JP2009265213A - 液晶表示装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】従来の液晶表示装置では、厚みを低減することが困難である。
【解決手段】第１基板５１と、第１基板５１に対向する第２基板８１と、第１基板５１及
び第２基板８１の間に介在する液晶１９と、第１基板５１の液晶１９側とは反対側に配置
され、第１基板５１に向けて光を照射する照明装置と、第１基板５１と前記照明装置との
間に設けられた偏光板１１ａと、前記照明装置からの光を透過させることで透過表示を行
う透過領域Ｔと、第２基板８１を介して液晶１９に入射された光を反射させることで反射
表示を行う反射領域Ｈと、を有する画素と、第１基板５１及び偏光板１１ａの間に配置さ
れ、前記照明装置から反射領域Ｈに向かう光の少なくとも一部を透過領域Ｔに導くプリズ
ム部９９と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【選択図】図５

Description

本発明は、液晶表示装置及び電子機器に関する。

従来から、半透過反射型の液晶表示装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００８−１５２２９号公報 特開平６−５１３００号公報

上記特許文献１に記載された液晶表示装置では、１つの画素（サブ画素）に、透過表示
を行う透過表示領域（透過領域）と、反射表示を行う反射表示領域（反射領域）とが設定
されている。透過領域では、照明装置から入射された光を透過領域で変調することによっ
て透過表示が行われる。反射領域では、液晶装置を挟んで照明装置とは反対側から入射さ
れた外光を反射領域で変調しつつ、反射領域に設けられた反射膜（反射層）で反射するこ
とによって反射表示が行われる。

ところで、半透過反射型の液晶表示装置では、照明装置からの光は、透過領域だけでは
なく反射領域にも照射される。照明装置から反射領域に照射された光は、透過表示に寄与
しない。この液晶表示装置では、照明装置からの光のうちで透過表示に寄与しない光が無
駄になりやすい。
ここで、上記特許文献２には、プリズム板を有する液晶表示装置が記載されている。こ
の液晶表示装置では、照明装置から遮光膜に向かう光がプリズム板の切り込み（プリズム
）で屈折され、屈折された光が画素に入射される。このため、光の利用効率の向上が図ら
れる。

そこで、前述した半透過反射型の液晶表示装置にプリズムを適用することが考えられる
。しかしながら、半透過反射型の液晶表示装置において、照明装置と画素との間にプリズ
ムを介在させる場合、次のような課題がある。
プリズム６０１は、画素６０３を模式的に示す断面図である図１９に示すように、平面
視で反射領域６０５に重なる領域に配置され得る。プリズム６０１で屈折した光６０７は
、透過領域６０９に及ぶ。このとき、プリズム６０１の頂点と基板６１１との間の距離６
１３が長くなると、プリズム６０１の厚みが厚くなっていく。

一般的に、複数の画素を区画する遮光膜の幅寸法は、各画素の反射領域の幅寸法よりも
小さい。このため、半透過反射型の液晶表示装置に適用するプリズムの厚みの増加率は、
上記特許文献２に記載された液晶表示装置のプリズムの厚みの増加率よりも大きくなる。
ここで、上記特許文献２に記載された液晶表示装置では、プリズム板と基板との間に偏
光板や拡散板が介在している。特許文献２に記載された構成を半透過反射型の液晶表示装
置に適用すると、上記の距離６１３を短くすることが困難となる。
つまり、従来の液晶表示装置では、厚みを低減することが困難であるという課題がある
。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の
形態又は適用例として実現され得る。

［適用例１］第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板及び前記
第２基板の間に介在する液晶と、前記第１基板の前記液晶側とは反対側に配置され、前記
第１基板に向けて光を照射する照明装置と、前記第１基板と前記照明装置との間に設けら
れた偏光板と、前記照明装置からの光を透過させることで透過表示を行う透過領域と、前
記第２基板を介して前記液晶に入射された光を反射させることで反射表示を行う反射領域
と、を有する画素と、前記第１基板及び前記偏光板の間に配置され、前記照明装置から前
記反射領域に向かう光の少なくとも一部を前記透過領域に導く光学素子と、を有すること
を特徴とする液晶表示装置。

適用例１の液晶表示装置は、第１基板と、第２基板と、液晶と、照明装置と、偏光板と
、画素と、光学素子と、を有している。第２基板は、第１基板に対向している。液晶は、
第１基板及び第２基板間に介在している。照明装置は、第１基板の液晶側とは反対側に配
置されており、第１基板に向けて光を照射する。偏光板は、第１基板と照明装置との間に
設けられている。画素は、透過領域と、反射領域とを有している。透過領域は、照明装置
からの光を透過させることで透過表示を行う。反射領域は、第２基板を介して液晶に入射
された光を反射させることで反射表示を行う。
この液晶表示装置では、第１基板及び偏光板の間に、照明装置から反射領域に向かう光
の少なくとも一部を透過領域に導く光学素子が設けられている。このため、照明装置から
反射領域に向かう光の少なくとも一部を透過表示に利用することができる。これにより、
この液晶表示装置では、光の利用効率を高めやすくすることができる。
また、この液晶表示装置では、光学素子が第１基板及び偏光板の間に設けられているの
で、液晶表示装置の薄型化を図りやすい。

［適用例２］上記の液晶表示装置であって、前記光学素子は、前記照明装置から入射さ
れた光の少なくとも一部を、前記透過領域側に向けて屈折させる傾斜面を有したプリズム
であることを特徴とする液晶表示装置。

適用例２では、光学素子がプリズムである。このプリズムは、照明装置から入射された
光の少なくとも一部を、透過領域側に向けて屈折させる傾斜面を有している。これにより
、照明装置から反射領域に向かう光の少なくとも一部を透過領域に導きやすくすることが
できる。また、プリズムが第１基板及び偏光板の間に設けられているので、プリズムと第
１基板との間の距離を短くしやすい。これにより、プリズムの厚みを低減しやすくするこ
とができ、液晶表示装置の薄型化を図りやすくすることができる。

