JP2009230870A - Organic el panel assembly system - Google Patents

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Kiyoshi Imaizumi
潔 今泉
Hiroaki Imai
裕晃 今井
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Hitachi Plant Technologies Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem that in an EL panel assembly system, a plurality of treating chambers and a plurality of substrate transfer parts are combined and, as a result, vibration generated in one treating chamber is transmitted to the other treating chamber and treatment accuracy in the other chamber is deteriorated. <P>SOLUTION: The EL panel assembly system is constructed of a plurality of treating chambers which house treating parts of a coating device for coating an adhesive on a substrate for assembling a panel, a dropping device for dropping a filling agent, and a pasting device for pasting the substrate, and a plurality of substrate transfer parts which house transfer robots for carrying the substrate in or out of the treating chamber. A gate valve and a rubber sheet are used to connect the connection part between each treating chamber and each substrate transfer part and thereby, vibration generated at treating operation of the devices in the treating chamber is not transmitted to the other treating chamber. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は有機ELパネル組立てシステムに係り、特に複数のチャンバを接続してそれぞれのチャンバ内でそれぞれの処理を行なう構成としているが、1つのチャンバ内で処理中に発生する振動等が他のチャンバに伝達しないように構成するシステムに関する。   The present invention relates to an organic EL panel assembling system, and more particularly, a configuration in which a plurality of chambers are connected to perform each process in each chamber. It is related with the system comprised so that it may not be transmitted to.

EL表示パネルの製造には、TFT基板にEL薄膜を形成して、EL薄膜形成側を窒素ガスで封止する構成のボトムエミション方式と、EL薄膜を形成したTFT基板と、カバーガラスまたはカラーフィルタを形成した基板を間にフィル材を封止した構成のトップエミション方式があるが、両者とも2枚の基板を貼り合せてパネルを形成するものである。   For the manufacture of an EL display panel, a bottom emission method in which an EL thin film is formed on a TFT substrate and the EL thin film forming side is sealed with nitrogen gas, a TFT substrate on which an EL thin film is formed, a cover glass or a color There is a top emission system in which a fill material is sealed between a substrate on which a filter is formed. In both cases, two substrates are bonded together to form a panel.

ところで、両方式とも最終的に2枚の基板を真空中、あるいは窒素雰囲気中で貼り合せて最終製品に使用するパネルを製造する必要がある。そのため、真空チャンバあるいは窒素雰囲気のチャンバ内で貼り合せ等の作業を行なう必要がある。特許文献1には、表示用ガラス基板に封止用ガラス基板を貼り合せて表示パネルを形成するに当たり、チャンバ内に窒素ガスを充満させて温度調整して、封止用ガラスに基板に塗布した接着剤の粘度を調整して封止用ガラスを貼り合せるための装置が開示されている。   By the way, in both systems, it is necessary to finally manufacture a panel to be used for a final product by bonding two substrates in a vacuum or in a nitrogen atmosphere. Therefore, it is necessary to perform operations such as bonding in a vacuum chamber or a nitrogen atmosphere chamber. In Patent Document 1, when a sealing glass substrate is bonded to a display glass substrate to form a display panel, the chamber is filled with nitrogen gas, the temperature is adjusted, and the glass is applied to the sealing glass. An apparatus for adjusting the viscosity of an adhesive and bonding glass for sealing is disclosed.

また、特許文献2に示すようにロードロック室から基板を搬入して、連続して形成された複数の処理室(分割処理室)内でそれぞれの処理を行い、アンロードロック室から処理済の基板を搬出するインライン式真空処理装置が開示されている。   Further, as shown in Patent Document 2, a substrate is loaded from a load lock chamber, and each process is performed in a plurality of consecutively formed processing chambers (divided processing chambers). An in-line vacuum processing apparatus for unloading a substrate is disclosed.

特開2003−015552号公報JP 2003-015552 A 特開2005−206852号公報JP 2005-206852 A

上記特許文献1では、基板貼り合せ装置を独立して動作できるように構成しているために、その前の、接着剤の塗布処理から貼り合せ装置に基板を出し入れの際に基板が大気に触れ、空気が接着剤に混入したり、酸化、や塵埃の付着等の問題がある。このため、なるべく真空チャンバを連続して構成して、上記の問題の発生を抑制することが特許文献2で考えられている。   In the above-mentioned Patent Document 1, since the substrate bonding apparatus is configured to be able to operate independently, the substrate is exposed to the air when the substrate is put in and out of the bonding apparatus from the previous adhesive coating process. There are problems such as air mixing into the adhesive, oxidation, and adhesion of dust. For this reason, it is considered in Patent Document 2 that the vacuum chamber is continuously formed as much as possible to suppress the occurrence of the above problem.

引用文献2のように処理室(チャンバ)を連続して配置すると、チャンバ内に可動して処理する装置がある場合に、その可動部で発生した振動が、振動等を嫌う処理室に伝達して、そこでの処理作業における精度が著しく低下して、最悪の場合最終製品が不良と成ることもある。   When the processing chambers (chambers) are continuously arranged as in the cited document 2, if there is an apparatus that moves and processes in the chamber, vibration generated in the movable part is transmitted to the processing chamber that dislikes vibration and the like. Thus, the accuracy in processing operations there may be significantly reduced, and in the worst case the final product may be defective.

