JP2009236367A - Heat treatment device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、被処理物の加熱と強制冷却とを行う熱処理装置に関する。 The present invention relates to a heat treatment apparatus that performs heating and forced cooling of an object to be processed.
下記特許文献1には、加熱したワークを冷却液に浸積することによって強制冷却する焼入れ兼用炉が開示されている。この焼入れ兼用炉は、前室と冷却室とを一体化した前室兼冷却室と、この前室兼冷却室の側方に配設された加熱炉と、前室兼冷却室の下方に設置された焼入れ槽とから構成されている。
この焼入れ兼用炉は、加熱炉でワークを加熱したあと、このワークを前室兼冷却室へ向けて側方に移動し、その後ワークを下降させて焼入れ槽に浸積することにより焼入れを行っている。
Patent Document 1 below discloses a quenching and combined furnace that forcibly cools a heated workpiece by immersing it in a coolant. This quenching furnace is installed in a front chamber / cooling chamber in which the front chamber and the cooling chamber are integrated, a heating furnace disposed on the side of the front chamber / cooling chamber, and below the front chamber / cooling chamber. And a quenching tank.
This quenching furnace uses a heating furnace to heat the workpiece, then moves the workpiece to the front chamber / cooling chamber to the side, then lowers the workpiece and immerses it in the quenching tank. Yes.
ところで、半導体シリコンを製造する際に発生するスクラップシリコンを再利用するため、スクラップシリコンの塊を加熱した後、強制冷却することによって脆くし、スクラップシリコンの破砕を容易にする技術が知られている。
そこで、例えば、スクラップシリコンの加熱と強制冷却とを行うために、特許文献1のような焼入れ兼用炉を利用することが考えられる。しかし、特許文献1の焼入れ兼用炉は、加熱炉と焼入れ槽との間に前室兼冷却室があり、加熱炉から焼入れ槽へスクラップシリコンを移動させるためには、必ず前室兼冷却室を経由しなければならない。そのため、加熱したスクラップシリコンを焼入れ槽に移動させるまでに時間がかかり、その間にスクラップシリコンが自然冷却されてしまい、スクラップシリコンを十分に脆くすることが困難となる。
By the way, in order to reuse scrap silicon generated when semiconductor silicon is manufactured, a technique is known in which scrap silicon is heated and then forcibly cooled to make it brittle and facilitate scrap silicon crushing. .
Therefore, for example, in order to heat and forcibly cool scrap silicon, it is conceivable to use a quenching furnace as in Patent Document 1. However, the quenching / compression furnace of Patent Document 1 has a front chamber / cooling chamber between the heating furnace and the quenching tank. In order to move scrap silicon from the heating furnace to the quenching tank, the front chamber / cooling chamber must be provided. Have to go through. For this reason, it takes time until the heated scrap silicon is moved to the quenching tank, during which time the scrap silicon is naturally cooled, and it becomes difficult to make the scrap silicon sufficiently brittle.
本発明は、被処理物を加熱した後、即座に強制冷却することができる熱処理装置を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the heat processing apparatus which can be forcedly cooled immediately after heating a to-be-processed object.
本発明の熱処理炉は、底部に第1開口部を有する加熱室と、上部に第2開口部を有し、前記加熱室の下方に配置された冷却液槽と、前記第1開口部を開閉するシャッター部材と、被処理物を保持する保持部材と、前記第1,第2開口部を通して前記加熱室と前記冷却液槽との間で前記保持部材を昇降させる昇降機構と、を備えていることを特徴とする。 The heat treatment furnace of the present invention includes a heating chamber having a first opening at the bottom, a second opening at the top, a coolant tank disposed below the heating chamber, and opening and closing the first opening. A shutter member that holds the workpiece, and a lifting mechanism that lifts and lowers the holding member between the heating chamber and the cooling liquid tank through the first and second openings. It is characterized by that.
