JP2009211062A

JP2009211062A - ディスプレイパネル

Info

Publication number: JP2009211062A
Application number: JP2009024894A
Authority: JP
Inventors: Cha-Won Hwang; 且源黄; Sang-Mi Lee; 相美李; Do-Hyuk Kwon; 度赫灌; Seung-Goo Baek; 承九白
Original assignee: Samsung SDI Co Ltd
Current assignee: Samsung SDI Co Ltd
Priority date: 2008-03-03
Filing date: 2009-02-05
Publication date: 2009-09-17
Also published as: CN101527243A; KR20090094582A; US20090220798A1; EP2099053A1

Abstract

【課題】ディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】複数の基板を有し、当該基板上に形成された蛍光体層の発光によって画像を具現するパネル組立体２１０と、パネル組立体に結合され、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最小透過率を有するフィルタ組立体２２０と、を備えるディスプレイパネル２００である。したがって、緑色波長帯の領域を含む波長帯で最小透過率を表すことによって、不要な光を吸収して色再現力を向上させうる。
【選択図】図２

Description

本発明は、ディスプレイパネルに係り、さらに詳細には、特定波長帯の発光スペクトルを吸収するように構造が改善されたディスプレイパネルに関する。

通常、平面ディスプレイパネルは、発光型と受光型とに大別される。発光型には、平面陰極線管と、プラズマディスプレイパネル（ＰｌａｓｍａＤｉｓｐｌａｙＰａｎｅｌ：ＰＤＰ）と、電界発光ディスプレイパネルと、発光ダイオード（ＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇＤｉｏｄｅ：ＬＥＤ）ディスプレイパネルと、がある。受光型には、液晶ディスプレイ（ＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌＤｉｓｐｌａｙ）パネルが挙げられる。
このうち、ＰＤＰは、複数の放電電極が配置されたパネル組立体内に放電ガスを注入して密閉した後、複数の放電電極に放電電圧を印加し、印加された放電電圧によって放電空間内の蛍光体層が発光して、所望の数字、文字、グラフィックなどの表示を具現するディスプレイパネルである。

図１を参照すれば、従来のＰＤＰ１００は、パネル組立体１０１と、前記パネル組立体１０１の前方に支持部材１０２によって結合されたフィルタ組立体１０３と、前記パネル組立体１０１の後方に設置され、回路素子１０５が実装された駆動回路部１０４と、前記パネル組立体１０１、フィルタ組立体１０３、及び駆動回路部１０４を収容するケース１０６と、を備える。ここで、前記フィルタ組立体１０３は、導電性ライン１０７を通じてケース１０６の内部のシャーシ部分に接地されている。

従来のＰＤＰ１００は、パネル組立体１０１や駆動回路部１０４の回路素子１０５から電磁波、赤外線、約５９０〜６００ｎｍの波長帯でのネオン発光などが起こる。

従来のフィルタ組立体１０３で最も多く遮断される波長帯は、５９０〜６００ｎｍの範囲のネオン発光領域である。ところが、新たな発光スペクトルを有する蛍光体層が開発されつつあり、ネオン領域帯だけでなく、他の領域帯での色純度を低める波長帯が発生することが分かった。

しかし、不要な領域帯の発光スペクトルを有する蛍光体層は、色純度外の他の部分、例えば、輝度飽和、残像を改善できるため、色々と短所があるにもかかわらず、使用せざるをえないという問題点がある。

特開２００５−１９７２４０号公報

本発明は、上記の問題点を解決するためのものであって、低下した色純度をフィルタ組立体により高めるために、構造が改善されたディスプレイパネルを提供することを目的とする。

前記目的を達成するために、本発明の一側面によるディスプレイパネルは、複数の基板を有し、当該基板上に形成された蛍光体層の発光によって画像を具現するパネル組立体と、前記パネル組立体に結合され、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最小透過率を有するフィルタ組立体と、を備える。

また、前記フィルタ組立体は、ベースフィルムと、前記ベースフィルムの一面に形成された接着剤層と、前記接着剤層に混合され、前記５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を有する吸収色素と、を備える。

しかも、前記フィルタ組立体は、ベースフィルムと、前記ベースフィルムの一面にコーティングされ、前記５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を有する吸収色素層と、を備える。

さらに、前記吸収色素は、シアニン誘導体色素がアクリル誘導体バインダーに混合されて形成されることを特徴とする。

さらに、前記吸収色素は、スクアリリウム誘導体色素がアクリル誘導体バインダーに混合されて形成されることを特徴とする。

併せて、前記フィルタ組立体は、パネル組立体の前面に取り付けられることを特徴とする。

また、前記フィルタ組立体は、ベースガラスと、前記ベースガラスの一面に形成された接着剤層と、前記接着剤層に混合され、前記５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を有する吸収色素と、を備える。

しかも、前記フィルタ組立体は、ベースガラスと、前記ベースガラス上にコーティングされ、前記５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を有する吸収色素層と、を備える。

併せて、前記フィルタ組立体は、前記パネル組立体に対して所定間隔離隔されて配置されている。

さらに、前記フィルタ組立体は、４９０ｎｍないし５００ｎｍの波長帯と、５９０ｎｍないし６００ｎｍの波長帯とでそれぞれ最小透過率をさらに有することを特徴とする。

また、前記蛍光体層は、Ｙ（Ｐ，Ｖ）Ｏ_４：Ｅｕを含む赤色蛍光体層と、ＹＡｌ_３（ＢＯ_３）Ｔｂを含む緑色蛍光体層と、ＢａＭｇＡｌ_１０Ｏ_１７：Ｅｕを含む青色蛍光体層と、を有することを特徴とする。

