JP2009504373A - 酸性ガス洗浄プロセスのためのテトラオルガノアンモニウムおよびテトラオルガノホスホニウム塩 - Google Patents

酸性ガス洗浄プロセスのためのテトラオルガノアンモニウムおよびテトラオルガノホスホニウム塩 Download PDF

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Abstract

テトラオルガノアンモニウムおよびテトラオルガノホスホニウム塩は、酸性成分を、前記酸性成分およびCOの混合物から選択的に除去するための吸収剤として有用である。
【選択図】図1

Description

本発明は、吸収剤組成物に関し、ならびにHS、二硫化炭素、硫化カルボニル、酸素、およびC〜C炭化水素の酸素および硫黄誘導体、シアン化水素等などの酸性成分を、これらの酸性成分およびCOなどの成分を含む通常ガス状の混合物から選択的に吸収するためのプロセスに関する。
ガスおよび液体(酸性ガスを含む混合物など、これにはCO、HS、CS、HCN、COS、および酸素、ならびにC〜C炭化水素の硫黄誘導体が含まれる)を、アミン溶液で処理して、これらの酸性成分を除去することは、当該技術分野で周知である。アミンは、通常、酸性ガスおよび液体に、アミンを含む水溶液として吸収塔内で接触し、アミン水溶液は、酸性流体に向流で接触する。
とりわけCOおよびHSを含む酸性ガス混合物のアミン溶液による処理は、典型的には、実質量のCOおよびHSの両者の同時除去をもたらす。例えば、「水性アミンプロセス」と一般に呼ばれる一つのこれらのプロセスにおいては、比較的濃厚なアミン溶液が用いられる。このプロセスの最近の改良は、(特許文献1)に記載される立体障害アミンの使用を含んで、COおよびHSなどの酸性ガスが、殆ど完全に除去される。このタイプのプロセスは、COおよび関連ガスの分圧が低い場合に、用いられてもよい。COの分圧が極めて高いか、および/または多くの酸性ガスが存在する(例えば、HS、COS、CHSH、およびCS)特定の適用に用いられる他のプロセスは、アミンを物理的吸収剤と組み合わせて用いることを含む。これは、一般に、「非水溶剤プロセス」と呼ばれる。このプロセスの改良は、立体障害アミンおよび有機溶剤を、物理的吸収剤として使用することを含む。(特許文献2)に記載されるものなどである。
しばしば、しかし、COおよびHSの両者を含む酸性ガス混合物を処理して、HSが、選択的に、混合物から除去され、それによりCOの除去が、最小化されることが望ましい。HSの選択的な除去は、分離された酸性ガス中の比較的高いHS/CO比をもたらす。これは、クラウス(Claus)プロセスを用いるHSの元素硫黄への転化を簡単にする。
水性第二級および第三級アミンと、COおよびHSとの典型的な反応は、次のように表されることができる。
Figure 2009504373
ここで、各Rは、同じか、または異なってもよい有機基であり、ヒドロキシ基で置換されてもよい。上記反応は、可逆であり、COおよびHSの両者の分圧は、したがって、上記反応が生じる程度を決定する点で重要である。
選択的なHSの除去は、多くのガス処理運転(シェール熱分解からの炭化水素ガス、製油所ガス、および低いHS/CO比を有する天然ガスの処理が含まれる)に適用可能であるものの、HSの分圧が、COのそれに比べて比較的に低いガスの処理に、特に望ましい。何故なら、HSを後者タイプのガスから吸収するアミンの容量が非常に低いからである。HSの比較的低い分圧を有するガスの例には、石炭のガス化によって製造される合成ガス、硫黄プラントのテールガス、および低ジュール燃料ガス(重質残油が、低分子量の液体およびガスへ熱転化される製油所に見られる)が含まれる。
第一級および第二級アミン(モノエタノールアミン(MEA)、ジエタノールアミン(DEA)、ジプロパノールアミン(DPA)、およびヒドロキシエトキシエチルアミン(DGA)など)の溶液が、HSおよびCOの両ガスを吸収することは知られるものの、それらは、COを除外して、HSを優先的に吸収するのに、特に十分であると示されていない。何故なら、アミンは、COと容易に反応して、カルバメートが形成されるからである。式(5)および(6)を参照されたい。
ジイソプロパノールアミン(DIPA)は、それが、工業的に、単独でまたは物理的な溶剤(スルホランなど)と共に用いられていて、HSが、HSおよびCOを含むガスから選択的に除去されるという点で、第二級アミノアルコールの中でも、比較的独特である。しかし、接触時間は、比較的短時間に保持されて、CO反応の速度に比べて、HSとアミンとのより早い反応が利用されなければならない。これは、上記の式2および4に示される。
