JP2010002794A - Display device, driving method of display device, and electronic equipment - Google Patents

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JP2010002794A JP2008162737A JP2008162737A JP2010002794A JP 2010002794 A JP2010002794 A JP 2010002794A JP 2008162737 A JP2008162737 A JP 2008162737A JP 2008162737 A JP2008162737 A JP 2008162737A JP 2010002794 A JP2010002794 A JP 2010002794A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a display image with excellent quality without spoiling uniformity of an image, even if a bootstrap gain is not in an ideal status. <P>SOLUTION: A material of high resistance value such as aluminum is used as a wiring line 81 between a scan line 31 and a gate electrode of a writing transistor 23, and its wiring length is extended, or its wiring width is narrowed, thereby resistance component R is inserted. The resistance component R permits capacitance coupling to the gate electrode of the writing transistor 23 when a source potential of a driving transistor rises. A falling speed of a writing scan signal WS is delayed by the capacitance coupling, and a mobility correction period is adjusted for each pixel. Uniformity of brightness among pixels is achieved by the adjustment of the mobility correction period. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示装置、表示装置の駆動方法および電子機器に関し、特に、画素が行列状(マトリクス状)に2次元配置された平面型(フラットパネル型)の表示装置、当該表示装置の駆動方法および当該表示装置を有する電子機器に関する。   The present invention relates to a display device, a display device driving method, and an electronic apparatus, and more particularly to a flat panel display device in which pixels are two-dimensionally arranged in a matrix (matrix shape), and a driving method of the display device. The present invention also relates to an electronic device having the display device.

近年、画像表示を行う表示装置の分野では、画素(画素回路)が行列状に配置されてなる平面型の表示装置が急速に普及している。平面型の表示装置の一つとして、デバイスに流れる電流値に応じて発光輝度が変化するいわゆる電流駆動型の電気光学素子を画素の発光素子として用いた表示装置がある。電流駆動型の電気光学素子としては、有機薄膜に電界をかけると発光する現象を利用した有機EL(Electro Luminescence)素子が知られている。   In recent years, in the field of display devices that perform image display, flat display devices in which pixels (pixel circuits) are arranged in a matrix are rapidly spreading. As one of flat-type display devices, there is a display device using a so-called current-driven electro-optical element whose light emission luminance changes according to a current value flowing through the device as a light-emitting element of a pixel. As a current-driven electro-optical element, an organic EL (Electro Luminescence) element that utilizes a phenomenon of light emission when an electric field is applied to an organic thin film is known.

画素の電気光学素子として有機EL素子を用いた有機EL表示装置は次のような特長を持っている。すなわち、有機EL素子は、10V以下の印加電圧で駆動できるために低消費電力である。有機EL素子は、自発光素子であるために、画素ごとに液晶にて光源からの光強度を制御することによって画像を表示する液晶表示装置に比べて、画像の視認性が高く、しかもバックライト等の照明部材を必要としないために軽量化および薄型化が容易である。さらに、有機EL素子の応答速度が数μsec程度と非常に高速であるために動画表示時の残像が発生しない。   An organic EL display device using an organic EL element as an electro-optical element of a pixel has the following features. That is, since the organic EL element can be driven with an applied voltage of 10 V or less, the power consumption is low. Since the organic EL element is a self-luminous element, the visibility of the image is higher than that of a liquid crystal display device that displays an image by controlling the light intensity from the light source with a liquid crystal for each pixel, and a backlight. Therefore, it is easy to reduce the weight and thickness. Furthermore, since the response speed of the organic EL element is as high as about several μsec, an afterimage at the time of displaying a moving image does not occur.

有機EL表示装置では、液晶表示装置と同様に、その駆動方式として単純(パッシブ)マトリクス方式とアクティブマトリクス方式とを採ることができる。ただし、単純マトリクス方式の表示装置は、構造が簡単であるものの、電気光学素子の発光期間が走査線(即ち、画素数)の増加によって減少するために、大型でかつ高精細な表示装置の実現が難しいなどの問題がある。   As in the liquid crystal display device, the organic EL display device can adopt a simple (passive) matrix method and an active matrix method as its driving method. However, although the simple matrix display device has a simple structure, the light-emission period of the electro-optic element decreases with an increase in the number of scanning lines (that is, the number of pixels), thereby realizing a large-sized and high-definition display device. There are problems such as difficult.

そのため、近年、電気光学素子に流れる電流を、当該電気光学素子と同じ画素内に設けた能動素子、例えば絶縁ゲート型電界効果トランジスタによって制御するアクティブマトリクス方式の表示装置の開発が盛んに行われている。絶縁ゲート型電界効果トランジスタとしては、一般には、TFT(Thin Film Transistor;薄膜トランジスタ)が用いられる。アクティブマトリクス方式の表示装置は、電気光学素子が1フレームの期間に亘って発光を持続するために、大型でかつ高精細な表示装置の実現が容易である。   For this reason, in recent years, active matrix display devices in which the current flowing through the electro-optical element is controlled by an active element provided in the same pixel as the electro-optical element, for example, an insulated gate field effect transistor, have been actively developed. Yes. As the insulated gate field effect transistor, a TFT (Thin Film Transistor) is generally used. An active matrix display device can easily realize a large-sized and high-definition display device because the electro-optic element continues to emit light over a period of one frame.

ところで、一般的に、有機EL素子のI−V特性(電流−電圧特性)は、時間が経過すると劣化(いわゆる、経時劣化)することが知られている。有機EL素子を電流駆動するトランジスタ(以下、「駆動トランジスタ」と記述する)として特にNチャネル型のTFTを用いた画素回路では、有機EL素子のI−V特性が経時劣化すると、駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧Vgsが変化する。その結果、有機EL素子の発光輝度が変化する。これは、駆動トランジスタのソース電極側に有機EL素子が接続されることに起因する。   By the way, it is generally known that the IV characteristic (current-voltage characteristic) of the organic EL element is deteriorated with time (so-called deterioration with time). Particularly in a pixel circuit using an N-channel TFT as a transistor for driving an organic EL element with current (hereinafter referred to as “driving transistor”), if the IV characteristic of the organic EL element deteriorates with time, the gate of the driving transistor -The source voltage Vgs changes. As a result, the light emission luminance of the organic EL element changes. This is because the organic EL element is connected to the source electrode side of the driving transistor.

このことについてより具体的に説明する。駆動トランジスタのソース電位は、駆動トランジスタと有機EL素子の動作点で決まる。そして、有機EL素子のI−V特性が劣化すると、駆動トランジスタと有機EL素子の動作点が変動してしまうために、駆動トランジスタのゲート電極に同じ電圧を印加したとしても駆動トランジスタのソース電位が変化する。これにより、駆動トランジスタのソース−ゲート間電圧Vgsが変化するために、駆動トランジスタに流れる電流値が変化する。その結果、有機EL素子に流れる電流値も変化するために、有機EL素子の発光輝度が変化することになる。   This will be described more specifically. The source potential of the drive transistor is determined by the operating points of the drive transistor and the organic EL element. When the IV characteristic of the organic EL element deteriorates, the operating point of the driving transistor and the organic EL element fluctuates. Therefore, even if the same voltage is applied to the gate electrode of the driving transistor, the source potential of the driving transistor is Change. As a result, since the source-gate voltage Vgs of the drive transistor changes, the value of the current flowing through the drive transistor changes. As a result, since the value of the current flowing through the organic EL element also changes, the light emission luminance of the organic EL element changes.

また、特にポリシリコンTFTを用いた画素回路では、有機EL素子のI−V特性の経時劣化に加えて、駆動トランジスタのトランジスタ特性が経時的に変化したり、製造プロセスのばらつきによってトランジスタ特性が画素ごとに異なったりする。すなわち、画素個々に駆動トランジスタのトランジスタ特性にばらつきがある。トランジスタ特性としては、駆動トランジスタの閾値電圧Vthや、駆動トランジスタのチャネルを構成する半導体薄膜の移動度μ(以下、単に「駆動トランジスタの移動度μ」と記述する)等が挙げられる。   In particular, in a pixel circuit using a polysilicon TFT, in addition to deterioration of the IV characteristics of the organic EL element over time, the transistor characteristics of the drive transistor change over time, or the transistor characteristics vary depending on manufacturing processes. It is different for each. That is, the transistor characteristics of the drive transistor vary from pixel to pixel. The transistor characteristics include the threshold voltage Vth of the driving transistor, the mobility μ of the semiconductor thin film constituting the channel of the driving transistor (hereinafter simply referred to as “mobility μ of the driving transistor”), and the like.

駆動トランジスタのトランジスタ特性が画素ごとに異なると、画素ごとに駆動トランジスタに流れる電流値にばらつきが生じるために、駆動トランジスタのゲート電極に画素間で同じ電圧を印加しても、有機EL素子の発光輝度に画素間でばらつきが生じる。その結果、画面のユニフォーミティ(一様性)が損なわれる。   When the transistor characteristics of the driving transistor differ from pixel to pixel, the current value flowing through the driving transistor varies from pixel to pixel. Therefore, even if the same voltage is applied between the pixels to the gate electrode of the driving transistor, the light emission of the organic EL element The luminance varies among pixels. As a result, the uniformity (uniformity) of the screen is impaired.

そこで、有機EL素子のI−V特性の経時劣化や、駆動トランジスタのトランジスタ特性の経時変化等の影響を受けることなく、有機EL素子の発光輝度を一定に維持するために、各種の補正(補償)機能を画素回路に持たせている(例えば、特許文献1参照)。   Therefore, various corrections (compensations) are made to maintain the light emission luminance of the organic EL element constant without being affected by the deterioration of the IV characteristic of the organic EL element over time or the change in the transistor characteristic of the driving transistor over time. ) A function is given to the pixel circuit (for example, see Patent Document 1).

補正機能としては、有機EL素子の特性変動に対する補償機能、駆動トランジスタの閾値電圧Vthの変動に対する補正機能、駆動トランジスタの移動度μの変動に対する補正機能などが挙げられる。以下、駆動トランジスタの閾値電圧Vthの変動に対する補正を「閾値補正」と呼び、駆動トランジスタの移動度μの変動に対する補正を「移動度補正」と呼ぶこととする。   Examples of the correction function include a compensation function for characteristic variation of the organic EL element, a correction function for variation in the threshold voltage Vth of the drive transistor, and a correction function for variation in mobility μ of the drive transistor. Hereinafter, the correction for the variation of the threshold voltage Vth of the driving transistor is referred to as “threshold correction”, and the correction for the variation of the mobility μ of the driving transistor is referred to as “mobility correction”.

このように、画素回路の各々に、各種の補正機能を持たせることで、有機EL素子のI−V特性の経時劣化や、駆動トランジスタのトランジスタ特性の経時変化の影響を受けることなく、有機EL素子の発光輝度を一定に保つことができる。その結果、有機EL表示装置の表示品質を向上できる。   In this way, by providing each pixel circuit with various correction functions, the organic EL element is not affected by the deterioration of the IV characteristics of the organic EL element over time or the change of the transistor characteristics of the driving transistor over time. The light emission luminance of the element can be kept constant. As a result, the display quality of the organic EL display device can be improved.

そして、有機EL素子の特性変動に対する補償機能は、次のような一連の回路動作によって実行される。先ず、信号線を通して供給される映像信号を書込みトランジスタによって書き込んで、駆動トランジスタのゲート−ソース間に接続された保持容量に保持する。その後、書込みトランジスタを非導通状態にすることにより、駆動トランジスタのゲート電極を信号線から電気的に切り離してフローティング状態にする。   And the compensation function with respect to the characteristic fluctuation | variation of an organic EL element is performed by the following series of circuit operations. First, the video signal supplied through the signal line is written by the writing transistor and held in the holding capacitor connected between the gate and the source of the driving transistor. After that, the writing transistor is turned off, whereby the gate electrode of the driving transistor is electrically disconnected from the signal line to be in a floating state.

駆動トランジスタのゲート電極がフローティング状態になると、駆動トランジスタのゲート−ソース間に保持容量が接続されていることで、駆動トランジスタのソース電位Vsの変動に連動して(追従して)駆動トランジスタのゲート電位Vgも変動する。このように、駆動トランジスタのソース電位Vsに連動してゲート電位Vgが変動する動作を、本明細書中ではブートストラップ動作と呼ぶ。このブートストラップ動作により、駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧Vgsを一定に維持することができる。その結果、有機EL素子のI−V特性が経時変化しても、当該有機EL素子の発光輝度を一定に保つことができる。   When the gate electrode of the driving transistor is in a floating state, the storage capacitor is connected between the gate and the source of the driving transistor, so that the gate of the driving transistor is interlocked with (following) the fluctuation of the source potential Vs of the driving transistor. The potential Vg also varies. Thus, the operation in which the gate potential Vg fluctuates in conjunction with the source potential Vs of the driving transistor is referred to as a bootstrap operation in this specification. By this bootstrap operation, the gate-source voltage Vgs of the driving transistor can be kept constant. As a result, even if the IV characteristic of the organic EL element changes with time, the light emission luminance of the organic EL element can be kept constant.

特開2006−133542号公報JP 2006-133542 A

上述したブートストラップ動作において、駆動トランジスタのソース電位Vsの変動分ΔVsに対するゲート電位Vgの変動分ΔVgの比率(=ΔVg/ΔVs)がブートストラップゲインGbとなる。このブートストラップゲインGbは、保持容量の容量値や駆動トランジスタのゲートに付く寄生容量の容量値などによって決まる。   In the bootstrap operation described above, the ratio (= ΔVg / ΔVs) of the variation ΔVg of the gate potential Vg to the variation ΔVs of the source potential Vs of the driving transistor becomes the bootstrap gain Gb. The bootstrap gain Gb is determined by the capacitance value of the storage capacitor, the capacitance value of the parasitic capacitance attached to the gate of the driving transistor, and the like.

ブートストラップ動作の詳細について図20を用いて説明する。図20には、駆動トランジスタの閾値電圧Vthが相対的に小さく、移動度μが相対的に大きい画素Aの動作を破線で示している。また、駆動トランジスタの閾値電圧Vthが相対的に大きく、移動度μが相対的に小さい画素Bの動作を一点鎖線で示している。   Details of the bootstrap operation will be described with reference to FIG. In FIG. 20, the operation of the pixel A in which the threshold voltage Vth of the driving transistor is relatively small and the mobility μ is relatively large is indicated by a broken line. Further, the operation of the pixel B in which the threshold voltage Vth of the driving transistor is relatively large and the mobility μ is relatively small is indicated by a one-dot chain line.

有機EL素子の発光直前、つまり、閾値補正および移動度補正が終了した時点で、画素A,Bは閾値電圧Vthの差分であるΔVthだけ駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧Vgsが異なっている。換言すれば、閾値補正および移動度補正を行うことで、画素A,B間で駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧Vgsに上記差分ΔVthの違いを持たせている。   Immediately before the light emission of the organic EL element, that is, when threshold correction and mobility correction are completed, the gate-source voltage Vgs of the driving transistor differs between the pixels A and B by ΔVth which is the difference between the threshold voltages Vth. In other words, by performing threshold correction and mobility correction, the gate-source voltage Vgs of the driving transistor is made different between the pixels A and B by the difference ΔVth.

ここで、ブートストラップゲインGbが理想状態であれば、即ちGb=100%であれば、閾値電圧Vthの差分ΔVthを維持したまま発光状態を保つことができるために、画素A,Bの輝度は等しく保たれる。しかし、書込みトランジスタに寄生容量が存在することで、当該寄生容量の影響により、実際のブートストラップゲインGbは理想状態にない、即ち100%未満である。これにより、発光時の画素A,B間の駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧Vgsの差はΔVth×Gbとなる。   Here, if the bootstrap gain Gb is an ideal state, that is, if Gb = 100%, the light emission state can be maintained while maintaining the difference ΔVth of the threshold voltage Vth. Kept equal. However, since the parasitic capacitance exists in the write transistor, the actual bootstrap gain Gb is not in an ideal state due to the influence of the parasitic capacitance, that is, less than 100%. As a result, the difference between the gate-source voltage Vgs of the driving transistor between the pixels A and B during light emission is ΔVth × Gb.