［適用例３］上記の液晶表示装置であって、前記プリズムは、各前記画素において、平
面視で前記反射領域に重なる領域内に設けられていることを特徴とする液晶表示装置。

適用例３では、プリズムが各画素において平面視で反射領域に重なる領域内に設けられ
ているので、照明装置から透過領域に向かう光がプリズムに入射されにくい。このため、
照明装置から透過領域に向かう光がプリズムによって屈折を受けることを避けやすくする
ことができる。

［適用例４］上記の液晶表示装置であって、前記第１基板及び前記照明装置の間に介在
する樹脂層を有しており、前記プリズムは、前記樹脂層に形成されていることを特徴とす
る液晶表示装置。

適用例４の液晶表示装置は、樹脂層を有している。樹脂層は、第１基板及び照明装置の
間に介在している。そして、プリズムは、樹脂層に形成されている。樹脂層では、例えば
ガラスなどに比較して厚みを薄くしやすいので、液晶表示装置の薄型化を図りやすい。

［適用例５］上記の液晶表示装置であって、前記プリズムは、前記樹脂層の前記照明装
置側に設けられており、且つ前記第１基板側に向かって凸となる方向に設けられているこ
とを特徴とする液晶表示装置。

適用例５では、プリズムが樹脂層の照明装置側に設けられている。また、このプリズム
は、第１基板側に向かって凸となる方向に設けられている。この液晶表示装置では、プリ
ズムが第１基板側に向かって凸となる方向に設けられているので、例えば照明装置側に向
かって凸となる方向に設けられている場合に比較して、多くの光を透過領域に向けて射出
しやすくすることができる。

［適用例６］上記の液晶表示装置を表示部として有することを特徴とする電子機器。

適用例６の電子機器は、表示部としての液晶表示装置が、第１基板と、第２基板と、液
晶と、照明装置と、偏光板と、画素と、光学素子と、を有している。第２基板は、第１基
板に対向している。液晶は、第１基板及び第２基板間に介在している。照明装置は、第１
基板の液晶側とは反対側に配置されており、第１基板に向けて光を照射する。偏光板は、
第１基板と照明装置との間に設けられている。画素は、透過領域と、反射領域とを有して
いる。透過領域は、照明装置からの光を透過させることで透過表示を行う。反射領域は、
第２基板を介して液晶に入射された光を反射させることで反射表示を行う。
この液晶表示装置では、第１基板及び偏光板の間に、照明装置から反射領域に向かう光
の少なくとも一部を透過領域に導く光学素子が設けられている。このため、照明装置から
反射領域に向かう光の少なくとも一部を透過表示に利用することができる。これにより、
この液晶表示装置では、光の利用効率を高めやすくすることができる。また、この液晶表
示装置では、光学素子が第１基板及び偏光板の間に設けられているので、液晶表示装置の
薄型化を図りやすい。
そして、適用例６の電子機器は、光の利用効率を高めやすくすることができる液晶表示
装置を表示部として有しているので、表示部における光の利用効率を高めやすくすること
ができる。また、この電子機器では、薄型化を図りやすい液晶表示装置が表示部に適用さ
れているので、電子機器の薄型化が図られる。

実施形態について、半透過反射型の液晶装置の１つである表示装置を例に、図面を参照
しながら説明する。
第１実施形態における表示装置１は、図１に示すように、表示パネル３と、照明装置５
とを有している。

ここで、表示パネル３には、複数の画素７が設定されている。複数の画素７は、表示領
域８内で、図中のＸ方向及びＹ方向に配列しており、Ｘ方向を行方向とし、Ｙ方向を列方
向とするマトリクスＭを構成している。表示装置１は、照明装置５から表示パネル３に入
射された光を、表示パネル３に設定されている複数の画素７から選択的に表示面９を介し
て表示パネル３の外に射出することで、表示面９に画像を表示することができる。なお、
表示領域８とは、画像が表示され得る領域である。図１では、構成をわかりやすく示すた
め、画素７が誇張され、且つ画素７の個数が減じられている。

表示パネル３は、図１中のＡ−Ａ線における断面図である図２に示すように、液晶パネ
ル１０と、偏光板１１ａ及び１１ｂとを有している。
液晶パネル１０は、素子基板１３と、対向基板１５と、プリズム基板１７と、液晶１９
と、シール材２１とを有している。
素子基板１３には、表示面９側すなわち液晶１９側に、複数の画素７のそれぞれに対応
して、後述するスイッチング素子などが設けられている。

対向基板１５は、素子基板１３よりも表示面９側で素子基板１３に対向し、且つ素子基
板１３との間に隙間を有した状態で設けられている。対向基板１５には、表示パネル３に
おける表示面９の裏面に相当する面である底面２３側すなわち液晶１９側に、後述する位
相差膜などが設けられている。
プリズム基板１７は、素子基板１３よりも底面２３側で素子基板１３に対向した状態で
設けられている。プリズム基板１７には、後述するプリズム部が設けられている。

液晶１９は、素子基板１３及び対向基板１５の間に介在しており、表示パネル３の周縁
よりも内側で表示領域８を囲むシール材２１によって、素子基板１３及び対向基板１５の
間に封止されている。なお、本実施形態では、液晶１９の駆動方式として、ＦＦＳ（Frin
ge Field Switching）型の駆動方式が採用されている。

偏光板１１ａは、素子基板１３よりも底面２３側、すなわち液晶１９側とは反対側に設
けられている。偏光板１１ｂは、対向基板１５よりも表示面９側、すなわち液晶１９側と
は反対側に設けられている。表示装置１では、偏光板１１ａ及び１１ｂは、偏光板１１ａ
における光の透過軸の方向と、偏光板１１ｂにおける光の透過軸の方向とが、互いに直交
する方向に設定されている。偏光板１１ａ及び１１ｂは、それぞれ、透過軸の方向に偏光
軸を有する光を透過させることができる。

なお、偏光板１１ａと素子基板１３との間や、偏光板１１ｂと対向基板１５との間に、
光学補償フィルムを設けた構成も採用され得る。光学補償フィルムを設けることで、液晶
１９を表示面９の法線方向から見たときや、法線方向から傾斜した方向から見たときなど
の液晶１９の位相差を補償することができる。これにより、光漏れを低減することができ
、コントラストの向上が図られる。

