JP2010005886A - Method of manufacturing patch transfer medium, patch transfer medium and patch transfer fibrous material - Google Patents

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Shinji Tajima
真治 田島
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a patch transfer medium which enables easy transferring of a patch to a fibrous material and shows the excellent durability, especially, mar resistance of the top surface after transfer, as well as a method of manufacturing the patch transfer medium and a patch transfer fibrous material. <P>SOLUTION: This method of manufacturing a patch transfer medium comprises (1) the process of preparing a transfer material 10 with a transparent base 11, a hologram layer 15, a transparent reflective layer 17 and a printing layer 18, (2) the process of preparing a support 30, (3) the process of forming a release layer 14 and a mold release layer 13 on the transfer material 10, (4) the laminate 50 process of laminating a mold release layer 13 surface and a support base 31 surface through an adhesive layer 29, (5) the process of forming an adhesion layer 19 on a printing layer 18 surface formed on the transfer material 10, and (6) the half-cutting process of half-cutting a transfer part 23 constituted of the release layer 14, the transparent base 11, the hologram layer 15, the transparent reflective layer 17, the printing layer 18 and the adhesion layer 19, as a patch 21 so that the patch 21 may releasably overlie a mold release layer 13 surface. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、パッチ転写媒体の製造方法に関し、さらに詳しくは、Tシャツ等の繊維素材に重ねてアイロン等で加熱加圧することで転写することのできるパッチ転写媒体の製造方法、製造されたパッチ転写媒体、該パッチ転写媒体を用いたパッチ転写繊維質素材に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a patch transfer medium, and more particularly, a method for manufacturing a patch transfer medium that can be transferred by heating and pressurizing with an iron or the like on a fiber material such as a T-shirt, and manufactured patch transfer The present invention relates to a medium and a patch transfer fibrous material using the patch transfer medium.

本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「%」などは特に断わらない限り質量基準であり、「/」印は一体的に積層されていることを示す。また、「PET」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、同意語、機能的表現、通称、又は業界用語である。また、「ホログラム」は「ホログラムと、回折格子などの光回折性機能を有するものも含む。   In the present specification, “ratio”, “part”, “%” and the like indicating the composition are based on mass unless otherwise specified, and the “/” mark indicates that they are integrally laminated. “PET” is an abbreviation, synonym, functional expression, common name, or industry term for “polyethylene terephthalate”. “Hologram” includes “hologram and those having a light diffractive function such as a diffraction grating”.

(主なる用途)本発明のパッチ転写媒体の製造方法、該製造方法で製造されたパッチ転写媒体、該パッチ転写媒体用いてパッチを転写してなるパッチ転写繊維質素材(媒体)の主なる用途としては、例えば、Tシャツなどの衣類、カートン、ケース、外装紙などの包装材類、バッグ類などの装身具、鑑賞券、グリーティングカード、封筒、タグ、しおり、カレンダー、ポスター、パンフレット、ネームプレート、レポート用紙など文具類、建材、パネル、エンブレム、履物、靴などの類などがある。しかしながら、転写後にはハードコート機能を有する剥離層が最表面となって、耐擦傷性に優れ、かつ意匠性に優れるホログラム及び印刷層を有するパッチをアイロン等で加熱加圧することで転写が容易にできる用途であれば、特に限定されるものではない。   (Main application) Main application of patch transfer medium manufacturing method of the present invention, patch transfer medium manufactured by the manufacturing method, and patch transfer fibrous material (medium) obtained by transferring a patch using the patch transfer medium As, for example, clothing such as T-shirts, packaging materials such as cartons, cases, exterior paper, accessories such as bags, appreciation tickets, greeting cards, envelopes, tags, bookmarks, calendars, posters, brochures, nameplates, There are stationery items such as report paper, building materials, panels, emblems, footwear and shoes. However, after the transfer, the release layer having a hard coat function becomes the outermost surface, and the transfer is easy by heating and pressing a patch having a hologram and a printing layer having excellent scratch resistance and excellent design properties with an iron or the like. It is not particularly limited as long as it can be used.

(背景技術)近年、個人の好みが多様化し個性化が進み、多くの個人向け商品は多品種小ロット生産の傾向が高まっている。ステーショナリーやアパレル製品では、個性的な製品までが要望されている。しかしながら、従来の布や紙などの繊維質素材、例えばTシャツへの装飾の形成は直接スクリーン印刷するか、転写紙へオフセットやスクリーン印刷法で印刷した後に、Tシャツへ転写する方法のために、転写後には装飾がが最表面となって耐久性に劣るという問題点があった。また、装飾面へ、熱転写性樹脂層を有する保護層熱転写フィルムを重ね合わせ、アイロンや加熱ロール等を用いて、透明性を有する熱転写性樹脂層を転写させ、装飾上に保護層を形成することが行われている。しかしながら、上記の保護層はアイロン又は熱ロールによる転写時に、部分的に転写する必要があることから、箔切れ性を有する必要がある。この場合、保護層を数ミクロン程度の厚さの樹脂膜にせざるを得ないことから、強靱な耐擦傷性、耐薬品性等の耐久性を持たせることが出来ないという欠点があった。さらに、PETやOPPフィルムと共に転写するタイプもあるが、該フィルムは特に鋭利なものによる耐擦傷性に劣り、傷付き易いという問題点があった。
従って、布や紙などの繊維質素材への装飾であって、意匠性に優れるホログラム及び印刷層を有するパッチをアイロン等で加熱加圧した後に、前記支持基材及び離型層を剥離し除去することで、前記離型層と前記剥離層との間で剥離し、前記パッチが前記被転写体へ転写されてなり、最表面が前記剥離層となることで耐擦傷性に優れ、かつ意匠性に優れるホログラムを有するパッチ転写媒体、パッチ転写媒体の製造方法及びパッチ転写繊維質素材が求められている。
(Background Art) In recent years, personal preferences have been diversified and personalized, and many personal products have a tendency to produce a variety of small lots. For stationery and apparel products, there is a demand for unique products. However, traditional fabric materials such as cloth and paper, such as decoration on T-shirts, can be directly screen-printed, or transferred to T-shirts after printing on transfer paper by offset or screen printing. After transfer, there is a problem that the decoration becomes the outermost surface and is inferior in durability. In addition, a protective layer thermal transfer film having a thermal transfer resin layer is superimposed on the decorative surface, and the transparent thermal transfer resin layer is transferred using an iron or a heating roll to form a protective layer on the decoration. Has been done. However, since the above protective layer needs to be partially transferred at the time of transfer by an iron or a heat roll, it needs to have a foil cutting property. In this case, since the protective layer has to be a resin film having a thickness of about several microns, there is a disadvantage that durability such as tough scratch resistance and chemical resistance cannot be provided. Furthermore, there are types that transfer together with PET or OPP film, but the film has a problem that it is inferior in scratch resistance due to a sharp object and is easily damaged.
Therefore, it is a decoration on fabric materials such as cloth and paper, and after heating and pressurizing a patch having a hologram and printing layer with excellent design properties with an iron or the like, the support substrate and the release layer are peeled off and removed. By peeling between the release layer and the release layer, the patch is transferred to the transfer object, and the outermost surface becomes the release layer, so that the scratch resistance is excellent and the design There is a need for a patch transfer medium having a hologram with excellent properties, a method for manufacturing the patch transfer medium, and a patch transfer fibrous material.

(先行技術)従来、本出願人は基材、剥離性樹脂層、ハードコート機能を兼ねたホログラム層、透明反射層及び接着層を設けてなるホログラム転写箔が知られている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、転写時には部分的な転写であり、箔切れ性をよくするために、ホログラム層を数ミクロン程度の厚さの樹脂膜にせざるを得ず、媒体の表面へ転写されて最表面となり、多数回の繰り返し使用されると、強靱な耐擦傷性や耐溶剤性などの耐久性に欠けるという欠点がある。
また、Tシャツ等の表面に加熱したアイロンにて押さえることで転写する熱転写シートであって、Tシャツ等に転写された転写シートのカラートナー画像が表面化しないように構成した撥水性熱転写シートが知られている(例えば、特許文献2参照。)。しかしながら、強靱な耐擦傷性や耐溶剤性などの耐久性に欠けるという欠点がある。
(Prior Art) Conventionally, the present applicant has known a hologram transfer foil provided with a base material, a peelable resin layer, a hologram layer also serving as a hard coat function, a transparent reflection layer, and an adhesive layer (for example, patent documents). 1). However, it is a partial transfer at the time of transfer, and in order to improve the foil cutting property, the hologram layer must be a resin film with a thickness of about several microns, and is transferred to the surface of the medium to become the outermost surface. When used repeatedly, there is a drawback in that it lacks durability such as tough scratch resistance and solvent resistance.
Also known is a water-repellent thermal transfer sheet, which is a thermal transfer sheet that is transferred to a surface of a T-shirt or the like by pressing it with a heated iron, and is configured so that the color toner image of the transfer sheet transferred to the T-shirt or the like does not surface. (For example, see Patent Document 2). However, there is a drawback that it lacks durability such as tough scratch resistance and solvent resistance.

