JP2010019591A - 光パルス試験器 - Google Patents

Abstract

【課題】敷設された光ファイバ線路における障害点の位置を、安価で、且つ高い位置精度で正確に測定できる。
【解決手段】尖頭形パルスに変調した試験光を被測定光ファイバ６に出射する光源部１１と、被測定光ファイバ６からの戻り光から試験光の光信号のみを取り出すフィルタ手段１４と、フィルタ手段１４で取り出された試験光の光信号を光電交換する光検出手段１５と、光検出手段１５で光電変換された電気信号に基づき、被測定光ファイバ６の障害点位置の測定に関する処理制御を行う信号処理制御部１６とを備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、ＰＯＮ（Passive Optical Network ）システムにおける加入者線端局装置（ＯＬＴ：Optical Line Terminal ）から光スプリッタを経由して各ユーザ宅側の加入者線終端装置（ＯＮＵ：Optical Network Unit）間の光ファイバ線路における光損失や障害点位置の測定を行う光パルス試験器に関するものである。

近年、ＦＴＴＨ（Fiber To The Home ）などの光アクセス・システムの高速化は著しく、この５年ほどの間に約１００倍程度の高速・広帯域化が実現され、更なる高速化に向けた研究が行われている。そして、光アクセス網の高速ブロードバンド化の一実現方法として、伝送路途中に特段の中継装置を設けることなく、複数の加入者宅との間で高速のデータ送受を行うことが可能なシステムとしてＰＯＮシステムが実用化されている。

このＰＯＮシステムとは、ＯＬＴから１本の光ファイバを光スプリッタで分岐し、複数のユーザ宅にそれぞれ設置されたＯＮＵで共用する伝送方式であり、ＯＬＴの共有や光ファイバコストを低く抑えることが可能である。また、ＰＯＮシステムには、フレームの違いや伝送速度の違いによってＢ−ＰＯＮ（Broadband-PON ）、ＧＥ−ＰＯＮ（Gigabit Ethernet（登録商標）-PON) 、Ｇ−ＰＯＮ（Gigabit-PON ）などがあるが、基本的な構成は何れもＯＬＴと各ユーザ宅のＯＮＵが光スプリッタを介して接続する構成となっている。

このような光アクセス・システムでは、ユーザ当たりの導入コストだけでなく、運用コストも安価であることが重要なポイントとなり、高速性と経済性を兼ね備えたシステムが要求される。従って、運用コストを下げる意味でも、ＯＬＴと複数のＯＮＵ間の分岐光線路を安価に監視できるシステムが期待されている。なお、これらの技術は、ビル内の通信技術としても用いることができる。

図６は、下記特許文献１に開示される光分岐路監視システムにおける概略構成図である。図示のように、下記特許文献１の光分岐監視システム１００は、ＯＬＴである伝送装置１０１を含む通信業者局と複数のＯＮＵ１０２とが光スプリッタ１０３によって光多分岐接続された光多分岐通信システムの各分岐線路１ａ₁ 〜１ａ₈ を監視する光分岐線路監視システムにおいて、各ＯＮＵ１０２は、それぞれ固有に割り当てられた固有の監視波長光を反射するＦＢＧ１０２−１〜１０２−８を備え、通信業者局は、各ＦＢＧ１０２−１〜１０２−８の入力端における各監視波長光の強度がＯＮＵ１０２の最小受信強度未満となるように各監視波長光を出射する制御部１０４を備える。そして、伝送装置１０１は、ＯＴＤＲ１０５によりＯＮＵ１０２毎に割り当てた監視波長を順次出力しながら各線路を監視し、ＯＴＤＲ１０５の光検出には高感度の光検出が可能なフォトカウンティング方式が提案されている。

また、上記システムとは別の方式として、各ＯＮＵに固有の監視波長と固有の監視波長を反射するＦＢＧを割り当てるのではなく、各ＯＮＵに同一の監視波長と同一の監視波長を反射する光フィルタを用いる方法も考えられている。この方式を用いれば、ＯＬＴ側の光源波長も１つの波長で良く、安価な監視システムが実現できるというメリットがある。なお、この場合、光スプリッタらの反射位置が異なるように、光スプリッタから各ＯＮＵまでの光ファイバ長を変えて運用する必要がある。
特開２００５−１９２１３８号公報

