JP2009277518A - Plasma display panel - Google Patents

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Akira Hasegawa
顕 長谷川
Tatsuo Mifune
達雄 三舩
Keisuke Sumita
圭介 住田
Morio Fujitani
守男 藤谷
Kenichi Kusaka
健一 日下
Hideyuki Shirahase
英幸 白波瀬
Koshiro Mizuno
孝志郎 水野
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Panasonic Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma display panel with a long life and high productivity, despite being structured of a material without substantially containing a lead component. <P>SOLUTION: In the plasma display panel, a front face substrate with a plurality of display electrodes arranged and a rear face substrate with address electrodes arranged so as to cross the display electrodes and an insulation layer arranged on the address electrodes, are arranged in opposition so as to have a discharge space formed between the above substrates. Porosity of the insulation layer on the address electrodes is smaller than that on a place other than the address electrodes. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は表示デバイスとして知られるプラズマディスプレイパネルに関するものである。   The present invention relates to a plasma display panel known as a display device.

近年、双方向情報端末として大画面、壁掛けテレビへの期待が高まっており、そのための表示デバイスとして、液晶表示パネル、フィールドエミッションディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイなどの数多くのものがある。これらの表示デバイスの中でもプラズマディスプレイパネル(以下、PDPとする)は、自発光型で美しい画像表示ができ、大画面化が容易であるなどの理由から、視認性に優れた薄型表示デバイスとして注目されており、高精細化および大画面化に向けた開発が進められている。   In recent years, expectations for large screens and wall-mounted televisions are increasing as interactive information terminals, and there are many display devices such as liquid crystal display panels, field emission displays, and electroluminescence displays. Among these display devices, the plasma display panel (hereinafter referred to as “PDP”) is a self-luminous and beautiful image display, and is easy to enlarge. Development for higher definition and larger screen is underway.

PDPは表示電極、誘電体層、MgOによる保護層などの構成物を形成した前面板と、電極、隔壁、絶縁体層、蛍光体層などの構成物を形成した背面板とを、内部にR・G・Bそれぞれの微小な放電セル(以下、単にセルとする)を形成するように対向配置されるとともに、周囲を封着部材により封止されている。そして、そのセルにネオン(Ne)およびキセノン(Xe)などを混合してなる放電ガスを例えば66500Pa(約500Torr)程度の圧力で封入している。   The PDP has a front plate on which components such as a display electrode, a dielectric layer, and a protective layer made of MgO are formed, and a back plate on which components such as electrodes, partition walls, an insulator layer, and a phosphor layer are formed. -G and B are arranged opposite each other so as to form minute discharge cells (hereinafter simply referred to as cells), and the periphery is sealed with a sealing member. A discharge gas obtained by mixing neon (Ne) and xenon (Xe) or the like is sealed in the cell at a pressure of about 66500 Pa (about 500 Torr), for example.

元来PDPは自発光型であるため各セルは非常に高い視野角を有するが、高精細化・大画面化に伴い全領域で均一なパネル特性が求められるため、材料物性・構造形成プロセスに対して対策が様々に施される。例えば、放電空間並びに蛍光体形状を定義して、同箇所に2回の塗布プロセスを用いてその構造を実現する方法を見出し、視野角の変化に対して蛍光体からの均一な発光を得る方法等が開示されている。   Originally, PDP is a self-luminous type, so each cell has a very high viewing angle. However, with high definition and large screen, uniform panel characteristics are required in all areas. Various measures are taken against it. For example, by defining the discharge space and the phosphor shape, finding a method for realizing the structure using two coating processes at the same location, and obtaining uniform light emission from the phosphor with respect to changes in viewing angle Etc. are disclosed.

なお、この出願の発明に関する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1、特許文献2が知られている。
特開2000−208057号公報 特開2006−040794号公報
For example, Patent Document 1 and Patent Document 2 are known as prior art document information relating to the invention of this application.
JP 2000-208057 A JP 2006-040794 A

ところで近年の環境問題への関心の高揚に伴い、構成成分に実質的に鉛を含まない技術が開発されている。PDPの背面板の絶縁体層に関しても、これまで鉛を構成成分に含む材料が用いられてきたが、近年は実質的に鉛を含まない材料に代替する技術が確立されてきている。   By the way, with the recent heightened interest in environmental problems, a technology that does not substantially contain lead as a component has been developed. As for the insulating layer of the back plate of the PDP, a material containing lead as a constituent has been used so far, but in recent years, a technique for substituting a material containing substantially no lead has been established.

しかし、鉛を含まない絶縁体層を用いた場合、PDPを点灯させる時間が長引くにつれ放電のために必要な電圧が徐々に高くなり、ついには回路で設定された電圧では点灯できないという状態になるという課題が生じることが明らかになった。この現象はPDPの寿命を決定するものであるため、この課題を解決することは、PDPの寿命を延ばすという意味で極めて重要である。   However, when an insulator layer that does not contain lead is used, the voltage necessary for the discharge gradually increases as the time for lighting the PDP is prolonged, and finally it becomes in a state where it cannot be lit with the voltage set in the circuit. It became clear that a problem arises. Since this phenomenon determines the life of the PDP, solving this problem is extremely important in terms of extending the life of the PDP.