特開2008−9134号公報JP 2008-9134 A 特開2004−232148号公報JP 2004-232148 A

そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、布や紙などの繊維質素材への装飾であって、意匠性に優れるホログラム及び印刷層を有するパッチをアイロン等で加熱加圧した後に、支持基材及び離型層を剥離し除去することで、離型層と剥離層との間で剥離し、転写が容易にでき、かつ、転写後にはハードコート機能を有する剥離層が最表面となって耐擦傷性に優れるパッチ転写媒体、パッチ転写媒体の製造方法及びパッチ転写繊維質素材を提供する。   Accordingly, the present invention has been made to solve such problems. Its purpose is to decorate fabric materials such as cloth and paper, and after heating and pressing a patch with a hologram and printed layer with excellent design properties with an iron etc., the support substrate and the release layer are peeled off. By removing the patch transfer medium, the release layer and the release layer are peeled off to facilitate transfer, and after transfer, the release layer having a hard coat function becomes the outermost surface and has excellent scratch resistance. A patch transfer medium manufacturing method and a patch transfer fiber material are provided.

上記の課題を解決するために、請求項1の発明に係わるパッチ転写媒体の製造方法は、(1)透明基材と、該透明基材の一方の面にホログラム層、透明反射層及び印刷層を設けてなる転写材を準備する転写材準備工程と、(2)支持基材からなる支持材を準備する支持材準備工程と、(3)前記転写材における透明基材のホログラム層と反対の面へ、剥離層及び離型層を設ける剥離層及び離型層形成工程と、(4)前記離型層面と前記支持材の支持基材面とを、接着剤層を介して積層して積層体とする積層工程と、(5)前記積層体の前記印刷層面へ、ホットメルトからなる接着層を設ける接着層形成工程と、(6)前記剥離層、透明基材、ホログラム層、透明反射層、印刷層及び接着層からなる構成を転写部とし、該転写部をハーフカット処理を施してパッチとし、該パッチが離型層面へ剥離可能に積層されているようにするハーフカット処理工程と、からなるように、したものである。
請求項2の発明に係わるパッチ転写媒体は、請求項1に記載のパッチ転写媒体の製造方法で製造されたパッチ転写媒体であって、前記剥離層、透明基材、ホログラム層、透明反射層、印刷層及び接着層から構成される転写部をハーフカット処理を施してパッチとし、該パッチが前記離型層面へ剥離可能に積層されてなり、前記離型層はアクリレート系樹脂を主成分とし、前記剥離層はメタアクリレート系樹脂とポリエチレンワックスを主成分とするように、したものである。
請求項3の発明に係わるパッチ転写繊維質素材は、請求項2に記載のパッチ転写媒体の前記接着層面と繊維質素材からなる被転写体とを重ね合わせて、アイロンで加熱加圧した後に、前記支持基材及び離型層を剥離し除去することで、前記離型層と前記剥離層との間で剥離し、前記パッチが前記被転写体へ転写されてなり、最表面が前記剥離層となることで耐擦傷性に優れ、かつ意匠性に優れるホログラムを有するように、したものである。
In order to solve the above problems, a method for producing a patch transfer medium according to the invention of claim 1 includes: (1) a transparent substrate, and a hologram layer, a transparent reflective layer, and a printed layer on one surface of the transparent substrate. A transfer material preparation step for preparing a transfer material provided with a support material, (2) a support material preparation step for preparing a support material comprising a support base material, and (3) opposite to the hologram layer of the transparent base material in the transfer material. A release layer and a release layer forming step for providing a release layer and a release layer on the surface; and (4) laminating the release layer surface and the support base material surface of the support material via an adhesive layer. (5) an adhesive layer forming step in which an adhesive layer made of hot melt is provided on the printed layer surface of the laminate, and (6) the release layer, the transparent substrate, the hologram layer, and the transparent reflective layer. The transfer part is composed of a printing layer and an adhesive layer, and the transfer part is half-cut. A patch subjected to physical, but the patch and the half-cut process to make is releasably laminated to the release layer surface, which as made of, the.
A patch transfer medium according to the invention of claim 2 is a patch transfer medium manufactured by the method for manufacturing a patch transfer medium according to claim 1, wherein the release layer, the transparent substrate, the hologram layer, the transparent reflection layer, A transfer part composed of a printing layer and an adhesive layer is subjected to a half-cut treatment to form a patch, and the patch is laminated so as to be peelable to the release layer surface, and the release layer has an acrylate resin as a main component, The release layer is mainly composed of a methacrylate resin and polyethylene wax.
The patch transfer fibrous material according to the invention of claim 3 is obtained by superposing the adhesive layer surface of the patch transfer medium according to claim 2 and a transfer material made of a fiber material, and heating and pressing with an iron, By peeling off and removing the support substrate and the release layer, the release layer and the release layer are peeled off, and the patch is transferred to the transfer target, and the outermost surface is the release layer. Thus, the hologram has excellent scratch resistance and excellent design.

請求項1の本発明によれば、布や紙などの繊維質素材への装飾であって、意匠性に優れるホログラム及び印刷層を有するパッチをアイロン等で加熱加圧した後に、前記支持基材及び離型層を剥離し除去することで、前記離型層と前記剥離層との間で剥離し、前記パッチが前記被転写体へ転写できるパッチ転写媒体の製造方法が提供される。
請求項2の本発明によれば、パッチをアイロン等で加熱加圧した後に、前記支持基材及び離型層を剥離し除去することで、前記離型層と前記剥離層との間で剥離し、前記パッチが前記被転写体へ転写できるパッチ転写媒体が提供される。前記離型層はアクリレート系樹脂を主成分とし、前記剥離層はメタアクリレート系樹脂とポリエチレンワックスを主成分とする2層を用いることで、前記パッチを前記被転写体へ転写する際に、前記離型層と前記剥離層との間で、容易に安定して剥離でき被転写体へ転写される。
従来の離型層又は剥離層の1層構成では、離型層又は剥離層と接している他の層との間で剥離するが、他の層はそれぞれの機能を受け持っており、剥離はするが、層の受け持つ機能が重視されているので、剥離の剥離力の制御は副次的で制御しにくく、また、剥離の安定性も低いが、この欠点を解消することができる。
請求項3の本発明によれば、また、剥離した前記剥離層が最表面となり、剥離層は保護層を兼ねているので耐擦傷性に優れ、かつ意匠性に優れるホログラムを有するパッチ転写繊維質素材が提供される。
According to the first aspect of the present invention, the support base material is a decoration on a fibrous material such as cloth or paper, and the patch having a hologram and a printed layer having excellent design properties is heated and pressed with an iron or the like. Further, by peeling and removing the release layer, a method for producing a patch transfer medium is provided in which the release layer and the release layer are peeled off and the patch can be transferred to the transfer target.
According to the second aspect of the present invention, after the patch is heated and pressed with an iron or the like, the support substrate and the release layer are peeled off and removed, thereby peeling between the release layer and the release layer. And the patch transfer medium which can transfer the said patch to the said to-be-transferred body is provided. The release layer has an acrylate resin as a main component, and the release layer uses two layers having a methacrylate resin and a polyethylene wax as main components, so that when the patch is transferred to the transfer object, It can be easily and stably peeled between the release layer and the release layer and transferred to a transfer medium.
In the conventional one-layer configuration of the release layer or release layer, the release layer or the release layer peels off from other layers that are in contact with each other, but the other layers are responsible for their functions and release. However, since the function of the layer is regarded as important, the control of the peeling force is secondary and difficult to control, and the stability of peeling is low, but this drawback can be solved.
According to the third aspect of the present invention, the peeled release layer is the outermost surface, and since the release layer also serves as a protective layer, the patch transfer fiber having a hologram having excellent scratch resistance and excellent design properties Material is provided.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図1は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法を示すステップ図である。
図2は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ1の転写材準備工程で準備する転写材の断面図である。
図3は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ2の支持材準備工程で準備する支持材の断面図である。
図4は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ3の剥離層及び離型層形成工程後の断面図である。
図5は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ4の積層工程後の積層体の断面図である。
図6は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ5の接着層形成工程後の積層体の断面図である。
図7は、本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ6のハーフカット工程後の本発明のパッチ転写媒体の断面図である。
図8は、本発明のパッチ転写媒体を用いて繊維質基材への転写を説明する説明図である。
図9は、本発明のパッチ転写媒体を用いて転写した本発明の1実施例を示すパッチ転写繊維質素材の断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a step diagram showing a method for manufacturing a patch transfer medium according to the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of a transfer material prepared in the transfer material preparation process in step 1 of the method for manufacturing a patch transfer medium of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the support material prepared in the support material preparation process in step 2 of the method for manufacturing the patch transfer medium of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view after the step of forming a release layer and a release layer in Step 3 of the method for manufacturing a patch transfer medium of the present invention.
FIG. 5 is a cross-sectional view of the laminated body after the laminating process in step 4 of the method for producing a patch transfer medium of the present invention.
FIG. 6 is a cross-sectional view of the laminate after the adhesive layer forming step of step 5 of the method for manufacturing the patch transfer medium of the present invention.
FIG. 7 is a cross-sectional view of the patch transfer medium of the present invention after the half-cut process of Step 6 of the method for manufacturing the patch transfer medium of the present invention.
FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining transfer to a fibrous base material using the patch transfer medium of the present invention.
FIG. 9 is a cross-sectional view of a patch transfer fibrous material showing an embodiment of the present invention transferred using the patch transfer medium of the present invention.