1950年には、(非特許文献1)に、t−アミン、メチルジエタノールアミン(MDEA)が、COに勝るHS吸収の高い選択性程度を有することが示される。このより大きな選択性は、HSの急速な化学反応に比較して、COとt−アミンとの比較的遅い化学反応に起因した。MDEAの商業的な有用性は、しかし、HS充填量に対するその制限された容量、およびHS含有量を、例えば石炭のガス化によって製造される合成ガスを処理するのに必要である低圧におけるレベルへ低減するその限定された容量のために限定される。
最近では、(特許文献3)(シェル)に、ジアルキルモノアルカノールアミン、および特にジエチルモノエタノールアミン(DEAE)が、HS除去に対して、MDEA溶液より高い選択性および容量を、より高い充填量レベルで有することが開示された。それにも係らず、DEAEでさえ、低いHS充填量(工業的によく見られる)に対して極めて効果的でない。また、DEAEは、沸点161℃を有し、そのためにそれは、低沸点の比較的高揮発性のアミノアルコールとして特徴付けられる。殆どのガス洗浄条件下でのこれらの高揮発性は、大きな物質損失をもたらし、結果的に経済的な利点が損なわれる。
(特許文献4)、(特許文献5)、および(特許文献6)には、COの存在下におけるHS選択的除去に対して、顕著な立体障害アミン化合物の使用が開示される。水性メチルジエタノールアミン(MDEA)に比べて、顕著な立体障害アミンは、高いHS充填量で、はるかにより高い選択性をもたらす。
(特許文献7)は、非ヒンダードアミン、ならびに顕著なヒンダードアミン塩および/または顕著なヒンダードアミノ酸の添加剤を含むアルカリ性吸収剤溶液を含む吸収剤組成物に関して、およびHSを、ガス状ストリームから選択的に除去するための吸収剤の使用に関して開示される。アミン塩は、アルカリ性の顕著なヒンダードアミノ化合物、および強酸または強酸の熱分解可能塩(すなわち、アンモニウム塩)の反応生成物である。適切な強酸には、無機酸(硫酸、亜硫酸、リン酸、亜リン酸、ピロリン酸など)、有機酸(酢酸、ギ酸、アジピン酸、安息香酸等など)が含まれる。適切な塩には、アンモニウム塩、例えば硫酸アンモニウム、亜硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、およびそれらの混合物が含まれる。
米国特許第4,112,052号明細書 米国特許第4,112,051号明細書 英国特許第2,017,524A号明細書 米国特許第4,405,581号明細書 米国特許第4,405,583号明細書 米国特許第4,405,585号明細書 米国特許第4,892,674号明細書 FrazierおよびKohl著(Ind.and Eng.Chem.、第42号、第2288頁、1950年)
本発明は、一種以上の塩基性テトラオルガノアンモニウム塩、塩基性テトラオルガノホスホニウム塩、またはそれらの混合物を含む吸収剤、および酸性ガス処理プロセスにおけるこれらの吸収剤の使用に関する。
一種以上のテトラオルガノアンモニウム塩、一種以上のテトラオルガノホスホニウム塩、ならびに一種以上のテトラオルガノアンモニウム塩および一種以上のテトラオルガノホスホニウム塩の混合物は、酸性ガスの酸性成分(HS、CS、HCN、COS、C〜C炭化水素の酸素および硫黄誘導体を含む)に対する、非酸性成分およびCOからの選択的な吸収剤である。吸収剤は、選択的に、HSおよび他の酸性成分を、通常ガス状の混合物(これらの酸性成分をCOなどの成分との混合物で含む)から除去する。好ましくは、HSを、HS、CO、および他の成分の混合物から選択的に除去する。
テトラオルガノアンモニウム塩およびテトラオルガノホスホニウム塩は、一般に、下式
Figure 2009504373
のもの、より詳しくは、
Figure 2009504373
のものである。
式中、Xは、ヒドロキシド(OH)、カルボネート(OCO )、カルボキシレート(RCO )、アリーレート[アリールカルボキシレート](ArCOO)であり、その際R[またはR’]は、HまたはC〜C置換または非置換アルキル、C〜C置換または非置換アルケニル、分枝アルキル、分枝アルケニル、C〜C(シクロアルキル)、置換または非置換ヒドロキシアルキルまたはヒドロキシシクロアルキルであり、Arは、C〜C14(好ましくはC〜C10)アリール、アルキルアリール、またはアリールアルキル基(好ましくはフェニル、アルキルフェニル、ナフチル、アルキルナフチル基)であり、Rは、同じかまたは異なり、C〜C20置換または非置換アルキル、C〜C20置換または非置換アルケニル、C〜C20置換または非置換分枝鎖アルキル、アルケニル、環状、シクロアルキル、またはシクロアルケニル、C〜C20置換または非置換アリール、アルキルアリール、アリールアルキルであり、置換基は、存在する場合には、酸素含有官能基(ヒドロキシル(−OH)、ヒドロキシアルキル(−ROH)、エーテル(−ORおよび−R−O−R)、
