JP2009266257A - 広帯域波長板および光ヘッド装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明基板上に第1の波長板13aと第2の波長板13bとを積層させ、各波長板の光学軸(進相軸と進相軸または、遅相軸と遅相軸との組み合わせ)および入射する光の偏光方向を設定するとともに、各波長板の各波長におけるリタデーション値を設定することで、波長λ1、λ2、λ3の光(λ1<λ2<λ3)に対して、波長λ1の光は偏光状態を変えず、波長λ2および波長λ3の光は直線偏光を円偏光として出射させる広帯域波長板10が実現でき、光ヘッド装置の小型化、および記録・再生の高品質化が実現できる。
【選択図】図1
Description
図1に本実施形態にかかる広帯域波長板10の構成を示す。図1(a)は広帯域波長板10の模式的断面図であり、図1(b)は広帯域波長板に含まれる2枚の波長板の積層状態を説明する平面模式図である。広帯域波長板10は、2枚の波長板13aと13bとが、透明基板11a、11bおよび接着剤11cを介して一体化されてなるものである。また、後述するように波長板13a、13bが高分子液晶からなる場合は、それぞれ配向膜12a、12bを配してもよい。
(A)R1(λ2)[度]>R2(λ2)[度]であり、R1(λ2)[度]/R2(λ2)[度]が2±0.1の範囲内にある。
(B)R1(λ1)[度]>R1(λ2)[度]であり、R1(λ1)[度]/R1(λ2)[度]が2±0.1の範囲内にある。
(C)R1(λ1)[度]が、(360×k)±5[度]の範囲(kは奇数:1,3,5・・・)である。
(D)θ2が90±5[度]の範囲である。
(E)θ1が22.5−{(90−θ2)/2}±2.5[度]の範囲である。
この構成により、広帯域波長板10は、波長λ1の直線偏光の光の状態を変えずに出射させるとともに、波長λ2の直線偏光の光に対してλ/4板として機能し、偏光状態を円偏光とすることができる。
(A´)R1(λj+1)[度]/R2(λj+1)[度]が2±0.1の範囲内にある。
(B´)R1(λ1)[度]/R2(λj+1)[度]が2±0.1の範囲内にある。
さらに具体的には、例えばm=3、λ1とλ2とλ3の場合(λ1<λ2<λ3)には、上記の(A)、(B)の条件は、以下のように設定すればよい。j=1の場合の(A1)および(B1)を満足するか、j=2の場合の(A2)および(B2)を満足するように設定すればよい。
(A1)R1(λ2)[度]/R2(λ2)[度]が2±0.1の範囲内にある。
(B1)R1(λ1)[度]/R1(λ2)[度]が2±0.1の範囲内にある。
(A2)R1(λ3)[度]/R2(λ3)[度]が2±0.1の範囲内にある。
(B2)R1(λ1)[度]/R1(λ3)[度]が2±0.1の範囲内にある。
Ri(λj)={Δnij・di/λj}・360 [度] ・・・ (1)
ここで、iは光が入射する順を表し(第iの波長板)、jは入射する光の波長のうち短い波長から数えた順を表すものである。つまり本発明では、iのとり得る値は1と2のいずれかであり、jのとり得る値は1、2および3のいずれかである。また、Δnは波長板の屈折率異方性、dは波長板の厚さである。したがって、Δnijは波長λjにおける広帯域位相差の第iの波長板に使用される複屈折材料の屈折率異方性、diは広帯域位相差の第iの波長板の厚さを表す。
So=G2(θ2、Γ2)×G1(θ1、Γ1)×Si ・・・ (2)
なお、ストークスベクトルSiは、[1、1、0、0]Tである。ただし、記号Tは転置を意味する。
Γ=Δn×d×2π/λ [rad] ・・・ (3)
ここで、Δnは波長板の屈折率異方性を表し、dは波長板の厚さ、λは波長を表す。
Δn(λ)=A+B/λ2+C/λ4 ・・・ (7)
ここで、λは波長であり、表1および表2に、それぞれ複屈折材料を水晶、高分子液晶としたとき入射する光の波長に対するそれぞれのΔnの値を示す。
R1(λ1)/R1(λc)=2 ・・・ (8)
R1(λc)/R2(λc)=2 ・・・ (9)
を満たすことが好ましい。この条件を満たす複屈折材料としては特に水晶および高分子液晶が好ましく、さらにλcの値が660nmと785nmとの中間波長723nmにおいて、上記条件式を満たすとより好ましい。また、上記(A)〜(E)の条件はλ1とλ2の波長の光に対する条件であるが、λ1、λ2およびλ3(λ1<λ2<λ3)の光が入射するとき、λ2に関する(A)〜(E)のパラメータはλ3のパラメータとして置き換えてもよい。
