JP2009251008A - Optical product and method for producing the same - Google Patents

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JP2009251008A
JP2009251008A JP2008094766A JP2008094766A JP2009251008A JP 2009251008 A JP2009251008 A JP 2009251008A JP 2008094766 A JP2008094766 A JP 2008094766A JP 2008094766 A JP2008094766 A JP 2008094766A JP 2009251008 A JP2009251008 A JP 2009251008A
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reactive compound
compound
antifouling
layer
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Keiichi Suzuki
慶一 鈴木
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Seiko Epson Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical product in which an antifouling layer has excellent antifouling properties and scratch resistance, and to provide a method for producing the same. <P>SOLUTION: The optical product 10 is provided with a plastic substrate 11 and a hard coat layer 12, an antireflection layer 13 and the antifouling layer 14 which are formed on both surfaces of the plastic substrate 11. The antifouling layer 14 contains a reactive compound having a reactive group which is reacts with the plastic substrate and a non-reactive compound which does not react with the plastic substrate. The reactive compound and the non-reactive compound are preferably fluorine-containing organic silicon compounds. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、表面層として防汚層を備えた光学物品およびその製造方法に関する。   The present invention relates to an optical article having an antifouling layer as a surface layer and a method for producing the same.

眼鏡レンズ等の光学物品の表面には、その付加価値を高めるために種々の膜や層が形成
される。例えば、表面での反射を低減するための反射防止層が形成され、さらにその表面
には撥水撥油性を備えた表面層として防汚層が設けられる。この防汚層は、光学物品を使
用する際に付着する手垢、汗または化粧品など汚れの付着を防ぎ、これらの汚れが付着し
たとしても、拭取りやすくするために設けられている。
防汚層の形成には、防汚剤分子として主にフッ素含有の有機化合物が用いられている(
例えば、特許文献1参照)。
このような有機化合物は反応基を有しており、この反応基が基材表面や基材表面に形成
された膜と反応することにより、基材表面と結合している。
Various films and layers are formed on the surface of an optical article such as a spectacle lens in order to increase the added value. For example, an antireflection layer for reducing reflection on the surface is formed, and an antifouling layer is provided on the surface as a surface layer having water and oil repellency. This antifouling layer is provided in order to prevent adhesion of dirt such as dirt, sweat or cosmetics attached when using an optical article, and even if such dirt adheres, it is provided.
For the formation of the antifouling layer, organic compounds containing fluorine are mainly used as antifouling molecules (
For example, see Patent Document 1).
Such an organic compound has a reactive group, and this reactive group reacts with the substrate surface or a film formed on the substrate surface, thereby bonding to the substrate surface.

特開平9−258003号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-258003

しかしながら、特許文献1に記載の構成では、有機化合物の反応基が全て基材表面と結
合するため、結合が強固となる。したがって、基材表面に摺動力が働いた場合、例えば、
メガネレンズの表面を布等でふき取る場合など、その摺動力が直接結合部分に加わるため
、防汚剤分子が脱落して、基材表面に傷がつきやすいという問題がある。
However, in the configuration described in Patent Document 1, since all the reactive groups of the organic compound are bonded to the substrate surface, the bonding is strong. Therefore, when a sliding force acts on the substrate surface, for example,
When the surface of the spectacle lens is wiped off with a cloth or the like, the sliding force is directly applied to the bonded portion, so that there is a problem that the antifouling agent molecules fall off and the substrate surface is easily damaged.

そこで、本発明の目的は、防汚層の防汚性と耐擦傷性に優れた光学物品およびその製造
方法を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical article excellent in antifouling property and scratch resistance of an antifouling layer and a method for producing the same.

本発明の光学物品は、プラスチック基板上に防汚層を備えた光学物品であって、前記防
汚層は、前記プラスチック基板と反応する反応基を有する反応性化合物と、前記プラスチ
ック基板と反応しない非反応性化合物とから形成されていることを特徴とする。
The optical article of the present invention is an optical article having an antifouling layer on a plastic substrate, and the antifouling layer does not react with the reactive compound having a reactive group that reacts with the plastic substrate and the plastic substrate. It is formed from a non-reactive compound.

ここで、プラスチック基板とは、ハードコート層および反射防止層のうち少なくとも一
方が積層されたものをも含むものである。例えば、プラスチック基板のみのもの、プラス
チック基板にハードコート層のみが積層されたもの、プラスチック基板にハードコート層
と反射防止層とが積層されたものなどがある。なお、防汚層との反応性が良好であるとい
う点から最上層に反射防止層が形成されたものがより好ましい。
また、防汚層がプラスチック基板と反応するとは、例えば、防汚層とプラスチック基板
の双方がアルコキシシリル基やアミノシリル基のような互いに結合(縮合)可能な反応基
を有する化合物を含有しており、これらを介して結合することを言う。
Here, the plastic substrate includes those in which at least one of a hard coat layer and an antireflection layer is laminated. For example, there are a plastic substrate only, a plastic substrate in which only a hard coat layer is laminated, and a plastic substrate in which a hard coat layer and an antireflection layer are laminated. In addition, it is more preferable that an antireflection layer is formed on the uppermost layer from the viewpoint of good reactivity with the antifouling layer.
The antifouling layer reacts with the plastic substrate. For example, both the antifouling layer and the plastic substrate contain a compound having a reactive group capable of bonding (condensing) to each other such as an alkoxysilyl group or an aminosilyl group. Say to bind through these.

この発明によれば、防汚層内に、反応性化合物と非反応性化合物とが混在する。反応性
化合物はその反応基がプラスチック基板(反射防止層)と反応して強固に結合する一方、
非反応性化合物はプラスチック基板(反射防止層)とは反応しないため、非反応性化合物
の分子が自由度を持って防汚層内に存在している。
したがって、この光学物品の表面に摺動力が働いた場合(例えば、眼鏡レンズなどの光
学物品の表面を布等でふき取る場合など)に、この非反応性化合物の分子が自由に運動す
ることにより、加わった摺動力を防汚層内で吸収することができる。これにより、反応性
化合物とプラスチック基板(反射防止層)との結合部分に加わる力を低減させることがで
きるため防汚層が脱落しにくくなり、耐擦傷性を向上させることができる。
According to this invention, a reactive compound and a non-reactive compound are mixed in the antifouling layer. The reactive compound reacts with the plastic substrate (antireflection layer) and bonds strongly with the reactive compound,
Since the non-reactive compound does not react with the plastic substrate (antireflection layer), the molecules of the non-reactive compound are present in the antifouling layer with a degree of freedom.
Therefore, when a sliding force is applied to the surface of the optical article (for example, when the surface of the optical article such as an eyeglass lens is wiped with a cloth or the like), the molecules of the non-reactive compound freely move, The applied sliding force can be absorbed in the antifouling layer. Thereby, since the force applied to the bonding portion between the reactive compound and the plastic substrate (antireflection layer) can be reduced, the antifouling layer is less likely to fall off, and the scratch resistance can be improved.

本発明の光学物品において、前記反応性化合物および前記非反応性化合物は、フッ素含
有有機ケイ素化合物であることが好ましい。
この発明によれば、フッ素含有有機ケイ素化合物は撥水撥油性に優れているため、優れ
た防汚性を発揮することができる。
In the optical article of the present invention, the reactive compound and the non-reactive compound are preferably fluorine-containing organosilicon compounds.
According to this invention, since the fluorine-containing organic silicon compound is excellent in water and oil repellency, it can exhibit excellent antifouling properties.

本発明の光学物品において、前記非反応性化合物は、前記反応性化合物の前記反応基を
失活させたものであることが好ましい。
この発明では、反応性化合物を自己縮合などにより末端封止して非反応性化合物とした
ものを用いる。このように同じ化合物を用いることにより、本来の撥水撥油性を維持した
まま、耐擦傷性にも優れた光学物品を提供することができる。
In the optical article of the present invention, the non-reactive compound is preferably one in which the reactive group of the reactive compound is deactivated.
In this invention, the reactive compound is used as a non-reactive compound by end-capping by self-condensation or the like. Thus, by using the same compound, an optical article excellent in scratch resistance can be provided while maintaining the original water and oil repellency.

本発明の光学物品において、前記防汚層は、前記反応性化合物と前記非反応性化合物と
を、固形分質量比で8:2〜2:8の割合で配合されてなる組成物から形成されているこ
とが好ましい。
In the optical article of the present invention, the antifouling layer is formed from a composition obtained by blending the reactive compound and the non-reactive compound in a mass ratio of 8: 2 to 2: 8. It is preferable.

ここで、反応性化合物の割合が固形分質量比で2よりも少ないと、プラスチック基材(
反射防止層)と結合する防汚剤分子の量が少なくなり、防汚層が剥がれやすくなってしま
う。また、反応性化合物の割合が固形分質量比で8よりも多いと、自由度を持った分子が
少なくなるため、数少ない反応性化合物とプラスチック基材(反射防止層)との結合部分
に摺動力がかかりやすくなり、反応性化合物が脱落して防汚層が剥がれやすくなってしま
う。
なお、反応性化合物と非反応性化合物との配合比は、固形分質量比で6:4〜4:6の
範囲であることがより好ましい。
Here, when the ratio of the reactive compound is less than 2 in terms of solid content, the plastic substrate (
The amount of antifouling molecules bound to the antireflective layer is reduced, and the antifouling layer is easily peeled off. In addition, when the ratio of the reactive compound is more than 8 in terms of the solid mass ratio, the number of molecules having a degree of freedom is reduced, so that a sliding force is applied to the bonding portion between the few reactive compounds and the plastic substrate (antireflection layer). , And the reactive compound falls off and the antifouling layer is easily peeled off.
In addition, as for the compounding ratio of a reactive compound and a non-reactive compound, it is more preferable that it is the range of 6: 4-4: 6 by solid content mass ratio.

本発明の光学物品において、前記反応性化合物は、以下の式(1)で表される化合物で
あることが好ましい。
In the optical article of the present invention, the reactive compound is preferably a compound represented by the following formula (1).

Figure 2009251008
Figure 2009251008

式中、Rfはパーフルオロアルキル基、Xは水素、臭素、またはヨウ素、Yは水素
または低級アルキル基、Zはフッ素またはトリフルオロメチル基、Rは水酸基または加
水分解可能な基、Rは水素または一価の炭化水素を表す。また、a、b、c、d、eは
0または1以上の整数で、a+b+c+d+eは少なくとも1以上であり、a、b、c、
d、eでくくられた各繰り返し単位の存在順位は、一般式(1)において限定されない。
fは0、1または2を表す。gは1、2または3を表す。hは1以上の整数を表す。
Wherein Rf 1 is a perfluoroalkyl group, X 1 is hydrogen, bromine, or iodine, Y is hydrogen or a lower alkyl group, Z is a fluorine or trifluoromethyl group, R 1 is a hydroxyl group or a hydrolyzable group, R 2 represents hydrogen or a monovalent hydrocarbon. A, b, c, d and e are 0 or an integer of 1 or more, a + b + c + d + e is at least 1 or more, a, b, c,
The order of presence of each repeating unit divided by d and e is not limited in the general formula (1).
f represents 0, 1 or 2. g represents 1, 2 or 3. h represents an integer of 1 or more.

