JP2009296115A - Tuning fork type piezoelectric vibration piece, tuning fork type piezoelectric vibration device, and manufacturing method of tuning fork piezoelectric vibration piece - Google Patents

Tuning fork type piezoelectric vibration piece, tuning fork type piezoelectric vibration device, and manufacturing method of tuning fork piezoelectric vibration piece Download PDF

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和靖 阪本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tuning fork type piezoelectric vibration piece which can be electromechanically bonded through a bump to a base stably, a tuning fork type piezoelectric vibration device, and a manufacturing method of the tuning fork piezoelectric vibration piece. <P>SOLUTION: A tuning fork type crystal vibration piece 2 comprises a first leg 21 and a second leg 22 which are vibration parts, and a base 23 where the first leg 21 and the second leg 22 are protrusively provided. The base 23 has a bonding part 27 bonded to the outside, and a pair of plating bump groups 3 are formed on the bonding part 27. The pair of plating bump groups 3 are configured by forming a plurality of plating bump points 31, and the total area of one plating bump group 3 is set to 4×10<SP>-3</SP>to 6×10<SP>-3</SP>mm<SP>2</SP>. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、音叉型圧電振動片、音叉型圧電振動デバイス、および音叉型圧電振動片の製造方法に関する。   The present invention relates to a tuning fork type piezoelectric vibrating piece, a tuning fork type piezoelectric vibrating device, and a method for manufacturing a tuning fork type piezoelectric vibrating piece.

圧電振動デバイスの一つとして、基部とこの基部から突出された2つの脚部を有する振動部とからなる音叉型水晶振動片を用いた音叉型水晶振動子がある(例えば、特許文献1参照。)。   As one of the piezoelectric vibrating devices, there is a tuning fork type crystal resonator using a tuning fork type crystal vibrating piece including a base and a vibrating portion having two legs protruding from the base (see, for example, Patent Document 1). ).

上記したような音叉型水晶振動子では、その本体筐体がベースと蓋とから構成され、本体筐体の内部には、ベース上に導電性バンプ(具体的にスタッドバンプ)により音叉型水晶振動片が電気機械的に接合され、この接合された音叉型水晶振動片が本体筐体の内部に気密封止される。
特開2008−79014号公報
In the tuning fork type crystal resonator as described above, the main body case is composed of a base and a lid. Inside the main body case, a tuning fork type crystal vibration is formed by conductive bumps (specifically, stud bumps) on the base. The pieces are joined electromechanically, and the joined tuning fork type crystal vibrating piece is hermetically sealed inside the main body casing.
JP 2008-79014 A

ところで、上記した特許文献1に記載の音叉型水晶振動子では、ベース上にスタッドバンプを形成し、この形成したスタッドバンプを介して音叉型圧電振動片をベースに接合する。   By the way, in the tuning fork type crystal resonator described in Patent Document 1 described above, stud bumps are formed on the base, and the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is joined to the base via the formed stud bumps.

そのため、ベース上へのスタッドバンプの形成位置は、搭載する音叉型水晶振動片のサイズや引出電極の位置に基づいて設定されるが、音叉型水晶振動子および音叉型水晶振動片の小型化にともなってベースの焼成時の積層ずれ等の影響が顕在化してくる。このため、スタッドバンプへの音叉型水晶振動片の接点(接触位置)は、ずれやすくなる。また、ベースの所望の位置へのスタッドバンプの吐出形成は、音叉型水晶振動片の小型化に比例して難しくなり、現在の技術では、ベースの所望の位置へのスタッドバンプの形成の精度は落ちる傾向にある。   Therefore, the stud bump formation position on the base is set based on the size of the tuning fork type crystal vibrating piece to be mounted and the position of the extraction electrode. However, the tuning fork type crystal resonator and the tuning fork type crystal vibrating piece are miniaturized. Along with this, the influence of misalignment during the firing of the base becomes obvious. For this reason, the contact point (contact position) of the tuning fork type crystal vibrating piece to the stud bump is likely to shift. In addition, the formation of the stud bumps at the desired position of the base becomes difficult in proportion to the miniaturization of the tuning fork type crystal vibrating piece. With the current technology, the accuracy of the formation of the stud bumps at the desired position of the base is low. It tends to fall.

その結果、スタッドバンプが所望の位置からはみ出した状態でベース上へ音叉型水晶振動片が接合されたり、スタッドバンプが所望の位置からはみ出していない状態でベース上へ音叉型水晶振動片が接合されても音叉型水晶振動片の引出電極とスタッドバンプが電気的に接続されてないといった不具合が生じる。   As a result, the tuning fork type crystal vibrating piece is bonded onto the base with the stud bump protruding from the desired position, or the tuning fork type crystal vibrating piece is bonded onto the base with the stud bump not protruding from the desired position. However, there is a problem that the extraction electrode of the tuning fork type crystal vibrating piece and the stud bump are not electrically connected.

そこで、上記課題を解決するために、本発明は、安定してベース上に音叉型圧電振動片をバンプを介して電気機械的に接合できる音叉型圧電振動片、音叉型圧電振動デバイス、および音叉型圧電振動片の製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, in order to solve the above-described problems, the present invention provides a tuning fork type piezoelectric vibrating piece, a tuning fork type piezoelectric vibrating device, and a tuning fork that can stably join a tuning fork type piezoelectric vibrating piece to a base via a bump. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a piezoelectric piezoelectric resonator element.

上記の目的を達成するため、本発明にかかる音叉型圧電振動片は、振動部である複数本の脚部と、これら脚部を突出して設けた基部とから構成され、前記基部には外部と接合する接合部が設けられ、前記接合部には、一対のメッキバンプ群が形成され、前記一対のメッキバンプ群は、それぞれ複数点のメッキバンプが形成されて構成され、前記メッキバンプ群一つの総面積は、4×10-3〜6×10-3mm2に設定されたことを特徴とする。 In order to achieve the above object, a tuning-fork type piezoelectric vibrating piece according to the present invention is composed of a plurality of legs that are vibrating parts, and a base part that protrudes from the legs, and the base part has an external portion. A bonding portion to be bonded is provided, and a pair of plating bump groups is formed in the bonding portion, and the pair of plating bump groups is configured by forming a plurality of plating bumps, and each of the plating bump groups The total area is set to 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2 .

本発明によれば、前記複数本の脚部と前記基部とから構成され、前記基部には前記接合部が設けられ、前記接合部には一対のメッキバンプ群が形成され、前記一対のメッキバンプ群はそれぞれ複数点のメッキバンプが形成されて構成され、前記メッキバンプ群一つの総面積は4×10-3〜6×10-3mm2に設定されるので、安定して外部(ベース)上に当該音叉型圧電振動片を前記一対のメッキバンプ群を介して電気機械的に接合することが可能となる。 According to the present invention, the plurality of leg portions and the base portion are configured, the joint portion is provided on the base portion, a pair of plating bump groups is formed on the joint portion, and the pair of plating bumps Each group is formed by forming a plurality of plated bumps, and the total area of each plated bump group is set to 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2. It is possible to electromechanically join the tuning fork type piezoelectric vibrating piece on the top via the pair of plating bump groups.

具体的に、本発明によれば、当該音叉型圧電振動片の外部(ベース)への搭載位置が所望位置からずれた場合であっても、当該音叉型圧電振動片に前記一対のメッキバンプ群を形成した状態で当該音叉型圧電振動片をベースに接合するので、常に当該音叉型圧電振動片の所望の位置(引出電極)に前記メッキバンプを形成して安定したベースへの当該音叉型圧電振動片の搭載を行うことが可能となる。   Specifically, according to the present invention, even if the mounting position of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece on the outside (base) is deviated from a desired position, the pair of plated bump groups on the tuning fork type piezoelectric vibrating piece. Since the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is bonded to the base in a state in which the tuning fork is formed, the plating fork type piezoelectric piece to the stable base is always formed by forming the plated bump at a desired position (extraction electrode) of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece. It becomes possible to mount the resonator element.

また、前記一対のメッキバンプ群それぞれの総面積を4×10-3〜6×10-3mm2としているので、ベースへの前記一対のメッキバンプ群の転写率が良く、ベースへの当該音叉型圧電振動片の接合を安定して行うことが可能である。なお、ここでいう転写率とは、接合された音叉型圧電振動片とベースとを引き剥がした際に、接合前に音叉型圧電振動片に形成されたバンプがベース側に残る(転写する)率のことをいう。具体的に、前記一対のメッキバンプ群は、それぞれ複数点のメッキバンプが形成されて構成され、前記一対のメッキバンプ群それぞれの総面積を4×10-3〜6×10-3mm2としているので、一点一点のメッキバンプのベースへの転写率を高めて、これら一点一点のメッキバンプが複数点からなる前記メッキバンプ群のベースへの転写率を高めることが可能となる。 Further, since the total area of each of the pair of plating bump groups is 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2 , the transfer rate of the pair of plating bump groups to the base is good, and the tuning fork to the base is concerned. It is possible to stably perform the bonding of the type piezoelectric vibrating piece. The transfer rate here means that when the bonded tuning fork type piezoelectric vibrating piece and the base are peeled off, bumps formed on the tuning fork type piezoelectric vibrating piece before bonding remain on the base side (transfer). It means rate. Specifically, each of the pair of plating bump groups is formed by forming a plurality of plating bumps, and the total area of each of the pair of plating bump groups is 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2. Therefore, it is possible to increase the transfer rate to the base of each one-point plated bump, and to increase the transfer rate to the base of the plating bump group in which each one-point plated bump consists of a plurality of points. .