Figure 2009504373
であり、
式中、RおよびRは、同じかまたは異なり、C〜C置換または非置換アルキル、C〜C(好ましくはC〜C)置換または非置換環状、シクロアルキル、またはシクロアルケニル基、C〜C直鎖または分枝鎖アルケニル、C〜C20(好ましくはC〜C12、より好ましくはC〜C10)置換または非置換アリール、アルキルアリール、またはアリールアルキルであり、置換基は、炭素主鎖骨格に配置されたヘテロ原子(O、N、S)、または炭素主鎖に結合されたヘテロ原子基である。好ましくは、R、R、R、およびR基は、非置換である。
上記される吸収剤は、HSおよび他の酸性成分を、これらの酸性成分、非酸性成分、およびCOを含む混合物から除去する際に、高い選択性を示し、再生後でさえ、それらの高い選択性および充填量容量を保持する。
吸収剤は、HSを、HSおよびCOを含む通常ガス状の混合物から、選択的に吸収するのに用いられる。これは、
(a)前記通常ガス状の混合物を、HSを前記混合物から選択的に吸収することができるものとして特徴付けられる吸収剤溶液と接触させる工程、
(b)少なくとも部分的に、HSを含む前記吸収剤溶液を再生する工程、および
(c)再生された溶液をリサイクルして、HSが、工程(a)におけるように接触させることによって選択的に吸収される工程
を含む。
好ましくは、再生工程は、加熱およびストリッピング、より好ましくはスチームを用いる加熱およびストリッピングによって行われる。
本明細書で用いられる用語「吸収剤溶液」には、限定されることなく、アミノ化合物が、水、物理的吸収剤、またはそれらの混合物から選択される溶剤に溶解される溶液が含まれる。物理的吸収剤である溶剤(化学的吸収剤であるアミノ化合物と相対する)は、例えば、(特許文献2)(その全開示は、参照により本明細書に援用される)に記載され、これには、例えば、脂肪族酸アミド、N−アルキル化ピロリドン、スルホン、スルホキシド、グリコール、ならびにそれらのモノおよびジエーテルが含まれる。本明細書で好ましい物理的吸収剤は、スルホンであり、最も詳しくはスルホランである。好ましい液体媒体は、水を含む。
吸収剤溶液は、主に、用いられる特定のアミノ化合物および用いられる溶剤系によって、通常、アミノ化合物約0.1〜6モル/全溶液リットル、好ましくは1〜4モル/リットルの濃度を有する。溶剤系が、水および物理的吸収剤の混合物である場合は、用いられる物理的吸収剤の典型的な有効量は、主に、用いられるアミノ化合物のタイプによって、0.1〜5モル/全溶液リットル、好ましくは0.5〜3モル/リットルで異なってもよい。用いられる特定の化合物に対するアミノ化合物の濃度の依存関係は、アミノ化合物の濃度を増大することが、吸収剤溶液の塩基性を減少してもよく、それによりHS除去に対するその選択性に悪影響を及ぼすことから、重要である。特に、アミノ化合物が、最大濃度レベルを、上記に示される範囲内に決定するであろう特定の水溶性限界を有する場合には、重要である。したがって、各特定のアミノ化合物にふさわしい適切な濃度レベルが維持されて、満足な結果が確実にされることが重要である。
本発明の溶液には、選択的ガス除去プロセスで典型的に用いられる種々の添加剤が含まれてもよい。例えば、消泡剤、酸化防止剤、腐食防止剤などである。これらの添加剤の量は、典型的には、それらが効果的である範囲にあろう。すなわち、有効量である。
また、本明細書に記載されるアミノ化合物は、他のアミノ化合物と、混合物として混合されてもよい。個々のアミノ化合物の割合は、幅広く異なってもよい。例えば、本明細書に記載されるアミノ化合物1〜99重量%である。
Sの除去に対する本明細書のアミノ化合物の有効性を決定する際に、最終的に重要である三つの特徴は、「選択性」、「充填量」、および「容量」である。本明細書を通して用いられる用語「選択性」は、次のモル比分率として定義される。
Figure 2009504373
この分率が高いほど、ガス混合物中のHSに対する吸収剤溶液の選択性は大きい。
