JP2009529404A - 結晶性堆積物を抑制する被膜又はコーティング - Google Patents

Abstract

本発明は、バインダーシステムとセラミック粒子から構成されるマトリクス及び粒子形態での窒化ホウ素を含み、その際、窒化ホウ素粒子はマトリクスに組み込まれ、その中で本質的に均質に分布する、基材上の結晶性の堆積物を抑制する層又はコーティング、そのような層又はコーティングを製造するための組成物、そのような層又はコーティングを製造する方法、塩含有の溶液と接触する表面を被覆するための材料としての窒化ホウ素含有組成物の使用、並びに窒化ホウ素含有の層が少なくとも部分的に設けられた、塩を含有する水と接触する構成成分を有する水処理施設に関する。
【選択図】なし

Description

本発明は、基材上の結晶性の堆積物を抑制する層又はコーティング、そのような層又はコーティングを製造するための組成物、そのような層又はコーティングを製造する方法、及び塩含有の溶液と接触する表面を被覆するための材料としての窒化ホウ素含有組成物の使用に関する。

周知のように、結晶化は、結晶の形成過程を言う。これは、溶液、溶融物、気相、別の結晶からの非晶性固形物（再結晶化）などから進行しうるが、常に結晶形成及び結晶成長を介する。結晶は、三次元的に及び周期的に配置された構造単位から成る異方性の均質体である。結晶が形成できるように、結晶化する物質は先ず過剰飽和にしなければならない。結晶が形成するにつれて、あらかじめ溶解された分子又は元素は、場合によっては物質に特異的である規則的な形態で正しく並べられるようになる。

水溶液からの塩の結晶化によって基材上に強く付着する堆積物は長い間知られ、多数の領域で多くの問題を招いている。その既知の例は、温度依存性の炭酸水素カルシウム／炭酸カルシウム平衡によるボイラーの湯垢であり、それは、それらを確実に機能させるために定期的に掃除しなければならないことの原因となっている。一般に、化学物質（たとえば、酸）又は機械的方法が用いられる。蒸留水の使用又はＥＤＴＡのような錯化剤やそのほかのイオン交換剤の添加を介して結晶化を予防することは、閉鎖容器でのみ可能ではあるが、たとえば、高い塩濃度を伴う大きな表面積の開放系又は流動系で実行することはできない。

またそのほかの産業分野でも、そのような現象（結晶化付着物を含む用語によって知られる）には頻繁に遭遇している。たとえば、時間が経つにつれて強く付着するようになる塩殻は、取り除きにくく、さらに、金属表面の場合、腐食を促進し、塩を含有する溶液に接触する表面上で、海水淡水化の蒸発設備、工場の熱交換器又は冷却水流動系において形成する。サーモスタット、加熱要素又はフローヒーターにおける塩殻は、熱の移動をさらに大きく妨害する。

発電所又は廃棄物焼却施設では、排煙脱硫施設からの物質又は反応生成物が、排煙による微細な固形堆積物として混入されることが多い。液体の蒸発による噴霧質が蒸気予熱器を通過するにつれて、塩（通常、硫酸塩）が熱交換チューブに堆積する。これらの堆積物は、時の経過と共に施設の閉塞を招くので、操業停止が必要となる。従って、定期的な間隔にて複雑な方式でチューブを掃除しなければならず、それは当然、施設の業務を損ない、高いレベルでの不都合及びコストと関連してくる。

従来技術は、雨水の蒸発により表面に染みが形成されるのを妨げるコーティングを開示している。たとえば、特許文献１及び特許文献２は、蒸発した雨水による汚れを防ぐことを意図するシラン系のコーティングを開示している。しかしながら、そのような層は、磨耗が少なく、長期間安定である。従って、それらは、水蒸気予熱器又は塩水蒸発器施設での使用には向かない。

特許文献３又は特許文献４に記載されているようなフルオロシランに基づいた、いわゆる「掃除しやすい」コーティングは、原則として水を流し落とすことができるが、表面への塩の結晶化による堆積物を防ぐのに使用することはできない。第１に、５〜１０μｍの典型的な層の厚さは、流れ、塩を含有する溶液からの結晶化の通常の磨耗条件下で耐久するには非常に薄すぎる。第２に、これらの層は水溶液中で時間の経過と共に膨潤し、その結果、その効果を喪失する。さらに、効果を生じるフッ素基が層の表面にのみ局在しており、それは、最上層の腐食の後、さらなる水をはじくことができないことを意味する。ＰＴＥＥ層による金属表面の高価なテフロン化も同様に、長期間の結晶化防止効果をもたらすには好適ではない。
ＵＳ ６，０１３，７２４ ＪＰ １０１３０５８１ ＤＥ １９５ ４４ ７６３Ａ１ ＥＰ ５８７ ６６７ Ｂ１