すなわち、駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧Vgsは、ブートストラップゲインGbが理想状態の場合に比べてΔVth×(1−Gb)のロスとなる(その詳細については後述する)。そのため、閾値補正処理によって補正されていた閾値電圧Vthの画素間でのばらつきの影響が再び発生する。   That is, the gate-source voltage Vgs of the drive transistor is a loss of ΔVth × (1−Gb) compared to the case where the bootstrap gain Gb is in an ideal state (details will be described later). Therefore, the influence of the variation between the pixels of the threshold voltage Vth corrected by the threshold correction processing occurs again.

このように、ブートストラップゲインGbが理想状態にないと、駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧Vgsについて画素間で閾値電圧Vthの差分ΔVthを維持したまま発光状態を保つことができないため、画素間で輝度にばらつきが生じる。この画素間での輝度ばらつきは、縦スジや横スジ、輝度ムラとなって視認される。例えば、図20に示すように、閾値電圧Vthが大きく、移動度μが小さい画素の領域Pではその周囲の領域Oよりも輝度が低下し、輝度ムラとなって視認される。その結果、画面のユニフォーミティが損なわれる。   Thus, if the bootstrap gain Gb is not in an ideal state, the light emission state cannot be maintained while maintaining the difference ΔVth of the threshold voltage Vth between the pixels with respect to the gate-source voltage Vgs of the driving transistor. Variation in luminance occurs. The luminance variation between the pixels is visually recognized as vertical stripes, horizontal stripes, and luminance unevenness. For example, as shown in FIG. 20, in the pixel region P where the threshold voltage Vth is large and the mobility μ is small, the luminance is lower than that of the surrounding region O, and the luminance unevenness is visually recognized. As a result, the uniformity of the screen is impaired.

そこで、本発明は、ブートストラップゲインが理想状態になくても、画面のユニフォーミティを損なうことなく、良質な表示画像を得ることが可能な表示装置、当該表示装置の駆動方法および当該表示装置を用いた電子機器を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention provides a display device capable of obtaining a high-quality display image without impairing the uniformity of the screen even when the bootstrap gain is not in an ideal state, a method for driving the display device, and the display device. An object is to provide an electronic device used.

上記目的を達成するために、本発明は、
電気光学素子と、映像信号を書き込む書込みトランジスタと、前記書込みトランジスタによって書き込まれた前記映像信号に応じて前記電気光学素子を駆動する駆動トランジスタと、前記駆動トランジスタのゲート電極とソース電極との間に接続され、前記書込みトランジスタによって書き込まれた前記映像信号を保持する保持容量とを有し、
前記駆動トランジスタに流れる電流に応じた補正量で当該駆動トランジスタのゲート−ソース間の電位差に負帰還をかける移動度補正処理を行う
画素が行列状に配置されてなる表示装置において、
前記駆動トランジスタの移動度によって決まる当該駆動トランジスタのソース電位の遷移速度に応じて前記移動度補正処理の期間を調整する。
In order to achieve the above object, the present invention provides:
An electro-optical element; a writing transistor for writing a video signal; a driving transistor for driving the electro-optical element in accordance with the video signal written by the writing transistor; and a gate electrode and a source electrode of the driving transistor. A storage capacitor connected to hold the video signal written by the write transistor;
In a display device in which pixels that perform mobility correction processing that applies negative feedback to the potential difference between the gate and source of the driving transistor with a correction amount corresponding to the current flowing through the driving transistor are arranged in a matrix,
The period of the mobility correction process is adjusted according to the transition speed of the source potential of the driving transistor determined by the mobility of the driving transistor.

書込みトランジスタが導通状態となることで、映像信号が書き込まれ、この映像信号の書込みと並行して移動度補正処理が行われる。そして、書込みトランジスタが非導通状態になり、移動度補正処理が終了する際に駆動トランジスタに電流が流れることで、当該駆動トランジスタのソース電位が遷移を開始する、例えば立ち上がる。このとき、駆動トランジスタに流れる電流が移動度に比例するため、駆動トランジスタのソース電位の立ち上がり速度は、移動度が大きいと速く、移動度が小さいと遅い。   When the writing transistor is turned on, a video signal is written, and mobility correction processing is performed in parallel with the writing of the video signal. Then, when the writing transistor becomes non-conductive and the mobility correction process ends, a current flows through the driving transistor, so that the source potential of the driving transistor starts transition, for example, rises. At this time, since the current flowing through the driving transistor is proportional to the mobility, the rising speed of the source potential of the driving transistor is fast when the mobility is large, and is slow when the mobility is small.

そこで、駆動トランジスタの移動度によって決まる当該駆動トランジスタのソース電位の立ち上がり速度(遷移速度)に応じて移動度補正処理の期間(以下、移動度補正期間」と記述する)を調整することで、画素ごとに移動度補正期間を制御できる。そして、この移動度補正期間の制御により、初期設定で画素に関係なく一定に設定されていた移動度補正期間が、移動度が相対的に大きい画素Aでは移動度が相対的に小さい画素Bに比べて長くなる。これにより、閾値電圧が相対的に小さく、移動度が相対的に大きい画素Aでは、初期設定の移動度補正期間の場合に比べて、移動度補正処理での帰還量が大きくなるために、画素の輝度を下げる方向に移動度補正処理が行われる。   Therefore, by adjusting the period of mobility correction processing (hereinafter referred to as mobility correction period) according to the rising speed (transition speed) of the source potential of the driving transistor determined by the mobility of the driving transistor, the pixel The mobility correction period can be controlled every time. Then, by controlling the mobility correction period, the mobility correction period, which is set to be constant regardless of the pixel in the initial setting, is changed to the pixel B having a relatively low mobility in the pixel A having a relatively high mobility. Longer than that. Thereby, in the pixel A having a relatively small threshold voltage and a relatively high mobility, the amount of feedback in the mobility correction process is larger than that in the initial mobility correction period. Mobility correction processing is performed in the direction of decreasing the brightness of the.

一方、閾値電圧が相対的に大きく、移動度が相対的に小さい画素Bでは、ブートストラップゲインが理想状態にないと、駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧にブートストラップゲインに応じたロスが生じるために、輝度が低下して輝度ムラとなる。これに対して、閾値電圧が小さく、移動度が大きい画素Aでは、上述したように、輝度を下げる方向に移動度補正処理が行われるために、画素A,B間の輝度が均一化される。   On the other hand, in the pixel B having a relatively large threshold voltage and a relatively small mobility, if the bootstrap gain is not in an ideal state, a loss corresponding to the bootstrap gain occurs in the gate-source voltage of the driving transistor. In addition, the luminance is reduced, resulting in luminance unevenness. On the other hand, in the pixel A having a small threshold voltage and a high mobility, as described above, the mobility correction process is performed in the direction of decreasing the brightness, so that the brightness between the pixels A and B is made uniform. .

本発明によれば、画素ごとに移動度補正期間を制御することで、ブートストラップゲインGbが理想状態になくても、画素間の輝度の均一化を図ることができるために、画面のユニフォーミティを損なうことなく、良質な表示画像を得ることができる。   According to the present invention, by controlling the mobility correction period for each pixel, it is possible to achieve uniform luminance between pixels even when the bootstrap gain Gb is not in an ideal state. A high-quality display image can be obtained without impairing the image quality.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[システム構成]
図1は、本発明が適用されるアクティブマトリクス型表示装置の構成の概略を示すシステム構成図である。ここでは、一例として、デバイスに流れる電流値に応じて発光輝度が変化する電流駆動型の電気光学素子、例えば有機EL素子を画素(画素回路)の発光素子として用いたアクティブマトリクス型有機EL表示装置の場合を例に挙げて説明するものとする。
[System configuration]
FIG. 1 is a system configuration diagram showing an outline of the configuration of an active matrix display device to which the present invention is applied. Here, as an example, an active matrix organic EL display device using, as an example, a current-driven electro-optical element whose emission luminance changes according to a current value flowing through the device, for example, an organic EL element as a light-emitting element of a pixel (pixel circuit) This case will be described as an example.

図1に示すように、本適用例に係る有機EL表示装置10は、発光素子を含む複数の画素20と、当該画素20が行列状に2次元配置された画素アレイ部30と、当該画素アレイ部30の周辺に配置された駆動部とを有する構成となっている。駆動部は、画素アレイ部30の各画素20を駆動する。この駆動部として、例えば、書込み走査回路40、電源供給走査回路50および信号出力回路60が設けられている。   As shown in FIG. 1, an organic EL display device 10 according to this application example includes a plurality of pixels 20 including light emitting elements, a pixel array unit 30 in which the pixels 20 are two-dimensionally arranged in a matrix, and the pixel array. The drive unit is disposed around the unit 30. The drive unit drives each pixel 20 of the pixel array unit 30. As the drive unit, for example, a write scanning circuit 40, a power supply scanning circuit 50, and a signal output circuit 60 are provided.

ここで、有機EL表示装置10が白黒表示対応の場合は、白黒画像を形成する単位となる1つの画素が画素20に相当する。一方、有機EL表示装置10がカラー表示対応の場合は、カラー画像を形成する単位となる1つの画素は複数の副画素(サブピクセル)から構成され、この副画素が画素20に相当する。より具体的には、カラー表示用の表示装置では、1つの画素は、赤色光(R)を発光する副画素、緑色光(G)を発光する副画素、青色光(B)を発光する副画素の3つの副画素から構成される。   Here, when the organic EL display device 10 supports monochrome display, one pixel serving as a unit for forming a monochrome image corresponds to the pixel 20. On the other hand, when the organic EL display device 10 supports color display, one pixel as a unit for forming a color image is composed of a plurality of sub-pixels (sub-pixels), and this sub-pixel corresponds to the pixel 20. More specifically, in a display device for color display, one pixel includes a sub-pixel that emits red light (R), a sub-pixel that emits green light (G), and a sub-pixel that emits blue light (B). It consists of three sub-pixels of a pixel.

ただし、1つの画素としては、RGBの3原色の副画素の組み合わせに限られるものではなく、3原色の副画素にさらに1色あるいは複数色の副画素を加えて1つの画素を構成することも可能である。より具体的には、例えば、輝度向上のために白色光(W)を発光する副画素を加えて1つの画素を構成したり、色再現範囲を拡大するために補色光を発光する少なくとも1つの副画素を加えて1つの画素を構成したりすることも可能である。   However, one pixel is not limited to the combination of RGB three primary color subpixels, and one pixel may be configured by adding one or more color subpixels to the three primary color subpixels. Is possible. More specifically, for example, at least one sub-pixel that emits white light (W) is added to improve luminance to form one pixel, or at least one that emits complementary color light to expand the color reproduction range. It is also possible to configure one pixel by adding subpixels.

画素アレイ部30には、m行n列の画素20の配列に対して、行方向(画素行の画素の配列方向)に沿って走査線31−1〜31−mと電源供給線32−1〜32−mとが画素行ごとに配線されている。さらに、列方向(画素列の画素の配列方向)に沿って信号線33−1〜33−nが画素列ごとに配線されている。   The pixel array unit 30 includes scanning lines 31-1 to 31-m and a power supply line 32-1 along the row direction (pixel arrangement direction of pixels in the pixel row) with respect to the arrangement of the pixels 20 in m rows and n columns. ˜32-m are wired for each pixel row. Furthermore, signal lines 33-1 to 33-n are wired for each pixel column along the column direction (pixel arrangement direction of the pixel column).

走査線31−1〜31−mは、書込み走査回路40の対応する行の出力端にそれぞれ接続されている。電源供給線32−1〜32−mは、電源供給走査回路50の対応する行の出力端にそれぞれ接続されている。信号線33−1〜33−nは、信号出力回路60の対応する列の出力端にそれぞれ接続されている。   The scanning lines 31-1 to 31 -m are connected to the output ends of the corresponding rows of the writing scanning circuit 40, respectively. The power supply lines 32-1 to 32-m are connected to the output terminals of the corresponding rows of the power supply scanning circuit 50, respectively. The signal lines 33-1 to 33-n are connected to the output ends of the corresponding columns of the signal output circuit 60, respectively.

画素アレイ部30は、通常、ガラス基板などの透明絶縁基板上に形成されている。これにより、有機EL表示装置10は、平面型(フラット型)のパネル構造となっている。画素アレイ部30の各画素20の駆動回路は、アモルファスシリコンTFTまたは低温ポリシリコンTFTを用いて形成することができる。低温ポリシリコンTFTを用いる場合には、書込み走査回路40、電源供給走査回路50および信号出力回路60についても、画素アレイ部30を形成する表示パネル(基板)70上に実装することができる。   The pixel array unit 30 is usually formed on a transparent insulating substrate such as a glass substrate. Thereby, the organic EL display device 10 has a flat panel structure. The drive circuit for each pixel 20 in the pixel array section 30 can be formed using an amorphous silicon TFT or a low-temperature polysilicon TFT. When the low-temperature polysilicon TFT is used, the write scanning circuit 40, the power supply scanning circuit 50, and the signal output circuit 60 can also be mounted on the display panel (substrate) 70 that forms the pixel array unit 30.

書込み走査回路40は、クロックパルスckに同期してスタートパルスspを順にシフト(転送)するシフトレジスタ等によって構成されている。この書込み走査回路40は、画素アレイ部30の各画素20への映像信号の書込みに際して、走査線31−1〜31−mに順次書込み走査信号WS(WS1〜WSm)を供給することによって画素アレイ部30の各画素20を行単位で順番に走査(線順次走査)する。   The write scanning circuit 40 is configured by a shift register or the like that sequentially shifts (transfers) the start pulse sp in synchronization with the clock pulse ck. The writing scanning circuit 40 sequentially supplies writing scanning signals WS (WS1 to WSm) to the scanning lines 31-1 to 31-m when writing video signals to the respective pixels 20 of the pixel array section 30. Each pixel 20 of the unit 30 is scanned in order in a row unit (line-sequential scanning).

電源供給走査回路50は、クロックパルスckに同期してスタートパルスspを順にシフトするシフトレジスタ等によって構成されている。この電源供給走査回路50は、書込み走査回路40による線順次走査に同期して、第1電源電位Vccpと当該第1電源電位Vccpよりも低い第2電源電位Viniで切り替わる電源電位DS(DS1〜DSm)を電源供給線32−1〜32−mに供給する。この電源電位DSのVccp/Viniの切替えにより、画素20の発光/非発光の制御が行なわれる。   The power supply scanning circuit 50 includes a shift register that sequentially shifts the start pulse sp in synchronization with the clock pulse ck. The power supply scanning circuit 50 synchronizes with the line sequential scanning by the write scanning circuit 40 and switches between a first power supply potential Vccp and a second power supply potential Vini lower than the first power supply potential Vccp. ) To the power supply lines 32-1 to 32-m. The light emission / non-light emission of the pixel 20 is controlled by switching the power supply potential DS to Vccp / Vini.

信号出力回路60は、信号供給源(図示せず)から供給される輝度情報に応じた映像信号の信号電圧(以下、単に「信号電圧」と記述する場合もある)Vsigと基準電位Vofsのいずれか一方を適宜選択して出力する。信号出力回路60から出力される信号電圧Vsig/基準電位Vofsは、信号線33−1〜33−nを介して画素アレイ部30の各画素20に対して行単位で書き込まれる。すなわち、信号出力回路60は、信号電圧Vsigを行(ライン)単位で書き込む線順次書き込みの駆動形態を採っている。   The signal output circuit 60 has either a signal voltage (hereinafter also simply referred to as “signal voltage”) Vsig or a reference potential Vofs of a video signal corresponding to luminance information supplied from a signal supply source (not shown). Either one is selected as appropriate and output. The signal voltage Vsig / reference potential Vofs output from the signal output circuit 60 is written in units of rows to each pixel 20 of the pixel array unit 30 via the signal lines 33-1 to 33-n. In other words, the signal output circuit 60 employs a line-sequential writing drive configuration in which the signal voltage Vsig is written in units of rows (lines).