しかしながら、上述した従来の方式のうち前者となる各ＯＮＵに固有の監視波長光と固有の監視波長光を反射するＦＢＧを割り当てる方法では、複数の波長を持つ光源及びＦＢＧが必要となるため、システム構成が高価となり、それに伴い運用コストが嵩んでしまうという問題があった。

また、後者の各ＯＮＵに同一の監視波長光と同一の監視波長光を反射する光フィルタを用いる方法では、各ＯＮＵまでの光ファイバ長の管理、運用上１ｍ以下程度の高い位置分解能が要求されるため、監視波長光の短パルス化による位置精度の向上、及び監視波長光の短パルス化と光スプリッタでの光分岐による監視波長光の検出レベルの低下に対応できる高感度、高安定な光信号検出が必要となり、やはりシステム構成などが高価になるという問題があった。

さらに、光多分岐通信システムにおける光線路障害点探索にあたり、位置精度を向上するためには監視波長光の短パルス化が必要であるが、現状、光線路障害点探索で用いる監視波長光は１パルスあたり３ｎｓ（分解能：８０ｃｍ）というのが限界であり、これ以上の位置精度を実現することができなかった。

そこで、本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、敷設された光ファイバ線路における障害点の位置を高い位置精度で正確に測定できる安価な光パルス試験器を提供することを目的とするものである。

上記した目的を達成するために、請求項１記載の光パルス試験器は、被測定光ファイバ６に出射した所定パルス幅の試験光の戻り光を受光検出して前記被測定光ファイバの光損失や障害点位置の測定を行う光パルス試験器１において、
尖頭形パルスに変調した前記試験光を前記被測定光ファイバに出射する光源部１１と、
前記被測定光ファイバからの戻り光から前記試験光の光信号のみを取り出すフィルタ手段１４と、
該フィルタ手段で取り出された前記試験光の光信号を光電交換する光検出手段１５と、
該光検出手段で光電変換された電気信号に基づき、前記被測定光ファイバの障害点位置の測定に関する処理制御を行う信号処理制御部１６と、
から構成されることを特徴とする。

請求項２記載の光パルス試験器は、加入者線端局装置２と複数の加入者線終端装置３が光スプリッタ５によって光信号を１対多に分岐接続された光多分岐通信システムにおける前記加入者端局装置側から被測定光ファイバ６に試験光を入射し、前記加入者終端装置側の直前に設置された光フィルタ４から反射されて前記加入者線端局装置側に戻る戻り光を受光検出して前記被測定光ファイバの光損失や障害点位置の測定を行う光パルス試験器において、
尖頭形パルスに変調した前記試験光を前記被測定光ファイバに出射する光源部１１と、
前記被測定光ファイバからの戻り光から前記試験光の光信号のみを取り出すフィルタ手段１４と、
該フィルタ手段で取り出された前記試験光の光信号を光電交換する光検出手段１５と、
該光検出手段で光電変換された電気信号に基づき、前記被測定光ファイバの障害点位置の測定に関する処理制御を行う信号処理制御部１６と、
から構成されることを特徴とする。

請求項３記載の光パルス試験器は、請求項２記載の光パルス試験器において、前記光源部１１は、前記試験光を尖頭形パルスに変調する尖頭形パルス変調信号及び前記試験光を矩形パルスに変調する矩形パルス変調信号を出力する変調信号発生部１１ｂと、
該変調信号発生部からの変調信号に基づき変調された試験光を出射する光源１１ａとを備え、
前記障害点位置を測定するときは、前記信号処理制御部１６からの指令により、前記変調信号発生部から出力される前記尖頭形パルス変調信号によって変調された前記試験光を前記光源から出射し、
前記被測定光ファイバ６の光損失を測定するときは、前記信号処理制御部からの指令により、前記変調信号発生部から出力される前記矩形パルス変調信号によって変調された前記試験光を前記光源から出射することを特徴とする。

請求項４記載の光パルス試験器は、請求項３記載の光パルス試験器において、前記信号処理制御部１６は、前記試験光を前記被測定光ファイバ６へ出射したときの前記加入者線終端装置３からの戻り光の反射レベルと、予め設定された前記光多分岐通信システムの被測定光ファイバが正常状態のときの前記加入者線終端装置からの戻り光の反射レベルである基準反射レベルデータとを比較し、
前記基準反射レベルデータを基準としたときに前記測定した戻り光の反射レベルが所定の範囲内であった場合は、前記被測定光ファイバが正常状態であると判定することを特徴とする。