この発明では、式(1)で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物は、フッ素原子の含有
率が高く、分子量数千でパーフルオロアルキル基の鎖長が長いために、臨界表面張力が低
い。そのためこれを含む防汚層の表面は、より低エネルギーとなり防汚性が向上する。
In the present invention, the fluorine-containing organosilicon compound represented by the formula (1) has a high fluorine atom content, a molecular weight of several thousand and a long chain length of a perfluoroalkyl group, and thus has a low critical surface tension. Therefore, the surface of the antifouling layer containing this has lower energy and antifouling properties are improved.

本発明の光学物品において、前記反応性化合物は、以下の式(2)で表される化合物で
あることが好ましい。
In the optical article of the present invention, the reactive compound is preferably a compound represented by the following formula (2).

Figure 2009251008
Figure 2009251008

式中、Rfは、−(C2k)O−(kは1〜6の整数)で表される単位を含み、
分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基を表
す。Rは炭素原子数1〜8の一価の炭化水素基であり、Xは加水分解性基またはハロ
ゲン原子を表す。pは0、1または2を表す。nは1〜5の整数を表す。mおよびrは、
2または3を表す。
In the formula, Rf 2 includes a unit represented by — (C k F 2k ) O— (k is an integer of 1 to 6),
It represents a divalent group having a linear perfluoropolyalkylene ether structure having no branch. R 3 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and X 2 represents a hydrolyzable group or a halogen atom. p represents 0, 1 or 2. n represents an integer of 1 to 5. m and r are
2 or 3 is represented.

この発明では、式(2)で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物は、フッ素原子の含有
率が高く、分子量数千でパーフルオロアルキル基の鎖長が長いために、臨界表面張力が低
い。そのためこれを含む防汚層の表面は、より低エネルギーとなり防汚性が向上する。
In the present invention, the fluorine-containing organosilicon compound represented by the formula (2) has a high fluorine atom content, a molecular weight of several thousand and a long chain length of a perfluoroalkyl group, and therefore has a low critical surface tension. Therefore, the surface of the antifouling layer containing this has lower energy and antifouling properties are improved.

本発明の光学物品において、前記反応性化合物は、以下の式(3)で表される化合物で
あることが好ましい。
17−C−Si(NH)3/2 …(3)
In the optical article of the present invention, the reactive compound is preferably a compound represented by the following formula (3).
F 17 C 8 —C 2 H 4 —Si (NH) 3/2 (3)

この発明によれば、式(3)で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物は、防汚性を発揮
するので、光学物品の表面に防汚性を付与することができる。
According to this invention, since the fluorine-containing organosilicon compound represented by the formula (3) exhibits antifouling properties, it is possible to impart antifouling properties to the surface of the optical article.

本発明の光学物品において、前記反応性化合物は、以下の式(4)で表される化合物で
あることが好ましい。
3C−(CF2n−(CH2m−Si(O−R)3 …(4)
式中、nは1〜11の整数であり、mは1〜4の整数であり、Rは炭素数1以上のアル
キル基である。
In the optical article of the present invention, the reactive compound is preferably a compound represented by the following formula (4).
F 3 C— (CF 2 ) n — (CH 2 ) m —Si (O—R) 3 (4)
In the formula, n is an integer of 1 to 11, m is an integer of 1 to 4, and R is an alkyl group having 1 or more carbon atoms.

この発明によれば、式(4)で表されるフッ素含有有機ケイ素化合物は、防汚性を発揮
するので、光学物品の表面に防汚性を付与することができる。
According to this invention, since the fluorine-containing organosilicon compound represented by the formula (4) exhibits antifouling properties, it is possible to impart antifouling properties to the surface of optical articles.

本発明の光学物品において、前記非反応性化合物は、前記反応性化合物と以下の式(5
)で表される化合物とを反応させて得られる組成物であることが好ましい。
17−C−Si(NH)3/2 …(5)
In the optical article of the present invention, the non-reactive compound includes the reactive compound and the following formula (5):
It is preferable that it is a composition obtained by making it react with the compound represented by this.
F 17 C 8 —C 2 H 4 —Si (NH) 3/2 (5)

この発明によれば、(NH)3/2が反応基となり、防汚剤である反応性化合物と反応
する。これにより、反応性化合物の末端を封止して非反応性化合物とすることができる。
そして、反応性化合物と、上記(5)式で表される化合物と反応した非反応性化合物と、
が混在するので、光学物品の表面に摺動力が働いた場合(例えば、眼鏡レンズなどの光学
物品の表面を布等でふき取る場合など)に、非反応性化合物の分子が自由に運動すること
により、加わった摺動力を防汚層内で吸収することができる。したがって、耐擦傷性を向
上させることができる。
According to this invention, (NH) 3/2 becomes a reactive group and reacts with a reactive compound that is an antifouling agent. Thereby, the terminal of a reactive compound can be sealed and it can be set as a non-reactive compound.
And the reactive compound, the non-reactive compound reacted with the compound represented by the above formula (5),
When a sliding force acts on the surface of an optical article (for example, when wiping the surface of an optical article such as a spectacle lens with a cloth), the molecules of the non-reactive compound move freely. The applied sliding force can be absorbed in the antifouling layer. Therefore, the scratch resistance can be improved.

本発明の光学物品において、前記非反応性化合物は、前記反応性化合物と以下の式(6
)で表される化合物とを反応させて得られる組成物であることが好ましい。
3C−(CF2n−(CH2m−Si(O−R)3 …(6)
式中、nは1〜11の整数であり、mは1〜4の整数であり、Rは炭素数1以上のアル
キル基である。
In the optical article of the present invention, the non-reactive compound includes the reactive compound and the following formula (6):
It is preferable that it is a composition obtained by making it react with the compound represented by this.
F 3 C— (CF 2 ) n — (CH 2 ) m —Si (O—R) 3 (6)
In the formula, n is an integer of 1 to 11, m is an integer of 1 to 4, and R is an alkyl group having 1 or more carbon atoms.

式(6)の具体例としては、CF3(CF2)4CH2CH2Si(OC25)3、CF3(CF2)
4CH2CH2SiCH3(OC25)2、CF3(CF2)7CH2CH2Si(OC25)3、CF3
2CH2CH2Si(OC37)3、CF3(CF2)2CH2CH2Si(OC37)3、CF3(CF
2)4CH2CH2SiCH3(OC37)2、CF3(CF2)5CH2CH2SiCH3(OC37)2
CF3(CF2)7CH2CH2SiCH3(OC37)2などのパーフルオロアルキルアルキレン
アルコキシシラン化合物が挙げられる。
Specific examples of the formula (6) include CF 3 (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ).
4 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC 2 H 5 ) 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 C
F 2 CH 2 CH 2 Si (OC 3 H 7 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 2 CH 2 CH 2 Si (OC 3 H 7 ) 3 , CF 3 (CF
2) 4 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC 3 H 7) 2, CF 3 (CF 2) 5 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC 3 H 7) 2,
And perfluoroalkylalkylene alkoxysilane compounds such as CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC 3 H 7 ) 2 .

上記式(6)で表される化合物は、Rが反応基となり、防汚剤である反応性化合物の反
応基と反応する。すなわち、上記式(6)で表される化合物で反応性化合物の末端を封止
して非反応性化合物とする。そして、反応性化合物と非反応性化合物が混在するので、光
学物品の表面に摺動力が働いた場合(例えば、眼鏡レンズなどの光学物品の表面を布等で
ふき取る場合など)に、非反応性化合物の分子が自由に運動することにより、加わった摺
動力を防汚層内で吸収することができる。したがって、耐擦傷性を向上させることができ
る。
In the compound represented by the above formula (6), R becomes a reactive group and reacts with a reactive group of a reactive compound that is an antifouling agent. That is, the end of the reactive compound is sealed with the compound represented by the above formula (6) to make a non-reactive compound. In addition, since reactive compounds and non-reactive compounds are mixed, non-reactive properties occur when a sliding force acts on the surface of an optical article (for example, when the surface of an optical article such as a spectacle lens is wiped off with a cloth). As the compound molecules move freely, the applied sliding force can be absorbed in the antifouling layer. Therefore, the scratch resistance can be improved.

本発明の光学物品において、前記防汚層は、反射防止層の上に形成されることが好まし
い。
反射防止層は、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層した多層で形成される。これら
の層は、例えば、SiO2,SiO,ZrO2,TiO2,TiO,Ti23,Ti25
Al23,TaO2,Ta25,NbO,Nb,NbO,Nb,CeO2
MgO,Y23,SnO2,MgF2,WO3などで形成されるが、最上層を形成する層に
は、SiO2が含有されるのがよい。
この発明では、反射防止層の構成成分と、防汚層を構成する成分の反応基とが反応しや
すいため、反射防止層と防汚層とが強固に結合する。したがって、防汚層が剥がれにくく
なるため、防汚性の耐久性に優れた光学物品を提供することができる。
In the optical article of the present invention, the antifouling layer is preferably formed on the antireflection layer.
The antireflection layer is formed of a multilayer in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately stacked. These layers are, for example, SiO 2 , SiO, ZrO 2 , TiO 2 , TiO, Ti 2 O 3 , Ti 2 O 5 ,
Al 2 O 3 , TaO 2 , Ta 2 O 5 , NbO, Nb 2 O 3 , NbO 2 , Nb 2 O 5 , CeO 2 ,
It is formed of MgO, Y 2 O 3 , SnO 2 , MgF 2 , WO 3 or the like, but the layer forming the uppermost layer preferably contains SiO 2 .
In this invention, since the component of the antireflection layer and the reactive group of the component constituting the antifouling layer easily react, the antireflection layer and the antifouling layer are firmly bonded. Accordingly, since the antifouling layer is difficult to peel off, an optical article excellent in antifouling durability can be provided.

本発明の光学物品は、眼鏡レンズであることが好ましい。
この発明では、前述の効果を達成できる眼鏡レンズを提供できる。眼鏡レンズでは、特
に汚れが目立ちやすいので前述の効果がさらに大きくなる。
The optical article of the present invention is preferably a spectacle lens.
According to the present invention, a spectacle lens capable of achieving the above-described effects can be provided. In the spectacle lens, since the dirt is particularly conspicuous, the above-described effect is further increased.