本発明はこのような現状に鑑みなされたもので、長寿命で生産性の高いPDPを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a current situation, and an object thereof is to provide a PDP having a long life and high productivity.

上記の目的を達成するために本発明のPDPは、複数の表示電極を配置した前面基板と、表示電極に交差するようにアドレス電極を配置しアドレス電極上に絶縁体層を配置した背面基板との間に、放電空間が形成されるように対向配置したPDPであって、アドレス電極上の絶縁体層の空隙率が、アドレス電極上以外の絶縁体層の空隙率よりも小さいことを特徴とする。さらに絶縁体層に実質的に鉛が含まれていなくてもよい。   In order to achieve the above object, the PDP of the present invention includes a front substrate on which a plurality of display electrodes are arranged, a rear substrate on which address electrodes are arranged so as to intersect the display electrodes, and an insulator layer is arranged on the address electrodes. The PDP is disposed so as to form a discharge space in between, and the porosity of the insulating layer on the address electrode is smaller than the porosity of the insulating layer other than on the address electrode. To do. Furthermore, the insulator layer may be substantially free of lead.

このように本発明によれば、実質的に鉛成分を含まない材料によって構成されたPDPでありながら、長寿命で生産性の高いPDPを提供することを可能とする。   As described above, according to the present invention, it is possible to provide a PDP having a long life and high productivity while being a PDP composed of a material that does not substantially contain a lead component.

以下、本発明の実施の形態におけるPDPについて、図面を用いて説明する。   Hereinafter, a PDP according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施の形態)
図1から図2により、本実施の形態におけるPDPの構成および特徴について説明する。まず、図1から図2により本発明のPDPの主要構成について説明する。図1は、本発明の実施の形態におけるPDPの概略構成を示す断面斜視図、図2は同PDPの背面板の構成を示す斜視図である。
(Embodiment)
The configuration and characteristics of the PDP in this embodiment will be described with reference to FIGS. First, the main configuration of the PDP of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a cross-sectional perspective view showing a schematic configuration of a PDP according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view showing a configuration of a back plate of the PDP.

図1において、PDP10は、前面板20と背面板30とから構成され、前面板20と背面板30とは放電空間40を形成するように対向配置されている。前面板20は、フロート法により形成された硼珪素ナトリウム系ガラスなどの前面基板21上に、走査電極22と維持電極23とで対をなすストライプ状の複数の表示電極24が形成されている。また、隣接する表示電極24の間には、光遮蔽部となるブラックストライプ25が形成されている。また、表示電極24とブラックストライプ25とを覆って誘電体層26が形成され、さらに誘電体層26を覆って酸化マグネシウム(MgO)からなる保護層27が形成されている。   In FIG. 1, the PDP 10 includes a front plate 20 and a back plate 30, and the front plate 20 and the back plate 30 are disposed to face each other so as to form a discharge space 40. The front plate 20 has a plurality of stripe-shaped display electrodes 24 that are paired with a scan electrode 22 and a sustain electrode 23 on a front substrate 21 such as sodium borosilicate glass formed by a float process. Further, a black stripe 25 serving as a light shielding portion is formed between adjacent display electrodes 24. A dielectric layer 26 is formed so as to cover the display electrode 24 and the black stripe 25, and a protective layer 27 made of magnesium oxide (MgO) is further formed so as to cover the dielectric layer 26.

一方、背面板30は、背面基板31上に、前面板20の表示電極24と直交する方向にアドレス電極32が形成され、アドレス電極32を覆って絶縁体層33が設けられている。また、絶縁体層33上には、例えばストライプ状、井桁状の隔壁34が設けられ、隔壁34の側面と絶縁体層33の表面には蛍光体層35が設けられている。蛍光体層35は隣接する隔壁34によって仕切られた放電空間40に、それぞれ赤色に発光する赤色蛍光体層35R、緑色に発光する緑色蛍光体層35G、青色に発光する青色蛍光体層35Bが順に形成されている。   On the other hand, the back plate 30 has an address electrode 32 formed on the back substrate 31 in a direction orthogonal to the display electrode 24 of the front plate 20, and an insulating layer 33 is provided to cover the address electrode 32. In addition, on the insulator layer 33, for example, stripe-shaped and cross-beam-shaped barrier ribs 34 are provided, and phosphor layers 35 are provided on the side surfaces of the barrier ribs 34 and on the surface of the insulator layer 33. In the discharge space 40 partitioned by the adjacent barrier ribs 34, the phosphor layer 35 has a red phosphor layer 35R that emits red light, a green phosphor layer 35G that emits green light, and a blue phosphor layer 35B that emits blue light in order. Is formed.

図2は本発明の実施形態における同PDPの背面板の構成を示す斜視図である。図2に示すように、PDPの隔壁34は、表示電極24と平行な横隔壁34bと横隔壁34bに直交する縦隔壁34aとにより井桁状に形成されており、縦隔壁34aは横隔壁34bの高さよりも若干高くなるように形成される。本発明ではこの他に面一の井桁形状にも適応できるものである。また横隔壁34bを除いたストライプ状の隔壁にも適応できるものである。   FIG. 2 is a perspective view showing a configuration of a back plate of the PDP in the embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the partition walls 34 of the PDP are formed in a grid pattern by horizontal partition walls 34b parallel to the display electrodes 24 and vertical partition walls 34a orthogonal to the horizontal partition walls 34b. It is formed to be slightly higher than the height. In addition to this, the present invention can also be applied to a flat cross-beam shape. Further, the present invention can be applied to a stripe-shaped partition excluding the horizontal partition 34b.