本発明のディスプレイパネルによれば、次のような効果が得られる。

第一に、緑色波長帯の領域を含む波長帯で最小透過率を有することによって、不要な光を吸収して色再現力を向上させうる。

第二に、青色波長帯の領域やネオン波長帯の領域を含む波長帯で最小透過率を有することにより色純度を高めうる。

第三に、接着剤層内に吸収色素を混合するか、または接着剤層の表面に吸収色素層をコーティングすることによって、不要な波長帯の発光スペクトルを低下させて、製造工程が非常に単純化される。

従来のＰＤＰを示す構成図である。本発明の一実施形態によるＰＤＰを示す分離斜視図である。図２のＰＤＰを示す断面図である。本発明の第１実施形態によるフィルタ組立体を拡大して示す断面図である。本発明の一実施形態による蛍光体層の発光スペクトルを示すグラフである。本発明の一実施形態によるフィルタ組立体の発光スペクトルを示すグラフである。本発明の他の実施形態によるフィルタ組立体の発光スペクトルを示すグラフである。本発明の第２実施形態によるフィルタ組立体を拡大して示す断面図である。本発明の第３実施形態によるフィルタ組立体を拡大して示す断面図である。本発明の第４実施形態によるフィルタ組立体を拡大して示す断面図である。本発明の第５実施形態によるフィルタ組立体を拡大して示す断面図である。本発明の第６実施形態によるフィルタ組立体を拡大して示す断面図である。図４のフィルタ組立体の変形例を拡大して示す断面図である。図８のフィルタ組立体の第１変形例を拡大して示す断面図である。図８のフィルタ組立体の第２変形例を拡大して示す断面図である。図１１のフィルタ組立体の第１変形例を拡大して示す断面図である。図１１のフィルタ組立体の第２変形例を拡大して示す断面図である。図１１のフィルタ組立体の第３変形例を拡大して示す断面図である。

以下、本発明の望ましい実施形態を、添付された図面を参照しつつ詳細に説明する。

図２は、本発明の一実施形態によるディスプレイパネルのうち、ＰＤＰ２００を分離して示す図面である。

図面を参照すれば、前記ＰＤＰ２００は、パネル組立体２１０と、前記パネル組立体２１０の前面に取り付けられたフィルタ組立体２２０と、前記パネル組立体２１０の後方に設置されたシャーシベース組立体２３０と、前記シャーシベース組立体２３０の後方に設置された駆動回路部２４０（図３）と、前記パネル組立体２１０、フィルタ組立体２２０、シャーシベース組立体２３０、及び駆動回路部２４０を全て収容するケース２５０と、を備える。

図３には、図２のＰＤＰ２００の結合された状態が切り出されて示されている。

図面を参照すれば、前記パネル組立体２１０は、第１基板２１１と、前記第１基板２１１と対向するように配置されて結合された第２基板２１２とを備えており、前記第１基板２１１及び第２基板２１２の対向する内面のエッジは、フリットガラスのようなシーリング部材が塗布されて、これらの放電空間を外部から密閉させている。

前記パネル組立体２１０が面放電型パネルである場合、第１基板２１１と第２基板２１２との間には、放電電極が誘電体層によって埋め込まれており、隔壁によって放電セルを区画し、放電セル内には、赤色、緑色、青色の蛍光体が塗布され、Ｈｅ−ＸｅやＮｅ−Ｘｅのような放電ガスが注入されている。すなわち、蛍光体層は、第１基板２１１および第２基板２１２上に形成されている。なお、ここで「基板上」には、基板に接して形成される場合のみならず、他の層を介して形成される場合も含まれる。

前記フィルタ組立体２２０は、可視光が透過される基板である第１基板２１１の前面に直接的に取り付けられている。前記フィルタ組立体２２０は、前記パネル組立体２１０から発生する電磁波、赤外線、ネオン発光、外光の反射などを遮断するために、複数枚のフィルムが積層されて構成されている。

前記シャーシベース組立体２３０に備えられたシャーシベース２３１は、接着部材２６０によって第２基板２１２の背面に取り付けられている。前記接着部材２６０は、第２基板２１２の背面中央に取り付けられ、駆動中にパネル組立体２１０から発生する熱をシャーシベース２３１に伝達する熱伝導媒体の役割を担う熱伝導シート２６１と、前記第２基板２１２の背面のエッジに沿って取り付けられ、前記パネル組立体２１０に対してシャーシベース２３１を固定させる両面テープ２６２と、を備える。

前記駆動回路部２４０は、パネル組立体２１０が設置された方向と反対であるシャーシベース２３１の背面に設置されている。前記駆動回路部２４０には、複数の回路素子２４１が実装されている。前記回路素子２４１が回路化された駆動回路部２４０には、フレキシブルプリンティッドケーブルのような信号伝達部２３２の一端が連結されており、前記信号伝達部２３２の他端は、パネル組立体２１０の各放電電極対の端子と接続されてパネル組立体２１０と回路素子２４１との電気的信号を相互伝達している。

前記信号伝達部２３２は、駆動ＩＣ２３３と、前記駆動ＩＣ２３３と電気的に連結された複数のリード２３４と、前記リード２３４を埋め込む柔軟性を有するフィルム２３５と、を備えている。

前記シャーシベース２３１の上下端の背面には、この強度を補強するためにシャーシ補強部材２３６が取り付けられており、前記シャーシベース２３１の端部の後方には、信号伝達部２３２の破損を防止するためにカバープレート２３７が設置されている。

前記信号伝達部２３２は、前記シャーシベース２３１の端部の後方とカバープレート２３７との間に配置されている。前記駆動ＩＣ２３３とシャーシ補強部材２３６との間には、サーマルグリース２７１が介在されており、前記駆動ＩＣ２３３とカバープレート２３７との間には、シリコンシート２７２が介在されている。