(画素回路)
図2は、画素(画素回路)20の具体的な回路構成を示す回路図である。
(Pixel circuit)
FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific circuit configuration of the pixel (pixel circuit) 20.

図2に示すように、画素20は、デバイスに流れる電流値に応じて発光輝度が変化する電流駆動型の電気光学素子、例えば有機EL素子21と、当該有機EL素子21を駆動する駆動回路とによって構成されている。有機EL素子21は、全ての画素20に対して共通に配線(いわゆる、ベタ配線)された共通電源供給線34にカソード電極が接続されている。   As shown in FIG. 2, the pixel 20 includes a current-driven electro-optical element whose emission luminance changes according to a current value flowing through the device, for example, an organic EL element 21, and a drive circuit that drives the organic EL element 21. It is constituted by. The organic EL element 21 has a cathode electrode connected to a common power supply line 34 that is wired in common to all the pixels 20 (so-called solid wiring).

有機EL素子21を駆動する駆動回路は、駆動トランジスタ22、書込みトランジスタ23、保持容量24および補助容量25を有する構成となっている。ここでは、駆動トランジスタ22および書込みトランジスタ23としてNチャネル型のTFTを用いている。ただし、駆動トランジスタ22および書込みトランジスタ23の導電型の組み合わせは一例に過ぎず、これらの組み合わせに限られるものではない。   The drive circuit that drives the organic EL element 21 has a configuration including a drive transistor 22, a write transistor 23, a storage capacitor 24, and an auxiliary capacitor 25. Here, N-channel TFTs are used as the drive transistor 22 and the write transistor 23. However, the combination of conductivity types of the drive transistor 22 and the write transistor 23 is merely an example, and is not limited to these combinations.

なお、駆動トランジスタ22および書込みトランジスタ23としてNチャネル型のTFTを用いると、アモルファスシリコン(a−Si)プロセスを用いることができる。a−Siプロセスを用いることで、TFTを作成する基板の低コスト化、ひいては本有機EL表示装置10の低コスト化を図ることが可能になる。また、駆動トランジスタ22および書込みトランジスタ23を同じ導電型の組み合わせにすると、両トランジスタ22,23を同じプロセスで作成することができるため低コスト化に寄与できる。   Note that when an N-channel TFT is used as the driving transistor 22 and the writing transistor 23, an amorphous silicon (a-Si) process can be used. By using the a-Si process, it is possible to reduce the cost of the substrate on which the TFT is formed, and thus to reduce the cost of the organic EL display device 10. Further, when the drive transistor 22 and the write transistor 23 have the same conductivity type, both the transistors 22 and 23 can be formed by the same process, which can contribute to cost reduction.

駆動トランジスタ22は、一方の電極(ソース/ドレイン電極)が有機EL素子21のアノード電極に接続され、他方の電極(ドレイン/ソース電極)が電源供給線32(32−1〜32−m)に接続されている。   The drive transistor 22 has one electrode (source / drain electrode) connected to the anode electrode of the organic EL element 21 and the other electrode (drain / source electrode) connected to the power supply line 32 (32-1 to 32-m). It is connected.

書込みトランジスタ23は、一方の電極(ソース/ドレイン電極)が信号線33(33−1〜33−n)に接続され、他方の電極(ドレイン/ソース電極)が駆動トランジスタ22のゲート電極に接続されている。また、書込みトランジスタ23のゲート電極は、走査線31(31−1〜31−m)に接続されている。   The write transistor 23 has one electrode (source / drain electrode) connected to the signal line 33 (33-1 to 33-n) and the other electrode (drain / source electrode) connected to the gate electrode of the drive transistor 22. ing. The gate electrode of the writing transistor 23 is connected to the scanning line 31 (31-1 to 31-m).

駆動トランジスタ22および書込みトランジスタ23において、一方の電極とは、ソース/ドレイン領域に電気的に接続された金属配線を言い、他方の電極とは、ドレイン/ソース領域に電気的に接続された金属配線を言う。また、一方の電極と他方の電極との電位関係によって一方の電極がソース電極ともなればドレイン電極ともなり、他方の電極がドレイン電極ともなればソース電極ともなる。   In the drive transistor 22 and the write transistor 23, one electrode refers to a metal wiring electrically connected to the source / drain region, and the other electrode refers to a metal wiring electrically connected to the drain / source region. Say. Further, depending on the potential relationship between one electrode and the other electrode, if one electrode becomes a source electrode, it becomes a drain electrode, and if the other electrode also becomes a drain electrode, it becomes a source electrode.

保持容量24は、一方の電極が駆動トランジスタ22のゲート電極に接続され、他方の電極が駆動トランジスタ22の他方の電極および有機EL素子21のアノード電極に接続されている。   The storage capacitor 24 has one electrode connected to the gate electrode of the drive transistor 22 and the other electrode connected to the other electrode of the drive transistor 22 and the anode electrode of the organic EL element 21.

補助容量25は、一方の電極が有機EL素子21のアノード電極に、他方の電極が共通電源供給線34にそれぞれ接続されている。この補助容量25は、有機EL素子21の容量不足分を補い、保持容量24に対する映像信号の書込みゲインを高めるために、必要に応じて設けられるものである。すなわち、補助容量25は必須の構成要素ではなく、有機EL素子21の等価容量が十分に大きい場合は省略可能である。   The auxiliary capacitor 25 has one electrode connected to the anode electrode of the organic EL element 21 and the other electrode connected to the common power supply line 34. The auxiliary capacitor 25 is provided as necessary in order to compensate for the insufficient capacity of the organic EL element 21 and to increase the video signal write gain to the storage capacitor 24. That is, the auxiliary capacitor 25 is not an essential component and can be omitted when the equivalent capacitance of the organic EL element 21 is sufficiently large.

ここでは、補助容量25の他方の電極を共通電源供給線34に接続するとしたが、他方の電極の接続先としては、共通電源供給線34に限られるものではなく、固定電位のノードであればよい。補助容量25の他方の電極を固定電位に接続することで、有機EL素子21の容量不足分を補い、保持容量24に対する映像信号の書込みゲインを高めるという所期の目的を達成することができる。   Here, the other electrode of the auxiliary capacitor 25 is connected to the common power supply line 34. However, the connection destination of the other electrode is not limited to the common power supply line 34, and any node having a fixed potential may be used. Good. By connecting the other electrode of the auxiliary capacitor 25 to a fixed potential, the intended purpose of compensating the shortage of the capacity of the organic EL element 21 and increasing the video signal writing gain to the holding capacitor 24 can be achieved.

上記構成の画素20において、書込みトランジスタ23は、書込み走査回路40から走査線31を通してゲート電極に印加されるHighアクティブの書込み走査信号WSに応答して導通状態となる。これにより、書込みトランジスタ23は、信号線33を通して信号出力回路60から供給される輝度情報に応じた映像信号の信号電圧Vsigまたは基準電位Vofsをサンプリングして画素20内に書き込む。この書き込まれた信号電圧Vsigまたは基準電位Vofsは、駆動トランジスタ22のゲート電極に印加されるとともに保持容量24に保持される。   In the pixel 20 configured as described above, the writing transistor 23 becomes conductive in response to a high active writing scanning signal WS applied to the gate electrode from the writing scanning circuit 40 through the scanning line 31. Thereby, the write transistor 23 samples the signal voltage Vsig or the reference potential Vofs of the video signal corresponding to the luminance information supplied from the signal output circuit 60 through the signal line 33 and writes the sampled voltage in the pixel 20. The written signal voltage Vsig or reference potential Vofs is applied to the gate electrode of the driving transistor 22 and held in the holding capacitor 24.

駆動トランジスタ22は、電源供給線32(32−1〜32−m)の電位DSが第1電源電位Vccpにあるときには、一方の電極がドレイン電極、他方の電極がソース電極となって飽和領域で動作する。これにより、駆動トランジスタ22は、電源供給線32から電流の供給を受けて有機EL素子21を電流駆動にて発光駆動する。より具体的には、駆動トランジスタ22は、飽和領域で動作することにより、保持容量24に保持された信号電圧Vsigの電圧値に応じた電流値の駆動電流を有機EL素子21に供給し、当該有機EL素子21を電流駆動することによって発光させる。   When the potential DS of the power supply line 32 (32-1 to 32-m) is at the first power supply potential Vccp, the drive transistor 22 has one electrode as a drain electrode and the other electrode as a source electrode in a saturation region. Operate. As a result, the drive transistor 22 is supplied with current from the power supply line 32 and drives the organic EL element 21 to emit light by current drive. More specifically, the drive transistor 22 operates in the saturation region to supply a drive current having a current value corresponding to the voltage value of the signal voltage Vsig held in the holding capacitor 24 to the organic EL element 21. The organic EL element 21 is caused to emit light by current driving.

駆動トランジスタ22はさらに、電源電位DSが第1電源電位Vccpから第2電源電位Viniに切り替わったときには、一方の電極がソース電極、他方の電極がドレイン電極となってスイッチングトランジスタとして動作する。これにより、駆動トランジスタ22は、有機EL素子21への駆動電流の供給を停止し、有機EL素子21を非発光状態にする。すなわち、駆動トランジスタ22は、有機EL素子21の発光/非発光を制御するトランジスタとしての機能をも併せ持っている。   Further, when the power supply potential DS is switched from the first power supply potential Vccp to the second power supply potential Vini, the drive transistor 22 operates as a switching transistor with one electrode serving as a source electrode and the other electrode serving as a drain electrode. As a result, the drive transistor 22 stops supplying the drive current to the organic EL element 21 and puts the organic EL element 21 into a non-light emitting state. That is, the drive transistor 22 also has a function as a transistor that controls light emission / non-light emission of the organic EL element 21.

この駆動トランジスタ22のスイッチング動作により、有機EL素子21が非発光状態となる期間(非発光期間)を設け、有機EL素子21の発光期間と非発光期間の割合(デューティ)を制御する。このデューティ制御により、1フレーム期間に亘って画素が発光することに伴う残像ボケを低減できるために、特に動画の画品位をより優れたものとすることができる。   By the switching operation of the drive transistor 22, a period during which the organic EL element 21 is in a non-light emitting state (non-light emitting period) is provided, and the ratio (duty) between the light emitting period and the non-light emitting period of the organic EL element 21 is controlled. By this duty control, the afterimage blur caused by the light emission of the pixels over one frame period can be reduced, so that the quality of the moving image can be particularly improved.

ここで、信号出力回路60から信号線33を通して選択的に供給される基準電位Vofsは、輝度情報に応じた映像信号の信号電圧Vsigの基準となる電位(例えば、映像信号の黒レベルに相当する電位)である。   Here, the reference potential Vofs that is selectively supplied from the signal output circuit 60 through the signal line 33 corresponds to a potential that serves as a reference for the signal voltage Vsig of the video signal corresponding to the luminance information (for example, the black level of the video signal). Potential).

電源供給走査回路50から電源供給線32を通して選択的に供給される第1,第2電源電位Vccp,Viniのうち、第1電源電位Vccpは有機EL素子21を発光駆動する駆動電流を駆動トランジスタ22に供給するための電源電位である。また、第2電源電位Viniは、有機EL素子21に対して逆バイアスを掛けるための電源電位である。この第2電源電位Viniは、基準電位Vofsよりも低い電位、例えば、駆動トランジスタ22の閾値電圧をVthとするときVofs−Vthよりも低い電位、好ましくはVofs−Vthよりも十分に低い電位に設定される。   Of the first and second power supply potentials Vccp and Vini selectively supplied from the power supply scanning circuit 50 through the power supply line 32, the first power supply potential Vccp generates a drive current for driving the organic EL element 21 to emit light. The power supply potential for supplying to The second power supply potential Vini is a power supply potential for applying a reverse bias to the organic EL element 21. The second power supply potential Vini is set to a potential lower than the reference potential Vofs, for example, a potential lower than Vofs−Vth, preferably sufficiently lower than Vofs−Vth when the threshold voltage of the driving transistor 22 is Vth. Is done.

(画素構造)
図3は、画素20の断面構造の一例を示す断面図である。図3に示すように、ガラス基板201上には、駆動トランジスタ22等を含む駆動回路が形成されている。そして、画素20は、ガラス基板201上に絶縁膜202、絶縁平坦化膜203およびウインド絶縁膜204がその順に形成され、当該ウインド絶縁膜204の凹部204Aに有機EL素子21が設けられた構成となっている。ここでは、駆動回路の各構成素子のうち、駆動トランジスタ22のみを図示し、他の構成素子については省略している。
(Pixel structure)
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating an example of the cross-sectional structure of the pixel 20. As shown in FIG. 3, a driving circuit including the driving transistor 22 and the like is formed on the glass substrate 201. The pixel 20 has a configuration in which an insulating film 202, an insulating planarizing film 203, and a window insulating film 204 are formed in this order on a glass substrate 201, and the organic EL element 21 is provided in the recess 204A of the window insulating film 204. It has become. Here, only the drive transistor 22 is illustrated among the components of the drive circuit, and other components are omitted.

有機EL素子21は、アノード電極205と、有機層(電子輸送層、発光層、ホール輸送層/ホール注入層)206と、カソード電極207とから構成されている。アノード電極205は、ウインド絶縁膜204の凹部204Aの底部に形成された金属等からなる。有機層206は、アノード電極205上に形成されている。カソード電極207は、有機層206上に全画素共通に形成された透明導電膜等からなる。   The organic EL element 21 includes an anode electrode 205, an organic layer (electron transport layer, light emitting layer, hole transport layer / hole injection layer) 206, and a cathode electrode 207. The anode electrode 205 is made of a metal or the like formed on the bottom of the recess 204A of the window insulating film 204. The organic layer 206 is formed on the anode electrode 205. The cathode electrode 207 is made of a transparent conductive film formed on the organic layer 206 in common for all pixels.

この有機EL素子21において、有機層206は、アノード電極205上にホール輸送層/ホール注入層2061、発光層2062、電子輸送層2063および電子注入層(図示せず)が順次堆積されることによって形成される。そして、図2の駆動トランジスタ22による電流駆動の下に、駆動トランジスタ22からアノード電極205を通して有機層206に電流が流れることで、当該有機層206内の発光層2062において電子と正孔が再結合する際に発光するようになっている。   In the organic EL element 21, the organic layer 206 is formed by sequentially depositing a hole transport layer / hole injection layer 2061, a light emitting layer 2062, an electron transport layer 2063 and an electron injection layer (not shown) on the anode electrode 205. It is formed. Then, current flows from the driving transistor 22 to the organic layer 206 through the anode electrode 205 under current driving by the driving transistor 22 in FIG. 2, so that electrons and holes are recombined in the light emitting layer 2062 in the organic layer 206. It is designed to emit light.

駆動トランジスタ22は、ゲート電極221と、半導体層222の両側に設けられたソース/ドレイン領域223,224と、半導体層222のゲート電極221と対向する部分のチャネル形成領域225とから構成されている。ソース/ドレイン領域223は、コンタクトホールを介して有機EL素子21のアノード電極205と電気的に接続されている。   The drive transistor 22 includes a gate electrode 221, source / drain regions 223 and 224 provided on both sides of the semiconductor layer 222, and a channel formation region 225 at a portion facing the gate electrode 221 of the semiconductor layer 222. . The source / drain region 223 is electrically connected to the anode electrode 205 of the organic EL element 21 through a contact hole.

そして、図3に示すように、ガラス基板201上に、絶縁膜202、絶縁平坦化膜203およびウインド絶縁膜204を介して有機EL素子21が画素単位で形成された後は、パッシベーション膜208を介して封止基板209が接着剤210によって接合される。この封止基板209によって有機EL素子21が封止されることにより表示パネル70が形成される。   Then, as shown in FIG. 3, after the organic EL element 21 is formed on the glass substrate 201 through the insulating film 202, the insulating planarizing film 203, and the window insulating film 204, the passivation film 208 is formed. Then, the sealing substrate 209 is bonded by the adhesive 210. The display panel 70 is formed by sealing the organic EL element 21 with the sealing substrate 209.

