JP2009288818A - 位相0領域及び位相180領域の周辺の境界領域を用いてポジ型(CF:clearfield)位相シフトマスク(不透明な開口を有する透明な位相シフトマスク)の向上を図る方法 - Google Patents
位相0領域及び位相180領域の周辺の境界領域を用いてポジ型(CF:clearfield)位相シフトマスク(不透明な開口を有する透明な位相シフトマスク)の向上を図る方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】複数のポリゴンを形成する位相ゼロ(0)パターンの端部に第1境界領域が付加され、位相180パターンの端部に第2境界領域が付加される技術。この技術は、配線の端部パターンの形成を改良し、生産性とパターニング工程ウィンドウを改善する。付加された境界領域は配線の端部の両側において光を平均化し、それによって、より意図したものに近い最終的なレジストパターンを得ることができる。
【選択図】図2
Description
図1は位相シフトマスク(PSM)及びフィールド又はトリムマスクの形成又は製造における典型的なステップを描いたフローチャート100である。位相マスク上における一組の予め形成された位相0領域又は位相180領域はクリティカル・ポリ部を特定するために役立つ。これら位相0領域又は位相180領域は手書きで、又は、現時点で利用可能なソフトウェアプログラムを使って、又は、かかる領域を形成するために最適化されたプログラムを作成することにより、生成することができる。
Claims (10)
- 位相シフトマスクを設計する方法であって:
位相シフトマスクにおける第1位相領域の縁部を特定するステップであって、前記第1位相領域はクリティカル・ポリ領域に隣接して位置するものであり、前記特定された縁部は前記第1位相領域の縁部のうち前記クリティカル・ポリ領域に近接していないものであるステップ;
前記特定された縁部を拡げて、前記第1位相領域の前記縁部に沿って細配線を形成するステップ;及び
前記第1位相領域の前記縁部に沿う前記細配線内に位相領域境界を形成するステップ;
を備える方法。 - 請求項1の方法において、更に:
位相シフトマスクにおける位相180領域の縁部を特定するステップであって、前記位相180領域はクリティカル・ポリ領域に隣接して位置するものであり、前記特定された縁部は前記位相180領域の縁部のうち前記クリティカル・ポリ領域に近接していないものであるステップ;
前記特定された縁部を拡げて、前記位相180領域の前記縁部に沿って細配線を形成するステップ;及び
前記細配線内部にクロムを形成し、前記位相180領域の前記縁部に沿ったクロム境界を形成するステップ;
を備える方法。 - 請求項1の方法において、更に:
位相領域に位相極性を割り当てるステップ;
割り当てられた位相領域の縁部を形成するステップ;
前記付加された縁部の周囲に境界を形成するステップ;
該形成された境界の外側に領域を割り当てて位相0領域とするステップ;
を備える方法。 - 請求項3の方法であって、
前記位相領域が0度又は180度の位相角を割り当てられている方法において、
トリムマスクを生成して位相0領域と位相180領域との間に存する不要パターンを削除するステップを更に備える方法。 - 位相シフトパターンを生成して、ゲートその他の準呼び寸法を要する層のパターニングを改良する方法であって:
クリティカル・ゲート領域を形成するステップ;
前記クリティカル・ゲート領域の両側部に位相領域を形成するステップ;
前記クリティカル・ゲート領域の両側部における前記位相領域に対して相対する位相極性を割り当てるステップ;
割り当てられた位相極性で位相領域を拡張するステップ;
位相移行が生じそうな領域であるブレーク領域を形成するステップ;
ポリゴンを生成して、他の縁部を形成し且つ形成したブレーク領域を排除するステップ;及び
位相0領域の外側に境界領域を形成し、位相シフト境界を形成するステップ;
を備える方法。 - 請求項5の方法であって、更に:
デザインルール違反を正すステップ;及び
光近接効果・工程補正を位相領域に適用して適切なパターン生成を可能とするステップ;
を備える方法。 - 請求項5の方法であって、トリムマスクを生成して、所望とするパターンの外側であって位相0領域と位相180領域との間に存する不要パターンを削除するステップを更に備える方法。
- 集積回路製造工程において用いられるマスクであって:
位相0領域の第1縁部及び位相180領域の第1縁部により規定されるクリティカル・ポリ部;
前記位相180領域の第2縁部の外側に位置する第1クロム境界領域であって、前記位相180領域の前記第2クリティカル・ポリ0領域の前記第1縁部とは異なるものであり、前記クロム境界領域は不透明な材料を含んでいる第1クロム境界領域;
前記位相0領域の第2縁部の周辺に位置する第2クロム境界領域であって、前記位相0領域の前記第2縁部は前記位相0領域の前記第1縁部とは異なるものである第2のクロム境界領域;
を備えるマスク。 - 請求項8のマスクであって、規定された領域の外側に0°の位相を有する領域を備えるマスク。
- 請求項8のマスクであって、前記第2境界領域は不透明な材料を含んでいるマスク。
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