JP2009251200A - Defect repair system, server, defect repair device for use in the defect repair system, defect repair program, information recording medium, and defect repair device - Google Patents

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亜希子 筒井
Kiyomi Kiyoi
清美 清井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To automatically perform proper repair in conformity with a defect without relying upon a new defect repair technique even when an already registered defect repair technique cannot be applied to a defect at a wiring part. <P>SOLUTION: Defect repair devices B1 to Bn are connectable to a server via a telecommunication circuit. The defect repair devices B1 to Bn include a defect position specifying means D1 specifying a defect position, a determination means D2 determining the existence of the defect repair technique coping with the defect position, a repair technique search means D3 searching for a usable defect repair technique from among the plurality of defect repair techniques stored in the server C when it is determined that there is no corresponding defect repair technique, a repair technique conversion means D4 converting the searched defect repair technique into one coping with the wiring part with the defect, and defect repair means D5 repairing the wiring part with the defect. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば有機EL(エレクトロルミネッセンス)や液晶等のフラットパネルディスプレイに関し、特にTFT基板等の基板上に形成されたデバイスパターンや配線パターンの欠陥を修復する欠陥修復システム、サーバ、欠陥修復プログラム、情報記録媒体及び欠陥修復装置に関する。   The present invention relates to a flat panel display such as an organic EL (electroluminescence) or liquid crystal, for example, and in particular, a defect repair system, a server, and a defect repair program for repairing a defect in a device pattern or a wiring pattern formed on a substrate such as a TFT substrate. The present invention relates to an information recording medium and a defect repair apparatus.

従来、FPD(Flat Panel Display)が大型化するにつれ、TFT(Thin Film Transistor)基板の歩留まりが低下するため、欠陥箇所を修復するレーザリペア工程が必須となっている。
しかしながら、製造ラインにおけるレーザリペア工程は、作業者が欠陥を目視して、欠陥修復法を決定し、欠陥の修復作業を行うものである。
このために、タクトタイムがかかりすぎ、レーザリペア工程の作業速度が、製造ライン全体の量産速度に追従できないという問題があった。
Conventionally, as the size of an FPD (Flat Panel Display) increases, the yield of a TFT (Thin Film Transistor) substrate decreases. Therefore, a laser repair process for repairing a defective portion has become essential.
However, in the laser repair process in the production line, an operator visually observes a defect, determines a defect repair method, and performs a defect repair operation.
For this reason, there has been a problem that it takes too much tact time and the working speed of the laser repair process cannot follow the mass production speed of the entire production line.

上記の問題を解決しようとして、特許文献1に開示された欠陥修復装置がある。
特許文献1に開示された欠陥修復装置は、基板情報、パネル情報及び欠陥情報を含む情報を入力する入力部と、特定のパネルに生じている複数の欠陥の中から、修復対象の欠陥について、その位置を含む特定事項を前記情報に基づいて求める演算部と、この特定事項を修復機に対して前記修復対象の欠陥を修復するためのデータとして出力する出力部とを有するものである。
特開2005−221974号公報
In order to solve the above problem, there is a defect repair device disclosed in Patent Document 1.
The defect repair apparatus disclosed in Patent Document 1 is an input unit that inputs information including substrate information, panel information, and defect information, and a defect to be repaired from among a plurality of defects occurring in a specific panel. A calculation unit that obtains a specific matter including the position based on the information, and an output unit that outputs the specific matter as data for repairing the defect to be repaired to the repair machine.
Japanese Patent Laid-Open No. 2005-221974

しかしながら、上記特許文献1に記載の欠陥修復装置では、既に登録されている欠陥修復手法によって対応できない欠陥が配線部に生じている場合、欠陥修復装置のオペレータが手作業によって欠陥を修復しなければならず、効率的な欠陥修復を行うことができないという問題があった。   However, in the defect repair apparatus described in Patent Document 1, if a defect that cannot be dealt with by the already registered defect repair technique occurs in the wiring portion, the operator of the defect repair apparatus must repair the defect manually. In other words, there is a problem that efficient defect repair cannot be performed.

そこで本発明は、既に登録された欠陥修復手法が配線部にある欠陥に適用できないときにも、新たな欠陥修復手法によることなく、欠陥に応じた適切な修復を自動的に行うことができる欠陥修復システム、サーバ、欠陥修復システムに用いる欠陥修復装置、欠陥修復プログラム、情報記録媒体及び欠陥修復装置の提供を目的としている。   Therefore, the present invention provides a defect that can automatically perform appropriate repair according to a defect without using a new defect repair method even when a registered defect repair method cannot be applied to a defect in a wiring portion. An object of the present invention is to provide a repair system, a server, a defect repair device used in the defect repair system, a defect repair program, an information recording medium, and a defect repair device.

上記目的を達成するための本発明の欠陥修復システムは、基板に配列された複数の配線部の基準となる欠陥のない基準画像、及びそれら複数の配線部にある欠陥を修復するための複数の欠陥修復手法を記憶したサーバに、それら配線部を撮影するための撮影部と、それらの欠陥を修復するための基板修復部とを備えた欠陥修復装置を電気通信回線を介して接続可能なものであり、上記撮影部により撮影した配線部の撮影画像と、上記基準画像とを照合して欠陥位置を特定する欠陥位置特定手段と、特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法の有無を判別する判別手段と、特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法がないと判別されたときには、サーバに記憶されている複数の欠陥修復手法の中から、転用可能な欠陥修復手法を索出する修復手法索出手段と、索出された欠陥修復手法を、当該特定した欠陥位置の欠陥に対応できるように変換する修復手法変換手段と、変換された欠陥修復手法に基づき、当該欠陥の修復を上記基板修復部を介して行う欠陥修復手段とを欠陥修復装置が有している。   In order to achieve the above object, a defect repair system according to the present invention includes a defect-free reference image serving as a reference for a plurality of wiring portions arranged on a substrate, and a plurality of defects for repairing defects in the plurality of wiring portions. A server capable of storing defect repair techniques that can be connected to a defect repair device having an image capturing unit for capturing these wiring units and a substrate repair unit for repairing those defects via an electric communication line. A defect position specifying means for specifying a defect position by comparing a photographed image of the wiring section photographed by the photographing section with the reference image, and presence / absence of a defect repair method corresponding to the defect at the identified defect position If it is determined that there is no determination means and a defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position, a defect repair method that can be diverted from a plurality of defect repair methods stored in the server. Based on the repair method search means for searching for the method, the repair method conversion means for converting the found defect repair method to correspond to the defect at the specified defect position, and the converted defect repair method, The defect repairing apparatus has defect repairing means for repairing the defect via the substrate repairing unit.

同上の目的を達成するための本発明のサーバは、互いに異なる構成からなる複数の基板と、これらの各基板にそれぞれ配列された複数の配線部にある欠陥を修復するための複数の欠陥修復手法とを互いに対応付けたデータベースを記憶し、それら配線部にある欠陥を修復するための複数の欠陥修復装置を電気通信回線を介して接続可能なものであり、上記欠陥修復装置からの欠陥修復手法の要求に応じて、対応する欠陥修復手法を当該欠陥修復装置に向けて送出する欠陥修復手法送出手段を有している。   A server of the present invention for achieving the above-described object is provided with a plurality of defect repair methods for repairing defects in a plurality of substrates having different configurations and a plurality of wiring portions respectively arranged on these substrates. Are stored in a database associated with each other, and a plurality of defect repair devices for repairing defects in the wiring portion can be connected via an electric communication line. In response to the request, a defect repair technique sending means for sending a corresponding defect repair technique to the defect repair apparatus is provided.

同上の目的を達成するための本発明の欠陥修復システムに用いる欠陥修復装置は、互いに異なる構成からなる複数の基板と、これらの各基板にそれぞれ配列された複数の配線部にある欠陥を修復するための複数の欠陥修復手法とを互いに対応付けたデータベースを記憶したサーバに電気通信回線を介して接続されるとともに、上記基板に配列された複数の配線部を撮影するための撮影部と、それらの欠陥を修復するための基板修復部とを備えたものであり、上記撮影部により撮影した配線部の撮影画像と、上記基準画像とを照合して欠陥位置を特定する欠陥位置特定手段と、特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法の有無を判別する判別手段と、特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法がないと判別されたときには、サーバに記憶されている複数の欠陥修復手法の中から、転用可能な欠陥修復手法を索出する修復手法索出手段と、索出された欠陥修復手法を、当該特定した欠陥位置の欠陥に対応できるように変換する修復手法変換手段と、変換された欠陥修復手法に基づき、当該欠陥の修復を上記基板修復部を介して行う欠陥修復手段とを有している。   A defect repairing apparatus used in the defect repairing system of the present invention for achieving the same object as described above repairs defects on a plurality of substrates having different configurations and a plurality of wiring portions respectively arranged on these substrates. An imaging unit for imaging a plurality of wiring units arranged on the board and connected to a server storing a database in which a plurality of defect repair methods are associated with each other A substrate repair unit for repairing defects of the above, a captured image of the wiring unit imaged by the imaging unit, the defect position specifying means for specifying the defect position by comparing the reference image, When it is determined that there is no defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position and a determination means for determining whether there is a defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position Corresponding to the defect at the specified defect position, the repair method searching means to search for a defect repair method that can be diverted from the multiple defect repair methods stored in the server, and the found defect repair method A repair method conversion unit that converts the defect as possible, and a defect repair unit that repairs the defect via the substrate repair unit based on the converted defect repair method.

同上の目的を達成するための本発明の欠陥修復システムに用いる欠陥修復プログラムは、基板に配列された複数の配線部の基準となる欠陥のない基準画像、及びそれら複数の配線部の欠陥を修復するための複数の欠陥修復手法を記憶したサーバに、それら配線部を撮影するための撮影部と、それらの欠陥を修復するための基板修復部とを備えた欠陥修復装置を電気通信回線を介して接続可能な欠陥修復システムに用いるものであり、上記撮影部により撮影した配線部の撮影画像と、上記基準画像とを照合して欠陥位置を特定する欠陥位置特定機能と、特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法の有無を判別する判別機能と、特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法がないと判別されたときには、サーバに記憶されている複数の欠陥修復手法の中から、転用可能な欠陥修復手法を索出する修復手法索出機能と、索出された欠陥修復手法を、当該特定した欠陥位置の欠陥に対応できるように変換する修復手法変換機能と、変換された欠陥修復手法に基づき、当該欠陥の修復を上記基板修復部を介して行う配線部修復機能とを、欠陥修復装置に実現する内容のものである。   The defect repair program used in the defect repair system of the present invention for achieving the above-described object is a defect-free reference image that serves as a reference for a plurality of wiring portions arranged on a substrate, and repairs the defects in the plurality of wiring portions. A defect repairing device including a photographing unit for photographing these wiring parts and a board repairing part for repairing those defects is stored via a telecommunication line in a server storing a plurality of defect repairing methods for A defect position identifying function for identifying a defect position by comparing a photographed image of the wiring section photographed by the photographing section with the reference image, and a defect position identified. When it is determined that there is no defect repair method corresponding to a defect at the specified defect position and a determination function for determining whether there is a defect repair method corresponding to a certain defect, it is stored in the server. A repair method that finds a reusable defect repair method from multiple defect repair methods, and a repair that converts the found defect repair method to correspond to the defect at the specified defect location. This is a content that realizes a technique repair function and a wiring part repair function for repairing the defect via the substrate repair section based on the converted defect repair technique in the defect repair apparatus.

同上の目的を達成するための本発明の情報記録媒体は、上記した欠陥修復システムに用いる欠陥修復プログラムを記録していることを特徴としている。   In order to achieve the above object, an information recording medium of the present invention is characterized by recording a defect repair program used in the above-described defect repair system.