(有機EL表示装置の回路動作)
次に、上記構成の画素20が行列状に2次元配置されてなる有機EL表示装置10の回路動作について、図4のタイミング波形図を基に図5および図6の動作説明図を用いて説明する。なお、図5および図6の動作説明図では、図面の簡略化のために、書込みトランジスタ23をスイッチのシンボルで図示している。
(Circuit operation of organic EL display device)
Next, the circuit operation of the organic EL display device 10 in which the pixels 20 having the above-described configuration are two-dimensionally arranged in a matrix will be described with reference to the operation waveform diagrams of FIGS. 5 and 6 based on the timing waveform diagram of FIG. To do. In the operation explanatory diagrams of FIGS. 5 and 6, the write transistor 23 is illustrated by a switch symbol for simplification of the drawing.

図4のタイミング波形図には、走査線31(31−1〜31−m)の電位(書込み走査信号)WSの変化、電源供給線32(32−1〜32−m)の電位(電源電位)DSの変化、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgおよびソース電位Vsの変化を示している。また、ゲート電位Vgの波形を一点鎖線で示し、ソース電位Vsの波形を点線で示すことで、両者を識別できるようにしている。   The timing waveform diagram of FIG. 4 shows changes in the potential (writing scanning signal) WS of the scanning lines 31 (31-1 to 31-m) and the potentials (power supply potentials) of the power supply lines 32 (32-1 to 32-m). ) Changes in DS and changes in the gate potential Vg and source potential Vs of the drive transistor 22 are shown. Further, the waveform of the gate potential Vg is indicated by a one-dot chain line, and the waveform of the source potential Vs is indicated by a dotted line so that the two can be identified.

<前フレームの発光期間>
図4のタイミング波形図において、時刻t1以前は、前のフレーム(フィールド)における有機EL素子21の発光期間となる。この前フレームの発光期間では、電源供給線32の電位DSが第1電源電位(以下、「高電位」と記述する)Vccpにあり、また、書込みトランジスタ23が非導通状態にある。
<Light emission period of previous frame>
In the timing waveform diagram of FIG. 4, the period before time t1 is the light emission period of the organic EL element 21 in the previous frame (field). In the light emission period of the previous frame, the potential DS of the power supply line 32 is at the first power supply potential (hereinafter referred to as “high potential”) Vccp, and the writing transistor 23 is in a non-conduction state.

このとき、駆動トランジスタ22は飽和領域で動作するように設定されている。これにより、図5(A)に示すように、駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧Vgsに応じた駆動電流(ドレイン−ソース間電流)Idsが、電源供給線32から駆動トランジスタ22を通して有機EL素子21に供給される。よって、有機EL素子21が駆動電流Idsの電流値に応じた輝度で発光する。   At this time, the drive transistor 22 is set to operate in a saturation region. As a result, as shown in FIG. 5A, the drive current (drain-source current) Ids according to the gate-source voltage Vgs of the drive transistor 22 passes from the power supply line 32 through the drive transistor 22 to the organic EL element. 21 is supplied. Therefore, the organic EL element 21 emits light with a luminance corresponding to the current value of the drive current Ids.

<閾値補正準備期間>
時刻t1になると、線順次走査の新しいフレーム(現フレーム)に入る。そして、図5(B)に示すように、電源供給線32の電位DSが高電位Vccpから、信号線33の基準電位Vofsに対してVofs−Vthよりも十分に低い第2電源電位(以下、「低電位」と記述する)Viniに切り替わる。
<Threshold correction preparation period>
At time t1, a new frame (current frame) for line sequential scanning is entered. As shown in FIG. 5B, the second power supply potential (hereinafter, referred to as the potential DS of the power supply line 32 is sufficiently lower than Vofs−Vth with respect to the reference potential Vofs of the signal line 33 from the high potential Vccp. Switch to Vini) (described as “low potential”).

ここで、有機EL素子21の閾値電圧をVthel、共通電源供給線34の電位(カソード電位)をVcathとする。このとき、低電位ViniをVini<Vthel+Vcathとすると、駆動トランジスタ22のソース電位Vsが低電位Viniにほぼ等しくなるために、有機EL素子21は逆バイアス状態となって消光する。   Here, the threshold voltage of the organic EL element 21 is Vthel, and the potential of the common power supply line 34 (cathode potential) is Vcath. At this time, if the low potential Vini is Vini <Vthel + Vcath, the source potential Vs of the drive transistor 22 is substantially equal to the low potential Vini, so that the organic EL element 21 is in a reverse bias state and extinguished.

次に、時刻t2で走査線31の電位WSが低電位側から高電位側に遷移することで、図5(C)に示すように、書込みトランジスタ23が導通状態となる。このとき、信号出力回路60から信号線33に対して基準電位Vofsが供給されているために、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgが基準電位Vofsになる。また、駆動トランジスタ22のソース電位Vsは、基準電位Vofsよりも十分に低い電位Viniにある。   Next, when the potential WS of the scanning line 31 transits from the low potential side to the high potential side at time t2, as shown in FIG. 5C, the writing transistor 23 becomes conductive. At this time, since the reference potential Vofs is supplied from the signal output circuit 60 to the signal line 33, the gate potential Vg of the drive transistor 22 becomes the reference potential Vofs. Further, the source potential Vs of the driving transistor 22 is at a potential Vini that is sufficiently lower than the reference potential Vofs.

このとき、駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧VgsはVofs−Viniとなる。ここで、Vofs−Viniが駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthよりも大きくないと、後述する閾値補正処理を行うことができないために、Vofs−Vini>Vthなる電位関係に設定する必要がある。   At this time, the gate-source voltage Vgs of the drive transistor 22 is Vofs-Vini. Here, if Vofs−Vini is not larger than the threshold voltage Vth of the drive transistor 22, threshold correction processing described later cannot be performed, and therefore it is necessary to set a potential relationship of Vofs−Vini> Vth.

このように、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgを基準電位Vofsに、ソース電位Vsを低電位Viniにそれぞれ固定して(確定させて)初期化する処理が、後述する閾値補正処理を行う前の準備(閾値補正準備)の処理である。したがって、基準電位Vofsおよび低電位Viniが、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgおよびソース電位Vsの各初期化電位となる。   As described above, the process of fixing (initializing) the gate potential Vg of the drive transistor 22 to the reference potential Vofs and the source potential Vs to the low potential Vini is a preparation before performing a threshold correction process described later. (Threshold correction preparation) processing. Therefore, the reference potential Vofs and the low potential Vini become the initialization potentials of the gate potential Vg and the source potential Vs of the drive transistor 22, respectively.

<閾値補正期間>
次に、時刻t3で、図5(D)に示すように、電源供給線32の電位DSが低電位Viniから高電位Vccpに切り替わると、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgが保たれた状態で閾値補正処理が開始される。すなわち、ゲート電位Vgから駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthを減じた電位に向けて駆動トランジスタ22のソース電位Vsが上昇を開始する。
<Threshold correction period>
Next, at time t3, as shown in FIG. 5D, when the potential DS of the power supply line 32 is switched from the low potential Vini to the high potential Vccp, the threshold value is maintained while the gate potential Vg of the drive transistor 22 is maintained. The correction process is started. That is, the source potential Vs of the drive transistor 22 starts to increase toward the potential obtained by subtracting the threshold voltage Vth of the drive transistor 22 from the gate potential Vg.

ここでは、便宜上、駆動トランジスタ22のゲート電極の初期化電位Vofsを基準として、当該初期化電位Vofsから駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthを減じた電位に向けてソース電位Vsを変化させる処理を閾値補正処理と呼んでいる。この閾値補正処理が進むと、やがて、駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧Vgsが駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthに収束する。この閾値電圧Vthに相当する電圧は保持容量24に保持される。   Here, for convenience, processing for changing the source potential Vs toward the potential obtained by subtracting the threshold voltage Vth of the drive transistor 22 from the initialization potential Vofs with reference to the initialization potential Vofs of the gate electrode of the drive transistor 22 is corrected by the threshold value. This is called processing. As the threshold correction process proceeds, the gate-source voltage Vgs of the drive transistor 22 eventually converges to the threshold voltage Vth of the drive transistor 22. A voltage corresponding to the threshold voltage Vth is held in the holding capacitor 24.

なお、閾値補正処理を行う期間(閾値補正期間)において、電流が専ら保持容量24側に流れ、有機EL素子21側には流れないようにするために、有機EL素子21がカットオフ状態となるように共通電源供給線34の電位Vcathを設定しておくこととする。   In the period for performing the threshold correction process (threshold correction period), the organic EL element 21 is cut off in order to prevent the current from flowing exclusively to the storage capacitor 24 and not to the organic EL element 21. As described above, the potential Vcath of the common power supply line 34 is set.

次に、時刻t4で走査線31の電位WSが低電位側に遷移することで、図6(A)に示すように、書込みトランジスタ23が非導通状態となる。このとき、駆動トランジスタ22のゲート電極が信号線33から電気的に切り離されることによってフローティング状態になる。しかし、ゲート−ソース間電圧Vgsが駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthに等しいために、当該駆動トランジスタ22はカットオフ状態にある。したがって、駆動トランジスタ22にドレイン−ソース間電流Idsは流れない。   Next, at time t4, the potential WS of the scanning line 31 transitions to the low potential side, so that the writing transistor 23 is turned off as illustrated in FIG. At this time, the gate electrode of the driving transistor 22 is electrically disconnected from the signal line 33 to be in a floating state. However, since the gate-source voltage Vgs is equal to the threshold voltage Vth of the drive transistor 22, the drive transistor 22 is in a cutoff state. Therefore, the drain-source current Ids does not flow through the driving transistor 22.

<信号書込み&移動度補正期間>
次に、時刻t5で、図6(B)に示すように、信号線33の電位が基準電位Vofsから映像信号の信号電圧Vsigに切り替わる。続いて、時刻t6で、走査線31の電位WSが高電位側に遷移することで、図6(C)に示すように、書込みトランジスタ23が導通状態になって映像信号の信号電圧Vsigをサンプリングして画素20内に書き込む。
<Signal writing & mobility correction period>
Next, at time t5, as shown in FIG. 6B, the potential of the signal line 33 is switched from the reference potential Vofs to the signal voltage Vsig of the video signal. Subsequently, at time t6, the potential WS of the scanning line 31 transitions to the high potential side, so that the writing transistor 23 becomes conductive as shown in FIG. 6C, and the signal voltage Vsig of the video signal is sampled. To write in the pixel 20.

この書込みトランジスタ23による信号電圧Vsigの書き込みにより、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgが信号電圧Vsigとなる。そして、映像信号の信号電圧Vsigによる駆動トランジスタ22の駆動の際に、当該駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthが保持容量24に保持された閾値電圧Vthに相当する電圧と相殺される。この閾値キャンセルの原理の詳細については後述する。   By writing the signal voltage Vsig by the writing transistor 23, the gate potential Vg of the driving transistor 22 becomes the signal voltage Vsig. When the driving transistor 22 is driven by the signal voltage Vsig of the video signal, the threshold voltage Vth of the driving transistor 22 is canceled with a voltage corresponding to the threshold voltage Vth held in the holding capacitor 24. Details of the principle of threshold cancellation will be described later.

このとき、有機EL素子21はカットオフ状態(ハイインピーダンス状態)にある。したがって、映像信号の信号電圧Vsigに応じて電源供給線32から駆動トランジスタ22に流れる電流(ドレイン−ソース間電流Ids)は補助容量25に流れ込む。よって、補助容量25の充電が開始される。   At this time, the organic EL element 21 is in a cutoff state (high impedance state). Therefore, a current (drain-source current Ids) that flows from the power supply line 32 to the drive transistor 22 in accordance with the signal voltage Vsig of the video signal flows into the auxiliary capacitor 25. Therefore, charging of the auxiliary capacitor 25 is started.

この補助容量25の充電により、駆動トランジスタ22のソース電位Vsが時間の経過と共に上昇していく。このとき既に、駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthの画素ごとのばらつきがキャンセルされており、駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Idsは当該駆動トランジスタ22の移動度μに依存したものとなる。   As the auxiliary capacitor 25 is charged, the source potential Vs of the drive transistor 22 rises with time. At this time, the pixel-to-pixel variation in the threshold voltage Vth of the drive transistor 22 has already been cancelled, and the drain-source current Ids of the drive transistor 22 depends on the mobility μ of the drive transistor 22.

ここで、映像信号の信号電圧Vsigに対する保持容量24の保持電圧Vgsの比率、即ち書込みゲインが1(理想値)であると仮定する。すると、駆動トランジスタ22のソース電位VsがVofs−Vth+ΔVの電位まで上昇することで、駆動トランジスタ22のゲート‐ソース間電圧VgsはVsig−Vofs+Vth−ΔVとなる。   Here, it is assumed that the ratio of the holding voltage Vgs of the holding capacitor 24 to the signal voltage Vsig of the video signal, that is, the writing gain is 1 (ideal value). Then, the source potential Vs of the drive transistor 22 rises to the potential of Vofs−Vth + ΔV, so that the gate-source voltage Vgs of the drive transistor 22 becomes Vsig−Vofs + Vth−ΔV.

すなわち、駆動トランジスタ22のソース電位Vsの上昇分ΔVは、保持容量24に保持された電圧(Vsig−Vofs+Vth)から差し引かれるように、換言すれば、保持容量24の充電電荷を放電するように作用し、負帰還がかけられたことになる。したがって、ソース電位Vsの上昇分ΔVは負帰還の帰還量となる。   That is, the increase ΔV of the source potential Vs of the drive transistor 22 is subtracted from the voltage (Vsig−Vofs + Vth) held in the holding capacitor 24, in other words, the charge of the holding capacitor 24 is discharged. And negative feedback was applied. Therefore, the increase ΔV of the source potential Vs becomes a feedback amount of negative feedback.

このように、駆動トランジスタ22に流れるドレイン−ソース間電流Idsに応じた帰還量ΔVでゲート‐ソース間電圧Vgsに負帰還をかけることで、駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Idsの移動度μに対する依存性を打ち消すことができる。この打ち消す処理が、駆動トランジスタ22の移動度μの画素ごとのばらつきを補正する移動度補正処理である。   In this way, by applying negative feedback to the gate-source voltage Vgs with a feedback amount ΔV corresponding to the drain-source current Ids flowing through the drive transistor 22, the mobility μ of the drain-source current Ids of the drive transistor 22. The dependence on can be negated. This canceling process is a mobility correction process for correcting the variation of the mobility μ of the driving transistor 22 for each pixel.

より具体的には、駆動トランジスタ22のゲート電極に書き込まれる映像信号の信号振幅Vin(=Vsig−Vofs)が高いほどドレイン−ソース間電流Idsが大きくなるために、負帰還の帰還量ΔVの絶対値も大きくなる。したがって、発光輝度レベルに応じた移動度補正処理が行われる。   More specifically, since the drain-source current Ids increases as the signal amplitude Vin (= Vsig−Vofs) of the video signal written to the gate electrode of the drive transistor 22 increases, the absolute value of the feedback amount ΔV of the negative feedback increases. The value also increases. Therefore, mobility correction processing according to the light emission luminance level is performed.

また、映像信号の信号振幅Vinを一定とした場合、駆動トランジスタ22の移動度μが大きいほど負帰還の帰還量ΔVの絶対値も大きくなるために、画素ごとの移動度μのばらつきを取り除くことができる。したがって、負帰還の帰還量ΔVは移動度補正の補正量とも言える。移動度補正の原理の詳細については後述する。   Further, when the signal amplitude Vin of the video signal is constant, the absolute value of the feedback amount ΔV of the negative feedback increases as the mobility μ of the drive transistor 22 increases. Can do. Therefore, it can be said that the feedback amount ΔV of the negative feedback is a correction amount for mobility correction. Details of the principle of mobility correction will be described later.

<発光期間>
次に、時刻t7で走査線31の電位WSが低電位側に遷移することで、図6(D)に示すように、書込みトランジスタ23が非導通状態となる。これにより、駆動トランジスタ22のゲート電極は、信号線33から電気的に切り離されるためにフローティング状態になる。
<Light emission period>
Next, at time t7, the potential WS of the scanning line 31 shifts to the low potential side, so that the writing transistor 23 is turned off as illustrated in FIG. 6D. As a result, the gate electrode of the drive transistor 22 is electrically disconnected from the signal line 33 and is in a floating state.