前記ケース２５０は、前記フィルタ組立体２２０の前方に設置されたフロントキャビネット２５１と、前記駆動回路部２４０の後方に設置されたカバーバック２５２とで形成されている。前記カバーバック２５２の上下端には、複数の通孔２５３が形成されている。
ここで、前記フィルタ組立体２２０には、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最小透過率を有するフィルムを備えている。

さらに詳細に説明すれば、次の通りである。以下、前記の図面と同じ参照番号は、同じ機能を有する同じ部材を表す。

図４は、本発明の第１実施形態によるフィルタ組立体４００を示す図面である。

図面を参照すれば、前記フィルタ組立体４００には、第１ベースフィルム４０１が設けられている。前記第１ベースフィルム４０１は、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリアクリレート（ＰＡＣ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、セルローストリアセテート（ＣＴ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）からなる群から選択される何れか一つの高分子樹脂で形成されている。

前記第１ベースフィルム４０１の一面と第１基板２１１との間には、第１接着剤層４０２が介在されている。前記第１接着剤層４０２は、ＰＳＡ接着剤層のようなポリマー系接着剤や、ゴム材のように接着性の良好な素材ならば、一つの素材に限定されるものではない。前記フィルタ組立体４００は、前記第１接着剤層４０２によって前記第１基板２１１の前面に対して直接的に面接触して取り付けられている。

前記第１ベースフィルム４０１の他面には、電磁波遮蔽フィルタ４０３が取り付けられている。前記電磁波遮蔽フィルタ４０３は、パネル駆動中に発生する電磁波を遮蔽するために取り付けられている。このために、前記電磁波遮蔽フィルタ４０３は、微細な金属性メッシュでパターン化されている。前記電磁波遮蔽フィルタ４０３は、銅、銀、アルミニウム、白金、鉄、あるいはこれらの合金のような導電性に優れた素材で形成されうる。代案としては、導電性を有するセラミック材や炭素ナノチューブを使用しうる。

前記電磁波遮蔽フィルタ４０３は、金属性メッシュの形状をパターン化させるために多様な製造方式で製造されるが、メッキやエッチングによる方式が製造工程上簡単であり、パターンの定形化に有利である。

前記電磁波遮蔽フィルタ４０３は、金属性メッシュを利用する方法以外にも、ＩＴＯ膜のような透明導電膜と、その上部に銅のような導電性に優れた金属層を酸化させて積層させうるなど、多様な実施形態が可能である。

前記電磁波遮蔽フィルタ４０３は、一領域を通じて接地ライン２８０（図３）が接続され、前記接地ライン２８０は、シャーシベース２３１やフロントケース２５１（図３）の導電部材に接地されている。

前記電磁波遮蔽フィルタ４０３の上部には、これをカバーするために第２接着剤層４０４が形成されている。前記第２接着剤層４０４は、第１接着剤層４０２のように、ＰＳＡ接着剤層のようなポリマー系接着剤や、ゴム材のように接着性の良好な素材で形成されうる。

ここで、前記第２接着剤層４０４内には、吸収色素４０５が混合されている。前記吸収色素４０５は、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を含みうる。

前記吸収色素４０５が形成される理由は、次の通りである。

前記パネル組立体２１０内には、放電時に放電電極に印加される放電電圧によって放電セル中のＸｅガスのような放電ガスが励起され、放電ガスの励起によって発生した紫外線が吸収されて可視光を生成する蛍光体層が形成されている。

例えば、蛍光体層は、フォトルミネッセンス（ＰｈｏｔｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：ＰＬ）メカニズムによる蛍光体層が挙げられる。前記蛍光体層の素材としては、Ｘｅガスから発生する１４７ｎｍ帯の真空紫外線によって励起されるように、１４７ｎｍ帯で発光効率の良好な素材を使用する。

前記蛍光体層は、パネル２００がカラー画像を具現できるように、赤色蛍光体層と、緑色蛍光体層と、青色蛍光体層とが各放電セル別に形成され、それぞれがサブピクセルをなしている。

ここで、赤色蛍光体層はＹ（Ｐ，Ｖ）Ｏ_４：Ｅｕを含み、緑色蛍光体層はＹＡｌ_３（ＢＯ_３）Ｔｂを含み、青色蛍光体層はＢａＭｇＡｌ_１０Ｏ_１７：Ｅｕを含むことが望ましい。代案としては、青色蛍光体層は、ＣａＭｇＳｉ_２Ｏ_６：Ｅｕや、ＢａＭｇＡｌ_１０Ｏ_１７：ＥｕとＣａＭｇＳｉ_２Ｏ_６：Ｅｕとの混合物を使用できるなどが考えられ、何れか一つに限定されるものではない。

また、前記蛍光体層は、放電時に放電空間の内部でイオン化反応によって発生した電子が、ガス励起などに使用して残ったエネルギーとして放電空間内で衝突するとき、電子の有するエネルギーが熱に変わって損失され、また、温度が上昇することを防止するために、放電空間内に電子の運動エネルギーを可視光に変える他の蛍光体層をさらに備えうる。

他の蛍光体層としては、陰極線（ＣａｔｈｏｄｅＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：ＣＬ）蛍光体層や、量子ドット（ＱｕａｎｔｕｍＤｏｔ：ＱＤ）蛍光体層を使用しうる。陰極線蛍光体層としては、硫化物系蛍光体を使用でき、ＱＤ蛍光体層は、原子間の干渉がないため、外部からエネルギーを受ければ、原子エネルギーレベルで浮き上がった原子が安定化しつつ発光する。したがって、低い電圧でも励起が可能であるため、効率を向上させ、印刷工程が可能で大型化にも有利であるといえる。