θ1=22.5−{(90−θ2)/2}[度]
で示すことができる。また、このとき、θ2が90±5[度]、かつθ1が22.5−{(90−θ2)/2}±2.5[度]の範囲では、波長λ2においてλ/4板としての機能を満たしている。上記範囲から大きく外れる場合、楕円率の絶対値は0.7を下回る。なお、同様に楕円率は領域分けしているが連続して変化する特性を有する。
条件2((A):2.1、(B):1.9、(C):365[度])で固定し、他の上記条件(D)および(E)の範囲内で値を変化させて出射光の楕円率を示したものである。図14(a)は、θ2を95[度]と固定して、θ1に対する楕円率を示したものであり、点線は上記中間値において最大となる楕円率、一点鎖線は上記条件1において最小となる楕円率、実線は上記条件2において最小となる楕円率の特性である。
第1の実施の形態では、波長λ1の光に対してλ板としての機能を有するとともに、波長λ2の光に対して楕円率が0.7以上となるλ/4板としての機能を有する広帯域波長板について説明した。第2の実施の形態では、波長λ1の光に対してλ板としての機能を有するとともに、波長λ2の光に対して楕円率が0.85以上となるλ/4板となる広帯域波長板の構成条件について説明する。
(A´)R1(λ2)[度]>R2(λ2)[度]であり、R1(λ2)/R2(λ2)が2±0.05の範囲内にある。
(B)R1(λ1)[度]>R1(λ2)[度]であり、R1(λ1)/R1(λ2)が2±0.1の範囲内にある。
(C)R1(λ1)[度]が、(360×k)±5[度]の範囲(kは奇数:1,3,5・・・)である。
(D)θ2が90±5[度]の範囲である。
(E´)θ1が22.5−{(90−θ2)/2}±1.5[度]の範囲である。
図18に広帯域波長板付き偏光型回折格子40の断面模式図を示す。広帯域波長板付き偏光型回折格子40は、第1または第2の実施形態にかかる広帯域波長板10に偏光ホログラム30を積層したものである。偏光ホログラム30は、透明基板11d上に断面が周期的な凹凸形状であって、Y方向に平行なストライプ状となる回折格子31と光学的に透明となる充填材32から構成される。また、回折格子31は複屈折性を示すとともに、充填材32の等方性屈折率nsが、回折格子31の常光屈折率noと異常光屈折率neのいずれか一方に略等しいものとする。
次に本願発明の第4の実施の形態として、第1または第2の実施形態の設計に基づく広帯域波長板10を光ヘッド装置の光学部品として配置する場合について説明する。図19は、異なる3つの波長、405nm波長帯、660nm波長帯、785nm波長帯の光を用いた光ヘッド装置100の構成を示すものである。また、光ヘッド装置100を構成する光学部品として従来の光ヘッド装置400と同じ光学部品は同じ番号を付して説明の重複を避ける。第3の実施形態にかかる光ヘッド装置100は、広帯域波長板111として第1の実施形態にかかる広帯域波長板10を配置する。さらに、トリクロイックプリズム112と対物レンズ114との間の光路中に405nm波長帯の光に対応するλ/4板118を配置する。
次に本願発明の第5の実施の形態として、第3の実施形態の設計に基づく広帯域波長板付き偏光型回折格子40を光ヘッド装置の光学部品として配置する場合について説明する。図20は、異なる3つの波長、405nm波長帯、660nm波長帯、785nm波長帯の光を用いて第3の実施形態の光ヘッド装置100と異なる光ヘッド装置200の構成を示すものである。また、光ヘッド装置200を構成する光学部品として第3の実施形態の光ヘッド装置100と同じ光学部品は同じ番号を付して説明の重複を避ける。第4の実施形態にかかる光ヘッド装置200は、広帯域波長板付き偏光型回折格子211として第2の実施形態にかかる広帯域波長板付き偏光型回折格子40を配置する。さらに、光検出器217は広帯域波長板付き偏光型回折格子211によって回折された光が到達する位置に配置する。
図1に示す広帯域波長板10の作製方法について説明する。透明基板11a、11bとなる石英ガラス基板に、面に対して水平に配向された配向膜12a、12bとなるポリイミド膜を形成しシールを施して、図示しないもう一方の基板を重ね、基板間隔がそれぞれ8.9μm、4.5μmの空セルを2組形成する。ラビングの方向は、基板間隔8.9μmの空セルに対しては、基板を対向させたときに基準方向14(X方向)とした基板の一辺となす角度θ1が22.5度の方向、基板間隔4.5μmの空セルに対してなす角度θ2が90度の方向となるように施す。次いで、[化1]に示す液晶化合物(10)、(11)、(12)および(13)を重量比15.6:16.9:32.1:35.4で混合した光重合性液晶化合物を調整し、それぞれのセルに注入し光重合させて波長板13a、13bとなる高分子液晶層を形成する。このようにして形成された高分子液晶層は、波長405nm、660nm、785nmにおける常光屈折率と異常光屈折率の差となる屈折率異方性Δnがそれぞれ0.0457、0.0384、0.0375であった。
