JP2009506308A - 試料の光学特性の干渉測定のための方法及びこの方法を実施するのに適した装置 - Google Patents
試料の光学特性の干渉測定のための方法及びこの方法を実施するのに適した装置 Download PDFInfo
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Abstract
Description
(a)測定エリアの第1の表面部分において試料の主表面を干渉計の測定ビームが通過するように試料を干渉計の測定光ビームの中に配置し、第1の干渉測定を行い、第1のグループの測定データを収集し、
(b)測定エリアの第2の表面部分において試料の主表面を測定ビームが通過するように試料を測定光ビームの中に配置し、第2の表面部分は第1の表面部分とはオフセットして配置されておりかつオーバーラップ領域においてそれとオーバーラップしており、少なくとも1つの第2の干渉測定を行い、第2のグループの測定データを収集し、
(c)測定エリアの全体のインターフェログラム(interferogram)を作成するためにオーバーラップ領域において収集された冗長情報を使用して第1及び第2のグループの測定データをマッチングする。
(a)試料に対する保持装置を有し、
(b)詳しく検査すべき試料の測定エリアの表面部分に測定ビームを向けて、表面部分のサブインターフェログラム(sub-interferogram)を測定するために適した干渉計を有し、
(c)移動システムを有し、この移動システムによって試料は測定ビームに対して垂直な方向に移動可能であり、この結果、測定は測定エリアを完全に含む複数の表面部分において実行され、各々の表面部分はオーバーラップ領域において少なくとも部分的に隣接する表面部分によってオーバーラップされており、
(d)コントロールユニットを有し、このコントロールユニットは干渉計及び移動システムを制御し、サブインターフェログラムに基づいて、試料によって伝送される波面の形状を決定し、オーバーラップ領域において測定された測定データはサブインターフェログラムを互いにマッチングするために使用される。
干渉計の測定ビームの寸法より大きな寸法を有する試料が測定される場合、このようなエッジエラーはサブインターフェログラムのエッジに現れ、すなわちオーバーラップ領域に現れ、上記の「スティッチング技術」すなわちオーバーラップ領域における測定結果に基づく全体インターフェログラムを得るためのいくつかのサブインターフェログラムのソフトウェア制御された接続を妨害するか又は困難にさせる。本発明による公知の方法の修正は、浸漬液から成る薄膜が試料の全測定エリアを含むエリアに亘って十分に大きなコンタクトボディによって分布することにある。従って、CAエリアに割り当てられるべき主表面の部分全体は完全に浸漬液から成る薄膜によりぬれて、コンタクトボディによりカバーされる。浸漬法に固有のエッジエラーはこれにより回避される、又は、CAエリアに属さない試料の外側エリアにシフトされ、通常は特定されない。
図1a:測定サンプルの測定の間の本発明による測定方法を実施するためのアセンブリの概略図であり、
図1b:基準測定を記録するために測定サンプルなしの図1aによるアセンブリであり、
図2a:スティッチング技術に基づくコンタクトプレートにおいて測定されたインターフェログラムであり、
図2b:図2aによるインターフェログラムに亘る屈折率プロフィールであり、
図3:スティッチング技術及びシンプルな干渉計測定により得られる様々な光学特性の測定結果を比較するための棒グラフ線図であり、
図4:スティッチング技術のサブインターフェログラムのオーバーラップの範囲の、異なる測定値への影響を示す線図である。
2 第2の干渉計ミラー
3 基準ビーム
4 測定ビーム
5a 第1のインターフェログラム
5b 第2のインターフェログラム
6 コンタクトプレート
7 コンタクトプレート
8 浸漬液
CA 測定エリア
10 第1の干渉計ミラー
11 クランピングフレーム
12 移動可能なサポート
13 移動システム
pv PV値
focus フォーカス
astig 非点収差
sa3 球面収差
Claims (20)
- 測定すべき透明な材料の試料(1)の測定エリアの光学特性の干渉測定のための方法であって、前記試料(1)は2つの対向する主表面を含み、次の方法ステップを有する、すなわち、
(a)測定エリア(CA)の第1の表面部分において前記試料(1)の主表面を干渉計の測定ビーム(4)が通過するように前記試料(1)を干渉計の測定光ビームの中に配置し、第1の干渉測定を行い、第1のグループの測定データを収集し、
(b)測定エリア(CA)の第2の表面部分において前記試料(1)の主表面を測定ビームが通過するように前記試料(1)を測定光ビームの中に配置し、前記第2の表面部分は前記第1の表面部分とはオフセットして配置されておりかつオーバーラップ領域においてそれとオーバーラップしており、少なくとも1つの第2の干渉測定を行い、第2のグループの測定データを収集し、
(c)測定エリアの全体のインターフェログラムを作成するためにオーバーラップ領域において収集された冗長情報を使用して第1及び第2のグループの測定データをマッチングする、測定すべき透明な材料の試料(1)の測定エリアの光学特性の干渉測定のための方法において
