1の正六角形から始まって、指定された幅のリブ14を間に挟みながら幅S1の正六角形を並べて、矩形領域10の下の端部を成す辺の一部を一辺とする幅S1の正六角形で終わる列である。次に、図5(b)に示すように、第2の列16を、先に並べた第1の列15の左右両隣にリブ14を間に挟んで並べる。第2の列16とは、矩形領域10の上の端部を成す辺の一部を一辺とする幅S2の台形から始まって、指定された幅のリブ14を間に挟みながら幅S1の正六角形を並べて、矩形領域10の下の端部を成す辺の一部を一辺とする幅S2の台形で終わる列である。ここで、上記台形は、幅S1の正六角形の一部の辺と矩形領域10の端部を成す辺とから形成された台形である。幅S2とは、幅S1の1/2からリブ14の幅Lの1/2を引いた幅である(S2=(S1−L)/2)。そして、図5(c)に示すように、矩形領域10全体を覆うまで、第1の列15と第2の列16とをリブ14を間に挟んで交互に並べる。
<S14:併合ステップ>
併合部104は、矩形領域10の横方向の端部に形成された多角形が加工限界値未満の場合には、多角形と隣接する正六角形と多角形とを併合する。
例えば、図6に示すように、横方向の端部に形成された多角形をその隣の正六角形と併合する。つまり、図6(a)に示すように、横方向の端部に形成された多角形が小さく、加工限界値未満の場合、まず横方向の端部に形成された多角形を削除する。次に、その隣の正六角形又は台形の縦方向の端部と平行な辺を矩形領域10の横方向の端部まで伸ばす。そして、図6(b)に示すように、上記隣の正六角形の辺と矩形領域10の横方向の端部を成す辺とから大きい多角形を形成する。
<S15:形状面積調整ステップ>
調整部105は、横方向の端部に形成された多角形の面積が、六角形の面積と同一の面積となるように処理装置により調整する。
調整部105は、横方向の端部に形成された多角形を横方向へ伸縮させるとともに、横方向の端部に形成された多角形が横方向へ伸縮されたことに伴い正六角形を横方向へ伸縮させる(形状調整ステップ)ことにより、面積を調整する。
例えば、図7に示すように、横方向の端部に形成された多角形の面積が正六角形の面積よりも大きい場合、横方向の端部に形成された多角形をそれぞれ横方向に収縮する。さらに、横方向の端部に形成された多角形が収縮された分だけ、正六角形を横方向に伸長する。そして、図7(b)に示すように、横方向に収縮された横方向の端部の多角形の面積と横方向に伸長された六角形の面積とを同一面積にする(面積調整ステップ)。
<S16:データ生成ステップ>
データ生成部106は、形状調整ステップ及び面積調整ステップで調整した六角形と多角形とを孔とするメッシュパターンデータを生成して記憶装置に記憶する。
このメッシュパターンデータに基づき、メッシュ1を製造することで、図1に示すようなメッシュ1を製造することができる。メッシュ1の製造方法については後の実施の形態において説明する。
Next, a method for creating mesh pattern data of the
FIG. 2 is a functional block diagram illustrating functions of the mesh
The mesh
<S11: Data Input Step>
The
In the following description, the size of the
Also, the maximum number of holes (number of meshes) to be formed per unit area (for example, 1 inch) may be input without inputting the minimum size of the hexagonal holes 11. In this case, the minimum size of the
<S12: Calculation step>
The
That is, as illustrated in FIG. 4, the
<S13: laying step>
The laying
For example, as shown in FIG. 5, regular hexagons are arranged in order from the lateral center of the
<S14: Merge step>
When the polygon formed at the lateral end of the
For example, as shown in FIG. 6, the polygon formed at the end in the horizontal direction is merged with the adjacent regular hexagon. That is, as shown in FIG. 6A, when the polygon formed at the end portion in the horizontal direction is small and less than the processing limit value, first, the polygon formed at the end portion in the horizontal direction is deleted. Next, a side parallel to the longitudinal end of the adjacent regular hexagon or trapezoid is extended to the lateral end of the
<S15: Shape area adjustment step>
The
The
For example, as shown in FIG. 7, when the area of the polygon formed at the lateral end is larger than the area of the regular hexagon, the polygon formed at the lateral end is contracted in the lateral direction. . Further, the regular hexagon is extended in the horizontal direction by the amount of contraction of the polygon formed at the end in the horizontal direction. And as shown in FIG.7 (b), the area of the polygon of the edge part of the horizontal direction shrunk in the horizontal direction and the area of the hexagon extended in the horizontal direction are made the same area (area adjustment step). .
<S16: Data generation step>
The
By producing the
上記説明において、敷詰ステップ(S13)では、横方向の中央から順に正六角形を並べた。しかし、図8に示すように矩形領域10の端(図8では左端)から順に正六角形を並べてもよい。まず、図8(a)に示すように、矩形領域10の縦方向に丁度収まるように並べられた幅S1の五角形の列を矩形領域10の左の端部に並べる。ここで、上記五角形は、幅S1の正六角形の一部の辺と矩形領域10の端部を成す辺とから形成された五角形である。つまり、図8(a)に示すように、矩形領域10の上の端部を成す辺の一部を一辺とする幅S1の上記五角形から始まって、指定された幅のリブ14を間に挟みながら幅S1の上記五角形を並べて、矩形領域10の下の端部を成す辺の一部を一辺とする幅S1の上記五角形で終わるように五角形を並べる。次に、図8(b)に示すように、第2の列16を先に並べた五角形の列との間にリブ14を挟んで並べる。次に、図8(c)に示すように、第1の列15を先に並べた第2の列16との間にリブ14を挟んで並べる。そして、図8(d)に示すように、第1の列15と第2の列16とを交互にリブ14を間に挟んで並べる処理を、矩形領域10全体を覆うまで続ける。
このように、左側から順に正六角形を並べた場合、横方向の端部に形成された多角形が線対称の形状にならない場合がある。この場合には、調整部105は、矩形領域10を成す辺と敷詰ステップで並べた正六角形の一部の辺とから構成された多角形が、対向する端部の多角形と対称な形状となるように敷詰ステップで並べた六角形を処理装置により調整する形状調整ステップを敷詰ステップ(S13)又は併合ステップ(S14)の後に実行する。
例えば、図9に示すように、調整部105は、正六角形と多角形とを横方向へずらすことにより、横方向に形成された多角形を線対称となるように調整する。つまり、図9(a)に示すように、敷詰ステップで並べられた横方向の端部の多角形が非対称であるとする。すなわち、図9(a)では、左の端部の多角形の方が、右の端部の多角形よりも大きい。そこで、正六角形と多角形とを左へずらす。そして、図9(b)に示すように、横方向の端部の多角形を線対称とする。
また、図10に示すように、調整部105は、六角形の幅を横方向へ伸縮することにより、横方向に形成された多角形を線対称となるように調整してもよい。つまり、図10(a)に示すように、図9(a)と同様に、敷詰ステップで並べられた横方向の端部の多角形が非対称であるとする。すなわち、図10(a)では、左の端部の多角形の方が、右の端部の多角形よりも大きい。そこで、図10(b)に示すように、正六角形を左へ伸長して、横方向の端部の多角形を線対称とする。
In the above description, regular hexagons are arranged in order from the center in the horizontal direction in the laying step (S13). However, as shown in FIG. 8, regular hexagons may be arranged in order from the end of the rectangular area 10 (left end in FIG. 8). First, as shown in FIG. 8A, a pentagonal row having a width S <b> 1 arranged so as to just fit in the vertical direction of the
Thus, when regular hexagons are arranged in order from the left side, the polygons formed at the end portions in the horizontal direction may not be line-symmetric. In this case, the adjusting
For example, as illustrated in FIG. 9, the
Moreover, as shown in FIG. 10, the
なお、敷詰ステップ(S13)での正六角形の敷き詰め方法は、上述した方法に限られず、どのような方法であっても構わない。しかし、上述した方法でない場合には、縦方向の端部に形成された多角形が加工限界値未満の可能性がある。この場合には、併合ステップ(S14)で、横方向の端部だけでなく、縦方向の端部についても併合を行わなければならない場合がある。また、横方向の端部だけでなく、縦方向の端部に形成された多角形が、対向する端部に形成された多角形と線対称でない可能性がある。縦方向の端部に形成された多角形が、対向する端部に形成された多角形と線対称でない場合には、敷詰ステップ(S13)又は併合ステップ(S14)の後で線対称となるように調整する必要がある。 In addition, the regular hexagonal spread method in the spread step (S13) is not limited to the method described above, and any method may be used. However, if it is not the method described above, there is a possibility that the polygon formed at the end in the vertical direction is less than the processing limit value. In this case, in the merging step (S14), it is sometimes necessary to perform merging not only on the horizontal ends but also on the vertical ends. In addition, there is a possibility that the polygon formed not only at the horizontal end but also at the vertical end is not line symmetric with the polygon formed at the opposite end. If the polygon formed at the end in the vertical direction is not line symmetric with the polygon formed at the opposite end, it becomes line symmetric after the laying step (S13) or the merging step (S14). Need to be adjusted.