前記複数点のメッキバンプを音叉型圧電振動片に形成する、すなわち、多点メッキバンプを当該音叉型圧電振動片に形成するので、例えば、1つのメッキバンプが剥がれる等の不具合が生じた場合であっても、他のメッキバンプで安定した接合強度を保持することが可能となる。   The plurality of plated bumps are formed on the tuning fork type piezoelectric vibrating piece, that is, the multipoint plated bump is formed on the tuning fork type piezoelectric vibrating piece. For example, when a defect such as peeling of one plated bump occurs. Even if it exists, it becomes possible to hold | maintain the stable joint strength with another plating bump.

前記構成において、前記メッキバンプの形状は、平面視楕円形であってもよい。   The said structure WHEREIN: The shape of the said plating bump may be ellipsoidal planar view.

この場合、メッキバンプの形状が平面視楕円形であるので、前記メッキバンプは長径を有している。そのため、例えば、当該音叉型圧電振動片をベースに搭載する際にFCB法(Flip Chip Bonding)を用いた場合、FCB法によって当該音叉型圧電振動片をベースに超音波接合する際の振動方向を前記メッキバンプの長径に対応させることで、前記メッキバンプの振動方向に対する接合領域の面積(接地面積)を増大させることが可能となり、より接合性を向上させることが可能となる。   In this case, since the plated bump has an elliptical shape in plan view, the plated bump has a long diameter. Therefore, for example, when using the FCB method (Flip Chip Bonding) when mounting the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece on the base, the vibration direction when ultrasonically bonding the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece to the base by the FCB method is set. By making it correspond to the long diameter of the plating bump, it becomes possible to increase the area (grounding area) of the bonding region with respect to the vibration direction of the plating bump, and it is possible to further improve the bonding property.

また、上記の目的を達成するため、本発明にかかる音叉型圧電振動デバイスは、上記した本発明にかかる音叉型圧電振動片と、前記音叉型圧電振動片を搭載するベースと、前記ベースに搭載した前記音叉型圧電振動片を気密封止するための蓋と、が設けられたことを特徴とする。   In order to achieve the above object, a tuning fork type piezoelectric vibrating device according to the present invention includes a tuning fork type piezoelectric vibrating piece according to the present invention, a base on which the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is mounted, and a base mounted on the base. And a lid for hermetically sealing the tuning fork type piezoelectric vibrating piece.

本発明によれば、上記した本発明にかかる音叉型圧電振動片と前記ベースと前記蓋とが設けられるので、安定して前記ベース上に前記音叉型圧電振動片を前記一対のメッキバンプ群を介して電気機械的に接合することが可能となる。   According to the present invention, since the tuning fork type piezoelectric vibrating piece according to the present invention, the base, and the lid are provided, the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is stably placed on the base with the pair of plating bump groups. It is possible to perform electromechanical joining.

具体的に、本発明によれば、前記音叉型圧電振動片の前記ベースへの搭載位置が所望位置からずれた場合であっても、前記音叉型圧電振動片に前記メッキバンプを形成した状態で前記音叉型圧電振動片を前記ベースに接合するので、常に前記音叉型圧電振動片の所望の位置(引出電極)に前記一対のメッキバンプ群を形成して安定した前記ベースへの前記音叉型圧電振動片の搭載を行うことが可能となる。   Specifically, according to the present invention, even when the mounting position of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece on the base is deviated from a desired position, the plating bump is formed on the tuning fork type piezoelectric vibrating piece. Since the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece is joined to the base, the tuning-fork type piezoelectric to the base is stably formed by always forming the pair of plated bump groups at a desired position (extraction electrode) of the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece. It becomes possible to mount the resonator element.

また、前記一対のメッキバンプ群それぞれの総面積を4×10-3〜6×10-3mm2としているので、前記ベースへの前記一対のメッキバンプ群の転写率が良く、前記ベースへの前記音叉型圧電振動片の接合を安定して行うことが可能である。 Further, since the total area of each of the pair of plating bump groups is 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2 , the transfer rate of the pair of plating bump groups to the base is good, and The tuning fork type piezoelectric vibrating piece can be stably joined.

前記複数点のメッキバンプを前記接合部に形成する、すなわち、多点メッキバンプを前記接合部に形成するので、例えば、1つのメッキバンプが剥がれる等の不具合が生じた場合であっても、他のメッキバンプで安定した接合強度を保持することが可能となる。   Since the multi-point plated bumps are formed at the joint, that is, the multi-point plated bump is formed at the joint, for example, even when a problem such as peeling of one plated bump occurs, It is possible to maintain a stable bonding strength with the plated bump.

前記構成において、前記メッキバンプ群では、前記複数点のメッキバンプの少なくとも2点が結合されてもよい。   In the above configuration, at least two points of the plurality of plating bumps may be coupled in the plating bump group.

この場合、前記複数点のメッキバンプを形成した前記音叉型圧電振動片を前記ベースに接合した際に前記複数点のメッキバンプの少なくとも2点が結合されることで、前記音叉型圧電振動片の前記ベースへの接合強度を高めることができる。   In this case, when the tuning fork type piezoelectric vibrating piece on which the plurality of plated bumps are formed is joined to the base, at least two points of the plurality of plated bumps are coupled to each other. Bonding strength to the base can be increased.

前記構成において、前記ベースに前記音叉型圧電振動片が前記一対のメッキバンプ群を介してFCB法により超音波接合されてもよい。   In the above configuration, the tuning fork type piezoelectric vibrating piece may be ultrasonically bonded to the base by the FCB method via the pair of plating bump groups.

この場合、FCB法による超音波接合では、前記ベースに前記音叉型圧電振動片を押圧揺動して前記ベースに前記音叉型圧電振動片を熱溶融接合を行うので、前記複数のメッキバンプを結合させるのに好適な接合手法である。   In this case, in the ultrasonic bonding by the FCB method, the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is pressed and swung to the base, and the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is thermally melt bonded to the base. This is a suitable joining method.

また、上記の目的を達成するため、本発明にかかる音叉型圧電振動片の製造方法は、音叉型圧電振動片は、振動部である複数本の脚部と、これら脚部を突出して設けた基部とから構成され、前記基部には外部と接合する接合部が設けられた音叉型圧電振動片であり、前記接合部に、複数点のメッキバンプをそれぞれ形成して構成する一対のメッキバンプ群を形成する工程を有し、前記メッキバンプ群一つの総面積を、それぞれ4×10-3〜6×10-3mm2に設定することを特徴とする。 Further, in order to achieve the above object, a tuning fork type piezoelectric vibrating piece according to the present invention includes a tuning fork type piezoelectric vibrating piece including a plurality of leg portions which are vibrating portions, and projecting these leg portions. A pair of plating bumps, each of which is formed by forming a plurality of plating bumps at each of the joints. And the total area of each of the plating bump groups is set to 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2 , respectively.

本発明によれば、前記接合部に、複数点のメッキバンプをそれぞれ形成して構成する一対のメッキバンプ群を形成する工程を有し、前記メッキバンプ群一つの総面積を、それぞれ4×10-3〜6×10-3mm2に設定するので、安定して外部(ベース)上に当該音叉型圧電振動片を前記一対のメッキバンプ群を介して電気機械的に接合することが可能となる。 According to the present invention, there is a step of forming a pair of plating bump groups each formed by forming a plurality of plating bumps at the joint, and the total area of the plating bump groups is 4 × 10 4 each. Since -3 to 6 × 10 -3 mm 2 is set, the tuning fork type piezoelectric vibrating piece can be stably electromechanically bonded to the outside (base) via the pair of plated bump groups. Become.

具体的に、本発明によれば、当該音叉型圧電振動片の外部(ベース)への搭載位置が所望位置からずれた場合であっても、当該音叉型圧電振動片に前記一対のメッキバンプ群を形成した状態で当該音叉型圧電振動片をベースに接合するので、常に当該音叉型圧電振動片の所望の位置(引出電極)に前記メッキバンプを形成して安定したベースへの当該音叉型圧電振動片の搭載を行うことが可能となる。   Specifically, according to the present invention, even if the mounting position of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece on the outside (base) is deviated from a desired position, the pair of plated bump groups on the tuning fork type piezoelectric vibrating piece. Since the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is bonded to the base in a state in which the tuning fork is formed, the plating fork type piezoelectric piece to the stable base is always formed by forming the plated bump at a desired position (extraction electrode) of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece. It becomes possible to mount the resonator element.

また、前記一対のメッキバンプ群それぞれの総面積を4×10-3〜6×10-3mm2としているので、ベースへの前記一対のメッキバンプ群の転写率が良く、ベースへの当該音叉型圧電振動片の接合を安定して行うことが可能である。具体的に、前記一対のメッキバンプ群は、それぞれ複数点のメッキバンプが形成されて構成され、前記一対のメッキバンプ群それぞれの総面積を4×10-3〜6×10-3mm2としているので、一点一点のメッキバンプのベースへの転写率を高めて、これら一点一点のメッキバンプが複数点からなる前記メッキバンプ群のベースへの転写率を高めることが可能となる。 Further, since the total area of each of the pair of plating bump groups is 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2 , the transfer rate of the pair of plating bump groups to the base is good, and the tuning fork to the base is concerned. It is possible to stably perform the bonding of the type piezoelectric vibrating piece. Specifically, each of the pair of plating bump groups is formed by forming a plurality of plating bumps, and the total area of each of the pair of plating bump groups is 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2. Therefore, it is possible to increase the transfer rate to the base of each one-point plated bump, and to increase the transfer rate to the base of the plating bump group in which each one-point plated bump consists of a plurality of points. .