同上の目的を達成するための本発明の欠陥修復装置は、基板に配列された複数の配線部の基準となる欠陥のない基準画像、及びそれら複数の配線部の欠陥を修復するための複数の欠陥修復手法を記憶した記憶部と、それらの欠陥を修復するための基板修復部とを有するものであり、上記撮影部によって撮影した配線部の撮影画像と上記基準画像とを照合して欠陥位置を特定する欠陥位置特定手段と、特定した欠陥のある配線部に対応する欠陥修復手法の有無を判別する判別手段と、特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法がないと判別されたときには、転用可能な欠陥修復手法を索出する修復手法索出手段と、索出された欠陥修復手法を、当該欠陥のある配線部に対応できるように変換する修復手法変換手段と、変換された欠陥修復手法に基づき、当該欠陥の修復を上記基板修復部を介して行う欠陥修復手段とを欠陥修復装置が有している。   In order to achieve the above-described object, a defect repairing apparatus according to the present invention includes a defect-free reference image serving as a reference for a plurality of wiring portions arranged on a substrate, and a plurality of defects for repairing defects in the plurality of wiring portions. It has a storage unit that stores a defect repair method and a substrate repair unit for repairing those defects, and compares the captured image of the wiring unit captured by the imaging unit with the reference image to determine the defect position. It is determined that there is no defect position specifying means for identifying the defect, a determination means for determining the presence or absence of a defect repair method corresponding to the wiring portion having the specified defect, and a defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position. Sometimes, a repair method searching means for searching for a reusable defect repair method, a repair method converting means for converting the found defect repair method so as to correspond to the defective wiring portion, and defect Based on recovery techniques, the repair of the defective and defect repairing means for performing through the substrate recovery unit defect repairing apparatus has.

本発明によれば、配線部にある欠陥に既存の欠陥修復手法が適用できないときにも、新たな欠陥修復手法によることなく、当該欠陥に応じた適切な修復を自動的に行うことができる。   According to the present invention, even when an existing defect repair method cannot be applied to a defect in a wiring portion, appropriate repair according to the defect can be automatically performed without using a new defect repair method.

以下に、本発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る欠陥修復システムの概略構成を示すブロック図、図2は、欠陥修復システムの一部をなす欠陥修復装置の構成を示すブロック図である。また、図3は、基板の構成を示す説明図である。   EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, the form for implementing this invention is demonstrated with reference to drawings. FIG. 1 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a defect repair system according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block diagram illustrating a configuration of a defect repair apparatus that forms part of the defect repair system. FIG. 3 is an explanatory diagram showing the configuration of the substrate.

本発明の一実施形態に係る欠陥修復システムAは、図1に示すように、複数台の欠陥修復装置B1〜Bnを、ローカルエリアネットワークやインターネット等の電気通信回線を介してサーバCに接続可能にした構成のものである。   As shown in FIG. 1, a defect repair system A according to an embodiment of the present invention can connect a plurality of defect repair devices B1 to Bn to a server C via a telecommunication line such as a local area network or the Internet. It is a thing of the structure made into.

欠陥修復装置B1は、図2に示すように、撮影部10、キーボード等の入力部15、ディスプレイ20、欠陥検査装置25、基板修復部30、上記サーバCに接続するための回線接続部(図示しない)等を、詳細を後述する制御部Dに接続した構成のものである。
なお、以下には欠陥修復装置B1を例として説明するが、他の欠陥修復装置B2〜Bnについても同等の構成になっているので、それらの説明を省略する。
As shown in FIG. 2, the defect repair apparatus B1 includes an imaging unit 10, an input unit 15 such as a keyboard, a display 20, a defect inspection apparatus 25, a board repair unit 30, and a line connection unit for connecting to the server C (illustrated). No)) is connected to the control unit D described later in detail.
In the following, the defect repair device B1 will be described as an example, but the other defect repair devices B2 to Bn have the same configuration, and thus description thereof is omitted.

基板修復部30は、修復機構制御部31、修復機構部32、ステージ制御部33、及びX‐Yステージ34を主要の構成としたものである。
修復機構駆動部31は、制御部Dから送出される制御信号により、修復機構部32を駆動するための駆動信号を生成する機能を有するものである。
The substrate repair unit 30 mainly includes a repair mechanism control unit 31, a repair mechanism unit 32, a stage control unit 33, and an XY stage 34.
The repair mechanism drive unit 31 has a function of generating a drive signal for driving the repair mechanism unit 32 based on a control signal sent from the control unit D.

修復機構部32は、レーザ光源35、光学レンズ36,37、可変スリット38、光学レンズ39〜41を有しており、上記修復機構駆動部31から送信される駆動信号によって駆動されるようになっている。
この構成においては、レーザ光源35から照射されたレーザビームを光学レンズ36,37により補正した後に、可変スリット38を通過させ、更に3枚の光学レンズ39〜41を透過させることによって、照射サイズ,角度を変更できるようにしている。
The repair mechanism unit 32 includes a laser light source 35, optical lenses 36 and 37, a variable slit 38, and optical lenses 39 to 41, and is driven by a drive signal transmitted from the repair mechanism drive unit 31. ing.
In this configuration, the laser beam emitted from the laser light source 35 is corrected by the optical lenses 36 and 37, then passed through the variable slit 38 and further transmitted through the three optical lenses 39 to 41, so that the irradiation size, The angle can be changed.

ステージ制御部33は、制御部Dから送信される制御信号により、X‐Yステージ34と、フォーカスステージ42とをそれぞれ駆動するための駆動信号を生成する機能を有している。   The stage control unit 33 has a function of generating drive signals for driving the XY stage 34 and the focus stage 42 by the control signal transmitted from the control unit D, respectively.

X‐Yステージ34は基板50を載置するものであり、ステージ制御部33から送信される駆動信号によってX‐Y方向に駆動されるようになっている。
すなわち、制御部Dから送信された制御信号をステージ制御部33が受信すると、その制御信号に応じ、欠陥検査装置25で検出された欠陥のある配線部が対物レンズ43の真下になるようにXYステージ34が移動される。
The XY stage 34 mounts the substrate 50 and is driven in the XY direction by a drive signal transmitted from the stage control unit 33.
That is, when the stage control unit 33 receives the control signal transmitted from the control unit D, the defective wiring unit detected by the defect inspection apparatus 25 is directly below the objective lens 43 according to the control signal. The stage 34 is moved.

フォーカスステージ42は、対物レンズ43と基板50の間隔を調整する機能を有するものであり、これにより、光学レンズ44を透過した光の合焦点画像が上記した撮影部10により撮影できるようになる。
なお、本実施形態においては、ハーフミラー45,46、光学レンズ47、及びランプ48による落射照明により、適切な明るさを持つ画像が得られるようにしている。
The focus stage 42 has a function of adjusting the distance between the objective lens 43 and the substrate 50, so that a focused image of the light transmitted through the optical lens 44 can be captured by the imaging unit 10 described above.
In the present embodiment, an image having appropriate brightness is obtained by epi-illumination by the half mirrors 45 and 46, the optical lens 47, and the lamp 48.

基板50は、図3に示すように、ディスプレイ装置(図示しない)の一部を構成するものであり、多数の配線部E…をディスプレイ装置の画素に対応して2次元マトリクス状に多数形成したものである。
換言すると、共通の配線基板51に対し、多数の配線部E…を格子状に配列した構成になっている。なお、図中にE′で示すものは、欠陥がある配線部を例示したものである。
As shown in FIG. 3, the substrate 50 constitutes a part of a display device (not shown), and a large number of wiring portions E are formed in a two-dimensional matrix corresponding to the pixels of the display device. Is.
In other words, on the common wiring board 51, a large number of wiring portions E are arranged in a grid pattern. In addition, what is shown by E 'in the figure is an example of a wiring part having a defect.

図4(A)は、欠陥修復手法をなすヘッダ情報とオブジェクト情報を示す説明図、(B)は、一例に係る配線部の詳細な構成を示す説明図である。
配線部Eは、三原色RGBに対応する3つの領域(以下、「サブエリア」ともいう。)E1〜E3に区分されている。
FIG. 4A is an explanatory diagram illustrating header information and object information that constitute a defect repair method, and FIG. 4B is an explanatory diagram illustrating a detailed configuration of a wiring unit according to an example.
The wiring portion E is divided into three regions (hereinafter also referred to as “sub-areas”) E1 to E3 corresponding to the three primary colors RGB.

図4(B)に示す各サブエリアE1(〜E3)は互いに同じ大きさに形成されており、上記した配線基板51(図3参照)上に設けられた走査線(破線図示)52,56上に、層間絶縁膜(図示しない)を介して信号線53,電源供給線54,グラウンド電極55が、当該走査線52と直交する方向に延在して配置された構成のものである。
サブエリアE1(〜E3)は、信号蓄積容量が異なる電極57〜59を有している点で、互いに異なる構造になっている。
本実施形態においては、3つのサブエリアE1〜E3の一部が互いに異なる形状(構造)になっているものを例として説明するが、それらのサブエリアが互いに同一の形状(構造)になっているものであってもよいことは勿論である。
The sub-areas E1 (to E3) shown in FIG. 4B are formed to have the same size, and scanning lines (shown by broken lines) 52, 56 provided on the wiring board 51 (see FIG. 3). Further, the signal line 53, the power supply line 54, and the ground electrode 55 are arranged so as to extend in a direction orthogonal to the scanning line 52 via an interlayer insulating film (not shown).
The sub-areas E1 (to E3) have different structures in that they have electrodes 57 to 59 having different signal storage capacities.
In the present embodiment, an example in which some of the three subareas E1 to E3 have different shapes (structures) will be described. However, these subareas have the same shape (structure). Of course, it may be.

ところで、上記したサーバCには、図1に示すように、情報記録媒体の一例に係るハードディスク等からなる記憶装置60が接続されている。
上記の記憶装置60には、配線部E…の基準となる欠陥のない基準画像、及びそれら配線部E…にある欠陥を修復するための複数の欠陥修復手法がデータベース化して記憶されている。
データベース61は、各配線部E…にある欠陥を修復するための複数の欠陥修復手法を、配線部又はサブエリアに関連付けたものであり、さらには、互いに異なる構成からなる複数種類の基板毎に対応付けて記憶している。換言すると、異なる種類の基板毎にデータベースが構築されているのである。
By the way, as shown in FIG. 1, a storage device 60 composed of a hard disk or the like according to an example of an information recording medium is connected to the server C described above.
In the storage device 60, a reference image without defects serving as a reference for the wiring portions E, and a plurality of defect repairing methods for repairing defects in the wiring portions E are stored in a database.
The database 61 associates a plurality of defect repairing methods for repairing defects in each wiring part E ... with the wiring part or subarea, and for each of a plurality of types of substrates having different configurations. It is stored in association. In other words, a database is constructed for each different type of substrate.

このデータベース61は、詳細を後述する欠陥修復装置B1(〜Bn)から送出される登録情報により、新たな欠陥修復手法や既存の欠陥修復手法等が随時書き換えられるようになっている。
また、欠陥修復装置B1(〜Bn)からの欠陥修復手法の要求に応じて、対応する欠陥修復手法を当該欠陥修復装置B1(〜Bn)に向けて送出する機能(欠陥修復手法送出手段)を有している。
In this database 61, a new defect repair technique, an existing defect repair technique, and the like are rewritten as needed by registration information sent from a defect repair apparatus B1 (to Bn), which will be described in detail later.
Further, a function (defect repair technique sending means) for sending a corresponding defect repair technique toward the defect repair apparatus B1 (~ Bn) in response to a request for a defect repair technique from the defect repair apparatus B1 (~ Bn). Have.

撮影部10は、基板50の各配線部E,E′…を撮影するためのものであり、CCD等を有して構成されている。   The photographing unit 10 is for photographing each wiring part E, E ′... Of the substrate 50, and is configured to have a CCD or the like.