本発明の光パルス試験器によれば、被測定光ファイバにおける障害点位置の測定する際に、矩形パルスよりもパルス幅の細い尖頭形パルスを用いることで空間分解能が向上し、より高精度に障害点位置の測定することができる。また、尖頭形パルスの変調には一般的な微分回路を用いているため、システム構成が安価な光パルス試験器を提供することができる。

さらに、障害点位置を測定する場合は尖頭形パルスに変調した試験光を、光損失の測定を行う場合は矩形パルスに変調された試験光を選択することできるため、ユーザの所望する試験内容に応じて最適な波形に切り替えることで、信頼性の高い光線路試験を行うことができる。

そして、１対１の接続でなく、ＰＯＮシステムなどのような１対多に分岐接続された光多分岐通信システムにおける光線路試験を行った場合、各ＯＮＵとの間の障害点位置の測定時に尖頭形パルスで変調された試験光を用いることで、高い位置精度で正確な障害点位置の測定が可能となり、試験の手間や作業効率の向上を図ることができる。

以下、本発明を実施するための最良の形態について、添付した図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明に係る光パルス試験器の構成及び同機器を用いたＰＯＮシステムを示す概略構成図であり、図２は同光パルス試験器の変調信号発生部における尖頭形パルス変調信号を発生させる微分回路の一例を示す回路図であり、図３（ａ）は光損失測定時に用いる矩形パルス波形を示す説明図であり、図３（ｂ）は障害点位置の測定時に用いる尖頭形パルス波形を示す説明図であり、図４は矩形パルス及び尖頭形パルスで測定した場合の測定波形を示す説明図であり、図５は本発明に係る光パルス試験器を他の形態で用いた例を示す説明図である。

本例の光パルス試験器は、敷設された被測定光ファイバに所定パルス幅の試験光を入射し、これに伴って被測定光ファイバから戻ってくる戻り光（後方散乱光又はフレネル反射光）を受光して被測定光ファイバの光損失や障害点位置の測定などの光線路試験を行う光パルス試験器において、光損失を測定する矩形パルス変調信号と、障害点位置を検出する尖頭形パルス変調信号を発生させる変調信号発生部を備え、被測定光ファイバの障害点位置を測定する光線路試験を行う際に、尖頭形パルス変調信号で変調した試験光を用いることで、高精度に光ファイバの障害点位置を測定するものである。

まず、本発明に係る光パルス試験器の構成について、図１〜４を参照しながら説明する。図１に示すように、本例の光パルス試験器１は、光源部１１、分岐手段１２、光増幅手段１３、フィルタ手段１４、光検出手段１５、信号処理制御部１６、記憶手段１７、表示手段１８、操作手段１９を備え、機器の所定箇所に設けられた光端子２０を介して被測定光ファイバ６と接続される。

なお、以下の説明では、本例の光パルス試験器１を、加入者線端局装置であるＯＬＴ２と、光パルス試験器１からの試験光を反射する光フィルタ４を直前に備えた複数の加入者線終端装置であるＯＮＵ３とが光スプリッタ５によって光多分岐接続されたＰＯＮシステムにおける光線路試験に用いた例で説明する。

光源部１１は、被測定光ファイバ６に試験光を出射する光源１１ａと、光線路試験の種類によって光源１１ａから出射される試験光を変調する変調信号発生手段１１ｂとで構成される。

光源１１ａは、例えばＬＤ（Laser Diode ）で構成され、光線路試験を行なう際に、後述する変調信号発生手段１１ｂからの変調信号（矩形パルス変調信号又は尖頭形パルス変調信号) に基づき変調されたパルス状の試験光を出射している。なお、ＰＯＮシステムにおける光通信では例えば通信用（１．３１／１．４９／１．５５μｍ）及び励起用（０．９８／１．４８μｍ）の波長を使用してるため、これらの波長とは異なる波長（１．６５μｍ、０．７８μｍ）の試験光を出射している。

