JP2010016590A - Amplifier - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、無線機器等において受信した高周波微弱信号を増幅する低雑音増幅器等を構成する増幅器に関するものである。 The present invention relates to an amplifier that constitutes a low-noise amplifier that amplifies a high-frequency weak signal received by a wireless device or the like.
携帯電話、無線LAN端末などの高周波無線通信等においては、受信する信号は通常微弱であるため、信号を復調する前に増幅しておく必要がある。この時雑音が混入すると信号のS/N比が劣化し、復調した信号にエラーや雑音が含まれたりする。これを避けるため、受信信号の最初の増幅には低雑音増幅器が用いられる。 In high-frequency wireless communication such as a cellular phone and a wireless LAN terminal, a received signal is usually weak, so it is necessary to amplify the signal before demodulating it. If noise is mixed at this time, the S / N ratio of the signal deteriorates, and the demodulated signal includes errors and noise. To avoid this, a low noise amplifier is used for the initial amplification of the received signal.
低雑音増幅器として、従来よりエンハンスメント型電界効果トランジスタ(以下単にE型FETともいう)をカスコード接続した増幅回路が用いられてきた。従来より用いられてきたカスコード接続された増幅器の回路図を図6に示す。カスコード接続することにより、入力端子5から信号が入力される第1のトランジスタ1の負荷が低インピーダンスに抑えられるため、いわゆるミラー効果が減少し、高周波特性が向上する。また静電流も第1のトランジスタとカスコード接続した第2トランジスタ2とで共通に利用するため、通常の2段増幅器と比較して少ない。この構成の増幅器を同一の基板上に構成する際、二つのトランジスタは同一の閾値電圧を持っていた。
As a low-noise amplifier, an amplifier circuit in which an enhancement type field effect transistor (hereinafter also simply referred to as an E-type FET) is cascode-connected has been used. FIG. 6 shows a circuit diagram of a conventional cascode-connected amplifier that has been used. By cascode connection, the load of the
特許文献1には、カスコード接続された電界効果トランジスタを用いて構成された高周波電力増幅回路が開示されている。特許文献1に開示された構成は、回路構成の簡略化を目的として、デプレッション型電界効果トランジスタ(以下単にD型FETともいう)のドレイン電極とエンハンスメント型電界効果トランジスタのソース電極とをカスコード接続した高周波増幅回路である。このとき信号はD型FETのゲート電極に入力され、E型FETのドレイン電極に接続された端子から出力される。E型FETのゲート電極は正電圧にバイアスする必要があり、且つ入力される信号の周波数帯域では接地される必要があるため、キャパシタを介して接地される。なお、D型FETではその閾値電圧は負であり、E型FETの閾値電圧は正となる。
しかしながら図6に示す従来の構成では、カスコード接続された第2の電界効果トランジスタのゲート電極のバイアス電圧は、第1の電界効果トランジスタトランジスタのソース電極よりも高く設定する必要がある。このため第1の電界効果トランジスタトランジスタのゲート電極のバイアス電圧と、第2の電界効果トランジスタのゲート電極のバイアス電圧とが異なるため、バイアス回路6a、6bによって2種類のバイアス電圧を発生させる必要が生じる。このため回路規模が大きくなり、高周波低雑音増幅器の小型化を困難にし、コスト増大に繋がるという問題があった。かかる点は、特許文献1に開示された構成においても同様である。すなわち、D型FETのソース電極電位が0であるため、pHEMTプロセストランジスタでの最適なゲート電極のバイアス電位は通常負になる。しかしながら負電位の発生は困難であるため、バイアス回路を複雑化させ、チップ面積が増大してしまう。また、E型FETとD型FETのゲート電極のバイアス電位の最適値は異なるため、発生させる必要のある電位が2種となる。したがってこの場合もやはりバイアス回路が複雑になる。
However, in the conventional configuration shown in FIG. 6, the bias voltage of the gate electrode of the second cascode-connected second field effect transistor needs to be set higher than that of the source electrode of the first field effect transistor transistor. For this reason, since the bias voltage of the gate electrode of the first field effect transistor transistor is different from the bias voltage of the gate electrode of the second field effect transistor, it is necessary to generate two types of bias voltages by the
また、図6に示す構成において、第2のトランジスタのゲート電極は、増幅する受信信号の周波数帯において高周波的に接地されている必要がある。このため第2のトランジスタのゲート電極は通常、容量を介してアースに接続される。ゲート電極が接地とみなされるにはこの容量は十分に小さなインピーダンスとなる必要があるため、大面積を必要とする。このことも高周波低雑音増幅器の小型化を困難にし、コスト増大に繋がる。さらに、第2のトランジスタのゲート電極を容量を介して接地する場合、容量のインピーダンスが十分に小さい条件、すなわち十分に高い周波数でしかカスコード接続の性能を発揮できないため、特性が安定しないという問題がある。かかる点は、特許文献1に開示された構成においても同様である。すなわち、E型FETのゲート電極は高周波的に接地しておく必要があるが、バイアス電位が0Vでないためキャパシタ等を介して接地する必要があり、広帯域に渡って安定的に接地状態を保つことが困難である。