欠陥検査装置25は、上記基板50の各配線部E…に生じた欠陥を電気的若しくは光学的に又はそれら双方を検査することにより、欠陥のある配線部E′の位置情報を得るものであり、その配線部E′の位置情報を制御部Dに送信するようにしている。
なお、この欠陥検査装置25は、本実施形態において示すように、各欠陥修復装置B1〜Bnにそれぞれ個別に接続した構成にしてもよいが、1台の欠陥検査装置25を電気通信回線を介して複数の欠陥修復装置B1〜Bnに共通に接続してもよい。
The defect inspection apparatus 25 obtains positional information of defective wiring portions E ′ by inspecting defects generated in the wiring portions E of the substrate 50 electrically or optically or both. The position information of the wiring part E ′ is transmitted to the control part D.
The defect inspection apparatus 25 may be configured to be individually connected to each of the defect repair apparatuses B1 to Bn as shown in the present embodiment, but one defect inspection apparatus 25 is connected via an electric communication line. May be connected in common to a plurality of defect repair apparatuses B1 to Bn.

本発明の一実施形態に係る欠陥修復プログラムは、次の各機能(I)〜(V)を、各欠陥修復装置B1〜Bnに、従ってまた、各装置のコンピュータである制御部Dに実現することを内容としたものであり、上記した記憶装置60に記憶されている。
(I)撮影部によって撮影した配線部の撮影画像と上記基準画像とを照合して欠陥位置を特定する欠陥位置特定機能、
(II)特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法の有無を判別する判別機能、
(III)特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法がないと判別されたときには、サーバに記憶されている複数の欠陥修復手法の中から、転用可能な欠陥修復手法を索出する修復手法索出機能、
(IV)索出された欠陥修復手法を、当該特定した欠陥位置の欠陥に対応できるように変換する修復手法変換機能、
(V)変換された欠陥修復手法に基づき、当該欠陥の修復を上記基板修復部を介して行う欠陥修復機能。
The defect repair program according to an embodiment of the present invention realizes the following functions (I) to (V) in each of the defect repair apparatuses B1 to Bn, and thus in the control unit D that is a computer of each apparatus. The contents are stored in the storage device 60 described above.
(I) a defect position specifying function for specifying a defect position by comparing a photographed image of the wiring part photographed by the photographing part with the reference image;
(II) a discriminating function for discriminating whether or not there is a defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position;
(III) When it is determined that there is no defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position, a repair for finding a divertable defect repair method from a plurality of defect repair methods stored in the server Method search function,
(IV) a repair method conversion function for converting the found defect repair method so as to correspond to the defect at the specified defect position;
(V) A defect repair function for performing repair of the defect via the substrate repair section based on the converted defect repair technique.

制御部Dは、上記した欠陥修復プログラムの実行により、次の各機能を発揮する。
(1)上記撮影部10によって撮影した配線部Eの撮影画像と上記基準画像とを照合して欠陥位置を特定する機能。この機能を「欠陥位置特定手段D1」という。
本実施形態においては、上記した欠陥検査装置25から送信される欠陥を有する1又は2以上の配線部E′の位置情報に基づいて、当該欠陥を有する配線部E′の撮影画像が、撮影部10を介して撮影するようになっている。
The control unit D exhibits the following functions by executing the above-described defect repair program.
(1) A function of identifying a defect position by collating a photographed image of the wiring section E photographed by the photographing section 10 with the reference image. This function is referred to as “defect position specifying means D1”.
In the present embodiment, based on the positional information of one or more wiring parts E ′ having a defect transmitted from the defect inspection apparatus 25 described above, a photographed image of the wiring part E ′ having the defect is obtained by the photographing part. 10 is used for shooting.

(2)特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法の有無を判別する機能。この機能を「判別手段D2」という。
当該配線部E′に関連付けられている欠陥修復手法があるか否かを、データベース61に記憶されている複数の欠陥修復手法を参照して判別する。
(2) A function of determining whether or not there is a defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position. This function is referred to as “discriminating means D2.”
Whether or not there is a defect repair method associated with the wiring part E ′ is determined with reference to a plurality of defect repair methods stored in the database 61.

次に、欠陥修復手法の詳細について、図4(A),(B)を参照して説明する。
欠陥修復手法は、ヘッダ情報と、このヘッダ情報に関連付けられたオブジェクト情報とを有するデータファイルである。
なお、欠陥修復手法を「欠陥修復情報」ともいい、また、配線部については「画素」又は「ピクセル」ともいう。
Next, details of the defect repair method will be described with reference to FIGS.
The defect repair method is a data file having header information and object information associated with the header information.
The defect repair method is also referred to as “defect repair information”, and the wiring portion is also referred to as “pixel” or “pixel”.

ヘッダ情報aは、欠陥修復手法の「レシピ名(若しくはレシピ番号)」、欠陥のあるサブエリア(領域)を示す「領域番号」、サブエリアを示す「副領域番号」、基板50上の基準画素の位置を示す「基準画素番号」、その基準画素の上下、左右の近接画素の有無とその位置を示す「近接画素番号」、並びにレシピ登録される欠陥や欠陥修復手法を表すリペアオブジェクトの「オブジェクト数」を含むものである。   The header information “a” includes a “recipe name (or recipe number)” of the defect repair method, an “area number” indicating a defective subarea (area), a “subarea number” indicating a subarea, and a reference pixel on the substrate 50. “Reference pixel number” indicating the position of the reference pixel, “neighboring pixel number” indicating the presence / absence and position of adjacent pixels on the top and bottom and left and right of the reference pixel, and “object” of a repair object indicating a defect registered in the recipe and a defect repair method Number ".

オブジェクト情報bは、欠陥を模した欠陥オブジェクト70と、配線部E′における欠陥オブジェクトの位置及びその特徴に応じて修復処置が施される部分を示したリペアオブジェクト71,71とを含んでいる。
すなわち、オブジェクト情報bは、ヘッダ情報に登録されたオブジェクト数だけ欠陥オブジェクトとリペアオブジェクトとを関連付けて登録したものである。なお、単に「登録」というときには、上記したデータベース61に対する登録を意味している。
The object information b includes a defect object 70 that imitates a defect, and repair objects 71 and 71 that indicate portions to be repaired according to the position of the defect object in the wiring portion E ′ and its characteristics.
In other words, the object information b is obtained by associating and registering defect objects and repair objects by the number of objects registered in the header information. Note that simply “registration” means registration to the database 61 described above.

上記のオブジェクト情報bは、レシピヘッダとの照合のための「レシピ名(若しくはレシピ番号)」、配線部E内のオブジェクトの位置を示す「座標」、「オブジェクトの形状」、「角度」、「位置補正情報」が基本情報として含まれている。その基本情報は、欠陥オブジェクト70及びリペアオブジェクト71,70の双方について有している。
なお、「補正情報」は、実際の欠陥画像の欠陥位置との比較による位置補正のための情報であり、また、「角度」とは、上記したXYステージ34上における欠陥の正規の位置からの回転角度である。
The object information b includes “recipe name (or recipe number)” for matching with the recipe header, “coordinates” indicating the position of the object in the wiring section E, “object shape”, “angle”, “ "Position correction information" is included as basic information. The basic information has both the defect object 70 and the repair objects 71 and 70.
The “correction information” is information for position correction by comparison with the defect position of the actual defect image, and the “angle” is the above-described normal position of the defect on the XY stage 34. The rotation angle.

図4(A)においては、欠陥オブジェクト70に対して、リペアオブジェクト71,71が関連付けられている。
図示の欠陥オブジェクト70はサブエリアE1にあるので、そのサブエリアE1の情報が関連付けられる。
In FIG. 4A, repair objects 71 and 71 are associated with the defect object 70.
Since the illustrated defective object 70 is in the sub-area E1, the information of the sub-area E1 is associated.

また、オブジェクト情報bにおいては、基準画素に予め原点を設けておき、その原点からの相対座標と角度とにより、オブジェクト位置情報を登録する。
データベース61からリペアレシピ情報を読み込み、欠陥画像に重ね合わせて欠陥修復情報をディスプレイ20に表示しているので、作業者(オペレータ)が視認可能となり欠陥修復手法の内容を確認できる。
すなわち、欠陥修復装置は、欠陥画像に重ね合わせて欠陥修復情報をディスプレイ20に表示する機能(重合表示手段D6)を有している。
In the object information b, an origin is set in advance in the reference pixel, and the object position information is registered based on the relative coordinates and angle from the origin.
Since the repair recipe information is read from the database 61 and superimposed on the defect image and the defect repair information is displayed on the display 20, the operator (operator) can visually recognize the contents of the defect repair technique.
That is, the defect repairing apparatus has a function (overlay display means D6) for displaying defect repairing information on the display 20 so as to be superimposed on the defect image.

また、欠陥の特徴を示すデータをヘッダ情報a若しくはオブジェクト情報bの欠陥情報に、図示しないADC(欠陥自動分類装置)での分類結果等を保持しておくことで、欠陥の特徴から自動リペアレシピ検出も行うことが可能となる。   In addition, the data indicating the feature of the defect is stored in the defect information of the header information a or the object information b with the classification result or the like in an ADC (not shown) (not shown), so that the automatic repair recipe can be obtained from the feature of the defect. Detection can also be performed.

(3)特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法がないと判別されたときには、サーバに記憶されている複数の欠陥修復手法の中から、転用可能な欠陥修復手法を索出する機能。「修復手法索出手段D3」という。
転用可能な欠陥修復手法の索出は、上記欠陥オブジェクト70が、サブエリアE1にある欠陥とが一致するか否かによる。詳しくは、欠陥を中心とする所定の領域内に、欠陥オブジェクト70があるか否かによるものであり、具体的には、それらの座標に基づく索出を行う。
(3) A function for finding a divertable defect repair technique from a plurality of defect repair techniques stored in the server when it is determined that there is no defect repair technique corresponding to the defect at the specified defect position. . This is referred to as “repair technique searching means D3”.
Searching for a divertable defect repair method depends on whether or not the defect object 70 matches a defect in the sub-area E1. Specifically, this is based on whether or not the defect object 70 is in a predetermined area centered on the defect. Specifically, the search is performed based on the coordinates thereof.

(4)索出された欠陥修復手法を、当該特定した欠陥位置の欠陥に対応できるように変換する機能。この機能を「修復手法変換手段D4」という。
この機能について、上述した構成からなる欠陥修復システムの一連の動作とともに、図5〜9を参照して説明する。図5は、一連の欠陥修復処理のメインルーチンを示すフローチャート、図6は、欠陥修復手法の詳細な変換処理を示すフローチャートである。
(4) A function of converting the found defect repair technique so as to be able to deal with the defect at the specified defect position. This function is referred to as “repair technique conversion means D4”.
This function will be described with reference to FIGS. 5 to 9 together with a series of operations of the defect repair system configured as described above. FIG. 5 is a flowchart showing a main routine of a series of defect repair processing, and FIG. 6 is a flowchart showing detailed conversion processing of the defect repair technique.