用語「充填量」とは、吸収剤溶液に、物理的に溶解され、かつ化学的に結合されるHSおよびCOの濃度を意味する。これは、ガスのモル/アミンのモルで表される。最良のアミノ化合物は、良好な選択性を、比較的高い充填量レベルまで示すものである。本発明を実施する際に用いられるアミノ化合物は、典型的には、実質的に10以上の「選択性」を、「充填量」0.1モルで有する。好ましくは、実質的に10以上の「選択性」を、(HSおよびCOの0.2モル以上)/(アミノ化合物のモル)の充填量で有する。
「容量」は、(吸収工程の最後における吸収剤溶液中に充填されたHSのモル)−(脱離工程の最後における吸収剤溶液中に充填されたHSのモル)として定義される。高い容量は、循環されるべきアミン溶液の量を低減し、より少ない熱またはスチームを、再生中に用いることを可能にする。
本明細書の酸性ガス混合物には、必ずHSが含まれ、任意に、他のガス(CO、N、CH、H、CO、HO、COS、HCN、C、NHなど)が含まれてもよい。しばしば、これらのガス混合物は、燃焼ガス、精油所ガス、都市ガス、天然ガス、シンガス、水性ガス、プロパン、プロピレン、重質炭化水素ガス等の中に見出される。本明細書の吸収剤溶液は、ガス状混合物が、例えば、シェール油レトルト、石炭液化またはガス化、重質油のスチーム、空気/スチーム、または酸素/スチームによるガス化、重質残油のより低分子量の液体およびガスへの熱転化(例えば、フルードコーカー、フレキシコーカー、またはディレードコーカー)から、もしくは硫黄プラントのテールガス浄化運転で得られるガスである場合に、特に効果的である。
本発明の吸収工程には、一般に、通常ガス状のストリームを、吸収剤溶液と、いかなる適切な接触槽にもおいて接触させる工程が含まれる。これらのプロセスにおいては、HSおよびCOを含む通常ガス状の混合物(そこから、HSが選択的に除去されるものである)は、吸収剤溶液と、従来の手段(例えば、環または篩板を充填された塔または槽、または気泡反応器など)を用いて密接に接触されてもよい。他の酸性ガス状成分はまた除去されるであろう。
本発明を実施する典型的な方式においては、吸収工程は、通常ガス状の混合物を吸収塔のより低部に供給し、一方新規吸収剤溶液は、塔の上部領域に供給されることによって行われる。HSを十分に取り除いたガス状混合物は、塔の上部から出て、充填された吸収剤溶液(選択的に吸収されたHSを含む)は、塔を、その底部近く、またはそこで出る。好ましくは、吸収工程における吸収剤溶液の入口温度は、約20℃〜約100℃、より好ましくは30℃〜約60℃の範囲にある。圧力は、幅広く異なってもよく、許容可能な圧力は、吸収装置において、5〜2000psia、好ましくは20〜1500psia、最も好ましくは25〜1000psiaである。接触は、HSが、溶液によって選択的に吸収される条件下で生じる。吸収の条件および装置は、吸収装置における液体の滞留時間を最小にして、COの捕捉が低減され、一方同時に、液体によるガス混合物の十分な滞留時間を保持して、最大量のHSガスが吸収されるように設計される。HS除去の所定程度を得るために循環されるのに必要とされる液体の量は、アミノ化合物の化学構造および塩基性、ならびに原料ガス中のHSの分圧によるであろう。低い分圧を有するガス混合物(熱転化プロセスに見られるものなど)は、同じ吸収条件下で、より高い分圧を有するガス(シェール油レトルトガスなど)より多くの液体を必要とするであろう。
本プロセスの選択的HS除去段階に対する典型的な手順は、HSを選択的に吸収する工程を含む。これは、HSおよびCOを含むガス状混合物を、アミノ化合物の溶液と、複数のトレーを含むカラム中で、低温(例えば、45℃未満)かつガス速度少なくとも約0.3ft/秒(「活性」または空気混和トレー表面を基準とする)で向流接触させることによる。ガスの運転圧力によっては、前記トレーカラムは、20個未満の接触トレーを有し、例えば4〜16トレーが典型的に用いられる。
通常ガス状の混合物と吸収剤溶液(HSで飽和、または部分的に飽和される)との接触の後、溶液は、少なくとも部分的に再生されてもよく、そのためにそれは、吸収装置へ戻してリサイクルされてもよい。吸収と同様に、再生は、単一の液相で生じてもよい。吸収剤溶液の再生または脱離は、従来の手段(吸収されたHSが急激に気化する点まで溶液の減圧または温度上昇すること、もしくは溶液を、吸収工程で用いられるものと類似の構造の槽に、槽の上部でバイパスさせ、空気または窒素などの不活性ガス(好ましくはスチーム)を、槽を通って上方へ送ることなど)によって達成されてもよい。再生工程における溶液の温度は、約50℃〜約170℃、好ましくは約80℃〜120℃の範囲であるべきであり、再生時の溶液の圧力は、約0.5〜約100psia、好ましくは1〜約50psiaの範囲であるべきである。吸収剤溶液は、HSガスの少なくとも一部分が浄化された後、吸収槽に戻してリサイクルされてもよい。メイクアップ吸収剤は、必要に応じて添加されてもよい。