前記のようなＹ（Ｐ，Ｖ）Ｏ_４：Ｅｕを含む赤色蛍光体層と、ＹＡｌ_３（ＢＯ_３）Ｔｂを含む緑色蛍光体層と、ＢａＭｇＡｌ_１０Ｏ_１７：Ｅｕを含む青色蛍光体層と、を有する蛍光体層は、特定波長帯、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯、特に、５５０ｎｍないし５６０ｎｍの波長帯に相当する緑色領域で、緑色の色純度を落として色再現力を低下させる。

このような現象を防止するために、前記第２接着剤層４０４内には、吸収色素４０５が混合されている。前記吸収色素４０５は、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を含む。

前記吸収色素４０５としては、シアニン誘導体色素がアクリル誘導体バインダーと混合して生成されるか、またはスクアリリウム誘導体色素がアクリル誘導体バインダーと混合して生成されることが望ましい。

前記吸収色素４０５を含むフィルタ組立体４００は、緑色領域の発光スペクトルを含んで、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最小透過率を有する。

また、前記吸収色素４０５は、４９０ｎｍないし５００ｎｍの波長帯に相当する青色領域と、５９０ｎｍないし６００ｎｍの波長帯に相当するネオン領域とでそれぞれ発光スペクトルを吸収できるように、前記領域の波長帯でそれぞれ最大吸収率を有する。

前記吸収色素４０５が混合された第２接着剤層４０４の表面には、第２ベースフィルム４０６の一面が取り付けられている。前記第２ベースフィルム４０６は、第１ベースフィルム４０１と同様に、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリアクリレート（ＰＡＣ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、セルローストリアセテート（ＣＴ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）からなる群から選択される何れか一つで形成された高分子樹脂からなっている。

前記第２ベースフィルム４０６の他面には、反射防止層４０７が形成されている。

前記反射防止層４０７は、外光の反射による視認性の低下を防止するためのＡＲ（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）膜層４０８と、ＡＧ（Ａｎｔｉ−Ｇｌａｒｅ）膜層４０９とが積層されているが、これらのうち何れか一層のみが形成されるか、またはそれ以外にハードコーティング層が形成されるなど、これらのうちの何れか一つに限定されるものではない。

前記反射防止層４０７の厚さは、２ないし７μｍであり、ヘーズ値が１ないし７％であることが望ましい。前記ＡＲ膜層４０８を採用する場合、低屈折層及び高屈折層の形成によって、光の位相差で光を相殺減少させる。前記ＡＧ膜層４０９を採用する場合、表面に直径が１ｎｍないし１ｍｍの突起部、望ましくは０．５ないし２０μｍの突起部が形成されて光を散乱させうる。

前記反射防止層４０７の表面には、フィルタ組立体４００の破損を防止するために保護用第３ベースフィルム４１０が形成されている。

代案としては、図１３に示されたように、前記吸収色素４０５は、前記第１接着剤層４０２内に混合されるか、または前記第１接着剤層４０２及び第２接着剤層４０４内に前記吸収色素４０５が混合されるなどが考えられ、何れか一つに限定されるものではない。

一方、前記フィルタ組立体４００には、近赤外線遮蔽層や、透過率調節層が混用されて追加的に形成されうる。近赤外線遮蔽層は、画面発光時に使われる不活性ガスのプラズマによる近赤外線の不要な発光を遮蔽するためのものである。また、透過率調節層は、透過する光の量を調節するためのものである。それ以外にも、前記フィルタ組立体４００には、接着剤層に前記機能を追加するか、または多様な機能を有するフィルムを追加的にさらに設置することができる。

また、前記フィルタ組立体４００は、パネル組立体２１０（図３）の内部から放電によって発生した紫外線によって蛍光体層が励起されて第１基板２１１を通じて透過される可視光に対する透光率が２０ないし９０％を維持しており、ヘーズ値は、１ないし１５％であることが光の特性上望ましい。前記ヘーズ値が１５％以上となれば、ディスプレイ装置から発光する光が薄ぼんやりと見える。

図５は、本発明の一実施形態による蛍光体層のスペクトルを示す図面である。
ここで、前記蛍光体層は、Ｙ（Ｐ、Ｖ）Ｏ_４：Ｅｕを含む赤色蛍光体層と、ＹＡｌ_３（ＢＯ_３）Ｔｂを含む緑色蛍光体層と、ＢａＭｇＡｌ_１０Ｏ_１７：Ｅｕを含む青色蛍光体層とを有している。

図面を参照すれば、前記蛍光体層は、５５０ｎｍないし５６０ｎｍの波長帯に相当する緑色波長帯の領域（Ａ）でピークが形成されて８０％以上の高い透過率を有している。上記のような透過率は、緑色波長帯の領域で色純度を落として色再現力を低下させる。

本発明の第１実施形態による吸収色素４０５を有するフィルタ組立体４００を適用する場合に、発光スペクトルは、図６に示した通りである。

図面を参照すれば、前記フィルタ組立体４００は、緑色波長帯の領域を含む５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯の領域（Ｂ）で０．０１％以上４０％以下の透過率を有している。これにより、前記フィルタ組立体４００は、緑色波長帯の領域で薄緑色や黄色の色相から緑色の色相に色座標が移動する。これにより、前記フィルタ組立体４００の色再現力は向上しうる。

一方、図７に示したように、前記フィルタ組立体４００は、緑色波長帯の領域を含む５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯の領域（Ｃ）で０．０１％以上４０％以下の透過率を有すると同時に、青色波長帯の領域を含む４９０ないし５００ｎｍの波長帯の領域（Ｄ）で０．０１％以上４０％以下の透過率を有し、ネオン波長帯の領域を含む５９０ないし６００ｎｍの波長帯の領域（Ｅ）で０．０１％以上４０％以下の透過率を有する。これにより、パネル組立体４００の色再現力を高めうる。