In the configuration shown in FIG. 6, the gate electrode of the second transistor needs to be grounded at a high frequency in the frequency band of the received signal to be amplified. For this reason, the gate electrode of the second transistor is usually connected to the ground via a capacitor. In order for the gate electrode to be regarded as ground, this capacitance needs to have a sufficiently small impedance, so that a large area is required. This also makes it difficult to reduce the size of the high-frequency low-noise amplifier and leads to an increase in cost. Furthermore, when the gate electrode of the second transistor is grounded via a capacitor, the characteristic of the cascode connection can be exhibited only under conditions where the impedance of the capacitor is sufficiently small, that is, at a sufficiently high frequency, so that the characteristics are not stable. is there. This also applies to the configuration disclosed in
そこで本発明は上述の問題点に鑑み、バイアス回路を簡略化し、小型で広い帯域に渡って安定なカスコード接続型の増幅器を実現することを目的とする。 In view of the above-described problems, an object of the present invention is to realize a cascode-connected amplifier that is simple in size and stable over a wide band.
本発明の増幅器は、第1及び第2の電界効果トランジスタを有し、前記第1の電界効果トランジスタのゲート電極に接続された入力端子に高周波信号が入力され、前記第1の電界効果トランジスタのドレイン電極には、前記第2の電界効果トランジスタのソース電極が接続され、前記第2の電界効果トランジスタのドレイン電極に接続された出力端子から増幅された高周波信号が出力するカスコード接続型の増幅器であって、前記第1の電界効果トランジスタはエンハンスメント型電界効果トランジスタであり、前記第2の電界効果トランジスタはデプレッション型電界効果トランジスタであり、前記第2の電界効果トランジスタのゲート電極は容量を介さずに接地されていることを特徴とする。かかる構成によって増幅器のバイアス回路を簡略化するとともに、第2の電界効果トランジスタのゲート電極の接地状態を安定化することができる。 The amplifier of the present invention includes first and second field effect transistors, a high frequency signal is input to an input terminal connected to the gate electrode of the first field effect transistor, and the first field effect transistor includes: The drain electrode is connected to the source electrode of the second field effect transistor, and is a cascode connection type amplifier that outputs an amplified high frequency signal from an output terminal connected to the drain electrode of the second field effect transistor. The first field effect transistor is an enhancement type field effect transistor, the second field effect transistor is a depletion type field effect transistor, and the gate electrode of the second field effect transistor does not pass through a capacitor. It is characterized by being grounded. With this configuration, the amplifier bias circuit can be simplified and the ground state of the gate electrode of the second field effect transistor can be stabilized.
また前記増幅器において、前記第1及び第2の電界効果トランジスタは、同一の半導体基板の、一方の主面側に形成され、前記第2の電界効果トランジスタのゲート電極は前記半導体基板を貫通するスルーホールを介して前記半導体基板の他の主面側で接地されていることが好ましい。かかる構成によって、高い周波数帯域においても、前記第2のゲート電極を安定的に接地することが可能となる。 In the amplifier, the first and second field effect transistors are formed on one main surface side of the same semiconductor substrate, and a gate electrode of the second field effect transistor is a through-hole penetrating the semiconductor substrate. It is preferable that the other main surface of the semiconductor substrate is grounded through a hole. With such a configuration, it is possible to stably ground the second gate electrode even in a high frequency band.
また前記増幅器において、前記第1の電界効果トランジスタのドレイン-ソース間飽和電圧が、前記第2の電界効果トランジスタの閾値電圧の絶対値未満であることが好ましい。かかる構成によって高い増幅率を確保することができる。 In the amplifier, it is preferable that a drain-source saturation voltage of the first field effect transistor is less than an absolute value of a threshold voltage of the second field effect transistor. With this configuration, a high amplification factor can be ensured.