変調信号発生手段１１ｂは、制御手段１６ｃからの変調指令（矩形パルス変調指令又は尖頭形パルス変調指令）を入力すると、試験光の光パルスを矩形パルスに変調するための矩形パルス変調信号若しくは尖頭形パルス（三角波）に変調するための尖頭形パルス変調信号を出力する。

すなわち、変調信号発生手段１１ｂは、被測定光ファイバ６の光損失を測定する場合に、制御手段１６ｃから矩形パルスに変調するための矩形パルス変調指令が出力されると、この指令に基づき試験光を矩形パルスに変調するための矩形パルス変調信号を光源１１ａに出力する。また、被測定光ファイバ６の障害点位置を検知する場合は、制御手段１６ｃから尖頭形パルスに変調するため尖頭形パルス変調指令が出力され、この指令に基づき試験光を尖頭形パルスに変調するための尖頭形パルス変調信号を光源１１ａに出力する。

変調信号発生手段１１ｂにおける矩形パルス変調信号の発生回路としては、既存の光パルス試験器１に具備されるパルス発生回路（不図示）の構成と同様であり、制御手段１６ｃからの矩形パルス変調指令に基づき、所定の発生タイミングで矩形パルス変調信号を光源１１ａに出力する。
また、尖頭形パルス変調信号の発生回路としては、例えば図２に示すような一般的な微分回路で構成され、制御手段１６ｃからの尖頭形パルス変調指令に基づき、所定の発生タイミングで尖頭形パルス変調信号を光源１１ａに出力する。

ここで、各変調信号によって発生する波形パルスについて説明する。矩形パルス変調信号によって変調される矩形パルスは、図３（ａ）に示すように従来から用いられるものと同様であり、パルス幅１０ｎｓで分解能が最小１．６ｍ、パルス幅３ｎｓで分解能が最小８０ｃｍである。これに対し、尖頭形パルスは、図３（ｂ）に示すように矩形パルスと比べてパルス幅が細くなっている（１．５ｄＢdownでの分解能が８０ｃｍ以下）。

従って、矩形パルスを出射して、その戻り光に基づく波形表示をした場合、例えば図４に示すような波形Ａ（図中点線）が表示される。また、尖頭形パルスを出射して、その戻り光に基づく波形表示をした場合、例えば図４に示すような波形Ｂ（図中実線）が表示される。図中の波形からも確認できるように、矩形パルスによって得られる波形ではＯＮＵ３の直前に設置された光フィルタ４の位置が曖昧で正確に表示されないのに対し、尖頭形パルスによって得られる波形では各光フィルタ４の位置が正確に表示される。

このように、従来のように矩形パルスに比べて尖頭形パルスの方がパルス幅が細いため、障害点位置を測定する際に矩形パルスよりもさらに分解能を上げることが可能となり、より正確な障害点位置の測定が行えるようになる。
また、尖頭形パルスを用いると、矩形パルスを用いた場合に比べて受光信号のオーバーシュートやアンダーシュートが少ないため、測定した波形における反射点後方の落ち込みが緩和され、誤検出が無くせるという利点もある。

分岐手段１２は、例えば３ｄＢカプラなどの光方向性結合器で構成され、光源１１ａから被測定光ファイバ６に対して出射された試験光の入射に伴って被測定光ファイバ６から戻ってくる戻り光（後方散乱光及びフレネル反射光）を光増幅手段１３に導出している。

光増幅手段１３は、分岐手段１２から導出された戻り光を直接光の状態で増幅してフィルタ手段１４に出力している。

フィルタ手段１４は、入射する光のうち所定波長の光のみを透過させるフィルタであり、光源１１ａから出力された試験光の戻り光（本例では矩形パルスに変調された１．６５μｍの光及び尖頭形パルスに変調された０．７８μｍの光）の光信号のみを透過し、この透過した光信号を光検出手段１５に出力している。

光検出手段１５は、例えばＡＰＤ（Avalanche Photo Diode ）で構成され、フィルタ手段１４を透過した光信号を受光検出して電気信号に変換（光電変換）し、この変換された電気信号を信号処理制御部１６に出力している。

信号処理制御部１６は、Ａ／Ｄ変換手段１６ａと、加算処理手段１６ｂと、制御手段１６ｃとで構成され、光検出手段１５からの電気信号に基づき光線路試験に係る各種処理制御を行っている。