そこで、本発明の目的は、同一雰囲気中で処理したほうが良い工程を連続させるように装置を配置して、かつ各装置間を簡単な構造で振動絶縁して、作動している装置の動作に伴う振動が他の装置に伝達しないようにすることで、高精度のEL表示パネルを製作できるようにすることにある。   Therefore, the object of the present invention is to arrange the devices so that the processes that should be processed in the same atmosphere are continued, and to vibrate and insulate each device with a simple structure, to the operation of the operating device. By preventing the accompanying vibration from being transmitted to other devices, it is possible to manufacture a highly accurate EL display panel.

前処理工程で別々に処理された2枚の基板を貼り合せる工程において、EL表示パネルを組み立てるための基板に接着剤を塗布する塗布装置やフィル剤を滴下する滴下装置、および基板の貼り合せを行なう貼り合せ装置の処理部を収納した複数の処理室と、処理室に基板を版出入するための搬送ロボットを収納した複数の基板搬送部とから構成され、各処理室と各基板搬送部との間の接続部にゲートバルブと、ゴムシートを用いて接続することで、処理室内で装置が処理動作時に発生した振動が他の処理室に伝達しないように構成した。   In the process of bonding two substrates processed separately in the pretreatment process, an application device for applying an adhesive to a substrate for assembling an EL display panel, a dropping device for dropping a fill agent, and bonding of the substrates A plurality of processing chambers storing processing units of the bonding apparatus to be performed, and a plurality of substrate transporting units storing transport robots for loading and unloading the substrates into and out of the processing chambers, each processing chamber and each substrate transporting unit, By connecting the gate valve and the rubber sheet using a rubber sheet, the vibration generated during the processing operation of the apparatus in the processing chamber is not transmitted to other processing chambers.

また、基板搬送部の構成、形状を略同じに形成した。   Further, the configuration and shape of the substrate transfer unit were formed to be substantially the same.

1つの処理室で発生した振動が他の処理室に伝達しないように、ゴムシートを介在させて処理室と基板搬送部を接続したことで、他の処理室からの振動による、精度低下を防止できた。さらに、基板搬送部を同じ構成同じ形状で形成することでシステムの拡張性が増加した。   By preventing the vibration generated in one processing chamber from being transmitted to other processing chambers, the processing chamber and the substrate transfer unit are connected via a rubber sheet, preventing a decrease in accuracy due to vibration from other processing chambers. did it. Furthermore, the extensibility of the system is increased by forming the substrate transport section with the same configuration and the same shape.

以下、本発明のEL表示パネル組立てシステムの一例の全体構成を図1に示す。   The overall configuration of an example of the EL display panel assembly system of the present invention is shown in FIG.

図1に示すように前工程で処理をされた2枚の基板のうちカラーフィルタ基板(又は封止基板及びカバーガラス:以後下基板と称する)10を搬入するロードロック室である下基板搬入部1が設けてある。下基板搬入部1は第1の基板搬送部4にゲートバルブ5を介して接続されている。第1の基板搬送部4には第1の位置決め機構31と搬送ロボット3が収納されている。この第1の基板搬送部4を挟んで2つの処理室が設けてある。そのうち、1方側に第1の処理室7(接着剤を塗布する塗布部1)が、他方側に第2の処理室12(接着剤を塗布する塗布部2)がそれぞれゲートバルブ21,23を介して設けてある。なお、下基板搬入部1には下基板10がフェースアップ(貼り合せ面を上向きに)して搬入される。   As shown in FIG. 1, a lower substrate carrying portion which is a load lock chamber for carrying a color filter substrate (or sealing substrate and cover glass: hereinafter referred to as a lower substrate) 10 out of the two substrates processed in the previous process. 1 is provided. The lower substrate carry-in unit 1 is connected to the first substrate transfer unit 4 through a gate valve 5. A first positioning mechanism 31 and a transfer robot 3 are accommodated in the first substrate transfer unit 4. Two processing chambers are provided with the first substrate transfer unit 4 interposed therebetween. Among them, the first processing chamber 7 (application unit 1 for applying adhesive) is on one side, and the second processing chamber 12 (application unit 2 for applying adhesive) is on the other side, respectively. It is provided via. Note that the lower substrate 10 is carried into the lower substrate carry-in portion 1 with its face up (the bonding surface facing upward).