(画像形成方法)次に、本発明のパッチ転写媒体の製造方法について説明する。本発明のパッチ転写媒体の製造方法は、図1に示すように、ステップ1S1の(1)透明基材11と、該透明基材11の一方の面にホログラム層15、透明反射層17及び印刷層18を設けてなる転写材10を準備する転写材準備工程と、ステップ2S2の(2)支持基材31からなる支持材30を準備する支持材準備工程と、ステップ3S3の(3)前記転写材10における透明基材11のホログラム層15と反対の面へ、剥離層14及び離型層13を設ける剥離層及び離型層形成工程と、ステップ4S4の(4)前記離型層13面と前記支持材30の支持基材31面とを、接着剤層29を介して積層して積層体50とする積層工程と、ステップ5S5の(5)前記積層体50の前記印刷層18面へ、ホットメルトからなる接着層19を設ける接着層形成工程と、ステップ6S6の(6)前記剥離層14、透明基材11、ホログラム層15、透明反射層17、印刷層18及び接着層19からなる構成を転写部23とし、該転写部23をハーフカット処理を施してパッチ21とし、該パッチ21が離型層13面へ剥離可能に積層されているようにするハーフカット処理工程と、からなっている。   (Image Forming Method) Next, the method for producing the patch transfer medium of the present invention will be described. As shown in FIG. 1, the method for producing a patch transfer medium of the present invention includes (1) a transparent substrate 11 in step 1S1, and a hologram layer 15, a transparent reflective layer 17 and printing on one surface of the transparent substrate 11. A transfer material preparation step for preparing the transfer material 10 provided with the layer 18, a support material preparation step for preparing the support material 30 composed of (2) the support base material 31 in step 2S2, and (3) the transfer in step 3S3. A release layer and release layer forming step in which a release layer 14 and a release layer 13 are provided on the surface of the material 10 opposite to the hologram layer 15 of the transparent substrate 11, and (4) the release layer 13 surface in step 4S4 The step of laminating the support base material 31 surface of the support material 30 via the adhesive layer 29 to form the laminate 50, and in step 5S5 (5) to the print layer 18 surface of the laminate 50, An adhesive layer 19 made of hot melt is provided. (6) Step 6S6 (6) The structure comprising the release layer 14, the transparent substrate 11, the hologram layer 15, the transparent reflective layer 17, the print layer 18 and the adhesive layer 19 is used as the transfer section 23, and the transfer The portion 23 is subjected to a half-cut process to form a patch 21, and the patch 21 includes a half-cut process step in which the patch 21 is detachably laminated on the surface of the release layer 13.

(ステップ1)ステップ1S1は、(1)透明基材11と、該透明基材11の一方の面にホログラム層15、透明反射層17及び印刷層18を設けてなる転写材10を準備する転写材準備工程である。転写材10は図2に示すような構成となる。   (Step 1) Step 1S1 is (1) a transfer in which a transparent base material 11 and a transfer material 10 comprising a hologram layer 15, a transparent reflection layer 17 and a printing layer 18 on one surface of the transparent base material 11 are prepared. This is a material preparation process. The transfer material 10 is configured as shown in FIG.

(透明基材)透明基材11としては、ハーフカット処理された部分を境界にして、剥離層14、透明基材11、ホログラム層15、透明反射層17、印刷層17及び接着層19からなる構成を転写部23の1部として切断されパッチ21となって、被転写体である繊維質基材101へ転写されて、剥離層14とともに保護機能を発現する。透明性と、耐候性、耐摩擦性、耐薬品性等の耐久性を有するものであれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、アクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリアリレートなどのエンジニアリング樹脂、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン系樹脂、セロファンなどのセルロース系フィルムなどが例示できる。該透明基材11は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体(アロイでを含む)、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。   (Transparent substrate) The transparent substrate 11 is composed of a release layer 14, a transparent substrate 11, a hologram layer 15, a transparent reflective layer 17, a printed layer 17, and an adhesive layer 19, with a half-cut processed portion as a boundary. The structure is cut as a part of the transfer portion 23 to form a patch 21, which is transferred to the fibrous base material 101 that is a transfer target, and exhibits a protective function together with the release layer 14. Various materials can be applied depending on the application as long as they have transparency and durability such as weather resistance, friction resistance, and chemical resistance. For example, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamide resins, vinyl resins such as polyvinyl chloride, acrylic resins, imide resins, engineering resins such as polyarylate, polycarbonate, cyclic polyolefin resins, cellophane Examples thereof include cellulosic films. The transparent substrate 11 may be a copolymer resin containing these resins as a main component, a mixture (including an alloy), or a laminate composed of a plurality of layers.

また、該透明基材11は、延伸又は未延伸のフィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。厚は、通常2.5〜50μm程度が適用できるが、2.5〜25μmが好適である。該透明基材11は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、プライマー(アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる)塗布処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えてもよい。2軸延伸ポリエチレンテレフタレートのフィルムが、耐熱性、機械的強度がよいため好適に使用され。   The transparent substrate 11 may be a stretched or unstretched film, but a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction is preferable for the purpose of improving strength. A thickness of about 2.5 to 50 μm is usually applicable, but 2.5 to 25 μm is preferable. Prior to coating, the transparent substrate 11 is subjected to easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, primer (also called an anchor coat, adhesion promoter, or easy adhesive) coating treatment, alkali treatment, etc. May be. Moreover, you may add additives, such as a filler, a plasticizer, a coloring agent, and an antistatic agent, as needed. A biaxially stretched polyethylene terephthalate film is preferably used because of its good heat resistance and mechanical strength.

(ホログラム層)ホログラム層15としては、電離放射線硬化樹脂を主成分とし、必要に応じてシリコーンやフィラーなどの添加物を含ませてもよい。   (Hologram layer) The hologram layer 15 may contain an ionizing radiation curable resin as a main component, and may contain additives such as silicone and filler as necessary.

該電離放射線硬化性樹脂としては、好ましくは、(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂を用い、好ましくはポリエチレンワックスを含ませて、塗布し乾燥して電離放射線で硬化させて、電離放射線硬化樹脂とすればよい。   The ionizing radiation curable resin is preferably (1) an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule, and (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. Preferably using an ionizing radiation curable resin containing a polyfunctional (meth) acrylate having, or (3) a urethane (meth) acrylate oligomer which is a reaction product of a polyhydric alcohol having at least two hydroxyl groups in the molecule. May contain polyethylene wax, applied, dried, and cured with ionizing radiation to form an ionizing radiation curable resin.

前記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂(本明細書では電離放射線硬化性樹脂組成物Mと呼称する)は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物、具体的には、特開2001−329031号公報で開示されている光硬化性樹脂などが例示できる。具体的には、MHX405ニス(ザ・インクテック(株)製、電離放射線硬化性樹脂商品名)、ユピマーUV・V3031(三菱化学(株)製、電離放射線硬化性樹脂商品名)が例示できる。   The ionizing radiation curable resin containing the urethane (meth) acrylate oligomer (referred to herein as the ionizing radiation curable resin composition M) is a cured ionizing radiation curable resin containing the urethane (meth) acrylate oligomer. Examples thereof include photocurable resins disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-329031. Specific examples include MHX405 varnish (made by The Inktec Co., Ltd., ionizing radiation curable resin product name) and Iupimer UV · V3031 (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., product name of ionizing radiation curable resin).

(ホログラム層の形成)ホログラム層15の形成は、上記の電離放射線硬化性樹脂を主成分とし、必要に応じてシリコーンやフィラー、光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤等を加え、溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、ダイコートなどの公知のコーティング方法で塗布し乾燥して、ホログラム(レリーフ)を賦型後に電離放射線で反応(硬化)させればよい。ホログラム層15の厚さは、通常、1〜10μm程度、好ましくは2〜5μmである。   (Hologram layer formation) The hologram layer 15 is formed with the above-mentioned ionizing radiation curable resin as a main component, and silicone, filler, photopolymerization initiator, plasticizer, stabilizer, surfactant, etc. are added as necessary. , Dispersed or dissolved in a solvent, applied by a known coating method such as roll coating, gravure coating, comma coating, die coating, etc., dried and reacted (cured) with ionizing radiation after shaping the hologram (relief) Good. The thickness of the hologram layer 15 is usually about 1 to 10 μm, preferably 2 to 5 μm.

(ホログラム)次に、ホログラム層15の表面には、ホログラムなどの光回折効果の発現する所定の微細な凹凸(レリーフ構造)を賦型し、硬化させる。ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム(CGH)、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。   (Hologram) Next, predetermined fine unevenness (relief structure) such as a hologram that exhibits a light diffraction effect is formed on the surface of the hologram layer 15 and cured. A hologram is a recording of interference fringes due to the interference of light between object light and reference light in an uneven relief shape, such as a laser reproduction hologram such as a Fresnel hologram, a white light reproduction hologram such as a rainbow hologram, There are color holograms utilizing the above principle, computer generated holograms (CGH), holographic diffraction gratings and the like. The relief shape is a concavo-convex shape, and is not particularly limited, and may have a fine concavo-convex shape such as light diffusion, light scattering, light reflection, light diffraction, etc., such as Fourier transform or lenticular lens. , A light diffraction pattern, and a moth eye. Further, although it does not have a light diffraction function, it may be a hairline pattern, a mat pattern, a line pattern, an interference pattern, or the like that expresses a unique glitter.