好ましい再生技術においては、HS−リッチ溶液は、再生装置へ送られ、そこで吸収された成分は、溶液をリボイリングすることによって生成されるスチームによってストリッピングされる。フラッシュドラムおよびストリッパーにおける圧力は、通常、1〜約50psia、好ましくは15〜約30psiaであり、温度は、典型的には、約50℃〜170℃、好ましくは約80℃〜120℃の範囲にある。ストリッパーおよびフラッシュの温度は、当然ながら、ストリッパーの圧力によるであろう。したがって、ストリッパーの圧力約15〜30psiaで、温度は、脱離中には、約80℃〜約120℃であろう。再生されるように溶液を加熱することは、低圧スチームを用いる間接的な加熱によって、極めて適切に行われてもよい。しかし、スチームの直接注入を用いることもまた可能である。
本明細書の全プロセスを実施するための一実施形態においては、図1に示されるように、浄化されるべきガス混合物は、ライン1を通って、気−液向流接触カラム2の低部に導入される。前記接触カラムは、下部区域3および上部区域4を有する。上部および下部区域は、所望により、一つまたは複数の充填床によって区分されてもよい。上に記載される吸収剤溶液は、パイプ5を通ってカラムの上部部分に導入される。カラムの底部へ流れる溶液は、向流して流れるガスと出会い、HSを優先的に溶解する。殆どのHSを除去されたガスは、パイプ6を通って、最終的な使用のために出る。主にHSおよびいくらかのCOを含む溶液は、カラムの底部部分の方向へ流れ、そこからそれは、パイプ7を通って排出される。溶液は、次いで、任意のポンプ8を経て、パイプ7に配置される任意の熱交換器および冷却器9を通って圧送される。これは、再生装置12からの高温溶液が、省エネルギーのために、吸収装置カラム2からのより低温の溶液と熱交換することを可能とする。溶液は、パイプ7を経て、ライン13に排出するライン(図示せず)を備えたフラッシュドラム10へ入り、次いでパイプ11によって、再生装置12の上部部分に導入される。これは、いくつかのプレートを装備し、溶液中に運ばれたHSおよびCOガスの脱離を行う。この酸性ガスは、パイプ13を通って、凝縮装置14に送られ、そこでガスからの水およびアミン溶液の冷却および凝縮が生じる。ガスは、次いで、分離装置15に入り、そこでさらに、凝縮が行われる。凝縮された溶液は、パイプ16を通って、再生装置12の上部部分へ戻される。凝縮から残ったガス(HSおよびいくらかのCOを含む)は、最終的な廃棄ために、パイプ17を通って(例えば、煙突または焼却炉、もしくはクラウス(Claus)装置、またはストレットフォード(Stretford)転化装置(図示せず)などのHSを硫黄に転化する装置へ)除去される。
溶液は、再生装置12を通って下方へ流れながら、それが含む殆どのガスを遊離され、パイプ18を通って再生装置の底部で出て、リボイラー19へ移送される。外部熱源(例えば、パイプ20を通って注入されるスチーム、凝縮液は第二のパイプ(図示せず)を通って出る)を備えたリボイラー19は、この溶液(主に水)の一部分を気化して、さらなるHSが、そこから追出される。追出されたHSおよびスチームは、パイプ21を経て再生装置12の低部へ戻され、パイプ13を通って出て、ガス処理の凝縮段に入る。リボイラー19に残存する溶液は、パイプ22を通って抜出されて、熱交換器9で冷却され、ポンプ23(圧力が十分に高い場合には任意である)の作動により、パイプ5を通って吸収剤カラム2に導入される。
典型的には、重質残油の熱転化の装置からの処理されるべきガス状ストリーム(HS:COのモル比1:10を有する)、またはルルギ石炭ガス(HS:COモル比1:10未満を有する)は、本発明のプロセスによる処理後に、HS:COのモル比約1:1を有する酸性ガスを得るであろう。本明細書のプロセスは、他のHS選択的除去プロセスと組み合わせて用いられてもよい。しかし、アミノ化合物は、それ自体、HSの優先的な吸収に極めて有用であることから、本発明のプロセスそれ自体で行うことが好ましい。
実験手順
1.吸収試験を、35℃で、吸収剤の0.15M水溶液に対して、窒素:二酸化炭素:硫化水素=89:10:1の試験ガス混合物を用いて2時間行った。