第1の基板搬送部4に下基板10が搬入時には、第1の基板搬送部4は窒素雰囲気になっている。そのため、第1の基板搬送部4に基板搬入前にゲートバルブ5を閉じた状態で下基板搬入部1が窒素雰囲気に変換される。第1の基板搬送部4に基板を搬入した後、ゲートバルブ5は閉じられる。但し、下基板搬入部1が下基板10を第1の基板搬送部4に搬入した後も窒素雰囲気を保持するように構成されている場合は(前処理側で窒素雰囲気としている場合)、ゲートバルブ5は開放したままでよい。第1の基板搬送部4では、第1の位置決め機構31により位置決めされた下基板10を搬送ロボット3のロボットハンドにより下基板10を次の工程に搬送する。   When the lower substrate 10 is carried into the first substrate transfer unit 4, the first substrate transfer unit 4 is in a nitrogen atmosphere. Therefore, the lower substrate carry-in unit 1 is converted into a nitrogen atmosphere in a state where the gate valve 5 is closed before the substrate is carried into the first substrate transfer unit 4. After the substrate is loaded into the first substrate transfer unit 4, the gate valve 5 is closed. However, when the lower substrate carry-in unit 1 is configured to maintain a nitrogen atmosphere even after the lower substrate 10 is carried into the first substrate transfer unit 4 (when the nitrogen atmosphere is set on the pretreatment side), the gate The valve 5 may remain open. In the first substrate transfer unit 4, the lower substrate 10 positioned by the first positioning mechanism 31 is transferred to the next step by the robot hand of the transfer robot 3.

下基板10は接着剤(シール剤)を塗布する第1の処理室7または第2の処理室12に搬入され、シール塗布装置のテーブル上に載置される。処理室内には、シール塗布装置の基板を載置するテーブルより上部が格納される構成となっている。即ち、テーブルを設けてある架台の上面部より上方が処理室で覆われて窒素雰囲気になっていて、架台部分は大気中にある。ゲートバルブ21またはゲートバルブ23から第1の搬送ロボット3のロボットハンドにより下基板10がテーブル上に搬入され、載置される。   The lower substrate 10 is carried into the first processing chamber 7 or the second processing chamber 12 where an adhesive (sealant) is applied, and is placed on the table of the seal coating apparatus. In the processing chamber, the upper part is stored from the table on which the substrate of the seal coating apparatus is placed. That is, the upper part of the gantry provided with the table is covered with the processing chamber so as to form a nitrogen atmosphere, and the gantry is in the atmosphere. The lower substrate 10 is carried onto the table by the robot hand of the first transfer robot 3 from the gate valve 21 or the gate valve 23 and placed thereon.

テーブル上に載置された下基板10は、カメラにより位置合せマークが検出され、検出結果に基づいてシール剤塗布開始位置に塗布ヘッドが移動される。そして、予め設定されたパターンに従って塗布が開始される。なお、第1の処理室7と第2の処理室12は窒素雰囲気に保持されているため、ゲートバルブ21とゲートバルブ23は開放状態のままでよい。ところで、このシール塗布装置はシール剤を塗布する際に、シール剤を塗布する塗布ヘッドをXY方向に移動するために、門型フレームに塗布ヘッドが設けられ、門型フレームをX方向へ、塗布ヘッドをY方向に移動させる、ヘッド移動タイプと、塗布ヘッドを固定状態としてテーブルを移動させるテーブル駆動タイプ、及び、テーブルとヘッドの両方を移動させるハイブリッド移動タイプがあるが、いずれのタイプでも可動部が動作すると振動が発生する。この振動が処理室の壁に伝達され、他の処理室に伝達される恐れがある。   For the lower substrate 10 placed on the table, the alignment mark is detected by the camera, and the application head is moved to the sealant application start position based on the detection result. And application | coating is started according to the pattern set beforehand. Since the first processing chamber 7 and the second processing chamber 12 are maintained in a nitrogen atmosphere, the gate valve 21 and the gate valve 23 may remain open. By the way, this seal coating device is provided with a coating head on the portal frame in order to move the coating head for coating the sealing agent in the XY direction when coating the sealing agent, and the portal frame is coated in the X direction. There are a head movement type that moves the head in the Y direction, a table drive type that moves the table while the application head is fixed, and a hybrid movement type that moves both the table and the head. Vibration occurs when is operated. This vibration is transmitted to the walls of the processing chamber and may be transmitted to other processing chambers.