光学補償フィルムとしては、屈折率異方性が負のディスコティック液晶分子等をハイブ
リッド配向させた負の一軸性媒体（例えば、富士フィルム製のＷＶフィルム）などが採用
され得る。また、屈折率異方性が正のネマチック液晶分子等をハイブリッド配向させた正
の一軸性媒体（例えば、日本石油製のＮＨフィルム）なども採用され得る。さらに、負の
一軸性媒体と正の一軸性媒体とを組み合わせた構成も採用され得る。その他、各方向の屈
折率がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚとなる二軸性媒体や、負のＣ−Ｐｌａｔｅ等も採用され得る。

照明装置５は、表示パネル３の底面２３側に設けられており、導光板３１と、光源３３
とを有している。導光板３１は、図２で見て表示パネル３の下側に設けられており、表示
パネル３の底面２３に対向する光射出面３５ｂを有している。
光源３３は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）や冷陰極管などが採用され、図
２で見て導光板３１の側面３５ａの左方に設けられている。

光源３３からの光は、導光板３１の側面３５ａに入射される。導光板３１に入射された
光は、導光板３１の中で反射を繰り返しながら光射出面３５ｂから射出される。光射出面
３５ｂから射出された光は、表示パネル３の底面２３から、偏光板１１ａを介して表示パ
ネル３に入射される。なお、導光板３１には、必要に応じて、光射出面３５ｂに拡散板が
設けられ、底面３５ｃに反射板が設けられる。

表示パネル３に設定されている複数の画素７は、それぞれ、表示面９から射出する光の
色が、図３に示すように、赤系（Ｒ）、緑系（Ｇ）及び青系（Ｂ）のうちの１つに設定さ
れている。つまり、マトリクスＭを構成する複数の画素７は、Ｒの光を射出する画素７ｒ
と、Ｇの光を射出する画素７ｇと、Ｂの光を射出する画素７ｂとを含んでいる。
なお、以下においては、画素７という表記と、画素７ｒ、７ｇ及び７ｂという表記とが
、適宜、使いわけられる。

ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の
色相に限定されず、青緑や黄緑を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や
青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で
５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光は、光の
波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を
呈する光は、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義さ
れ得る。

マトリクスＭでは、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素７が、１つの画素列４１を構成して
いる。１つの画素列４１内の各画素７は、光の色がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定され
ている。つまり、マトリクスＭは、複数の画素７ｒがＹ方向に配列した画素列４１ｒと、
複数の画素７ｇがＹ方向に配列した画素列４１ｇと、複数の画素７ｂがＹ方向に配列した
画素列４１ｂとを有している。そして、マトリクスＭでは、画素列４１ｒ、画素列４１ｇ
及び画素列４１ｂが、この順でＸ方向に沿って反復して並んでいる。
なお、以下においては、画素列４１という表記と、画素列４１ｒ、画素列４１ｇ及び画
素列４１ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。

各画素７は、図３中のＣ部の拡大図である図４に示すように、透過領域Ｔと、反射領域
Ｈとを有している。なお、図４では、構成をわかりやすく示すため、反射領域Ｈにハッチ
ングが施されている。
透過領域Ｔでは、図２に示す照明装置５から底面２３を介して液晶１９に入射された光
を表示面９側に透過させることによって、透過表示が行われる。

反射領域Ｈでは、表示面９を介して液晶１９に入射された外光を、後述する反射膜で表
示面９側に反射させて、その反射光を表示面９側に射出することによって、反射表示が行
われる。なお、外光とは、表示パネル３の表示面９から入射されるあらゆる光である。外
光には、例えば、屋内外の照明光や、太陽光などが含まれる。

ここで、液晶パネル１０の素子基板１３、対向基板１５及びプリズム基板１７のそれぞ
れの構成について、詳細を説明する。
素子基板１３は、図４中のＤ−Ｄ線における断面図である図５に示すように、第１基板
５１と、素子層５２とを有している。
第１基板５１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、
表示面９側に向けられた対向面５４ａと、底面２３側に向けられた外向面５４ｂとを有し
ている。

素子層５２は、第１基板５１の対向面５４ａに設けられている。素子層５２には、ゲー
ト絶縁膜５７と、絶縁膜５９と、配向膜６１と、スイッチング素子の１つであるＴＦＴ（
Thin Film Transistor）素子６３と、反射膜６５と、共通電極６７と、画素電極６９とが
含まれている。

ゲート絶縁膜５７は、第１基板５１の対向面５４ａに設けられている。絶縁膜５９は、
ゲート絶縁膜５７の表示面９側に設けられている。配向膜６１は、絶縁膜５９の表示面９
側に設けられている。
ＴＦＴ素子６３と、反射膜６５と、共通電極６７と、画素電極６９とは、それぞれ、各
画素７に対応して設けられている。

ＴＦＴ素子６３は、ゲート電極７１と、半導体層７２と、ソース電極７３と、ドレイン
電極７４とを有している。ゲート電極７１は、第１基板５１の対向面５４ａに設けられて
おり、ゲート絶縁膜５７によって表示面９側から覆われている。なお、ゲート電極７１の
材料としては、例えば、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む
合金などが採用され得る。また、ゲート絶縁膜５７の材料としては、例えば、酸化シリコ
ンや窒化シリコンなどの光透過性を有する材料が採用され得る。
半導体層７２は、例えばアモルファスシリコンで構成されており、ゲート絶縁膜５７を
挟んでゲート電極７１に対向する位置に設けられている。

ソース電極７３は、ゲート絶縁膜５７の表示面９側に設けられており、一部が半導体層
７２に重なっている。ドレイン電極７４は、ゲート絶縁膜５７の表示面９側に設けられて
おり、一部が半導体層７２に重なっている。上記の構成を有するＴＦＴ素子６３は、半導
体層７２がゲート電極７１と、ソース電極７３及びドレイン電極７４との間に位置する所
謂ボトムゲート型である。
上記の構成を有するＴＦＴ素子６３は、絶縁膜５９によって表示面９側から覆われてい
る。なお、絶縁膜５９の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル
系の樹脂などの光透過性を有する材料が採用され得る。