前記複数点のメッキバンプを前記接合部に形成する、すなわち、多点メッキバンプを前記接合部に形成するので、例えば、1つのメッキバンプが剥がれる等の不具合が生じた場合であっても、他のメッキバンプで安定した接合強度を保持することが可能となる。   Since the multi-point plated bumps are formed at the joint, that is, the multi-point plated bump is formed at the joint, for example, even when a problem such as peeling of one plated bump occurs, It is possible to maintain a stable bonding strength with the plated bump.

前記方法において、前記複数点のメッキバンプを前記接合部に形成した後に、前記複数点のメッキバンプにアニール処理を施してもよい。   In the method, after the plurality of plated bumps are formed at the joint, the multiple plated bumps may be annealed.

この場合、前記複数点のメッキバンプを前記接合部に形成した後に、前記複数点のメッキバンプにアニール処理を施すので、前記複数点のメッキバンプがなまされて、前記接合部への前記複数点のメッキバンプを形成する際に発生する応力(残留応力)が無くなる。   In this case, since the plurality of plating bumps are annealed after the plurality of plating bumps are formed on the joint, the plurality of plating bumps are annealed, and the plurality of plating bumps are applied to the joint. The stress (residual stress) generated when forming the point plating bump is eliminated.

ところで、従来技術では、スタッドバンプを用いて音叉型圧電振動片をFCB法によりベースに超音波接合しており、FCB法による超音波接合では、ベースへ音叉型圧電振動片を搭載する際に音叉型圧電振動片が所定位置からずれてベースに配される場合がある。この場合、スタッドバンプに対する音叉型圧電振動片の位置ずれが生じるので、ベースへの音叉型圧電振動片の搭載不良が生じたり、ずれた状態でベースに音叉型圧電振動片が接合されるので、安定した接合強度を得ることが難しい。   By the way, in the prior art, the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is ultrasonically bonded to the base by the FCB method using the stud bump. In the ultrasonic bonding by the FCB method, the tuning fork is mounted when the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is mounted on the base. In some cases, the piezoelectric resonator element is displaced from the predetermined position on the base. In this case, since the position of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece with respect to the stud bump occurs, mounting failure of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece to the base occurs, or the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is joined to the base in a shifted state. It is difficult to obtain a stable bonding strength.

これに対して、本発明によれば、前記ベースへ前記音叉型圧電振動片を搭載する際に前記音叉型圧電振動片が所定位置からずれて前記ベースに配される場合であっても、前記音叉型圧電振動片に前記一対のメッキバンプ群を形成した状態で前記音叉型圧電振動片を前記ベースに接合するので、常に音叉型圧電振動片の所望の位置(引出電極)にメッキバンプを形成して安定した接合強度により前記ベースに前記音叉型圧電振動片を接合することが可能となる。   On the other hand, according to the present invention, when the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is mounted on the base, even if the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is arranged on the base out of a predetermined position, Since the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is bonded to the base with the pair of plated bump groups formed on the tuning fork type piezoelectric vibrating piece, a plating bump is always formed at a desired position (extraction electrode) of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece. Thus, the tuning fork type piezoelectric vibrating piece can be bonded to the base with a stable bonding strength.

また、スタッドバンプを用いた場合、ベースにスタッドバンプを吐出形成する必要があり、スタッドバンプをベースに吐出形成する際に位置ずれが生じる可能性がある。特に、本体筐体の小型化が進むにつれて位置ずれの頻度が大きくなり、ずれ量も多くなる。   In addition, when stud bumps are used, stud bumps need to be ejected and formed on the base, and displacement may occur when ejecting and forming stud bumps on the base. In particular, as the size of the main body casing is reduced, the frequency of positional deviation increases and the amount of deviation increases.

これに対して、本発明によれば、前記音叉型圧電振動片に前記一対のメッキバンプ群を形成した状態で音叉型圧電振動片をベースに接合するので、位置ずれが生じることを防止することが可能である。   On the other hand, according to the present invention, since the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is joined to the base in a state where the pair of plated bump groups are formed on the tuning fork type piezoelectric vibrating piece, it is possible to prevent the occurrence of displacement. Is possible.

さらに、スタッドバンプを用いた場合、スタッドバンプを介したベースへの音叉型圧電振動片の接合の際に、スタッドバンプを潰すことになるが、この潰す際のモーメントにより音叉型圧電振動片が撓むことがある。すなわち、音叉型圧電振動片にスタッドバンプを潰す際の応力がかかり、そしてこの応力が残留応力として残り、場合によっては音叉型圧電振動片にクラックを発生させる可能性もある。   In addition, when stud bumps are used, the stud bumps are crushed when the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is joined to the base via the stud bumps. Sometimes That is, a stress is applied to the tuning fork type piezoelectric vibrating piece when the stud bump is crushed, and this stress remains as a residual stress. In some cases, the tuning fork type piezoelectric vibrating piece may crack.

これに対して、本発明によれば、前記音叉型圧電振動片に前記一対のメッキバンプ群を形成した状態で前記音叉型圧電振動片を前記ベースに接合するので、前記ベースへの前記音叉型圧電振動片の接合時に前記一対のメッキバンプ群に応力が発生し難い。   On the other hand, according to the present invention, since the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is joined to the base in a state where the pair of plated bump groups are formed on the tuning fork type piezoelectric vibrating piece, the tuning fork type to the base is provided. Stress is unlikely to occur in the pair of plated bump groups when the piezoelectric vibrating piece is joined.

また、スタッドバンプを用いた場合、スタッドバンプを介したベースへの音叉型圧電振動片の接合の際に、スタッドバンプを潰すことになり、音叉型圧電振動片へのスタッドバンプの接合領域が広がる。そのため、潰れたスタッドバンプにより一対の励振電極などの電極間ショートが生じる。   In addition, when the stud bump is used, the stud bump is crushed when the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is joined to the base via the stud bump, and the joining area of the stud bump to the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is widened. . Therefore, a short between the electrodes such as a pair of excitation electrodes occurs due to the crushed stud bump.

これに対して、本発明によれば、前記音叉型圧電振動片へ前記一対のメッキバンプ群を形成するので、スタップバンプのように前記ベースへの前記音叉型圧電振動片の接合の際に前記一対のメッキバンプ群を潰すことはなく、このことが原因となって一対の励振電極などの電極間ショートが生じることはない。   On the other hand, according to the present invention, since the pair of plated bumps is formed on the tuning fork type piezoelectric vibrating piece, the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is joined to the base like a stub bump. The pair of plating bumps is not crushed, and this does not cause a short circuit between the pair of excitation electrodes.

本発明にかかる音叉型圧電振動片、音叉型圧電振動デバイス、及び音叉型圧電振動片の製造方法によれば、安定してベース上に音叉型圧電振動片をバンプを介して電気機械的に接合できる。   According to the tuning fork type piezoelectric vibrating piece, the tuning fork type piezoelectric vibrating piece, and the tuning fork type piezoelectric vibrating piece manufacturing method according to the present invention, the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is stably electromechanically bonded to the base via the bump. it can.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、以下に示す実施例では、音叉型圧電振動デバイスとして音叉型水晶振動子に本発明を適用した場合を示す。しかしながら、これは好適な例であり、本発明は、音叉型水晶振動子に限定されるものではなく、圧電材料を用いた音叉型圧電振動片を搭載した音叉型圧電振動デバイスであればよい。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiment, a case where the present invention is applied to a tuning fork type crystal resonator as a tuning fork type piezoelectric vibration device is shown. However, this is a preferred example, and the present invention is not limited to a tuning fork type crystal resonator, and may be a tuning fork type piezoelectric vibration device equipped with a tuning fork type piezoelectric vibrating piece using a piezoelectric material.

本実施例にかかる音叉型水晶振動子1(以下、水晶振動子という)では、図1に示すように、フォトリソグラフィ法で成形された音叉型水晶振動片2(本発明でいう圧電振動片であり、以下、水晶振動片という)と、この水晶振動片2を搭載する(保持する)ベース11と、ベース11に搭載した(保持した)水晶振動片2を気密封止するための蓋(図示省略)と、が設けられている。   In the tuning fork type crystal resonator 1 (hereinafter referred to as a crystal resonator) according to the present embodiment, as shown in FIG. 1, a tuning fork type crystal resonator element 2 (a piezoelectric resonator element referred to in the present invention) formed by photolithography is used. Yes, hereinafter referred to as a quartz crystal resonator element), a base 11 on which the crystal resonator element 2 is mounted (held), and a lid for hermetically sealing the crystal resonator element 2 mounted on (maintained on) the base 11 (illustrated). Are omitted).

この水晶振動子1では、ベース11と蓋とが接合されて本体筐体12が構成されている。これらベース11と蓋とが接合材(図示省略)を介して接合され、この接合により本体筐体12の内部空間13が形成されている。そして、この本体筐体12の内部空間13内のベース11上に、金からなる一対のメッキバンプ群3(下記参照)を介して水晶振動片2が保持接合されているとともに、本体筐体12の内部空間13が気密封止されている。この際、ベース11に水晶振動片2が一対のメッキバンプ群3を用いてFCB法により超音波接合されるとともに電気機械的に接合されている。   In this crystal unit 1, a main body housing 12 is configured by joining a base 11 and a lid. The base 11 and the lid are joined via a joining material (not shown), and the interior space 13 of the main body housing 12 is formed by this joining. The crystal vibrating piece 2 is held and joined to the base 11 in the internal space 13 of the main body casing 12 via a pair of plated bump groups 3 (see below) made of gold. The internal space 13 is hermetically sealed. At this time, the crystal vibrating piece 2 is ultrasonically bonded to the base 11 by the FCB method using a pair of plated bump groups 3 and is electromechanically bonded.