本発明の熱処理装置は、保持部材によって保持された被処理物を加熱室内で加熱し、その後、シャッター部材を開いて第1開口部を開放し、昇降機構によって保持部材を下降させることにより、被処理物を冷却液槽へ移動させ、冷却液槽内で被処理物を強制冷却する。したがって、加熱室と冷却液槽との間で被処理物を直接移動させることができ、この移動に要する時間を短縮することができる。そのため、本発明の熱処理装置は、加熱後に即座に強制冷却を行うことが要求される被処理物の熱処理に非常に有用である。 The heat treatment apparatus of the present invention heats the object to be processed held by the holding member in the heating chamber, then opens the shutter member to open the first opening, and lowers the holding member by the lifting mechanism. The processing object is moved to the cooling liquid tank, and the object to be processed is forcibly cooled in the cooling liquid tank. Therefore, the object to be processed can be directly moved between the heating chamber and the cooling liquid tank, and the time required for this movement can be shortened. Therefore, the heat treatment apparatus of the present invention is very useful for heat treatment of an object to be processed that requires forced cooling immediately after heating.
本発明の熱処理装置は、前記昇降機構によって前記保持部材を下降させたときに、前記第1,第2開口部の少なくとも一方を閉鎖する閉鎖部材が前記保持部材の上部に設けられていることが好ましい。
冷却液槽内の冷却液が水である場合、冷却液槽内に被処理物が投入されることによって水蒸気が発生する。しかし、その水蒸気が一度に大量に加熱室内に浸入することは、炉内部材への影響を避けて安定した操業を確保する観点等から極力避ける必要がある。本発明の場合、昇降機構によって保持部材を下降させ、冷却液槽内に被処理物を投入したときに、第1,第2開口部の少なくとも一方が閉鎖部材によって閉鎖されるので、水蒸気が加熱室内に浸入することを適切に防止することができる。
In the heat treatment apparatus of the present invention, a closing member that closes at least one of the first and second openings when the holding member is lowered by the elevating mechanism is provided above the holding member. preferable.
When the cooling liquid in the cooling liquid tank is water, water vapor is generated when an object to be processed is put into the cooling liquid tank. However, it is necessary to avoid a large amount of the water vapor from entering the heating chamber at a time from the viewpoint of ensuring stable operation while avoiding the influence on the in-furnace members. In the case of the present invention, when the holding member is lowered by the elevating mechanism and the object to be processed is put into the cooling liquid tank, at least one of the first and second openings is closed by the closing member. It is possible to appropriately prevent entry into the room.
前記閉鎖部材は、第1の筒部と、この第1の筒部に対して上下方向に相対移動可能に連結された第2の筒部とを有しており、前記第1の筒部が、前記保持部材を下降させたときに第1開口部の周縁上面に係合する係合部を上部に有し、前記第2の筒部が、前記保持部材を下降させたときに第2開口部を塞ぐ底壁部を有していることが好ましい。 The closing member has a first tube portion and a second tube portion connected to the first tube portion so as to be relatively movable in the vertical direction, and the first tube portion is And an upper engaging portion that engages with the upper surface of the peripheral edge of the first opening when the holding member is lowered, and the second cylindrical portion is the second opening when the holding member is lowered. It is preferable to have a bottom wall portion that closes the portion.