ホログラム層15面へ、レリーフ形状を賦形(複製ともいう)する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型(スタンパという)として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。   A relief shape is formed (also referred to as replication) on the surface of the hologram layer 15. Hologram shaping can be formed by a known method. For example, when recording diffraction gratings or interference fringes of holograms as reliefs of surface irregularities, a master on which the diffraction gratings or interference fringes are recorded in irregularities is pressed. The concave / convex pattern of the original can be duplicated by using it as a mold (referred to as a stamper) and by superimposing the original on the resin layer and heat-pressing both of them with an appropriate means such as a heating roll.

また、ホログラム層15に形成するホログラムパターンは単独でも、複数でもよい。ホログラム層15は、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、紫外線や電子線などの電離放射線を照射して硬化(反応)させると電離放射線硬化樹脂(微細な凹凸=レリーフ構造=ホログラム)となる。   Further, the hologram pattern formed on the hologram layer 15 may be single or plural. The hologram layer 15 is irradiated with ionizing radiation during or after embossing with a stamper to cure the ionizing radiation curable resin. The ionizing radiation curable resin becomes an ionizing radiation curable resin (fine irregularities = relief structure = hologram) when it is cured (reacted) by irradiation with ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams after the relief is formed.

(透明反射層)透明反射層17は、所定のレリーフ構造を設けたホログラム層15面のレリーフ面へ、透明反射層17へ設けることにより、レリーフの反射及び/又は回折効果を高めるので、ホログラム層15の反射率より高く又は低ければ、特に限定されない。該透明反射層17としては、真空薄膜法などによる透明反射層である。透明反射層としては、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム層15よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ZnS、TiO2、Al23、Sb23、SiO、SnO2、ITO等があり、後者の例としては、LiF、MgF2、AlF3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Be、Mg、Ca、Cr、Mn、Cu、Ag、Al、Sn、In、Te、Fe、Co、Zn、Ge、Pb、Cd、Bi、Se、Ga、Rb、Sb、Pb、Ni、Sr、Ba、La、Ce、Au等の酸化物又は窒化物他はそれらを2種以上を混合したもの等が例示できる。またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが200Å以下になると、透明性が出て使用できる。透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、ホログラム層15のレリーフ面に、10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVDなどの真空薄膜法などにより設ければよい。 (Transparent Reflective Layer) Since the transparent reflective layer 17 is provided on the transparent reflective layer 17 on the relief surface of the hologram layer 15 provided with a predetermined relief structure, the reflection and / or diffraction effect of the relief is enhanced. There is no particular limitation as long as the reflectance is higher or lower than 15. The transparent reflective layer 17 is a transparent reflective layer formed by a vacuum thin film method or the like. The transparent reflection layer has a substantially colorless and transparent hue, and its optical refractive index is different from that of the hologram layer. A hologram can be produced. For example, there are a thin film having a higher refractive index than the hologram layer 15 and a thin film having a lower refractive index. Examples of the former include ZnS, TiO 2 , Al 2 O 3 , Sb 2 S 3 , SiO, SnO 2. ITO, etc., and examples of the latter include LiF, MgF 2 , and AlF 3 . Preferably, it is a metal oxide or nitride, specifically, Be, Mg, Ca, Cr, Mn, Cu, Ag, Al, Sn, In, Te, Fe, Co, Zn, Ge, Pb, Cd , Bi, Se, Ga, Rb, Sb, Pb, Ni, Sr, Ba, La, Ce, Au, and other oxides or nitrides, and the like can be exemplified by a mixture of two or more thereof. Also, a general light-reflective metal thin film such as aluminum can be used when it has a thickness of 200 mm or less. The transparent metal compound is formed on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum such as vapor deposition, sputtering, ion plating, and CVD so that the thickness of the relief layer of the hologram layer 15 is about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. It may be provided by a thin film method or the like.

(印刷層)印刷層18としては、特に限定されず、グラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷などの公知の印刷法で、印刷すればよい。印刷図柄の色も特に限定されず、カラー、単色、複色、マタリックなどいずれでもよく、画像のパターンも特に限定されず、文字、記号、数字、イラスト、写真などいずれでもよい。図柄は転写されて基材11面から観察されるので、正常に観察できるように印刷すればよい。これを用いて、例えばTシャツへ転写すれば、好みに応じたホログラムと図柄を有するTシャツができる。   (Print layer) The print layer 18 is not particularly limited, and may be printed by a known printing method such as gravure printing, screen printing or flexographic printing. The color of the printed pattern is not particularly limited, and may be any of color, single color, multicolor, and matal, and the image pattern is not particularly limited, and may be any of letters, symbols, numbers, illustrations, photographs, and the like. Since the design is transferred and observed from the surface of the base material 11, it may be printed so that it can be normally observed. If this is used and transferred to, for example, a T-shirt, a T-shirt having a hologram and a pattern according to preference can be obtained.

(ステップ2)ステップ2S2は、(2)支持基材31からなる支持材30を準備する支持材準備工程である。支持材30は図3に示すような構成となる。   (Step 2) Step 2S2 is (2) a support material preparation step for preparing a support material 30 comprising the support base material 31. The support member 30 is configured as shown in FIG.

(支持基材)支持基材31としては、特に限定されず、例えば、コンデンサーペーパー、グラシン紙、硫酸紙、またはサイズ度の高い紙、合成紙(ポリオレフィン系、ポリスチレン系)、上質紙、コート紙、合成樹脂またはエマルジョン含浸紙、あるいは、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、アクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリアリレートなどのエンジニアリング樹脂、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン系樹脂、セロファンなどのセルロース系フィルムなどのフィルムが例示できる。   (Supporting base material) The supporting base material 31 is not particularly limited. For example, condenser paper, glassine paper, sulfuric acid paper, high-size paper, synthetic paper (polyolefin-based, polystyrene-based), high-quality paper, coated paper , Synthetic resin or emulsion-impregnated paper, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyamide resins, vinyl resins such as polyvinyl chloride, acrylic resins, imide resins, polyarylate, etc. Examples include engineering resins, polycarbonates, cyclic polyolefin resins, and cellulose films such as cellophane.

支持材30となる支持基材31は10μm〜100μmの厚みのものが好ましく、シート基材が薄すぎると得られるパッチ転写媒体20のいわゆるコシがなくなり、熱転写プリンターで搬送できなかったり、パッチ転写媒体20にカールやシワが発生したりする。一方、支持材30が厚すぎると、得られるパッチ転写媒体20が厚くなりすぎ、熱転写プリンタで搬送駆動させる力が大きくなりすぎて、熱転写プリンタに故障が生じたり、正常に搬送できなかったりする。   The support base material 31 to be the support material 30 is preferably 10 μm to 100 μm in thickness. If the sheet base material is too thin, the so-called stiffness of the obtained patch transfer medium 20 is lost, and it cannot be conveyed by a thermal transfer printer. 20 may be curled or wrinkled. On the other hand, if the support material 30 is too thick, the resulting patch transfer medium 20 becomes too thick, and the force to drive and drive the thermal transfer printer becomes too great, causing the thermal transfer printer to fail or not be transported normally.

(耐熱滑性層)パッチ転写媒体20では、必要に応じて、支持基材31の接着剤層29面と反対面に耐熱滑性層や帯電防止層などの他の層を設けてもよく、その際にプライマ層を介してもよい。
パッチ転写媒体20を用いて繊維質基材101へ転写はサーマルヘッドやヒートロール等の熱転写プリンタが用いるので、その熱によるスティッキングやシワなどの悪影響を防止するため、耐熱滑性層を設けるのが好ましい。耐熱滑性層を形成する樹脂としては、従来公知のものであればよく、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセトアセタール樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。
(Heat resistant slipping layer) In the patch transfer medium 20, if necessary, other layers such as a heat resistant slipping layer and an antistatic layer may be provided on the surface opposite to the adhesive layer 29 surface of the support substrate 31, At that time, a primer layer may be interposed.
Since the thermal transfer printer such as a thermal head or a heat roll is used for transferring to the fibrous base material 101 using the patch transfer medium 20, a heat resistant slipping layer is provided in order to prevent adverse effects such as sticking and wrinkles due to the heat. preferable. The resin for forming the heat resistant slipping layer may be any conventionally known resin, such as polyvinyl butyral resin, polyvinyl acetoacetal resin, acrylic resin, cellulose resin, aromatic polyamide resin, polyimide resin, polycarbonate resin, etc. Is mentioned.

また、耐熱滑性層に添加、又は上塗りする滑り性付与剤としては、例えば、ポリアルコール高分子化合物とポリイソシアネート化合物及び燐酸エステル系化合物からなる層であり、更に充填剤を添加することがより好ましい。耐熱滑性層は、上記に記載した樹脂、滑り性付与剤、更に充填剤を、適当な溶剤により、溶解又は分散させて、支持基材31の背面に、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等で塗布し乾燥して形成すればよい。   The slipperiness-imparting agent that is added to or overcoated the heat-resistant slipping layer is, for example, a layer composed of a polyalcohol polymer compound, a polyisocyanate compound, and a phosphate ester compound, and a filler may be further added. preferable. The heat resistant slipping layer is prepared by dissolving or dispersing the above-described resin, slipperiness-imparting agent, and filler with an appropriate solvent, and, for example, gravure printing or screen printing on the back surface of the support substrate 31. It may be formed by applying and drying with the like.