ステップS1(図中、S1と略記する。以下同様。):パラメータのセット
欠陥修復装置B1にパラメータをセットする。すなわち、欠陥修復装置B1に修復を行うための上記した基本情報を設定する。
具体的には、修復対象となる基板50内における配線部Eの数と配置、パターンの数、配置、アライメントマーク位置等の上記基板50に関わる基礎情報、自動で修復を行う対象となる欠陥の大きさや条件、基板50内において修復を行う数や優先する欠陥の特徴等の修復条件の設定情報、配線パターンの形状と修復方法のデータベース等、当該欠陥修復装置(以下、単に「装置」という。)B1において固有に設定するパラメータをセットするのである。
Step S1 (abbreviated as S1 in the figure. The same applies hereinafter): Parameter setting A parameter is set in the defect repair apparatus B1. That is, the above basic information for repairing is set in the defect repairing apparatus B1.
Specifically, the basic information related to the substrate 50 such as the number and arrangement of the wiring portions E in the substrate 50 to be repaired, the number of patterns, the arrangement, and the alignment mark position, and the defect to be repaired automatically. The defect repair apparatus (hereinafter simply referred to as “apparatus”), such as size and conditions, repair condition setting information such as the number of repairs in the substrate 50 and priority defect characteristics, wiring pattern shape and repair method database, and the like. ) The parameter set uniquely in B1 is set.

ステップS2:基板50の搬入と入力情報のセット
外部から基板50を装置B1に搬入し、その基板50の前プロセスの欠陥情報を入力する。搬入された基板50、欠陥情報を装置B1内にセットされているパラメータと照合し、修復対象となる基板50の基本情報を確定し、修復条件の初期設定(修復処理数のクリア等)を行う。
Step S2: Loading of substrate 50 and setting of input information The substrate 50 is loaded from the outside into the apparatus B1, and defect information of the previous process of the substrate 50 is input. The loaded substrate 50 and defect information are collated with the parameters set in the apparatus B1, the basic information of the substrate 50 to be repaired is determined, and the initial setting of repair conditions (clearing the number of repair processes, etc.) is performed. .

欠陥情報は、欠陥検査装置25において、光学式検査で検出された欠陥の数と座標、若しくは電気式検査で検出された欠陥のピクセル情報(線欠陥、もしくは点欠陥であるかも含む)のいずれか、又は電気式検査で検出された欠陥と光学式検査で検出された欠陥を関連付けたものである。   The defect information is either the number and coordinates of defects detected by the optical inspection in the defect inspection apparatus 25, or pixel information (including line defects or point defects) of the defects detected by the electric inspection. Or, the defect detected by the electrical inspection and the defect detected by the optical inspection are associated with each other.

ステップS3:欠陥情報のセット
上記の基板50毎の欠陥情報の一覧から、リストの上位から順に修復を行うか、特定の欠陥(線欠陥を優先にする等)をまとめて行うかをソートするか、若しくは装置B1のオペレータが任意の欠陥を選択するかのいずれかの方法で、欠陥情報を一つ入力する。
Step S3: Set defect information From the list of defect information for each substrate 50 described above, whether to repair in order from the top of the list or whether specific defects (such as giving priority to line defects) are sorted together. Alternatively, one piece of defect information is input by either the method of selecting an arbitrary defect by the operator of the apparatus B1.

ステップS4:欠陥情報のチェック
入力された基板50の欠陥情報のリストから自動で修復を行うことができるかを確認する。
自動で修復できるかどうかは、滅点化処理を規定の数以上行っていないか、修復処理を規定の数以上行っていないか、既に修復処理を行っている欠陥であるか等の現在の基板50の修復条件にそぐわない場合と、入力された欠陥の座標が不確定である、パターンの外部等で修復は行わないと明確に定義してある場所である等、入力される欠陥情報だけでは修復処理が不可能なときとがあるからである。
Step S4: Check of defect information It is confirmed from the input defect information list of the substrate 50 whether the repair can be automatically performed.
Whether it can be automatically repaired depends on the current substrate, such as whether the darkening process has not been performed more than the specified number, the repair process has not been performed more than the specified number, or the defect has already been repaired. If it does not meet 50 repair conditions, the coordinates of the input defect are indeterminate, or it is a place that is clearly defined not to be repaired outside the pattern, etc. This is because there are times when processing is impossible.

ステップS5:欠陥位置情報の取得
入力された欠陥情報が修復を行う欠陥であると判断されたら、欠陥の詳細な座標情報を取得する。具体的には、光学式検査結果の欠陥座標、若しくは電気式検査結果のピクセルの番号等から欠陥が実際に存在する箇所を算出する。なお、このステップS5について、図5には「サブピクセル座標取得」と記載している。
Step S5: Acquisition of defect position information When it is determined that the input defect information is a defect to be repaired, detailed coordinate information of the defect is acquired. Specifically, the location where the defect actually exists is calculated from the defect coordinates of the optical inspection result or the pixel number of the electric inspection result. Note that step S5 is described as “subpixel coordinate acquisition” in FIG.

ステップS6:欠陥画像の撮影
欠陥の詳細な位置が算出されたら、X‐Yステージ34を移動して、欠陥画像を撮影し、パターン内の詳細な欠陥情報を取得する。なお、図5には「レビュー情報取得」と記載している。
Step S6: Shooting of Defect Image When the detailed position of the defect is calculated, the XY stage 34 is moved to capture the defect image and acquire detailed defect information in the pattern. In FIG. 5, “review information acquisition” is described.

ステップS7:欠陥修復手法の取得処理
欠陥画像から取得した欠陥の詳細情報と欠陥修復手法とを照らし合わせて、最適な欠陥修復手法をデータベース61から索出し、欠陥の位置情報に合わせて出力する。
なお、本ステップにおける「欠陥修復手法の取得処理」については、図6を参照して詳細に説明する。
Step S7: Defect repair technique acquisition process The detailed defect information acquired from the defect image is compared with the defect repair technique, and the optimum defect repair technique is retrieved from the database 61 and output in accordance with the defect position information.
The “defect repair method acquisition process” in this step will be described in detail with reference to FIG.

ステップS8:修復実行処理
欠陥修復手法を実際の欠陥の位置にあわせて設定し、必要に応じて位置補正を行った後、修復を実行する。その際の修復の実行結果は、記憶装置60に別途保存しておく。なお、このステップS8について、図5においては「リペア実行」と記載している。
Step S8: Repair Execution Processing A defect repair method is set according to the actual defect position, position correction is performed as necessary, and repair is executed. The restoration execution result at that time is stored separately in the storage device 60. This step S8 is described as “repair execution” in FIG.

ステップS9:修復判定処理
修復の実行が終了したら、欠陥画像を撮影した場所と同じ座標と倍率によって、修復後の画像を撮影,比較することにより適切な修復が完了したかどうかの簡易判定を行う。
Step S9: Repair determination processing When the repair execution is completed, simple determination is made as to whether or not appropriate repair has been completed by capturing and comparing the repaired images with the same coordinates and magnification as the location where the defect image was captured. .

ステップS10:修復結果更新処理
修復の結果を更新する。更新内容は修復が適切に行われたかの判定、修復詳細内容、修復処理数、滅点化の修復処理数等である。
修復結果の更新後、欠陥情報の一覧を再度確認し、未処理の欠陥の有無や修復の終了の判定を行い、次に別の欠陥情報を入力することによる修復処理を続行するか、若しくは修復を終了して基板50の搬出を行うかを決定する。
ここで、未処理の欠陥があると判定されたときには、ステップS2に戻る。
Step S10: Repair result update process The repair result is updated. The update contents include determination as to whether the repair has been properly performed, details of the repair, the number of repair processes, the number of repair processes for darkening, and the like.
After updating the repair result, check the defect information list again, determine whether there is an unprocessed defect or whether the repair is completed, and then continue the repair process by entering another defect information, or repair To determine whether to carry out the substrate 50.
Here, when it is determined that there is an unprocessed defect, the process returns to step S2.

ステップS11:基板搬出、修復情報セット
入力された基板50に対してすべての欠陥が修復された、若しくは修復の終了条件(規定の数値以上の修復を実行した、規定の数値以上の滅点化修復を行った、特定の欠陥に対する修復が終了した等)を満たしたら、基板50を搬出して欠陥情報管理システムに欠陥の修復情報を出力する。
Step S11: Substrate unloading / repair information set All defects have been repaired for the input substrate 50, or the repair end condition (repair exceeding the specified numerical value is performed, repairing the darkness exceeding the specified numerical value) When the repair for the specific defect is completed, the substrate 50 is taken out and defect repair information is output to the defect information management system.

ステップS12:パラメータ更新
上記した各処理内で新規に欠陥修復手法が登録された、若しくはレーザのパワーや修復を行う欠陥の条件を変更する等の必要があれば、セットしてある装置B1のパラメータ情報を更新して、次の基板50をセットする。
Step S12: Parameter update If a defect repair method is newly registered in each of the above processes or if it is necessary to change the laser power or the condition of the defect to be repaired, the parameters of the set device B1 are set. The information is updated and the next substrate 50 is set.

次に、上記ステップ7における欠陥修復手法の取得処理の詳細について、図6とともに、図7,8を参照して説明する。図7は、RのサブエリアE1を基準にしたときの一例に係る欠陥修復手法を説明するための説明図、図8は、RのサブエリアE1を基準にしたときの他例に係る欠陥修復手法を説明するための説明図である。   Next, details of the defect repair technique acquisition process in step 7 will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining a defect repair method according to an example when the R subarea E1 is used as a reference, and FIG. 8 is a defect repair according to another example when the R subarea E1 is used as a reference. It is explanatory drawing for demonstrating a method.

まず、図7に示す各サブエリアE1〜E3を、表1に示すように定義する。   First, the subareas E1 to E3 shown in FIG. 7 are defined as shown in Table 1.

Figure 2009251200
Figure 2009251200

反転変換をしないときの座標の変換式は、次式(a),(b)により表すことができる。
(a)
移動先X=移動先Left+(移動先W/移動元W*(移動元X−移動元Left))
(b)
移動先Y=移動先(移動先H/移動元H*(移動元Y−移動元Top))
The coordinate conversion formula when the reverse conversion is not performed can be expressed by the following formulas (a) and (b).
(A)
Movement destination X = movement destination Left + (movement destination W / movement source W * (movement source X−movement source Left))
(B)
Destination Y = Destination (Move destination H / Move source H * (Move source Y−Move source Top))

反転変換をしたときの座標の変換式は、次式(c),(d)により表すことができる。
(c)
移動先X=移動先BRight−(移動先W/移動元W*(移動元X−移動元Left))
(d)
移動先Y=移動先Bottom−(移動先H/移動元H*(移動元Y−移動元Top))
The coordinate conversion formula when the reverse conversion is performed can be expressed by the following formulas (c) and (d).
(C)
Movement destination X = movement destination BRright− (movement destination W / movement source W * (movement source X−movement source Left))
(D)
Movement destination Y = movement destination Bottom− (movement destination H / movement source H * (movement source Y−movement source Top))

RのサブエリアE1にある「★」で示す座標(X,Y)をそれぞれ(RX,RY)としたとき、GのサブエリアE2の座標(GX,GY)を、BのサブエリアE3の座標(BX,BY)にそれぞれ変換するときの展開式は以下のようになる。   When the coordinates (X, Y) indicated by “★” in the R subarea E1 are (RX, RY), respectively, the coordinates (GX, GY) of the G subarea E2 are the coordinates of the B subarea E3. The expansion formula when converting to (BX, BY) is as follows.

GのサブエリアE2の座標は、次式(e),(f)により表すことができる。
(e) GX=GLeft+(GW/RW*(RX−RLeft))
(f) GY=GTop+(GH/RH*(RY−RTop))
The coordinates of the G sub-area E2 can be expressed by the following equations (e) and (f).
(E) GX = GLleft + (GW / RW * (RX−RLLeft))
(F) GY = GTTop + (GH / RH * (RY−RTop))

BのサブエリアE3の座標は、次式(g),(h)により表すことができる。
(g) BX=BRight−(BW/RW*(RX−RLeft))
(h) BY=BTop+(BH/RH*(RX−RTop))
このBのサブエリアE3はX方向のみ反転しているために定義式が変わる。
The coordinates of the sub-area E3 of B can be expressed by the following equations (g) and (h).
(G) BX = BRight− (BW / RW * (RX−RLLeft))
(H) BY = BTTop + (BH / RH * (RX−RTop))
Since the sub-area E3 of B is inverted only in the X direction, the definition formula changes.