第1の処理室7または第2の処理室12での処理(シール剤の塗布)が完了すると、第1の搬送ロボット3が処理済みの下基板10を取り出し、第2の基板搬送部8に送り出す。第2の基板搬送部8も窒素雰囲気に保持されている。このため、ゲートバルブ22も開放状態となっている。第2の基板搬送部8には第2の位置決め機構32と搬送ロボット9が設置されている。また、この第2の基板搬送部8には、第3の処理室13(フィル剤滴下充填室)と第4の処理室34(フィル剤滴下充填室)がゲートバルブ24およびゲートバルブ35を介して接続されている。第2の位置決め機構32により位置決めされた下基板10を搬送ロボット9が第3の処理室13または第4の処理室34であるフィル剤滴下充填室に搬入する。このとき、第3の処理室13と第4の処理室34も窒素雰囲気に保持されているためゲートバルブ24とゲートバルブ35も開放状態となっている。第3の処理室13と第4の処理室34は第1の処理室7に設置されているシール塗布装置と略同じ構造をしており、シリンジ内に供給されているフィル剤を下基板11のシール剤の塗布された領域内に所定量供給するものである。フィル剤の充填が終了すると、第2の搬送ロボット9がフィル剤の充填された下基板10を第3の処理室13または第4の処理室34から取り出し、第3の基板搬送部14に受け渡す。この時、第3の基板搬送部14も窒素雰囲気に保持されている。第3の基板搬送部14には有機ELを塗布したEL素子基板(以後上基板と称する)11を搬入する上基板搬入部2が、他方向に第5の処理室16である貼り合せ室がそれぞれゲートバルブ6,26を介して接続されている。この第3の基板搬送部14にも第3の位置決め機構33と搬送ロボット15が設置されている。この第3の位置決め機構33により位置決めされた下基板10を搬送ロボット15が第5の処理室16である貼り合せ室に搬入する。   When the processing (application of the sealant) in the first processing chamber 7 or the second processing chamber 12 is completed, the first transfer robot 3 takes out the processed lower substrate 10 and transfers it to the second substrate transfer section 8. Send it out. The second substrate transfer unit 8 is also held in a nitrogen atmosphere. For this reason, the gate valve 22 is also open. A second positioning mechanism 32 and a transfer robot 9 are installed in the second substrate transfer unit 8. The second substrate transport unit 8 includes a third processing chamber 13 (fill agent dropping / filling chamber) and a fourth processing chamber 34 (fill agent dropping / filling chamber) via a gate valve 24 and a gate valve 35. Connected. The transport robot 9 carries the lower substrate 10 positioned by the second positioning mechanism 32 into the fill agent dropping / filling chamber which is the third processing chamber 13 or the fourth processing chamber 34. At this time, since the third processing chamber 13 and the fourth processing chamber 34 are also maintained in a nitrogen atmosphere, the gate valve 24 and the gate valve 35 are also opened. The third processing chamber 13 and the fourth processing chamber 34 have substantially the same structure as the seal coating device installed in the first processing chamber 7, and the fill agent supplied in the syringe is used as the lower substrate 11. A predetermined amount is supplied into the region where the sealant is applied. When the filling of the filling agent is completed, the second transfer robot 9 takes out the lower substrate 10 filled with the filling agent from the third processing chamber 13 or the fourth processing chamber 34 and receives it by the third substrate transfer unit 14. hand over. At this time, the third substrate transport unit 14 is also maintained in a nitrogen atmosphere. The third substrate transport section 14 has an upper substrate carry-in section 2 for carrying an EL element substrate (hereinafter referred to as an upper substrate) 11 coated with organic EL, and a bonding chamber which is a fifth processing chamber 16 in the other direction. They are connected through gate valves 6 and 26, respectively. The third substrate transport unit 14 is also provided with a third positioning mechanism 33 and a transport robot 15. The lower robot 10 positioned by the third positioning mechanism 33 is carried into the bonding chamber which is the fifth processing chamber 16 by the transfer robot 15.

基板搬入時は貼り合せ室内も窒素雰囲気になっている。貼り合せ室に内には下基板を保持する下テーブルと上基板を保持する上テーブルとが設けられている。下テーブルは水平方向(XY方向)に移動可能に支持されていて、処理室の外に設けられた横押し機構でテーブルを3方向から押すことで、上テーブルに保持した基板と下テーブルに保持した基板との位置合せを行なう。なお、下テーブルを処理室の外に設けたXYθテーブル上に複数の支持梁で保持して、XYθテーブルを駆動して位置合せを行なう構成としても良い。   When the substrate is carried in, the bonding chamber is also in a nitrogen atmosphere. In the bonding chamber, a lower table for holding the lower substrate and an upper table for holding the upper substrate are provided. The lower table is supported so as to be movable in the horizontal direction (XY direction), and is held on the substrate held on the upper table and the lower table by pushing the table from three directions by a lateral pushing mechanism provided outside the processing chamber. Alignment with the prepared substrate is performed. Note that the lower table may be held on an XYθ table provided outside the processing chamber by a plurality of support beams, and the XYθ table may be driven to perform alignment.

なお、先の説明では省略していたが、上基板搬入部2から上基板11がフェースダウン(貼り合せ面を上向きに)で第3の基板搬送部14の搬送ロボット15により搬入され第3の位置決め機構33で位置決めされた後、搬送ロボット15により第5の処理室16内に搬入され、第の5処理室16内に設けてある上テーブルに保持される。上テーブルには上基板11を貼り合せ面を下向きにして保持するため、吸引吸着機構や粘着機構又は静電吸着機構のいずれか1つ又は2の機構が設けてある。吸引吸着機構は窒素雰囲気中では吸着力を有するが、減圧するにつれて吸着力が小さくなるために、粘着機構か、静電吸着機構と併用する必要がある。従って、粘着機構又は静電吸着機構を用いることで、真空雰囲気中でも上基板を確実に保持できるようになっている。   Although omitted in the above description, the upper substrate 11 from the upper substrate carry-in section 2 is carried down by the transfer robot 15 of the third substrate transfer section 14 in a face-down manner (the bonding surface faces upward). After being positioned by the positioning mechanism 33, it is carried into the fifth processing chamber 16 by the transfer robot 15 and is held on the upper table provided in the fifth processing chamber 16. In order to hold the upper substrate 11 with the bonding surface facing downward, the upper table is provided with any one or two of a suction adsorption mechanism, an adhesion mechanism, and an electrostatic adsorption mechanism. The suction adsorption mechanism has an adsorption force in a nitrogen atmosphere. However, since the adsorption force decreases as the pressure is reduced, it needs to be used together with an adhesion mechanism or an electrostatic adsorption mechanism. Therefore, the upper substrate can be reliably held even in a vacuum atmosphere by using an adhesion mechanism or an electrostatic adsorption mechanism.