(ステップ3)ステップ3S3は(3)前記転写材10における透明基材11のホログラム層15と反対の面へ、剥離層14及び離型層13を設ける剥離層及び離型層形成工程であり、図4に示すような構成となる。   (Step 3) Step 3S3 is (3) a release layer and release layer forming step in which the release layer 14 and the release layer 13 are provided on the surface of the transfer material 10 opposite to the hologram layer 15 of the transparent substrate 11; The configuration is as shown in FIG.

(剥離層)剥離層14としては通常、弗素系樹脂、シリコーン、メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、繊維素系樹脂などの離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する硬化性樹脂などを用いるが、本願発明では、アクリル系樹脂とポリエチレンワックスとを主成分とする。アクリル系樹脂としてはポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリメタアクリル酸ブチルなどのメタアクリレート系樹脂が例示でき、メチルメタアクリレート樹脂(ポリメタクリル酸メチル)などのポリメタアクリル酸エステル樹脂をが好ましい。   (Peeling layer) As the peeling layer 14, a release resin such as a fluorine resin, silicone, melamine resin, epoxy resin, polyester resin, acrylic resin, and fiber resin, a resin containing a release agent, A curable resin that crosslinks with ionizing radiation is used. In the present invention, an acrylic resin and polyethylene wax are the main components. Examples of acrylic resins include methacrylate resins such as polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, and butyl polymethacrylate, and polymethacrylate resin such as methyl methacrylate resin (polymethyl methacrylate). preferable.

(ポリエチレンワックス)ポリエチレンワックスとしては、ポリエチレン系樹脂の粒子やビーズが挙げられるが、好ましくは球状ビーズである。粒子の大きさとしては、剥離層14の厚さと同等か、又はより大きめで、剥離層14の表面へ露出する程度が耐擦傷性の点で好ましい。その添加量は、アクリル系樹脂:ポリエチレンワックス=100質量部:0.01〜10質量部程度、好ましくは0.1〜5質量部とする。この範囲未満では耐擦傷性に劣り、この範囲を超えては透明性が悪くなる。   (Polyethylene wax) Polyethylene wax includes polyethylene resin particles and beads, and is preferably spherical beads. The size of the particles is preferably equal to or larger than the thickness of the release layer 14 and is preferably exposed to the surface of the release layer 14 in terms of scratch resistance. The addition amount is acrylic resin: polyethylene wax = 100 parts by mass: about 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.1 to 5 parts by mass. Below this range, the scratch resistance is inferior, and beyond this range, the transparency deteriorates.

(剥離層の形成)剥離層14は、メタアクリレート系樹脂とポリエチレンワックスを主成分とし、必要に応じて添加剤を、溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥して剥離層14とする。剥離層14の厚さとしては、通常は1μm〜30μm程度、好ましくは3μm〜10μm程度である。複数回の塗布でもよい。   (Formation of release layer) The release layer 14 is mainly composed of a methacrylate resin and polyethylene wax, and if necessary, an additive is dispersed or dissolved in a solvent so as to be known as roll coat, gravure coat, comma coat, etc. The coating layer is applied and dried to form a release layer 14. The thickness of the release layer 14 is usually about 1 μm to 30 μm, preferably about 3 μm to 10 μm. It may be applied several times.

(離型層)離型層13としては、アクリレート系樹脂を主成分とし、該アクリレート系樹脂としてはポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリレートなどのポリアクリル酸エステル樹脂が好ましい。   (Release layer) The release layer 13 is mainly composed of an acrylate resin, and the acrylate resin is preferably a polyacrylic ester resin such as polymethyl acrylate or polybutyl acrylate.

(離型層の形成)離型層13は、ポリアクリル酸エステル樹脂を主成分とし、必要に応じて添加剤を、溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥して離型層13とする。離型層13の厚さとしては、通常は0.1μm〜20μm程度、好ましくは1μm〜10μm程度である。複数回の塗布でもよい。該厚さは薄ければ薄い程良いが、0.1μm以上であればより良い成膜が得られて剥離力が安定する。   (Formation of Release Layer) The release layer 13 is composed of a polyacrylate resin as a main component, and an additive is dispersed or dissolved in a solvent as necessary, so that a roll coat, a gravure coat, a comma coat, etc. are known. The coating layer is applied and dried to form the release layer 13. The thickness of the release layer 13 is usually about 0.1 μm to 20 μm, preferably about 1 μm to 10 μm. It may be applied several times. The thinner the thickness is, the better. However, when the thickness is 0.1 μm or more, better film formation is obtained and the peeling force is stabilized.

(離型層と剥離層)即ち、アクリレート系樹脂を主成分とする離型層13と、メタアクリレート系樹脂とポリエチレンワックスを主成分とする剥離層14とを組み合わせて、転写する際の剥離する界面に2層を用いる。このために、前記パッチ21を前記被転写体101へ転写する際に、前記離型層13と前記剥離層14との間で、容易に安定して剥離でき、被転写体(繊維質基材101)へ転写される。従来の離型層又は剥離層の1層の構成では、離型層又は剥離層と接している他の層との間で剥離される。しかしながら、他の層はそれぞれの機能を受け持っており、剥離はするが、層の受け持つ機能が重視されているので、剥離の剥離力の制御は副次的で制御しにくく、また、剥離の安定性も低い。これらの欠点は、本願発明の離型層13と剥離層14とを組み合わせることで解消することができるのである。即ち、パッチ21をアイロン等で加熱加圧した後に、前記支持基材31及び離型層13を剥離し除去することで、前記離型層13と前記剥離層14との間で剥離し、前記パッチ21が前記被転写体(繊維質基材101)へ容易に安定した転写ができる。   (Release layer and release layer) That is, the release layer 13 mainly composed of an acrylate resin and the release layer 14 mainly composed of a methacrylate resin and polyethylene wax are combined and peeled when transferring. Two layers are used at the interface. For this reason, when the patch 21 is transferred to the transfer target 101, it can be easily and stably peeled between the release layer 13 and the release layer 14, and the transfer target (fibrous substrate) 101). In the conventional one-layer structure of the release layer or release layer, the release layer or the release layer is peeled from another layer in contact with the release layer or release layer. However, the other layers are responsible for their functions and will peel off, but since the functions of the layers are emphasized, the peeling force control of the peeling is secondary and difficult to control, and the peeling stability The nature is also low. These disadvantages can be eliminated by combining the release layer 13 and the release layer 14 of the present invention. That is, after the patch 21 is heated and pressed with an iron or the like, the support base 31 and the release layer 13 are peeled and removed, so that the release layer 13 and the release layer 14 are peeled off, The patch 21 can be easily and stably transferred to the transfer target (fibrous substrate 101).

(ステップ4)ステップ4S4は(4)前記離型層13面と前記支持材31の透明基材11面とを、接着剤層29を介して積層して積層体50とする積層工程であり、図5に示すような構成となる。   (Step 4) Step 4S4 is (4) a lamination step in which the release layer 13 surface and the transparent base material 11 surface of the support material 31 are laminated via the adhesive layer 29 to form a laminate 50, The configuration is as shown in FIG.

(積層工程)支持材30の支持基材31面と、転写材10へ設けられた離型層13面とを、粘着剤や接着剤19を介してのドライラミネーション法や、ホットメルトラミネーション法などの公知の積層方法でよい。好ましくは、ウレタン系2液接着剤を用いたドライラミネーション法である。   (Lamination process) The surface of the support substrate 31 of the support material 30 and the surface of the release layer 13 provided on the transfer material 10 are dry-laminated via a pressure-sensitive adhesive or adhesive 19, or hot melt lamination is used. The known laminating method may be used. A dry lamination method using a urethane two-component adhesive is preferable.

(ステップ5)ステップ5S5は(5)前記積層体50の前記印刷層18面へ、ホットメルトからなる接着層19を設ける接着層形成工程であり、図6に示すような構成となる。   (Step 5) Step 5S5 is (5) an adhesive layer forming step in which an adhesive layer 19 made of hot melt is provided on the surface of the printed layer 18 of the laminate 50, and has a configuration as shown in FIG.

(接着層)接着層19としては、常温または常圧では接着性がなく、加熱または加圧した時にのみ接着力を発揮する感熱または感圧接着剤であれば特に限定されないが、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリエステル樹脂等の比較的低融点の樹脂が好ましい。上記のような樹脂を熱で熔融させて液状とし、ロールコート、コンマコートや、ホットマルトアプリケーター法で、塗布し冷却すればよい。被転写体がポーラスな繊維質基材101で浸透するので、厚味が30〜150μmが好ましい。また、接着層19には白色顔料、体質顔料、蛍光増白剤を含有させてもよく、これらは転写後の白色度を向上させたり、繊維質基材101の色を隠蔽することができる。   (Adhesive layer) The adhesive layer 19 is not particularly limited as long as it is a heat-sensitive or pressure-sensitive adhesive that does not have adhesiveness at normal temperature or normal pressure, and exhibits adhesive force only when heated or pressurized. A resin having a relatively low melting point such as a vinyl resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, or a polyester resin is preferred. The resin as described above may be melted by heat to form a liquid, which may be applied and cooled by roll coating, comma coating, or hot malt applicator method. Since the material to be transferred permeates through the porous fibrous base material 101, the thickness is preferably 30 to 150 μm. Further, the adhesive layer 19 may contain a white pigment, an extender pigment, and a fluorescent brightening agent, which can improve the whiteness after transfer or conceal the color of the fibrous base material 101.