また、第2の列16の縦方向の端部に形成される台形の孔12の幅S2は、六角形の幅S1とリブ14の幅Lとを用いて、「S2=(S1−L)/2」と表せる。
つまり、第2の列16の縦方向の幅Yは、「Y=2S1+2S2+3L」であり、第1の列15の縦方向の幅Yは、「Y=3S1+2L」である。したがって、「2S1+2S2+3L=3S1+2L」を「S2」について解けば上記「S2=(S1−L)/2」が得られる。
そのため、データ入力ステップ(S11)で六角形の幅の最小値Sを指定する際、(S−L)/2≧K(Kは加工限界値)を満たすような値を指定する必要がある。もし、上記式を満たさない六角形の幅の最小値Sを指定した場合、併合ステップ(S14)で、横方向の端部だけでなく、縦方向の端部についても併合を行わなければならない場合がある。
In addition, the width S2 of the
That is, the vertical width Y of the
Therefore, when specifying the minimum value S of the hexagonal width in the data input step (S11), it is necessary to specify a value that satisfies (S−L) / 2 ≧ K (K is a machining limit value). If the minimum value S of the hexagonal width that does not satisfy the above formula is specified, the merge step (S14) must be merged not only in the horizontal direction but also in the vertical direction. There is.
また、以上に説明した方法によれば、図11(a)に示すように、矩形領域10の縦方向に六角形が3個以上入る場合だけでなく、図11(b)(c)に示すように、1個や2個だけしか入らない場合であってもメッシュパターンデータを作成することができる。
Further, according to the method described above, as shown in FIG. 11A, not only when three or more hexagons are inserted in the vertical direction of the
実施の形態2.
この実施の形態では、所定の矩形領域10に同一開口面積の複数の円形(正規形状の図形の一例)の孔21が形成されたメッシュ2について説明する。
In this embodiment, a
図12は、この実施の形態に係るメッシュ2の開口形状を示す図である。
図12に示すように、この実施の形態に係るメッシュ2は、指定されたX×Yの矩形領域10の中央部に、同一開口面積の複数の円形の孔21が規則的に配置されている。矩形領域10の角(四隅)を除く端部には、円形の孔21を形成する円周の一部と矩形領域10を成す辺の一部を一辺とする長方形とにより舌状(変形形状の図形の一例)の孔22が形成されている。矩形領域10の角には、円形の孔21を形成する円周の一部と矩形領域10を成す2つの辺の一部を辺とするL字型の図形とにより略扇状(変形形状の図形の一例)の孔23が形成されている。また、各孔21,22,23の間には、円形の補助孔24が形成されている。さらに、各孔21,22,23,24の間には、所定の幅以上のリブが形成されている。
また、矩形領域10の端部に形成された舌状の孔22、略扇状の孔23は、対向する端部に形成された舌状の孔22、略扇状の孔23とそれぞれ線対称の形状である。特に、矩形領域10の角を除く端部に形成された舌状の孔22は、円形の孔21の開口面積と同一の開口面積を有する。また、各孔21,22,23,24は、加工限界値以上の大きさである。
FIG. 12 is a diagram showing the opening shape of the
As shown in FIG. 12, in the
Further, the tongue-shaped
以上のように、この実施の形態に係るメッシュ2は、矩形領域10の中央部には同一開口面積の複数の円形の孔21が規則的に配置されているため、矩形領域10の中央部全体に均一にインクペーストを塗布することができる。また、矩形領域10の角を除く端部には、円形の孔21と同一開口面積の舌状の孔22が形成されているため、矩形領域10の中央部とともに均一にインクペーストを塗布することができる。
また、この実施の形態に係るメッシュ2は、規則的に孔が形成されているため強度が高い。
As described above, in the
Further, the
次に、この実施の形態に係るメッシュ2のメッシュパターンデータの作成方法について説明する。
図13は、メッシュ2のメッシュパターンデータを作成するメッシュパターン作成装置100の機能を示す機能ブロック図である。図14は、メッシュパターンデータの作成処理の流れを示すフローチャートである。
メッシュ2のメッシュパターンデータを作成するメッシュパターン作成装置100の構成は、実施の形態1に係るメッシュパターン作成装置100の機能に加え、変形部107、補助孔形成部108を備える。メッシュパターン作成装置100は、以下のように動作することで、メッシュパターンデータを作成する。
<S21:データ入力ステップ>
データ入力部101は、矩形領域10の縦方向、横方向の幅(X,Yの長さ)と、円形の孔21の最低サイズと、リブ14の幅と、加工限界値とを入力データとして入力して記憶装置に記憶する。
なお、以下の説明では、円形の孔21のサイズは円の直径で表す。
また、円形の孔21の最低サイズを入力せず、単位面積(例えば、1インチ)当たりに形成したい孔の最大数(メッシュ数)を入力してもよい。この場合、入力されたメッシュ数とリブ14の幅とから、円形の孔21の最低サイズを計算することができる。
<S22:計算ステップ>
計算部102は、指定された幅のリブ14を間に挟みながら矩形領域10の縦方向及び横方向に並べると丁度収まる円の直径S3であって、円の直径が指定された長さ以上で指定された長さに最も近い円の直径S3を処理装置により計算する。
つまり、図15に示すように、計算部102は、矩形領域10の上の端部を成す辺と接する円から始まって、指定された幅のリブ14を間に挟みながら同じ円を並べて、矩形領域10の下の端部を成す辺と接する円で終わる円の直径S3であって、矩形領域10の左の端部を成す辺と接する円から始まって、幅のリブ14を間に挟みながら同じ円を並べて、矩形領域10の右の端部を成す辺と接する円で終わる円の直径S3を計算する。特に、計算部102は、データ入力ステップで入力された直径以上で入力された直径に最も近い円の直径S3を計算する。
<S23:敷詰ステップ>
敷詰部103は、計算ステップで計算した直径S3の円を矩形領域10を覆うようにリブ14を間に挟みながら処理装置により規則的に並べる。
例えば、図16に示すように、敷詰部103は、矩形領域10に丁度収まるように円を並べる。つまり、矩形領域10の上の端部を成す辺と接する円から始まって、指定された幅のリブ14を間に挟みながら同じ円を並べて、矩形領域10の下の端部を成す辺と接する円で終わる縦方向に丁度収まる列を、横方向へ丁度収まるように並べる。すなわち、縦方向に丁度収まる列を、矩形領域10の左の端部を成す辺と接する列から始まって、指定された幅のリブ14を間に挟みながら同じ列を並べて、矩形領域10の右の端部を成す辺と接する列で終わるように並べる。
<S24:変形ステップ>
変形部107は、敷詰ステップで矩形領域10の角を除く端部に並べられた円を変形して、端部へ線で接する舌状の図形を生成する。また、変形部107は、敷詰ステップで矩形領域10の角に並べられた円を変形して、2つの端部へ線で接する図形を処理装置により生成する。
例えば、図17に示すように、変形部107は、矩形領域10の端部に並べられた円を変形する。まず、図17(a)に示すように、矩形領域10の端部に並べられた円を半分に分ける線であって、端部を成す辺と平行な線(平行線)を引く。次に、図17(b)に示すように、平行線の端部から矩形領域10の端部を成す辺へ垂線を引く。そして、図17(c)(d)に示すように、矩形領域10の端部を成す辺の一部と平行線と垂線とから構成される図形と、円周の一部とから構成される図形を形成する。つまり、矩形領域10の端部に並べられた円の一部に、一辺を上記所定の矩形領域を成す辺の一部とする長方形25を接続する。その結果、矩形領域10の角を除く端部に並べられた円は、端部へ線で接する舌状の図形となり、角に並べられた円は、2つの端部へ線で接する略扇状の図形となる。
<S25:面積調整ステップ>
調整部105は、矩形領域10の中央部(端部以外)に並べられた円の面積と、変形ステップで変形して生成した舌状体の面積とが同一面積となるように処理装置により調整する。
例えば、調整部105は、矩形領域10の中央部に並べられた円の直径を長くして円を拡大するとともに、中央部に並べられた円が拡大されたことに伴い端部に形成された舌状体を縮小することにより、円と舌状体との面積が同一となるように調整する。
<S26:補助孔形成ステップ>
補助孔形成部108は、矩形領域10に形成された各図形の間のリブ14に補助孔24となる図形を形成する。
つまり、図18(a)に示すように、横方向の隣の図形との間と縦方向の隣の図形との間とには、指定された幅L1のリブ14が形成されているが、斜め方向の隣の図形との間には、幅L1よりも広い幅L2のリブ14が形成されている。この幅L2のリブ14には、加工限界値以上の大きさの図形を形成することができる場合がある。つまり、加工限界値以上の大きさの図形を形成しても、幅L1以上の幅のリブを各図形の間に残すことができる場合がある。そこで、幅L2のリブ14に加工限界値以上の大きさの図形を形成することができる場合には、加工限界値以上の大きさの図形を形成する。図18(b)では、一例として加工限界値以上の大きさの円を形成している。
<S27:データ生成ステップ>
データ生成部106は、調整ステップで調整した円と舌状体と角に形成された図形を孔として、補助孔形成ステップで形成した図形を補助孔24とするメッシュパターンデータを生成して記憶装置に記憶する。
このメッシュパターンデータに基づき、メッシュ2を製造することで、図12に示すようなメッシュ2を製造することができる。メッシュ2の製造方法については後の実施の形態において説明する。
Next, a method for creating mesh pattern data of the
FIG. 13 is a functional block diagram illustrating functions of the mesh
The configuration of the mesh
<S21: Data Input Step>
The
In the following description, the size of the
Further, the maximum number (mesh number) of holes to be formed per unit area (for example, 1 inch) may be input without inputting the minimum size of the circular holes 21. In this case, the minimum size of the
<S22: Calculation step>
The
That is, as shown in FIG. 15, the
<S23: laying step>
The laying
For example, as shown in FIG. 16, the
<S24: Deformation step>
The deformation |
For example, as illustrated in FIG. 17, the deforming
<S25: Area adjustment step>
The
For example, the
<S26: Auxiliary hole forming step>
The auxiliary
That is, as shown in FIG. 18A, the
<S27: Data generation step>
The
By producing the
なお、上記説明では、計算ステップ(S22)において計算部102は、縦方向と横方向とのいずれにも丁度収まる円の直径であって、データ入力ステップで入力された直径以上で入力された直径に最も近い円の直径S3を計算した。しかし、計算部102は、横方向には丁度収まらないが、縦方向には丁度収まる円の直径を求めるとしてもよい。