反射膜６５は、第１基板５１の対向面５４ａに設けられており、平面視で反射領域Ｈに
重なっている。反射膜６５の材料としては、例えばアルミニウムなどの光反射性を有する
材料が採用され得る。
共通電極６７は、第１基板５１の対向面５４ａ側に設けられており、平面視で透過領域
Ｔ及び反射領域Ｈに重なっている。共通電極６７とゲート電極７１とは、互いにＹ方向に
間隔をあけた状態で設けられている。共通電極６７の材料としては、例えばＩＴＯ（Indi
um Tin Oxide）などの光透過性を有する材料が採用され得る。
共通電極６７は、ゲート絶縁膜５７によって表示面９側から覆われている。

画素電極６９は、絶縁膜５９の表示面９側に設けられている。画素電極６９は、絶縁膜
５９に設けられたコンタクトホール７５を介して、ドレイン電極７４につながっている。
画素電極６９の材料としては、例えばＩＴＯなどの光透過性を有する材料が採用され得る
。
配向膜６１は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、絶縁
膜５９及び画素電極６９を表示面９側から覆っている。なお、配向膜６１には、配向処理
が施されている。

対向基板１５は、第２基板８１と、対向層８２とを有している。第２基板８１は、例え
ばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた
外向面８３ａと、底面２３側に向けられた対向面８３ｂとを有している。
対向層８２は、第２基板８１の対向面８３ｂに設けられている。対向層８２には、光吸
収層８５と、カラーフィルタ８７と、オーバーコート層９１と、配向膜９２と、配向膜９
３と、位相差板９５とが含まれている。

光吸収層８５は、第２基板８１の対向面８３ｂに設けられており、領域８６にわたって
いる。光吸収層８５は、平面視で格子状に設けられており、各画素７を区画している。表
示装置１では、各画素７は、光吸収層８５によって囲まれた領域であると定義され得る。
光吸収層８５の材料としては、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高
い材料を含有する樹脂などが採用され得る。

カラーフィルタ８７は、各画素７に対応して設けられている。カラーフィルタ８７は、
第２基板８１の対向面８３ｂ側に設けられており、光吸収層８５によって囲まれた各領域
、すなわち各画素７の領域を底面２３側から覆っている。
ここで、カラーフィルタ８７は、入射された光のうち所定の波長域の光を透過させるこ
とができる。カラーフィルタ８７は、画素７ｒ、画素７ｇ及び画素７ｂごとに異なる色に
着色された樹脂などで構成されている。画素７ｒに対応するカラーフィルタ８７は、Ｒの
光を透過させることができる。画素７ｇに対応するカラーフィルタ８７はＧの光を透過さ
せ、画素７ｂに対応するカラーフィルタ８７はＢの光を透過させることができる。なお、
以下において、各カラーフィルタ８７に対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合に、カラー
フィルタ８７ｒ、８７ｇ及び８７ｂという表記が用いられる。

オーバーコート層９１は、光吸収層８５及びカラーフィルタ８７の底面２３側に設けら
れている。オーバーコート層９１は、光透過性を有する樹脂などで構成されており、光吸
収層８５及びカラーフィルタ８７を底面２３側から覆っている。
配向膜９２は、オーバーコート層９１の底面２３側に設けられている。配向膜９２は、
例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、オーバーコート層９１
を底面２３側から覆っている。配向膜９２には、底面２３側に配向処理が施されている。

位相差板９５は、例えば液晶化合物を含む材料で構成されており、オーバーコート層９
１の底面２３側に設けられている。位相差板９５は、平面視で反射領域Ｈに重なる領域に
設けられている。位相差板９５は、この位相差板９５に入射された光に、１／２波長の位
相差を与える。
位相差板９５は、液晶化合物を含む液状の材料を硬化させることによって設けられ得る
。液晶化合物を含む液状の材料を硬化させるときに、液晶化合物の配向状態が配向膜９２
によって規制される。
配向膜９３は、配向膜９２及び位相差板９５の底面２３側に設けられている。配向膜９
３は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、配向膜９２及び
位相差板９５を底面２３側から覆っている。配向膜９３には、底面２３側に配向処理が施
されている。

プリズム基板１７は、第１基板５１の外向面５４ｂに設けられている。プリズム基板１
７には、平面視で各反射領域Ｈに重なる領域にプリズム部９９が設けられている。各プリ
ズム部９９は、Ｙ方向の幅が、平面視で領域１０１内に設けられている。領域１０１は、
１つの反射領域Ｈと、この反射領域ＨにＹ方向に隣り合う領域８６とを含んでいる。
従って、各画素７において、プリズム部９９のＹ方向における幅は、反射領域Ｈ内にお
さまっている。

プリズム部９９は、プリズム基板１７に、底面２３側から表示面９側に向かって凹とな
る凹部を形成した構成を有している。プリズム部９９を構成する凹部内には、例えば空気
などの媒質が介在している。これにより、プリズム部９９は、底面２３側から表示面９側
に向かって凸となるプリズムを構成する。

なお、プリズム基板１７の材料としては、例えば、光学ガラスやアクリル系の樹脂など
の光透過性を有し、且つ屈折率が大きい材料が採用され得る。表示装置１では、プリズム
基板１７の材料としてアクリル系の樹脂が採用されている。
プリズム部９９は、プリズム基板１７にスタンパなどによって凹部を形成することによ
って形成され得る。

素子基板１３及び対向基板１５の間に介在する液晶１９は、配向膜６１と配向膜９３と
の間に介在している。液晶パネル１０では、各画素７において、透過領域Ｔと反射領域Ｈ
とで液晶１９の厚みが異なる所謂マルチギャップ構造が採用されている。
透過領域Ｔにおいて、液晶１９は、Ｌ１なる厚みを有している。これに対し、反射領域
Ｈでは、液晶１９の厚みＬ２が、Ｌ１＞Ｌ２となるように、位相差板９５の厚みが設定さ
れている。なお、液晶パネル１０では、Ｌ１は、Ｌ２の約２倍に設定されている。