また前記増幅器において、前記第1の電界効果トランジスタのゲート電極にバイアス電圧を供給するバイアス電圧発生回路が、前記増幅器とともに同一の基板に集積されていることが好ましい。かかる構成によって、前記バイアス回路に用いられるトランジスタの特性が前記第1の電界効果トランジスタの特性に極めて近くなるため、前記第1の電界効果トランジスタのプロセス変動による特性変動を相殺するようにバイアス電圧を発生させることが出来る。 In the amplifier, a bias voltage generating circuit for supplying a bias voltage to the gate electrode of the first field effect transistor is preferably integrated with the amplifier on the same substrate. With this configuration, since the characteristics of the transistor used in the bias circuit are very close to the characteristics of the first field effect transistor, the bias voltage is set so as to cancel the characteristic fluctuation caused by the process fluctuation of the first field effect transistor. Can be generated.
また前記増幅器において、前記第1の電界効果トランジスタのソース電極は、ボンディングワイヤを介して接地されていることが好ましい。かかる構成によって、前記増幅器の入力整合を、チップインダクタ等の外付け部品を用いることなく良好にすることが出来る。 In the amplifier, the source electrode of the first field effect transistor is preferably grounded via a bonding wire. With this configuration, the input matching of the amplifier can be improved without using an external component such as a chip inductor.
また前記増幅器において、前記第1の電界効果トランジスタ及び第2の電界効果型トランジスタが擬似格子整合高電子移動度トランジスタであることが好ましい。かかる構成によって、例えば閾値電圧の絶対値が1Vを超える特性の優れたD型FETとE型FETを同一の基板上に構成することが容易となる。 In the amplifier, it is preferable that the first field effect transistor and the second field effect transistor are pseudo lattice matched high electron mobility transistors. With this configuration, for example, it becomes easy to configure a D-type FET and an E-type FET having excellent characteristics in which the absolute value of the threshold voltage exceeds 1 V on the same substrate.
本発明よれば、小型で、広い帯域に渡って安定なカスコード接続型の増幅器が実現可能となる。 According to the present invention, a cascode-connected amplifier that is small and stable over a wide band can be realized.
本発明の技術思想について、具体的な実施形態に基づき説明する。図1は該実施形態の増幅器の回路図である。かかる増幅器は第1の電界効果トランジスタ1及び第2の電界効果トランジスタ2を有し、第1の電界効果トランジスタ1のドレイン電極に、第2の電界効果トランジスタ2のソース電極が接続されたカスコード接続型の低雑音増幅器である。高周波信号は第1の電界効果トランジスタ1のゲート電極に接続された入力端子5から入力され、増幅された高周波信号が第2の電界効果トランジスタのドレイン電極に接続された出力端子8から出力される。第1の電界効果トランジスタ1のゲート電極と入力端子5とに間にDCカットのためにキャパシタ16を接続しているが、他の方法で第1の電界効果トランジスタ1のゲート電極のバイアス電圧が保たれるなら、キャパシタ16は省略してもよい。入力端子5には、さらに整合のための入力整合回路が接続されても良い。電源からのDC電圧がインダクタ3を介して第2の電界効果トランジスタ2のドレイン電極に供給される。出力端子8にはさらに出力整合回路が接続されても良い。インダクタ3は本実施例に必須ではなく、他の構成を用いて第2の電界効果トランジスタ2のドレイン電極にDC電圧を供給してもよい。
The technical idea of the present invention will be described based on specific embodiments. FIG. 1 is a circuit diagram of the amplifier according to this embodiment. Such an amplifier has a first
第1の電界効果トランジスタ1はエンハンスメント型電界効果トランジスタ(E型FET)であり、第2の電界効果トランジスタ2はデプレッション型電界効果トランジスタ(D型FET)である。第1の電界効果トランジスタ1と第2の電界効果トランジスタ2は、小型化、製造プロセスの簡略化のために、同一の半導体基板の、同じ一方の主面側に形成されているが、その形成方法は特に限定するものではない。第1の電界効果トランジスタ1と第2の電界効果トランジスタ2を別々の半導体基板に形成することも可能である。E型FETである第1の電界効果トランジスタ1の閾値電圧Vt1は0.2Vである。第1の電界効果トランジスタ1のゲート−ソース間の電圧Vgs1がVt1を超えるとドレイン−ソース間に電流が流れる。ソース電極はインダクタ9を介して接地されている。インダクタを介して接地する理由は、外部との入力整合を容易にするためである。第1の電界効果トランジスタ1のゲート電極は約0.4Vにバイアスされており、この時ドレイン−ソース間の飽和電圧は約0.5Vである。また、ディプレション型電界効果トランジスタである第2の電界効果トランジスタ2は閾値電圧Vt2として−1Vを持つようにしてある。この場合、第1の電界効果トランジスタ1のドレイン-ソース間飽和電圧は、第2の電界効果トランジスタ2の閾値電圧の絶対値の1/2以下の十分小さい値に調整されている。