この場合、図19(a)に示すように、敷詰ステップ(S23)において敷詰部103は、横方向の円との間のリブ14の幅を広げることにより、横方向に丁度収まるように計算した直径S3の円を並べる。つまり、図19(a)に示す縦方向のリブ14の幅L3(指定されたリブ14の幅)よりも、横方向のリブ14の幅L4を広くする。
または、図19(b)に示すように、敷詰部103は、横方向の円との間のリブ14の幅を広げることなく、直径S3の円を横方向に伸長して楕円を形成し、横方向に丁度収まるように楕円を並べてもよい。
In the above description, in the calculation step (S22), the
In this case, as shown in FIG. 19 (a), in the laying step (S23), the laying
Alternatively, as shown in FIG. 19B, the
また、面積調整ステップ(S25)において調整部105は、矩形領域10の中央部に並べられた円を拡大するのではなく、リブ14の幅を広くするとともに、リブ14の幅を広くされたことに伴い端部に形成された舌状体を縮小することにより、円と舌状体との面積が同一となるように調整してもよい。
Further, in the area adjustment step (S25), the adjusting
また、図12に示すように、補助孔24は各孔21,22,23の間に円形に形成されている。しかし、補助孔24は円形に限らず、図20(a)に示すように菱形であっても、図20(b)に示すように略十字形であってもよい。但し、リブ14の幅がデータ入力ステップで指定された幅未満とならないようにする。
補助孔24をこのような形状にすることにより、リブ14の幅を全体的に指定された幅まで狭めることができる。
Further, as shown in FIG. 12, the
By forming the
また、上記説明では、敷詰ステップ(S23)において、縦方向に丁度収まる列を横方向へ丁度収まるように並べるとした。しかし、図21に示すように、縦方向に丁度収まる列と、縦方向に約半円ずらして円を配置した列とを交互に千鳥状に配置してもよい。
縦方向に丁度収まる列と、縦方向に半円ずらして円を配置した列とを交互に配置する場合、図22に示すように、各円の間に形成されるリブ14の幅を狭くすることもできる。
Further, in the above description, in the laying step (S23), it is assumed that the rows that just fit in the vertical direction are arranged so that they just fit in the horizontal direction. However, as shown in FIG. 21, the rows that just fit in the vertical direction and the rows in which the circles are shifted by about a half circle in the vertical direction may be alternately arranged in a staggered manner.
In the case of alternately arranging a row that fits in the vertical direction and a row in which a circle is shifted by a semicircle in the vertical direction, the width of the
また、図23(a)に示すように、縦方向に丁度収まる列と、縦方向に半円ずらして円を配置した列とを交互に配置した場合に、縦方向の端部に半円形(三日月形)の図形を形成してもよい。そして、図23(b)に示すように、半円を残したまま、変形ステップ(S24)、面積調整ステップ(S25)を行ってもよい。
また、加工限界値未満の半円形の図形しか形成できない場合、図24(a)に示すように、半円形の図形をその半円形の図形と縦方向に隣接する円と併合してもよい。そして、図24(b)に示すように、変形ステップ(S24)、面積調整ステップ(S25)を行ってもよい。
In addition, as shown in FIG. 23 (a), when a row that just fits in the vertical direction and a row in which a circle is shifted by a semicircle in the vertical direction are alternately arranged, a semicircle ( A crescent-shaped figure may be formed. And as shown in FIG.23 (b), you may perform a deformation | transformation step (S24) and an area adjustment step (S25), leaving a semicircle.
When only a semicircular figure less than the processing limit value can be formed, the semicircular figure may be merged with a circle adjacent to the semicircular figure in the vertical direction, as shown in FIG. And as shown in FIG.24 (b), you may perform a deformation | transformation step (S24) and an area adjustment step (S25).
また、図22に示すように、各円の間に形成されるリブ14の幅を狭くして、円を千鳥状に配置した場合に、変形ステップ(S24)で舌状の図形に変形すると、横方向の隣の円との間に指定された幅のリブ14を形成することができない場合がある。そこで、図25に示すように、縦方向に半円ずらして円を配置した列の端部の円には、円の一部に、隣の円との間に指定された幅のリブ14が形成可能な幅の狭い長方形26を接続して、舌状体を形成するとしてもよい。つまり、図25(b)に示すように、円と円との間のリブ14の幅L5と、長方形と長方形との間のリブ14の幅L6とが等しくなる(L5=L6)、又は円と円との間のリブ14の幅L5よりも長方形と長方形との間のリブ14の幅L6が大きくなる(L5<L6)ように、縦方向に半円ずらして円を配置した列の端部の円に幅の狭い長方形26を接続する。
In addition, as shown in FIG. 22, when the width of the
実施の形態3.
この実施の形態では、所定の矩形領域10に辺の長さ(幅)S5が同一の複数の菱(正規形状の図形の一例)形の孔31が形成されたメッシュ3について説明する。
In this embodiment, a
図26は、この実施の形態に係るメッシュ3の開口形状を示す図である。
図26に示すように、この実施の形態に係るメッシュ3は、指定されたX×Yの矩形領域10に、複数の辺の長さ(幅)S5が同一の菱形の孔31が規則的に形成されている。矩形領域10の中央部には菱形の孔31が形成され、矩形領域10の端部(周辺部)には菱形の孔31を形成する菱形の一部の辺と矩形領域10を成す辺の一部とにより多角形(変形形状の図形の一例)の孔32,33が形成されている。矩形領域10の角(四隅)を除く端部には、矩形領域10を成す辺の一部を一辺とする五角形の孔32が形成されている。矩形領域10の角には、矩形領域10を成す2つの辺の一部を一辺とする五角形の孔33が形成されている。各孔31,32,33の間には所定の幅のリブ14が形成されている。
矩形領域10の端部に形成された多角形の孔32,33は、対向する端部に形成された多角形の孔32,33と線対称の形状である。特に、矩形領域10の角を除く縦方向の端部に形成された五角形の孔32の開口面積は、菱形の孔31の開口面積と同一である。
以上のように、この実施の形態に係るメッシュ3は、矩形領域10の中央部には複数の同一の菱形の孔31が形成されているため、矩形領域10の中央部全体に均一にインクペーストを塗布することができる。また、矩形領域10の角を除く縦方向の端部には、菱形の孔31と同一開口面積の五角形の孔32が形成されているため、矩形領域10の中央部とともに均一にインクペーストを塗布することができる。
また、この実施の形態に係るメッシュ3は、規則的に孔が形成されているため強度が高い。
FIG. 26 is a diagram showing an opening shape of the
As shown in FIG. 26, in the
The polygonal holes 32 and 33 formed at the end portions of the
As described above, since the
In addition, the
次に、この実施の形態に係るメッシュ3のメッシュパターンデータの作成方法について説明する。
図27は、メッシュパターンデータの作成処理の流れを示すフローチャートである。
なお、メッシュ3のメッシュパターンデータを作成するメッシュパターン作成装置100の機能構成は、実施の形態1に係るメッシュパターン作成装置100と同様である。メッシュパターン作成装置100は、以下のように動作することで、メッシュパターンデータを作成する。
<S31:データ入力ステップ>
データ入力部101は、矩形領域10の縦方向、横方向の幅(X,Yの長さ)と、菱形の孔31の最低サイズと、リブ14の幅と、加工限界値とを入力データとして入力して記憶装置に記憶する。
なお、以下の説明では、菱形を正方形を45度傾けた図形とする。そして、菱形の孔31のサイズは菱形の一辺の長さ(図26のS4)で表す。ここでは、菱形を正方形を45度傾けた図形としたため、入力された菱形の一辺の長さS4から菱形の幅(対角線の長さ,図26のS5)を計算することができる。つまり、入力された一辺の長さS4の約1.41倍が菱形の幅S5となる。
また、菱形の孔31の最低サイズを入力せず、単位面積(例えば、1インチ)当たりに形成したい孔の最大数(メッシュ数)を入力してもよい。この場合、入力されたメッシュ数とリブ14の幅とから、菱形の孔31の最低サイズ(一辺の長さS4)を計算することができる。
<S32:計算ステップ>
計算部102は、指定された幅のリブ14を間に挟みながら矩形領域10の縦方向に並べると丁度収まる所定の菱形の幅S5であって、指定された幅以上で指定された幅に最も近い菱形の幅S5を処理装置により計算する。
つまり、図28に示すように、計算部102は、矩形領域10の上の端部を成す辺に接する菱形から始まって、指定された幅のリブ14を間に挟みながら同じ幅の菱形を並べて、矩形領域10の下の端部を成す辺に接する菱形で終わる菱形の幅S5を計算する。特に、計算部102は、データ入力ステップで入力された菱形の幅以上で入力された幅に最も近い幅S5を計算する。
<S33:敷詰ステップ>
敷詰部103は、計算ステップで計算した幅の菱形を矩形領域10を覆うように間にリブ14を挟みながら処理装置により規則的に並べる。
例えば、図29に示すように矩形領域10の左右中央から順に多角形と菱形とを並べる。つまり、まず、図29(a)に示すように、矩形領域10の左右の中心と、菱形の左右の中心とが一致するように、計算ステップで計算した幅S5の菱形の列であって、縦方向に丁度収まる菱形の列を並べる。縦方向に丁度収まる菱形の列とは、矩形領域10の上の端部を成す辺に接する幅S5の菱形から始まって、指定された幅のリブ14を間に挟みながら幅S5の菱形を並べて、矩形領域10の下の端部を成す辺に接する幅S5菱形で終わる列である。次に、図29(b)に示すように、三角形を両端に有する列を、先に並べた菱形の列の左右両隣に指定された幅のリブ14を間に挟んで並べる。三角形を両端に有する列とは、矩形領域10の上の端部を成す辺の一部を一辺とする縦方向の幅が幅S5の1/2からリブ14の幅Lの1/2を引いた幅である三角形から始まって、指定された幅のリブ14を間に挟みながら幅S5の菱形を並べて、矩形領域10の下の端部を成す辺を一辺とする縦方向の幅が幅S5の1/2からリブ14の幅Lの1/2を引いた幅であるの三角形で終わる列である。そして、図29(c)に示すように、矩形領域10全体を覆うまで、菱形の列と三角形を両端に有する列とを交互に並べる。