この構成によれば、昇降機構によって保持部材を上昇させたときは、第1の筒部と第2の筒部とを収縮する方向に相対移動させることにより、閉鎖部材の上下方向の寸法を小さくすることができる。したがって、加熱室内に閉鎖部材の配置スペースを広く確保する必要がなくなり、加熱室を可及的に小型化することができる。また、昇降機構によって保持部材を下降させたときは、第1の筒部の係合部を第1開口部の周縁上面に係合させることにより第1の筒部の下降を規制し、第2の筒部をさらに下降させることによって閉鎖部材を伸長させ、第2の筒部の底壁部によって第2開口部を塞ぐことができる。したがって、第1開口部と第2開口部との距離が離れている場合でも、双方の開口部を閉鎖部材によって閉鎖し、水蒸気が加熱室に浸入することを確実に防止することができる。 According to this configuration, when the holding member is raised by the elevating mechanism, the vertical dimension of the closing member is reduced by relatively moving the first cylinder part and the second cylinder part in the contracting direction. can do. Therefore, it is not necessary to secure a large space for disposing the closing member in the heating chamber, and the heating chamber can be made as small as possible. Further, when the holding member is lowered by the elevating mechanism, the lowering of the first cylindrical portion is restricted by engaging the engaging portion of the first cylindrical portion with the upper peripheral surface of the first opening, and the second By further lowering the cylindrical portion, the closing member can be extended, and the second opening portion can be closed by the bottom wall portion of the second cylindrical portion. Therefore, even when the distance between the first opening and the second opening is long, both the openings can be closed by the closing member, and water vapor can be reliably prevented from entering the heating chamber.
本発明によれば、被処理物を加熱した後、即座に強制冷却することができる。 According to the present invention, after the object to be processed is heated, it can be forcibly cooled immediately.
以下、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発明の実施の形態に係る熱処理装置の概略的な正面断面図、図2は、同熱処理装置の概略的な側面断面図である。
本実施の形態の熱処理装置10は、加熱室11と、この加熱室11の下方に配置された冷却室12と、被処理物Wを保持する保持部材13と、加熱室11と冷却室12との間で保持部材13を昇降させる昇降機構14と、を備えたバッチ処理式の熱処理装置である。
Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a schematic front sectional view of a heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic side sectional view of the heat treatment apparatus.
The
加熱室11は、断熱材料により形成された外壁部材16と、外壁部材16の内側に設けられたヒータ17と、シロッコファン等よりなる循環送風機18とを備えている。図2に示すように、外壁部材16の前壁と底壁とにはそれぞれ開口部19,20が形成され、これらの開口部19,20は、それぞれ断熱性を有するシャッター部材21,22によって気密に閉鎖されている。
The heating chamber 11 includes an