図８は、本発明の第２実施形態によるフィルタ組立体８００を示す図面である。

図面を参照すれば、前記フィルタ組立体８００は、第１ベースフィルム８０１と、第２ベースフィルム８０６とを備える。前記第１ベースフィルム８０１と第２ベースフィルム８０６とは、実質的に同じ素材として、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリアクリレート（ＰＡＣ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、セルローストリアセテート（ＣＴ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）からなる群から選択される何れか一つの高分子樹脂で形成されている。

前記第１ベースフィルム８０１の一面と第１基板２１１との間には、ポリマー系接着剤や、ゴム材のような接着性に優れた第１接着剤層８０２が介在され、前記第１基板２１１に対してフィルタ組立体８００を直接的に取り付けている。

前記第１ベースフィルム８０１の他面には、電磁波遮蔽フィルタ８０３が取り付けられている。前記電磁波遮蔽フィルタ８０３は、微細な金属性メッシュでパターン化されるか、または導電性に優れた金属層を酸化させて積層させて形成されうる。

前記電磁波遮蔽フィルタ８０３の上部には、これをカバーするために、ポリマー系接着剤や、ゴム材のような第２接着剤層８０４がコーティングされている。ここで、第２実施形態は、第１実施形態とは異なり、第２接着剤層８０４内に吸収色素が混合されず、前記第２接着剤層８０４の表面に吸収色素層８０５が形成されている。前記吸収色素層８０５は、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を含みうる。前記吸収色素層８０５は、シアニン誘導体色素がアクリル誘導体バインダーと混合して生成されるか、またはスクアリリウム誘導体色素がアクリル誘導体バインダーと混合して生成されることが望ましい。

また、前記吸収色素層８０５は、４９０ｎｍないし５００ｎｍの波長帯に相当する青色発光領域と、５９０ｎｍないし６００ｎｍの波長帯に相当するネオン発光領域とでそれぞれ最大吸収率を有する。

前記第２吸収色素層８０５の表面には、第２ベースフィルム８０６の一面が取り付けられている。前記第２ベースフィルム８０６の他面には、反射防止層８０７が形成されている。前記反射防止層８０７は、ＡＲ膜層８０８や、前記ＡＧ膜層８０９が積層されるか、またはこれらのうち少なくとも何れか一つの層で形成される。前記反射防止層８０７の表面には、保護膜層である第３ベースフィルム８１０が取り付けられている。

一方、前記吸収色素層８０５は、第２接着剤層８０５の表面以外に、図１４に示したように、第２ベースフィルム８０６と反射防止層８０７との間に介在されるか、図１５に示したように、第１ベースフィルム８０１と第１接着剤層８０２との間に介在される場合などが考えられ、何れか一つに限定されるものではない。

図９は、本発明の第３実施形態によるフィルタ組立体９００を示す図面である。

図面を参照すれば、前記フィルタ組立体９００には、ベースガラス９０１が設けられている。前記ベースガラス９０１は、第１及び第２実施形態の薄膜のベースフィルムとは異なり、厚膜型のガラスで形成されている。

前記ベースガラス９０１の一面、すなわち、第１基板２１１と対向するベースガラス９０１の表面には、電磁波遮蔽フィルタ９０３が取り付けられている。前記電磁波遮蔽フィルタ９０３は、微細な金属性メッシュをパターン化させるか、またはＩＴＯ膜のような透明導電膜及びその上部に銅のような導電性に優れた金属層を酸化させて積層させうる場合などが考えられ、何れか一つに限定されるものではない。

ここで、前記電磁波遮蔽フィルタ９０３は、前記第１基板２１１に対して離隔されて設置されている。これにより、前記フィルタ組立体９００と第１基板２１１との間には、間隔ｇが生じる。

前記ベースガラス９０１の他面には、接着剤層９０４がコーティングされている。前記接着剤層９０４は、ＰＳＡ接着剤層のようなポリマー系接着剤や、ゴム材のように接着性の良好な素材ならば、これらの素材に限定されない。

前記接着剤層９０４内には、吸収色素９０５が混合されている。前記吸収色素９０５は、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を含みうる。前記吸収色素９０５は、シアニン誘導体色素がアクリル誘導体バインダーと混合して生成されるか、またはスクアリリウム誘導体色素がアクリル誘導体バインダーと混合して生成されることが望ましい。

前記吸収色素９０５を含むフィルタ組立体９００は、緑色領域のスペクトルを含んで５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最小透過率を有する。

また、前記吸収色素９０５は、４９０ｎｍないし５００ｎｍの波長帯に相当する青色発光領域で発光スペクトルを吸収するか、５９０ｎｍないし６００ｎｍの波長帯に相当するネオン発光領域で発光スペクトルを吸収するか、４９０ｎｍないし５００ｎｍの波長帯に相当する青色発光領域と５９０ｎｍないし６００ｎｍの波長帯に相当するネオン発光領域とでそれぞれ発光スペクトルを吸収するように、前記領域の波長帯で最大吸収率をそれぞれ有する。

前記吸収色素９０５が混合された接着剤層９０４の表面には、第１ベースフィルム９０６の一面が取り付けられている。前記第１ベースフィルム９０６は、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリアクリレート（ＰＡＣ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、セルローストリアセテート（ＣＴ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）からなる群から選択された何れか一つで形成される高分子樹脂で形成されている。