第5の処理室16内に上基板11が上テーブルに下基板10が下テーブルにそれぞれ保持されると、ゲートバルブ26が閉じられ図示していない真空ポンプが動作して、第5の処理室16内が所定の圧まで減圧排気される。減圧開始前、又は減圧中に上下テーブルに保持されている基板の位置合せマークを観測し、位置ずれ量を求め、下テーブルを水平方向に移動させて位置合せを行なう。そして、所定の減圧圧力(真空度)に達すると貼り合せを行なう。貼り合せは、上テーブルを下テーブル側に降下させて、所定の加圧力を加えて行なう。そのため、上テーブルの駆動軸には加圧力を測定するためのロードセルが設けてある。また、加圧力を加えた状態で位置合せを行なっても良い。加圧が完了すると貼り合せ室内を窒素雰囲気にする。   When the upper substrate 11 and the lower substrate 10 are respectively held in the fifth processing chamber 16 and the lower table, the gate valve 26 is closed and a vacuum pump (not shown) is operated to operate the fifth processing chamber. 16 is evacuated to a predetermined pressure. The alignment mark on the substrate held on the upper and lower tables is observed before or after the depressurization is started, the amount of positional deviation is obtained, and the lower table is moved in the horizontal direction for alignment. Then, when a predetermined reduced pressure (vacuum degree) is reached, bonding is performed. Bonding is performed by lowering the upper table to the lower table side and applying a predetermined pressure. Therefore, a load cell for measuring the applied pressure is provided on the drive shaft of the upper table. Further, the alignment may be performed in a state where a pressing force is applied. When the pressurization is completed, the bonding chamber is put into a nitrogen atmosphere.

第5の処理室16内が所定の窒素雰囲気になると、ゲートバルブ26を開放して、搬送ロボット15を駆動して貼り合せた基板を第5の処理室16から取り出す。貼り合せた基板は第6の処理室17である窒素大気置換室に搬送ロボット15によって搬入される。貼り合せ基板の搬入時は第6の処理室17内は窒素雰囲気になっており、貼り合せ基板搬入後ゲートバルブ27を閉じ、その後、ゲートバルブ28を開放して第6の処理室内を大気開放する。第6の処理室17内を大気開放後、搬送ロボット19を用いて第7の処理室20に貼り合せた基板を搬入する。第6の処理室17はゲートバルブ28を閉じ処理室を窒素置換後、ゲートバルブ27を開放する。第7の処理室20に搬入された基板は、シール剤部分にUV光を照射してシール剤を硬化させる。すなわち、第7の処理室内20にはUV光照射するための光源や位置決め用のテーブル及びカメラ等が設置されている。シール剤の硬化を行なう場合の雰囲気は大気状態で良くゲートバルブを設ける必要はない。シール剤の硬化が完了すると基板は次の工程30に搬出される。   When the inside of the fifth processing chamber 16 becomes a predetermined nitrogen atmosphere, the gate valve 26 is opened and the transfer robot 15 is driven to take out the bonded substrate from the fifth processing chamber 16. The bonded substrates are carried into the nitrogen atmosphere replacement chamber which is the sixth processing chamber 17 by the transfer robot 15. When the bonded substrate is loaded, the inside of the sixth processing chamber 17 is in a nitrogen atmosphere. After the bonded substrate is loaded, the gate valve 27 is closed, and then the gate valve 28 is opened to open the sixth processing chamber to the atmosphere. To do. After the inside of the sixth processing chamber 17 is opened to the atmosphere, the substrate bonded to the seventh processing chamber 20 is loaded using the transfer robot 19. The sixth processing chamber 17 closes the gate valve 28 and replaces the processing chamber with nitrogen, and then opens the gate valve 27. The substrate carried into the seventh processing chamber 20 irradiates the sealing agent portion with UV light to cure the sealing agent. That is, the seventh processing chamber 20 is provided with a light source for irradiating UV light, a positioning table, a camera, and the like. The atmosphere for curing the sealant may be atmospheric and does not require a gate valve. When the curing of the sealant is completed, the substrate is carried out to the next step 30.

以上がEL表示パネル組立てシステムの全体構成であるが、EL表示パネルの製造工程では大部分が窒素雰囲気中で処理が行われる。また、各処理室や基板搬送部間にゲートバルブを配置することで、個別に装置の保守等を行なう場合、必要な区間をゲートバルブにより分断し大気雰囲気にして作業を行なうことで、作業後大気から窒素雰囲気に置換する時間を短縮することが可能である。ところで、大気から窒素雰囲気(酸素濃度、水分濃度共に1ppm以下)に置換する時間は処理室によっては1週間程度要する場合があり、同じ機能を持った処理室を2台以上ずつ設置することで、ゲートバルブを閉じて1台の処理室を保守中でも生産を止める必要がない。特に、第1から第4の処理室は、シール剤、フィル剤の詰め替え交換が必要であり、この交換の際にも生産を止めることなく連続生産が可能となる。   The above is the overall configuration of the EL display panel assembly system, but most of the processing is performed in a nitrogen atmosphere in the manufacturing process of the EL display panel. In addition, by installing a gate valve between each processing chamber and the substrate transport unit, when performing maintenance of the device individually, the necessary sections are divided by the gate valve and the work is performed in an air atmosphere. It is possible to shorten the time for replacing the atmosphere with the nitrogen atmosphere. By the way, the time to replace the atmosphere with nitrogen atmosphere (both oxygen concentration and moisture concentration is 1 ppm or less) may take about one week depending on the processing chamber. By installing two or more processing chambers having the same function, There is no need to stop production while the gate valve is closed to maintain one processing chamber. In particular, the first to fourth processing chambers need to be refilled and replaced with the sealant and fill agent, and continuous production is possible without stopping production even during this replacement.