前面板20に設けられた表示電極24を構成する走査電極22および維持電極23は、それぞれ透明電極、およびバス電極により構成されている。バス電極はCr/Cu/CrまたはAgなどの材料からなり、それぞれ透明電極に電気的に接続されている。   The scan electrode 22 and the sustain electrode 23 that constitute the display electrode 24 provided on the front plate 20 are each constituted by a transparent electrode and a bus electrode. The bus electrode is made of a material such as Cr / Cu / Cr or Ag, and is electrically connected to the transparent electrode.

以上の前面板20と背面板30とを、表示電極24とアドレス電極32とが直交し内部に微小な放電空間40を形成するように隔壁34を挟んで対向配置して、周囲を封着部材により封止する。その後、放電空間40に、NeおよびXeなどを混合した放電ガスを66500Pa(500Torr)程度の圧力で封入してPDPを完成させ、表示電極24に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電ガスを放電させ、それによって発生した紫外線が各色の蛍光体層35を励起して、赤色、緑色、青色の各色を発光させることによりカラー画像を表示する。   The front plate 20 and the back plate 30 are arranged opposite to each other with the partition wall 34 interposed therebetween so that the display electrode 24 and the address electrode 32 are orthogonal to each other and form a minute discharge space 40 inside, and the periphery is a sealing member. Seal with. Thereafter, a discharge gas in which Ne and Xe are mixed in the discharge space 40 is sealed at a pressure of about 66500 Pa (500 Torr) to complete the PDP, and a video signal voltage is selectively applied to the display electrode 24 to thereby discharge the discharge gas. Are discharged, and the ultraviolet rays generated thereby excite the phosphor layers 35 of the respective colors to emit red, green and blue colors, thereby displaying a color image.

(PDPの製造方法について)
次に、PDP10の背面板30の製造方法について説明する。まず背面基板31上に、銀(Ag)材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによりアドレス電極32用の構成物となる材料層を形成し、それを所望の温度で焼成することによりアドレス電極32を形成する。次に、アドレス電極32が形成された背面基板31上にダイコート法などによりアドレス電極32を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより絶縁体層33を形成する。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料とバインダおよび溶剤を含んだ塗料である。絶縁体層33の組成等については後に詳細に説明する。
(PDP manufacturing method)
Next, a method for manufacturing the back plate 30 of the PDP 10 will be described. First, the structure for the address electrode 32 is formed by a method of screen printing a paste containing a silver (Ag) material on the back substrate 31 or a method of patterning using a photolithography method after forming a metal film on the entire surface. An address electrode 32 is formed by forming a material layer and baking it at a desired temperature. Next, a dielectric paste is applied on the back substrate 31 on which the address electrodes 32 are formed by a die coating method so as to cover the address electrodes 32, thereby forming a dielectric paste layer. Thereafter, the dielectric paste layer is baked to form the insulator layer 33. The dielectric paste is a paint containing a dielectric material such as glass powder, a binder and a solvent. The composition of the insulator layer 33 will be described later in detail.

次に、絶縁体層33上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布して所定の形状にパターニングすることにより、隔壁材料層を形成した後、焼成することにより隔壁34を形成する。ここで、絶縁体層33上に塗布した隔壁用ペーストをパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。次に、隣接する隔壁34間の絶縁体層33上および隔壁34の側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布し、焼成することにより蛍光体層35が形成される。以上の工程により、背面基板31上に所定の構成部材を有する背面板30が完成する。   Next, a partition wall forming paste containing a partition wall material is applied on the insulator layer 33 and patterned into a predetermined shape to form a partition wall material layer and then fired to form the partition walls 34. Here, as a method of patterning the partition wall paste applied on the insulator layer 33, a photolithography method or a sandblast method can be used. Next, the phosphor layer 35 is formed by applying and baking a phosphor paste containing a phosphor material on the insulator layer 33 between the adjacent partition walls 34 and on the side surfaces of the partition walls 34. Through the above steps, the back plate 30 having predetermined components on the back substrate 31 is completed.

このようにして所定の構成部材を備えた前面板20と背面板30とを走査電極22とアドレス電極32とが直交するように対向配置して、その周囲をガラスフリットで封着し、放電空間40にNe、Xeなどを含む放電ガスを封入することによりPDP10が完成する。   In this way, the front plate 20 and the back plate 30 provided with predetermined constituent members are arranged to face each other so that the scanning electrodes 22 and the address electrodes 32 are orthogonal to each other, and the periphery thereof is sealed with a glass frit, so that a discharge space is obtained. The PDP 10 is completed by enclosing a discharge gas containing Ne, Xe or the like in 40.

(本発明の実施の形態における絶縁体層について)
以下、本発明の実施の形態における絶縁体層33について具体的に説明する。絶縁体層33は、図1に示すように背面基板31とアドレス電極32の上に塗布される。塗布にはダイコート法を用いており、ペーストを塗布した後、乾燥工程、焼成工程を経て形成される。
(Insulator layer in the embodiment of the present invention)
Hereinafter, the insulator layer 33 in the embodiment of the present invention will be specifically described. The insulator layer 33 is applied on the back substrate 31 and the address electrode 32 as shown in FIG. A die coating method is used for the application, and after the paste is applied, it is formed through a drying step and a baking step.