前記第１ベースフィルム９０６の他面には、反射防止層９０７が形成されている。前記反射防止層９０７は、ＡＲ膜層９０８およびＡＧ膜層９０９が積層されるか、またはこれらのうちの何れか一つの層で形成されている。前記反射防止層９０７の表面には、保護膜層である第２ベースフィルム９１０が取り付けられている。

一方、前記フィルタ組立体９００には、近赤外線遮蔽層や、透過率調節層が混用されて形成されうる。それ以外にも、前記フィルタ組立体９００には、接着剤層にフィルタ機能を追加するか、または多様な機能を有するフィルムを追加的にさらに設置しうる。

図１０は、本発明の第４実施形態によるフィルタ組立体１０００を示す図面である。図面を参照すれば、前記フィルタ組立体１００には、ベースガラス１００１が設けられている。前記ベースガラス１００１の一面、すなわち、第１基板２１１と対向するベースガラス１１０１の表面には、電磁波遮蔽フィルタ１００２が取り付けられている。前記電磁波遮蔽フィルタ１００２は、前記第１基板２１１に対して離隔されて設置されており、フィルタ組立体１０００と第１基板２１１との間には、間隔ｇが生じている。

前記ベースガラス１００１の他面には、第１接着剤層１００４が形成されている。前記第１接着剤層１００４は、ポリマー系接着剤やゴム材のような素材からなっている。

前記第１接着剤層１００４内には、吸収色素１００５が混合されている。前記吸収色素１００５は、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を含みうる。

前記吸収色素１００５が混合された第１接着剤層１００４の表面には、第１ベースフィルム１００６の一面が取り付けられている。前記第１ベースフィルム１００６の他面には、反射防止層１００７が形成されている。前記反射防止層１００７の表面には、第３ベースフィルム１０１０が取り付けられている。

一方、前記電磁波遮蔽フィルタ１００２は、第３実施形態とは異なり、第２ベースフィルム１０１１が形成され、前記第２ベースフィルム１０１１の一面、すなわち、第１基板２１１と対向する表面に電磁波遮蔽層１０１０が形成されている。前記電磁波遮蔽層１０１０は、金属性メッシュ型パターンであるか、透明導電膜及び導電性に優れた金属層を酸化させて積層させうるなどが考えられ、何れか一つに限定されるものではない。

また、前記ベースガラス１００１と電磁波遮蔽フィルタ１００２との間には、第２接着剤層１０１２が介在されて前記ベースガラス１０１１に対して電磁波遮蔽フィルタ１００２が取り付けられている。

図１１は、本発明の第５実施形態によるフィルタ組立体１１００を示す図面である。
図面を参照すれば、前記フィルタ組立体１１００には、ベースガラス１１０１が設けられている。前記ベースガラス１１０１の一面、例えば、第１基板２１１と対向するベースガラス１１０１の表面には、電磁波遮蔽フィルタ１１１０が形成されている。前記電磁波遮蔽フィルタ１１１０は、第１基板２１１と離隔されて配置されて、その間に間隔ｇが生じている。

前記ベースガラス１１０１の他面には、接着剤層１１０４が形成されている。前記接着剤層１１０４は、ポリマー系接着剤やゴム材からなっている。ここで、第３及び第４実施形態とは異なり、本実施形態では、前記接着剤層１１０４の表面に吸収色素層１１０５が形成されている。

前記吸収色素層１１０５は、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を含んでいる。前記吸収色素１１０５は、シアニン誘導体色素がアクリル誘導体バインダーと混合して生成されるか、またはスクアリリウム誘導体色素がアクリル誘導体バインダーと混合して生成されることが望ましい。

また、前記吸収色素層１１０５は、４９０ｎｍないし５００ｎｍの波長帯に相当する青色発光領域で発光スペクトルを吸収するか、または５９０ｎｍないし６００ｎｍの波長帯に相当するネオン発光領域で発光スペクトルを吸収するように、前記波長の領域帯でそれぞれ最大吸収率を有する。

前記吸収色素層１１０５の表面には、第１ベースフィルム１１０６が取り付けられている。前記第１ベースフィルム１１０６の他面には、反射防止層１１０７が形成されている。前記反射防止層１１０７は、ＡＲ膜層１１０８とＡＧ膜層１１０９とが積層されて構成されている。前記反射防止層１１０７の表面には、保護膜層の役割を担う第２ベースフィルム１１１３が取り付けられている。

代案としては、前記吸収色素層１１０５は、図１６に示したように、ベースガラス１１０１と接着剤層１１０４との間に介在されるか、図１７に示したように、第１ベースフィルム１１０６と反射防止層１１０７との間に介在されるか、図１８に示したように、ベースガラス１１０１と電磁波遮蔽フィルタ１１１０との間に介在されるなどが考えられ、何れか一つに限定されるものではない。

図１２は、本発明の第６実施形態によるフィルタ組立体１２００を示す図面である。

図面を参照すれば、前記フィルタ組立体１２０１には、ベースガラス１２０１が設けられている。前記ベースガラス１２０１の一面、すなわち、第１基板２１１及びベースガラス１２０１上には、電磁波遮蔽フィルタ１２０２が形成されている。前記電磁波遮蔽フィルタ１２０２は、第１基板２１１と離隔して配置され、その間に間隔ｇが生じる。

前記ベースガラス１２０１の他面には、第１接着剤層１２０４が形成されている。前記第１接着剤層１２０４は、ポリマー系接着剤やゴム材からなっている。前記第１接着剤層１２０４の表面には、吸収色素層１２０５が形成されている。前記吸収色素層１２０５は、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を含んでいる。前記吸収色素層１２０５は、シアニン誘導体色素がアクリル誘導体バインダーと混合して生成されるか、またはスクアリリウム誘導体色素がアクリル誘導体バインダーと混合して生成されることが望ましい。