2.脱離を、85℃で、試験ガス混合物と同じ流速でNを2時間運転した。
結果を、次の表1に示す。
Figure 2009504373
化合物記号の定義
TMAH=水酸化テトラメチルアンモニウム
TEAH=水酸化テトラエチルアンモニウム
TPAH=水酸化テトラプロピルアンモニウム
TBAH=水酸化テトラブチルアンモニウム
TBAH=硫酸塩は中性硫酸塩である
TBPH=水酸化テトラブチルホスホニウム
Sを、HSおよびCOを含むガス状ストリームから選択的に除去するための吸収再生装置を示す概略流れ図である。

Claims (7)

  1. 一種以上のガス状酸性成分を、前記ガス状酸性成分およびガス状COを含む通常ガス状の混合物から選択的に除去するための方法であって、
    前記通常ガス状の混合物を、一種以上のガス状酸性成分が選択的に前記混合物から吸収される条件下で、一種以上のテトラオルガノアンモニウム塩、一種以上のテトラオルガノホスホニウム塩、または一種以上のテトラオルガノアンモニウム塩と一種以上のテトラオルガノホスホニウム塩との混合物と接触させることを含むことを特徴とする方法。
  2. 前記テトラオルガノアンモニウム塩は、下式
    [RN]
    のものであり、前記テトラオルガノホスホニウム塩は、下式
    [RP]
    のものであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
    [但し、式中、Xは、ヒドロキシド、カルボネート、RCOO、(式中、Rは、H、C〜C置換または非置換アルキル、C〜C置換または非置換アルケニル、分枝アルキル、分枝アルケニル、シクロアルキル、C〜C置換または非置換ヒドロキシアルキルまたはヒドロキシシクロアルキルである)、ArCOOであり、Arは、C〜C14アリール、アルキルアリール、またはアリールアルキル基であり、Rは、同じかまたは異なり、C〜C20置換または非置換アルキル、C〜C20置換または非置換アルケニル、C〜C20置換または非置換分枝鎖アルキル、アルケニル、環状、シクロアルキル、シクロアルケニル、C〜C20置換または非置換アリール、アルキルアリール、アリールアルキルであり、置換基は、存在する場合には、酸素含有官能基である。]
  3. 前記酸素含有官能基は、−OH、−ROH、−OR、−R−O−R
    Figure 2009504373
    (式中、RおよびRは、同じかまたは異なり、C〜C置換または非置換アルキル、C〜C置換または非置換分枝アルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、C〜C直鎖または分枝アルケニル、C〜C20置換または非置換アリール、アルキルアリール、またはアリールアルキルである)であることを特徴とする請求項2に記載の方法。
  4. 前記混合物から選択的に吸収されるガス状酸性成分は、HSであることを特徴とする請求項1、2、または3に記載の方法。
  5. 一種以上のテトラオルガノアンモニウム塩、テトラオルガノホスホニウム塩、またはそれらの混合物を含むことを特徴とする吸収剤。
  6. 前記テトラオルガノアンモニウム塩は、下式
    [RN]
    のものであり、前記テトラオルガノホスホニウム塩は、下式
    [RP]
    のものであることを特徴とする請求項5に記載の吸収剤。
    [但し、式中、Xは、ヒドロキシド、カルボネート、RCOO、(式中、Rは、H、C〜C置換または非置換アルキル、C〜C置換または非置換アルケニル、分枝アルキル、分枝アルケニル、シクロアルキル、C〜C置換または非置換ヒドロキシアルキルまたはヒドロキシシクロアルキルである)、ArCOOであり、Arは、C〜C14アリール、アルキルアリール、またはアリールアルキル基であり、Rは、同じかまたは異なり、C〜C20置換または非置換アルキル、C〜C20置換または非置換アルケニル、C〜C20置換または非置換分枝鎖アルキル、アルケニル、環状、シクロアルキル、シクロアルケニル、C〜C20置換または非置換アリール、アルキルアリール、アリールアルキルであり、置換基は、存在する場合には、酸素含有官能基である。]
  7. 前記酸素含有官能基は、−OH、−ROH、−OR、−R−O−R
    Figure 2009504373