ここで、位相差板９５は、図５中のＥ−Ｅ線における断面図である図６に示すように、
Ｘ方向に並ぶ複数の画素７間にわたって一連している。つまり、位相差板９５は、Ｘ方向
に並ぶ複数の反射領域Ｈに、図３に示すマトリクスＭの画素行４２単位で重なっている。
また、プリズム部９９も、Ｘ方向に並ぶ複数の画素７間にわたって一連している。従っ
て、プリズム部９９も、Ｘ方向に並ぶ複数の反射領域Ｈに、画素行４２単位で重なってい
る。

ここで、各画素７におけるＴＦＴ素子６３、共通電極６７及び画素電極６９の配置につ
いて説明する。
画素電極６９は、平面図である図７に示すように、画素７の領域にわたって設けられて
おり、複数のスリット部１１１を有している。図７では、構成をわかりやすく示すため、
画素電極６９にハッチングが施されている。
複数のスリット部１１１は、Ｙ方向に所定間隔で並んでいる。各スリット部１１１は、
Ｙ方向とは交差する方向に沿って延びている。なお、各スリット部１１１が延びる方向は
、Ｘ方向から傾斜している。

共通電極６７は、画素電極６９を覆う領域に設けられている。Ｘ方向に隣り合う画素７
間において、共通電極６７同士は、共通線１１３によって接続されている。
各画素７において、共通電極６７及び画素電極６９は、それぞれの周縁部が領域８６に
重なっている。
なお、図５に示す反射膜６５及び位相差板９５は、図７に示す境界部１１５よりも反射
領域Ｈ側で、共通電極６７に重なっている。従って、反射領域Ｈは、各画素７と反射膜６
５と位相差板９５とが、平面視で重なる領域であると定義され得る。また、透過領域Ｔは
、各画素７から反射領域Ｈを除いた領域と、共通電極６７とが、平面視で重なる領域であ
ると定義され得る。

ＴＦＴ素子６３は、図７で見て透過領域Ｔの左側の領域８６内に設けられている。画素
電極６９は、透過領域Ｔ内から領域８６内に及んでおり、領域８６内に設けられたコンタ
クトホール７５を介してドレイン電極７４につながっている。Ｘ方向に隣り合う画素７間
において、ゲート電極７１同士は、ゲート線１１７によって接続されている。また、Ｙ方
向に隣り合う画素７間において、ソース電極７３同士は、データ線１１９によって接続さ
れている。
なお、図５におけるＴＦＴ素子６３、共通電極６７及び画素電極６９の断面は、図７中
のＪ−Ｊ線における断面に相当している。

共通電極６７と画素電極６９との間に電圧を印加すると、共通電極６７と画素電極６９
との間に電界が発生する。液晶パネル１０では、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態からＯＮ状
態に変化すると、共通電極６７と画素電極６９との間に電界が発生する。この電界によっ
て液晶１９の配向状態を変化させることができる。
表示装置１では、照明装置５から表示パネル３に光を照射した状態で、液晶１９の配向
状態を画素７ごとに変化させることにより、表示が制御される。液晶１９の配向状態は、
ＴＦＴ素子６３のＯＦＦ状態及びＯＮ状態を切り替えることによって変化し得る。

配向膜６１及び配向膜９３のそれぞれには、配向処理が施されている。配向処理が施さ
れた配向膜６１及び配向膜９３によって、液晶１９の初期的な配向状態が規制される。
図８（ａ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときの透過領域Ｔにおける偏光状態を示
す図であり、図８（ｂ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときの透過領域Ｔにおける偏光
状態を示す図である。
表示装置１では、液晶１９の初期的な配向方向１２１は、図８（ａ）に示すように、偏
光板１１ａの透過軸１２３ａに沿った方向に設定されている。
ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態に切り替わると、液晶１９の配向方向１２１は、図８（ｂ）
に示すように、平面視で偏光板１１ａの透過軸１２３ａに対してこの図で見て反時計方向
に４５度の傾きを有する方向に変化する。

図９（ａ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときの反射領域Ｈにおける偏光状態を示
す図であり、図９（ｂ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときの反射領域Ｈにおける偏光
状態を示す図である。
反射領域Ｈにおける液晶１９の配向方向１２１は、図９（ａ）及び図９（ｂ）のそれぞ
れに示すように、透過領域Ｔと同様である。

なお、図８（ａ）及び図８（ｂ）、並びに図９（ａ）及び図９（ｂ）において、Ｘ'方
向及びＹ'方向は、Ｘ'方向が偏光板１１ａの透過軸１２３ａに沿った方向を示し、Ｙ'方
向が偏光板１１ｂの透過軸１２３ｂに沿った方向を示している。Ｘ'方向及びＹ'方向は、
ＸＹ平面内で互いに直交する任意の２方向である。

透過領域Ｔでは、底面２３側から偏光板１１ａを経て入射された入射光は、図８（ａ）
及び図８（ｂ）に示すように、偏光板１１ａの透過軸１２３ａに沿った偏光軸を有する直
線偏光１２５として液晶１９に入射される。
液晶１９に入射された直線偏光１２５は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときに、図８
（ａ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１に沿っている。このため、液晶
１９に入射された直線偏光１２５は、偏光状態が維持されたまま直線偏光１２５として偏
光板１１ｂに入射される。
偏光板１１ｂに入射された直線偏光１２５は、偏光軸が偏光板１１ｂの透過軸１２３ｂ
に対して直交しているため、偏光板１１ｂによって吸収される。

他方で、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときに、直線偏光１２５は、図８（ｂ）に示すよ
うに、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１とは交差している。このため、液晶１９に入射
された直線偏光１２５は、液晶１９によって１／２波長の位相差が与えられ、直線偏光１
２５の偏光軸に直交する偏光軸を有する直線偏光１２７として偏光板１１ｂに入射される
。
偏光板１１ｂに入射された直線偏光１２７は、偏光軸が偏光板１１ｂの透過軸１２３ｂ
の方向に沿っているため、偏光板１１ｂを透過する。
このように、透過領域Ｔでは、ＴＦＴ素子６３のＯＮ状態及びＯＦＦ状態の切り替えに
より、透過表示が制御される。