ところで、各処理室を前述のようにゲートバルブを介して連結しているが、処理室内の処理装置によっては大きな振動を発生するものもあり、逆にそのような振動を嫌い高精度な位置決めをしながら作業する必要な処理装置もある。このため処理室間の振動をいかに伝達しないようにするかが問題である。特に貼り合せ装置は振動により位置ズレを発生すると、不良となり、それまでの工程での作業が全て無駄になる。そのため、各装置の振動発生を極力抑制すると共に、処理室間も振動絶縁して各処理室内の装置が発生した振動を他の処理室内の装置に伝達しないようにする必要がある。   By the way, each processing chamber is connected through the gate valve as described above. However, some processing devices in the processing chamber may generate large vibrations. Some processing devices need to work while. For this reason, it is a problem how to prevent the vibration between the processing chambers from being transmitted. In particular, when a positional shift occurs due to vibration in the laminating apparatus, the bonding apparatus becomes defective and all the operations in the previous steps are wasted. Therefore, it is necessary to suppress the generation of vibrations in each apparatus as much as possible, and to insulate vibrations between the processing chambers so that the vibrations generated by the apparatuses in each processing chamber are not transmitted to the apparatuses in other processing chambers.

図2に振動絶縁構造の一例を示す。本図は、図1の第1の処理室7と第1の基板搬送部4との間の接続構造を示したものであるが、他の処理室と基板搬送部間も同様の構成にしてある。図に示すように、第1の処理室7と第1の基板搬送部4の間にはゲートバルブ21が設けられている。ゲートバルブ21はゲートバルブ本体46とバルブ駆動装置47とゲートバルブ弁部45とから構成されている。ゲート駆動装置は圧縮空気を用いる空圧シリンダ方式又は電気モータ方式等が用いられる。第1の処理室7にシール部材43を介してボルト44によってゲートバルブ本体46が取り付けられている。ゲートバルブ弁部45にもシール部材43が設けてあり、ゲートバルブ弁部で第1の処理室を閉じたときに気密が保持されるようにしてある。ゲートバルブ本体46の外壁側にはフランジ42が設けられ、そのフランジ42に平板状の弾性体(ゴムシート)40の一端側がゴムシート押え枠41を介してボルト44締めにより保持されている。また、ゴムシート40の他端側は第1の基板搬送部4の外壁に、ゴムシート押え枠41を介してボルト締めにより保持されている。すなわち、平板状のゴムシート40の一端側をゲートバルブ21側で保持し、他端側を第1の基板搬送部4側で保持するようにして中間部のゴムシートが振動絶縁すると共に、外気との気密性を保持できる構成としたものである。なお、ゲートバルブ本体46とフランジ42間にもシール部材43が設けてある。このように構成することで、ゲートバルブの開閉には関係なく、ゴムシートの弾性で処理室間の振動を抑制すると共に、室間のシールを確実に行なえるようにしたものである。また、シール部材として兼用するために空気の浸透性を考慮すると、ゴムとしてはブチルゴムを使用する方が良い。なお、ゴムシートの厚さは、ゴムシート押え枠によるシール性を確実とするために2から5mmとすることが良い。処理室の壁とゲートバルブの取り付け部間や、ゲートバルブ支持壁とゲートバルブとの間、ゲートバルブ外壁部とゴム押さえ金具間にはシール部材43を設けて密閉度を維持している。このように、平板状のゴムシートを用いることで、処理室と基板搬送室間の間隔あるいは基板搬送室と基板搬送室の間隔を最小限することができ、装置の設置面積が少なくて済むと共に、基板搬送室内に設置されるロボットハンドの可動長さも短くできるという利点が有る。   FIG. 2 shows an example of a vibration isolation structure. This figure shows the connection structure between the first processing chamber 7 and the first substrate transfer section 4 in FIG. 1, but the same configuration is used between the other processing chambers and the substrate transfer section. is there. As shown in the figure, a gate valve 21 is provided between the first processing chamber 7 and the first substrate transfer unit 4. The gate valve 21 includes a gate valve main body 46, a valve driving device 47, and a gate valve valve portion 45. As the gate driving device, a pneumatic cylinder method using compressed air or an electric motor method is used. A gate valve body 46 is attached to the first processing chamber 7 with a bolt 44 through a seal member 43. The gate valve valve portion 45 is also provided with a seal member 43 so that airtightness is maintained when the first processing chamber is closed by the gate valve valve portion. A flange 42 is provided on the outer wall side of the gate valve main body 46, and one end of a flat elastic body (rubber sheet) 40 is held on the flange 42 via a rubber sheet pressing frame 41 by tightening bolts 44. The other end side of the rubber sheet 40 is held on the outer wall of the first substrate transport unit 4 by bolting via a rubber sheet pressing frame 41. That is, the rubber sheet in the middle part is vibration-insulated so that one end side of the flat rubber sheet 40 is held on the gate valve 21 side and the other end side is held on the first substrate transport unit 4 side, and the outside air The airtightness can be maintained. A seal member 43 is also provided between the gate valve main body 46 and the flange 42. With this configuration, the vibration between the processing chambers is suppressed by the elasticity of the rubber sheet and the sealing between the chambers can be reliably performed regardless of whether the gate valve is opened or closed. In consideration of the air permeability in order to also serve as a sealing member, it is better to use butyl rubber as the rubber. The thickness of the rubber sheet is preferably 2 to 5 mm in order to ensure the sealing performance by the rubber sheet holding frame. Sealing members 43 are provided between the processing chamber wall and the gate valve mounting portion, between the gate valve support wall and the gate valve, and between the gate valve outer wall portion and the rubber pressing metal to maintain the sealing degree. Thus, by using a flat rubber sheet, the interval between the processing chamber and the substrate transfer chamber or the interval between the substrate transfer chamber and the substrate transfer chamber can be minimized, and the installation area of the apparatus can be reduced. There is an advantage that the movable length of the robot hand installed in the substrate transfer chamber can be shortened.