先に述べたように、従来技術においてはPDP10を点灯させる時間が長引くにつれ放電のために必要な電圧が徐々に高くなり、ついには回路で設定された電圧では点灯できないという状態になるという課題があった。   As described above, in the conventional technique, as the time for lighting the PDP 10 is prolonged, the voltage required for the discharge gradually increases, and finally, there is a problem that the lighting cannot be performed with the voltage set in the circuit. there were.

これに対し発明者等は、アドレス電極32上の絶縁体層33の空隙率が、アドレス電極32上以外の絶縁体層33の空隙率よりも小さくすることで、上記課題を解決することを見出した。   In contrast, the inventors have found that the above problem can be solved by making the porosity of the insulating layer 33 on the address electrode 32 smaller than the porosity of the insulating layer 33 other than on the address electrode 32. It was.

ここで空隙率とは、絶縁体層33の中で絶縁体層33が存在していない部分の体積の割合であって、以下の方法で測定される。
(1)背面板30を割断し、絶縁体層33の断面が露出したサンプルを切り出す
(2)絶縁体層33を二次電子走査型電子顕微鏡(SEM)にて撮像する
(3)撮像された誘電体断面の画像から、空隙率を算出する
また誘電体の断面は、SEM撮像時のコントラストを上げ、かつ割断時の割れ具合による測定ばらつきを防止するため、空隙部や周辺を樹脂でコートすることが望ましい。本測定は、日立製作所製走査型電子顕微鏡S−3000を用いて行った。算出に用いた撮像は反射電子計測モードで、加速電圧15kV、ワークディスタンス15mmにて行った。
Here, the porosity is a volume ratio of a portion of the insulator layer 33 where the insulator layer 33 does not exist, and is measured by the following method.
(1) The back plate 30 is cleaved, and a sample in which the cross section of the insulator layer 33 is exposed is cut out. (2) The insulator layer 33 is imaged with a secondary electron scanning electron microscope (SEM). Void ratio is calculated from the dielectric cross section image. Also, the dielectric cross section is coated with resin to increase the contrast during SEM imaging and to prevent measurement variations due to cracking during cleaving. It is desirable. This measurement was performed using a scanning electron microscope S-3000 manufactured by Hitachi. The imaging used for the calculation was performed in the reflected electron measurement mode with an acceleration voltage of 15 kV and a work distance of 15 mm.

また、本発明の実施の形態においては、PDP10の点灯必要電圧値の上昇度合いを点灯部染み出し量として見積もった。ここで点灯部染み出し量は次のようにして測定する。
(1)PDP画像表示領域のある領域のみを常時白色点灯し、その他の領域を常時非点灯の状態とし、その状態で100時間経過させる
(2)常時白色点灯している領域の周辺部、すなわち本来常時非点灯の領域にて発光する現象が観測される
(3)上記常時非点灯部の発光している領域の幅を測定し、これを点灯部染み出し量とする
これはPDP10の経時変化により点灯電圧値が変化した状態を示すものであり、電圧上昇によるPDP10の寿命を予測する指標として用いられる。
Further, in the embodiment of the present invention, the degree of increase in the required lighting voltage value of the PDP 10 is estimated as the amount of seepage of the lighting part. Here, the amount of seepage of the lighting part is measured as follows.
(1) Only a certain area of the PDP image display area is always lit in white, and the other areas are always in a non-lit state, and 100 hours have elapsed in that state. (2) The peripheral portion of the constantly lit white area, The phenomenon of light emission in the normally non-lighted area is observed (3) The width of the light-emitting area of the normally non-lighted part is measured, and this is used as the amount of seepage of the lighted part. This indicates a state in which the lighting voltage value has changed, and is used as an index for predicting the life of the PDP 10 due to a voltage increase.

図3は絶縁体層33の空隙率と点灯部染み出し量との関係を示した図である。このように、背面板30における絶縁体層33の背面基板31側から厚み0%〜50%の深さの空隙率の平均値が15%を超えると、点灯部染み出し量が増大することがわかる。本発明の実施の形態において、PDP10の寿命を十分達成しうるのは点灯部染み出し量が10mm以下であった。つまりPDP10の寿命を確保するには、絶縁体層33の空隙率は15%以下である必要がある。   FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the porosity of the insulator layer 33 and the amount of the light-emitting portion that leaks out. Thus, when the average value of the porosity of the depth of 0% to 50% from the back substrate 31 side of the insulating layer 33 in the back plate 30 exceeds 15%, the amount of the lighting part oozing may increase. Recognize. In the embodiment of the present invention, the amount of seepage of the lighting part is 10 mm or less that can sufficiently achieve the life of the PDP 10. That is, in order to ensure the life of the PDP 10, the porosity of the insulator layer 33 needs to be 15% or less.