The first
第2の電界効果トランジスタ2のゲート電極は半導体基板を貫通するスルーホール4を介して半導体基板の他の主面側で接地されている。スルーホール4は半導体基板の一方の主面側とそれに対向する他方の主面側(裏面)を接続しており、半導体基板の裏面が接地電位となっている。すなわち、第2の電界効果トランジスタのゲート電極は容量を介さずに接地されている。かかる構成によって、広い周波数帯域において安定な接地状態を実現することができる。なお、第2の電界効果トランジスタ2のゲート電極を容量を介さずに接地する構成は図1に示す実施形態に限らない。フリップチップ実装を適用する場合など、スルーホールを介さずに接地してもよい。いずれにしても、第2の電界効果トランジスタのゲート電極を容量を介さずに接地することによって、特に低周波側の接地状態が安定する。また、第2の電界効果トランジスタ2のゲート電極を広帯域に渡って安定して接地しておくために、第2の電界効果トランジスタ2のゲート電極とスルーホール4間の距離(図3において図示した距離d)は第1の電界効果トランジスタ1または第2の電界効果トランジスタ2の遮断周波数のいずれか低い方の周波数における波長の10分の1よりも小さいことが望ましい。かかる構成によって特に高周波側の接地状態が安定化する。
The gate electrode of the second
上述のように、本実施形態においては、E型FETである第1の電界効果トランジスタ1のドレーン−ソース間の飽和電圧がD型FETである第2の電界効果トランジスタ2の閾値電圧の絶対値より十分小さくなるようにバイアス電圧、電界効果トランジスタのゲート幅、プロセスを調整した。D型FETである第2の電界効果トランジスタ2に電流が流れる場合、そのソース電極の電位は、Vt2の絶対値より小さくなる。もしこの電位がドレイン−ソース間の飽和電圧より小さい場合、E型FETである第1の電界効果トランジスタ1による信号の増幅率が小さくなってしまう。このような状態を避けるためには第1の電界効果トランジスタ1のドレーン−ソース間の飽和電圧が第2の電界効果トランジスタ2の閾値電圧の絶対値未満にすることがより望ましい。
As described above, in this embodiment, the saturation voltage between the drain and the source of the first
第1の電界効果トランジスタ1のドレイン電極に、第2の電界効果トランジスタ2のソース電極が接続された、上述のカスコード接続型の増幅器を用いることによって、バイアス回路が発生する必要がある電位を一種としてバイアス回路を簡略化し、増幅器の小型化が図られている。図1に示す実施形態では、バイアス回路6aから、バイアス出力端子7aを介して第1の電界効果トランジスタ1のゲート電極に電圧が供給される。一方、第2の電界効果トランジスタ2のゲート電極にはバイアス回路が接続されていない。図1のバイアス回路6aの具体的構成を図2に示す。図2中のエンハンスメント型の電界効果トランジスタ10は、第1の電界効果トランジスタ1と同じ閾値電圧を有する。電圧供給端子Vbに外部から電圧が供給されると、抵抗11を介して電流が流れ、その電流値に応じた電圧が電界効果トランジスタ10のゲート電極に発生する。この電圧を、抵抗12を介して第1の電界効果トランジスタ1のゲート電極に供給する。なお、抵抗12は、高周波信号がバイアス回路に流れ込むのを防ぐためと、バイアス回路で発生したノイズが高周波低雑音増幅器へ流出するのを防ぐため十分大きい抵抗値を持つ必要がある。本実施形態では2kΩとした。
By using the above-described cascode-connected amplifier in which the source electrode of the second field-
図3に、本実施形態に係る半導体基板主面側に形成された、E型FETである第1の電界効果トランジスタ1、D型FETである第2の電界効果トランジスタ2、スルーホール4、バイアス回路6a中の電界効果トランジスタ10、抵抗11及び12、ソース電極が接続されたソース接続用パッド13、入力端子となる入力パッド14、出力端子となる出力パッド15並びに電圧供給端子Vbのレイアウトを示す。第1の電界効果型トランジスタ1のソース電極は、ボンディングワイヤを介して接地されている。図1に示したインダクタ9は、ソース接続用パッド13に接続される前記ボンディングワイヤによって実現している。これは、本実施形態における高周波信号の周波数が5GHzと高いため、ボンディングワイヤのインダクタンスが利用できる程度に十分大きいためである。なお、スルーホール4は、第2の電界効果トランジスタのゲート電極を接地すると同時に、バイアス回路中の電界効果トランジスタ10のソース電極も接地している。
FIG. 3 shows a first
第1の電界効果トランジスタ及び第2の電界効果トランジスタには、シリコン基板に集積されたMOS(Metal Oxide Silicon)FETや、GaAs基板上に集積された擬似格子整合高電子移動度トランジスタ(p-HEMT FET)等の電界効果トランジスタを用いることができる。特に擬似格子整合高電子移動度トランジスタを用いることで高周波特性、雑音特性に優れた高周波低雑音増幅器が実現できる。 The first field effect transistor and the second field effect transistor include a MOS (Metal Oxide Silicon) FET integrated on a silicon substrate and a pseudo lattice matched high electron mobility transistor (p-HEMT integrated on a GaAs substrate). Field effect transistors such as FET) can be used. In particular, a high frequency low noise amplifier having excellent high frequency characteristics and noise characteristics can be realized by using a pseudo lattice matched high electron mobility transistor.