従って、本発明の目的は、従来技術で知られる短所を有さない技術的解決法を提供することである。本解決法は、表面における結晶種、特に塩の堆積物の予防又は少なくとも有意な妨害を可能にすべきである。焦点は、さらに特に、湿気のある表面又は永続的に水に浸漬された表面の保護に置くべきである。

本目的は、クレーム１の特徴を有する層又はコーティング、及びクレーム２０の特徴を有する使用によって達成される。本発明の層又はコーティングの好ましい実施態様は、従属クレーム２〜１４に記載される。そのような層又はコーティングを製造するための組成物は、クレーム１５〜１９で定義され、そのような層で少なくとも部分的に被覆される構成成分を含む産業施設はクレーム２１で定義される。そのようなコーティング又は層を製造する方法は、クレーム２２及び２３の主題である。全クレームの文言は参照によって本記載に組み入れられる。

本発明の層又はコーティングは、バインダーシステムとセラミック粒子で構成されるマトリクス及び粒子形態の窒化ホウ素を含む。

驚くべきことに、そのような層又はコーティングは、室温でさえも結晶の堆積物を防ぐ又は少なくとも抑制することが見出されている。それは特に、金属、ガラス、セラミック、エナメル又はその上プラスチックの表面を持つ基材に好適である。それは、表面への良好な付着及び高い磨耗安定性について注目に値する。その機能性は室温でさえ保証され、長い寿命を有する。

窒化ホウ素粒子は好ましくは六方晶の窒化ホウ素である。窒化ホウ素粒子はマトリクスに組み込まれ、その中で本質的に均質に分布する。その結果、「掃除しやすい」表面とは対照的に、本発明の層は、時間が経つにつれて層の表面が部分的に腐食した場合、機能することが可能なままである。

本発明の層又はコーティングの高い磨耗安定性は、バインダーシステムとセラミック粒子で構成されるマトリクスによって主として確保される。本背景で、セラミック粒子は、最も広い意味にて、好ましくは部分的に結晶形態で存在する、無機化合物から形成される粒子を意味すると理解されるべきである。

本発明の層又はコーティングのバインダーシステムは好ましくは、少なくとも１種の（硬化された）有機結合剤を有する。少なくとも１種の有機結合剤は、たとえば、水性のエマルション又は分散液の形態で使用することができ、製造される層又はコーティングの圧密化及び圧密に寄与する。

好ましい実施態様では、少なくとも1種の有機結合剤は、アクリル系結合剤を含む。

さらに好ましい実施態様では、少なくとも1種の有機結合剤は、少なくとも１種のオルガノシリコン構成要素を含む。これは、さらに特に、好ましくは、アルキルポリシロキサン、アルキルシリコーン樹脂及びフェニルシリコーン樹脂を含むポリジメチルシロキサン類の群からの少なくとも一員を含む。

さらに、少なくとも1種の有機結合剤は、少なくとも１種のシリコーンポリエステル樹脂を含むときが好ましい。

特に好ましい実施態様では、本発明の層又はコーティングについて、２５０℃未満、好ましくは１５０℃未満、特に室温で硬化できるバインダーシステムが選択される。これは、層又はコーティングの製造にて非常に高い温度での別個の硬化工程を必要としないので、硬化のために高温を採用する必要がなく、熱不安定な物質、たとえば、プラスチック基材上でも層の用途を見い出すことができるという利点を有する。従って、すでに存在する工場設備を後から取り付けることもさらに容易に実現できる。

さらに好ましい実施態様では、結合剤が少なくとも１種の無機結合剤を含むことがやっぱり好ましくてもよい。

そのようなバインダーシステムは、無機ナノ粒子、特に＜１００ｎｍの平均粒度を有するものを含むときが特に好ましい。さらに好ましくは、ナノ粒子は、５０ｎｍ未満の、特に２５ｎｍ未満の平均粒度を有する。

ナノ粒子は特に酸化粒子、特に、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、ベーマイト及び二酸化チタン粒子を含む群の少なくとも一員である。