本発明の光学物品の製造方法は、前記反応性化合物と前記非反応性化合物とを混合して
防汚処理液を調製する防汚処理液調製工程と、前記防汚処理液を前記プラスチック基材の
表面に塗布する防汚層形成工程と、を実施することを特徴とする。
The method for producing an optical article of the present invention includes an antifouling treatment liquid preparation step for preparing an antifouling treatment liquid by mixing the reactive compound and the nonreactive compound, and the antifouling treatment liquid is used as the plastic substrate. And an antifouling layer forming step to be applied to the surface.

この発明によれば、防汚液を調整した後、この防汚液をプラスチック基材に塗布して防
汚層を形成する。防汚液には、反応性化合物と非反応性化合物とが混在しているため、反
応性化合物とプラスチック基材(反射防止層)との密着性に優れるとともに、非反応性化
合物の自由な運動により耐擦傷性に優れた光学物品を提供することができる。
反応性化合物および非反応性化合物としては、前述のとおりフッ素含有有機ケイ素化合
物が用いられることが好ましい。また、非反応性化合物は、反応性化合物の反応基を失活
させたものが用いられてもよい。
According to this invention, after the antifouling liquid is adjusted, the antifouling liquid is applied to the plastic substrate to form the antifouling layer. The antifouling liquid contains a mixture of reactive compounds and non-reactive compounds, providing excellent adhesion between the reactive compounds and the plastic substrate (antireflection layer) and free movement of the non-reactive compounds. Thus, an optical article having excellent scratch resistance can be provided.
As the reactive compound and the non-reactive compound, it is preferable to use a fluorine-containing organosilicon compound as described above. Moreover, what deactivated the reactive group of the reactive compound may be used for a non-reactive compound.

本発明の光学物品の製造方法において、前記防汚層形成工程は、乾式法により実施され
ることが好ましい。
乾式法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法などが挙げられる。
この発明によれば、溶剤を用いないので環境負荷が低い。また、防汚層形成工程におけ
る条件を変更することが容易なので防汚層の膜厚制御も簡便である。さらに繊維状または
多孔質の媒体を用いているのでフッ素含有有機ケイ素化合物の加熱効率が高い。なお、媒
体としては熱伝導率の高い物質が好ましく、金属のような導電性物質が好適である。
In the method for producing an optical article of the present invention, the antifouling layer forming step is preferably carried out by a dry method.
Examples of the dry method include a vacuum deposition method and a sputtering method.
According to this invention, since no solvent is used, the environmental load is low. Moreover, since it is easy to change the conditions in the antifouling layer forming step, the film thickness control of the antifouling layer is also simple. Further, since a fibrous or porous medium is used, the heating efficiency of the fluorine-containing organosilicon compound is high. Note that a material having high thermal conductivity is preferable as the medium, and a conductive material such as metal is preferable.

本発明の光学物品の製造方法において、前記防汚層形成工程は、湿式法により実施され
ることが好ましい。
湿式法としては、例えば、浸漬法などが挙げられる。
湿式法で行うことにより、真空装置等の大型設備が不要となり、製造にかかるコストを
低減させることが可能となる。
In the method for producing an optical article of the present invention, the antifouling layer forming step is preferably performed by a wet method.
Examples of the wet method include a dipping method.
By performing the wet method, large equipment such as a vacuum apparatus is not necessary, and the manufacturing cost can be reduced.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1には、本実施形態の光学物品10の概略断面図が示されている。この光学物品10
は、例えば眼鏡レンズである。
〔光学物品の構成〕
光学物品10は、プラスチック基板11を備え、このプラスチック基板11の両面にハ
ードコート層12と、反射防止層13と、防汚層14が設けられている。
プラスチック基板11としては、特に限定されないが、(メタ)アクリル樹脂をはじめ
としてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスア
リルカーボネート樹脂(CR−39)等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒ
ドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール
化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に1つ以上のジスルフィド結合を有する
(チオ)エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明樹脂等を例示す
ることができる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of an optical article 10 of the present embodiment. This optical article 10
Is, for example, a spectacle lens.
[Configuration of optical article]
The optical article 10 includes a plastic substrate 11, and a hard coat layer 12, an antireflection layer 13, and an antifouling layer 14 are provided on both surfaces of the plastic substrate 11.
The plastic substrate 11 is not particularly limited, but includes (meth) acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, allyl resin, allyl carbonate resin such as diethylene glycol bisallyl carbonate resin (CR-39), vinyl resin, polyester resin, Polyether resins, urethane resins obtained by reacting isocyanate compounds with hydroxy compounds such as diethylene glycol, thiourethane resins obtained by reacting isocyanate compounds with polythiol compounds, and having one or more disulfide bonds in the molecule (thio) The transparent resin etc. which are obtained by hardening | curing polymeric composition containing an epoxy compound can be illustrated.

ハードコート層12としては、本来の機能である耐擦傷性を向上するものであればよい
。例えば、ハードコート層12として、メラミン系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系
樹脂、アクリル系樹脂等を用いたハードコート層が挙げられるが、シリコーン系樹脂を用
いたハードコートが最も好ましい。例えば、金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコ
ーティング組成物を塗布し硬化させてハードコート層を設ける。このコーティング組成物
にはコロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分を含んでいてもよい。
金属酸化物微粒子の具体例としてはSiO2,Al23,SnO2,Sb25,Ta25
,CeO2,La23,Fe23,ZnO,WO3,ZrO2,In23,TiO2等の金属
酸化物からなる微粒子または2種以上の金属の金属酸化物からなる複合微粒子を、分散媒
たとえば水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒にコロイド状に分散させたものがあ
げられる。なお、本実施形態では、プラスチック基板11上にハードコート層12を設け
ずに直接、反射防止層13を設けることも可能である。
このようなハードコート層12を形成する方法としては、ディッピング法、スピンナー
法、スプレー法、フロー法により、ハードコート層12の組成物を塗布した後、40〜2
00℃の温度で数時間加熱乾燥する方法が例示できる。
The hard coat layer 12 only needs to improve the scratch resistance, which is the original function. For example, the hard coat layer 12 may be a hard coat layer using a melamine resin, a silicone resin, a urethane resin, an acrylic resin, or the like, and a hard coat using a silicone resin is most preferable. For example, a hard coat layer is provided by applying and curing a coating composition comprising metal oxide fine particles and a silane compound. This coating composition may contain components such as colloidal silica and a polyfunctional epoxy compound.
Specific examples of the metal oxide fine particles include SiO 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 , Sb 2 O 5 , Ta 2 O 5.
, CeO 2 , La 2 O 3 , Fe 2 O 3 , ZnO, WO 3 , ZrO 2 , In 2 O 3 , TiO 2, etc. Examples thereof include those obtained by dispersing fine particles in a colloidal form in a dispersion medium such as water, alcohols or other organic solvents. In the present embodiment, the antireflection layer 13 can be provided directly on the plastic substrate 11 without providing the hard coat layer 12.
As a method for forming such a hard coat layer 12, after applying the composition of the hard coat layer 12 by dipping method, spinner method, spray method, flow method, 40-2
The method of heat-drying for several hours at the temperature of 00 degreeC can be illustrated.

反射防止層13は、低屈折率層と高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防
止層13は、プラスチック基板11側から外側に向けて順に配置された第1層131、第
2層132、第3層133、第4層134及び第5層135から構成され、このうち、第
1層131、第3層133及び第5層135が低屈折層であり、第2層132及び第4層
134が高屈折層である。
反射防止層13の各層131〜135に使用される無機物の例としては、SiO2,S
iO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti23、Ti25、Al23、TaO2、Ta25
、NbO、Nb、NbO、Nb、CeO2、MgO、Y23、SnO2、M
gF2、WO3などが挙げられる。これらの無機物は単独で用いるかもしくは2種以上の混
合物を用いる。
例えば、第1層131、第3層133及び第5層135をSiO2の層とし、第2層1
32及び第4層134をZrO2の層としてもよい。
The antireflection layer 13 is formed by sequentially laminating a low refractive index layer and a high refractive index layer. The antireflection layer 13 includes a first layer 131, a second layer 132, a third layer 133, a fourth layer 134, and a fifth layer 135, which are sequentially arranged from the plastic substrate 11 side toward the outside. The first layer 131, the third layer 133, and the fifth layer 135 are low refractive layers, and the second layer 132 and the fourth layer 134 are high refractive layers.
Examples of inorganic materials used for the layers 131 to 135 of the antireflection layer 13 include SiO 2 , S
iO, ZrO 2, TiO 2, TiO, Ti 2 O 3, Ti 2 O 5, Al 2 O 3, TaO 2, Ta 2 O 5
, NbO, Nb 2 O 3, NbO 2, Nb 2 O 5, CeO 2, MgO, Y 2 O 3, SnO 2, M
Examples thereof include gF 2 and WO 3 . These inorganic substances are used alone or in a mixture of two or more.
For example, the first layer 131, the third layer 133, and the fifth layer 135 are SiO 2 layers, and the second layer 1
32 and the fourth layer 134 may be ZrO 2 layers.

防汚層14は、撥水撥油性を有する層である。防汚層14には、反射防止層13と反応
する反応性化合物と、反射防止層13と反応しない非反応性化合物が混在している。
反応性化合物と非反応性化合物は、フッ素含有有機ケイ素化合物を用いることが好まし
い。例えば、以下の式(1)〜(4)で表される化合物を用いることができる。
The antifouling layer 14 is a layer having water and oil repellency. The antifouling layer 14 contains a reactive compound that reacts with the antireflection layer 13 and a nonreactive compound that does not react with the antireflection layer 13.
As the reactive compound and the non-reactive compound, a fluorine-containing organosilicon compound is preferably used. For example, the compounds represented by the following formulas (1) to (4) can be used.

Figure 2009251008
Figure 2009251008

式中、Rfはパーフルオロアルキル基、Xは水素、臭素、またはヨウ素、Yは水素
または低級アルキル基、Zはフッ素またはトリフルオロメチル基、Rは水酸基または加
水分解可能な基、Rは水素または一価の炭化水素を表す。また、a、b、c、d、eは
0または1以上の整数で、a+b+c+d+eは少なくとも1以上であり、a、b、c、
d、eでくくられた各繰り返し単位の存在順位は、一般式(1)において限定されない。
fは0、1または2を表す。gは1、2または3を表す。hは1以上の整数を表す。
Wherein Rf 1 is a perfluoroalkyl group, X 1 is hydrogen, bromine, or iodine, Y is hydrogen or a lower alkyl group, Z is a fluorine or trifluoromethyl group, R 1 is a hydroxyl group or a hydrolyzable group, R 2 represents hydrogen or a monovalent hydrocarbon. A, b, c, d and e are 0 or an integer of 1 or more, a + b + c + d + e is at least 1 or more, a, b, c,
The order of presence of each repeating unit divided by d and e is not limited in the general formula (1).
f represents 0, 1 or 2. g represents 1, 2 or 3. h represents an integer of 1 or more.