次に、この水晶振動子1の各構成について説明する。   Next, each configuration of the crystal resonator 1 will be described.

ベース11は、図1に示すように、底部14と、この底部14から上方に延出した堤部15とから構成される箱状体に形成されている。このベース11は、セラミック材料からなる平面視矩形状の一枚板上に、セラミック材料の直方体が積層して凹状に一体的に焼成されている。また、堤部15は、図1に示す底部14の平面視外周に沿って成形されている。この堤部15の上面には、蓋と接合するためのメタライズ層18が設けられている。なお、メタライズ層18は、例えば、タングステン層、あるいはモリブデン層上にニッケル,金の順でメッキした構成からなる。また、セラミック材料が積層して凹状に一体的に焼成されたベース11の内部空間13における側壁には、図1に示すように、段部16が形成され、この段部16上に一対の電極パッド17が形成され、これら電極パッド17上に水晶振動片2が片保持して設けられる。これら電極パッド17は、それぞれに対応した引回電極(図示省略)を介して、ベース11の裏面に形成される端子電極(図示省略)に電気的に接続され、これら端子電極が外部部品や外部機器の外部電極に接続される。なお、これら電極パッド17、引回電極、端子電極は、タングステン、モリブデン等のメタライズ材料を印刷した後にベース11と一体的に焼成して形成される。そして、これら電極パッド17、引回電極、端子電極のうち一部のものについては、メタライズ上部にニッケルメッキが形成され、その上部に金メッキが形成されて構成される。   As shown in FIG. 1, the base 11 is formed in a box-like body composed of a bottom portion 14 and a bank portion 15 extending upward from the bottom portion 14. The base 11 is formed by integrally firing a rectangular parallelepiped of a ceramic material on a single rectangular plate in a plan view made of a ceramic material. Moreover, the bank part 15 is shape | molded along the planar view outer periphery of the bottom part 14 shown in FIG. On the upper surface of the bank portion 15, a metallized layer 18 for bonding to the lid is provided. The metallized layer 18 has a configuration in which, for example, nickel and gold are plated in this order on a tungsten layer or a molybdenum layer. Further, as shown in FIG. 1, a step portion 16 is formed on the side wall in the internal space 13 of the base 11 which is laminated and fired integrally in a concave shape, and a pair of electrodes is formed on the step portion 16. Pads 17 are formed, and the crystal vibrating piece 2 is held and provided on the electrode pads 17. These electrode pads 17 are electrically connected to terminal electrodes (not shown) formed on the back surface of the base 11 through corresponding routing electrodes (not shown), and these terminal electrodes are connected to external parts or external parts. Connected to the external electrode of the device. The electrode pad 17, the lead electrode, and the terminal electrode are formed by printing integrally with the base 11 after printing a metallized material such as tungsten or molybdenum. A part of the electrode pad 17, the routing electrode, and the terminal electrode is formed by forming nickel plating on the metallized upper portion and forming gold plating on the upper portion.

蓋は、金属材料からなり、平面視矩形状の一枚板に成形されている。この蓋の下面には、接合材の一部が形成されている。この蓋は、シーム溶接やビーム溶接、加熱溶融接合等の手法により接合材を介してベース11に接合されて、蓋とベース11とによる水晶振動子1の本体筐体12が構成される。   The lid is made of a metal material and formed into a single plate having a rectangular shape in plan view. A part of the bonding material is formed on the lower surface of the lid. The lid is joined to the base 11 via a joining material by a technique such as seam welding, beam welding, heat fusion joining, and the like, and the main body housing 12 of the crystal unit 1 is configured by the lid and the base 11.

次に、内部空間13に配された水晶振動片2の各構成について説明する。   Next, each configuration of the crystal vibrating piece 2 disposed in the internal space 13 will be described.

水晶振動片2は、異方性材料の水晶片である水晶素板(図示省略)から、ウエットエッチング形成された水晶Z板である。そのため、この水晶振動片2は量産に好適である。   The quartz crystal vibrating piece 2 is a quartz crystal Z plate formed by wet etching from a quartz base plate (not shown) that is a quartz crystal piece of anisotropic material. Therefore, this crystal vibrating piece 2 is suitable for mass production.

この水晶振動片2は、振動部である2本の第1脚部21および第2脚部22と、基部23とから構成された外形からなり、2本の第1脚部21および第2脚部22が基部23の一端面28から突出して設けられている。   The crystal vibrating piece 2 has an outer shape composed of two first leg portions 21 and second leg portions 22 that are vibration portions, and a base portion 23, and includes two first leg portions 21 and second leg portions. The part 22 is provided so as to protrude from the one end face 28 of the base part 23.

これら第1脚部21および第2脚部22の先端部211,221は、第1脚部21および第2脚部22の他の部位と比べて突出方向に対して直交する方向に幅広に成形されている。このように先端部211,221を幅広に成形することで、先端部211,221(先端領域)を有効に利用することができ、水晶振動片2の小型化に有用であり、低周波化にも有用である。   The tip portions 211 and 221 of the first leg portion 21 and the second leg portion 22 are formed wider in the direction perpendicular to the protruding direction than the other portions of the first leg portion 21 and the second leg portion 22. Has been. By forming the tip portions 211 and 221 wide in this way, the tip portions 211 and 221 (tip regions) can be used effectively, which is useful for downsizing the crystal vibrating piece 2 and reducing the frequency. Is also useful.

また、2つの第1脚部21および第2脚部22の両主面24(表側主面,裏側主面)には、水晶振動片2の小型化により劣化する直列共振抵抗値(本実施例ではCI値、以下同様)を改善させるために、溝部25がそれぞれ形成されている。また、水晶振動片2の外形のうち側面26は両主面24に対して傾斜して成形されている。これは、水晶振動片2を湿式でエッチング成形する際に基板材料の結晶方向(X,Y方向)へのエッチングスピードが異なることに起因している。   In addition, the two main surfaces 24 (the front-side main surface and the back-side main surface) of the two first leg portions 21 and the second leg portion 22 have series resonance resistance values that deteriorate due to the miniaturization of the crystal resonator element 2 (this embodiment). Then, in order to improve the CI value (hereinafter the same), the groove portions 25 are respectively formed. Further, the side surface 26 of the outer shape of the quartz crystal vibrating piece 2 is formed so as to be inclined with respect to both the main surfaces 24. This is because the etching speed in the crystal direction (X, Y direction) of the substrate material is different when the quartz crystal resonator element 2 is formed by wet etching.

この水晶振動片2には、異電位で構成された2つの第1励振電極41および第2励振電極42と、これら第1励振電極41および第2励振電極42を電極パッド17に電気的に接続させるためにこれら第1励振電極41および第2励振電極42から引き出された引出電極43とが設けられている。なお、本実施例でいう引出電極43は、2つのこれら第1励振電極41および第2励振電極42から引き出された電極パターンのことをいう。   In the quartz crystal resonator element 2, two first excitation electrodes 41 and second excitation electrodes 42 configured with different potentials, and the first excitation electrode 41 and the second excitation electrode 42 are electrically connected to the electrode pad 17. For this purpose, an extraction electrode 43 extracted from the first excitation electrode 41 and the second excitation electrode 42 is provided. The extraction electrode 43 in this embodiment refers to an electrode pattern extracted from the two first excitation electrodes 41 and the second excitation electrodes 42.

また、2つの第1励振電極41および第2励振電極42の一部は、溝部25の内部に形成されている。このため、水晶振動片2を小型化しても第1脚部21および第2脚部22の振動損失が抑制され、CI値を低く抑えることができる。   Further, part of the two first excitation electrodes 41 and the second excitation electrode 42 is formed inside the groove 25. For this reason, even if the crystal vibrating piece 2 is downsized, vibration loss of the first leg portion 21 and the second leg portion 22 is suppressed, and the CI value can be kept low.

第1励振電極41は、第1脚部21の両主面24(表側主面,裏側主面)と第2脚部22の両側面26に形成されている。同様に、第2励振電極42は、第2脚部22の両主面24(表側主面,裏側主面)と第1脚部21の両側面26に形成されている。   The first excitation electrode 41 is formed on both main surfaces 24 (the front-side main surface and the back-side main surface) of the first leg portion 21 and on both side surfaces 26 of the second leg portion 22. Similarly, the second excitation electrode 42 is formed on both main surfaces 24 (front side main surface and back side main surface) of the second leg portion 22 and both side surfaces 26 of the first leg portion 21.

上記した水晶振動片2の第1励振電極41および第2励振電極42や引出電極43は、金属蒸着によって各第1脚部21および第2脚部22上にクロム層が形成され、このクロム層上に金属が形成されて構成される薄膜である。この薄膜は、真空蒸着法等の手法により基板全面に形成された後、フォトリソグラフィ法によりメタルエッチングして所望の形状に形成される。なお、第1励振電極41,第2励振電極42,および引出電極43は、クロム,金の順に形成されているが、例えば、クロム,銀の順や,クロム,金,クロムの順や,クロム,銀,クロムの順等であってもよい。   The first excitation electrode 41, the second excitation electrode 42, and the extraction electrode 43 of the crystal vibrating piece 2 described above are formed with a chromium layer on the first leg portion 21 and the second leg portion 22 by metal vapor deposition. It is a thin film formed by forming a metal thereon. The thin film is formed on the entire surface of the substrate by a technique such as vacuum deposition, and then formed into a desired shape by metal etching by photolithography. The first excitation electrode 41, the second excitation electrode 42, and the extraction electrode 43 are formed in the order of chromium and gold. For example, the order of chromium and silver, the order of chromium, gold, and chromium; , Silver, chromium, etc.

