JP2009504702A - 置換ピラゾール類の調製方法 - Google Patents

置換ピラゾール類の調製方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、カルボニル化合物をヒドラジン誘導体および塩化シアンによりN−シアノヒドラゾンに変換し、これを強塩基の存在下で環化する、置換5−アミノピラゾールを調製するための代替方法に関する。

Description

本発明は、置換5−アミノピラゾールの調製のための代替方法に関する。
式Iの化合物
Figure 2009504702
であって、例えば式中、R1はシクロプロピル、R2は水素、およびR3はメチルである化合物は、例えばアゼチジンの調製に用いることができる合成構造ブロックである。WO-A-2003/077907 および WO-A-2005/026113 によれば、アゼチジンは、炎症およびアレルギー性疾患の治療におけるCCR−3受容体拮抗薬として適切である。
US-A-3894005 に挙げられる Hoehn の既知の方法、「H., Z. Chem. 1970, 10, 386-388」によって、式Iの5−アミノピラゾールは、式CHR1=CR2CNのアクリル酸ニトリルから調製することができ、これは最初にヒドラジン、アルデヒドまたはケトンと反応させてヒドラゾンに変換し、次いでナトリウムブトキシドで処理して環化させることができる。
Ryckmans 等の Tetrahedron, 1997, 53, 1729−1734」から、活性なエノール化可能なケトンとヒドラジンとを1−シアノ−2−ビニルヒドラゾンに変換し、これを熱的にまたは塩基存在下で式Iの4−置換5−アミノピラゾールに変換するする方法が知られている。ここではピラゾール環の4位の活性基R2は保存される。好ましくは、活性基R2はアシル基である。R2=フェニルは今のところ明らかに好ましくない。ベンジルメチルケトン(R2=フェニル)のN−シアノ−N−メチルヒドラゾンの5:1E/Z−ヒドラゾン混合物の環化は、1,3−ジメチル−4−フェニル−5−アミノピラゾールを66%の収率で生じる。1,4−ジメチル−3−フェニル−5−アミノピラゾールの生成は報告されていない。つまり、活性基がなければ、例えばR2=水素またはC1-6−アルキルである場合には、Ryckman 法により5−アミノピラゾールを得ることはできなかった。
5−アミノ−1,3−ジメチルピラゾールの他の調製方法は、WO-A-94/13661 および WO-A-95/34563 に開示されている。
置換5−アミノピラゾールの調製のための代替方法を提供することが本発明の目的であった。この方法の経済性を改善するために、さらにまた、置換基R1〜R3は環形成時には既に分子中に導入されていることが必要であり、後の置換を回避する。
この目的は、請求項1により達成される。

