JP2009518688A - 形状位相ホログラフィによる拡張型光トラップ - Google Patents
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Abstract
Description
Ψ(ρ)=A(ρ)exp(iψ(ρ)) (3)
と書き換え、式中のA(ρ)は、正の有限振幅であり、ψ(ρ)は、実数値の位相である。式(2)の検査によって、
A(ρ)=|sinc(kρy)| (4)
であり、
ψs(ρ)=ψ(ρy)S(ρ) (9)
であり、式中、
P(r)=exp(−βV(r)) (11)
式中、β−1=kBTは、絶対温度Tにおける熱エネルギスケールである。10分間にわたる1つの粒子の軌跡が、図4Aの結果を生じる。長手方向の電位エネルギプロファイルは、設計された形状に厳密に従い、30±7kBTの深さである。井戸の下から3番目が、放物線プロファイルに対する適合と共に図4Aにプロットされる。設計された形状からの逸脱は、0.8kBTより小さい。これらは、適応型最適化によってさらに削減可能である。横方向のプロファイルは、予想したように、球の直径によって広がる。
以下において、形成して、拡張型光トラップの他のクラスと比較されることができる拡張型光トラップの3次元強度分布の詳細図が提供される。
ψ(ρ)=u(ρ)exp(iφ(ρ)) (13)
式中、φ(ρ)は、SLM520によってレーザビーム500に刻印される実数値の位相プロファイルである。本発明者のシステムにおけるSLM520は、768×768のアレイの各画素で0〜2πラジアンの位相シフトを強いる。この2次元の位相アレイは、それぞれが、個別に指定された強度特性及び波面特性を備えた光学トラップの任意の所望の3次元の構成に1つの光学ピンセットを変換するように設計されたコンピュータ生成による位相のみのホログラムφ(ρ)を投影するために用いられることができる。
ψ(ρ)=u(ρx)exp(ip(ρx)) (16)
このとき、位相p(ρx)は、u(ρx)>0であるように調整される。形状位相ホログラフィは、この1次元の複雑な波面プロファイルを2次元の位相のみのホログラムとして実装する。
Claims (24)
- 光ビームを提供するステップと、
拡散光学素子に前記光ビームを適用するステップであって、前記拡散光学素子が位相情報及び振幅情報を含み、拡張型光トラップを作成する、ステップと、
材料を処理するために前記拡張型光トラップを用いるステップと
を含む、材料を処理するための拡張型光トラップを確立する方法。 - 前記拡散光学素子が空間光変調器を含む請求項1に記載の方法。
- 前記位相情報及び振幅情報は、領域形状に関連して位相のみの拡散光学素子と、位相情報が符号化される拡散光学素子とを特定することによって提供される請求項1に記載の方法。
- 前記拡張型光トラップを用いるステップは、均一な直線ピンセット及び3次元における一般的な曲線の少なくとも1つを確立するステップを含む請求項1に記載の方法。
- 前記位相情報及び振幅情報は、2次元の位相のみの拡散光学素子によって符号化される請求項1に記載の方法。
- 前記符号化ステップは、位相情報を符号化する1次元と、振幅情報を符号化する横方向の次元とを用いるステップを含む請求項5に記載の方法。
- 電磁界の振幅関数A(ρy)が、拡張型光学直線トラップの複数のトラップを作成するために制御可能である請求項1に記載の方法。
- 前記振幅関数は、さらなるトラッピングモダリティと直線トラップを結合するように構成される請求項7に記載の方法。
- 線から光をそらせるため、前記拡散光学素子に変位位相関数を加えるステップをさらに含む請求項7に記載の方法。
- 変位位相関数は、光を別の方向に制御可能にそらすため、割り当てられていない画素に関して選択可能な値を有する一定の波ベクトルをさらに含む請求項9に記載の方法。
- 形状関数S(ρ)は、均一な直線トラップの制御された投影を可能にする請求項10に記載の方法。
- 直線トラップのそれぞれが重ならないように、光軸に対して複数の拡張型光学直線トラップを変位させるステップをさらに含む請求項11に記載の方法。
- 拡張型光トラップは、次の操作のために、光が光画素の割り当てられていない領域を通過するように、前記拡散光学素子に加えられる適切な位相関数を有する均一な直線トラップを含む請求項1に記載の方法。
- 次の操作を実行するため、変位位相関数を加えるステップを含む請求項13に記載の方法。
- 3次元の強度分布を生成する拡散光学素子における位相関数の追加(imposition)をさらに含む請求項1に記載の方法。
- 位相関数は放物線位相関数を含む請求項15に記載の方法。
- 光ビームはレーザビームを含む請求項1に記載の方法。
- 光強度は一定に維持され、位相情報のみが拡張型光トラップに沿って力を変化させるように制御される請求項1に記載の方法。
- 市販用途は、製品を製作するために、特徴を探査して粒子を操作するために機能的粒子を結集するステップを少なくとも含む請求項1に記載の方法。
- 光ビームを提供する光源と、
前記光ビームを処理するための拡散光学素子であって、拡張型光トラップを作成するために位相情報及び振幅情報を含む、拡散光学素子と、
前記拡散光学素子によって処理される光ビームを投影し、材料の処理を実行するための光学トレインと
を備える、材料を処理する拡張型光トラップを確立するシステム。 - 前記光源はレーザ源を含む請求項20に記載のシステム。
- 前記位相情報は、前記拡張型光トラップに沿って所定の光学的力を発生するためのプログラムされた位相関数を含む請求項20に記載のシステム。
- 前記プログラムされた位相関数は、製品のナノ製造のための組み立てラインを形成する請求項22に記載のシステム。
- 前記位相情報及び振幅情報は、変位位相関数と、3次元形状の拡張型光トラップ構成を作成する関数と、割り当てられた光画素及び割り当てられていない光画素をプログラム可能に配置可能にする位相関数との少なくとも1つを含む請求項22に記載のシステム。
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