    (式中、RおよびRは、同じかまたは異なり、C〜C置換または非置換アルキル、C〜C置換または非置換分枝アルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、C〜C置換または非置換の直鎖または分枝アルケニル、C〜C20置換または非置換アリール、アルキルアリール、またはアリールアルキルである)であることを特徴とする請求項6に記載の吸収剤。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016533886A (ja) * 2013-08-29 2016-11-04 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー 四級アンモニウム塩を含有するガススイートニング溶媒

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9028593B2 (en) * 2007-05-29 2015-05-12 University Of Regina Method and absorbent compositions for recovering a gaseous component from a gas stream
JP4915399B2 (ja) * 2008-07-04 2012-04-11 Jfeエンジニアリング株式会社 第四級アンモニウム塩をゲスト分子として含む水和物を用いて気体を捕集し放出する方法及びそのための装置
GB201004638D0 (en) 2010-03-19 2010-05-05 Univ Belfast Separation of gases
JP5477364B2 (ja) * 2011-12-01 2014-04-23 Jfeエンジニアリング株式会社 第四級アンモニウム塩をゲスト分子として含む水和物を用いて気体を捕集し放出する方法及びそのための装置
CN108671701A (zh) * 2018-05-17 2018-10-19 浙江卫星能源有限公司 一种含硫化氢的气体的脱硫方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003138281A (ja) * 2001-08-23 2003-05-14 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 気体の分離剤及び気体を分離濃縮するための方法と装置
JP2005145816A (ja) * 2003-11-19 2005-06-09 Air Products & Chemicals Inc 揮発性金属水素化物の精製方法及び装置、並びに精製された揮発性金属水素化物製品

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3656887A (en) * 1969-08-21 1972-04-18 Chevron Res Method of removing hydrogen sulfide from gaseous mixtures
AU506199B2 (en) * 1975-06-26 1979-12-20 Exxon Research And Engineering Company Absorbtion of co2 from gaseous feeds
US4405583A (en) * 1982-01-18 1983-09-20 Exxon Research And Engineering Co. Process for selective removal of H2 S from mixtures containing H22 using di-severely sterically hindered secondary aminoethers
US4405585A (en) * 1982-01-18 1983-09-20 Exxon Research And Engineering Co. Process for the selective removal of hydrogen sulfide from gaseous mixtures with severely sterically hindered secondary aminoether alcohols
US4405581A (en) * 1982-01-18 1983-09-20 Exxon Research And Engineering Co. Process for the selective removal of hydrogen sulfide from gaseous mixtures with severely sterically hindered secondary amino compounds