ここで、駆動トランジスタ22のゲート電極がフローティング状態にあるときは、駆動トランジスタ22のゲート−ソース間に保持容量24が接続されていることにより、駆動トランジスタ22のソース電位Vsの変動に連動してゲート電位Vgも変動する。このように、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgがソース電位Vsの変動に連動して変動する動作が、保持容量24によるブートストラップ動作である。   Here, when the gate electrode of the driving transistor 22 is in a floating state, the storage capacitor 24 is connected between the gate and the source of the driving transistor 22, so that the driving transistor 22 is interlocked with the change in the source potential Vs. The gate potential Vg also varies. Thus, the operation in which the gate potential Vg of the drive transistor 22 varies in conjunction with the variation in the source potential Vs is a bootstrap operation by the storage capacitor 24.

駆動トランジスタ22のゲート電極がフローティング状態になり、それと同時に、駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Idsが有機EL素子21に流れ始めることにより、当該電流Idsに応じて有機EL素子21のアノード電位が上昇する。   The gate electrode of the drive transistor 22 enters a floating state, and at the same time, the drain-source current Ids of the drive transistor 22 starts to flow into the organic EL element 21, whereby the anode potential of the organic EL element 21 is set according to the current Ids. To rise.

そして、有機EL素子21のアノード電位がVthel+Vcathを越えると、有機EL素子21に駆動電流が流れ始めるため有機EL素子21が発光を開始する。また、有機EL素子21のアノード電位の上昇は、即ち駆動トランジスタ22のソース電位Vsの上昇に他ならない。駆動トランジスタ22のソース電位Vsが上昇すると、保持容量24のブートストラップ動作により、駆動トランジスタ22のゲート電位Vgも連動して上昇する。   When the anode potential of the organic EL element 21 exceeds Vthel + Vcath, the drive current starts to flow through the organic EL element 21, and the organic EL element 21 starts to emit light. The increase in the anode potential of the organic EL element 21 is nothing but the increase in the source potential Vs of the drive transistor 22. When the source potential Vs of the drive transistor 22 rises, the gate potential Vg of the drive transistor 22 also rises in conjunction with the bootstrap operation of the storage capacitor 24.

このとき、ブートストラップゲインが1(理想状態)であると仮定した場合、ゲート電位Vgの上昇量はソース電位Vsの上昇量に等しくなる。故に、発光期間中駆動トランジスタ22のゲート‐ソース間電圧VgsはVsig−Vofs+Vth−ΔVで一定に保持される。そして、時刻t8で信号線33の電位が映像信号の信号電圧Vsigから基準電位Vofsに切り替わる。   At this time, when it is assumed that the bootstrap gain is 1 (ideal state), the increase amount of the gate potential Vg is equal to the increase amount of the source potential Vs. Therefore, the gate-source voltage Vgs of the drive transistor 22 is kept constant at Vsig−Vofs + Vth−ΔV during the light emission period. At time t8, the potential of the signal line 33 is switched from the signal voltage Vsig of the video signal to the reference potential Vofs.

以上説明した一連の回路動作において、閾値補正準備、閾値補正、信号電圧Vsigの書込み(信号書込み)および移動度補正の各処理動作は、1水平走査期間(1H)において実行される。また、信号書込みおよび移動度補正の各処理動作は、時刻t6−t7の期間において並行して実行される。   In the series of circuit operations described above, each processing operation of threshold correction preparation, threshold correction, signal voltage Vsig writing (signal writing), and mobility correction is executed in one horizontal scanning period (1H). Further, the signal writing and mobility correction processing operations are executed in parallel during the period from time t6 to time t7.

(閾値キャンセルの原理)
ここで、駆動トランジスタ22の閾値キャンセル(即ち、閾値補正)の原理について説明する。駆動トランジスタ22は、飽和領域で動作するように設計されているために定電流源として動作する。これにより、有機EL素子21には駆動トランジスタ22から、次式(1)で与えられる一定のドレイン−ソース間電流(駆動電流)Idsが供給される。
Ids=(1/2)・μ(W/L)Cox(Vgs−Vth)2 ……(1)
ここで、Wは駆動トランジスタ22のチャネル幅、Lはチャネル長、Coxは単位面積当たりのゲート容量である。
(Threshold cancellation principle)
Here, the principle of threshold cancellation (that is, threshold correction) of the drive transistor 22 will be described. The drive transistor 22 operates as a constant current source because it is designed to operate in the saturation region. As a result, a constant drain-source current (drive current) Ids given by the following equation (1) is supplied from the drive transistor 22 to the organic EL element 21.
Ids = (1/2) · μ (W / L) Cox (Vgs−Vth) 2 (1)
Here, W is the channel width of the drive transistor 22, L is the channel length, and Cox is the gate capacitance per unit area.

図7に、駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Ids対ゲート−ソース間電圧Vgsの特性を示す。   FIG. 7 shows characteristics of the drain-source current Ids of the drive transistor 22 versus the gate-source voltage Vgs.

この特性図に示すように、駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthの画素ごとのばらつきに対するキャンセル処理を行わないと、閾値電圧VthがVth1のとき、ゲート−ソース間電圧Vgsに対応するドレイン−ソース間電流IdsがIds1になる。   As shown in this characteristic diagram, if no cancellation process is performed for the variation of the threshold voltage Vth of the drive transistor 22 for each pixel, the drain-source current corresponding to the gate-source voltage Vgs when the threshold voltage Vth is Vth1. Ids becomes Ids1.

これに対して、閾値電圧VthがVth2(Vth2>Vth1)のとき、同じゲート−ソース間電圧Vgsに対応するドレイン−ソース間電流IdsがIds2(Ids2<Ids)になる。すなわち、駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthが変動すると、ゲート−ソース間電圧Vgsが一定であってもドレイン−ソース間電流Idsが変動する。   On the other hand, when the threshold voltage Vth is Vth2 (Vth2> Vth1), the drain-source current Ids corresponding to the same gate-source voltage Vgs is Ids2 (Ids2 <Ids). That is, when the threshold voltage Vth of the drive transistor 22 varies, the drain-source current Ids varies even if the gate-source voltage Vgs is constant.

一方、上記構成の画素(画素回路)20では、先述したように、発光時の駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧VgsはVsig−Vofs+Vth−ΔVである。したがって、これを式(1)に代入すると、ドレイン−ソース間電流Idsは、次式(2)で表される。
Ids=(1/2)・μ(W/L)Cox(Vsig−Vofs−ΔV)2
……(2)
On the other hand, in the pixel (pixel circuit) 20 having the above configuration, as described above, the gate-source voltage Vgs of the drive transistor 22 at the time of light emission is Vsig−Vofs + Vth−ΔV. Therefore, when this is substituted into the equation (1), the drain-source current Ids is expressed by the following equation (2).
Ids = (1/2) · μ (W / L) Cox (Vsig−Vofs−ΔV) 2
(2)

すなわち、駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthの項がキャンセルされており、駆動トランジスタ22から有機EL素子21に供給されるドレイン−ソース間電流Idsは、駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthに依存しない。その結果、駆動トランジスタ22の製造プロセスのばらつきや経時変化により、駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthが画素ごとに変動したとしても、ドレイン−ソース間電流Idsが変動しないために、有機EL素子21の発光輝度を一定に保つことができる。   That is, the term of the threshold voltage Vth of the drive transistor 22 is canceled, and the drain-source current Ids supplied from the drive transistor 22 to the organic EL element 21 does not depend on the threshold voltage Vth of the drive transistor 22. As a result, even if the threshold voltage Vth of the drive transistor 22 varies from pixel to pixel due to variations in the manufacturing process of the drive transistor 22 and changes over time, the drain-source current Ids does not vary. The brightness can be kept constant.

(移動度補正の原理)
次に、駆動トランジスタ22の移動度補正の原理について説明する。図8に、駆動トランジスタ22の移動度μが相対的に大きい画素Aと、駆動トランジスタ22の移動度μが相対的に小さい画素Bとを比較した状態で特性カーブを示す。駆動トランジスタ22をポリシリコン薄膜トランジスタなどで構成した場合、画素Aや画素Bのように、画素間で移動度μがばらつくことは避けられない。
(Principle of mobility correction)
Next, the principle of mobility correction of the drive transistor 22 will be described. FIG. 8 shows a characteristic curve in a state where a pixel A having a relatively high mobility μ of the driving transistor 22 and a pixel B having a relatively low mobility μ of the driving transistor 22 are compared. When the driving transistor 22 is composed of a polysilicon thin film transistor or the like, it is inevitable that the mobility μ varies between pixels like the pixel A and the pixel B.

画素Aと画素Bで移動度μにばらつきがある状態で、駆動トランジスタ22のゲート電極に例えば両画素A,Bに同レベルの信号振幅Vin(=Vsig−Vofs)を書き込んだ場合を考える。この場合、何ら移動度μの補正を行わないと、移動度μの大きい画素Aに流れるドレイン−ソース間電流Ids1′と移動度μの小さい画素Bに流れるドレイン−ソース間電流Ids2′との間には大きな差が生じてしまう。このように、移動度μの画素ごとのばらつきに起因してドレイン−ソース間電流Idsに画素間で大きな差が生じると、画面のユニフォーミティが損なわれる。   Consider a case where the signal amplitude Vin (= Vsig−Vofs) of the same level is written to both the pixels A and B, for example, in the gate electrode of the drive transistor 22 in a state where the mobility μ varies between the pixel A and the pixel B. In this case, if the mobility μ is not corrected at all, it is between the drain-source current Ids1 ′ flowing through the pixel A having a high mobility μ and the drain-source current Ids2 ′ flowing through the pixel B having a low mobility μ. There will be a big difference. Thus, when a large difference occurs between the pixels in the drain-source current Ids due to the variation in mobility μ from pixel to pixel, the uniformity of the screen is impaired.

ここで、先述した式(1)のトランジスタ特性式から明らかなように、移動度μが大きいとドレイン−ソース間電流Idsが大きくなる。したがって、負帰還における帰還量ΔVは移動度μが大きくなるほど大きくなる。図8に示すように、移動度μの大きな画素Aの帰還量ΔV1は、移動度の小さな画素Bの帰還量ΔV2に比べて大きい。   Here, as is clear from the transistor characteristic equation of Equation (1), the drain-source current Ids increases when the mobility μ is large. Therefore, the feedback amount ΔV in the negative feedback increases as the mobility μ increases. As shown in FIG. 8, the feedback amount ΔV1 of the pixel A having a high mobility μ is larger than the feedback amount ΔV2 of the pixel B having a low mobility.

そこで、移動度補正処理によって駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Idsに応じた帰還量ΔVでゲート−ソース間電圧Vgsに負帰還をかけることにより、移動度μが大きいほど負帰還が大きくかかることになる。その結果、移動度μの画素ごとのばらつきを抑制することができる。   Therefore, by applying negative feedback to the gate-source voltage Vgs with the feedback amount ΔV corresponding to the drain-source current Ids of the drive transistor 22 by the mobility correction processing, the negative feedback is increased as the mobility μ is increased. become. As a result, variation in mobility μ for each pixel can be suppressed.

具体的には、移動度μの大きな画素Aで帰還量ΔV1の補正をかけると、ドレイン−ソース間電流IdsはIds1′からIds1まで大きく下降する。一方、移動度μの小さな画素Bの帰還量ΔV2は小さいために、ドレイン−ソース間電流IdsはIds2′からIds2までの下降となり、それ程大きく下降しない。結果的に、画素Aのドレイン−ソース間電流Ids1と画素Bのドレイン−ソース間電流Ids2とはほぼ等しくなるために、移動度μの画素ごとのばらつきが補正される。   Specifically, when the feedback amount ΔV1 is corrected in the pixel A having a high mobility μ, the drain-source current Ids greatly decreases from Ids1 ′ to Ids1. On the other hand, since the feedback amount ΔV2 of the pixel B having a low mobility μ is small, the drain-source current Ids decreases from Ids2 ′ to Ids2, and does not decrease that much. As a result, since the drain-source current Ids1 of the pixel A and the drain-source current Ids2 of the pixel B are substantially equal, the variation in mobility μ from pixel to pixel is corrected.

以上をまとめると、移動度μの異なる画素Aと画素Bがあった場合、移動度μの大きい画素Aの帰還量ΔV1は移動度μの小さい画素Bの帰還量ΔV2に比べて大きくなる。つまり、移動度μが大きい画素ほど帰還量ΔVが大きく、ドレイン−ソース間電流Idsの減少量が大きくなる。   In summary, when there are a pixel A and a pixel B having different mobility μ, the feedback amount ΔV1 of the pixel A having a high mobility μ is larger than the feedback amount ΔV2 of the pixel B having a low mobility μ. That is, the larger the mobility μ, the larger the feedback amount ΔV, and the larger the amount of decrease in the drain-source current Ids.

したがって、駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Idsに応じた帰還量ΔVで、ゲート−ソース間電圧Vgsに負帰還をかけることで、移動度μの異なる画素のドレイン−ソース間電流Idsの電流値が均一化される。その結果、移動度μの画素ごとのばらつきを補正することができる。すなわち、駆動トランジスタ22に流れる電流(ドレイン−ソース間電流Ids)に応じた帰還量ΔVで、駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧Vgsに負帰還をかける処理が移動度補正処理となる。   Therefore, by applying negative feedback to the gate-source voltage Vgs with a feedback amount ΔV corresponding to the drain-source current Ids of the driving transistor 22, the current value of the drain-source current Ids of the pixels having different mobility μ. Is made uniform. As a result, variation in mobility μ for each pixel can be corrected. That is, the process for applying negative feedback to the gate-source voltage Vgs of the drive transistor 22 with the feedback amount ΔV corresponding to the current flowing through the drive transistor 22 (drain-source current Ids) is the mobility correction process.

ここで、図2に示した画素(画素回路)20において、閾値補正、移動度補正の有無による映像信号の信号電圧Vsigと駆動トランジスタ22のドレイン・ソース間電流Idsとの関係について図9を用いて説明する。   Here, in the pixel (pixel circuit) 20 shown in FIG. 2, the relationship between the signal voltage Vsig of the video signal and the drain-source current Ids of the drive transistor 22 depending on the presence or absence of threshold correction and mobility correction is shown in FIG. I will explain.

図9において、(A)は閾値補正および移動度補正を共に行わない場合、(B)は移動度補正を行わず、閾値補正のみを行った場合、(C)は閾値補正および移動度補正を共に行った場合をそれぞれ示している。図9(A)に示すように、閾値補正および移動度補正を共に行わない場合には、閾値電圧Vthおよび移動度μの画素A,Bごとのばらつきに起因してドレイン・ソース間電流Idsに画素A,B間で大きな差が生じることになる。   In FIG. 9, (A) does not perform both threshold correction and mobility correction, (B) does not perform mobility correction, and performs only threshold correction, (C) performs threshold correction and mobility correction. Each case is shown. As shown in FIG. 9A, when neither threshold correction nor mobility correction is performed, the drain-source current Ids is caused by variations in the threshold voltage Vth and the mobility μ for each of the pixels A and B. A large difference occurs between the pixels A and B.

これに対し、閾値補正のみを行った場合は、図9(B)に示すように、ドレイン−ソース間電流Idsのばらつきをある程度低減できるものの、移動度μの画素A,Bごとのばらつきに起因する画素A,B間でのドレイン−ソース間電流Idsの差は残る。そして、閾値補正および移動度補正を共に行うことで、図9(C)に示すように、閾値電圧Vthおよび移動度μの画素A,Bごとのばらつきに起因する画素A,B間でのドレイン−ソース間電流Idsの差をほぼ無くすことができる。したがって、どの階調においても有機EL素子21の輝度ばらつきは発生せず、良好な画質の表示画像を得ることができる。   On the other hand, when only the threshold correction is performed, as shown in FIG. 9B, although the variation in the drain-source current Ids can be reduced to some extent, it is caused by the variation in the mobility μ between the pixels A and B. The difference between the drain-source current Ids between the pixels A and B to be left remains. Then, by performing both the threshold correction and the mobility correction, as shown in FIG. 9C, the drain between the pixels A and B due to the variation of the threshold voltage Vth and the mobility μ for each of the pixels A and B. -The difference in the current Ids between the sources can be almost eliminated. Therefore, the luminance variation of the organic EL element 21 does not occur at any gradation, and a display image with good image quality can be obtained.