図21(b)にλ2=660nmのときのR1(λ2)/R2(λ2)を2.05、R1(λ1)を365[度]とする以外は、実施例1と同じ条件とするとき、θ1に対する660nm、785nmの入射光に対する楕円率を示す。これより、θ1=22.5[度]における楕円率は、波長405nm、660nmおよび785nmの光に対して、それぞれ−0.03、0.93および0.93である。かつ、波長405nmの偏光方向の方位角は、0.3[度]となり、λ波長板として機能していることが確認できる。さらに、θ1=22.5[度]より変化しても、波長405nmの光に対して0±0.1の範囲の楕円率および±10[度]の範囲内の偏光方向の方位角であり、波長660nmおよび785nmの光に対して高い楕円率が得られる。
図21(c)にθ2=85[度]とする以外は、実施例1と同じ条件とするとき、θ1に対する660nm、785nmの入射光に対する楕円率を示す。これより、θ1=20[度]における楕円率は、波長405nm、660nmおよび785nmの光に対して、それぞれ0.00、0.99および0.92である。かつ、波長405nmの偏光方向の方位角は、−10[度]となり、λ波長板として機能していることが確認できる。さらに、θ1=20[度]より変化しても、波長405nmの光に対して0±0.1の範囲の楕円率および±10[度]の範囲内の偏光方向の方位角であり波長660nmおよび785nmの光に対して高い楕円率が得られる。
図21(d)にθ2=85[度]とする以外は、実施例2と同じ条件とするとき、θ1に対する660nm、785nmの入射光に対する楕円率を示す。これより、θ1=20[度]における楕円率は、波長405nm、660nmおよび785nmの光に対して、それぞれ−0.05、0.94および0.95である。かつ、波長405nmの偏光方向の方位角は、−9.6[度]となり、λ波長板として機能していることが確認できる。さらに、θ1=20[度]より変化しても、波長405nmの光に対して0±0.1の範囲の楕円率および±10[度]の範囲内の偏光方向の方位角であり波長660nmおよび785nmの光に対して高い楕円率が得られる。
図18に示す広帯域波長板付き偏光型回折格子40の作製方法について説明する。広帯域波長板10は、実施例1と同じ作製方法を用いるので省略し、ホログラム素子30について説明する。透明基板11dとなる石英ガラス基板に、表面がラビングされたポリイミド膜からなる図示しない水平配向膜を形成しシールを施して、基板間隔が4.4μmの空セルを形成する。ラビングは、入射する光の偏光方向に直交する方向となるように施す。次いで、[化1]に示す液晶化合物(10)、(11)、(12)および(13)を重量比15.6:16.9:32.1:35.4で混合した光重合性液晶化合物を調整し、それぞれのセルに注入し光重合させて高分子液晶層を形成する。このようにして形成された高分子液晶層は、波長405nm、660nm、785nmにおける常光屈折率と異常光屈折率の差となる屈折率異方性Δnがそれぞれ0.0457、0.0384、0.0375であった。予め405nmで1次回折効率が最大となるように空セルの基板間隔を設定しておく。そのため高分子液晶層のリタデーション値は波長405nmにおいて179[度]であった。
例1に記載した広帯域波長板10を図19の光ヘッド装置100の広帯域波長板111として配置する。各半導体レーザの波長は、光源101が405nm、光源102が658nm、そして光源103が789nmである。これらの光は全て同じ直線偏光の方向で広帯域波長板111に入射し、その結果、3つの波長405nmでは偏光状態が変化せず直線偏光のまま出射し、658nmおよび789nmに対して満足できる円偏光が得られ、光利用効率の高い信号光を得ることができる。
11a、11b、11d 透明基板
11c 接着剤
12a、12b 配向膜
13a 第1の波長板
13b 第2の波長板
14 基準方向
15 入射する光の偏光方向