一方で絶縁体層33の空隙率を低下させた場合、他の不具合が生じることが明らかになった。つまり発明者等は、空隙率を低下させた場合、蛍光体層35を形成する際の蛍光体ペーストの塗布マージン量が悪化することを見出した。   On the other hand, when the porosity of the insulator layer 33 is lowered, it has become clear that other problems occur. That is, the inventors have found that when the porosity is lowered, the application margin amount of the phosphor paste when the phosphor layer 35 is formed deteriorates.

ここで塗布マージン量とは、背面板30に蛍光体ペーストを塗布する際に、正常に塗布することが可能な塗布厚み適正値の幅である。例えば塗布厚みが適正値より小さいと、蛍光体層35がその箇所において抜けてしまい、放電しない放電セルもしくは輝度が低い放電セルが存在し不良となる。一方適正値より大きいと、蛍光体ペーストが隔壁34を超えて隣接放電セルに溢れ、放電セル間の混色や蛍光体膜厚が大きくばらつくことになり、同様に不良となる。   Here, the application margin amount is a width of an appropriate value of the application thickness that can be normally applied when applying the phosphor paste to the back plate 30. For example, if the coating thickness is smaller than the appropriate value, the phosphor layer 35 will come off at that location, resulting in defective discharge cells that do not discharge or discharge cells with low brightness. On the other hand, if it is larger than the appropriate value, the phosphor paste overflows the adjacent discharge cells beyond the barrier ribs 34, and the color mixture between the discharge cells and the phosphor film thickness greatly vary, resulting in a failure as well.

つまり、ある程度以上の塗布マージン量がないと、蛍光体塗布不良によってPDPの歩留まりが低下することとなる。すなわち蛍光体塗布不良を生じさせない適正値の幅が大きい背面板が望ましい。   That is, if there is no application margin amount of a certain amount or more, the yield of PDP is reduced due to phosphor application failure. That is, a back plate having a large range of appropriate values that does not cause phosphor coating defects is desirable.

図4は、絶縁体層33の空隙率と蛍光体塗布マージン量との関係を示した図である。このように、絶縁体層33の背面基板31側から厚み0%〜50%の深さの空隙率の平均値が低下するに伴い塗布マージン量も低下することがわかる。本発明の実施の形態において、PDP10の蛍光体塗布不良発生率を許容できる範囲は塗布マージン量10μm以上であった。つまりPDP10の製造歩留まりを確保するためには、絶縁体層33の背面基板31側から厚み0%〜50%の深さの空隙率は5%以上であることが必要である。   FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the porosity of the insulator layer 33 and the phosphor coating margin amount. Thus, it can be seen that the coating margin amount decreases as the average value of the porosity of the depth of 0% to 50% from the back substrate 31 side of the insulator layer 33 decreases. In the embodiment of the present invention, the allowable range of the phosphor coating defect occurrence rate of the PDP 10 is an application margin amount of 10 μm or more. That is, in order to ensure the manufacturing yield of the PDP 10, the porosity of the insulator layer 33 having a depth of 0% to 50% from the back substrate 31 side needs to be 5% or more.

以上のように、背面板30における絶縁体層33の背面基板31側から厚み0%〜50%の深さの空隙率の平均値を5%〜15%の範囲とすることが、PDPの寿命を確保し、かつ蛍光体塗布不良による歩留まりを低下させないための、絶縁体層33に求められる要件となる。   As described above, the average value of the porosity with a depth of 0% to 50% from the back substrate 31 side of the insulator layer 33 in the back plate 30 is set to be in the range of 5% to 15%. This is a requirement required for the insulator layer 33 in order to ensure the above and to prevent the yield due to poor phosphor coating.

また発明者等は、先に述べた従来技術の課題に対し、背面板30における絶縁体層33の表面粗さ(Ra)が大きく影響していることを見出した。具体的には絶縁体層33の表面粗さ(Ra)を0.5〜0.75μmの範囲とすることで、上記課題を解決することを見出した。   The inventors have also found that the surface roughness (Ra) of the insulating layer 33 in the back plate 30 has a great influence on the above-described problems of the prior art. Specifically, it has been found that the above problem can be solved by setting the surface roughness (Ra) of the insulator layer 33 in the range of 0.5 to 0.75 μm.

本発明の実施の形態において、表面粗さ(Ra)は中心線平均粗さとしてJIS−2001に準拠して計測した。また測定においては、東京精密製接触式表面粗さ計handysurf:E−35A(カットオフ値=0.8mm,評価長さ4mm)を用いて行った。そして空隙率と同様に、点灯部染み出し量および蛍光体塗布マージン量との関係を検討した。その結果を図5、図6に示す。   In the embodiment of the present invention, the surface roughness (Ra) was measured in accordance with JIS-2001 as the center line average roughness. In the measurement, a contact type surface roughness meter handysurf: E-35A (cut-off value = 0.8 mm, evaluation length 4 mm) manufactured by Tokyo Seimitsu was used. Then, similarly to the void ratio, the relationship between the amount of seepage of the lighting part and the amount of phosphor coating margin was examined. The results are shown in FIGS.

図5に示すように、背面板30における絶縁体層33の表面粗さが大きくなるに伴い、点灯部染み出し量が増大することがわかる。点灯部染み出し量を10mm以下とするためには、絶縁体層33の表面粗さ(Ra)が0.75μm以下であることが必要であった。   As shown in FIG. 5, it can be seen that as the surface roughness of the insulator layer 33 in the back plate 30 increases, the amount of the light-emitting portion oozing increases. In order to make the amount of seepage of the lighting part 10 mm or less, the surface roughness (Ra) of the insulator layer 33 needs to be 0.75 μm or less.