また、図2に示した画素20は、閾値補正および移動度補正の各補正機能に加えて、先述した保持容量24によるブートストラップ動作の機能を備えていることで、次のような作用効果を得ることができる。   Further, the pixel 20 shown in FIG. 2 has the function of bootstrap operation by the holding capacitor 24 described above in addition to the correction functions of threshold correction and mobility correction. Obtainable.

すなわち、有機EL素子21のI−V特性の経時変化に伴って駆動トランジスタ22のソース電位Vsが変化したとしても、保持容量24によるブートストラップ動作により、駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電位Vgsを一定に維持することができる。したがって、有機EL素子21に流れる電流は変化せず一定となる。その結果、有機EL素子21の発光輝度も一定に保たれるために、有機EL素子21のI−V特性が経時変化したとしても、それに伴う輝度劣化のない画像表示を実現できる。   That is, even if the source potential Vs of the drive transistor 22 changes with time-dependent changes in the IV characteristics of the organic EL element 21, the gate-source potential Vgs of the drive transistor 22 is set by the bootstrap operation by the storage capacitor 24. Can be kept constant. Therefore, the current flowing through the organic EL element 21 does not change and is constant. As a result, since the light emission luminance of the organic EL element 21 is kept constant, even if the IV characteristic of the organic EL element 21 changes with time, it is possible to realize image display without luminance deterioration associated therewith.

(ブートストラップゲインGbについて)
ここまでの説明では、ブートストラップゲインGbが理想状態(Gb=100%)にあると仮定した。しかし、駆動トランジスタ22に寄生容量が存在することで、当該規制容量の影響により、実際のブートストラップゲインGbは理想状態にない、即ち100%未満である。
(About bootstrap gain Gb)
In the description so far, it is assumed that the bootstrap gain Gb is in an ideal state (Gb = 100%). However, due to the presence of the parasitic capacitance in the driving transistor 22, the actual bootstrap gain Gb is not in an ideal state, that is, less than 100% due to the influence of the regulation capacitance.

ここで、駆動トランジスタ22のゲート−ソース間およびゲート−ドレイン間の寄生容量の各容量値をCgs,Cgd、書込みトランジスタ23の寄生容量の容量値をCws、保持容量24の容量値をCsとすると、ブートストラップゲインGbは次式(3)で与えられる。
Gb=(Cs+Cgs)/(Cs+Cgs+Cgd+Cws) ……(3)
この式(3)から明らかなように、駆動トランジスタ22のゲート電極に付く寄生容量、特に駆動トランジスタ22のゲート−ドレイン間の寄生容量および書込みトランジスタ23の寄生容量が存在することで、実際のブートストラップゲインGbは理想状態にない。
Here, assuming that the capacitance values of the parasitic capacitance between the gate and the source of the driving transistor 22 are Cgs, Cgd, the capacitance value of the parasitic capacitance of the write transistor 23 is Cws, and the capacitance value of the storage capacitor 24 is Cs. The bootstrap gain Gb is given by the following equation (3).
Gb = (Cs + Cgs) / (Cs + Cgs + Cgd + Cws) (3)
As is apparent from this equation (3), the presence of the parasitic capacitance attached to the gate electrode of the driving transistor 22, particularly the parasitic capacitance between the gate and drain of the driving transistor 22 and the parasitic capacitance of the writing transistor 23, The strap gain Gb is not in an ideal state.

先述したように、有機EL素子21の発光輝度を決める電流値、即ち駆動トランジスタ21のドレイン−ソース間電流Idsは式(1)で与えられる。ここで、式(1)中の駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧Vgsについて考える。図20において、閾値電圧Vthが相対的に小さく、移動度μが相対的に大きい画素を画素Aとし、駆動トランジスタの閾値電圧Vthが相対的に大きく、移動度μが相対的に小さい画素を画素Bとする。   As described above, the current value that determines the light emission luminance of the organic EL element 21, that is, the drain-source current Ids of the drive transistor 21 is given by the equation (1). Here, consider the gate-source voltage Vgs of the drive transistor 22 in the equation (1). In FIG. 20, a pixel having a relatively small threshold voltage Vth and a relatively high mobility μ is referred to as a pixel A, and a pixel having a relatively large threshold voltage Vth and a mobility μ of a driving transistor is a pixel. B.

そして、ブートストラップ動作直前、即ち移動度補正処理の終了直後の駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧Vgsをそれぞれ、画素A:Vgs1、画素B:Vgs2とする。また、ブートストラップ動作で駆動トランジスタ22のソース電位Vsがそれぞれ、画素AでΔVs1だけ上昇し、画素BでΔVs2だけ上昇したとする。画素A,Bの閾値電圧Vthの差をΔVthとすると、
Vgs1=Vgs2+ΔVth, ΔVs1=ΔVs2+ΔVth ……(4)
である。
Then, the gate-source voltage Vgs of the drive transistor 22 immediately before the bootstrap operation, that is, immediately after the end of the mobility correction process is set to pixel A: Vgs1 and pixel B: Vgs2, respectively. Further, it is assumed that the source potential Vs of the driving transistor 22 is increased by ΔVs1 in the pixel A and increased by ΔVs2 in the pixel B in the bootstrap operation. When the difference between the threshold voltages Vth of the pixels A and B is ΔVth,
Vgs1 = Vgs2 + ΔVth, ΔVs1 = ΔVs2 + ΔVth (4)
It is.

ブートストラップ動作直後の駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧Vgsはそれぞれ、
画素A:VgsA=Vgs1−ΔVs1×(1−Gb)
画素B:VgsB=Vgs2−ΔVs2×(1−Gb)
で表わされる。
The gate-source voltage Vgs of the drive transistor 22 immediately after the bootstrap operation is respectively
Pixel A: VgsA = Vgs1−ΔVs1 × (1−Gb)
Pixel B: VgsB = Vgs2−ΔVs2 × (1−Gb)
It is represented by

ここで、式(4)より、
VgsA=Vgs1−ΔVs1×(1−Gb)
=Vgs2+ΔVth−(ΔVs2+ΔVth)×(1−Gb)
=Vgs2+ΔVth−ΔVs2×(1−Gb)−ΔVth×(1−Gb)
となる。
Here, from equation (4),
VgsA = Vgs1−ΔVs1 × (1−Gb)
= Vgs2 + ΔVth− (ΔVs2 + ΔVth) × (1-Gb)
= Vgs2 + ΔVth−ΔVs2 × (1−Gb) −ΔVth × (1−Gb)
It becomes.

よって、ブートストラップ動作直後の画素Aと画素Bとのゲート−ソース間電圧Vgsの差(VgsA−VgsB)は、
VgsA−VgsB=ΔVth−ΔVth×(1−Gb)
=ΔVth×Gb
となる。
Therefore, the difference (VgsA−VgsB) in the gate-source voltage Vgs between the pixel A and the pixel B immediately after the bootstrap operation is
VgsA−VgsB = ΔVth−ΔVth × (1−Gb)
= ΔVth × Gb
It becomes.

つまり、閾値補正処理後、意図的にゲート−ソース間電圧Vgsの差(VgsA−VgsB)を、意図的に『Vth1−Vth2=ΔVth』としていたのであるが、ブートストラップ動作後には上記『ΔVth×Gb』になってしまっていた。そして、画素Aと画素Bのゲート−ソース間電圧Vgsの差『ΔVth×(1−Gb)』が最終的な発光輝度に残るばらつきとなる。具体的には、図20において、閾値電圧Vthが大きく、移動度μが小さい画素Bの領域Pではその周囲の画素Aの領域Oよりも輝度が低下し、輝度ムラとなって視認される。   That is, after the threshold correction process, the gate-source voltage Vgs difference (VgsA−VgsB) is intentionally set to “Vth1−Vth2 = ΔVth”, but after the bootstrap operation, “ΔVth × Gb ”. Then, the difference “ΔVth × (1−Gb)” of the gate-source voltage Vgs between the pixel A and the pixel B becomes a variation remaining in the final light emission luminance. Specifically, in FIG. 20, in the region P of the pixel B where the threshold voltage Vth is large and the mobility μ is small, the luminance is lower than that of the region O of the surrounding pixel A, and the luminance unevenness is visually recognized.

移動度補正ができており、画素A,B間で定数βに事実上差がないとすれば、画素A,Bの有機EL素子21の駆動電流(発光電流)の差は次のようになる。ここで、画素Aの有機EL素子21の駆動電流をIdsA、画素Bの有機EL素子21の駆動電流をIdsBとする。また、定数βは、式(1)におけるμ(W/L)Coxである。   If mobility correction is possible and there is virtually no difference in the constant β between the pixels A and B, the difference in drive current (light emission current) of the organic EL elements 21 of the pixels A and B is as follows. . Here, the drive current of the organic EL element 21 of the pixel A is IdsA, and the drive current of the organic EL element 21 of the pixel B is IdsB. The constant β is μ (W / L) Cox in the equation (1).

すなわち、画素A,Bの発光電流の差|IdsA−IdsB|は、
|IdsA−IdsB|=|(β/2)(ΔVth×Gb−ΔVth)2
=|(β/2)[ΔVth×(1−Gb)2 ]|
となる。よって、ブートストラップゲインGbが理想状態(100%)でない限り、画素A,B間で駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧Vgsにロスが生じ、輝度ムラ等となって画質を悪化させる。
In other words, the difference | IdsA−IdsB |
| IdsA−IdsB | = | (β / 2) (ΔVth × Gb−ΔVth) 2 |
= | (Β / 2) [ΔVth × (1-Gb) 2 ] |
It becomes. Therefore, unless the bootstrap gain Gb is in an ideal state (100%), a loss occurs in the gate-source voltage Vgs of the drive transistor 22 between the pixels A and B, resulting in luminance unevenness and the like, thereby degrading the image quality.

[本実施形態の特徴部分]
本実施形態では、ブートストラップゲインGbが理想状態になくても、画面のユニフォーミティを損なうことなく、良質な表示画像を得るようにするために次の構成を採る。すなわち、駆動トランジスタ22の移動度μによって決まる当該駆動トランジスタ22のソース電位Vsの遷移速度(本例では、立ち上がり速度)に応じて移動度補正期間(移動度補正処理の期間)を調整するようにする。
[Characteristics of this embodiment]
In the present embodiment, even if the bootstrap gain Gb is not in an ideal state, the following configuration is adopted in order to obtain a high-quality display image without impairing the screen uniformity. That is, the mobility correction period (mobility correction processing period) is adjusted in accordance with the transition speed (rising speed in this example) of the source potential Vs of the drive transistor 22 determined by the mobility μ of the drive transistor 22. To do.

まず、初期設定において、移動度補正期間tは、次式(5)に基づいて設定される。
t=C/(kμVsig) ……(5)
ここで、定数kはk=(1/2)(W/L)Coxである。また、Cは移動度補正を行うときに放電されるノードの容量であり、図2の回路例では有機EL素子21の等価容量、保持容量24および補助容量25の合成容量となる。
First, in the initial setting, the mobility correction period t is set based on the following equation (5).
t = C / (kμVsig) (5)
Here, the constant k is k = (1/2) (W / L) Cox. Further, C is a capacity of a node that is discharged when the mobility correction is performed. In the circuit example of FIG. 2, C is an equivalent capacity of the organic EL element 21, a combined capacity of the holding capacity 24 and the auxiliary capacity 25.

この初期設定の移動度補正期間tは全画素に対して共通に設定されている。本実施形態では、この移動度補正期間tを、駆動トランジスタ22のソース電位Vsの立ち上がり速度に応じて画素ごとに調整するようにする。式(1)から明らかなように、駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電流Idsが移動度μに比例するため、駆動トランジスタ22のソース電位Vsの立ち上がり速度は、移動度μが大きいと速く、移動度μが小さいと遅い。   This initial mobility correction period t is set in common for all pixels. In the present embodiment, the mobility correction period t is adjusted for each pixel in accordance with the rising speed of the source potential Vs of the drive transistor 22. As apparent from the equation (1), since the drain-source current Ids of the drive transistor 22 is proportional to the mobility μ, the rising speed of the source potential Vs of the drive transistor 22 is fast when the mobility μ is large. Slow when degree μ is small.

そこで、駆動トランジスタ22のソース電位Vsの立ち上がり速度に応じて移動度補正期間を調整することで、画素ごとに移動度補正期間を制御できる。そして、この移動度補正期間の制御により、初期設定で画素に関係なく一定に設定されていた移動度補正期間tが、移動度μが相対的に大きい画素Aでは移動度μが相対的に小さい画素Bに比べて長くなる。これにより、閾値電圧Vthが相対的に小さく、移動度μが相対的に大きい画素Aでは、初期設定の移動度補正期間tの場合に比べて、移動度補正処理での帰還量ΔVが大きくなるために、画素の輝度を下げる方向に移動度補正処理が行われる。   Therefore, the mobility correction period can be controlled for each pixel by adjusting the mobility correction period according to the rising speed of the source potential Vs of the drive transistor 22. By controlling the mobility correction period, the mobility correction period t, which is set to be constant regardless of the pixel by default, is relatively small in the pixel A where the mobility μ is relatively large. It becomes longer than the pixel B. Thereby, in the pixel A having a relatively small threshold voltage Vth and a relatively large mobility μ, the feedback amount ΔV in the mobility correction process is larger than in the case of the mobility correction period t set as an initial setting. Therefore, the mobility correction process is performed in the direction of decreasing the luminance of the pixel.

一方、閾値電圧Vthが相対的に大きく、移動度μが相対的に小さい画素Bでは、ブートストラップゲインGbが理想状態にないと、先述したように、駆動トランジスタ22のゲート−ソース間電圧VgsにブートストラップゲインGbに応じたロスが生じる。その結果、輝度が低下して輝度ムラとなり、画質を悪化させる。   On the other hand, in the pixel B where the threshold voltage Vth is relatively large and the mobility μ is relatively small, if the bootstrap gain Gb is not in an ideal state, the gate-source voltage Vgs of the drive transistor 22 is set to the gate transistor voltage Vgs as described above. A loss corresponding to the bootstrap gain Gb occurs. As a result, the luminance is reduced and luminance unevenness is caused, and the image quality is deteriorated.

これに対して、上述したように、駆動トランジスタ22のソース電位Vsの立ち上がり速度に応じて移動度補正期間を調整することで、画素Aでは、輝度を下げる方向に移動度補正処理が行われるために、画素A,B間の輝度が均一化される。その結果、画面のユニフォーミティを損なうことなく、良質な表示画像を得ることができる。以下に、駆動トランジスタ22のソース電位Vsの立ち上がり速度に応じて移動度補正期間を調整するための具体的な実施例について説明する。   On the other hand, as described above, by adjusting the mobility correction period according to the rising speed of the source potential Vs of the driving transistor 22, the mobility correction processing is performed in the pixel A in the direction of decreasing the luminance. In addition, the luminance between the pixels A and B is made uniform. As a result, a high quality display image can be obtained without impairing the uniformity of the screen. Hereinafter, a specific example for adjusting the mobility correction period according to the rising speed of the source potential Vs of the drive transistor 22 will be described.

(実施例)
図10は、本発明の一実施例に係る画素部の要部の配線構造を示す平面パターン図であり、図中、図1および図2と同等部分には同一符号を付して示している。
(Example)
FIG. 10 is a plan pattern diagram showing the wiring structure of the main part of the pixel portion according to one embodiment of the present invention. In FIG. 10, the same parts as those in FIG. 1 and FIG. .