(ステップ6)ステップ6S6は(6)前記剥離層14、透明基材11、ホログラム層15、透明反射層17、印刷層18及び接着層19からなる構成を転写部23とし、該転写部23をハーフカット処理を施してパッチ21とし、該パッチ21が離型層13面へ剥離可能に積層されているようにするハーフカット処理工程であり、図7に示すような構成となり、本願発明のパッチ転写媒体20となる。   (Step 6) Step 6S6 is (6) the transfer part 23 is composed of the release layer 14, the transparent substrate 11, the hologram layer 15, the transparent reflection layer 17, the print layer 18 and the adhesive layer 19, and the transfer part 23 is This is a half-cut processing step in which a half-cut process is performed to form a patch 21, and the patch 21 is detachably laminated on the surface of the release layer 13. The patch has the configuration shown in FIG. It becomes the transfer medium 20.

(ハーフカット工程)ハーフカット処理法としては、カッター刃を取り付けた上型と台座の間に、カット前の積層状態のパッチ転写媒体20を挿入して、上型を上下動させる方法や、シリンダータイプのロータリーカッター方法、レーザー加工手段により熱処理加工方法等、ハーフカットできる方法であれば特に制限はない。パッチ21部分とそれ以外部分を除去しなくてもよいが、図7に示すパッチ転写媒体20の断面のように、ハーフカットしてパッチ21部分のみを残して、それ以外部分を予め剥離し除去しておく(当業者はカス取りという)のが好ましい。被転写体へパッチ21を転写する際に、ハーフカット処理された部分で透明基材11部が切断されることがなく、確実に転写することができる。   (Half-cut process) As a half-cut treatment method, a method of moving the upper die up and down by inserting the patch transfer medium 20 in a stacked state before cutting between the upper die attached with a cutter blade and the pedestal, or a cylinder There is no particular limitation as long as it is a method capable of half-cutting, such as a type of rotary cutter method or a heat treatment method using laser processing means. It is not necessary to remove the patch 21 portion and other portions, but as shown in the cross section of the patch transfer medium 20 shown in FIG. It is preferable to keep it (referring to those skilled in the art as scrap removal). When the patch 21 is transferred to the transfer target, the transparent substrate 11 is not cut at the half-cut portion and can be transferred reliably.

なお、ハーフカットは、一般的には、パッチ21の回り一周分単位で連続的にカットを施す、四隅等の部分的にアンカット(全くカットがない)部分、ミシン目部分を設けたりして、熱転写プリンター搬送中等取扱で、ハーフカットの部分が剥離するトラブルを防ぐことができる。なお、支持材30の少なくとも1部はカットされず連続状にしておく。ハーフカット処理で切断の深さが深過ぎると、支持基材31まで切断されて、プリンター搬送中にハーフカット加工部で切断され、搬送トラブルが発生しやすくなる。   In general, half-cutting is performed by continuously cutting around the patch 21 in units of one round, and by partially providing uncut (no cut) parts such as four corners or perforated parts. It is possible to prevent troubles in which the half-cut portion is peeled off during handling such as transporting a thermal transfer printer. In addition, at least one part of the support material 30 is not cut and is made continuous. If the cutting depth is too deep in the half-cut processing, the support base material 31 is cut, and the printer is cut at the half-cut processing section during printer conveyance, which easily causes a conveyance trouble.

パッチ21の形状としては、特に限定されないが、例えば矩形、楕円形、丸形、ドーナッツ形などが例示できる。ハーフカット処理されたパッチ21部分が被転写体の転写される全面の大きさよりも小さくてもよく、また、パッチ21部分が、被転写体に対して、部分的に抜けている部分があってもよく、さらに、パッチ転写媒体20の全幅が、被転写体の転写される面の幅よりも広くてもよい。   Although it does not specifically limit as a shape of the patch 21, For example, a rectangle, an ellipse, a round shape, a donut shape etc. can be illustrated. The half-cut patch 21 portion may be smaller than the entire size of the transfer target body, and the patch 21 portion may be partially removed from the transfer body. Furthermore, the entire width of the patch transfer medium 20 may be wider than the width of the surface to which the transfer target is transferred.

(パッチ転写媒体)パッチ転写媒体20の剥離層14/透明基材11/ホログラム層15/透明反射層17/印刷層18/接着層19から構成される転写部23はハーフカットされてパッチ21となり、支持材30(支持基材31)/接着剤層29/離型層13の離型層13面へ剥離可能に積層されている。このように本発明のパッチ転写媒体の製造方法で製造された本発明のパッチ転写媒体20は、支持材30(支持基材31)/接着剤層29/離型層13/(剥離界面)/剥離層14/透明基材11/ホログラム層15/透明反射層17/印刷層18/接着層19から構成されている。剥離層14/透明基材11/ホログラム層15/透明反射層17/印刷層18/接着層19から構成される転写部23をハーフカット処理したパッチ21が、支持材30(支持基材31)/接着剤層29/離型層13の離型層13面へ剥離可能に積層されている。   (Patch Transfer Medium) The transfer portion 23 composed of the release layer 14 / transparent substrate 11 / hologram layer 15 / transparent reflection layer 17 / printing layer 18 / adhesive layer 19 of the patch transfer medium 20 is half-cut into a patch 21. The release material 13 is laminated on the surface of the release layer 13 of the support material 30 (support base material 31) / adhesive layer 29 / release layer 13. As described above, the patch transfer medium 20 of the present invention manufactured by the method of manufacturing a patch transfer medium of the present invention includes a support material 30 (support base material 31) / adhesive layer 29 / release layer 13 / (release interface) / It is composed of a release layer 14 / transparent substrate 11 / hologram layer 15 / transparent reflection layer 17 / printing layer 18 / adhesive layer 19. A patch 21 obtained by half-cutting the transfer portion 23 composed of the release layer 14 / transparent substrate 11 / hologram layer 15 / transparent reflection layer 17 / printing layer 18 / adhesive layer 19 is a support material 30 (support substrate 31). / Adhesive layer 29 / Releasing layer 13 of release layer 13 is detachably laminated.

(パッチ転写繊維質基材)本発明のパッチ転写媒体20の接着層19面と繊維質素材101からなる被転写体とを重ね合わせて、アイロンなどで加熱加圧した後に、支持材30(支持基材31)/接着剤層29/離型層13を剥離し除去することで、前記パッチ21が繊維質素材101へ転写され、パッチ転写繊維質素材100となる。   (Patch transfer fiber base material) After the adhesive layer 19 surface of the patch transfer medium 20 of the present invention and the transfer material made of the fiber material 101 are overlaid and heated and pressed with an iron or the like, the support material 30 (support By peeling off and removing the base material 31) / adhesive layer 29 / release layer 13, the patch 21 is transferred to the fibrous material 101 and becomes the patch transfer fibrous material 100.

(被転写体)繊維質素材101が被転写体となるが、繊維質の素材であれば特に限定されず、紙パルプ、天然又は合成樹脂繊維、ガラス繊維などの繊維を、抄紙、織物、不織布などが例示できる。形態としても特に限定されず、例えば、ノート及びカタログなどの紙類、Tシャツ、エプロン、帽子などの衣類、靴類などが例示できる。また、繊維質素材101の媒体はその少なくとも1部に着色、印刷、その他の加飾が施されていてもよい。   (Transfer to be transferred) The fibrous material 101 is a transferred material, but is not particularly limited as long as it is a fibrous material. Paper fibers, woven fabrics, non-woven fabrics such as paper pulp, natural or synthetic resin fibers, and glass fibers are used. Etc. can be exemplified. The form is not particularly limited, and examples thereof include paper such as notebooks and catalogs, clothing such as T-shirts, aprons, and hats, and shoes. Further, the medium of the fibrous material 101 may be colored, printed, or otherwise decorated on at least a part thereof.

(転写方法)被転写体への転写する転写方法としては、公知の転写法でよく、アイロンを例示したが、例えば、熱刻印によるホットスタンプ(箔押)、熱ロールによる転写、サーマルヘッド(感熱印画ヘッド)によるサーマルプリンタ(熱転写プリンタともいう)などの公知の方法が適用できる。また、パッチ21の形状に合わせて加熱し転写してもよい。   (Transfer method) As a transfer method for transferring to a transfer target, a known transfer method may be used, and an iron is exemplified. For example, hot stamping by hot stamping (foil stamping), transfer by a hot roll, thermal head (heat sensitive) A known method such as a thermal printer (also called a thermal transfer printer) using a printing head) can be applied. Further, it may be transferred by heating in accordance with the shape of the patch 21.