反射領域Ｈでは、表示面９側から偏光板１１ｂを経て入射された入射光は、図９（ａ）
及び図９（ｂ）に示すように、偏光板１１ｂの透過軸１２３ｂに沿った偏光軸を有する直
線偏光１２９として位相差板９５に入射される。
ここで、位相差板９５の遅相軸１３１は、平面視でＸ'方向に対してこれらの図で見て
反時計方向に６７．５度の傾きを有する方向に設定されている。
従って、位相差板９５に入射された直線偏光１２９は、１／２波長の位相差が与えられ
、直線偏光１３３として液晶１９に入射される。直線偏光１３３の偏光軸は、平面視でＸ
'方向に対して図９（ａ）及び図９（ｂ）で見て反時計方向に４５度の傾きを有する方向
に沿っている。

液晶１９に入射された直線偏光１３３は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときに、図９
（ａ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１とは交差している。このため、
液晶１９に入射された直線偏光１３３は、１／４波長の位相差が与えられ、この図で見て
左回りの円偏光１３５として反射膜６５に向けて射出される。
円偏光１３５は、反射膜６５で反射され、この図で見て右回りすなわち円偏光１３５と
は逆回転の円偏光１３７として液晶１９に入射される。
液晶１９に入射された円偏光１３７は、１／４波長の位相差が与えられ、平面視でＸ'
方向に対してこの図で見て反時計方向に１３５度の傾きを有する方向に沿った偏光軸を有
する直線偏光１３９として位相差板９５に入射される。

位相差板９５に入射された直線偏光１３９は、１／２波長の位相差が与えられ、平面視
でＸ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１４１として偏光板１１ｂに入射される。
偏光板１１ｂに入射された直線偏光１４１は、偏光軸が偏光板１１ｂの透過軸１２３ｂ
に対して直交しているため、偏光板１１ｂによって吸収される。

他方で、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときに、液晶１９に入射された直線偏光１３３は
、図９（ｂ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１に沿っているため、偏光
状態が維持されたまま直線偏光１３３として反射膜６５に向けて射出される。
反射膜６５に向けて射出された直線偏光１３３は、偏光状態が維持されたまま反射膜６
５で反射され、液晶１９に入射される。

反射膜６５から液晶１９に入射された直線偏光１３３は、偏光状態が維持されたまま位
相差板９５に入射される。位相差板９５に入射された直線偏光１３３は、１／２波長の位
相差が与えられ、平面視でＹ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１４３として偏光板
１１ｂに入射される。偏光板１１ｂに入射された直線偏光１４３は、偏光軸が偏光板１１
ｂの透過軸１２３ｂの方向に沿っているため、偏光板１１ｂを透過する。
このように、反射領域Ｈにおいても、透過領域Ｔと同様にＴＦＴ素子６３のＯＮ状態及
びＯＦＦ状態の切り替えにより、反射表示が制御される。

ここで、前述したように、液晶パネル１０は、プリズム基板１７を有している。
照明装置５から液晶パネル１０に向かう光は、プリズム基板１７及び素子基板１３を経
て液晶１９に入射される。このとき、照明装置５から各領域１０１に向かう光１５１は、
液晶パネル１０及びプリズム基板１７を模式的に示す断面図である図１０に示すように、
プリズム部９９に入射される。

プリズム部９９に入射された光１５１は、プリズム部９９で屈折する。表示装置１では
、各プリズム部９９で屈折した屈折光１５１ａは、領域１０１にＹ方向に隣り合う各透過
領域Ｔに向かう。
プリズム部９９は、入射された光１５１を屈折光１５１ａとして透過領域Ｔに導く。

ここで、プリズム部９９の形状の設定について説明する。
プリズム部９９は、図１０中のＫ部の拡大図である図１１に示すように、頂点１５３と
、傾斜面１５５と、底点１５７とを有している。傾斜面１５５は、第１基板５１の対向面
５４ａに対して傾斜している。傾斜面１５５から透過領域Ｔに向かう屈折光１５１ａは、
仮想線分１６１と仮想線分１６３とによって挟まれた範囲内に規定される。
仮想線分１６１は、頂点１５３と、反射領域Ｈ及び透過領域Ｔの境界部とを結ぶ線分で
ある。仮想線分１６３は、底点１５７と、透過領域Ｔ及び領域８６の境界部とを結ぶ線分
である。

表示装置１では、反射領域Ｈ及び透過領域Ｔの境界部は、反射膜６５の端部６５ａであ
る。また、透過領域Ｔ及び領域８６の境界部は、光吸収層８５の端部８５ａである。
ここで、プリズム部９９の底点１５７と反射膜６５との間のＺ方向における間隔をＺ１
と仮定し、頂点１５３と反射膜６５との間のＺ方向における間隔をＺ２と仮定し、端部６
５ａと端部８５ａとの間のＺ方向における間隔をＺ３と仮定する。なお、Ｚ方向は、Ｘ方
向及びＹ方向に直交する方向を示す。

また、頂点１５３と底点１５７とのＹ方向における間隔をＮと仮定し、端部６５ａと端
部８５ａとの間のＹ方向における間隔をＰと仮定する。光１５１は、傾斜面１５５に対し
て角度αでプリズム部９９に入射される。傾斜面１５５から透過領域Ｔに向かう屈折光１
５１ａは、傾斜面１５５の法線１６５に対して角度βでプリズム部９９から射出される。

上記の仮定に基づいて、Ｚ２は、下記（１）式によって算出され得る。
Ｚ２＝Ｎ×ｔａｎ（α＋β）…（１）
ここで、屈折光１５１ａが仮想線分１６１よりも透過領域Ｔ側に向かう条件として、Ｚ
２は、下記（２）式によって規定される。
Ｚ２＞Ｎ×ｔａｎ（α＋β）…（２）

また、頂点１５３と底点１５７とのＺ方向における間隔は、下記（３）式によって算出
され得る。
Ｚ１−Ｚ２＝Ｎ／（ｔａｎα）…（３）
（２）式及び（３）式から、屈折光１５１ａが仮想線分１６１よりも透過領域Ｔ側に向
かう条件として、下記（４）式が導出される。
Ｚ１＞Ｎ×ｔａｎ（α＋β）＋Ｎ／（ｔａｎα）…（４）