又上記説明で、第1の基板搬送部4、第2の基板搬送部8、第3の基板搬送部14は同一構成、同一の大きさで形成することが可能であり、装置の拡張性も増加し、フレキシブルにレイアウト変更が容易となる。   In the above description, the first substrate transfer unit 4, the second substrate transfer unit 8, and the third substrate transfer unit 14 can be formed with the same configuration and the same size, and the expandability of the apparatus is also improved. The layout can be changed easily and flexibly.

一例として図3にELパネル組立てシステムの他の構成を示す。図3で図1と同じ機能の処理室は同じ番号を付した。   As an example, FIG. 3 shows another configuration of the EL panel assembly system. In FIG. 3, the processing chambers having the same functions as those in FIG.

図3の構成で図1の構成と異なる点は、上基板の搬入部2を第2の基板搬送部8に設けた第3の処理室13に対向する位置に設け、第4の処理室34を省略した点と、UV光を照射する第7の処理室20を第3の基板搬送路14に相当する第5の基板搬送路36に第5の処理室に対向するように設けた点である。すなわち、第2の基板搬送部8に有機ELを塗布したEL素子基板(上基板)11を搬入する上基板搬入部2がゲートバルブ6介して接続されている。また第5の基板搬送部36にも第3の位置決め機構37と搬送ロボット15が設置されている。第5の位置決め機構37は、基板の位置決めを行なう機構と位置決めされた基板を表裏反転する機構の2つの機構が設けてある。上基板搬入部2は上基板11がフェースアップ(貼り合せ面を上向きに)して搬入されるものとし、上基板搬入部2から搬入された上基板11が第2の基板搬送部8より第5の基板搬送部36へ搬送される。搬送された上基板11は、第3の位置決め機構37にて位置決め表裏反転(フェースダウン)後、搬送ロボット15により搬送され、第5の処理室16である貼り合せ室に搬入される。また、第5の基板搬送部36には、第7の処理室20がゲートバルブ38を介して接続されている。第7の処理室20は窒素雰囲気で貼り合せた基板のシール剤部分にUV光を照射してシール剤を硬化させる。先の実施例では大気中でUV光を照射する構成で説明しているが本実施例では窒素雰囲気中でシール剤を硬化させるようにした。これにより、塵埃等の影響をなくし、確実に硬化させることが可能となる。   The configuration of FIG. 3 is different from the configuration of FIG. 1 in that the upper substrate carry-in section 2 is provided at a position facing the third processing chamber 13 provided in the second substrate transfer section 8, and the fourth processing chamber 34. And the seventh processing chamber 20 for irradiating UV light is provided in a fifth substrate transport path 36 corresponding to the third substrate transport path 14 so as to face the fifth processing chamber. is there. That is, the upper substrate carry-in portion 2 for carrying the EL element substrate (upper substrate) 11 coated with organic EL to the second substrate carrying portion 8 is connected via the gate valve 6. A third positioning mechanism 37 and a transfer robot 15 are also installed in the fifth substrate transfer unit 36. The fifth positioning mechanism 37 is provided with two mechanisms: a mechanism for positioning the substrate and a mechanism for reversing the positioned substrate. The upper substrate carry-in section 2 is carried in with the upper substrate 11 face-up (the bonding surface faces up), and the upper substrate 11 carried in from the upper substrate carry-in section 2 is higher than that in the second substrate carry section 8. 5 is conveyed to the substrate conveying unit 36 of the fifth substrate. The transported upper substrate 11 is turned upside down (face down) by the third positioning mechanism 37, transported by the transport robot 15, and transported into the bonding chamber which is the fifth processing chamber 16. Further, the seventh processing chamber 20 is connected to the fifth substrate transport unit 36 via a gate valve 38. The seventh treatment chamber 20 cures the sealant by irradiating the sealant portion of the substrate bonded in a nitrogen atmosphere with UV light. In the previous embodiment, the structure in which the UV light is irradiated in the atmosphere is described. However, in this embodiment, the sealant is cured in a nitrogen atmosphere. As a result, the influence of dust and the like can be eliminated and the resin can be reliably cured.