Ａ／Ｄ変換手段１６ａは、光検出手段１５から出力された電気信号をＡ／Ｄ変換し、この変換した電気信号を加算処理手段１６ｂに出力している。

加算処理手段１６ｂは、Ａ／Ｄ変換手段１６ａから出力された電気信号の処理（単純加算や平均加算、また必要に応じてこれらの加算結果のフィルタ処理など）を行い、この処理によって得られた処理データを制御手段１６ｃに出力している。

制御手段１６ｃは、例えばＣＰＵやＲＯＭ、ＲＡＭなどで構成されるマイクロコンピュータで構成される。制御手段１６ｃは、加算処理手段１６ｂで得られた処理データに基づき、表示手段１８に表示させる波形データの生成や波形中に存在するイベント点（例えば障害点位置）のオートサーチ処理などの波形表示制御、例えばユーザの設定などによって選択された光線路試験の種類に適した波形の試験光（矩形パルス又は尖頭形パルス）に変調するための変調指令（矩形パルス変調指令又は尖頭形パルス変調指令）の出力、表示手段１８に表示される表示波形の切替え制御など、光パルス試験器１を駆動する際に必要な各種制御を行っている。

また、制御手段１６ｃは、加算処理手段１６ｂから出力された処理データに基づく戻り光の反射レベルデータと、記憶手段１７に記憶された正常状態の反射レベルである戻り光の基準反射レベルデータとを比較し、基準反射レベルデータを基準としたときに測定した戻り光の反射レベルが所定の範囲内（任意に設定可能）にあるか否かを判定し、所定範囲内であった場合は、正常状態であると判定する。さらに、制御手段１６ｃは、この判定結果の内容を表示手段１８に出力制御している。

記憶手段１７は、例えば書き換え可能なＲＯＭやＲＡＭなどの半導体メモリやＨＤＤなどで構成され、例えば敷設時の測定などにより被測定光ファイバ６が正常状態のときの各ＯＮＵ３の直前に設置された光フィルタ４からの戻り光の反射レベル（ピークレベルとノイズレベルとの二点間損失）を各ＯＮＵ３の位置と反射レベルとを関連付けした状態で基準反射レベルデータとして記憶している。また、記憶手段１７は、光パルス試験器１の各部を駆動する際に必要な駆動制御データも記憶している。

なお、記憶手段１７に記憶された基準反射レベルデータは、敷設する被測定光ファイバの距離やＯＮＵ３の設置位置などの正確な情報を把握している場合は、敷設時に測定する必要はなく、例えば操作手段１９から直接数値入力し、この値を基準反射レベルデータとして記憶させることもできる。

表示手段１８は、例えば液晶ディスプレイなどの表示装置で構成され、制御手段１６ｃの制御により、光線路試験の波形測定に基づく波形表示、装置駆動時の各種設定内容などの表示情報の表示出力をしている。

操作手段１９は、装置の駆動／停止、光線路試験の選択やその試験に関するパラメータ設定、光線路試験の種類によって異なる試験光の選択／切り替え（すなわち、試験内容に応じた変調信号の選択／切り替え）、表示手段１８に表示される表示波形の切り替えなど、光パルス試験器１を操作する際に使用される各種操作キーによって構成され、キー操作に伴う操作信号を制御手段１６ｃに出力している。

そして、上述した光パルス試験器１を用いて光損失の測定を行う場合、ユーザは、被測定光ファイバ６の光損失の測定を行うため光端子２０を介して被測定光ファイバ６と接続し、光損失の測定に適した矩形パルスの試験光を出射するべく、操作手段１９にて矩形パルスの試験光を選択する。

矩形パルスの試験光が選択されると、変調信号発生手段１１ｂに対して制御手段１６ｃから矩形パルス変調指令を出力し、この指令に基づき変調信号発生手段１１ｂから矩形パルス変調信号を光源１１ａに出力する。そして、変調された矩形パルスの試験光が被測定光ファイバ６に出射し、この試験光の戻り光（後方散乱光）を分岐手段１２で光増幅手段１３へ導出する。