有機バインダーシステムとは対照的に、純粋に有機結合剤を含むバインダーシステムは一般に、比較的非常に高い温度（焼結温度）での硬化又は圧密化を必要とする。このことは、相対的に熱安定性の低い基材、たとえば、プラスチック基材のコーティングにそれらが向かないという程度に応用分野を限定する。一方、純粋な無機バインダーシステムを持つ本発明の層又はコーティングは、格別に高温に安定なのでこれらの要求がある基材を被覆するのに特に好適である。

少なくとも１種の有機結合剤及び少なくとも１種の無機結合剤の組み合わせを含むバインダーシステムを含む本発明の層又はコーティングも特に好ましい。そのような「ハイブリッドバインダーシステム」は一般に、初期の強度、有機バインダーシステムを硬化するのに必要とされる温度、すなわち、たとえば、室温での硬化工程を達成することを必要とする。

本発明の層又はコーティングのマトリクスのセラミック粒子は好ましくは、０．２〜５μｍの間の平均粒度を有する。

セラミック粒子は好ましくは酸化粒子、特に酸化アルミニウム及び／又は二酸化チタン粒子である。

さらに好ましい実施態様では、セラミック粒子はアルミノシリケート粒子である。これらの間で、長石及びゼオライトが特に強調される。好みによってカオリンも言及すべきであり、これは、主成分として長石の風化産物であるカオリナイトを含む岩石物質であることが知られている。

本発明の層又はコーティングにおける窒化ホウ素粒子については、特定の平均粒度が好ましい。こらは、特に０．２〜５μｍの間である。

本発明の層又はコーティングは好ましくは、１０〜１５０μｍの間の範囲、好ましくはおよそ５０μｍの厚さを有する。この範囲の厚さは、層又はコーティングの上での高い機械的応力の場合でさえ、長い寿命を保証する。

本発明の層又はコーティングは、あらゆる種類の塩、たとえば、塩化ナトリウム、海水塩、ハロゲン化合物、特に、塩化物、臭化物、フッ化物、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸水素塩、好ましくはＣａＳＯ₄及び石灰の付着を抑制する。それは、湿気を帯びた表面又は永続的に水に浸漬された若しくは水が上を流れている表面に特に好適である。使用されるバインダーシステムによれば、この層又はコーティングは、室温又は比較的低い温度で硬化又は圧密化することができる。このことは、特に、有機バインダーシステムを含む、又は少なくとも１種の有機結合剤及び少なくとも１種の無機結合剤の組み合わせを含む前述の「ハイブリッドバインダーシステム」を含むコーティングにおいて特に当てはまる。本発明の層又はコーティングの上に結晶性の堆積物が形成すると、それらは比較的容易に外れる。

たとえば、海水淡水化のための蒸発器システム又は河川若しくは湖沼からの冷却水を含む流動系にて高い塩濃度の溶液から生じても、本発明の層又はコーティングが設けられた層の上には、本発明の層によって、堅く付着した塩殻は形成しない。

さらに本発明の層又はコーティングは、たとえば、手始めにすでに言及したように水蒸気予熱器で問題となりうる灰と併せた塩の堆積物も抑制する。従って本発明の層又はコーティングは、水蒸気予熱器の発電所領域でも使用することができる。その結果、熱交換器のチューブの粘結傾向が低減され、工場の操業時間が延長され、チューブの掃除が楽になる。

本発明は同様に、結晶性の堆積物を抑制する層又はコーティングを製造するための組成物を提供する。

本発明の組成物は、バインダーシステム、セラミック粒子、粒子形態の窒化ホウ素、任意で処理添加剤及び少なくとも１種の溶媒を含む。

すでに言及したように、本発明の組成物のバインダーシステムは、有機バインダーシステム、無機バインダーシステム又は「ハイブリッドバインダーシステム」であってもよい。これらのシステムはすべて、本発明の層又はコーティングの記載の背景ですでに詳細に定義されている。反復を回避するために、参照は、記載の相当する部分に対して明白に行われる。

好ましくは本発明の組成物に存在し、同様にすでに上記で記載された好ましいセラミック粒子及び窒化ホウ素粒子に同様のことが適用される。

本発明における少なくとも１種の溶媒は好ましくは極性溶媒、特に水である。しかしながら、原則として、選択的に或いは追加的に、さらなる極性成分、たとえば、アルコールも存在してもよい。