また、上記の仮定に基づいて、底点１５７と端部８５ａとの間のＺ方向における間隔は
、下記（５）式によって算出され得る。
Ｚ１＋Ｚ３＝Ｐ×ｔａｎ（α＋β）…（５）
ここで、屈折光１５１ａが仮想線分１６３よりも透過領域Ｔ側に向かう条件として、下
記（６）式が規定される。
Ｚ１＋Ｚ３＜Ｐ×ｔａｎ（α＋β）…（６）

さらに、光１５１の屈折の条件として、下記（７）式及び（８）式が規定される。
ｎ１×ｓｉｎ（９０°−α）＝ｎ２×ｓｉｎβ…（７）
ｎ２＞ｎ１…（８）
（７）式及び（８）式において、ｎ１は、プリズム部９９の２つの傾斜面１５５と偏光
板１１ａ（図５）とによって囲まれる領域内の媒質の屈折率である。ｎ２は、プリズム基
板１７の屈折率である。

上記の（４）式、（６）式、（７）式及び（８）式に基づいて、傾斜面１５５が規定さ
れ得る。これにより、プリズム部９９の形状が設定され得る。
なお、図１１に示す間隔Ｚ３が、間隔Ｚ１や間隔Ｚ２に比べて無視できる程度に小さい
場合には、間隔Ｚ１を規定する条件として、下記（９）式が導出される。
Ｐ×ｔａｎ（α＋β）＞Ｚ１＞Ｎ×ｔａｎ（α＋β）＋Ｎ／（ｔａｎα）…（９）

第１実施形態において、表示装置１が液晶表示装置に対応し、プリズム基板１７が樹脂
層に対応し、プリズム部９９が光学素子としてのプリズムに対応している。
表示装置１では、照明装置５と液晶パネル１０との間にプリズム基板１７が設けられて
いる。プリズム基板１７には、平面視で領域１０１（図１０）に重なるプリズム部９９が
設けられている。このため、照明装置５から領域１０１に向かう光１５１の少なくとも一
部を透過領域Ｔに導くことができる。

これにより、照明装置５から領域１０１に向かう光１５１の少なくとも一部を透過表示
に利用することができるので、光の利用効率を高めやすくすることができる。この結果、
各画素７における輝度を高めやすくすることができる。逆に、照明装置５の輝度を低く保
つことによって消費電力を下げても、各画素７における輝度の低下を抑えやすくすること
ができる。

また、表示装置１では、プリズム基板１７が偏光板１１ａと第１基板５１との間に介在
している。このため、偏光板１１ａがプリズム基板１７と第１基板５１との間に介在して
いる場合に比較して、頂点１５３と反射膜６５との間のＺ方向における間隔Ｚ２（図１１
）を小さくしやすくすることができる。
間隔Ｚ２が大きくなると、頂点１５３と底点１５７との間のＺ方向における間隔、すな
わちプリズム部９９の厚みも大きくなりやすい。これに対し、表示装置１では、間隔Ｚ２
を小さくしやすいので、プリズム部９９の厚みを小さくしやすい。このため、表示装置１
の薄型化を図りやすくすることができる。

また、表示装置１では、各画素７において、プリズム部９９の底点１５７が反射領域Ｈ
内におさまっている。このため、照明装置５から透過領域Ｔに向かう光は、プリズム部９
９に入射されにくい。従って、照明装置５から透過領域Ｔに向かう光がプリズム部９９に
よって屈折を受けることを避けやすくすることができる。

また、表示装置１では、プリズム基板１７の材料として樹脂が採用されている。樹脂で
は、例えばガラスなどに比較して厚みを薄くしやすいので、表示装置１の薄型化を一層図
りやすくすることができる。

第２実施形態について説明する。
第２実施形態における表示装置１は、各画素７において各反射領域Ｈが、図３中のＣ部
の拡大図である図１２に示すように、島状に設定されていることを除いては第１実施形態
における表示装置１と同様の構成を有している。
従って、以下の第２実施形態では、重複した説明を避けるため、第１実施形態と同一の
構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略し、第１実施形態と異なる点のみ
について説明する。

第２実施形態では、各反射領域Ｈは、平面視で各透過領域Ｔに囲まれている。各反射領
域Ｈが島状に設定されているため、反射膜６５及び位相差板９５並びにプリズム部９９も
島状に設けられている。
プリズム部９９は、平面図である図１３に示すように、斜面１７１及び斜面１７３を有
している。

プリズム部９９は、図１２中のＱ−Ｑ線における断面図である図１４に示すように、Ｙ
方向における幅が反射領域Ｈ内におさまっている。
斜面１７１は、第１実施形態と同様に、前述した（４）式、（６）式、（７）式及び（
８）式に基づいて規定され得る。

また、プリズム部９９は、図１２中のＳ−Ｓ線における断面図である図１５に示すよう
に、Ｘ方向における幅が反射領域Ｈ内におさまっている。
斜面１７３も、前述した（４）式、（６）式、（７）式及び（８）式に基づいて規定さ
れ得る。
斜面１７１及び斜面１７３が（４）式、（６）式、（７）式及び（８）式に基づいて規
定され得るので、プリズム部９９の形状が第１実施形態と同様に設定され得る。
第２実施形態における表示装置１においても、第１実施形態における表示装置１と同様
の効果が得られる。

なお、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、液晶１９の駆動方式としてＦＦ
Ｓ型の駆動方式が採用されているが、駆動方式はこれに限定されず、ＩＰＳ（In Plane S
witching）型、ＶＡ（Vertical Alignment）型等の種々の方式が採用され得る。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、位相差板９５が対向基板１５側
に設けられている場合を例に説明したが、位相差板９５はこれに限定されず、素子基板１
３側に設けられていてもよい。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、入射された光に対して１／２波
長の位相差を与える位相差板９５を例に説明したが、位相差板９５が与える位相差はこれ
に限定されず、１／４波長、１／８波長などの種々の位相差が採用され得る。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、表示装置１の構成として、プリ
ズム部９９が設けられたプリズム基板１７を有する構成が採用されているが、表示装置１
の構成はこれに限定されない。表示装置１の構成としては、第１基板５１にプリズム部９
９を設けた構成も採用され得る。この構成によれば、プリズム基板１７を省略することが
できるので、表示装置１の薄型化を一層図りやすくすることができる。