Figure 2009251008
Figure 2009251008

式中、Rfは、−(C2k)O−(kは1〜6の整数)で表される単位を含み、
分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基を表
す。Rは炭素原子数1〜8の一価の炭化水素基であり、Xは加水分解性基またはハロ
ゲン原子を表す。pは0、1または2を表す。nは1〜5の整数を表す。mおよびrは、
2または3を表す。
In the formula, Rf 2 includes a unit represented by — (C k F 2k ) O— (k is an integer of 1 to 6),
It represents a divalent group having a linear perfluoropolyalkylene ether structure having no branch. R 3 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and X 2 represents a hydrolyzable group or a halogen atom. p represents 0, 1 or 2. n represents an integer of 1 to 5. m and r are
2 or 3 is represented.

17−C−Si(NH)3/2 …(3) F 17 C 8 —C 2 H 4 —Si (NH) 3/2 (3)

3C−(CF2n−(CH2m−Si(O−R)3 …(4)
式中、nは1〜11の整数であり、mは1〜4の整数であり、Rは炭素数1以上のアル
キル基である。
F 3 C— (CF 2 ) n — (CH 2 ) m —Si (O—R) 3 (4)
In the formula, n is an integer of 1 to 11, m is an integer of 1 to 4, and R is an alkyl group having 1 or more carbon atoms.

反応性化合物には、上記式(1)〜(4)で表される化合物のいずれも用いることがで
き、これらは単独で用いてもよいが、混合して用いることもできる。
反応性化合物としては上記式(1)または(2)で表される化合物を用いることが好ま
しい。これらのフッ素含有有機ケイ素化合物の具体例としては、信越化学工業株式会社製
KY−130、KP−801などが挙げられる。
As the reactive compound, any of the compounds represented by the above formulas (1) to (4) can be used, and these may be used alone or in combination.
As the reactive compound, it is preferable to use a compound represented by the above formula (1) or (2). Specific examples of these fluorine-containing organosilicon compounds include KY-130 and KP-801 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

非反応性化合物には、上記式(1)〜(4)で表される化合物のいずれも用いることが
でき、これらは単独で用いてもよいが、混合して用いることもできる。
非反応性化合物としては、上記式(1)または(2)で表される反応性化合物に、上記
式(3)または(4)で表される化合物を反応させて非反応性化合物としたものを用いる
ことが好ましい。また、上記(1)〜(4)で表される化合物を自己縮合させて非反応性
化合物としたものでもよい。
As the non-reactive compound, any of the compounds represented by the above formulas (1) to (4) can be used, and these may be used alone or in combination.
As a non-reactive compound, a compound represented by the above formula (3) or (4) is reacted with a reactive compound represented by the above formula (1) or (2) to form a non-reactive compound Is preferably used. In addition, the compounds represented by the above (1) to (4) may be self-condensed into non-reactive compounds.

このような化合物で形成される防汚層14は、乾式法と湿式法のいずれで形成されても
よい。乾式法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法などが挙げられる。湿式
法としては、例えば、浸漬法などが挙げられる。
The antifouling layer 14 formed of such a compound may be formed by either a dry method or a wet method. Examples of the dry method include a vacuum deposition method and a sputtering method. Examples of the wet method include a dipping method.

〔光学物品の製造装置〕
次に、光学物品10の製造方法を図2に基づいて説明する。ここでは、真空蒸着法によ
る成膜方法について説明する。
図2には、光学物品のプラスチック基板へのコーティングおよび表面処理を行なう成膜
装置の概略図が示されている。
[Optical article manufacturing equipment]
Next, a method for manufacturing the optical article 10 will be described with reference to FIG. Here, a film forming method by a vacuum evaporation method will be described.
FIG. 2 shows a schematic diagram of a film forming apparatus that performs coating and surface treatment of an optical article on a plastic substrate.

成膜装置100は、図2において、プラスチック基板11が支持装置20に複数保持さ
れている。プラスチック基板11には、ハードコート層12が予め設けられている。この
支持装置20が成膜装置100の内部を工程ごとに移動して、プラスチック基板11への
コーティングおよび表面処理が行なわれる。支持装置20は、各プラスチック基板11へ
の処理が均一になるように、図示しない回転機構によって回転させられている。
In the film forming apparatus 100, a plurality of plastic substrates 11 are held by the supporting device 20 in FIG. 2. A hard coat layer 12 is provided on the plastic substrate 11 in advance. The supporting device 20 moves inside the film forming apparatus 100 for each process, and coating and surface treatment are performed on the plastic substrate 11. The support device 20 is rotated by a rotation mechanism (not shown) so that processing on each plastic substrate 11 is uniform.

成膜装置100は、支持装置20が内部を通過可能な三つのチャンバ30、40および
50を備えている。これらのチャンバは連結され、支持装置20はプラスチック基板11
を保持した状態で通過可能となっている。また、各チャンバは、各チャンバ間の図示しな
いシャッタによって相互に密封できるようになっており、各チャンバの内圧は真空生成装
置31、41および51によりそれぞれ制御されている。
The film forming apparatus 100 includes three chambers 30, 40 and 50 through which the support device 20 can pass. These chambers are connected, and the supporting device 20 is a plastic substrate 11.
It is possible to pass while holding. The chambers can be sealed with each other by a shutter (not shown) between the chambers, and the internal pressures of the chambers are controlled by the vacuum generators 31, 41, and 51, respectively.

チャンバ30は、エントランスまたはゲートチャンバであり、外部から支持装置20を
導入した後、一定時間、一定の圧力下にチャンバ30の内部を加熱することにより、プラ
スチック基板11および支持装置20に吸着したガスの脱ガスが行なわれる。チャンバ3
0の真空生成装置31は、ロータリーポンプ32、ルーツポンプ33およびクライオポン
プ34を備えている。
The chamber 30 is an entrance or gate chamber, and after introducing the support device 20 from the outside, the gas adsorbed on the plastic substrate 11 and the support device 20 by heating the inside of the chamber 30 under a constant pressure for a certain time. Is degassed. Chamber 3
The zero vacuum generator 31 includes a rotary pump 32, a roots pump 33, and a cryopump 34.

チャンバ40は、真空蒸着による薄膜の形成やプラズマ等による表面処理を行なうチャ
ンバである。チャンバ40の真空生成装置41もチャンバ30の真空生成装置31と同様
に、ロータリーポンプ42、ルーツポンプ43およびクライオポンプ44を備えている。
The chamber 40 is a chamber that performs thin film formation by vacuum deposition or surface treatment by plasma or the like. Similarly to the vacuum generator 31 of the chamber 30, the vacuum generator 41 of the chamber 40 includes a rotary pump 42, a roots pump 43, and a cryopump 44.

チャンバ40の内部には、屈折率の異なる蒸着物質を組み合わせて反射防止層13を効
率よく形成するために、蒸発源61および蒸発源62が設けられている。そして、これら
二つの蒸発源61、62に配置された蒸着物質63、64を蒸発させる電子銃65、66
および蒸着量を調整する開閉可能なシャッタ67、68が一対設けられている。
屈折率の異なる蒸着物質の例として、低屈折率物質として酸化ケイ素が、高屈折率物質
としては、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ジルコニウムが挙げられる。
In the chamber 40, an evaporation source 61 and an evaporation source 62 are provided in order to efficiently form the antireflection layer 13 by combining vapor deposition materials having different refractive indexes. Then, electron guns 65 and 66 for evaporating vapor deposition materials 63 and 64 disposed in these two evaporation sources 61 and 62 are used.
A pair of openable and closable shutters 67 and 68 for adjusting the deposition amount is provided.
Examples of vapor deposition materials having different refractive indexes include silicon oxide as a low refractive index material, and titanium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, and zirconium oxide as high refractive index materials.

また、チャンバ40には、プラズマ処理を行なうために、高周波プラズマ発生装置70
が設置されている。高周波プラズマ発生装置70は、チャンバ内に設置されたRFコイル
71と、チャンバ外でこれに接続されているマッチングボックス72と高周波発信器73
とから構成されている。
The chamber 40 has a high-frequency plasma generator 70 for performing plasma processing.
Is installed. The high frequency plasma generator 70 includes an RF coil 71 installed in the chamber, a matching box 72 connected to the outside of the chamber, and a high frequency transmitter 73.
It consists of and.

さらに、チャンバ40には、イオンアシスト蒸着および表面処理を行なうためのイオン
ガン80が設置されている。イオンガン80には、導入ガスをプラズマ化し、正イオンを
発生するためのRF電源81と正イオンを加速するためのDC電源82が接続されている

プラズマ処理およびイオン照射に使用されるガスである酸素74とアルゴン75は、オ
ートプレシャーコントローラ77で所定の圧力になるように、マスフローコントローラ7
8、83で流量が制御されて導入される。
Further, the chamber 40 is provided with an ion gun 80 for performing ion-assisted vapor deposition and surface treatment. The ion gun 80 is connected to an RF power source 81 for converting the introduced gas into plasma and generating positive ions, and a DC power source 82 for accelerating the positive ions.
The mass flow controller 7 causes oxygen 74 and argon 75, which are gases used for plasma processing and ion irradiation, to have a predetermined pressure by the auto pressure controller 77.
8 and 83, the flow rate is controlled and introduced.

チャンバ50は、フッ素含有有機ケイ素化合物を蒸着することにより防汚層14を形成
するチャンバである。チャンバ内部には、フッ素含有有機ケイ素化合物が含浸された蒸発
源90と、加熱ヒータ(ハロゲンランプ)91と、補正板92とが設置されている。補正
板92は固定式であり、開度を調整する事により、支持装置20の場所に対する蒸着量を
調整できるようになっている。チャンバ50は、ロータリーポンプ52、ルーツポンプ5
3およびターボ分子ポンプ54を備えた真空生成装置51により適当な圧力に保持されて
いる。
The chamber 50 is a chamber for forming the antifouling layer 14 by depositing a fluorine-containing organosilicon compound. Inside the chamber, an evaporation source 90 impregnated with a fluorine-containing organosilicon compound, a heater (halogen lamp) 91, and a correction plate 92 are installed. The correction plate 92 is a fixed type, and the deposition amount with respect to the place of the support device 20 can be adjusted by adjusting the opening degree. The chamber 50 includes a rotary pump 52 and a roots pump 5
3 and a vacuum generator 51 equipped with a turbo molecular pump 54.