図10において、走査線31は、アルミニウム(Al)等の一般的に単位当たりの抵抗値が低いとされる材料によって配線されている。また、この走査線31と書込みトランジスタ23のゲート電極との間は、モリブデン(Mo)やポリシリコン(ps)等の一般的に単位当たりの抵抗値が高いとされる高抵抗材料からなる配線81によって電気的に接続されている。配線81は、コンタクト部82によって走査線31と電気的に接続される。   In FIG. 10, the scanning line 31 is wired by a material generally having a low resistance value per unit, such as aluminum (Al). Further, between the scanning line 31 and the gate electrode of the writing transistor 23, a wiring 81 made of a high resistance material generally having a high resistance value per unit such as molybdenum (Mo) or polysilicon (ps). Are electrically connected. The wiring 81 is electrically connected to the scanning line 31 by the contact portion 82.

ここで、配線81は、破線で示すように、走査線31と書込みトランジスタ23のゲート電極との間を最短距離で接続するのが一般的である。これに対して、本実施例では、配線81を屈曲させて配線することで、走査線31と書込みトランジスタ23のゲート電極との間における配線81の配線抵抗を高くするようにしている。この配線81の配線長を長くすればするほど、配線81の配線抵抗を高くすることができる。   Here, the wiring 81 generally connects the scanning line 31 and the gate electrode of the writing transistor 23 with the shortest distance, as indicated by a broken line. On the other hand, in this embodiment, the wiring 81 is bent so that the wiring resistance of the wiring 81 between the scanning line 31 and the gate electrode of the writing transistor 23 is increased. As the wiring length of the wiring 81 is increased, the wiring resistance of the wiring 81 can be increased.

なお、ここでは、配線81を屈曲させて配線し、配線81の配線長を長くとることで、配線81の配線抵抗を高くするとしたが、配線81の配線幅を狭くすることで、配線81の配線抵抗を高くするもできる。すなわち、走査線31と書込みトランジスタ23のゲート電極との間の抵抗成分は、配線81の材料(高抵抗材料)で決まるとともに、当該配線81の配線長および配線幅で決まる。   Note that here, the wiring 81 is bent and the wiring 81 has a long wiring length, thereby increasing the wiring resistance of the wiring 81. However, by reducing the wiring width of the wiring 81, the wiring 81 The wiring resistance can also be increased. That is, the resistance component between the scanning line 31 and the gate electrode of the writing transistor 23 is determined by the material of the wiring 81 (high resistance material), and is determined by the wiring length and wiring width of the wiring 81.

信号線33は、基本的にアルミニウム等の材料によって配線されるが、走査線31との交差部分では別の層に配線されるモリブデン等の配線とコンタクト部83によって電気的に接続される。書込みトランジスタ23は、ポリシリコン等からなる半導体層84とゲート電極が配向配置されることによって形成され、当該ゲート電極の一方側のソース領域/ドレイン領域がコンタクト部85によって信号線33と電気的に接続される。   The signal line 33 is basically wired by a material such as aluminum, but is electrically connected by a contact portion 83 to a wiring such as molybdenum that is wired in a different layer at the intersection with the scanning line 31. The write transistor 23 is formed by aligning a semiconductor layer 84 made of polysilicon or the like and a gate electrode, and the source region / drain region on one side of the gate electrode is electrically connected to the signal line 33 by the contact portion 85. Connected.

図11に、本実施例に係る画素20Aの等価回路を示す。図11において、図2と同等部分には同一符号を付して示している。上述したように、走査線31と書込みトランジスタ23のゲート電極との間の配線81としてアルミニウム等の高抵抗値の材料を用いることで、走査線31と書込みトランジスタ23のゲート電極との間に抵抗成分Rを介在させることができる。このとき、配線81の配線長を長く設定する、配線幅を狭く設定する、またはその両方の手法を採用することで、抵抗成分Rの抵抗値をより高く設定することができる。   FIG. 11 shows an equivalent circuit of the pixel 20A according to this embodiment. In FIG. 11, the same parts as those in FIG. As described above, by using a high resistance material such as aluminum as the wiring 81 between the scanning line 31 and the gate electrode of the writing transistor 23, a resistance is provided between the scanning line 31 and the gate electrode of the writing transistor 23. Component R can be interposed. At this time, the resistance value of the resistance component R can be set higher by adopting a technique in which the wiring length of the wiring 81 is set longer, the wiring width is set narrower, or both.

以下に、走査線31と書込みトランジスタ23のゲート電極との間に抵抗成分Rを介在させることに伴う作用効果について説明する。   In the following, the operational effects associated with interposing the resistance component R between the scanning line 31 and the gate electrode of the writing transistor 23 will be described.

先ず、抵抗成分Rがあることで、駆動トランジスタ22のソース電位Vsが立ち上がるときに、図11に破線で示すように、保持容量24および書込みトランジスタ23の寄生容量Cwsを介して書込みトランジスタ23のゲート電極に容量カップリングが入る。すなわち、抵抗成分Rは、移動度補正処理が終了するときの駆動トランジスタ22のソース電位Vsの遷移に連動したゲート電位Vgの遷移時に、当該ゲート電位Vgの遷移による書込みトランジスタ23のゲート電極への容量カップリングを許容する作用を為す。   First, when the source potential Vs of the drive transistor 22 rises due to the presence of the resistance component R, the gate of the write transistor 23 is passed through the storage capacitor 24 and the parasitic capacitance Cws of the write transistor 23 as shown by a broken line in FIG. Capacitive coupling enters the electrode. That is, the resistance component R is applied to the gate electrode of the write transistor 23 due to the transition of the gate potential Vg at the transition of the gate potential Vg in conjunction with the transition of the source potential Vs of the driving transistor 22 when the mobility correction process is completed. Acts to allow capacitive coupling.

具体的には、図4の時刻t7で移動度補正処理が終了する際に、駆動トランジスタ22に電流が流れることにより、駆動トランジスタ22のソース電位Vsが立ち上がる。このとき、駆動トランジスタ22のドレイン−ソース間電圧Vdsは、式(1)から明らかなように、駆動トランジスタ22の移動度μに比例する。したがって、駆動トランジスタ22のソース電位Vsの立ち上がり速度は、移動度μが大きいと速く、移動度μが小さいと遅い。   Specifically, when the mobility correction process is completed at time t7 in FIG. 4, a current flows through the drive transistor 22 so that the source potential Vs of the drive transistor 22 rises. At this time, the drain-source voltage Vds of the drive transistor 22 is proportional to the mobility μ of the drive transistor 22 as is apparent from the equation (1). Therefore, the rising speed of the source potential Vs of the driving transistor 22 is fast when the mobility μ is large, and is slow when the mobility μ is small.

ここで、理解を容易にするために、先述した場合と同様に、閾値電圧Vthが相対的に小さく、移動度μが相対的に大きい画素Aと、閾値電圧Vthが相対的に大きく、移動度μが相対的に小さい画素Bとを例に挙げて説明する。   Here, in order to facilitate understanding, as in the case described above, the threshold voltage Vth is relatively small and the mobility μ is relatively large, and the threshold voltage Vth is relatively large. A description will be given by taking a pixel B having a relatively small μ as an example.

移動度補正処理が終了し、発光開始の際に、閾値電圧Vthが小、移動度μが大の画素Aは、移動度μが小の画素Bに比べて駆動トランジスタ22のソース電位Vsの上昇が速いため、保持容量24および書込みトランジスタ23の寄生容量Cwsを通してより多くのカップリングが書込みトランジスタ23のゲート電極に入る。このカップリングの入るタイミングは、図4の時刻t7、即ち書込み走査信号WSの立ち下がりのタイミングである。   When the mobility correction process is completed and light emission starts, the pixel A having a small threshold voltage Vth and a large mobility μ increases the source potential Vs of the drive transistor 22 as compared with the pixel B having a small mobility μ. Therefore, more coupling enters the gate electrode of the write transistor 23 through the storage capacitor 24 and the parasitic capacitance Cws of the write transistor 23. The timing at which this coupling enters is time t7 in FIG. 4, that is, the falling timing of the write scanning signal WS.

そして、書込みトランジスタ23のゲート電位は、駆動トランジスタ22のゲート電位Vsの立ち上がりによるカップリングによって上昇する方向に変化する。すなわち、書込みトランジスタ23のゲート電位の変化は、書込み走査信号WSの立ち下がりに抗する方向となる。これにより、図12に示すように、閾値電圧Vthが小、移動度μが大の画素A(実線)では、移動度μが小の画素B(破線)に比べて書込み走査信号WSの立ち下がり速度が遅れる。   Then, the gate potential of the write transistor 23 changes in a direction that increases due to coupling due to the rise of the gate potential Vs of the drive transistor 22. That is, the change in the gate potential of the write transistor 23 is in a direction against the falling edge of the write scan signal WS. Accordingly, as shown in FIG. 12, in the pixel A (solid line) with a small threshold voltage Vth and a high mobility μ, the falling edge of the write scanning signal WS is lower than that of the pixel B (broken line) with a small mobility μ. The speed is delayed.

ここで、移動度補正期間は、駆動トランジスタ22の閾値電圧Vthに対する書込み走査信号WSの立ち上がり速度および立ち下がり速度で決まる。したがって、画素Bに比べて画素Aで書込み走査信号WSの立ち下がり速度が遅れることで、画素Bに比べて画素Aの移動度補正期間が長くなる。これにより、閾値電圧Vthが小、移動度μが大の画素Aの輝度を下げる方向に補正が働くため、画素A,B間の輝度が均一化される。先述したように、閾値電圧Vthが大、移動度μが小の画素Bは、ブートストラップゲインGbが理想状態にないことに伴って輝度が低下し、輝度ムラとなった画素Bである。   Here, the mobility correction period is determined by the rising speed and falling speed of the write scanning signal WS with respect to the threshold voltage Vth of the driving transistor 22. Therefore, the mobility correction period of the pixel A becomes longer than that of the pixel B because the falling speed of the writing scanning signal WS is delayed in the pixel A as compared with the pixel B. As a result, the correction works in the direction of decreasing the luminance of the pixel A having a small threshold voltage Vth and a high mobility μ, so that the luminance between the pixels A and B is made uniform. As described above, the pixel B having a large threshold voltage Vth and a small mobility μ is a pixel B whose luminance is reduced due to the bootstrap gain Gb being not in an ideal state, resulting in luminance unevenness.

なお、駆動トランジスタ22のゲート電位Vsの立ち上がりによるカップリングを、書込みトランジスタ23のゲート電極に入れるに当たり、書き込みトランジスタ23の寄生容量Cwsだけでは不十分な場合が考えられる。このような場合には、図13に示すように、駆動トランジスタ22のソース電極と書込みトランジスタ23のゲート電極との間に容量素子90を付加するようにすればよい。これにより、書込みトランジスタ23の寄生容量Cwsの容量不足を補うことができるため、駆動トランジスタ22のゲート電位Vsの立ち上がりによるカップリングの作用効果をより確実に得ることができる。   It should be noted that when the coupling due to the rise of the gate potential Vs of the drive transistor 22 is applied to the gate electrode of the write transistor 23, the parasitic capacitance Cws of the write transistor 23 may be insufficient. In such a case, a capacitor 90 may be added between the source electrode of the drive transistor 22 and the gate electrode of the write transistor 23 as shown in FIG. As a result, the capacity shortage of the parasitic capacitance Cws of the write transistor 23 can be compensated, so that the effect of coupling due to the rise of the gate potential Vs of the drive transistor 22 can be obtained more reliably.

[実施形態の変形例]
上記実施形態では、有機EL素子21の駆動回路が、基本的に、駆動トランジスタ22および書込みトランジスタ23の2つのトランジスタからなる画素構成の場合を例に挙げて説明したが、本発明はこの画素構成への適用に限られるものではない。すなわち、本発明は、駆動トランジスタ22に駆動電流を供給する電源供給線32の電位(電源電位)DSを切り替えることによって有機EL素子21の発光/非発光の制御を行なう画素構成に対して適用可能である。
[Modification of Embodiment]
In the above embodiment, the driving circuit of the organic EL element 21 is basically described as an example of the pixel configuration including the two transistors of the driving transistor 22 and the writing transistor 23. However, the present invention is not limited to this pixel configuration. The application is not limited to. That is, the present invention can be applied to a pixel configuration in which light emission / non-light emission control of the organic EL element 21 is controlled by switching the potential (power supply potential) DS of the power supply line 32 that supplies a drive current to the drive transistor 22. It is.

一例として、図14に示すように、駆動トランジスタ22、書込みトランジスタ23に加えて、発光制御トランジスタ26および2つのスイッチングトランジスタ27,28を有する5つのトランジスタからなる構成の画素20´が知られている(例えば、特開2005−345722号公報参照)。ここでは、発光制御トランジスタ26としてPchトランジスタ、スイッチングトランジスタ27,28としてNchを用いているが、これらの導電型の組み合わせは任意である。   As an example, as shown in FIG. 14, in addition to the drive transistor 22 and the write transistor 23, a pixel 20 ′ having a configuration including five transistors including a light emission control transistor 26 and two switching transistors 27 and 28 is known. (For example, refer to JP-A-2005-345722). Here, a Pch transistor is used as the light emission control transistor 26 and an Nch is used as the switching transistors 27 and 28, but the combination of these conductivity types is arbitrary.

発光制御トランジスタ26は、駆動トランジスタ22に対して直列に接続され、駆動トランジスタ22への高電位Vccpの供給を選択的に行うことで、有機EL素子21の発光/非発光の制御を行なう。スイッチングトランジスタ27は、駆動トランジスタ22のゲート電極に基準電位Vofsを選択的に与えることで、そのゲート電位Vgを基準電位Vofsに初期化する。スイッチングトランジスタ28は、駆動トランジスタ22のソース電極に低電位Viniを選択的に与えることで、そのソース電位Vsを低電位Viniに初期化する。   The light emission control transistor 26 is connected in series to the drive transistor 22, and selectively controls the light emission / non-light emission of the organic EL element 21 by selectively supplying the high potential Vccp to the drive transistor 22. The switching transistor 27 initializes the gate potential Vg to the reference potential Vofs by selectively applying the reference potential Vofs to the gate electrode of the drive transistor 22. The switching transistor 28 initializes the source potential Vs to the low potential Vini by selectively applying the low potential Vini to the source electrode of the drive transistor 22.

ここでは、他の画素構成として、5つのトランジスタからなる構成を例に挙げたが、例えば、信号線33を通して基準電位Vofsを供給し、当該基準電位Vofsを書込みトランジスタ23によって書き込むようにすることでスイッチングトランジスタ27を省略するなど、種々の画素構成のものが考えられる。   Here, as another pixel configuration, a configuration including five transistors is taken as an example. For example, by supplying the reference potential Vofs through the signal line 33 and writing the reference potential Vofs by the write transistor 23. Various pixel configurations such as omitting the switching transistor 27 are conceivable.

また、上記実施形態では、画素20の電気光学素子として、有機EL素子を用いた有機EL表示装置に適用した場合を例に挙げて説明したが、本発明はこの適用例に限られるものではない。具体的には、本発明は、無機EL素子、LED素子、半導体レーザー素子など、デバイスに流れる電流値に応じて発光輝度が変化する電流駆動型の電気光学素子(発光素子)を用いた表示装置全般に対して適用可能である。   In the above embodiment, the case where the present invention is applied to an organic EL display device using an organic EL element as the electro-optical element of the pixel 20 has been described as an example. However, the present invention is not limited to this application example. . Specifically, the present invention relates to a display device using a current-driven electro-optical element (light-emitting element) such as an inorganic EL element, an LED element, or a semiconductor laser element whose emission luminance changes according to the current value flowing through the device. Applicable to all.

[適用例]
以上説明した本発明による表示装置は、電子機器に入力された映像信号、若しくは、電子機器内で生成した映像信号を、画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。一例として、図15〜図19に示す様々な電子機器、例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラなどの表示装置に適用することが可能である。
[Application example]
The display device according to the present invention described above can be applied to display devices of electronic devices in various fields that display video signals input to electronic devices or video signals generated in electronic devices as images or videos. Is possible. As an example, the present invention can be applied to various electronic devices shown in FIGS. 15 to 19 such as a digital camera, a notebook personal computer, a mobile terminal device such as a mobile phone, and a display device such as a video camera.