Figure 2009504702
(式中、R1は、水素、C1-6−アルキル、C1-6−アルコキシ、C3-6−シクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から選択され(ここで、水素以外の各置換基R1は、場合により、C1-6−アルキル、C1-6−アルコキシ、ハロゲンおよびニトロからなる群からの1つ以上の置換基を有していてもよい)、および
2は、水素、シアノ、ハロゲン、C1-6−アルキル、C1-6−アルコキシ、C1-6−アルコキシカルボニル、C3-6−シクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から選択される(ここで、水素、シアノならびにハロゲン以外の各置換基R2は、場合により、C1-6−アルキル、C1-6−アルコキシ、ハロゲンおよびニトロからなる群からの1つ以上の置換基を有していてもよい)、または
1およびR2は共に、場合により1つ以上のハロゲン原子を含み得る−(CH2n−基(n=3、4または5)を表わし、並びに
3は、C1-6−アルキル、C3-6−シクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から選択される(ここで、各置換基R3は、場合により、1つ以上のハロゲン原子で置換されていてもよい))
の置換ピラゾールを調製方法であって、
第1の工程において、式
Figure 2009504702
(式中、R1およびR2は上記の通り)の化合物を、式
NH2NHR3 III
(式中、R3は上記の通り)の化合物により、式
Figure 2009504702
(式中、R1、R2およびR3は上記の通り)の化合物に変換し、
これを、第2の工程において、塩基の存在下で塩化シアンにより、式
Figure 2009504702
(式中、R1、R2およびR3は上記の通り)の化合物に変換し、
これを、最終工程において、強塩基の存在下で式Iの化合物に変換することを特徴とする調製方法を請求する。
式IIの化合物はアルデヒドまたはケトンであってもよい。不斉ケトンの場合、式Iの2つの異なる化合物が形成され得る。どの生成物が優勢であるかは、置換基R1およびR2の立体的および電子的性質、並びに反応条件に依存する。しかしながら、双方の生成物はいずれの場合にも互いに本質的に異なり、これらを容易に分離することは可能である。R1およびR2が共に−(CH2−基(n=3、4または5)を表す場合には、式IIの化合物は環状ケトンである。式IIの環状ケトンの例は、シクロペンタノン、シクロヘキサノンまたはシクロヘプタノンである。
好ましい方法において、式IIの化合物は、表1の対応する列から選択される。「式Iの化合物」列においてそれぞれ、反応で優勢に生成する化合物を示す。分子中のR3基は、毎回用いられる式IIIのヒドラジン誘導体から生じる。
Figure 2009504702
Figure 2009504702
Figure 2009504702
表2において、用いられる式IIIのヒドラジン誘導体とそれに伴いR3基を定義している好ましい方法の変形のさらなる例を示す。
Figure 2009504702
特に好ましい方法の変形では、R1がシクロプロピル、R2が水素、およびR3がメチルである。
本明細書において、「C1-n−アルキル」なる表現は、1〜n個の炭素原子を有する分岐していないアルキル基または分岐アルキル基を意味する。すなわち、C1-7−アルキルは、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルまたは1,4−ジメチルペンチルなどの基を示す。
本明細書において、「C1-n−アルコキシ」なる表現は、1〜n個の炭素原子を有する分岐していないアルコキシ基または分岐アルコキシ基を意味する。すなわち、C1-7−アルコキシは、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、または1,4−ジメチルペンチルオキシなどの基を示す。
本明細書において、「C3−6−シクロアルキル」なる表現は、3〜6個の炭素原子を有するシクロアルキル基を意味し、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルを示す。
本明細書において「アリール」とは、特に6〜10個の炭素原子を有する芳香族基、例えば、フェニル、p−トシルまたはナフチルを意味すると理解される。
本明細書において「アラルキル」とは、特に、アリール基で置換されたアルキル基を意味するものと理解され、例えばフェニルエチル等であり、ここでアルキル基は1〜4個の炭素原子を有し、またアリール基は上記した通り、6〜10個の炭素原子を有する。
本明細書において「ヘテロアリール」とは、特に、4〜8個の炭素原子を有する複素芳香族基、例えば、2−若しくは3−フラニル、2−若しくは3−チオフェニル、または2−、3−若しくは4−ピリジニルを意味すると理解される。
本明細書において「ハロゲン」なる表現は、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を示す。
好ましい方法の変形において、第2の工程で用いられる塩基は無機塩基であり、好ましくは、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩、リン酸三ナトリウム、並びにこれらの混合物からなる群から選択される。
好ましくは、第1の工程を、選択した溶媒の還流温度で行う。反応の進行は、薄層クロマトグラフィーまたはガスクロマトグラフィーによって極めて容易に確認することができる。
第1の工程からの生成物は単離する必要がなく、直接さらに変換することができる。
第2の工程において、第1の工程で生成したヒドラジン誘導体を塩基の存在下で塩化シアンにより変換する。この第2の工程には無機塩基が特に適しており、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩、リン酸三ナトリウム並びにこれらの混合物からなる群から選択することができる。塩基としては、アルカリ金属炭酸塩が特に好ましく用いられ、ここでは特に炭酸カリウムを用いる。
好ましい方法の変形では、第2の工程においては塩化シアンを気体として、または溶媒に溶解させて用いる。本発明による方法において、第1の工程からの反応混合物を塩化シアンに加えるか、塩化シアンを反応混合物に加えるかは重要ではない。
特に好ましい方法の変形において、第2の工程を、−100〜0℃、特に好ましくは−70〜−20℃の温度にて行う。
第1の工程からの生成物を第2の工程において塩化シアンにより直接さらに変換することができるため、第1の工程および第2の工程の反応を「ワンポット反応」として行うことは特に有利である。
特に、第1の工程および第2の工程のための溶媒は、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、エタノール、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル(MTBE)、テトラヒドロフラン(THF)、トルエン、キシレンおよびこれらの混合物からなる群から選択することができる。特に好ましくは、MTBE、THF、およびトルエンである。
「石油エーテル」とは、一般に、比較的広い沸点範囲を有する工業用アルカン混合物と解され、特に異性体の混合物とも解され、例えばヘキサンおよびヘプタンのものである。
第3の工程で用いられる強塩基は、R2基に直接結合している炭素原子を脱プロトン化することができる必要がある。好ましくは、強塩基は、金属水素化物、金属アミド、金属アルコキシドおよび有機金属化合物からなる群から選択される。金属水素化物として、NaHまたはKHが好ましくは用いられる。金属アミドは、好ましくは、ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド(LDA)およびテトラメチルピペリジンのリチウムアミド(Li−TMP)からなる群から選択される。金属アルコキシドとして、ナトリウムエトキシドおよびカリウム−tert−ブトキシドが好ましくは用いられる。有機金属化合物は、好ましくは、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムおよびtert−ブチルリチウムからなる群から選択される。
特に好ましい方法の変形において、上記塩基は、リチウム−ジイソプロピルアミド、カリウム−tert−ブトキシド、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、およびtert−ブチルリチウムからなる群から選択される。
特に好ましい方法の変形において、第3の工程を、−100〜0℃、特に好ましくは−70〜−20℃の温度で行う。
第3の工程については、溶媒は用いる強塩基に対して不活性でなければならない。例3において溶媒の変更を行ったが、これは義務的でない。好ましい方法の変形では、第2の工程と第3の工程との間で溶媒の変更を行わない。
第1、第2および第3の工程の反応を「ワンポット反応」として行うために、3つの工程の全ての試薬に対して不活性な溶媒を用いることができる。
第3の工程について、上記溶媒は、好ましくは、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、ジエチルエーテル、MTBE、THF、トルエン、キシレンおよびこれらの混合物からなる群から選択される。特に好ましくは、MTBE、THFおよびトルエンである。
3つの全工程を含む「ワンポット反応」のさらに好ましい方法の変形において、溶媒は、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、ジエチルエーテル、MTBE、THF、トルエン、キシレンおよびこれらの混合物からなる群から選択され、特に好ましくは、MTBE、THFおよびトルエンからのものである。
反応終了後、例えば水の添加によって強塩基をクエンチして、生成物を単離することができる。好ましくは、水と少なくとも部分的に混和性である溶媒の場合には、塩、例えば塩化アンモニウムを相分離のために用いる。