<S34:併合ステップ>
併合部104は、矩形領域10の横方向の端部に形成された多角形が加工限界値未満の場合には、多角形と隣接する菱形又は台形と多角形とを処理装置により併合する。
例えば、図30に示すように、横方向の端部に形成された多角形をその隣の菱形及び多角形(三角形)と併合する。つまり、図30(a)に示すように、横方向の端部に形成された多角形が小さく、加工限界値未満の場合、まず横方向の端部に形成された多角形を削除する。次に、その隣の菱形及び多角形(三角形)の縦方向の頂点から矩形領域10の縦方向の端部を成す辺と平行な辺を矩形領域10の横方向の端部まで伸ばす。そして、図30(b)に示すように、上記隣の菱形及び多角形(三角形)の辺と矩形領域10の横方向の端部を成す辺とから大きい多角形(五角形及び台形)を形成する。
なお、図30では、横方向の端部に形成された多角形の隣の列は、菱形及び多角形(三角形)からなる列であった。しかし、上記隣の列は、菱形のみが形成された列の場合もある。この場合も上記と同様に、まず横方向の端部に形成された多角形を削除する。次に、その隣の菱形の縦方向の頂点から矩形領域10の縦方向の端部を成す辺と平行な辺を矩形領域10の横方向の端部まで伸ばす。そして、上記隣の菱形の辺と矩形領域10の横方向の端部を成す辺とから大きい多角形(五角形)を形成すればよい。
<S35:面積調整ステップ>
調整部105は、横方向の端部を除く縦方向の端部に形成された多角形(三角形)の面積が、菱形の面積と同一の面積となるように処理装置により調整する。
例えば、図31(a)に示す状態であった場合に、図31(b)に示すように、縦方向の端部に形成された菱形の横方向の端点から矩形領域10の縦方向の端部へ垂線を引き、五角形を形成する。次に、図31(c)に示すように、各菱形と横方向の端部の五角形とを縦方向に伸長する。さらに、菱形と五角形とが伸長された分だけ、縦方向の端部に形成された五角形を縮小する。そして、縮小された五角形の面積を拡大された菱形の面積と同一にする。
<S36:リブ調整ステップ>
調整部105は、さらに、五角形と五角形の間に形成された幅の広いリブ14を、データ入力ステップで指定された幅のリブ14に処理装置により調整する。
図32(a)に示すように、五角形と五角形の間に形成されたリブ14の幅L8は、菱形と菱形、又は菱形と五角形との間に形成されたリブ14の幅L7(指定されたリブ14の幅)よりも広い。そこで、図32(b)に示すように、調整部105は、五角形の面積を広げることにより、五角形と五角形の間に形成されたリブ14の幅L7を指定されたリブ14の幅L7にする。また、端部に形成された五角形の面積を広げたため、端部に形成された五角形は、菱形と同一面積でなくなってしまう。そこで、菱形を拡大するとともに、端部に形成された五角形を縮小して、角を除く、端部に形成された五角形の面積を菱形と同一面積にする。
<S37:データ生成ステップ>
データ生成部106は、併合ステップ(S34)及びリブ調整ステップ(S36)で調整した菱形と五角形とを孔とするメッシュパターンデータを生成して記憶装置に記憶する。
このメッシュパターンデータに基づき、メッシュ3を製造することで、図26に示すようなメッシュ3を製造することができる。メッシュ3の製造方法については後の実施の形態において説明する。
Next, a method for creating mesh pattern data of the
FIG. 27 is a flowchart showing a flow of mesh pattern data creation processing.
The functional configuration of the mesh
<S31: Data Input Step>
The
In the following description, the rhombus is a figure obtained by inclining a square by 45 degrees. The size of the
Further, the maximum number (number of meshes) of holes to be formed per unit area (for example, 1 inch) may be input without inputting the minimum size of the diamond-shaped
<S32: Calculation step>
The
That is, as shown in FIG. 28, the
<S33: laying step>
The laying
For example, as shown in FIG. 29, polygons and rhombuses are arranged in order from the left and right center of the
<S34: Merge step>
When the polygon formed at the end in the horizontal direction of the
For example, as shown in FIG. 30, the polygon formed at the end in the horizontal direction is merged with the adjacent rhombus and polygon (triangle). That is, as shown in FIG. 30A, when the polygon formed at the end portion in the horizontal direction is small and less than the processing limit value, the polygon formed at the end portion in the horizontal direction is first deleted. Next, the side parallel to the side forming the vertical end of the
In FIG. 30, the column adjacent to the polygon formed at the end portion in the horizontal direction is a column made of a rhombus and a polygon (triangle). However, the adjacent column may be a column in which only rhombuses are formed. In this case as well, the polygon formed at the end in the horizontal direction is first deleted. Next, the side parallel to the side forming the vertical end of the
<S35: Area adjustment step>
The
For example, in the state shown in FIG. 31 (a), as shown in FIG. 31 (b), the vertical end of the
<S36: Rib adjustment step>
The adjusting
As shown in FIG. 32 (a), the width L8 of the
<S37: Data generation step>
The
By manufacturing the
上記説明において、敷詰ステップ(S33)では、横方向の中央から順に多角形と菱形とを並べた。しかし、実施の形態1と同様、図33に示すように、矩形領域10の端(図33では左端)から順に菱形を並べてもよい。まず、図33(a)に示すように、矩形領域10の左の端部に、計算ステップ(S32)で計算した菱形と同一面積の五角形であって、縦方向の幅が計算ステップで計算した幅S5である五角形を中央部に有し、縦方向の幅が幅S5の1/2からリブ14の幅Lの1/2を引いた幅である台形を両端部に有する列を並べる。次に、図33(b)に示すように、先に並べた列の隣に、菱形の列をリブ14を間に挟んで並べる。次に、図33(c)に示すように、上記菱形の列の隣に、三角形を両端に有する列をリブ14を間に挟んで並べる。そして、図33(d)に示すように、三角形を両端に有する列と、菱形の列とを交互にリブ14を間に挟んで並べる処理を、矩形領域10全体を覆うまで続ける。
このように、左側から順に菱形を並べた場合、横方向の端部に形成された多角形が線対称の形状にならない場合がある。この場合には、調整部105は、矩形領域10を成す辺と敷詰ステップで並べた菱形の一部の辺とから構成された多角形が、対向する端部の多角形と対称となるように処理装置により調整する形状調整ステップを敷詰ステップ(S33)又は併合ステップ(S34)の後に実行する。
例えば、図34に示すように、調整部105は、菱形と多角形とを横方向へずらすことにより、横方向に形成された多角形を線対称となるように調整する。つまり、図34(a)に示すように、敷詰ステップで並べられた横方向の端部の多角形が非対称であるとする。すなわち、図34(a)では、左の端部の多角形の方が、右の端部の多角形よりも小さい。そこで、菱形と多角形とを右へずらす。そして、図34(b)に示すように、横方向の端部の多角形が線対称とする。
In the above description, in the laying step (S33), polygons and rhombuses are arranged in order from the center in the horizontal direction. However, as in the first embodiment, as shown in FIG. 33, rhombuses may be arranged in order from the end of the rectangular area 10 (left end in FIG. 33). First, as shown in FIG. 33A, the left end of the
As described above, when the rhombuses are arranged in order from the left side, the polygon formed at the end in the horizontal direction may not have a line-symmetric shape. In this case, the
For example, as illustrated in FIG. 34, the
なお、敷詰ステップ(S33)での菱形の敷き詰め方法は、上述した方法に限られず、どのような方法であっても構わない。しかし、上述した方法でない場合には、横方向の端部だけでなく、縦方向の端部に形成された多角形が、対向する端部に形成された多角形と線対称でない可能性がある。縦方向の端部に形成された多角形が、対向する端部に形成された多角形と線対称でない場合には、敷詰ステップ(S33)又は併合ステップ(S34)の後で線対称となるように調整する必要がある。 Note that the rhombus spread method in the spread step (S33) is not limited to the method described above, and any method may be used. However, in the case of not using the above-described method, there is a possibility that the polygon formed not only at the horizontal end but also at the vertical end is not line symmetric with the polygon formed at the opposite end. . If the polygon formed at the end in the vertical direction is not line symmetric with the polygon formed at the opposite end, the line is symmetric after the laying step (S33) or the merging step (S34). Need to be adjusted.