〔光学物品の製造方法〕
以下、図3に基づいて本実施形態のプラスチック基板11への処理工程を説明する。
工程(A)は、プラスチック基板11にハードコート層12を形成する工程である。ハ
ードコート層12は、無機微粒子を有するゾルゲルをプラスチック基板11に塗布し、そ
の後硬化する方法によって得られる。この方法によれば、無機微粒子をプラスチック基板
11の屈折率に合わせて選択することが可能で、プラスチック基板11とハードコート層
12との界面の反射が抑えられる。ハードコート層12は、必要に応じて、片面および両
面に形成される。眼鏡レンズの場合は、両面に形成する。
[Method of manufacturing optical article]
Hereinafter, the processing steps for the plastic substrate 11 of the present embodiment will be described with reference to FIG.
Step (A) is a step of forming the hard coat layer 12 on the plastic substrate 11. The hard coat layer 12 is obtained by a method in which a sol-gel having inorganic fine particles is applied to the plastic substrate 11 and then cured. According to this method, the inorganic fine particles can be selected in accordance with the refractive index of the plastic substrate 11, and reflection at the interface between the plastic substrate 11 and the hard coat layer 12 can be suppressed. The hard coat layer 12 is formed on one side and both sides as necessary. In the case of a spectacle lens, it is formed on both sides.

工程(B)は、反射防止層13を形成する工程である。図3では、反射防止層13が片
面のみに形成されているが、後で表裏反転して両面に形成されるものである。
プラスチック基板11は、支持装置20に保持された状態でチャンバ30に導入され、
脱ガスされる。次に支持装置20は、チャンバ40に導入され、ハードコート層12の表
面に反射防止層13が成膜される。この過程では、高屈折率と低屈折率の複数の層が交互
に積層され、反射防止層13の最上層には、酸化ケイ素層である二酸化ケイ素層が形成さ
れる。
Step (B) is a step of forming the antireflection layer 13. In FIG. 3, the antireflection layer 13 is formed on only one side, but it is formed on both sides after being reversed.
The plastic substrate 11 is introduced into the chamber 30 while being held by the support device 20,
Degassed. Next, the support device 20 is introduced into the chamber 40, and the antireflection layer 13 is formed on the surface of the hard coat layer 12. In this process, a plurality of layers having a high refractive index and a low refractive index are alternately laminated, and a silicon dioxide layer, which is a silicon oxide layer, is formed on the uppermost layer of the antireflection layer 13.

次に、反射防止層13とフッ素含有有機ケイ素化合物との反応性を高めるため、反射防
止層13の表面にシラノール基を生成するためのプラズマ処理を行なう。
チャンバ40に酸素74またはアルゴン75が導入され、オートプレシャーコントロー
ラ77とマスフローコントローラ78によって、チャンバ40内は一定圧力に制御される
。高周波プラズマはおよそ10−3から10Paで発生可能であるが、1×10−2
a〜1×10−1Paが好適である。高周波周波数は、13.56MHzとした。処理時
間は、0.5〜3分間で、この処理で反射防止層13の表面にシラノール基が生成される
Next, in order to increase the reactivity between the antireflection layer 13 and the fluorine-containing organosilicon compound, plasma treatment for generating silanol groups on the surface of the antireflection layer 13 is performed.
Oxygen 74 or argon 75 is introduced into the chamber 40, and the inside of the chamber 40 is controlled to a constant pressure by the auto pressure controller 77 and the mass flow controller 78. High-frequency plasma can be generated at approximately 10 −3 to 10 3 Pa, but 1 × 10 −2 P
a to 1 × 10 −1 Pa are suitable. The high frequency was 13.56 MHz. The treatment time is 0.5 to 3 minutes, and silanol groups are generated on the surface of the antireflection layer 13 by this treatment.

その他、シラノール基を生成するための処理として、イオンガン80を使用することも
できる。
イオンガン80には、酸素74またはアルゴン75がマスフローコントローラ83で一
定流量に制御されて導入される。導入されたガスは、イオンガン80内部でプラズマ化さ
れる。プラズマは高周波プラズマであり、RF電源81の周波数は通常13.56MHz
である。生成した正イオンは、DC電源82で電圧印加された加速電極によって引き出さ
れ、反射防止層13の表面に照射される。
なお、プラスチック基板11上で絶縁破壊が起き、異常放電が発生するのを防止するた
め、内蔵されたニュートライザーから電子を供給し中和している。処理時間は、0.5〜
3分間で、この処理で、反射防止層13表面にシラノール基が生成される。
In addition, as a treatment for generating a silanol group, the ion gun 80 can be used.
Oxygen 74 or argon 75 is introduced into the ion gun 80 while being controlled at a constant flow rate by the mass flow controller 83. The introduced gas is turned into plasma inside the ion gun 80. The plasma is a high frequency plasma, and the frequency of the RF power source 81 is normally 13.56 MHz.
It is. The generated positive ions are extracted by the acceleration electrode to which a voltage is applied by the DC power source 82 and irradiated on the surface of the antireflection layer 13.
In order to prevent dielectric breakdown from occurring on the plastic substrate 11 and the occurrence of abnormal discharge, electrons are supplied from a built-in neutralizer and neutralized. Processing time is 0.5 ~
In 3 minutes, silanol groups are generated on the surface of the antireflection layer 13 by this treatment.

工程(C)は、防汚層14を形成する工程である。支持装置20は、チャンバ50に導
かれる。ここで、蒸発源90を加熱ヒータ91で加熱することで、反射防止層13の表面
に前述の化合物による防汚層14が蒸着により形成される。
防汚層14が形成された後、チャンバ50は徐々に大気圧に戻され、プラスチック基板
11が支持装置20ごと取り出される。
Step (C) is a step of forming the antifouling layer 14. The support device 20 is guided to the chamber 50. Here, by heating the evaporation source 90 with the heater 91, the antifouling layer 14 made of the aforementioned compound is formed on the surface of the antireflection layer 13 by vapor deposition.
After the antifouling layer 14 is formed, the chamber 50 is gradually returned to atmospheric pressure, and the plastic substrate 11 is taken out together with the support device 20.

片面に防汚層14まで形成されたプラスチック基板11は、表裏反転して再度支持装置
20にセットされ、工程(B)(C)と同様な処理を行なう。これによって、プラスチッ
ク基板11の両面に反射防止層13および防汚層14が形成される。
The plastic substrate 11 formed on one side up to the antifouling layer 14 is turned upside down and set again on the support device 20, and the same processing as in steps (B) and (C) is performed. Thereby, the antireflection layer 13 and the antifouling layer 14 are formed on both surfaces of the plastic substrate 11.

防汚層14まで形成されたプラスチック基板11は、支持装置20から取り外された後
、図示しない恒温恒湿槽に投入され、適当な湿度と温度の雰囲気でアニールされる。また
は、室内に所定時間放置してエージングが行なわれる。その後、防汚層14の厚みを調整
する必要があれば、過剰分を溶剤で拭き取るなどの除去作業が行なわれる。
The plastic substrate 11 formed up to the antifouling layer 14 is removed from the support device 20, and then placed in a constant temperature and humidity chamber (not shown) and annealed in an atmosphere of appropriate humidity and temperature. Alternatively, aging is performed in a room for a predetermined time. Thereafter, if it is necessary to adjust the thickness of the antifouling layer 14, a removal operation such as wiping off the excess with a solvent is performed.

以上の本実施形態によれば、次のような効果が得られる。
(1)本実施形態では、防汚層14に反応性化合物と非反応性化合物が混在している。
このため、反応性化合物の反応基は反射防止層13と強固に結合する一方、非反応性化
合物は自由度をもった一分子として防汚層14内に存在している。したがって、光学物品
の表面に摺動力が働いた場合(例えば、眼鏡レンズの表面を布でふき取る場合)に、この
摺動力を防汚層14内で吸収することができる。すなわち、摺動力が、反応性化合物と反
射防止層13との結合部分に直接かかることが少ないため、防汚剤分子の脱落を防止でき
、耐擦傷性に優れた光学物品を提供することができる。
According to the above embodiment, the following effects can be obtained.
(1) In this embodiment, the antifouling layer 14 contains a reactive compound and a non-reactive compound.
For this reason, the reactive group of the reactive compound is firmly bonded to the antireflection layer 13, while the non-reactive compound is present in the antifouling layer 14 as a molecule having a degree of freedom. Therefore, when a sliding force is applied to the surface of the optical article (for example, when the surface of the spectacle lens is wiped with a cloth), the sliding force can be absorbed in the antifouling layer 14. That is, since the sliding force is hardly applied directly to the bonded portion between the reactive compound and the antireflection layer 13, the antifouling agent molecules can be prevented from falling off, and an optical article excellent in scratch resistance can be provided. .

(2)防汚層14の反応性化合物または非反応性化合物として、フッ素含有有機ケイ素化
合物を用いた。フッ素含有有機ケイ素化合物は分子量が大きいので、防汚層14に含まれ
るフッ素の量が多く、より撥水撥油性を向上でき、汚れの拭取り性も向上できる。
特に、上記式(1)で表される化合物は、フッ素原子の含有率が高く、分子量数千でパ
ーフルオロアルキル基の鎖長が長いために、臨界表面張力が低い。そのためこれを含む防
汚層14の表面は、より低エネルギーとなり防汚性を向上することができる。
(2) A fluorine-containing organosilicon compound was used as the reactive compound or non-reactive compound of the antifouling layer 14. Since the fluorine-containing organosilicon compound has a large molecular weight, the amount of fluorine contained in the antifouling layer 14 is large, so that the water and oil repellency can be further improved and the wiping property of dirt can be improved.
In particular, the compound represented by the above formula (1) has a high fluorine atom content, a molecular weight of several thousand and a long chain length of a perfluoroalkyl group, and thus has a low critical surface tension. For this reason, the surface of the antifouling layer 14 containing this can have lower energy and improve the antifouling property.

(3)防汚層14の反応性化合物と非反応性化合物は、固形分質量比で8:2〜2:8の
割合で配合されている。
このような範囲で配合することにより、耐擦傷性と耐久性の両方に優れた光学物品を提
供することができる。
(3) The reactive compound and non-reactive compound of the antifouling layer 14 are blended in a mass ratio of 8: 2 to 2: 8.
By blending in such a range, an optical article excellent in both scratch resistance and durability can be provided.

(4)防汚層14は、反射防止層13の上に形成される。しかも、反射防止層13の最上
層はSiOで形成されている。したがって、防汚層14を構成する防汚剤分子とSiO
とが強固に結合する。したがって、防汚剤分子が脱落しにくく、耐久性に優れている。
(4) The antifouling layer 14 is formed on the antireflection layer 13. Moreover, the uppermost layer of the antireflection layer 13 is formed of SiO 2. Therefore, the antifouling agent molecules constituting the antifouling layer 14 and SiO
2 is firmly bonded. Therefore, the antifouling agent molecules are difficult to fall off and have excellent durability.

(5)前述の作用効果を有する光学物品10は眼鏡レンズとして使用される。眼鏡レンズ
では、特に汚れが目立ちやすいので前述の効果をさらに大きくすることができる。
(5) The optical article 10 having the above-described effects is used as a spectacle lens. In the spectacle lens, since the dirt is particularly conspicuous, the above-described effect can be further increased.