また、各第1脚部21および第2脚部22の先端には、周波数調整用錘としての金属膜44がそれぞれ形成されている。具体的に、金属膜44と第1励振電極41と引出電極43とが一体形成され、金属膜44と第2励振電極42と引出電極43とが一体形成されている。   Further, a metal film 44 as a frequency adjusting weight is formed at the tip of each first leg portion 21 and second leg portion 22. Specifically, the metal film 44, the first excitation electrode 41, and the extraction electrode 43 are integrally formed, and the metal film 44, the second excitation electrode 42, and the extraction electrode 43 are integrally formed.

この水晶振動片2の基部23は、図1に示すように、振動部(第1脚部21,第2脚部22)より幅広に形成されている。   As shown in FIG. 1, the base portion 23 of the quartz crystal vibrating piece 2 is formed wider than the vibrating portions (the first leg portion 21 and the second leg portion 22).

そして、基部23には、引出電極43を外部電極(本発明でいう外部であり、本実施例ではベース11の電極パッド17)と電気機械的に接合するための接合部27が設けられている。具体的に、接合部27は、2本の第1脚部21および第2脚部22が突出した基部23の一端面28と対向する他端面29から突出形成されている。   The base portion 23 is provided with a joint portion 27 for electromechanically joining the extraction electrode 43 to an external electrode (external in the present invention, which is the electrode pad 17 of the base 11 in this embodiment). . Specifically, the joint portion 27 is formed so as to protrude from the other end surface 29 facing the one end surface 28 of the base portion 23 from which the two first leg portions 21 and the second leg portion 22 protrude.

この接合部27は、基部23の他端面29から突出して、基部23の他端面29から両側面26に沿ってT字状に2股に分かれて延出して成形され、2つの先端部271,272が基部23の一端面28から突出形成された2本の第1脚部21および第2脚部22と同一方向に向いている。すなわち、接合部27の2つの先端部271,272は、図1に示すように、基部23の幅方向の両側面26に間隙を有して隣接して成形されている。そして、第1脚部21と第2脚部22に形成された第1励振電極41と第2励振電極42から引き出された引出電極43は、接合部27の2つの先端部271,272まで形成されている。   The joint portion 27 protrudes from the other end surface 29 of the base portion 23, and is divided into two T-shapes extending from the other end surface 29 of the base portion 23 along the both side surfaces 26. 272 is directed in the same direction as the two first leg portions 21 and the second leg portions 22 that are formed so as to protrude from the one end face 28 of the base portion 23. That is, the two front end portions 271 and 272 of the joint portion 27 are formed adjacent to each other with a gap on both side surfaces 26 in the width direction of the base portion 23 as shown in FIG. Then, the first excitation electrode 41 formed on the first leg portion 21 and the second leg portion 22 and the extraction electrode 43 extracted from the second excitation electrode 42 are formed up to the two tip portions 271 and 272 of the joint portion 27. Has been.

また、この接合部27の2つの先端部271,272の片主面24(図1では裏側主面)には、それぞれ一対のメッキバンプ群3が形成されている。一対のメッキバンプ群3は、それぞれ複数点(本実施例では9点)の平面視円形のメッキバンプ31が3行3列のマトリックス状に等間隔に形成されて構成される。これら一対のメッキバンプ群3一つの総面積は、それぞれ4×10-3〜6×10-3mm2の範囲内で設定され、本実施例では、4.78×10-3mm2になっている。なお、本実施例で用いる一対のメッキバンプ群3は、金からなり、水晶振動片2の接合部27の2つの先端部271,272に一対のメッキバンプ群3を電解メッキ法等の手法によりメッキ形成し、メッキ形成した一対のメッキバンプ群3をフォトリソグラフィ法によりメタルエッチングして所望の形状(本実施例では平面視円形)に形成してアニール処理を施す。具体的に、一対のメッキバンプ群3について、それぞれ9点のメッキバンプ31を接合部27の先端部271,272に形成して(一対のメッキバンプ群3を形成する工程)、その後9点のメッキバンプ31にアニール処理を施す。 Further, a pair of plating bump groups 3 is formed on one main surface 24 (the back main surface in FIG. 1) of the two tip portions 271 and 272 of the joint portion 27, respectively. Each of the pair of plating bump groups 3 includes a plurality of (in this embodiment, nine points) circular plating bumps 31 having a circular shape in plan view and formed in a matrix of 3 rows and 3 columns at equal intervals. The total area of each of the pair of plating bump groups 3 is set within a range of 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2 , and in this embodiment, it is 4.78 × 10 −3 mm 2 . ing. The pair of plating bump groups 3 used in the present embodiment is made of gold, and the pair of plating bump groups 3 is applied to the two tip portions 271 and 272 of the joint portion 27 of the crystal vibrating piece 2 by a technique such as electrolytic plating. After plating, a pair of plated bumps 3 is formed by metal etching by photolithography to form a desired shape (circular in plan view in this embodiment) and annealed. Specifically, for the pair of plating bump groups 3, nine plating bumps 31 are formed on the tip portions 271 and 272 of the joint portion 27 (step of forming the pair of plating bump groups 3), and then nine points are formed. The plated bump 31 is annealed.

上記した構成からなる水晶振動片2の引出電極43と、ベース11の電極パッド17とが、一対のメッキバンプ群3を介してFCB法により超音波接合されて、これら引出電極43と電極パッド17とが電気機械的に接合され、この接合により水晶振動片2がベース11に搭載される。この際、一対のメッキバンプ群3では、それぞれ9点のメッキバンプ31の少なくとも2点が結合されていることが好適である(図示省略)。そして、水晶振動片2が搭載されたベース11に、蓋が接合材を介して接合されて水晶振動片2が内部空間13に気密封止される。   The extraction electrode 43 of the quartz crystal resonator element 2 having the above-described configuration and the electrode pad 17 of the base 11 are ultrasonically bonded by the FCB method through the pair of plating bump groups 3, and the extraction electrode 43 and the electrode pad 17 are connected. And the crystal vibrating piece 2 are mounted on the base 11 by this joining. At this time, in the pair of plating bump groups 3, it is preferable that at least two points of nine plating bumps 31 are coupled (not shown). The lid is bonded to the base 11 on which the crystal vibrating piece 2 is mounted via a bonding material, and the crystal vibrating piece 2 is hermetically sealed in the internal space 13.

なお、水晶振動片2の引出電極43と、ベース11の電極パッド17とを、一対のメッキバンプ群3を介してFCB法により超音波接合しているが、超音波接合の際の振動させる方向に、水晶振動片2に形成された一対のメッキバンプ群3(具体的に本実施例では9点のメッキバンプ31)の面積が広がる。すなわち、一対のメッキバンプ群3一つの総面積が、水晶振動片2に形成した際の4.78×10-3mm2から大きくなる(本実施例では約10%総面積が拡大する。)。 In addition, although the extraction electrode 43 of the crystal vibrating piece 2 and the electrode pad 17 of the base 11 are ultrasonically bonded by the FCB method through the pair of plating bump groups 3, the direction of vibration during ultrasonic bonding is used. In addition, the area of the pair of plating bump groups 3 (specifically, nine plating bumps 31 in this embodiment) formed on the crystal vibrating piece 2 is increased. That is, the total area of one pair of plating bump groups 3 is increased from 4.78 × 10 −3 mm 2 when formed on the crystal vibrating piece 2 (in this embodiment, the total area is increased by about 10%). .

ところで、本実施例にかかる一対のメッキバンプ群3では、図1に示すように、接合部27の先端部271,272それぞれの片主面24一面に9点の平面視円形のメッキバンプ31が3行3列のマトリックス状に等間隔に形成されているが、これに限定されるものではなく、1つのメッキバンプ群として、複数のメッキバンプが形成され、その総面積が4×10-3〜6×10-3mm2の範囲内とされたものであればよい。具体的に、本実施例の他の例として、図2〜6に示す一対のメッキバンプ群3であってもよい。 By the way, in the pair of plating bump groups 3 according to the present embodiment, as shown in FIG. 1, nine plating bumps 31 having a circular shape in plan view are formed on one main surface 24 of each of the tip portions 271 and 272 of the joint portion 27. Although formed in a matrix of 3 rows and 3 columns at equal intervals, the present invention is not limited to this, and a plurality of plating bumps are formed as one plating bump group, and the total area is 4 × 10 −3. Any material may be used as long as it falls within a range of ˜6 × 10 −3 mm 2 . Specifically, as another example of the present embodiment, a pair of plating bump groups 3 shown in FIGS.

図2,3に示す一対のメッキバンプ群3の形態(第2例および第3例)では、3点のメッキバンプ31が接合部27の先端部271,272それぞれの片主面24一面に斜め方向に並べて配されている。なお、図2,3に示す一対のメッキバンプ群3の総面積は、それぞれ4.56μm2となっている。 In the form of the pair of plating bump groups 3 shown in FIGS. 2 and 3 (second example and third example), the three plating bumps 31 are oblique to the one main surface 24 of each of the tip portions 271 and 272 of the joint portion 27. Arranged side by side. The total area of the pair of plating bump groups 3 shown in FIGS. 2 and 3 is 4.56 μm 2 .