また、上記説明では、1つの矩形領域に、その矩形領域に合ったメッシュパターンを生成することを説明した。しかし、データ入力ステップ(S11,S21,S31)で複数の矩形領域を有する領域データ(例えば、ガーバーデータ)を入力し、計算ステップ(S12,S22,S32)以下の処理(メッシュパターン生成ステップ)で、領域データが有する複数の矩形領域の各矩形領域について、その矩形領域に合った(適した)メッシュパターンデータを生成するとしてもよい。ここで、矩形領域の縦方向、横方向の幅(X,Yの長さ)は、矩形領域毎に異なっていてもよい。
なお、領域データは、各矩形領域の縦方向、横方向の幅(X,Yの長さ)と、各矩形領域の位置(例えば、中心の座標)との情報を有する。つまり、データ入力ステップ(S11,S21,S31)でデータ入力部101は、領域データが入力されれば、領域データから各矩形領域の縦方向、横方向の幅(X,Yの長さ)を取得することができる。また、データ生成ステップ(S16,S27,S37)でデータ生成部106は、各矩形領域の位置の情報に基づき、各矩形領域を配置することができる。つまり、データ生成部106は、所定の位置に配置した複数の矩形領域の各矩形領域について、その矩形領域に合ったメッシュパターンデータを生成することができる。データ生成部106は、例えば、各矩形領域が印刷パターンを示す場合には、複数の印刷パターン開口の各印刷パターン開口部分について、その印刷パターン開口部分に合ったメッシュパターンデータを生成することができる。
Further, in the above description, it has been described that a mesh pattern matching a rectangular area is generated in one rectangular area. However, in the data input step (S11, S21, S31), region data having a plurality of rectangular regions (for example, Gerber data) is input, and the processing (mesh pattern generation step) after the calculation step (S12, S22, S32) is performed. For each rectangular area of the plurality of rectangular areas included in the area data, mesh pattern data matching (suitable) the rectangular area may be generated. Here, the vertical and horizontal widths (X and Y lengths) of the rectangular area may be different for each rectangular area.
The area data includes information on the vertical and horizontal widths (X and Y lengths) of each rectangular area and the position (for example, the coordinates of the center) of each rectangular area. That is, in the data input step (S11, S21, S31), when the area data is input, the
実施の形態4.
この実施の形態では、上記実施の形態で作成したメッシュパターンデータが示すメッシュパターンを印刷パターン開口51部分に有するマスク50を製造する方法について説明する。また、製造したメッシュの層と、印刷パターン開口を有する層とを有する2層構造のマスクを製造する方法について説明する。
In this embodiment, a method for manufacturing the
まず、図35に基づき、上記実施の形態で作成したメッシュパターンデータが示すハニカム構造等のメッシュパターンを印刷パターン開口51部分に有するマスク50を製造する方法について説明する。
初めに、図35(a)に示すように、基材41を準備する。基材41の材質は例えばSUS(ステンレス鋼,Stainless Used Steel)、鉄板、アルミニウム等の導電性基材を用いる事ができる。または、導電性皮膜が形成された非導電性基材でもよく、例えば、ガラスにNi,Cr、ITO(Indium Tin Oxide)膜等の導電性物質を蒸着した基材でもよい。そして、図35(b)に示すように、基材41上にレジスト42をラミネートする。
次に、印刷パターン開口51部分に、上記実施の形態で作成したメッシュパターンデータを紫外線レーザーを照射する直描機に入力する。そして、メッシュパターンデータが示すメッシュパターンを直描機を用いてレジスト42に直接描画する。つまり、メッシュパターンデータが示すメッシュパターン部分を露光する。そして、現像する。すると、図35(c)に示すように、メッシュパターンに対応する開口となる位置にのみレジスト42が残る。
次に、図35(d)に示すように、レジスト42が形成された領域を除いて、基材41の上にメッシュパターン形状の金属層43をニッケル等のめっきにより形成する。つまり、メッシュパターンに対応する開口となる位置に残されたレジスト42以外の部分に金属層43を形成するため、金属層43はメッシュパターンに対応する開口を有することになる。
そして、図35(e)に示すように、レジスト42を剥離し、金属層43を基材41から剥がす。これにより、印刷パターン開口51部分にリブ14を挟んで複数のメッシュパターンに対応する開口を有するマスク50が金属層43により形成される。つまり、印刷パターン開口51部分に、図1、図12、図26に示すようなメッシュパターンに対応する開口を有するマスク50が製造される。
なお、上記説明では、直描機を用いてレジスト42を露光した。しかし、上記実施の形態で作成したメッシュパターンデータが示すメッシュパターンを有するパターンフィルムを作成して、作成したパターンフィルム、ガラス活版等を用いてレジスト42を露光してもよい。
また、複数の矩形領域を有する領域データを入力してメッシュパターンデータを生成した場合、複数の矩形領域の各矩形領域を印刷パターン開口51として、印刷パターン開口51部分に、図1、図12、図26に示すようなメッシュパターンに対応する開口を有するマスク50を製造することができる。つまり、複数の印刷パターン開口51を有するマスク50であって、各印刷パターン開口51部分にメッシュを有するマスク50を製造する場合には、予め各印刷パターン開口51を矩形領域とした領域データを入力としてメッシュパターンデータを生成すれば、各印刷パターン開口51部分に、その印刷パターン開口51に合ったメッシュパターンを有するマスク50を製造することができる。
First, based on FIG. 35, a method for manufacturing a
First, as shown in FIG. 35A, a
Next, the mesh pattern data created in the above embodiment is input to the direct drawing machine that irradiates the ultraviolet laser into the print pattern opening 51 portion. Then, the mesh pattern indicated by the mesh pattern data is directly drawn on the resist 42 using a direct drawing machine. That is, the mesh pattern portion indicated by the mesh pattern data is exposed. Then, develop. As a result, as shown in FIG. 35C, the resist 42 remains only at the position corresponding to the opening corresponding to the mesh pattern.
Next, as shown in FIG. 35 (d), a
Then, as shown in FIG. 35 (e), the resist 42 is peeled off, and the
In the above description, the resist 42 is exposed using a direct drawing machine. However, a pattern film having a mesh pattern indicated by the mesh pattern data created in the above embodiment may be created, and the resist 42 may be exposed using the created pattern film, glass letterpress or the like.