外壁部材16の前壁に形成された開口部19は、加熱室11に対して被処理物Wを出し入れするために用いられる。シャッター部材21は、外壁部材16に上下方向に移動可能(スライド可能)に支持されており、油圧シリンダ等の開閉駆動機構23によって昇降移動される。そして、シャッター部材21は、図2に矢印aで示すように、下降することによって開口部19を閉鎖し、上昇することによって開口部19を開放する。
The opening 19 formed in the front wall of the
外壁部材16の底壁に形成された開口部(第1開口部)20は、加熱室11と冷却室12とを連通している。シャッター部材22は、冷却室12の上部に設けられたガイドレール24によって、前後方向に移動可能(スライド可能)に支持されている。そして、シャッター部材22は、図示しない開閉駆動機構により前後方向に移動し、図2に矢印bで示すように、前方移動することによって開口部20を閉鎖し、後方移動することによって開口部20を開放する。
An opening (first opening) 20 formed in the bottom wall of the
ヒータ17は、加熱室11内を所望の温度(例えば、約200℃〜700℃)に上昇するように構成されている。循環送風機18は、ファン本体25と、モータ26と、ファン本体25とモータ26とを連動連結するベルト伝動機構27とを備え、モータ26の作動によりファン本体25を回転し、加熱室11内の雰囲気を循環させることにより、ヒータ17が発生した熱を急速に伝達せしめて加熱室11内の温度を均一化する。
The
冷却室12は、その外郭を構成するフレーム部材29を備え、このフレーム部材29は上方及び前方が開放している。この冷却室12内には冷却液槽30が配置され、冷却液槽30内には水等の冷却液が収容されている。冷却液槽30の上部には開口部(第2開口部)31が形成され、この開口部31は冷却液槽30に対して被処理物Wを出し入れするために用いられる。
The
図1に示すように、冷却液槽30の下部には走行輪32が設けられており、この走行輪32は、冷却室12の下部に前後方向に設けられたレール33上を走行する。そして、冷却液槽30は、冷却室12内に収容された収容位置と、冷却室12の前方に引き出された引出位置との間で、前後方向に移動可能に構成されている。
冷却液槽30を収容位置に配置すると、開口部31が加熱室11の開口部20の下方に対応するように位置づけられる。また、冷却液槽30を冷却室12の前側に引き出すと、冷却液の交換や冷却液槽30の清掃等を容易に行うことが可能となる。
図2に示すように、冷却液槽30の後部には排気管35が設けられ、この排気管35によって、冷却液槽30内で発生した冷却液の蒸気が外部に排出される。
As shown in FIG. 1, traveling
When the
As shown in FIG. 2, an
保持部材13は、被処理物Wを載置した状態で下方から支持することができる限り、任意の形態とすることができる。保持部材13の上部には、閉鎖部材37が設けられており、この閉鎖部材37は、保持部材13を冷却室12へ移動させたときに、加熱室11の開口部20と冷却液槽31の開口部31とを閉鎖する機能を有している。この閉鎖部材37の詳細については後述する。
The
昇降機構14は、保持部材13及び閉鎖部材37の上部に連結された昇降フレーム39と、昇降フレーム39をガイドするガイド機構40と、昇降フレーム39を昇降させる昇降駆動体41と、昇降駆動体41と昇降フレーム39とを連結する索状部材42とを備えている。
昇降フレーム39は、閉鎖部材37から上方に延びる2本のガイドロッド43を有し、このガイドロッド43は、加熱室11の上壁を貫通して上方に突出している。2本のガイドロッド43の上端部は、連結部材44によって連結されている。
The
The elevating
ガイド機構40は、加熱室11上において、ガイドロッド43を両側から挟持しながら転動する複数個のガイドローラ45を備えている。ガイドロッド43は、ガイドローラ45によって上下方向に垂直に移動することができるように案内される。
昇降駆動体41は油圧シリンダ等よりなり、昇降駆動体41のロッド部46は、索状部材42を介して昇降フレーム39に連結されている。索状部材42はチェーン又はワイヤー等からなり、加熱室11の上部に立設された機構フレーム48の上部に取り付けられたアイドラ47に巻き掛けられている。
The
The raising / lowering
保持部材13は、昇降駆動体41を作動することによって索状部材42及び昇降フレーム39を介して上下に昇降する。そして、保持部材13は、上昇したときに加熱室11内に配置され、下降したときに冷却室12内に配置される。また、保持部材13は、上昇したときに加熱室11の開口部19と正対するように配置され、シャッター部材21を開くことによって、開口部19を通して被処理物Wを出し入れすることが可能となっている。また、保持部材13は、下降したときに開口部20,31を通して冷却液槽30内に投入される。
The holding