前記吸収色素層１２０５の表面には、第１ベースフィルム１２０６の一面が取り付けられている。前記第１ベースフィルム１２０６の他面には、反射防止層１２０７が形成されている。前記反射防止層１２０７は、ＡＲ膜層１２０８とＡＧ膜層１２０９とが積層されて構成されている。前記反射防止層１２０７の表面には、保護膜の第３ベースフィルム１２１３が取り付けられている。

一方、前記電磁波遮蔽フィルタ１２０２は、第５実施形態とは異なり、第２ベースフィルム１２１１が形成され、前記第２ベースフィルム１２１１の一面、例えば、前記第１基板２１１と対向する表面に電磁波遮蔽層１２１１が形成されている。ここで、前記ベースガラス１２０１と電磁波遮蔽フィルタ１２０２との間には、第２接着剤層１２１２が介在され、前記ベースガラス１２０１に対して電磁波遮蔽フィルタ１２０２が取り付けられている。

本発明は、図面に示された実施形態を参照して説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるということが分かるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されねばならない。

本発明は、ＰＤＰ関連の技術分野に適用可能である。

２００ＰＤＰ、
２１０パネル組立体、
２１１第１基板、
２１２第２基板、
２２０フィルタ組立体、
２３０シャーシベース組立体、
２３１シャーシベース、
２３２信号伝達部、
２３３駆動ＩＣ、
２３４リード、
２３５フィルム、
２３７カバープレート、
２４０駆動回路部、
２４１回路素子、
２５０ケース、
２５１フロントキャビネット、
２５２カバーバック、
２５３通孔、
２６０接着部材、
２６１熱伝導シート、
２６２両面テープ、
２７１サーマルグリース、
２７２シリコンシート、
２８０接地ライン。