In addition, when mesh pattern data is generated by inputting area data having a plurality of rectangular areas, each rectangular area of the plurality of rectangular areas is set as a printing pattern opening 51, and the printing pattern opening 51 is formed as shown in FIGS. A
図36は、印刷パターン開口51部分に、図35に基づき説明した製造方法により製造されたメッシュを備えるマスク50を示す図である。図36(a)は、マスク50の断面図(図36(b)のA−A’断面図)であり、印刷パターン開口51部分には本来メッシュパターンが形成をされている訳であるが形状が複雑になるため、図示を省略してある。図36(b)は、図36(a)のD方向から見た図である。図36(c)は、図36(b)の複数の印刷パターン開口51のうちのある1つの印刷パターン開口51部分に形成されたメッシュの一例を示す図である。
マスク50には、複数の印刷パターン開口51が形成されている。各印刷パターン開口51には、図36(c)に示すように、図35に基づき説明した製造方法により製造されたメッシュが形成されている。つまり、印刷パターン開口51それぞれに、図1、図12、図26に示すようなメッシュパターンに対応する開口を有するメッシュが形成されている。
マスク50の厚さ(板厚)が薄い場合、印刷パターン開口51に強度がなく、印刷パターン開口51部分から破損する虞がある。そこで、上述したように、印刷パターン部分にメッシュを持たせ、印刷パターン部分の強度を高めている。特に、上記実施の形態で説明したメッシュパターンは、ハニカム構造状等に規則的に孔が形成されているためメッシュの強度が高い。そのため、上記実施の形態で説明したメッシュパターンのメッシュを印刷パターン部分に形成することにより、マスク50の印刷パターン部分の強度も特に高くなる。なお、図36では、印刷パターンを矩形で示しているが、印刷パターンは完全な矩形でなくてもよい。つまり、角の部分に丸みを持った略矩形であってもよい。角の部分に丸みを持たせることにより、印刷パターンの角部分に負荷が集中し、角部分から破損することを防止できる。
FIG. 36 is a diagram showing a
A plurality of printed
When the thickness (plate thickness) of the
次に、図37に基づき、メッシュを有する複数の印刷パターン開口51が形成された層(マスク50)と、メッシュが形成された印刷パターン開口51に重なるように形成されたメッシュ無しの印刷開口49を有する樹脂層とを有する2層構造のマスクを製造する方法について説明する。図37(a)は、マスク50の断面図であり、印刷パターン開口51部分には本来メッシュパターンが形成をされている訳であるが形状が複雑になるため、図示を省略してある。
図37(a)、図37(b)に示すように、製造したメッシュ(金属層43)を有する層(マスク50)を紗張りする。図37(b)は、図37(a)のE方向から見た図である。スクリーン枠45に取り付けられた開口のある紗46の開口内周囲にマスク50の外周囲が接着剤等でワーク側(印刷面側)に取り付けられ、紗46の張力によりマスク50が外方向(スクリーン枠45方向)へ張られた状態とする。図37(b)において、紗46とマスク50とはのりしろ47部分で接着されている。すなわち、マスク50をコンビネーション44(紗張りされた枠)に接合する。
次に、図37(c)に示すように、コンビネーション44に接合したマスク50に感光性樹脂48を塗布して乾燥又は硬化する。次に、印刷パターンを直描機を用いて、乾燥又は硬化した感光性樹脂48に描画する。この場合もパターンフィルムを用いて露光してもよい。そして、現像すると、図37(d)に示すように、乾燥又は硬化した感光性樹脂48にメッシュ無しの印刷開口49が形成される。なお、印刷開口49は、マスク50のメッシュが形成された印刷パターン開口51部分に重なるように形成する。
これにより、印刷パターン開口51部分にリブ14を挟んで複数のメッシュパターンに対応する開口を有する層(マスク50)と、マスク50の上面にメッシュ無しの印刷開口49を有する樹脂層48とを備える2層構造のマスクが製造される。つまり、図1、図12、図26に示すようなメッシュパターンに対応する開口を有する印刷パターン開口51を有する層(マスク50)と、印刷開口49を有する樹脂層48とを有する2層構造のマスクが製造される。
なお、マスク50を紗張りする場合、マスク50を紗46のワーク側ではなく、図37(e)に示すようにマスク50をインク側(スキージ側)に接着し、紗46の内周囲をマスク50と感光性樹脂48とで挟んでも構わない。
Next, based on FIG. 37, a layer (mask 50) in which a plurality of
As shown in FIGS. 37A and 37B, the layer (mask 50) having the manufactured mesh (metal layer 43) is stretched. FIG. 37 (b) is a view as seen from the E direction in FIG. 37 (a). The outer periphery of the
Next, as shown in FIG. 37C, a
As a result, a layer (mask 50) having openings corresponding to a plurality of mesh patterns with the
When the
マスクの製造工程において、メッシュが紗張りされる。紗張りされるとメッシュには外方向へ引っ張る力が加わる。ここで、上記実施の形態で作成したメッシュパターンデータから製造されたメッシュは、メッシュパターンがハニカム構造状等に規則的に形成されているため、引っ張る力に対する強度が強い。したがって、紗張りされた場合であっても、メッシュが破れることがない。 In the mask manufacturing process, the mesh is stretched. When stretched, the mesh is pulled outward. Here, the mesh produced from the mesh pattern data created in the above embodiment has a high strength against pulling force because the mesh pattern is regularly formed in a honeycomb structure or the like. Therefore, the mesh is not torn even when it is stretched.
次に、図38に基づき、メッシュを有する複数の印刷パターン開口51が形成された層(マスク50)と、メッシュ無しの印刷開口49を有する金属層とを有する2層構造のメタルマスクを製造する方法について説明する。
まず、図35(a)から(d)までに示すように、レジスト42が形成された領域を除いて、基材41の上にメッシュパターン形状の金属層43をニッケル等のめっきにより形成する。続いて、図38(a)に示すように、レジスト42を剥離する。次に、図38(b)に示すように、製造したメッシュ(金属層43)を有する層(マスク50)の上にレジスト52を形成する。次に、印刷パターンを直描機を用いて、レジスト52に描画する。この場合もパターンフィルムを用いて露光してもよい。そして、現像すると、図38(c)に示すように、レジスト52が印刷開口49となる部分に形成される。次に、図38(d)に示すように、レジスト52が形成された部分を除き、マスク50の上に、金属層53を形成する。そして、図38(e)に示すように、レジスト52を剥離し、基材から剥がす。
これにより、印刷パターン開口51部分にリブ14を挟んで複数のメッシュパターンに対応する開口を有する複数の印刷パターン開口51を有する層と、メッシュ無しの印刷開口49を有する金属層53とを有する2層構造のメタルマスクが製造される。つまり、図1、図12、図26に示すようなメッシュパターンに対応する開口を有する印刷パターン開口51を有する層(マスク50)と、メッシュ無しの印刷開口49を有する金属層53とを有する2層構造のメタルマスクが製造される。
なお、印刷開口49は、マスク50のメッシュが形成された印刷パターン開口51部分に重なるように形成する。
また、上記マスクの製造方法は一例であり、他の方法によりマスクを製造してもよい。
Next, based on FIG. 38, a metal mask having a two-layer structure including a layer (mask 50) in which a plurality of printed
First, as shown in FIGS. 35A to 35D, a
As a result, a layer having a plurality of
The
The mask manufacturing method is merely an example, and the mask may be manufactured by other methods.
以上で説明したメッシュやマスクは、スクリーン印刷用のメッシュやマスクだけでなく、ボール搭載用のマスク、バンプ形成用のマスク、篩等に用いることができる。 The mesh and mask described above can be used not only for screen printing meshes and masks but also for ball mounting masks, bump forming masks, sieves, and the like.
つまり、以上の実施の形態に係るメッシュは、
所定の領域の中央部において、規則的に配列された同一形状の正規孔(六角形、円形、菱形の孔)と、
上記所定の領域内の周辺部において、上記正規孔と形状が異なるが同一面積の変形孔(端部に形成された多角形、舌状等の孔)と
を備えることを特徴とする。
言い換えると、以上の実施の形態に係るメッシュは、
所定の領域の中央部において、同一形状の正規孔(六角形、円形、菱形の孔)を規則的に配列する正規孔形成部(正規孔を形成するリブ14)と、
上記所定の領域内の周辺部において、上記正規孔と形状が異なるが同一面積の変形孔を形成する変形孔形成部(変形孔を形成するリブ14)と
を備えることを特徴とする。
That is, the mesh according to the above embodiment is
Regular holes of regular shape (hexagonal, circular, diamond-shaped holes) regularly arranged in the center of the predetermined region,
The peripheral portion in the predetermined region is provided with deformation holes (polygonal, tongue-like holes formed at the end portions) having the same area as the normal holes but having the same shape.
In other words, the mesh according to the above embodiment is
A regular hole forming part (
The peripheral portion in the predetermined region includes a deformed hole forming portion (
また、以上の実施の形態に係るメッシュは、
所定の領域に複数の孔を有するメッシュが形成されたメッシュにおいて、
上記所定の領域の辺を辺の一部とする孔と、
上記所定の領域の辺を辺の一部としない孔との面積が同一であることを特徴とする。
The mesh according to the above embodiment is
In a mesh formed with a mesh having a plurality of holes in a predetermined region,
A hole having a side of the predetermined region as a part of the side;
The area of the hole that does not make the side of the predetermined region a part of the side is the same.