16 第1の波長板の光学軸方向
17 第2の波長板の光学軸方向
21 ポアンカレ球上の入射偏光状態
22 第1の波長板に対応する回転軸
23 第2の波長板に対応する回転軸
24 第1の波長板(R1(λ2)<180[度])により変換されたポアンカレ球上の偏光状態
25 第1の波長板(R1(λ2)>180[度])により変換されたポアンカレ球上の偏光状態
26 広帯域波長板により変換されたポアンカレ球上の偏光状態の軌跡
30 ホログラム素子
31 回折格子
32 充填材
40、211 広帯域波長板付き偏光型回折格子
100、200 光ヘッド装置(本発明)
101、301 光源(405nm波長帯)
102、302 光源(660nm波長帯)
103、303 光源(785nm波長帯)
104、105、106、304、305、306 回折素子
107、308 ダイクロイックプリズム
108、112 トリクロイックプリズム
109、307、309 偏光ビームスプリッタ
110、310、311 コリメータレンズ
113、314、315 ミラー
114、115、316、317 対物レンズ
116、318 光ディスク
117、217、319、320 光検出器
118、312、313 λ/4板
300、400 光ヘッド装置(従来)
411 広帯域波長板(従来)
Claims (7)
- 平行に配置された第1の波長板と第2の波長板とを備え、
m個(mは2以上の整数)の波長の光が入射する広帯域波長板であって、
前記第1の波長板の光学軸と前記第2の波長板の光学軸が交差しており、
入射する波長を、λj<λj+1(j=1〜m−1の整数)の関係を満足するとして表し、波長λn(n=1〜mの整数)に光に対する第iの波長板のリタデーション値をRi(λn)[度](iは1または2)としたときに、
少なくとも1組の波長λ1と波長λj+1に関して、
R1(λj+1)/R2(λj+1)が2±0.1の範囲内であるとともに、R1(λ1)/R1(λj+1)が2±0.1の範囲内であって、
kを奇数として、R1(λ1)が(360×k)±5[度]の範囲内であって、
前記波長λ1と前記波長λj+1の直線偏光の光が同じ偏光方向で入射する偏光方向と前記第2の波長板の光学軸とがなす角度θ2が90±5[度]の範囲内である広帯域波長板。 - 前記波長λ1と前記波長λj+1の直線偏光の光が同じ偏光方向で入射する偏光方向と前記第1の波長板の光学軸とがなす角度θ1が22.5−{(90−θ2)/2}±2.5[度]の範囲内である請求項1に記載の広帯域波長板。
- R1(λj+1)/R2(λj+1)が2±0.05の範囲内であるとともに、前記角度θ1が22.5−{(90−θ2)/2}±1.5[度]の範囲内である少なくとも一つの波長λj+1の直線偏光の光が入射する請求項1または請求項2に記載の広帯域波長板。
- 前記波長λ1と前記波長λ2と波長λ3(λ1<λ2<λ3)の直線偏光の光が入射する広帯域波長板であって、
前記λ1が405nm波長帯であり、前記λ2が660nm波長帯であり、前記λ3が785nm波長帯である請求項1〜3いずれか1項に記載の広帯域波長板。 - 少なくとも前記波長λ1と前記波長λ2の光を出射する光源と、
前記光源から出射した光を偏向分離する第1の分離手段と、
前記第1の分離手段から出射した光を前記波長λ1の光と前記波長λ2の光とを異なる光路に偏向分離する第2の分離手段と、
前記第2の分離手段から出射した光を光ディスク上に集光させる対物レンズと、
前記光ディスクで反射した光を検出する光検出器と、を備える光ヘッド装置であって、
前記第2の分離手段と前記対物レンズとの間の前記波長λ1の光の光路中にλ/4板が配置されるとともに、
前記第1の分離手段と前記第2の分離手段との間の光路中に請求項1〜4いずれか1項に記載の広帯域波長板が配置される光ヘッド装置。 - 前記光源は、前記波長λ1、前記波長λ2および前記波長λ3を出射し、
前記第2の分離手段は、前記波長λ1の波長の光の出射方向と、前記波長λ2の光および前記波長λ3の光の出射方向とを異なるようにするトリクロイックプリズムである請求項5に記載の光ヘッド装置。 - 前記第1の分離手段は、複屈折性を有する回折格子が等方性材料となる充填材で充填平坦化されてなるホログラム素子であって、
前記充填材の屈折率nsは、前記回折格子の常光屈折率noまたは異常光屈折率neに略等しい請求項5または請求項6に記載の光ヘッド装置。
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