しかしながら、多くの場合、極めて実質的に溶媒では有機構成成分をなしで済ませることが望ましい。たとえば、有機溶媒を使用する場合、それらの蒸気圧が低いために、原則として常に火災のリスクが存在する。

従って、好ましい実施態様では、本発明の組成物は、非水性の液体構成要素を含まない溶媒を含む。

処理添加剤として、原則として当業者に既知の添加剤すべて、たとえば、分散剤、消泡剤、レベル剤、共結合剤又は粘度を調整するための濃厚剤について、本発明の組成物に存在することが可能である。

本発明の組成物は好ましくは、３０重量％〜５０重量％の間、特に約４０重量％の固形含量を有する。本発明の組成物に存在する懸濁媒体の量は、原則として重要ではなく、組成物の用途に従って変化しうる。好ましい実施態様では、低粘度、特に拡散可能な又は噴霧可能な懸濁液の形態で存在する。

本発明の組成物は、固形含量に基づいて、好ましくは５重量％〜５０重量％、特に約１０重量％〜約１５重量％の比率で窒化ホウ素を含む。

セラミック粒子は、固形含量に基づいて、特に５重量％〜５０重量％、特に約１０重量％〜約２０重量％の比率で本発明の組成物に存在する。

本発明の組成物は適用の容易さで注目に値する。基材上に噴霧する又は薄く塗ることができ、又は浸し塗り若しくはフローコーティングによって塗布することができる。バインダーシステムによっては、塗布した後、単に乾燥する必要があり、適宜、また、高い温度で実質的に硬化する必要がある。従って、問題のない方式で結晶性の堆積物を抑制する層を、設けられたシステム及び工場に後で取り付けることができる。

塩を含有する媒体又は溶液又は滴又は液滴に接触する表面を被覆するための材料としての、窒化ホウ素含有組成物の使用はまた、本発明の主題の一部を形成する。

窒化ホウ素含有の組成物は、ガラス、セラミック、エナメル、金属及びプラスチックの表面での使用に好適である。従って、それは、熱交換器システム、送水管、飲料水処理工場の一部、海水淡水化の蒸発器施設、冷却水回路、発電所のための河川水を含有する冷却管、水処理及び給水の施設、噴霧領域、水蒸気予熱器の構成材などを被覆するのに好適である。

湯垢堆積物から保護するために、接続金具、サーモスタット、加熱コイル、フローヒーター、水のタンクなどを被覆するのに窒化ホウ素含有の組成物を使用することもできる。

さらに、本発明は、さらに特に被覆される本発明の層又はコーティングが設けられる任意の物体も包含する。物体が本発明の層又はコーティングで部分的にのみ被覆されるのか、又は完全に被覆されるのかは重要ではない。

さらに特に、本発明はまた、水処理施設、海水淡水化施設などを提供するが、それらは塩含有の水と接触する構成成分を有し、少なくとも部分的に窒化ホウ素含有の層が設けられている。

窒化ホウ素含有の組成物を基材に塗布し、その後硬化することによる本発明に係る方法によって層又はコーティングを基材上に製造する。

硬化は、好ましくは、比較的低い温度で、好ましくは＜２５０℃の温度で、特に室温で功を奏する。

本発明のさらなる特徴は、サブクレームと併せた好ましい実施態様の次に続く記載から明らかである。同時に、個々の特徴は、それぞれ単独にて又は互いに幾つかの組み合わせにて本発明の実施態様の１つで実施することができる。記載された特に好ましい実施態様は、本発明の単なる説明及びより良き理解のためのものであって、決して限定として解釈されるべきではない。

本発明の組成物の好ましい実施態様は、溶媒としての水と同様に、以下の成分を含む。
−３７．５ｇのジョンクリル（登録商標）８３８３（ジョンソンポリマー製）
−３７．５ｇのジョンクリル（登録商標）８３００（ジョンソンポリマー製）
−１５０ｇの二酸化チタン懸濁液（クロノス製）
−１５０ｇの窒化ホウ素懸濁液（サン・ゴバン製）
−４２ｇのシリコン結合剤
−２．０８５ｇのテゴ（登録商標）プロテクト５１００（テゴケミー製）
−４．１７ｇのテゴ（登録商標）ビスコプラス３０００（テゴケミー製）