次に、上記実施の形態におけるメッシュパターン作成装置100のハードウェア構成について説明する。
図39は、メッシュパターン作成装置100のハードウェア構成の一例を示す図である。
図39に示すように、メッシュパターン作成装置100は、プログラムを実行するCPU911(Central・Processing・Unit、中央処理装置、処理装置、演算装置、マイクロプロセッサ、マイクロコンピュータ、プロセッサともいう)を備えている。CPU911は、バス912を介してROM913、RAM914、LCD901(Liquid Crystal Display)、キーボード902(K/B)、通信ボード915、磁気ディスク装置920と接続され、これらのハードウェアデバイスを制御する。磁気ディスク装置920の代わりに、光ディスク装置、メモリカード読み書き装置などの記憶装置でもよい。
Next, a hardware configuration of mesh
FIG. 39 is a diagram illustrating an example of a hardware configuration of the mesh
As shown in FIG. 39, the mesh
ROM913、磁気ディスク装置920は、不揮発性メモリの一例である。RAM914は、揮発性メモリの一例である。ROM913とRAM914と磁気ディスク装置920とは、記憶装置(メモリ)の一例である。また、キーボード902、通信ボード915は、入力装置の一例である。また、通信ボード915は、通信装置の一例である。さらに、LCD901は、表示装置の一例である。
The
磁気ディスク装置920又はROM913などには、オペレーティングシステム921(OS)、ウィンドウシステム922、プログラム群923、ファイル群924が記憶されている。プログラム群923のプログラムは、CPU911、オペレーティングシステム921、ウィンドウシステム922により実行される。
An operating system 921 (OS), a
プログラム群923には、上記の説明において「データ入力部101」、「計算部102」、「敷詰部103」、「併合部104」、「調整部105」、「データ生成部106」、「変形部107」、「補助孔形成部108」等として説明した機能を実行するソフトウェアやプログラムやその他のプログラムが記憶されている。プログラムは、CPU911により読み出され実行される。
ファイル群924には、上記の説明において「矩形領域10の縦方向、横方向の幅」、「六角形の孔11の最低サイズ」、「円形の孔21の最低サイズ」、「菱形の孔31の最低サイズ」、「リブ14の幅」、「加工限界値」等の情報やデータや信号値や変数値やパラメータが、「ファイル」や「データベース」の各項目として記憶される。「ファイル」や「データベース」は、ディスクやメモリなどの記録媒体に記憶される。ディスクやメモリなどの記憶媒体に記憶された情報やデータや信号値や変数値やパラメータは、読み書き回路を介してCPU911によりメインメモリやキャッシュメモリに読み出され、抽出・検索・参照・比較・演算・計算・処理・出力・印刷・表示などのCPU911の動作に用いられる。抽出・検索・参照・比較・演算・計算・処理・出力・印刷・表示のCPU911の動作の間、情報やデータや信号値や変数値やパラメータは、メインメモリやキャッシュメモリやバッファメモリに一時的に記憶される。
また、上記の説明におけるフローチャートの矢印の部分は主としてデータや信号の入出力を示し、データや信号値は、RAM914のメモリ、その他光ディスク等の記録媒体に記録される。また、データや信号は、バス912や信号線やケーブルその他の伝送媒体によりオンライン伝送される。
The
In the
In addition, the arrows in the flowcharts in the above description mainly indicate input / output of data and signals, and the data and signal values are recorded in a memory of the
また、上記の説明において「〜部」として説明するものは、「〜回路」、「〜装置」、「〜機器」、「〜手段」、「〜機能」であってもよく、また、「〜ステップ」、「〜手順」、「〜処理」であってもよい。また、「〜装置」として説明するものは、「〜回路」、「〜装置」、「〜機器」、「〜手段」、「〜機能」であってもよく、また、「〜ステップ」、「〜手順」、「〜処理」であってもよい。さらに、「〜処理」として説明するものは「〜ステップ」であっても構わない。すなわち、「〜部」として説明するものは、ROM913に記憶されたファームウェアで実現されていても構わない。或いは、ソフトウェアのみ、或いは、素子・デバイス・基板・配線などのハードウェアのみ、或いは、ソフトウェアとハードウェアとの組み合わせ、さらには、ファームウェアとの組み合わせで実施されても構わない。ファームウェアとソフトウェアは、プログラムとして、ROM913等の記録媒体に記憶される。プログラムはCPU911により読み出され、CPU911により実行される。すなわち、プログラムは、上記で述べた「〜部」としてコンピュータ等を機能させるものである。あるいは、上記で述べた「〜部」の手順や方法をコンピュータ等に実行させるものである。
In addition, what is described as “to part” in the above description may be “to circuit”, “to device”, “to device”, “to means”, and “to function”. It may be “step”, “˜procedure”, “˜processing”. In addition, what is described as “˜device” may be “˜circuit”, “˜device”, “˜equipment”, “˜means”, “˜function”, and “˜step”, “ ~ Procedure "," ~ process ". Furthermore, what is described as “to process” may be “to step”. That is, what is described as “˜unit” may be realized by firmware stored in the
1,2,3 メッシュ、10 矩形領域、11 六角形の孔、12 台形の孔、13 五角形の孔、14 リブ、15 第1の列、16 第2の列、21 円形の孔、22 舌状の孔、23 略扇状の孔、24 補助孔、25 長方形、26 幅の狭い長方形、31 菱形の孔、32,33 五角形の孔、41 基材、42,52 レジスト、43,53 金属層、44 コンビネーション、45 スクリーン枠、46 紗、47 のりしろ、48 感光性樹脂、50 マスク、51 印刷パターン開口、100 メッシュパターン作成装置、101 データ入力部、102 計算部、103 敷詰部、104 併合部、105 調整部、106 データ生成部、107 変形部、108 補助孔形成部。 1, 2, 3 mesh, 10 rectangular area, 11 hexagonal hole, 12 trapezoidal hole, 13 pentagonal hole, 14 rib, 15 1st row, 16 2nd row, 21 circular hole, 22 tongue Holes, 23 substantially fan-shaped holes, 24 auxiliary holes, 25 rectangles, 26 narrow rectangles, 31 diamond-shaped holes, 32, 33 pentagonal holes, 41 base materials, 42, 52 resists, 43, 53 metal layers, 44 Combination, 45 screen frame, 46 mm, 47 margin, 48 photosensitive resin, 50 mask, 51 printing pattern opening, 100 mesh pattern creation device, 101 data input unit, 102 calculation unit, 103 padding unit, 104 merging unit, 105 Adjustment unit, 106 data generation unit, 107 deformation unit, 108 auxiliary hole formation unit.
Claims (17)
上記所定の略矩形領域の角を除く端部には、上記円形の円周の一部と上記所定の略矩形領域を成す辺の一部を一辺とする長方形とにより舌状の孔が形成され、上記所定の略矩形領域の角を除く端部に形成された舌状の孔は、上記円形の孔の開口面積と同一の開口面積を有する
ことを特徴とするマスクの印刷パターン開口用のメッシュ。 It is a mesh for printing pattern opening of a mask, and is a mesh in which a plurality of circular holes having the same opening area are formed in a predetermined substantially rectangular region,
A tongue-shaped hole is formed at the end of the predetermined substantially rectangular area excluding the corners, with a part of the circumference of the circle and a rectangle having a part of the side forming the predetermined approximately rectangular area as one side. A mesh for opening a printed pattern of a mask, wherein the tongue-shaped hole formed at an end portion excluding the corner of the predetermined substantially rectangular region has the same opening area as the opening area of the circular hole. .
ことを特徴とする請求項1に記載のマスクの印刷パターン開口用のメッシュ。 The mask for printing pattern opening of the mask according to claim 1, wherein the mesh for printing pattern opening of the mask further has auxiliary holes of a predetermined size formed between the plurality of circular holes. Mesh.
ことを特徴とする請求項2に記載のマスクの印刷パターン開口用のメッシュ。 The mesh for printing pattern opening of a mask according to claim 2, wherein the auxiliary hole is provided so that a width of a rib between the auxiliary hole is not less than a predetermined width.
所定の幅のリブを間に挟みながら上記所定の略矩形領域の縦方向又は横方向に並べると丁度収まる円の直径であって、円の直径が所定の長さ以上で上記所定の長さに近い円の直径を計算する計算ステップと、
上記計算ステップで計算した直径の円を上記所定の略矩形領域を覆うように上記リブを間に挟みながら規則的に並べる敷詰ステップと、
上記敷詰ステップで上記所定の略矩形領域の角を除く端部に並べられた円を変形して、上記端部へ線で接する舌状体を生成する変形ステップと、
上記計算ステップで計算した円の面積と、上記変形ステップで変形して生成した舌状体の面積とが同一面積となるように調整する調整ステップと、
上記調整ステップで調整した円と舌状体とを孔とするメッシュパターンデータを生成するデータ生成ステップと
を備えることを特徴とするメッシュパターンデータの作成方法。 A method of creating mesh pattern data of a mesh pattern in which a plurality of circular holes having the same opening area are arranged in a predetermined substantially rectangular area,
The diameter of a circle that fits exactly when placed in the vertical or horizontal direction of the predetermined substantially rectangular region with a rib having a predetermined width in between, the diameter of the circle being equal to or greater than a predetermined length and the predetermined length A calculation step to calculate the diameter of a near circle;
A laying step of regularly arranging the circles of the diameter calculated in the calculation step while sandwiching the ribs so as to cover the predetermined substantially rectangular region;
Deformation step of deforming the circles arranged at the end excluding the corner of the predetermined substantially rectangular region in the laying step to generate a tongue-like body that is in line with the end;
An adjustment step for adjusting the area of the circle calculated in the calculation step and the area of the tongue generated by deformation in the deformation step to be the same area;
A method for generating mesh pattern data, comprising: a data generation step for generating mesh pattern data in which the circle and the tongue adjusted in the adjustment step are holes.