このように、あらゆる分野の電子機器の表示装置として本発明による表示装置を用いることにより、各種の電子機器において高品位な画像表示を行うことができる。すなわち、先述した実施形態の説明から明らかなように、本発明による表示装置は、ブートストラップゲインが理想状態になくても、画面のユニフォーミティを損なうことなく、良質な表示画像を得ることができるために、高品位な表示画像を得ることができる。   In this manner, by using the display device according to the present invention as a display device for electronic devices in all fields, high-quality image display can be performed in various electronic devices. That is, as is apparent from the above description of the embodiment, the display device according to the present invention can obtain a high-quality display image without impairing the uniformity of the screen even when the bootstrap gain is not in an ideal state. Therefore, a high-quality display image can be obtained.

本発明による表示装置は、封止された構成のモジュール形状のものをも含む。例えば、画素アレイ部30に透明なガラス等の対向部が貼り付けられて形成された表示モジュールが該当する。この透明な対向部には、カラーフィルタ、保護膜等、更には、上記した遮光膜が設けられてもよい。なお、表示モジュールには、外部から画素アレイ部への信号等を入出力するための回路部やFPC(フレキシブルプリントサーキット)等が設けられていてもよい。   The display device according to the present invention includes a module-shaped one having a sealed configuration. For example, a display module formed by attaching a facing portion such as transparent glass to the pixel array portion 30 is applicable. The transparent facing portion may be provided with a color filter, a protective film, and the like, and further the above-described light shielding film. Note that the display module may be provided with a circuit unit for inputting / outputting a signal to the pixel array unit from the outside, an FPC (flexible printed circuit), and the like.

以下に、本発明が適用される電子機器の具体例について説明する。   Specific examples of electronic devices to which the present invention is applied will be described below.

図15は、本発明が適用されるテレビジョンセットの外観を示す斜視図である。本適用例に係るテレビジョンセットは、フロントパネル102やフィルターガラス103等から構成される映像表示画面部101を含み、その映像表示画面部101として本発明による表示装置を用いることにより作成される。   FIG. 15 is a perspective view showing an appearance of a television set to which the present invention is applied. The television set according to this application example includes a video display screen unit 101 including a front panel 102, a filter glass 103, and the like, and is created by using the display device according to the present invention as the video display screen unit 101.

図16は、本発明が適用されるデジタルカメラの外観を示す斜視図であり、(A)は表側から見た斜視図、(B)は裏側から見た斜視図である。本適用例に係るデジタルカメラは、フラッシュ用の発光部111、表示部112、メニュースイッチ113、シャッターボタン114等を含み、その表示部112として本発明による表示装置を用いることにより作製される。   16A and 16B are perspective views showing the external appearance of a digital camera to which the present invention is applied. FIG. 16A is a perspective view seen from the front side, and FIG. 16B is a perspective view seen from the back side. The digital camera according to this application example includes a light emitting unit 111 for flash, a display unit 112, a menu switch 113, a shutter button 114, and the like, and is manufactured by using the display device according to the present invention as the display unit 112.

図17は、本発明が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を示す斜視図である。本適用例に係るノート型パーソナルコンピュータは、本体121に、文字等を入力するとき操作されるキーボード122、画像を表示する表示部123等を含み、その表示部123として本発明による表示装置を用いることにより作製される。   FIG. 17 is a perspective view showing the appearance of a notebook personal computer to which the present invention is applied. A notebook personal computer according to this application example includes a main body 121 including a keyboard 122 that is operated when characters and the like are input, a display unit 123 that displays an image, and the like, and the display device according to the present invention is used as the display unit 123. It is produced by this.

図18は、本発明が適用されるビデオカメラの外観を示す斜視図である。本適用例に係るビデオカメラは、本体部131、前方を向いた側面に被写体撮影用のレンズ132、撮影時のスタート/ストップスイッチ133、表示部134等を含み、その表示部134として本発明による表示装置を用いることにより作製される。   FIG. 18 is a perspective view showing the appearance of a video camera to which the present invention is applied. The video camera according to this application example includes a main body part 131, a lens 132 for photographing an object on the side facing forward, a start / stop switch 133 at the time of photographing, a display part 134, etc., and the display part 134 according to the present invention. It is manufactured by using a display device.

図19は、本発明が適用される携帯端末装置、例えば携帯電話機を示す外観図であり、(A)は開いた状態での正面図、(B)はその側面図、(C)は閉じた状態での正面図、(D)は左側面図、(E)は右側面図、(F)は上面図、(G)は下面図である。本適用例に係る携帯電話機は、上側筐体141、下側筐体142、連結部(ここではヒンジ部)143、ディスプレイ144、サブディスプレイ145、ピクチャーライト146、カメラ147等を含んでいる。そして、ディスプレイ144やサブディスプレイ145として本発明による表示装置を用いることにより本適用例に係る携帯電話機が作製される。   FIG. 19 is an external view showing a mobile terminal device to which the present invention is applied, for example, a mobile phone, (A) is a front view in an open state, (B) is a side view thereof, and (C) is closed. (D) is a left side view, (E) is a right side view, (F) is a top view, and (G) is a bottom view. A cellular phone according to this application example includes an upper casing 141, a lower casing 142, a connecting portion (here, a hinge portion) 143, a display 144, a sub-display 145, a picture light 146, a camera 147, and the like. Then, by using the display device according to the present invention as the display 144 or the sub display 145, the mobile phone according to this application example is manufactured.

本発明が適用される有機EL表示装置の構成の概略を示すシステム構成図である。1 is a system configuration diagram showing an outline of a configuration of an organic EL display device to which the present invention is applied. 画素の回路構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the circuit structure of a pixel. 画素の断面構造の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the cross-sectional structure of a pixel. 本適用例に係る有機EL表示装置の回路動作の説明に供するタイミング波形図である。It is a timing waveform diagram with which it uses for description of the circuit operation | movement of the organic electroluminescence display which concerns on this application example. 本適用例に係る有機EL表示装置の回路動作の説明図(その1)である。It is explanatory drawing (the 1) of the circuit operation | movement of the organic electroluminescence display which concerns on this application example. 本適用例に係る有機EL表示装置の回路動作の説明図(その2)である。It is explanatory drawing (the 2) of the circuit operation | movement of the organic electroluminescence display which concerns on this application example. 駆動トランジスタの閾値電圧Vthのばらつきに起因する課題の説明に供する特性図である。It is a characteristic view with which it uses for description of the subject resulting from the dispersion | variation in the threshold voltage Vth of a drive transistor. 駆動トランジスタの移動度μのばらつきに起因する課題の説明に供する特性図である。It is a characteristic view with which it uses for description of the subject resulting from the dispersion | variation in the mobility (mu) of a drive transistor. 閾値補正、移動度補正の有無による映像信号の信号電圧Vsigと駆動トランジスタのドレイン・ソース間電流Idsとの関係の説明に供する特性図である。FIG. 10 is a characteristic diagram for explaining the relationship between the signal voltage Vsig of the video signal and the drain-source current Ids of the drive transistor depending on whether threshold correction and mobility correction are performed. 本発明の一実施例に係る画素部の要部の配線構造を示す平面パターン図である。It is a plane pattern figure which shows the wiring structure of the principal part of the pixel part which concerns on one Example of this invention. 本実施例に係る画素の等価回路を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the equivalent circuit of the pixel which concerns on a present Example. 容量カップリングを受けたときの書込み走査信号WSの立ち上がり波形を示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the rising waveform of the write scanning signal WS when it receives capacitive coupling. 本実施例の変形例に係る画素の等価回路を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the equivalent circuit of the pixel which concerns on the modification of a present Example. 他の構成の画素の回路構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the circuit structure of the pixel of another structure. 本発明が適用されるテレビジョンセットの外観を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the external appearance of the television set to which this invention is applied. 本発明が適用されるデジタルカメラの外観を示す斜視図であり、(A)は表側から見た斜視図、(B)は裏側から見た斜視図である。It is a perspective view which shows the external appearance of the digital camera to which this invention is applied, (A) is the perspective view seen from the front side, (B) is the perspective view seen from the back side. 本発明が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を示す斜視図である。1 is a perspective view illustrating an appearance of a notebook personal computer to which the present invention is applied. 本発明が適用されるビデオカメラの外観を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the external appearance of the video camera to which this invention is applied. 本発明が適用される携帯電話機を示す外観図であり、(A)は開いた状態での正面図、(B)はその側面図、(C)は閉じた状態での正面図、(D)は左側面図、(E)は右側面図、(F)は上面図、(G)は下面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is an external view which shows the mobile telephone to which this invention is applied, (A) is the front view in the open state, (B) is the side view, (C) is the front view in the closed state, (D) Is a left side view, (E) is a right side view, (F) is a top view, and (G) is a bottom view. ブートストラップ動作の詳細についての説明図である。It is explanatory drawing about the detail of bootstrap operation | movement.

符号の説明Explanation of symbols

10…有機EL表示装置、20,20A,20´…画素(画素回路)、21…有機EL素子、22…駆動トランジスタ、23…書込みトランジスタ、24…保持容量、25…補助容量、26…発光制御トランジスタ、27,28…スイッチングトランジスタ、30…画素アレイ部、31(31−1〜31−m)…走査線、32(32−1〜32−m)…電源供給線、33(33−1〜33−n)…信号線、34…共通電源供給線、40…書込み走査回路、50…電源供給走査回路、60…信号出力回路、70…表示パネル   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Organic EL display device 20, 20A, 20 '... Pixel (pixel circuit), 21 ... Organic EL element, 22 ... Drive transistor, 23 ... Write transistor, 24 ... Retention capacity, 25 ... Auxiliary capacity, 26 ... Light emission control Transistors 27 and 28... Switching transistor 30... Pixel array section 31 (31-1 to 31 -m) Scan line 32 (32-1 to 32-m) Power supply line 33 (33-1 to 33-3 33-n) ... signal line, 34 ... common power supply line, 40 ... write scanning circuit, 50 ... power supply scanning circuit, 60 ... signal output circuit, 70 ... display panel

Claims (6)

電気光学素子と、映像信号を書き込む書込みトランジスタと、前記書込みトランジスタによって書き込まれた前記映像信号に応じて前記電気光学素子を駆動する駆動トランジスタと、前記駆動トランジスタのゲート電極とソース電極との間に接続され、前記書込みトランジスタによって書き込まれた前記映像信号を保持する保持容量とを有し、
前記駆動トランジスタに流れる電流に応じた補正量で当該駆動トランジスタのゲート−ソース間の電位差に負帰還をかける移動度補正処理を行う
画素が行列状に配置されてなり、
前記画素は、前記駆動トランジスタの移動度によって決まる当該駆動トランジスタのソース電位の遷移速度に応じて前記移動度補正処理の期間を調整する調整手段を有する
表示装置。
An electro-optical element; a writing transistor for writing a video signal; a driving transistor for driving the electro-optical element in accordance with the video signal written by the writing transistor; and a gate electrode and a source electrode of the driving transistor. A storage capacitor connected to hold the video signal written by the write transistor;
Pixels that perform mobility correction processing that applies negative feedback to the potential difference between the gate and source of the drive transistor with a correction amount corresponding to the current flowing through the drive transistor are arranged in a matrix,
The display device according to claim 1, wherein the pixel includes an adjustment unit that adjusts a period of the mobility correction processing according to a transition speed of a source potential of the driving transistor determined by the mobility of the driving transistor.
前記調整手段は、画素行ごとに配線され、前記書込みトランジスタのゲート電極に対して書込み走査信号を供給する走査線と前記書込みトランジスタのゲート電極との間に存在する抵抗成分を有し、
前記抵抗成分は、前記移動度補正処理が終了するときの前記駆動トランジスタのソース電位の遷移に連動したゲート電位の遷移時に、当該ゲート電位の遷移による前記書込みトランジスタのゲート電極への容量カップリングを許容する
請求項1記載の表示装置。
The adjusting means includes a resistance component that is wired for each pixel row and exists between a scan line that supplies a write scan signal to the gate electrode of the write transistor and the gate electrode of the write transistor,
The resistance component causes capacitive coupling to the gate electrode of the write transistor due to the transition of the gate potential at the transition of the gate potential in conjunction with the transition of the source potential of the driving transistor when the mobility correction process is completed. The display device according to claim 1.
前記走査線と前記書込みトランジスタのゲート電極との間の配線は、前記走査線の配線材料よりも高抵抗値の高抵抗材料からなり、
前記抵抗成分の抵抗値は、前記走査線と前記書込みトランジスタのゲート電極との間の配線の配線長、配線幅および前記高抵抗材料の抵抗値で決まる
請求項2記載の表示装置。
The wiring between the scanning line and the gate electrode of the writing transistor is made of a high resistance material having a higher resistance value than the wiring material of the scanning line,
The display device according to claim 2, wherein the resistance value of the resistance component is determined by a wiring length and a wiring width between the scanning line and a gate electrode of the writing transistor and a resistance value of the high-resistance material.
前記調整手段は、前記駆動トランジスタのソース電極と前記書込みトランジスタのゲート電極との間に接続された容量素子を有する
請求項2または請求項3記載の表示装置。
The display device according to claim 2, wherein the adjustment unit includes a capacitor connected between a source electrode of the driving transistor and a gate electrode of the writing transistor.
電気光学素子と、映像信号を書き込む書込みトランジスタと、前記書込みトランジスタによって書き込まれた前記映像信号に応じて前記電気光学素子を駆動する駆動トランジスタと、前記駆動トランジスタのゲート電極とソース電極との間に接続され、前記書込みトランジスタによって書き込まれた前記映像信号を保持する保持容量とを有し、
前記駆動トランジスタに流れる電流に応じた補正量で当該駆動トランジスタのゲート−ソース間の電位差に負帰還をかける移動度補正処理を行う
画素が行列状に配置されてなる表示装置の駆動に当たって、
前記駆動トランジスタの移動度によって決まる当該駆動トランジスタのソース電位の遷移速度に応じて前記移動度補正処理の期間を調整する
表示装置の駆動方法。
An electro-optical element; a writing transistor for writing a video signal; a driving transistor for driving the electro-optical element in accordance with the video signal written by the writing transistor; and a gate electrode and a source electrode of the driving transistor. A storage capacitor connected to hold the video signal written by the write transistor;
When driving a display device in which pixels are arranged in a matrix, a mobility correction process is performed to apply negative feedback to the potential difference between the gate and source of the drive transistor with a correction amount corresponding to the current flowing through the drive transistor.
A method for driving a display device, wherein the mobility correction processing period is adjusted in accordance with a transition speed of a source potential of the driving transistor determined by the mobility of the driving transistor.
電気光学素子と、映像信号を書き込む書込みトランジスタと、前記書込みトランジスタによって書き込まれた前記映像信号に応じて前記電気光学素子を駆動する駆動トランジスタと、前記駆動トランジスタのゲート電極とソース電極との間に接続され、前記書込みトランジスタによって書き込まれた前記映像信号を保持する保持容量とを有し、
前記駆動トランジスタに流れる電流に応じた補正量で当該駆動トランジスタのゲート−ソース間の電位差に負帰還をかける移動度補正処理を行う
画素が行列状に配置されてなり、
前記画素は、前記駆動トランジスタの移動度によって決まる当該駆動トランジスタのソース電位の遷移速度に応じて前記移動度補正処理の期間を調整する調整手段を有する
表示装置を具備する電子機器。
An electro-optical element; a writing transistor for writing a video signal; a driving transistor for driving the electro-optical element in accordance with the video signal written by the writing transistor; and a gate electrode and a source electrode of the driving transistor. A storage capacitor connected to hold the video signal written by the write transistor;
Pixels that perform mobility correction processing that applies negative feedback to the potential difference between the gate and source of the drive transistor with a correction amount corresponding to the current flowing through the drive transistor are arranged in a matrix,
The electronic apparatus including a display device, wherein the pixel includes an adjustment unit that adjusts a period of the mobility correction processing according to a transition speed of a source potential of the driving transistor determined by the mobility of the driving transistor.
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