図4に示す一対のメッキバンプ群3の形態(第4例)では、5点のメッキバンプ31が接合部27の先端部271,272それぞれの片主面24一面に配されている。なお、図4に示す一対のメッキバンプ群3の総面積は、それぞれ5.09μm2となっている。 In the form of the pair of plated bump groups 3 shown in FIG. 4 (fourth example), five plated bumps 31 are arranged on one side main surface 24 of each of the tip portions 271 and 272 of the joint portion 27. The total area of the pair of plating bump groups 3 shown in FIG. 4 is 5.09 μm 2 .

図5に示す形態(第5例)では、2点のメッキバンプ31が接合部27の先端部271,272それぞれの片主面24一面に斜め方向に並べて配されている。なお、図5に示す一対のメッキバンプ群3の総面積は、それぞれ4.58μm2となっている。 In the form shown in FIG. 5 (fifth example), two plating bumps 31 are arranged in an oblique direction on the entire surface of one main surface 24 of each of the tip portions 271 and 272 of the joint portion 27. Note that the total area of the pair of plating bump groups 3 shown in FIG. 5 is 4.58 μm 2 .

図6に示す一対のメッキバンプ群3の形態(第6例)では、4つのメッキバンプ31からなり、2点のメッキバンプ31を対として接合部27の先端部271,272それぞれの片主面24一面に斜め方向に交差するように並べて配されている。なお、図6に示す一対のメッキバンプ群3の総面積は、それぞれ5.21μm2となっている。 In the form of the pair of plated bump groups 3 (sixth example) shown in FIG. 6, each of the principal surfaces of the tip portions 271 and 272 of the joint portion 27 is composed of four plated bumps 31 with two plated bumps 31 as a pair. 24 are arranged side by side so as to intersect diagonally. The total area of the pair of plating bump groups 3 shown in FIG. 6 is 5.21 μm 2 .

上記した図1に示す本実施例と、図2〜6に示す第2〜6例について、CI値とDLD特性と強度を測定し、その結果を図7〜9に示す。なお、図7〜9に示すデータは、それぞれの特性に対して5回の測定を行ったデータである。また、比較例として、接合部27の先端部271,272の片主面24一面に、1つの平面視円形のメッキバンプ(面積が4.54μm2)を配した形態(比較例)を挙げる。 The CI value, the DLD characteristic, and the strength were measured for the above-described embodiment shown in FIG. 1 and the second to sixth examples shown in FIGS. 2 to 6, and the results are shown in FIGS. The data shown in FIGS. 7 to 9 is data obtained by performing measurement five times for each characteristic. Further, as a comparative example, a form (comparative example) in which one plated bump (area: 4.54 μm 2 ) in a plan view is arranged on one main surface 24 of the tip portions 271 and 272 of the joint portion 27 is shown.

まず、本実施例と第2〜6例と比較例とのCI値に関して、図7に示すように、比較例に対して本実施例と第2〜6例のCI値は減少していることがわかる。   First, regarding the CI values of the present example, the second to sixth examples, and the comparative example, as shown in FIG. 7, the CI values of the present example and the second to sixth examples are decreased with respect to the comparative example. I understand.

次に、本実施例と第2〜6例と比較例とのDLD特性に関して、図8に示すように、本実施例と第2〜6例と比較例とは概ね周波数変動量は同量であることがわかる。   Next, regarding the DLD characteristics of the present example, the second to sixth examples, and the comparative example, as shown in FIG. 8, the present example, the second to sixth examples, and the comparative example generally have the same amount of frequency variation. I know that there is.

次に、本実施例と第2〜6例と比較例との強度に関して、図9に示すように、本実施例と第2〜5例と比較例とは概ね強度は同じであることがわかる。   Next, regarding the strengths of the present example, the second to sixth examples, and the comparative example, as shown in FIG. 9, it is understood that the present example, the second to fifth examples, and the comparative example have substantially the same strength. .

本実施例にかかる水晶振動片2およびこの水晶振動片2を搭載した水晶振動子1によれば、安定してベース11上に水晶振動片2を一対のメッキバンプ群3を介して電気機械的に接合することができる。   According to the crystal vibrating piece 2 and the crystal resonator 1 on which the crystal vibrating piece 2 according to the present embodiment is mounted, the crystal vibrating piece 2 is stably placed on the base 11 via the pair of plating bump groups 3. Can be joined.

具体的に、本実施例によれば、水晶振動片2の外部(ベース11)への搭載位置が所望位置からずれた場合であっても、水晶振動片2に一対のメッキバンプ群3を形成した状態で、水晶振動片2をベース11に接合するので、常に水晶振動片2の所望の位置(引出電極43)に一対のメッキバンプ群3を形成して安定したベース11への水晶振動片2の搭載を行うことができる。   Specifically, according to the present embodiment, even when the mounting position of the crystal vibrating piece 2 on the outside (base 11) is deviated from the desired position, the pair of plated bump groups 3 is formed on the crystal vibrating piece 2. In this state, since the crystal vibrating piece 2 is bonded to the base 11, a pair of plated bump groups 3 are always formed at a desired position (extraction electrode 43) of the crystal vibrating piece 2 so that the crystal vibrating piece to the stable base 11 is obtained. 2 can be mounted.

また、一対のメッキバンプ群3それぞれの総面積を4×10-3〜6×10-3mm2としているので、ベース11への一対のメッキバンプ群3の転写率が良く、ベース11への水晶振動片2の接合を安定して行うことができる。 Further, since the total area of each of the pair of plating bump groups 3 is 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2 , the transfer rate of the pair of plating bump groups 3 to the base 11 is good, and the transfer to the base 11 is good. The crystal vibrating piece 2 can be stably joined.

なお、ここでいう転写率とは、ベース11に接合された水晶振動片2をベース11から引き剥がした際に、接合前に水晶振動片2に形成したメッキバンプ31がベース11側に残る(転写する)率のことをいう。   The transfer rate here means that when the crystal vibrating piece 2 bonded to the base 11 is peeled off from the base 11, the plating bumps 31 formed on the crystal vibrating piece 2 before bonding remain on the base 11 side ( It means the rate of transcription.

具体的に、一対のメッキバンプ群3は、それぞれ9点のメッキバンプ31が形成されて構成され、一対のメッキバンプ群3それぞれの総面積を4×10-3〜6×10-3mm2(本実施例では4.78×10-3mm2)としているので、例えば図10に示すように、一点一点のメッキバンプ31のベース11への転写率を高めて、これら一点一点のメッキバンプ31が9点からなるメッキバンプ群3のベース11への転写率を高めることができる。なお、図10では上記した第4例の水晶振動片2に関して、ベース11へのメッキバンプ31の転写率を示す。また、参考として、上記した比較例におけるベース11へのメッキバンプ31の転写率を図11に示す。なお、図10,11は、図1に示す丸で囲った部分に対応させた部分の拡大模式図であり、メッキバンプ31の転写率を示した水晶振動片2とベース11との概略模式図である。これら図10,11に示す黒塗りの部分が、ベース11から水晶振動片2を剥がした際にメッキバンプ11が付着している部分である。これら図10,11に示すように、比較例と比べて第4例のほうが、メッキバンプ群3(メッキバンプ31)のベース11への転写率が高いことが分かる。 Specifically, each of the pair of plating bump groups 3 is formed by forming nine plating bumps 31, and the total area of each of the pair of plating bump groups 3 is 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2. (In this embodiment, 4.78 × 10 −3 mm 2 ), for example, as shown in FIG. 10, the transfer rate of the plating bumps 31 to the base 11 is increased one by one. The transfer rate to the base 11 of the plating bump group 3 in which the number of the plating bumps 31 is nine can be increased. FIG. 10 shows the transfer rate of the plating bumps 31 to the base 11 with respect to the quartz crystal resonator element 2 of the fourth example. For reference, the transfer rate of the plating bumps 31 to the base 11 in the comparative example described above is shown in FIG. 10 and 11 are enlarged schematic views of a portion corresponding to the circled portion shown in FIG. 1, and a schematic schematic view of the crystal vibrating piece 2 and the base 11 showing the transfer rate of the plating bump 31. It is. These black portions shown in FIGS. 10 and 11 are portions where the plating bumps 11 are adhered when the crystal vibrating piece 2 is peeled off from the base 11. As shown in FIGS. 10 and 11, it can be seen that the transfer rate of the plating bump group 3 (plating bump 31) to the base 11 is higher in the fourth example than in the comparative example.

また、9点のメッキバンプ31を接合部27それぞれに形成する、すなわち、多点メッキバンプを接合部27に形成するので、例えば、1つのメッキバンプ31が剥がれる等の不具合が生じた場合であっても、他のメッキバンプ31で安定した接合強度を保持することができる。   In addition, since nine plating bumps 31 are formed in each joint 27, that is, a multipoint plating bump is formed in the joint 27, for example, when a defect such as peeling of one plating bump 31 occurs. However, stable bonding strength can be maintained by the other plated bumps 31.

また、本実施例にかかる水晶振動子1によれば、一対のメッキバンプ群3に関して9点のメッキバンプ31を水晶振動片2に形成し、水晶振動片2をベース11に接合した際に9点のメッキバンプ31の少なくとも2点が結合することで、水晶振動片2のベース11への接合強度を高めることができる。   Further, according to the crystal resonator 1 according to the present embodiment, nine plating bumps 31 with respect to the pair of plating bump groups 3 are formed on the crystal vibrating piece 2, and the crystal vibrating piece 2 is bonded to the base 11. By joining at least two points of the plated bump 31, the bonding strength of the crystal vibrating piece 2 to the base 11 can be increased.