二酸化チタン懸濁液は、以下の成分を含む。
−１００ｇの脱塩水
−２．４４８ｇのＥＦＫＡ（登録商標）４５３０（エフカアディティブズ製）
−６８ｇのＴｉＯ₂（クロノス製）
−０．０６８ｇのサーフィノール（登録商標）１０４ＢＣ（エアプロダクツ製）

二酸化チタン懸濁液を調製するために、ＥＦＫＡ（登録商標）４５３０と水を撹拌しながら混合する。３０分後、ＴｉＯ₂を加える。その後、サーフィノール（登録商標）１０４ＢＣを加え、混合物をさらに２時間撹拌する。続いて、ビーズミルで混合物を粉砕する。懸濁液は貯蔵可能であり、使用前に十分撹拌すべきである。

窒化ホウ素懸濁液は以下の成分を含む。
−１００ｇの脱塩水
−１１．１ｇのＥＦＫＡ（登録商標）４５３０
−７４ｇの窒化ホウ素（サン・ゴバン製）

窒化ホウ素懸濁液を調製するために、ＥＦＫＡ（登録商標）４５３０と水を撹拌しながら混合する。３０分後、窒化ホウ素を加え、混合物を２時間撹拌する。続いて、撹拌しながら、ビーズミルで混合物を粉砕する（仕上げ懸濁液では粒度は１μｍ未満とすべきである）。懸濁液は貯蔵可能であり、使用前に十分撹拌すべきである。

シリコン結合剤は以下の成分を含む。
−２ｇの３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン（ブレンタグ製）
−０．３７６ｇの塩酸（０．１モル）
−３６．４０ｇのシルレス（登録商標）ＭＰ４２Ｅ（ワッカーケミー製）
−３．６４ｇのテゴ（登録商標）プロテクト５１００
−１．８２ｇの脱塩水

シリコン結合剤を調製するために、３−アミノプロピルメチルジエトキシシランに塩酸を一滴ずつ加え、混合物を２４時間撹拌する。これが加水分解物を形成する。シルレス（登録商標）ＭＰ４２Ｅ、テゴ（登録商標）プロテクト５１００及び水を互いに混合し、少なくとも１２時間撹拌する。このエマルションに１．８２ｇの加水分解物を一滴ずつ加え、混合物を２４時間撹拌する。

シリコン結合剤の混合物は貯蔵可能ではなく、そのまま処理されるべきである。

最終組成物を調製するために（上記を参照）、ジョンクリル（登録商標）８３８３及びジョンクリル（登録商標）８３００（アクリル系ボンダー）を撹拌しながら混合する。それに続いて二酸化チタン懸濁液及び窒化ホウ素懸濁液を加える。混合物を４時間撹拌する。その後、シリコン結合剤をゆっくり一滴ずつ加え、混合物を２４時間撹拌する。テゴ（登録商標）プロテクト５１００を少しずつ加えた後、混合物を３時間撹拌し、テゴ（登録商標）ビスコプラス３０００を加えた後、さらに２４時間撹拌する。

基材、たとえば、金属板、ステンレススチール板の上に、たとえば、噴霧、浸漬、フローコーティング又はブラシ塗布によって組成物を塗布することができる。室温で乾燥させた後、得られた層又はコーティングは使用できる状態である。

硬化の過程での低温のために、そのような組成物は、熱不安定性の基材、特にプラスチック製のものに特に好適である。

しかしながら、任意で、さらに高温（＜２００℃）でさらなる硬化を達成することができる。

本発明の組成物のさらに好ましい実施態様は、溶媒としての水と同様に、以下の成分を含む。

本組成物を調製するために、先ず成分１、２、３、及び５を適当な添加剤の助けを借りてそれぞれ別々に水に分散し、ビーズミルの助けを借りて粉砕する。その後、コーティング系の個々の成分を最初に上記の順で水に入れ、単純な撹拌によって互いに混合する。同時に組成物の固形含量を約４０重量％に調整する。

たとえば、噴霧、浸漬、フローコーティング又はブラシ塗布によって組成物を適当な基材に塗布することができる。室温（又はさらに高い温度）で乾燥した後、＞４５０℃の温度でコーティングの実際の熱圧密化を行う（３０分にわたって）。