前記測定エリア(CA)は完全に浸漬流体(8)から成る薄膜によりカバーされており、前記浸漬流体(8)は前記試料(1)の主表面と透明材料のコンタクトボディ(6;7)との間に形成されることを特徴とする、測定すべき透明な材料の試料(1)の測定エリアの光学特性の干渉測定のための方法。 - 試料(1)には2つの実質的に平坦な主表面が設けられていることを特徴とする、請求項1記載の方法。
- コンタクトボディはコンタクトプレート(6、7)の形式で形成されていることを特徴とする、請求項1又は2記載の方法。
- コンタクトプレート(6;7)は矩形形状を有することを特徴とする、請求項3記載の方法。
- コンタクトボディ(6;7)はあらゆる側面において少なくとも20mmだけ測定エリア(CA)を越えて突出していることを特徴とする、請求項1〜4のうちのいずれか1項記載の方法。
- コンタクトボディ(6;7)はあらゆる側面において少なくとも20mmだけ試料(1)を越えて突出していることを特徴とする、請求項1〜5のうちのいずれか1項記載の方法。
- 測定ビーム(4)に対して垂直な方向に電気駆動部を有する移動システム(13)によって移動可能である保持装置(11;12)が試料(1)及びコンタクトボディ(6;7)を保持するために設けられていることを特徴とする、請求項1〜6のうちのいずれか1項記載の方法。
- 保持装置(11;12)は干渉計チャンバの内部に配置されており、さらに移動システム(13)によって前記チャンバの外へ移動可能であることを特徴とする、請求項7記載の方法。
- 移動システム(13)の位置決め精度は干渉計の空間分解能よりも少なくともファクタ5だけ良好であることを特徴とする、請求項7又は8記載の方法。
- 測定すべき試料材料の光学特性は測定エリアにおける屈折率及び/又は応力複屈折の均一性を含むことを特徴とする、請求項1〜9のうちのいずれか1項記載の方法。
- 試料(1)及びコンタクトボディ(6;7)の透明材料はドープされた又はドープされていない水晶ガラスであることを特徴とする請求項1〜10のうちのいずれか1項記載の方法。
- 2つの対向する主表面を有する透明材料の試料(1)の動作エリア(CA)における光学特性を測定するための装置であって、
(a)試料(1)のための保持装置(11;12)を有し、
(b)詳しく検査すべき試料(1)の測定エリア(CA)の表面部分に測定ビームを向けて、表面部分のサブインターフェログラムを測定するために適した干渉計を有し、
(c)移動システム(13)を有し、該移動システム(13)によって試料(1)は測定ビームに対して垂直な方向に移動可能であり、この結果、測定は測定エリア(CA)を完全に含む複数の表面部分において実行され、各々の表面部分はオーバーラップ領域において少なくとも部分的に隣接する表面部分によってオーバーラップされており、
(d)コントロールユニットを有し、該コントロールユニットは干渉計及び移動システム(13)を制御し、サブインターフェログラムに基づいて、試料(1)から伝達される波面の形状を決定し、オーバーラップ領域において測定された測定データはサブインターフェログラムを互いにマッチングするために使用される、2つの対向する主表面を有する透明材料の試料(1)の動作エリア(CA)における光学特性を測定するための装置において
透明材料のコンタクトボディ(6;7)は試料(1)の主表面の上にあり、前記コンタクトボディは完全に測定領域(CA)を含み、薄膜はコンタクトボディ(6;7)と試料(1)の主表面との間の浸漬流体(8)から形成されていることを特徴とする、2つの対向する主表面を有する透明材料の試料(1)の動作エリア(CA)における光学特性を測定するための装置。 - 試料(1)には2つの実質的に平坦な主表面が設けられていることを特徴とする、請求項12記載の装置。
- コンタクトボディはコンタクトプレート(6、7)の形式で形成されていることを特徴とする、請求項12又は13記載の装置。
- コンタクトプレート(6;7)は矩形形状を有することを特徴とする、請求項14記載の装置。
- コンタクトボディ(6;7)はあらゆる側面において少なくとも20mmだけ測定エリア(CA)を越えて突出していることを特徴とする、請求項12〜15のうちのいずれか1項記載の装置。
- コンタクトボディ(6;7)はあらゆる側面において少なくとも20mmだけ試料(1)を越えて突出していることを特徴とする、請求項12〜16のうちのいずれか1項記載の装置。
- 保持装置(11;12)は試料(1)及びコンタクトボディ(6;7)を一緒に保持するために設けられていることを特徴とする、請求項12〜17のうちのいずれか1項記載の装置。
- 保持装置(11;12)は干渉計チャンバの内部に配置されており、さらに移動システム(13)によって前記チャンバの外へ移動可能であることを特徴とする、請求項18記載の装置。
- 移動システム(13)の位置決め精度は干渉計の空間分解能よりも少なくともファクタ5だけ良好であることを特徴とする、請求項12〜19のうちのいずれか1項記載の装置。
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