リチウム−ジイソプロピルアミド溶液(LDA溶液)の調製:
ヘキサン中の1.6Mのn−ブチルリチウムの溶液(108mL,173mmol)(BuLi)を、−60°Cで200mlのTHF中のジイソプロピルアミン(19.0g,189mmol)の混合物に添加し、この混合物を1時間撹拌した。得られたLDA溶液を、このまま例3で用いた。あるいは、市販のLDA溶液または固体のLDAを用いてもよく、例えばFluka社から入手することができる。場合により使用前に、固体のLDAを適切な溶媒、例えば、THF、MTBEまたはヘキサンに溶解または懸濁させてもよい。
例1:(E/Z)−N−(1−シクロプロピルエチリデン)−N’−メチルヒドラジン(混合物)
シクロプロピルメチルケトン(12.6g,150mmol)およびメチルヒドラジン(11.0g,240mmol)の混合物を、100mlのトルエン中、93℃の温度で還流下で11時間撹拌しながら加熱した。反応終了後、反応混合物を0℃に冷却した。約3:1のE/Z配分(Verteilung)を有する(E/Z)−N−(1−シクロプロピルエチリデン)−N’−メチルヒドラジン混合物が得られ、ここから一定量を取って特性決定のために精製した。
1H NMR(CDCl3):δ=4.40(br,1H),3.92(s,3HZ),3.90(s,3HE),1.72(s,3HZ)S,1.58(m,1HE),1.52(s,3HE),1.50(m,1HZ),0.80(dt,2HZ),0.70(m,2HZ),0.68(m,2HE),0.62ppm(m,2HE)。
例2:(E/Z)−N−シアノ−N’−(1−シクロプロピルエチリデン)−N−メチルヒドラジン(混合物)
実施例1からの反応混合物の大部分を冷却後にK2CO3(27.6g,55mLの水中200mmol)の水溶液に混合した。この混合物に、0℃で、塩化シアン(14.0g,230mmol)を90分かけて投入した。続いて混合物を0℃でさらに2時間撹拌した。反応終了後に有機相を分離し、トルエンを蒸発させた。油状の残渣(22.8gの粗生成物)を100mLのテトラヒドロフラン(THF)に溶解させた。約3:1のE/Z配分を有する(E/Z)−N−シアノ−N’−(1−シクロプロピルエチリデン)−N−メチルヒドラジン混合物が得られ、ここから一定量を取って特性決定のために精製した。
1H NMR(CDCl3):δ=3.18(s,3HZ),3.16(s,3HE),2.18(m,1HZ),1.92(s,3HE),1.70(s,3HZ),1.68(m,1HE),1.80(dt,2HZ),0.86(m,2HZ),0.82ppm(m,4HE)。
実施例3:5−シクロプロピル−2−メチル−2H−ピラゾール−3−イルアミン
約300mLの新たに調製した約0.6MのLDA溶液(上記を参照のこと)を、−60〜−65℃で、113gの実施例2からの粗生成物溶液と1時間以内で混合した。薄層クロマトグラフィーでチェックすると、1時間後に完全な変換を示した。反応終了後、反応混合物を−10℃まで加温することができ、次いで飽和NH4Cl溶液(30ml)と混合した。相分離の後、有機相を分離し、水相を再度THF(2×20ml)で抽出した。集めた有機相をMgSO4にて乾燥し、蒸発乾固させた。粗生成物(18.9g)が薄黄色固体として、例1におけるシクロプロピルエタノンの最初の量に基づいて92%の収率で得られた。
1H NMR(CDCl3):δ=5.20(s,1H),3.58(s,3H),3.45(br,2H),1.80(m,1H),0.82(m,2H),0.62ppm(m,2H)。
実施例4:5−シクロプロピル−2−メチル−2H−ピラゾール−3−イルアミンの再結晶化
18.9gの例2からの生成物を、ジイソプロピルエーテル(35ml)および酢酸エチル(70ml)の混合物に65℃で溶解させた。続いてヘキサン(25ml)を加え、温度を10℃にまでゆっくりと低下させた。沈殿した固体をろ過し、母液に残る生成物をさらに再結晶化した。全体で13.4gの5−シクロプロピル−2−メチル−2H−ピラゾール−3−イルアミン(シクロプロピルエタノンに対して65%)が淡黄色固体として単離された。