本発明の組成物のさらに好ましい実施態様は、溶媒としての水と同様に、以下の成分を含む。

本組成物を調製するために、先ず成分１、２、及び３を適当な添加剤の助けを借りてそれぞれ別々に水に分散し、ビーズミルの助けを借りて粉砕する。その後、コーティング系の成分１、２及び３を最初に上記の順で入れ、単純な撹拌によって互いに混合する。成分４及び５を同様に互いに混合し、短い活性化時間（約１０分）の後、成分１、２及び３の混合物に加える。同時に組成物の固形含量を約４０重量％に調整する。

たとえば、噴霧、浸漬、フローコーティング又はブラシ塗布によって組成物を適当な基材に塗布することができる。室温又は１００℃までの温度で乾燥した後、４５０〜５００℃にてコーティングの実際の熱圧密化を行う（１０分にわたって）。

前の実施例の方法手順を明白に参照して、本発明の組成物のさらに好ましい実施態様を以下のように調製する。

撹拌された反応器にて、４１ｇのシリコーンポリエステル樹脂を最初に入れ、３３ｇの酢酸ブチルで希釈する。こうして得られた混合物を室温で３０分間撹拌する。続いて、５．５５ｇの粉体六方晶の窒化ホウ素を加える。次いで、ＺｒＯ₂粉砕ビーズを含有するボールミルにて、このように得られた混合物を１時間粉砕し、次いでさらに、８．９ｇの過フッ素化したワックスと混合する。その後、溶解機の助けを借りて、８．９ｇの粉体の焼成したカオリンを加え、次いで混合物をさらに１時間撹拌する。表面添加剤（ポリエステル変性のポリジメチルシロキサン、ＢＹＫ−３０６）のその後の添加及びさらなる１時間の撹拌の後、得られた混合物を前の実施例ですでに記載された方式で基材（たとえば、金属板、ステンレススチール板）に塗布することができる。この塗布は、たとえば、低圧ピストルによる噴霧によって達成することができる。

ガラスの反応器にて、実施例１〜４に係る組成物で被覆したステンレススチール基材及び参照としての被覆していないステンレススチール基材を飽和ＣａＳＯ₄溶液にそれぞれ暴露した。ＣａＳＯ₄溶液は、基材上を絶え間なく流れた（撹拌機によって流れを生成した；フッ素酸塩は低レベルで選択した）。ＣａＳＯ₄溶液の温度は８０℃だった。

３０日後、結晶化によって基材上に形成されたＣａＳＯ₄の堆積物を評価した。本発明の組成物で被覆した基材は、参照よりも、ほぼ４の因子によってＣａＳＯ₄による低い被覆を有した。被覆していない比較用の基材の場合よりも有意に低い被覆を視覚的に識別することがすでに可能であった。被覆していない基材では、ＣａＳＯ₄の層は有意に厚かった。本発明の組成物で被覆したステンレススチール基材上の層は、機械的に容易に落とすことができた。

実施例１、２、３及び４に係る組成物で被覆したスチール表面で乾燥することによって異なった濃度の塩溶液（ＣａＣｌ₂／ＣａＳＯ₄、食塩、食塩／ＣａＣｌ₂）を濃縮した（１５０℃にて３時間にわたって）。その後、ヘラ（すなわち機械的に）によって又は水ですすぐことによって塩殻を取り除いた。
被覆していない基材に比べて、被覆した基材上では殻は有意にさらに容易に除去できた。コーティング自体は不変のままだった。

大きさが１０ｘ１０ｃｍで、実施例１、２、３及び４に係る組成物で被覆した軟鋼、ステンレススチール及びガラスの基材を乾燥キャビネットにて１５０℃又は１７０℃に加熱した。これらのそれぞれに、約２〜３ｍｌ滴の塩溶液（塩化カルシウム、硫酸カルシウムの各１０％水溶液）を加え、室温で乾燥することによって濃縮した。これは、平板形状の塩殻を形成した。参照として、各場合で、軟鋼、ステンレススチール及びガラスに一滴の塩溶液を加え、乾燥によって濃縮した。

冷却した基材を評価した。常に被覆しなかった板とそれを比較する。冷却した後、塩殻は被覆しなかった参照基材に非常に堅く付着し、ヘラのみでは、また、残渣なしでは取り除くのが難しかった。

被覆した表面の場合、殻を剥離するのは有意により容易だった。流水のもとで、塩板は、有意に早い段階で基材の残渣なしで（溶解せずにほとんどの部分について）取り除かれる。

Claims (23)