一方図6に示すように、背面板30における絶縁体層33の表面粗さ(Ra)が大きくなるに伴い、蛍光体塗布マージン量も確保できることがわかる。蛍光体塗布マージン量が10μm以上であるためには、絶縁体層33の表面粗さ(Ra)が0.5μm以上であることが必要であった。   On the other hand, as shown in FIG. 6, it can be seen that as the surface roughness (Ra) of the insulator layer 33 in the back plate 30 increases, the phosphor coating margin amount can be secured. In order for the phosphor coating margin amount to be 10 μm or more, the surface roughness (Ra) of the insulator layer 33 needs to be 0.5 μm or more.

以上より、背面板30における絶縁体層33の表面粗さ(Ra)を0.5〜0.75μmの範囲とすることが、PDP10の寿命を確保し、かつ蛍光体塗布不良による歩留まりを低下させないための、絶縁体層33に求められる要件となる。   From the above, setting the surface roughness (Ra) of the insulator layer 33 on the back plate 30 in the range of 0.5 to 0.75 μm ensures the life of the PDP 10 and does not reduce the yield due to poor phosphor coating. Therefore, it is a requirement required for the insulator layer 33.

また発明者等は、先に述べた従来技術の課題に対し、背面板30における絶縁体層33の反射率が大きく影響していることを見出した。具体的には絶縁体層33の反射率を50〜67%の範囲とすることで、上記課題を解決することを見出した。   The inventors have also found that the reflectance of the insulating layer 33 on the back plate 30 has a great influence on the above-described problems of the prior art. Specifically, it has been found that the above problem can be solved by setting the reflectance of the insulator layer 33 in the range of 50 to 67%.

ここで反射率は、波長550nmに対する全反射率としてJIS−R−3106に準拠して計測した。また、測定はMINOLTA:Spectrophotometer:CM−3600dを用いた。   Here, the reflectance was measured in accordance with JIS-R-3106 as a total reflectance with respect to a wavelength of 550 nm. In addition, MINOLTA: Spectrophotometer: CM-3600d was used for the measurement.

図7は絶縁体層33の反射率と点灯部染み出し量との関係を示した図である。このように、背面板30における絶縁体層33の反射率が67%を超えると、点灯部染み出し量が増大することがわかる。本発明の実施の形態において、PDP10の寿命を十分達成しうるのは点灯部染み出し量が10mm以下であった。つまりPDP10の寿命を確保するには、絶縁体層33の反射率は67%以下である必要がある。   FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the reflectance of the insulator layer 33 and the amount of the lighting portion that oozes. Thus, it can be seen that when the reflectance of the insulating layer 33 on the back plate 30 exceeds 67%, the amount of the lighting portion oozing increases. In the embodiment of the present invention, the amount of seepage of the lighting part is 10 mm or less that can sufficiently achieve the life of the PDP 10. That is, in order to ensure the life of the PDP 10, the reflectance of the insulator layer 33 needs to be 67% or less.

一方で絶縁体層33の反射率を低下させた場合、他の不具合が生じることが明らかになっている。つまり反射率を低下させた場合、絶縁体層における蛍光体発光の吸収の影響が大きくなるためPDPの発光輝度が低下し、PDPの品質を低下させる。反射率が50%を下回ると輝度低下の影響が大きくなる。   On the other hand, when the reflectance of the insulator layer 33 is lowered, it has been clarified that other problems occur. That is, when the reflectance is reduced, the influence of absorption of the phosphor emission in the insulator layer is increased, so that the light emission luminance of the PDP is lowered and the quality of the PDP is lowered. When the reflectance is less than 50%, the influence of the luminance reduction becomes large.

以上のように、背面板30における絶縁体層33の反射率を50%〜67%の範囲とすることが、PDPの寿命を確保し、かつ輝度低下による品質低下を起こさないための、絶縁体層33に求められる要件となる。   As described above, setting the reflectance of the insulating layer 33 in the back plate 30 in the range of 50% to 67% ensures the life of the PDP and prevents the quality from being deteriorated due to the decrease in luminance. This is a requirement for the layer 33.

(本発明の実施の形態における絶縁体層の作成方法について)
次に本発明の実施の形態における絶縁体層の作成方法について説明する。まず絶縁体ペーストは、ガラス成分10%〜50%、フィラー10%〜50%、バインダ10%〜20%、溶剤20%〜30%の配合比のものを数種類用いて検討し、以下の結果を確認した。
(Regarding the method of creating the insulator layer in the embodiment of the present invention)
Next, a method for creating an insulator layer in the embodiment of the present invention will be described. First, the insulator paste was examined using several types of glass components 10% to 50%, filler 10% to 50%, binder 10% to 20%, solvent 20% to 30%, and the following results were obtained. confirmed.