(6)前述の光学物品10を、乾式法により製造した。
乾式法では、溶剤を用いないので環境負荷が低い。また、防汚層形成工程における条件
を変更することが容易なので防汚層の膜厚制御も簡便である。
また、乾式法によれば、前述の効果を達成できる光学物品10を製造することができる
(6) The optical article 10 described above was manufactured by a dry method.
The dry method has a low environmental impact because no solvent is used. Moreover, since it is easy to change the conditions in the antifouling layer forming step, the film thickness control of the antifouling layer is also simple.
Moreover, according to the dry method, the optical article 10 that can achieve the above-described effects can be manufactured.

[本発明の変形例]
本発明は、以上述べた実施形態には限定されず、本発明の目的を達成できる範囲で種々
の改良および変形を行うことが可能である。
[Modification of the present invention]
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various improvements and modifications can be made within a range in which the object of the present invention can be achieved.

例えば、前記実施形態では、乾式法により防汚層14を形成したが、湿式法で防汚層1
4を形成してもよい。湿式法の場合、前述したいずれかのフッ素含有有機ケイ素化合物を
有機溶剤に溶解させ、所定の濃度となるように調整し、プラスチック基板11の表面に塗
布する方法を採用することができる。有機溶剤としては、フッ素含有有機ケイ素化合物の
溶解性に優れるパーフルオロ基を有し、炭素数が4以上の有機化合物が好ましく、例えば
、パーフルオロヘキサン、パーフルオロシクロブタン、パーフルオロオクタン、パーフル
オロデカン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−1,3−ジメチルシク
ロヘキサン、パーフルオロ−4−メトキシブタン、パーフルオロ−4−エトキシブタン、
メタキシレンヘキサフロライドを挙げることができる。また、パーフルオロエーテル油、
クロロトリフルオロエチレンオリゴマー油を使用することができる。その他に、フロン2
25(CF3CF2CHCl2とCClF2CF2CHClFの混合物)を例示することがで
きる。これらの有機溶剤の1種を単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。
For example, in the embodiment, the antifouling layer 14 is formed by a dry method, but the antifouling layer 1 is formed by a wet method.
4 may be formed. In the case of the wet method, it is possible to employ a method in which any of the fluorine-containing organosilicon compounds described above is dissolved in an organic solvent, adjusted to have a predetermined concentration, and applied to the surface of the plastic substrate 11. The organic solvent is preferably an organic compound having a perfluoro group excellent in solubility of the fluorine-containing organosilicon compound and having 4 or more carbon atoms, such as perfluorohexane, perfluorocyclobutane, perfluorooctane, perfluorodecane. Perfluoromethylcyclohexane, perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane, perfluoro-4-methoxybutane, perfluoro-4-ethoxybutane,
Mention may be made of metaxylene hexafluoride. Perfluoroether oil,
Chlorotrifluoroethylene oligomer oil can be used. In addition, Freon 2
25 (mixture of CF 3 CF 2 CHCl 2 and CClF 2 CF 2 CHClF). One of these organic solvents can be used alone or in admixture of two or more.

有機溶剤で希釈するときの濃度は、0.03質量%以上1質量%以下の範囲が好ましい
。0.03質量%より低すぎると十分な厚さを有する防汚層14の形成が困難であり、十
分な撥水・撥油効果、さらには十分な滑り性が得られない場合がある。一方、1質量%よ
り濃すぎると防汚層14が厚くなり過ぎるおそれがあり、塗布後に塗りむらをなくすため
のリンス作業の負担が増すおそれがある。
The concentration when diluted with an organic solvent is preferably in the range of 0.03% by mass to 1% by mass. If it is lower than 0.03% by mass, it is difficult to form the antifouling layer 14 having a sufficient thickness, and sufficient water and oil repellency effects and sufficient slipperiness may not be obtained. On the other hand, if the concentration is higher than 1% by mass, the antifouling layer 14 may become too thick, and the burden of rinsing work for eliminating coating unevenness after application may increase.

また、前記実施形態では、式(1)で表される反応性化合物と式(3)で表される化合
物を反応させて非反応性化合物を生成したが、反応性化合物の反応基を失活させたものを
非反応性化合物として用いてもよい。この場合、反応性化合物に触媒(例えば、エステル
交換触媒(CH3(CH23-Sn-(OCCH3))を固形分比で0.1%)を添加するこ
とにより、反応性化合物を縮合させることができる。
Moreover, in the said embodiment, although the reactive compound represented by Formula (1) and the compound represented by Formula (3) were made to react, the non-reactive compound was produced | generated, but the reactive group of a reactive compound was deactivated. You may use what was made to react as a non-reactive compound. In this case, the reactive compound is added to the reactive compound by adding a catalyst (for example, a transesterification catalyst (CH 3 (CH 2 ) 3 —Sn— (OCCH 3 )) in a solid content ratio of 0.1%). Can be condensed.

以下、実施例および比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの
実施例に何ら限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these Examples at all.

本実施例では、光学物品としての眼鏡レンズを作製する。
[実施例1]
以下のA1液およびB液を固形分質量比で8:2となるように混合し、さらに有機溶媒
「HFE−7200」(商品名、住友スリーエム株式会社製)を加えて固形分濃度0.1
%となるように調製し、ディッピング用処理液とした。
また、以下のA1液とB液を固形分質量比で8:2となるように混合し、多孔質ペレッ
トに滴下含浸後、乾燥し、固形分質量が30mgとなるように調製した。これを蒸着用ペ
レットとして用いた。
In this embodiment, a spectacle lens as an optical article is manufactured.
[Example 1]
The following A1 liquid and B liquid are mixed so that the solid content mass ratio is 8: 2, and an organic solvent “HFE-7200” (trade name, manufactured by Sumitomo 3M Limited) is added to obtain a solid content concentration of 0.1.
% To prepare a dipping treatment solution.
Moreover, the following A1 liquid and B liquid were mixed so that it might become 8: 2 by solid content mass ratio, and after dripping impregnation to a porous pellet, it dried and prepared so that solid content mass might be 30 mg. This was used as a pellet for vapor deposition.

(A1液)前述の一般式(1)で表される化合物(ダイキン工業株式会社製「オプツール
DSX」(商品名)、化合物x)
(B液)A1液で使用した化合物(化合物x)と、前述の一般式(4)で表される化合物
(東芝シリコーン株式会社製「TSL8257」、化合物y)と、を固形分質量比で1:
12となるように混合した。この比率は、モル比でおよそ1:1となる混合比である。こ
こで、化合物xと化合物yは双方とも分子鎖の片末端に反応基が存在する構造である。
そして、この液にエステル交換触媒としてCH3(CH23-Sn-(OCCH3)を対固
形分比で0.1%添加した。その後、常温で24時間撹拌した。これによって、防汚剤分
子同士が縮合する。なお、縮合の組み合わせは、化合物xと化合物y、化合物x同士、化
合物y同士の3つのパターンが考えられる。
(A1 liquid) The compound represented by the above-mentioned general formula (1) ("OPTOOL DSX" (trade name), compound x, manufactured by Daikin Industries, Ltd.)
(Liquid B) The compound (compound x) used in the liquid A1 and the compound represented by the general formula (4) described above (“TSL8257”, compound y) manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) have a solid content mass ratio of 1 :
The mixture was mixed to be 12. This ratio is a mixing ratio that is approximately 1: 1 in molar ratio. Here, both compound x and compound y have a structure in which a reactive group exists at one end of the molecular chain.
Then, 0.1% CH 3 (CH 2 ) 3 —Sn— (OCCH 3 ) as a transesterification catalyst was added to the liquid in a solid content ratio. Then, it stirred at normal temperature for 24 hours. Thereby, antifouling agent molecules condense. In addition, the combination of condensation can consider three patterns of the compound x and the compound y, the compounds x, and the compounds y.

[実施例2]
A1液および以下のA2液を固形分質量比で8:2となるように混合し、さらに有機溶
媒「HFE−7200」(商品名、住友スリーエム株式会社製)を加えて固形分濃度0.
1%となるように調製し、ディッピング用処理液とした。
また、A1液と以下のA2液を固形分質量比で8:2となるように混合し、多孔質ペレ
ットに滴下含浸後、乾燥し、固形分質量が30mgとなるように調製した。これを蒸着用
ペレットとして用いた。
[Example 2]
A1 liquid and the following A2 liquid are mixed so that it may become 8: 2 by solid content mass ratio, and organic solvent "HFE-7200" (brand name, Sumitomo 3M Co., Ltd. product) is added, and solid content concentration is set to 0.
A dipping treatment solution was prepared to 1%.
Moreover, A1 liquid and the following A2 liquid were mixed so that it might become 8: 2 by solid content mass ratio, and after dripping impregnation to a porous pellet, it dried and prepared so that solid content mass might be 30 mg. This was used as a pellet for vapor deposition.

(A2液)化合物xに、エステル交換触媒としてCH3(CH23-Sn-(OCCH3)を
対固形分比で0.1%添加した。その後、常温で24時間撹拌した。これによって、防汚
剤分子同士が縮合する。
(Liquid A2) CH 3 (CH 2 ) 3 —Sn— (OCCH 3 ) as a transesterification catalyst was added to Compound x at a solid content ratio of 0.1%. Then, it stirred at normal temperature for 24 hours. Thereby, antifouling agent molecules condense.

[実施例3]
実施例2において、A1液とA2液との混合固形分質量比を7:3とした。
[Example 3]
In Example 2, the mixed solid mass ratio of the A1 liquid and the A2 liquid was 7: 3.

[実施例4]
実施例2において、A1液とA2液との混合固形分質量比を6:4とした。
[Example 4]
In Example 2, the mixed solid mass ratio of the A1 liquid and the A2 liquid was 6: 4.

[実施例5]
実施例2において、A1液とA2液との混合固形分質量比を5:5とした。
[Example 5]
In Example 2, the mixed solid mass ratio of the A1 liquid and the A2 liquid was 5: 5.

[実施例6]
実施例2において、A1液とA2液との混合固形分質量比を4:6とした。
[Example 6]
In Example 2, the mixed solid mass ratio of the A1 liquid and the A2 liquid was 4: 6.

[実施例7]
実施例2において、A1液とA2液との混合固形分質量比を3:7とした。
[Example 7]
In Example 2, the mixed solid mass ratio of the A1 liquid and the A2 liquid was 3: 7.

[実施例8]
実施例2において、A1液とA2液との混合固形分質量比を2:8とした。
[Example 8]
In Example 2, the mixed solid mass ratio of the A1 liquid and the A2 liquid was 2: 8.