(耐久性)パッチ転写繊維質素材100の表面が剥離層14/透明基材11/ホログラム層15/透明反射層17/印刷層18/接着層19からなるパッチ21が保護機能層となり、主に剥離層14及び透明基材11が保護機能を発現する。多数回の繰り返し使用でも、パッチ転写繊維質素材100の表面と保護し、剥離層14と透明基材11の相乗で機械的化学的な損傷から長期間にわたって保護できる。特に剥離層14は、鋭利なものによる引掻きに対しても強靱な耐擦傷性に優れる。かつ、透明基材11により耐熱性、耐溶剤性などの物理的科学的な耐久性にも優れる。さらに、ホログラム層15のホログラムは意匠性とセキュリティ性に優れ、かつ、印刷層18の任意な図柄によるデザイン性も有する。   (Durability) The patch 21 comprising the release layer 14 / transparent substrate 11 / hologram layer 15 / transparent reflection layer 17 / printing layer 18 / adhesive layer 19 on the surface of the patch transfer fibrous material 100 serves as a protective functional layer. The release layer 14 and the transparent substrate 11 exhibit a protective function. Even when used repeatedly many times, the surface of the patch transfer fibrous material 100 can be protected and the release layer 14 and the transparent substrate 11 can be protected from mechanical and chemical damage over a long period of time. In particular, the release layer 14 is excellent in tough scratch resistance even when scratched by a sharp object. In addition, the transparent substrate 11 is excellent in physical and scientific durability such as heat resistance and solvent resistance. Furthermore, the hologram of the hologram layer 15 is excellent in design and security, and has a design with an arbitrary design of the printed layer 18.

以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。なお、溶媒を除き、各層の各組成物は固形分換算の質量部である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, it is not limited to this. In addition, except a solvent, each composition of each layer is a mass part of solid content conversion.

(実施例1)(S1)透明基材11と、該透明基材11の一方の面にホログラム層15、透明反射層17及び印刷層18を設けてなる転写材10を準備する転写材準備工程
透明基材11として厚さ16μmのPETフィルムを用い、該基材11の一方の面へ、下記のホログラム層組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが2μmになるように、塗工し100℃で乾燥させた。
・<ホログラム層組成物>
ユピマーUV−V3031(三菱化学社製、UV硬化性樹脂商品名)100部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−1602) 0.5部
ポリエチレンワックス(平均粒径3〜5μm、球状) 2部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア184) 5部
酢酸エチル 300部
次に、該層面へ、2光束干渉法による回折格子から2P法で複製した擬似連続絵柄としたプレス型を複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させて、ホログラム層15を形成した。
該ホログラム層15のレリーフ面へ、厚さ50nmの酸化チタンを真空蒸着法で形成して、透明反射層17とした。
該透明反射層17面へ、ポリエステル樹脂と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂の等量混合体からなるプライマ層を介して、シルクスクリーン印刷法で小さなハート形を散りばめた図柄を透明ピンクインキで印刷し乾燥して印刷層18を設け、透明基材11/ホログラム層15/透明反射層17/印刷層18の層構成からなる転写材10を得た。
(S2)支持基材31からなる支持材30を準備する支持材準備工程
支持基材31として、厚さ50μmのPETフィルムを用い、一方の面へ、公知のポリイミド系樹脂からなる耐熱滑性層組成物を、乾燥後の塗布量が2μmになるように、塗工し100℃で乾燥させて、耐熱滑性層を形成して、耐熱滑性層/支持基材31から構成される支持材30を得た。
(S3)前記転写材10における透明基材11のホログラム層15と反対の面へ、剥離層14及び離型層13を設ける剥離層及び離型層形成工程
先に準備した透明基材11/ホログラム層15/透明反射層17/印刷層18の層構成からなる転写材10の透明基材11面へ、下記剥離層組成物を、乾燥後の塗布量が5μmになるように、塗工し100℃で乾燥させて剥離層14を形成し、引き続き、下記離型層組成物を、乾燥後の塗布量が1μmになるように、塗工し100℃で乾燥させて離型層13を形成した。
・<剥離層層組成物>
ポリメチルメタクリレート 100部
ポリエチレンワックス(平均粒径5μm) 5部
溶媒(トルエン:メチルエチルケトン=1:1)300部
・<離型層層組成物>
ポリメチルアクリレート 100部
溶媒(トルエン:メチルエチルケトン=1:1)300部
(S4)前記離型層13面と前記支持材30の支持基材31面とを、接着剤層29を介して積層して積層体50とする積層工程
支持材31の耐熱滑性層面と反対面へ、2液硬化型ウレタン系接着剤(接着剤層29となる)を用いて、先に準備しておいた転写材10の離型層13面とを、公知のドライラミネーション法で積層し、40℃で3日間放置して積層体50とした。
(S5)前記積層体50の前記印刷層18面へ、ホットメルトからなる接着層19を設ける接着層形成工程
積層体50の印刷層18面へ、下記のホットメルト組成物を厚さが30μmになるようにホットメルトアプリケーターを用いて150℃で熔融し塗布し冷却して、接着層19を形成した
・<接着層組成物>
エリーテルUE−3700(ユニチカ社製、ホットメルト、商品名) 100部
(S6)前記剥離層14、透明基材11、ホログラム層15、透明反射層17、印刷層18及び接着層19からなる構成を転写部23とし、該転写部23をハーフカット処理を施してパッチ21とし、該パッチ21が離型層13面へ剥離可能に積層されているようにするハーフカット処理工程
上記の接着層19付き積層体50を、角丸の矩形状のカッター刃を取り付けた上型と台座とのプレス方式のハーフカット処理とカス取りを行えるハーフカット部で剥離層14/透明基材11/ホログラム層15/透明反射層17/印刷層18/接着層19の層構成部分を54mm×85mmで角丸形状(パッチ21となる)にハーフカット処理を施し、カス取りして、パッチ21が離型層13面から剥離可能に積層された連続巻取状の実施例1のパッチ転写媒体20を得た。
(Example 1) (S1) A transfer material preparation step of preparing a transfer material 10 having a transparent base material 11 and a hologram layer 15, a transparent reflection layer 17 and a print layer 18 provided on one surface of the transparent base material 11. Using a PET film having a thickness of 16 μm as the transparent substrate 11, the following hologram layer composition was applied to one surface of the substrate 11 so that the thickness after drying with a gravure reverse coater was 2 μm. Dry at 100 ° C.
・ <Hologram layer composition>
Iupimer UV-V3031 (Mitsubishi Chemical Corporation, UV curable resin trade name) 100 parts Reactive silicone (Shin-Etsu Chemical Co., trade name X-22-1602) 0.5 part Polyethylene wax (average particle size 3-5 μm, Spherical) 2 parts Photopolymerization initiator (product name, Irgacure 184, manufactured by Ciba) 5 parts Ethyl acetate 300 parts Next, the layer surface was pressed into a quasi-continuous pattern duplicated by a 2P method from a diffraction grating by a two-beam interference method. The mold was attached to an embossing roller of a duplicating apparatus and heated and pressed (embossed) with an opposing roller to form a relief composed of a fine uneven pattern. Immediately after the shaping, the hologram layer 15 was formed by irradiating and curing with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp.
Titanium oxide with a thickness of 50 nm was formed on the relief surface of the hologram layer 15 by a vacuum deposition method to form a transparent reflective layer 17.
Printed with a transparent pink ink on the surface of the transparent reflective layer 17 through a primer layer made of an equal mixture of polyester resin and vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin with a silk screen printing method. Then, a printing layer 18 was provided by drying, and a transfer material 10 having a layer structure of transparent substrate 11 / hologram layer 15 / transparent reflection layer 17 / printing layer 18 was obtained.
(S2) Support material preparation step of preparing a support material 30 comprising a support substrate 31 A 50 μm-thick PET film is used as the support substrate 31, and a heat-resistant slipping layer made of a known polyimide resin is applied to one surface. The composition is coated so that the coating amount after drying is 2 μm, dried at 100 ° C. to form a heat-resistant slip layer, and a support material composed of the heat-resistant slip layer / support substrate 31 30 was obtained.
(S3) Release layer and release layer forming step in which release layer 14 and release layer 13 are provided on the surface of transfer material 10 opposite to hologram layer 15 of transparent substrate 11 Transparent substrate 11 / hologram prepared in advance The following release layer composition is applied to the surface of the transparent substrate 11 of the transfer material 10 having the layer structure of layer 15 / transparent reflective layer 17 / printing layer 18 so that the coating amount after drying is 5 μm. The release layer 14 was formed by drying at 0 ° C., and subsequently the following release layer composition was applied so that the coating amount after drying was 1 μm and dried at 100 ° C. to form the release layer 13. .
・ <Peeling layer composition>
Polymethyl methacrylate 100 parts Polyethylene wax (average particle size 5 μm) 5 parts Solvent (toluene: methyl ethyl ketone = 1: 1) 300 parts <Releasing layer layer composition>
Polymethyl acrylate 100 parts Solvent (toluene: methyl ethyl ketone = 1: 1) 300 parts (S4) The release layer 13 surface and the support base material 31 surface of the support material 30 are laminated via an adhesive layer 29. Lamination process to make laminated body 50 Transfer material 10 prepared in advance using a two-component curable urethane-based adhesive (becomes adhesive layer 29) on the surface opposite to the heat-resistant slipping layer surface of support material 31. The release layer 13 was laminated by a known dry lamination method and left at 40 ° C. for 3 days to obtain a laminate 50.
(S5) Adhesive layer forming step of providing an adhesive layer 19 made of hot melt on the printed layer 18 surface of the laminate 50 On the printed layer 18 surface of the laminate 50, the following hot melt composition has a thickness of 30 μm. In this way, the adhesive layer 19 was formed by melting, applying and cooling at 150 ° C. using a hot melt applicator. <Adhesive layer composition>
Elitel UE-3700 (manufactured by Unitika Ltd., hot melt, trade name) 100 parts (S6) A configuration comprising the release layer 14, the transparent substrate 11, the hologram layer 15, the transparent reflective layer 17, the print layer 18 and the adhesive layer 19. The transfer part 23, the transfer part 23 is subjected to a half-cut process to form a patch 21, and the half-cut process step in which the patch 21 is detachably laminated on the surface of the release layer 13 With the adhesive layer 19 The laminated body 50 is peeled layer 14 / transparent substrate 11 / hologram layer 15 / at a half-cut portion that can perform half-cut processing and scrap removal of the upper die and pedestal with a rounded rectangular cutter blade attached thereto. The transparent reflective layer 17 / printed layer 18 / adhesive layer 19 are subjected to a half-cut process with 54 mm × 85 mm in a rounded corner shape (to be a patch 21), scraped, Chi 21 was obtained patch transfer medium 20 of Example 1 of the continuously wound Tojo peelably laminated from the release layer 13 side.