Claims (8)


  1. Figure 2009504702
    (式中、R1は、水素、C1-6−アルキル、C1-6−アルコキシ、C3-6−シクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から選択され(ここで、水素以外の各置換基R1は、場合により、C1-6−アルキル、C1-6−アルコキシ、ハロゲンおよびニトロからなる群からの1つ以上の置換基を有していてもよい)、および
    2は、水素、シアノ、ハロゲン、C1-6−アルキル、C1-6−アルコキシ、C1-6−アルコキシカルボニル、C3-6−シクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から選択される(ここで、水素、シアノならびにハロゲン以外の各置換基R2は、場合により、C1-6−アルキル、C1-6−アルコキシ、ハロゲンおよびニトロからなる群からの1つ以上の置換基を有していてもよい)、または
    1およびR2は共に、−(CH2n−基(n=3、4または5)を表わし、これは場合により1つ以上のハロゲン原子を含んでいてもよく、並びに
    3は、C1-6−アルキル、C3-6−シクロアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群から選択される(ここで、各置換基R3は、場合により、1つ以上のハロゲン原子で置換されていてもよい))
    の置換5−アミノピラゾールの調製方法であって、
    第1の工程において、式
    Figure 2009504702
    (式中、R1およびR2は上記の通り)の化合物を、式
    NH2NHR3 III
    (式中、R3は上記の通り)の化合物により、式
    Figure 2009504702
    (式中、R1、R2およびR3は上記の通り)の化合物に変換し、
    これを、第2の工程において、塩基の存在下で塩化シアンにより、式
    Figure 2009504702
    (式中、R1、R2およびR3は上記の通り)の化合物に変換し、
    これを、最終工程において、強塩基の存在下で式Iの化合物に変換する調製方法。
  2. 前記第2の工程で用いる塩基は無機塩基であって、好ましくはアルカリ金属水酸化物およびアルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩およびアルカリ土類金属炭酸塩、リン酸三ナトリウム、並びにこれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載の調製方法。
  3. 前記第1の工程および第2の工程の反応を「ワンポット反応」として行うことを特徴とする請求項1または2に記載の調製方法。
  4. 前記第3の工程において使用する強塩基は、金属水素化物、金属アミド、金属アルコキシドおよび有機金属化合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の調製方法。
  5. 前記強塩基が、リチウム−ジイソプロピルアミド、カリウム−tert−ブトキシド、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムおよびtert−ブチルリチウムからなる群から選択されることを特徴とする請求項4に記載の調製方法。
  6. 前記第2の工程と第3の工程との間で溶媒を変えないことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の調製方法。
  7. 前記第1、第2および第3の工程の反応を「ワンポット反応」として行うことを特徴とする請求項5または6に記載の調製方法。
  8. 前記溶媒が、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル(MTBE)、テトラヒドロフラン(THF)、トルエン、キシレンおよびこれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項7に記載の調製方法。
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