[実施例9]
以下のC液およびD液を固形分質量比で8:2となるように混合し、さらに有機溶媒「
HFE−7200」(商品名、住友スリーエム株式会社製)を加えて固形分濃度0.1%
となるように調製し、ディッピング用処理液とした。
また、以下のC液とD液を固形分質量比で8:2となるように混合し、多孔質ペレット
に滴下含浸後、乾燥し、固形分質量が30mgとなるように調製した。これを蒸着用ペレ
ットとして用いた。
[Example 9]
The following C liquid and D liquid are mixed so that the solid content mass ratio is 8: 2, and the organic solvent “
HFE-7200 "(trade name, manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.) and solid content concentration 0.1%
To prepare a dipping treatment solution.
Moreover, the following C liquid and D liquid were mixed so that it might become 8: 2 by solid content mass ratio, and after dripping impregnation to a porous pellet, it dried and prepared so that solid content mass might be 30 mg. This was used as a pellet for vapor deposition.

(C液)前述の一般式(2)で表される化合物、信越化学工業株式会社製防汚剤「KY-
130」(化合物z)
(D液)化合物zと、前述の一般式(3)で表される化合物(信越化学工業株式会社製「
KP-801M」、化合物v)と、を固形分質量比で3:1となるように混合した。この
比率はモル比でおよそ1:2となる混合比である。ここで、化合物zは分子鎖の両末端に
反応基が存在し、化合物vは片末端に反応基が存在する構造である。
そして、この液にエステル交換触媒としてCH3(CH23-Sn-(OCCH3)を対固
形分比で0.1%添加した。その後、常温で24時間撹拌した。これによって、防汚剤分
子同士が縮合する。なお、縮合の組み合わせは、化合物zと化合物v、化合物z同士、化
合物v同士の3つのパターンが考えられる。
また、化合物zは両末端に反応基が存在するため、両方封止された場合と、片方のみ封
止された場合が想定される。
(Liquid C) Compound represented by the above general formula (2), anti-fouling agent “KY-” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
130 "(compound z)
(Liquid D) Compound z and the compound represented by the above general formula (3) (“Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.“
KP-801M "and compound v) were mixed so that the solid content mass ratio was 3: 1. This ratio is a mixing ratio of approximately 1: 2 in terms of molar ratio. Here, the compound z has a structure in which a reactive group exists at both ends of the molecular chain, and the compound v has a structure in which a reactive group exists at one end.
Then, 0.1% CH 3 (CH 2 ) 3 —Sn— (OCCH 3 ) as a transesterification catalyst was added to the liquid in a solid content ratio. Then, it stirred at normal temperature for 24 hours. Thereby, antifouling agent molecules condense. In addition, the combination of condensation can consider three patterns of the compound z, the compound v, the compounds z, and the compounds v.
In addition, since the compound z has reactive groups at both ends, the case where both are sealed and the case where only one is sealed are assumed.

[比較例1]
実施例1で使用したA1液のみを使用した。
[Comparative Example 1]
Only the A1 liquid used in Example 1 was used.

[比較例2]
実施例9で使用したC液のみを使用した。
[Comparative Example 2]
Only the liquid C used in Example 9 was used.

[防汚層の形成]
次に、上記の実施例1〜9および比較例1および2で調整した蒸着用ペレットを用いて
、乾式法によって防汚層を形成した。
基板10として、プラスチック基板11の上にハードコート層12が形成された眼鏡用
プラスチックレンズ(セイコーエプソン株式会社製「セイコースーパーソブリン」)を支
持装置20にセットし、チャンバ30で脱ガスした後、チャンバ40において、SiO2
とZrO2の層を交互に蒸着し、これらの層からなる反射防止層13を成形した。この反
射防止層13の最上層は、SiO2層である。
引き続き、チャンバ40内に酸素100%ガスを導入し、圧力を4.0×10-2Paに
制御しつつ、高周波プラズマ発生装置でプラズマを発生させた。プラズマ発生条件は、1
3.56MHz、0.4kWで、1分間処理を行った。
[Formation of antifouling layer]
Next, an antifouling layer was formed by a dry method using the deposition pellets prepared in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 and 2.
As a substrate 10, a plastic lens for spectacles (“Seiko Epson Corporation“ Seiko Super Sovereign ”) having a hard coat layer 12 formed on a plastic substrate 11 is set on the support device 20 and degassed in the chamber 30. In the chamber 40, SiO 2
And ZrO 2 layers were alternately deposited to form an antireflection layer 13 composed of these layers. The uppermost layer of the antireflection layer 13 is a SiO 2 layer.
Subsequently, 100% oxygen gas was introduced into the chamber 40, and plasma was generated by a high-frequency plasma generator while controlling the pressure to 4.0 × 10 −2 Pa. Plasma generation condition is 1
The treatment was performed at 3.56 MHz and 0.4 kW for 1 minute.

その後、チャンバ50に支持装置20を移動して防汚層14を形成した。蒸発源90と
して、実施例1〜9および比較例1および2で作製した蒸着用ペレットを用いた。
成膜中は、ハロゲンランプを加熱ヒータ91として使用し、蒸発源90のペレットを6
00℃に加熱して、フッ素含有有機ケイ素化合物を蒸発させた。蒸着時間は3分である。
防汚層形成後、支持装置20をチャンバ50から取り出し、レンズを反転して支持装置
20にセットし直し、再び上記と同様の処理を行うことによって、レンズ両面に防汚層1
4を形成した。その後、光学物品10を取り出し、60℃,60%RHに設定した高温高
湿槽に投入して2時間保持し、防汚剤とレンズ表面との反応を進行させた。
Thereafter, the support device 20 was moved to the chamber 50 to form the antifouling layer 14. As the evaporation source 90, the pellets for vapor deposition produced in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 and 2 were used.
During film formation, a halogen lamp is used as the heater 91, and the pellets of the evaporation source 90 are 6
By heating to 00 ° C., the fluorine-containing organosilicon compound was evaporated. The deposition time is 3 minutes.
After the antifouling layer is formed, the support device 20 is removed from the chamber 50, the lens is inverted and set on the support device 20 again, and the same processing as described above is performed again, whereby the antifouling layer 1 is formed on both surfaces of the lens.
4 was formed. Thereafter, the optical article 10 was taken out, put into a high-temperature and high-humidity tank set at 60 ° C. and 60% RH, and held for 2 hours, so that the reaction between the antifouling agent and the lens surface was advanced.

なお、本実施例では乾式法により防汚層を形成したが、前述のディッピング用処理液を
使用した湿式法により防汚層を形成することもできる。具体的には、以下のように実施す
る。
処理用基板として、ハードコート層、反射防止層(最外層がSiO膜)を有する眼鏡
用プラスチックレンズ(「セイコースーパーソブリン」セイコーエプソン株式会社製)を
用意し、基板表面を洗浄するためにプラズマ処理(処理圧力:0.1Torr、導入ガス
:乾燥air、電極間距離:24cm、電源出力:DC1KV、処理時間:15秒)を行
う。そして、プラズマ処理したレンズを、前述の反応性化合物と非反応性化合物とを含有
するディッピング用処理液に浸漬して1分保持した後150mm/分にて引き上げ、防汚
処理液を塗布する。その後、アニール工程として、60℃、60%RHに設定した恒温恒
湿槽に投入し、2時間保持することで防汚層を形成することができる。
In this embodiment, the antifouling layer is formed by a dry method, but the antifouling layer can also be formed by a wet method using the dipping treatment liquid described above. Specifically, it is carried out as follows.
As a processing substrate, a plastic lens for spectacles (“Seiko Super Sovereign” manufactured by Seiko Epson Corporation) having a hard coat layer and an antireflection layer (the outermost layer is an SiO 2 film) is prepared, and plasma is used to clean the substrate surface. Processing (processing pressure: 0.1 Torr, introduced gas: dry air, distance between electrodes: 24 cm, power output: DC 1 KV, processing time: 15 seconds) is performed. Then, the plasma-treated lens is immersed in a dipping treatment solution containing the above-described reactive compound and non-reactive compound and held for 1 minute, and then pulled up at 150 mm / min to apply an antifouling treatment solution. Thereafter, as an annealing process, the antifouling layer can be formed by putting it in a constant temperature and humidity chamber set at 60 ° C. and 60% RH and holding it for 2 hours.

[評価]
以上のようにして作成した眼鏡レンズについて、スチールウールによる耐擦傷性、アル
カリ浸漬試験での接触角とインク拭取性で防汚層の性能を評価した。
(1)耐擦傷性
眼鏡レンズ表面を、スチールウール(日本スチールウール(株)製ボンスター#000
0)に荷重1kgを加え、約30mmの距離を10往復擦ったのち、目視でレンズ表面に
入った傷の状態を下記のA〜Dの基準で評価した。
A:全く傷がない。
B:1〜2本の傷が確認される。
C:3〜5本の傷が確認される。
D:6本以上の傷が確認される。
[Evaluation]
About the spectacle lens produced as described above, the performance of the antifouling layer was evaluated by the scratch resistance by steel wool, the contact angle in the alkali immersion test and the ink wiping property.
(1) Scratch resistance The surface of the spectacle lens is made of steel wool (Nihon Steel Wool Co., Ltd. Bonster # 000).
The load of 1 kg was applied to 0), and the distance of about 30 mm was rubbed back and forth 10 times, and then the state of scratches entering the lens surface was visually evaluated according to the following criteria A to D.
A: There is no scratch at all.
B: One or two scratches are confirmed.
C: 3 to 5 scratches are confirmed.
D: Six or more scratches are confirmed.

(2)アルカリ浸漬試験
0.1Nに調整した水酸化ナトリウム水溶液中に試験片を3時間浸漬し、浸漬後の試験
片を水でよく洗う。アルカリ浸漬試験前後の防汚性能を、接触角と油性インクの拭取性に
よって評価した。
(2−1)接触角測定
接触角計(「CA−D型」協和界面科学株式会社製)を使用し、液滴法による純水の接
触角を測定した。
(2−2)油性インクの拭取性
レンズの凸面に、黒色油性マーカー(「ハイマッキーケア」ゼブラ株式会社製)により
約4cmの直線を引き、5分間放置後、該マーク部をワイプ紙(クレシア製:ケイドライ
)によって拭き取りを行い、その拭き取りやすさを下記の基準にて判定した。
○:10回以下の拭き取りで完全に除去できる
△:11回〜20回の拭き取りで完全に除去できる
×:20回の拭き取り後も除去されない部分が残る
上記の評価結果を以下の表1に示す。
(2) Alkaline immersion test The test piece is immersed in an aqueous sodium hydroxide solution adjusted to 0.1 N for 3 hours, and the test piece after immersion is thoroughly washed with water. The antifouling performance before and after the alkali immersion test was evaluated by the contact angle and the wipeability of the oil-based ink.
(2-1) Contact angle measurement Using a contact angle meter ("CA-D type" manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), the contact angle of pure water was measured by the droplet method.
(2-2) Wipe of oil-based ink A straight line of about 4 cm is drawn on the convex surface of the lens with a black oil-based marker ("Himacy Care" manufactured by Zebra Co., Ltd.) and left for 5 minutes. The product was wiped off by Crescia: Kei Dry, and the ease of wiping was determined according to the following criteria.
○: Can be completely removed by wiping 10 times or less. △: Can be completely removed by wiping 11 to 20 times. X: A portion that is not removed remains after wiping 20 times. The above evaluation results are shown in Table 1 below. .