Claims

複数の基板を有し、当該基板上に形成された蛍光体層の発光によって画像を具現するパネル組立体と、
前記パネル組立体に結合され、５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最小透過率を有するフィルタ組立体と、を備えるディスプレイパネル。
前記フィルタ組立体は、
ベースフィルムと、
前記ベースフィルムの一面に形成された接着剤層と、
前記接着剤層に混合され、前記５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を含む吸収色素と、を備えることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
前記ベースフィルムは、第１ベースフィルム及び第２ベースフィルムを備え、
前記接着剤層は、第１接着剤層及び第２接着剤層を備え、
前記第１ベースフィルムの一面と前記パネル組立体との間には、第１接着剤層が形成され、
前記第１ベースフィルムの他面には、電磁波遮蔽フィルタが形成され、
前記電磁波遮蔽フィルタ上には、これをカバーするように前記吸収色素が混合された第２接着剤層が形成され、
前記第２接着剤層の表面には、前記第２ベースフィルムが形成され、
前記第２ベースフィルムの表面には、反射防止層が形成されていることを特徴とする請求項２に記載のディスプレイパネル。
前記ベースフィルムは、第１ベースフィルム及び第２ベースフィルムを備え、
前記接着剤層は、第１接着剤層及び第２接着剤層を備え、
前記第１ベースフィルムの一面と前記パネル組立体との間には、前記吸収色素が混合された第１接着剤層が形成され、
前記第１ベースフィルムの他面には、電磁波遮蔽フィルタが形成され、
前記電磁波遮蔽フィルタ上には、これをカバーするように第２接着剤層が形成され、
前記第２接着剤層の表面には、前記第２ベースフィルムが形成され、
前記第２ベースフィルムの表面には、反射防止層が形成されていることを特徴とする請求項２に記載のディスプレイパネル。
前記フィルタ組立体は、
ベースフィルムと、
前記ベースフィルムの一面にコーティングされ、前記５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を有する吸収色素層と、を備えることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
前記フィルタ組立体は、
前記ベースフィルムが第１ベースフィルム及び第２ベースフィルムを備え、
前記第１ベースフィルムの一面と前記パネル組立体との間には、第１接着剤層が形成され、
前記第１ベースフィルムの他面には、電磁波遮蔽フィルタが形成され、
前記電磁波遮蔽フィルタの上部には、これをカバーするように第２接着剤層が形成され、
前記第２接着剤層の表面には、前記吸収色素層が形成され、
前記吸収色素層の表面には、第２ベースフィルムが形成され、
前記第２ベースフィルムの表面には、反射防止層が形成されていることを特徴とする請求項５に記載のディスプレイパネル。
前記フィルタ組立体は、
前記ベースフィルムが第１ベースフィルム及び第２ベースフィルムを備え、
前記第１ベースフィルムの一面と前記パネル組立体との間には、第１接着剤層が形成され、
前記第１ベースフィルムの他面には、電磁波遮蔽フィルタが形成され、
前記電磁波遮蔽フィルタの上部には、これをカバーするように第２接着剤層が形成され、
前記第２接着剤層の表面には、第２ベースフィルムが形成され、
前記第２ベースフィルムの表面には、前記吸収色素層が形成され、
前記吸収色素層の表面には、反射防止層が形成されていることを特徴とする請求項５に記載のディスプレイパネル。
前記フィルタ組立体は、
前記ベースフィルムが第１ベースフィルム及び第２ベースフィルムを備え、
前記第１ベースフィルムの一面と前記パネル組立体との間には、前記吸収色素層と、第１接着剤層とが連続的に介在され、
前記第１ベースフィルムの他面には、電磁波遮蔽フィルタが形成され、
前記電磁波遮蔽フィルタの上部には、これをカバーするように第２接着剤層が形成され、
前記第２接着剤層の表面には、第２ベースフィルムが形成され、
前記第２ベースフィルムの表面には、反射防止層が形成されていることを特徴とする請求項５に記載のディスプレイパネル。
前記吸収色素は、シアニン誘導体色素がアクリル誘導体バインダーに混合されて形成されることを特徴とする請求項２または５に記載のディスプレイパネル。
前記吸収色素は、スクアリリウム誘導体色素がアクリル誘導体バインダーに混合されて形成されることを特徴とする請求項２または５に記載のディスプレイパネル。
前記フィルタ組立体は、前記パネル組立体の前面に取り付けられることを特徴とする請求項２または５に記載のディスプレイパネル。
前記フィルタ組立体は、
ベースガラスと、
前記ベースガラスの一面に形成された接着剤層と、
前記接着剤層に混合され、前記５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を有する吸収色素と、を備えることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
前記パネル組立体と対向する前記ベースガラスの一面には、電磁波遮蔽フィルタが形成され、
前記ベースガラスの他面には、前記吸収色素の混合された前記接着剤層が形成され、
前記接着剤層の表面には、第１ベースフィルムが形成され、
前記第１ベースフィルムの表面には、反射防止層が形成されていることを特徴とする請求項１２に記載のディスプレイパネル。
前記電磁波遮蔽フィルタは、
第２ベースフィルムと、
前記パネル組立体と対向する第２ベースフィルムの一面に形成された電磁波遮蔽層と、
前記第２ベースフィルムの他面とベースガラスとの間に介在された電磁波遮蔽フィルタ用接着剤層と、を備えることを特徴とする請求項１３に記載のディスプレイパネル。
前記フィルタ組立体は、
ベースガラスと、
前記ベースガラス上にコーティングされ、前記５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で最大吸収率を有する化合物を有する吸収色素層と、を備えることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
前記パネル組立体と対向する前記ベースガラスの一面には、電磁波遮蔽フィルタが形成され、
前記ベースガラスの他面には、接着剤層が形成され、
前記接着剤層の表面には、前記吸収色素層が形成され、
前記吸収色素層の表面には、第１ベースフィルムが形成され、
前記第１ベースフィルムの表面には、反射防止層が形成されていることを特徴とする請求項１５に記載のディスプレイパネル。
前記電磁波遮蔽フィルタは、
第２ベースフィルムと、
前記パネル組立体と対向する第２ベースフィルムの一面に形成された電磁波遮蔽層と、
前記第２ベースフィルムの他面と前記ベースガラスとの間に介在された電磁波遮蔽フィルタ用接着剤層と、を備えることを特徴とする請求項１６に記載のディスプレイパネル。
前記パネル組立体と対向する前記ベースガラスの一面には、電磁波遮蔽フィルタが形成され、
前記ベースガラスの他面には、前記吸収色素層が形成され、
前記吸収色素層の表面には、接着剤層が形成され、
前記接着剤層の表面には、第１ベースフィルムが形成され、
前記第１ベースフィルムの表面には、反射防止層が形成されることを特徴とする請求項１５に記載のディスプレイパネル。
前記パネル組立体と対向する前記ベースガラスの一面には、電磁波遮蔽フィルタが形成され、
前記ベースガラスの他面には、接着剤層が形成され、
前記接着剤層の表面には、第１ベースフィルムが形成され、
前記第１ベースフィルムの表面には、前記吸収色素層が形成され、
前記吸収色素層の表面には、反射防止層が形成されていることを特徴とする請求項１５に記載のディスプレイパネル。
前記パネル組立体と対向する前記ベースガラスの一面には、前記吸収色素層が形成され、
前記吸収色素層の表面には、電磁波遮蔽フィルタが形成され、
前記ベースガラスの他面には、接着剤層が形成され、
前記接着剤層の表面には、第１ベースフィルムが形成され、
前記第１ベースフィルムの表面には、反射防止層が形成されていることを特徴とする請求項１５に記載のディスプレイパネル。
前記吸収色素は、シアニン誘導体色素がアクリル誘導体バインダーに混合されて形成されていることを特徴とする請求項１２または１５に記載のディスプレイパネル。
前記吸収色素は、スクアリリウム誘導体色素がアクリル誘導体バインダーに混合されて形成されていることを特徴とする請求項１２または１５に記載のディスプレイパネル。
前記フィルタ組立体は、前記パネル組立体に対して所定間隔離隔されて配置され、その間に間隔が形成されていることを特徴とする請求項１２または１５に記載のディスプレイパネル。
前記接着剤層は、ポリマー系接着剤やゴム材を含むことを特徴とする請求項２ないし４、６ないし８、１２ないし１４または１６ないし２０のうち何れか１項に記載のディスプレイパネル。
前記５５０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の波長帯で０．０１％以上４０％以下の透過率を有することを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
前記フィルタ組立体は、４９０ｎｍないし５００ｎｍの波長帯と５９０ｎｍないし６００ｎｍの波長帯とでそれぞれ最小透過率をさらに有することを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
前記４９０ｎｍないし５００ｎｍの波長帯で０．０１％以上４０％以下の透過率を有し、
前記５９０ｎｍないし６００ｎｍの波長帯で０．０１％以上４０％以下の透過率を有することを特徴とする請求項２６に記載のディスプレイパネル。
前記フィルタ組立体は、可視光に対する透過率が２０ないし９０％であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。
前記蛍光体層は、Ｙ（Ｐ，Ｖ）Ｏ_４：Ｅｕを含む赤色蛍光体層と、ＹＡｌ_３（ＢＯ_３）Ｔｂを含む緑色蛍光体層と、ＢａＭｇＡｌ_１０Ｏ_１７：Ｅｕを含む青色蛍光体層と、を有することを特徴とする請求項１に記載のディスプレイパネル。