図4に本実施例の高周波低雑音増幅器の、ゲイン及びNFを示す。DC電源電圧3Vの時、バイアス電流11mAと低消費電力であるにもかかわらず、5〜6GHzにおいて10dB以上の高いゲインが得られている。また、5GHzにおいては15dB以上の高いゲインとノイズフィギュア約1.25dBの良好なノイズ特性が確保できた。 FIG. 4 shows the gain and NF of the high frequency low noise amplifier of this embodiment. When the DC power supply voltage is 3 V, a high gain of 10 dB or more is obtained at 5 to 6 GHz, although the bias current is 11 mA and the power consumption is low. Further, at 5 GHz, a high gain of 15 dB or more and a good noise characteristic of about 1.25 dB of noise figure were secured.
次に本発明に係る他の実施形態を、図5に示す。かかる実施形態においては第1の電界効果トランジスタ1のソース電極はインダクタを介さずに接地されている。その代わりに第1の電界効果トランジスタ1のゲート電極には整合回路17が接続されている。ソース電極をインダクタを介して接続した場合には、インダクタで発生する電圧が負帰還となるため、ゲインが小さくなってしまう。ゲインを大きくする必要がある場合には、インダクタを介さず直接接地することが有効である。ただし、このような構成では、ゲート電極の入力インピーダンスの整合状況を悪化させるため、入力整合回路を設けることが好ましい。
Next, another embodiment according to the present invention is shown in FIG. In such an embodiment, the source electrode of the first
1:第1の電界効果トランジスタ
2:第2の電界効果型トランジスタ
3、9:インダクタ
4、4a:スルーホール
5:入力端子
6a、6b:バイアス回路
7a、7b:バイアス出力端子
8:出力端子
10:電界効果トランジスタ
11、12:抵抗
13:ソース接続用パッド13
14:入力パッド
15:出力パッド
1: First field effect transistor 2: Second field effect transistor 3, 9:
5: Input terminal 6a, 6b:
14: Input pad 15: Output pad
Claims (6)
前記第1の電界効果トランジスタはエンハンスメント型電界効果トランジスタであり、前記第2の電界効果トランジスタはデプレッション型電界効果トランジスタであり、
前記第2の電界効果トランジスタのゲート電極は容量を介さずに接地されていることを特徴とする増幅器。 A first field effect transistor; a high frequency signal is input to an input terminal connected to the gate electrode of the first field effect transistor; and the drain electrode of the first field effect transistor A cascode-connected amplifier to which a source electrode of a second field effect transistor is connected and an amplified high frequency signal is output from an output terminal connected to a drain electrode of the second field effect transistor;
The first field effect transistor is an enhancement type field effect transistor, and the second field effect transistor is a depletion type field effect transistor;
An amplifier, wherein the gate electrode of the second field effect transistor is grounded without passing through a capacitor.
前記第2の電界効果トランジスタのゲート電極は前記半導体基板を貫通するスルーホールを介して前記半導体基板の他の主面側で接地されていることを特徴とする請求項1に記載の増幅器。 The first and second field effect transistors are formed on one main surface side of the same semiconductor substrate,
2. The amplifier according to claim 1, wherein a gate electrode of the second field effect transistor is grounded on the other main surface side of the semiconductor substrate through a through hole penetrating the semiconductor substrate.
前記第1の電界効果トランジスタのゲート電極にバイアス電圧を供給するバイアス電圧発生回路が、前記増幅器とともに同一の基板に集積されていることを特徴とする増幅器。 The amplifier according to any one of claims 1 to 3,
An amplifier, wherein a bias voltage generating circuit for supplying a bias voltage to the gate electrode of the first field effect transistor is integrated with the amplifier on the same substrate.
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