逆に、その他のサブエリアに設定されている欠陥修復手法(以下、「テンプレート」ともいう。)を基準サブエリアへ展開させることも可能である。
その場合、GのサブエリアE2からRのサブエリアE1への座標の変換は、次式(i),(j)により表すことができる。
(i) RX=RLeft+(RW/GW*(GX−GLeft))
(j) RY=RTop+(RH/GH*(GY−GTop))
Conversely, a defect repair method (hereinafter also referred to as “template”) set in other subareas can be developed in the reference subarea.
In this case, the transformation of coordinates from the G sub-area E2 to the R sub-area E1 can be expressed by the following equations (i) and (j).
(I) RX = RL Left + (RW / GW * (GX−GL Left))
(J) RY = RTTop + (RH / GH * (GY−GTTop))

BのサブエリアE3からRのサブエリアE1の座標の変換は、次式(k),(l)により表すことができる。
(k) RX=RRight−(RW/BW*(BX−BLeft))
(l) RY=RTop+(RH/BH*(BY−BTop))
図8に示すように、Rの座標(RX,RY)を中心に回転角度Rθが定義されている矩形のリペアオブジェクト73の場合は、反転するときの回転角度も反転する。
The transformation of the coordinates of the B sub-area E3 to the R sub-area E1 can be expressed by the following equations (k) and (l).
(K) RX = RRright- (RW / BW * (BX-BLleft))
(L) RY = RTTop + (RH / BH * (BY−BTTop))
As shown in FIG. 8, in the case of the rectangular repair object 73 in which the rotation angle Rθ is defined around the R coordinates (RX, RY), the rotation angle when the rotation is reversed is also reversed.

Gのサブエリアの回転角度Gθと、Bのサブエリアの回転角度Bθは、次式(m),(n)により表すことができる。
(m)Gθ=Rθ
(n)Bθ=−Rθ
The rotation angle Gθ of the G sub-area and the rotation angle Bθ of the B sub-area can be expressed by the following equations (m) and (n).
(M) Gθ = Rθ
(N) Bθ = −Rθ

上記のようにして、特定のサブエリアに登録されているテンプレートを、他のテンプレートに変換した場合、テンプレートの登録抜けによって修復ができなくなることを防止したり、テンプレートの登録自体を減らすことができる。   As described above, when a template registered in a specific subarea is converted to another template, it is possible to prevent the template from being unable to be repaired due to missing template registration, or to reduce the template registration itself. .

図6は、上述した欠陥修復手法の取得処理の詳細な内容を示すサブフローチャートである。
ステップT1:(図中、単に「T1」と略記する。以下同様。):欠陥情報を入力して、ステップT2に進む。
ステップT2:適切な欠陥修復手法が登録されていないか否かを判別する。なお、図6には、欠陥修復手法を「リペア手法」と記載している。
ここで、適切な欠陥修復手法が登録されていると判別されればステップT3に進み、適切な欠陥修復手法が登録されていないと判別されればステップT8に進む。
FIG. 6 is a sub-flowchart showing the detailed contents of the above-described defect repair technique acquisition process.
Step T1: (In the figure, simply abbreviated as “T1”. The same applies hereinafter.): The defect information is input, and the process proceeds to Step T2.
Step T2: It is determined whether or not an appropriate defect repair method is registered. In FIG. 6, the defect repair method is described as a “repair method”.
If it is determined that an appropriate defect repair technique is registered, the process proceeds to step T3. If it is determined that an appropriate defect repair technique is not registered, the process proceeds to step T8.

ステップT3:欠陥修復手法を配線部周辺にシフト変換することにより適用できるか否かを判別する。ここで、欠陥修復手法を配線部周辺にシフト変換することにより適用できると判別できればステップT5に進み、欠陥修復手法を配線部周辺にシフトさせることによっても適用できないと判別されれば、ステップT4に進む。   Step T3: It is determined whether or not the defect repair method can be applied by shift conversion around the wiring portion. Here, if it can be determined that the defect repair method can be applied by shift conversion to the periphery of the wiring portion, the process proceeds to step T5. If it is determined that the defect repair method cannot be applied by shifting the defect repair method to the periphery of the wiring portion, the process proceeds to step T4. move on.

ステップT4:別のサブエリアの欠陥修復手法をシフト変換又はシフト及び反転変換することにより適用できるか否かを判別する。
ここで、別のサブエリアの欠陥修復手法をシフト変換又はシフト及び反転変換することにより適用できると判別されれば、ステップT6に進む。また、別のサブエリアの欠陥修復手法をシフト変換又はシフト及び反転変換することによっても適用できないと判別されれば、ステップT7に進む。
Step T4: It is determined whether or not another sub-area defect repair method can be applied by shift conversion or shift and inversion conversion.
If it is determined that the defect repair method for another sub-area can be applied by shift conversion or shift and inversion conversion, the process proceeds to step T6. If it is determined that the defect repair method for another sub-area cannot be applied by shift conversion or shift and inversion conversion, the process proceeds to step T7.

ステップT5:配線部周辺にシフト変換して、ステップT8に進む。
ステップT6:該当するサブエリアに対応するようにシフト変換して、ステップT8に進む。
Step T5: Shift conversion is performed around the wiring portion, and the process proceeds to Step T8.
Step T6: Shift conversion is performed so as to correspond to the corresponding sub-area, and the process proceeds to Step T8.

ステップT7:新規な欠陥修復手法を編集,登録して、ステップT9に進む。
ステップT8:ステップT2,5,6において変換又は編集した欠陥修復手法を適用して、ステップT9に進む。
ステップT9:ステップT8において適用した変換又は編集した欠陥修復手法を実行して、ステップT10に進む。
ステップT10:欠陥を修復していない配線部があるか否かを判別する。ここで、欠陥を修復していない配線部があると判別されれば、ステップT1に戻って欠陥情報を入力する。
また、欠陥を修復していない配線部がないと判別されれば、ステップT11に進んで次の工程に進行する。
Step T7: Edit and register a new defect repair method, and proceed to Step T9.
Step T8: The defect repair method converted or edited in steps T2, 5, and 6 is applied, and the process proceeds to step T9.
Step T9: The converted or edited defect repair method applied in Step T8 is executed, and the process proceeds to Step T10.
Step T10: It is determined whether or not there is a wiring part whose defect has not been repaired. If it is determined that there is a wiring part that has not repaired the defect, the process returns to step T1 and defect information is input.
If it is determined that there is no wiring part that has not repaired the defect, the process proceeds to step T11 and proceeds to the next process.

ところで、図4,7,8に示すように、サブエリア内の特定の領域の形状が特殊である場合、必ずしも自動展開のみですべてのサブエリアの欠陥のテンプレートを展開させられない場合がある。
また、テンプレートの数が多く、処理が同等のものであっても、重複登録や特定のサブエリアのテンプレートの登録抜けを防止するといった観点から、個々のサブエリアにそれぞれ登録されていた方が管理上は楽な場合もある。
Incidentally, as shown in FIGS. 4, 7, and 8, when the shape of a specific area in a sub-area is special, it may not always be possible to develop defect templates in all sub-areas only by automatic development.
In addition, even if the number of templates is large and the processing is equivalent, it is more manageable to register each individual subarea from the viewpoint of preventing duplicate registration and missing registration of a specific subarea template. The top can be easy.

このような場合、特定のテンプレートで他のサブエリアの欠陥を修復するのとは逆に、一つのテンプレートを登録してから、他のテンプレートに自動展開させ、展開後のテンプレートの適正を判断して個々のテンプレートを修復することにより、特定のサブエリアのテンプレートが登録されていないために修復が行えないことを防ぐことができる。   In such a case, in contrast to repairing defects in other subareas with a specific template, one template is registered and then automatically deployed to another template to determine the appropriateness of the template after deployment. By repairing individual templates, it is possible to prevent a template from a specific sub-area from being registered and not being repaired.

(5)変換された欠陥修復手法に基づき、当該欠陥の修復を上記基板修復部を介して行う機能。この機能を「欠陥修復手段D5」という。 (5) A function of performing the repair of the defect via the substrate repair unit based on the converted defect repair method. This function is referred to as “defect repairing means D5”.

次に、新規な欠陥修復手法を配線部に対応させて登録する場合について、図9〜14を参照して説明する。図9は、配線部にある欠陥に欠陥修復手法を対応付ける、オペレータが手作業で行う手順を示すフローチャート、図10〜14は、一つのサブエリアに登録されているテンプレートを自動展開させるための操作画面を示す説明図である。   Next, a case where a new defect repair method is registered corresponding to the wiring portion will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a flowchart showing a procedure performed manually by an operator for associating a defect repair method with a defect in the wiring portion, and FIGS. 10 to 14 are operations for automatically expanding a template registered in one subarea. It is explanatory drawing which shows a screen.

まず、図9を参照して配線部に欠陥修復手法を対応付けるために、オペレータが手作業で行う手順、換言すると、オペレータが新規な欠陥修復手法を編集,登録する作業の手順について説明する。
ステップU1(図中「U1」と略記する。以下同様):サブエリアを定義する。
ステップU2:サブエリア毎に欠陥修復手法を登録して、ステップU2に進む。
ステップU3:複数のサブエリアに統合することが可能か否かを判断し、当該統合ができないと判断すればステップU4に進み、統合ができると判断されればステップU9に進む。
なお、「統合」とは、一の欠陥修復手法を、複数の領域に共通に関連付けることである。
First, with reference to FIG. 9, a procedure for an operator to manually associate a defect repair method with a wiring portion, in other words, a procedure for an operator to edit and register a new defect repair method will be described.
Step U1 (abbreviated as “U1” in the figure. The same applies hereinafter): A subarea is defined.
Step U2: A defect repair method is registered for each sub-area, and the process proceeds to Step U2.
Step U3: It is determined whether or not it is possible to integrate into a plurality of subareas. If it is determined that the integration cannot be performed, the process proceeds to Step U4. If it is determined that the integration is possible, the process proceeds to Step U9.
“Integration” refers to associating one defect repair technique with a plurality of areas in common.

ステップU4:全てのサブエリアに展開して、ステップU5に進む。
ステップU5:個々の欠陥修復手法の確認、編集、削除等を行う。
ステップU6:統合することが可能なサブエリアがあるか否かを判断し、統合することが可能なエリアがあると判断すればステップT9に進み、統合することが可能でなければステップU7に進む。
Step U4: Expands to all sub-areas and proceeds to step U5.
Step U5: Confirmation, editing, deletion, etc. of individual defect repair methods are performed.
Step U6: It is determined whether or not there is a sub-area that can be integrated. If it is determined that there is an area that can be integrated, the process proceeds to step T9, and if it cannot be integrated, the process proceeds to step U7. .

ステップU7:全てのサブエリアに対して、欠陥修復手法が適切に登録されているか否かを判断し、ここで欠陥修復手法が適切に登録されていると判断すればステップU8に進み、欠陥修復手法が適切に登録されていなければステップU2に戻る。
ステップU8:別の欠陥修復手法を登録して、欠陥修復手法の登録を完了する。
Step U7: It is determined whether or not the defect repair technique is properly registered for all the sub-areas. If it is determined that the defect repair technique is properly registered, the process proceeds to Step U8 and defect repair is performed. If the method is not properly registered, the process returns to step U2.
Step U8: Register another defect repair method and complete the registration of the defect repair method.

