JP2009283264A - 微小形状スイッチアレイ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】伸縮可能な支持体に密着した表面薄膜の微小領域での座屈変形に基づいて特性空間周波数を有する微細凹凸構造を備えた微小形状スイッチアレイであって、前記薄膜が微細加工パターンを有する2以上の固定化領域と該固定化領域間に挟まれた1以上の可変領域を有し、外部応力により離散的な複数の形状状態を取り得、その状態間のスイッチングが外部応力の変化で制御できることを特徴とする、微小形状スイッチアレイ。
【選択図】図4
Description
項1. 伸縮可能な支持体に密着した表面薄膜の微小領域での座屈変形に基づいて特性空間周波数を有する微細凹凸構造を備えた微小形状スイッチアレイであって、前記薄膜が微細加工パターンを有する2以上の固定化領域と該固定化領域間に挟まれた1以上の可変領域を有し、外部応力により離散的な複数の形状状態を取り得、その状態間のスイッチングが外部応力の変化で制御できることを特徴とする、微小形状スイッチアレイ。
項2. 前記微細加工パターンが、突起構造、溝構造、硬さの異なる領域のいずれかの周期的な配列構造であることを特徴とする、項1に記載の微小形状スイッチアレイ。
項3. 前記微細加工パターンの周期が200nm〜200μmであることを特徴とする項1又は
2に記載の微小形状スイッチアレイ。
項4. 前記記載の形状状態間のスイッチングのための外部応力が1軸圧縮であり、圧縮の主応力軸方向の回転によってスイッチングが起こることを特徴とする項1〜3のいずれかに記載の微小形状スイッチアレイ。
項5. 微細凹凸構造の特性空間周波数が200nm〜200μmであることを特徴とする項1〜
4のいずれかに記載の微小形状スイッチアレイ。
造の凹部、もしくは凸部、もしくはその中間の部位を固定化することにより、外場が変化しても凹凸構造が変化しない固定化領域(H)を設け、その固定化領域に挟まれた領域においてのみ、外場の変化に応じて凹凸構造が変化する可変領域(I)を形成する。ここで人工パターンの空間周期(微細加工パターンの周期)は自発的に発生する微小凹凸構造の空間周期(特性空間周波数)と同程度であるのが好ましい。
。このようにすることで、薄膜(C)の特性や支持体(A)との密着性を向上させることができる、
薄膜(C)の厚みとしては、1〜50000nm程度が挙げられる。
、溝、あるいは硬さの異なる領域をパターン化した構造などの微細加工パターンを有する。微細加工パターンは、伸縮可能な支持体(A)に予め凸部、溝などの人工パターン(B)を導入し、その表層に薄膜(C)を形成することで、薄膜に形成してもよく、あるいは
薄膜を形成した後に光ないし熱などにより薄膜を部分的に硬化して硬さの異なる領域をパターン化した構造を取るようにしてもよい。
ンコート、キャストなど)、セラミックであれば有機セラミック原料のプラズマ酸化処理(表面部分のみが酸化されてセラミックになる)が例示される。また電子線や紫外線、イオ
ン線照射によっても表面の変性を促し薄膜(C)を形成可能である。
(nは状態を示す指標で= ±1, ±2 …、図3参照)。その幾何的関係は、n > 0でtanqn =
(n + p -1)/w、n < 0 で(n + p)/w である。この関係に基づいて特定の離散的な複数の
凹凸方向(qn)を設計できるが、pが0.5の場合、y軸に対し対称な方向が選ばれ(qi =
-q-i, iは整数)、そうでない場合y軸に対し非対称な離散的な凹凸方向が設計できる。
又、wを変えることで、隣り合う状態間の角度差(例えば、q-1とq+1の差)を制御できる。wが小さい場合は大きな角度差になり、この状態間のスイッチングのためにはより大きな主応力軸の回転が必要となる。逆に、wが大きい場合はその角度差が小さくなり、小さな主応力軸の回転でスイッチングが可能となるが、そのスイッチングの過程で2つの状態が混在する場合がある。
実施例1
安定凹凸溝方向が4安定状態を有する微小形状スイッチアレイ
人工パターン(図1a)を、集束イオンビーム描画装置を用いてシリコンウエハ上に形
成する。これは幅約300nm、深さ約80nmの溝構造が1ミクロン間隔で配置されたアレイか
ら構成され、このパターンを鋳型にしてPDMSゴムのプレポリマーにパターンを転写することで、微小な凸部を有するPDMS支持体が作製された。このPDMSの全体形状は
厚さ5mm程度の直径10mm程度の筒状である。この試料のパターンのある表面に、スパッタ蒸着により白金(金でも白金パラジウムでも可)を約1nm蒸着する。ここで表層と
支持体の有効弾性率はそれぞれ、約200GPa、20MPaである。この試料を図2に示す小型1軸圧縮装置で0.94倍に圧縮することで表面全体に特性周期約1ミクロンの凹凸構造が自発的に発生する。この圧縮軸方向は人工パターンのx軸方向付近で変化させるが、これ