以上のようにして得られたパッチ転写媒体20の接着層19面と、繊維質基材101として、ポリエステル製のTシャツへ重ねて、パッチ転写媒体20面から加熱したアイロンを押し当てて転写した後に、耐熱滑性層/支持材30(支持基材31)/接着剤層29/離型層13を剥離し除去して、パッチ21が転写されたTシャツ(パッチ転写繊維質素材100)を得た。パッチ転写媒体20は転写時の剥離性もよく、容易に安定して正常に転写することができた。該Tシャツの表面にはパッチ21が転写され、剥離層14が最表面となっている。該剥離層14は、鋭利なものによる引掻きに対しても耐擦傷性に優れていた、かつ、透明基材11により耐熱性、耐溶剤性などの物理的科学的な耐久性にも優れていた。さらに、ホログラム層15のホログラム及び印刷層18の印刷図柄は意匠性とセキュリティ性に優れていた。   The adhesive transfer layer 19 surface of the patch transfer medium 20 obtained as described above and a fibrous base material 101 were superimposed on a polyester T-shirt and transferred by pressing a heated iron from the patch transfer medium 20 surface. Later, the heat-resistant slip layer / support material 30 (support base material 31) / adhesive layer 29 / release layer 13 is peeled off and the T-shirt (patch transfer fibrous material 100) on which the patch 21 is transferred is removed. Obtained. The patch transfer medium 20 had good releasability at the time of transfer and could be transferred stably and normally. The patch 21 is transferred to the surface of the T-shirt, and the release layer 14 is the outermost surface. The release layer 14 was excellent in scratch resistance even when scratched by a sharp object, and excellent in physical and scientific durability such as heat resistance and solvent resistance due to the transparent substrate 11. . Furthermore, the hologram of the hologram layer 15 and the printed pattern of the printing layer 18 were excellent in design and security.

本発明のパッチ転写媒体の製造方法を示すステップ図である。It is a step figure showing a manufacturing method of a patch transfer medium of the present invention. 本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ1の転写材準備工程で準備する転写材の断面図である。It is sectional drawing of the transfer material prepared at the transfer material preparation process of step 1 of the manufacturing method of the patch transfer medium of this invention. 本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ2の支持材準備工程で準備する支持材の断面図である。It is sectional drawing of the support material prepared at the support material preparation process of step 2 of the manufacturing method of the patch transfer medium of this invention. 本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ3の剥離層及び離型層形成工程後の断面図である。It is sectional drawing after the peeling layer and release layer formation process of step 3 of the manufacturing method of the patch transfer medium of this invention. 本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ4の積層工程後の積層体の断面図である。It is sectional drawing of the laminated body after the lamination process of step 4 of the manufacturing method of the patch transfer medium of this invention. 本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ5の接着層形成工程後の積層体の断面図である。It is sectional drawing of the laminated body after the contact bonding layer formation process of step 5 of the manufacturing method of the patch transfer medium of this invention. 本発明のパッチ転写媒体の製造方法のステップ6のハーフカット工程後の本発明のパッチ転写媒体の断面図である。It is sectional drawing of the patch transfer medium of this invention after the half cut process of step 6 of the manufacturing method of the patch transfer medium of this invention. 本発明のパッチ転写媒体を用いて繊維質基材への転写を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the transfer to a fiber base material using the patch transfer medium of this invention. 本発明のパッチ転写媒体を用いて転写した本発明の1実施例を示すパッチ転写繊維質素材の断面図である。It is sectional drawing of the patch transfer fibrous raw material which shows one Example of this invention transcribe | transferred using the patch transfer medium of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10:転写材
11:基材
14:剥離層
15:ホログラム層
17:透明反射層
19:接着層
20:パッチ転写媒体
21:パッチ
23:転写部
29:接着剤層
30:支持材
31:支持基材
33:剥離性樹脂層
50:積層体
100:パッチ転写繊維質素材
101:繊維質素材
10: Transfer material 11: Base material 14: Release layer 15: Hologram layer 17: Transparent reflection layer 19: Adhesive layer 20: Patch transfer medium 21: Patch 23: Transfer part 29: Adhesive layer 30: Support material 31: Support group Material 33: Peelable resin layer 50: Laminate 100: Patch transfer fibrous material 101: Fibrous material

Claims (3)

(1)透明基材と、該透明基材の一方の面にホログラム層、透明反射層及び印刷層を設けてなる転写材を準備する転写材準備工程と、(2)支持基材からなる支持材を準備する支持材準備工程と、(3)前記転写材における透明基材のホログラム層と反対の面へ、剥離層及び離型層を設ける剥離層及び離型層形成工程と、(4)前記離型層面と前記支持材の支持基材面とを、接着剤層を介して積層して積層体とする積層工程と、(5)前記積層体の前記印刷層面へ、ホットメルトからなる接着層を設ける接着層形成工程と、(6)前記剥離層、透明基材、ホログラム層、透明反射層、印刷層及び接着層からなる構成を転写部とし、該転写部をハーフカット処理を施してパッチとし、該パッチが離型層面へ剥離可能に積層されているようにするハーフカット処理工程と、からなることを特徴とするパッチ転写媒体の製造方法。 (1) a transfer material preparation step of preparing a transfer material comprising a transparent substrate and a hologram layer, a transparent reflection layer and a print layer provided on one surface of the transparent substrate; and (2) a support comprising a support substrate. A support material preparation step of preparing a material, and (3) a release layer and release layer forming step of providing a release layer and a release layer on the surface of the transfer material opposite to the hologram layer of the transparent substrate, and (4) A lamination step of laminating the release layer surface and the support base material surface of the support material via an adhesive layer to form a laminate; and (5) adhesion comprising hot melt to the printed layer surface of the laminate. An adhesive layer forming step for providing a layer; and (6) a transfer portion having a structure including the release layer, the transparent substrate, the hologram layer, the transparent reflection layer, the print layer, and the adhesive layer, and the transfer portion is subjected to a half-cut process. A patch is used, and the patch is laminated on the release layer surface in a peelable manner. Method for producing a patch transfer medium, wherein the Fukatto process, in that it consists of. 請求項1に記載のパッチ転写媒体の製造方法で製造されたパッチ転写媒体であって、前記剥離層、透明基材、ホログラム層、透明反射層、印刷層及び接着層から構成される転写部をハーフカット処理を施してパッチとし、該パッチが前記離型層面へ剥離可能に積層されてなり、前記離型層はアクリレート系樹脂を主成分とし、前記剥離層はメタアクリレート系樹脂とポリエチレンワックスを主成分とすることを特徴とするパッチ転写媒体。 A patch transfer medium manufactured by the method for manufacturing a patch transfer medium according to claim 1, wherein a transfer portion composed of the release layer, the transparent substrate, the hologram layer, the transparent reflection layer, the printing layer, and the adhesive layer is provided. A patch is formed by performing a half-cut treatment, and the patch is laminated so as to be peelable to the release layer surface. The release layer is mainly composed of an acrylate resin, and the release layer is composed of a methacrylate resin and polyethylene wax A patch transfer medium characterized by comprising a main component. 請求項2に記載のパッチ転写媒体の前記接着層面と繊維質素材からなる被転写体とを重ね合わせて、アイロンで加熱加圧した後に、前記支持基材及び離型層を剥離し除去することで、前記離型層と前記剥離層との間で剥離し、前記パッチが前記被転写体へ転写されてなり、最表面が前記剥離層となることで耐擦傷性に優れ、かつ意匠性に優れるホログラムを有することを特徴とするパッチ転写繊維質素材。 The surface of the adhesive layer of the patch transfer medium according to claim 2 and a transfer material made of a fibrous material are overlapped and heated and pressed with an iron, and then the support substrate and the release layer are peeled off and removed. The release layer and the release layer are peeled off, the patch is transferred to the transfer target, and the outermost surface becomes the release layer, so that the scratch resistance is excellent and the design property is improved. A patch transfer fibrous material characterized by having an excellent hologram.
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