導出された戻り光は、フィルタ手段１４におけるフィルタ処理後に光検出手段１５で光電変換され、さらに光電変換された電気信号をＡ／Ｄ変換手段１６ａでＡ／Ｄ変換され、このデジタル信号に基づき加算処理手段１６ｂで加算処理された処理データに基づき、波形表示処理した表示内容を表示手段１８に表示させる。

また、上述した光パルス試験器１を用いて障害点位置の測定を行う場合、ユーザは、上記と同様に光パルス試験器１を被測定光ファイバ６と接続した後、障害点位置の測定に適した尖頭形パルスの試験光を出射するべく、操作手段１９にて尖頭形パルスの試験光を選択する。

尖頭形パルスの試験光が選択されると、変調信号発生手段１１ｂに対して制御手段１６ｃから尖頭形パルス変調指令を出力し、この指令に基づき変調信号発生手段１１ｂから尖頭形パルス変調信号を光源１１ａに出力する。そして、変調された尖頭形パルスの試験光が被測定光ファイバ６に出射し、この試験光の戻り光（フレネル反射光）を分岐手段１２で光増幅手段１３へ導出する。

導出された戻り光は、フィルタ手段１４におけるフィルタ処理後に光検出手段１５で光電変換され、さらに光電変換された電気信号をＡ／Ｄ変換手段１６ａでＡ／Ｄ変換され、このデジタル信号に基づき加算処理手段１６ｂで加算処理された処理データに基づき、波形表示処理した表示内容を表示手段１８に表示させる。

このように、上述した光パルス試験器１は、光損失の測定を行う場合は、被測定光ファイバ６の光損失の測定に適した矩形パルスの試験光を出射するべく、変調信号発生手段１１ｂから矩形パルス変調信号を光源１１ａに出力し、この変調信号によって変調された試験光を被測定光ファイバ６に出射する。また、障害点位置の測定を行う場合は、被測定光ファイバ６の障害点位置の測定に適した尖頭形パルスの試験光を出射するべく、変調信号発生手段１１ｂから尖頭形パルス変調信号を光源１１ａに出力し、この変調信号によって変調された試験光を被測定光ファイバ６に出射する。

これにより、障害点位置の測定時に矩形パルスよりもパルス幅の細い尖頭形パルスを用いるため、従来からの矩形パルスにおける障害点位置の測定に比べて空間分解能が向上し、より高精度に障害点位置の測定を行うことができる。また、尖頭形パルスの変調に一般的な微分回路を用いているため、システム構成が安価で、且つ高精度、高安定化な光検出が可能な光パルス試験器１を提供することができる。

ところで、上述した形態において、戻り光である後方散乱光の偏光特性が問題となる場合は、光源１１ａと分岐手段１２との間の光路、分岐手段１２と光端子２０との間の光路、分岐手段１２と光増幅手段１３との間の光路の何れかに偏光をランダムに偏光にする偏光スクランブラを挿入することで、偏光特性に依存しない測定を行うことができる。

また、上述した説明では、本例の光パルス試験器１を加入者線端局装置であるＯＬＴ２と複数の加入者線終端装置であるＯＮＵ３が光スプリッタ５を用いた分岐光ファイバ伝送路を介して接続されるＰＯＮシステムに用いる例で説明したが、これに限定されることなはく、例えば図５に示すように、敷設された被測定光ファイバ６と接続して試験光を出力し、この出力した光の戻り光を受光することで、上記形態と同様に光ファイバの光損失及び障害点位置の検知を行うことができる。

さらに、上述した形態では、光パルス試験器１の構成として光増幅手段１３を具備した例で説明したが、この光増幅手段１３は被測定光ファイバ６の敷設距離が長い場合にその減衰した戻り光を増幅して感度向上させるための手段であるため、敷設距離が短い箇所でのみ使用したり、被測定光ファイバ６からの戻り光が減衰せずに十分感度が確保できる場合は、特に具備する必要はない。

以上、本願発明における最良の形態について説明したが、この形態による記述及び図面により本発明が限定されることはない。すなわち、この形態に基づいて当業者などによりなされる他の形態、実施例及び運用技術などはすべて本発明の範疇に含まれることは勿論である。