1. 基材上の結晶性の堆積物を抑制する層又はコーティングであって、
   バインダーシステムとセラミック粒子で構成されるマトリクスと粒子形態での窒化ホウ素とを含み、
   窒化ホウ素粒子がマトリクスに組み込まれ、その中で本質的に均質に分布する、前記層又はコーティング。
2. バインダーシステムが少なくとも１種の有機結合剤を含むことを特徴とする請求項１に記載の層又はコーティング。
3. 少なくとも１種の有機結合剤がアクリル系結合剤を含むことを特徴とする請求項２に記載の層又はコーティング。
4. 少なくとも１種の有機結合剤が、特に好ましくは、アルキルポリシロキサン、アルキルシリコーン樹脂及びフェニルシリコーン樹脂を含むポリジメチルシロキサン類の群からの少なくとも１種のオルガノシリコン構成要素を含むことを特徴とする請求項２又は３に記載の層又はコーティング。
5. 少なくとも１種の有機結合剤が、少なくとも１種のシリコーンポリエステル樹脂を含むことを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載の層又はコーティング。
6. バインダーシステムが、２５０℃未満で硬化可能な、好ましくは１５０℃未満、特に室温で硬化可能であることを特徴とする上記請求項のいずれか１項に記載の層又はコーティング。
7. バインダーシステムが、少なくとも１種の無機結合剤を含むことを特徴とする上記請求項のいずれか１項に記載の層又はコーティング。
8. 無機結合剤が、ナノ粒子、特に＜１００ｎｍの平均粒度を有するものを含むことを特徴とする請求項７に記載の層又はコーティング。
9. 無機結合剤が、酸化粒子、特に酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、ベーマイト及び二酸化チタン粒子を含む群の少なくとも一員を含むことを特徴とする請求項７又は８に記載の層又はコーティング。
10. マトリクスのセラミック粒子が、０．２〜５μｍの間の平均粒度を有することを特徴とする上記請求項のいずれか１項に記載の層又はコーティング。
11. セラミック粒子が、酸化粒子、特に酸化アルミニウム及び／又は二酸化チタン粒子であることを特徴とする上記請求項のいずれか１項に記載の層又はコーティング。
12. セラミック粒子が、アルミノシリケート粒子であることを特徴とする上記請求項のいずれか１項に記載の層又はコーティング。
13. 窒化ホウ素粒子が、０．２〜５μｍの間の平均粒度を有することを特徴とする上記請求項のいずれか１項に記載の層又はコーティング。
14. １０〜１５０μｍの間の範囲内の、好ましくはおよそ５０μｍの厚さを有することを特徴とする上記請求項のいずれか１項に記載の層又はコーティング。
15. 特に上記請求項のいずれか１項に記載の層又はコーティングを製造するための組成物であって、
    （ａ）バインダーシステム、（ｂ）セラミック粒子、（ｃ）粒子形態の窒化ホウ素、（ｄ）任意で処理添加剤及び（ｅ）少なくとも１種の溶媒を含む組成物。
16. 少なくとも１種の溶媒が、極性溶媒、特に水であることを特徴とする請求項１５に記載の組成物。
17. ３０重量％〜５０重量％の間の、特におよそ４０重量％の固形含量を有することを特徴とする請求項１５又は１６のいずれかに記載の組成物。
18. 固形含量を基にして５重量％〜５０重量％、特におよそ１０重量％〜およそ１５重量％の比率で窒化ホウ素を含むことを特徴とする請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の組成物。
19. 固形含量を基にして５重量％〜５０重量％、特におよそ１０重量％〜およそ２０重量％の比率でセラミック粒子を含むことを特徴とする請求項１５〜１８のいずれか１項に記載の組成物。
20. 塩含有の媒体、特に塩含有の溶液と接触する表面を被覆するための材料としての、特に請求項１５〜１９のいずれか１項に記載の窒化ホウ素含有組成物の使用。
21. 特に請求項１〜１４のいずれか１項に記載の窒化ホウ素含有の層が少なくとも部分的に設けられている、塩含有の水と接触する構成成分を有することを特徴とする水処理施設、海水淡水化施設、熱交換器システム、特に水蒸気予熱器システム、冷却水回路など。
22. 特に請求項１〜１４のいずれか１項に記載の、基材上に層又はコーティングを製造する方法であって、請求項１５〜１９のいずれか１項に記載の組成物を基材に塗布し、硬化する方法。
23. 硬化が、＜２５０℃の温度、好ましくは＜１５０℃の温度、特に室温で有効である請求項２２に記載の方法。