閉鎖部材37は、内側筒部(第1筒部)50と外側筒部(第2筒部)51とによって2重筒構造に形成されている。外側筒部51は、外筒壁53と、この外筒壁53の下端を塞ぐ底壁部52とからなる。内側筒部50は、外筒壁53の内周面に摺動可能に嵌合する内筒壁54と、この内筒壁54の上端から外方に突出する環状の係合部55とを有している。閉鎖部材37は、内筒壁54と外筒壁53とを摺動させることによって上下方向に伸縮可能である。
The closing
保持部材13が加熱室11内に配置されているとき、内側筒部50が外側筒部51に対して下方に摺動し、閉鎖部材37は収縮した状態となる。また、保持部材13が加熱室11から冷却室12へ向けて下降すると、下降の途中で内側筒部50の係合部55が開口部20の周縁に係合し、内側筒部50の下降が制限される。さらに、保持部材13が冷却液槽30の内部まで下降すると、内側筒部50に対して外側筒部51が下方に摺動し、閉鎖部材37が伸長する。そして、外側筒部51の底壁部52の外周部が冷却液槽30の開口部31の周縁に係合することによって、双方の開口部20,31が閉鎖部材37によって閉鎖される。
When the holding
以下、本実施の形態の熱処理装置10を用いた熱処理工程について説明する。
熱処理動作の開始前、加熱室11の開口部19,20はそれぞれシャッター部材21,22によって閉鎖され、保持部材13は加熱室11に配置されている。そして、加熱室11内に被処理物Wをセットするには、シャッター部材21を開き、ハンドリフタ等の搬送装置によって開口部19を通して加熱室11内に被処理物Wを装入し、保持部材13に被処理物Wを保持させる。
Hereinafter, a heat treatment process using the
Before the start of the heat treatment operation, the
ついで、シャッター部材21を閉じるとともにヒータ17及び循環送風機18を作動し、被処理物Wを所定時間加熱する。加熱が終了すると、シャッター部材22を開くことによって開口部20を開放し、その後、即座に昇降機構14を作動して保持部材13を下降させる。保持部材13に保持された被処理物Wは、開口部20,31を通して冷却液槽30内に投入され、冷却液によって強制冷却される。同時に、開口部20,31は閉鎖部材37によって閉鎖される。
Next, the
被処理物Wの強制冷却が終了すると、昇降機構14が作動して被処理物Wが加熱室11まで上昇する。このとき各開口部20,31から閉鎖部材37が離脱し、各開口部20,31が開放される。保持部材13が完全に加熱室11内に収容されるとシャッター部材22によって開口部20が閉鎖される。強制冷却後の被処理物Wを加熱室11に再び戻すことによって、被処理物Wを乾燥させることができる。ついで、シャッター部材21を開くことによって加熱室11を開放し、開口部19を通して加熱室11から被処理物Wを取り出すことで、1バッチ処理が終了する。
When the forced cooling of the workpiece W is completed, the
以上説明したように、本実施の形態の熱処理装置10は、加熱室11で加熱した被処理物Wを直接冷却室12へ移動させ、冷却液槽30によって強制冷却しているので、被処理物Wの移動に要する時間を短くすることができる。そのため、移動の間に被処理物Wが自然冷却されることが少なくなり、即座に被処理物Wを強制冷却することができる。したがって、本実施の形態の熱処理装置10は、スクラップシリコンのように加熱後に即座に強制冷却することが要求される被処理物Wの熱処理に有効に使用することができる。
As described above, the
本実施の形態の熱処理装置10は、被処理物Wを冷却液槽30に投入するときに、閉鎖部材37が加熱室11及び冷却液槽30の開口部20,31を閉鎖するので、加熱室11内に冷却液の蒸気が浸入するのを防止することができる。そのため、加熱室11内に蒸気が浸入することによる不都合を回避することができる。
Since the closing
本実施の形態の熱処理装置10は、閉鎖部材37が上下方向に伸縮可能に構成され、保持部材13を上昇させたときに閉鎖部材37が加熱室11内で収縮するので、加熱室11内で閉鎖部材37の上下方向の寸法を小さくすることができ、加熱室11に閉鎖部材37を収容するための広いスペースを確保する必要がない。したがって、加熱室11を可及的に小型化することができる。一方、保持部材13を下降させたとき、閉鎖部材37が伸長することによって双方の開口部20,31が閉鎖されるので、蒸気が加熱室11内に浸入することを確実に防止することができる。
In the
本発明は、上記実施の形態に限定されることなく、適宜設計変更可能である。
本発明の熱処理装置10は、スクラップシリコンの加熱及び強制冷却だけでなく、金属(貴金属を含む)、石英、ガラス等の他の物質の加熱及び強制冷却のために使用することができる。また、強制冷却のための冷却液としては、水に限らず、有害な蒸気を発生しない不燃性の液体であれば特に限定されることなく採用することができる。
閉鎖部材37は、外側筒部51と内側筒部50との2重筒構造とするに限らず3重以上の筒構造とすることもできる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and the design can be changed as appropriate.