Figure 2009251008
Figure 2009251008

表1に示すように、実施例1は末端封止成分であるB液を混合しているため、比較例1
に比べて耐擦傷性が優れている。
また、実施例9は、末端封止成分であるD液を混合しているため、比較例2に比べて耐
擦傷性が優れている。
そして、実施例2から実施例8に示すように、末端封止成分であるA2液の混合比が増
加すると、耐擦傷性が向上する一方で、耐アルカリ性が低下する傾向にあるが、実用的に
問題なかった。
このように、種々の混合系によって最適混合比を設定すれば、耐擦傷性と耐アルカリ性
に代表される耐薬品性を兼ね備えた基板の表面処理が可能となる。
As shown in Table 1, since Example 1 is mixed with B liquid which is a terminal blocking component, Comparative Example 1
Compared to, it has excellent scratch resistance.
Moreover, since Example 9 mixes D liquid which is an end-capping component, it has better scratch resistance than Comparative Example 2.
And as shown in Example 2 to Example 8, when the mixing ratio of the A2 liquid as the end-capping component is increased, the scratch resistance is improved, while the alkali resistance tends to be reduced. There was no problem.
As described above, when the optimum mixing ratio is set by various mixing systems, it becomes possible to perform surface treatment of a substrate having both chemical resistance typified by scratch resistance and alkali resistance.

本発明は、プラスチック眼鏡レンズに利用できる他、プラスチック製の液晶表示パネル
、光学機器用レンズ等にも利用することができる。
The present invention can be used not only for plastic eyeglass lenses but also for plastic liquid crystal display panels, lenses for optical devices, and the like.

本発明の実施形態にかかる光学物品の断面を示す模式図。The schematic diagram which shows the cross section of the optical article concerning embodiment of this invention. 本発明の実施形態にかかる成膜装置を示す概略図。Schematic which shows the film-forming apparatus concerning embodiment of this invention. 本発明の実施形態にかかる処理工程を示す図。The figure which shows the process process concerning embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10・・・光学物品、11・・・プラスチック基材、12・・・ハードコート層、13・
・・反射防止層、14・・・防汚層、100・・・成膜装置
10 ... Optical article, 11 ... Plastic substrate, 12 ... Hard coat layer, 13.
..Antireflection layer, 14 ... Anti-fouling layer, 100 ... Film forming apparatus

Claims (15)

プラスチック基板上に防汚層を備えた光学物品であって、
前記防汚層は、前記プラスチック基板と反応する反応基を有する反応性化合物と、前記
プラスチック基板と反応しない非反応性化合物とから形成されていることを特徴とする光
学物品。
An optical article having an antifouling layer on a plastic substrate,
The antifouling layer is formed of a reactive compound having a reactive group that reacts with the plastic substrate and a non-reactive compound that does not react with the plastic substrate.
請求項1に記載の光学物品において、
前記反応性化合物および前記非反応性化合物は、フッ素含有有機ケイ素化合物であるこ
とを特徴とする光学物品。
The optical article according to claim 1.
The optical article, wherein the reactive compound and the non-reactive compound are fluorine-containing organosilicon compounds.
請求項1または請求項2に記載の光学物品において、
前記非反応性化合物は、前記反応性化合物の前記反応基を失活させたことを特徴とする
光学物品。
The optical article according to claim 1 or 2,
The optical article, wherein the non-reactive compound deactivates the reactive group of the reactive compound.
請求項1から請求項3のいずれかに記載の光学物品において、
前記防汚層は、前記反応性化合物と前記非反応性化合物とを、固形分質量比で8:2〜
2:8の割合で配合されてなる組成物から形成されていることを特徴とする光学物品。
The optical article according to any one of claims 1 to 3,
The antifouling layer comprises the reactive compound and the non-reactive compound in a solid content mass ratio of 8: 2 to 2.
An optical article characterized in that it is formed from a composition blended at a ratio of 2: 8.
請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学物品において、
前記反応性化合物は、以下の式(1)で表される化合物であることを特徴とする光学物
品。
Figure 2009251008
(式中、Rfはパーフルオロアルキル基、Xは水素、臭素、またはヨウ素、Yは水
素または低級アルキル基、Zはフッ素またはトリフルオロメチル基、Rは水酸基または
加水分解可能な基、Rは水素または一価の炭化水素を表す。また、a、b、c、d、e
は0または1以上の整数で、a+b+c+d+eは少なくとも1以上であり、a、b、c
、d、eでくくられた各繰り返し単位の存在順位は、一般式(1)において限定されない
。fは0、1または2を表す。gは1、2または3を表す。hは1以上の整数を表す。)
The optical article according to any one of claims 1 to 4,
The said reactive compound is a compound represented by the following formula | equation (1), The optical article characterized by the above-mentioned.
Figure 2009251008
Wherein Rf 1 is a perfluoroalkyl group, X 1 is hydrogen, bromine, or iodine, Y is hydrogen or a lower alkyl group, Z is a fluorine or trifluoromethyl group, R 1 is a hydroxyl group or a hydrolyzable group, R 2 represents hydrogen or a monovalent hydrocarbon, and a, b, c, d, e
Is an integer of 0 or 1 or more, a + b + c + d + e is at least 1 or more, a, b, c
The order of presence of each repeating unit delimited by, d and e is not limited in the general formula (1). f represents 0, 1 or 2. g represents 1, 2 or 3. h represents an integer of 1 or more. )
請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学物品において、
前記反応性化合物は、以下の式(2)で表される化合物であることを特徴とする光学物
品。
Figure 2009251008
(式中、Rfは、−(C2k)O−(kは1〜6の整数)で表される単位を含み
、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基を
表す。Rは炭素原子数1〜8の一価の炭化水素基であり、Xは加水分解性基またはハ
ロゲン原子を表す。pは0、1または2を表す。nは1〜5の整数を表す。mおよびrは
、2または3を表す。)
The optical article according to any one of claims 1 to 4,
The optical article, wherein the reactive compound is a compound represented by the following formula (2):
Figure 2009251008
(In the formula, Rf 2 includes a unit represented by — (C k F 2k ) O— (k is an integer of 1 to 6) and has a linear perfluoropolyalkylene ether structure having no branch. R 3 represents a divalent group, R 3 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, X 2 represents a hydrolyzable group or a halogen atom, and p represents 0, 1 or 2. n Represents an integer of 1 to 5. m and r represent 2 or 3.)
請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学物品において、
前記反応性化合物は、以下の式(3)で表される化合物であることを特徴とする光学物
品。
17−C−Si(NH)3/2 …(3)
The optical article according to any one of claims 1 to 4,
The said reactive compound is a compound represented by the following formula | equation (3), The optical article characterized by the above-mentioned.
F 17 C 8 —C 2 H 4 —Si (NH) 3/2 (3)
請求項1から請求項4のいずれかに記載の光学物品において、
前記反応性化合物は、以下の式(4)で表される化合物であることを特徴とする光学物
品。
3C−(CF2n−(CH2m−Si(O−R)3 …(4)
(式中、nは1〜11の整数であり、mは1〜4の整数であり、Rは炭素数1以上のアル
キル基である。)
The optical article according to any one of claims 1 to 4,
The said reactive compound is a compound represented by the following formula | equation (4), The optical article characterized by the above-mentioned.
F 3 C— (CF 2 ) n — (CH 2 ) m —Si (O—R) 3 (4)
(In the formula, n is an integer of 1 to 11, m is an integer of 1 to 4, and R is an alkyl group having 1 or more carbon atoms.)
請求項1から請求項8のいずれかに記載の光学物品において、
前記非反応性化合物は、前記反応性化合物と以下の式(5)で表される化合物とを反応
させて得られる組成物であることを特徴とする光学物品。
17−C−Si(NH)3/2 …(5)
The optical article according to any one of claims 1 to 8,
The optical article, wherein the non-reactive compound is a composition obtained by reacting the reactive compound with a compound represented by the following formula (5).
F 17 C 8 —C 2 H 4 —Si (NH) 3/2 (5)
請求項1から請求項8のいずれかに記載の光学物品において、
前記非反応性化合物は、前記反応性化合物と以下の式(6)で表される化合物とを反応
させて得られる組成物であることを特徴とする光学物品。
3C−(CF2n−(CH2m−Si(O−R)3 …(6)
(式中、nは1〜11の整数であり、mは1〜4の整数であり、Rは炭素数1以上のアル
キル基である。)
The optical article according to any one of claims 1 to 8,
The optical article, wherein the non-reactive compound is a composition obtained by reacting the reactive compound with a compound represented by the following formula (6).
F 3 C— (CF 2 ) n — (CH 2 ) m —Si (O—R) 3 (6)
(In the formula, n is an integer of 1 to 11, m is an integer of 1 to 4, and R is an alkyl group having 1 or more carbon atoms.)
請求項1から請求項10のいずれかに記載の光学物品において、
前記防汚層は、反射防止層の上に形成されることを特徴とする光学物品。
The optical article according to any one of claims 1 to 10,
The optical article, wherein the antifouling layer is formed on the antireflection layer.
請求項1から請求項11のいずれかに記載の光学物品は眼鏡レンズであることを特徴と
する光学物品。
The optical article according to any one of claims 1 to 11, wherein the optical article is a spectacle lens.
請求項1から請求項12のいずれかに記載の光学物品の製造方法であって、
前記反応性化合物と前記非反応性化合物とを混合して防汚処理液を調製する防汚処理液
調製工程と、
前記防汚処理液を前記プラスチック基材の表面に塗布する防汚層形成工程と、を実施す
ることを特徴とする光学物品の製造方法。
A method for producing an optical article according to any one of claims 1 to 12,
An antifouling treatment liquid preparation step of preparing the antifouling treatment liquid by mixing the reactive compound and the non-reactive compound;
An antifouling layer forming step of applying the antifouling treatment liquid to the surface of the plastic substrate, and a method for producing an optical article.
請求項13に記載の光学物品の製造方法において、
前記防汚層形成工程は、乾式法により実施されることを特徴とする光学物品の製造方法
In the manufacturing method of the optical article according to claim 13,
The method for producing an optical article, wherein the antifouling layer forming step is carried out by a dry method.
請求項13に記載の光学物品の製造方法において、
前記防汚層形成工程は、湿式法により実施されることを特徴とする光学物品の製造方法
In the manufacturing method of the optical article according to claim 13,
The method for producing an optical article, wherein the antifouling layer forming step is performed by a wet method.
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