ELパネル組立てシステムの一例の全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of an example of an EL panel assembly system. 第1の処理室と第1の搬送室との間の接続構造を示す図である。It is a figure which shows the connection structure between a 1st process chamber and a 1st conveyance chamber. ELパネル組立てシステムの他の構成例を示す図である。It is a figure which shows the other structural example of an EL panel assembly system.

符号の説明Explanation of symbols

1…前処理室、3…位置決め搬送ロボット、4…第1の基板搬送部、5…ゲートバルブ、7…第1の処理室、8…第2の基板搬送部、12…第2の処理室、13…第3の処理室、14…第3の基板搬送部、21…ゲートバルブ、40…ゴムシート、41…ゴムシート押え枠、42…フランジ、43…シール部材、44…ボルト。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Pre-processing chamber, 3 ... Positioning conveyance robot, 4 ... 1st board | substrate conveyance part, 5 ... Gate valve, 7 ... 1st processing chamber, 8 ... 2nd board | substrate conveyance part, 12 ... 2nd processing chamber , 13 ... third processing chamber, 14 ... third substrate transfer unit, 21 ... gate valve, 40 ... rubber sheet, 41 ... rubber sheet retaining frame, 42 ... flange, 43 ... seal member, 44 ... bolt.

Claims (6)

前処理工程で別々に処理された2枚の基板を貼り合せてEL表示パネルを形成するELパネル組立てシステムにおいて、
パネルを組み立てるための基板に接着剤を塗布ための塗布装置やフィル剤を滴下する滴下装置、および基板の貼り合せを行なう貼り合せ装置の処理部を収納した複数の処理室と、前記処理室に基板を版出入するための搬送ロボットを収納した複数の基板搬送部とから構成され、各処理室と各基板搬送部との間の接続部にゲートバルブと、ゴムシートを用いて接続することで、処理室内で装置が処理動作時に発生した振動が他の処理室に伝達しないように構成したことを特徴とするELパネル組立てシステム。
In an EL panel assembly system in which an EL display panel is formed by bonding two substrates processed separately in a pretreatment process,
A plurality of processing chambers containing a coating device for applying an adhesive to a substrate for assembling a panel, a dropping device for dropping a fill agent, and a processing unit of a bonding device for bonding substrates, and the processing chamber It consists of a plurality of substrate transfer units that contain transfer robots for loading and unloading the substrate, and by connecting the gate valve and rubber sheet to the connection part between each processing chamber and each substrate transfer unit An EL panel assembling system configured to prevent vibration generated during the processing operation of the apparatus in the processing chamber from being transmitted to another processing chamber.
請求項1に記載のELパネル組立てシステムにおいて、
前記各基板搬送部を略同じ構成、同じ大きさに形成し、処理室を接続できる構成とすることでシステムを簡単に拡張できるようにしたことを特徴とするELパネル組立てシステム。
The EL panel assembly system according to claim 1,
An EL panel assembling system characterized in that each substrate transport section is formed to have substantially the same configuration and the same size and can be connected to a processing chamber so that the system can be easily expanded.
請求項1に記載のELパネル組立てシステムにおいて、
各処理室と各基板搬送部とは窒素雰囲気にしてゲートバルブを開放状態とすることを特徴とするELパネル組立てシステム。
The EL panel assembly system according to claim 1,
An EL panel assembling system characterized in that each processing chamber and each substrate transfer section are placed in a nitrogen atmosphere and the gate valve is opened.
請求項1に記載のELパネル組立てシステムにおいて、
前記ゴムシートに厚さ2〜5mmの板状のブチルゴムを使用したことを特徴とするELパネル組立てシステム。
The EL panel assembly system according to claim 1,
2. An EL panel assembling system, wherein a plate-like butyl rubber having a thickness of 2 to 5 mm is used for the rubber sheet.
請求項1に記載のELパネル組立てシステムにおいて、
同じ機能を持った処理室を2台以上ずつ設置し連続生産ができる構成としたことを特徴とするELパネル組立てシステム。
The EL panel assembly system according to claim 1,
An EL panel assembling system characterized in that two or more processing chambers having the same function are installed to enable continuous production.
請求項1に記載のELパネル組立てシステムにおいて、
各処理室と各基板搬送部とは窒素雰囲気にしてゲートバルブを設置し必要な区間を大気雰囲気とすることを特徴とするELパネル組立てシステム。
The EL panel assembly system according to claim 1,
An EL panel assembling system characterized in that each processing chamber and each substrate transfer unit is set to a nitrogen atmosphere, a gate valve is installed, and a necessary section is set to an air atmosphere.
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