US4618481A (en) * 1985-08-30 1986-10-21 Exxon Research And Engineering Co. Absorbent composition containing a severely hindered amino compound and an amine salt and process for the absorption of H2 S using the same
CA1304911C (en) * 1985-10-28 1992-07-14 Roscoe L. Pearce Sulfur removal from hydrocarbons
GB8528381D0 (en) * 1985-11-18 1985-12-24 Ici Plc Chemical process
US4892674A (en) * 1987-10-13 1990-01-09 Exxon Research And Engineering Company Addition of severely-hindered amine salts and/or aminoacids to non-hindered amine solutions for the absorption of H2 S
US4973456A (en) * 1988-10-24 1990-11-27 Air Products And Chemicals, Inc. Use of salt hydrates as reversible absorbents of acid gases
US5047567A (en) * 1990-09-17 1991-09-10 Exxon Research & Engineering Company Heteropolyoxo vanadium compounds containing molecular anions and their structure
TW406028B (en) * 1994-05-26 2000-09-21 Toshiba Corp Process for treating acidic exhaust gas
US5744024A (en) * 1995-10-12 1998-04-28 Nalco/Exxon Energy Chemicals, L.P. Method of treating sour gas and liquid hydrocarbon
US6486115B1 (en) * 1999-11-09 2002-11-26 Baker Hughes Incorporated Microemulsion cleaning composition
US6352576B1 (en) * 2000-03-30 2002-03-05 The Regents Of The University Of California Methods of selectively separating CO2 from a multicomponent gaseous stream using CO2 hydrate promoters
KR100989299B1 (ko) * 2002-04-05 2010-10-22 유니버시티 오브 사우스 앨라배마 관능화된 이온성 액체, 및 그의 사용 방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003138281A (ja) * 2001-08-23 2003-05-14 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 気体の分離剤及び気体を分離濃縮するための方法と装置
JP2005145816A (ja) * 2003-11-19 2005-06-09 Air Products & Chemicals Inc 揮発性金属水素化物の精製方法及び装置、並びに精製された揮発性金属水素化物製品

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016533886A (ja) * 2013-08-29 2016-11-04 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー 四級アンモニウム塩を含有するガススイートニング溶媒

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