また、本実施例にかかる水晶振動子1によれば、FCB法による超音波接合では、ベース11に水晶振動片2を押圧揺動してベース11に水晶振動片2を熱溶融接合するので、複数のメッキバンプ31を結合させるのに好適な接合手法である。   Further, according to the crystal resonator 1 according to the present embodiment, in the ultrasonic bonding by the FCB method, the crystal vibrating piece 2 is pressed and swung to the base 11 and the crystal vibrating piece 2 is heat-melt bonded to the base 11. This is a joining method suitable for joining a plurality of plating bumps 31.

また、本実施例にかかる水晶振動片2の製造方法によれば、9点のメッキバンプ31を接合部27の先端部271,272それぞれに形成した後に、9点のメッキバンプ31にアニール処理を施すので、9点のメッキバンプがなまされて、接合部27(先端部271,272)への9点のメッキバンプを形成する際に発生する応力(残留応力)が無くなる。   Further, according to the method of manufacturing the quartz crystal vibrating piece 2 according to the present embodiment, after the nine plating bumps 31 are formed on the tip portions 271 and 272 of the joint portion 27, the nine plating bumps 31 are annealed. As a result, the nine plating bumps are annealed, and the stress (residual stress) generated when the nine plating bumps are formed on the joint portion 27 (tip portions 271 and 272) is eliminated.

また、上記した本実施例にかかる一対のメッキバンプ群3は、フォトリソグラフィ法により形成するので、一対のメッキバンプ群3それぞれにおいてメッキバンプ31の大きさや形状や数量を任意に設定することができる。   In addition, since the pair of plating bump groups 3 according to the above-described embodiment is formed by photolithography, the size, shape, and quantity of the plating bumps 31 can be arbitrarily set in each of the pair of plating bump groups 3. .

ところで、従来技術では、スタッドバンプを用いて水晶振動片2をFCB法によりベースに超音波接合しており、FCB法による超音波接合では、ベースへ水晶振動片2を搭載する際に水晶振動片2が所定位置からずれてベースに配される場合がある。この場合、スタッドバンプに対する水晶振動片2の位置ずれが生じるので、ベースへの水晶振動片2の搭載不良が生じたり、ずれた状態でベースに水晶振動片2が接合されるので、安定した接合強度を得ることが難しい。   By the way, in the prior art, the crystal vibrating piece 2 is ultrasonically bonded to the base by the FCB method using the stud bump, and in the ultrasonic bonding by the FCB method, the crystal vibrating piece 2 is mounted when the crystal vibrating piece 2 is mounted on the base. 2 may be arranged on the base out of a predetermined position. In this case, since the crystal resonator element 2 is displaced with respect to the stud bump, the crystal resonator element 2 is not properly mounted on the base, or the crystal resonator element 2 is bonded to the base in a shifted state. It is difficult to obtain strength.

これに対して、本実施例によれば、ベース11へ水晶振動片2を搭載する際に水晶振動片2が所定位置からずれてベース11に配される場合であっても、水晶振動片2に一対のメッキバンプ群3を形成した状態で、水晶振動片2をベース11に接合するので、常に水晶振動片2の所望の位置(引出電極43)に一対のメッキバンプ群3を形成して安定した接合強度によりベース11に水晶振動片2を接合することができる。   On the other hand, according to the present embodiment, even when the quartz crystal vibrating piece 2 is disposed on the base 11 while being displaced from a predetermined position when the quartz crystal vibrating piece 2 is mounted on the base 11, the quartz crystal vibrating piece 2. Since the crystal vibrating piece 2 is bonded to the base 11 in a state where the pair of plating bump groups 3 is formed, the pair of plating bump groups 3 is always formed at a desired position (extraction electrode 43) of the crystal vibrating piece 2. The crystal vibrating piece 2 can be bonded to the base 11 with stable bonding strength.

また、スタッドバンプを用いた場合、ベースにスタッドバンプを吐出形成する必要があり、スタッドバンプをベースに吐出形成する際に位置ずれが生じる可能性がある。特に、本体筐体の小型化が進むにつれて位置ずれの頻度が大きくなり、ずれ量も多くなる。   In addition, when stud bumps are used, stud bumps need to be ejected and formed on the base, and displacement may occur when ejecting and forming stud bumps on the base. In particular, as the size of the main body casing is reduced, the frequency of positional deviation increases and the amount of deviation increases.

これに対して、本実施例によれば、水晶振動片2に一対のメッキバンプ群3を形成した状態で、水晶振動片2をベース11に接合するので、位置ずれが生じることを防止することができる。   On the other hand, according to the present embodiment, since the crystal vibrating piece 2 is bonded to the base 11 in a state where the pair of plated bump groups 3 is formed on the crystal vibrating piece 2, it is possible to prevent the positional deviation from occurring. Can do.

さらに、スタッドバンプを用いた場合、スタッドバンプを介したベースへの音叉型水晶振動片の接合の際に、スタッドバンプを潰すことになるが、この潰す際のモーメントにより音叉型水晶振動片が撓むことがある。すなわち、音叉型水晶振動片にスタッドバンプを潰す際の応力がかかり、そしてこの応力が残留応力として残り、場合によっては音叉型水晶振動片にクラックを発生させる可能性もある。   In addition, when stud bumps are used, the stud bumps are crushed when the tuning fork type quartz vibrating piece is joined to the base via the stud bumps. Sometimes That is, the tuning fork type crystal vibrating piece is subjected to stress when the stud bump is crushed, and this stress remains as a residual stress, and in some cases, the tuning fork type crystal vibrating piece may crack.

これに対して、本実施例によれば、水晶振動片2に一対のメッキバンプ群3を形成した状態で、水晶振動片2をベース11に接合するので、ベース11への水晶振動片2の接合時に一対のメッキバンプ群3に応力が発生し難い。   On the other hand, according to the present embodiment, since the crystal vibrating piece 2 is joined to the base 11 in a state where the pair of plated bumps 3 is formed on the crystal vibrating piece 2, the crystal vibrating piece 2 to the base 11 is bonded. Stress is not easily generated in the pair of plating bump groups 3 at the time of joining.

また、スタッドバンプを用いた場合、スタッドバンプを介したベースへの音叉型水晶振動片の接合の際に、スタッドバンプを潰すことになり、音叉型水晶振動片へのスタッドバンプの接合領域が広がる。そのため、潰れたスタッドバンプにより一対の励振電極などの電極間ショートが生じる。   Further, when the stud bump is used, the stud bump is crushed when the tuning fork type quartz vibrating piece is joined to the base via the stud bump, and the joining area of the stud bump to the tuning fork type quartz vibrating piece is widened. . Therefore, a short between the electrodes such as a pair of excitation electrodes occurs due to the crushed stud bump.

これに対して、本実施例によれば、水晶振動片2へ一対のメッキバンプ群3を形成するので、スタップバンプのようにベース11への水晶振動片2の接合の際に一対のメッキバンプ群3を潰すことはなく、このことが原因となって一対の第1励振電極41および第2励振電極42などの電極間ショートが生じることはない。   On the other hand, according to the present embodiment, since the pair of plated bump groups 3 is formed on the crystal vibrating piece 2, a pair of plated bumps is formed when the crystal vibrating piece 2 is joined to the base 11 like a stub bump. The group 3 is not crushed, and this does not cause a short circuit between the pair of the first excitation electrode 41 and the second excitation electrode 42.

なお、本実施例ではメッキバンプ31の形状は平面視円形となっているが、これは好適な例であり、これに限定されるものではなく、平面視長方形や平面視正方形や他の多角形であってもよい。   In the present embodiment, the plated bump 31 has a circular shape in plan view. However, this is a preferable example, and is not limited to this. The rectangular shape in plan view, the square shape in plan view, and other polygonal shapes are not limited thereto. It may be.

また、本実施例では、メッキバンプ31として金を用いているが、これに限定されるものではなく、他の種類の金属であってもよい。   In the present embodiment, gold is used for the plating bumps 31, but the present invention is not limited to this, and other types of metals may be used.

また、本実施例では、メッキバンプ31の形状は平面視円形となっているが、これに限定されるものではなく、例えば、図12に示すように、FCB法よって超音波接合する際の振動方向に長径を有する平面視楕円形であることが更に好適である。
この図12に示す例では、メッキバンプ31は長径を有している。そのため、例えば、水晶振動片1をベース11に搭載する際にFCB法を用いた場合、FCB法よって水晶振動片1をベース11に超音波接合する際の振動方向をメッキバンプ31の長径に対応させることで、メッキバンプ31の振動方向に対する接合領域の面積(接地面積)を増大させることができ、より接合性を向上させることができる。
In this embodiment, the plated bump 31 has a circular shape in plan view. However, the shape is not limited to this. For example, as shown in FIG. 12, vibration when ultrasonic bonding is performed by the FCB method. It is more preferable that it is an elliptical shape in plan view having a major axis in the direction.
In the example shown in FIG. 12, the plating bump 31 has a long diameter. Therefore, for example, when the FCB method is used when the crystal vibrating piece 1 is mounted on the base 11, the vibration direction when the crystal vibrating piece 1 is ultrasonically bonded to the base 11 by the FCB method corresponds to the long diameter of the plating bump 31. By doing so, the area (grounding area) of the bonding region with respect to the vibration direction of the plated bump 31 can be increased, and the bonding property can be further improved.