は圧縮装置の一方の面をy方向にスライドさせることで行う。すなわち、これにより試料
表面に固定された座標系においては、圧縮歪みの大きさを保ったまま圧縮軸方向を回転させることができる。人工的パターンが存在する領域では自発的凹凸構造は変調されるが、人工パターン直上部分は圧縮方向(外場)が変化しても凹凸構造が変化しない固定化領域となり、人工パターンに挟まれた領域は外場の変化に応じて凹凸構造が変化する可変領域となる。上述のように、このパターンにおける構造のパラメーターとして、上部人工パターンの周期と下部人工パターンの周期との位相の差(p)と、上下の人工パターンの間隔(w)があるが、このパラメーターによって、可変領域での凹凸方向(qn)の取り得る
値が決まる(nは状態を示す指標で= ±1, ±2、図3参照)。その幾何的関係は、n > 0でtanqn = (n + p -1)/w、n < 0 で(n + p)/w となるが、本パターンの場合、p = 0.5ミク
ロンなので、y軸に対して対称な状態が安定として現れる。今回は圧縮方向fをx軸の周
りで-20°→+20°→-20°とゆっくりと変化させた場合の、図2(a)の可変領域(40×1.8 im2)の凹凸方向(qn)を調べ、その平均値をfに対してプロットすると、図4のように
、段階的な応答がみられ、それぞれのステップは各qn:n, = ±1, ±2に対応している。一方、比較例として人工パターンがない場合の例も示してあるが、この場合はステップは存在せず、少しのヒステリシスを示す線形な応答を示すことが示されている。よって、デザインされた人工パターンによって、可変領域を規定でき、さらにその取り得る状態(凹凸方向)をも規定できたことが示された。
Claims (5)
- 伸縮可能な支持体に密着した表面薄膜の微小領域での座屈変形に基づいて特性空間周波数を有する微細凹凸構造を備えた微小形状スイッチアレイであって、前記薄膜が微細加工パターンを有する2以上の固定化領域と該固定化領域間に挟まれた1以上の可変領域を有し、外部応力により離散的な複数の形状状態を取り得、その状態間のスイッチングが外部応力の変化で制御できることを特徴とする、微小形状スイッチアレイ。
- 前記微細加工パターンが、突起構造、溝構造、硬さの異なる領域のいずれかの周期的な配列構造であることを特徴とする、請求項1に記載の微小形状スイッチアレイ。
- 前記微細加工パターンの周期が200nm〜200μmであることを特徴とする請求項1又は2に
記載の微小形状スイッチアレイ。 - 前記記載の形状状態間のスイッチングのための外部応力が1軸圧縮であり、圧縮の主応力軸方向の回転によってスイッチングが起こることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の微小形状スイッチアレイ。
- 微細凹凸構造の特性空間周波数が200nm〜200μmであることを特徴とする請求項1〜4の
いずれかに記載の微小形状スイッチアレイ。
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Patent Citations (2)
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---|---|---|---|---|
WO2007097454A1 (ja) * | 2006-02-27 | 2007-08-30 | Zeon Corporation | 微細凹凸形状を有するフィルム、およびその製造方法 |
JP2009096081A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 周期的微細凹凸構造材料 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010201610A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-09-16 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | 微小構造体 |
JP2012011478A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | 微小構造体及び微細パターンの形成方法 |
JP2013035197A (ja) * | 2011-08-08 | 2013-02-21 | Tokyo Univ Of Science | 幾何微細凹凸構造の作製方法及びセンサー |
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