上記のように絶縁体層33の層厚に対して空隙率を変化させるためには、ガラス成分の軟化点をある範囲にすることが有効であった。具体的には、ガラス成分の軟化点を560℃〜580℃とすることで、本課題を解決するような良好な結果が得られた。   In order to change the porosity with respect to the thickness of the insulating layer 33 as described above, it was effective to set the softening point of the glass component within a certain range. Specifically, the favorable result which solves this subject was obtained by making the softening point of a glass component into 560 to 580 degreeC.

従来技術で用いられる絶縁体層のガラス成分の軟化点は540℃前後である。これに対して本発明の実施の形態では当該軟化点を従来技術よりも高くしている。特に軟化点が560℃〜565℃が有効であった。   The softening point of the glass component of the insulator layer used in the prior art is around 540 ° C. On the other hand, in the embodiment of the present invention, the softening point is set higher than that of the prior art. In particular, a softening point of 560 ° C. to 565 ° C. was effective.

さらに本発明の実施の形態では、絶縁体ペーストにおけるフィラーとガラス成分の比率を制御している。従来技術で用いられる絶縁体層では、ガラス成分30%〜45%、フィラー15%〜20%であるのが一般的であるのに対し、本発明の実施の形態では、ガラス成分15%〜30%、フィラー30%〜45%としている。これによって本課題を解決するような良好な結果が得られた。さらに望ましくは、ガラス成分17%〜27%、フィラー30%〜43%であった。   Furthermore, in the embodiment of the present invention, the ratio of the filler and the glass component in the insulator paste is controlled. In the insulator layer used in the prior art, the glass component is generally 30% to 45% and the filler is 15% to 20%, whereas in the embodiment of the present invention, the glass component is 15% to 30%. %, Filler 30% to 45%. As a result, good results were obtained to solve this problem. More desirably, the glass component was 17% to 27% and the filler was 30% to 43%.

そして、本発明の実施の形態では絶縁体層33の成分についても制御している。つまり、絶縁体層33の各成分のモル表記での含有量を次のようにしている。Biが0.1%〜25%、Znが10%〜30%、Tiが0.1%〜25%であって、さらにW、Mn、Sb、Baを0.1%以下としている。これによって、本課題を解決するような良好な結果が得られた。   In the embodiment of the present invention, the component of the insulator layer 33 is also controlled. That is, the content of each component of the insulator layer 33 in terms of mole is set as follows. Bi is 0.1% to 25%, Zn is 10% to 30%, Ti is 0.1% to 25%, and W, Mn, Sb, and Ba are 0.1% or less. As a result, good results were obtained to solve this problem.

このような誘電体層33であれば、Bi、Ti、W、Mn、Sb、Baのように、価数変化しやすい金属成分を極力減らすことにより、背面板30の各焼成工程時にアドレス電極32から生じるガスを、絶縁体層33中に空隙として残すことができる。逆にBi、Ti、W、Mn、Sb、Baの成分比が多い絶縁体層33では、ガスが存在し難くなり、アドレス電極32上の空隙率が小さくなってしまう。そして結果として本発明の目的を達成し得ない。   In the case of such a dielectric layer 33, the address electrode 32 is provided at the time of each baking process of the back plate 30 by reducing as much as possible the metal components that are likely to change in valence such as Bi, Ti, W, Mn, Sb, and Ba. The gas generated from can be left as a void in the insulator layer 33. Conversely, in the insulator layer 33 having a large component ratio of Bi, Ti, W, Mn, Sb, and Ba, it is difficult for gas to exist, and the porosity on the address electrode 32 becomes small. As a result, the object of the present invention cannot be achieved.

以上のように絶縁体層33を形成することによって、絶縁体層の層厚dに対して、背面基板側の絶縁体層の層厚0.5dでの空隙率の平均値が、放電空間側の絶縁体層の層厚0.5dでの空隙率の平均値より小さくなることが確認された。   By forming the insulator layer 33 as described above, the average value of the void ratio at the layer thickness 0.5d of the insulator layer on the back substrate side with respect to the layer thickness d of the insulator layer is the discharge space side. It was confirmed that the insulating layer was smaller than the average value of the porosity at a layer thickness of 0.5 d.

また、絶縁体層33を複数層に積層構造とすることによっても同様の効果が得られる。つまり、組成の異なる絶縁体ペーストを複数種類用意し、それらを積層して絶縁体層33を作製する。例えば、背面基板31に塗布する1層目の誘電体ペーストを、ガラス成分25%〜35%、フィラー25%〜35%、バインダ10%〜20%、溶剤20%〜30%の配合比のものとし、その上に塗布する2層目の誘電体ペーストを、ガラス成分15%〜20%、フィラー45%〜50%、バインダ10%〜20%、溶剤20%〜30%の配合比のものとし、1層目と2層目の膜厚を同程度に合わせて絶縁体層33を形成する。これによっても、本課題を解決するような良好な結果が得られた。   Further, the same effect can be obtained by forming the insulating layer 33 in a multilayer structure. That is, a plurality of types of insulator pastes having different compositions are prepared, and the insulator layers 33 are produced by laminating them. For example, the first dielectric paste applied to the back substrate 31 has a glass component 25% to 35%, filler 25% to 35%, binder 10% to 20%, solvent 20% to 30%. The dielectric paste of the second layer to be applied thereon has a mixing ratio of glass component 15% to 20%, filler 45% to 50%, binder 10% to 20%, solvent 20% to 30%. The insulator layer 33 is formed by adjusting the film thicknesses of the first layer and the second layer to the same level. Also by this, the favorable result which solves this subject was obtained.