また、プリズム部９９を構成する凹部内の媒質は、空気に限定されず、ｎ２＞ｎ１の条
件を満たすものであれば任意の媒質が採用され得る。
プリズム部９９を構成する凹部内の媒質が空気であることは、ｎ２とｎ１との差を大き
くしやすいため、屈折光１５１ａと法線１６５との角度βを大きくすることができる。こ
れにより、頂点１５３と反射膜６５との間のＺ方向における間隔Ｚ２を小さくしやすくす
ることができる。従って、プリズム部９９を構成する凹部内の媒質が空気であることは、
表示装置１の薄型化を図る観点から好ましい。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、プリズム部９９は、プリズム部
９９を構成する凹部内に媒質が介在することによって、底面２３側から表示面９側に向か
って凸となるプリズムを構成している。プリズム部９９の構成は、これに限定されず、図
１６に示すように、表示面９側から底面２３側に向かって凸となる構成も採用され得る。

しかしながら、図１６に示す構成では、プリズム部９９と反射膜６５との間のＺ方向に
おける間隔Ｚ４が、図１０に示す構成よりも大きくなってしまう。間隔Ｚ４を縮めると、
屈折光１５１ａは、図１７に示すように、一部が領域１０１の内側に向かってしまう。
これに対し、図１０に示す構成では、多くの屈折光１５１ａを透過領域Ｔに向けて射出
しやすくすることができる。また、間隔Ｚ４を縮めやすくすることもできる。このため、
図１０に示す構成は、図１６に示す構成よりも好ましい。

上述した表示装置１は、例えば、図１８に示す電子機器５００の表示部５１０に適用さ
れ得る。この電子機器５００は、携帯電話機である。この電子機器５００は、操作ボタン
５１１を有している。表示部５１０は、操作ボタン５１１で入力した内容や着信情報を始
めとする様々な情報について表示を行うことができる。この電子機器５００では、表示部
５１０に表示装置１が適用されているので、表示部５１０における光の利用効率を高めや
すくすることができる。

なお、電子機器５００としては、携帯電話機に限られず、モバイルコンピュータ、デジ
タルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、カーナビゲーションシステム用の表示機器な
どの車載機器、オーディオ機器等の種々の電子機器が挙げられる。また、表示パネル３や
液晶パネル１０は、それぞれ、プロジェクタ等の投写型表示装置にライトバルブとして適
用され得る。

第１実施形態における表示装置の主要構成を示す分解斜視図。 図１中のＡ−Ａ線における断面図。 第１実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。 図３中のＣ部の拡大図。 図４中のＤ−Ｄ線における断面図。 図５中のＥ−Ｅ線における断面図。 第１実施形態におけるＴＦＴ素子、共通電極及び画素電極の配置を説明する平面図。 第１実施形態における表示パネルの透過領域における偏光状態を説明する図。 第１実施形態における表示パネルの反射領域における偏光状態を説明する図。 第１実施形態における液晶パネル及びプリズム基板を模式的に示す断面図。 図１０中のＫ部の拡大図。 第２実施形態における表示装置の図３中のＣ部の拡大図。 第２実施形態におけるプリズム部を示す平面図。 図１２中のＱ−Ｑ線における断面図。 図１２中のＳ−Ｓ線における断面図。 第１実施形態及び第２実施形態のそれぞれにおけるプリズム部の他の例を示す断面図。 第１実施形態及び第２実施形態のそれぞれにおけるプリズム部の他の例を示す断面図。 本実施形態における表示装置が適用された電子機器の斜視図。 従来技術における画素を模式的に示す断面図。

符号の説明

１…表示装置、３…表示パネル、５…照明装置、７…画素、１０…液晶パネル、１１ａ
，１１ｂ…偏光板、１３…素子基板、１５…対向基板、１７…プリズム基板、１９…液晶
、３１…導光板、３３…光源、５１…第１基板、５２…素子層、５４ａ…対向面、５４ｂ
…外向面、６５…反射膜、６５ａ…端部、８１…第２基板、８３ａ…外向面、８３ｂ…対
向面、８２…対向層、８５…光吸収層、８５ａ…端部、９９…プリズム部、１０１…領域
、１５１…光、１５１ａ…屈折光、１５３…頂点、１５５…傾斜面、１５７…底点、１６
５…法線、１７１…斜面、１７３…斜面、５００…電子機器、Ｈ…反射領域、Ｔ…透過領
域。

Claims (6)

1. 第１基板と、
   前記第１基板に対向する第２基板と、
   前記第１基板及び前記第２基板の間に介在する液晶と、
   前記第１基板の前記液晶側とは反対側に配置され、前記第１基板に向けて光を照射する
   照明装置と、
   前記第１基板と前記照明装置との間に設けられた偏光板と、
   前記照明装置からの光を透過させることで透過表示を行う透過領域と、前記第２基板を
   介して前記液晶に入射された光を反射させることで反射表示を行う反射領域と、を有する
   画素と、
   前記第１基板及び前記偏光板の間に配置され、前記照明装置から前記反射領域に向かう
   光の少なくとも一部を前記透過領域に導く光学素子と、
   を有することを特徴とする液晶表示装置。
2. 前記光学素子は、前記照明装置から入射された光の少なくとも一部を、前記透過領域側
   に向けて屈折させる傾斜面を有したプリズムであることを特徴とする請求項１に記載の液
   晶表示装置。
3. 前記プリズムは、各前記画素において、平面視で前記反射領域に重なる領域内に設けら
   れていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
4. 前記第１基板及び前記照明装置の間に介在する樹脂層を有しており、
   前記プリズムは、前記樹脂層に形成されていることを特徴とする請求項２又は３に記載
   の液晶表示装置。
5. 前記プリズムは、前記樹脂層の前記照明装置側に設けられており、且つ前記第１基板側
   に向かって凸となる方向に設けられていることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装
   置。
6. 請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液晶表示装置を表示部として有することを特徴
   とする電子機器。

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