本発明に係る光パルス試験器の構成及び同機器を用いたＰＯＮシステムを示す概略構成図である。 同光パルス試験器の変調信号発生部における尖頭形パルス変調信号を発生させる微分回路の一例を示す回路図である。 （ａ） 光損失測定時に用いる矩形パルス波形を示す説明図である。 （ｂ） 障害点位置の測定時に用いる尖頭形パルス波形を示す説明図である。 矩形パルス及び尖頭形パルスで測定した場合の測定波形を示す説明図である。 本発明に係る光パルス試験器を他の形態で用いた例を示す説明図である。 従来の光分岐線路監視システムの概要構成を示す説明図である。

符号の説明

１…光パルス試験器
２…加入者線端局装置（ＯＬＴ）
３…加入者線終端装置（ＯＮＵ）
４…光フィルタ
５…光スプリッタ
６…被測定光ファイバ
１１…光源部（１１ａ…光源、１１ｂ…変調信号発生手段）
１２…分岐手段
１３…光増幅手段
１４…フィルタ手段
１５…光検出手段
１６…信号処理制御手段（１６ａ…Ａ／Ｄ変換手段、１６ｂ…加算処理手段、１６ｃ…制御手段）
１７…記憶手段
１８…表示手段
１９…操作手段
２０…光端子

Claims (4)

1. 被測定光ファイバ（６）に出射した所定パルス幅の試験光の戻り光を受光検出して前記被測定光ファイバの光損失や障害点位置の測定を行う光パルス試験器（１）において、
   尖頭形パルスに変調した前記試験光を前記被測定光ファイバに出射する光源部（１１）と、
   前記被測定光ファイバからの戻り光から前記試験光の光信号のみを取り出すフィルタ手段（１４）と、
   該フィルタ手段で取り出された前記試験光の光信号を光電交換する光検出手段（１５）と、
   該光検出手段で光電変換された電気信号に基づき、前記被測定光ファイバの障害点位置の測定に関する処理制御を行う信号処理制御部（１６）と、
   から構成されることを特徴とする光パルス試験器。
2. 加入者線端局装置（２）と複数の加入者線終端装置（３）が光スプリッタ（５）によって光信号を１対多に分岐接続された光多分岐通信システムにおける前記加入者端局装置側から被測定光ファイバ（６）に試験光を入射し、前記加入者終端装置側の直前に設置された光フィルタ（４）から反射されて前記加入者線端局装置側に戻る戻り光を受光検出して前記被測定光ファイバの光損失や障害点位置の測定を行う光パルス試験器において、
   尖頭形パルスに変調した前記試験光を前記被測定光ファイバに出射する光源部（１１）と、
   前記被測定光ファイバからの戻り光から前記試験光の光信号のみを取り出すフィルタ手段（１４）と、
   該フィルタ手段で取り出された前記試験光の光信号を光電交換する光検出手段（１５）と、
   該光検出手段で光電変換された電気信号に基づき、前記被測定光ファイバの障害点位置の測定に関する処理制御を行う信号処理制御部（１６）と、
   から構成されることを特徴とする光パルス試験器。
3. 前記光源部（１１）は、前記試験光を尖頭形パルスに変調する尖頭形パルス変調信号及び前記試験光を矩形パルスに変調する矩形パルス変調信号を出力する変調信号発生部（１１ｂ）と、
   該変調信号発生部からの変調信号に基づき変調された試験光を出射する光源（１１ａ）とを備え、
   前記障害点位置を測定するときは、前記信号処理制御部（１６）からの指令により、前記変調信号発生部から出力される前記尖頭形パルス変調信号によって変調された前記試験光を前記光源から出射し、
   前記被測定光ファイバ（６）の光損失を測定するときは、前記信号処理制御部からの指令により、前記変調信号発生部から出力される前記矩形パルス変調信号によって変調された前記試験光を前記光源から出射することを特徴とする請求項２記載の光パルス試験器。
4. 前記信号処理制御部（１６）は、前記試験光を前記被測定光ファイバ（６）へ出射したときの前記加入者線終端装置（３）からの戻り光の反射レベルと、予め設定された前記光多分岐通信システムの被測定光ファイバが正常状態のときの前記加入者線終端装置からの戻り光の反射レベルである基準反射レベルデータとを比較し、
   前記基準反射レベルデータを基準としたときに前記測定した戻り光の反射レベルが所定の範囲内であった場合は、前記被測定光ファイバが正常状態であると判定することを特徴とする請求項３記載の光パルス試験器。

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