さらに、絶縁体層33をストライプ状に形成することによっても同様の効果が得られる。つまり、組成の異なる絶縁体ペーストを複数種類用意し、アドレス電極32上の領域とそれ以外の領域に、異なるペーストで塗布を行い、絶縁体層33を形成する。例えば、アドレス電極32上の領域に塗布する誘電体ペーストを、ガラス成分15%〜20%、フィラー45%〜50%、バインダ10%〜20%、溶剤20%〜30%の配合比のものとし、それ以外の領域に塗布する誘電体ペーストを、ガラス成分25%〜35%、フィラー25%〜35%、バインダ10%〜20%、溶剤20%〜30%の配合比のものとすることにより、本課題を解決するような良好な結果が得られた。   Further, the same effect can be obtained by forming the insulator layer 33 in a stripe shape. That is, a plurality of types of insulator pastes having different compositions are prepared, and the insulator layer 33 is formed by applying different pastes to the region on the address electrode 32 and other regions. For example, the dielectric paste applied to the area on the address electrode 32 has a blending ratio of glass component 15% to 20%, filler 45% to 50%, binder 10% to 20%, solvent 20% to 30%. By making the dielectric paste to be applied to the other regions have a mixing ratio of glass component 25% to 35%, filler 25% to 35%, binder 10% to 20%, solvent 20% to 30%. As a result, good results were obtained to solve this problem.

以上のように本発明のPDPは、複数の表示電極を配置した前面基板と、表示電極に交差するようにアドレス電極を配置しアドレス電極上に絶縁体層を配置した背面基板との間に、放電空間が形成されるように対向配置したPDPであって、アドレス電極上の絶縁体層の空隙率が、アドレス電極上以外の絶縁体層の空隙率よりも小さいことを特徴とする。さらに絶縁体層に実質的に鉛が含まれていなくてもよい。   As described above, the PDP of the present invention has a front substrate in which a plurality of display electrodes are arranged, and a rear substrate in which address electrodes are arranged so as to intersect the display electrodes and an insulating layer is arranged on the address electrodes. The PDP is disposed so as to form a discharge space, wherein the porosity of the insulating layer on the address electrode is smaller than the porosity of the insulating layer other than on the address electrode. Furthermore, the insulator layer may be substantially free of lead.

このような絶縁体層およびそれを有するPDPとすることで、画像表示品位の寿命を確保しつつ、蛍光体塗布不良による歩留まりを低下させないPDPを抵抗することができる。   By using such an insulator layer and a PDP having the insulator layer, it is possible to resist a PDP that does not reduce the yield due to defective phosphor coating while ensuring the life of image display quality.

本発明のPDPによれば、実質的に鉛成分を含まない材料によって構成されたPDPでありながら、長寿命で生産性の高いPDPを提供することを可能とする点で有用である。   The PDP of the present invention is useful in that it can provide a PDP having a long life and high productivity while being a PDP composed of a material that does not substantially contain a lead component.

本発明の実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面斜視図Sectional perspective view which shows schematic structure of the plasma display panel in embodiment of this invention 同パネルの背面板の構成を示す斜視図The perspective view which shows the structure of the back plate of the panel 同パネルの空隙率に対する点灯部染み出し量の関係を示す図The figure which shows the relationship of the lighting part seepage amount to the porosity of the panel 同パネルの空隙率に対する塗布マージン量の関係を示す図The figure which shows the relationship of the amount of application margin to the porosity of the panel 同パネルのRaに対する点灯部染み出し量の関係を示す図The figure which shows the relationship of the lighting part seepage amount with respect to Ra of the panel 同パネルのRaに対する塗布マージン量の関係を示す図The figure which shows the relationship of the coating margin amount with respect to Ra of the same panel 同パネルの反射率と点灯部染み出し量の関係を示す図The figure which shows the relationship between the reflectance of the same panel and the amount of lighting part seepage

符号の説明Explanation of symbols

10 プラズマディスプレイパネル
30 背面板
31 背面ガラス基板
32 アドレス電極
33 絶縁体層
34 隔壁
35 蛍光体層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Plasma display panel 30 Back plate 31 Back glass substrate 32 Address electrode 33 Insulator layer 34 Partition 35 Phosphor layer

Claims (2)

複数の表示電極を配置した前面基板と、前記表示電極に交差するようにアドレス電極を配置し前記アドレス電極上に絶縁体層を配置した背面基板との間に、放電空間が形成されるように対向配置したプラズマディスプレイパネルであって、前記アドレス電極上の前記絶縁体層の空隙率が、前記アドレス電極上以外の前記絶縁体層の空隙率よりも小さいことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 A discharge space is formed between a front substrate on which a plurality of display electrodes are arranged and a rear substrate on which address electrodes are arranged so as to intersect the display electrodes and an insulating layer is arranged on the address electrodes. A plasma display panel arranged oppositely, wherein the porosity of the insulator layer on the address electrode is smaller than the porosity of the insulator layer other than on the address electrode. 前記絶縁体層に実質的に鉛が含まれていないことを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。 The plasma display panel according to claim 1, wherein the insulating layer is substantially free of lead.
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