The
The closing
10 熱処理装置
11 加熱室
12 冷却室
13 保持部材
14 昇降機構
19 開口部
20 開口部(第1開口部)
21 シャッター部材
22 シャッター部材
30 冷却液槽
31 開口部(第2開口部)
37 閉鎖部材
50 内側筒部(第1の筒部)
51 外側筒部(第2の筒部)
52 底壁部
55 係合部
DESCRIPTION OF
21
37
51 Outer cylinder part (second cylinder part)
52
Claims (3)
上部に第2開口部を有し、前記加熱室の下方に配置された冷却液槽と、
前記第1開口部を開閉するシャッター部材と、
被処理物を保持する保持部材と、
前記第1,第2開口部を通して前記加熱室と前記冷却液槽との間で前記保持部材を昇降させる昇降機構と、を備えていることを特徴とする熱処理装置。 A heating chamber having a first opening at the bottom;
A coolant bath having a second opening at the top and disposed below the heating chamber;
A shutter member for opening and closing the first opening;
A holding member for holding a workpiece;
An elevating mechanism that elevates and lowers the holding member between the heating chamber and the cooling liquid tank through the first and second openings.
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011202915A (en) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Koyo Thermo System Kk | Heat treatment device |
WO2016151622A1 (en) * | 2015-03-23 | 2016-09-29 | 株式会社 東芝 | Permanent magnet, motor, and generator |
KR101867695B1 (en) * | 2016-10-17 | 2018-06-15 | 주식회사 포스코 | Heat treatment apparatus |
JP2021081165A (en) * | 2019-11-22 | 2021-05-27 | 中外炉工業株式会社 | Heat treatment furnace having two-stage elevator |
CN113587630A (en) * | 2021-07-23 | 2021-11-02 | 佛山市中研非晶科技股份有限公司 | Split type constant magnetic heat circulation well type furnace |
CN118111237A (en) * | 2024-04-26 | 2024-05-31 | 福建福碳新材料科技有限公司 | Isostatic graphite continuous high-temperature graphitizing equipment for manufacturing large semiconductor silicon wafer |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02225617A (en) * | 1989-02-28 | 1990-09-07 | Trinity Ind Corp | Hardening device |
JPH0712463U (en) * | 1993-07-30 | 1995-02-28 | トリニティ工業株式会社 | Heat treatment equipment |
JPH09287878A (en) * | 1996-04-22 | 1997-11-04 | Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd | Seal mechanism of atmospheric furnace of hearth lift type |
JP2000239738A (en) * | 1999-02-18 | 2000-09-05 | Toyota Motor Corp | Quenching apparatus |
JP2003294368A (en) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Tdk Corp | Heat treatment device and heat treatment method |
JP2005350756A (en) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Nachi Fujikoshi Corp | Heat treatment apparatus |
-
2008
- 2008-03-26 JP JP2008081258A patent/JP5571291B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02225617A (en) * | 1989-02-28 | 1990-09-07 | Trinity Ind Corp | Hardening device |
JPH0712463U (en) * | 1993-07-30 | 1995-02-28 | トリニティ工業株式会社 | Heat treatment equipment |
JPH09287878A (en) * | 1996-04-22 | 1997-11-04 | Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd | Seal mechanism of atmospheric furnace of hearth lift type |
JP2000239738A (en) * | 1999-02-18 | 2000-09-05 | Toyota Motor Corp | Quenching apparatus |
JP2003294368A (en) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Tdk Corp | Heat treatment device and heat treatment method |
JP2005350756A (en) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Nachi Fujikoshi Corp | Heat treatment apparatus |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011202915A (en) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Koyo Thermo System Kk | Heat treatment device |
WO2016151622A1 (en) * | 2015-03-23 | 2016-09-29 | 株式会社 東芝 | Permanent magnet, motor, and generator |
JPWO2016151622A1 (en) * | 2015-03-23 | 2017-07-20 | 株式会社東芝 | Permanent magnets, motors, and generators |
EP3276644A4 (en) * | 2015-03-23 | 2018-08-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Permanent magnet, motor, and generator |
US10892091B2 (en) | 2015-03-23 | 2021-01-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Permanent magnet, motor, and generator |
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