ことを特徴とする請求項4に記載のメッシュパターンデータの作成方法。 In the deforming step, a tongue having one side connected to a part of a circumference of the circle arranged at the end of the predetermined substantially rectangular area and having a side as a part of the predetermined rectangular area is connected to a tongue shape. 5. The method of creating mesh pattern data according to claim 4, wherein the mesh pattern data is transformed into a body.
ことを特徴とする請求項4又は5に記載のメッシュパターンデータの作成方法。 6. The method of creating mesh pattern data according to claim 4, wherein, in the adjustment step, adjustment is performed by increasing the area of the circle by increasing the diameter of the circle.
上記リブに所定の大きさの補助孔を形成する補助孔形成ステップ
を備えることを特徴とする請求項4から6までのいずれかに記載のメッシュパターンデータの作成方法。 The method of creating the mesh pattern data is further
The mesh pattern data creation method according to any one of claims 4 to 6, further comprising an auxiliary hole forming step of forming an auxiliary hole of a predetermined size in the rib.
上記所定の略矩形領域の端部には、上記菱形の一部の辺と上記所定の略矩形領域を成す辺とにより多角形の孔が形成され、上記多角形の孔のうち、上記所定の略矩形領域の縦方向又は横方向の端部に形成された多角形の孔であって、角を除く端部に形成された多角形の孔は、上記菱形の孔と同一開口面積である
ことを特徴とするマスクの印刷パターン開口用のメッシュ。 A mesh for printing pattern opening of a mask, wherein a plurality of rhombic holes having the same side length are formed in a predetermined substantially rectangular region with a rib having a predetermined width interposed therebetween,
A polygonal hole is formed at an end of the predetermined substantially rectangular area by a part of the rhombus and an edge forming the predetermined approximately rectangular area. Among the polygonal holes, the predetermined hole A polygonal hole formed at the end of the substantially rectangular region in the vertical direction or the horizontal direction, and the polygonal hole formed at the end excluding the corners has the same opening area as the diamond-shaped hole. A mesh for printing pattern opening of a mask characterized by.
所定の幅のリブを間に挟みながら上記所定の略矩形領域の縦方向又は横方向に並べると丁度収まる所定の菱形の幅であって、縦方向又は横方向の幅が所定の幅以上で上記所定の幅に近い菱形の幅を計算する計算ステップと、
上記計算ステップで計算した幅の菱形を上記所定の略矩形領域を覆うように間に上記リブを挟みながら規則的に並べるステップであって、上記所定の略矩形領域の端部と並べた菱形の一部の辺とから構成された多角形が、対向する端部の多角形と対称な形状となるように上記菱形を並べる敷詰ステップと、
上記敷詰ステップで並べた菱形と、上記多角形とを孔とするメッシュパターンデータを生成するデータ生成ステップと
を備えることを特徴とするメッシュパターンデータの作成方法。 A method of creating mesh pattern data of a mesh pattern in which a plurality of rhombus holes having the same side length are arranged in a predetermined substantially rectangular region,
A predetermined rhombus width that fits in the vertical or horizontal direction of the predetermined substantially rectangular region with a rib having a predetermined width in between, the vertical or horizontal width being equal to or greater than the predetermined width A calculation step for calculating the width of the rhombus close to a predetermined width;
The step of arranging the rhombus having the width calculated in the calculating step regularly with the rib interposed therebetween so as to cover the predetermined substantially rectangular region, the rhombus being aligned with the end of the predetermined approximately rectangular region A laying step of arranging the rhombuses so that a polygon constituted by a part of the sides is symmetrical to a polygon of an opposing end;
A method for generating mesh pattern data, comprising: a data generation step for generating mesh pattern data having rhombuses arranged in the laying step and the polygons as holes.
上記所定の略矩形領域の端部のうち、左右の端部又は上下の端部に形成された多角形であって、角を除く端部に形成された多角形の面積が、上記菱形の面積と同一の面積となるように調整する調整ステップ
を備えることを特徴とする請求項9に記載のメッシュパターンデータの作成方法。 The method of creating the mesh pattern data is further
The polygon formed at the left and right ends or the top and bottom ends among the ends of the predetermined substantially rectangular area, and the area of the polygon formed at the ends excluding the corners is the area of the rhombus The method of creating mesh pattern data according to claim 9, further comprising an adjustment step of adjusting so as to have the same area.
ことを特徴とする請求項10に記載のメッシュパターンデータの作成方法。 The method of creating mesh pattern data according to claim 10, wherein in the adjustment step, the width of the rhombus is adjusted by expanding or contracting in the vertical direction or the horizontal direction.
上記多角形に所定の内接円が描けない場合には、上記多角形と隣接する菱形と上記多角形とを併合する併合ステップ
を備えることを特徴とする請求項9から11までのいずれかに記載のメッシュパターンデータの作成方法。 The method of creating the mesh pattern data is further
12. The method according to claim 9, further comprising a merging step of merging the polygon and the rhombus adjacent to the polygon when a predetermined inscribed circle cannot be drawn on the polygon. A method of creating the described mesh pattern data.
所定の幅のリブを間に挟みながら上記所定の略矩形領域の縦方向又は横方向に並べると丁度収まる所定の菱形の幅であって、縦方向又は横方向の幅が所定の幅以上で上記所定の幅に近い菱形の幅を計算する計算ステップと、
上記計算ステップで計算した幅の菱形を上記所定の略矩形領域を覆うように間に上記リブを挟みながら規則的に並べる敷詰ステップと、
上記所定の略矩形領域の端部と上記敷詰ステップで並べた菱形の一部の辺とから構成された多角形が、対向する端部の多角形と対称な形状となるように調整する調整ステップと、
上記調整ステップで調整した菱形と多角形とを孔とするメッシュパターンデータを生成するデータ生成ステップと
を備えることを特徴とするメッシュパターンデータの作成方法。 A method of creating mesh pattern data of a mesh pattern in which a plurality of rhombus holes having the same side length are arranged in a predetermined substantially rectangular region,
A predetermined rhombus width that fits in the vertical or horizontal direction of the predetermined substantially rectangular region with a rib having a predetermined width in between, the vertical or horizontal width being equal to or greater than the predetermined width A calculation step for calculating the width of the rhombus close to a predetermined width;
A laying step of regularly arranging rhombuses having a width calculated in the calculation step with the ribs sandwiched therebetween so as to cover the predetermined substantially rectangular region;
Adjustment that adjusts the polygon composed of the end of the predetermined substantially rectangular area and the side of the rhombus arranged in the laying step to be symmetrical to the polygon of the opposite end Steps,
A method for generating mesh pattern data, comprising: a data generation step for generating mesh pattern data having a rhombus and a polygon adjusted in the adjustment step as holes.
上記データ入力ステップで入力したメッシュパターンデータに基づき、基材に塗布されたレジストを露光し、現像してメッシュパターンの開口部分に対応するレジストパターンを形成する露光現像ステップと、
上記露光現像ステップで上記レジストパターンが形成された部分を除いて、上記基材に金属層をめっきにより形成する金属層生成ステップと、
上記レジストパターンを除去し、上記金属層から基材を剥離する除去剥離ステップと
を備えることにより、印刷パターン開口となる部分に上記メッシュパターンデータに基づくメッシュを形成する
ことを特徴とするマスク製造方法。 A data input step of inputting mesh pattern data generated by the mesh pattern data creation method according to any one of claims 4 to 7 or claims 9 to 13,
Based on the mesh pattern data input in the data input step, the resist applied to the substrate is exposed and developed to form a resist pattern corresponding to the opening portion of the mesh pattern;
Except for the portion where the resist pattern is formed in the exposure and development step, a metal layer generation step for forming a metal layer on the base material by plating; and
A mask manufacturing method comprising: forming a mesh based on the mesh pattern data in a portion to be a printed pattern opening by removing the resist pattern and providing a removal peeling step of peeling the substrate from the metal layer .
メッシュが形成された印刷パターン開口にメッシュ無しの印刷開口が重なるように、上記メッシュを有する層の一面に重ねてメッシュ無しの印刷開口を有する層を生成する
ことを特徴とする2層構造マスク製造方法。 It is a two-layer structure mask manufacturing method for manufacturing a layer having a printing opening without a mesh on a layer having a mesh manufactured by the mask manufacturing method according to claim 16,
A two-layer structure mask manufacturing method characterized in that a layer having a mesh-free print opening is formed on one side of the layer having a mesh so that the mesh-less print opening overlaps with a mesh-formed print pattern opening. Method.
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