また、本実施例に示す接合部27の先端部271,272は、基部23の一端面28近傍まで突出形成しているが、これに限定されるものではなく、例えば、図13に示すように、第1脚部21および第2脚部22の先端部211,221近傍まで突出形成してもよい。   Moreover, although the front-end | tip parts 271 and 272 of the junction part 27 shown in a present Example protrude and are formed to the one end surface 28 vicinity of the base 23, it is not limited to this, For example, as shown in FIG. Alternatively, the first leg portion 21 and the second leg portion 22 may be formed so as to protrude to the vicinity of the tip portions 211 and 221.

また、本実施例でいう溝部25は、図1に示すような断面凹形状としているが、これに限定されるものではなく、貫通孔であってもよく、窪み部であってもよい。   Moreover, although the groove part 25 said by the present Example is made into cross-sectional concave shape as shown in FIG. 1, it is not limited to this, A through-hole may be sufficient and a hollow part may be sufficient.

また、本実施例では、第1脚部21および第2脚部22に溝部25を形成しているが、これは好適な例でありこれに限定されるものではなく、例えば、第1脚部21および第2脚部22に溝部が形成されていない水晶振動片1にも本発明を適用することができる。   Further, in the present embodiment, the groove 25 is formed in the first leg 21 and the second leg 22, but this is a preferred example and is not limited thereto. For example, the first leg The present invention can also be applied to the crystal vibrating piece 1 in which the groove portion is not formed in the 21 and the second leg portion 22.

なお、本発明は、その精神や主旨または主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形で実施することができる。そのため、上述の実施例はあらゆる点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には、なんら拘束されない。さらに、特許請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、全て本発明の範囲内のものである。   It should be noted that the present invention can be implemented in various other forms without departing from the spirit, gist, or main features. For this reason, the above-described embodiment is merely an example in all respects and should not be interpreted in a limited manner. The scope of the present invention is indicated by the claims, and is not restricted by the text of the specification. Further, all modifications and changes belonging to the equivalent scope of the claims are within the scope of the present invention.

本発明は、音叉型圧電振動片、音叉型圧電振動デバイス、および音叉型圧電振動片の製造方法に適用でき、特に音叉型水晶振動片及び音叉型水晶振動子に好適である。   The present invention can be applied to a tuning fork type piezoelectric vibrating piece, a tuning fork type piezoelectric vibrating device, and a method for manufacturing a tuning fork type piezoelectric vibrating piece, and is particularly suitable for a tuning fork type crystal vibrating piece and a tuning fork type crystal resonator.

図1は、本実施例にかかる水晶振動子の内部を公開した概略平面図である。FIG. 1 is a schematic plan view showing the inside of a crystal resonator according to the present embodiment. 図2は、本実施例の他の例(第2例)にかかる一対のメッキバンプ群を形成した接合部の概略平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view of a joint portion in which a pair of plated bump groups according to another example (second example) of the present embodiment is formed. 図3は、本実施例の他の例(第3例)にかかる一対のメッキバンプ群を形成した接合部の概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view of a joint portion in which a pair of plated bump groups according to another example (third example) of the present embodiment is formed. 図4は、本実施例の他の例(第4例)にかかる一対のメッキバンプ群を形成した接合部の概略平面図である。FIG. 4 is a schematic plan view of a joint portion in which a pair of plating bump groups according to another example (fourth example) of the present embodiment is formed. 図5は、本実施例の他の例(第5例)にかかる一対のメッキバンプ群を形成した接合部の概略平面図である。FIG. 5 is a schematic plan view of a joint portion in which a pair of plating bump groups according to another example (fifth example) of the present embodiment is formed. 図6は、本実施例の他の例(第6例)にかかる一対のメッキバンプ群を形成した接合部の概略平面図である。FIG. 6 is a schematic plan view of a joint portion in which a pair of plated bump groups according to another example (sixth example) of the present embodiment is formed. 図7は、本実施例と第2〜6例と比較例のCI値に関する測定データである。FIG. 7 shows measurement data relating to the CI values of the present example, the second to sixth examples, and the comparative example. 図8は、本実施例と第2〜6例と比較例のDLD特性に関する測定データである。FIG. 8 shows measurement data relating to the DLD characteristics of this example, the second to sixth examples, and the comparative example. 図9は、本実施例と第2〜6例と比較例の強度に関する測定データである。FIG. 9 shows measurement data relating to the strengths of this example, the second to sixth examples, and the comparative example. 図10は、第4例におけるメッキバンプの転写率を示した水晶振動片とベースとの概略模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram of the quartz crystal vibrating piece and the base showing the transfer rate of the plating bump in the fourth example. 図11は、比較例におけるメッキバンプの転写率を示した水晶振動片とベースとの概略模式図である。FIG. 11 is a schematic diagram of the crystal vibrating piece and the base showing the plating bump transfer rate in the comparative example. 図12は、本実施例の他の例にかかる一対のメッキバンプ群を形成した接合部の概略平面図である。FIG. 12 is a schematic plan view of a joint portion in which a pair of plated bump groups according to another example of the present embodiment is formed. 図13は、本実施例の他の例にかかる水晶振動片の概略平面図である。FIG. 13 is a schematic plan view of a quartz crystal resonator element according to another example of the present embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1 音叉型水晶振動子
11 ベース
2 音叉型水晶振動片
21 第1脚部
22 第2脚部
23 基部
24 主面
25 溝部
27 接合部
271,272 接合部の先端部
3 メッキバンプ群
31 メッキバンプ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Tuning fork type crystal oscillator 11 Base 2 Tuning fork type crystal vibrating piece 21 1st leg part 22 2nd leg part 23 Base 24 Main surface 25 Groove part 27 Joint part 271,272 Joint part tip part 3 Plating bump group 31 Plating bump

Claims (7)

音叉型圧電振動片において、
振動部である複数本の脚部と、これら脚部を突出して設けた基部とから構成され、
前記基部には外部と接合する接合部が設けられ、
前記接合部には、一対のメッキバンプ群が形成され、
前記一対のメッキバンプ群は、それぞれ複数点のメッキバンプが形成されて構成され、
前記メッキバンプ群一つの総面積は、4×10-3〜6×10-3mm2に設定されたことを特徴とする音叉型圧電振動片。
In tuning fork type piezoelectric vibrating piece,
It is composed of a plurality of legs that are vibration parts, and a base part that protrudes from these legs,
The base is provided with a joint for joining to the outside,
A pair of plating bump groups is formed in the joint portion,
Each of the pair of plating bump groups is formed by forming a plurality of plating bumps,
The tuning fork-type piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein a total area of the plating bump group is set to 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2 .
請求項1に記載の音叉型圧電振動片において、
前記メッキバンプの形状は、平面視楕円形であることを特徴とする音叉型圧電振動片。
The tuning fork type piezoelectric vibrating piece according to claim 1,
The tuning fork-type piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein the plated bump has an elliptical shape in plan view.
音叉型圧電振動デバイスにおいて、
請求項1または2に記載の音叉型圧電振動片と、前記音叉型圧電振動片を搭載するベースと、前記ベースに搭載した前記音叉型圧電振動片を気密封止するための蓋と、が設けられたことを特徴とする音叉型圧電振動デバイス。
In tuning fork type piezoelectric vibration device,
A tuning fork type piezoelectric vibrating piece according to claim 1, a base on which the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is mounted, and a lid for hermetically sealing the tuning fork type piezoelectric vibrating piece mounted on the base are provided. A tuning-fork type piezoelectric vibration device characterized by being made.
請求項3に記載の音叉型圧電振動デバイスにおいて、
前記メッキバンプ群では、前記複数点のメッキバンプの少なくとも2点が結合されたことを特徴とする音叉型圧電振動デバイス。
The tuning fork type piezoelectric vibration device according to claim 3,
The tuning fork-type piezoelectric vibration device according to claim 1, wherein at least two of the plurality of plating bumps are coupled in the plating bump group.
請求項3または4に記載の音叉型圧電振動デバイスにおいて、
前記ベースに前記音叉型圧電振動片が前記一対のメッキバンプ群を介してFCB法により超音波接合されたことを特徴とする音叉型圧電振動デバイス。
The tuning fork type piezoelectric vibration device according to claim 3 or 4,
A tuning fork type piezoelectric vibrating device, wherein the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is ultrasonically bonded to the base by the FCB method through the pair of plated bump groups.
音叉型圧電振動片の製造方法において、
音叉型圧電振動片は、振動部である複数本の脚部と、これら脚部を突出して設けた基部とから構成され、前記基部には外部と接合する接合部が設けられた音叉型圧電振動片であり、
前記接合部に、複数点のメッキバンプをそれぞれ形成して構成する一対のメッキバンプ群を形成する工程を有し、
前記メッキバンプ群一つの総面積を、それぞれ4×10-3〜6×10-3mm2に設定することを特徴とする音叉型圧電振動片の製造方法。
In the manufacturing method of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece,
The tuning fork type piezoelectric vibrating piece is composed of a plurality of leg portions which are vibration portions and a base portion provided by projecting these leg portions, and the base portion is provided with a joint portion for joining to the outside. Is a piece,
A step of forming a pair of plated bump groups each formed by forming a plurality of plated bumps at the joint,
A method for producing a tuning-fork type piezoelectric vibrating piece, wherein a total area of each of the plating bump groups is set to 4 × 10 −3 to 6 × 10 −3 mm 2 .
請求項6に記載の音叉型圧電振動片の製造方法において、
前記複数点のメッキバンプを前記接合部に形成した後に、前記複数点のメッキバンプにアニール処理を施すことを特徴とする音叉型圧電振動片の製造方法。
In the manufacturing method of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece according to claim 6,
A method for producing a tuning-fork type piezoelectric vibrating piece, comprising: annealing the plurality of plating bumps after forming the plurality of plating bumps at the joint.
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