ステップU9:欠陥修復手法に対して、複数のサブエリアを統合して登録する。
ステップU10:全てのサブエリアに対して、欠陥修復手法が網羅されているか否かを判断し、ここで網羅されていると判断すればステップU7に進み、また、網羅されていなければステップU11に進む。
ステップU11:未登録のサブエリアに欠陥修復手法を展開、若しくは欠陥修復手法を追加登録して、ステップU7に進む。
Step U9: A plurality of subareas are integrated and registered for the defect repair method.
Step U10: It is determined whether or not the defect repair method is covered for all subareas. If it is determined that the defect repair method is covered here, the process proceeds to Step U7, and if not covered, the process proceeds to Step U11. move on.
Step U11: The defect repair technique is developed in the unregistered subarea or the defect repair technique is additionally registered, and the process proceeds to Step U7.

次に、上記ステップU1〜U11に示す作業を行う際、上記したディスプレイに順次表示する操作画面について、図10〜14を参照して説明する。
オペレータが新規な欠陥修復手法を編集,登録する際、ディスプレイ20には複数のタブに対応付けられた操作画面が表示される。
タブは、サブエリア編集100、テンプレート編集110、テンプレート展開120、テンプレート統合130、登録内容確認140に区分されており、それらに固有の情報がページとして対応表示されるようになっている。
Next, an operation screen that is sequentially displayed on the above-described display when performing the operations shown in steps U1 to U11 will be described with reference to FIGS.
When the operator edits and registers a new defect repair method, an operation screen associated with a plurality of tabs is displayed on the display 20.
The tabs are divided into sub-area editing 100, template editing 110, template development 120, template integration 130, and registered content confirmation 140, and information unique to them is displayed corresponding to the page.

図10に示すサブエリア編集100のページには、サブエリア情報を入力するための入力欄101と、任意の1つの配線部Fを表示する表示欄102とが左右に区画されて表示されている。
入力欄101は、サブエリア情報入力欄103内に、基準エリアを設定するためのリストボックス104、登録サブエリアを選択切り替えして、順番や設定を編集するためのテキストボックス105、サブエリアの領域を指定するリストボックス106、展開方法を指定して登録するリストボックス107、トグルスイッチ108等が操作可能に表示されている。
On the page of the subarea editing 100 shown in FIG. 10, an input column 101 for inputting subarea information and a display column 102 for displaying any one wiring part F are displayed divided into left and right. .
The input field 101 includes a list box 104 for setting a reference area, a text box 105 for selecting and switching a registered sub area, and editing the order and settings in the sub area information input field 103, and a sub area area. A list box 106 for designating, a list box 107 for designating and registering a development method, a toggle switch 108 and the like are displayed to be operable.

図11に示すテンプレート展開120のページには、サブエリア情報を入力するための入力欄121と、任意の1つの配線部Fを表示する表示欄122とが左右に区画されて表示されている。
入力欄121は、サブエリア展開設定欄123と、選択テンプレート表示設定欄124とからなる。
サブエリア展開設定欄123には、展開先を指定するためのリストボックス125、展開方法を指定するためのチェックボックス126等が操作可能に表示されている。
なお、図11に示すリストボックス125には、エリア1からエリア2に展開する場合について示しており、また、127が欠陥、128がリペアオブジェクトである。
On the page of the template development 120 shown in FIG. 11, an input field 121 for inputting subarea information and a display field 122 for displaying any one wiring part F are displayed divided into left and right.
The input field 121 includes a sub-area development setting field 123 and a selection template display setting field 124.
In the sub-area development setting field 123, a list box 125 for designating a development destination, a check box 126 for designating a development method, and the like are displayed in an operable manner.
Note that the list box 125 shown in FIG. 11 shows a case where the data is expanded from area 1 to area 2, and 127 is a defect and 128 is a repair object.

図12に示すリストボックス125には、エリア1に適用している欠陥修復手法を全てのエリアに展開する場合について示しており、既存のテンプレートを上書き展開のチェックボックス126と、プレビューのチェックボックス127にそれぞれチェックが入れられている場合を示している。
また、選択テンプレート表示設定欄124の「展開済みの同一テンプレートを全て表示する」と「未展開のサブエリアを強調表示する」の各チェックボックス129a,129bがチェックされることにより、展開していないサブエリアが視覚的に確認できるようになる。
A list box 125 shown in FIG. 12 shows a case where the defect repair method applied to the area 1 is expanded to all areas, and an overwrite expansion check box 126 for an existing template and a preview check box 127 are displayed. The case where each is checked is shown.
In addition, when the check boxes 129a and 129b of “display all expanded same templates” and “highlight unexpanded subareas” in the selected template display setting field 124 are checked, they are not expanded. The sub-area can be visually confirmed.

図13に示すテンプレート統合130のページには、サブエリアを展開設定するための入力欄131と、任意の1つの配線部Fを表示する表示欄132とが左右に区画されて表示されている。
入力欄131は、登録済みのサプエリアを指定するためのリストボックス133、いずれかのサブエリアのテンプレートに統合するか否かを選択するための統合サブエリアのリストボックス134等が操作可能に表示されている。
On the page of the template integration 130 shown in FIG. 13, an input field 131 for expanding and setting subareas and a display field 132 for displaying any one wiring part F are displayed on the left and right sides.
In the input field 131, a list box 133 for designating registered subareas, an integrated subarea list box 134 for selecting whether to integrate with a template of any subarea, and the like are displayed in an operable manner. ing.

図14に示すテンプレート編集110のページには、サブエリアを展開設定するための入力欄111と、任意の1つの配線部Fを表示する表示欄112とが左右に区画されて表示されている。
入力欄111は、サブエリア展開設定欄113と、選択テンプレート表示設定欄114とからなる。
サブエリア展開設定欄113は、統合しようとするテンプレートを選択、表示、編集をするためのチャックボックスをツリー表示したチェックボックス113等が操作可能に表示されている。
また、選択テンプレート表示設定欄114は、「詳細情報表示」のトグルスイッチ115がオン操作されることにより、テンプレートの詳細な内容をダイアログボックス116として表示する。これにより、テンプレートの詳細な内容を視覚的に確認できるようになる。
On the page of the template editing 110 shown in FIG. 14, an input field 111 for expanding and setting subareas and a display field 112 for displaying any one wiring part F are displayed divided into left and right.
The input field 111 includes a sub-area development setting field 113 and a selection template display setting field 114.
In the sub-area development setting column 113, a check box 113 in which a chuck box for selecting, displaying, and editing a template to be integrated is displayed in a tree view, and the like are operable.
The selected template display setting field 114 displays the detailed contents of the template as a dialog box 116 when the “detailed information display” toggle switch 115 is turned on. As a result, the detailed contents of the template can be visually confirmed.

上記した図10に示す表示欄102に表示されている配線部Fは、上記した配線部Eとは異なる構造のものであり、4つの領域F1〜F4に区分された構造になっている。
本実施形態に示す領域F1〜F4は、互いに左右鏡面状に、かつ、上下にも鏡面状にそれぞれ展開された構造になっている。
なお、図10〜14においては、領域F1〜F4をエリア1〜4とも記している。
The wiring part F displayed in the display column 102 shown in FIG. 10 has a structure different from that of the wiring part E described above, and has a structure divided into four regions F1 to F4.
The regions F1 to F4 shown in the present embodiment have a structure that is developed in a mirror-like shape on the left and right sides and also in a mirror-like shape on the top and bottom.
In addition, in FIGS. 10-14, area | regions F1-F4 are also described as the areas 1-4.

具体的な操作内容は、次のとおりである。
まず、サブエリアの座標をエリア1からエリア4まで設定し、基準エリアをエリア1としたときの、それぞれのエリアがどのように展開できるかを指定する。
図10においては、エリア3を基準エリアからの形状が上下反転しているという設定で登録している例である。エディットボックス、若しくはマウスのトラック指定でサブエリアの領域を選択して登録する。
登録されたサブエリアはリストに表示され、画像内に枠で位置を示す。画像内のサブエリアが登録されている領域若しくはリストをマウスやキーボードで選択すると枠の色が変わり、登録順や設定内容の変更が可能になるようにしている。
The specific operation content is as follows.
First, the coordinates of the sub-areas are set from area 1 to area 4, and how each area can be developed when the reference area is area 1 is specified.
FIG. 10 shows an example in which the area 3 is registered with the setting that the shape from the reference area is vertically inverted. Select and register the sub-area area with the edit box or mouse track designation.
The registered subarea is displayed in a list, and its position is indicated by a frame in the image. When an area or list in which sub-areas in the image are registered is selected with a mouse or keyboard, the color of the frame changes, and the registration order and setting contents can be changed.

基準エリアを途中で変更したら、それに伴って個々の形状の登録も変更になる。
図10においては、基準エリアがエリア1のときはエリア2は左右に反転、エリア3は上下に反転で設定されるが、基準エリアをエリア2に切り替えたとしたら、エリア1は左右反転、エリア3は左右に反転後、上下にも反転する登録に変更となる。
基準エリアが変更になっていても、展開を行なうときの計算方法が変化するだけであるので、個々のサブエリアに登録される欠陥修復手法の座標やテンプレートの登録内容には影響はない。
If the reference area is changed halfway, the registration of individual shapes will be changed accordingly.
In FIG. 10, when the reference area is area 1, area 2 is set upside down and area 3 is set upside down. However, if the reference area is switched to area 2, area 1 is set up horizontally and area 3 is set up. Is changed to registration that flips left and right and then also flips up and down.
Even if the reference area is changed, only the calculation method at the time of development changes, so there is no effect on the coordinates of the defect repair technique registered in each sub-area and the registered contents of the template.

サブエリアの設定が完了したら、テンプレートを編集若しくは既存のテンプレートを読み込む。
既存のテンプレートにサブエリアが設定されていない、若しくは登録したサブエリアと異なる領域設定がなされていたら、デフォルト設定値として、欠陥の中心座標、若しくは欠陥の面積が一番多く設定されるサブエリアをそれぞれのテンプレートのサブエリアとして登録しなおす。
なお、テンプレートを編集、登録する際にはサブエリアも登録情報として指定する。
When the subarea settings are complete, edit the template or load an existing template.
If the sub-area is not set in the existing template or the area setting is different from the registered sub-area, the default setting value is the center area of the defect or the sub-area where the defect area is set the most. Re-register as a sub-area of each template.
When editing and registering a template, a sub-area is also specified as registration information.

図11,12に示すように、登録されているテンプレートから、展開させるテンプレートを選択し、登録若しくは展開済みのサブエリアの一覧から展開するテンプレートを表示させ、展開させたいエリアを選択して展開させる。
図12においては、エリア1のテンプレートをエリア2に展開させるときを示しており、展開元と展開先のエリアがわかるように表示の色等を変更している。
デフォルトでは展開するときの反転の指定はサブエリアの編集で設定されている内容が指定されるが、任意で変更することも可能である。
自動展開はあくまでも座標変換のみであるため、展開先のサブエリアの形状が展開元と異なるときなどは展開後に再度テンプレートの編集をそのまま行うことも可能である。
As shown in FIGS. 11 and 12, a template to be expanded is selected from registered templates, a template to be expanded is displayed from a list of registered or expanded subareas, and an area to be expanded is selected and expanded. .
FIG. 12 shows a case where the template of area 1 is expanded to area 2, and the display color and the like are changed so that the expansion source area and the expansion destination area can be seen.
By default, the inversion when expanding is specified by the contents set in the editing of the subarea, but can be arbitrarily changed.
Since automatic expansion is only coordinate conversion, it is possible to edit the template again after expansion when the shape of the sub-area of the expansion destination is different from the expansion source.

図12において、エリア1のテンプレートを登録されているサブエリアすべてに自動展開させるときを示している。
展開先のサブエリアの指定をせずに図11における展開をすべて一括で行なう。
展開先のテンプレートの形状をプレビュー表示することで、展開後のテンプレートを視覚的に把握することができる。また、展開先のサブエリアに既に登録済みのテンプレートがある場合、登録されているテンプレートをすべて同一パターン上に表示させたり、未登録のサブエリアに印を表示するなどして、登録抜けを確認できる。
また、特定のサブエリアに同一テンプレートが既に登録されているときに、一括展開時に上書きするかそのまま残すかを指定できるようにしておき、展開後に位置の調整を行ったサブエリアのテンプレートなどがある場合に効率の良い対処が出来るようにする。
FIG. 12 shows a case where the template of area 1 is automatically expanded in all registered sub-areas.
All the developments in FIG. 11 are performed at once without specifying the sub-areas to be developed.
By displaying a preview of the shape of the template at the development destination, it is possible to visually grasp the template after the development. Also, if there are already registered templates in the deployment destination subarea, all registered templates are displayed on the same pattern, or a mark is displayed in unregistered subareas to check for missing registration. it can.
Also, when the same template is already registered in a specific subarea, it is possible to specify whether to overwrite or leave it as it is at the time of batch development, and there is a subarea template whose position has been adjusted after development. To be able to deal with it efficiently.

図13においては、エリア1とエリア2は近接して反転しており、さらに登録されているテンプレートの欠陥127は近接する領域を複数に跨っていて、エリア1もエリア2もリペアを行う場所は同じになる。
この場合は、一つのテンプレートで複数のサブエリアの欠陥のリペアが可能であり、サブエリア別に展開しても登録内容は重複になる。この場合には、一つのテンプレートを複数のサブエリアで共有する設定を行う。
In FIG. 13, the area 1 and the area 2 are closely reversed and the registered defect 127 of the template extends over a plurality of adjacent areas, and the place where both the area 1 and the area 2 are repaired is as follows. Be the same.
In this case, it is possible to repair defects in a plurality of sub-areas with one template, and registration contents are duplicated even if they are developed for each sub-area. In this case, a setting for sharing one template among a plurality of subareas is performed.

テンプレートの展開を行なっていない場合は、登録されているテンプレート内のサブエリア情報に統合するサブエリアを指定すればよい。また、既に展開している内容が重複しているテンプレートは統合するときに削除するか、統合後に別の名称で保存するかを選択できるようにする。
また、図13に示す統合したテンプレートを選択したまま、再度テンプレートの展開を行なう画面へ移動してエリア3へ上下反転で展開してからエリア3とエリア4を統合する等、個々の編集内容を保持したまま効率よくサブエリアとテンプレートの設定をすることができる。
If the template is not expanded, the subarea to be integrated with the subarea information in the registered template may be specified. In addition, it is possible to select whether to delete a template whose contents that have already been developed are duplicated or to save it with a different name after integration.
Further, with the integrated template shown in FIG. 13 selected, the user can move to the template expansion screen again, expand the area 3 upside down, and then merge the areas 3 and 4 together. Subareas and templates can be set efficiently while retaining them.

図14においては、配線部内に複数のサブエリアを定義したときに、テンプレートに対する個々のサブエリアの登録状況がどのようになっているかを視覚的に確認できるようになっている。
すなわち、各テンプレートに対してすべてのサブエリアへ定義が行われているか、また、定義されているサブエリアの名称やサブエリアの指定方法が正しいものかを確認し、何らかの不具合を生じる可能性があるものに対して印をつけることにより、一括した管理がしやすくなる。
In FIG. 14, when a plurality of sub-areas are defined in the wiring section, it is possible to visually confirm the registration status of each sub-area with respect to the template.
In other words, check whether all subareas are defined for each template and whether the defined subarea names and subarea designation methods are correct, which may cause some problems. Marking certain things makes it easier to manage them all together.

また、マウスで選択したテンプレートを画面に表示したり、個々のテンプレートの詳細情報を表示することでテンプレートの内容も確認できるようにする。
特定のテンプレート若しくはサブエリアに対して何らかの不具合を確認したときには、該当するテンプレートを選択して再度編集したり、展開,統合を行うことができる。
Also, the template selected by the mouse is displayed on the screen, or the detailed information of each template is displayed so that the contents of the template can be confirmed.
When any defect is confirmed for a specific template or sub-area, the corresponding template can be selected and edited again, or expanded and integrated.

以上詳述したように、基板内でのリペア領域を欠陥修復手法別に設定し、さらにその中に同一回路が複数あり、形状が異なるために欠陥修復手法が変化するような場合にも、欠陥座標から適切な欠陥修復手法を選択、実行することができるようになる。   As described in detail above, even if the repair area in the substrate is set for each defect repair method, and there are multiple identical circuits in it, and the defect repair method changes due to different shapes, the defect coordinates Therefore, it becomes possible to select and execute an appropriate defect repair method.

上述した本発明によれば、次の効果を得ることができる。
・登録された配線部内でさらに電気的に同等になるサブエリア領域を指定し、それぞれに最適な欠陥修復手法を設定することにより、欠陥座標の位置に最適な欠陥修復手法を自動で選択、実行が可能となる。
・また、登録された欠陥修復手法が適用できない欠陥があるときも、既存の欠陥修復手法を配線部若しくはサブエリア領域分だけ移動させることにより、リペアの実行が可能となる。
・さらに、登録された欠陥修復手法を複数の領域に展開,統合を行なうことで、欠陥修復手法の登録漏れや重複の確認をし、最適なデータベースの作成が可能となる。
・本案件ではさらに、次の機能を拡張できる。
・配線部内で近接する領域に重なる欠陥のテンプレートを登録しておいた場合、テンプレートを配線部分上下左右の周辺8方向のいずれかの方向にシフト変換させて適用することにより、テンプレートの登録を簡略化することができる。
According to the present invention described above, the following effects can be obtained.
-By selecting sub-area areas that are more electrically equivalent in the registered wiring section and setting the optimum defect repair method for each, the optimum defect repair method for the position of the defect coordinates is automatically selected and executed. Is possible.
In addition, even when there is a defect to which the registered defect repair method cannot be applied, the repair can be executed by moving the existing defect repair method by the wiring portion or the sub area area.
・ Furthermore, by registering and integrating the registered defect repair methods in a plurality of areas, it is possible to confirm omissions and duplication of defect repair methods and create an optimal database.
・ In this project, the following functions can be expanded.
・ If a defect template that overlaps the adjacent area in the wiring section has been registered, the template registration can be simplified by shifting the template in one of the 8 directions of the wiring area up, down, left, and right. Can be

なお、本発明は上述した実施形態に限るものではなく、次のような変形実施が可能である。
上述した実施形態においては、n台の欠陥修復装置を接続した例について説明したが、上記したサーバに、1台の欠陥修復装置を接続する構成であってもよい。
上述した実施形態においては、サーバに欠陥修復装置を接続するとともに、その欠陥修復装置に、欠陥位置特定手段、判別手段、修復手法索出手段、修復手法変換手段、欠陥修復手段とを設けた構成の欠陥修復システムについて説明したが、次の構成にしてもよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and the following modifications can be made.
In the above-described embodiment, an example in which n defect repair apparatuses are connected has been described. However, a configuration in which one defect repair apparatus is connected to the server described above may be used.
In the embodiment described above, the defect repair device is connected to the server, and the defect repair device is provided with defect position specifying means, discrimination means, repair technique searching means, repair technique conversion means, and defect repair means. Although the defect repair system has been described, the following configuration may be used.

すなわち、サーバーに欠陥修復装置を端末として接続可能にした構成にすることなく、その欠陥修復装置に、上記した撮影部、基板修復部とともに、上記した複数の欠陥修復手法を記憶した記憶部を配設する。   That is, without having a configuration in which the defect repair device can be connected to the server as a terminal, the defect repair device is provided with a storage unit storing the plurality of defect repair methods as well as the photographing unit and the substrate repair unit. Set up.

また、撮影部によって撮影した配線部の撮影画像と上記基準画像とを照合して欠陥位置を特定する欠陥位置特定手段と、特定した欠陥のある配線部に対応する欠陥修復手法の有無を判別する判別手段と、特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法がないと判別されたときには、転用可能な欠陥修復手法を索出する修復手法索出手段と、索出された欠陥修復手法を、当該欠陥のある配線部に対応できるように変換する修復手法変換手段と、変換された欠陥修復手法に基づき、当該欠陥のある配線部の修復を上記基板修復部を介して行う欠陥修復手段とを設ける。
この構成によっても、既に登録された欠陥修復手法が配線部にある欠陥に適用できないときにも、新たな欠陥修復手法によることなく、欠陥に応じた適切な修復を自動的に行うことができる。
Further, it is determined whether or not there is a defect position specifying means for specifying a defect position by comparing a photographed image of the wiring section photographed by the photographing section with the reference image, and a defect repairing method corresponding to the identified defective wiring section. When it is determined that there is no defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position, the determination means and a repair method search means for searching for a usable defect repair method, A repair method converting means for converting the defective wiring portion so as to correspond to the defective wiring portion; and a defect repairing means for repairing the defective wiring portion through the substrate repair portion based on the converted defect repairing method; Is provided.
Even with this configuration, even when a registered defect repair method cannot be applied to a defect in the wiring portion, appropriate repair according to the defect can be automatically performed without using a new defect repair method.

上述した実施形態において、欠陥修復システムに用いる欠陥修復プログラムを、情報記録媒体の一例として記憶装置60に記憶した構成について説明したが、情報記録媒体としては記憶装置60に限るものではなく、例えばフロッピィーディスク,コンパクトディスク,ディジタルビデオディスク,光磁気ディスク,可搬型ハードディスク,可搬型メモリ,ROМ等に記憶してもよい。   In the above-described embodiment, the configuration in which the defect repair program used in the defect repair system is stored in the storage device 60 as an example of the information recording medium has been described. However, the information recording medium is not limited to the storage device 60. It may be stored in a disk, a compact disk, a digital video disk, a magneto-optical disk, a portable hard disk, a portable memory, ROМ, or the like.

本発明の一実施形態に係る欠陥修復システムの概略構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a schematic configuration of a defect repair system according to an embodiment of the present invention. 欠陥修復システムの一部をなす欠陥修復装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the defect repair apparatus which makes a part of defect repair system. 基板の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of a board | substrate. (A)は、欠陥修復手法をなすヘッダ情報とオブジェクト情報を示す説明図、(B)は、一例に係る配線部の詳細な構成を示す説明図である。(A) is explanatory drawing which shows the header information and object information which make a defect repair method, (B) is explanatory drawing which shows the detailed structure of the wiring part which concerns on an example. 一連の欠陥修復処理のメインルーチンを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the main routine of a series of defect repair processes. 欠陥修復手法の詳細な変換処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the detailed conversion process of a defect repair method. Rのサブエリアを基準にしたときの一例に係る欠陥修復手法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the defect repair method which concerns on an example when R subarea is made into the reference | standard. Rのサブエリアを基準にしたときの他例に係る欠陥修復手法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the defect repair method which concerns on the other example when R subarea is made into the reference | standard. 配線部に欠陥修復手法を対応付ける、オペレータが手作業で行う手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure which an operator associates with a wiring part a defect repair method and is performed manually. 一つのサブエリアに登録されているテンプレートを自動展開させるための操作画面を示す説明図であり、サブエリアを編集するための操作画面である。It is explanatory drawing which shows the operation screen for carrying out the automatic expansion | deployment of the template registered into one subarea, and is an operation screen for editing a subarea. 一つのサブエリアに登録されているテンプレートを自動展開させるための操作画面を示す説明図であり、テンプレートを展開するための一例に係る操作画面である。It is explanatory drawing which shows the operation screen for carrying out the automatic expansion | deployment of the template registered into one subarea, and is the operation screen which concerns on an example for expand | deploying a template. 一つのサブエリアに登録されているテンプレートを自動展開させるための操作画面を示す説明図であり、テンプレートを展開するための他例に係る操作画面である。It is explanatory drawing which shows the operation screen for carrying out the automatic expansion | deployment of the template registered into one subarea, and is the operation screen which concerns on the other example for expand | deploying a template. 一つのサブエリアに登録されているテンプレートを自動展開させるための操作画面を示す説明図であり、テンプレートを統合するための操作画面である。It is explanatory drawing which shows the operation screen for carrying out the automatic expansion | deployment of the template registered into one subarea, and is an operation screen for integrating a template. 一つのサブエリアに登録されているテンプレートを自動展開させるための操作画面を示す説明図であり、テンプレートを編集するための操作画面である。It is explanatory drawing which shows the operation screen for carrying out the automatic expansion | deployment of the template registered into one subarea, and is an operation screen for editing a template.

符号の説明Explanation of symbols

50…基板、10…撮影部、30…基板修復部、60…情報記録媒体(記憶部)、61…データベース、B1〜Bn…欠陥修復装置、C…サーバ、D1…欠陥位置特定手段、D2…判別手段、D3…修復手法索出手段、D4…修復手法変換手段、D5…欠陥修復手段、E…配線部、E1〜E3…領域。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 50 ... Board | substrate, 10 ... Image pick-up part, 30 ... Board | substrate repair part, 60 ... Information recording medium (memory | storage part), 61 ... Database, B1-Bn ... Defect repair apparatus, C ... Server, D1 ... Defect position specific | specification means, D2 ... Discriminating means, D3... Repair method searching means, D4... Repair method converting means, D5... Defect repair means, E.

Claims (10)

基板に配列された複数の配線部の基準となる欠陥のない基準画像、及びそれら複数の配線部にある欠陥を修復するための複数の欠陥修復手法を記憶したサーバに、それら配線部を撮影するための撮影部と、それらの欠陥を修復するための基板修復部とを備えた欠陥修復装置を電気通信回線を介して接続可能な欠陥修復システムであって、
上記撮影部により撮影した配線部の撮影画像と、上記基準画像とを照合して欠陥位置を特定する欠陥位置特定手段と、
特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法の有無を判別する判別手段と、
特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法がないと判別されたときには、サーバに記憶されている複数の欠陥修復手法の中から、転用可能な欠陥修復手法を索出する修復手法索出手段と、
索出された欠陥修復手法を、当該特定した欠陥位置の欠陥に対応できるように変換する修復手法変換手段と、
変換された欠陥修復手法に基づき、当該欠陥の修復を上記基板修復部を介して行う欠陥修復手段とを欠陥修復装置が有していることを特徴とする欠陥修復システム。
The wiring parts are photographed in a server storing a reference image without defects serving as a reference for the plurality of wiring parts arranged on the substrate and a plurality of defect repairing methods for repairing defects in the plurality of wiring parts. A defect repairing system capable of connecting a defect repairing device having a photographing unit for repairing and a substrate repairing unit for repairing those defects via an electric communication line,
A defect position specifying means for specifying a defect position by collating a photographed image of the wiring section photographed by the photographing section with the reference image;
A discriminating means for discriminating whether or not there is a defect repair method corresponding to the defect at the identified defect position;
When it is determined that there is no defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position, a repair method search for searching for a usable defect repair method from a plurality of defect repair methods stored in the server Means,
A repair method conversion means for converting the found defect repair method so as to correspond to the defect at the specified defect position;
A defect repair system characterized in that the defect repair device has a defect repair means for repairing the defect via the substrate repair section based on the converted defect repair technique.
修復手法変換手段は、索出された転用可能な欠陥修復手法を、当該特定した欠陥位置の欠陥に対応するように座標変換することを特徴とする請求項1に記載の欠陥修復システム。   The defect repair system according to claim 1, wherein the repair technique conversion means performs coordinate conversion of the found defect repair technique that can be diverted so as to correspond to the defect at the specified defect position. 配線部が複数の領域に区分されており、
修復手法変換手段は、索出された転用可能な欠陥修復手法を、欠陥のある領域に対応するように座標変換することを特徴とする請求項1に記載の欠陥修復システム。
The wiring section is divided into multiple areas,
The defect repair system according to claim 1, wherein the repair technique converting means performs coordinate conversion of the found and usable defect repair technique so as to correspond to a defective area.
修復手法変換手段は、変換に係る欠陥修復手法を、特定した欠陥位置の欠陥に対応するように座標変換することを特徴とする請求項1に記載の欠陥修復システム。   The defect repair system according to claim 1, wherein the repair technique conversion unit performs coordinate conversion of the defect repair technique related to the conversion so as to correspond to the defect at the specified defect position. 一の欠陥修復手法を、複数の領域に共通に関連付けていることを特徴とする請求項1に記載の欠陥修復システム。   The defect repair system according to claim 1, wherein one defect repair technique is commonly associated with a plurality of regions. 互いに異なる構成からなる複数の基板と、これらの各基板にそれぞれ配列された複数の配線部にある欠陥を修復するための複数の欠陥修復手法とを互いに対応付けたデータベースを記憶し、それら配線部にある欠陥を修復するための複数の欠陥修復装置を電気通信回線を介して接続可能なサーバであって、
上記欠陥修復装置からの欠陥修復手法の要求に応じて、対応する欠陥修復手法を当該欠陥修復装置に向けて送出する欠陥修復手法送出手段を有することを特徴とするサーバ。
A database in which a plurality of substrates having different configurations and a plurality of defect repair methods for repairing defects in a plurality of wiring sections respectively arranged on each of these substrates is stored in correspondence with each other, and the wiring sections are stored. A server capable of connecting a plurality of defect repairing devices for repairing defects in the network via a telecommunication line,
A server comprising: a defect repair technique sending means for sending a corresponding defect repair technique to the defect repair apparatus in response to a request for a defect repair technique from the defect repair apparatus.
互いに異なる構成からなる複数の基板と、これらの各基板にそれぞれ配列された複数の配線部にある欠陥を修復するための複数の欠陥修復手法とを互いに対応付けたデータベースを記憶したサーバに電気通信回線を介して接続されるとともに、上記基板に配列された複数の配線部を撮影するための撮影部と、それらの欠陥を修復するための基板修復部とを備えた欠陥修復システムに用いる欠陥修復装置であって、
上記撮影部により撮影した配線部の撮影画像と、上記基準画像とを照合して欠陥位置を特定する欠陥位置特定手段と、
特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法の有無を判別する判別手段と、
特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法がないと判別されたときには、サーバに記憶されている複数の欠陥修復手法の中から、転用可能な欠陥修復手法を索出する修復手法索出手段と、
索出された欠陥修復手法を、当該特定した欠陥位置の欠陥に対応できるように変換する修復手法変換手段と、
変換された欠陥修復手法に基づき、当該欠陥の修復を上記基板修復部を介して行う欠陥修復手段とを有していることを特徴とする欠陥修復システムに用いる欠陥修復装置。
Electrical communication to a server that stores a database in which a plurality of substrates having different configurations and a plurality of defect repair methods for repairing defects in a plurality of wiring sections arranged on each of these substrates are associated with each other Defect repair used in a defect repair system, which is connected via a line and includes a photographing unit for photographing a plurality of wiring parts arranged on the substrate and a substrate repairing unit for repairing those defects A device,
A defect position specifying means for specifying a defect position by collating a photographed image of the wiring section photographed by the photographing section with the reference image;
A discriminating means for discriminating whether or not there is a defect repair method corresponding to the defect at the identified defect position;
When it is determined that there is no defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position, a repair method search for searching for a usable defect repair method from a plurality of defect repair methods stored in the server Means,
A repair method conversion means for converting the found defect repair method so as to correspond to the defect at the specified defect position;
A defect repairing apparatus for use in a defect repairing system, comprising: defect repairing means for repairing the defect via the substrate repairing part based on the converted defect repairing technique.
基板に配列された複数の配線部の基準となる欠陥のない基準画像、及びそれら複数の配線部の欠陥を修復するための複数の欠陥修復手法を記憶したサーバに、それら配線部を撮影するための撮影部と、それらの欠陥を修復するための基板修復部とを備えた欠陥修復装置を電気通信回線を介して接続可能な欠陥修復システムに用いる欠陥修復プログラムであって、
上記撮影部により撮影した配線部の撮影画像と、上記基準画像とを照合して欠陥位置を特定する欠陥位置特定機能と、
特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法の有無を判別する判別機能と、
特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法がないと判別されたときには、サーバに記憶されている複数の欠陥修復手法の中から、転用可能な欠陥修復手法を索出する修復手法索出機能と、
索出された欠陥修復手法を、当該特定した欠陥位置の欠陥に対応できるように変換する修復手法変換機能と、
変換された欠陥修復手法に基づき、当該欠陥の修復を上記基板修復部を介して行う配線部修復機能とを、欠陥修復装置に実現することを特徴とする欠陥修復システムに用いる欠陥修復プログラム。
In order to photograph these wiring portions on a server storing a defect-free reference image serving as a reference for the plurality of wiring portions arranged on the substrate and a plurality of defect repairing methods for repairing the defects of the plurality of wiring portions. A defect repairing program for use in a defect repairing system capable of connecting a defect repairing device having a photographing unit and a substrate repairing unit for repairing those defects via an electric communication line,
A defect position identifying function for identifying a defect position by collating a photographed image of the wiring section photographed by the photographing section with the reference image;
A discriminating function for discriminating whether or not there is a defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position;
When it is determined that there is no defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position, a repair method search for searching for a usable defect repair method from a plurality of defect repair methods stored in the server Function and
A repair method conversion function for converting the found defect repair method so as to correspond to the defect at the specified defect position,
A defect repair program for use in a defect repair system, characterized in that, based on a converted defect repair technique, a defect repair apparatus realizes a wiring repair function that repairs the defect via the substrate repair unit.
請求項8に記載した欠陥修復システムに用いる欠陥修復プログラムを記録していることを特徴とする情報記録媒体。   An information recording medium in which a defect repair program used in the defect repair system according to claim 8 is recorded. 基板に配列された複数の配線部の基準となる欠陥のない基準画像、及びそれら複数の配線部の欠陥を修復するための複数の欠陥修復手法を記憶した記憶部と、それらの欠陥を修復するための基板修復部とを有する欠陥修復装置において、
上記撮影部によって撮影した配線部の撮影画像と上記基準画像とを照合して欠陥位置を特定する欠陥位置特定手段と、
特定した欠陥のある配線部に対応する欠陥修復手法の有無を判別する判別手段と、
特定した欠陥位置にある欠陥に対応する欠陥修復手法がないと判別されたときには、転用可能な欠陥修復手法を索出する修復手法索出手段と、
索出された欠陥修復手法を、当該欠陥のある配線部に対応できるように変換する修復手法変換手段と、
変換された欠陥修復手法に基づき、当該欠陥の修復を上記基板修復部を介して行う欠陥修復手段とを欠陥修復装置が有していることを特徴とする欠陥修復装置。
A reference image having no defect serving as a reference for a plurality of wiring units arranged on a substrate, a storage unit storing a plurality of defect repairing methods for repairing defects in the plurality of wiring units, and repairing those defects In a defect repairing apparatus having a substrate repairing part for
A defect position specifying means for specifying a defect position by collating a photographed image of the wiring section photographed by the photographing section with the reference image;
A discriminating means for discriminating the presence or absence of a defect repair technique corresponding to the identified defective wiring portion;
When it is determined that there is no defect repair method corresponding to the defect at the specified defect position, a repair method search means for searching for a usable defect repair method,
A repair technique conversion means for converting the found defect repair technique so as to correspond to the defective wiring part; and
A defect repairing apparatus characterized in that the defect repairing apparatus has defect repairing means for repairing the defect via the substrate repairing part based on the converted defect repairing technique.
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